JP6393479B2 - Hydrophilic laminate, method for producing the same, article, and method for producing the same - Google Patents

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Description

本発明は、親水性を有し、建築用途、産業用途、自動車用途、光学用途、太陽電池パネルなどの広範囲に使用できる親水性積層体、及びその製造方法、並びに前記親水性積層体を用いた物品、及びその製造方法に関する。   The present invention uses hydrophilic laminates that have hydrophilicity and can be used in a wide range of architectural uses, industrial uses, automobile uses, optical uses, solar battery panels, and the like, and methods for producing the same, and the hydrophilic laminates described above. The present invention relates to an article and a manufacturing method thereof.

種々の物品には、その表面を装飾及び保護するために、その表面に樹脂フィルム、ガラスなどが貼り付けられている。
しかし、物品の表面を装飾及び保護する樹脂フィルム、ガラスなどが曇ることにより物品の視認性及び美観が低下することがある。
そのため、そのような物品の視認性及び美観の低下を防ぐために、前記樹脂フィルム及びガラスには、防曇化処理が施されている。
In order to decorate and protect the surface of various articles, a resin film, glass, or the like is attached to the surface.
However, the visibility and aesthetics of the article may deteriorate due to fogging of the resin film, glass, etc. that decorates and protects the surface of the article.
Therefore, in order to prevent the visibility and aesthetics of such articles from deteriorating, the resin film and glass are subjected to an antifogging treatment.

防曇化の技術として、例えば、親水性のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリアルキレンイミンなどの親水性樹脂に種々の架橋剤を組み合わせて形成した吸水層により、水滴を形成させない技術が知られている。
しかし、この技術の場合、吸水層の厚みは3μm〜60μm程度のため、吸収する水分量に限度があり、次々と水滴が付着すると水分を吸水層内に吸収しきれなくなり、吸湿飽和点に達するとその表面に水滴ができて曇ってしまうという問題がある。また、低温時には、吸収できる水分量が低下するため、より曇り易くなってしまう(「低温時」の具体例は、スキーゴーグルのレンズ内側や、ガラス窓の冷蔵室や冷凍室に接する面に使用する場合、など)という問題がある。また、過剰に水を吸収すると、変形(波打ち・垂れ下がり・引きつり、など)を生じたり、水滴汚染(水滴を生じたときに溶解などに起因して水滴斑ができる)やべとつきを生じたりするという問題がある。また、水分を吸収するとともに膨潤するため、機械強度が低下したり(磨耗や引っ掻きで傷つき易くなる)、耐薬品性が低下するという問題がある。
As an anti-fogging technique, for example, a technique in which water droplets are not formed by a water-absorbing layer formed by combining various crosslinking agents with a hydrophilic resin such as a hydrophilic acrylic resin, polyvinyl alcohol, or polyalkyleneimine is known. .
However, in the case of this technology, the thickness of the water absorption layer is about 3 μm to 60 μm, so there is a limit to the amount of moisture to be absorbed. If water droplets adhere one after another, the water cannot be absorbed into the water absorption layer and reaches the moisture absorption saturation point. Then, there is a problem that water droplets are formed on the surface and become cloudy. In addition, the amount of water that can be absorbed decreases at low temperatures, making it more likely to be cloudy. (Specific examples of “at low temperatures” are used on the inner surface of ski goggles and on the surfaces of glass windows that are in contact with refrigerators or freezers. If you want, etc.) there is a problem. In addition, excessive absorption of water may cause deformation (rippling, drooping, pulling, etc.), water droplet contamination (water droplets may be caused by dissolution when water droplets are formed), and stickiness. There is a problem. Further, since it absorbs moisture and swells, it has a problem that mechanical strength is reduced (it is easily damaged by abrasion or scratching) and chemical resistance is reduced.

そこで、表面層に凹凸構造を設けることで、濡れ易い表面にして防曇性を高める技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。表面に凹凸構造を設ける技術は、光の反射防止機能を付与するために従来より行われている。そして、前記凹凸構造においては、表面が汚れるとその汚れの除去が困難となることから、前述の提案の技術と同様に、防汚性などを高めることを目的に表面層の親水性を高める技術が種々提案されている(例えば、特許文献2〜9参照)。
しかし、これらの提案の技術においては、経時における防曇性の低下について考慮されておらず、経時における物理的な接触による凹凸構造の劣化によって防曇性が低下してしまうという問題がある。
In view of this, a technique has been proposed in which the surface layer is provided with a concavo-convex structure so that the surface can be easily wetted and the antifogging property is improved (see, for example, Patent Document 1). A technique for providing a concavo-convex structure on the surface has been conventionally performed in order to provide an antireflection function for light. In the concavo-convex structure, since it becomes difficult to remove the dirt when the surface becomes dirty, the technique for improving the hydrophilicity of the surface layer for the purpose of improving the antifouling property and the like, as in the technique proposed above. Have been proposed (see, for example, Patent Documents 2 to 9).
However, these proposed techniques do not take into account a decrease in antifogging property over time, and there is a problem that the antifogging property is reduced due to deterioration of the concavo-convex structure due to physical contact over time.

したがって、凹凸構造を有する親水性積層体において、防曇性に優れ、かつ防曇性の経時安定性にも優れる親水性積層体、及びその製造方法、並びに前記親水性積層体を用いた物品、及びその製造方法の提供が求められているのが現状である。   Therefore, in a hydrophilic laminate having a concavo-convex structure, a hydrophilic laminate excellent in antifogging properties and excellent in anti-fogging stability over time, a method for producing the same, and an article using the hydrophilic laminate, In addition, there is a demand for providing a manufacturing method thereof.

特開2009−271298号公報JP 2009-271298 A 特許第4689718号公報Japanese Patent No. 4687718 特許第4796659号公報Japanese Patent No. 479659 特開2007−187868号公報JP 2007-187868 A 特開2008−158293号公報JP 2008-158293 A 特開2011−169961号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-169961 特開2012−242525号公報JP2012-242525A 特許第5260790号公報Japanese Patent No. 5260790 特開2013−182007号公報JP 2013-182007 A

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、凹凸構造を有する親水性積層体において、防曇性に優れ、かつ防曇性の経時安定性にも優れる親水性積層体、及びその製造方法、並びに前記親水性積層体を用いた物品、及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, the present invention relates to a hydrophilic laminate having a concavo-convex structure, an excellent antifogging property and an antifogging property with respect to time stability, a method for producing the same, and the hydrophilic laminate. It is an object of the present invention to provide an article used and a manufacturing method thereof.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 基材と、前記基材上に親水性層とを有し、
前記親水性層が、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有し、
前記親水性層の表面の純水接触角が、50°以下であり、
前記凸部の平均高さ及び前記凹部の平均深さのいずれかが、100nm以下であることを特徴とする親水性積層体である。
<2> 伸び率が、40%以上である前記<1>に記載の親水性積層体である。
<3> 親水性層の平均表面積率が、1.10以上である前記<1>から<2>のいずれかに記載の親水性積層体である。
<4> 凸部の平均高さ及び凹部の平均深さのいずれかが、60nm以下である前記<1>から<3>のいずれかに記載の親水性積層体である。
<5> 基材が、樹脂製基材及びガラス製基材のいずれかである前記<1>から<4>のいずれかに記載の親水性積層体である。
<6> 前記<1>から<5>のいずれかに記載の親水性積層体の製造方法であって、
基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して未硬化樹脂層を形成する未硬化樹脂層形成工程と、
前記未硬化樹脂層に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤を密着させ、前記転写原盤が密着した前記未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記未硬化樹脂層を硬化させて前記微細な凸部及び凹部のいずれかを転写することにより、親水性層を形成する親水性層形成工程とを含むことを特徴とする親水性積層体の製造方法である。
<7> 転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかが、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として前記転写原盤の表面をエッチングすることにより形成される前記<6>に記載の親水性積層体の製造方法である。
<8> 転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかが、レーザーを前記転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより形成される前記<6>に記載の親水性積層体の製造方法である。
<9> 前記<1>から<5>のいずれかに記載の親水性積層体を表面に有することを特徴とする物品である。
<10> 前記<9>に記載の物品の製造方法であって、
親水性積層体を加熱する加熱工程と、
加熱された前記親水性積層体を所望の形状に成形する親水性積層体成形工程と、
所望の形状に成形された前記親水性積層体の基材側に成形材料を射出し、前記成形材料を成形する射出成形工程とを含むことを特徴とする物品の製造方法である。
<11> 加熱工程における加熱が、赤外線加熱により行われる前記<10>に記載の物品の製造方法である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> Having a base material and a hydrophilic layer on the base material,
The hydrophilic layer has either a fine convex part or a concave part on the surface,
The pure water contact angle on the surface of the hydrophilic layer is 50 ° or less,
Either of the average height of the said convex part and the average depth of the said recessed part is 100 nm or less, It is a hydrophilic laminated body characterized by the above-mentioned.
<2> The hydrophilic laminate according to <1>, wherein the elongation percentage is 40% or more.
<3> The hydrophilic laminate according to any one of <1> to <2>, wherein an average surface area ratio of the hydrophilic layer is 1.10 or more.
<4> The hydrophilic laminate according to any one of <1> to <3>, wherein either the average height of the protrusions or the average depth of the recesses is 60 nm or less.
<5> The hydrophilic laminate according to any one of <1> to <4>, wherein the substrate is any one of a resin substrate and a glass substrate.
<6> The method for producing a hydrophilic laminate according to any one of <1> to <5>,
An uncured resin layer forming step of forming an uncured resin layer by applying an active energy ray-curable resin composition on a substrate;
Adhering a transfer master having either a fine convex part or a concave to the uncured resin layer, irradiating the uncured resin layer to which the transfer master is in contact with an active energy ray to cure the uncured resin layer And a hydrophilic layer forming step of forming a hydrophilic layer by transferring one of the fine convex portions and concave portions.
<7> The hydrophilicity according to <6>, wherein any one of the fine convex portion and the concave portion of the transfer master is formed by etching the surface of the transfer master using a photoresist having a predetermined pattern shape as a protective film. Is a method for producing a conductive laminate.
<8> The hydrophilic laminate according to <6>, wherein any one of the fine convex portion and the concave portion of the transfer master is formed by irradiating the surface of the transfer master with laser processing of the transfer master. It is a manufacturing method of a body.
<9> An article having the hydrophilic laminate according to any one of <1> to <5> on a surface thereof.
<10> The method for producing an article according to <9>,
A heating step for heating the hydrophilic laminate,
A hydrophilic laminate forming step of forming the heated hydrophilic laminate into a desired shape;
An injection molding step of injecting a molding material onto the substrate side of the hydrophilic laminate formed into a desired shape, and molding the molding material.
<11> The method for manufacturing an article according to <10>, wherein the heating in the heating step is performed by infrared heating.

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、凹凸構造を有する親水性積層体において、防曇性に優れ、かつ防曇性の経時安定性にも優れる親水性積層体、及びその製造方法、並びに前記親水性積層体を用いた物品、及びその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, the conventional problems can be solved and the object can be achieved. In the hydrophilic laminate having a concavo-convex structure, the antifogging property is excellent and the antifogging property is stable over time. An excellent hydrophilic laminate, a method for producing the same, an article using the hydrophilic laminate, and a method for producing the same can be provided.

図1Aは、凸部を有する親水性層の表面の一例を示す原子間力顕微鏡(AFM)像である。FIG. 1A is an atomic force microscope (AFM) image showing an example of the surface of a hydrophilic layer having convex portions. 図1Bは、図1Aのa−a線に沿った断面図である。1B is a cross-sectional view taken along the line aa in FIG. 1A. 図2Aは、凹部を有する親水性層の表面の一例を示すAFM像である。FIG. 2A is an AFM image showing an example of the surface of a hydrophilic layer having a recess. 図2Bは、図2Aのa−a線に沿った断面図である。2B is a cross-sectional view taken along line aa in FIG. 2A. 図3Aは、転写原盤であるロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。FIG. 3A is a perspective view illustrating an example of a configuration of a roll master that is a transfer master. 図3Bは、図3Aに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。3B is an enlarged plan view showing a part of the roll master shown in FIG. 3A. 図3Cは、図3BのトラックTにおける断面図である。3C is a cross-sectional view of the track T in FIG. 3B. 図4は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a roll master exposure apparatus for producing a roll master. 図5Aは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 5A is a process diagram for explaining an example of a process for producing a roll master. 図5Bは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 5B is a process diagram for explaining an example of a process for producing a roll master. 図5Cは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 5C is a process diagram for explaining an example of a process for producing a roll master. 図5Dは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 5D is a process diagram for explaining an example of a process for producing a roll master. 図5Eは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 5E is a process diagram for explaining an example of a process for producing a roll master. 図6Aは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 6A is a process diagram for explaining an example of a process of transferring fine convex portions or concave portions by a roll master. 図6Bは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 6B is a process diagram for explaining an example of a process of transferring a fine convex portion or a concave portion with a roll master. 図6Cは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 6C is a process diagram for explaining an example of a process of transferring a fine convex portion or a concave portion with a roll master. 図7Aは、転写原盤である板状の原盤の構成の一例を示す平面図である。FIG. 7A is a plan view illustrating an example of a configuration of a plate-shaped master that is a transfer master. 図7Bは、図7Aに示したa−a線に沿った断面図である。FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line aa shown in FIG. 7A. 図7Cは、図7Bの一部を拡大して表す断面図である。FIG. 7C is an enlarged cross-sectional view of a part of FIG. 7B. 図8は、板状の原盤を作製するためのレーザー加工装置の構成の一例を示す概略図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a laser processing apparatus for producing a plate-shaped master. 図9Aは、板状の原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 9A is a process diagram for explaining an example of a process for producing a plate-shaped master. 図9Bは、板状の原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 9B is a process diagram for explaining an example of a process for producing a plate-shaped master. 図9Cは、板状の原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 9C is a process diagram for explaining an example of a process for producing a plate-shaped master. 図10Aは、板状の原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 10A is a process diagram for explaining an example of a process of transferring fine convex portions or concave portions with a plate-shaped master. 図10Bは、板状の原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 10B is a process diagram for explaining an example of a process of transferring fine convex portions or concave portions by a plate-shaped master. 図10Cは、板状の原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。FIG. 10C is a process diagram for explaining an example of a process of transferring a fine convex portion or a concave portion with a plate-shaped master. 図11Aは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。FIG. 11A is a process diagram for explaining an example of manufacturing the article of the present invention by in-mold molding. 図11Bは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。FIG. 11B is a process diagram for explaining an example of manufacturing the article of the present invention by in-mold molding. 図11Cは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。FIG. 11C is a process diagram for explaining an example of manufacturing the article of the present invention by in-mold molding. 図11Dは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。FIG. 11D is a process diagram for explaining an example of producing the article of the present invention by in-mold molding. 図11Eは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。FIG. 11E is a process diagram for explaining an example of producing the article of the present invention by in-mold molding. 図11Fは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。FIG. 11F is a process diagram for explaining an example of manufacturing the article of the present invention by in-mold molding. 図12Aは、実施例1の親水性積層体の親水性樹脂層の表面のAFM像である。12A is an AFM image of the surface of the hydrophilic resin layer of the hydrophilic laminate of Example 1. FIG. 図12Bは、図12Aのa−a線に沿った断面図である。12B is a cross-sectional view taken along line aa in FIG. 12A. 図13Aは、実施例2の親水性積層体の親水性樹脂層の表面のAFM像である。13A is an AFM image of the surface of the hydrophilic resin layer of the hydrophilic laminate of Example 2. FIG. 図13Bは、図13Aのa−a線に沿った断面図である。13B is a cross-sectional view taken along the line aa in FIG. 13A. 図14Aは、実施例3の親水性積層体の親水性樹脂層の表面のAFM像である。14A is an AFM image of the surface of the hydrophilic resin layer of the hydrophilic laminate of Example 3. FIG. 図14Bは、図14Aのa−a線に沿った断面図である。14B is a cross-sectional view taken along line aa in FIG. 14A. 図15Aは、比較例1の親水性積層体の親水性樹脂層の表面のAFM像である。FIG. 15A is an AFM image of the surface of the hydrophilic resin layer of the hydrophilic laminate of Comparative Example 1. 図15Bは、図15Aのa−a線に沿った断面図である。15B is a cross-sectional view taken along line aa in FIG. 15A.

(親水性積層体)
本発明の親水性積層体は、基材と、親水性層とを少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
(Hydrophilic laminate)
The hydrophilic laminated body of this invention has a base material and a hydrophilic layer at least, and also has another member as needed.

<基材>
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、樹脂製基材、無機製基材などが挙げられる。前記無機製基材としては、例えば、ガラス製基材、石英製基材、サファイア製基材などが挙げられる。
<Base material>
There is no restriction | limiting in particular as said base material, According to the objective, it can select suitably, For example, a resin-made base material, an inorganic base material, etc. are mentioned. Examples of the inorganic substrate include a glass substrate, a quartz substrate, and a sapphire substrate.

前記樹脂製基材の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエステル(TPEE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)、アラミド、ポリエチレン(PE)、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)、PC/PMMA積層体、ゴム添加PMMAなどが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a material of the said resin-made base materials, According to the objective, it can select suitably, For example, a triacetyl cellulose (TAC), polyester (TPEE), a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate ( PEN), polyimide (PI), polyamide (PA), aramid, polyethylene (PE), polyacrylate, polyether sulfone, polysulfone, polypropylene (PP), polystyrene, diacetyl cellulose, polyvinyl chloride, acrylic resin (PMMA), Polycarbonate (PC), epoxy resin, urea resin, urethane resin, melamine resin, phenol resin, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, cycloolefin polymer (COP), cycloolefin copolymer (CO ), PC / PMMA laminate, such as rubber additives PMMA and the like.

前記基材は、透明性を有することが好ましい。   The base material preferably has transparency.

前記基材の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フィルム状、板状、ブロック状などが挙げられる。
前記基材がフィルム状の場合、前記基材の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、生産性の点から、5μm〜1,000μmが好ましく、5μm〜500μmがより好ましく、50μm〜500μmが特に好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a shape of the said base material, According to the objective, it can select suitably, For example, film shape, plate shape, block shape etc. are mentioned.
When the substrate is in the form of a film, the average thickness of the substrate is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. From the viewpoint of productivity, 5 μm to 1,000 μm is preferable, and 5 μm. ˜500 μm is more preferable, and 50 μm to 500 μm is particularly preferable.

前記基材の表面には、文字、模様、画像などが印刷されていてもよい。   Characters, patterns, images, etc. may be printed on the surface of the substrate.

前記基材は、曲面を有していてもよい。   The base material may have a curved surface.

前記基材の表面には、前記親水性積層体を成形加工時、前記基材と成形材料との密着性を高めるため、又は成形加工時の成形材料の流動圧から前記文字、前記模様、及び前記画像を保護するために、バインダー層を設けてもよい。前記バインダー層の材質としては、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、エチレンブチルアルコール系、エチレン酢酸ビニル共重合体系等の各種バインダーの他、各種接着剤を用いることができる。なお、前記バインダー層は2層以上設けてもよい。使用するバインダーは、成形材料に適した感熱性、感圧性を有するものを選択できる。   On the surface of the base material, in order to increase the adhesion between the base material and the molding material at the time of molding the hydrophilic laminate, or from the flow pressure of the molding material at the time of molding processing, the letters, the pattern, and In order to protect the image, a binder layer may be provided. As the material of the binder layer, various adhesives can be used in addition to various binders such as acrylic, urethane, polyester, polyamide, ethylene butyl alcohol, and ethylene vinyl acetate copolymer systems. Two or more binder layers may be provided. As the binder to be used, one having heat sensitivity and pressure sensitivity suitable for the molding material can be selected.

