JP6436209B2 - Display device and electronic device - Google Patents

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本発明は、有機EL(Electro-Luminescence:エレクトロルミネッセンス)パネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置に関する。さらに、本発明は、そのような表示装置を用いた電子機器等に関する。   The present invention relates to an active matrix display device using an organic EL (Electro-Luminescence) panel. Furthermore, the present invention relates to an electronic device using such a display device.

有機ELパネルは、発光層が有機化合物から成る有機発光ダイオード(Organic Light-Emitting Diode:OLED)が複数の画素に配置されて構成される。有機発光ダイオードは、発光層中に注入された電子と正孔との結合によって生じたエネルギーで励起された有機化合物の分子が励起状態から基底状態に戻る際に発光する。有機ELパネルにおいては、発光ダイオードのアノード(陽極)とカソード(陰極)との間に電流を流すことにより、その電流値に応じた輝度でインパルス型の点灯が行われる。   The organic EL panel includes an organic light-emitting diode (OLED) in which a light-emitting layer is made of an organic compound and disposed in a plurality of pixels. The organic light emitting diode emits light when molecules of an organic compound excited by energy generated by the combination of electrons and holes injected into the light emitting layer return from the excited state to the ground state. In the organic EL panel, impulse-type lighting is performed with luminance according to the current value by passing a current between the anode (anode) and the cathode (cathode) of the light emitting diode.

有機ELパネルの駆動方式としては、パッシブマトリクス型とアクティブマトリクス型とが存在する。パッシブマトリクス型によれば、アノードドライバーの複数の配線とカソードドライバーの複数の配線との間に、それぞれの画素の有機発光ダイオードが接続される。このように、構造は単純であるが、1ライン毎に発光するので発光輝度を大きくする必要があり、デバイスの寿命が短くなると共に、クロストークによる画質低下が問題となる。   As driving methods of the organic EL panel, there are a passive matrix type and an active matrix type. According to the passive matrix type, the organic light emitting diodes of the respective pixels are connected between the plurality of wirings of the anode driver and the plurality of wirings of the cathode driver. Although the structure is simple as described above, since light is emitted for each line, it is necessary to increase the light emission luminance, the life of the device is shortened, and the image quality deterioration due to crosstalk becomes a problem.

一方、アクティブマトリクス型によれば、各々の画素に複数のトランジスターが配置されて、所定の期間において有機発光ダイオードに電流を流すことにより、高い発光効率と高画質を実現することができる。ただし、画素回路のトランジスターとしてアモルファスシリコンのTFT(薄膜トランジスター)を使用すれば、経年変化が大きくなり、低温多結晶シリコンのTFTを使用すれば、画素毎のしきい値電圧のばらつきが大きくなる。いずれの場合にも、それらを補償するために画素回路の構造が複雑になってしまう。   On the other hand, according to the active matrix type, a plurality of transistors are arranged in each pixel, and a high light emission efficiency and high image quality can be realized by flowing a current through the organic light emitting diode in a predetermined period. However, if an amorphous silicon TFT (thin film transistor) is used as the transistor of the pixel circuit, the secular change becomes large, and if a low temperature polycrystalline silicon TFT is used, the variation of the threshold voltage for each pixel becomes large. In any case, the structure of the pixel circuit is complicated to compensate for them.

従来のアクティブマトリクス型の表示装置においては、トランジスターや配線の配置が画質に与える影響を平均化するために、画素回路のレイアウトを同じパターンの繰り返しとするか、又は、画素回路の小型化を図るために、画素回路のレイアウトを左右及び/又は上下に対称なミラー配置としていた。   In a conventional active matrix display device, in order to average the influence of the arrangement of transistors and wirings on the image quality, the layout of the pixel circuit is repeated in the same pattern, or the pixel circuit is reduced in size. Therefore, the layout of the pixel circuit is a mirror arrangement that is symmetrical left and right and / or up and down.

関連する技術として、特許文献1には、表示領域内に効率的に画素回路を配置することのできる画像表示装置が開示されている。この画像表示装置は、表示領域を格子状に分割してなる複数の画素領域のそれぞれに配置された発光素子を発光させて画像を表示する画像表示装置であって、複数の画素領域のそれぞれに配置された発光素子の発光を制御するための画素回路が、当該画素領域から隣接する他の画素領域に向けて突出する部分と、隣接する他の画素回路が当該画素領域内に突出する部分とを有する領域に形成されることを特徴とする。   As a related technique, Patent Document 1 discloses an image display device capable of efficiently arranging pixel circuits in a display area. This image display device is an image display device that displays an image by causing a light emitting element arranged in each of a plurality of pixel regions obtained by dividing the display region into a grid shape to display each of the plurality of pixel regions. A pixel circuit for controlling light emission of the arranged light emitting element, a portion protruding from the pixel region toward another adjacent pixel region, and a portion where another adjacent pixel circuit protrudes into the pixel region; It is formed in the area | region which has.

また、特許文献2には、開口率が改善された有機電界発光素子が開示されている。この有機電界発光素子は、基板と、基板上部の複数本のゲート配線と、複数本のゲート配線と相互に交差する基板上部の複数本のデータ配線と、基板上部に形成されて相互に連結される複数個のスイッチング素子及び駆動素子と、基板上部に形成されて複数本のデータ配線に平行して少なくとも2個の駆動素子と電気的に連結される電源配線とを含む。このような構成により、電源配線の本数を1/2に減らすことができるので、従来に比べて開口率が改善され、電流レベルを高めなくても良いので素子の寿命を延ばすことができる。   Patent Document 2 discloses an organic electroluminescence device having an improved aperture ratio. The organic electroluminescence device is formed on a substrate, a plurality of gate wirings on the top of the substrate, a plurality of data wirings on the substrate crossing the plurality of gate wirings, and connected to each other. A plurality of switching elements and driving elements, and power supply wirings formed on the substrate and electrically connected to at least two driving elements in parallel with the plurality of data wirings. With such a configuration, the number of power supply lines can be reduced to ½, so that the aperture ratio is improved as compared with the conventional case, and the current level does not need to be increased, so that the lifetime of the element can be extended.

特許文献1においては、画素回路のレイアウトを左右及び上下に対称なミラー配置としているが、画素回路の端部に形成されているデータ信号線(DAT、図1及び図3C参照)が、隣の画素回路のデータ信号線と隣接してしまう。特許文献2においては、画素回路のレイアウトを左右に対称なミラー配置としているが、画素回路の端部に形成されているデータ配線(111、図5参照)が、隣の画素回路のデータ配線と隣接してしまう。   In Patent Document 1, the layout of the pixel circuit is a mirror arrangement that is symmetrical left and right and up and down, but the data signal line (DAT, see FIGS. 1 and 3C) formed at the end of the pixel circuit is adjacent to the pixel circuit. It is adjacent to the data signal line of the pixel circuit. In Patent Document 2, the layout of the pixel circuit is a mirror arrangement symmetrical to the left and right, but the data wiring (111, see FIG. 5) formed at the end of the pixel circuit is the same as the data wiring of the adjacent pixel circuit. Adjacent.

有機ELパネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置においては、データ線を介して画素回路の容量に書き込まれる画素信号(電荷)によって、有機発光ダイオードに電流を流すトランジスターの容量駆動が行われる。その際に、2つのデータ線が隣接していると、画素回路の容量に一旦書き込まれた画素信号が、隣の画素回路の容量に画素信号を書き込む際に、隣接する2つのデータ線間の寄生容量によって変化して、階調に影響を与えるおそれがある。   In an active matrix display device using an organic EL panel, a capacitor that drives a current to the organic light emitting diode is driven by a pixel signal (charge) written to the capacitor of the pixel circuit via a data line. At this time, if the two data lines are adjacent to each other, when the pixel signal once written in the capacitor of the pixel circuit writes the pixel signal to the capacitor of the adjacent pixel circuit, the two data lines are adjacent to each other. Depending on the parasitic capacitance, the gray level may be affected.

