JP6386632B2 - Plasma processing equipment - Google Patents
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Description
本発明は、処理容器内に供給した処理ガスをプラズマ化させて被処理体を処理するプラズマ処理装置に関する。 The present invention relates to a plasma processing apparatus for processing a target object by converting a processing gas supplied into a processing container into plasma.
従来から、例えば半導体ウェハ(以下、「ウェハ」という)などの被処理体に対して所定のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置が知られており、生成されたプラズマによって、例えば成膜処理やエッチング処理などが行われる。 2. Description of the Related Art Conventionally, plasma processing apparatuses that perform predetermined plasma processing on an object to be processed such as a semiconductor wafer (hereinafter referred to as “wafer”) are known. For example, film formation processing or etching processing is performed using generated plasma. Etc. are performed.
上記のプラズマ処理装置は、例えば処理容器内に設けられた載置台、載置台を加熱する加熱機構、処理容器内を排気する排気機構、所定の処理ガスを供給するガス供給部などを備えている(特許文献1)。 The plasma processing apparatus includes, for example, a mounting table provided in the processing container, a heating mechanism that heats the mounting table, an exhaust mechanism that exhausts the processing container, a gas supply unit that supplies a predetermined processing gas, and the like. (Patent Document 1).
このようなプラズマ処理装置では、基板を載置する静電チャックが設けられている。通常、静電チャックはサセプタに設けられているが、サセプタには、基板を下方から支持し昇降させるための昇降ピンが設けられている。昇降ピンは、サセプタを上下方向に貫通する貫通孔を挿通し、サセプタに対して移動自在で且つサセプタの上面から突出可能なように、サセプタの厚みよりも長く形成されている。そして昇降ピンの下方には、昇降ピンを上方に押圧するリフトアームが設けられている。リフトアームは、昇降機構により昇降自在に構成されている。昇降ピンはリフトアームとは接続されておらず、リフトアームを降下させると、昇降ピンとリフトアームとは離れた状態となる。昇降ピンの上端部は、貫通孔よりも大きな径を有している。そのため昇降ピンは、リフトアームが下方に退避しても貫通孔から脱落することなく、サセプタに係止した状態となる。 Such a plasma processing apparatus is provided with an electrostatic chuck on which a substrate is placed. Usually, the electrostatic chuck is provided on the susceptor, but the susceptor is provided with elevating pins for supporting and elevating the substrate from below. The elevating pin is formed longer than the thickness of the susceptor so as to pass through a through-hole penetrating the susceptor in the vertical direction and be movable with respect to the susceptor and protrude from the upper surface of the susceptor. A lift arm that presses the lift pin upward is provided below the lift pin. The lift arm is configured to be movable up and down by a lifting mechanism. The lift pins are not connected to the lift arm, and when the lift arm is lowered, the lift pins and the lift arm are separated from each other. The upper end portion of the lifting pin has a larger diameter than the through hole. Therefore, even if the lift arm is retracted downward, the elevating pin remains locked to the susceptor without dropping from the through hole.
しかしながら、リフトアームと昇降ピンは分離して設けられているため、静電チャックによる基板への帯電により、リフトアームを降下させても、昇降ピンが基板から離れない場合がある。 However, since the lift arm and the lift pins are provided separately, the lift pins may not be separated from the substrate even when the lift arm is lowered due to charging of the substrate by the electrostatic chuck.
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、基板が帯電している場合であっても、基板から昇降ピンを引き離すことを目的としている。 The present invention has been made in view of this point, and an object of the present invention is to pull the lifting pins away from the substrate even when the substrate is charged.
前記の目的を達成するため、本発明は、基板をプラズマにより処理するプラズマ処理装置であって、基板を気密に収容する処理容器と、前記処理容器内に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、前記処理容器内において基板を保持する基板保持機構と、前記基板保持機構を上下方向に挿通し、基板保持機構に対して移動自在に設けられた昇降ピンと、前記昇降ピンを昇降させる昇降機構と、を有し、前記昇降機構は、前記昇降ピンを上方に押圧するリフトアームと、前記昇降ピンを下方に押し下げる他のリフトアームを備え、前記昇降ピンは、前記基板保持機構の厚みよりも長く形成され、前記昇降ピンの下端部には、前記他のリフトアームにより前記昇降ピンを押し下げる際に前記他のリフトアームと係止する係止部が設けられていることを特徴としている。 To achieve the above object, the present invention provides a plasma processing apparatus for processing a substrate with plasma, a processing container for hermetically storing the substrate, and a processing gas supply unit for supplying a processing gas into the processing container, A substrate holding mechanism for holding the substrate in the processing container, an elevating pin that is inserted through the substrate holding mechanism in a vertical direction and is movable with respect to the substrate holding mechanism, and an elevating mechanism for raising and lowering the elevating pin. The lift mechanism includes a lift arm that presses the lift pin upward and another lift arm that presses the lift pin downward, and the lift pin is longer than the thickness of the substrate holding mechanism. A locking portion is formed at the lower end portion of the lifting pin and is locked with the other lift arm when the lifting pin is pushed down by the other lift arm. It is characterized.
