JP6414142B2 - Culture temperature control device, culture observation device, and culture temperature control method - Google Patents

Culture temperature control device, culture observation device, and culture temperature control method Download PDF

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Description

本技術は、観察対象物を培養したまま観察することが可能な培養容器の温度制御に係る培養温度制御装置、培養観察装置及び培養温度制御方法に関する。   The present technology relates to a culture temperature control device, a culture observation device, and a culture temperature control method related to temperature control of a culture vessel that can observe an observation object while being cultured.

細胞等の観察対象物を生存させたまま観察する際に、観察対象物を培養しながらの観察を可能とする培養容器が利用される。培養容器は、観察対象物の培養に適した環境(以下、培養環境)を維持するため、温度、湿度やガス(CO等)分圧等を調節することが可能に構成されている。観察対象物は、ウェルプレート(複数のウェルが設けられたプレート)の各ウェルに収容され、ウェルプレートが培養容器に収容されることで培養環境に維持されるものが一般的である。 When observing an observation object such as a cell while alive, a culture container that enables observation while culturing the observation object is used. The culture container is configured to be able to adjust the temperature, humidity, gas (CO 2, etc.) partial pressure and the like in order to maintain an environment suitable for culturing the observation object (hereinafter, culture environment). The observation object is generally accommodated in each well of a well plate (a plate provided with a plurality of wells), and is maintained in a culture environment by accommodating the well plate in a culture vessel.

ここで、培養容器は、各ウェルの培養環境を可能な限り均一にできるものが望ましい。培養環境がウェルによって異なると、観察対象物の細胞等の成育速度等が異なり、観察に不適当となるためである。例えば、特許文献1には、ウェルプレートの底面に配置される「透明発熱プレート」を備える培養容器が開示されている。当該発熱プレートによって、ウェルプレートの底面が均一に加熱され、培養環境の均一化が可能とされている。   Here, it is desirable that the culture vessel can make the culture environment of each well as uniform as possible. This is because if the culture environment varies depending on the wells, the growth rate of the cells to be observed is different, which is inappropriate for observation. For example, Patent Literature 1 discloses a culture container provided with a “transparent heating plate” disposed on the bottom surface of a well plate. The bottom surface of the well plate is uniformly heated by the heat generating plate, and the culture environment can be made uniform.

特開平10−28576号公報JP-A-10-28576

しかしながら、特許文献1に記載のような発熱プレートを利用した場合であっても、発熱プレート自体の発熱が温度ムラを生じ、培養環境の均一化は不十分となるおそれがある。特に、発熱プレートがウェルプレートの底面に配置されるため、観察のために発熱プレートは透明である必要があり、発熱体の構造も制約を受けると考えられる。   However, even when a heat generating plate as described in Patent Document 1 is used, the heat generated by the heat generating plate itself may cause temperature unevenness and the culture environment may not be uniform. In particular, since the heat generating plate is disposed on the bottom surface of the well plate, the heat generating plate needs to be transparent for observation, and the structure of the heat generating element is considered to be restricted.

加えて、培養容器は、ウェルプレートの交換等のために頻繁に開放されることが多いが、培養容器が開放された際に培養環境を維持するためには、発熱プレートを高精度に制御する必要があり、発熱プレートの応答性等も問題となる。   In addition, the culture container is often opened frequently for exchanging the well plate, etc. In order to maintain the culture environment when the culture container is opened, the heating plate is controlled with high accuracy. It is necessary, and the responsiveness of the heat generating plate is also a problem.

以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、培養環境の維持に適した培養温度制御装置、培養観察装置及び培養温度制御方法を提供することにある。   In view of the circumstances as described above, an object of the present technology is to provide a culture temperature control device, a culture observation device, and a culture temperature control method suitable for maintaining a culture environment.

上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る培養温度制御装置は、筐体と、第1のヒーターと、温度センサと、制御部とを具備する。
上記筐体は、第1の基板と上記第1の基板と対向する第2の基板とを含む。
上記第1のヒーターは、上記第1の基板に配置されている。
上記温度センサは、上記筐体内の温度を検出する。
上記制御部は、上記第1のヒーターを調整可能な第1の温調部と第2の温調部とを含み、上記筐体の開放時に上記第1の温調部から上記第2の温調部へと切り替えるよう制御する。
上記第1の温調部は、目標温度と上記温度センサで検出された温度とに基づいて上記第1のヒーターの温度を調整する。
上記第2の温調部は、オン/オフ制御によって上記第1のヒーターの温度を調整する。
In order to achieve the above object, a culture temperature control apparatus according to an embodiment of the present technology includes a housing, a first heater, a temperature sensor, and a control unit.
The housing includes a first substrate and a second substrate facing the first substrate.
The first heater is disposed on the first substrate.
The temperature sensor detects a temperature in the casing.
The control unit includes a first temperature control unit and a second temperature control unit that can adjust the first heater, and the second temperature control unit is configured to release the second temperature from the first temperature control unit when the casing is opened. Control to switch to the key.
The first temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater based on a target temperature and a temperature detected by the temperature sensor.
The second temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater by on / off control.

この構成によれば、培養空間(筐体内部)が閉塞されている間は第1の温調部が目標温度と上記温度センサで検出された温度とに基づいて上記第1のヒーターの温度を調整し、培養空間が開放されると第2の温調部がオン/オフ制御によって第1のヒーターの温度を調整する。第1の温調部は、目標温度と温度センサで検出された温度に基づいて第1のヒーターの温度を精確に調整することができ、培養空間が開放されると、第2の温調部がオン/オフ制御によって迅速に培養空間の温度を目標温度へ復帰させることが可能となっています。したがって、本培養温度制御装置は、培養空間の開閉も含めて培養空間内の温度を精確に維持することが可能であり、観察対象物を培養しながら観察することに適する。   According to this configuration, while the culture space (inside the casing) is closed, the first temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater based on the target temperature and the temperature detected by the temperature sensor. When the culture space is opened, the second temperature control unit adjusts the temperature of the first heater by on / off control. The first temperature control unit can accurately adjust the temperature of the first heater based on the target temperature and the temperature detected by the temperature sensor. When the culture space is opened, the second temperature control unit However, it is possible to quickly return the temperature of the culture space to the target temperature by on / off control. Therefore, the main culture temperature control apparatus can accurately maintain the temperature in the culture space including opening and closing of the culture space, and is suitable for observing the observation object while culturing.

上記第1の温調部は、PID制御により上記第1のヒーターの温度を調整してもよい。   The first temperature adjustment unit may adjust the temperature of the first heater by PID control.

PID(Proportinal/Integral/Differential)制御は、測定された温度と目標温度の差異を解消するためのフィードバック制御であり、精確な温度調整が可能であるが、目標温度への到達に時間を要する。上記構成によれば、培養空間が開放されたときにはオン/オフ制御によって迅速な目標温度への復帰が可能であるため、PID制御による温度調整に時間を要することが問題とならない。   PID (Proportinal / Integral / Differential) control is feedback control for eliminating the difference between the measured temperature and the target temperature. Although precise temperature adjustment is possible, it takes time to reach the target temperature. According to the above configuration, when the culture space is opened, it is possible to quickly return to the target temperature by the on / off control. Therefore, it does not matter that time is required for the temperature adjustment by the PID control.

上記第2の温調部は、上記第1のヒーターを上記筐体の開放に応じてオン状態にし、所定時間経過後にオフ状態にしてもよい。   The second temperature control unit may turn on the first heater in response to the opening of the casing, and may turn off the first heater after a predetermined time has elapsed.

培養空間が開放された後に第1のヒーターのオン状態を維持すると培養空間内の温度が上昇し過ぎるため、所定時間経過後にオフ状態とすることによって培養空間内の温度を一定範囲内に維持することが可能となる。   If the first heater is kept on after the culture space is opened, the temperature in the culture space rises too much. Therefore, the temperature in the culture space is maintained within a certain range by turning it off after a predetermined time. It becomes possible.

上記制御部は、上記筐体の閉塞前に上記第2の温調部から上記第1の温調部に切り替えるよう制御してもよい。   The control unit may control to switch from the second temperature control unit to the first temperature control unit before the casing is closed.

培養空間が開放され、第2の温調部がオン/オフ制御により培養空間内の温度を目標温度に近づけた後は、第1の温調部が精確に温度調整をすることができる。   After the culture space is opened and the second temperature control unit brings the temperature in the culture space close to the target temperature by on / off control, the first temperature control unit can accurately adjust the temperature.

上記第1の温調部は上記第1のヒーターを上記筐体の閉塞に応じてオフ状態にし、所定時間経過後にオン状態にしてもよい。   The first temperature control unit may turn off the first heater in response to the closure of the casing, and turn it on after a predetermined time.

上記培養温度制御装置は、上記筐体の開閉を検出する開閉検出部を更に具備し、
上記制御部は、上記開閉検出部での開閉の検出に応じて上記第1のヒーターを制御してもよい。
The culture temperature control device further includes an open / close detection unit that detects open / close of the housing,
The control unit may control the first heater in response to detection of opening / closing by the opening / closing detection unit.

上記制御部は、上記筐体が開放されると上記第1のヒーターをオン状態とし、所定時間経過後にオフ状態とするように上記第2の温調部を制御し、上記所定時間経過後に上記第1のヒーターの温度を調整するように上記第1の温調部を制御してもよい。   The control unit controls the second temperature control unit to turn on the first heater when the housing is opened, and to turn off after a predetermined time has elapsed. After the predetermined time has elapsed, the control unit controls the second temperature control unit. You may control the said 1st temperature control part so that the temperature of a 1st heater may be adjusted.

上記制御部は、上記筐体が閉塞されると上記第1のヒーターをオフ状態とするように上記第1の温調部及び上記第2の温調部を制御してもよい。   The controller may control the first temperature controller and the second temperature controller so that the first heater is turned off when the housing is closed.

上記培養温度制御装置は、上記第2の基板に配置された第2のヒーターを更に具備し、
上記制御部は、上記第2のヒーターを制御してもよい。
The culture temperature control apparatus further includes a second heater disposed on the second substrate,
The control unit may control the second heater.

第1のヒーターに加え、第2のヒーターによって培養空間を加熱することで、培養空間内の温度を迅速に目標温度に近づけることが可能となる。   By heating the culture space with the second heater in addition to the first heater, the temperature in the culture space can be quickly brought close to the target temperature.

上記第2の基板は、光透過性を有する透明部材からなるものであってもよい。   The second substrate may be made of a transparent member having optical transparency.

上記第1の基板は、光透過性を有する透明部材からなるものであってもよい。   The first substrate may be made of a transparent member having optical transparency.

上記筐体は細胞を含むウェルプレートを格納可能であり、
上記温度センサは上記ウェルプレート内の少なくとも1つのウェル内に配置されてもよい。
The housing can store a well plate containing cells,
The temperature sensor may be disposed in at least one well in the well plate.

上記筐体は、本体部分と上記本体部分に対して開閉可能に構成された蓋部分とを備え、上記蓋部分には上記第2の基板を嵌め込むための開口が設けられていてもよい。   The housing may include a main body portion and a lid portion configured to be openable and closable with respect to the main body portion, and the lid portion may be provided with an opening for fitting the second substrate.

上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る培養観察装置は、光源部と、撮像部と、培養温度制御部とを具備する。
上記光源部は、細胞に光を照射する。
上記撮像部は、上記細胞の画像を撮像する。
上記培養温度制御部は、第1の基板と上記第1の基板と対向する第2の基板とを含む筐体と、上記第1の基板に配置された第1のヒーターと、上記筐体内の温度を検出する温度センサと、上記第1のヒーターを調整可能な第1の温調部と第2の温調部とを含む制御部とを具備する培養温度制御部とを具備し、
上記制御部は、上記筐体の開放時に上記第1の温調部から上記第2の温調部へと切り替えるよう制御し、
上記第1の温調部は、目標温度と上記温度センサで検出された温度とに基づいて上記第1のヒーターの温度を調整し、
上記第2の温調部は、オン/オフ制御によって上記第1のヒーターの温度を調整する。
In order to achieve the above object, a culture observation apparatus according to an embodiment of the present technology includes a light source unit, an imaging unit, and a culture temperature control unit.
The light source unit irradiates a cell with light.
The imaging unit captures an image of the cell.
The culture temperature control unit includes a housing including a first substrate and a second substrate facing the first substrate, a first heater disposed on the first substrate, A culture temperature control unit comprising a temperature sensor for detecting temperature, and a control unit including a first temperature control unit and a second temperature control unit capable of adjusting the first heater;
The control unit controls to switch from the first temperature control unit to the second temperature control unit when the housing is opened,
The first temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater based on a target temperature and a temperature detected by the temperature sensor,
The second temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater by on / off control.