特開2010−210905号公報(段落0007−0009)JP 2010-210905 A (paragraphs 0007-0009) 特開2004−6341号公報(段落0039−0041)JP 2004-6341 A (paragraphs 0039-0041)

上記のように、有機ELパネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置においては、各々の画素回路に複数のトランジスターが配置されるので、画素回路の小型化が難しく、高精細な画像を表示するために画素ピッチを縮小する際に、製造上の制約を受けてしまう。また、画素回路のレイアウトを左右に対称なミラー配置とする場合には、隣接する2つのデータ線間の寄生容量によるクロストークも問題となる。そこで、本発明の第1の目的は、画素回路の小型化を容易に実現できる表示装置を提供することである。また、本発明の第2の目的は、隣接する2つの画素回路におけるデータ線間の寄生容量によるクロストークを低減することである。   As described above, in an active matrix display device using an organic EL panel, since a plurality of transistors are arranged in each pixel circuit, it is difficult to reduce the size of the pixel circuit and display a high-definition image. However, when the pixel pitch is reduced, manufacturing restrictions are imposed. Further, when the layout of the pixel circuit is a mirror arrangement symmetrical to the left and right, crosstalk due to parasitic capacitance between two adjacent data lines becomes a problem. Accordingly, a first object of the present invention is to provide a display device that can easily realize downsizing of a pixel circuit. A second object of the present invention is to reduce crosstalk due to parasitic capacitance between data lines in two adjacent pixel circuits.

以上の課題を解決するため、本発明の1つの観点に係る表示装置は、有機EL(エレクトロルミネッセンス)パネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置であって、有機ELパネルの画素領域に配置された有機発光ダイオード、及び、有機発光ダイオードを駆動する複数のトランジスターを各々が含む複数の画素回路と、有機ELパネルにおいて第1の方向に沿って配置された複数の走査線と、有機ELパネルにおいて第1の方向と直交する第2の方向に沿って配置された複数のデータ線とを具備し、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において、複数のトランジスターのゲート電極及び不純物拡散領域が線対称でレイアウトされており、少なくとも1組の画素回路において対称配置されている少なくとも1組のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されている。   In order to solve the above problems, a display device according to one aspect of the present invention is an active matrix display device using an organic EL (electroluminescence) panel, and is disposed in a pixel region of the organic EL panel. A plurality of pixel circuits each including a plurality of transistors that drive the organic light emitting diode and the organic light emitting diode, a plurality of scanning lines arranged along a first direction in the organic EL panel, and a first in the organic EL panel A plurality of data lines arranged along a second direction orthogonal to the first direction, and in at least one set of pixel circuits adjacent in the first direction, gate electrodes and impurity diffusion regions of the plurality of transistors Are laid out in line symmetry, and at least one set of transistors arranged symmetrically in at least one set of pixel circuits. The gate electrode of Njisuta are integrally constructed.

本発明の1つの観点によれば、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において、複数のトランジスターのゲート電極及び不純物拡散領域を線対称でレイアウトすることにより、配線層において効率良く配線を配置することができる。また、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において対称配置されている少なくとも1組のトランジスターのゲート電極を共通化して一体的に構成することにより、それらのトランジスターのゲート電極を個別に構成する場合と比較して、ゲート電極間のスペース分だけトランジスターの間隔を狭くし、画素ピッチを小さくすることができる。   According to one aspect of the present invention, in at least one set of pixel circuits adjacent in the first direction, the gate electrodes and the impurity diffusion regions of the plurality of transistors are laid out in line symmetry, thereby efficiently wiring in the wiring layer. Can be arranged. In addition, the gate electrodes of at least one set of transistors arranged symmetrically in at least one set of pixel circuits adjacent in the first direction are integrated and configured integrally, whereby the gate electrodes of these transistors are individually set. Compared with the case of the configuration, the distance between the transistors can be narrowed by the space between the gate electrodes, and the pixel pitch can be reduced.

この表示装置は、第1の方向において隣接する1組の画素回路にそれぞれ接続された2つのデータ線の間に配置されたシールド線をさらに具備しても良い。これにより、第1の方向において隣接する1組の画素回路のレイアウトをミラー配置にしても、2つのデータ線が隣接することを防止して、データ線間の寄生容量によるクロストークを低減することができる。   The display device may further include a shield line disposed between two data lines respectively connected to a set of pixel circuits adjacent in the first direction. Accordingly, even if the layout of a set of pixel circuits adjacent in the first direction is mirror-arranged, it is possible to prevent two data lines from being adjacent to each other and reduce crosstalk due to parasitic capacitance between the data lines. Can do.

また、複数の画素回路の各々が、ゲートに接続されたキャパシターの電位に従って、有機発光ダイオードに電流を供給する第1のトランジスターと、ゲートに接続された走査線の電位に従って、第1のトランジスターのゲートを1つのデータ線に接続する第2のトランジスターとを含むようにしても良い。このように、画素回路に2つのトランジスターのみが含まれている場合でも、有機ELパネルに画像を表示することができる。   Each of the plurality of pixel circuits includes a first transistor that supplies a current to the organic light emitting diode according to a potential of the capacitor connected to the gate, and a first transistor that operates according to the potential of the scanning line connected to the gate. A second transistor connecting the gate to one data line may be included. Thus, even when the pixel circuit includes only two transistors, an image can be displayed on the organic EL panel.

ここで、第1の方向において隣接する1組の画素回路の第2のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されていても良い。これにより、1組の画素回路の第2のトランジスターの間隔を縮小することができる。   Here, the gate electrodes of the second transistors of the pair of pixel circuits adjacent in the first direction may be integrally formed. Thereby, the interval between the second transistors of one set of pixel circuits can be reduced.

また、複数の画素回路の各々が、ゲートに供給される信号に従って、第1のトランジスターのゲートとドレインとの間の接続を開閉する第3のトランジスターと、ゲートに供給される信号に従って、第1のトランジスターのドレインと有機発光ダイオードのアノードとの間の接続を開閉する第4のトランジスターと、ゲートに供給される信号に従って、有機発光ダイオードのアノードとリセット電位線との間の接続を開閉する第5のトランジスターとをさらに含むようにしても良い。これにより、画質や機能をさらに改善することができる。   In addition, each of the plurality of pixel circuits includes a third transistor that opens and closes a connection between the gate and the drain of the first transistor according to a signal supplied to the gate, and a first signal according to the signal supplied to the gate. A fourth transistor that opens and closes a connection between the drain of the transistor and the anode of the organic light emitting diode, and a second transistor that opens and closes a connection between the anode of the organic light emitting diode and the reset potential line according to a signal supplied to the gate. 5 transistors may be further included. Thereby, the image quality and functions can be further improved.

その場合に、第1の方向において隣接する第1〜第3の画素回路において、第2及び第3の画素回路の第2のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されており、第2及び第3の画素回路の第3のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されており、第1及び第2の画素回路の第4のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されており、第2及び第3の画素回路の第5のトランジスターのゲート電極が一体的に構成されても良い。これにより、1組の第2のトランジスターの間隔、1組の第3のトランジスターの間隔、1組の第4のトランジスターの間隔、及び、1組の第5のトランジスターの間隔を縮小することができる。   In that case, in the first to third pixel circuits adjacent in the first direction, the gate electrodes of the second transistors of the second and third pixel circuits are integrally formed, and the second and second The gate electrode of the third transistor of the third pixel circuit is integrally formed, the gate electrode of the fourth transistor of the first and second pixel circuits is integrally formed, and the second and second The gate electrodes of the fifth transistors of the three pixel circuits may be integrally formed. As a result, the distance between one set of second transistors, the distance between one set of third transistors, the distance between one set of fourth transistors, and the distance between one set of fifth transistors can be reduced. .

