JP6404425B2 - 光画像計測装置 - Google Patents
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Description
本発明は、光の干渉を用いて測定対象を観察する光画像計測装置に関する。
近年、光の干渉を用いて測定対象の表面構造や内部構造の画像を取得する光コヒーレンストモグラフィー(OCT:Optical Coherence Tomography)が注目を集めている。OCTは眼底検査用途で既に実用化されており、近年では再生医療における移植組織の検査などの目的で、培養細胞のイメージングへの適用も検討されている。
OCTでは、例えば特許文献1に記載されているように、光源からの光を測定対象に照射する信号光と、測定対象に照射せずに参照光ミラーで反射させる参照光とに2分岐し、測定対象から反射された信号光を参照光と合波させ干渉させることにより信号を得る。
OCTは測定位置の光軸方向への走査方法(以下、zスキャンと称する)により、大きくタイムドメインOCTとフーリエドメインOCTとに分けられる。タイムドメインOCTにおいては、光源として低コヒーレンス光源を使用し、測定時に参照光ミラーを走査することによりzスキャンを行う。これにより信号光に含まれる参照光と光路長が一致する成分のみが干渉し、得られた干渉信号に対して包絡線検波を行うことにより、所望の信号が復調される。一方、フーリエドメインOCTはさらに波長走査型OCTとスペクトルドメインOCTとに分けられる。波長走査型OCTでは、出射光の波長を走査することが可能な波長走査型光源を使用し、測定時に波長を走査することによりzスキャンがなされ、検出された干渉光強度の波長依存性(干渉スペクトル)をフーリエ変換することにより所望の信号が得られる。スペクトルドメインOCTにおいては、光源に広帯域光源を用い、生成された干渉光を分光器により分光し、波長成分ごとの干渉光強度(干渉スペクトル)を検出することがzスキャンを行うことに対応している。得られた干渉スペクトルをフーリエ変換することにより所望の信号が得られる。
OCTで生体組織や細胞などを測定する場合、一般的に測定対象内部からの反射光は測定対象表面からの反射光あるいはカバーガラスや細胞の培養容器などの測定対象保持部と測定対象の界面からの反射光に比べて非常に小さい。例として図1のように培養液で満たされた培養容器内の細胞を測定する場合について述べる。典型的な培養容器(ポリスチレン製)の屈折率は1.59、細胞の屈折率は1.37程度であり、これらの値より培養容器と細胞の界面の反射率を見積もると約0.55%となる。それに対して例えば細胞と培養液の界面の反射率は、培養液の屈折率を1.33程度とすると0.022%程度となり、細胞からの反射光が培養容器と細胞の界面からの反射光よりも1桁以上小さくなることが分かる。異なる細胞同士の界面や、細胞内部の反射率はこれよりもさらに小さいと考えられる。
このように、測定対象表面や測定対象と測定対象保持部の界面からの反射光が測定対象内部からの反射光よりも非常に大きいため、OCTで測定対象内部を撮像する際にクロストークとなり画像を劣化させることが問題となる。測定対象と測定対象保持部の界面からの反射光による画像の劣化の具体例を図2に示した。図2は、OCTによって得られる図1に示したz=0μmとz=5μmにおけるxy像(光軸に垂直な方向の断層画像)の模式図である。z=5μmにおけるxy像にz=0μmにおけるxy像が残像として写っている。このように、測定対象と測定対象保持部の界面からの反射光の影響は測定対象内部のxy像に測定対象と測定対象保持部の界面の構造が残像として写る形で表れる。
当該残像を除去するための手段として、測定対象内部のxy像から輝度調整を行ったz=0μmのxy像を減算する方法が考えられる。当該方法は、z方向の測定位置の変更あるいは走査を参照光ミラーの移動や波長の掃引によって行う従来のOCTにおいては機能すると考えられる。しかしながら、これら従来のOCTは低NA(典型的にはNA0.1以下)の対物レンズを使用するため、xy分解能が20μm〜30μm程度であり、培養細胞のような大きさ10μm程度の小さな構造物をイメージングすることはできない。
そこで本発明者らは、高い空間分解能を得るために、光源としてコヒーレンス長の長いレーザー光源を適用し、高NAの対物レンズを用いてレーザー光(信号光)を測定対象に集光して照射し、対物レンズを走査することにより集光位置を走査して測定対象の断層像を取得する構成を検討した。本構成のOCT装置を用いる場合、測定対象内部を測定する際のz=0μmにおける信号光はデフォーカスしているため、測定対象内部のxy像に残像として写るのはデフォーカスしたz=0μmのxy像である。したがって、測定対象内部のxy像から輝度調整を行ったz=0μmのxy像を減算する方法では、上記のデフォーカスを考慮していないため、z=0μmからの反射光による残像を正確に除去することはできないという問題があった。
本発明による光画像計測装置は、レーザー光を出射する光源と、光源から出射されたレーザー光を信号光と参照光に分岐する光分岐部と、信号光を容器内の測定対象に集光して照射する第1の対物レンズと、信号光の集光位置を走査する集光位置走査部と、参照光を集光する第2の対物レンズと、第2の対物レンズを通った参照光を反射して第2の対物レンズに戻す反射ミラーと、第2の対物レンズと反射ミラーの間に配置された平板と、測定対象によって反射もしくは散乱された信号光と反射ミラーによって反射されて第2の対物レンズを通った参照光とを合波し、互いに位相関係が異なる3つ以上の干渉光を生成する干渉光学系と、干渉光を検出する光検出器とを備える。ここで、第2の対物レンズは第1の対物レンズと同一の対物レンズであり、平板は容器の信号光が透過する部分と同じ材質及び同じ厚さを有する。
また、集光位置走査部により走査される信号光の各集光位置において光検出器から得られた信号をもとに画像を生成する画像生成部と、画像生成部で生成された2つの画像の間で減算処理を行う画像処理部を備える。