上記培養観察装置は、上記光源部と上記撮像部との間に配置されるステージを更に有し、
上記ステージは上記筐体を支持するよう構成されていてもよい。
The culture observation apparatus further includes a stage disposed between the light source unit and the imaging unit,
The stage may be configured to support the housing.

上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る培養温度制御方法は、第1の基板と上記第1の基板と対向する第2の基板とを含む筐体と、上記第1の基板に配置された第1のヒーターと、上記筐体内の温度を検出する温度センサと、目標温度と上記温度センサで検出された温度とに基づいて上記第1のヒーターの温度を調整する第1の温調部と、オン/オフ制御によって上記第1のヒーターの温度を調整する第2の温調部とを備える培養温度制御装置を準備する。
上記筐体の開放時に上記第1の温調部から上記第2の温調部へと切り替えるよう制御する。
To achieve the above object, a culture temperature control method according to an aspect of the present technology includes a housing including a first substrate and a second substrate facing the first substrate, and the first substrate. A first heater arranged, a temperature sensor for detecting a temperature in the housing, and a first temperature for adjusting a temperature of the first heater based on a target temperature and a temperature detected by the temperature sensor; A culture temperature control device is provided that includes a control unit and a second temperature control unit that adjusts the temperature of the first heater by on / off control.
Control is performed to switch from the first temperature control unit to the second temperature control unit when the housing is opened.

以上のように、本技術によれば、培養環境の維持に適した培養温度制御装置、培養観察装置及び培養温度制御方法を提供することが可能である。   As described above, according to the present technology, it is possible to provide a culture temperature control device, a culture observation device, and a culture temperature control method that are suitable for maintaining a culture environment.

第1の実施形態に係る培養観察装置の模式図である。It is a schematic diagram of the culture observation apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る培養容器の模式図である。It is a schematic diagram of the culture container which concerns on 1st Embodiment. 同培養容器の第1透明部材の模式図である。It is a schematic diagram of the 1st transparent member of the same culture container. 同培養容器に収容されるウェルプレートの模式図である。It is a schematic diagram of the well plate accommodated in the culture container. 同培養容器の使用時の形態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the form at the time of use of the same culture container. 比較例に係る培養容器に設けられた各ヒーターと観察対象物の温度の変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change of the temperature of each heater provided in the culture container which concerns on a comparative example, and an observation target object. 第1の実施形態に係る培養容器の液体の水位と観察対象物の温度低下量を示す表である。It is a table | surface which shows the liquid water level of the culture container which concerns on 1st Embodiment, and the temperature fall amount of an observation target object. 第2の実施形態に係る培養容器の模式図である。It is a schematic diagram of the culture container which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る培養容器の模式図である。It is a schematic diagram of the culture container which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係る培養容器の模式図である。It is a schematic diagram of the culture container which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施形態に係る培養容器の模式図である。It is a schematic diagram of the culture container which concerns on 4th Embodiment. 第5の実施形態に係る培養容器の模式図である。It is a schematic diagram of the culture container which concerns on 5th Embodiment. 第6の実施形態に係る培養容器の模式図である。It is a schematic diagram of the culture container which concerns on 6th Embodiment. 第7の実施形態に係る培養観察装置の模式図である。It is a schematic diagram of the culture observation apparatus which concerns on 7th Embodiment. 同培養観察装置の第1透明部材における温度分布を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the temperature distribution in the 1st transparent member of the culture observation apparatus. 第8の実施形態に係る培養観察装置の模式図である。It is a schematic diagram of the culture observation apparatus which concerns on 8th Embodiment. 同培養観察装置における絞りリングに対する赤外線照射部の配置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows arrangement | positioning of the infrared irradiation part with respect to the aperture ring in the culture observation apparatus. 第9の実施形態に係る培養観察装置の制御部の機能的構成を湿す模式図である。It is a schematic diagram which wets the functional structure of the control part of the culture observation apparatus which concerns on 9th Embodiment. 同培養観察装置における、蓋部分の開放の前後における測定温度を示すグラフである。It is a graph which shows the measurement temperature before and behind opening | closing of a cover part in the culture observation apparatus. 同培養観察装置における、蓋部分の開放の前後における測定温度を示すグラフである。It is a graph which shows the measurement temperature before and behind opening | closing of a cover part in the culture observation apparatus. 同培養観察装置における、蓋部分の開放の前後における測定温度を示すグラフである。It is a graph which shows the measurement temperature before and behind opening | closing of a cover part in the culture observation apparatus. 実施例に係る温度センサを設置したウェルとそのウェルに設けられた温度センサを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the well which installed the temperature sensor which concerns on an Example, and the temperature sensor provided in the well. 実施例に係る液体の水位を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the water level of the liquid which concerns on an Example. 実施例に係る測定値を示す表である。It is a table | surface which shows the measured value which concerns on an Example. 実施例に係る測定値を示す表である。It is a table | surface which shows the measured value which concerns on an Example. 実施例に係る測定値を示すグラフである。It is a graph which shows the measured value which concerns on an Example.

(第1の実施形態)
本技術の第1の実施形態に係る培養観察装置及び培養容器について説明する。
(First embodiment)
The culture observation apparatus and the culture container according to the first embodiment of the present technology will be described.

[培養観察装置の構成]
図1は、本実施形態に係る培養観察装置1の模式図である。同図に示すように、培養観察装置1は、照明光源11、光ファイバ12、照明光学系13、ステージ14、顕微鏡光学系15、撮像素子16及び制御部17を有する。ステージ14には、観察対象物(細胞等)を収容した培養容器20が載置されている。培養観察装置1は、観察対象物(細胞等)の位相差像の撮像が可能な位相差顕微鏡であるものとすることができる。
[Configuration of culture observation apparatus]
FIG. 1 is a schematic diagram of a culture observation apparatus 1 according to the present embodiment. As shown in the figure, the culture observation apparatus 1 includes an illumination light source 11, an optical fiber 12, an illumination optical system 13, a stage 14, a microscope optical system 15, an image sensor 16, and a control unit 17. On the stage 14, a culture container 20 containing an observation object (cells or the like) is placed. The culture observation apparatus 1 can be a phase contrast microscope capable of capturing a phase contrast image of an observation object (cells or the like).

照明光源11は、ハロゲンランプ等の任意の光源を利用することができる。照明光源11は、制御部17によって発光タイミング等の制御を受けるものとすることも可能である。光ファイバ12は、照明光源11から照射された照明光を照明光学系13に伝達する。光ファイバ12も任意のものを利用することができる。   The illumination light source 11 can use any light source such as a halogen lamp. The illumination light source 11 can be controlled by the control unit 17 such as the light emission timing. The optical fiber 12 transmits the illumination light emitted from the illumination light source 11 to the illumination optical system 13. Any optical fiber 12 can be used.

照明光学系13は、光ファイバ12から伝達された照明光を、位相差像の生成に適した均一照明光に調整する。照明光学系13は、第1レンズ131、第2レンズ132、リング絞り133及びコンデンサレンズ134を有するものとすることができる。第1レンズ131及び第2レンズ132は、照明光学系に一般に必要とされるフィールドレンズ等である。リング絞り133は、詳細は後述するが、リング状のスリットが設けられた板状の部材であり、第1レンズ131及び第2レンズ132を通過した照明光を絞る。コンデンサレンズ134は、レンズ絞り133を通過した照明光を観察対象物に集光するレンズである。   The illumination optical system 13 adjusts the illumination light transmitted from the optical fiber 12 to uniform illumination light suitable for generating a phase difference image. The illumination optical system 13 may include a first lens 131, a second lens 132, a ring diaphragm 133, and a condenser lens 134. The first lens 131 and the second lens 132 are field lenses or the like generally required for an illumination optical system. Although described in detail later, the ring diaphragm 133 is a plate-like member provided with a ring-shaped slit, and restricts the illumination light that has passed through the first lens 131 and the second lens 132. The condenser lens 134 is a lens that condenses the illumination light that has passed through the lens diaphragm 133 onto the observation target.

ステージ14は、培養容器20を支持し、培養容器20の位置を調整する。ステージ14はモータ等によって、垂直方向(光学軸に沿った方向)及び水平方向(光学軸に垂直な方向)に移動可能なものが好適である。ステージ14は、制御部17によって駆動が制御され、培養容器20を移動させるものとすることができる。   The stage 14 supports the culture vessel 20 and adjusts the position of the culture vessel 20. The stage 14 is preferably movable by a motor or the like in the vertical direction (direction along the optical axis) and the horizontal direction (direction perpendicular to the optical axis). The stage 14 can be driven by the control unit 17 to move the culture vessel 20.

顕微鏡光学系15は、照明光学系13から照射され、培養容器20(に収容された観察対象物)を透過した光から位相差像を結像させる。顕微鏡光学系15は、図示しない対物レンズ、位相差板及び結像レンズ等を備えるものとすることができる。   The microscope optical system 15 forms a phase difference image from light irradiated from the illumination optical system 13 and transmitted through the culture vessel 20 (observation object accommodated in the culture vessel 20). The microscope optical system 15 can include an objective lens, a phase difference plate, an imaging lens, and the like (not shown).

撮像素子16は、顕微鏡光学系15によって結像された観察対象物の位相差像を撮像する。撮像素子16はCCD(Charge Coupled Device)イメージセンサやCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサであるものとすることができる。撮像素子16の出力は、制御部17に供給されるものとすることができる。   The image sensor 16 captures a phase difference image of the observation object imaged by the microscope optical system 15. The imaging device 16 can be a CCD (Charge Coupled Device) image sensor or a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor. The output of the image sensor 16 can be supplied to the control unit 17.

制御部17は、情報処理装置等であり、ステージ14やその他の構成に制御信号を供給し、観察対象物の撮像を制御すると共に、撮像素子16の出力から位相差像を生成する。また、制御部17は、詳細は後述するが、培養容器20の環境(温度等)を取得し、その環境を制御するものとすることも可能である。   The control unit 17 is an information processing apparatus or the like, and supplies a control signal to the stage 14 and other components to control imaging of the observation target and generate a phase difference image from the output of the imaging element 16. Moreover, although the detail is mentioned later, the control part 17 can also acquire the environment (temperature etc.) of the culture container 20, and shall control the environment.

培養観察装置1は以上のような構成を有する。なお上述した培養観察装置1の構成は一例であり、これと異なる構成とすることも可能である。例えば、撮像素子16の替わりに人間が肉眼で観察対象物を観察するための接眼レンズ等が設けられていてもよい。   The culture observation apparatus 1 has the above configuration. In addition, the structure of the culture observation apparatus 1 mentioned above is an example, and it can also be set as the structure different from this. For example, instead of the image sensor 16, an eyepiece lens or the like for a human to observe an observation object with the naked eye may be provided.

[培養容器の構成]
上述した培養観察装置1において利用することが可能な培養容器20について説明する。図2は、培養容器20の模式図である。培養容器20は、内部にウェルプレート30を収容可能に構成されている。図2(a)はウェルプレート30が収容された培養容器20を示し、図2(b)はウェルプレート30と培養容器20を別々に示す。
[Composition of culture vessel]
The culture vessel 20 that can be used in the culture observation apparatus 1 described above will be described. FIG. 2 is a schematic diagram of the culture vessel 20. The culture container 20 is configured to accommodate the well plate 30 therein. 2A shows the culture container 20 in which the well plate 30 is accommodated, and FIG. 2B shows the well plate 30 and the culture container 20 separately.