<親水性層>
前記親水性層は、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する。
前記親水性層の表面の純水接触角は、50°以下である。
前記親水性層は、前記基材上に形成されている。
前記凸部の平均高さ及び前記凹部の平均深さのいずれかは、100nm以下である。
<Hydrophilic layer>
The hydrophilic layer has either a fine convex part or a concave part on the surface.
The pure water contact angle on the surface of the hydrophilic layer is 50 ° or less.
The hydrophilic layer is formed on the substrate.
One of the average height of the convex part and the average depth of the concave part is 100 nm or less.

前記親水性層としては、成形加工性に優れる点から、樹脂製の親水性層(以下、「親水性樹脂層」と称することがある)であることが好ましい。   The hydrophilic layer is preferably a resinous hydrophilic layer (hereinafter sometimes referred to as “hydrophilic resin layer”) from the viewpoint of excellent molding processability.

前記親水性層の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機材料、無機材料、有機−無機ハイブリッド材料などが挙げられる。前記有機材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の硬化物、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物などが挙げられる。前記無機材料としては、例えば、金属、半金属酸化物(シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ等)などが挙げられる。前記有機−無機ハイブリッド材料としては、例えば、前記無機材料からなる粒子と前記有機材料との混合物、金属アルコキシド及び/又は半金属アルコキシドの加水分解・重縮合物などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a material of the said hydrophilic layer, According to the objective, it can select suitably, For example, an organic material, an inorganic material, an organic-inorganic hybrid material etc. are mentioned. Examples of the organic material include a thermoplastic resin, a cured product of a thermosetting resin, a cured product of an active energy ray curable resin composition, and the like. Examples of the inorganic material include metals and metalloid oxides (silica, titania, zirconia, alumina, etc.). Examples of the organic-inorganic hybrid material include a mixture of particles made of the inorganic material and the organic material, and a hydrolysis / polycondensation product of a metal alkoxide and / or a semimetal alkoxide.

−微細な凸部、及び微細な凹部−
前記親水性層は、その表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有している。
前記微細な凸部及び凹部のいずれかは、前記親水性層において、前記基材側と反対側の面に形成されている。
-Fine convex portions and fine concave portions-
The hydrophilic layer has either a fine convex part or a concave part on its surface.
Either the fine convex part or the concave part is formed on the surface opposite to the substrate side in the hydrophilic layer.

ここで、微細な凸部とは、前記親水性層の表面において、隣接する凸部の平均距離が、1,000nm以下であることをいう。
ここで、微細な凹部とは、前記親水性層の表面において、隣接する凹部の平均距離が、1,000nm以下であることをいう。
Here, the fine convex portion means that the average distance between adjacent convex portions on the surface of the hydrophilic layer is 1,000 nm or less.
Here, the fine recess means that the average distance between adjacent recesses on the surface of the hydrophilic layer is 1,000 nm or less.

前記凸部、及び前記凹部の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、錐体状、柱状、針状、球体の一部の形状(例えば、半球体状)、楕円体の一部の形状(例えば、半楕円体状)、多角形状などが挙げられる。これらの形状は数学的に定義される完全な形状である必要はなく、多少の歪みがあってもよい。   The shape of the convex portion and the concave portion is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, a cone shape, a column shape, a needle shape, or a partial shape of a sphere (for example, a hemisphere) Shape), a partial shape of an ellipsoid (for example, a semi-ellipsoidal shape), and a polygonal shape. These shapes need not be mathematically defined complete shapes, and may have some distortion.

前記凸部又は前記凹部は、前記親水性層の表面に2次元配列されている。その配列は、規則的な配列であってもよいし、ランダムな配列であってもよい。前記規則的な配列としては、充填率の点から、最密充填構造が好ましい。   The convex portion or the concave portion is two-dimensionally arranged on the surface of the hydrophilic layer. The arrangement may be a regular arrangement or a random arrangement. The regular arrangement is preferably a close-packed structure from the viewpoint of the filling rate.

隣接する前記凸部の平均距離としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5nm〜1,000nmが好ましく、10nm〜500nmがより好ましく、50nm〜300nmが特に好ましい。
隣接する前記凹部の平均距離としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5nm〜1,000nmが好ましく、10nm〜500nmがより好ましく、50nm〜300nmが特に好ましい。
隣接する前記凸部の平均距離及び隣接する前記凹部の平均距離が、前記好ましい範囲内であると、前記親水性層に付着した親水性成分が、効果的に濡れ広がる。前記平均距離が、前記特に好ましい範囲内であると、親水性成分が濡れ広がる効果は顕著になる。
There is no restriction | limiting in particular as an average distance of the said adjacent convex part, Although it can select suitably according to the objective, 5 nm-1,000 nm are preferable, 10 nm-500 nm are more preferable, 50 nm-300 nm are especially preferable.
There is no restriction | limiting in particular as an average distance of the said adjacent recessed part, Although it can select suitably according to the objective, 5 nm-1,000 nm are preferable, 10 nm-500 nm are more preferable, 50 nm-300 nm are especially preferable.
When the average distance between the adjacent convex portions and the average distance between the adjacent concave portions are within the preferable range, the hydrophilic component attached to the hydrophilic layer effectively wets and spreads. When the average distance is within the particularly preferable range, the effect of spreading the hydrophilic component becomes remarkable.

前記凸部の平均高さは、100nm以下であり、80nm以下が好ましく、60nm以下がより好ましい。前記凸部の平均高さの下限値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、30nmが好ましい。
前記凹部の平均深さは、100nm以下であり、80nm以下が好ましく、60nm以下がより好ましい。前記凹部の平均深さの下限値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、30nmが好ましい。
前記凸部の平均高さ及び前記凹部の平均深さが、100nm以下を超えると、耐摩耗性が不十分であり、親水性積層体は、防曇性の経時安定性が不十分となる。
The average height of the convex portions is 100 nm or less, preferably 80 nm or less, and more preferably 60 nm or less. There is no restriction | limiting in particular as a lower limit of the average height of the said convex part, Although it can select suitably according to the objective, 30 nm is preferable.
The average depth of the recess is 100 nm or less, preferably 80 nm or less, and more preferably 60 nm or less. There is no restriction | limiting in particular as a lower limit of the average depth of the said recessed part, Although it can select suitably according to the objective, 30 nm is preferable.
When the average height of the convex portions and the average depth of the concave portions exceed 100 nm or less, the abrasion resistance is insufficient, and the hydrophilic laminate has insufficient antifogging stability over time.

前記凸部の平均アスペクト比(前記凸部の平均高さ/隣接する前記凸部の平均距離)及び前記凹部の平均アスペクト比(前記凹部の平均深さ/隣接する前記凹部の平均距離)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.001〜1,000が好ましく、0.10〜10がより好ましく、0.10〜1.0が更に好ましく、0.20〜0.50が特に好ましい。
前記凸部の平均アスペクト比及び前記凹部の平均アスペクト比が、前記好ましい範囲内であると、前記親水性層に付着した親水性成分が、効果的に濡れ広がる。前記アスペクト比が、前記特に好ましい範囲内であると、親水性成分が濡れ広がる効果は顕著になる。
As the average aspect ratio of the convex part (average height of the convex part / average distance of the adjacent convex part) and the average aspect ratio of the concave part (average depth of the concave part / average distance of the adjacent concave part) There is no particular limitation, and it can be appropriately selected according to the purpose. However, 0.001 to 1,000 is preferable, 0.10 to 10 is more preferable, 0.10 to 1.0 is still more preferable, and 0.0. 20 to 0.50 is particularly preferable.
When the average aspect ratio of the convex portions and the average aspect ratio of the concave portions are within the preferable range, the hydrophilic component attached to the hydrophilic layer effectively wets and spreads. When the aspect ratio is in the particularly preferable range, the effect of spreading the hydrophilic component becomes remarkable.

ここで、凸部又は凹部の平均距離(Pm)、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ(Hm)は、以下のようにして測定できる。
まず、凸部又は凹部を有する前記親水性層の表面Sを原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)により観察し、AFMの断面プロファイルから凸部又は凹部のピッチ、及び凸部の高さ又は凹部の深さを求める。これを前記親水性層の表面から無作為に選び出された10箇所において繰り返し行い、ピッチP1、P2、・・・、P10と、高さ又は深さH1、H2、・・・、H10とを求める。
ここで、前記凸部のピッチは、前記凸部の頂点間の距離である。前記凹部のピッチは、前記凹部の最深部間の距離である。前記凸部の高さは、前記凸部間の谷部の最低点を基準とした前記凸部の高さである。前記凹部の深さは、前記凹部間の山部の最高点を基準とした前記凹部の深さである。
次に、これらのピッチP1、P2、・・・、P10、及び高さ又は深さH1、H2、・・・、H10をそれぞれ単純に平均(算術平均)して、凸部又は凹部の平均距離(Pm)、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ(Hm)を求める。
なお、前記凸部又は凹部のピッチが面内異方性を有している場合には、ピッチが最大となる方向のピッチを用いて前記Pmを求めるものとする。また、前記凸部の高さ又は前記凹部の深さが面内異方性を有している場合には、高さ又は深さが最大となる方向の高さ又は深さを用いて前記Hmを求めるものとする。
また、前記凸部又は凹部が棒状の場合には、短軸方向のピッチを、前記ピッチとして測定する。
なお、前記AFM観察においては、断面プロファイルの凸の頂点、又は凹の底辺が、立体形状の凸部の頂点、又は凹部の最深部と一致するようにするため、断面プロファイルを、測定対象となる立体形状の凸部の頂点、又は立体形状の凹部の最深部を通る断面となるように、切り出している。
Here, the average distance (Pm) of the convex part or the concave part, and the average height of the convex part or the average depth (Hm) of the concave part can be measured as follows.
First, the surface S of the hydrophilic layer having a convex portion or a concave portion is observed with an atomic force microscope (AFM), and the pitch of the convex portion or the concave portion, the height of the convex portion or Find the depth of the recess. This is repeated at 10 locations randomly selected from the surface of the hydrophilic layer, and the pitches P1, P2,..., P10 and the heights or depths H1, H2,. Ask.
Here, the pitch of the convex portions is a distance between the vertices of the convex portions. The pitch of the recesses is the distance between the deepest portions of the recesses. The height of the convex portion is the height of the convex portion based on the lowest point of the valley between the convex portions. The depth of the recess is the depth of the recess based on the highest point of the peak between the recesses.
Next, these pitches P1, P2,..., P10 and the heights or depths H1, H2,..., H10 are simply averaged (arithmetic average), and the average distance between the convex portions or the concave portions is calculated. (Pm) and the average height of the convex portions or the average depth (Hm) of the concave portions are obtained.
In addition, when the pitch of the said convex part or a recessed part has in-plane anisotropy, the said Pm shall be calculated | required using the pitch of the direction where a pitch becomes the maximum. Further, when the height of the convex portion or the depth of the concave portion has in-plane anisotropy, the height or depth in the direction in which the height or depth is maximum is used. Is to be sought.
Moreover, when the said convex part or a recessed part is rod-shaped, the pitch of a short-axis direction is measured as said pitch.
In the AFM observation, the cross-sectional profile is a measurement target so that the convex vertex or concave base of the cross-sectional profile matches the vertex of the solid convex portion or the deepest portion of the concave portion. It cuts out so that it may become a cross section which passes through the top of a convex part of a solid shape, or the deepest part of a concave part of a solid shape.

ここで、前記親水性層の表面に形成されている微細な形状が、凸部であるか、凹部であるかは、以下のようにして判断することができる。
凸部又は凹部を有する前記親水性層の表面Sを原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)により観察し、断面及び前記表面SのAFM像を得る。
そして、表面のAFM像を、最表面側を明るい像、深部側を暗い像にした場合、暗い像の中に、明るい像が島状に形成されている場合、その表面は、凸部を有するものとする。
一方、明るい像の中に、暗い像が島状に形成されている場合、その表面は、凹部を有するものとする。
例えば、図1A及び図1Bに示す表面及び断面のAFM像を有する親水性層の表面は、凸部を有している。図2A及び図2Bに示す表面及び断面のAFM像を有する親水性層の表面は、凹部を有している。
Here, whether the fine shape formed on the surface of the hydrophilic layer is a convex portion or a concave portion can be determined as follows.
The surface S of the hydrophilic layer having a convex portion or a concave portion is observed with an atomic force microscope (AFM) to obtain a cross section and an AFM image of the surface S.
When the AFM image of the surface is a bright image on the outermost surface side and a dark image on the deep side, when the bright image is formed in an island shape in the dark image, the surface has a convex portion. Shall.
On the other hand, when a dark image is formed in an island shape in a bright image, the surface thereof has a recess.
For example, the surface of the hydrophilic layer having the AFM image of the surface and cross section shown in FIGS. 1A and 1B has a convex portion. The surface of the hydrophilic layer having the AFM image of the surface and cross section shown in FIGS. 2A and 2B has a recess.

前記親水性層の表面の平均表面積率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1.10以上が好ましく、1.20以上がより好ましく、1.30以上が特に好ましい。前記表面積率とは、ある指定した領域における対象物の表面形状によって生じている表面積と該指定領域の面積との比(表面積/面積)である。前記平均表面積率が、1.10未満であると、前記親水性層に付着した親水性成分が濡れ広がる効果が不足し、防曇性が得られにくくなることがある。前記平均表面積率が、前記好ましい範囲内であると、前記親水性層に付着した親水性成分が、効果的に濡れ広がる。前記平均表面積率が、前記特に好ましい範囲内であると、親水性成分が濡れ広がる効果は顕著になる。
ここで、前記親水性層の表面の平均表面積率は、以下のようにして測定できる。
凸部又は凹部を有する前記親水性層の表面Sを原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)により観察し、前記表面SのAFM像を得る。これを前記親水性層の表面から無作為に選び出された10箇所において繰り返し行い、表面積S1、S2、・・・、S10を求める。次に、これらの表面積S1、S2、・・・、S10と、それぞれの観察領域の面積との比(表面積/面積)SR1、SR2、・・・、SR10を単純に平均(算術平均)して、親水性層の表面の平均表面積率SRmを求める。
The average surface area ratio of the surface of the hydrophilic layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 1.10 or more, more preferably 1.20 or more, and 1.30 or more. Particularly preferred. The surface area ratio is a ratio (surface area / area) between the surface area generated by the surface shape of the object in a specified area and the area of the specified area. When the average surface area ratio is less than 1.10, the hydrophilic component attached to the hydrophilic layer is insufficiently wetted and the antifogging property may be difficult to obtain. When the average surface area ratio is within the preferable range, the hydrophilic component attached to the hydrophilic layer is effectively spread by wetting. When the average surface area ratio is within the particularly preferable range, the effect of spreading the hydrophilic component becomes remarkable.
Here, the average surface area ratio of the surface of the hydrophilic layer can be measured as follows.
The surface S of the hydrophilic layer having a convex portion or a concave portion is observed with an atomic force microscope (AFM) to obtain an AFM image of the surface S. This is repeated at 10 locations randomly selected from the surface of the hydrophilic layer to determine the surface areas S1, S2,. Next, the ratio (surface area / area) SR1, SR2,..., SR10 of these surface areas S1, S2,..., S10 and the area of each observation region is simply averaged (arithmetic average). The average surface area ratio SRm of the surface of the hydrophilic layer is obtained.

−純水接触角−
前記親水性層の表面の純水接触角は、50°以下であり、40°以下が好ましく、10°以下がより好ましい。前記純水接触角の下限値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、2°などが挙げられる。
前記純水接触角は、例えば、PCA−1(協和界面化学株式会社製)を用い、下記条件で滑落法によって測定することができる。
・蒸留水をプラスチックシリンジに入れて、その先端にステンレス製の針を取り付けて評価面に滴下する。滴下後、5秒後の接触角を、評価面の任意の10か所で測定し、その平均値を純水接触角とする。
・水の滴下量:2μL
・測定温度:25℃
−Pure water contact angle−
The pure water contact angle on the surface of the hydrophilic layer is 50 ° or less, preferably 40 ° or less, and more preferably 10 ° or less. There is no restriction | limiting in particular as a lower limit of the said pure water contact angle, According to the objective, it can select suitably, For example, 2 degrees etc. are mentioned.
The pure water contact angle can be measured by, for example, a sliding method under the following conditions using PCA-1 (manufactured by Kyowa Interface Chemical Co., Ltd.).
-Put distilled water in a plastic syringe, attach a stainless steel needle to the tip, and drop it onto the evaluation surface. After dropping, the contact angle after 5 seconds is measured at any 10 locations on the evaluation surface, and the average value is defined as the pure water contact angle.
・ Drip amount of water: 2μL
・ Measurement temperature: 25 ℃

前記純水接触角を得る方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記親水性層の材質を、平滑膜としたときに純水接触角が70°以下となる材質とすることなどが挙げられる。前記親水性層の材質を、平滑膜としたときに純水接触角が70°を超える材質とした場合、水が凹凸構造の底まで浸透できなくなる傾向にある。その結果、空気をかみ込み、前記親水性層の表面の純水接触角は、前記平滑膜の純水接触角の値よりも高まってしまい、防曇性が得られないことがある。
前記平滑膜の純水接触角は、例えば、溶媒に溶解した前記親水性層を形成する材料を、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂製基材上に、コイルバー、アプリケーターなどで塗布し、前記溶媒を乾燥除去して、平滑膜を得、その平滑膜に対して、前述の方法で純水接触角を測定することで求めることができる。前記親水性層が硬化処理を経て得られている場合には、前記平滑膜を得る際には、同様の硬化処理を行う。
The method for obtaining the pure water contact angle is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, when the hydrophilic layer is made of a smooth film, the pure water contact angle is 70 °. For example, the following materials may be used. When the material of the hydrophilic layer is a smooth film, when the contact angle of pure water exceeds 70 °, water tends to be unable to penetrate to the bottom of the concavo-convex structure. As a result, air is trapped, and the pure water contact angle on the surface of the hydrophilic layer is higher than the pure water contact angle value of the smooth film, so that the antifogging property may not be obtained.
The pure water contact angle of the smooth film is obtained by, for example, applying the material forming the hydrophilic layer dissolved in a solvent on a resin base material such as polyethylene terephthalate with a coil bar, an applicator, etc., and removing the solvent by drying. Thus, a smooth film can be obtained, and the pure water contact angle can be determined by measuring the pure water contact angle by the method described above. When the hydrophilic layer is obtained through a curing process, the same curing process is performed when the smooth film is obtained.

−活性エネルギー線硬化性樹脂組成物−
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、親水性モノマーと、光重合開始剤とを少なくとも含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物などが挙げられる。
-Active energy ray-curable resin composition-
The active energy ray-curable resin composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, it contains at least a hydrophilic monomer and a photopolymerization initiator, and further if necessary. And active energy ray-curable resin compositions containing other components.

−−親水性モノマー−−
前記親水性モノマーとしては、例えば、ポリオキシアルキル含有(メタ)アクリレート、4級アンモニウム塩含有(メタ)アクリレート、3級アミノ基含有(メタ)アクリレート、スルホン酸基含有モノマー、カルボン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、ホスホン酸基含有モノマーなどが挙げられる。
ここで、本発明において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタアクリレートを意味する。(メタ)アクリロイル、(メタ)アクリルについても同様である。
--Hydrophilic monomer--
Examples of the hydrophilic monomer include polyoxyalkyl-containing (meth) acrylate, quaternary ammonium salt-containing (meth) acrylate, tertiary amino group-containing (meth) acrylate, sulfonic acid group-containing monomer, carboxylic acid group-containing monomer, Examples thereof include phosphoric acid group-containing monomers and phosphonic acid group-containing monomers.
Here, in the present invention, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate. The same applies to (meth) acryloyl and (meth) acryl.