また、この表示装置は、第1の方向において隣接する1組の画素回路の第1のトランジスターのゲート電極にそれぞれ接続された2つの配線の間に配置されたシールド線をさらに具備しても良い。このようなレイアウトパターンでシールド線を配置することによってシールド効果が増加するので、隣接する画素間において表示に与えるクロストークの影響を低減することができる。   The display device may further include a shield line disposed between two wirings respectively connected to the gate electrodes of the first transistors of the pair of pixel circuits adjacent in the first direction. . Since the shielding effect is increased by arranging the shield lines in such a layout pattern, it is possible to reduce the influence of crosstalk on display between adjacent pixels.

以上において、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において対称配置されている少なくとも1組のトランジスターの一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点において1つの配線に接続されても良い。これにより、スルーホールやコンタクトの数を減少させて、画素回路を小型化することができる。   In the above, the integrally configured gate electrodes of at least one set of transistors arranged symmetrically in at least one set of pixel circuits adjacent in the first direction are connected to one wiring at one connection point. Also good. Thereby, the number of through holes and contacts can be reduced and the pixel circuit can be miniaturized.

本発明の1つの観点に係る電子機器は、本発明のいずれかの観点に係る表示装置を具備する。これにより、高精細な画像を表示するために画素ピッチが縮小されたエレクトリック・ビューファインダーやヘッドマウント・ディスプレイ等の電子機器を提供することができる。   An electronic device according to one aspect of the present invention includes a display device according to any one of the aspects of the present invention. Accordingly, it is possible to provide an electronic device such as an electric viewfinder or a head mounted display with a reduced pixel pitch in order to display a high-definition image.

本発明の一実施形態に係る表示装置を用いた電子機器を示すブロック図。1 is a block diagram illustrating an electronic apparatus using a display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る表示装置の一例を示す斜視図。The perspective view which shows an example of the display apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 図1に示す画素部の回路構成の一例を示す回路図。FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an example of a circuit configuration of a pixel portion illustrated in FIG. 1. 画素回路におけるゲート電極及び不純物拡散領域のレイアウトを示す平面図。The top view which shows the layout of the gate electrode and impurity diffusion area | region in a pixel circuit. 画素回路における第1の配線層のレイアウトを示す平面図。The top view which shows the layout of the 1st wiring layer in a pixel circuit. 画素回路における第2の配線層のレイアウトを示す平面図。The top view which shows the layout of the 2nd wiring layer in a pixel circuit.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置を用いた電子機器の構成を示すブロック図である。この電子機器は、エレクトリック・ビューファインダーやヘッドマウント・ディスプレイ等の電子機器であり、図1においては、画像表示に関する部分のみが示されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the same referential mark is attached | subjected to the same component and the overlapping description is abbreviate | omitted.
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an electronic apparatus using a display device according to an embodiment of the present invention. This electronic apparatus is an electronic apparatus such as an electric viewfinder or a head-mounted display. In FIG. 1, only the part related to image display is shown.

図1に示すように、この電子機器は、画像データ処理回路10と、表示タイミング生成回路20と、走査線ドライバー30と、データ線ドライバー40と、画素部50とを含んでいる。ここで、少なくとも走査線ドライバー30〜画素部50が、有機ELパネルを用いたアクティブマトリクス型の表示装置を構成する。   As shown in FIG. 1, the electronic apparatus includes an image data processing circuit 10, a display timing generation circuit 20, a scanning line driver 30, a data line driver 40, and a pixel unit 50. Here, at least the scanning line driver 30 to the pixel unit 50 constitute an active matrix display device using an organic EL panel.

画素部50は、有機ELパネルの複数の画素領域にそれぞれ形成された複数の画素回路を含んでいる。有機ELパネルにおいて、透明基板上にアモルファスシリコン又は低温多結晶シリコンでTFTを形成することにより、画素回路を形成しても良い。あるいは、画素回路が形成されたシリコン(Si)の半導体基板をバックプレーンとして使用し、その上に有機発光ダイオード(OLED)が形成された有機ELパネルを用いても良い。そのような有機ELパネルは、「SiOLED」とも呼ばれる。   The pixel unit 50 includes a plurality of pixel circuits respectively formed in a plurality of pixel regions of the organic EL panel. In an organic EL panel, a pixel circuit may be formed by forming a TFT with amorphous silicon or low-temperature polycrystalline silicon on a transparent substrate. Alternatively, an organic EL panel in which an organic light emitting diode (OLED) is formed thereon using a silicon (Si) semiconductor substrate on which a pixel circuit is formed may be used. Such an organic EL panel is also referred to as “SiOLED”.

SiOLEDの場合には、各々の画素回路を構成するトランジスターの数が増加しても、それらのトランジスターを半導体基板に容易に形成することができる。また、走査線ドライバー30〜画素部50のみならず、画像データ処理回路10及び表示タイミング生成回路20の少なくとも一部を、半導体基板に形成しても良い。   In the case of SiOLED, even if the number of transistors constituting each pixel circuit is increased, these transistors can be easily formed on a semiconductor substrate. In addition to the scanning line driver 30 to the pixel unit 50, at least a part of the image data processing circuit 10 and the display timing generation circuit 20 may be formed on a semiconductor substrate.

画像データ処理回路10は、画像データ及びクロック信号を入力し、画像データに対して各種の画像処理を施す。例えば、画像データ処理回路10は、画像データに対してガンマ補正処理又は残像補正処理を施しても良い。画像データ処理回路10は、画像処理が施された画像データを、データ線ドライバー40に供給する。   The image data processing circuit 10 inputs image data and a clock signal, and performs various image processing on the image data. For example, the image data processing circuit 10 may perform gamma correction processing or afterimage correction processing on the image data. The image data processing circuit 10 supplies the image data subjected to the image processing to the data line driver 40.

表示タイミング生成回路20は、外部から供給される垂直同期信号、水平同期信号、及び、ドットクロック信号に同期して、表示装置を制御するための各種のタイミング信号を生成する。例えば、表示タイミング生成回路20は、スタート信号及びラインクロック信号を生成して走査線ドライバー30に供給する。スタート信号は、垂直走査の開始タイミングを規定するスタートパルスを含み、画素部50の走査を開始するためのトリガーとなる。   The display timing generation circuit 20 generates various timing signals for controlling the display device in synchronization with an externally supplied vertical synchronization signal, horizontal synchronization signal, and dot clock signal. For example, the display timing generation circuit 20 generates a start signal and a line clock signal and supplies them to the scanning line driver 30. The start signal includes a start pulse that defines the start timing of vertical scanning and serves as a trigger for starting scanning of the pixel unit 50.

走査線ドライバー30は、シフトレジスター及び出力バッファーを含んで構成され、スタートパルスが印加されると、ラインクロック信号に同期して、複数の走査線G1、G2、・・・を順次選択して、選択された走査線に走査信号を供給する。これにより、スタートパルスをトリガーとして全ての走査線が順次選択され、1垂直走査駆動が行われる。また、走査線ドライバー30は、画素部50の動作を制御するための各種の制御信号を画素部50に供給しても良い。   The scanning line driver 30 includes a shift register and an output buffer. When a start pulse is applied, the scanning line driver 30 sequentially selects a plurality of scanning lines G1, G2,... In synchronization with a line clock signal. A scanning signal is supplied to the selected scanning line. Thereby, all the scanning lines are sequentially selected with the start pulse as a trigger, and one vertical scanning driving is performed. Further, the scanning line driver 30 may supply various control signals for controlling the operation of the pixel unit 50 to the pixel unit 50.