本発明による光画像計測方法は、1本のレーザー光を信号光と参照光に分岐し、信号光を測定対象に集光して照射し、測定対象から反射もしくは散乱された信号光と参照光を干渉させて互いに位相関係が異なる3つ以上の干渉光を生成し、干渉光の検出信号をもとに測定対象の断層像を取得する光画像計測方法であって、参照光を平面波とした状態で、信号光の集光位置を光軸に垂直な方向に走査して得た検出信号をもとに第1の画像を取得する工程と、参照光にデフォーカス収差を付与した状態で、信号光の集光位置を光軸に垂直な方向に走査して得た検出信号をもとに第2の画像を取得する工程と、第1の画像と第2の画像の間で少なくとも減算処理を施すことにより第3の画像を生成する工程と、を有する。
第3の画像を生成する工程は、第1の画像から輝度調整を行った第2の画像を減算することによりなされるものとすることができる。
デフォーカス収差は、一つの観点からすると、第1の画像に現れたクロストーク成分が第3の画像で除去あるいは低減される大きさとすることができる。
デフォーカス収差は、一つの観点からすると、第1の画像に現れたクロストーク成分が第3の画像で除去あるいは低減される大きさとすることができる。
また、本発明による光画像計測装置は、レーザー光を出射する光源と、光源から出射されたレーザー光を信号光と参照光に分岐する光分岐部と、信号光を測定対象に集光して照射する対物レンズと、信号光の集光位置を走査する集光位置走査部と、参照光のデフォーカス収差を調整するデフォーカス収差調整部と、測定対象によって反射もしくは散乱された信号光を参照光と合波し、互いに位相関係が異なる3つ以上の干渉光を生成する干渉光学系と、干渉光を検出する光検出器と、光検出器の出力信号を元に画像を生成する画像生成部と、画像生成部で生成された画像に対して画像処理を施す画像処理部と、を有し、画像処理部は、参照光にデフォーカス収差を付与しない状態で画像生成部で生成した第1の画像と参照光にデフォーカス収差を付与した状態で画像生成部で生成した第2の画像の間で少なくとも減算処理を施すことにより、第3の画像を生成する。
第3の画像は、画像処理部において第1の画像から輝度調整を行った第2の画像を減算することにより生成されるものとすることができる。
ここで、参照光をデフォーカス収差調整部を通らない第1の参照光とデフォーカス収差調整部を通る第2の参照光に分岐する光分岐部を有し、干渉光学系として第1の干渉光学系と第2の干渉光学系を有し、第1の干渉光学系は測定対象によって反射もしくは散乱された信号光と第1の参照光との干渉光を生成し、第2の干渉光学系は測定対象によって反射もしくは散乱された信号光と第2の参照光との干渉光を生成し、第1の干渉光学系の干渉光を検出する光検出器の出力信号を元に画像生成部で生成された画像を上記第1の画像とし、第2の干渉光学系の干渉光を検出する光検出器の出力信号を元に画像生成部で生成された画像を上記第2の画像とすることができる。
本発明によれば、測定対象の表面などの特定の反射面で生じる強い反射光の影響を抑制し、その特定の反射面近傍の構造を鮮明に可視化可能な光画像計測装置を提供することが出来る。
上記した以外の、課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
上記した以外の、課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
以下に本発明の態様を例示する。
(1)一例として、光源から出射されたレーザー光を信号光と参照光とに分岐し、信号光を対物レンズにより測定対象に集光して照射させ、信号光の集光位置を集光位置走査部により走査し、参照光はデフォーカス収差調整部によってデフォーカスを調整され、干渉光学系によって測定対象から反射もしくは散乱された信号光を参照光と合波して互いに位相関係が異なる3つ以上の干渉光を生成して検出する。画像生成部ではこれら検出信号を元に画像データを生成し、画像処理部で生成された画像に対して画像処理を施す。画像処理部では、デフォーカス収差調整部で参照光にデフォーカス収差を付与しない状態で取得した第一の画像と、参照光にデフォーカス収差を付与した状態で得られた第二の画像を元に、測定対象の表面などの反射率の強い特定の反射面からのクロストーク成分を除去した第三の画像を生成する。ここで、デフォーカス収差調整部により参照光に付与されるデフォーカス収差は、信号光に含まれる反射率の強い特定の反射面からの反射光成分が有するデフォーカス収差と等しい。強い反射の生じる反射面とは、測定領域のその他の部位に比べて大きな反射率を有する反射面であり、当該反射面からの反射光がその周辺部分の構造の鮮明な可視化を妨げると考えられ、ユーザーがその反射面からの反射光の影響を取り除くことを選択しうる反射面である。具体的には、測定対象の表面、何らかの容器越しに信号光を照射する場合には当該容器の表面、あるいはホルマリン溶液などの液中にある測定対象の場合にはその液面などが考えられる。
これにより、測定対象表面などの特定の反射面からの強い反射光の影響を抑制することが可能となり、前記特定の反射面近傍の構造を鮮明に可視化することができる。
(1)一例として、光源から出射されたレーザー光を信号光と参照光とに分岐し、信号光を対物レンズにより測定対象に集光して照射させ、信号光の集光位置を集光位置走査部により走査し、参照光はデフォーカス収差調整部によってデフォーカスを調整され、干渉光学系によって測定対象から反射もしくは散乱された信号光を参照光と合波して互いに位相関係が異なる3つ以上の干渉光を生成して検出する。画像生成部ではこれら検出信号を元に画像データを生成し、画像処理部で生成された画像に対して画像処理を施す。画像処理部では、デフォーカス収差調整部で参照光にデフォーカス収差を付与しない状態で取得した第一の画像と、参照光にデフォーカス収差を付与した状態で得られた第二の画像を元に、測定対象の表面などの反射率の強い特定の反射面からのクロストーク成分を除去した第三の画像を生成する。ここで、デフォーカス収差調整部により参照光に付与されるデフォーカス収差は、信号光に含まれる反射率の強い特定の反射面からの反射光成分が有するデフォーカス収差と等しい。強い反射の生じる反射面とは、測定領域のその他の部位に比べて大きな反射率を有する反射面であり、当該反射面からの反射光がその周辺部分の構造の鮮明な可視化を妨げると考えられ、ユーザーがその反射面からの反射光の影響を取り除くことを選択しうる反射面である。具体的には、測定対象の表面、何らかの容器越しに信号光を照射する場合には当該容器の表面、あるいはホルマリン溶液などの液中にある測定対象の場合にはその液面などが考えられる。