本発明によれば、基板が帯電している場合であっても、基板から昇降ピンを引き離すことができる。 According to the present invention, the lifting pins can be pulled away from the substrate even when the substrate is charged.
以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、プラズマ処理装置1の構成の概略を示す縦断面図である。なお、本実施の形態のでは、プラズマ処理装置1によりウェハWの表面に対してプラズマCVD(Chemical Vapor Deposiotion)処理を行い、当該ウェハWの表面に例えばSiN膜(シリコン窒化膜)を形成する場合を例にして説明する。また、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an outline of the configuration of the
プラズマ処理装置1は、内部を気密に保持する処理容器2と、処理容器2内にマイクロ波を照射するマイクロ波供給部3を有している。処理容器2は上面が開口した略円筒状の本体部2aと、本体部2aの開口を気密に塞ぐ略円盤状の蓋体2bを有している。本体部2a及び蓋体2bは、例えばアルミニウム等の金属から形成されている。また、本体部2aは接地線(図示せず)により接地されている。
The
処理容器2内には、ウェハWを保持する基板保持機構としてのサセプタ10が設けられている。サセプタ10は、例えば円盤形状を有し、アルミニウム等の金属から形成されている。サセプタ10には、整合器11を介してバイアス用の高周波電源12が、後述するスリップリング100を介して接続されている。高周波電源12は、ウェハWに引き込むイオンのエネルギーを制御するのに適した一定の周波数、例えば13.56MHzの高周波を出力する。なお、図示していないが、サセプタ10には、ウェハWを静電吸着するための静電チャックが設けられており、ウェハWをサセプタ10上に静電吸着することができる。また、サセプタ10の内部にはヒータ13が設けられ、ウェハWを所定の温度に加熱することができる。ヒータ13への電力の供給も後述するスリップリング100を介して行われる。
A
なお、サセプタ10の下方には、ウェハWを下方から支持し昇降させるための昇降ピン14が設けられている。昇降ピン14は、サセプタ10を上下方向に貫通する貫通孔10aを挿通し、サセプタ10に対して移動自在で且つサセプタ10の上面から突出可能なように、サセプタ10の厚みよりも長く形成されている。昇降ピン14の下方には、昇降ピンを上方に押圧するリフトアーム15が設けられている。リフトアーム15は、昇降機構16により昇降自在に構成されている。昇降ピン14はリフトアーム15とは接続されておらず、リフトアーム15を降下させると、昇降ピン14とリフトアーム15とは離れた状態となる。昇降ピン14の上端部14aは、貫通孔10aよりも大きな径を有している。そのため昇降ピン14は、リフトアーム15が下方に退避しても貫通孔10aから脱落することなく、サセプタ10に係止した状態となる。また、貫通孔10aの上端には、昇降ピン14の上端部14aよりも径と厚みが大きな窪み部10bが形成されており、昇降ピン14がサセプタ10に係止した状態において、上端部14aがサセプタ10の上面より突出しないようになっている。なお、図1においては、リフトアーム15が降下し、昇降ピン14がサセプタ10に係止した状態を描図している。
Below the
サセプタ10の上面には、ウェハWを囲むように環状のフォーカスリング17が設けられている。フォーカスリング17には例えばセラミックスあるいは石英などの絶縁性材料が用いられる。処理容器2内に発生したプラズマは、当該フォーカスリング17の作用によりウェハW上に収束し、これにより、ウェハW面内におけるプラズマ処理の均一性が向上する。
An
サセプタ10は、その下面の中央部を、例えば中心部が中空な円筒形状を有する支持軸20により支持されている。支持軸20は鉛直下方に延伸し、処理容器2の本体部2aの底面を上下方向に貫通して設けられている。支持軸20は、サセプタ10と当接する上部軸20aと、上部軸20aの下端に設けられたフランジ21を介して当該上部軸20aに接続された下部軸20bを有している。上部軸20a及び下部軸20bは、例えば絶縁部材により形成されている。
The
処理容器2の本体部2aの底部には、例えば本体部2aの側方に突出して排気室30が形成されている。排気室30の底面には、処理容器2内を排気する排気機構31が、排気管32を介して接続されている。排気管32には、排気機構31による排気量を調整する調整弁33が設けられている。
An
排気室30の上方であって、サセプタ10の下方には、処理容器2内を均一に排気するための円環状のバッフル板34が、支持軸20の外側面と所定の隙間を空けて設けられている。バッフル板34には、当該バッフル板34を厚み方向に貫通する開口(図示せず)が全周にわたって形成されている。
An
処理容器2の本体部2a底部の下端面、即ち処理容器2の外部には、支持軸20と本体部2aとの間を気密に塞ぎ、且つ鉛直軸を中心に支持軸20を回転させる回転シール機構35が設けられている。この回転シール機構35の詳細については後述する。
A rotary seal that seals the space between the
処理容器2の天井面開口部には、プラズマ生成用のマイクロ波を供給するマイクロ波供給部3が設けられている。マイクロ波供給部3はラジアルラインスロットアンテナ40(radial line slot antenna)を有している。ラジアルラインスロットアンテナ40は、マイクロ波透過板41、スロット板42、遅波板43を有している。マイクロ波透過板41、スロット板42、遅波板43は、この順に下から積層して、処理容器2の本体部2aの開口部に設けられている。遅波板43の上面は、蓋体2bにより覆われている。なお、ラジアルラインスロットアンテナ40は、その中心が支持軸20の回転中心と概ね一致した位置に配置されている。
A
