JP6384252B2 - Pattern exposure apparatus - Google Patents

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本発明は、 パターン露光置に関する。 The present invention relates to pattern exposure equipment.

半導体デバイスや液晶表示デバイス等の製造には、基板の表面に塗布された感光層に光パターンを露光する露光装置が用いられる。 The manufacturing of semiconductor devices and liquid crystal display devices, an exposure apparatus is used for exposing a light pattern on a photosensitive layer applied to the surface of the substrate. この露光装置において、解像度を向上するとともに、焦点深度を拡大するために、例えば、下記特許文献1に示すように、投影光学系と感光基板との間に満たした純水等の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が開示されている。 In this exposure apparatus, as well as improve the resolution, in order to enlarge the depth of focus, for example, as shown in Patent Document 1, through a liquid such as pure water filled between the photosensitive substrate projection optical system immersion exposure apparatus is disclosed which exposes a substrate with exposure light. この液浸露光装置においては、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージおよび基板ステージを逐次平面上で移動しながらマスクのパターンを投影光学系と液体を介して基板に転写するものである。 In the immersion exposure apparatus, and a substrate stage that supports the mask stage and the substrate supporting the mask, the pattern of the mask through a projection optical system and liquid while moving on successive planes of the mask stage and the substrate stage it is transferred onto the substrate Te.

一方、下記特許文献2に示すように、長尺のフレキシブルなシート基板を長尺方向に搬送し、搬送されたシート基板に対してパターンを露光するロール・ツー・ロール方式の露光装置が知られている。 On the other hand, as shown in Patent Document 2, to convey the flexible sheet substrate is elongated in the longitudinal direction, the exposure apparatus of the roll-to-roll method for exposing a pattern known for conveyed sheet substrates ing. このロール・ツー・ロール方式の露光装置においては、円筒状の回転ドラムにシート基板を巻き付けてシート基板を搬送するとともに、回転ドラムに巻き付けられたシート基板に対してパターンを描画露光している。 In this exposure apparatus of a roll-to-roll method, a cylindrical rotating drum by winding a sheet substrate with conveying the sheet substrate, and pattern was written to the sheet substrate wound on the rotary drum.

特開2014−140059号公報 JP 2014-140059 JP 国際公開第2013/146184号パンフレット WO 2013/146184 pamphlet

ここで、ロール・ツー・ロール方式の露光装置においても、解像度や焦点深度を上げるために、液体を介して露光光で基板を露光することが考えられる。 Here, in the exposure apparatus of the roll-to-roll method, in order to increase the resolution and depth of focus, it is conceivable that exposes a substrate with an exposure light through a liquid. しかしながら、上記特許文献1では、平面状の基板に対して露光を行うのに対し、上記特許文献2では、回転ドラムの外周面に倣って湾曲したシート基板に対して露光を行うため、露光方式が全く異なる。 However, in Patent Document 1, to perform exposure with respect to the planar substrate, in Patent Document 2, in order to perform exposure with respect to curved sheet substrate following the outer peripheral surface of the rotary drum, an exposure method but completely different. したがって、上記特許文献1の液浸露光法を上記特許文献2の露光装置に適用する場合、湾曲したシート基板の表面と露光用光学系の先端光学素子との間に液体を良好に保持するために、液体を満たした容器中に回転ドラム全体を設置することも考えられるが、大量の液体を必要とし、効率よく露光を行うことができない。 Therefore, when applying the liquid immersion exposure method of Patent Document 1 to the exposure apparatus of Patent Document 2, in order to satisfactorily retain the liquid between the curved sheet substrate surface and the tip optical element of the exposure optical system , although it is conceivable to install the entire rotating drum in a container filled with liquid, it requires a large amount of liquid can not be efficiently performed exposure.

本発明は、効率よく、回転ドラムに巻き付けられて搬送されているシート基板に対して、液中露光を行うパターン露光装置を提供することを目的とする The present invention efficiently, to the sheet substrate being transported wound around a rotary drum, and an object thereof is to provide a pattern exposure apparatus that performs exposure in a liquid.

本発明の態様は、長尺の可撓性のシート基板を長尺方向に搬送しつつ、照射光を照射することで前記シート基板の表面にパターンを露光するパターン露光装置であって、前記シート基板の前記長尺方向と直交する幅方向に延びるとともに重力の方向と交差した方向に延びた中心軸と、前記中心軸から一定半径の円筒状の外周面とを有し、重力が働く方向とは反対側で前記外周面に倣って前記シート基板の一部を前記長尺方向に湾曲させて支持しつつ、前記中心軸の回りに回転して前記シート基板を前記長尺方向に搬送する回転ドラムと、前記回転ドラムによって前記シート基板が湾曲して支持される領域であって 、前記シート基板の幅方向に関して前記照射光が照射される露光領域を含む特定範囲内で前記シート基板の表面が第1の液体で浸 State like the present invention, a pattern exposure apparatus that exposes a pattern on the front surface of the sheet substrate by while conveying the flexible sheet substrate is elongated in the longitudinal direction, is irradiated with irradiation light, the has a central axis extending in a direction intersecting the direction of gravity extends in a width direction orthogonal to the long direction of the sheet substrate, and a cylindrical outer peripheral surface of constant radius from said central axis, acts gravity while supporting it in the direction by curving a portion of the sheet substrate following the outer circumferential surface opposite to the elongated direction, conveying the sheet substrate in the elongated direction by rotating about said central axis a rotary drum which is a region where the sheet substrate by the rotary drum is supported by a curved, the sheet substrate in a specific range including the exposure region in which the irradiation light with respect to the width direction of the sheet substrate is irradiated surface immersion in the first liquid れ、且つ前記特定範囲外への前記第1の液体の遺漏を防止するシール部によって、前記第1の液体を前記回転ドラムの重力が働く方向とは反対側で保持するとともに、前記照射光が通る部分に透明材料を設けた液体保持部と、前記液体保持部保持される前記第1の液体に浸された前記シート基板に、前記透明材料を介して前記照射光を照射して前記パターンを露光する露光ユニットと、を備える。 Is, the seal portion and to prevent the first omission of the liquid in the to a particular range, holds the opposite side to the first direction of gravity acts in a liquid said rotary drum, said irradiation light a liquid holding portion in which a transparent material to the portion which passes through, the sheet substrate immersed in the first liquid held in the liquid holding portion, said by irradiating the irradiation light through the transparent material pattern and a exposure unit for exposing the.

第1の実施の形態の基板に露光処理を施す露光装置を含むデバイス製造システムの概略構成を示す図である。 It is a diagram showing a schematic structure of a device manufacturing system including an exposure apparatus which performs exposure processing on a substrate of the first embodiment. 図1の露光ヘッドによって基板上で走査されるスポット光の走査ラインおよび基板上に形成されたアライメントマークを検出するアライメント顕微鏡を示す図である。 Is a diagram showing an alignment microscope for detecting an alignment mark formed on the scanning lines and the substrate of the spot light scanned on the substrate by the exposure head of FIG. 図1の液体保持部の構成を示す断面斜視図である。 It is a cross-sectional perspective view showing a configuration of the liquid holding portion of FIG. 図1の液体保持部の一部断面図である。 It is a partial cross-sectional view of the liquid holding portion of FIG. 第2の実施の形態における露光装置の構成を示す図である。 It is a diagram showing a configuration of an exposure apparatus in the second embodiment. 図5の液体保持部の構成を示す断面図である。 It is a sectional view showing the configuration of the liquid holding portion of FIG. 第3の実施の形態における露光装置の構成を示す図である。 It is a diagram showing a configuration of an exposure apparatus according to the third embodiment. 図7の液体保持部と回収パレット部の外観斜視図である。 Liquid holding portion of FIG. 7 and is an external perspective view of a collecting pallet portion. 図7の液体保持部を回転ドラム側(−X方向側)から見た外観斜視図である。 The liquid holding portion of FIG. 7 is an external perspective view of the rotary drum side (-X direction). 図7の液体保持部の一部断面図である。 It is a partial cross-sectional view of the liquid holding portion of FIG. 図7の回収パレット部の外観斜視図である。 It is an external perspective view of the recovery pallet of FIG. 回転ドラムの周りに、第1の実施の形態で説明した液体保持部を複数設けた場合の一例を示す図である。 Around the rotary drum, it is a diagram showing an example of a case of providing a plurality of liquid holding portion described in the first embodiment. 第4の実施の形態による液体保持部の構成の斜視断面図である。 It is a perspective cross-sectional view of a configuration of the liquid holding unit according to the fourth embodiment.

本発明の態様に係る描画装置、描画方法および湿式処理装置について、好適な実施の形態を掲げ、添付の図面を参照しながら以下、詳細に説明する。 Drawing apparatus according to the embodiment of the present invention, the drawing method and a wet processing apparatus, set a preferred embodiment, the following with reference to the accompanying drawings, will be described in detail. なお、本発明の態様は、これらの実施の形態に限定されるものではなく、多様な変更または改良を加えたものも含まれる。 Incidentally, embodiments of the present invention is not intended to be limited to these embodiments, also include plus Various modifications and improvements. つまり、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれ、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。 That is, the components described below, those skilled in the art can be easily assumed, essentially contain the same things, components described below can be appropriately combined. また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換または変更を行うことができる。 Further, it is possible to perform various omissions, substitutions or changes of the components without departing from the scope of the present invention.

[第1の実施の形態] First Embodiment
図1は、第1の実施の形態の基板(被露光体)Pに露光処理を施す露光装置EXを含むデバイス製造システム10の概略構成を示す図である。 Figure 1 is a diagram showing a schematic structure of a device manufacturing system 10 that includes an exposure apparatus EX in the substrate of the first embodiment (object to be exposed) P subjected to the exposure process. なお、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、図に示す矢印にしたがって、X方向、Y方向、およびZ方向を説明する。 In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system, according to the arrow shown in FIG., X direction, Y direction, and the Z direction will be described.

デバイス製造システム10は、例えば、電子デバイスとしてのフレキシブル・ディスプレイを製造する製造ラインが構築された製造システムである。 Device manufacturing system 10 is, for example, a manufacturing system manufacturing line is constructed to produce a flexible display as an electronic device. フレキシブル・ディスプレイとしては、例えば、有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ等がある。 The flexible display, for example, an organic EL display, a liquid crystal display and so on. デバイス製造システム10は、フレキシブルのシート状の基板(シート基板)Pをロール状に巻いた図示しない供給ロールから基板Pが送出され、送出された基板Pに対して各種処理を連続的に施した後、各種処理後の基板Pを図示しない回収ロールで巻き取る、いわゆる、ロール・ツー・ロール(Roll To Roll)方式の構造を有する。 Device manufacturing system 10 is delivered substrate P from the supply roll (not shown) wound flexible sheet-like substrate (the sheet substrate) P into a roll, various processes subjected continuously against the delivered substrate P after wound up by the recovery roll (not shown) of the substrate P after the various processes, so-called, have the structure of a roll-to-roll (roll to roll) scheme. そのため、各種処理後の基板Pは、複数の電子デバイスが連なった状態となっており、多面取り用の基板となっている。 Therefore, the substrate P after the various processing is in a state where a plurality of electronic devices is continuous, has a substrate for a multi-chamfered. 前記供給ロールから送られた基板Pは、順次、プロセス装置PR1、露光装置(描画装置)EX、および、プロセス装置PR2等で各種処理が施され、前記回収ロールで巻き取られる。 Substrate P sent from the supply roll, successively, the process device PR1, an exposure apparatus (lithography system) EX, and various processing is performed in the process device PR2, etc., is wound by the collection roll. この基板Pは、基板Pの移動方向が長手方向(長尺)となり、幅方向が短手方向(短尺)となる帯状の形状を有する。 The substrate P has the direction of movement of the substrate P is a band-like shape in the longitudinal direction (long), and the width direction becomes short direction (short).

なお、X方向は、水平面内において、プロセス装置PR1から露光装置EXを経てプロセス装置PR2に向かう方向(搬送方向)である。 Incidentally, X-direction, in the horizontal plane, a direction from the process device PR1 to the process unit PR2 through the exposure apparatus EX (conveying direction). Y方向は、水平面内においてX方向に直交する方向であり、基板Pの幅方向である。 Y direction is a direction orthogonal to the X direction in the horizontal plane is the width direction of the substrate P. Z方向は、X方向とY方向とに直交する方向(上方向)である。 Z-direction is a direction orthogonal to the X and Y directions (upward). なお、−Z方向は、重力が働く方向とし、+Z方向は、重力が働く方向とは逆の方向とする。 Incidentally, -Z direction, and the direction in which gravity acts, + Z direction is a direction opposite to the direction in which gravity acts.

基板Pは、例えば、樹脂フィルム、ステンレス鋼等の金属または合金からなる箔(フォイル)等が用いられる。 The substrate P, for example, a resin film, foil made of a metal or alloy such as stainless steel (foil) or the like is used. 樹脂フィルムの材質としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、および酢酸ビニル樹脂のうち、少なくとも1つ以上を含んだものを用いてもよい。 As the material of the resin film, for example, polyethylene resins, polypropylene resins, polyester resins, ethylene-vinyl copolymer resins, polyvinyl chloride resins, cellulose resins, polyamide resins, polyimide resins, polycarbonate resins, polystyrene resins, and vinyl acetate resin among them, it may be used those containing at least one or more. また、基板Pの厚みや剛性(ヤング率)は、露光装置EXの搬送路を通る際に、基板Pに座屈による折れ目や非可逆的なシワが生じないような範囲であればよい。 Furthermore, the substrate P in the thickness and rigidity (Young's modulus), when passing through the conveying path of the exposure apparatus EX, may be in a range that does not cause a crease or irreversible wrinkles by buckling the substrate P. 基板Pの母材として、厚みが10μm〜200μm程度のPET(ポリエチレンテレフタレート)やPEN(ポリエチレンナフタレート)等のフィルムは、好適なシート基板の典型である。 As the base material of the substrate P, a film of such a thickness of about 10 m to 200 m PET (polyethylene terephthalate) or PEN (polyethylene naphthalate) are typical of suitable sheet substrate.

基板Pは、プロセス装置PR1、露光装置EX、および、プロセス装置PR2等で施される各処理において熱を受ける場合があるため、熱膨張係数が顕著に大きくない材質の基板Pを選定することが好ましい。 The substrate P, the process device PR1, the exposure apparatus EX, and, because they may undergo heat in each process performed in the process device PR2, etc., is possible to select the substrate P material thermal expansion coefficient is not significantly increased preferable. 例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合することによって熱膨張係数を抑えることができる。 For example, the inorganic filler it is possible to suppress the thermal expansion coefficient by mixing the resin film. 無機フィラーは、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、または、酸化ケイ素等でもよい。 Inorganic filler, for example, titanium oxide, zinc oxide, alumina, or may be a silicon oxide or the like. また、基板Pは、フロート法等で製造された厚さ100μm程度の極薄ガラスの単層体であってもよいし、この極薄ガラスに上記の樹脂フィルム、箔等を貼り合わせた積層体であってもよい。 Furthermore, the substrate P may be a single layer of ultra-thin glass having a thickness of about 100μm manufactured by float method or the like, the resin film on the ultrathin glass laminate obtained by bonding foil it may be.

ところで、基板Pの可撓性とは、基板Pに自重程度の力を加えてもせん断したり破断したりすることはなく、その基板Pを撓めることが可能な性質をいう。 Incidentally, the flexible substrate P, not also by applying a force of approximately its own weight on the substrate P or broken or sheared, refers to a property that can deflect the substrate P. また、自重程度の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。 Moreover, property of bending by the force of about its own weight is also included in the flexibility. また、基板Pの材質、大きさ、厚さ、基板P上に成膜される層構造、温度、湿度等の環境等に応じて、可撓性の程度は変わる。 The material of the substrate P, size, thickness, the layer structure to be formed on the substrate P, temperature, depending on the environment such as the humidity and the like, the degree of flexibility may vary. いずれにしろ、本第1の実施の形態によるデバイス製造システム10内の搬送路に設けられる各種の搬送用ローラ、回転ドラム等の搬送方向転換用の部材に基板Pを正しく巻き付けた場合に、座屈して折り目がついたり、破損(破れや割れが発生)したりせずに、基板Pを滑らかに搬送できれば、可撓性の範囲と言える。 In any event, the first embodiment of the various provided in the transport path of a device manufacturing system 10 according to the conveying rollers, when winding the substrate P correctly member for feed direction selector such as a rotary drum, the seat It succumbed or attached crease, damage without (broken or cracks occur) or, if smoothly transport the substrate P, it can be said that a flexible range.