これにより、測定対象表面などの特定の反射面からの強い反射光の影響を抑制することが可能となり、前記特定の反射面近傍の構造を鮮明に可視化することができる。
(2)一例として、信号光を測定対象に集光する対物レンズの開口数を0.4以上とした。
これにより、広帯域光源あるいは波長走査型光源を用いることなく、従来のOCT装置と同等かそれ以上の光軸方向の空間分解能を達成可能である。
これにより、広帯域光源あるいは波長走査型光源を用いることなく、従来のOCT装置と同等かそれ以上の光軸方向の空間分解能を達成可能である。
(3)一例として、干渉光学系において干渉光を4つ生成し、これら4つの干渉光は信号光と参照光の干渉位相が互いに略90度の整数倍だけ異なり、信号光と参照光の干渉位相が互いに略180度異なる干渉光の対を電流差動型の光検出器によって検出することとした。
これにより、電流差動型の検出器を用いているため、参照光の強度を大きくしても検出器が飽和しにくくなり、電流差動型の検出器を用いない場合よりも信号のSN比を大きくすることができる。
これにより、電流差動型の検出器を用いているため、参照光の強度を大きくしても検出器が飽和しにくくなり、電流差動型の検出器を用いない場合よりも信号のSN比を大きくすることができる。
(4)一例として、デフォーカス収差調整部として、信号光の集光に用いる対物レンズと同一の対物レンズと、反射ミラーと、対物レンズと反射ミラーの相対距離を変化させるアクチュエータと、を用いることとした。
これにより、信号光に含まれる反射率の強い特定の反射面からの反射光成分が有するデフォーカス収差と等しいデフォーカス収差を、容易に参照光に付与することができる。
これにより、信号光に含まれる反射率の強い特定の反射面からの反射光成分が有するデフォーカス収差と等しいデフォーカス収差を、容易に参照光に付与することができる。
(5)一例として、光源から出射されたレーザー光を信号光と第一の参照光と第二の参照光に分岐し、信号光を対物レンズにより測定対象に集光して照射させ、信号光の集光位置を集光位置走査部により走査し、第二の参照光はデフォーカス収差調整部によってデフォーカスを調整され、測定対象から反射もしくは散乱された信号光を第一の信号光と第二の信号光に分割し、第一の干渉光学系によって第一の信号光と第一の参照光を合波して互いに位相関係が異なる3つ以上の干渉光を生成して検出し、第二の干渉光学系によって第二の信号光と第二の参照光を合波して互いに位相関係が異なる3つ以上の干渉光を生成して検出する。画像生成部ではこれら検出信号を元に画像データを生成し、画像処理部で生成された画像に対して画像処理を施す。画像処理部では、第一の干渉光学系からの信号を元に生成された第一の画像と、第二の干渉光学系からの信号を元に生成された第二の画像を元に、測定対象の表面などの反射率の強い特定の反射面からのクロストーク成分を除去した第三の画像を生成する。ここで、デフォーカス収差調整部により第二の参照光に付与されるデフォーカス収差は、信号光に含まれる反射率の強い特定の反射面からの反射光成分が有するデフォーカス収差と等しい。
これにより、一度の測定で参照光にデフォーカス収差を付与しない条件での画像(第一の画像)と、参照光にデフォーカス収差を付与した条件での画像(第二の画像)を取得することが出来るため、より短い測定時間で、測定対象表面などの特定の反射面からの強い反射光の影響を抑制することが可能となり、前記特定の反射面近傍の構造を鮮明に可視化することができる。
これにより、一度の測定で参照光にデフォーカス収差を付与しない条件での画像(第一の画像)と、参照光にデフォーカス収差を付与した条件での画像(第二の画像)を取得することが出来るため、より短い測定時間で、測定対象表面などの特定の反射面からの強い反射光の影響を抑制することが可能となり、前記特定の反射面近傍の構造を鮮明に可視化することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
〔実施例1〕
図3(a)は、本発明による光画像計測装置の構成例を示す模式図である。
光源301から出射された1本のレーザー光はコリメートレンズ302によって平行光に変換され、光学軸方向を調整可能なλ/2板303によって偏光を回転させられた後、偏光ビームスプリッタ304からなる光分岐部によって信号光と参照光に2分岐される。信号光は光学軸方向が水平方向に対して約22.5度に設定されたλ/4板305を透過して偏光状態をs偏光から円偏光に変換された後、開口数が0.4以上の対物レンズ306によって培養容器308内の培養細胞309に集光して照射される。ここで、対物レンズ306は培養容器308の底面を通過後に球面収差がほぼゼロとなるように設計されているものとする。対物レンズ306は対物レンズアクチュエータ307によって走査され、これにより対物レンズ306による信号光の集光位置(測定位置)の走査がなされる。測定対象から反射又は散乱された信号光は対物レンズ306を再び通過し、λ/4板305によって偏光状態を円偏光からp偏光に変換され、偏光ビームスプリッタ304へ入射する。一方、参照光はλ/4板310によって偏光状態をp偏光から円偏光に変換された後、参照光の光路中に配置されたデフォーカス収差調整部315へ入射する。
図3(a)は、本発明による光画像計測装置の構成例を示す模式図である。