マイクロ波透過板41と本体部2aとの間は、例えばOリング等のシール材(図示せず)により気密に保たれている。マイクロ波透過板41には誘電体、例えば石英、Al2O3、AlN等が用いられ、マイクロ波透過板41はマイクロ波を透過させる。
The
マイクロ波透過板41の上面に設けられたスロット板42には複数のスロットが形成され、スロット板42はアンテナとして機能する。スロット板42には、導電性を有する材料、たとえば銅、アルミニウム、ニッケル等が用いられる。
The
スロット板42の上面に設けられた遅波板43は、低損失誘電体材料、例えば石英、Al2O3、AlN等により構成されており、マイクロ波の波長を短縮する。
The
遅波板43の上面を覆う蓋体2bは、その内部に例えば冷却媒体を流通させる円環状の流路45が複数設けられている。流路45を流れる冷却媒体によって、蓋体2b、マイクロ波透過板41、スロット板42及び遅波板43が所定の温度に調節される。
The
蓋体2bの中央部には同軸導波管50が接続されている。同軸導波管50の上端部には、矩形導波管51およびモード変換器52を介して、マイクロ波発生源53が接続されている。マイクロ波発生源53は、処理容器2の外部に設置されており、例えば2.45GHzのマイクロ波を発生させることができる。
A
同軸導波管50は、内部導体54と外管55を有している。内部導体54は、スロット板42と接続されている。内部導体54のスロット板42側は円錐形に形成されて、スロット板42に対してマイクロ波を効率よく伝播するようになっている。
The
かかる構成により、マイクロ波発生源53から発生したマイクロ波は、矩形導波管51、モード変換器52、同軸導波管50内を順次伝播し、遅波板43で圧縮され短波長化される。そして、スロット板42から円偏波状のマイクロ波が、マイクロ波透過板41を透過して処理容器2内に照射される。このマイクロ波により処理容器2内では処理ガスがプラズマ化し、このプラズマによりウェハWのプラズマ処理が行われる。
With this configuration, the microwave generated from the
処理容器2の天井面中央部、すなわちラジアルラインスロットアンテナ40の中央部には、第1の処理ガス供給管60が設けられている。第1の処理ガス供給管60はラジアルラインスロットアンテナ40を上下方向に貫通し、当該第1の処理ガス供給管60の一端部はマイクロ波透過板41の下面において開口している。また、第1の処理ガス供給管60は同軸導波管50の内部導体54の内部を貫通し、さらにモード変換器52内を挿通している。当該第1の処理ガス供給管60の他端部は第1の処理ガス供給源61に接続されている。
A first processing
第1の処理ガス供給源61は、処理ガスとして、例えばTSA(トリシリルアミン)、N2ガス、H2ガス、Arガスをそれぞれ個別に供給可能に構成されている。このうち、TSA、N2ガス、H2ガスはSiN膜の成膜用の原料ガスであり、Arガスはプラズマ励起用ガスである。なお、以下において、この処理ガスを「第1の処理ガス」という場合がある。また、第1の処理ガス供給管60には、第1の処理ガスの流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群62が設けられている。第1の処理ガス供給源61から供給された第1の処理ガスは、第1の処理ガス供給管60を介して処理容器2内に供給され、サセプタ10に載置されたウェハWに向かって鉛直下方に流れる。
The first processing
また、図1に示すように、処理容器2の上部の内周面には、第2の処理ガス供給管70が設けられている。第2の処理ガス供給管70は、処理容器2の内周面に沿って等間隔に複数設けられている。第2の処理ガス供給管70には、第2の処理ガス供給源71が接続されている。第2の処理ガス供給源71の内部には、処理ガスとして、例えばTSA(トリシリルアミン)、N2ガス、H2ガス、Arガスがそれぞれ個別に供給可能に構成されている。なお、以下において、この処理ガスを「第2の処理ガス」という場合がある。また、第2の処理ガス供給源71には、第2の処理ガスの流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群72が設けられている。第2の処理ガス供給源71から供給された第2の処理ガスは、第2の処理ガス供給管70を介して処理容器2内に供給され、サセプタ10に載置されたウェハWの外周部に向かって流れる。このように、第1の処理ガス供給管60からの第1の処理ガスはウェハWの中心部に向けて供給され、第2の処理ガス供給管70からの第2の処理ガスはウェハWの外周部に向けて供給される。
Further, as shown in FIG. 1, a second processing
なお、第1の処理ガス供給管60と第2の処理ガス供給管70から処理容器2内にそれぞれ供給される処理ガスは、同種のガスであっても、別種類のガスであってもよく、各々独立した流量で、或いは任意の流量比で供給することができる。
The processing gas supplied from the first processing
次に、回転シール機構35について詳述する。図2は、回転シール機構35の構成の概略を示す縦断面図である。回転シール機構35は、ベアリング80を介して支持軸20を保持するケーシング81と、ケーシングの下端に接続されたロータリージョイント82と、支持軸20を回転させる回転駆動機構83を有している。
Next, the
ケーシング81は、その内径が支持軸20の外径よりも大きな開口81aを有しており、支持軸20の下部軸20bは、この開口81a内に挿通されている。ケーシング81の上端部は、例えば図示しないボルト等により、処理容器2の本体部2aの底部に固定されており、ケーシング81の上端部と本体部2aの下端面との間は、例えばOリング(図示せず)等により気密に保たれている。
The
ケーシング81上部の内周面には、下部軸20bとケーシング81との間の隙間からのマイクロ波漏洩を防止するためのチョーク84が全周にわたって環状に設けられている。チョーク84は、例えば断面形状が矩形のスリット状に形成されている。なお、チョーク84の長さLは、マイクロ波の漏洩を防ぐ目的から、マイクロ波の波長の概ね1/4程度の長さに設定されている。なお、チョーク84の内部に誘電体などを充填した場合、チョーク84の長さLは必ずしもマイクロ波の波長の1/4とする必要はない。