プロセス装置PR1は、露光装置EXで露光処理される基板Pに対して前工程の処理を行う。 Process equipment PR1 performs processing of the previous step to the substrate P is exposed processed in the exposure apparatus EX. プロセス装置PR1は、前工程の処理を行った基板Pを露光装置EXへ向けて送る。 Process equipment PR1 sends a substrate P have been processed before step toward the exposure apparatus EX. この前工程の処理により、露光装置EXへ送られる基板Pは、その表面に感光性機能層(光感応層)が形成された基板(感光基板)Pとなっている。 By the process of the previous step, the substrate P is sent to the exposure apparatus EX has a its photosensitive functional layer on a surface substrate (photosensitive layer) is formed (photosensitive substrate) P.

この感光性機能層は、溶液として基板P上に塗布され、乾燥することによって層(膜)となる。 The photosensitive functional layer is coated on the substrate P as a solution, a layer (film) by drying. 感光性機能層の典型的なものはフォトレジストであるが、現像処理が不要な材料として、紫外線の照射を受けた部分の親撥液性が改質される感光性シランカップリング剤(SAM)、或いは紫外線の照射を受けた部分にメッキ還元基が露呈する感光性還元剤等がある。 While typical photosensitive functional layer is a photoresist, developing treatment as unnecessary materials, a photosensitive silane coupling agent parent liquid repellency of the portion irradiated with ultraviolet rays is modified (SAM) or there is a photosensitive reducing agent such as plating reducing groups in the received partial irradiation of the ultraviolet rays are exposed. 感光性機能層として感光性シランカップリング剤を用いる場合は、基板P上の紫外線で露光された部分が撥液性から親液性に改質される。 When using the photosensitive silane coupling agent as the photosensitive functional layer, ultraviolet exposed portions of the substrate P is modified lyophilic from liquid repellency. そのため、親液性となった部分の上に導電性インク(銀や銅等の導電性ナノ粒子を含有するインク)や半導体材料を含有した液体等を選択塗布することで、パターン層を形成することができる。 Therefore, by selecting the coating liquid or the like containing or semiconductor material (ink containing conductive nanoparticles, such as silver or copper) conductive ink on a portion which becomes lyophilic to form a pattern layer be able to. 感光性機能層として、感光性還元剤を用いる場合は、基板P上の紫外線で露光された部分にメッキ還元基が露呈する。 As the photosensitive functional layer, when using a photosensitive reducing agent, the plating reducing group is exposed to ultraviolet light in the exposed areas of the substrate P. そのため、露光後、基板Pを直ちにパラジウムイオン等を含むメッキ液中に一定時間浸漬することで、パラジウムによるパターン層が形成(析出)される。 Therefore, after the exposure, by a predetermined time dipping the substrate P immediately plating solution containing palladium ions and the like, the pattern layer Palladium is formed (deposited). このようなメッキ処理はアディティブ(additive)なプロセスであるが、その他、サブトラクティブ(subtractive)なプロセスとしてのエッチング処理を前提にする場合、露光装置EXへ送られる基板Pは、母材をPETやPENとし、その表面にアルミニウム(Al)や銅(Cu)等の金属性薄膜を全面または選択的に蒸着し、さらにその上にフォトレジスト層を積層したものであってもよい。 Such plating is a process of additive (additive), and other, to assume the etching process as a subtractive (subtractive) process, the substrate P sent to the exposure apparatus EX, PET Ya the preform and PEN, aluminum (Al) or copper (Cu) metal thin film such as entirely or selectively deposited on the surface, it may further laminated a photoresist layer thereon.

本第1の実施の形態においては、描画装置としての露光装置EXは、マスクを用いない直描方式の露光装置、いわゆるラスタースキャン方式の露光装置であり、プロセス装置PR1から供給された基板Pに対して、ディスプレイ用の回路または配線等の所定のパターンを描画する。 In this first embodiment, the exposure apparatus EX of the drawing apparatus, direct drawing type exposure apparatus which does not use a mask, an exposure apparatus of a so-called raster scanning method, the substrate P supplied from the process apparatus PR1 in contrast, to draw a predetermined pattern of a circuit or wiring or the like for display. 露光装置EXは、基板Pを+X方向に搬送しながら、露光用のレーザ光(露光ビーム)LBのスポット光SPを基板P上で所定の走査方向(Y方向)に1次元の方向に走査しつつ、スポット光SPの強度をパターンデータ(描画データ)に応じて高速に変調(on/off)することによって、基板Pの表面(感光面)に所定のパターンを描画露光している。 The exposure apparatus EX, while conveying the substrate P + X direction, the laser beam for exposure (exposure beam) LB spot light SP is scanned in one-dimensional direction in a predetermined scanning direction (Y-direction) on the substrate P while, by modulating (on / off) at a high speed according to the pattern data (drawing data) the intensity of the spot light SP, are drawn exposing a predetermined pattern on the surface (photosensitive surface) of the substrate P. つまり、基板Pの+X方向への搬送と、スポット光SPの走査方向への走査とで、スポット光SPが基板P上で相対的に2次元走査されて、基板Pに所定のパターンが描画露光される。 That is, the conveyance of the + X direction of the substrate P, in a scan in the scanning direction of the spot light SP, and the spot light SP is relatively two-dimensional scanning on the substrate P, a predetermined pattern is drawn exposed on the substrate P It is.

プロセス装置PR2は、露光装置EXで露光処理された基板Pに対しての後工程の処理(例えば、メッキ処理、現像・エッチング処理、洗浄、乾燥等)を行う。 Process equipment PR2 performs processing steps after the substrate P, which is exposure processing by the exposure apparatus EX (e.g., plating, development, etching treatment, washing, drying, etc.). この後工程の処理により、基板P上に電子デバイスのパターン層が形成される。 By the process of post-processes, a patterned layer of an electronic device is formed on the substrate P.

次に、露光装置EXについて詳しく説明する。 Next, it will be described in detail the exposure apparatus EX. 露光装置EXは、温調チャンバーECV内に格納されている。 The exposure apparatus EX is stored in the temperature control chamber ECV. この温調チャンバーECVは、内部を所定の温度に保つことで、内部において搬送される基板Pの温度による形状変化を抑制する。 The temperature control chamber ECV is to keep the inside to a predetermined temperature, suppressing the shape change due to the temperature of the substrate P conveyed inside. 温調チャンバーECVは、パッシブまたはアクティブな防振ユニットSU1、SU2を介して製造工場の設置面Eに配置される。 Temperature control chamber ECV is placed on an installation surface E of the manufacturing plant through a passive or active vibration isolation unit SU1, SU2. 防振ユニットSU1、SU2は、設置面Eからの振動を低減する。 Vibration isolating unit SU1, SU2 reduces vibrations from the installation surface E. この設置面Eは、設置土台上の面であってもよく、床であってもよい。 The installation surface E may be a surface on the installation base, it may be a floor. 露光装置EXは、基板搬送機構12、光源装置(パルス光源装置)14、光導入光学系16、露光ヘッド18、制御装置20、および、アライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)を備えている。 The exposure apparatus EX, the substrate transfer mechanism 12, the light source device (pulse light source device) 14, the light introducing optical system 16, the exposure head 18, the control unit 20 and, provided with a alignment microscope AM (AM1 to AM3).

基板搬送機構12は、プロセス装置PR1から搬送される基板Pを、プロセス装置PR2に所定の速度で搬送する。 Substrate transfer mechanism 12, the substrate P is transported from the process device PR1, it is conveyed to process equipment PR2 at a predetermined speed. 基板搬送機構12は、基板Pの搬送方向の上流側(−X方向側)から順に、駆動ローラNR1、エッジポジションコントローラEPC、案内ローラR1、テンション調整ローラRT1、回転ドラム(円筒ドラム)DR、テンション調整ローラRT2、および、案内ローラR2を有している。 Substrate transfer mechanism 12 includes, in order from the upstream side in the transport direction of the substrate P (-X direction), the driving roller NR1, edge position controller EPC, the guide rollers R1, tension adjustment rollers RT1, the rotating drum (cylindrical drum) DR, tension adjustment roller RT2, and has a guide roller R2.

駆動ローラNR1は、プロセス装置PR1から搬送される基板PをエッジポジションコントローラEPCに搬送する。 Drive roller NR1 transports the substrate P conveyed from the process equipment PR1 to an edge position controller EPC. エッジポジションコントローラEPCは、搬送されてきた基板Pの幅方向(Y方向であって基板Pの短尺方向)における位置を調整する。 Edge position controller EPC is (a Y-direction short direction of the substrate P) width direction of the substrate P that has been transported to adjust the position of. つまり、エッジポジションコントローラEPCは、所定のテンションが掛けられた状態で搬送されている基板Pの幅方向の端部(エッジ)における位置が、目標位置に対して±十数μm〜数十μm程度の範囲(許容範囲)に収まるように、搬送ローラや基板Pの供給ロールをY方向にシフトさせることで基板Pを幅方向に移動させて、基板Pの幅方向における位置を調整する。 That is, the edge position controller EPC, the end portion in the width direction of the substrate P, which is conveyed in a state in which a predetermined tension is exerted positions in (edge), dozen μm~ several tens μm approximately ± the target position to fit in a range of (tolerance), a supply roll of the transfer roller and the substrate P by moving the substrate P in the width direction by shifting in the Y direction, adjusting the position in the width direction of the substrate P. エッジポジションコントローラEPCは、基板Pの幅方向の端部(エッジ)の位置を検出する図示しないエッジセンサを有する。 Edge position controller EPC has an edge sensor (not shown) for detecting the position of the end portion in the width direction of the substrate P (edge). エッジポジションコントローラEPCは、駆動ローラNR2を有し、駆動ローラNR1、NR2は、基板Pに弛み(あそび)を与えている。 Edge position controller EPC has a driving roller NR2, driving roller NR1, NR2 has given the slack (play) in the substrate P. 駆動ローラNR1、NR2は、基板Pの表裏両面を挟持しながら回転し、基板Pを回転ドラムDR側に向けて搬送する。 Drive roller NR1, NR2 rotates while sandwiching the both sides of the substrate P, it conveys the substrate P to the rotary drum DR side. エッジポジションコントローラEPCから搬出された基板Pは、案内ローラR1、テンション調整ローラRT1の順に長尺方向に沿って掛け渡された後、回転ドラムDRに搬送される。 Substrate P taken out from the edge position controller EPC, the guide rollers R1, after being stretched along the elongated direction in the order of the tension adjustment roller RT1, is conveyed to the rotating drum DR. この駆動ローラNR1、NR2は、制御装置20の制御にしたがって回転する。 The driving roller NR1, NR2 rotates under the control of the control unit 20.

回転ドラムDRは、Y方向(基板Pの幅方向)に延びる中心軸(回転軸)AXと、中心軸AXから一定半径の円筒状の外周面とを有し、外周面(円筒面)に倣って基板Pの一部を長尺方向に湾曲させて支持しつつ、中心軸AXを中心に回転して基板Pを+X方向に搬送する。 Rotary drum DR has a central axis extending in the Y direction (the width direction of the substrate P) and (rotation axis) AX, a cylindrical outer peripheral surface of constant radius from the central axis AX, following the outer peripheral surface (cylindrical surface) while supporting by bending a part of the substrate P in the longitudinal direction Te, and rotated about the center axis AX transports the substrate P + X direction. これにより、回転ドラムDRは、基板Pを露光ヘッド18に対してスポット光SPの走査方向(Y方向)とは直交した+X方向に相対移動させることができる。 Thus, the rotary drum DR may be moved relative to the orthogonal + X direction to the scanning direction of the spot light SP (Y-direction) of the substrate P with respect to the exposure head 18. 回転ドラムDRは、+Z方向側で前記外周面の約半周面に亘って基板Pを支持する。 Rotary drum DR is for about half surface of the outer peripheral surface in the + Z direction side supporting the substrate P. 回転ドラムDRは、基板P上で所定のパターンが露光される領域(部分)、および、アライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)によって撮像される基板P上の領域(部分)をその円周面で支持する。 Rotary drum DR, the region in which a predetermined pattern is exposed on the substrate P (partial), and the support area on the substrate P to be imaged by the alignment microscope AM (AM1 to AM3) (partial) at its circumferential surface to. この中心軸AXには、制御装置20によって制御されて駆動する図示しない回転駆動源(例えば、モータや減速機構等)からの回転トルクが与えられる。 This center axis AX, the rotation drive source (not shown) is controlled to drive by the control device 20 (e.g., motor or speed reduction mechanism, etc.) are given rotational torque from. なお、便宜的に、中心軸AXを通り、Z方向と平行な面を中心面Cと呼ぶ。 Incidentally, for convenience, it passes through the center axis AX, called the central plane C in the Z direction parallel to the plane.

回転ドラムDRから搬出された基板Pは、テンション調整ローラRT2、案内ローラR2の順に長尺方向に沿って掛け渡された後、プロセス装置PR2に送られる。 Substrate P is unloaded from the rotating drum DR is tension adjustment roller RT2, after being stretched along the elongated direction in the order of the guide roller R2, is fed to the process unit PR2. テンション調整ローラRT1、RT2は、回転ドラムDRに巻き付けられて支持されている基板Pに、所定のテンションを与えている。 Tension adjustment roller RT1, RT2 is the substrate P supported wound around a rotary drum DR, giving a predetermined tension. このテンション調整ローラRT1、RT2は、−Z方向に付勢されている。 The tension adjustment roller RT1, RT2 is biased in the -Z direction.

光源装置14は、光源(パルス光源)14aを有し、パルス状のレーザ光(パルス光)LBを射出するものである。 Light source device 14 includes a light source (pulse light source) 14a, a pulsed laser beam (pulse light) is to emit LB. このレーザ光LBは、370nm以下の波長帯域にピーク波長を有する紫外線光であり、レーザ光LBの発振周波数をFe(Hz)とする。 The laser beam LB is a UV light having a peak wavelength in a wavelength band 370 nm, the oscillation frequency of the laser beam LB and Fe (Hz). この発振周波数Feは、スポット光SPの基板P上での実効的なサイズDs(μm)と走査速度Vs(μm/秒)により、Fe>Vs/Dsとなるように設定され、好ましくはFe≧2Vs/Ds(Hz)となるように設定される。 The oscillation frequency Fe is the effective size Ds on the substrate P of the spot light SP ([mu] m) and the scanning speed Vs ([mu] m / sec), is set to be Fe> Vs / Ds, preferably Fe ≧ It is set to be 2Vs / Ds (Hz). さらに、1パルス光の実効的な発光時間Ts(秒)が、Ts<1/2Feとなるようなパルス光源、例えば波長800nm〜1000nm程度の半導体レーザを周波数Feでパルス発振させて得られるパルス光を種光(シード光)として、光ファイバーアンプで増幅した後、波長変換素子(高調波変換素子)によって波長370nm以下で発光時間が数十ピコ秒〜数ピコ秒のパルス光をレーザ光LBとして出力するファイバーレーザ光源としてもよい。 Further, the effective emission time of one pulse light Ts (sec) is, Ts <1 / 2Fe become such a pulsed light source, for example, a pulse light obtained by a semiconductor laser having a wavelength of about 800nm~1000nm is pulsed at a frequency Fe as seed light (seed light), was amplified by the optical fiber amplifier, the output pulsed light emission time than the wavelength 370nm is several tens of picoseconds to a few picoseconds by the wavelength conversion element (harmonic conversion element) as the laser beam LB it may be a fiber laser light source for. 光源装置14が射出したレーザ光LBは、光導入光学系16に導かれて露光ヘッド18に入射する。 Laser beam LB light source device 14 is emitted is guided to the light introducing optical system 16 is incident on the exposure head 18.