光源301から出射された1本のレーザー光はコリメートレンズ302によって平行光に変換され、光学軸方向を調整可能なλ/2板303によって偏光を回転させられた後、偏光ビームスプリッタ304からなる光分岐部によって信号光と参照光に2分岐される。信号光は光学軸方向が水平方向に対して約22.5度に設定されたλ/4板305を透過して偏光状態をs偏光から円偏光に変換された後、開口数が0.4以上の対物レンズ306によって培養容器308内の培養細胞309に集光して照射される。ここで、対物レンズ306は培養容器308の底面を通過後に球面収差がほぼゼロとなるように設計されているものとする。対物レンズ306は対物レンズアクチュエータ307によって走査され、これにより対物レンズ306による信号光の集光位置(測定位置)の走査がなされる。測定対象から反射又は散乱された信号光は対物レンズ306を再び通過し、λ/4板305によって偏光状態を円偏光からp偏光に変換され、偏光ビームスプリッタ304へ入射する。一方、参照光はλ/4板310によって偏光状態をp偏光から円偏光に変換された後、参照光の光路中に配置されたデフォーカス収差調整部315へ入射する。
デフォーカス収差調整部315は、対物レンズ306と同一の対物レンズ311、対物レンズアクチュエータ312、培養容器308と同じ材質でその厚みが信号光透過部分すなわち培養容器308の底面と同一である平板313、及び反射ミラー314によって構成されており、対物レンズアクチュエータ312によって対物レンズ311と反射ミラーの相対位置を変化させることにより参照光のデフォーカス収差を調整することが可能である。ここで、平板313は参照光の球面収差を信号光と等しくするために挿入されている。従って培養容器308が材質や底面の厚さが異なる別の培養容器に変更される場合には、平板313もそれに対応して変更される。平板313の変更を容易に実施するために、事前に複数の種類の平板313を搭載し、ユーザーが選択した培養容器308に対応して平板313を切り替え可能な機構を設けることが望ましい。あるいは、平板313の代わりに液晶素子を挿入し、印加する電圧を調整することにより、参照光の球面収差を信号光と等しくすることとしても良い。デフォーカス収差調整部315へ入射した参照光は対物レンズ311によって集光され、平板313を透過した後に反射ミラー314によって反射され、再び平板313と対物レンズ311を透過した後、λ/4板310によって偏光状態を円偏光からs偏光へ変換されて偏光ビームスプリッタ304へ入射する。
信号光と参照光は偏光ビームスプリッタ304によって合波され、合成光が生成される。合成光はハーフビームスプリッタ316、λ/2板317、λ/4板318、集光レンズ319,320、ウォラストンプリズム321,322から成る干渉光学系323へ導かれる。干渉光学系323へ入射した合成光は、ハーフビームスプリッタ316によって透過光と反射光に2分岐される。透過光は光学軸が水平方向に対して約22.5度に設定されたλ/2板317を透過した後、集光レンズ319によって集光され、ウォラストンプリズム321によって偏光分離されることにより互いに位相関係が180度異なる第一の干渉光と第二の干渉光が生成される。第一の干渉光と第二の干渉光は電流差動型の光検出器324によって検出され、それらの強度の差に比例した差動出力信号326が出力される。
一方、反射光は光学軸が水平方向に対して約45度に設定されたλ/4板318を透過した後、集光レンズ320によって集光され、ウォラストンプリズム322によって偏光分離されることにより互いに位相関係が約180度異なる第三の干渉光と第四の干渉光が生成される。ここで、第三の干渉光は第一の干渉光に対して位相が約90度異なる。第三の干渉光と第四の干渉光は電流差動型の光検出器325によって検出され、それらの強度の差に比例した差動出力信号327が出力される。このようにして生成された差動出力信号326,327は画像生成部328に入力され、画像データ329が生成される。画像処理部330は画像データ329を元に、新たな画像データ331を生成し、画像表示部332に表示させる。
図4は、本実施例のOCT装置の動作手順の例を示す図である。まず始めに測定対象のxz像すなわち光軸を含む断層像を取得し(S11)、その結果を元にその影響を除去すべき強い反射光が発生している反射面位置(z0)をユーザーが選択する(S12)。本実施例における当該反射面位置(z0)は、培養容器308と培養細胞309の界面位置であるとする。なお、簡便には2次元のxz像に代えて光軸方向(z軸方向)の1次元像を取得し、その1次元像から強い反射光が発生している反射面位置(z0)を選択してもよい。
次に、xy測定を行うz位置(z=zm)をユーザーに選択させ(S13)、当該z位置においてxy像を繰り返し取得して平均化されたxy像を生成し、これを第一の画像とする(S14)。xy像の取得にあたっては、対物レンズアクチュエータ307を駆動して対物レンズ306による信号光の集光位置を光軸に垂直な面内で2次元走査する。参照光は平面波とする。すなわち、デフォーカス収差調整部315の対物レンズアクチュエータ312を駆動して、対物レンズ311による参照光の集光位置が反射ミラー314の表面となるように対物レンズ311と反射ミラー314の相対距離を調整する。このとき、第一の画像にはz=z0からの強い反射光の影響により、デフォーカスしたz=z0位置の構造が残像(クロストーク)として写っている。
その後、デフォーカス収差調整部315を調整して、参照光に対してz=z0からの反射光が有するデフォーカス収差と等しいデフォーカス収差を付与し、その条件下でxy像を繰り返し取得して平均化されたxy像を生成し、これを第二の画像とする(S15)。このとき、デフォーカス収差は図3(b)に示すように、対物レンズアクチュエータ312によって参照光の集光位置を反射ミラー314からz0−zmだけ変位させることにより付与される。ここで、第二の画像は、デフォーカスした測定対象のz=z0におけるxy像であり、輝度調整を行うことにより第一の画像に残像として写っている画像とほぼ等しくなる。画像処理部330は、第一の画像から輝度を調整した第二の画像を減算することにより、残像を除去した第三の画像を生成し(S16)、画像表示部332に表示させる(S17)。
こうして、z=z0からの反射光によるクロストーク成分が除去された測定対象のz=zmにおける断層像が表示される。換言すると、ステップ15における第二の画像取得時にデフォーカス収差調整部315によって参照光に付与したデフォーカス収差は、ステップ14において取得した第一の画像に現れたクロストーク成分が第三の画像で除去あるいは低減される大きさであるということができる。