A
ケーシング81の内周面におけるチョーク84の下方には、支持軸20の下部軸20bとケーシング81との間を気密に塞ぐシール部材としての磁性流体シール85が設けられている。磁性流体シール85は、例えばケーシング81に内蔵された円環状の永久磁石85aと、永久磁石85aと下部軸20bとの間に封入された磁性流体85bにより構成されている。この磁性流体シール85により、支持軸20と処理容器2との間が気密に維持される。
A
ベアリング80は、支持軸20における磁性流体シール85の下方に設けられている。ベアリング80は、ケーシング81により支持されている。これにより支持軸20は、ケーシング81に対して回転自在な状態で支持されている。なお、図2には、ラジアル方向のベアリングのみ描図しているが、必要に応じて鉛直方向の荷重を支持するスラストベアリングを設けてもよい。
The
ケーシング81の下端には円環形状を有するロータリージョイント82が接続されている。ロータリージョイント82は、ベアリング86を介して下部軸20bと接続されており、下部軸20bはロータリージョイント82に対して回転自在となっている。ロータリージョイント82の側面には、冷却水供給管90が接続されており、冷却水供給管90の例えば下方には冷却水排出管91が接続されている。下部軸20bの外周面における冷却水供給管90と冷却水排出管91に対応する位置には、円環状の溝92、93がそれぞれ形成されている。下部軸20bの内部には、溝92に連通し、鉛直上方に延伸する冷却水供給路94が形成されている。冷却水供給路94は、フランジ21近傍まで延伸し、フランジ21近傍から鉛直下方に折り返して溝93に接続されている。冷却水供給管90には図示しない冷却水供給源が接続されており、冷却水供給源から供給される冷却水は、冷却水供給管90、冷却水供給路94を通ってフランジ21を冷却し、その後冷却水排出管91から排出される。
A rotary joint 82 having an annular shape is connected to the lower end of the
ロータリージョイント82の内周面には、溝92及び溝93を挟みこむように上下にOリング95が設けられている。これにより、ロータリージョイント82と下部軸20bとの間から漏洩することなく、冷却水供給路94に冷却水が供給される。
On the inner peripheral surface of the rotary joint 82, O-
下部軸20bの例えば下端面には、円柱形状のスリップリング100が接続されている。スリップリング100の下端面の中央部には、円盤状の回転電極101が設けられ、回転電極101の外方には、例えば円環状の回転電極102が設けられている。回転電極101、102には、サセプタ10に高周波電源12からの高周波電力を供給したり、サセプタ10内部のヒータへ給電したりする導線110、111がそれぞれ電気的に接続されている。導線110、111は、支持軸20内部の中空部分に沿って上方に延伸して設けられ、サセプタ10に接続されている。導線110、111への給電に際しては、例えば図2に示すように、ブラシ103を介して回転電極101、102に電源が接続される。ブラシ103は、例えば図示しない固定部材により、例えば処理容器2の本体部2aとの相対的な位置関係が変化しないように固定されている。なお図2では、回転電極101、102に、ブラシ103を介して整合器11、高周波電源12を接続した状態を描図しているが、回転電極の配置や設置数などは本実施の形態の内容に限定されるものではなく、任意に設定が可能である。回転電極に接続される機器としては、例えばヒータ13に電力を供給する電源や、静電チャックに電圧を印加する電源、或いはヒータ13の温度制御用に用いられる、サセプタ10に内蔵された熱電対などが挙げられる。
A
例えば下部軸20bにおけるロータリージョイント82の下方には、スリップリング100を囲むような円筒形状に形成された遮蔽部材112が固定されている。遮蔽部材112は例えば絶縁部材により形成されており、スリップリング100とブラシ103の接触部などが露出しないようになっている。
For example, a shielding
また、遮蔽部材112の外周部には、ベルト120が接続されている。ベルト120には、モータ121がシャフト122を介して接続されている。したがって、モータ121を回転させることで、シャフト122及びベルト120を介して遮蔽部材112が回転し、遮蔽部材112と固定された支持軸20が回転する。これら遮蔽部材112、ベルト120、モータ121により、本発明における回転駆動機構83が形成されている。支持軸20が回転すると、スリップリング100も共に回転するが、ブラシ103により回転電極101、102との電気的な接続は維持される。また、支持軸20の回転により下部軸20b内に形成された冷却水供給路94も回転するが、下部軸20bに形成された溝92、93を介して冷却水供給管90、冷却水排出管91との接続が維持されるので、支持軸20を回転させた場合であっても、冷却水供給路94への冷却水の供給が維持される。
A
なお、図2では、ケーシング81の下方にロータリージョイント82、回転駆動機構83をこの順で設けたが、回転駆動機構83により支持軸20を適切に回転させることができれば、これらの配置や形状は任意に設定が可能である。また、回転駆動機構83の構成についても、前記した内容に限定されるものではなく、モータ121の配置や、モータ121の駆動力を支持軸20に伝達する機構については任意に設定できる。
In FIG. 2, the rotary joint 82 and the
プラズマ処理装置1は以上のように構成されている。次に、プラズマ処理装置1で行われるウェハWのプラズマ処理について説明する。上述したようにウェハWにプラズマ成膜処理を行って、当該ウェハWの表面にSiN膜を形成する。
The