露光ヘッド18は、レーザ光LBがそれぞれ入射する複数の描画ユニットU(U1〜U6)を備え、回転ドラムDRの上方(+Z方向)に設けられている。 Exposure head 18 includes a plurality of rendering units U which the laser beam LB is incident respectively (U1 to U6), is provided above (+ Z direction) of the rotary drum DR. 光源装置14からのレーザ光LBは、反射ミラーやビームスプリッタ等を有する光導入光学系16に導かれて露光ヘッド18の複数の描画ユニットU(U1〜U6)に入射する。 Laser beam LB from the light source device 14 is incident on the plurality of rendering units U of the reflecting mirror or a beam splitter or the like is guided to the light introducing optical system 16 of the exposure heads 18 with (U1 to U6). 露光ヘッド18は、回転ドラムDRの円周面で支持されている基板Pの一部分に、複数の描画ユニットU1〜U6によって、所定のパターンを描画する。 Exposure head 18, a portion of the substrate P supported by the circumferential surface of the rotary drum DR, a plurality of rendering units U1 to U6, to draw a predetermined pattern. 露光ヘッド18は、構成が同一の複数の描画ユニットU1〜U6を有することで、いわゆるマルチビーム型の露光ヘッドとなっている。 Exposure head 18, the configuration is to have the same plurality of rendering units U1 to U6, a so-called multi-beam type exposure head. 奇数番の描画ユニットU1、U3、U5は、中心面Cに対して基板Pの搬送方向の上流側(−X方向側)に配置され、偶数番の描画ユニットU2、U4、U6は、中心面Cに対して基板Pの搬送方向の下流側(+X方向側)に配置されている。 Drawing unit U1, U3 odd-numbered, U5 is disposed on the upstream side in the transport direction of the substrate P (-X direction) with respect to the center plane C, rendering unit U2 in the even-numbered, U4, U6, the center plane It is disposed on the downstream side in the transport direction of the substrate P (+ X direction) with respect to C. これにより、最初に奇数番の描画ユニットU1、U3、U5によって描画露光が行われ、その後、偶数番の描画ユニットU2、U4、U6によって描画露光が行われる。 Thus, the first imaging exposure by odd numbered drawing unit U1, U3, U5 in is performed, then, imaging exposure by the drawing unit U2, U4, U6 even numbered is performed. なお、描画ユニットUの数を6つとしたが、描画ユニットUの数は、1つであってもよいし、3つであってもよく、その数は任意に変更可能である。 Although several 6 bract the drawing unit U, the number of the drawing unit U may be a one, it may be three, and the number may be arbitrarily changed.

描画ユニットUは、入射したレーザ光LBを基板P上で収斂させてスポット光SPにし、且つ、そのスポット光SPを、基板Pの表面に設定された所定の走査ライン(描画ライン、描画領域)Lに沿って走査させつつ、パターンデータに応じて基板P上に照射されるスポット光SPの強度をオン(高レベル)/オフ(低レベルまたは0レベル)に変調させる。 Drawing unit U, the laser beam LB incident by converging on the substrate P and the spot light SP, and, the spot light SP, a predetermined scanning line, which is set on the surface of the substrate P (drawing line, drawing area) while scanning along L, and to modulate the intensity of the spot light SP irradiated onto the substrate P in accordance with the pattern data on (high level) / oFF (low level or zero level). これにより、走査ラインL内に線状のパターンが描画される。 Thus, linear pattern is drawn on the scan line in L. このスポット光SPの走査は、例えば、制御装置20の制御にしたがって回転するポリゴンミラーによって行われ、スポット光SPの強度変調は、例えば、制御装置20の制御にしたがって光路を切り換える音響光学素子(AOM)によって行われる。 Scanning the spot light SP is, for example, performed by a rotating polygon mirror in accordance with the control of the control unit 20, the intensity modulated light spot SP is, for example, acousto-optic element for switching the light path under the control of the control unit 20 (AOM ) is carried out by. また、基板Pは、+X方向に搬送されているので、スポット光SPの走査を複数回行うことで、2次元のパターンを基板Pに描画露光することができる。 Furthermore, the substrate P is, + since X-direction is transported to, by performing a plurality of times scanning of the spot light SP, it is possible to draw exposing a two-dimensional pattern on the substrate P. 各描画ユニットU(U1〜U6)から基板Pに照射されるスポット光SPの進行方向は、XZ平面において、回転ドラムDRの中心軸AXに向かって直線状に進む方向となっている。 Traveling direction of the spot light SP irradiated from each rendering unit U (U1 to U6) on the substrate P, in the XZ plane, and has a direction of travel in a straight line towards the central axis AX of the rotary drum DR. 各描画ユニットU(U1〜U6)は、各描画ユニットU(U1〜U6)の終端光学素子の射出面22から中心軸AXまでの長さが同一の距離となるように設定されている。 Each rendering unit U (U1 to U6) is set so that the length from the exit surface 22 of the last optical element of each rendering unit U (U1 to U6) to the center axis AX are the same distance. なお、射出面22とは、レーザ光LBが射出する終端光学素子の面のことをいう。 Note that the exit surface 22 refers to the surface of the last optical element of the laser beam LB is emitted.

各描画ユニットUの走査ラインLは、図2に示すように、Y方向(基板Pの幅方向、走査方向)に関して互いに分離することなく、繋ぎ合わされるように設定されている。 Scanning line L of each rendering unit U, as shown in FIG. 2, (the width direction of the substrate P, the scanning direction) Y direction without separating from each other with respect, is set to be spliced ​​together. 図2では、描画ユニットU1の走査ラインLをL1、描画ユニットU2の走査ラインLをL2で表している。 In FIG. 2, a scanning line L of the drawing unit U1 L1, the scanning line L of the drawing unit U2 in L2. 同様に、描画ユニットU3、U4、U5、U6の走査ラインLをL3、L4、L5、L6で表している。 Similarly, represents the drawing unit U3, U4, U5, U6 of the scanning line L in L3, L4, L5, L6. このように、描画ユニットU1〜U6全部で、基板Pの表面に設定された露光領域Wの幅方向の全てをカバーするように、各描画ユニットUは走査領域を分担している。 Thus, the drawing unit U1~U6 whole, so as to cover all the width direction of the exposure area W which is set to the surface of the substrate P, each rendering unit U is share the scanning area. なお、例えば、1つの描画ユニットUによるY方向の走査幅(走査ラインLの長さ)を20〜50mm程度とすると、奇数番の描画ユニットU1、U3、U5の3個と、偶数番の描画ユニットU2、U4、U6の3個との計6個の描画ユニットUをY方向に配置することによって、描画可能なY方向の幅を120〜300mm程度に広げている。 Incidentally, for example, when one rendering unit by U Y direction scanning width (the length of the scanning line L), about 20 to 50 mm, and three odd-numbered rendering units U1, U3, U5, the even numbered drawing by arranging the unit U2, U4, U6 3 pieces and a total of six rendering unit U of the Y-direction, and widen the drawable Y direction about 120~300Mm. この走査ラインLの幅(周方向)は、スポット光SPのサイズDs(μm)に応じた太さとなる。 The width of the scan line L (the circumferential direction), a thickness corresponding to the size of the spot light SP Ds ([mu] m). 例えば、スポット光SPのサイズDs(直径)が、最大光強度値(ピーク値)に対して半値となる幅、または1/e 2のレベルとなる幅で3μmの場合は、走査ラインLの周方向の幅も3μmとなる。 For example, in the case of 3μm in size of the spot light SP Ds (diameter), maximum light intensity value (peak value) becomes half of the width or 1 / e 2 level and becomes wide, circumferential scan lines L the direction of the width also becomes 3μm.

奇数番の走査ラインL1、L3、L5の各々に沿って走査されるレーザ光LBのスポット光SPの走査方向は、一次元の方向となっており、同じ方向となっている。 Scanning direction of the scanning lines L1, L3, of the L5 laser beam LB is scanned along each of the spot light SP of the odd-numbered, has a direction of one-dimensional, have the same direction. 偶数番の走査ラインL2、L4、L6の各々に沿って走査されるレーザ光LBのスポット光SPの走査方向は、一次元の方向となっており、同じ方向となっている。 Scanning direction of the scanning lines L2, L4, of the L6 laser beam LB is scanned along each of the spot light SP of the even numbered is a direction of one-dimensional, it has the same direction. この走査ラインL1、L3、L5に沿って走査されるレーザ光LBのスポット光SPの走査方向と、走査ラインL2、L4、L6に沿って走査されるレーザ光LBのスポット光SPの走査方向とは互いに逆方向となっている。 The scanning direction of the scanning lines L1, L3, of the laser beam LB is scanned along the L5 spot light SP, the scanning direction of the scanning lines L2, L4, of the laser beam LB is scanned along the L6 spot light SP It has become the opposite direction to each other. 詳しくは、この走査ラインL1、L3、L5に沿って走査されるレーザ光LBのスポット光SPの走査方向は+Y方向であり、走査ラインL2、L4、L6に沿って走査されるレーザ光LBのスポット光SPの走査方向は−Y方向である。 Specifically, the laser beam LB is scanned along the scanning lines L1, L3, L5 scanning direction of the spot light SP is the + Y direction, the scanning line L2, L4, L6 of the laser beam LB is scanned along the scanning direction of the spot light SP is -Y direction. これにより、走査ラインL3、L5の描画開始位置と、走査ラインL2、L4の描画開始位置とはY方向に関して隣接する。 Thus, the drawing start position of the scan line L3, L5, and drawing start position of the scan lines L2, L4 are adjacent in the Y direction. また、走査ラインL1、L3、L5の描画終了位置と、走査ラインL2、L4、L6の描画終了位置とはY方向に関して隣接する。 Further, a drawing end position of the scan lines L1, L3, L5, and the drawing end position of the scanning lines L2, L4, L6 are adjacent in the Y direction. 走査ラインL1〜L6の長さ、つまり、描画ユニットU1〜U6のスポット光SPの走査距離の長さは、同一とする。 The length of the scan line L1 to L6, that is, the length of the scanning distance of the spot light SP of the drawing unit U1~U6 is the same.

この描画ユニットUは、国際公開第2013/146184号パンフレット(図36参照)に開示されているように公知技術であるので、その具体的な構成の説明を割愛する。 The drawing unit U, is a known technique as disclosed in WO 2013/146184 pamphlet (see FIG. 36), a description thereof will be omitted for the specific configuration. なお、描画ユニットUは、マスクを用いてパターンを描画するものであってもよい。 Incidentally, the drawing unit U may be one to draw a pattern using a mask. その場合、マスクは、透過型と反射型のいずれでもよく、さらに平面状と円筒状のいずれであってもよい。 In that case, the mask may be either a transmissive and reflective, may be further either flat and cylindrical. さらにマスクは、母材となる平面状の基板(または円筒状の版胴)上にパターンを固定的に形成したもの以外に、一定ピッチで2次元配列される多数のマイクロミラー(DMD;デジタルマイクロミラーデバイス)やマイクロシャッター(LCD、MEMS)の各々を制御して、基板P上に描画されるパターンを動的に変化させるものであってもよい。 Furthermore mask, other than those of the pattern on a planar substrate as a base material (or cylindrical plate cylinder) fixedly formed, many of the micro-mirrors arranged two-dimensionally at a predetermined pitch (DMD; Digital Micro mirror device) or a micro shutter (LCD, by controlling the respective MEMS), the pattern may be one dynamically changing the drawn onto the substrate P. マイクロシャッターとしては、例えば、特開平6−120109号公報に開示されたものが利用可能である。 The micro-shutter, for example, those disclosed in JP-A-6-120109 is available.

アライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)は、図2に示すように、基板P上に形成されたアライメントマークKs(Ks1〜Ks3)を検出するためのものであり、Y方向に沿って3つ設けられている。 Alignment microscope AM (AM1 to AM3), as shown in FIG. 2, it is used to detect the alignment marks Ks formed on the substrate P (Ks1~Ks3), provided three along the Y-direction ing. このアライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)の基板P上の検出領域Vw(Vw1〜Vw3)は、回転ドラムDRの円周面上にある。 Detection area Vw on the substrate P in the alignment microscope AM (AM1~AM3) (Vw1~Vw3) is on the circumferential surface of the rotary drum DR. このアライメントマークKsは、基板P上の露光領域Wに描画されるパターンと基板Pとを相対的に位置合わせする(アライメントする)ための基準マークである。 The alignment marks Ks is a pattern and the substrate P to be drawn in the exposure area W on the substrate P to fit relatively positioned (aligned) is a reference mark for. つまり、アライメントマークKs(Ks1〜Ks3)を検出することで基板Pの位置を検出することができる。 In other words, it is possible to detect the position of the substrate P by detecting the alignment mark Ks (Ks1~Ks3). このアライメントマークKsは、図2に示すように、基板Pの幅方向の両端側に、基板Pの長尺方向に沿って一定間隔で形成されているとともに、基板Pの長尺方向に沿って並んだ矩形状の露光領域Wと露光領域Wとの間で、且つ、基板Pの幅方向中央にも形成されている。 The alignment marks Ks, as shown in FIG. 2, at both ends in the width direction of the substrate P, was formed with a predetermined interval along the longitudinal direction of the substrate P, along the longitudinal direction of the substrate P between the rectangular exposure area W and the exposure region W aligned, and are formed in the center in the width direction of the substrate P. なお、露光ヘッド18は、基板Pに対して電子デバイス用のパターン露光を繰り返し行うことから、基板Pの長尺方向に沿って所定の間隔をあけて露光領域Wが複数設けられている。 The exposure head 18, since repeating the pattern exposure for an electronic device with respect to the substrate P, the exposure area W along the longitudinal direction of the substrate P at a predetermined interval is provided with a plurality.

アライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)は、アライメント用の照明光を基板Pに投影して、CCD、CMOS等の撮像素子でその反射光を撮像する。 Alignment microscope AM (AM1 to AM3) is to project the illumination light for alignment in the substrate P, CCD, captures the reflected light by the imaging device such as CMOS. 基板位置検出部としてのアライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)は、露光ヘッド18から照射されるスポット光SPよりも基板Pの搬送方向の上流側(−X方向側)に設けられている。 Alignment microscopes AM as a substrate position detection unit (AM1 to AM3) is provided on the upstream side in the transport direction of the substrate P (-X direction side) of the spot light SP is irradiated from the exposure head 18. アライメント顕微鏡AM1は、検出領域(検出視野)Vw1内に存在する基板Pの+Y方向側の端部に形成されたアライメントマークKs1を撮像し、アライメント顕微鏡AM2は、検出領域Vw2内に存在する基板Pの−Y方向側の端部に形成されたアライメントマークKs2を撮像する。 Alignment microscope AM1 captures the detection region (detection field) alignment marks Ks1 formed at the end portion of the + Y direction side of the substrate P that is present in the Vw1, alignment microscope AM2, the substrate present in the detection region Vw2 P imaging the alignment marks Ks2 formed at the end of the -Y direction side of the. アライメント顕微鏡AM3は、検出領域Vw3内に存在する基板Pの幅方向中央に形成されたアライメントマークKs3を撮像する。 Alignment microscope AM3 images the alignment mark Ks3 formed the center in the width direction of the substrate P that is present in the detection area Vw3. アライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)が撮像した撮像信号は、制御装置20に送られる。 Imaging signal alignment microscope AM (AM1 to AM3) is captured is sent to the control unit 20. 制御装置20は、送られてきた撮像信号(画像データ)に基づいて画像認識処理を行うことで、アライメントマークKs(Ks1〜Ks3)の位置を検出する。 Controller 20 by performing an image recognition process based on the imaging signals sent (image data), to detect the position of the alignment mark Ks (Ks1~Ks3). なお、アライメント用の照明光は、基板P上の感光性機能層に対してほとんど感度を持たない波長域の光、例えば、波長500〜800nm程度の光である。 The illumination light for alignment, light in a wavelength range have little sensitivity to the photosensitive functional layer on the substrate P, for example, a light having a wavelength of about 500 to 800 nm. また、検出領域Vw(Vw1〜Vw3)の基板P上の大きさは、アライメントマークKs(Ks1〜Ks3)の大きさやアライメント精度(位置計測精度)に応じて設定されるが、100〜500μm角程度の大きさである。 The size of the substrate P in the detection area Vw (Vw1~Vw3) is set according to the size and alignment accuracy of the alignment marks Ks (Ks1~Ks3) (position measurement accuracy), about 100~500μm angle which is the size.