図2に示すように、培養容器20は、筐体部材21、第1透明部材23、第2透明部材22、封止リング24及び防水部材25を有する。筐体部材21、第1透明部材23及び第2透明部材22によって空間(培養空間とする)が形成されている。   As shown in FIG. 2, the culture vessel 20 includes a housing member 21, a first transparent member 23, a second transparent member 22, a sealing ring 24, and a waterproof member 25. A space (referred to as a culture space) is formed by the casing member 21, the first transparent member 23, and the second transparent member 22.

筐体部材21は、第1透明部材23及び第2透明部材22とともに培養空間を形成する。
筐体部材21の形状は特に限定されず、円筒形状や直方体形状であるものとすることができる。筐体部材21の材質も特に限定されないが、合成樹脂等からなるものとすることができる。
The casing member 21 forms a culture space together with the first transparent member 23 and the second transparent member 22.
The shape of the housing member 21 is not particularly limited, and may be a cylindrical shape or a rectangular parallelepiped shape. The material of the housing member 21 is not particularly limited, but may be made of synthetic resin or the like.

筐体部材21は、蓋部分211と本体部分212からなるものとすることができ、蓋部分211が本体部分212に対して開閉することにより、ウェルプレート30の交換が可能に構成されている。蓋部分211と本体部分212は、例えばヒンジ(図示せず)によって開閉可能に構成されているものとすることができる。蓋部分211には、第2透明部材22を嵌め込むための開口が設けられ、本体部分212には第1透明部材23を嵌め込むための開口が設けられている。   The housing member 21 can be composed of a lid portion 211 and a main body portion 212, and the well plate 30 can be replaced by opening and closing the lid portion 211 with respect to the main body portion 212. The lid portion 211 and the main body portion 212 can be configured to be opened and closed by, for example, a hinge (not shown). The lid portion 211 is provided with an opening for fitting the second transparent member 22, and the main body portion 212 is provided with an opening for fitting the first transparent member 23.

また、蓋部分211には、ガス供給孔213とガス排出孔214が設けられている。ガス供給孔213は図示しないガス源(ガスボンベ等)に接続され、培養空間に所定のガス(例えば二酸化炭素)を供給可能に構成されている。ガス排出孔214は、培養空間内の気体を排出可能に構成されている。ガス供給孔213とガス排出孔214は、不使用時には閉塞可能に構成されている。   The lid portion 211 is provided with a gas supply hole 213 and a gas discharge hole 214. The gas supply hole 213 is connected to a gas source (gas cylinder or the like) (not shown) so as to supply a predetermined gas (for example, carbon dioxide) to the culture space. The gas discharge hole 214 is configured to be able to discharge the gas in the culture space. The gas supply hole 213 and the gas discharge hole 214 are configured to be closed when not in use.

第1透明部材23は、本体部分212の開口に嵌め込まれ、培養空間の底面を形成する。第1透明部材23は、培養空間に収容されたウェルプレート30が載置される部材である。第1透明部材23は、光透過性を有する材料、例えばガラスや合成樹脂からなるものとすることができる。第1透明部材23は、ウェルプレート30(に収容された観察対象物)を透過した照明光を顕微鏡光学系15に到達させるため、ウェルプレート30の大部分又は全部と対向する大きさのものが好適である。   The first transparent member 23 is fitted into the opening of the main body portion 212 and forms the bottom surface of the culture space. The first transparent member 23 is a member on which the well plate 30 accommodated in the culture space is placed. The first transparent member 23 can be made of a light-transmitting material such as glass or synthetic resin. The first transparent member 23 has a size that is opposed to most or all of the well plate 30 so that the illumination light transmitted through the well plate 30 (observation object accommodated therein) reaches the microscope optical system 15. Is preferred.

また、第1透明部材23は、所定温度に維持することが可能なヒーターとすることができる。図3は、第1透明部材23を示す模式図である。同図に示すように、第1透明部材23は、光透過性を有する透明板231に、透明導電膜232が形成された構成とすることができる。透明導電膜232は、電極233に接続され、電極233からの電力供給を受けて発熱する。なお、第1透明部材23はこのような構成に限られず、光透過性を有し、かつ発熱することが可能な構成であればよいが、第1透明部材23の面内において均一に(ムラなく)加発熱することができるものが好適である。   The first transparent member 23 can be a heater that can be maintained at a predetermined temperature. FIG. 3 is a schematic diagram showing the first transparent member 23. As shown in the figure, the first transparent member 23 can be configured such that a transparent conductive film 232 is formed on a transparent plate 231 having optical transparency. The transparent conductive film 232 is connected to the electrode 233 and generates heat upon receiving power supply from the electrode 233. Note that the first transparent member 23 is not limited to such a configuration, and may be any configuration that has light transmittance and can generate heat. None) that can generate heat is preferred.

第2透明部材22は、蓋部分211の開口に嵌め込まれ、第1透明部材23に対向する。第2透明部材22は、光透過性を有する材料、例えばガラスや合成樹脂からなるものとすることができる。第2透明部材22は、照明光学系13から照射された照明光をウェルプレート30(に収容された観察対象物)に到達させるため、ウェルプレート30の大部分又は全部と対向する大きさのものが好適である。第2透明部材22は、第1透明部材23と同様に所定温度に維持することが可能なヒーターとすることが可能である。   The second transparent member 22 is fitted into the opening of the lid portion 211 and faces the first transparent member 23. The second transparent member 22 can be made of a light transmissive material such as glass or synthetic resin. The second transparent member 22 has a size facing most or all of the well plate 30 so that the illumination light emitted from the illumination optical system 13 reaches the well plate 30 (observation object accommodated in the well plate 30). Is preferred. The second transparent member 22 can be a heater that can be maintained at a predetermined temperature similarly to the first transparent member 23.

封止リング24は、筐体部材21の蓋部分211と本体部分212の間に配置され、両者の間で培養空間を封止する。封止リング24は、ゴム等の弾性材料からなる環状の部材とすることが可能である。   The sealing ring 24 is disposed between the lid portion 211 and the main body portion 212 of the housing member 21, and seals the culture space between them. The sealing ring 24 can be an annular member made of an elastic material such as rubber.

防水部材25は、第1透明部材23と本体部分212の間で液体(後述)の漏洩を防止し、培養空間への液体の注入を可能とする。防水部材25は、第1透明部材23を本体部分212に嵌め込んだ後に、第1透明部材23と本体部分212の継ぎ目に塗布された合成樹脂とすることができる。また、防水部材25はこの他にも第1透明部材23と本体部分212の間で液体の漏洩を防止できる構成とすることが可能である。   The waterproof member 25 prevents leakage of a liquid (described later) between the first transparent member 23 and the main body portion 212, and allows the liquid to be injected into the culture space. The waterproof member 25 may be a synthetic resin applied to the joint between the first transparent member 23 and the main body portion 212 after the first transparent member 23 is fitted into the main body portion 212. In addition, the waterproof member 25 can be configured to prevent liquid leakage between the first transparent member 23 and the main body portion 212.

[ウェルプレートについて]
培養空間に収容されるウェルプレート30について説明する。ウェルプレート30は、市販のウェルプレートを利用することが可能である。図4は、ウェルプレート30を示す模式図である。図4(a)はウェルプレート30の斜視図であり、図4(b)はウェルプレート30の断面図である。同図に示すように、ウェルプレート30は、2次元的に配列された複数のウェル31を有する。各ウェル31は、同一の孔径及び深さを有し、各ウェル31に観察対象物(細胞等)を収容可能に構成されている。また、各ウェル31には、観察対象物と共に細胞の培養液等を収容することも可能である。
[About well plate]
The well plate 30 accommodated in the culture space will be described. As the well plate 30, a commercially available well plate can be used. FIG. 4 is a schematic diagram showing the well plate 30. FIG. 4A is a perspective view of the well plate 30, and FIG. 4B is a cross-sectional view of the well plate 30. As shown in the figure, the well plate 30 has a plurality of wells 31 arranged two-dimensionally. Each well 31 has the same hole diameter and depth, and is configured to be able to accommodate an observation object (cell or the like) in each well 31. Each well 31 can also contain a cell culture solution and the like together with the observation object.

ウェルプレート30において、ウェル31の外周には、スカート32が設けられている。
スカート32は、各ウェル31の深さよりも長く(高く)、即ち、ウェルプレート30の載置面から各ウェル31の底面が離間するように形成されている。
In the well plate 30, a skirt 32 is provided on the outer periphery of the well 31.
The skirt 32 is longer (higher) than the depth of each well 31, that is, formed so that the bottom surface of each well 31 is separated from the mounting surface of the well plate 30.

また、スカート32が設けられていないウェルプレートも存在する。図4(c)はスカート32が設けられていないウェルプレート30を示す模式図である。この場合、各ウェル31の底面が、ウェルプレート30の載置面に当接する。   There is also a well plate in which the skirt 32 is not provided. FIG. 4C is a schematic diagram showing the well plate 30 in which the skirt 32 is not provided. In this case, the bottom surface of each well 31 is in contact with the mounting surface of the well plate 30.

本実施形態においては、スカート32を有するウェルプレートとスカート32を有しないウェルプレートのいずれであってもウェルプレート30として利用することが可能である。ウェルプレート30は、培養容器20に収容されることにより、第1透明部材23上に載置される。したがって、スカート32が設けられたウェルプレート30の場合、ウェル31の底面と第1透明部材23は離間し、スカート32が設けられていないウェルプレート30の場合には、ウェル31の底面は第1透明部材23に当接する。   In the present embodiment, any of the well plate having the skirt 32 and the well plate not having the skirt 32 can be used as the well plate 30. The well plate 30 is placed on the first transparent member 23 by being accommodated in the culture vessel 20. Therefore, in the case of the well plate 30 provided with the skirt 32, the bottom surface of the well 31 is separated from the first transparent member 23. In the case of the well plate 30 not provided with the skirt 32, the bottom surface of the well 31 is the first. Contact the transparent member 23.

[培養容器の使用形態]
上述の構成を有する培養容器20の使用形態について説明する。図5は、使用時の培養容器20を示す模式図である。
[Usage form of culture vessel]
The usage pattern of the culture vessel 20 having the above-described configuration will be described. FIG. 5 is a schematic diagram showing the culture container 20 in use.

同図に示すように、培養容器20の培養空間には、ウェルプレート30と共に液体Lが収容されている。また、ウェルプレート30の各ウェル31には観察対象物S(細胞を含む培地等)が収容されている。液体Lは、熱伝導率の高い液体、例えば水が好適であり、特に気泡の発生を防止するため、脱気装置で脱気体した蒸留水が好適である。液体Lの量は同図に示すように、ウェルプレート30の各ウェル31の周囲を満たす程度が好適であり、詳細は後述する。   As shown in the figure, the culture space of the culture vessel 20 contains the liquid L together with the well plate 30. Each well 31 of the well plate 30 accommodates an observation object S (a medium containing cells or the like). The liquid L is preferably a liquid having a high thermal conductivity, for example, water, and in particular, distilled water degassed by a deaeration device is preferable in order to prevent generation of bubbles. As shown in the figure, the amount of the liquid L is preferably such that the circumference of each well 31 of the well plate 30 is filled, and details will be described later.

[本実施形態の効果]
本実施形態に係る培養容器20の効果について説明する。比較として、上記液体Lを培養空間内に注入しない培養容器(以下、培養容器αとする)を利用する。
[Effect of this embodiment]
The effect of the culture container 20 according to the present embodiment will be described. For comparison, a culture vessel (hereinafter referred to as culture vessel α) that does not inject the liquid L into the culture space is used.

培養容器αにおける培養環境の変化を次のようにして確認した。なお、培養容器αは、温度と湿度を維持可能な保温チャンバー(25℃)に収容されていると共に、培養容器α内には温度と湿度を計測するセンサが設けられ、その出力に基づいて培養容器αやステージに設けられたヒーターがフィードバック制御されているものとする。   Changes in the culture environment in the culture vessel α were confirmed as follows. The culture vessel α is housed in a heat insulation chamber (25 ° C.) capable of maintaining temperature and humidity, and a sensor for measuring temperature and humidity is provided in the culture vessel α, and culture is performed based on the output. It is assumed that the container α and the heater provided on the stage are feedback-controlled.