以下で本実施例の動作原理及び効果について数式を用いて説明する。干渉光学系323へ入射する時点での合成光のジョーンズベクトルを
[式1]
と表す。ここでEsigは、信号光が集光される光軸方向の位置z、測定対象のz=z0からカウントしてj番目(z=z0を0番目とする)の反射点の光軸方向位置zj、j番目の反射点からの反射光の電場振幅Asig,j及び位相θsig,jを用いて以下のように表わすことができる。
[式1]
と表す。ここでEsigは、信号光が集光される光軸方向の位置z、測定対象のz=z0からカウントしてj番目(z=z0を0番目とする)の反射点の光軸方向位置zj、j番目の反射点からの反射光の電場振幅Asig,j及び位相θsig,jを用いて以下のように表わすことができる。
式2において、z=z0からの反射光の振幅Asig,0の二乗はそれ以外の反射点からの反射光の振幅の二乗に比べると1桁以上大きいものとする。一方、Erefは以下の様に表わされる。
[式3]
ここで、Arefとθrefはそれぞれ参照光の電場振幅と位相、Δzrefは参照光のデフォーカス量(対物レンズ311による参照光の集光位置と反射ミラー314の間の光軸方向の距離)である。WΔzrefr2はデフォーカス収差調整部315により参照光に付与されるデフォーカス収差を表わしている。
[式3]
ここで、Arefとθrefはそれぞれ参照光の電場振幅と位相、Δzrefは参照光のデフォーカス量(対物レンズ311による参照光の集光位置と反射ミラー314の間の光軸方向の距離)である。WΔzrefr2はデフォーカス収差調整部315により参照光に付与されるデフォーカス収差を表わしている。
ウォラストンプリズム321によって式4で示される合成光はp偏光成分とs偏光成分に偏光分離された後、電流差動型の光検出器324によって差動検出され、以下の式で表わされる差動出力信号326が生成される。
ウォラストンプリズム322によって、式6で示される合成光はp偏光成分とs偏光成分に偏光分離された後、電流差動型の光検出器325によって差動検出され、以下の式で表わされる差動出力信号327が生成される。
[式7]
[式7]
さらに、式5、式7に式2、式3を代入して積分を実行すると以下の式が得られる。
[式8]
[式9]
ここで、θj=θsig,j−θref、keff=π・NA2/λである。また、I,Q及びAsig,j,θjは信号光のxy方向(光軸に垂直な面内方向)の集光位置(x,y)の関数であることを明示するため、I=I(x,y),Q=Q(x,y),Asig,j=Asig,j(x,y),θj=θj(x,y)と書き直した。
[式8]
[式9]
ここで、θj=θsig,j−θref、keff=π・NA2/λである。また、I,Q及びAsig,j,θjは信号光のxy方向(光軸に垂直な面内方向)の集光位置(x,y)の関数であることを明示するため、I=I(x,y),Q=Q(x,y),Asig,j=Asig,j(x,y),θj=θj(x,y)と書き直した。
以下では、m番目の反射点のz位置におけるxy像を取得する場合について考えることとし、位置zmに信号光が集光されている(z=zm)ものとして説明する。参照光にデフォーカス収差を与えない場合、すなわちΔzref=0の場合には式8、式9は近似的に以下の様に書き表される。
式14における第一項がz=z0からの反射光のクロストークを含まない理想的なxy像の画像データを表わしており、第二項と第三項がz=z0からの反射光のクロストークによる残像の画像データに相当する。第三項は信号光や参照光の位相(θm−θ0)に依存しているため、外乱によるランダムな位相変動により測定毎にランダムな値を取ると考えられる。従って、十分な回数平均化処理を施すことにより、第三項の寄与は大幅に小さくなる。外乱による位相変動が小さい場合には、ピエゾ素子などにより参照光の位相を変調することにより同様の効果が得られる。従って、繰り返し測定を行い平均化して得られる第一の画像データは近似的に以下の様に表わされる。
このときの画像データは
[式18]
と表わされる。式18はzm−z0だけデフォーカスした信号光を走査することにより取得した、z=z0におけるxy像の画像データである。検出器ノイズなどの影響を第一の画像と等しくするために、式18で表わされる画像に関しても繰り返し測定を行い平均化を施し、第二の画像データAveragedData2(Δzref=zm−z0;x,y)を取得する。第一の画像と第二の画像は、画像処理部330によって以下の画像処理を施され、第三の画像データが生成される。
[式18]
と表わされる。式18はzm−z0だけデフォーカスした信号光を走査することにより取得した、z=z0におけるxy像の画像データである。検出器ノイズなどの影響を第一の画像と等しくするために、式18で表わされる画像に関しても繰り返し測定を行い平均化を施し、第二の画像データAveragedData2(Δzref=zm−z0;x,y)を取得する。第一の画像と第二の画像は、画像処理部330によって以下の画像処理を施され、第三の画像データが生成される。
式19で表わされる第三の画像は、z=z0からの反射光のクロストークが除去された画像、すなわちz=z0の構造の残像が除去された画像である。
すなわち、本実施例においては参照光を平面波としてデフォーカス収差を付与しない状態で取得したxy像から、参照光にデフォーカス収差を付与した状態で取得した画像を所定の倍率で輝度を調整して減算することにより、z=z0からの反射光によるクロストークを抑制することができる。これにより、z=z0近傍の構造を従来のOCT装置よりも鮮明に可視化することができる。
ここで、本発明の光画像計測装置の空間分解能について述べる。光軸方向の空間分解能は対物レンズをz方向に走査した際に得られる単一反射面に対応するピークの半値全幅として定義する。単一の反射面のみが存在する場合の式10に対応する信号は以下の式により表わされる。