回転ドラムDRの両端部には、スケール部ES1、ES2が設けられている。 At both ends of the rotary drum DR is the scale unit ES1, ES2 is provided. スケール部ES1は、回転ドラムDRの+Y方向の端部側に設けられ、スケール部ES2は、回転ドラムDRの−Y方向の端部側に設けられている。 Scale unit ES1 is provided at an end side of the + Y direction of the rotary drum DR, the scale unit ES2 is provided on the end side of the -Y direction of the rotary drum DR. スケール部ES1、ES2は、回転ドラムDRの外周面の周方向に沿って一定のピッチ(例えば、20μm)で凹状または凸状の格子線を刻設した回折格子であり、インクリメンタル型スケールとして構成される。 Scale section ES1, ES2 is an outer peripheral surface in the circumferential direction along with constant pitch of the rotary drum DR (e.g., 20 [mu] m) is a diffraction grating engraved concave or convex grid lines, is constructed as an incremental scale that. このスケール部ES1、ES2は、中心軸AX周りに回転ドラムDRと一体に回転する。 The scale portion ES1, ES2 is rotated in the rotary drum DR integrally around the central axis AX.

回転ドラムDRの回転位置を光学的に検出する図示しないエンコーダヘッドがスケール部ES1、ES2と対向するように配置されている。 Encoder head (not shown) for detecting the rotational position of the rotary drum DR optically is disposed so as to face the scale unit ES1, ES2. このエンコーダヘッドは、スケール部ES1、ES2に向けて計測用の光ビームを照射し、その反射光速(回折光)を光電検出することにより、スケール部ES1、ES2の周方向の回転位置に応じた検出信号を制御装置20に出力する。 The encoder head, toward the scale portion ES1, ES2 irradiating a light beam for measurement, by the reflected light velocity (diffracted light) is detected photoelectrically, according to the rotational position in the circumferential direction of the scale portion ES1, ES2 and it outputs a detection signal to the controller 20. これにより、エンコーダヘッドは、回転ドラムDRの回転角度(回転位置)を検出することができる。 Thus, the encoder head can detect the rotation angle of the rotary drum DR (rotational position).

基板Pは、回転ドラムDRの両端のスケール部ES1、ES2より内側に巻き付けられ、スケール部ES1、ES2の外周面と、回転ドラムDRに巻き付けられた基板Pの外周面とが同一面(中心軸AXから同一半径)となるように設定されている。 Substrate P is wound on the inner side of the scale unit ES1, ES2 across the rotary drum DR, the scale unit ES1, ES2 and the outer peripheral surface of the outer peripheral surface and the same surface of the substrate P which is wound around the rotary drum DR (central axis It is set to be the same radius) from AX. これにより、エンコーダヘッドは、回転ドラムDRに巻き付いた基板P上の描画面と同じ径方向位置でスケール部ES1、ES2を検出することができ、計測位置と処理位置(スポット光SPの走査位置等)とが回転ドラムDRの径方向に異なることで生じるアッベ誤差を小さくすることができる。 Thus, the encoder head can detect the scale unit ES1, ES2 at the same radial position as the drawing surface of the substrate P wound around the rotary drum DR, the measurement position and the processing position (such as the scanning position of the spot light SP ) and it is possible to reduce the Abbe error caused by the different in the radial direction of the rotary drum DR.

露光装置EXは、図1に示すように、回転ドラムDRの上方の約半周面に巻き付けられた基板Pに対して液中露光を行うために、回転ドラムDRの上側で液体LQを保持する液体保持部LQPを備える。 The exposure apparatus EX, as shown in FIG. 1, in order to perform the exposure in the liquid to the substrate P wound about half plane above the rotary drum DR, the liquid to retain the liquid LQ on the upper side of the rotary drum DR comprising a holding portion LQP. この液体保持部LQPは、回転ドラムDRの上方(+Z方向)に設けられており、回転ドラムDRによって支持される基板Pの一部の表面が第1の液体LQ1に浸るように第1の液体LQ1を保持する。 The liquid holding portion LQP the upper rotary drum DR (+ Z direction) is provided in the first liquid such that a portion of the surface of the substrate P supported by the rotary drum DR is immersed in the first liquid LQ1 to hold the LQ1. 液体保持部LQPは、少なくとも複数の描画ユニットU(U1〜U6)によって描画される領域(描画領域)の基板Pの表面を第1の液体LQ1に浸す。 Liquid holding unit LQP is immersing the surface of the substrate P in the area to be drawn by at least a plurality of rendering units U (U1 to U6) (drawing area) in the first liquid LQ1. なお、回転ドラムDRとテンション調整ローラRT2との間には、乾燥用のエアーを基板Pに吹き付けることで基板Pに付着した液体LQを除去して乾燥させるための乾燥ユニット24が設けられている。 Between the rotary drum DR and the tension adjustment roller RT2 is dry unit 24 for drying to remove the liquid LQ that has adhered to the substrate P is provided by blowing air for drying the substrate P .

図3は、液体保持部LQPの構成を示す断面斜視図である。 Figure 3 is a cross-sectional perspective view showing a configuration of the liquid holding portion LQP. 基板Pは、回転ドラムDRの+Z方向側(上側)の外周面の約半周面に亘って密着して支持されつつ、回転ドラムDRの回転によって+X方向に搬送される。 Substrate P, while being supported in close contact for about half surface of the outer peripheral surface of the + Z direction side of the rotary drum DR (upper side), is conveyed by the rotation of the rotary drum DR in the + X direction. この液体保持部LQPは、底部に設けられた静圧気体軸受け(エアベアリング)方式またはベルヌイチャック方式のシール部SEPによって、基板Pの上方で支持される。 The liquid holding portion LQP, depending sealing portion SEP externally pressurized gas bearing (air bearing) type or Bernoulli chuck method provided at the bottom, is supported above the substrate P. なお、シール部SEPによって液体保持部LQPを基板Pの上方で支持したが、液体保持部LQPと回転ドラムDRとの3次元的な位置関係を精度よく保つための図示しない支持機構によって液体保持部LQPを基板P(回転ドラムDR)の上方で支持してもよい。 Although the liquid holding portion LQP supported above the substrate P by the seal portion SEP, the liquid holding portion by a support mechanism (not shown) for maintaining high accuracy three-dimensional position relation between the rotary drum DR and the liquid holding portion LQP LQP a may be supported above the substrate P (the rotary drum DR).

液体保持部LQPの底部には、回転ドラムDRによって支持されて円筒状に湾曲した基板Pの表面(または回転ドラムDRの外周面)に対して一定の隙間(ギャップ)WS1が形成されるように円筒面CU1が設けられている。 As the bottom of the liquid holding portion LQP the fixed gap relative to the surface of the substrate P supported cylindrically curved by the rotary drum DR (or the outer peripheral surface of the rotary drum DR) (gap) WS1 is formed cylindrical surface CU1 is provided. したがって、円筒状に湾曲した基板Pの曲率半径(回転ドラムDRの外周面の曲率半径)に対して、円筒面(液体保持部LQPの底面)CU1の曲率半径は、隙間WS1分だけ大きく設定される。 Thus, for the curvature of the substrate P cylindrically curved radius (radius of curvature of the outer peripheral surface of the rotary drum DR), the radius of curvature of the cylindrical surface (the bottom surface of the liquid holding portion LQP) CU1 is largely set by WS1 minutes gap that. この円筒面CU1が形成された範囲(特定範囲)は、複数の描画ユニットU(U1〜U6)によってスポット光SPが走査される基板P上の走査領域(走査ラインL1〜L6)を全て覆うように設定されている。 As range this cylindrical surface CU1 is formed (specific range), cover the entire scanning area on the substrate P that spot light SP is scanned by a plurality of rendering units U (U1 to U6) (scanning lines L1 to L6) It is set to. つまり、回転ドラムDRの外周面に沿った円筒面CU1の範囲(特定範囲)内に、複数の描画ユニットU(U1〜U6)によってスポット光SPが走査される走査ラインL(描画領域)が含まれている。 That is, the outer peripheral surface along the range of the cylindrical surface CU1 of the rotary drum DR (specified range), it includes scan lines by a plurality of rendering units U (U1 to U6) spot light SP is scanned L (drawing area) It has been.

液体保持部LQPは、円筒面CU1と基板Pとの隙間WS1で第1の液体LQ1を保持する。 Liquid holding unit LQP holds the first liquid LQ1 in the gap WS1 between the cylindrical surface CU1 and the substrate P. これにより、第1の液体LQ1は、円筒面CU1が形成された範囲(特定範囲)で保持されるので、この特定範囲内で基板Pの表面が第1の液体LQ1に浸される。 Thus, the first liquid LQ1, because the cylindrical surface CU1 is maintained within a range which is formed (specific range), the surface of the substrate P in this particular range is immersed in the first liquid LQ1. したがって、走査ラインL(L1〜L6)に沿ってスポット光SPが走査される基板P上の表面は第1の液体LQ1に浸された状態となる。 Thus, the surface of the substrate P that spot light SP is scanned along the scan line L (L1 to L6) is in a state of being immersed in the first liquid LQ1. また、第1の液体LQ1は、円筒面CU1と基板Pとの隙間WS1で保持されるので、液体保持部LQPは、円筒状に湾曲した基板Pの表面(または回転ドラムDRの外周面)から径方向に所定の厚み(一定)となるように第1の液体LQ1を保持することができる。 The first liquid LQ1, because is held in the gap WS1 between the cylindrical surface CU1 and the substrate P, the liquid holding unit LQP from the surface of the substrate P that has a cylindrically curved (or the outer peripheral surface of the rotary drum DR) to a predetermined thickness (constant) in the radial direction can hold the first liquid LQ1. これにより、回転ドラムDRの回転方向に沿って描画ユニットU1、U3、U5と描画ユニットU2、U4、U6とを設けた場合であっても、描画ユニットU1、U3、U5から射出されたレーザ光LBが第1の液体LQ1を通る距離と、描画ユニットU2、U4、U6から射出されたレーザ光LBが第1の液体LQ1を通る距離とを等しくすることができ、パターンの描画精度を向上(一様に安定)させることができる。 Thus, the rotary drum DR rotating direction drawing and the drawing unit U1, U3, U5 along units U2, U4, even if the U6 is provided, the drawing unit U1, U3, laser light emitted from the U5 a distance LB passes through the first liquid LQ1, the laser beam LB emitted from the drawing unit U2, U4, U6 is able to equalize the distance through the first liquid LQ1, improve the drawing accuracy of the pattern ( it is possible to uniformly stabilize) is. 隙間WS1は、基板Pの表面や円筒面CU1の親撥液性、保持する第1の液体LQ1の種類、濃度、粘性等によって異なるが、例えば、数10μm〜数mmの範囲に設定される。 Clearance WS1, the parent liquid repellency of the surface and the cylindrical surface CU1 of the substrate P, the first type of liquid LQ1 to hold, the concentration may vary depending viscous like, for example, is set in the range of a few 10μm~ number mm. 第1の液体LQ1が水性か油性(有機溶剤系)かによって異なるが、第1の液体LQ1が水性の場合、隙間WS1が1mm以下になると、第1の液体LQ1は重力の作用を受けても毛細管現象(或いは表面張力)によってその微小な隙間WS1内に留まろうとする。 Although the first liquid LQ1 is different depending on whether an aqueous or oily (organic solvent-based), when the first liquid LQ1 is aqueous, the gap WS1 becomes 1mm or less, the first liquid LQ1 is also under the action of gravity by capillarity (or surface tension) and tends to remain its small clearance within WS1. そのため、隙間WS1を微小にした場合は、隙間WS1内に満たされる第1の液体LQ1を所定の状態で流すための調節(制御)が容易になるといった利点もある。 Therefore, when the gap WS1 very small, there is an advantage such regulation (control) is facilitated for flowing a first liquid LQ1 to be filled into the gap WS1 in a predetermined state.

また、シール部SEPは、液体保持部LQPが第1の液体LQ1を保持する領域、つまり、円筒面CU1が形成された特定範囲を囲むように液体保持部LQPの底部に設けられている。 The sealing portion SEP, the liquid holding portion LQP a region for holding the first liquid LQ1, i.e., is provided at the bottom of the liquid holding portion LQP to surround a specific range cylindrical surface CU1 is formed. このシール部SEPによって、保持された第1の液体LQ1が液体保持部LQPから漏れないようにシールすることができる。 This sealing portion SEP, the first liquid LQ1 held can be sealed to prevent leakage from the liquid holding portion LQP. つまり、シール部SEPは、特定範囲外への第1の液体LQ1の遺漏を防止する。 In other words, the sealing portion SEP prevents first omissions liquid LQ1 to the outside of a particular range. 詳しく説明すると、液体保持部LQPの回転ドラムDRの周方向の両端部においては、シール部SEPは、Y方向に延びるように液体保持部LQPの底部に設けられている。 In detail, in the circumferential direction of the both end portions of the rotary drum DR of the liquid holding portion LQP, the seal portion SEP is provided at the bottom of the liquid holding portion LQP so as to extend in the Y direction. また、図示していないが、液体保持部LQPのY方向の両端部においては、シール部SEPは、円筒状に湾曲した基板P(回転ドラムDRの外周面)の曲率と同じ曲率で周方向に円弧状となるように液体保持部LQPの底部に設けられている。 Although not shown, at both ends of the Y direction of the liquid holding portion LQP, the seal portion SEP is the circumferential direction at the same curvature as that of the substrate P cylindrically curved (the outer peripheral surface of the rotary drum DR) as an arc shape are provided at the bottom of the liquid holding portion LQP.

液体保持部LQPには、露光ヘッド18の複数の描画ユニットU(U1〜U6)の終端光学素子の射出面22から射出されるレーザ光LBが基板P上に照射されるように形成された複数の開口部AH(AH1〜AH6)が設けられている。 The liquid holding portion LQP, a plurality of laser beam LB emitted from the exit face 22 of the last optical element of the plurality of rendering units U of the exposure head 18 (U1 to U6) is formed so as to be irradiated onto the substrate P opening AH (AH1~AH6) is provided for. つまり、描画ユニットU6から射出されたレーザ光LBは、開口部AH6を通って基板Pに到達し、描画ユニットU5から射出されたレーザ光LBは、開口部AH5を通って基板Pに到達する。 That is, the laser beam LB emitted from the drawing unit U6 reaches the substrate P through the opening AH6, laser beam LB emitted from the drawing unit U5 reaches the substrate P through the opening AH5. 同様に、描画ユニットU1〜U4から射出されたレーザ光LBは、開口部AH1〜AH4を通って基板Pに到達する。 Similarly, the laser beam LB emitted from the drawing unit U1~U4 reaches the substrate P through the opening AH1~AH4. なお、図3においては、開口部AH5、AH6のみが図示されている。 In FIG. 3, only opening AH5, AH6 is shown. 複数の描画ユニットU(U1〜U6)は、中心面C(中心軸AX)に対して基板Pの搬送方向の上流側(−X方向側)と下流側(+X方向側)とで2列に千鳥配列で配置されているので、それに対応して開口部AH(AH1〜AH6)も、中心面C(中心軸AX)に対して基板Pの搬送方向の上流側(−X方向側)と下流側(+X方向側)とで2列に千鳥配列で配置されている。 A plurality of rendering units U (U1 to U6) are in two rows out central plane C (center axis AX) upstream side in the transport direction of the substrate P with respect to the (-X direction side) downstream and (+ X direction side) because it is arranged in a staggered arrangement, even it corresponds opening AH (AH1~AH6), upstream side in the transport direction of the substrate P with respect to the center plane C (center axis AX) and (-X direction side) downstream They are arranged in a staggered arrangement in two rows out to the side (+ X direction side).