前記ポリオキシアルキル含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、多価アルコール(ポリオール又はポリヒドロキシ含有化合物)と、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの誘導体からなる群から選択される化合物との反応によって得られるモノ若しくはポリアクリレート、又はモノ若しくはポリメタクリレートなどが挙げられる。前記多価アルコールとしては、例えば、2価のアルコール、3価のアルコール、4価以上のアルコールなどが挙げられる。前記2価のアルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、数平均分子量が300〜1,000のポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,2’−チオジエタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。前記3価のアルコールとしては、例えば、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタグリセロール、グリセロール、1,2,4−ブタントリオール、1,2,6−ヘキサントリオールなどが挙げられる。前記4価以上のアルコールとしては、例えば、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられる。
前記ポリオキシアルキル含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレートなどが挙げられる。前記ポリエチレングリコール(メタ)アクリレートとしては、例えば、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートなどが挙げられる。前記ポリエチレングリコール(メタ)アクリレートにおけるポリエチレングリコールユニットの分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、300〜1,000などが挙げられる。前記メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートとしては、市販品を用いることができる。前記市販品としては、例えば、MEPM−1000(第一工業製薬株式会社製)などが挙げられる。
これらの中でも、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレートが好ましく、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートがより好ましい。
The polyoxyalkyl-containing (meth) acrylate is obtained, for example, by a reaction between a polyhydric alcohol (polyol or polyhydroxy-containing compound) and a compound selected from the group consisting of acrylic acid, methacrylic acid and derivatives thereof. Mono or polyacrylate, mono or polymethacrylate, etc. may be mentioned. Examples of the polyhydric alcohol include divalent alcohol, trivalent alcohol, and tetravalent or higher alcohol. Examples of the divalent alcohol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol having a number average molecular weight of 300 to 1,000, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,2′-thiodiethanol, 1,4-cyclohexanedi For example, methanol. Examples of the trivalent alcohol include trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaglycerol, glycerol, 1,2,4-butanetriol, 1,2,6-hexanetriol, and the like. Examples of the tetravalent or higher alcohol include pentaerythritol, diglycerol, and dipentaerythritol.
Examples of the polyoxyalkyl-containing (meth) acrylate include polyethylene glycol (meth) acrylate and polypropylene glycol (meth) acrylate. Examples of the polyethylene glycol (meth) acrylate include methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate. There is no restriction | limiting in particular as the molecular weight of the polyethyleneglycol unit in the said polyethyleneglycol (meth) acrylate, According to the objective, it can select suitably, For example, 300-1,000 etc. are mentioned. A commercial item can be used as said methoxypolyethyleneglycol (meth) acrylate. As said commercial item, MEPM-1000 (made by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.
Among these, polyethylene glycol (meth) acrylate is preferable, and methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate is more preferable.

前記4級アンモニウム塩含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、(メタ)アクリロイルオキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、(メタ)アクリロイルオキシエチルジメチルグリシジルアンモニウムクロライド、(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、(メタ)アクリロイルオキシジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム−p−トルエンスルフォネート、(メタ)アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、(メタ)アクリルアミドプロピルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、(メタ)アクリルアミドプロピルジメチルグリシジルアンモニウムクロライド、(メタ)アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、(メタ)アクリルアミドプロピルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、(メタ)アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム−p−トルエンスルフォネートなどが挙げられる。   Examples of the quaternary ammonium salt-containing (meth) acrylate include (meth) acryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, (meth) acryloyloxyethyldimethylbenzylammonium chloride, (meth) acryloyloxyethyldimethylglycidylammonium chloride, (meth) Acryloyloxyethyltrimethylammonium methylsulfate, (meth) acryloyloxydimethylethylammonium ethylsulfate, (meth) acryloyloxyethyltrimethylammonium-p-toluenesulfonate, (meth) acrylamidopropyltrimethylammonium chloride, (meth) acrylamidopropyldimethyl Benzyl ammonium chloride, (meth) acrylamide pro Le dimethyl glycidyl chloride, (meth) acrylamide trimethyl ammonium methyl sulfate, (meth) acrylamide dimethyl ethyl ammonium ethylsulfate, and (meth) acrylamide trimethylammonium -p- toluenesulfonate.

前記3級アミノ基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル(メタ)アクリレート、2,2,6,6−テトラメチルピペリジル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Examples of the tertiary amino group-containing (meth) acrylate include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, diethylaminopropyl (meth) acrylamide, Examples include 2,6,6-pentamethylpiperidyl (meth) acrylate and 2,2,6,6-tetramethylpiperidyl (meth) acrylate.

前記スルホン酸基含有モノマーとしては、例えば、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、ビニルトルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、スルホン酸基含有(メタ)アクリレートなどが挙げられる。前記スルホン酸基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、(メタ)アクリル酸スルホエチル、(メタ)アクリル酸スルホプロピル、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、末端スルホン酸変性ポリエチレングリコールモノ(メタ)クリレートなどが挙げられる。これらは、塩を形成していてもよい。前記塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などが挙げられる。   Examples of the sulfonic acid group-containing monomer include vinyl sulfonic acid, allyl sulfonic acid, vinyl toluene sulfonic acid, styrene sulfonic acid, and sulfonic acid group-containing (meth) acrylate. Examples of the sulfonic acid group-containing (meth) acrylate include, for example, sulfoethyl (meth) acrylate, sulfopropyl (meth) acrylate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, and terminal sulfonic acid-modified polyethylene glycol mono (meth). Examples include chlorate. These may form a salt. Examples of the salt include sodium salt, potassium salt, ammonium salt and the like.

前記カルボン酸基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などが挙げられる。   Examples of the carboxylic acid group-containing monomer include acrylic acid and methacrylic acid.

前記リン酸基含有モノマーとしては、例えば、リン酸エステルを有する(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Examples of the phosphate group-containing monomer include (meth) acrylate having a phosphate ester.

前記親水性モノマーは、単官能の親水性モノマーであることが好ましい。   The hydrophilic monomer is preferably a monofunctional hydrophilic monomer.

前記親水性モノマーの分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、200以上が好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as molecular weight of the said hydrophilic monomer, Although it can select suitably according to the objective, 200 or more are preferable.

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記親水性モノマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、15質量%〜99.9質量%が好ましく、20質量%〜90質量%がより好ましく、25質量%〜50質量%が特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said hydrophilic monomer in the said active energy ray curable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 15 mass%-99.9 mass% are preferable, 20 The mass% is more preferably 90% by mass, and particularly preferably 25% by mass to 50% by mass.

前記親水性モノマーの代わりに、アジド基、フェニルアジド基、キノンアジド基、スチルベン基、カルコン基、ジアゾニウム塩基、ケイ皮酸基、アクリル酸基等から選択された1つ以上を含む感光基を導入したポリマーを用いてもよい。前記ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール系、ポリビニルブチラール系、ポリビニルピロリドン系、ポリアクリルアミド系、ポリ酢酸ビニル系ポリマー、ポリオキシアルキレン系ポリマーなどが挙げられる。   Instead of the hydrophilic monomer, a photosensitive group containing at least one selected from an azide group, phenyl azide group, quinone azide group, stilbene group, chalcone group, diazonium base, cinnamic acid group, acrylic acid group and the like was introduced. A polymer may be used. Examples of the polymer include polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, polyvinyl acetate, polyoxyalkylene, and the like.

−−光重合開始剤−−
前記光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤、光酸発生剤、ビスアジド化合物、ヘキサメトキシメチルメラミン、テトラメトキシグリコユリルなどが挙げられる。
前記光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エトキシフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメチルベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、1−フェニル2−ヒドロキシ−2メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1,2−ジフェニルエタンジオン、メチルフェニルグリオキシレートなどが挙げられる。
-Photopolymerization initiator-
Examples of the photopolymerization initiator include a photoradical polymerization initiator, a photoacid generator, a bisazide compound, hexamethoxymethylmelamine, and tetramethoxyglycolyl.
The radical photopolymerization initiator is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include ethoxyphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide and bis (2,6-dimethylbenzoyl). ) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -2 , 4,4-trimethylpentylphosphine oxide, 1-phenyl 2-hydroxy-2methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane -1-one, 1,2-diphenylethanedione, methylphenylglycone Kishireto and the like.

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記光重合開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1質量%〜10質量%が好ましく、0.5質量%〜8質量%がより好ましく、1質量%〜5質量%が特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said photoinitiator in the said active energy ray curable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 mass%-10 mass% are preferable, 0.5 mass%-8 mass% are more preferable, and 1 mass%-5 mass% are especially preferable.

−−その他の成分−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸基含有(メタ)アクリレート、フィラーなどが挙げられる。
これらは、前記親水性層(前記親水性樹脂層)の伸び率、硬度などを調整するために用いることがある。
-Other ingredients-
There is no restriction | limiting in particular as said other component, According to the objective, it can select suitably, For example, urethane (meth) acrylate, isocyanuric acid group containing (meth) acrylate, a filler, etc. are mentioned.
These may be used to adjust the elongation, hardness, etc. of the hydrophilic layer (the hydrophilic resin layer).

前記ウレタン(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、脂肪族ウレタン(メタ)アクリレート、芳香族ウレタン(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、脂肪族ウレタン(メタ)アクリレートが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as said urethane (meth) acrylate, According to the objective, it can select suitably, For example, aliphatic urethane (meth) acrylate, aromatic urethane (meth) acrylate, etc. are mentioned. Among these, aliphatic urethane (meth) acrylate is preferable.

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記ウレタン(メタ)アクリレートの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、10質量%〜45質量%が好ましく、15質量%〜40質量%がより好ましく、20質量%〜35質量%が特に好ましい。
前記イソシアヌル酸基含有(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エトキシ化イソシアヌル酸(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、エトキシ化イソシアヌル酸(メタ)アクリレートが好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as content of the said urethane (meth) acrylate in the said active energy ray curable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 10 mass%-45 mass% are preferable, 15 More preferred is 40% by weight, and especially preferred is 20% to 35% by weight.
There is no restriction | limiting in particular as said isocyanuric acid group containing (meth) acrylate, According to the objective, it can select suitably, For example, ethoxylated isocyanuric acid (meth) acrylate etc. are mentioned. Among these, ethoxylated isocyanuric acid (meth) acrylate is preferable.

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記イソシアヌル酸基含有(メタ)アクリレートの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、10質量%〜45質量%が好ましく、15質量%〜40質量%がより好ましく、20質量%〜35質量%が特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said isocyanuric acid group containing (meth) acrylate in the said active energy ray curable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 10 mass%-45 mass% are Preferably, 15 mass%-40 mass% are more preferable, and 20 mass%-35 mass% are especially preferable.

前記フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シリカ、ジルコニア、チタニア、酸化錫、酸化インジウム錫、アンチモンドープ酸化錫、五酸化アンチモンなどが挙げられる。前記シリカとしては、例えば、中実シリカ、中空シリカなどが挙げられる。   The filler is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include silica, zirconia, titania, tin oxide, indium tin oxide, antimony-doped tin oxide, and antimony pentoxide. Examples of the silica include solid silica and hollow silica.

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、使用時には、有機溶剤を用いて希釈して用いることができる。前記有機溶剤としては、例えば、芳香族系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、グリコールエーテル系溶媒、グリコールエーテルエステル系溶媒、塩素系溶媒、エーテル系溶媒、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。   The active energy ray-curable resin composition can be diluted with an organic solvent when used. Examples of the organic solvent include aromatic solvents, alcohol solvents, ester solvents, ketone solvents, glycol ether solvents, glycol ether ester solvents, chlorine solvents, ether solvents, N-methylpyrrolidone, and dimethyl. Examples include formamide, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide, and the like.

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線が照射されることにより硬化する。前記活性エネルギー線としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線(X線、α線、β線、γ線等)、マイクロ波、高周波などが挙げられる。   The active energy ray-curable resin composition is cured when irradiated with active energy rays. There is no restriction | limiting in particular as said active energy ray, According to the objective, it can select suitably, For example, an electron beam, an ultraviolet-ray, infrared rays, a laser beam, visible light, ionizing radiation (X ray, alpha ray, beta ray, gamma) Wire, etc.), microwave, high frequency and the like.

前記親水性層のマルテンス硬度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、50N/mm〜300N/mmが好ましく、50N/mm〜290N/mmがより好ましく、50N/mm〜280N/mmが特に好ましい。前記親水性積層体を成形加工する際、例えば、ポリカーボネートの射出成形時には、親水性積層体は、290℃、200MPaで加熱加圧される。このとき、前記親水性層の表面の微細な凸部及び凹部のいずれかは変形することがある。変形としては、例えば、微細な凸部の高さが低くなること、微細な凹部の深さが浅くなることなどがある。防曇性能に影響がない範囲では変形してもよいが、変形しすぎると純水接触角が高くなり防曇性能が劣化する。前記マルテンス硬度が、50N/mm未満であると、前記親水性積層体を成形加工する際に前記親水性層の表面の微細な凸部及び凹部のいずれかが変形しすぎてしまい、純水接触角が高くなり防曇性能が劣化すること、及び、前記親水性積層体を製造又は成形加工する際のハンドリング及び面清掃等の、通常使用時の面清掃などで前記親水性層に傷が入り易いことがあり、300N/mmを超えると、抜き加工、曲げ加工、成形加工時、前記親水性層にクラックが発生したり、前記親水性層が剥離することがある。前記マルテンス硬度が、前記特に好ましい範囲内であると、前記親水性積層体を、防曇性能を劣化させることなく、且つ傷付き、クラック、剥離等の不良を発生させることなく、様々な三次元形状に容易に成形加工できる点で有利である。
なお、前記親水性積層体を成形加工後、前記親水性層には射出成形工程にて高温高圧が加わるため、成形加工前よりも前記親水性層のマルテンス硬度が高まることがある。
また、同じ凸部の平均高さ(又は凹部の平均深さ)で比較した場合、前記親水性層のマルテンス硬度が高いほど、耐摩耗性が優れる傾向にある。
前記マルテンス硬度は、例えば、PICODENTOR HM500(商品名;フィッシャー・インストルメンツ社製)を用いて測定できる。荷重1mN/20sとし、針としてダイアモンド錐体を用い、面角136°で測定する。
The Martens hardness of the hydrophilic layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 50N / mm 2 ~300N / mm 2 , 50N / mm 2 ~290N / mm 2 Gayori 50 N / mm 2 to 280 N / mm 2 is particularly preferable. When the hydrophilic laminate is molded, for example, during injection molding of polycarbonate, the hydrophilic laminate is heated and pressurized at 290 ° C. and 200 MPa. At this time, either the fine convex part or the concave part on the surface of the hydrophilic layer may be deformed. Examples of the deformation include a decrease in the height of the fine convex portion and a decrease in the depth of the fine concave portion. Although it may be deformed as long as it does not affect the antifogging performance, if it is deformed too much, the contact angle of pure water is increased and the antifogging performance is deteriorated. When the Martens hardness is less than 50 N / mm 2 , when forming the hydrophilic laminate, any one of the fine convex portions and concave portions on the surface of the hydrophilic layer is deformed excessively, and pure water The contact angle is increased and anti-fogging performance is deteriorated, and the hydrophilic layer is scratched by surface cleaning during normal use, such as handling and surface cleaning when manufacturing or molding the hydrophilic laminate. When it exceeds 300 N / mm 2 , cracks may be generated in the hydrophilic layer or the hydrophilic layer may be peeled off during punching, bending or molding. When the Martens hardness is within the particularly preferable range, the hydrophilic laminate is variously three-dimensional without deteriorating antifogging performance and without causing defects such as scratches, cracks, and peeling. This is advantageous in that it can be easily formed into a shape.
In addition, after molding the hydrophilic laminate, high temperature and high pressure are applied to the hydrophilic layer in an injection molding process, so that the Martens hardness of the hydrophilic layer may be higher than before the molding process.
Moreover, when compared by the average height of the same convex part (or average depth of a recessed part), it exists in the tendency for abrasion resistance to be excellent, so that the Martens hardness of the said hydrophilic layer is high.
The Martens hardness can be measured by using, for example, PICODETOR HM500 (trade name; manufactured by Fisher Instruments). The load is 1 mN / 20 s, a diamond cone is used as the needle, and the surface angle is 136 °.

前記親水性層の鉛筆硬度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、B〜4Hが好ましく、HB〜4Hがより好ましく、F〜4Hが特に好ましい。前記鉛筆硬度が、B未満である(Bより柔らかい)と、前記親水性積層体を製造又は成形加工する際のハンドリングや面清掃等の、通常使用時の面清掃などで前記親水性層に傷が入り易い。また、前記親水性積層体を成形加工する際に前記親水性層の表面の微細な凸部及び凹部のいずれかが変形しすぎてしまい、純水接触角が高くなり防曇性能が劣化することがある。前記鉛筆硬度が、4Hを超える(4Hより硬い)と、成形加工時、前記親水性層にクラックが発生したり、前記親水性層が剥離することがある。前記鉛筆硬度が、前記特に好ましい範囲内であると、前記親水性積層体を、防曇性能を劣化させることなく、且つ傷付き、クラック、剥離等の不良を発生させることなく、様々な三次元形状に容易に成形加工できる点で有利である。
なお、前記親水性積層体を成形加工後、前記親水性層には射出成形工程にて高温高圧が加わるため、成形加工前よりも前記親水性層の鉛筆硬度が高まることがある。
前記鉛筆硬度は、JIS K 5600−5−4に従って測定する。
There is no restriction | limiting in particular as pencil hardness of the said hydrophilic layer, Although it can select suitably according to the objective, B-4H is preferable, HB-4H is more preferable, F-4H is especially preferable. If the pencil hardness is less than B (softer than B), the hydrophilic layer is scratched by surface cleaning during normal use, such as handling and surface cleaning when manufacturing or molding the hydrophilic laminate. Is easy to enter. In addition, when forming the hydrophilic laminate, either the fine convex portion or the concave portion on the surface of the hydrophilic layer is deformed excessively, resulting in a high pure water contact angle and deterioration of the anti-fogging performance. There is. When the pencil hardness exceeds 4H (harder than 4H), cracks may occur in the hydrophilic layer or the hydrophilic layer may peel off during molding. When the pencil hardness is within the particularly preferable range, the hydrophilic laminate is variously three-dimensional without deteriorating antifogging performance and without causing defects such as scratches, cracks, and peeling. This is advantageous in that it can be easily formed into a shape.
In addition, since high temperature and high pressure are applied to the hydrophilic layer in the injection molding process after molding the hydrophilic laminate, the pencil hardness of the hydrophilic layer may be higher than before the molding process.
The pencil hardness is measured according to JIS K 5600-5-4.

前記親水性層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.01μm〜100μmが好ましく、0.05μm〜50μmがより好ましく、0.1μm〜30μmが特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as average thickness of the said hydrophilic layer, Although it can select suitably according to the objective, 0.01 micrometer-100 micrometers are preferable, 0.05 micrometer-50 micrometers are more preferable, 0.1 micrometer-30 micrometers are Particularly preferred.

<その他の部材>
前記その他の部材としては、アンカー層などが挙げられる。
<Other members>
Examples of the other members include an anchor layer.

−アンカー層−
前記アンカー層は、前記基材と、前記親水性層との間に設けられる層である。
前記アンカー層を設けることにより、前記基材と前記親水性層との接着性を向上できる。
前記アンカー層の屈折率は、干渉ムラを防止するために、前記親水性層の屈折率と近いことが好ましい。そのため、前記アンカー層の屈折率は、前記親水性層の屈折率の±0.10以内が好ましく、±0.05以内がより好ましい。または、前記アンカー層の屈折率は、前記親水性層の屈折率と前記基材の屈折率との間であることが好ましい。
-Anchor layer-
The anchor layer is a layer provided between the base material and the hydrophilic layer.
By providing the anchor layer, the adhesion between the substrate and the hydrophilic layer can be improved.
The anchor layer preferably has a refractive index close to that of the hydrophilic layer in order to prevent interference unevenness. Therefore, the refractive index of the anchor layer is preferably within ± 0.10 of the refractive index of the hydrophilic layer, and more preferably within ± 0.05. Or it is preferable that the refractive index of the said anchor layer is between the refractive index of the said hydrophilic layer and the refractive index of the said base material.