図6は、培養容器αを開放した際の、培養容器αに設けられた各ヒーター(透明部材)と観察対象物の温度の変化を示すグラフである。培養容器αの開放とは、本実施形態に係る培養容器20でいえば蓋部分211を本体部分212に対して開放することを意味し、ウェルプレート30の交換のための開放を想定している。   FIG. 6 is a graph showing changes in temperature of each heater (transparent member) provided in the culture vessel α and the observation object when the culture vessel α is opened. The opening of the culture container α means that the lid part 211 is opened with respect to the main body part 212 in the culture container 20 according to the present embodiment, and the opening for exchanging the well plate 30 is assumed. .

同図に示すように、培養容器αの培養空間が所定条件(温度37℃)に維持されている際に、培養容器αが開放されると、培養空間の温度が低下する。このため、各ヒーターが培養環境を維持するために発熱量を増加させる。しかしながら、培養環境の変化(温度低下)にヒーターの加温が間に合わず、観察対象物の温度が一時的に1.5℃下降している。同様に培養容器αが閉塞されると、ヒーターの温度を瞬時に下げることができないため、観察対象物の温度が一時的に上昇している。   As shown in the figure, when the culture container α is opened while the culture space of the culture container α is maintained at a predetermined condition (temperature of 37 ° C.), the temperature of the culture space decreases. For this reason, each heater increases the calorific value in order to maintain the culture environment. However, the heating of the heater is not in time for the change of the culture environment (temperature decrease), and the temperature of the observation object is temporarily lowered by 1.5 ° C. Similarly, when the culture vessel α is closed, the temperature of the object to be observed temporarily rises because the temperature of the heater cannot be lowered instantaneously.

このように、比較例に係る培養容器αにおいては、各ヒーターをフィードバック制御したとしても培養環境の変化に追随させることができず、観察対象物が培養環境の変化の影響を受けるおそれがある。これにより、観察対象物である細胞等がダメージを受ければ、以降の観察に重大な影響が生じる。   Thus, in the culture container α according to the comparative example, even if each heater is feedback-controlled, it cannot follow the change of the culture environment, and the observation target may be affected by the change of the culture environment. As a result, if a cell or the like, which is an observation object, is damaged, a serious influence is exerted on the subsequent observation.

これに対し、本実施形態に係る培養容器20においては、培養空間への液体Lの注入により、培養環境の変化を抑制する。図7は、液体Lの水位とウェル31に収容された観察対象物の温度低下量を示す表である。図7(a)はスカート32(図4参照)が設けられたウェルプレート30についての温度低下量、図7(b)はスカート32が設けられていないウェルプレート30についての温度低下量を示す。なお、図7(a)に係るウェルプレート30においてウェル31の底面と第1透明部材23の距離は7mmであり、図7(b)に係るウェルプレート30においては0mm(当接)である。   On the other hand, in the culture container 20 according to the present embodiment, the change of the culture environment is suppressed by injecting the liquid L into the culture space. FIG. 7 is a table showing the water level of the liquid L and the temperature decrease amount of the observation object accommodated in the well 31. FIG. 7A shows a temperature drop amount for the well plate 30 provided with the skirt 32 (see FIG. 4), and FIG. 7B shows a temperature drop amount for the well plate 30 not provided with the skirt 32. Note that the distance between the bottom surface of the well 31 and the first transparent member 23 in the well plate 30 according to FIG. 7A is 7 mm, and 0 mm (contact) in the well plate 30 according to FIG. 7B.

図7(a)及び(b)に示すように、液体Lによって観察対象物の温度低下量が減少していることがわかる。また、ウェル31の底面と第1透明部材23の距離が短く、液体Lの水位が高いほど温度低下量が小さいことがわかる。これにより、培養環境の変化による観察対象物へのダメージが生じず、即ち、観察対象物を観察に適した状態に維持することが可能である。   As shown in FIGS. 7A and 7B, it can be seen that the temperature drop amount of the observation object is decreased by the liquid L. It can also be seen that the amount of temperature decrease is smaller as the distance between the bottom surface of the well 31 and the first transparent member 23 is shorter and the water level of the liquid L is higher. Thereby, damage to the observation object due to the change of the culture environment does not occur, that is, the observation object can be maintained in a state suitable for observation.

このように、本実施形態に係る培養容器20は、培養空間への液体Lの注入が可能に構成されており、培養空間に注入された液体Lの高い熱伝導率によって、培養容器αが開放された際の培養環境の変動を抑制することが可能である。   As described above, the culture container 20 according to the present embodiment is configured such that the liquid L can be injected into the culture space, and the culture container α is opened by the high thermal conductivity of the liquid L injected into the culture space. It is possible to suppress the change of the culture environment when it is performed.

(第2の実施形態)
[培養容器の構成]
本技術の第2の実施形態に係る培養容器について説明する。培養観察装置については、第1の実施形態と同様とすることができる。図8は、本実施形態に係る培養容器40を示す模式図である。
(Second Embodiment)
[Composition of culture vessel]
A culture vessel according to a second embodiment of the present technology will be described. The culture observation apparatus can be the same as in the first embodiment. FIG. 8 is a schematic diagram showing the culture vessel 40 according to the present embodiment.

同図に示すように、本実施形態に係る培養容器40は、第1の実施形態と同様の筐体部材21、第2透明部材22、第1透明部材23、封止リング24及び防水部材25に加え、サイドヒーター41を有する。培養空間には第1の実施形態と同様に液体Lが注入されている。   As shown in the figure, the culture vessel 40 according to the present embodiment includes a housing member 21, a second transparent member 22, a first transparent member 23, a sealing ring 24, and a waterproof member 25 similar to those in the first embodiment. In addition, a side heater 41 is provided. The liquid L is injected into the culture space as in the first embodiment.

サイドヒーター41は、培養空間にウェルプレート30が収容された際にウェルプレート30の周囲に環状に配置されるヒーターである。サイドヒーター41は、リボンヒーターやラバーヒーターを利用することが可能である。サイドヒーター41は、制御部17(図1参照)によって所定温度(例えば37℃)に設定される。   The side heater 41 is a heater arranged in a ring around the well plate 30 when the well plate 30 is accommodated in the culture space. As the side heater 41, a ribbon heater or a rubber heater can be used. The side heater 41 is set to a predetermined temperature (for example, 37 ° C.) by the control unit 17 (see FIG. 1).

第1の実施形態においては、培養空間に液体Lを注入することにより、培養容器20が開放された際の培養環境の変動を抑制された。本実施形態においてはさらに、ウェルプレート30の面内における培養環境の均一化を実現することが可能である。   In 1st Embodiment, the fluctuation | variation of the culture environment when the culture container 20 was open | released was suppressed by inject | pouring the liquid L into culture | cultivation space. Furthermore, in this embodiment, it is possible to realize a uniform culture environment in the plane of the well plate 30.

具体的には、ウェルプレート30の各ウェル31について、内周側(中央部分)のウェル31の温度に比べ、外周側(周縁部分)のウェル31の温度が低下する場合があり、これは、第1透明部材23の発熱により熱が電極他端部に流れていくために発生する温度分布が直接ウェル31に伝わっているためと考えられる。ここで、本実施形態においては、サイドヒーター41によってウェルプレート30の外周を加熱することにより、外周側のウェル31の温度低下を防止し、内周側と外周側のウェル31の温度差を抑制することが可能である(実施例参照)。また、本テストではウェルプレート30と同程度の寸法の第1透明部材23を使用したが第1透明部材23の外径が大きく、そのうちの中央部の温度分布が平らなところの上にウェルプレート30を配置する場合、ウェルプレート30に第1透明部材23の温度分布は影響しない。しかし、この時ウェル31中の培地(観察対象物Sに含まれる)の気化の影響により外周部の温度が内周部に対して上がり、この影響が顕著に出る。ウェルプレート30の周りに液体Lを注入することで液体Lの気化による湿度の影響によりウェルプレート30の外周部、内周部の気化の程度をほぼ同程度とし、外周部と内周部の温度差を抑制することが可能となる(図26参照)。   Specifically, for each well 31 of the well plate 30, the temperature of the well 31 on the outer peripheral side (peripheral portion) may be lower than the temperature of the well 31 on the inner peripheral side (center portion). This is probably because the temperature distribution generated because the heat flows from the first transparent member 23 to the other end of the electrode is directly transmitted to the well 31. Here, in the present embodiment, by heating the outer periphery of the well plate 30 by the side heater 41, the temperature decrease of the outer peripheral side well 31 is prevented and the temperature difference between the inner peripheral side and the outer peripheral side well 31 is suppressed. (See examples). In this test, the first transparent member 23 having the same size as the well plate 30 was used. However, the first transparent member 23 had a large outer diameter, and the well plate had a flat temperature distribution in the center. When 30 is disposed, the temperature distribution of the first transparent member 23 does not affect the well plate 30. However, at this time, the temperature of the outer peripheral portion rises with respect to the inner peripheral portion due to the effect of vaporization of the culture medium (contained in the observation object S) in the well 31, and this effect becomes remarkable. By injecting the liquid L around the well plate 30, the degree of vaporization of the outer peripheral portion and the inner peripheral portion of the well plate 30 is made substantially the same due to the influence of humidity due to the vaporization of the liquid L, and the temperature of the outer peripheral portion and the inner peripheral portion. The difference can be suppressed (see FIG. 26).

(第3の実施形態)
[培養容器の構成]
本技術の第3の実施形態に係る培養容器について説明する。培養観察装置については、第1の実施形態と同様とすることができる。図9は、本実施形態に係る培養容器50を示す模式図である。
(Third embodiment)
[Composition of culture vessel]
A culture vessel according to a third embodiment of the present technology will be described. The culture observation apparatus can be the same as in the first embodiment. FIG. 9 is a schematic diagram showing a culture vessel 50 according to the present embodiment.

同図に示すように、本実施形態に係る培養容器50は、第1の実施形態と同様の筐体部材21、第2透明部材22、第1透明部材23、封止リング24及び防水部材25に加え、ウェルプレート支持部材51を有する。培養空間には第1の実施形態と異なり液体Lは注入されていない。   As shown in the figure, the culture vessel 50 according to this embodiment includes a housing member 21, a second transparent member 22, a first transparent member 23, a sealing ring 24, and a waterproof member 25 similar to those in the first embodiment. In addition, a well plate support member 51 is provided. Unlike the first embodiment, the liquid L is not injected into the culture space.

ウェルプレート支持部材51は、本体部分212に接合され、ウェルプレート30を第1透明部材23と離間させて支持することが可能に構成されている。ウェルプレート支持部材51は、断熱性の高い材料からなるものとすることができる。   The well plate support member 51 is joined to the main body portion 212 and configured to be able to support the well plate 30 while being separated from the first transparent member 23. The well plate support member 51 can be made of a highly heat-insulating material.

ウェルプレート支持部材51によって、ウェルプレート30が第1透明部材23に当接しないため、第1透明部材23からスカート32への熱伝導のムラが防止される。これにより、ウェルプレート30の内周側と外周側のウェル31の温度差を抑制することが可能である。この場合は液体Lがないことから、顕微鏡光学系15と観察対象物Sとの光学距離は問題にならない。   The well plate support member 51 prevents the well plate 30 from coming into contact with the first transparent member 23, thereby preventing uneven heat conduction from the first transparent member 23 to the skirt 32. Thereby, it is possible to suppress a temperature difference between the well 31 on the inner peripheral side and the outer peripheral side of the well plate 30. In this case, since there is no liquid L, the optical distance between the microscope optical system 15 and the observation object S does not matter.

(第4の実施形態)
[培養容器の構成]
本技術の第4の実施形態に係る培養容器について説明する。培養観察装置については、第1の実施形態と同様とすることができる。図10は、本実施形態に係る培養容器60を示す模式図である。図10(a)は培養容器60の断面図であり、図10(b)は培養容器60の一部の構成の平面図である。
(Fourth embodiment)
[Composition of culture vessel]
A culture vessel according to a fourth embodiment of the present technology will be described. The culture observation apparatus can be the same as in the first embodiment. FIG. 10 is a schematic diagram showing a culture vessel 60 according to the present embodiment. FIG. 10A is a cross-sectional view of the culture vessel 60, and FIG. 10B is a plan view of a part of the configuration of the culture vessel 60.