開口部AH(AH1〜AH6)は、液体保持部LQPを貫通するように形成されており、円筒面CU1側には、開口部AH(AH1〜AH6)の開口を塞ぐための透明材料で形成されたシール板GS(GS1〜GS6)が設けられている。 Opening AH (AH1~AH6) is formed so as to penetrate through the liquid holding portion LQP, the cylindrical surface CU1 side, it is formed of a transparent material for closing the opening of the opening AH (AH1~AH6) seal plate GS (GS1~GS6) is provided with. シール板GS6は、開口部AH6の開口を塞ぎ、シール板GS5は、開口部AH5の開口を塞ぐ。 Sealing plate GS6 occludes the opening of the opening AH6, seal plate GS5 is to close the opening of the opening AH5. 同様に、図示しないがシール板GS1〜GS4は、開口部AH1〜AH4の開口を塞ぐ。 Similarly, although not shown sealing plate GS1~GS4 may close the opening of the opening AH1~AH4. なお、このシール板GSは、全ての開口部AH(AH1〜AH6)の開口を塞ぐ一枚の板であってもよい。 Incidentally, the seal plate GS may be single plate closing the opening of all of the openings AH (AH1~AH6). シール板GS(GS1〜GS6)の底面(下面)は、円筒面(曲面)CU1を構成する。 The bottom surface of the sealing plate GS (GS1~GS6) (bottom surface) constitutes a cylindrical surface (curved surface) CU1. つまり、シール板GSの回転ドラムDRと対向する面が、円筒面CU1と揃った面(フラッシュサーフェス)となるように、シール板GSをその厚さ分だけ円筒面CU1に埋め込まれている。 That is, the rotary drum DR and opposed surfaces of the sealing plate GS is, so that the cylindrical surface CU1 and uniform surface (flush surface), is embedded a sealing plate GS cylindrical surface CU1 by that the thickness of. なお、単にシール板GSを埋め込まずに、開口部AHを塞ぐように円筒面CU1上に配置してもよい。 Note that simply without embedding the seal plate GS, it may be disposed on the cylindrical surface CU1 so as to close the opening AH. このシール板GSは、描画ユニットUから射出したレーザ光LBを透過させるとともに、隙間WS1に保持された第1の液体LQ1が開口部AHに浸入しないようにシールする。 The sealing plate GS, as well to transmit the laser beam LB emitted from the drawing unit U, the first liquid LQ1 held in the gap WS1 seals to prevent intrusion into the opening AH. シール板GSは、露光用の紫外線(レーザ光LB)の波長域において、90%以上の透過率を有し、厚みが100〜50μm程度で湾曲可能な最小曲率半径が10cm程度のものであってもよい。 Sealing plate GS is in the wavelength range of ultraviolet light for exposure (laser beam LB), have a transmittance of 90% or more, the thickness is bendable minimum radius of curvature of about 100~50μm is be of the order of 10cm it may be. シール板GSは、例えば、円筒面CU1の曲率以下まで湾曲可能な薄いガラス板であってもよい。 Sealing plate GS, for example, may be a thin glass plate bendable to below the curvature of the cylindrical surface CU1.

開口部AH(AH1〜AH6)には、描画ユニットU(U1〜U6)の先端部分(終端光学素子を含む)Uaが上方から下方に向かって挿入されてもよい。 The opening AH (AH1~AH6), (including final optical element) the tip portion of the rendering units U (U1 to U6) Ua may be inserted as they go downward. このとき、シール板GS(GS1〜GS6)と接触しないように先端部分Uaは開口部AH(AH1〜AH6)に挿入される。 At this time, the tip portion Ua so as not to contact the sealing plate GS (GS1~GS6) is inserted into the opening AH (AH1~AH6). また、開口部AH(AH1〜AH6)は、第2の液体LQ2を保持してもよい。 The opening AH (AH1~AH6) may hold the second liquid LQ2. 具体的には、第2の液体LQ2は、開口部AH(AH1〜AH6)とシール板GSとで保持される。 Specifically, the second liquid LQ2 is held at the opening AH and (AH1~AH6) and seal plate GS. この場合は、第1の液体LQ1と第2の液体LQ2とはシール板GSによって仕切られている。 In this case, the first liquid LQ1 and the second liquid LQ2 are partitioned by the sealing plate GS. 描画ユニットU(U1〜U6)の先端部分Uaが開口部AH(AH1〜AH6)に挿入される場合は、開口部AH(AH1〜AH6)は、描画ユニットU(U1〜U6)の終端光学素子の射出面22が第2の液体LQ2に浸るように第2の液体LQ2を保持してもよい。 If the tip portion Ua of rendering units U (U1 to U6) is inserted into the opening AH (AH1~AH6), an opening AH (AH1~AH6) are drawn last optical element of the unit U (U1 to U6) the exit surface 22 may hold the second liquid LQ2 so immersed in the second liquid LQ2. これにより、終端光学素子から射出されるレーザ光LBは、空気中を通らずに、第2の液体LQ2、シール板GS、および、第1の液体LQ1を通って基板Pに到達するので、液体LQ1、LQ2を脱気した超純水等にした場合、解像度の向上(スポット光SPのサイズ微細化)や、焦点深度を拡大することができる、といった利点がある。 Thus, the laser beam LB emitted from the last optical element, without passing through the air, the second liquid LQ2, the seal plate GS, and so to reach the substrate P through the first liquid LQ1, the liquid LQ1, if LQ2 was degassed ultrapure water or the like, resolution enhancement (size miniaturization of the spot light SP) and, it is possible to increase the focal depth, there is an advantage.

回転ドラムDRの周方向に沿って(基板Pの搬送方向に沿って)、液体保持部LQPの開口部AH1、AH3、AH5と開口部AH2、AH4、AH6との間には、隙間WS1に第1の液体LQ1を供給するポートとしての液体供給部SUPが設けられている。 Along the circumferential direction of the rotary drum DR (along the transport direction of the substrate P), between the liquid holding portion opening AH1 of LQP, AH3, AH5 an opening AH2, AH4, AH6, first the gap WS1 liquid supply unit SUP is provided as a port for supplying the first liquid LQ1. この液体供給部SUPは、液体保持部LQPの上部に設けられ、液体保持部LQPによって保持される第1の液体LQ1を所定の流量で供給する。 The liquid supply unit SUP is provided above the liquid holding portion LQP, it supplies the first liquid LQ1 held by the liquid holding portion LQP at a predetermined flow rate. この液体供給部SUPは、XY平面において回転ドラムDRの中心軸AX上、つまり、中心面C上に設けられている。 The liquid supply unit SUP is on the central axis AX of the rotary drum DR in the XY plane, that is, provided on the center plane C. これにより、回転ドラムDRの最も上方の位置から第1の液体LQ1を供給することができる。 Thus, it is possible to supply the first liquid LQ1 from the uppermost position of the rotary drum DR. この液体供給部SUPは、Y方向に沿って複数設けられている。 The liquid supply unit SUP is provided in plurality along the Y direction. なお、液体供給部SUPは、第1の液体LQ1を出力するポンプ等の図示しない液体供給装置に接続されている。 The liquid supply unit SUP is connected to the liquid supply device (not shown) such as a pump that outputs a first liquid LQ1.

液体保持部LQPの回転ドラムDRの周方向の両端部には、隙間WS1に存在する第1の液体LQ1、つまり、液体保持部LQPによって保持されている第1の液体LQ1を回収するポートとして液体回収部DRPが設けられている。 At both ends in the circumferential direction of the rotary drum DR of the liquid holding portion LQP the first liquid LQ1 to be present in the gap WS1, i.e., the liquid as a port for recovering the first liquid LQ1 held by the liquid holding portion LQP recovery unit DRP is provided. この液体回収部DRPは、Y方向に沿って複数設けられている。 The liquid recovery unit DRP is provided in plurality along the Y direction. 円筒面CU1には、回転ドラムDRの周方向の両端部側であって、シール部SEPに隣接する位置に、Y方向に延びた溝部DRCが設けられている。 The cylindrical surface CU1, a circumferential direction of both ends of the rotary drum DR, the position adjacent to the sealing portion SEP, groove DRC extending in the Y direction are provided. この溝部DRCには、液体回収部DRPが接続されている。 The groove DRC, liquid recovery unit DRP are connected. なお、基板Pの搬送方向側(+X方向側)の溝部DRCをDRC1とし、基板Pの搬送方向とは逆方向側(−X方向側)の溝部DRCをDRC2とする。 Incidentally, a groove DRC in the transport direction of the substrate P (+ X direction side) and DRC1, to the conveying direction of the substrate P grooves DRC reverse side (-X direction side) and DRC2. なお、液体回収部DRPは、第1の液体LQ1を吸引する図示しない液体吸引装置に接続されている。 The liquid recovery unit DRP is connected to a liquid suction device (not shown) for sucking the first liquid LQ1.

液体供給部SUPによって、回転ドラムDRの最上位の位置から隙間WS1に供給された第1の液体LQ1は、重力にしたがって回転ドラムDRの回転方向(+X方向)に沿って隙間WS1内を流れるとともに、回転ドラムDRの回転方向とは逆方向(−X方向)に沿って隙間WS1内を流れる。 The liquid supply portion SUP, the first liquid LQ1 supplied to the gap WS1 from the top position of the rotary drum DR, as well as flows through the gap WS1 along the rotational direction of the rotary drum DR by gravity (+ X direction) , the rotation direction of the rotary drum DR flowing in the gap WS1 along the opposite direction (-X direction). 回転ドラムDRの回転方向に沿って流れた第1の液体LQ1は、開口部AH2、AH4、AH6(シール板GS2、GS4、GS6)の下方を通って溝部DRC1に到達し、回転ドラムDRの回転方向とは逆方向に沿って流れた第1の液体LQ1は、開口部AH1、AH3、AH5(シール板GS1、GS3、GS5)の下方を通って溝部DRC2に到達する。 The first liquid LQ1 flowing along the rotation direction of the rotary drum DR passes through the lower opening AH2, AH4, AH6 (seal plate GS2, GS4, GS6) reaches the groove DRC1, rotation of the rotary drum DR the direction first liquid LQ1 flowing along the reverse direction, opening AH1, AH3, AH5 reaches the (sealing plate GS1, GS3, GS5) groove through the lower DRC2. 溝部DRC1、DRC2に到達した第1の液体LQ1は、液体回収部DRPによって液体保持部LQPの外部に所定の流量で放出される。 Groove DRC1, the first liquid LQ1, which has reached the DRC2 is discharged to the outside of the liquid holding portion LQP at a predetermined flow rate by the liquid recovery unit DRP.

このような構成を有することで、液体供給部SUPから供給される第1の液体LQ1、および、液体回収部DRPによって回収される第1の液体LQ1の流量、タイミング、インターバル等を制御することで、シール部SEPで囲まれた隙間WS1内を第1の液体LQ1で満たした状態を作ることができ、また、所定の流れを作ることもできる。 By having such a configuration, the first liquid LQ1 supplied from the liquid supply unit SUP, and, by controlling the flow rate, timing, interval, etc. of the first liquid LQ1 is recovered by the liquid recovery unit DRP can be made a state that the inside gap WS1 surrounded filled with the first liquid LQ1 by the sealing portion SEP, it can also be made a predetermined flow. また、シール板GSによって第1の液体LQ1と第2の液体LQ2とが仕切られているので、第1の液体LQ1の流れが第2の液体LQ2に影響を与えることがなく、第1の液体LQ1の流れによって描画ユニットU(U1〜U6)の終端光学素子の位置がずれたり振動したりすることを防止することができる。 Further, since the sealing plate GS and the first liquid LQ1 and the second liquid LQ2 are partitioned, without the flow of the first liquid LQ1 affect second liquid LQ2, the first liquid by the flow of LQ1 can be prevented from or vibrate shift position of the last optical element of the drawing unit U (U1 to U6). 同様に、何らかの理由によって発生した第2の液体LQ2の流動が第1の液体LQ1に与える影響を防止することもできる。 Similarly, it is also possible to prevent the influence of flow of the second liquid LQ2 generated for some reason has on the first liquid LQ1.

なお、液体回収部DRPを介して回収される第1の液体LQ1は、その濃度が変化したり、不純成分(ゴミ等)が混入している可能性があるため、不純物の除去と濃度回復を行う液体再生(リフレッシュ)処理部に送られる。 The first liquid LQ1 is recovered via the liquid recovery unit DRP, the concentration is changed or the impurity components for (such as dust) is likely contaminating removal and concentration recovery of the impurity sent to liquid regeneration (refresh) processing unit that performs. 再生処理部で所定の状態にリフレッシュされた第1の液体LQ1は、再び液体供給部SUPに送られる。 The first liquid LQ1, which is refreshed in a predetermined state by the reproduction processing unit is sent back to the liquid supply portion SUP. このような循環系を設けることによって、廃液として処理される液体を少なくすることができる。 By providing such a circulation system, it is possible to reduce the liquid to be treated as waste.

図4は、液体保持部LQPの一部断面図である。 Figure 4 is a partial sectional view of the liquid holding portion LQP. シール部SEPは、基板Pの表面と対向する面(パッド面、パッド部)CU2と、面CU2と基板Pとの間に静圧気体層(気体層)を生成するための気体を供給する気体供給部ARBとを有する。 Seal portion SEP a gas supply surface which faces (pad surface, the pad portion) of the substrate P and CU2, a gas for generating hydrostatic gas layer (gas layer) between the surface CU2 and the substrate P and a supply unit ARB. シール部SEPの内側の端部EGは、ナイフエッジのように鋭利なフィン状に形成される。 Inner end EG of the sealing portion SEP is formed sharp fin-shaped as a knife edge. シール部SEPの面(円筒面)CU2と基板Pとは、一定の隙間(ギャップ)WS2を有する。 The surface (cylindrical surface) CU2 and the substrate P of the sealing portion SEP, having a constant gap (gap) WS2. つまり、シール部SEPの面(曲面)CU2の曲率は、円筒状に湾曲した基板Pの曲率(回転ドラムDRの外周面の曲率)と同一となる。 In other words, the curvature of the surface of the sealing portion SEP (curved) CU2 is composed curvature of the substrate P cylindrically curved with (curvature of the outer peripheral surface of the rotary drum DR) the same. 隙間WS2は、隙間WS1に比べ極めて小さく、例えば、数μm〜十数μm程度に設定されている。 Clearance WS2 is very small compared to the gap WS1, for example, it is set to several μm~ tens of μm order. したがって、気体供給部ARBが隙間WS2に気体を供給することで、隙間WS2内では気体の圧力が高くなり、端部EG側から隙間WS2への第1の液体LQ1の浸入が防止される。 Therefore, by the gas supply unit ARB supplies the gas into the gap WS2, the pressure of the gas is higher in the gap WS2, penetration of the first liquid LQ1 to the gap WS2 from the end EG side is prevented. これにより、シール部SEPは、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって、第1の液体LQ1が液体保持部LQPから漏れることを防止することができ、且つ、回転ドラムDR上で液体保持部LQPを支持することができる。 Thus, the sealing portion SEP is by an air bearing system or Bernoulli chuck method, the first liquid LQ1 can be prevented from leaking from the liquid holding portion LQP, and support the liquid holding portion LQP on a rotating drum DR can do. また、基板Pの搬送速度は、5〜10mm/秒、早くても数十mm/secであるため、基板Pの表面の濡れ性が上がった場合(撥液性が低下した場合)であっても、シール部SEPの面CU2を第1の液体LQ1に対して高い撥液性にしておけば、第1の液体LQ1の隙間WS2への浸入を抑えることができる。 The transport speed of the substrate P, for 5 to 10 mm / sec, which is faster by several tens mm / sec, even if the wettability of the surface of the substrate P is raised (if liquid repellency is decreased) also, if the high liquid-repellent surface CU2 seal portion SEP respect to the first liquid LQ1, can be suppressed from entering the gap WS2 of the first liquid LQ1. これにより、シール部SEPによって第1の液体LQ1を隙間WS1内に補足し続けることができる。 This makes it possible to keep the first liquid LQ1 supplemented into the gap WS1 by the seal portion SEP. なお、気体供給部ARBは、気体(例えば、圧縮気体)を出力するポンプ等の図示しない気体供給装置に接続されている。 Incidentally, the gas supply unit ARB a gas (e.g., compressed gas) is connected to the gas supply device (not shown) such as a pump for outputting. また、シール部SEPは、静圧気体層を生成することで、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって第1の液体LQ1が漏れることを防止したが、シール部SEPは、磁性流体シールであってもよい。 The sealing portion SEP, by generating a static pressure gas layer, but to prevent the first liquid LQ1 leaks by an air bearing system or Bernoulli chuck method, the seal portion SEP may be a magnetic fluid seal good.