データ線ドライバー40は、複数のD/Aコンバーターを含んで構成され、画像データ処理回路10から供給される画像データによって表される階調に応じた複数の画素信号を生成する。データ線ドライバー40は、走査信号に同期したタイミングで、それらの画素信号を複数のデータ線D1、D2、・・・に供給する。   The data line driver 40 includes a plurality of D / A converters, and generates a plurality of pixel signals corresponding to gradations represented by the image data supplied from the image data processing circuit 10. The data line driver 40 supplies these pixel signals to the plurality of data lines D1, D2,... At a timing synchronized with the scanning signal.

画素部50では、有機ELパネルにおいて第1の方向(図中のX軸方向)に沿って複数の走査線G1、G2、・・・が配置されており、有機ELパネルにおいて第1の方向と直交する第2の方向(図中のY軸方向)に沿って複数のデータ線D1、D2、・・・が配置されている。また、それらの走査線とそれらのデータ線とが交差する位置に、複数の画素回路が設けられている。   In the pixel unit 50, a plurality of scanning lines G1, G2,... Are arranged along a first direction (X-axis direction in the drawing) in the organic EL panel. A plurality of data lines D1, D2,... Are arranged along a second direction (Y-axis direction in the drawing) perpendicular to each other. A plurality of pixel circuits are provided at positions where the scanning lines and the data lines intersect.

走査線ドライバー30から供給される走査信号によって、複数行の画素回路が順次選択される。選択された1行の画素回路には、データ線ドライバー40から複数のデータ線D1、D2、・・・を経由してそれぞれの画素信号が書込まれる。各々の画素回路は、有機発光ダイオードを備えており、有機発光ダイオードは、書き込まれた画素信号に応じた強度で発光し、画素毎に階調表示がなされる。   A plurality of rows of pixel circuits are sequentially selected by a scanning signal supplied from the scanning line driver 30. Each pixel signal is written into the selected pixel circuit of one row from the data line driver 40 via the plurality of data lines D1, D2,. Each pixel circuit includes an organic light emitting diode, and the organic light emitting diode emits light with an intensity corresponding to the written pixel signal, and gradation display is performed for each pixel.

図2は、本発明の一実施形態に係る表示装置の一例を示す斜視図である。ここでは、SiOLEDを用いた表示装置について説明する。図2に示すように、表示装置60は、有機ELパネル70と、フレキシブル基板80とを含んでいる。有機ELパネル70は、シリコンの半導体基板71と、半導体基板71上に蒸着された有機化合物からなる発光層(OLED層)72と、OLED層72上に設けられたカバーガラス73とを含むトップエミッション型の表示パネルである。半導体基板71には、複数の画素回路が形成されており、OLED層72から発する表示光が、カバーガラス73側から出射する。   FIG. 2 is a perspective view showing an example of a display device according to an embodiment of the present invention. Here, a display device using SiOLED will be described. As shown in FIG. 2, the display device 60 includes an organic EL panel 70 and a flexible substrate 80. The organic EL panel 70 includes a silicon semiconductor substrate 71, a light emitting layer (OLED layer) 72 made of an organic compound deposited on the semiconductor substrate 71, and a cover glass 73 provided on the OLED layer 72. The display panel of the mold. A plurality of pixel circuits are formed on the semiconductor substrate 71, and display light emitted from the OLED layer 72 is emitted from the cover glass 73 side.

有機ELパネル70は、マトリックス状に配置された複数の画素を有する表示領域70aを備えている。図2の右上に拡大して示すように、表示領域70aには、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の発光素子が周期的に配置されており、それらの発光素子が出射する光によりフルカラーの画像が表示される。   The organic EL panel 70 includes a display area 70a having a plurality of pixels arranged in a matrix. As shown enlarged in the upper right of FIG. 2, red (R), green (G), and blue (B) light emitting elements are periodically arranged in the display area 70a, and these light emitting elements emit light. A full color image is displayed by the light that is emitted.

有機ELパネル70の表示領域70aの周縁部(額縁部)には、走査線ドライバー30及びデータ線ドライバー40(図1参照)が形成されている。それらの回路を構成する回路素子は、画素回路と同様に、半導体基板71に形成される。また、半導体基板71がカバーガラス73から張り出した領域に、フレキシブル基板80が接続されている。   A scanning line driver 30 and a data line driver 40 (see FIG. 1) are formed on the periphery (frame portion) of the display area 70a of the organic EL panel 70. Circuit elements constituting these circuits are formed on the semiconductor substrate 71 in the same manner as the pixel circuit. A flexible substrate 80 is connected to a region where the semiconductor substrate 71 protrudes from the cover glass 73.

フレキシブル基板80の端部には、外部機器又は専用のコントローラーと接続するための複数の端子が形成されている。有機ELパネル70は、フレキシブル基板80を介して、外部機器又はコントローラーから画像データや電力や制御信号の供給を受けることにより、表示領域70aに画像や文字等を表示する。   A plurality of terminals for connecting to an external device or a dedicated controller is formed at the end of the flexible substrate 80. The organic EL panel 70 displays images, characters, and the like in the display area 70a by receiving supply of image data, power, and control signals from an external device or controller via the flexible substrate 80.

図3は、図1に示す画素部の回路構成の一例を示す回路図である。図3においては、第1の方向(図1に示すX軸方向)において隣接する3つの画素回路1〜3と、テスト制御用の回路とが示されている。画素回路1〜3は、例えば、RGBの発光素子が形成された3つの画素領域にそれぞれ設けられている。画素回路1〜3には、電源電位VEL(例えば、8V)と、電源電位VCT(例えば、0V)とが供給される。 FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an example of a circuit configuration of the pixel portion illustrated in FIG. 1. FIG. 3 shows three pixel circuits 1 to 3 adjacent to each other in the first direction (the X-axis direction shown in FIG. 1) and a test control circuit. The pixel circuits 1 to 3 are provided in, for example, three pixel regions where RGB light emitting elements are formed. The pixel circuits 1 to 3 are supplied with a power supply potential V EL (for example, 8 V) and a power supply potential V CT (for example, 0 V).

画素回路1は、有機ELパネルの画素領域に配置された有機発光ダイオードDと、有機発光ダイオードDを駆動する複数のトランジスターと、画素信号を保持するキャパシターCとを含んでいる。例えば、画素回路は、PチャネルMOSトランジスターQP1及びQP2を含んでおり、さらに、オプションとして、PチャネルMOSトランジスターQP3〜QP5を含んでも良い。   The pixel circuit 1 includes an organic light emitting diode D arranged in a pixel region of the organic EL panel, a plurality of transistors that drive the organic light emitting diode D, and a capacitor C that holds a pixel signal. For example, the pixel circuit includes P-channel MOS transistors QP1 and QP2, and may further include P-channel MOS transistors QP3 to QP5 as an option.