前記アンカー層は、例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布することにより形成できる。前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレートと、光重合開始剤とを少なくとも含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物などが挙げられる。前記ウレタン(メタ)アクリレート、前記光重合開始剤としては、例えば、前記親水性層の説明において例示した前記ウレタン(メタ)アクリレート、前記光重合開始剤がそれぞれ挙げられる。前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースロールコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、カーテンコーティング、コンマコート法、ディッピング法などが挙げられる。   The anchor layer can be formed, for example, by applying an active energy ray curable resin composition. As the active energy ray-curable resin composition, for example, an active energy ray-curable resin composition containing at least urethane (meth) acrylate and a photopolymerization initiator, and further containing other components as necessary. Such as things. Examples of the urethane (meth) acrylate and the photopolymerization initiator include the urethane (meth) acrylate and the photopolymerization initiator exemplified in the description of the hydrophilic layer. There is no restriction | limiting in particular as said application | coating method, According to the objective, it can select suitably, For example, wire bar coating, blade coating, spin coating, reverse roll coating, die coating, spray coating, roll coating, gravure coating , Micro gravure coating, lip coating, air knife coating, curtain coating, comma coating method, dipping method and the like.

前記アンカー層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.01μm〜10μmが好ましく、0.1μm〜5μmがより好ましく、0.3μm〜3μmが特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as average thickness of the said anchor layer, Although it can select suitably according to the objective, 0.01 micrometer-10 micrometers are preferable, 0.1 micrometer-5 micrometers are more preferable, 0.3 micrometer-3 micrometers are especially preferable.

なお、前記アンカー層には、反射率低減や帯電防止の機能を付与してもよい。   Note that the anchor layer may be provided with a function of reducing reflectance or preventing static electricity.

前記親水性積層体の伸び率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、10%以上が好ましく、40%以上が好ましく、40%〜200%がより好ましく、40%〜150%が特に好ましい。前記伸び率が、10%未満であると、成形加工が困難になることがある。前記伸び率が、前記特に好ましい範囲内であると、成形加工性に優れる点で有利である。
前記伸び率は、例えば、以下の方法により求めることができる。
前記親水性積層体を、長さ10.5cm×幅2.5cmの短冊状にして測定試料とする。得られた測定試料の引張り伸び率を引張り試験機(オートグラフAG−5kNXplus、株式会社島津製作所製)で測定(測定条件:引張り速度=100mm/min;チャック間距離=8cm)する。前記伸び率の測定においては、前記基材の品種によって測定温度が異なり、前記伸び率は、前記基材の軟化点近傍又は軟化点以上の温度で測定する。具体的には、10℃〜250℃の間である。例えば、前記基材が、ポリカーボネートやPC/PMMA積層体の場合は、190℃で測定するのが好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as elongation rate of the said hydrophilic laminated body, Although it can select suitably according to the objective, 10% or more is preferable, 40% or more is preferable, 40%-200% are more preferable, 40 % To 150% is particularly preferred. If the elongation is less than 10%, molding may be difficult. When the elongation percentage is within the particularly preferable range, it is advantageous in that the moldability is excellent.
The said elongation rate can be calculated | required with the following method, for example.
The hydrophilic laminate is formed into a strip having a length of 10.5 cm and a width of 2.5 cm, and used as a measurement sample. The tensile elongation of the obtained measurement sample is measured with a tensile tester (Autograph AG-5kNXplus, manufactured by Shimadzu Corporation) (measurement condition: tensile speed = 100 mm / min; distance between chucks = 8 cm). In the measurement of the elongation percentage, the measurement temperature varies depending on the type of the base material, and the elongation percentage is measured at a temperature near or above the softening point of the base material. Specifically, it is between 10 ° C and 250 ° C. For example, when the substrate is a polycarbonate or PC / PMMA laminate, it is preferable to measure at 190 ° C.

前記親水性積層体を、インサート成型、オーバーレイ成型などに適用する場合、前記基材には前記樹脂製基材を使用し、前記親水性積層体の伸び率は10%以上であることが好ましい。前記オーバーレイ成型としては、例えば、TOM工法(Three−dimension Over−lay Method)などが挙げられる。   When applying the said hydrophilic laminated body to insert molding, overlay molding, etc., it is preferable to use the said resin-made base material for the said base material, and the elongation rate of the said hydrophilic laminated body is 10% or more. Examples of the overlay molding include a TOM method (Three-dimension over-lay method).

前記親水性積層体は、前記親水性積層体の面内におけるX方向とY方向の加熱収縮率差が小さい方が好ましい。前記親水性積層体の前記X方向と前記Y方向とは、例えば、親水性積層体がロール形状の場合、ロールの長手方向と幅方向とに相当する。成形時の加熱工程に使用する加熱温度にて、親水性積層体におけるX方向の加熱収縮率とY方向の加熱収縮率との差は5%以内であることが好ましい。この範囲外であると、成形加工時に、前記親水性層に剥離やクラックが発生したり、基材の表面に印刷された前記文字、前記模様、前記画像などが変形や位置ズレを起こしてしまい、成形加工が困難になることがある。   The hydrophilic laminate preferably has a smaller difference in heat shrinkage between the X direction and the Y direction in the plane of the hydrophilic laminate. The X direction and the Y direction of the hydrophilic laminate correspond to, for example, the longitudinal direction and the width direction of the roll when the hydrophilic laminate is in a roll shape. The difference between the heat shrinkage rate in the X direction and the heat shrinkage rate in the Y direction in the hydrophilic laminate is preferably within 5% at the heating temperature used in the heating step during molding. If it is out of this range, the hydrophilic layer may be peeled or cracked during the molding process, or the characters, the pattern, the image, etc. printed on the surface of the substrate may be deformed or misaligned. Molding may be difficult.

前記親水性積層体は、インモールド成形用フィルム、インサート成形用フィルム、オーバーレイ成形用フィルムに特に適している。   The hydrophilic laminate is particularly suitable for in-mold molding films, insert molding films, and overlay molding films.

前記親水性積層体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、後述する本発明の親水性積層体の製造方法が好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said hydrophilic laminated body, Although it can select suitably according to the objective, The manufacturing method of the hydrophilic laminated body of this invention mentioned later is preferable.

(親水性積層体の製造方法)
本発明の親水性積層体の製造方法は、未硬化樹脂層形成工程と、親水性層形成工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
前記親水性積層体の製造方法は、本発明の前記親水性積層体を製造する方法である。
(Method for producing hydrophilic laminate)
The manufacturing method of the hydrophilic laminated body of this invention contains an uncured resin layer formation process and a hydrophilic layer formation process at least, and also includes another process as needed.
The method for producing the hydrophilic laminate is a method for producing the hydrophilic laminate of the present invention.

<未硬化樹脂層形成工程>
前記未硬化樹脂層形成工程としては、基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Uncured resin layer forming step>
The uncured resin layer forming step is not particularly limited as long as it is a step of forming an uncured resin layer by applying an active energy ray-curable resin composition on a substrate, and is appropriately selected according to the purpose. be able to.

前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記親水性積層体の説明において例示した前記基材などが挙げられる。
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記親水性積層体の前記親水性層の説明において例示した前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as said base material, According to the objective, it can select suitably, For example, the said base material etc. which were illustrated in description of the said hydrophilic laminated body of this invention are mentioned.
The active energy ray-curable resin composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the activity exemplified in the description of the hydrophilic layer of the hydrophilic laminate of the present invention. Examples include an energy ray curable resin composition.

前記未硬化樹脂層は、前記基材上に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して、必要に応じて乾燥を行うことにより形成される。前記未硬化樹脂層は、固体の膜であってもよいし、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される低分子量の硬化性成分によって流動性を有した膜であってもよい。   The uncured resin layer is formed by applying the active energy ray-curable resin composition on the substrate and drying it as necessary. The uncured resin layer may be a solid film or a film having fluidity due to a low molecular weight curable component contained in the active energy ray curable resin composition.

前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースロールコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、カーテンコーティング、コンマコート法、ディッピング法などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as said application | coating method, According to the objective, it can select suitably, For example, wire bar coating, blade coating, spin coating, reverse roll coating, die coating, spray coating, roll coating, gravure coating , Micro gravure coating, lip coating, air knife coating, curtain coating, comma coating method, dipping method and the like.

前記未硬化樹脂層は、活性エネルギー線が照射されていないため、硬化していない。   The uncured resin layer is not cured because it is not irradiated with active energy rays.

前記未硬化樹脂層形成工程においては、アンカー層が形成された前記基材の前記アンカー層上に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して前記未硬化樹脂層を形成してもよい。
前記アンカー層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記親水性積層体の説明において例示した前記アンカー層などが挙げられる。
In the uncured resin layer forming step, the uncured resin layer may be formed by applying the active energy ray-curable resin composition onto the anchor layer of the base material on which the anchor layer is formed.
There is no restriction | limiting in particular as said anchor layer, According to the objective, it can select suitably, For example, the said anchor layer etc. which were illustrated in description of the said hydrophilic laminated body of this invention are mentioned.

<親水性層形成工程>
前記親水性層形成工程としては、前記未硬化樹脂層に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤を密着させ、前記転写原盤が密着した前記未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記未硬化樹脂層を硬化させて前記微細な凸部及び凹部のいずれかを転写することにより、親水性層を形成する工程あれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Hydrophilic layer forming step>
In the hydrophilic layer forming step, the uncured resin layer is brought into close contact with a transfer master having either a fine convex portion or a recess, and the uncured resin layer to which the transfer master is in close contact is irradiated with active energy rays. There is no particular limitation as long as the hydrophilic layer is formed by curing the uncured resin layer and transferring one of the fine convex portions and concave portions, and can be appropriately selected according to the purpose. .

−転写原盤−
前記転写原盤は、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する。
前記転写原盤の材質、大きさ、構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかの形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として前記転写原盤の表面をエッチングすることにより形成することが好ましい。また、レーザーを前記転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより形成することが好ましい。
-Transcription master-
The transfer master has either a fine convex part or a concave part.
There is no restriction | limiting in particular as a material of the said transfer original disc, a magnitude | size, and a structure, According to the objective, it can select suitably.
There is no particular limitation on the method for forming any of the fine convex portions and concave portions of the transfer master, and it can be selected as appropriate according to the purpose. However, the transfer using a photoresist having a predetermined pattern shape as a protective film is possible. It is preferably formed by etching the surface of the master. Further, it is preferable to form the transfer master by irradiating the surface of the transfer master with a laser.

−活性エネルギー線−
前記活性エネルギー線としては、前記未硬化樹脂層を硬化させる活性エネルギー線であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記親水性積層体の説明において例示した前記活性エネルギー線などが挙げられる。
-Active energy rays-
The active energy ray is not particularly limited as long as it is an active energy ray that cures the uncured resin layer, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the description of the hydrophilic laminate of the present invention. And the active energy rays exemplified in 1.

ここで、前記親水性層形成工程の具体例を、図を用いて説明する。   Here, a specific example of the hydrophilic layer forming step will be described with reference to the drawings.

[第1の実施形態]
第1の実施形態は、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として転写原盤の表面をエッチングすることにより微細な凸部及び凹部のいずれかを形成した転写原盤を用いて行う前記親水性層形成工程の一例である。
[First Embodiment]
In the first embodiment, the hydrophilic layer is formed by using a transfer master in which either a fine convex portion or a concave portion is formed by etching the surface of the transfer master using a photoresist having a predetermined pattern shape as a protective film. It is an example of a formation process.

まず、転写原盤及びその製造方法について説明する。   First, the transfer master and its manufacturing method will be described.

〔転写原盤の構成〕
図3Aは、転写原盤であるロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図3Bは、図3Aに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。図3Cは、図3BのトラックTにおける断面図である。ロール原盤231は、上述した構成を有する親水性積層体を作製するための転写原盤、より具体的には、前記親水性樹層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための原盤である。ロール原盤231は、例えば、円柱状又は円筒状の形状を有し、その円柱面又は円筒面が親水性層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための成形面とされる。この成形面には、例えば、複数の構造体232が2次元配列されている。図3Cにおいて、構造体232は、成形面に対して凹状を有している。ロール原盤231の材料としては、例えば、ガラスを用いることができるが、この材料に特に限定されるものではない。
[Configuration of the transfer master]
FIG. 3A is a perspective view illustrating an example of a configuration of a roll master that is a transfer master. 3B is an enlarged plan view showing a part of the roll master shown in FIG. 3A. 3C is a cross-sectional view of the track T in FIG. 3B. The roll master 231 is a transfer master for producing a hydrophilic laminate having the above-described configuration, more specifically, a master for forming a plurality of convex portions or concave portions on the surface of the hydrophilic tree layer. . The roll master 231 has, for example, a columnar or cylindrical shape, and the columnar surface or cylindrical surface is a molding surface for molding a plurality of convex portions or concave portions on the surface of the hydrophilic layer. For example, a plurality of structures 232 are two-dimensionally arranged on the molding surface. In FIG. 3C, the structure 232 has a concave shape with respect to the molding surface. As a material of the roll master 231, for example, glass can be used, but it is not particularly limited to this material.

ロール原盤231の成形面に配置された複数の構造体232と、前記親水性層の表面に配置された複数の凸部又は凹部とは、反転した凹凸関係にある。すなわち、ロール原盤231の構造体232の配列、大きさ、形状、配置ピッチ、高さ又は深さ、及びアスペクト比などは、前記親水性層の凸部又は凹部と同様である。   The plurality of structures 232 disposed on the molding surface of the roll master 231 and the plurality of protrusions or recesses disposed on the surface of the hydrophilic layer are in an inverted uneven relationship. That is, the arrangement, size, shape, arrangement pitch, height or depth, aspect ratio, and the like of the structures 232 of the roll master 231 are the same as the convex portions or concave portions of the hydrophilic layer.

〔ロール原盤露光装置〕
図4は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。このロール原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。
[Roll master exposure equipment]
FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a roll master exposure apparatus for producing a roll master. This roll master exposure apparatus is configured based on an optical disk recording apparatus.

レーザー光源241は、記録媒体としてのロール原盤231の表面に着膜されたレジストを露光するための光源であり、例えば、波長λ=266nmの記録用のレーザー光234を発振するものである。レーザー光源241から出射されたレーザー光234は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子(EOM:Electro Optical Modulator)242へ入射する。電気光学素子242を透過したレーザー光234は、ミラー243で反射され、変調光学系245に導かれる。   The laser light source 241 is a light source for exposing the resist deposited on the surface of the roll master 231 as a recording medium, and oscillates a recording laser beam 234 having a wavelength λ = 266 nm, for example. The laser light 234 emitted from the laser light source 241 travels straight as a parallel beam and enters an electro-optic element (EOM: Electro Optical Modulator) 242. The laser beam 234 that has passed through the electro-optical element 242 is reflected by the mirror 243 and guided to the modulation optical system 245.

ミラー243は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。ミラー243を透過した偏光成分はフォトダイオード244で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子242を制御してレーザー光234の位相変調を行う。   The mirror 243 is composed of a polarization beam splitter and has a function of reflecting one polarization component and transmitting the other polarization component. The polarization component transmitted through the mirror 243 is received by the photodiode 244, and the electro-optic element 242 is controlled based on the received light signal to perform phase modulation of the laser beam 234.

変調光学系245において、レーザー光234は、集光レンズ246により、ガラス(SiO)などからなる音響光学素子(AOM:Acousto−Optic Modulator)247に集光される。レーザー光234は、音響光学素子247により強度変調され発散した後、レンズ248によって平行ビーム化される。変調光学系245から出射されたレーザー光234は、ミラー251によって反射され、移動光学テーブル252上に水平かつ平行に導かれる。 In the modulation optical system 245, the laser beam 234 is collected by an acousto-optic modulator (AOM) 247 made of glass (SiO 2 ) or the like by a condenser lens 246. The laser beam 234 is intensity-modulated by the acousto-optic element 247 and diverges, and then converted into a parallel beam by the lens 248. The laser beam 234 emitted from the modulation optical system 245 is reflected by the mirror 251 and guided horizontally and parallel on the moving optical table 252.

移動光学テーブル252は、ビームエキスパンダ253、及び対物レンズ254を備えている。移動光学テーブル252に導かれたレーザー光234は、ビームエキスパンダ253により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ254を介して、ロール原盤231上のレジスト層へ照射される。ロール原盤231は、スピンドルモータ255に接続されたターンテーブル256の上に載置されている。そして、ロール原盤231を回転させると共に、レーザー光234をロール原盤231の高さ方向に移動させながら、ロール原盤231の周側面に形成されたレジスト層へレーザー光234を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。レーザー光234の移動は、移動光学テーブル252の矢印R方向への移動によって行われる。   The moving optical table 252 includes a beam expander 253 and an objective lens 254. The laser beam 234 guided to the moving optical table 252 is shaped into a desired beam shape by the beam expander 253 and then irradiated to the resist layer on the roll master 231 through the objective lens 254. The roll master 231 is placed on a turntable 256 connected to a spindle motor 255. Then, while rotating the roll master 231 and moving the laser beam 234 in the height direction of the roll master 231, the laser light 234 is intermittently applied to the resist layer formed on the peripheral side surface of the roll master 231. Then, a resist layer exposure step is performed. The formed latent image has a substantially elliptical shape having a major axis in the circumferential direction. The laser beam 234 is moved by moving the moving optical table 252 in the arrow R direction.

露光装置は、上述した複数の凸部又は凹部の2次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構257を備えている。制御機構257は、フォーマッタ249とドライバ250とを備える。フォーマッタ249は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザー光234の照射タイミングを制御する。ドライバ250は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子247を制御する。   The exposure apparatus includes a control mechanism 257 for forming a latent image corresponding to the two-dimensional pattern of the plurality of convex portions or concave portions described above on the resist layer. The control mechanism 257 includes a formatter 249 and a driver 250. The formatter 249 includes a polarity reversal unit, and this polarity reversal unit controls the irradiation timing of the laser beam 234 on the resist layer. The driver 250 receives the output from the polarity inversion unit and controls the acoustooptic device 247.

このロール原盤露光装置では、2次元パターンが空間的にリンクするように1トラック毎に極性反転フォーマッタ信号と回転コントローラを同期させて信号を発生し、音響光学素子247により強度変調している。角速度一定(CAV)で適切な回転数と適切な変調周波数と適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子パターンなどの2次元パターンを記録することができる。   In this roll master exposure apparatus, the polarity inversion formatter signal and the rotation controller are synchronized for each track so that the two-dimensional pattern is spatially linked, and the intensity is modulated by the acousto-optic element 247. A two-dimensional pattern such as a hexagonal lattice pattern can be recorded by patterning with a constant angular velocity (CAV) and an appropriate rotational speed, an appropriate modulation frequency, and an appropriate feed pitch.

〔レジスト成膜工程〕
まず、図5Aの断面図に示すように、円柱状又は円筒状のロール原盤231を準備する。このロール原盤231は、例えば、ガラス原盤である。次に、図5Bの断面図に示すように、ロール原盤231の表面にレジスト層(例えば、フォトレジスト)233を形成する。レジスト層233の材料としては、例えば、有機系レジスト、無機系レジストなどが挙げられる。前記有機系レジストとしては、例えば、ノボラック系レジスト、化学増幅型レジストなどが挙げられる。前記無機系レジストとしては、例えば、金属化合物などが挙げられる。
[Resist film formation process]
First, as shown in the cross-sectional view of FIG. 5A, a columnar or cylindrical roll master 231 is prepared. The roll master 231 is, for example, a glass master. Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 5B, a resist layer (for example, a photoresist) 233 is formed on the surface of the roll master 231. Examples of the material for the resist layer 233 include organic resists and inorganic resists. Examples of the organic resist include novolak resist and chemically amplified resist. Examples of the inorganic resist include metal compounds.