基板Pの表面の第1の液体LQ1に対する撥液性の程度は、基板Pの表面に形成された被膜層によっても異なる。 The degree of liquid repellency to the first liquid LQ1 on the surface of the substrate P is different depending on coating layer formed on the surface of the substrate P. 感光性の被膜層(感光性機能層)として典型的なフォトレジストを使い、第1の液体LQ1として純水を使う場合は、液体保持部LQPの底部で基板Pの表面と対向する円筒面CU1や溝部DRC1、DRC2内の表面を、水との親液性が高い金属面(例えば、チタン)等にするとよい。 Use typical photoresist as the photosensitive coating layer (photosensitive functional layer), the cylindrical surface when using pure water as the first liquid LQ1 faces the surface of the substrate P at the bottom of the liquid holding portion LQP CU1 the surface of the or groove DRC1, the DRC2, high metal surface lyophilic with water (e.g., titanium) may be to such. 併せて、シール板GSの第1の液体LQ1との接触面側も親液性となるように表面加工しておくのがよい。 In addition, the contact surface of the first liquid LQ1 of the sealing plate GS also may want to make a surface treatment so as to be lyophilic.

ここで、感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間WS1には第1の液体LQ1として純水(電解処理と脱気処理とが施された純水、以下同様)が保持されるとともに、開口部AH(AH1〜AH6)によって第2の液体LQ2として純水が保持されるようにしてもよい。 Here, when using a photoresist as a photosensitive coating layer, (pure water and the electrolytic treatment and the degassing treatment was performed, hereinafter the same) of the gap WS1 pure water as the first liquid LQ1 is retained Rutotomoni, pure water as the second liquid LQ2 may also be held by the opening AH (AH1~AH6). この場合は、少なくとも描画ユニットU(U1〜U6)の終端光学素子の射出面22は第2の液体LQ2に浸されている。 In this case, the exit surface 22 of the last optical element of at least the drawing unit U (U1 to U6) are immersed in the second liquid LQ2. これにより、基板Pに照射するスポット光SPのNA(開口数)が高くなることで解像度が向上するとともに、焦点深度が拡大する。 This improves the resolution by the NA of the spot light SP to be irradiated on the substrate P (numerical aperture) is increased, enlarging the depth of focus. 感光性の被膜層として、高NAで集光した紫外線が照射された部分が除去される被膜層を用いた場合も同様に、液体保持部LQPが純水の第1および第2の液体LQ1、LQ2を保持することで、レーザ光LB(スポット光SP)が照射された部分を除去することができる。 As the photosensitive coating layer, also if the ultraviolet rays focused by the high NA is used a coating layer is irradiated portion is removed, the first and second liquid LQ1 liquid holding portion LQP is pure water, by holding the LQ2, it is possible to remove a portion of the laser beam LB (spot light SP) is irradiated. この場合は、液体保持部LQPが保持している第1の液体LQ1は液体供給部SUPから供給されて液体回収部DRPによって回収されているので、レーザ光LB(スポット光SP)の照射によって除去された被膜層の除去物を液体回収部DRPによって回収することができる。 In this case, since the first liquid LQ1 of the liquid holding portion LQP holds is recovered is supplied from the liquid supply unit SUP by the liquid recovery unit DRP, removed by irradiation of the laser beam LB (spot light SP) has been removed of the coating layer can be recovered by the liquid recovery unit DRP. したがって、液体保持部LQPが保持する第1の液体LQ1を綺麗な状態に保つことができる。 Therefore, it is possible to maintain the first liquid LQ1 of the liquid holding portion LQP is held in a beautiful state. なお、解像度を向上し、焦点深度の拡大を図るために保持する第1および第2の液体LQ1、LQ2の露光光(レーザ光LB)の波長における屈折率およびシール板GS(GS1〜GS6)の屈折率は、描画ユニットUの終端光学素子の屈折率と同一または一定の許容範囲内(例えば±20%以内)に揃っている必要がある。 Incidentally, to improve the resolution, first and second liquid LQ1, LQ2 of the exposure light to hold in order to expand the depth of focus of the refractive index at the wavelength of (the laser beam LB) and seal plate GS (GS1~GS6) refractive index needs to be aligned in the same or constant tolerance and refractive index of the last optical element of the drawing unit U (e.g. within ± 20%).

感光性の被膜層としてポジ型のフォトレジストを使用する場合は、隙間WS1には第1の液体LQ1として現像液が保持されてもよい。 When using a positive photoresist as a photosensitive coating layer, the gap WS1 may developer is held as the first liquid LQ1. これにより、描画ユニットU(U1〜U6)によってレーザ光LB(スポット光SP)が照射された部分は現像液(処理液)によって直ちに溶解するので、基板Pの露光とフォトレジストのパターンの形成を略同時期に行うことができる。 Thus, the laser beam LB (spot light SP) is irradiated portion by the drawing unit U (U1 to U6) is immediately dissolved by the developing solution (processing solution), the formation of the pattern of the exposure and the photoresist of the substrate P almost it can be carried out at the same time. また、レーザ光LB(スポット光SP)の照射時からの経過時間に応じて、フォトレジストのパターンの形成精度が悪化するが、露光とフォトレジストのパターンの形成とが略同時期に行われるので、精度よくフォトレストのパターンの形成を行うことができる。 Further, according to the elapsed time from the irradiation of the laser beam LB (spot light SP), but accuracy of forming the pattern of the photoresist is deteriorated, because the exposure and the formation of the pattern of the photoresist is performed substantially at the same time , it is possible to form a pattern of high precision photo rest. なお、現像液によるフォトレジストのパターンの形成を行う場合は、開口部AH(AH1〜AH6)による第2の液体LQ2の保持を行わなくてもよい。 In the case of performing the pattern formation of the photoresist by developer may not perform the holding of the second liquid LQ2 by the opening AH (AH1~AH6). すなわち、シール板GS(GS1〜GS6)と描画ユニットU(U1〜U6)の各終端光学素子との間は大気(または窒素ガス)のままでもよい。 That is, between the seal plate GS (GS1~GS6) and the last optical element of the drawing unit U (U1 to U6) may remain in the air (or nitrogen gas).

感光性の被膜層としてメッキ還元基を有するシランカップリング剤を使用する場合は、隙間WS1には第1の液体LQ1としてパラジウムイオン(Pd + )等を含むメッキ核析出液(メッキ液、処理液)が保持されてもよい。 When using a silane coupling agent having a plating reducing group as a photosensitive coating layer, the plating nucleus deposition solution containing palladium ions (Pd +) or the like as the first liquid LQ1 in the gap WS1 (plating solution, the processing solution ) it may be held. これにより、描画ユニットU(U1〜U6)によってレーザ光LB(スポット光SP)が照射された部分には、パラジウムが析出するので、基板Pの露光とメッキ(パターンの析出)とを略同時期に行うことができる。 Thus, the laser beam LB (spot light SP) is irradiated by the drawing unit U (U1 to U6) moiety, since palladium is deposited, exposed and plating of the substrate P (precipitation patterns) and substantially same time the it can be carried out in. また、レーザ光LB(スポット光SP)の照射時からの経過時間に応じて、パラジウムの析出精度が悪化するが、露光とメッキとが略同時期に行われるので、効率的に精度よくパターンを析出することができる。 Further, according to the elapsed time from the irradiation of the laser beam LB (spot light SP), palladium deposition accuracy is deteriorated, because the exposure and the plating is performed substantially the same time, efficiently and precisely pattern it can be deposited. なお、メッキ液によるパターンの析出を行う場合は、開口部AH(AH1〜AH6)による第2の液体LQ2の保持を行わなくてもよい。 In the case of performing the deposition of a pattern by the plating solution may not perform the holding of the second liquid LQ2 by the opening AH (AH1~AH6). なお、感光性の被膜層としてメッキ還元基を有するシランカップリング剤を用いる場合は、被膜層の露光光(レーザ光LB)が照射されない部分は、第1の液体LQ1に対して撥液性が比較的高い状態となる。 In the case of using a silane coupling agent having a plating reducing group as a photosensitive coating layer, a portion where the exposure light coating layer (laser beam LB) is not irradiated, liquid repellency with respect to the first liquid LQ1 a relatively high state.

このように、第1の実施の形態においては、液体保持部LQPは、回転ドラムDRの外周面によって支持された円筒状に湾曲した基板Pの表面から径方向に所定の厚みとなるように第1の液体LQ1を保持している。 Thus, in the first embodiment, the liquid holding unit LQP is first so as to have a predetermined thickness from the supported cylindrically curved surface of the substrate P by the outer peripheral surface of the rotary drum DR in the radial direction holding the first liquid LQ1. これにより、回転ドラムDRの回転方向(基板Pの搬送方向)に沿って配置された複数の描画ユニットUから基板Pに射出されるレーザ光LBが第1の液体LQ1を通る距離を等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。 Thus, the laser beam LB emitted from the plurality of rendering units U arranged along the rotational direction (conveying direction of the substrate P) of the rotary drum DR to the substrate P is equal distances through the first liquid LQ1 can be, it is possible to improve the writing precision of a pattern. その結果、効率よく液中露光を行うことができる。 As a result, it is possible to perform efficiently submerged exposure.

また、液体保持部LQPは、保持した第1の液体LQ1が漏れないようにシールするシール部SEPを有するので、回転ドラムDRの上方(+Z方向)において、第1の液体LQ1を保持することができる。 Furthermore, the liquid holding unit LQP Since has a first seal portion SEP for sealing so that the liquid LQ1 from leaking held, above the rotary drum DR (+ Z direction), to retain the first liquid LQ1 it can. このシール部SEPは、基板Pとシール部SEPの底面CU2との間に静圧気体層を生成する気体供給部ARBを有するので、シール部SEPは、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって、第1の液体LQ1が液体保持部LQPから漏れることを防止することができ、効率的に回転ドラムDRの上方で液中露光を行うことができる。 Since the sealing portion SEP includes a gas supply unit ARB for generating a hydrostatic gas layer between the bottom CU2 of the substrate P and the seal portion SEP, the seal portion SEP is by an air bearing system or Bernoulli chuck method, first liquid LQ1 can be prevented from leaking from the liquid holding unit LQP, it is possible to perform upward in the liquid during exposure of efficiently rotary drum DR of.

露光装置EXは、液体保持部LQPに第1の液体LQ1を供給する液体供給部SUPと、液体保持部LQPが保持している第1の液体LQ1を回収する液体回収部DRPとを備えるので、液体保持部LQPが保持する第1の液体LQ1を綺麗な状態に保つことができる。 Since the exposure apparatus EX includes a liquid supply portion SUP supplying a first liquid LQ1 in the liquid holding portion LQP, and a liquid recovery unit DRP for recovering the first liquid LQ1 of the liquid holding portion LQP holds, it is possible to keep the first liquid LQ1 of the liquid holding portion LQP is held in a beautiful state. 液体保持部LQPは、描画ユニットUの終端光学素子の射出面22が浸される第2の液体LQ2を保持する場合は、第1の液体LQ1と第2の液体LQ2とはシール板GSによって仕切られている。 Liquid holding unit LQP, when holding the second liquid LQ2 to the exit surface 22 of the last optical element of the drawing unit U is immersed in the partition by the sealing plate GS and the first liquid LQ1 and the second liquid LQ2 It is. その結果、射出面22から射出されたレーザ光LB(スポット光SP)は、空気中を通ることなく基板Pに照射されるので、解像度が向上し、焦点深度を拡大することが可能となる。 As a result, the laser beam LB emitted from the exit face 22 (the spot light SP), because is irradiated without the substrate P passing through the air, improve the resolution, it is possible to enlarge the depth of focus. そして、第1の液体LQ1、第2の液体LQ2、および、シール板GSの屈折率を、終端光学素子の屈折率と同一または一定の許容範囲内にすることで、解像度が向上し、焦点深度が拡大する。 The first liquid LQ1, a second liquid LQ2, and the refractive index of the sealing plate GS, by in the same or constant tolerance and refractive index of the last optical element, better resolution, depth of focus but to expand. 液体保持部LQPは、第2の液体LQ2を保持しない場合であっても、第1の液体LQ1として現像液またはメッキ液を保持することで、露光と現像またはメッキとを略同時に行うことができる。 Liquid holding unit LQP, even when not holding the second liquid LQ2, by holding the developer or the plating liquid as the first liquid LQ1, can be carried out exposure and development or the plating substantially simultaneously .

なお、液体保持部LQPの液体供給部SUPによって回転ドラムDRの最上位の位置から供給された第1の液体LQ1が隙間WS1内を重力にしたがって基板P上を+X方向側と−X方向側とに進み、液体供給部SUPよりも下側に位置する溝部DRC1、DRC2を介して液体回収部DRPで回収される流れとしたが、これに限られない。 Note that the first liquid LQ1 is on the substrate P by gravity through the gap WS1 + X direction side and the -X direction side which is supplied from the top position of the rotary drum DR with the liquid supply portion SUP of the liquid holding portion LQP the process advances, but through a groove DRC1, DRC2 positioned below the liquid supply portion SUP was flow recovered at the liquid recovery section DRP, not limited to this. 例えば、基板Pの搬送方向と同じ方向に第1の液体LQ1を流すように、溝部DRC2側から第1の液体LQ1を供給し、溝部DRC1側で第1の液体LQ1を回収してもよい。 For example, to flow a first liquid LQ1 in the same direction as the conveying direction of the substrate P, and supplies the first liquid LQ1 from the groove DRC2 side, it may be recovered first liquid LQ1 in the groove DRC1 side. この場合には、開口部AH1、AH3、AH5と開口部AH2、AH4、AH6との間に設けられた液体供給部SUPは不要となり、その代わりに、溝部DRC2に第1の液体LQ1を供給するポートとしての液体供給部SUPが設けられる。 In this case, the opening AH1, AH3, AH5 an opening AH2, AH4, the liquid supply unit SUP provided between the AH6 becomes unnecessary, and supplies Alternatively, the first liquid LQ1 in the groove DRC2 liquid supply unit SUP as ports are provided. 溝部DRC1にはそのまま第1の液体LQ1を回収するポートとしての液体回収部DRPが設けられている。 As the liquid recovery section DRP as port for recovering the first liquid LQ1 is provided in the groove DRC1. このように、溝部DRC2から溝部DRC1に向けて第1の液体LQ1を一方向に流す場合は、その流速を基板Pの搬送速度に対して変えることで、例えば、メッキ析出の状態を調整することも可能である。 Thus, when flowing a first liquid LQ1 toward the groove DRC2 the groove DRC1 in one direction, by changing the flow rate with respect to the conveying speed of the substrate P, for example, by adjusting the state of plating deposition it is also possible.