ウェハWの処理にあたっては、先ず、処理容器に設けられた図示しないゲートバルブが開き、処理容器2内にウェハWが搬入される。ウェハWは、昇降ピン14に受け渡され、次に昇降機構16が降下してサセプタ10上にウェハWが載置される。それと共に、静電チャックに直流電圧が印可され、クーロン力によりウェハWがサセプタ10上に静電吸着する。そして、ゲートバルブを閉じ、処理容器2内を密閉した後、排気機構31を作動させ、処理容器2内を所定の圧力、例えば400mTorr(=53Pa)に減圧する。また、モータ121を回転させることにより、支持軸20を介してサセプタ10が回転する。この際、昇降ピン14はリフトアーム15とは分離して設けられているので、昇降ピン14はサセプタ10と共に回転する。
In processing the wafer W, first, a gate valve (not shown) provided in the processing container is opened, and the wafer W is loaded into the
その後、第1の処理ガス供給管60から処理容器2内に第1の処理ガスを供給し、第2の処理ガス供給管70から処理容器2内に第2の処理ガスを供給する。このとき、第1の処理ガス供給管60から供給されるArガスの流量は例えば100sccm(mL/min)であり、第2の処理ガス供給管70から供給されるArガスの流量は例えば750sccm(mL/min)である。
Thereafter, the first processing gas is supplied from the first processing
処理容器2内に第1の処理ガス、第2の処理ガスを供給すると共に、マイクロ波発生源53を作動させ、当該マイクロ波発生源53において、例えば2.45GHzの周波数で所定の電力のマイクロ波を発生させる。マイクロ波は、矩形導波管51、モード変換器52、同軸導波管50、ラジアルラインスロットアンテナ40を介して、処理容器2内に照射される。このマイクロ波によって処理容器2内では処理ガスがプラズマ化し、プラズマ中で処理ガスの解離が進み、その際に発生したラジカル(活性種)によってウェハW上に成膜処理が行われる。このとき、サセプタ10を回転させることで、ウェハWが処理容器2内で回転しているので、例えばラジアルラインスロットアンテナ40から照射されるマイクロ波の電界強度分布が不均一であっても、ウェハW面内におけるプラズマ処理を平均化し、面内均一な処理を行うことができる。こうして、ウェハWの表面にSiN膜が形成される。
The first processing gas and the second processing gas are supplied into the
ウェハWにプラズマ成膜処理を行っている間、高周波電源12により例えば13.56MHzの周波数で所定の電力の高周波がサセプタ10に印加される。適切な範囲でのRFバイアスの印加により、プラズマ中のイオンをウェハWへ引き込むように作用するため、SiN膜の緻密性を向上させるとともに、膜中のトラップを増加させるように作用する。また、マイクロ波プラズマを用いることでプラズマの電子温度を低く維持できるので、膜へのダメージがなく、しかも、高密度プラズマにより、処理ガスの分子が解離されやすいので、反応が促進される。
During the plasma film forming process on the wafer W, a high frequency of a predetermined power is applied to the
その後、SiN膜が成長し、ウェハWに所定の膜厚のSiN膜が形成されると、処理ガスと、マイクロ波の照射が停止される。その後、ウェハWは処理容器2から搬出されて、一連のプラズマ成膜処理が終了する。
Thereafter, when the SiN film grows and a SiN film having a predetermined thickness is formed on the wafer W, the irradiation of the processing gas and the microwave is stopped. Thereafter, the wafer W is unloaded from the
以上の例によれば、サセプタ10を支持する支持軸20をモータ121やベルト120を有する回転駆動機構83により回転させることで、プラズマ処理中にサセプタ10に保持されたウェハWを回転させることができる。したがって、処理容器2内に照射されるマイクロ波の強度分布にばらつきがある場合でも、面内均一なウェハ処理を行うことができる。
According to the above example, the wafer W held on the
また、回転駆動機構83はプラズマに曝されることを避けるために処理容器2外に配置する必要があり、そのため、支持軸20は処理容器2を貫通して設ける必要がある。かかる場合、処理容器2の気密性を維持するために、支持軸20と処理容器2との間の摺動部にOリングなどを設けることが考えられるが、Oリングと支持軸20との摺動部からパーティクルが発生し、ウェハWを汚染する恐れがある。この点、本発明のようにシール部材として磁性流体85bを用いることで、支持軸20と処理容器2との間の気密性を維持し、さらにパーティクルの発生を抑えることができる。
Further, the
さらに、磁性流体85bはマイクロ波を吸収しやすく、マイクロ波に曝されると温度上昇が起こり耐熱温度(概ね150℃程度)を超えてしまう恐れがあるが、支持軸20と処理容器2との間からのマイクロ波の漏洩を防止するチョーク84を磁性流体シール85の上方に設けることで、処理容器2から外部へのマイクロ波の漏洩を抑制すると共に、磁性流体85bに到達するマイクロ波を大幅に低減することができる。その結果、磁性流体85bが耐熱温度を超えて加熱することを防ぎ、且つ処理容器2内を気密に維持することができる。
Further, the