〔露光工程〕
次に、図5Cの断面図に示すように、ロール原盤231の表面に形成されたレジスト層233に、レーザー光(露光ビーム)234を照射する。具体的には、図4に示したロール原盤露光装置のターンテーブル256上にロール原盤231を載置し、ロール原盤231を回転させると共に、レーザー光(露光ビーム)234をレジスト層233に照射する。このとき、レーザー光234をロール原盤231の高さ方向(円柱状又は円筒状のロール原盤231の中心軸に平行な方向)に移動させながら、レーザー光234を間欠的に照射することで、レジスト層233を全面にわたって露光する。これにより、レーザー光234の軌跡に応じた潜像235が、レジスト層233の全面にわたって形成される。
[Exposure process]
Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 5C, the resist layer 233 formed on the surface of the roll master 231 is irradiated with laser light (exposure beam) 234. Specifically, the roll master 231 is placed on the turntable 256 of the roll master exposure apparatus shown in FIG. 4, the roll master 231 is rotated, and the resist layer 233 is irradiated with a laser beam (exposure beam) 234. . At this time, the laser beam 234 is intermittently irradiated while moving the laser beam 234 in the height direction of the roll master 231 (a direction parallel to the central axis of the columnar or cylindrical roll master 231). Layer 233 is exposed over the entire surface. Thereby, a latent image 235 corresponding to the locus of the laser beam 234 is formed over the entire surface of the resist layer 233.

潜像235は、例えば、ロール原盤表面において複数列のトラックTをなすように配置されると共に、所定の単位格子Ucの規則的な周期パターンで形成される。潜像235は、例えば、円形状又は楕円形状である。潜像235が楕円形状を有する場合には、その楕円形状は、トラックTの延在方向に長軸方向を有することが好ましい。   For example, the latent image 235 is arranged to form a plurality of rows of tracks T on the surface of the roll master, and is formed with a regular periodic pattern of a predetermined unit cell Uc. The latent image 235 has, for example, a circular shape or an elliptical shape. When the latent image 235 has an elliptical shape, the elliptical shape preferably has a major axis direction in the extending direction of the track T.

〔現像工程〕
次に、例えば、ロール原盤231を回転させながら、レジスト層233上に現像液を滴下して、レジスト層233を現像処理する。これにより、図5Dの断面図に示すように、レジスト層233に複数の開口部が形成される。レジスト層233をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザー光234で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、図5Dの断面図に示すように、潜像(露光部)235に応じたパターンがレジスト層233に形成される。開口部のパターンは、例えば、所定の単位格子Ucの規則的な周期パターンである。
[Development process]
Next, for example, while rotating the roll master 231, a developing solution is dropped on the resist layer 233 to develop the resist layer 233. As a result, a plurality of openings are formed in the resist layer 233 as shown in the cross-sectional view of FIG. 5D. When the resist layer 233 is formed of a positive type resist, the exposed portion exposed with the laser beam 234 has a higher dissolution rate in the developer than the non-exposed portion, and as shown in the sectional view of FIG. 5D. A pattern corresponding to the latent image (exposed portion) 235 is formed on the resist layer 233. The pattern of the opening is, for example, a regular periodic pattern of a predetermined unit cell Uc.

〔エッチング工程〕
次に、ロール原盤231の上に形成されたレジスト層233のパターン(レジストパターン)をマスクとして、ロール原盤231の表面をエッチング処理する。これにより、図5Eの断面図に示すように、錐体形状を有する構造体(凹部)232を得ることができる。錐体形状は、例えば、トラックTの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状又は楕円錐台形状であることが好ましい。前記エッチングとしては、例えば、ドライエッチング、ウエットエッチングを用いることができる。このとき、エッチング処理とアッシング処理とを交互に行うことにより、例えば、錐体状の構造体232のパターンを形成することができる。以上により、目的とするロール原盤231が得られる。
[Etching process]
Next, the surface of the roll master 231 is etched using the pattern (resist pattern) of the resist layer 233 formed on the roll master 231 as a mask. Thereby, as shown to sectional drawing of FIG. 5E, the structure (recessed part) 232 which has a cone shape can be obtained. The cone shape is preferably, for example, an elliptical cone shape or an elliptical truncated cone shape having a major axis direction in the extending direction of the track T. As the etching, for example, dry etching or wet etching can be used. At this time, by alternately performing the etching process and the ashing process, for example, a pattern of the cone-shaped structure 232 can be formed. Thus, the intended roll master 231 is obtained.

〔転写処理〕
図6Aの断面図に示すような未硬化樹脂層236が形成された基材211を用意する。
次に、図6Bの断面図に示すように、ロール原盤231と、基材211上に形成された未硬化樹脂層236とを密着させ、未硬化樹脂層236に活性エネルギー線237を照射し未硬化樹脂層236を硬化させて微細な凸部及び凹部のいずれかを転写し、微細な凸部及び凹部のいずれか212aが形成された親水性層212を得る。
最後に、ロール原盤231から、得られた親水性層212を剥離して、親水性積層体を得る(図6C)。
なお、基材211が紫外線などの活性エネルギー線を透過しない材料で構成されている場合には、活性エネルギー線を透過可能な材料(例えば、石英)でロール原盤231を構成し、ロール原盤231の内部から未硬化樹脂層236に対して活性エネルギー線を照射するようにしてもよい。なお、転写原盤は上述のロール原盤231に限定されるものではなく、平板状の原盤を用いるようにしてもよい。ただし、量産性向上の観点からすると、転写原盤として上述のロール原盤231を用いることが好ましい。
[Transfer processing]
A base material 211 on which an uncured resin layer 236 as shown in the sectional view of FIG. 6A is formed is prepared.
Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 6B, the roll master 231 and the uncured resin layer 236 formed on the base material 211 are brought into close contact with each other, and the active energy ray 237 is irradiated to the uncured resin layer 236. The cured resin layer 236 is cured to transfer any of the fine convex portions and concave portions, thereby obtaining the hydrophilic layer 212 in which any one of the fine convex portions and concave portions 212a is formed.
Finally, the obtained hydrophilic layer 212 is peeled from the roll master 231 to obtain a hydrophilic laminate (FIG. 6C).
In addition, when the base material 211 is comprised with the material which does not permeate | transmit active energy rays, such as an ultraviolet-ray, the roll original recording 231 is comprised with the material (for example, quartz) which can permeate | transmit active energy rays, You may make it irradiate an active energy ray with respect to the uncured resin layer 236 from the inside. The transfer master is not limited to the roll master 231 described above, and a flat master may be used. However, from the viewpoint of improving mass productivity, it is preferable to use the roll master 231 described above as the transfer master.

[第2の実施形態]
第2の実施形態は、レーザーを転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより微細な凸部及び凹部のいずれかを形成した転写原盤を用いて行う前記親水性層形成工程の一例である。
[Second Embodiment]
In the second embodiment, the hydrophilic layer forming step is performed using a transfer master in which either a fine convex portion or a concave portion is formed by irradiating the surface of the transfer master with a laser to laser-process the transfer master. It is an example.

まず、転写原盤及びその製造方法について説明する。   First, the transfer master and its manufacturing method will be described.

〔転写原盤の構成〕
図7Aは、板状の原盤の構成の一例を示す平面図である。図7Bは、図7Aに示したa−a線に沿った断面図である。図7Cは、図7Bの一部を拡大して表す断面図である。板状の原盤331は、上述した構成を有する親水性積層体を作製するための原盤、より具体的には、前記親水性層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための原盤である。板状の原盤331は、例えば、微細な凹凸構造が設けられた表面を有し、その表面が親水性層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための成形面とされる。この成形面には、例えば、複数の構造体332が設けられている。図7Cに示す構造体332は、成形面に対して凹状を有している。板状の原盤331の材料としては、例えば、金属材料を用いることができる。前記金属材料としては、例えば、Ni、NiP、Cr、Cu、Al、Fe、及びその合金を用いることができる。前記合金としては、ステンレス鋼(SUS)が好ましい。前記ステンレス鋼(SUS)としては、例えば、SUS304、SUS420J2などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
[Configuration of the transfer master]
FIG. 7A is a plan view showing an example of the configuration of a plate-shaped master. FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line aa shown in FIG. 7A. FIG. 7C is an enlarged cross-sectional view of a part of FIG. 7B. The plate-shaped master 331 is a master for producing a hydrophilic laminate having the above-described configuration, more specifically, a master for forming a plurality of convex portions or concave portions on the surface of the hydrophilic layer. . The plate-shaped master 331 has, for example, a surface provided with a fine concavo-convex structure, and the surface is a molding surface for molding a plurality of convex portions or concave portions on the surface of the hydrophilic layer. For example, a plurality of structures 332 are provided on the molding surface. The structure 332 illustrated in FIG. 7C has a concave shape with respect to the molding surface. As a material of the plate-shaped master 331, for example, a metal material can be used. As the metal material, for example, Ni, NiP, Cr, Cu, Al, Fe, and alloys thereof can be used. The alloy is preferably stainless steel (SUS). Examples of the stainless steel (SUS) include, but are not limited to, SUS304, SUS420J2, and the like.

板状の原盤331の成形面に設けられた複数の構造体332と、前記親水性層の表面に設けられた複数の凸部又は凹部とは、反転した凹凸関係にある。即ち、板状の原盤331の構造体332の配列、大きさ、形状、配置ピッチ、及び高さ又は深さなどは、前記親水性層の凸部又は凹部と同様である。   The plurality of structures 332 provided on the molding surface of the plate-shaped master 331 and the plurality of protrusions or recesses provided on the surface of the hydrophilic layer have an inverted uneven relationship. That is, the arrangement, size, shape, arrangement pitch, height, depth, and the like of the structures 332 of the plate-like master 331 are the same as the convex portions or concave portions of the hydrophilic layer.

〔レーザー加工装置の構成〕
図8は、板状の原盤を作製するためのレーザー加工装置の構成の一例を示す概略図である。レーザー本体340は、例えば、サイバーレーザー株式会社製のIFRIT(商品名)である。レーザー加工に用いるレーザーの波長は、例えば、800nmである。ただし、レーザー加工に用いるレーザーの波長は、400nmや266nmなどでもかまわない。繰り返し周波数は、加工時間と、形成される凹部又は凸部の狭ピッチ化とを考慮すると、大きいほうが好ましく、1,000Hz以上であることが好ましい。レーザーのパルス幅は短い方が好ましく、200フェムト秒(10−15秒)〜1ピコ秒(10−12秒)程度であることが好ましい。
[Configuration of laser processing equipment]
FIG. 8 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a laser processing apparatus for producing a plate-shaped master. The laser body 340 is, for example, IFRIT (trade name) manufactured by Cyber Laser Corporation. The wavelength of the laser used for laser processing is, for example, 800 nm. However, the wavelength of the laser used for laser processing may be 400 nm or 266 nm. The repetition frequency is preferably larger in consideration of the processing time and the narrow pitch of the concave portions or convex portions to be formed, and is preferably 1,000 Hz or more. The laser pulse width is preferably shorter, and is preferably about 200 femtoseconds ( 10-15 seconds) to 1 picosecond ( 10-12 seconds).

レーザー本体340は、垂直方向に直線偏光したレーザー光を射出するようになっている。そのため、本装置では、波長板341(例えば、λ/2波長板)を用いて、偏光方向を回転などさせることで、所望の方向の直線偏光又は円偏光を得るようにしている。また、本装置では、四角形の開口を有するアパーチャー342を用いて、レーザー光の一部を取り出すようにしている。これは、レーザー光の強度分布がガウス分布となっているので、その中央付近のみを用いることで、面内強度分布の均一なレーザー光を得るようにしている。また、本装置では、直交させた2枚のシリンドリカルレンズ343を用いて、レーザー光を絞ることにより、所望のビームサイズになるようにしている。板状の原盤331を加工する際には、リニアステージ344を等速で移動させる。   The laser body 340 emits laser light linearly polarized in the vertical direction. Therefore, in this apparatus, linear polarization or circular polarization in a desired direction is obtained by rotating the polarization direction using a wave plate 341 (for example, a λ / 2 wave plate). Further, in this apparatus, a part of the laser light is extracted using an aperture 342 having a square opening. This is because the intensity distribution of the laser beam is a Gaussian distribution, so that only the center vicinity is used to obtain a laser beam having a uniform in-plane intensity distribution. Further, in this apparatus, the laser beam is focused using two orthogonal cylindrical lenses 343 so that a desired beam size is obtained. When processing the plate-shaped master 331, the linear stage 344 is moved at a constant speed.

板状の原盤331へ照射されるレーザーのビームスポットは、四角形形状であることが好ましい。ビームスポットの整形は、例えば、アパーチャー、シリンドリカルレンズなどによって行うことができる。また、ビームスポットの強度分布は、なるべく均一であることが好ましい。これは、型に形成する凹凸の深さなどの面内分布をなるべく均一化することが好ましいためである。一般的には、ビームスポットのサイズは、加工を行いたい面積よりも小さいため、ビームを走査することで加工を行いたい面積全てに凸凹形状を付与する必要がある。   The beam spot of the laser irradiated on the plate-shaped master 331 is preferably rectangular. The beam spot can be shaped by using, for example, an aperture or a cylindrical lens. Further, the intensity distribution of the beam spot is preferably as uniform as possible. This is because it is preferable to make the in-plane distribution such as the depth of the unevenness formed in the mold as uniform as possible. In general, since the size of the beam spot is smaller than the area to be processed, it is necessary to give an uneven shape to all the areas to be processed by scanning the beam.

前記親水性層の表面の形成に用いられる原盤(型)は、例えば、SUS、NiP、Cu、Al、Fe等の金属などの基板に、パルス幅が1ピコ秒(10−12秒)以下の超短パルスレーザー、いわゆるフェムト秒レーザーを用いてパターンを描画することにより形成される。また、レーザー光の偏光は、直線偏光であっても円偏光であっても楕円偏光であってもよい。このとき、レーザー波長、繰り返し周波数、パルス幅、ビームスポット形状、偏光、サンプルへ照射するレーザー強度、レーザーの走査速度などを適宜設定することにより、所望の凹凸を有するパターンを形成することができる。 The master (form) used for forming the surface of the hydrophilic layer is, for example, a substrate of a metal such as SUS, NiP, Cu, Al, Fe or the like with a pulse width of 1 picosecond ( 10-12 seconds) or less. It is formed by drawing a pattern using an ultrashort pulse laser, so-called femtosecond laser. The polarization of the laser light may be linearly polarized light, circularly polarized light, or elliptically polarized light. At this time, a pattern having desired irregularities can be formed by appropriately setting the laser wavelength, repetition frequency, pulse width, beam spot shape, polarization, laser intensity applied to the sample, laser scanning speed, and the like.

所望の形状を得るために変化させることが可能なパラメーターには以下のようなものが挙げられる。フルエンスは、パルス1つあたりのエネルギー密度(J/cm)であり、以下の式で求められるものである。
F=P/(fREPT×S)
S=Lx×Ly
F:フルエンス
P:レーザーのパワー
fREPT:レーザーの繰り返し周波数
S:レーザーの照射位置での面積
Lx×Ly:ビームサイズ
なお、パルス数Nは、1箇所に照射されたパルスの数であり、以下の式で求められるものである。
N=fREPT×Ly/v
Ly:レーザーの走査方向のビームサイズ
v:レーザーの走査速度
The parameters that can be changed to obtain the desired shape include the following. The fluence is an energy density (J / cm 2 ) per pulse, and is obtained by the following equation.
F = P / (fREPT × S)
S = Lx × Ly
F: fluence P: laser power fREPT: laser repetition frequency S: area at the laser irradiation position Lx × Ly: beam size Note that the number of pulses N is the number of pulses irradiated at one place, and It is calculated by the formula.
N = fREPT × Ly / v
Ly: Beam size in laser scanning direction v: Laser scanning speed

また、所望の形状を得るために板状の原盤331の材質を変化させてもいい。板状の原盤331の材質によってレーザー加工される形状は変化する。SUS、NiP、Cu、Al、Fe等の金属などを用いるほかに、原盤表面に、例えば、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)などの半導体材料を被覆してもよい。前記原盤表面に前記半導体材料を被覆する方法としては、例えば、プラズマCVD、スパッタリングなどが挙げられる。被覆する前記半導体材料としては、DLCのほかにも、例えば、フッ素(F)を混入したDLC、窒化チタン、窒化クロムなどを使用できる。被覆して得られる被膜の平均厚みは、例えば、1μm程度とすればよい。   Further, the material of the plate-shaped master 331 may be changed in order to obtain a desired shape. The shape of laser processing varies depending on the material of the plate-shaped master 331. In addition to using metals such as SUS, NiP, Cu, Al, and Fe, the surface of the master may be coated with a semiconductor material such as DLC (diamond-like carbon). Examples of the method for coating the surface of the master with the semiconductor material include plasma CVD and sputtering. As the semiconductor material to be coated, in addition to DLC, for example, DLC mixed with fluorine (F), titanium nitride, chromium nitride, or the like can be used. The average thickness of the coating obtained by coating may be about 1 μm, for example.

〔レーザー加工工程〕
まず、図9Aに示すように、板状の原盤331を準備する。この板状の原盤331の被加工面である表面331Aは、例えば、鏡面状態となっている。なお、この表面331Aは、鏡面状態となっていなくてもよく、例えば、表面331Aに、転写用のパターンよりも細かな凹凸が形成されていてもよいし、転写用のパターンと同等か、それよりも粗い凹凸が形成されていてもよい。
[Laser processing process]
First, as shown in FIG. 9A, a plate-shaped master 331 is prepared. A surface 331A that is a surface to be processed of the plate-like master 331 is in a mirror state, for example. The surface 331A may not be in a mirror state. For example, the surface 331A may have irregularities finer than the transfer pattern, or may be equivalent to the transfer pattern. Rougher irregularities may be formed.

次に、図8に示したレーザー加工装置を用いて、以下のようにして板状の原盤331の表面331Aをレーザー加工する。まず、板状の原盤331の表面331Aに対して、パルス幅が1ピコ秒(10−12秒)以下の超短パルスレーザー、いわゆるフェムト秒レーザーを用いてパターンを描画する。例えば、図9Bに示したように、板状の原盤331の表面331Aに対して、フェムト秒レーザー光Lfを照射すると共に、その照射スポットを表面331Aに対してスキャンさせる。 Next, the surface 331A of the plate-shaped master 331 is laser-processed as follows using the laser processing apparatus shown in FIG. First, a pattern is drawn on the surface 331A of the plate-shaped master 331 using an ultrashort pulse laser having a pulse width of 1 picosecond (10 −12 seconds) or less, so-called femtosecond laser. For example, as shown in FIG. 9B, the surface 331A of the plate-shaped master 331 is irradiated with femtosecond laser light Lf, and the irradiation spot is scanned with respect to the surface 331A.

このとき、レーザー波長、繰り返し周波数、パルス幅、ビームスポット形状、偏光、表面331Aへ照射するレーザーの強度、レーザーの走査速度等が適宜設定されることにより、図9Cに示すように、所望の形状を有する複数の構造体332が形成される。   At this time, the laser wavelength, the repetition frequency, the pulse width, the beam spot shape, the polarization, the intensity of the laser applied to the surface 331A, the laser scanning speed, etc. are appropriately set, as shown in FIG. A plurality of structures 332 having the structure is formed.