また、第1の液体LQ1は、溝部DRC1、DRC2の両方から供給され、液体供給部SUPで回収されるという、逆の流れであってもよい。 The first liquid LQ1 is supplied from both of the groove DRC1, DRC2, that is recovered by the liquid supply unit SUP, it may be reversed flow. この場合は、溝部DRC1、DRC2から供給される第1の液体LQ1中にマイクロバブル(極小の気泡)が混じった場合は、それが隙間WS1内に留まらないように、上部の液体供給部SUPから速やかに排出させることができる。 In this case, when contaminated with microbubbles (bubbles minimum) is in the first liquid LQ1 supplied from the groove DRC1, DRC2, so that it does not remain in the gap WS1, from the top of the liquid supply portion SUP it can be rapidly discharged. なお、この場合は、液体供給部SUPであるポートは、液体回収部として機能する。 In this case, the port is a liquid supply unit SUP functions as the liquid recovery section. また、露光ヘッド18を回転ドラムDRの下側に配置して、下側から基板Pに対してパターンの描画露光を行う場合は、液体保持部LQPの上下を逆さまにして回転ドラムDRの下側に配置すればよい。 Further, by arranging the exposure head 18 on the lower side of the rotary drum DR, when performing writing exposure pattern from the lower side of the substrate P, the lower side of the rotary drum DR in the upside down of the liquid holding portion LQP it may be arranged to.

さらに、第1の実施の形態では、特に図4に示すように、基板Pの表面に接触する第1の液体LQ1を、液体保持部LQPの内側の円筒面CU1と基板Pの表面(円筒面状)との隙間WS1の厚みに規定された液体層として安定に保持可能であるとともに、基板Pの搬送速度に依存することなく、比較的広い範囲の流速に設定することができる。 Furthermore, in the first embodiment, particularly as shown in FIG. 4, the first liquid LQ1, the surface (cylindrical surface of the inner cylindrical surface CU1 and the substrate P in the liquid holding portion LQP in contact with the surface of the substrate P as well as a stable to be able to hold a liquid layer defined in the thickness of the gap WS1 with Jo), without depending on the transport speed of the substrate P, it is possible to set the flow rate of a relatively wide range. また、第1の液体LQ1を現像液やメッキ液とした場合は、従来のシャワー方式や浴槽(パット)方式の現像処理やメッキ処理に比べて、その使用量を大幅低減することができ、さらに液体の再生処理部と併用することによって、廃液処理の設備を小型化することも可能である。 Also, if the first liquid LQ1 to the developing solution and plating solution, as compared to the development process and a plating process of a conventional shower system or bath (pat) method, can greatly reduce the amount, more by combination with the reproduction processing of the liquid, it is also possible to reduce the size of the equipment of the waste liquid treatment.

[第2の実施の形態] Second Embodiment
第2の実施の形態においては、回転ドラムDRの下側に露光ヘッド18を設けることで、下側から基板Pに対してパターンの描画露光を行う露光装置EXについて説明する。 In the second embodiment, by providing the exposure head 18 on the lower side of the rotary drum DR, a description will be given of an exposure apparatus EX that performs writing exposure pattern from the lower side of the substrate P. 図5は、第2の実施の形態における露光装置EXの構成を示す図である。 Figure 5 is a diagram showing the arrangement of an exposure apparatus EX according to the second embodiment. なお、上記第1の実施の形態と同様の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。 The same components as in the first embodiment, description thereof is omitted are denoted by the same reference numerals. また、上記第2の実施の形態を説明する上で必要のない構成についてはその図示を省略しているものもある。 Further, the unnecessary configuration in explaining the second embodiment some of which are not shown.

基板搬送機構12は、駆動ローラNR1、エッジポジションコントローラEPC、案内ローラR11〜R17、および、回転ドラムDRを有する。 Substrate transfer mechanism 12 includes a drive roller NR1, edge position controller EPC, guide rollers R11~R17, and has a rotary drum DR. エッジポジションコントローラEPCから搬出された基板Pは、案内ローラR11、R12、R13、R14の順に長尺方向に沿って掛け渡されることで、回転ドラムDRの下方(−Z方向)を通って+X方向に進んだ後、戻るように−X方向に進みつつ回転ドラムDRより+Z方向の位置まで搬送されて、回転ドラムDRに搬送される。 Substrate P taken out from the edge position controller EPC, the guide roller R11, R12, R13, in the order of R14 by being passed over along the elongated direction, passes below the rotary drum DR (-Z direction) + X direction after proceeding to, is conveyed to the position of the + Z direction from the rotary drum DR progressing in the -X direction to return, it is transported to the rotary drum DR. 基板Pは、回転ドラムDRの+X方向且つ+Z方向側から回転ドラムDRに搬入される。 The substrate P is loaded into the rotary drum DR from the + X direction and + Z direction side of the rotary drum DR. これにより、感光面(感光性機能層が形成された側の基板Pの表面)が上側となるようにプロセス装置PR1から搬送されてきた基板Pは、回転ドラムDR上においては感光面は下側となる。 Accordingly, the substrate P with a photosensitive surface (surface of the substrate P of the photosensitive functional layer is formed side) is conveyed from the process equipment PR1 such that the upper side, the photosensitive surface on the rotary drum DR is lower to become. 回転ドラムDRは、−Z方向側(露光ヘッド18側)で外周面の約半周面に亘って基板Pを支持しつつ、中心軸AXを中心に回転して基板Pを−X方向に搬送する。 Rotary drum DR, while supporting the substrate P for about half surface of the outer peripheral surface in the -Z direction side (the exposure head 18 side), and rotated about the center axis AX transports the substrate P in the -X direction . 回転ドラムDRは、描画ユニットU(U1〜U6)によって所定のパターンが露光される基板P上の領域(部分)、および、アライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)によって撮像される基板P上の領域(部分)をその円周面で支持する。 Rotary drum DR, the area on the substrate P on which a predetermined pattern is exposed by the drawing unit U (U1 to U6) (partial), and areas on the substrate P to be imaged by the alignment microscope AM (AM1 to AM3) ( the portion) is supported by the circumferential surface. 回転ドラムDRから搬出された基板Pは、案内ローラR15、R16、R17の順に長尺方向に沿って掛け渡されることで、回転ドラムDRの上方(+Z方向)を通って+X方向に進み、プロセス装置PR2に搬送される。 Substrate P is unloaded from the rotating drum DR, by being passed over along the elongated direction in the order of the guide roller R15, R16, R17, travels through the upper (+ Z direction) of the rotary drum DR in the + X direction, the process It is transported to the apparatus PR2. これにより、感光面が上側となるように基板Pをプロセス装置PR2に搬入することができる。 This allows the photosensitive surface is carried into the processing apparatus PR2 substrate P so that the upper side. したがって、デバイス製造システム10のプロセス装置PR1、PR2等は、基板Pの上側(+Z方向側)から基板Pに対して処理を施せばよいので、プロセス装置PR1、PR2等での各処理がしやすくなる。 Therefore, the process device PR1, PR2, etc. of a device manufacturing system 10, since the upper substrate P (+ Z direction side) may be subjected to processing for the substrate P, the process device PR1, each process in the PR2, etc. are likely to Become.

露光ヘッド18は、回転ドラムDRの下方(−Z方向)に設けられており、露光ヘッド18の各描画ユニットU(U1〜U6)は、下方から基板Pに向かってレーザ光LB(スポット光SP)を照射する。 Exposure head 18 is provided below the rotary drum DR (-Z direction), each rendering unit U of the exposure head 18 (U1 to U6), the laser beam LB (spot light SP toward the lower substrate P ) to irradiate. 奇数番の描画ユニットU1、U3、U5は、中心面Cに対して+X方向側に配置され、偶数番の描画ユニットU2、U4、U6は、中心面Cに対して−X方向側に配置されている。 Rendering units U1, U3, U5 odd numbered is disposed on the + X direction side with respect to the center plane C, rendering units U2, U4, U6 even numbered is located in the -X direction relative to the center plane C ing. これにより、最初に奇数番の描画ユニットU1、U3、U5によって描画露光が行われ、その後、偶数番の描画ユニットU2、U4、U6によって描画露光が行われる。 Thus, the first imaging exposure by odd numbered drawing unit U1, U3, U5 in is performed, then, imaging exposure by the drawing unit U2, U4, U6 even numbered is performed. なお、描画ユニットUの数を6つとしたが、描画ユニットUの数は、1つであってもよいし、3つであってもよく、その数は任意に変更可能である。 Although several 6 bract the drawing unit U, the number of the drawing unit U may be a one, it may be three, and the number may be arbitrarily changed. 上記第1の実施の形態と同様に、描画ユニットU(U1〜U6)から基板Pに照射されるスポット光SPの進行方向は、XZ平面において、回転ドラムDRの中心軸AXに向かって直線状に進む方向となっている。 Similar to the first embodiment, the traveling direction of the spot light SP radiated from the drawing unit U (U1 to U6) on the substrate P, in the XZ plane, a straight line towards the central axis AX of the rotary drum DR and it has a direction of travel to. また、各描画ユニットU(U1〜U6)は、各描画ユニットU(U1〜U6)の終端光学素子の射出面22から中心軸AXまでの長さが同一の距離となるように設定されている。 Further, each rendering unit U (U1 to U6) is set so that the length from the exit surface 22 of the last optical element of each rendering unit U (U1 to U6) to the center axis AX are the same distance . アライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)は、描画ユニットU1、U3、U5よりも基板Pの搬送方向の上流側に配置されている。 Alignment microscope AM (AM1 to AM3) is arranged on the upstream side in the transport direction of the substrate P than the drawing unit U1, U3, U5.

本第2の実施の形態においても、露光装置EXは、液体LQを保持する液体保持部LQPaを備える。 Also in the present second embodiment, the exposure apparatus EX includes a liquid holding portion LQPa holding a liquid LQ. 第2の実施の形態の液体保持部LQPaは、回転ドラムDRの下方の約半周面に巻き付けられた基板Pに対して液中露光を行うために、回転ドラムDRの下側で液体LQを保持する。 Liquid holding portion LQPa of the second embodiment, in order to perform the liquid during the exposure to the substrate P wound about half face of the lower rotary drum DR, hold the liquid LQ below the rotary drum DR to. 液体保持部LQPaは、回転ドラムDRの下方(−Z方向)に設けられており、回転ドラムDRによって支持される基板Pの一部の表面を浸すための第1の液体LQ1を保持する。 Liquid holding unit LQPa is provided below the rotary drum DR (-Z direction), holding the first liquid LQ1 to immerse a portion of the surface of the substrate P supported by the rotary drum DR. この液体保持部LQPaは、回転ドラムDRの下部全体を覆う箱状の形状、例えば、円筒状のドラム缶等を中心軸と平行な平面で切断して得られる略半円筒の形状を有する。 The liquid holding portion LQPa has box-like shape which covers the entire bottom of the rotary drum DR, for example, the shape of the substantially semi-cylindrical obtained by cutting the cylindrical drum or the like at the central axis and parallel planes. 乾燥ユニット24は、案内ローラR15、R16の間に設けられている。 Drying unit 24 is provided between the guide rollers R15, R16.

図6は、第2の実施の形態の液体保持部LQPaの構成を示す断面図である。 Figure 6 is a sectional view showing the configuration of the liquid holding portion LQPa of the second embodiment. 液体保持部LQPaは、液体保持部LQPaと回転ドラムDRとの3次元的な位置関係を精度よく保つための図示しない支持機構によって、基板P(回転ドラムDR)の下方で固定支持されている。 Liquid holding unit LQPa is by a support mechanism (not shown) for maintaining high accuracy three-dimensional position relation between the rotary drum DR and the liquid holding portion LQPa, and is fixedly supported below the substrate P (the rotary drum DR). 基板Pは、回転ドラムDRの−Z方向側(下側)の外周面の約半周面に亘って密着して支持されつつ、回転ドラムDRの回転によって回転ドラムDRの+X方向側から−X方向に向かって搬送される。 Substrate P, while being supported in close contact for about half surface of the outer peripheral surface of the -Z direction side of the rotary drum DR (lower), -X direction from the + X direction side of the rotary drum DR by the rotation of the rotary drum DR It is conveyed toward the. 液体保持部LQPaは、基板Pを支持する回転ドラムDRの約半周分の外周面に倣って対向するように、XZ面内で円弧状(円筒の一部)に湾曲して形成されている。 Liquid holding unit LQPa, as opposed to following the outer peripheral surface of about half the circumference of the rotary drum DR which supports a substrate P, and is curved in an arc shape (a part of the cylinder) in the XZ plane. 液体保持部LQPaの上部には、回転ドラムDRによって支持されて円筒状に湾曲した基板Pの表面(感光面側)に対して一定の隙間(ギャップ)WS1aが形成されるように円筒面CU1aが設けられている。 At the top of the liquid holding portion LQPa, the cylindrical surface CU1a such that a constant clearance to the surface (photosensitive surface) of the support has been the substrate P curved into a cylindrical shape by rotating the drum DR (gap) WS1a is formed It is provided. したがって、円筒状に湾曲した基板Pの曲率(回転ドラムDRの外周面の曲率)と、円筒面(液体保持部LQPaの上面)CU1aとの曲率とは同一となる。 Therefore, the curvature of the substrate P cylindrically curved with (curvature of the outer peripheral surface of the rotary drum DR), the same as the curvature of the cylindrical surface (the upper surface of the liquid holding portion LQPa) CU1a. 円筒面CU1aが形成された範囲(特定範囲)は、複数の描画ユニットU(U1〜U6)によってスポット光SPが走査される基板P上の走査領域(走査ラインL1〜L6)を全て覆うように設定されている。 Range cylindrical surface CU1a is formed (specific range), so as to cover the entire scanning area on the substrate P that spot light SP is scanned by a plurality of rendering units U (U1 to U6) (scanning lines L1 to L6) It has been set. つまり、回転ドラムDRの外周面に沿った円筒面CU1aの範囲(特定範囲)内に、複数の描画ユニットU(U1〜U6)によってスポット光SPが走査される走査ラインL(描画領域)が含まれている。 That is, in the range of the cylindrical surface CU1a along the outer circumferential surface of the rotary drum DR (specified range), includes scan lines by a plurality of rendering units U (U1 to U6) spot light SP is scanned L (drawing area) It has been.

液体保持部LQPaは、円筒面CU1aと基板Pとの隙間WS1aで第1の液体LQ1を保持する。 Liquid holding unit LQPa holds the first liquid LQ1 in the gap WS1a between the cylindrical surface CU1a and the substrate P. これにより、液体保持部LQPaは、円筒状に湾曲した基板Pの表面(または回転ドラムDRの外周面)から径方向に所定の厚み(一定の厚み)となるように第1の液体LQ1を保持することができる。 Thus, the liquid holding unit LQPa is holding a first liquid LQ1 to be a surface of the substrate P cylindrically curved predetermined thickness from the radial direction (or the outer peripheral surface of the rotary drum DR) (constant thickness) can do. したがって、回転ドラムDRの回転方向に沿って描画ユニットU1、U3、U5と描画ユニットU2、U4、U6とを設けた場合であっても、描画ユニットU1、U3、U5から射出されたレーザ光LBが第1の液体LQ1を通る距離と、描画ユニットU2、U4、U6から射出されたレーザ光LBが第1の液体LQ1を通る距離とを等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。 Thus, rotary drum drawing unit along the rotational direction of the DR U1, U3, U5 and drawing unit U2, U4, even if the U6 is provided, the drawing unit U1, U3, laser beam LB emitted from U5 There a distance through the first liquid LQ1, rendering units U2, U4, the laser beam LB emitted from the U6 is able to equalize the distance through the first liquid LQ1, to improve the drawing accuracy pattern can. また、液体保持部LQPaは、回転ドラムDRの下方(−Z方向)に設けられているので、上記第1の実施の形態のようにシール部SEPを設けなくても、第1の液体LQ1が液体保持部LQPaから漏れることはない。 Furthermore, the liquid holding unit LQPa Because provided below the rotary drum DR (-Z direction), without providing the seal portion SEP as the first embodiment, the first liquid LQ1 It does not leak from the liquid holding portion LQPa.