一般的にOCT装置で利用される光の波長はヘモグロビンにも水にも吸収されにくい600nmから1300nm程度である。例えば対物レンズの開口数を0.4とすると、波長600nm〜1300nmでの光軸方向の空間分解能は約3.3μm〜約7.2μm、平面分解能(λ/NA程度)は約1.5μm〜約3.6μmとなり、従来のOCT装置と同等かそれ以上の高い光軸方向の分解能を達成できる。
本実施例においては、信号光と参照光の干渉位相が互いに略180度異なる干渉光の対を電流差動型の光検出器によって検出しているため、参照光の強度を大きくしても検出器が飽和しにくくなり、電流差動型の検出器を用いない場合よりも信号のSN比を大きくすることができる。
さらに、本実施例においてはデフォーカス収差調整部315に対物レンズ306と同一の対物レンズ311を用いているため、強い反射率を持つ特定の反射面からの反射光が有するデフォーカス収差と等しいデフォーカス収差を、容易に参照光に付与することができる。
なお、本実施例では干渉光学系323で位相が互いに90度ずつ異なる4つの干渉光を生成して検出しているが、干渉光が3つ以上であれば干渉光がいくつであっても本実施例と同様の効果を得ることができる。例えば、位相が互いに60度ずつ異なる3つの干渉光を生成してもよい。
また、本実施例においては、z=z0からの反射光の影響をより抑制するために第一の画像と第二の画像それぞれに対して平均化処理を施したが、当該平均化処理は本発明の効果を得るために必須の条件ではない。すなわち、平均化によって得られるクロストークの抑制効果と、本発明によるクロストーク抑制効果は独立である。
〔実施例2〕
図5は、本発明による光画像計測装置の別の実施例を示す模式図である。なお、図3に示した部品と同じものには同一の符号を付し、その説明を一部省略する。本実施例は、参照光を平面波として参照光にデフォーカス収差を付与しない状態で取得した画像と、参照光にデフォーカス収差を付与した状態で取得した画像が、一度の測定で得られる点において実施例1と異なる。
図5は、本発明による光画像計測装置の別の実施例を示す模式図である。なお、図3に示した部品と同じものには同一の符号を付し、その説明を一部省略する。本実施例は、参照光を平面波として参照光にデフォーカス収差を付与しない状態で取得した画像と、参照光にデフォーカス収差を付与した状態で取得した画像が、一度の測定で得られる点において実施例1と異なる。
光源301から出射されたレーザー光は偏光ビームスプリッタによって信号光と参照光に分岐される。信号光は実施例1と同様の光路を辿り、再び偏光ビームスプリッタ304へ入射する。信号光は偏光ビームスプリッタ304を透過し、光学軸方向が水平方向に対して約22.5度に設定されたλ/2板501によって偏光を約45度回転された後、偏光ビームスプリッタ502によってp偏光成分とs偏光成分に分岐され、第一の信号光と第二の信号光が生成される。参照光は反射ミラー503によって反射され、光学軸方向が水平方向に対して約22.5度に設定されたλ/2板504によって偏光を約45度回転された後、偏光ビームスプリッタ505によってs偏光成分とp偏光成分に分岐され、それぞれ第一の参照光と第二の参照光となる。第一の参照光は偏光ビームスプリッタ505を反射した後、偏光ビームスプリッタ502に入射する。第二の参照光は、偏光ビームスプリッタ505を透過し、光学軸方向が水平方向に対して約22.5度に設定されたλ/4板506によって偏光状態をp偏光から円偏光に変換され、反射ミラー507を反射した後再びλ/4板506へ入射して偏光状態を円偏光からs偏光に変換されて偏光ビームスプリッタ505へ入射する。さらに第二の参照光は偏光ビームスプリッタ505を反射して光学軸方向が水平方向に対して約22.5度に設定されたλ/4板508によって偏光状態をs偏光から円偏光に変換され、デフォーカス収差調整部315によってデフォーカス収差を付与された後、再びλ/4板508に入射して偏光状態を円偏光からp偏光に変換され、偏光ビームスプリッタ505を透過して偏光ビームスプリッタ502に入射する。
第一の信号光と第一の参照光は偏光ビームスプリッタ502によって合波され、第一の合成光が生成される。第二の信号光と第二の参照光は偏光ビームスプリッタ502によって合波され、第二の合成光が生成される。第一の合成光はハーフビームスプリッタ316a、λ/2板317a、λ/4板318a、集光レンズ319a,320a、ウォラストンプリズム321a,322aから成る第一の干渉光学系323aへ導かれる。第二の合成光はハーフビームスプリッタ316b、λ/2板317b、λ/4板318b、集光レンズ319b,320b、ウォラストンプリズム321b,322bから成る第二の干渉光学系323bへ導かれる。第一の干渉光学系323a及び第二の干渉光学系323bの機能は実施例1における干渉光学系323と同じであるため、ここでは説明を省略する。
第一の干渉光学系323aで生成された干渉光を検出することにより生成された差動出力信号326a,327aは画像生成部328に入力され、実施例1における式14で表わされる画像に相当する画像データが生成される。一方、第二の干渉光学系323bで生成された干渉光を検出することにより生成された差動出力信号326b,327bは画像生成部328に入力され、実施例1における式18で表わされる画像に相当する画像データが生成される。
すなわち、本実施例においては、一度の測定で参照光にデフォーカス収差を付与しない状態での画像と、参照光にデフォーカス収差を付与した状態での画像を取得することができるため、実施例1に比べてより短い測定時間でz=z0からの反射光とのクロストークを抑制した第三の画像を得ることができる。
〔実施例3〕
図6は、本発明の光画像計測装置における、別の動作手順の例を示した図である。装置構成は図3に示された実施例1と同様であるためその説明を省略する。本実施例は複数のz位置からの反射光によるクロストークを抑制する点において実施例1と異なる。ここでは、測定対象に強い反射の生じる部位、すなわちユーザーがその部位からの反射光の影響を取り除くことを選択しうる反射面がn個ある場合について考え、そのn個の反射面は表面から数えてS1,…,Sn番目の反射面であるとする。
