JP6437084B2 - レーザ維持プラズマバルブのための気体屈折補償 - Google Patents
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- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 57
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 40
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 210000004180 plasmocyte Anatomy 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/025—Associated optical elements
-
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/30—Vessels; Containers
- H01J61/33—Special shape of cross-section, e.g. for producing cool spot
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Electromagnetism (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Lenses (AREA)
Description
本特許は、2013年2月22日に出願の米国仮特許出願第61/767,917号の優先権を請求し、同出願をそのまま参考文献として援用する。
Claims (16)
- 光を提供するように構成される少なくとも1つのレーザ光源と、
前記少なくとも1つのレーザ光源からの前記光をその焦点に集中させるように構成される少なくとも1つの反射器と、
前記反射器の前記焦点、またはその近くに配置される、気体で実質的に充填されるエンクロージャとを備えており、前記少なくとも1つのレーザ光源からの前記光は、前記エンクロージャの中に収納されるプラズマを少なくとも部分的に維持させ、前記エンクロージャは、前記光の光学収差を補償するために変化している厚さを有する少なくとも1つの壁を備える、レーザ維持プラズマ照明装置システム。 - 前記少なくとも1つの壁の前記厚さの前記変化が、前記エンクロージャの外囲器の形状および前記エンクロージャを実質的に充填する前記気体の圧力に基づいている、請求項1に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つのレーザ光源は、その光が、前記少なくとも1つの反射器によって結集される少なくとも2つのレーザ光源を備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つのレーザ光源からの前記光を前記反射器の前記焦点に収集しかつ集中させるように構成される付加的な集束光学素子をさらに備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記光の光学収差は、前記エンクロージャの壁の厚さにより誘発される、請求項1に記載のシステム。
- 前記光の光学収差は、前記エンクロージャを充填する気体の屈折率により誘発される、請求項1に記載のシステム。
- 前記光の光学収差は、前記エンクロージャに入射する前の光路、あるいは少なくとも1つのレーザ光源から少なくとも1つの反射器を通る光路の収差を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つの壁の厚さは、制御された収差をもたらすために変化している、請求項1に記載のシステム。
- 前記反射器は、前記レーザ光源からの光の収差を補償するために修正された形状を備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記システムは、前記エンクロージャの中に収納される前記プラズマが発する光で試料を照明するように構成される、請求項1に記載のシステム。
- レーザ維持プラズマ照明装置システムにおける光学収差を補償する方法であって、
プラズマを収納するためのエンクロージャを前記レーザ維持プラズマ照明装置システムに提供するステップであり、前記エンクロージャは、少なくとも1つのレーザ光源からの光の収差を補償するために変化している厚さを有する少なくとも1つの壁を備える、ステップと、
レーザ維持プラズマ照明装置システムに少なくとも1つの反射器を提供するステップであり、前記少なくとも1つの反射器は、前記レーザ光源からの光の収差を補償するために修正された形状を備える、ステップと、
を備える方法。 - 前記少なくとも1つの壁の厚さが、前記エンクロージャの外囲器の形状及び前記エンクロージャを充填する気体の圧力に基づいて変化している、請求項11に記載の方法。
- 前記エンクロージャの中に収納される前記プラズマが発する光で試料を照射することをさらに含む、請求項11に記載の方法。
- 少なくとも1つのレーザ光源から光を提供することと、
前記少なくとも1つのレーザ光源からの前記光を少なくとも1つの反射器により実質的に気体で充填されるエンクロージャに集中させることと、
集中させた前記光によりプラズマを前記エンクロージャの中に発生させることを含み、前記エンクロージャは、前記光の光学収差を補償するために変化している厚さを有する少なくとも1つの壁を備える、レーザ維持プラズマ照明装置システムにおける光学収差を補償する方法。 - 前記少なくとも1つの壁の前記厚さの前記変化が、前記エンクロージャの外囲器の形状および前記エンクロージャを実質的に充填する気体の圧力に基づいている、請求項14に記載の方法。
- 前記エンクロージャの中に収納される前記プラズマが発する光で試料を照明することをさらに含む、請求項14に記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361767917P | 2013-02-22 | 2013-02-22 | |
US61/767,917 | 2013-02-22 | ||
US14/183,134 | 2014-02-18 | ||
US14/183,134 US8853655B2 (en) | 2013-02-22 | 2014-02-18 | Gas refraction compensation for laser-sustained plasma bulbs |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015559004A Division JP2016513351A (ja) | 2013-02-22 | 2014-02-21 | レーザ維持プラズマバルブのための気体屈折補償 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018037425A JP2018037425A (ja) | 2018-03-08 |
JP6437084B2 true JP6437084B2 (ja) | 2018-12-12 |
Family
ID=51387196
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015559004A Pending JP2016513351A (ja) | 2013-02-22 | 2014-02-21 | レーザ維持プラズマバルブのための気体屈折補償 |
JP2017237756A Active JP6437084B2 (ja) | 2013-02-22 | 2017-12-12 | レーザ維持プラズマバルブのための気体屈折補償 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015559004A Pending JP2016513351A (ja) | 2013-02-22 | 2014-02-21 | レーザ維持プラズマバルブのための気体屈折補償 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8853655B2 (ja) |
JP (2) | JP2016513351A (ja) |
DE (1) | DE112014000948T5 (ja) |
TW (1) | TWI608519B (ja) |
WO (1) | WO2014130836A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9097577B2 (en) * | 2011-06-29 | 2015-08-04 | KLA—Tencor Corporation | Adaptive optics for compensating aberrations in light-sustained plasma cells |