〔転写処理〕
図10Aの断面図に示すような未硬化樹脂層333が形成された基材311を用意する。
次に、図10Bの断面図に示すように、板状の原盤331と、基材311上に形成された未硬化樹脂層333とを密着させ、未硬化樹脂層333に活性エネルギー線334を照射し未硬化樹脂層333を硬化させて板状の原盤331の微細な凸部及び凹部のいずれかを転写し、微細な凸部及び凹部のいずれかが形成された親水性層312を得る。
最後に、板状の原盤331から、得られた親水性層312を剥離して、親水性積層体を得る(図10C)。
なお、基材311が紫外線などの活性エネルギー線を透過しない材料で構成されている場合には、活性エネルギー線を透過可能な材料(例えば、石英)で板状の原盤331を構成し、板状の原盤331の裏面(成形面とは反対側の面)から未硬化樹脂層333に対して活性エネルギー線を照射するようにしてもよい。
[Transfer processing]
A base material 311 having an uncured resin layer 333 as shown in the cross-sectional view of FIG. 10A is prepared.
Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 10B, the plate-shaped master 331 and the uncured resin layer 333 formed on the base material 311 are brought into close contact with each other, and the active energy ray 334 is irradiated to the uncured resin layer 333. Then, the uncured resin layer 333 is cured, and any one of the fine convex portions and concave portions of the plate-shaped master 331 is transferred to obtain the hydrophilic layer 312 in which any one of the fine convex portions and concave portions is formed.
Finally, the obtained hydrophilic layer 312 is peeled from the plate-shaped master 331 to obtain a hydrophilic laminate (FIG. 10C).
When the base material 311 is made of a material that does not transmit active energy rays such as ultraviolet rays, the plate-shaped master 331 is made of a material that can transmit active energy rays (for example, quartz), and the plate An active energy ray may be applied to the uncured resin layer 333 from the back surface (surface opposite to the molding surface) of the master 331.

(その他の親水性積層体の製造方法)
本発明の前記親水性積層体の製造方法以外の、本発明の前記親水性積層体を製造する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、凹凸構造を有する基材上に、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する前記親水性層を形成する方法などが挙げられる。前記凹凸構造を有する基材の作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記親水性層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、(1)前記凹凸構造を有する基材上に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して未硬化樹脂層を形成し、前記未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記未硬化樹脂層を硬化させる方法、(2)真空成形方法などが挙げられる。そうすることにより、前記基材の凹凸構造が前記親水性層の表面形状に反映され、前記親水性積層体を製造できる。
(Other manufacturing methods for hydrophilic laminates)
There is no restriction | limiting in particular as a method of manufacturing the said hydrophilic laminated body of this invention other than the manufacturing method of the said hydrophilic laminated body of this invention, According to the objective, it can select suitably, For example, uneven structure is used. Examples thereof include a method of forming the hydrophilic layer having either a fine convex portion or a concave portion on the surface thereof. There is no restriction | limiting in particular as a preparation method of the base material which has the said uneven structure, According to the objective, it can select suitably. There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said hydrophilic layer, According to the objective, it can select suitably, For example, (1) An active energy ray curable resin composition is formed on the base material which has the said uneven structure. Examples thereof include a method of coating to form an uncured resin layer, irradiating the uncured resin layer with active energy rays to cure the uncured resin layer, and (2) a vacuum forming method. By doing so, the uneven structure of the substrate is reflected in the surface shape of the hydrophilic layer, and the hydrophilic laminate can be produced.

前記基材、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の塗布方法、及び前記活性エネルギー線としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記親水性積層体の説明、及び本発明の前記親水性積層体の製造方法の説明において例示したものが挙げられる。   The substrate, the active energy ray curable resin composition, the application method of the active energy ray curable resin composition, and the active energy ray are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, what was illustrated in description of the said hydrophilic laminated body of this invention and description of the manufacturing method of the said hydrophilic laminated body of this invention is mentioned.

前記真空成形方法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法などが挙げられる。   Examples of the vacuum forming method include vapor deposition, sputtering, and CVD (Chemical Vapor Deposition).

(物品)
本発明の物品は、本発明の前記親水性積層体を表面に有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
前記物品としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラス窓、冷蔵・冷凍ショーケース、自動車のウインドウ等の窓材、浴室内の鏡、自動車サイドミラー等の鏡、自動車、オートバイ、建設機械、船舶などに搭載される計器類のカバー、浴室の床及び壁、太陽電池パネル、防犯監視カメラなどが挙げられる。
また、前記物品は、眼鏡、ゴーグル、ヘルメット、レンズ、マイクロレンズアレイ、計器類のカバー、自動車のヘッドライトカバー、フロントパネル、サイドパネル、リアパネルなどであってもよい。これらは、インモールド成形、インサート成形、オーバーレイ成形により形成されることが好ましい。
(Goods)
The article of the present invention has the hydrophilic laminate of the present invention on the surface, and further includes other members as necessary.
The article is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include glass windows, refrigerated / frozen showcases, window materials such as automobile windows, bathroom mirrors, automobile side mirrors, and the like. Examples include covers for instruments mounted on mirrors, automobiles, motorcycles, construction machinery, ships, bathroom floors and walls, solar panels, security surveillance cameras, and the like.
The article may be glasses, goggles, a helmet, a lens, a microlens array, a cover for an instrument, a headlight cover for an automobile, a front panel, a side panel, a rear panel, and the like. These are preferably formed by in-mold molding, insert molding, or overlay molding.

前記親水性積層体は、前記物品の表面の一部に形成されていてもよいし、全面に形成されていてもよい。   The hydrophilic laminate may be formed on a part of the surface of the article or may be formed on the entire surface.

前記物品の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、後述する本発明の物品の製造方法が好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said article | item, Although it can select suitably according to the objective, The manufacturing method of the article | item of this invention mentioned later is preferable.

(物品の製造方法)
本発明の物品の製造方法は、加熱工程と、親水性積層体成形工程と、射出成形工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
前記物品の製造方法は、本発明の前記物品の製造方法である。
(Product manufacturing method)
The method for producing an article of the present invention includes at least a heating step, a hydrophilic laminate molding step, and an injection molding step, and further includes other steps as necessary.
The manufacturing method of the article is the manufacturing method of the article of the present invention.

<加熱工程>
前記加熱工程としては、親水性積層体を加熱する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記親水性積層体は、本発明の前記親水性積層体である。
<Heating process>
The heating step is not particularly limited as long as it is a step of heating the hydrophilic laminate, and can be appropriately selected according to the purpose.
The hydrophilic laminate is the hydrophilic laminate of the present invention.

前記加熱としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、赤外線加熱であることが好ましい。
前記加熱の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記基材のガラス転移温度近傍若しくはガラス転移温度以上であることが好ましい。
前記加熱の時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
There is no restriction | limiting in particular as said heating, Although it can select suitably according to the objective, It is preferable that it is infrared heating.
There is no restriction | limiting in particular as the temperature of the said heating, Although it can select suitably according to the objective, It is preferable that it is the glass transition temperature vicinity of the said base material or more than a glass transition temperature.
There is no restriction | limiting in particular as time of the said heating, According to the objective, it can select suitably.

<親水性積層体成形工程>
前記親水性積層体成形工程としては、加熱された前記親水性積層体を所望の形状に成形する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、所定の金型に密着させて、空気圧により、所望の形状に成形する工程などが挙げられる。
<Hydrophilic laminate molding process>
The hydrophilic laminate forming step is not particularly limited as long as it is a step of forming the heated hydrophilic laminate into a desired shape, and can be appropriately selected according to the purpose. The process etc. which make it closely_contact | adhere to a metal mold | die and shape | mold into a desired shape with an air pressure are mentioned.

<射出成形工程>
前記射出成形工程としては、所望の形状に成形された前記親水性積層体の基材側に成形材料を射出し、前記成形材料を成形する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Injection molding process>
The injection molding step is not particularly limited as long as it is a step of injecting a molding material onto the substrate side of the hydrophilic laminate molded into a desired shape, and molding the molding material, depending on the purpose. It can be selected appropriately.

前記成形材料としては、例えば、樹脂などが挙げられる。前記樹脂としては、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ABS樹脂(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体)、AS樹脂(アクリロニトリル−スチレン共重合体)、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、液晶ポリエステル、ポリアリル系耐熱樹脂、各種複合樹脂、各種変性樹脂などが挙げられる。   Examples of the molding material include a resin. Examples of the resin include olefin resins, styrene resins, ABS resins (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers), AS resins (acrylonitrile-styrene copolymers), acrylic resins, urethane resins, unsaturated polyesters. Resin, epoxy resin, polyphenylene oxide / polystyrene resin, polycarbonate, polycarbonate modified polyphenylene ether, polyethylene terephthalate, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyether imide, polyimide, liquid crystal polyester, polyallyl heat resistant resin, various composite resins, various modified resins Resin etc. are mentioned.

前記射出の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、所定の金型に密着させた前記親水性積層体の基材側に、溶融した前記成形材料を流し込む方法などが挙げられる。   The injection method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the molten molding material is applied to the base of the hydrophilic laminate that is in close contact with a predetermined mold. The method of pouring etc. is mentioned.

前記物品の製造方法は、インモールド成形装置、インサート成形装置、オーバーレイ成形装置を用いて行うことが好ましい。   The article manufacturing method is preferably performed using an in-mold molding apparatus, an insert molding apparatus, and an overlay molding apparatus.

ここで、本発明の物品の製造方法の一例を、図を用いて説明する。この製造方法はインモールド成形装置を用いた製造方法である。
まず、親水性積層体500を加熱する。加熱は赤外線加熱が好ましい。
続いて、図11Aに示すように、加熱した親水性積層体500を、第1金型501と第2金型502との間の所定の位置に配置する。このとき、親水性積層体500の樹脂製基材が第1金型501を向き、親水性樹脂層が第2金型502を向くように配置する。図11Aにおいて、第1金型501は、固定型であり、第2金型502は、可動型である。
Here, an example of a method for manufacturing an article of the present invention will be described with reference to the drawings. This manufacturing method is a manufacturing method using an in-mold molding apparatus.
First, the hydrophilic laminate 500 is heated. Heating is preferably infrared heating.
Subsequently, as shown in FIG. 11A, the heated hydrophilic laminate 500 is disposed at a predetermined position between the first mold 501 and the second mold 502. At this time, it arrange | positions so that the resin-made base materials of the hydrophilic laminated body 500 may face the 1st metal mold | die 501 and a hydrophilic resin layer may face the 2nd metal mold | die 502. FIG. In FIG. 11A, the first mold 501 is a fixed mold, and the second mold 502 is a movable mold.

第1金型501と第2金型502との間に親水性積層体500を配置した後、第1金型501と第2金型502とを型締めする。続いて、第2金型502のキャビティ面に開口されている吸引穴504で親水性積層体500を吸引して、第2金型502のキャビティ面に親水性積層体500を装着する。そうすることにより、キャビティ面が親水性積層体500で賦形される。また、このとき、図示されていないフィルム押さえ機構で親水性積層体500の外周を固定し位置決めしてもよい。その後、親水性積層体500の不要な部位をトリミングする(図11B)。
なお、第2金型502が吸引穴504を有さず、第1金型501に圧空孔(図示せず)を有する場合には、第1金型501の圧空孔から親水性積層体500に圧空を送ることにより、第2金型502のキャビティ面に親水性積層体500を装着する。
After the hydrophilic laminate 500 is disposed between the first mold 501 and the second mold 502, the first mold 501 and the second mold 502 are clamped. Subsequently, the hydrophilic laminate 500 is sucked through the suction holes 504 opened in the cavity surface of the second mold 502, and the hydrophilic laminate 500 is mounted on the cavity surface of the second mold 502. By doing so, the cavity surface is shaped with the hydrophilic laminate 500. At this time, the outer periphery of the hydrophilic laminate 500 may be fixed and positioned by a film pressing mechanism (not shown). Thereafter, unnecessary portions of the hydrophilic laminate 500 are trimmed (FIG. 11B).
If the second mold 502 does not have the suction hole 504 and the first mold 501 has a pressurized hole (not shown), the pressurized hole of the first mold 501 can be used to enter the hydrophilic laminate 500. By sending the compressed air, the hydrophilic laminate 500 is mounted on the cavity surface of the second mold 502.

続いて、親水性積層体500の樹脂製基材に向けて、第1金型501のゲート505から溶融した成形材料506を射出し、第1金型501と第2金型502を型締めして形成したキャビティ内に注入する(図11C)。これにより、溶融した成形材料506がキャビティ内に充填される(図11D)。更に、溶融した成形材料506の充填完了後、溶融した成形材料506を所定の温度まで冷却して固化する。   Subsequently, the molten molding material 506 is injected from the gate 505 of the first mold 501 toward the resin base material of the hydrophilic laminate 500, and the first mold 501 and the second mold 502 are clamped. Then, it is injected into the cavity formed (FIG. 11C). Thereby, the molten molding material 506 is filled in the cavity (FIG. 11D). Further, after the filling of the molten molding material 506 is completed, the molten molding material 506 is cooled to a predetermined temperature and solidified.

その後、第2金型502を動かして、第1金型501と第2金型502とを型開きする(図11E)。そうすることにより、成形材料506の表面に親水性積層体500が形成され、かつ所望の形状にインモールド成形された物品507が得られる。
最後に、第1金型501から突き出しピン508を押し出して、得られた物品507を取り出す。
Thereafter, the second mold 502 is moved to open the first mold 501 and the second mold 502 (FIG. 11E). By doing so, the article 507 in which the hydrophilic laminate 500 is formed on the surface of the molding material 506 and in-molded into a desired shape is obtained.
Finally, the protruding pin 508 is pushed out from the first mold 501 and the obtained article 507 is taken out.

前記オーバーレイ成形装置を用いる場合の製造方法は、下記の通りである。これは、親水性積層体を成形材料の表面に直接加飾する工程であり、その一例としては、TOM(Three dimension Overlay Method)工法が挙げられる。前記TOM工法を用いた本発明の物品の製造方法の一例を下記に説明する。
まず、固定枠に固定された親水性積層体によって分断された装置内の両空間について、真空ポンプ等で空気を吸引し、前記両空間内を真空引きする。
この時、片側の空間に事前に射出成型した成形材料を設置しておく。同時に、親水性積層体が軟化する所定の温度になるまで赤外線ヒーターで加熱する。親水性積層体が加熱され軟化したタイミングで、装置内空間の成形材料がない側に大気を送り込むことにより真空雰囲気下で、成形材料の立体形状に、親水性積層体をしっかりと密着させる。必要に応じ、さらに大気を送り込んだ側からの圧空押付けを併用してもよい。親水性積層体が成形体に密着した後、得られた加飾成形品を固定枠から外す。真空成形は、通常80℃〜200℃、好ましくは110℃〜160℃程度で行われる。
A manufacturing method in the case of using the overlay molding apparatus is as follows. This is a process of directly decorating the hydrophilic laminate on the surface of the molding material, and an example thereof is a TOM (Three Dimension Overlay Method) method. An example of a method for producing the article of the present invention using the TOM method will be described below.
First, air is sucked with a vacuum pump or the like in both spaces in the apparatus divided by the hydrophilic laminate fixed to the fixed frame, and the spaces are evacuated.
At this time, a molding material that has been injection molded in advance is placed in a space on one side. At the same time, it is heated with an infrared heater until a predetermined temperature at which the hydrophilic laminate is softened. At the timing when the hydrophilic laminate is heated and softened, the hydrophilic laminate is firmly adhered to the three-dimensional shape of the molding material in a vacuum atmosphere by sending air to the side of the apparatus space where there is no molding material. If necessary, compressed air pressing from the side where the atmosphere is sent may be used in combination. After the hydrophilic laminate is in close contact with the molded body, the obtained decorative molded product is removed from the fixed frame. Vacuum forming is usually performed at 80 ° C to 200 ° C, preferably about 110 ° C to 160 ° C.

オーバーレイ成形の際には、前記親水性積層体と前記成形材料とを接着するために、前記親水性積層体の親水性面とは反対側の面に粘着層を設けてもよい。前記粘着層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系粘着剤、ホットメルト接着剤などが挙げられる。前記粘着層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記基材上に前記親水性樹脂層を形成後に、前記樹脂製基材の前記親水性樹脂層側とは逆側に、粘着層用塗工液を塗工して、前記粘着層を形成する方法などが挙げられる。また、剥離シート上に粘着層用塗工液を塗工して前記粘着層を形成した後に、前記樹脂製基材と前記剥離シート上の前記粘着層とをラミネートして、前記樹脂製基材上に前記粘着層を積層してもよい。   In overlay molding, an adhesive layer may be provided on the surface opposite to the hydrophilic surface of the hydrophilic laminate in order to bond the hydrophilic laminate and the molding material. There is no restriction | limiting in particular as said adhesion layer, According to the objective, it can select suitably, For example, an acrylic adhesive, a hot-melt-adhesive etc. are mentioned. There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said adhesion layer, According to the objective, it can select suitably, For example, after forming the said hydrophilic resin layer on the said base material, the said hydrophilic property of the said resin-made base materials Examples include a method of forming the adhesive layer by applying an adhesive layer coating solution on the side opposite to the resin layer side. Also, after the adhesive layer coating liquid is applied on the release sheet to form the adhesive layer, the resin base material and the adhesive layer on the release sheet are laminated, and the resin base material is laminated. The adhesive layer may be laminated on top.

また、本発明の前記物品は、成形材料の代わりに次のようなものへ真空成形法により親水性積層体を積層したものでもよい。例えば、各種素材の平板、曲面板等の板材、立体形状物品、シート(あるいはフィルム)などである。前記各種素材としては、例えば、木質繊維板、金属素材、ガラス、セラミックス、窯業系材料、非陶磁器窯業系材料、樹脂素材などが挙げられる。前記木質繊維板としては、例えば、木材単板、木材合板、パーティクルボード、MDF(中密度繊維板)などが挙げられる。前記金属素材としては、例えば、鉄、アルミニウムなどが挙げられる。前記セラミックスとしては、例えば、陶磁器などが挙げられる。前記非セメント窯業系材料としては、例えば、石膏などが挙げられる。前記非陶磁器窯業系材料としては、例えば、ALC(軽量気泡コンクリート)などが挙げられる。前記樹脂素材としては、例えば、ゴムなどが挙げられる。   Moreover, the said article | item of this invention may laminate | stack the hydrophilic laminated body by the vacuum forming method on the following things instead of a molding material. For example, plate materials such as flat plates and curved plates of various materials, three-dimensional articles, sheets (or films), and the like. Examples of the various materials include wood fiber boards, metal materials, glass, ceramics, ceramic materials, non-ceramic ceramic materials, and resin materials. Examples of the wood fiber board include a wood veneer, a wood plywood, a particle board, and an MDF (medium density fiber board). Examples of the metal material include iron and aluminum. Examples of the ceramic include ceramics. Examples of the non-cement ceramic material include gypsum. Examples of the non-ceramic ceramic material include ALC (lightweight cellular concrete). Examples of the resin material include rubber.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

<凸部の平均距離、凹部の平均距離、凸部の平均高さ、凹部の平均深さ、平均アスペクト比、及び平均表面積率>
以下の実施例において、凸部の平均距離、凹部の平均距離、凸部の平均高さ、凹部の平均深さ、及び平均アスペクト比は、以下のようにして求めた。
まず、凸部又は凹部を有する親水性樹脂層の表面を原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)により観察し、AFMの断面プロファイルから凸部又は凹部のピッチ、及び凸部の高さ又は凹部の深さを求めた。これを前記親水性樹脂層の表面から無作為に選び出された10箇所において繰り返し行い、ピッチP1、P2、・・・、P10と、高さ又は深さH1、H2、・・・、H10とを求めた。
ここで、前記凸部のピッチは、前記凸部の頂点間の距離である。前記凹部のピッチは、前記凹部の最深部間の距離である。前記凸部の高さは、前記凸部間の谷部の最低点を基準とした前記凸部の高さである。前記凹部の深さは、前記凹部間の山部の最高点を基準とした前記凹部の深さである。
次に、これらのピッチP1、P2、・・・、P10、及び高さ又は深さH1、H2、・・・、H10をそれぞれ単純に平均(算術平均)して、凸部又は凹部の平均距離(Pm)、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ(Hm)を求めた。
前記Pmと、前記Hmとから、平均アスペクト比(Hm/Pm)を求めた。
凸部又は凹部を有する親水性樹脂層の表面から無作為に選び出された10箇所において繰り返しAFM像を得、表面積S1、S2、・・・、S10を求めた。次に、これらの表面積S1、S2、・・・、S10と、それぞれの観察領域の面積との比(表面積/面積)SR1、SR2、・・・、SR10を単純に平均(算術平均)して、親水性樹脂層の表面の平均表面積率SRmを求めた。
<Average distance of convex part, average distance of concave part, average height of convex part, average depth of concave part, average aspect ratio, and average surface area ratio>
In the following examples, the average distance of the convex portions, the average distance of the concave portions, the average height of the convex portions, the average depth of the concave portions, and the average aspect ratio were determined as follows.
First, the surface of the hydrophilic resin layer having a convex portion or a concave portion is observed with an atomic force microscope (AFM), and the pitch of the convex portion or the concave portion, the height of the convex portion or the concave portion is determined from the cross-sectional profile of the AFM. Sought the depth of. This is repeated at 10 locations randomly selected from the surface of the hydrophilic resin layer, and pitches P1, P2,..., P10 and heights or depths H1, H2,. Asked.
Here, the pitch of the convex portions is a distance between the vertices of the convex portions. The pitch of the recesses is the distance between the deepest portions of the recesses. The height of the convex portion is the height of the convex portion based on the lowest point of the valley between the convex portions. The depth of the recess is the depth of the recess based on the highest point of the peak between the recesses.
Next, these pitches P1, P2,..., P10 and the heights or depths H1, H2,..., H10 are simply averaged (arithmetic average), and the average distance between the convex portions or the concave portions is calculated. (Pm) and the average height of the convex portions or the average depth (Hm) of the concave portions were determined.
An average aspect ratio (Hm / Pm) was determined from the Pm and the Hm.
AFM images were repeatedly obtained at 10 locations randomly selected from the surface of the hydrophilic resin layer having convex portions or concave portions, and surface areas S1, S2,. Next, the ratio (surface area / area) SR1, SR2,..., SR10 of these surface areas S1, S2,..., S10 and the area of each observation region is simply averaged (arithmetic average). The average surface area ratio SRm of the surface of the hydrophilic resin layer was determined.