トランジスターQP1のソースは、電源電位VELに接続されており、トランジスターQP1のドレインは、トランジスターQP4のソースに接続されている。トランジスターQP4を設けない場合には、トランジスターQP1のドレインは、有機発光ダイオードDのアノードに接続される。有機発光ダイオードDのカソードは、電源電位VCTに接続されている。また、キャパシターCの第1の電極は、電源電位VELに接続されており、キャパシターCの第2の電極は、トランジスターQP1のゲートに接続されている。 The source of the transistor QP1 is connected to the power supply potential V EL , and the drain of the transistor QP1 is connected to the source of the transistor QP4. When the transistor QP4 is not provided, the drain of the transistor QP1 is connected to the anode of the organic light emitting diode D. The cathode of the organic light emitting diode D is connected to the power supply potential VCT . The first electrode of the capacitor C is connected to the power supply potential V EL , and the second electrode of the capacitor C is connected to the gate of the transistor QP1.

トランジスターQP2のソースは、データ線D1に接続されており、トランジスターQP2のドレインは、キャパシターCの第2の電極及びトランジスターQP1のゲートに接続されている。また、トランジスターQP2のゲートは、1つの走査線に接続されており、トランジスターQP2は、ゲートに接続された走査線の電位に従って、トランジスターQP1のゲートをデータ線D1に接続する。   The source of the transistor QP2 is connected to the data line D1, and the drain of the transistor QP2 is connected to the second electrode of the capacitor C and the gate of the transistor QP1. The gate of the transistor QP2 is connected to one scanning line, and the transistor QP2 connects the gate of the transistor QP1 to the data line D1 in accordance with the potential of the scanning line connected to the gate.

即ち、走査線の電位をローレベルに活性化すると、トランジスターQP2がオンして、データ線D1の電位をトランジスターQP1のゲートに供給する。トランジスターQP1は、ゲートに接続されたキャパシターCの第2の電極に保持された電位に従って、有機発光ダイオードDに電流を供給する。有機発光ダイオードDは、供給される電流値に応じた輝度で発光する。   That is, when the scanning line potential is activated to a low level, the transistor QP2 is turned on, and the potential of the data line D1 is supplied to the gate of the transistor QP1. The transistor QP1 supplies a current to the organic light emitting diode D according to the potential held in the second electrode of the capacitor C connected to the gate. The organic light emitting diode D emits light with a luminance corresponding to the supplied current value.

一方、走査線の電位をハイレベルに非活性化すると、トランジスターQP2がオフして、トランジスターQP1のゲートがデータ線D1から切り離されるが、この状態においても、トランジスターQP1は、ゲートに接続されたキャパシターCの第2の電極に保持された電位に従って、有機発光ダイオードDに電流を供給することができる。   On the other hand, when the potential of the scanning line is deactivated to a high level, the transistor QP2 is turned off and the gate of the transistor QP1 is disconnected from the data line D1. A current can be supplied to the organic light emitting diode D according to the potential held in the C second electrode.

このように、画素回路1に2つのトランジスターQP1及びQP2のみが含まれている場合でも有機ELパネルに画像を表示することができるが、以下においては、さらに画質や機能を改善するために、画素回路1がPチャネルトランジスターQP3〜QP5をさらに含む場合について説明する。   As described above, even when the pixel circuit 1 includes only two transistors QP1 and QP2, an image can be displayed on the organic EL panel. However, in the following, in order to further improve the image quality and functions, A case where circuit 1 further includes P-channel transistors QP3 to QP5 will be described.

トランジスターQP3のソースは、トランジスターQP1のゲートに接続されており、トランジスターQP3のドレインは、トランジスターQP1のドレインに接続されている。また、トランジスターQP3のゲートには、しきい値補償信号が供給されて、トランジスターQP3は、しきい値補償信号に従って、トランジスターQP1のゲートとドレインとの間の接続を開閉する。   The source of the transistor QP3 is connected to the gate of the transistor QP1, and the drain of the transistor QP3 is connected to the drain of the transistor QP1. Further, a threshold compensation signal is supplied to the gate of the transistor QP3, and the transistor QP3 opens and closes the connection between the gate and the drain of the transistor QP1 in accordance with the threshold compensation signal.

即ち、しきい値補償信号をローレベルに活性化すると、トランジスターQP3がオンして、トランジスターQP1のゲートとドレインとが接続されるので、トランジスターQP1はダイオードと等価になる。このとき、データ線D1の電位を所定の電位(例えば、0V)に固定すると共に、トランジスターQP2をオンさせると、等価ダイオードの両端に順方向電圧が発生し、その電圧がキャパシターCに保持される。   That is, when the threshold compensation signal is activated to a low level, the transistor QP3 is turned on and the gate and drain of the transistor QP1 are connected, so that the transistor QP1 is equivalent to a diode. At this time, when the potential of the data line D1 is fixed to a predetermined potential (for example, 0 V) and the transistor QP2 is turned on, a forward voltage is generated at both ends of the equivalent diode, and the voltage is held in the capacitor C. .

これにより、複数の画素回路においてトランジスターQP1のしきい値電圧にばらつきが生じていても、しきい値電圧に相当する電圧がキャパシターCに保持されるので、トランジスターQP1のしきい値電圧のばらつきによるドレイン電流のばらつきを補償することができる。その後、しきい値補償信号をハイレベルに非活性化してトランジスターQP3をオフさせた状態で、データ線D1に画素信号を供給することにより、画素信号の電位が、キャパシターCの第2の電極に保持されている電位に重畳される。   As a result, even if the threshold voltage of the transistor QP1 varies in the plurality of pixel circuits, the voltage corresponding to the threshold voltage is held in the capacitor C. Therefore, due to the variation in the threshold voltage of the transistor QP1. Variations in drain current can be compensated. Thereafter, by supplying the pixel signal to the data line D1 in a state where the threshold compensation signal is deactivated to a high level and the transistor QP3 is turned off, the potential of the pixel signal is applied to the second electrode of the capacitor C. Superposed on the held potential.

トランジスターQP4のソースは、トランジスターQP1のドレインに接続されており、トランジスターQP4のドレインは、有機発光ダイオードDのアノードに接続されている。トランジスターQP4のゲートには、発光制御信号が供給されて、トランジスターQP4は、発光制御信号に従って、トランジスターQP1のドレインと有機発光ダイオードDのアノードとの間の接続を開閉する。   The source of the transistor QP4 is connected to the drain of the transistor QP1, and the drain of the transistor QP4 is connected to the anode of the organic light emitting diode D. A light emission control signal is supplied to the gate of the transistor QP4, and the transistor QP4 opens and closes a connection between the drain of the transistor QP1 and the anode of the organic light emitting diode D according to the light emission control signal.

即ち、発光制御信号がローレベルに活性化されると、トランジスターQP4がオンして、トランジスターQP1のドレイン電流が有機発光ダイオードDに供給される。一方、発光制御信号がハイレベルに非活性化されると、トランジスターQP4がオフして、トランジスターQP1のドレイン電流は有機発光ダイオードDに供給されなくなる。このように、発光制御信号を活性化する期間に応じて、有機発光ダイオードDの発光期間を制御することができる。   That is, when the light emission control signal is activated to a low level, the transistor QP4 is turned on, and the drain current of the transistor QP1 is supplied to the organic light emitting diode D. On the other hand, when the light emission control signal is deactivated to a high level, the transistor QP4 is turned off and the drain current of the transistor QP1 is not supplied to the organic light emitting diode D. Thus, the light emission period of the organic light emitting diode D can be controlled according to the period during which the light emission control signal is activated.

トランジスターQP5のソースは、リセット電位線R1に接続されており、トランジスターQP5のドレインは、有機発光ダイオードDのアノードに接続されている。トランジスターQP5のゲートには、LEDリセット信号が供給されて、トランジスターQP5は、LEDリセット信号に従って、有機発光ダイオードDのアノードとリセット電位線R1との間の接続を開閉する。   The source of the transistor QP5 is connected to the reset potential line R1, and the drain of the transistor QP5 is connected to the anode of the organic light emitting diode D. The LED reset signal is supplied to the gate of the transistor QP5, and the transistor QP5 opens and closes the connection between the anode of the organic light emitting diode D and the reset potential line R1 according to the LED reset signal.