DE102012203442B4 (de) * | 2012-03-05 | 2021-08-05 | Coretronic Corporation | Beleuchtungsvorrichtung mit einer pumplaserreihe und verfahren zum betreiben dieser beleuchtungsvorrichtung |
US9232622B2 (en) * | 2013-02-22 | 2016-01-05 | Kla-Tencor Corporation | Gas refraction compensation for laser-sustained plasma bulbs |
US10887974B2 (en) | 2015-06-22 | 2021-01-05 | Kla Corporation | High efficiency laser-sustained plasma light source |
US10283342B2 (en) * | 2015-12-06 | 2019-05-07 | Kla-Tencor Corporation | Laser sustained plasma light source with graded absorption features |
WO2017145662A1 (ja) | 2016-02-23 | 2017-08-31 | ウシオ電機株式会社 | レーザ駆動ランプ |
JP6390863B2 (ja) * | 2016-05-13 | 2018-09-19 | ウシオ電機株式会社 | レーザ駆動光源装置 |
US10714327B2 (en) * | 2018-03-19 | 2020-07-14 | Kla-Tencor Corporation | System and method for pumping laser sustained plasma and enhancing selected wavelengths of output illumination |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3943324A (en) * | 1970-12-14 | 1976-03-09 | Arthur D. Little, Inc. | Apparatus for forming refractory tubing |
US4197157A (en) * | 1975-03-19 | 1980-04-08 | Arthur D. Little, Inc. | Method for forming refractory tubing |
JP3912171B2 (ja) * | 2002-04-26 | 2007-05-09 | ウシオ電機株式会社 | 光放射装置 |
US7435982B2 (en) * | 2006-03-31 | 2008-10-14 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source |
JP2009200417A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Canon Inc | 波面収差測定方法、マスク、波面収差測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5587578B2 (ja) * | 2008-09-26 | 2014-09-10 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置およびパルスレーザ装置 |
TWI457715B (zh) * | 2008-12-27 | 2014-10-21 | Ushio Electric Inc | Light source device |
JP5557487B2 (ja) * | 2009-07-30 | 2014-07-23 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置 |
EP2534672B1 (en) * | 2010-02-09 | 2016-06-01 | Energetiq Technology Inc. | Laser-driven light source |
US8760625B2 (en) * | 2010-07-30 | 2014-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, aberration detector and device manufacturing method |
US9516730B2 (en) * | 2011-06-08 | 2016-12-06 | Asml Netherlands B.V. | Systems and methods for buffer gas flow stabilization in a laser produced plasma light source |
US8658967B2 (en) * | 2011-06-29 | 2014-02-25 | Kla-Tencor Corporation | Optically pumping to sustain plasma |
US9097577B2 (en) * | 2011-06-29 | 2015-08-04 | KLA—Tencor Corporation | Adaptive optics for compensating aberrations in light-sustained plasma cells |
US9318311B2 (en) * | 2011-10-11 | 2016-04-19 | Kla-Tencor Corporation | Plasma cell for laser-sustained plasma light source |
US9927094B2 (en) * | 2012-01-17 | 2018-03-27 | Kla-Tencor Corporation | Plasma cell for providing VUV filtering in a laser-sustained plasma light source |
US9390892B2 (en) * | 2012-06-26 | 2016-07-12 | Kla-Tencor Corporation | Laser sustained plasma light source with electrically induced gas flow |
US8796652B2 (en) * | 2012-08-08 | 2014-08-05 | Kla-Tencor Corporation | Laser sustained plasma bulb including water |
-
2014
- 2014-02-18 US US14/183,134 patent/US8853655B2/en active Active
- 2014-02-21 DE DE112014000948.2T patent/DE112014000948T5/de not_active Ceased
- 2014-02-21 WO PCT/US2014/017743 patent/WO2014130836A1/en active Application Filing
- 2014-02-21 TW TW103105952A patent/TWI608519B/zh active
- 2014-02-21 JP JP2015559004A patent/JP2016513351A/ja active Pending
-
2017
- 2017-12-12 JP JP2017237756A patent/JP6437084B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE112014000948T5 (de) | 2015-11-05 |
US8853655B2 (en) | 2014-10-07 |
TW201443973A (zh) | 2014-11-16 |
JP2016513351A (ja) | 2016-05-12 |
US20140239202A1 (en) | 2014-08-28 |
WO2014130836A1 (en) | 2014-08-28 |
JP2018037425A (ja) | 2018-03-08 |
TWI608519B (zh) | 2017-12-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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