同図に示すように、本実施形態に係る培養容器60は、第1の実施形態と同様の筐体部材21、第2透明部材22、第1透明部材23、封止リング24及び防水部材25に加え、多孔質部材61を有する。培養空間には第1の実施形態と同様に液体Lが注入されている。   As shown in the figure, the culture vessel 60 according to this embodiment includes the same housing member 21, second transparent member 22, first transparent member 23, sealing ring 24, and waterproofing member 25 as in the first embodiment. In addition, a porous member 61 is provided. The liquid L is injected into the culture space as in the first embodiment.

多孔質部材61は、多孔質材料、例えば、調湿建材からなる部材であり、ウェルプレート30の周囲において液体Lの液面に当接するように配置される。多孔質部材61は本体部分212に接合されていてもよく、液体Lの液面に浮遊していてもよい。   The porous member 61 is a member made of a porous material, for example, a humidity control building material, and is disposed so as to contact the liquid surface of the liquid L around the well plate 30. The porous member 61 may be joined to the main body portion 212 and may be suspended on the liquid surface of the liquid L.

また、多孔質部材61には液体Lを注入するための注入孔611が設けられていてもよく、これにより、多孔質部材61の配置後に注入孔611を用いて液体Lを注入することが可能となる。   The porous member 61 may be provided with an injection hole 611 for injecting the liquid L, so that the liquid L can be injected using the injection hole 611 after the porous member 61 is arranged. It becomes.

多孔質部材61によって、次のような効果が得られる。即ち、上述のように培養容器60は、ステージ14が駆動されることによって移動するが、この移動によって液体Lの液面が波立ち、ウェル31に液体Lが混入することが考えられる。ここで、本実施形態においては多孔質部材61によって液面Lが被覆されているため、液体Lがウェル31に混入することを防止することが可能である。一方で、多孔質部材61はその多孔質によって液体Lの蒸気を透過可能であるため、液体Lによる培養環境の変動を抑制する効果は妨げられない。   The porous member 61 provides the following effects. That is, as described above, the culture container 60 moves when the stage 14 is driven, and it is conceivable that the liquid surface of the liquid L rippled due to this movement and the liquid L is mixed into the well 31. Here, in the present embodiment, since the liquid surface L is covered with the porous member 61, it is possible to prevent the liquid L from being mixed into the well 31. On the other hand, since the porous member 61 can transmit the vapor | steam of the liquid L by the porous, the effect which suppresses the fluctuation | variation of the culture environment by the liquid L is not prevented.

また、培養容器60は、上記多孔質部材61に加え、飛散防止部材を有していてもよい。図11は、飛散防止部材62を有する培養容器60を示す模式図である。図11(a)は培養容器60の断面図であり、図11(b)は培養容器60の一部の構成の平面図である。
同図に示すように飛散防止部材62は、多孔質部材61に接合され、ウェルプレート30の周縁部を被覆するように配置されている。飛散防止部材62は、柔軟性を有する材料、例えばゴムシートからなるものとすることが可能である。飛散防止部材62によって、液体Lが多孔質部材61とウェルプレート30の間から飛散し、ウェル31に混入することを防止することが可能である。
Further, the culture vessel 60 may have a scattering prevention member in addition to the porous member 61. FIG. 11 is a schematic diagram showing a culture vessel 60 having a scattering prevention member 62. FIG. 11A is a cross-sectional view of the culture vessel 60, and FIG. 11B is a plan view of a part of the configuration of the culture vessel 60.
As shown in the figure, the scattering prevention member 62 is joined to the porous member 61 and disposed so as to cover the peripheral edge of the well plate 30. The scattering prevention member 62 can be made of a flexible material such as a rubber sheet. The scattering prevention member 62 can prevent the liquid L from scattering from between the porous member 61 and the well plate 30 and mixing into the well 31.

(第5の実施形態)
[培養容器の構成]
本技術の第5の実施形態に係る培養容器について説明する。培養観察装置については、第1の実施形態と同様とすることができる。図12は、本実施形態に係る培養容器70を示す模式図である。図12(a)は培養容器70の一部の構成の断面図であり、図12(b)は培養容器70の一部の構成の平面図である。
(Fifth embodiment)
[Composition of culture vessel]
A culture vessel according to a fifth embodiment of the present technology will be described. The culture observation apparatus can be the same as in the first embodiment. FIG. 12 is a schematic diagram showing a culture vessel 70 according to the present embodiment. FIG. 12A is a cross-sectional view of a partial configuration of the culture vessel 70, and FIG. 12B is a plan view of a partial configuration of the culture vessel 70.

本実施形態に係る培養容器70は、第1の実施形態と同様の筐体部材21、第2透明部材22、封止リング24及び防水部材25を有する(図5参照)が、図12に示すように第2透明部材71の構成が異なる。第2透明部材71は、切り欠き711を有する。   The culture container 70 according to the present embodiment includes a casing member 21, a second transparent member 22, a sealing ring 24, and a waterproof member 25 similar to those in the first embodiment (see FIG. 5), as shown in FIG. Thus, the configuration of the second transparent member 71 is different. The second transparent member 71 has a notch 711.

切り欠き711は、第2透明部材71においてウェルプレート30のスカート32が当接する位置に形成されている。図においては、切り欠き711は4箇所に設けられているが、これに限られない。切り欠き711によって、ウェルプレート30の設置後に液体Lを注入する場合であっても、液体Lを速やかにウェルプレート30と第2透明部材71の間に流入させることが可能となる。   The notch 711 is formed at a position where the skirt 32 of the well plate 30 contacts the second transparent member 71. In the figure, the notches 711 are provided at four locations, but the present invention is not limited to this. The notch 711 allows the liquid L to flow between the well plate 30 and the second transparent member 71 quickly even when the liquid L is injected after the well plate 30 is installed.

(第6の実施形態)
[培養容器の構成]
本技術の第5の実施形態に係る培養容器について説明する。培養観察装置については、第1の実施形態と同様とすることができる。本実施形態に係る培養容器80は、第1の実施形態と同様の筐体部材21、第2透明部材22、封止リング24及び防水部材25を有する(図5参照)が、第2透明部材の構成が異なる。図13は、本実施形態に係る培養容器80の第2透明部材81の模式図である。
(Sixth embodiment)
[Composition of culture vessel]
A culture vessel according to a fifth embodiment of the present technology will be described. The culture observation apparatus can be the same as in the first embodiment. The culture container 80 according to the present embodiment includes the same housing member 21, the second transparent member 22, the sealing ring 24, and the waterproof member 25 as in the first embodiment (see FIG. 5). The configuration of is different. FIG. 13 is a schematic diagram of the second transparent member 81 of the culture vessel 80 according to the present embodiment.

同図に示すように、第2透明部材81は、第1の実施形態に係る第1透明部材23(図3参照)とは異なり、光透過性を有する透明板811に、透明板811の部分領域(破線で示す)毎に透明導電膜812が形成された構成とすることができる。各部分領域に形成された透明導電膜812は、各部分領域毎に電極813の対に接続され、電極813からの電力供給を受けて発熱する。第2透明部材81をこのような構成とすることにより、各部分領域毎に発熱温度を調整することが可能となり、第1透明部材23の発熱温度の点からもウェルプレート30における各ウェル31の培養環境(温度)を均一化させることが可能である。特に、各部分領域毎に、又は各ウェル31毎に温度センサ(図示せず)を設けることによって部分領域毎のフィードバック制御も可能となる。   As shown in the drawing, the second transparent member 81 is different from the first transparent member 23 (see FIG. 3) according to the first embodiment in that the transparent plate 811 having light transmissivity is part of the transparent plate 811. A transparent conductive film 812 may be formed for each region (shown by a broken line). The transparent conductive film 812 formed in each partial region is connected to a pair of electrodes 813 for each partial region, and generates heat when supplied with power from the electrode 813. By configuring the second transparent member 81 in such a configuration, it becomes possible to adjust the heat generation temperature for each partial region, and also from the point of the heat generation temperature of the first transparent member 23, each well 31 in the well plate 30 can be adjusted. It is possible to make the culture environment (temperature) uniform. In particular, by providing a temperature sensor (not shown) for each partial region or for each well 31, feedback control for each partial region is also possible.

(第7の実施形態)
[培養観察装置の構成]
本技術の第7の実施形態に係る培養観察装置について説明する。図14は、本実施形態に係る培養観察装置90の模式図である。同図に示すように培養観察装置90は、第1の実施形態に係る培養観察装置1と同様に、照明光源11、光ファイバ12、照明光学系13、ステージ14、顕微鏡光学系15、撮像素子16及び制御部17を有する。さらに、培養観察装置90は、これらの構成に加え、送風機構91を有する。なお、培養観察装置90には、第1から第6の実施形態において示した各培養容器の何れもセットすることが可能であるが、ここでは第1の実施形態に係る培養容器20を例にとって説明する。
(Seventh embodiment)
[Configuration of culture observation apparatus]
A culture observation apparatus according to the seventh embodiment of the present technology will be described. FIG. 14 is a schematic diagram of the culture observation apparatus 90 according to the present embodiment. As shown in the figure, the culture observation apparatus 90 is similar to the culture observation apparatus 1 according to the first embodiment. The illumination light source 11, the optical fiber 12, the illumination optical system 13, the stage 14, the microscope optical system 15, and the image sensor. 16 and a control unit 17. Furthermore, the culture observation apparatus 90 includes a blower mechanism 91 in addition to these components. The culture observation apparatus 90 can be set with any of the culture containers shown in the first to sixth embodiments. Here, the culture container 20 according to the first embodiment is taken as an example. explain.

図14に示すように、送風機構91は、顕微鏡光学系15の周囲から培養容器20の第1透明部材23に送付する。送風機構91は、ガスボンベ等のガス源に接続されたノズルであってもよく、ファンを備えた送風機構であってもよい。送風機構91は、図14に示すように、顕微鏡光学系15を挟むように配置された2基とすることができるが、1基又はより多数が設けられてもよい。   As shown in FIG. 14, the air blowing mechanism 91 sends the air from the periphery of the microscope optical system 15 to the first transparent member 23 of the culture vessel 20. The blower mechanism 91 may be a nozzle connected to a gas source such as a gas cylinder or may be a blower mechanism including a fan. As shown in FIG. 14, the blower mechanism 91 may be two units arranged so as to sandwich the microscope optical system 15, but one or more units may be provided.

送風機構91によって、第1透明部材23に送風することにより、第1透明部材23の発熱温度を均一化させることが可能となる。図15は、第1透明部材23における温度分布を示す模式図である。図15(a)は送風機構91による送風がなされていないときの温度分布を、図15(b)は送風機構91による送風がなされているときの温度分布をそれぞれ示す。   By blowing air to the first transparent member 23 by the blower mechanism 91, it becomes possible to make the heat generation temperature of the first transparent member 23 uniform. FIG. 15 is a schematic diagram showing a temperature distribution in the first transparent member 23. FIG. 15A shows the temperature distribution when air is not blown by the blower mechanism 91, and FIG. 15B shows the temperature distribution when air is blown by the blower mechanism 91.

図15(a)に示すように、送風機構91が設けられない場合、第1透明部材23においては、第1透明部材23の中央部と周縁部において温度差が生じている。これは、第1透明部材23の面方向(厚みに垂直方向)に沿って熱が流れるためである。ここで、図15(b)に示すように、送風機構91によって第1透明部材23への送風がなされた場合、第1透明部材23の中央部と周縁部の温度差が減少している。これは、送風がなされたことによって第1透明部材23の下面(培養容器外側)が冷却され、熱の流れる方向が厚み方向になったためと考えられる。   As shown in FIG. 15A, when the air blowing mechanism 91 is not provided, in the first transparent member 23, a temperature difference is generated between the central portion and the peripheral portion of the first transparent member 23. This is because heat flows along the surface direction (direction perpendicular to the thickness) of the first transparent member 23. Here, as shown in FIG. 15 (b), when the blower mechanism 91 blows air to the first transparent member 23, the temperature difference between the central portion and the peripheral portion of the first transparent member 23 decreases. This is considered to be because the lower surface (outside of the culture vessel) of the first transparent member 23 was cooled by blowing air, and the direction of heat flow became the thickness direction.