即ち、LEDリセット信号がローレベルに活性化されると、トランジスターQP5がオンして、有機発光ダイオードDのアノードに所定のリセット電位(例えば、0V)を印加する。これにより、有機発光ダイオードDの発光を完全に停止させることができる。一方、LEDリセット信号がハイレベルに非活性化されると、トランジスターQP5がオフして、有機発光ダイオードDの発光が可能となる。   That is, when the LED reset signal is activated to a low level, the transistor QP5 is turned on, and a predetermined reset potential (for example, 0 V) is applied to the anode of the organic light emitting diode D. Thereby, light emission of the organic light emitting diode D can be stopped completely. On the other hand, when the LED reset signal is deactivated to a high level, the transistor QP5 is turned off, and the organic light emitting diode D can emit light.

リセット電位線R1は、テストモードにおいて、トランジスターQP1のドレイン電流を測定するためにも用いることができる。そのために、PチャネルMOSトランジスターQP11とNチャネルMOSトランジスターQN11とによって構成される第1のトランスミッションゲートが、リセット電位線R1とテストラインT1との間に接続されている。また、PチャネルMOSトランジスターQP12とNチャネルMOSトランジスターQN12とによって構成される第2のトランスミッションゲートが、リセット電位線R1とリセット電位との間に接続されている。   The reset potential line R1 can also be used to measure the drain current of the transistor QP1 in the test mode. For this purpose, a first transmission gate constituted by a P-channel MOS transistor QP11 and an N-channel MOS transistor QN11 is connected between the reset potential line R1 and the test line T1. A second transmission gate constituted by a P channel MOS transistor QP12 and an N channel MOS transistor QN12 is connected between the reset potential line R1 and the reset potential.

テストモードにおいては、テスト制御信号がローレベルに活性化され、インバーターINVの出力信号がハイレベルとなる。従って、第1のトランスミッションゲートのトランジスターQP11及びQN11がオンとなり、第2のトランスミッションゲートのトランジスターQP12及びQN12がオフとなって、リセット電位線R1がテストラインT1に接続される。これにより、トランジスターQP5がオンしているときに、テストラインT1を介してトランジスターQP1のドレイン電流を測定することができる。   In the test mode, the test control signal is activated to a low level, and the output signal of the inverter INV becomes a high level. Accordingly, the transistors QP11 and QN11 of the first transmission gate are turned on, the transistors QP12 and QN12 of the second transmission gate are turned off, and the reset potential line R1 is connected to the test line T1. Thus, when the transistor QP5 is on, the drain current of the transistor QP1 can be measured via the test line T1.

一方、通常動作モードにおいては、テスト制御信号がハイレベルに非活性化され、インバーターINVの出力信号がローレベルとなる。従って、第1のトランスミッションゲートのトランジスターQP11及びQN11がオフとなり、第2のトランスミッションゲートのトランジスターQP12及びQN12がオンとなって、リセット電位線R1がリセット電位に接続される。   On the other hand, in the normal operation mode, the test control signal is deactivated to a high level, and the output signal of the inverter INV becomes a low level. Accordingly, the transistors QP11 and QN11 of the first transmission gate are turned off, the transistors QP12 and QN12 of the second transmission gate are turned on, and the reset potential line R1 is connected to the reset potential.

以上、画素回路1の構成について説明したが、画素回路2及び3の構成も、画素回路1と同様である。ここで、画素回路1の図中左側にはシールド線S1が設けられており、画素回路1と画素回路2との間にはシールド線S2が設けられており、画素回路2と画素回路3との間にはシールド線S3が設けられている。また、PチャネルMOSトランジスターQP13とNチャネルMOSトランジスターQN13とによって構成されるトランスミッションゲートが、シールド線S1〜S3とリセット電位との間に接続されている。   Although the configuration of the pixel circuit 1 has been described above, the configuration of the pixel circuits 2 and 3 is the same as that of the pixel circuit 1. Here, a shield line S1 is provided on the left side of the pixel circuit 1 in the drawing, and a shield line S2 is provided between the pixel circuit 1 and the pixel circuit 2, and the pixel circuit 2, the pixel circuit 3, Between them, a shield line S3 is provided. A transmission gate constituted by a P channel MOS transistor QP13 and an N channel MOS transistor QN13 is connected between the shield lines S1 to S3 and the reset potential.

テストモードにおいては、トランスミッションゲートのトランジスターQP13及びQN13がオフとなって、シールド線S1〜S3がリセット電位から切り離される。一方、通常動作モードにおいては、トランスミッションゲートのトランジスターQP13及びQN13がオンとなって、シールド線S1〜S3がリセット電位に接続される。   In the test mode, the transmission gate transistors QP13 and QN13 are turned off, and the shield lines S1 to S3 are disconnected from the reset potential. On the other hand, in the normal operation mode, the transistors QP13 and QN13 of the transmission gate are turned on, and the shield lines S1 to S3 are connected to the reset potential.

次に、図3に示す画素回路のレイアウトについて説明する。SiOLEDの場合には、シリコンの半導体基板の一部の領域上にゲート絶縁膜を介してゲート電極が形成され、その両側の半導体基板内にソース及びドレインとなる不純物拡散領域が形成されて、トランジスターが形成される。   Next, the layout of the pixel circuit shown in FIG. 3 will be described. In the case of a SiOLED, a gate electrode is formed on a partial region of a silicon semiconductor substrate through a gate insulating film, impurity diffusion regions serving as a source and a drain are formed in the semiconductor substrate on both sides thereof, and a transistor Is formed.

トランジスターが形成された半導体基板上には、第1の層間絶縁膜を介して第1の配線層が形成され、さらにその上に、第2の層間絶縁膜を介して第1の配線層が形成され、そのようにして、必要な数の配線層が形成される。例えば、層間絶縁膜は、二酸化シリコンによって形成され、配線層は、アルミニウムによって形成される。   On the semiconductor substrate on which the transistor is formed, a first wiring layer is formed via a first interlayer insulating film, and further, a first wiring layer is formed thereon via a second interlayer insulating film. In this way, a necessary number of wiring layers are formed. For example, the interlayer insulating film is made of silicon dioxide, and the wiring layer is made of aluminum.

図4は、図3に示す画素回路におけるゲート電極及び不純物拡散領域のレイアウトを示す平面図である。図5は、図3に示す画素回路における第1の配線層のレイアウトを示す平面図であり、図6は、図3に示す画素回路における第2の配線層のレイアウトを示す平面図である。図5及び図6において、ゲート電極及び不純物拡散領域のレイアウト上に、それぞれの配線層のレイアウトがグレーで示されている。また、×印は、それぞれの配線層の配線を下層に接続するために層間絶縁膜に形成されたスルーホールを表している。   FIG. 4 is a plan view showing a layout of gate electrodes and impurity diffusion regions in the pixel circuit shown in FIG. FIG. 5 is a plan view showing the layout of the first wiring layer in the pixel circuit shown in FIG. 3, and FIG. 6 is a plan view showing the layout of the second wiring layer in the pixel circuit shown in FIG. 5 and 6, the layout of each wiring layer is shown in gray on the layout of the gate electrode and the impurity diffusion region. Further, the x mark represents a through hole formed in the interlayer insulating film in order to connect the wiring of each wiring layer to the lower layer.