図6は、本発明の光画像計測装置における、別の動作手順の例を示した図である。装置構成は図3に示された実施例1と同様であるためその説明を省略する。本実施例は複数のz位置からの反射光によるクロストークを抑制する点において実施例1と異なる。ここでは、測定対象に強い反射の生じる部位、すなわちユーザーがその部位からの反射光の影響を取り除くことを選択しうる反射面がn個ある場合について考え、そのn個の反射面は表面から数えてS1,…,Sn番目の反射面であるとする。
まず始めに、xz像を取得し(S21)、クロストークを除去する対象の反射面位置(z=zS1,zS2,…,zSn)をユーザーに指定させる(S22)。次に、xy測定を行うz位置(z=zm)をユーザーに選択させ(S23)、当該z位置においてxy像を繰り返し取得して平均化されたxy像を生成し、これを第一の画像とする(S24)。その後、参照光に対して、クロストークを除去する対象の反射面位置からの反射光(z=zS1,zS2,…,zSnからの反射光)が有するデフォーカス収差と等しいデフォーカス収差を付与し、その条件下でxy像を繰り返し取得して平均化されたxy像を生成し、これを第二の画像群とする(S25)。画像処理部330は、第一の画像から輝度を調整した第二の画像群を減算することにより、残像を除去した第三の画像を生成し(S26)、画像表示部332に表示させる(S27)。
以下に本実施例の動作原理及び効果について数式を用いて説明する。前記特定の反射面からの反射光の振幅の二乗はそれ以外の反射面からの反射光の振幅の二乗に比べると1桁以上大きいものとする。また、以下ではm番目の反射面におけるxy像を取得する場合について考えることとし、位置zmに信号光が集光されている(z=zm)ものとして説明する。参照光にデフォーカス収差を与えない場合、すなわちΔzref=0の場合の差動出力信号326,327は近似的に以下の式により表される。
ここで、信号光や参照光の位相に依存している項の寄与は平均化により小さくなることを用いて式を簡略化している。一方、Sp番目の反射面からの反射光が有するデフォーカス収差を参照光に付与した場合、すなわちΔzref=zm−zSpの場合の検出信号は近似的に、
[式26]
[式27]
となる。従って、このときの平均化された画像データは
[式28]
と表される。
[式26]
[式27]
となる。従って、このときの平均化された画像データは
[式28]
と表される。
式29で表わされる第三の画像は、複数個の反射面からのクロストーク成分が抑制された画像である。
すなわち、本実施例においては参照光にデフォーカス収差を付与しない状態で取得した画像(第一の画像)から、所定の倍率で輝度を調整した参照光に所定のデフォーカス収差を付与した状態で取得した複数個の画像(第二の画像群)を減算することにより、一つの特定の反射面からの反射光だけではなくユーザーが選択した複数個の反射面からの反射光によるクロストークが除去された画像を得ることができる。これにより、強い反射が生じる特定の反射面近傍の領域をより鮮明に可視化することができる。
〔実施例4〕
図7は、本発明による光画像計測装置の別の実施例を示す模式図である。なお、図3に示した部品と同じものには同一の符号を付し、その説明を一部省略する。本実施例においては、測定対象として、それを保持するための培養容器のような測定対象保持部が不要な場合、あるいは測定対象保持部を設けることが困難な場合を想定している。従って、本実施例での信号光は実施例1のように培養容器を介して測定対象へ照射されるものではなく、測定対象309へ直接照射される。これに対応するために、本実施例ではデフォーカス収差調整部315から平板313が取り除かれており、この点において実施例1とは構成が異なる。さらに、本実施例においては画像処理部330における画像処理方法が実施例1とは異なる。
図7は、本発明による光画像計測装置の別の実施例を示す模式図である。なお、図3に示した部品と同じものには同一の符号を付し、その説明を一部省略する。本実施例においては、測定対象として、それを保持するための培養容器のような測定対象保持部が不要な場合、あるいは測定対象保持部を設けることが困難な場合を想定している。従って、本実施例での信号光は実施例1のように培養容器を介して測定対象へ照射されるものではなく、測定対象309へ直接照射される。これに対応するために、本実施例ではデフォーカス収差調整部315から平板313が取り除かれており、この点において実施例1とは構成が異なる。さらに、本実施例においては画像処理部330における画像処理方法が実施例1とは異なる。
画像処理方法以外の動作方法は実施例1と同一であるため、ここでは画像処理部330における画像処理方法についてのみ説明する。式15で表わされる第一の画像データAveragedData1(Δzref=0;x,y)と、式18で表わされる第二の画像データAveragedData2(Δzref=zm−z0;x,y)を取得するまでの動作は実施例1と同様である。画像処理部330は第一,第二の画像データに対して以下の演算を施すことにより第三の画像データを生成する。
第三の画像データに基づく第三の画像は画像表示部332に表示される。図8(a)はこのときの画像表示部332の模式図である。画像表示部332には第三の画像とそのときのGの値が表示されており、ユーザーはこの画面上でキーボードやマウスなどを用いてGの値を自由に設定することが可能となっている。出力される第三の画像はGの値に依存しており、理論的にはG=gが最適値であるが、光学系の調整ずれなどに起因する理想状態からの乖離によりG=gが最適値とならない場合がある。本実施例においては、ユーザーは出力された第三の画像を観察してG=gがz=z0からの反射光のクロストークを除去する上で最適値ではないと判断した場合に、Gの値をユーザーが最適であると判断する任意の値に変更する。変更後のGの値は画像処理部330に送られ、再び第三の画像データが生成されて画像表示部332に表示される。図8(b)にこのときの画像表示部332の模式図を示した。このように、本実施例においては、式31におけるGの値をユーザーが自由に設定可能であるため、光学系の調整ずれなどによりG=gが最適値でない場合にも、より高い精度でz=z0からの反射光のクロストークが除去された画像が得られる可能性を向上させることが出来る。