このように、本実施形態に係る培養観察装置90においては、第1透明部材23の発熱温度を均一化することが可能であり、即ちウェルプレート30の各ウェル31の培養環境を均一化することが可能である。   Thus, in the culture observation apparatus 90 according to the present embodiment, the heat generation temperature of the first transparent member 23 can be made uniform, that is, the culture environment of each well 31 of the well plate 30 can be made uniform. Is possible.

(第8の実施形態)
[培養観察装置の構成]
本技術の第8の実施形態に係る培養観察装置について説明する。図16は、本実施形態に係る培養観察装置100の模式図である。同図に示すように培養観察装置100は、第1の実施形態に係る培養観察装置1と同様に、照明光源11、光ファイバ12、ステージ14、顕微鏡光学系15、撮像素子16及び制御部17を有するが、照明光学系の構成が異なる。また、培養観察装置100はさらに、赤外光源102及び光ファイバ103を有する。なお、培養観察装置90には、第1から第6の実施形態において示した各培養容器の何れもセットすることが可能であるが、ここでは第1の実施形態に係る培養容器20を例にとって説明する。
(Eighth embodiment)
[Configuration of culture observation apparatus]
A culture observation apparatus according to the eighth embodiment of the present technology will be described. FIG. 16 is a schematic diagram of the culture observation apparatus 100 according to the present embodiment. As shown in the figure, the culture observation apparatus 100 is similar to the culture observation apparatus 1 according to the first embodiment. The illumination light source 11, the optical fiber 12, the stage 14, the microscope optical system 15, the image sensor 16, and the control unit 17. However, the configuration of the illumination optical system is different. The culture observation apparatus 100 further includes an infrared light source 102 and an optical fiber 103. The culture observation apparatus 90 can be set with any of the culture containers shown in the first to sixth embodiments. Here, the culture container 20 according to the first embodiment is taken as an example. explain.

赤外光源102は、赤外線を発生する光源であり、ハロゲンランプ等の任意の光源を利用することができる。光ファイバ103は、赤外光源102から照射された赤外線を照明光学系104に伝達する。   The infrared light source 102 is a light source that generates infrared light, and an arbitrary light source such as a halogen lamp can be used. The optical fiber 103 transmits infrared rays emitted from the infrared light source 102 to the illumination optical system 104.

照明光学系104は、第1レンズ1041、第2レンズ1042、リング絞り1043、赤外線照射部1044及びコンデンサレンズ1045を有するものとすることができる。第1レンズ1041、第2レンズ1042、リング絞り1043及びコンデンサレンズ1045は、第1の実施形態と同様に、照明光源11において生成され、光ファイバ12によって伝達された照明光を観察対象物に照射するための光学系である。   The illumination optical system 104 can include a first lens 1041, a second lens 1042, a ring diaphragm 1043, an infrared irradiation unit 1044, and a condenser lens 1045. Similar to the first embodiment, the first lens 1041, the second lens 1042, the ring diaphragm 1043, and the condenser lens 1045 irradiate the observation object with the illumination light generated in the illumination light source 11 and transmitted by the optical fiber 12. This is an optical system.

赤外線照射部1044は、光ファイバ103に接続され、光ファイバ103から伝達された赤外線を培養容器20の第2透明部材22に照射するための光学系である。赤外線照射部1044は、カレイドスコープやフライアレイレンズから構成されるものとすることができる。   The infrared irradiation unit 1044 is an optical system that is connected to the optical fiber 103 and irradiates the second transparent member 22 of the culture vessel 20 with infrared rays transmitted from the optical fiber 103. The infrared irradiation unit 1044 can be composed of a kaleidoscope or a fly array lens.

赤外線照射部1044は、絞りリング1043と所定の位置関係を持って配置されるものとすることができる。図17は、絞りリング1043に対する赤外線照射部1044の配置を示す模式図である。同図に示すように、赤外線照射部1044は、絞りリング1043の観察対象物(培養容器20)側において、絞りリング1043のスリットの内周側に配置されるものとすることができる。   The infrared irradiation unit 1044 can be arranged with a predetermined positional relationship with the aperture ring 1043. FIG. 17 is a schematic diagram showing the arrangement of the infrared irradiation unit 1044 with respect to the aperture ring 1043. As shown in the figure, the infrared irradiation unit 1044 can be disposed on the inner side of the slit of the aperture ring 1043 on the observation object (culture vessel 20) side of the aperture ring 1043.

このような構成によって、照明光学系104からは、位相差撮像用の照明光と共に赤外線が培養容器20に対して照射される。赤外線照射部1044とリング絞り1043を上記の位置関係とすることにより、図16に示す照明光A1と赤外線A2のそれぞれの光軸を同一とすることが可能である。   With such a configuration, the illumination optical system 104 irradiates the culture vessel 20 with infrared light together with illumination light for phase difference imaging. By setting the infrared irradiation unit 1044 and the ring diaphragm 1043 to the above positional relationship, the optical axes of the illumination light A1 and the infrared light A2 shown in FIG. 16 can be made the same.

ここで、培養容器20の第2透明部材22(図5参照)を、赤外線吸収性を有する材料からなるものとすることにより、赤外線照射部1044から照射される赤外線によって、第2透明部材22を発熱させることが可能となる。これにより、培養容器20が開放された際に、第1透明部材23に加え、第2透明部材22からも培養空間を加熱することが可能となり、培養環境の維持が容易となる。さらに、照明光学系104のレンズ間距離を調整することで第2透明部材22上での照明光の強度分布が調整でき、温度分布の調整が可能となる。   Here, the second transparent member 22 (see FIG. 5) of the culture vessel 20 is made of a material having infrared absorptivity, so that the second transparent member 22 is irradiated by infrared rays irradiated from the infrared irradiation unit 1044. It is possible to generate heat. Thereby, when the culture vessel 20 is opened, the culture space can be heated from the second transparent member 22 in addition to the first transparent member 23, and the culture environment can be easily maintained. Furthermore, by adjusting the distance between the lenses of the illumination optical system 104, the intensity distribution of the illumination light on the second transparent member 22 can be adjusted, and the temperature distribution can be adjusted.

また、本実施形態に係る培養観察装置100においては、第7の実施形態と同様に第1透明部材23に送風する送風機構を設けてもよい。送風機構によって、第1透明部材23の発熱温度を均一化させ、培養環境の均一化が可能である。   Moreover, in the culture observation apparatus 100 according to the present embodiment, a blower mechanism that blows air to the first transparent member 23 may be provided as in the seventh embodiment. By the blowing mechanism, the heat generation temperature of the first transparent member 23 can be made uniform, and the culture environment can be made uniform.

(第9の実施形態)
[培養観察装置の構成]
本技術の第9の実施形態に係る培養観察装置について説明する。本実施形態に係る培養観察装置110は、次のような構成を有する制御部1101を備える。培養観察装置110は、制御部1101以外の構成は第1の実施形態に係る培養観察装置1(図1参照)と同様の構成とすることができる。なお、培養観察装置110には、第1から第6の実施形態において示した各培養容器の何れもセットすることが可能であるが、ここでは第1の実施形態に係る培養容器20を例にとって説明する。
(Ninth embodiment)
[Configuration of culture observation apparatus]
A culture observation apparatus according to the ninth embodiment of the present technology will be described. The culture observation apparatus 110 according to this embodiment includes a control unit 1101 having the following configuration. The culture observation apparatus 110 can have the same configuration as the culture observation apparatus 1 (see FIG. 1) according to the first embodiment except for the control unit 1101. The culture observation apparatus 110 can be set with any of the culture containers shown in the first to sixth embodiments. Here, the culture container 20 according to the first embodiment is taken as an example. explain.

図18は、制御部1101の機能的構成を示す模式図である。同図に示すように、制御部1101は、ヒーター電源1102、切り替え部1103、第1温調器1104、第2温調器1105、計数部1106、クロック信号生成部1107、上蓋開閉スイッチ1108、パワーオン/オフ時間設定部1109を有する。また、培養容器20には、ウェル31の温度を測定する温度センサ1110が設けられているものとする。なお、第2温調器1105は、第1温調器1104に設けられたボリューム調整つまみであってもよい。   FIG. 18 is a schematic diagram illustrating a functional configuration of the control unit 1101. As shown in the figure, the control unit 1101 includes a heater power supply 1102, a switching unit 1103, a first temperature controller 1104, a second temperature controller 1105, a counting unit 1106, a clock signal generation unit 1107, an upper lid opening / closing switch 1108, a power An on / off time setting unit 1109 is included. The culture container 20 is provided with a temperature sensor 1110 that measures the temperature of the well 31. The second temperature controller 1105 may be a volume adjustment knob provided in the first temperature controller 1104.

図19乃至図21は、上蓋(蓋部分211)の開放の前後における温度センサ1110の測定温度を示すグラフである。図19は、培養容器20に液体Lが注入されていないときの上蓋の開放に伴なう温度変化を示す。このときの温度低下量は2.5℃であった。これは第1透明部材23の第1温調器1104のPID(Proportinal/Integral/Differential)制御の応答Differentialを最大(最速)に設定しても培地気化による温度低下に追いつかないためである。   19 to 21 are graphs showing measured temperatures of the temperature sensor 1110 before and after the upper lid (lid portion 211) is opened. FIG. 19 shows the temperature change accompanying the opening of the upper lid when the liquid L is not injected into the culture vessel 20. The amount of temperature drop at this time was 2.5 ° C. This is because even if the response Differential of PID (Proportinal / Integral / Differential) control of the first temperature controller 1104 of the first transparent member 23 is set to the maximum (fastest), it cannot catch up with the temperature drop due to the vaporization of the medium.

そこで従来の温調機構から図18に示すロジックで行った結果を図20に示す。ここでは上蓋開放時以外は第1温調器1104のPID制御で行い、閉めたときには第2温調器1105の応答の速いオン/オフ制御に切り替える。   Therefore, FIG. 20 shows the result obtained by the logic shown in FIG. 18 from the conventional temperature control mechanism. Here, except when the upper cover is opened, the PID control of the first temperature controller 1104 is performed, and when the cover is closed, the second temperature controller 1105 is switched to the on / off control with quick response.

しかし、そのままだと図20に示すように制御温度に達するまでパワーオンし、そこで入熱が終わっても余熱のため温度が上がり続けてしまう。そこでパワーオンしてから一定時間でヒーター電源1102をパワーオフして制御した結果を図21に示す。これにより温度低下量は1℃程度に改善する(上蓋を開閉しない状態では第1温調器1104のPID制御で問題ないため、温度安定後第1温調器1104に切り替える)。ここでは第2温調器1105は温調器としたが、ヒータ電源1102の「出力調整手段」としても本機能は損なわない。   However, if it is left as it is, the power is turned on until it reaches the control temperature as shown in FIG. Therefore, FIG. 21 shows the result of controlling the heater power supply 1102 by turning it off at a fixed time after the power is turned on. As a result, the amount of temperature decrease is improved to about 1 ° C. (There is no problem with PID control of the first temperature controller 1104 in a state where the upper lid is not opened and closed. Here, the second temperature controller 1105 is a temperature controller, but this function is not impaired even if the “output adjustment means” of the heater power supply 1102 is used.

上蓋閉後は温度が上昇するので別のパワーオフ時間(図17中(2))を設ける。さらに、温度上昇量を減らしたい場合は第2透明部材22のヒーター電源1102も同時に切っても良い。これらの制御時間はクロック信号生成部1107によって生成されたクロック信号と計数部1106による計数によって行う。   Since the temperature rises after the upper lid is closed, another power-off time ((2) in FIG. 17) is provided. Furthermore, when it is desired to reduce the temperature rise amount, the heater power supply 1102 of the second transparent member 22 may be turned off simultaneously. These control times are determined by the clock signal generated by the clock signal generation unit 1107 and the counting by the counting unit 1106.