なお、処理容器2内を気密に維持するという観点からは、シール部材としてOリング等を用いることが否定されるものではなく、例えば許容されるパーティクルに応じて、磁性流体シール85に代えてOリングをシール部材として用いてもよい。また、磁性流体シール85へ到達するマイクロ波やラジカルを低減するという観点から、例えばチョーク84と磁性流体シール85の間に、図2に示すように他のシール部材としてのシール機構130を設けてもよい。シール機構130は、例えばチョーク84の下方に設けられたOリング131と、チョーク84とOリング131との間に設けられ、Oリング131に作用する差圧を低減するためのラビリンスシール132を有している。処理容器2と支持軸20間の気密については磁性流体シール85により確保されているので、Oリング131には気体に対するシール性能は求められず、摺動や摩擦に対する耐性が高く且つ処理容器2内で生成するラジカルに対しても耐性を有する、例えばPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)などを用いることが好ましい。
From the viewpoint of keeping the inside of the
以上の例では、支持軸20の回転中心とラジアルラインスロットアンテナ40の中心(マイクロ波の照射中心)とが概ね一致していたが、例えば図3に示すように、支持軸20の回転中心はラジアルラインスロットアンテナ40の中心に対して、平面視において偏心していてもよい。
In the above example, the center of rotation of the
一般に、マイクロ波の強度分布は、円周方向にばらつきを有する一方で、例えばマイクロ波の照射中心から外周部に向けて徐々に強度が低下する傾向がある。即ち、ウェハWの直径方向に沿ってマイクロ波の強度分布が変化する。そこで、例えば図3に示すように、支持軸20の回転中心をラジアルラインスロットアンテナ40の中心に対して偏心させることで、このウェハWの直径方向に沿ったマイクロ波の強度のばらつきを均一化し、さらに面内均一なプラズマ処理を行うことができる。なお、図3では、サセプタ10の中心と支持軸20の中心、換言すれば、ウェハWの回転中心と支持軸20の回転中心とが一致しているが、例えば図4に示すように、サセプタ10の中心とラジアルラインスロットアンテナ40の中心は同じ位置とし、サセプタ10の中心に対して偏心した位置に支持軸20を接続するようにしてもよい。
In general, the intensity distribution of microwaves varies in the circumferential direction, while the intensity tends to gradually decrease from, for example, the microwave irradiation center toward the outer periphery. That is, the intensity distribution of the microwave changes along the diameter direction of the wafer W. Therefore, for example, as shown in FIG. 3, the rotation center of the
また、支持軸20の回転中心とラジアルラインスロットアンテナ40の中心をずらす代わりに、例えば図5に示すように、ウェハWの中心をサセプタ10の中心に対して偏心した位置に配置し、サセプタ10を回転させることで、ウェハWの回転中心とマイクロ波の照射中心とを偏心させるようにしてもよい。
Further, instead of shifting the rotation center of the
なお、マイクロ波の強度分布、特に直径方向に沿った強度分布を平均化するという観点から、図6に示すように、サセプタ10を昇降させる昇降機構140を設けてもよい。かかる場合、例えば本体部2aの下端面とケーシング81の上端面との間に、本体部2a及びケーシング81と気密に接続されたベローズ141を設け、昇降機構140により例えばケーシング81及び支持軸20ごと、サセプタ10を昇降させる構成が提案できる。サセプタ10を昇降させることにより、サセプタ10の回転動作のみでは平均化しきれない、ウェハWの直径方向に沿ったマイクロ波の強度分布を平均化し、より均一なウェハWのプラズマ処理を行うことができる。
In addition, from the viewpoint of averaging the intensity distribution of the microwave, particularly the intensity distribution along the diameter direction, an elevating
以上の説明した形態では、リフトアーム15と昇降ピン14は分離して設けられていたが、静電チャックによるウェハWへの帯電により、リフトアーム15を降下させても、昇降ピン14がウェハWから離れない場合がある。かかる場合、例えば図7に示すように、リフトアーム15の上方に、所定の間隔、離間して他のリフトアーム150を設け、当該他のリフトアーム150により昇降ピン14をウェハWから引き離すようにしてもよい。かかる場合、例えば図7に示すように、昇降ピン14の下端部14bを昇降ピン14の外径よりも太い係止部として形成しておき、また図8に示すように、他のリフトアーム150は、昇降ピン14の下端部14bと係止するように形成する。そして、昇降ピン14を上昇させる際には、リフトアーム15により昇降ピン14の下端部14bを上方に押すことで当該昇降ピン14を上昇させ、昇降ピン14を下降させる際には、他のリフトアーム150の下面に下端部14bを係止させ、その状態で他のリフトアーム150を下降させることで、他のリフトアーム150により昇降ピン14を押し下げる。これにより、ウェハWが帯電している場合であっても、ウェハWから昇降ピン14を引き離すことができる。なお、リフトアーム15と他のリフトアーム150は同期して動作してもよいし、個別に動作してもよい。
In the embodiment described above, the