<防曇性>
<<純水接触角>>
純水接触角は、PCA−1(協和界面化学株式会社製)を用い、下記条件で滑落法によって測定した。
・蒸留水をプラスチックシリンジに入れて、その先端にステンレス製の針を取り付けて評価面に滴下した。滴下後、5秒後の接触角を、評価面の任意の10か所で測定し、その平均値を純水接触角とした。
・水の滴下量:2μL
・測定温度:25℃
<Anti-fogging property>
<< Pure water contact angle >>
The pure water contact angle was measured by a sliding method using PCA-1 (manufactured by Kyowa Interface Chemical Co., Ltd.) under the following conditions.
-Distilled water was put into a plastic syringe, and a stainless steel needle was attached to the tip thereof and dropped onto the evaluation surface. After dropping, the contact angle after 5 seconds was measured at any 10 locations on the evaluation surface, and the average value was defined as the pure water contact angle.
・ Drip amount of water: 2μL
・ Measurement temperature: 25 ℃

<<呼気試験>>
25℃50%RHの環境にて、親水性積層体の親水性樹脂層の表面に対して、該表面から法線方向に5cm離れた距離から息を大きく1回吐きかけ、下記評価基準で評価した。
〔評価基準〕
◎:親水性積層体に外観変化が全くなかった。
○:親水性積層体は白く曇らなかったが、親水性樹脂層の表面に水膜が形成されたのが確認された。
×:親水性積層体は白く曇った。
<< Breath test >>
In an environment of 25 ° C. and 50% RH, breathe out once from the surface of the hydrophilic resin layer of the hydrophilic laminate at a distance of 5 cm in the normal direction from the surface and evaluate according to the following evaluation criteria. did.
〔Evaluation criteria〕
A: The appearance of the hydrophilic laminate was not changed at all.
○: Although the hydrophilic laminate was not cloudy white, it was confirmed that a water film was formed on the surface of the hydrophilic resin layer.
X: The hydrophilic laminate was cloudy white.

<<耐摩耗性>>
ザブィーナMX(KBセーレン株式会社製)を親水性樹脂層の表面に置き、荷重75gf/直径13mmにて10,000往復摺動(摺動ストローク:3cm、摺動周波数:60Hz)した後、純水接触角、呼気試験、外観を評価した。純水接触角及び呼気試験の評価方法は上記と同様。外観は下記評価基準で評価した。
〔外観の評価基準〕
○:外観変化がなかった。
×:傷つき及び白濁の少なくともいずれかが確認された。
<< Abrasion resistance >>
After placing Zabina MX (KB Selen Co., Ltd.) on the surface of the hydrophilic resin layer and sliding back and forth 10,000 times at a load of 75 gf / diameter of 13 mm (sliding stroke: 3 cm, sliding frequency: 60 Hz), pure water Contact angle, breath test, and appearance were evaluated. The evaluation method for the pure water contact angle and breath test is the same as above. The appearance was evaluated according to the following evaluation criteria.
[Evaluation criteria for appearance]
○: No change in appearance.
X: At least one of damage and cloudiness was confirmed.

<<耐水性>>
親水性積層体を40℃の水中に24時間浸漬させ、取り出した直後にティッシュ(大王製紙株式会社製エリエール)で水を拭き取った。その後、呼気試験、外観、鉛筆硬度を評価し、以下の評価基準で判定した。
〔評価基準〕
○:呼気による白化なし、外観変化なし、且つ鉛筆硬度の低下(軟化)が1ランク以内。
×:次のいずれか一つ以上に該当。(1)呼気による白化発生、(2)外観変化あり、(3)鉛筆硬度の低下(軟化)が2ランク以上。
<< Water resistance >>
The hydrophilic laminate was immersed in water at 40 ° C. for 24 hours, and immediately after removal, the water was wiped off with a tissue (Erière, manufactured by Daio Paper Co., Ltd.). Thereafter, the breath test, appearance, and pencil hardness were evaluated and judged according to the following evaluation criteria.
〔Evaluation criteria〕
○: No whitening due to exhalation, no change in appearance, and a decrease in pencil hardness (softening) within 1 rank.
×: Corresponds to one or more of the following. (1) Whitening occurs due to exhalation, (2) Appearance changes, (3) Pencil hardness reduction (softening) is 2 ranks or more.

<<耐低温環境試験>>
親水性積層体を5℃に設定した冷蔵庫内にて30分間保持した後、25℃50%RHの環境に取り出したときの曇り具合を評価し、以下の評価基準で判定した。
〔評価基準〕
◎:曇りがなかった。
○:白く曇らなかったが、親水性樹脂層の表面に水膜が形成されたのが確認された。
×:白く曇った。
<< Low temperature resistance test >>
After holding the hydrophilic laminate in a refrigerator set at 5 ° C. for 30 minutes, the cloudiness when taken out in an environment of 25 ° C. and 50% RH was evaluated, and judged according to the following evaluation criteria.
〔Evaluation criteria〕
A: There was no cloudiness.
◯: Although white and not cloudy, it was confirmed that a water film was formed on the surface of the hydrophilic resin layer.
×: White and cloudy.

<マルテンス硬度>
親水性樹脂層のマルテンス硬度は、PICODENTOR HM500(商品名;フィッシャー・インストルメンツ社製)を用いて測定した。荷重1mN/20sとし、針としてダイアモンド錐体を用い、面角136°で測定した。
<Martens hardness>
The Martens hardness of the hydrophilic resin layer was measured using PICODERTOR HM500 (trade name; manufactured by Fisher Instruments). The load was 1 mN / 20 s, a diamond cone was used as the needle, and the surface angle was 136 °.

<鉛筆硬度>
親水性樹脂層の鉛筆硬度は、JIS K 5600−5−4に従って測定した。
<Pencil hardness>
The pencil hardness of the hydrophilic resin layer was measured according to JIS K 5600-5-4.

<伸び率>
伸び率は、以下の方法により求めた。
親水性積層体を、長さ10.5cm×幅2.5cmの短冊状にして測定試料とした。得られた測定試料の引張り伸び率を引張り試験機(オートグラフAG−5kNXplus、株式会社島津製作所製)で測定(測定条件:引張り速度=100mm/min;チャック間距離=8cm;測定温度=190℃)した。
<Elongation>
The elongation rate was determined by the following method.
The hydrophilic laminate was formed into a strip shape having a length of 10.5 cm and a width of 2.5 cm to obtain a measurement sample. The tensile elongation of the obtained measurement sample was measured with a tensile tester (Autograph AG-5kNXplus, manufactured by Shimadzu Corporation) (measurement condition: tensile speed = 100 mm / min; distance between chucks = 8 cm; measurement temperature = 190 ° C.) )did.

<全光線透過率>
親水性積層体の全光線透過率は、JIS K 7361に従って、HM−150(商品名;株式会社村上色彩技術研究所製)を用いて評価した。
<Total light transmittance>
The total light transmittance of the hydrophilic laminate was evaluated using HM-150 (trade name; manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.) according to JIS K 7361.

<ヘイズ>
親水性積層体のヘイズは、JIS K 7136に従って、HM−150(商品名;株式会社村上色彩技術研究所製)を用いて評価した。
<Haze>
The haze of the hydrophilic laminate was evaluated using HM-150 (trade name; manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.) according to JIS K 7136.

<密着性>
親水性樹脂層の密着性は、JIS K 5400に従い、碁盤目(1mm間隔×100マス)セロハンテープ(ニチバン株式会社製、CT24)剥離試験により評価した。
<Adhesion>
The adhesiveness of the hydrophilic resin layer was evaluated by a peel test (cross cut (1 mm interval × 100 mass) cellophane tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., CT24)) according to JIS K 5400.

<加熱収縮率差>
親水性積層体の加熱収縮率差は、以下の方法により求めた。
まず、100mm×100mmサイズの四角の試験片を切り出した。このとき、該試験片の縦方向及び横方向がそれぞれ、樹脂製基材の長手方向及び幅方向と一致するように切り出した。次いで、これをオーブンで190℃×30分間加熱した。オーブンから取り出して室温まで自然冷却した後、縦方向と横方向の長さをそれぞれ定規で測定した。両方向について加熱前の長さ(=100mm)からの変化率をそれぞれ算出し、その差の絶対値を求めた。これをN=10個の試験片で求め、それらの算術平均値を親水性積層体の加熱収縮率差とした。
<Heat shrinkage difference>
The difference in the heat shrinkage rate of the hydrophilic laminate was determined by the following method.
First, a square test piece having a size of 100 mm × 100 mm was cut out. At this time, it cut out so that the vertical direction and horizontal direction of this test piece might correspond with the longitudinal direction and width direction of a resin-made base material, respectively. Next, this was heated in an oven at 190 ° C. for 30 minutes. After taking out from the oven and naturally cooling to room temperature, the length in the vertical direction and the horizontal direction were each measured with a ruler. The rate of change from the length before heating (= 100 mm) was calculated for both directions, and the absolute value of the difference was obtained. This was calculated | required with the test piece of N = 10 piece, and those arithmetic mean values were made into the heat contraction rate difference of a hydrophilic laminated body.

<成型加工性1>
親水性積層体の親水性樹脂層が形成された側とは反対側に粘着層を設け、これをTOM工法(Three−dimension Over−lay Method)により、ポリカーボネート製4カーブレンズの凹側に一体化させた。その後、呼気試験、外観を評価し、以下の評価基準で判定した。
〔評価基準〕
○:呼気による白化なし、外観変化なし。
×:次のいずれか一つ以上に該当。(1)呼気による白化発生、(2)外観変化(クラック、剥離、シワ)あり。
<Molding processability 1>
An adhesive layer is provided on the side of the hydrophilic laminate opposite to the side on which the hydrophilic resin layer is formed, and this is integrated with the concave side of a polycarbonate 4-curve lens by the TOM method (Three-dimension Over-lay Method). I let you. Thereafter, the breath test and appearance were evaluated, and the following evaluation criteria were used.
〔Evaluation criteria〕
○: No whitening due to exhalation, no change in appearance.
×: Corresponds to one or more of the following. (1) Whitening occurs due to exhalation, (2) Appearance changes (cracks, peeling, wrinkles).

<成型加工性2>
親水性積層体の親水性樹脂層が形成された側とは反対側に粘着層を設け、これをフィルムインサート成型によりポリカーボネートと一体化させ、凹側に親水性樹脂層を設けた4カーブレンズを作製した。その後、呼気試験、外観を評価し、以下の評価基準で判定した。
〔評価基準〕
○:呼気による白化なし、外観変化なし。
×:次のいずれか一つ以上に該当。(1)呼気による白化発生、(2)外観変化(クラック、剥離、シワ)あり。
<Molding processability 2>
An adhesive layer is provided on the side of the hydrophilic laminate opposite to the side where the hydrophilic resin layer is formed, and this is integrated with polycarbonate by film insert molding, and a 4-curve lens provided with a hydrophilic resin layer on the concave side Produced. Thereafter, the breath test and appearance were evaluated, and the following evaluation criteria were used.
〔Evaluation criteria〕
○: No whitening due to exhalation, no change in appearance.
×: Corresponds to one or more of the following. (1) Whitening occurs due to exhalation, (2) Appearance changes (cracks, peeling, wrinkles).

(実施例1)
<微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤(ガラスロール原盤)の作製>
まず、外径126mmのガラスロール原盤を準備し、このガラスロール原盤の表面に以下のようにしてレジスト層を形成した。即ち、シンナーでフォトレジストを質量比で1/10に希釈し、この希釈レジストをディッピング法によりガラスロール原盤の円柱面上に平均厚み70nm程度に塗布することにより、レジスト層を形成した。次に、ガラスロール原盤を、図4に示したロール原盤露光装置に搬送し、レジスト層を露光することにより、1つの螺旋状に連なると共に、隣接する3列のトラック間において六方格子パターンをなす潜像がレジスト層にパターニングされた。具体的には、六方格子状の露光パターンが形成されるべき領域に対して、0.50mW/mのレーザー光を照射し六方格子状の露光パターンを形成した。
Example 1
<Preparation of transfer master (glass roll master) having either fine convex part or concave part>
First, a glass roll master having an outer diameter of 126 mm was prepared, and a resist layer was formed on the surface of the glass roll master as follows. That is, the photoresist was diluted to 1/10 by weight with a thinner, and this diluted resist was applied to the average thickness of about 70 nm on the cylindrical surface of the glass roll master by dipping, thereby forming a resist layer. Next, the glass roll master is transported to the roll master exposure apparatus shown in FIG. 4, and the resist layer is exposed to form a hexagonal lattice pattern between three adjacent tracks while being continuous in one spiral. The latent image was patterned on the resist layer. Specifically, a hexagonal lattice-shaped exposure pattern was formed by irradiating a region where a hexagonal lattice-shaped exposure pattern was to be formed with 0.50 mW / m of laser light.

次に、ガラスロール原盤上のレジスト層に現像処理を施して、露光した部分のレジスト層を溶解させて現像を行った。具体的には、図示しない現像機のターンテーブル上に未現像のガラスロール原盤を載置し、ターンテーブルごと回転させつつガラスロール原盤の表面に現像液を滴下してその表面のレジスト層を現像した。これにより、レジスト層が六方格子パターンに開口しているレジストガラス原盤が得られた。   Next, the resist layer on the glass roll master was subjected to development treatment, and the exposed resist layer was dissolved and developed. Specifically, an undeveloped glass roll master is placed on a turntable of a developing machine (not shown), and a developer is dropped on the surface of the glass roll master while rotating the entire turntable to develop the resist layer on the surface. did. Thereby, a resist glass master having a resist layer opened in a hexagonal lattice pattern was obtained.

次に、ロールエッチング装置を用い、CHFガス雰囲気中でのプラズマエッチングを行った。これにより、ガラスロール原盤の表面において、レジスト層から露出している六方格子パターンの部分のみエッチングが進行し、その他の領域はレジスト層がマスクとなりエッチングはされず、楕円錐形状の凹部がガラスロール原盤に形成された。この際、エッチング量(深さ)は、エッチング時間によって調整した。最後に、Oアッシングにより完全にレジスト層を除去することにより、凹形状の六方格子パターンを有するガラスロール原盤を得た。 Next, plasma etching was performed in a CHF 3 gas atmosphere using a roll etching apparatus. As a result, only the hexagonal lattice pattern exposed from the resist layer is etched on the surface of the glass roll master, and the resist layer is used as a mask for the other regions and etching is not performed. Formed on the master. At this time, the etching amount (depth) was adjusted by the etching time. Finally, the resist layer was completely removed by O 2 ashing to obtain a glass roll master having a concave hexagonal lattice pattern.

<親水性積層体の作製>
次に、上述のようにして得られたロール原盤を用いて、UVインプリントにより親水性積層体を作製した。具体的には、以下のようにして行った。
樹脂製基材として、三菱ガス化学株式会社製のDF02U(PMMA/PC積層)(平均厚み125μm)を用いた。
前記樹脂製基材のPMMA表面に、下記組成のアンカー層用紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥、硬化後の平均厚みが0.7μmになるように塗布した。
<Preparation of hydrophilic laminate>
Next, a hydrophilic laminate was produced by UV imprinting using the roll master obtained as described above. Specifically, it was performed as follows.
DF02U (PMMA / PC laminate) (average thickness 125 μm) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. was used as the resin base material.
The UV curable resin composition for anchor layer having the following composition was applied on the surface of PMMA of the resin base material so that the average thickness after drying and curing was 0.7 μm.

−アンカー層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・CN985B88(脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製) 20質量部
・A−9300−1CL(新中村化学工業株式会社製) 20質量部
・酢酸ブチル 56質量部
・Irgacure 907(BASF社製) 1質量部
・Irgacure 184(BASF社製) 3質量部
-UV curable resin composition for anchor layer-
CN985B88 (aliphatic urethane acrylate, manufactured by Sartomer) 20 parts by mass A-9300-1CL (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 20 parts by mass butyl acetate 56 parts by mass Irgacure 907 (manufactured by BASF) 1 part by mass・ Irgacure 184 (manufactured by BASF) 3 parts by mass

乾燥後、未硬化のアンカー層に、メタルハライドを用いて、照射量500mJ/cmで紫外線を照射して、紫外線硬化したアンカー層付樹脂製基材を得た。 After drying, the uncured anchor layer was irradiated with ultraviolet rays at a dose of 500 mJ / cm 2 using a metal halide to obtain an ultraviolet-cured resin base material with an anchor layer.

下記組成の親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を、得られる親水性樹脂層の平均厚みが3.2μmとなるように、アンカー層付樹脂製基材のアンカー層上に塗布した。親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物が塗布されたアンカー層付樹脂製基材と、上述のようにして得られたロール原盤とを密着させ、メタルハライドランプを用いて、樹脂製基材側から照射量1,500mJ/cmで紫外線を照射して、親水性樹脂層を硬化させた。その後、親水性樹脂層と、ロール原盤とを剥離した。 The ultraviolet curable resin composition for a hydrophilic resin layer having the following composition was applied on the anchor layer of the resin base material with an anchor layer so that the resulting hydrophilic resin layer had an average thickness of 3.2 μm. The resin base material with an anchor layer coated with the ultraviolet curable resin composition for the hydrophilic resin layer and the roll master obtained as described above are in close contact with each other, using a metal halide lamp, and the resin base material side Then, the hydrophilic resin layer was cured by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation amount of 1,500 mJ / cm 2 . Thereafter, the hydrophilic resin layer and the roll master were peeled off.