また上蓋開閉による信号は上蓋開閉スイッチ1108を電気スイッチを備えたものに置き換えればよい。クロック信号生成部1107は例えば水晶発振器、計数部1106はカウンタ回路等でよい。第1温調器1104と第2温調器1105の切り替えは切り替え部1103を用いて行う。これには例えば通常のリレー回路や、マルチプレクサなどを用いてもよい。   The signal for opening / closing the upper lid may be replaced with a signal provided with an electric switch for the upper lid opening / closing switch 1108. The clock signal generation unit 1107 may be a crystal oscillator, for example, and the counting unit 1106 may be a counter circuit or the like. Switching between the first temperature controller 1104 and the second temperature controller 1105 is performed using a switching unit 1103. For example, a normal relay circuit or a multiplexer may be used.

以上のように、本実施形態においては、制御部1101がPID制御とオン/オフ制御を切り替えて、第1透明部材23の加熱温度を制御することにより、蓋部分211を開放したときの培養環境の変化を低減することが可能である。   As described above, in this embodiment, the control unit 1101 switches between PID control and on / off control, and controls the heating temperature of the first transparent member 23 to open the culture environment when the lid portion 211 is opened. Can be reduced.

上記各実施形態についての実施例を説明する。なお、下記測定においては、ウェルプレート30の特定のウェル31に温度センサを設置してウェル31内に注入された水(培地の代替)の温度を測定した。図22に、温度センサを設置したウェル31とそのウェルに設けられた温度センサに対応する番号を示す。また、図23に示すように、ウェル31の底面と第1透明部材23の距離を距離B1とし、液体Lの水位(第1透明部材23からの)を水位B2とする。   Examples of the above embodiments will be described. In the following measurement, a temperature sensor was installed in a specific well 31 of the well plate 30 to measure the temperature of water (substitute medium) injected into the well 31. FIG. 22 shows a well 31 provided with a temperature sensor and numbers corresponding to the temperature sensor provided in the well. As shown in FIG. 23, the distance between the bottom surface of the well 31 and the first transparent member 23 is a distance B1, and the water level of the liquid L (from the first transparent member 23) is a water level B2.

図24及び図25は、各条件において測定された温度センサ(図22参照)の測定値を示す表であり、図26は多孔質部材を配置した場合の温度センサの測定値を示すグラフである。測定1、2、3から分かるように温度ムラに関しては距離B1が短いほど良いことがわかる。また測定結果1ではウェルプレート外周部の温度が低い。これは第1透明部材23の温度分布を直接反映している傾向があり、サイドヒーター41(第2の実施形態参照)の設置により測定結果1−(1)に示すように内周部に対する外周部の温度低下を抑制可能である。   24 and 25 are tables showing measured values of the temperature sensor (see FIG. 22) measured under each condition, and FIG. 26 is a graph showing measured values of the temperature sensor when a porous member is arranged. . As can be seen from the measurements 1, 2, and 3, it is understood that the shorter the distance B1, the better the temperature unevenness. In measurement result 1, the temperature at the outer periphery of the well plate is low. This tends to directly reflect the temperature distribution of the first transparent member 23, and as shown in the measurement result 1- (1) by installing the side heater 41 (see the second embodiment), the outer circumference with respect to the inner circumference portion. The temperature drop of the part can be suppressed.

これに対して測定2、3では第1透明部材23の温度分布を間接的に見るようになるがウェルプレート内周部に対してウェルプレート外周部の温度が高い。これは液体Lが注入されていない測定4、5の場合でも同じであり、理由は後述する。測定4、5の場合は温度ムラは比較的少ないものの温度低下量が大きい(測定4で1.5℃、測定5で2.5℃程度)。一方スカート32(図3参照)があるウェルプレート30を用いた場合に、図9に示すようにウェルプレート支持部材51でスカート32をかさ上げした場合の温度測定結果を図25に示す。   On the other hand, in the measurements 2 and 3, the temperature distribution of the first transparent member 23 is indirectly seen, but the temperature of the outer periphery of the well plate is higher than the inner periphery of the well plate. This is the same for the measurements 4 and 5 in which the liquid L is not injected, and the reason will be described later. In the case of Measurements 4 and 5, although the temperature unevenness is relatively small, the temperature drop is large (1.5 ° C. in Measurement 4 and about 2.5 ° C. in Measurement 5). On the other hand, when the well plate 30 having the skirt 32 (see FIG. 3) is used, the temperature measurement result when the skirt 32 is raised by the well plate support member 51 as shown in FIG. 9 is shown in FIG.

測定6では温度ムラに方向依存性があるのに対して測定7では温度ムラが良化している。これはスカート32の第1透明部材23への接触による熱伝導のムラによるためでウェルプレート支持部材51により温度ムラの改善が確認された。その為、直接液体Lを入れた測定8の場合、温度ムラが悪化している。   In the measurement 6, the temperature unevenness has direction dependency, whereas in the measurement 7, the temperature unevenness is improved. This is due to uneven heat conduction due to the contact of the skirt 32 with the first transparent member 23, and it was confirmed that the temperature unevenness was improved by the well plate support member 51. Therefore, in the case of the measurement 8 in which the liquid L is directly added, the temperature unevenness is worsened.

スカート32をかさ上げした状態で液体Lを入れた場合、顕微鏡光学系15と観察対象物間の光学距離が伸びすぎ、光学収差が問題となるため、測定9、10でサイドヒーター41を使用した。測定10でサイドヒーター41が37℃のときに温度ムラが良化した。   When the liquid L is put in a state where the skirt 32 is raised, the optical distance between the microscope optical system 15 and the observation object becomes too long, and optical aberration becomes a problem. Therefore, the side heater 41 is used in the measurements 9 and 10. . In measurement 10, when the side heater 41 was 37 ° C., the temperature unevenness was improved.

測定2、3、4、5でウェルプレート30で外周部の温度が高いのは、周囲環境湿度の気化によるもので、図10に示すような多孔質部材61(第4の実施形態参照)に液体Lを含有、飽和させたものをウェルプレート30の外周に設置することで図26に示すようにウェルプレート30の外周部の温度が内周部の温度に一致することが確認されている(ここでは培地の代わりに環境温度と同じ水を代用している)。   In the measurements 2, 3, 4, and 5, the temperature of the outer peripheral portion of the well plate 30 is high due to the vaporization of the ambient environmental humidity. It is confirmed that the temperature of the outer peripheral portion of the well plate 30 matches the temperature of the inner peripheral portion as shown in FIG. Here, the same water as the ambient temperature is used instead of the medium).

なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。   In addition, this technique can also take the following structures.

(1)
第1の基板と上記第1の基板と対向する第2の基板とを含む筐体と、
上記第1の基板に配置された第1のヒーターと、
上記筐体内の温度を検出する温度センサと、
上記第1のヒーターを調整可能な第1の温調部と第2の温調部とを含む制御部とを具備し、
上記制御部は、上記筐体の開放時に上記第1の温調部から上記第2の温調部へと切り替えるよう制御し、
上記第1の温調部は、目標温度と上記温度センサで検出された温度とに基づいて上記第1のヒーターの温度を調整し、
上記第2の温調部は、オン/オフ制御によって上記第1のヒーターの温度を調整する
培養温度制御装置。
(1)
A housing including a first substrate and a second substrate facing the first substrate;
A first heater disposed on the first substrate;
A temperature sensor for detecting the temperature in the housing;
A control unit including a first temperature control unit and a second temperature control unit capable of adjusting the first heater;
The control unit controls to switch from the first temperature control unit to the second temperature control unit when the housing is opened,
The first temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater based on a target temperature and a temperature detected by the temperature sensor,
The culture temperature control device, wherein the second temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater by on / off control.

(2)
上記(1)に記載の培養温度制御装置であって、
上記第1の温調部は、PID制御により上記第1のヒーターの温度を調整する
培養温度制御装置。
(2)
The culture temperature control apparatus according to (1) above,
The culture temperature control device, wherein the first temperature control unit adjusts the temperature of the first heater by PID control.

(3)
上記(1)又は(2)に記載の培養温度制御装置であって、
上記第2の温調部は、上記第1のヒーターを上記筐体の開放に応じてオン状態にし、所定時間経過後にオフ状態にする
培養温度制御装置。
(3)
The culture temperature control apparatus according to (1) or (2) above,
The culture temperature control device, wherein the second temperature control unit turns on the first heater in response to the opening of the housing and turns off the first heater after a predetermined time has elapsed.

(4)
上記(1)から(3)のうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
上記制御部は、上記筐体の閉塞前に上記第2の温調部から上記第1の温調部に切り替えるよう制御する
培養温度制御装置。
(4)
The culture temperature control apparatus according to any one of (1) to (3) above,
The said control part is controlled to switch from the said 2nd temperature control part to the said 1st temperature control part before obstruction | occlusion of the said housing | casing.

(5)
上記(4)に記載の培養温度制御装置であって、
上記第1の温調部は上記第1のヒーターを上記筐体の閉塞に応じてオフ状態にし、所定時間経過後にオン状態にする
培養温度制御装置。
(5)
The culture temperature control apparatus according to (4) above,
The culture temperature control device, wherein the first temperature control unit turns off the first heater in response to the closure of the casing, and turns on the first heater after a predetermined time has elapsed.

(6)
上記(1)から(5)のうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
上記筐体の開閉を検出する開閉検出部を更に具備し、
上記制御部は、上記開閉検出部での開閉の検出に応じて上記第1のヒーターを制御する
培養温度制御装置。
(6)
The culture temperature control apparatus according to any one of (1) to (5) above,
Further comprising an open / close detection unit for detecting opening / closing of the housing,
The said control part is a culture | cultivation temperature control apparatus which controls the said 1st heater according to the detection of the opening / closing in the said opening / closing detection part.

(7)
上記(1)から(6)のうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
上記制御部は、上記筐体が開放されると上記第1のヒーターをオン状態とし、所定時間経過後にオフ状態とするように上記第2の温調部を制御し、上記所定時間経過後に上記第1のヒーターの温度を調整するように上記第1の温調部を制御する
培養温度制御装置。
(7)
The culture temperature control apparatus according to any one of (1) to (6) above,
The control unit controls the second temperature control unit to turn on the first heater when the casing is opened, and to turn off after a predetermined time, and after the predetermined time has elapsed, A culture temperature control device for controlling the first temperature control unit so as to adjust the temperature of the first heater.

(8)
上記(7)に記載の培養温度制御装置であって、
上記制御部は、上記筐体が閉塞されると上記第1のヒーターをオフ状態とするように上記第1の温調部及び上記第2の温調部を制御する
培養温度制御装置。
(8)
The culture temperature control apparatus according to (7) above,
The culture temperature control device, wherein the control unit controls the first temperature control unit and the second temperature control unit so that the first heater is turned off when the housing is closed.

(9)
上記(1)から(8)のうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
上記第2の基板に配置された第2のヒーターを更に具備し、
上記制御部は、上記第2のヒーターを制御する
培養温度制御装置。
(9)
The culture temperature control apparatus according to any one of (1) to (8) above,
A second heater disposed on the second substrate;
The said control part is a culture | cultivation temperature control apparatus which controls the said 2nd heater.

(10)
上記(1)から(9)のうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
上記第2の基板は、光透過性を有する透明部材からなる
培養温度制御装置。
(10)
The culture temperature control apparatus according to any one of (1) to (9) above,
The culture temperature control device, wherein the second substrate is made of a transparent member having optical transparency.

(11)
上記(1)から(10)のうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
上記第1の基板は、光透過性を有する透明部材からなる
培養温度制御装置。
(11)
The culture temperature control apparatus according to any one of (1) to (10) above,
The culture temperature control apparatus, wherein the first substrate is made of a transparent member having optical transparency.

(12)
上記(1)から(11)のうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
上記筐体は細胞を含むウェルプレートを格納可能であり、
上記温度センサは上記ウェルプレート内の少なくとも1つのウェル内に配置される
培養温度制御装置。
(12)
The culture temperature control apparatus according to any one of (1) to (11) above,
The housing can store a well plate containing cells,
The temperature sensor is arranged in at least one well in the well plate.