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。また、以上の実施の形態では、本発明を成膜処理を行うプラズマ処理に適用していたが、本発明は、成膜処理以外の基板処理、例えばエッチング処理やスパッタリングを行うプラズマ処理にも適用できる。さらに、本発明のプラズマ処理で処理される被処理体は、ガラス基板、有機EL基板、FPD(フラットパネルディスプレイ)用の基板等のいずれのものであってもよい。 The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It is obvious for those skilled in the art that various modifications or modifications can be conceived within the scope of the idea described in the claims, and these naturally belong to the technical scope of the present invention. It is understood. In the above embodiment, the present invention is applied to plasma processing for performing film formation. However, the present invention is also applied to substrate processing other than film formation, for example, plasma processing for performing etching or sputtering. it can. Furthermore, the target object to be processed by the plasma processing of the present invention may be any of a glass substrate, an organic EL substrate, a substrate for FPD (flat panel display), and the like.
本発明は、例えば半導体ウェハ等のプラズマ処理に有用であり、特にマイクロ波を用いたプラズマ処理に有用である。 The present invention is useful for plasma processing of, for example, semiconductor wafers, and is particularly useful for plasma processing using microwaves.
1 プラズマ処理装置
2 処理容器
3 マイクロ波供給部
10 サセプタ
11 整合器
12 高周波電源
13 ヒータ
14 昇降ピン
15 リフトアーム
16 昇降機構
17 フォーカスリング
20 支持軸
21 フランジ
30 排気室
31 排気機構
32 排気管
33 調整弁
34 バッフル板
35 回転シール機構
40 ラジアルラインスロットアンテナ
41 マイクロ波透過板
42 スロット板
43 遅波板
50 同軸導波管
60 第1の処理ガス供給管
70 第2の処理ガス供給管
80 ベアリング
81 ケーシング
82 ロータリージョイント
83 回転駆動機構
84 チョーク
85 磁性流体シール
W ウェハ
DESCRIPTION OF
Claims (8)
基板を気密に収容する処理容器と、
前記処理容器内に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
前記処理容器内において基板を保持する基板保持機構と、
前記基板保持機構を上下方向に挿通し、基板保持機構に対して移動自在に設けられた昇降ピンと、
前記昇降ピンを昇降させる昇降機構と、を有し、
前記昇降機構は、前記昇降ピンを上方に押圧するリフトアームと、前記昇降ピンを下方に押し下げる他のリフトアームを備え、
前記昇降ピンは、前記基板保持機構の厚みよりも長く形成され、
前記昇降ピンの下端部には、前記他のリフトアームにより前記昇降ピンを押し下げる際に前記他のリフトアームと係止する係止部が設けられていることを特徴とする、プラズマ処理装置。 A plasma processing apparatus for processing a substrate with plasma,
A processing container for hermetically containing the substrate;
A processing gas supply unit for supplying a processing gas into the processing container;
A substrate holding mechanism for holding the substrate in the processing container;
Elevating pins that are inserted through the substrate holding mechanism in the vertical direction and are movable with respect to the substrate holding mechanism;
An elevating mechanism for elevating the elevating pins,
The lifting mechanism includes a lift arm that presses the lifting pin upward, and another lift arm that presses the lifting pin downward,
The lifting pins are formed longer than the thickness of the substrate holding mechanism,
The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein a lower end portion of the elevating pin is provided with an engaging portion that engages with the other lift arm when the elevating pin is pushed down by the other lift arm.