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
301:光源
302:コリメートレンズ
303,317:λ/2板
304:偏光ビームスプリッタ
305,310,318:λ/4板
306:対物レンズ
307:対物レンズアクチュエータ
308:培養容器
309:培養細胞
315:デフォーカス収差調整部
323:干渉光学系
316:ハーフビームスプリッタ
319,320:集光レンズ
321,322:ウォラストンプリズム
324,325:電流差動型の光検出器
328:画像生成部
330:画像処理部
332:画像表示部
302:コリメートレンズ
303,317:λ/2板
304:偏光ビームスプリッタ
305,310,318:λ/4板
306:対物レンズ
307:対物レンズアクチュエータ
308:培養容器
309:培養細胞
315:デフォーカス収差調整部
323:干渉光学系
316:ハーフビームスプリッタ
319,320:集光レンズ
321,322:ウォラストンプリズム
324,325:電流差動型の光検出器
328:画像生成部
330:画像処理部
332:画像表示部
Claims (11)
- 1本のレーザー光を信号光と参照光に分岐し、前記信号光を測定対象に集光して照射し、前記測定対象から反射もしくは散乱された信号光と前記参照光を干渉させて互いに位相関係が異なる3つ以上の干渉光を生成し、前記干渉光の検出信号をもとに測定対象の断層像を取得する光画像計測方法であって、
前記参照光を平面波とした状態で、前記信号光の集光位置を光軸に垂直な方向に走査して得た検出信号をもとに第1の画像を取得する工程と、
前記参照光にデフォーカス収差を付与した状態で、前記信号光の集光位置を光軸に垂直な方向に走査して得た検出信号をもとに第2の画像を取得する工程と、
前記第1の画像と前記第2の画像の間で少なくとも減算処理を施すことにより第3の画像を生成する工程と、
を有することを特徴とする光画像計測方法。 - 請求項1に記載の光画像計測方法において、
前記第3の画像を生成する工程は、前記第1の画像から輝度調整を行った前記第2の画像を減算することによりなされることを特徴とする光画像計測方法。 - 請求項1に記載の光画像計測方法において、
前記デフォーカス収差は、前記第1の画像に現れたクロストーク成分が前記第3の画像で除去あるいは低減される大きさであることを特徴とする光画像計測方法。 - 請求項1に記載の光画像計測方法において、
前記デフォーカス収差は、前記参照光の光路中に配置した対物レンズと反射ミラーの相対距離を変化させることにより付与されることを特徴とする光画像計測方法。 - レーザー光を出射する光源と、
前記光源から出射されたレーザー光を信号光と参照光に分岐する光分岐部と、
前記信号光を測定対象に集光して照射する対物レンズと、
前記信号光の集光位置を走査する集光位置走査部と、
前記参照光のデフォーカス収差を調整するデフォーカス収差調整部と、
前記測定対象によって反射もしくは散乱された信号光を前記参照光と合波し、互いに位相関係が異なる3つ以上の干渉光を生成する干渉光学系と、
前記干渉光を検出する光検出器と、
前記光検出器の出力信号を元に画像を生成する画像生成部と、
前記画像生成部で生成された画像に対して画像処理を施す画像処理部と、を有し、
前記画像処理部は、前記参照光にデフォーカス収差を付与しない状態で前記画像生成部で生成した第1の画像と前記参照光にデフォーカス収差を付与した状態で前記画像生成部で生成した第2の画像の間で少なくとも減算処理を施すことにより、第3の画像を生成する
ことを特徴とする光画像計測装置。 - 請求項5に記載の光画像計測装置において、前記第3の画像は前記画像処理部において前記第1の画像から輝度調整を行った前記第2の画像を減算することにより生成されることを特徴とする光画像計測装置。
- 請求項5に記載の光画像計測装置において、
前記デフォーカス収差調整部は、前記信号光の集光に用いる前記対物レンズと同一の第2の対物レンズと、反射ミラーと、前記第2の対物レンズと前記反射ミラーの相対距離を変化させるアクチュエータを備えることを特徴とする光画像計測装置。 - 請求項7に記載の光画像計測装置において、
前記デフォーカス収差調整部は、前記第2の対物レンズと前記反射ミラーの間に平板を備え、前記平板は測定対象を入れる容器の前記信号光が透過する部分と同じ材質及び同じ厚さを有することを特徴とする光画像計測装置。 - 請求項5に記載の光画像計測装置において、
前記参照光を前記デフォーカス収差調整部を通らない第1の参照光と前記デフォーカス収差調整部を通る第2の参照光に分岐する光分岐部を有し、
前記干渉光学系として第1の干渉光学系と第2の干渉光学系を有し、
前記第1の干渉光学系は前記測定対象によって反射もしくは散乱された信号光と前記第1の参照光との干渉光を生成し、前記第2の干渉光学系は前記測定対象によって反射もしくは散乱された信号光と前記第2の参照光との干渉光を生成し、
前記第1の干渉光学系の干渉光を検出する光検出器の出力信号を元に前記画像生成部で生成された画像を前記第1の画像とし、前記第2の干渉光学系の干渉光を検出する光検出器の出力信号を元に前記画像生成部で生成された画像を前記第2の画像とする
ことを特徴とする光画像計測装置。 - 請求項5に記載の光画像計測装置において、前記対物レンズは0.4以上の開口数を有することを特徴とする光画像計測装置。
- 請求項5に記載の光画像計測装置において、
前記干渉光学系において生成される干渉光は4つであり、
前記信号光と前記参照光の干渉位相が互いに略90度の整数倍だけ異なり、
前記信号光と前記参照光の干渉位相が互いに略180度異なる干渉光の対が電流差動型の光検出器によって検出される、
ことを特徴とする光画像計測装置。
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