−親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・SR203(テトラヒドロフルフリルメタクリレート、サートマー社製) 16質量部
・M−215(イソシアヌル酸EO 変性ジアクリレート、東亞合成株式会社製) 80質量部
・Lucirin TPO(BASF社製) 4質量部
-UV curable resin composition for hydrophilic resin layer-
SR203 (tetrahydrofurfuryl methacrylate, manufactured by Sartomer) 16 parts by mass M-215 (isocyanuric acid EO modified diacrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 80 parts by mass Lucirin TPO (manufactured by BASF) 4 parts by mass

以上により、親水性樹脂層の表面に微細な凸部を有する親水性積層体を得た。得られた親水性積層体の親水性樹脂層の表面のAFM像を図12Aに示す。図12Aのa−a線に沿った断面図を図12Bに示す。   As described above, a hydrophilic laminate having fine convex portions on the surface of the hydrophilic resin layer was obtained. FIG. 12A shows an AFM image of the surface of the hydrophilic resin layer of the obtained hydrophilic laminate. A cross-sectional view taken along line aa in FIG. 12A is shown in FIG. 12B.

得られた親水性積層体について、上述の方法により、凸部の平均距離(又は凹部の平均距離)(Pm)、凸部の平均高さ(又は凹部の平均深さ)(Hm)、平均アスペクト比(Hm/Pm)、防曇性(純水接触角、呼気試験、耐摩耗性、耐水性、耐低温環境試験)、マルテンス硬度、鉛筆硬度、伸び率、全光線透過率、ヘイズ、密着性、加熱収縮率差、成型加工性を測定した。結果を表1に示す。   About the obtained hydrophilic laminated body, by the above-mentioned method, the average distance (or average distance of a recessed part) (Pm), the average height (or average depth of a recessed part) (Hm), average aspect of a convex part Ratio (Hm / Pm), anti-fogging property (pure water contact angle, breath test, abrasion resistance, water resistance, low temperature environment test), Martens hardness, pencil hardness, elongation, total light transmittance, haze, adhesion The difference in heat shrinkage and the moldability were measured. The results are shown in Table 1.

(実施例2)
実施例1において、ガラスロール原盤を作製する際のレジスト層の露光パターンを変更した以外は、実施例1と同様にして、親水性積層体を作製した。
得られた親水性積層体の親水性樹脂層の表面のAFM像を図13Aに示す。図13Aのa−a線に沿った断面図を図13Bに示す。
作製した親水性積層体について、実施例1と同様の評価を行った。結果を、表1及び表2に示す。
(Example 2)
In Example 1, the hydrophilic laminated body was produced like Example 1 except having changed the exposure pattern of the resist layer at the time of producing a glass roll original disc.
FIG. 13A shows an AFM image of the surface of the hydrophilic resin layer of the obtained hydrophilic laminate. A cross-sectional view taken along line aa in FIG. 13A is shown in FIG. 13B.
About the produced hydrophilic laminated body, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.

(実施例3)
実施例1において、ガラスロール原盤を作製する際のレジスト層の露光パターンを変更し、親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記組成に変更した以外は、実施例1と同様にして、親水性積層体を作製した。
(Example 3)
In Example 1, except that the exposure pattern of the resist layer at the time of producing the glass roll master was changed and the ultraviolet curable resin composition for the hydrophilic resin layer was changed to the following composition, the same as in Example 1, A hydrophilic laminate was prepared.

−親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・CN985B88(脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製) 32質量部
・A−9300(エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、新中村化学工業株式会社製) 32質量部
・MPEM−1000(メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、第一工業製薬株式会社製) 32質量部
・Lucirin TPO(BASF社製) 4質量部
-UV curable resin composition for hydrophilic resin layer-
CN985B88 (aliphatic urethane acrylate, manufactured by Sartomer) 32 parts by mass A-9300 (ethoxylated isocyanuric acid triacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 32 parts by mass MPEM-1000 (methoxypolyethylene glycol methacrylate, first (Manufactured by Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 32 parts by mass ・ Lucirin TPO (manufactured by BASF) 4 parts by mass

得られた親水性積層体の親水性樹脂層の表面のAFM像を図14Aに示す。図14Aのa−a線に沿った断面図を図14Bに示す。
作製した親水性積層体について、実施例1と同様の評価を行った。結果を、表1及び表2に示す。
FIG. 14A shows an AFM image of the surface of the hydrophilic resin layer of the obtained hydrophilic laminate. A cross-sectional view taken along line aa in FIG. 14A is shown in FIG. 14B.
About the produced hydrophilic laminated body, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.

(実施例4)
実施例2において、アンカー層用紫外線硬化性樹脂組成物、及び親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記組成に変更した以外は、実施例2と同様にして、親水性積層体を作製した。
(Example 4)
In Example 2, a hydrophilic laminate was produced in the same manner as in Example 2 except that the UV curable resin composition for anchor layer and the UV curable resin composition for hydrophilic resin layer were changed to the following compositions. did.

−アンカー層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・8BR−500 45質量部
(ウレタンアクリレートポリマー、大成ファインケミカル株式会社製)
・UV−7550(ウレタンアクリレート、日本合成工業株式会社製) 15質量部
・酢酸ブチル 38.8質量部
・Irgacure 184(BASF社製) 0.6質量部
・Irgacure 907(BASF社製) 0.6質量部
・KP323(信越化学工業株式会社製) 0.003質量部
-UV curable resin composition for anchor layer-
・ 8BR-500 45 parts by mass (urethane acrylate polymer, Taisei Fine Chemical Co., Ltd.)
-UV-7550 (urethane acrylate, manufactured by Nippon Synthetic Industry Co., Ltd.) 15 parts by mass-38.8 parts by mass of butyl acetate-Irgacure 184 (manufactured by BASF) 0.6 parts by mass-Irgacure 907 (manufactured by BASF) 0.6 Parts by mass · KP323 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.003 parts by mass

−親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・A−600 33質量部
(ポリエチレングリコールジアクリレート、新中村化学工業株式会社製)
・M−215(イソシアヌル酸ジアクリレート、東亞合成株式会社製) 43質量部
・ライトエステルTHF(1000) 20質量部
(THF変性メタクリレート、共栄社化学株式会社製)
・Lucirin TPO(BASF製) 4質量部
-UV curable resin composition for hydrophilic resin layer-
・ A-600 33 parts by mass (polyethylene glycol diacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
-M-215 (isocyanuric acid diacrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 43 parts by mass-Light ester THF (1000) 20 parts by mass (THF-modified methacrylate, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
・ Lucirin TPO (manufactured by BASF) 4 parts by mass

作製した親水性積層体について、実施例1と同様の評価を行った。結果を、表1及び表2に示す。   About the produced hydrophilic laminated body, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.

(実施例5)
実施例2において、アンカー層用紫外線硬化性樹脂組成物、及び親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記組成に変更した以外は、実施例2と同様にして、親水性積層体を作製した。
(Example 5)
In Example 2, a hydrophilic laminate was produced in the same manner as in Example 2 except that the UV curable resin composition for anchor layer and the UV curable resin composition for hydrophilic resin layer were changed to the following compositions. did.

−アンカー層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・8BR−500 45質量部
(ウレタンアクリレートポリマー、大成ファインケミカル株式会社製)
・UV−7550(ウレタンアクリレート、日本合成株式会社製) 15質量部
・酢酸ブチル 38.8質量部
・Irgacure 184(BASF社製) 0.6質量部
・Irgacure 907(BASF社製) 0.6質量部
・KP323(信越化学工業株式会社製) 0.003質量部
-UV curable resin composition for anchor layer-
・ 8BR-500 45 parts by mass (urethane acrylate polymer, Taisei Fine Chemical Co., Ltd.)
・ UV-7550 (urethane acrylate, manufactured by Nihon Gosei Co., Ltd.) 15 mass parts ・ Butyl acetate 38.8 mass parts ・ Irgacure 184 (manufactured by BASF) 0.6 mass parts ・ Irgacure 907 (manufactured by BASF) 0.6 mass・ KP323 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.003 parts by mass

−親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・A−600 48質量部
(ポリエチレングリコールジアクリレート、新中村化学工業株式会社製)
・M−215(イソシアヌル酸ジアクリレート、東亞合成株式会社製) 28質量部
・ライトエステルTHF(1000) 20質量部
(THF変性メタクリレート、共栄社化学株式会社製)
・Lucirin TPO(BASF製) 4質量部
-UV curable resin composition for hydrophilic resin layer-
A-600 48 parts by mass (polyethylene glycol diacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
-M-215 (isocyanuric acid diacrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 28 parts by mass-Light ester THF (1000) 20 parts by mass (THF-modified methacrylate, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
・ Lucirin TPO (manufactured by BASF) 4 parts by mass

作製した親水性積層体について、実施例1と同様の評価を行った。結果を、表1及び表2に示す。   About the produced hydrophilic laminated body, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.

(比較例1)
実施例1において、ガラスロール原盤を作製する際のレジスト層の露光パターンを変更した以外は、実施例1と同様にして、積層体を作製した。
作製した積層体について、実施例1と同様の評価を行った。結果を、表1及び表2に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, the laminated body was produced like Example 1 except having changed the exposure pattern of the resist layer at the time of producing a glass roll original disc.
About the produced laminated body, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.

(比較例2)
実施例1において、親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物が塗布されたアンカー層付樹脂製基材にロール原盤を密着させなかった以外は、実施例1と同様にして、積層体を得た。
作製した積層体について、実施例1と同様の評価を行った。結果を、表1及び表2に示す。
(Comparative Example 2)
In Example 1, a laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the roll master was not adhered to the anchor-coated resin base material coated with the ultraviolet curable resin composition for the hydrophilic resin layer. It was.
About the produced laminated body, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.

(比較例3)
比較例2において、親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記組成に変更した以外は、比較例2と同様にして、積層体を得た。
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 2, a laminate was obtained in the same manner as in Comparative Example 2, except that the ultraviolet curable resin composition for the hydrophilic resin layer was changed to the following composition.

−親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・CN985B88(脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製) 95質量部
・Lucirin TPO(BASF社製) 5質量部
-UV curable resin composition for hydrophilic resin layer-
-CN985B88 (aliphatic urethane acrylate, manufactured by Sartomer) 95 parts by mass-Lucirin TPO (manufactured by BASF) 5 parts by mass

作製した積層体について、実施例1と同様の評価を行った。結果を、表1及び表2に示す。   About the produced laminated body, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.

(比較例4)
実施例2において、親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記組成に変更した以外は、実施例2と同様にして、積層体を得た。
(Comparative Example 4)
In Example 2, the laminated body was obtained like Example 2 except having changed the ultraviolet curable resin composition for hydrophilic resin layers into the following composition.

−親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・CN985B88(脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製) 95質量部
・Lucirin TPO(BASF社製) 5質量部
-UV curable resin composition for hydrophilic resin layer-
-CN985B88 (aliphatic urethane acrylate, manufactured by Sartomer) 95 parts by mass-Lucirin TPO (manufactured by BASF) 5 parts by mass

作製した積層体について、実施例1と同様の評価を行った。結果を、表1及び表2に示す。   About the produced laminated body, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.

(比較例5)
比較例1において、親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記組成に変更した以外は、比較例1と同様にして、積層体を得た。
(Comparative Example 5)
In Comparative Example 1, a laminate was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the ultraviolet curable resin composition for the hydrophilic resin layer was changed to the following composition.

−親水性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・CN985B88(脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製) 95質量部
・Lucirin TPO(BASF社製) 5質量部
-UV curable resin composition for hydrophilic resin layer-
-CN985B88 (aliphatic urethane acrylate, manufactured by Sartomer) 95 parts by mass-Lucirin TPO (manufactured by BASF) 5 parts by mass

作製した親水性積層体について、実施例1と同様の評価を行った。結果を、表1及び表2に示す。   About the produced hydrophilic laminated body, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.

実施例1、実施例2、実施例3、実施例4、及び実施例5は、防曇特性の耐摩耗性、耐水性、及び耐低温環境に優れていた。また、成型加工性にも優れていた。
特に、実施例4及び実施例5においては、親水性積層体の親水性樹脂層が形成された側とは反対側に粘着層を設け、これをTOM工法(Three−dimension Over−lay Method)により、ポリカーボネート製8カーブレンズの凹側に一体化させたときにも、呼気による白化なく、且つ外観変化なかった。また、実施例4及び実施例5においては、親水性積層体の親水性樹脂層が形成された側とは反対側に粘着層を設け、これをフィルムインサート成型によりポリカーボネートと一体化させ、凹側に親水性樹脂層を設けた8カーブレンズを作製したときにも、呼気による白化なく、且つ外観変化なかった。
Example 1, Example 2, Example 3, Example 4, and Example 5 were excellent in antifogging properties such as wear resistance, water resistance, and low temperature resistance. Moreover, the moldability was also excellent.
In particular, in Example 4 and Example 5, an adhesive layer is provided on the side opposite to the side on which the hydrophilic resin layer of the hydrophilic laminate is formed, and this is applied by a TOM method (Three-dimension Over-lay Method). Even when integrated on the concave side of the polycarbonate 8-curve lens, there was no whitening due to exhalation and no change in appearance. In Example 4 and Example 5, an adhesive layer is provided on the opposite side of the hydrophilic laminate from the side on which the hydrophilic resin layer is formed, and this is integrated with polycarbonate by film insert molding, and the concave side Even when an 8-curve lens provided with a hydrophilic resin layer was produced, whitening due to exhalation did not occur and the appearance did not change.

比較例1では、突起(凸部)の高さが100nmよりも高く、耐摩耗性の試験にて、2,000回往復摺動後、突起が破壊されて純水接触角が上がってしまった。また、2,000回往復摺動後、純水接触角は33°であったが、傷がつき、呼気による曇りが発生した。
比較例2では、純水接触角が50°を超えたため、呼気試験が「×」であった。
比較例3、比較例4、及び比較例5より、親水性樹脂層のベタ膜(平滑膜)の純水接触角が70°を超える場合、表面にナノ凹凸構造を設けても純水接触角は50°以下にならず、防曇性が得られなかった。
In Comparative Example 1, the height of the protrusion (convex portion) was higher than 100 nm, and in the wear resistance test, after reciprocating 2,000 times, the protrusion was broken and the pure water contact angle was increased. . Further, after 2,000 reciprocating slides, the pure water contact angle was 33 °, but it was scratched and clouded by exhalation.
In Comparative Example 2, since the pure water contact angle exceeded 50 °, the breath test was “x”.
From Comparative Example 3, Comparative Example 4, and Comparative Example 5, when the pure water contact angle of the solid film (smooth film) of the hydrophilic resin layer exceeds 70 °, the pure water contact angle is provided even if a nano uneven structure is provided on the surface. Was not less than 50 °, and no antifogging property was obtained.

本発明の親水性積層体は、眼鏡、ゴーグル等のレンズ内側、冷蔵室、冷凍室等の扉、蓋、戸などに組み込まれたガラス窓の室内側等の布などで繰り返し払拭される用途、及び低温環境下で使用される用途に特に適している。   Use of the hydrophilic laminate of the present invention is repeatedly wiped with cloth on the inside of a lens window such as glasses and goggles, a door such as a refrigerator compartment, a freezer compartment, a glass window built into the door, etc. And is particularly suitable for applications used in low temperature environments.

211 基材
212 親水性層
231 ロール原盤
232 構造体
236 未硬化樹脂層
237 活性エネルギー線
311 基材
312 親水性層
331 板状の原盤
332 構造体
333 未硬化樹脂層
334 活性エネルギー線
211 Base material 212 Hydrophilic layer 231 Roll master 232 Structure 236 Uncured resin layer 237 Active energy ray 311 Base material 312 Hydrophilic layer 331 Plate master 332 Structure 333 Uncured resin layer 334 Active energy ray

Claims (11)

基材と、前記基材上に親水性層とを有し、
前記親水性層が、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有し、
前記親水性層の表面の純水接触角が、50°以下であり、
前記親水性層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物であり、
前記凸部の平均高さ及び前記凹部の平均深さのいずれかが、100nm以下であり、
前記凸部の平均アスペクト比(前記凸部の平均高さ/隣接する前記凸部の平均距離)及び前記凹部の平均アスペクト比(前記凹部の平均深さ/隣接する前記凹部の平均距離)のいずれかが、0.001〜0.50であることを特徴とする親水性積層体。
A substrate and a hydrophilic layer on the substrate;
The hydrophilic layer has either a fine convex part or a concave part on the surface,
The pure water contact angle on the surface of the hydrophilic layer is 50 ° or less,
The hydrophilic layer is a cured product of the active energy ray-curable resin composition,
Either of the average height of the convex part and the average depth of the concave part is 100 nm or less,
Either of the average aspect ratio of the convex part (average height of the convex part / average distance of the adjacent convex part) and the average aspect ratio of the concave part (average depth of the concave part / average distance of the adjacent concave part) The hydrophilic laminate is characterized by having 0.001 to 0.50.
伸び率が、40%以上である請求項1に記載の親水性積層体。   The hydrophilic laminate according to claim 1, wherein the elongation is 40% or more. 親水性層の平均表面積率が、1.10以上である請求項1から2のいずれかに記載の親水性積層体。   The hydrophilic laminate according to claim 1, wherein the hydrophilic layer has an average surface area ratio of 1.10 or more. 凸部の平均高さ及び凹部の平均深さのいずれかが、60nm以下である請求項1から3のいずれかに記載の親水性積層体。   Either of the average height of a convex part and the average depth of a recessed part is 60 nm or less, The hydrophilic laminated body in any one of Claim 1 to 3. 基材が、樹脂製基材及びガラス製基材のいずれかである請求項1から4のいずれかに記載の親水性積層体。   The hydrophilic laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the substrate is any one of a resin substrate and a glass substrate. 請求項1から5のいずれかに記載の親水性積層体の製造方法であって、A method for producing a hydrophilic laminate according to any one of claims 1 to 5,
基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して未硬化樹脂層を形成する未硬化樹脂層形成工程と、An uncured resin layer forming step of forming an uncured resin layer by applying an active energy ray-curable resin composition on a substrate;
前記未硬化樹脂層に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤を密着させ、前記転写原盤が密着した前記未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記未硬化樹脂層を硬化させて前記微細な凸部及び凹部のいずれかを転写することにより、親水性層を形成する親水性層形成工程とを含むことを特徴とする親水性積層体の製造方法。A transfer master having any one of a fine convex part and a concave part is brought into close contact with the uncured resin layer, and the uncured resin layer is cured by irradiating active energy rays to the uncured resin layer to which the transfer master is in close contact. And a hydrophilic layer forming step of forming a hydrophilic layer by transferring any one of the fine convex portions and concave portions.
転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかが、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として前記転写原盤の表面をエッチングすることにより形成される請求項6に記載の親水性積層体の製造方法。The hydrophilic laminate according to claim 6, wherein any one of the fine convex portions and concave portions of the transfer master is formed by etching the surface of the transfer master using a photoresist having a predetermined pattern shape as a protective film. Production method. 転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかが、レーザーを前記転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより形成される請求項6に記載の親水性積層体の製造方法。7. The method for producing a hydrophilic laminate according to claim 6, wherein any one of the fine convex portion and the concave portion of the transfer master is formed by irradiating the surface of the transfer master with laser to process the transfer master. . 請求項1から5のいずれかに記載の親水性積層体を表面に有することを特徴とする物品。An article having the hydrophilic laminate according to any one of claims 1 to 5 on a surface thereof. 請求項9に記載の物品の製造方法であって、A method of manufacturing an article according to claim 9,
親水性積層体を加熱する加熱工程と、A heating step for heating the hydrophilic laminate,
加熱された前記親水性積層体を所望の形状に成形する親水性積層体成形工程と、A hydrophilic laminate forming step of forming the heated hydrophilic laminate into a desired shape;
所望の形状に成形された前記親水性積層体の基材側に成形材料を射出し、前記成形材料を成形する射出成形工程とを含むことを特徴とする物品の製造方法。A method for producing an article, comprising: an injection molding step of injecting a molding material onto a substrate side of the hydrophilic laminate formed into a desired shape, and molding the molding material.
加熱工程における加熱が、赤外線加熱により行われる請求項10に記載の物品の製造方法。The method for manufacturing an article according to claim 10, wherein the heating in the heating step is performed by infrared heating.
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