前記処理容器の外部に設けられ、前記支持軸を回転させる回転駆動機構と、
を有していることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 A support shaft that vertically penetrates the bottom surface of the processing container and supports the lower surface of the substrate holding mechanism;
A rotation drive mechanism that is provided outside the processing vessel and rotates the support shaft;
The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein the plasma processing apparatus includes:
前記処理容器内にマイクロ波を照射する、マイクロ波供給部を有していることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 The plasma processing apparatus is a plasma processing apparatus for processing by microwave plasma,
The plasma processing apparatus according to claim 1, further comprising a microwave supply unit that irradiates microwaves in the processing container.
前記処理容器内にマイクロ波を照射する、マイクロ波供給部を有し、
前記支持軸と前記処理容器との間を気密に塞ぐ磁性流体シールと、
前記磁性流体シールよりも上方に設けられ、前記支持軸と前記処理容器との間からのマイクロ波の漏洩により前記磁性流体シールが加熱されることを防止するチョーク機構と、を有することを特徴とする、請求項4または5のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 The plasma processing apparatus is a plasma processing apparatus for processing by microwave plasma,
A microwave supply unit for irradiating microwaves into the processing container;
A magnetic fluid seal that hermetically seals between the support shaft and the processing vessel;
A choke mechanism provided above the magnetic fluid seal and for preventing the magnetic fluid seal from being heated by leakage of microwaves from between the support shaft and the processing container. The plasma processing apparatus according to any one of claims 4 and 5.
前記処理容器内にマイクロ波を照射する、マイクロ波供給部を有し、
前記支持軸の回転中心または前記基板の中心の少なくともいずれかは、前記マイクロ波供給部からのマイクロ波の照射中心に対して、平面視において偏心位置にあることを特徴とする、請求項4または5のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 The plasma processing apparatus is a plasma processing apparatus for processing by microwave plasma,
A microwave supply unit for irradiating microwaves into the processing container;
The rotation center of the support shaft or the center of the substrate is at an eccentric position in a plan view with respect to the irradiation center of the microwave from the microwave supply unit. The plasma processing apparatus according to claim 5.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017132974A JP6386632B2 (en) | 2017-07-06 | 2017-07-06 | Plasma processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017132974A JP6386632B2 (en) | 2017-07-06 | 2017-07-06 | Plasma processing equipment |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014145186A Division JP2016021524A (en) | 2014-07-15 | 2014-07-15 | Plasma processing apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017195407A JP2017195407A (en) | 2017-10-26 |
JP6386632B2 true JP6386632B2 (en) | 2018-09-05 |
Family
ID=60156518
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017132974A Expired - Fee Related JP6386632B2 (en) | 2017-07-06 | 2017-07-06 | Plasma processing equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6386632B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021097162A (en) * | 2019-12-18 | 2021-06-24 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate processing device and mounting table |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6327022A (en) * | 1986-07-21 | 1988-02-04 | Hitachi Ltd | Microwave plasma treater |
US5714009A (en) * | 1995-01-11 | 1998-02-03 | Deposition Sciences, Inc. | Apparatus for generating large distributed plasmas by means of plasma-guided microwave power |
JP4232330B2 (en) * | 2000-09-22 | 2009-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | Excited gas forming apparatus, processing apparatus and processing method |
JP2004153166A (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Applied Materials Inc | Plasma processing method and plasma processing apparatus |
JP4687534B2 (en) * | 2005-09-30 | 2011-05-25 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate mounting mechanism and substrate processing apparatus |
JP2009188161A (en) * | 2008-02-06 | 2009-08-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Substrate treatment device |
JP5368514B2 (en) * | 2011-06-30 | 2013-12-18 | 東京エレクトロン株式会社 | Plasma processing equipment |
-
2017
- 2017-07-06 JP JP2017132974A patent/JP6386632B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017195407A (en) | 2017-10-26 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180717 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180712 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180809 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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