(13)
上記(1)から(12)のうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
上記筐体は、本体部分と上記本体部分に対して開閉可能に構成された蓋部分とを備え、上記蓋部分には上記第2の基板を嵌め込むための開口が設けられている
培養温度制御装置。
(13)
The culture temperature control apparatus according to any one of (1) to (12) above,
The housing includes a main body portion and a lid portion configured to be openable and closable with respect to the main body portion, and the lid portion is provided with an opening for fitting the second substrate. Culture temperature control apparatus.

(14)
細胞に光を照射する光源部と、
上記細胞の画像を撮像する撮像部と、
第1の基板と上記第1の基板と対向する第2の基板とを含む筐体と、上記第1の基板に配置された第1のヒーターと、上記筐体内の温度を検出する温度センサと、上記第1のヒーターを調整可能な第1の温調部と第2の温調部とを含む制御部とを具備する培養温度制御部とを具備し、
上記制御部は、上記筐体の開放時に上記第1の温調部から上記第2の温調部へと切り替えるよう制御し、
上記第1の温調部は、目標温度と上記温度センサで検出された温度とに基づいて上記第1のヒーターの温度を調整し、
上記第2の温調部は、オン/オフ制御によって上記第1のヒーターの温度を調整する
培養観察装置。
(14)
A light source unit for irradiating the cells with light;
An imaging unit that captures an image of the cell;
A housing including a first substrate and a second substrate facing the first substrate, a first heater disposed on the first substrate, and a temperature sensor for detecting a temperature in the housing; A culture temperature control unit comprising a control unit including a first temperature control unit and a second temperature control unit capable of adjusting the first heater,
The control unit controls to switch from the first temperature control unit to the second temperature control unit when the housing is opened,
The first temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater based on a target temperature and a temperature detected by the temperature sensor,
The culture observation apparatus, wherein the second temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater by on / off control.

(15)
上記(14)に記載の培養観察装置であって、
上記光源部と上記撮像部との間に配置されるステージを更に有し、
上記ステージは上記筐体を支持するよう構成されている
培養観察装置。
(15)
The culture observation apparatus according to (14) above,
A stage disposed between the light source unit and the imaging unit;
The culture observation apparatus, wherein the stage is configured to support the casing.

(16)
第1の基板と上記第1の基板と対向する第2の基板とを含む筐体と、
上記第1の基板に配置された第1のヒーターと、
上記筐体内の温度を検出する温度センサと、
目標温度と上記温度センサで検出された温度とに基づいて上記第1のヒーターの温度を調整する第1の温調部と、
オン/オフ制御によって上記第1のヒーターの温度を調整する第2の温調部と、
を備える培養温度制御装置を準備し、
上記筐体の開放時に上記第1の温調部から上記第2の温調部へと切り替えるよう制御する
培養温度制御方法。
(16)
A housing including a first substrate and a second substrate facing the first substrate;
A first heater disposed on the first substrate;
A temperature sensor for detecting the temperature in the housing;
A first temperature adjustment unit that adjusts the temperature of the first heater based on a target temperature and a temperature detected by the temperature sensor;
A second temperature adjustment unit for adjusting the temperature of the first heater by on / off control;
A culture temperature control device comprising:
A culture temperature control method for controlling to switch from the first temperature control unit to the second temperature control unit when the casing is opened.

1、90、100、110…培養観察装置
20、40、50、60、70、80…培養容器
21…筐体部材
22…第2透明部材
23…第1透明部材
25…防水部材
30…ウェルプレート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 90, 100, 110 ... Culture observation apparatus 20, 40, 50, 60, 70, 80 ... Culture container 21 ... Housing member 22 ... Second transparent member 23 ... First transparent member 25 ... Waterproof member 30 ... Well plate

Claims (13)

光透過性を有する第1の基板と前記第1の基板と対向し光透過性を有する第2の基板とを含み、前記第1の基板と前記第2の基板の間にウェルプレートを格納可能に構成された筐体を備える培養容器の温度を調整する培養温度制御装置であって、
前記第1の基板に配置された第1のヒーターと、
前記筐体内の前記ウェルプレートが有するウェルの温度を検出する温度センサと、
前記第1のヒーターを調整可能な第1の温調部と第2の温調部とを含む制御部とを具備し、
前記制御部は、前記筐体の開放時に前記第1の温調部から前記第2の温調部へと切り替え、前記開放期間中に前記第2の温調部をオン状態にし、所定時間経過後にオフ状態にするよう制御し、
前記第1の温調部は、PID制御に基づいて前記第1のヒーターの温度を調整し、
前記第2の温調部は、オン/オフ制御によって前記第1のヒーターの温度を調整する
培養温度制御装置。
A first substrate having optical transparency and a second substrate having optical transparency opposite to the first substrate, and a well plate can be stored between the first substrate and the second substrate A culture temperature control device that adjusts the temperature of a culture vessel provided with a housing configured to :
A first heater disposed on the first substrate;
A temperature sensor for detecting a temperature of a well of the well plate in the housing;
A control unit including a first temperature control unit and a second temperature control unit capable of adjusting the first heater;
The control unit switches from the first temperature control unit to the second temperature control unit when the casing is opened, turns on the second temperature control unit during the opening period , and a predetermined time elapses. Control to turn off later,
The first temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater based on PID control ,
The second temperature control unit adjusts the temperature of the first heater by on / off control.
請求項1に記載の培養温度制御装置であって、
前記制御部は、前記開放期間中に前記第2の温調部をオン状態にし、所定時間経過後にオフ状態にするよう制御し、温度安定後、前記第2の温調部から前記第1の温調部に切り替えるよう制御する
培養温度制御装置。
The culture temperature control device according to claim 1,
The control unit controls the second temperature adjustment unit to be in an on state during the opening period and to be in an off state after a predetermined time has elapsed, and after the temperature is stabilized, the second temperature adjustment unit performs the first temperature control from the second temperature adjustment unit. A culture temperature control device that controls to switch to a temperature control unit.
請求項1又は2に記載の培養温度制御装置であって、
前記制御部は、前記筐体の閉塞時に前記第2の温調部に切り替えるよう制御し、前記閉塞時から所定時間経過後に第2の温調部をオフ状態にするよう更に制御する
培養温度制御装置。
The culture temperature control device according to claim 1 or 2 ,
The control unit controls the switching to the second temperature control unit when the casing is closed, and further controls the second temperature control unit to be turned off after a predetermined time has elapsed from the closing time. apparatus.
請求項1からのうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
前記筐体の開閉を検出する開閉検出部を更に具備する
培養温度制御装置。
The culture temperature control device according to any one of claims 1 to 3 ,
A culture temperature control device further comprising an open / close detection unit for detecting open / close of the housing.
請求項1からのうちいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
前記第2の基板に配置された第2のヒーターを更に具備する
培養温度制御装置。
The culture temperature control device according to any one of claims 1 to 4 ,
A culture temperature control apparatus further comprising a second heater disposed on the second substrate.
請求項1からのいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
前記筐体は、本体部分と前記本体部分に対して開閉可能に構成された蓋部分とを備え、前記蓋部分には前記第2の基板を嵌め込むための開口が設けられている
培養温度制御装置。
The culture temperature control apparatus according to any one of claims 1 to 5 ,
The housing includes a main body part and a lid part configured to be openable and closable with respect to the main body part, and the lid part is provided with an opening for fitting the second substrate. apparatus.
細胞に光を照射する光源部と、
前記細胞の画像を撮像する撮像部と、
光透過性を有する第1の基板と前記第1の基板と対向し光透過性を有する第2の基板とを含み、前記第1の基板と前記第2の基板の間にウェルプレートを格納可能に構成された筐体とを備える培養容器と、
前記光源部と前記撮像部との間に配置されるステージと、前記第1の基板に配置された第1のヒーターと、前記筐体内の前記ウェルプレートが有するウェルの温度を検出する温度センサと、前記第1のヒーターを調整可能な第1の温調部と第2の温調部とを含む制御部とを具備する培養温度制御部とを具備し、
前記制御部は、前記筐体の開放時に前記第1の温調部から前記第2の温調部へと切り替え、前記開放期間中に前記第2の温調部をオン状態にし、所定時間経過後にオフ状態にするよう制御し、
前記第1の温調部は、PID制御に基づいて前記第1のヒーターの温度を調整し、
前記第2の温調部は、オン/オフ制御によって前記第1のヒーターの温度を調整し、
前記ステージは前記筐体を支持するよう構成されている
培養観察装置。
A light source unit for irradiating light to cells;
An imaging unit that captures an image of the cell;
A first substrate having optical transparency and a second substrate having optical transparency opposite to the first substrate, and a well plate can be stored between the first substrate and the second substrate A culture vessel comprising a housing configured in
A stage disposed between the light source unit and the imaging unit, a first heater disposed on the first substrate, and a temperature sensor for detecting a temperature of a well of the well plate in the housing; A culture temperature control unit comprising a control unit including a first temperature control unit and a second temperature control unit capable of adjusting the first heater;
The control unit switches from the first temperature control unit to the second temperature control unit when the casing is opened, turns on the second temperature control unit during the opening period , and a predetermined time elapses. Control to turn off later,
The first temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater based on PID control ,
The second temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater by on / off control,
The culture observation apparatus, wherein the stage is configured to support the casing.
光透過性を有する第1の基板と前記第1の基板と対向し光透過性を有する第2の基板とを含み、前記第1の基板と前記第2の基板の間にウェルプレートを格納可能に構成された筐体とを備える培養容器と、
前記第1の基板に配置された第1のヒーターと、
前記筐体内の前記ウェルプレートが有するウェルの温度を検出する温度センサと、
前記第1のヒーターを調整可能な第1の温調部と第2の温調部とを含む制御部と
を具備する培養温度制御装置を準備し、
前記制御部が、前記筐体の開放時に前記第1の温調部から前記第2の温調部へと切り替え、前記開放期間中に前記第2の温調部をオン状態にし、所定時間経過後にオフ状態にするよう制御し、
前記第1の温調部が、PID制御に基づいて前記第1のヒーターの温度を調整し、
前記第2の温調部が、オン/オフ制御によって前記第1のヒーターの温度を調整する
培養温度制御方法。
A first substrate having optical transparency and a second substrate having optical transparency opposite to the first substrate, and a well plate can be stored between the first substrate and the second substrate A culture vessel comprising a housing configured in
A first heater disposed on the first substrate;
A temperature sensor for detecting a temperature of a well of the well plate in the housing;
Preparing a culture temperature control device comprising: a control unit including a first temperature control unit and a second temperature control unit capable of adjusting the first heater;
The control unit switches from the first temperature control unit to the second temperature control unit when the casing is opened, turns on the second temperature control unit during the opening period , and a predetermined time has elapsed. Control to turn off later,
The first temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater based on PID control ,
The culture temperature control method, wherein the second temperature adjustment unit adjusts the temperature of the first heater by on / off control.
請求項1からのいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
前記制御部の制御時間を計測するクロック信号生成部と計数部を更に具備する
培養温度制御装置。
The culture temperature control device according to any one of claims 1 to 6 ,
A culture temperature control device further comprising a clock signal generation unit and a counting unit for measuring a control time of the control unit.
請求項に記載の培養温度制御装置であって、
前記クロック信号生成部は水晶発振器からなる
培養温度制御装置。
The culture temperature control device according to claim 9 ,
The clock signal generation unit is a culture temperature control device including a crystal oscillator.
請求項又は10に記載の培養温度制御装置であって、
前記計数部はカウンタ回路からなる
培養温度制御装置。
The culture temperature control device according to claim 9 or 10 ,
The culture temperature control device, wherein the counting unit is composed of a counter circuit.
請求項1から及びから11のいずれか一つに記載の培養温度制御装置であって、
前記第1の温調部と前記第2の温調部の切り替えを行う切り替え部を更に具備する
培養温度制御装置。
The culture temperature control device according to any one of claims 1 to 6 and 9 to 11 ,
A culture temperature control device further comprising a switching unit that switches between the first temperature control unit and the second temperature control unit.
請求項12に記載の培養温度制御装置であって、
前記切り替え部はリレー回路またはマルチプレクサからなる
培養温度制御装置。
The culture temperature control device according to claim 12 ,
The switching unit is a culture temperature control device comprising a relay circuit or a multiplexer.
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