図4〜図6においては、第1の方向(図1に示すX軸方向)において隣接する3つの画素回路1〜3が示されているが、他の画素回路のレイアウトも、第1の方向において隣接する1組(2つ)の画素回路についてミラー配置となっている。第2の方向(図1に示すY軸方向)において隣接する1組の画素回路については、同一パターンの繰り返しとしても良いし、ミラー配置としても良い。なお、画素回路のレイアウトにおける第1の方向及び第2の方向は、図1に示すX軸方向及びY軸方向に限定されるものではない。   4 to 6 show three pixel circuits 1 to 3 that are adjacent to each other in the first direction (X-axis direction shown in FIG. 1), the layout of other pixel circuits is also the first direction. In FIG. 1, the adjacent one set (two) of pixel circuits is in a mirror arrangement. For a pair of pixel circuits adjacent in the second direction (Y-axis direction shown in FIG. 1), the same pattern may be repeated or a mirror arrangement may be used. Note that the first direction and the second direction in the layout of the pixel circuit are not limited to the X-axis direction and the Y-axis direction shown in FIG.

図4に示すように、第1の方向において隣接する画素回路1及び2において、トランジスターQP1〜QP5のゲート電極(G)、ソース(S)、及び、ドレイン(D)が、画素回路の境界線に関して線対称でレイアウトされている。さらに、対称配置されている1組のトランジスターQP4のゲート電極が一体的に構成されている。   As shown in FIG. 4, in the pixel circuits 1 and 2 adjacent in the first direction, the gate electrodes (G), the source (S), and the drain (D) of the transistors QP1 to QP5 are the boundary lines of the pixel circuit. Is laid out with line symmetry. Further, the gate electrodes of a pair of transistors QP4 arranged symmetrically are integrally formed.

また、第1の方向において隣接する画素回路2及び3において、トランジスターQP1〜QP5のゲート電極(G)、ソース(S)、及び、ドレイン(D)が、画素回路の境界線に関して線対称でレイアウトされている。さらに、対称配置されている1組のトランジスターQP2のゲート電極が一体的に構成されており、対称配置されている1組のトランジスターQP3のゲート電極が一体的に構成されており、対称配置されている1組のトランジスターQP5のゲート電極が一体的に構成されている。   In the pixel circuits 2 and 3 adjacent in the first direction, the gate electrodes (G), the sources (S), and the drains (D) of the transistors QP1 to QP5 are symmetric with respect to the boundary lines of the pixel circuits. Has been. Furthermore, the gate electrodes of the pair of transistors QP2 that are symmetrically arranged are integrally configured, and the gate electrodes of the pair of transistors QP3 that are symmetrically arranged are integrally configured, and are arranged symmetrically. The gate electrodes of the set of transistors QP5 are integrally formed.

このように、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において、複数のトランジスターのゲート電極及び不純物拡散領域を線対称でレイアウトすることにより、配線層において効率良く配線を配置することができる。また、第1の方向において隣接する少なくとも1組の画素回路において対称配置されている少なくとも1組のトランジスターのゲート電極を共通化して一体的に構成することにより、それらのトランジスターのゲート電極を個別に構成する場合と比較して、ゲート電極間のスペース分だけトランジスターの間隔を狭くし、画素ピッチを小さくすることができる。   As described above, in at least one set of pixel circuits adjacent in the first direction, the gate electrodes and the impurity diffusion regions of the plurality of transistors are laid out in line symmetry so that the wiring can be efficiently arranged in the wiring layer. . In addition, the gate electrodes of at least one set of transistors arranged symmetrically in at least one set of pixel circuits adjacent in the first direction are integrated and configured integrally, whereby the gate electrodes of these transistors are individually set. Compared with the case of the configuration, the distance between the transistors can be narrowed by the space between the gate electrodes, and the pixel pitch can be reduced.

図5に示すように、第1の配線層には、走査線、シールド線、しきい値補償信号の配線、発光制御信号の配線、及び、LEDリセット信号の配線が、第1の方向に沿って形成されている。画素回路1及び2において、1組のトランジスターQP4の一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点において発光制御信号の配線に接続されている。また、画素回路2及び画素回路3において、1組のトランジスターQP2の一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点において1つの走査線に接続されており、1組のトランジスターQP3の一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点においてしきい値補償信号の配線に接続されており、1組のトランジスターQP5の一体的に構成されたゲート電極が、1つの接続点においてLEDリセット信号の配線に接続されている。   As shown in FIG. 5, the first wiring layer includes a scanning line, a shield line, a threshold compensation signal wiring, a light emission control signal wiring, and an LED reset signal wiring along the first direction. Is formed. In the pixel circuits 1 and 2, the gate electrode formed integrally with one set of the transistors QP 4 is connected to the light emission control signal wiring at one connection point. Further, in the pixel circuit 2 and the pixel circuit 3, the gate electrode formed integrally with the one set of transistors QP2 is connected to one scanning line at one connection point, and the one set of transistors QP3 is integrated. Are connected to the threshold compensation signal wiring at one connection point, and the gate electrode formed integrally with one set of transistors QP5 is connected to the LED reset signal at one connection point. Connected to the wiring.

このように、第1の方向において隣接する1組の画素回路において対称配置されている1組のトランジスターの一体的に構成されたゲート電極を、1つの接続点において1つの配線に接続することにより、スルーホールやコンタクトの数を減少させて、画素回路を小型化することができる。   In this way, by integrally connecting the gate electrodes formed integrally with one set of transistors arranged symmetrically in one set of pixel circuits in the first direction to one wiring at one connection point The pixel circuit can be downsized by reducing the number of through holes and contacts.

また、シールド線は、走査線としきい値補償信号の配線との間に配置されているだけではなく、画素回路1〜3の各々において、トランジスターQP1のゲート電極に接続された配線と走査線との間にも配置されている。さらに、シールド線は、隣接する1組の画素回路において対称配置された1組のトランジスターQP1にそれぞれ接続された2つの配線の間にも配置されている。このようなレイアウトパターンでシールド線を配置することによってシールド効果が増加するので、隣接する画素間において表示に与えるクロストークの影響を低減することができる。   The shield line is not only arranged between the scanning line and the threshold compensation signal wiring, but in each of the pixel circuits 1 to 3, the wiring connected to the gate electrode of the transistor QP1 and the scanning line It is also arranged between. Further, the shield line is also arranged between two wirings respectively connected to one set of transistors QP1 arranged symmetrically in one set of adjacent pixel circuits. Since the shielding effect is increased by arranging the shield lines in such a layout pattern, it is possible to reduce the influence of crosstalk on display between adjacent pixels.

図6に示すように、第2の配線層には、シールド線S1〜S3、データ線D1〜D3、及び、リセット電位線R1〜R3が、第2の方向に沿って形成されている。ここで、シールド線S3は、第1の方向において隣接する画素回路2及び3にそれぞれ接続された2つのデータ線D2及びD3の間に配置されている。これにより、第1の方向において隣接する1組の画素回路のレイアウトをミラー配置にしても、2つのデータ線が隣接することを防止して、データ線間の寄生容量によるクロストークを低減することができる。   As shown in FIG. 6, shield lines S1 to S3, data lines D1 to D3, and reset potential lines R1 to R3 are formed along the second direction in the second wiring layer. Here, the shield line S3 is disposed between the two data lines D2 and D3 connected to the pixel circuits 2 and 3 adjacent to each other in the first direction. Accordingly, even if the layout of a set of pixel circuits adjacent in the first direction is mirror-arranged, it is possible to prevent two data lines from being adjacent to each other and reduce crosstalk due to parasitic capacitance between the data lines. Can do.

また、図4〜図6に示すように、第1の方向において隣接する1組の画素回路において、上層とコンタクトする部分についてもレイアウトをミラー配置とすることにより、それらの画素回路において配線間の容量カップリング等に違いが出ないようになっている。さらに、第3の配線層には、電源電位VELを供給する配線が配置され、この配線は、第2の配線層及び第1の配線層を介して、トランジスターQP1のソースに電気的に接続される。このように、電源電位VELを供給する第3の配線層を別途設けたことにより、第1及び第2の配線層から発生するノイズがトランジスターQP1のソース電位に与える影響を低減することができる。 Also, as shown in FIGS. 4 to 6, in a set of pixel circuits adjacent in the first direction, the layout of the portions in contact with the upper layer is also arranged in a mirror so that the wiring between the wirings in these pixel circuits is made. There is no difference in capacitive coupling. Further, a wiring for supplying the power supply potential V EL is arranged in the third wiring layer, and this wiring is electrically connected to the source of the transistor QP1 through the second wiring layer and the first wiring layer. Is done. Thus, by separately providing the third wiring layer for supplying the power supply potential V EL , it is possible to reduce the influence of noise generated from the first and second wiring layers on the source potential of the transistor QP1. .

図3に示すキャパシターCは、例えば、絶縁層を金属で挟み込んだMIM(metal-insulator-metal:金属−絶縁体−金属)構造で形成される。その場合には、第3の配線層にキャパシターCの第1の電極を形成し、第4の配線層にキャパシターCの第2の電極を形成し、第5の配線層にキャパシターCの第1の電極を形成して、キャパシターCを積層構造としても良い。第3及び第5の配線層に形成されたキャパシターCの第1の電極には、電源電位VELが供給される。 The capacitor C shown in FIG. 3 is formed with, for example, an MIM (metal-insulator-metal) structure in which an insulating layer is sandwiched between metals. In that case, the first electrode of the capacitor C is formed in the third wiring layer, the second electrode of the capacitor C is formed in the fourth wiring layer, and the first electrode of the capacitor C is formed in the fifth wiring layer. The capacitor C may have a laminated structure. The power supply potential V EL is supplied to the first electrode of the capacitor C formed in the third and fifth wiring layers.

このように、キャパシターCの第1の電極の電位をトランジスターQP1のソース電位及びバックゲート電位と同じにすることによって、キャパシターCの第1の電極に供給される電源電位VELを、トランジスターQP1のソース等にも低インピーダンスで安定して供給することができる。 Thus, by making the potential of the first electrode of the capacitor C the same as the source potential and the back gate potential of the transistor QP1, the power supply potential V EL supplied to the first electrode of the capacitor C is changed to the transistor QP1. It can be stably supplied to a source or the like with low impedance.

以上の実施形態においては、画素回路においてPチャネルMOSトランジスターを使用する場合について説明したが、本発明は、画素回路においてNチャネルMOSトランジスターを使用する場合にも適用することが可能である。   In the above embodiment, the case where the P-channel MOS transistor is used in the pixel circuit has been described. However, the present invention can also be applied to the case where the N-channel MOS transistor is used in the pixel circuit.

このように、本発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、当該技術分野において通常の知識を有する者によって、本発明の技術的思想内で多くの変形が可能である。   Thus, the present invention is not limited to the embodiments described above, and many modifications can be made within the technical idea of the present invention by those who have ordinary knowledge in the technical field.

1〜3…画素回路、10…画像データ処理回路、20…表示タイミング生成回路、30…走査線ドライバー、40…データ線ドライバー、50…画素部、60…表示装置、70…有機ELパネル、70a…表示領域、71…半導体基板、72…OLED層、73…カバーガラス、80…フレキシブル基板、G1、G2、・・・…走査線、D1、D2、・・・…データ線、S1〜S3…シールド線、R1〜R3…リセット電位線、T1〜T3…テストライン、D…有機発光ダイオード、QP1〜QP13…PチャネルMOSトランジスター、QN11〜QN13…NチャネルMOSトランジスター、C…キャパシター   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1-3 ... Pixel circuit, 10 ... Image data processing circuit, 20 ... Display timing generation circuit, 30 ... Scan line driver, 40 ... Data line driver, 50 ... Pixel part, 60 ... Display apparatus, 70 ... Organic EL panel, 70a ... Display area 71 ... Semiconductor substrate 72 ... OLED layer 73 ... Cover glass 80 ... Flexible substrate G1, G2, ... Scan line, D1, D2, ... Data line, S1-S3 ... Shield line, R1-R3 ... reset potential line, T1-T3 ... test line, D ... organic light emitting diode, QP1-QP13 ... P-channel MOS transistor, QN11-QN13 ... N-channel MOS transistor, C ... capacitor

Claims (8)

第1の方向に延在する第1データ線及び第2データ線と、
発光制御線と、
第1発光素子と、前記第1データ線からの第1画素信号に応じて前記第1発光素子に第1電流を流す第1トランジスターと、前記第1トランジスターと前記第1発光素子の間に接続された第2トランジスターと、を含む第1画素回路と、
第2発光素子と、前記第2データ線からの第2画素信号に応じて前記第2発光素子に第2電流を流す第3トランジスターと、前記第3トランジスターと前記第2発光素子の間に接続された第4トランジスターと、を含む第2画素回路と、
を有し、
前記第2トランジスターのゲート電極と前記第4トランジスターのゲート電極は一体的に構成され、接続点において前記発光制御線に接続されてなる、ことを特徴とする表示装置。
A first data line and a second data line extending in a first direction;
A light emission control line;
A first light emitting element; a first transistor for passing a first current through the first light emitting element in response to a first pixel signal from the first data line; and a connection between the first transistor and the first light emitting element. A first pixel circuit comprising: a second transistor ,
A second light emitting element, a third transistor for passing a second current through the second light emitting element in response to a second pixel signal from the second data line, and a connection between the third transistor and the second light emitting element. A second pixel circuit including a fourth transistor,
Have
The display device , wherein the gate electrode of the second transistor and the gate electrode of the fourth transistor are integrally formed and connected to the light emission control line at a connection point .
前記第2トランジスターは、前記第4トランジスターと線対称になるように配置されてなる、請求項1に記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein the second transistor is arranged so as to be line-symmetric with the fourth transistor . 前記第1データ線と前記第2データ線との間に配置されたシールド配線をさらに含む、請求項1または2に記載の表示装置。 Further comprising the placed shielded wire between the second data line and the first data line, a display device according to claim 1 or 2. 前記第1トランジスターは、前記第3トランジスターと線対称になるように配置されてなる、請求項1〜3のいずれか1項記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein the first transistor is arranged so as to be line-symmetric with the third transistor . 前記第1データ線、前記第2データ線、前記発光制御線、前記第1画素回路、前記第2画素回路は、半導体基板の上に形成されてなる、請求項1〜4のいずれか1項記載の表示装置。 5. The device according to claim 1, wherein the first data line, the second data line, the light emission control line, the first pixel circuit, and the second pixel circuit are formed on a semiconductor substrate. The display device described. 前記第1発光素子及び前記第2発光素子は、有機発光ダイオードである、請求項1〜5のいずれか1項記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein the first light emitting element and the second light emitting element are organic light emitting diodes . 前記発光制御線は、前記第2トランジスターのゲート電極と前記第4トランジスターのゲート電極とは異なる第1の配線層に形成されてなる、請求項1〜6のいずれか1項記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein the light emission control line is formed on a first wiring layer different from a gate electrode of the second transistor and a gate electrode of the fourth transistor . 請求項1〜7のいずれか1項記載の表示装置を具備する電子機器。   An electronic apparatus comprising the display device according to claim 1.
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