液体保持部LQPaには、露光ヘッド18の複数の描画ユニットU(U1〜U6)の終端光学素子の射出面22から射出されるレーザ光LBが基板P上に照射されるように形成された複数の開口部AH(AH1〜AH6)が設けられている。 The liquid holding portion LQPa a plurality of laser beam LB emitted from the exit face 22 of the last optical element of the plurality of rendering units U of the exposure head 18 (U1 to U6) is formed so as to be irradiated onto the substrate P opening AH (AH1~AH6) is provided for. 複数の描画ユニットU(U1〜U6)は、中心面C(中心軸AX)に対して基板Pの搬送方向の上流側と下流側とで2列に千鳥配列で配置されているので、それに対応して開口部AH(AH1〜AH6)も、中心面C(中心軸AX)に対して基板Pの搬送方向の上流側と下流側とで2列に千鳥配列で配置されている。 A plurality of rendering units U (U1 to U6), since it is arranged in a staggered arrangement in two rows between the upstream and the downstream side in the transport direction of the substrate P with respect to the center plane C (center axis AX), corresponding and an opening AH (AH1~AH6) are also arranged in a staggered arrangement in two rows between the upstream and the downstream side in the transport direction of the substrate P with respect to the center plane C (center axis AX). 開口部AH(AH1〜AH6)は、液体保持部LQPaを貫通するように形成されており、円筒面CU1a側には、開口部AH(AH1〜AH6)の開口を塞ぐための透明材料で形成されたシール板GS(GS1〜GS6)が設けられている。 Opening AH (AH1~AH6) is formed so as to penetrate through the liquid holding portion LQPa, the cylindrical surface CU1a side, it is formed of a transparent material for closing the opening of the opening AH (AH1~AH6) seal plate GS (GS1~GS6) is provided with. このシール板GSは、回転ドラムDRと対向する面が、円筒面CU1aと揃った面(フラッシュサーフェス)となるように、シール板GSをその厚さ分だけ円筒面CU1aに埋め込んでもよい。 The sealing plate GS is the rotary drum DR and opposed surfaces, such that the cylindrical surface CU1a a uniform surface (flush surface), may be embedded seal plate GS cylindrical surface CU1a by that the thickness of. なお、このシール板GSは、全ての開口部AH(AH1〜AH6)の開口を塞ぐ一枚の板であってもよい。 Incidentally, the seal plate GS may be single plate closing the opening of all of the openings AH (AH1~AH6).

開口部AH(AH1〜AH6)には、描画ユニットU(U1〜U6)の先端部分(終端光学素子を含む)Uaが下方から上方に向かって挿入されてもよい。 The opening AH (AH1~AH6), (including final optical element) the tip portion of the rendering units U (U1 to U6) Ua may be inserted upward from below. このとき、シール板GS(GS1〜GS6)と接触しないように先端部分Uaが挿入される。 At this time, the tip portion Ua is inserted so as not to contact the sealing plate GS (GS1~GS6). また、開口部AH(AH1〜AH6)は、描画ユニットU(U1〜U6)が挿入された状態で、終端光学素子の射出面22が浸されるように第2の液体LQ2を保持してもよい。 The opening AH (AH1~AH6), in a state where the drawing unit U (U1 to U6) is inserted, even if holding the second liquid LQ2 to the exit surface 22 of the last optical element is immersed good. この場合は、開口部AH(AH1〜AH6)から第2の液体LQ2が漏れないように、開口部AH(AH1〜AH6)と描画ユニットU(U1〜U6)の先端部分Uaとの間には、可撓性の樹脂等(例えば、ゴム)で形成されたOリングや磁性流体シール等のシール部RSが設けられている。 In this case, as the second liquid LQ2 from the opening AH (AH1~AH6) it does not leak between the tip portion Ua openings AH (AH1~AH6) and the drawing unit U (U1 to U6) is a flexible resin (e.g., rubber) seal portion RS of the O-ring or a magnetic fluid seal or the like formed by provided.

液体保持部LQPaには、描画ユニットU1、U3、U5よりも+X方向側に、隙間WS1aに存在する第1の液体LQ1、つまり、液体保持部LQPaによって保持される第1の液体LQ1を所定の流量で供給するポートとしての液体供給部SUPが設けられている。 The liquid holding portion LQPa is the drawing unit U1, U3, U5 than the + X direction side, first present in the gap WS1a liquid LQ1, i.e., the first liquid LQ1 predetermined held by the liquid holding portion LQPa liquid supply unit SUP is provided as a port for supplying a flow rate. また、液体保持部LQPaには、描画ユニットU2、U4、U6よりも−X方向側に、液体保持部LQPaによって保持される第1の液体LQ1を所定の流量で回収するポートとしての液体回収部DRPが設けられている。 Furthermore, the liquid holding unit LQPa the rendering units U2, U4, the -X direction side of the U6, the liquid recovery section of the port for recovering the first liquid LQ1 held by the liquid holding portion LQPa at a predetermined flow rate DRP is provided. このように、液体保持部LQPaの複数の描画ユニットU(U1〜U6)より回転ドラムDRの周方向の両側の位置に、液体供給部SUPおよび液体回収部DRPを設けることで、少なくとも複数の描画ユニットU(U1〜U6)によってスポット光SPが照射される基板Pの表面を第1の液体LQ1に浸すことができる。 Thus, the position of both sides of the circumferential direction of the plurality of rendering units U (U1 to U6) from the rotary drum DR of the liquid holding portion LQPa, by providing the liquid supply portion SUP and the liquid recovery unit DRP, at least a plurality of drawing by the unit U (U1 to U6) can be immersed surface of the substrate P is spot light SP is radiated to the first liquid LQ1. この液体供給部SUPおよび液体回収部DRPは、Y方向に沿って複数設けられている。 The liquid supply unit SUP and the liquid recovery unit DRP is provided in plurality along the Y direction.

液体供給部SUPによって描画ユニットU1、U3、U5より+X方向側から供給された第1の液体LQ1は、基板Pの搬送方向(−X方向)に沿って流れて、複数のシール板GS(GS1〜GS6)の上方を通って、液体回収部DRPから回収され、液体保持部LQPaの外部に放出される。 Liquid supply unit SUP by the drawing unit U1, U3, the first liquid LQ1 supplied from the U5 from the + X direction side, flows along the transport direction of the substrate P (-X direction), a plurality of sealing plates GS (GS1 through the upper ~GS6), is recovered from the liquid recovery unit DRP, it is discharged to the outside of the liquid holding portion LQPa. このような構成を有することで、液体供給部SUPから供給される第1の液体LQ1、および、液体回収部DRPによって回収される第1の液体LQ1の流量、タイミング、インターバル等を制御することで、少なくとも液体供給部SUPから液体回収部DRPまでの隙間WS1a内を第1の液体LQ1で満たした状態を作ることができる。 By having such a configuration, the first liquid LQ1 supplied from the liquid supply unit SUP, and, by controlling the flow rate, timing, interval, etc. of the first liquid LQ1 is recovered by the liquid recovery unit DRP You can make a state where the inside gap WS1a from at least the liquid supply portion SUP to the liquid recovery unit DRP was filled with the first liquid LQ1.

開口部AH1、AH3、AH5と開口部AH2、AH4、AH6との間であって、液体保持部LQPaの中心面C上には、第1の液体LQ1の混在した塵を収集するための塵収集部GAが設けられている。 A between the opening AH1, AH3, AH5 an opening AH2, AH4, AH6, on the central plane C of the liquid holding portion LQPa the dust collection for collecting mixed dust of the first liquid LQ1 part GA is provided. この塵収集部GAは、円筒面CU1aに対して−Z方向に凹んだ形状を有している。 The dust collection unit GA has a recessed in the -Z direction with respect to the cylindrical surface CU1a. この塵収集部GAは、中心面C上に設けられているので、回転ドラムDRの最下位の位置より下方に設けられている。 The dust collection unit GA, since provided on the center plane C, and provided below the lowest position of the rotary drum DR. したがって、第1の液体LQ1に含まれる塵であって、液体回収部DRPによって回収されない塵は、その自重により重力にしたがって塵収集部GAに溜まることになる。 Therefore, a dust contained in the first liquid LQ1, dust not collected by the liquid recovery unit DRP would accumulate in the dust collection portion GA by gravity by its own weight. この塵収集部GAの底面GAaは、開閉可能となっており、塵収集部GAに溜まった塵は定期的に底面GAaから排出される。 The bottom GAa dust collection unit GA are openable and closable, dust accumulated in the dust collection unit GA is discharged periodically from the bottom GAa.

液体保持部LQPaの液体供給部SUPおよび液体回収部DRPより回転ドラムDRの周方向の両側の位置には、気体(圧縮空気)を供給する供給ポートAP1と気体を排出する排出ポートAP2とが近接して設けられている。 In the circumferential direction on both sides of the position of the liquid supply portion SUP and the rotary drum DR than the liquid recovery unit DRP of the liquid holding portion LQPa a gas exhaust port AP2 for discharging the supply port AP1 and gas supplies (compressed air) is close It is provided. この供給ポートAP1は、気体を基板Pに吹き付けることで、基板Pに付着した塵や液体(例えば、第1の液体LQ1)を吹き飛ばし、排出ポートAP2は、吹き飛ばされたゴミや液体を気体とともに外部に排出する。 The supply port AP1, by blowing a gas to the substrate P, blowing dust and liquid that has adhered to the substrate P (for example, the first liquid LQ1), exhaust ports AP2 is outside blown dust or liquid together with the gas It is discharged to. これにより、基板Pに付着した塵や液体を除去することができ、基板Pの表面を綺麗にすることができる。 Thus, it is possible to remove the dust and liquid that has adhered to the substrate P, it is possible to clean the surface of the substrate P.

上記第1の実施の形態と同様に、感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間WS1aには第1の液体LQ1として純水が保持されるとともに、開口部AH(AH1〜AH6)によって第2の液体LQ2としての純水が保持され、描画ユニットU(U1〜U6)の終端光学素子の射出面22が第2の液体LQ2に浸るようにしてもよい。 Similar to the first embodiment, when using the photoresist as a photosensitive coating layer, as well as the gap WS1a pure water is retained as the first liquid LQ1, opening AH (AH1~AH6 ) pure water as the second liquid LQ2 is held by the exit surface 22 of the last optical element of the drawing unit U (U1 to U6) may also be immersed in the second liquid LQ2. 感光性の被膜層として、高NAで集光した紫外線が照射された部分が除去される被膜層を用いた場合も同様に、液体保持部LQPaが純水の第1および第2の液体LQ1、LQ2を保持することで、レーザ光LB(スポット光SP)が照射された部分を除去することができる。 As the photosensitive coating layer, also if the ultraviolet rays focused by the high NA is used a coating layer is irradiated portion is removed, the first and second liquid LQ1 liquid holding portion LQPa is pure water, by holding the LQ2, it is possible to remove a portion of the laser beam LB (spot light SP) is irradiated. 感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間WS1aには第1の液体LQ1として現像液が保持されてもよい。 When using a photoresist as a photosensitive coating layer, the gap WS1a may developer is held as the first liquid LQ1. 感光性の被膜層をメッキ還元基を有する感光性シランカップリング剤で形成し、第1の液体LQ1としてパラジウムイオン(Pd + )等を含むメッキ核析出液(メッキ液)を用いてもよい。 A photosensitive coating layer formed of a photosensitive silane coupling agent having a plating reducing groups, palladium ion (Pd +) such as plating nucleus deposition solution containing a first liquid LQ1 may be used (plating solution). 液体保持部LQPaは、現像液やメッキ液を保持する場合は、第2の液体LQ2を保持しなくてもよい。 Liquid holding unit LQPa, when holding the developer or the plating solution may not be holding the second liquid LQ2.

このように、第2の実施の形態においては、液体保持部LQPaは、回転ドラムDRの外周面によって支持された円筒状に湾曲した基板Pの表面から径方向に所定の厚みとなるように第1の液体LQ1を保持するので、回転ドラムDRの回転方向(基板Pの搬送方向)に沿って配置された複数の描画ユニットUから基板Pに射出されるレーザ光LBの距離を等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。 Thus, in the second embodiment, the liquid holding unit LQPa is first so as to have a predetermined thickness from the supported cylindrically curved surface of the substrate P by the outer peripheral surface of the rotary drum DR in the radial direction since holding the first liquid LQ1, it can be equal to the distance of the laser beam LB emitted from the plurality of rendering units U arranged along the rotational direction (conveying direction of the substrate P) of the rotary drum DR to the substrate P can, it is possible to improve the writing precision of a pattern. その結果、効率よく液中露光を行うことができる。 As a result, it is possible to perform efficiently submerged exposure.

また、第2の実施の形態においては、液体保持部LQPaを回転ドラムDRの下方に設け、液体保持部LQPaは、回転ドラムDRの下部を覆う箱状の形状を有するので、上記第1の実施の形態で説明したシール部SEPを設けなくても、保持している第1の液体LQ1が液体保持部LQPaから漏れることはない。 In the second embodiment, provided with a liquid holding portion LQPa below the rotary drum DR, the liquid holding unit LQPa Since has a box-like shape which covers the bottom of the rotary drum DR, the first embodiment without providing a described in the form of the sealing portion SEP, does not first liquid LQ1 held leaks from the liquid holding portion LQPa.

露光装置EXは、液体保持部LQPaに第1の液体LQ1を供給する液体供給部SUPと、液体保持部LQPaが保持している第1の液体LQ1を回収する液体回収部DRPとを備えるので、液体保持部LQPaが保持する第1の液体LQ1を綺麗な状態に保つことができる。 Since the exposure apparatus EX includes a liquid supply portion SUP supplying a first liquid LQ1 in the liquid holding portion LQPa, and a liquid recovery unit DRP for recovering the first liquid LQ1 of the liquid holding portion LQPa holds, it is possible to keep the first liquid LQ1 of the liquid holding portion LQPa is held in a beautiful state. 液体保持部LQPaは、描画ユニットUの終端光学素子の射出面22が浸される第2の液体LQ2を保持する場合は、第1の液体LQ1と第2の液体LQ2とはシール板GSによって仕切られている。 Liquid holding unit LQPa, when holding the second liquid LQ2 to the exit surface 22 of the last optical element of the drawing unit U is immersed in the partition by the sealing plate GS and the first liquid LQ1 and the second liquid LQ2 It is. その結果、射出面22から射出されたレーザ光LB(スポット光SP)は、空気中を通ることなく基板Pに照射されるので、解像度が向上し、焦点深度を拡大することが可能となる。 As a result, the laser beam LB emitted from the exit face 22 (the spot light SP), because is irradiated without the substrate P passing through the air, improve the resolution, it is possible to enlarge the depth of focus. そして、第1の液体LQ1、第2の液体LQ2、および、シール板GSの屈折率を、終端光学素子の屈折率と同一または一定の範囲内にすることで、解像度が向上し、焦点深度が拡大する。 The first liquid LQ1, a second liquid LQ2, and the refractive index of the sealing plate GS, by the internal refractive index identical or a range of the last optical element, better resolution, depth of focus Expanding. 液体保持部LQPaは、第2の液体LQ2を保持しない場合であっても、第1の液体LQ1として現像液またはメッキ液を保持することで、露光と現像またはメッキとを略同時に行うことができる。 Liquid holding unit LQPa, even when not holding the second liquid LQ2, by holding the developer or the plating liquid as the first liquid LQ1, can be carried out exposure and development or the plating substantially simultaneously .

以上の第2の実施の形態も、第1の実施の形態と同様に、特に図6に示すように、基板Pの表面に接触する第1の液体LQ1を、液体保持部LQPaの内側の円筒面CU1aと基板Pの表面(円筒面状)との隙間WS1aの厚みに規定された液体層として安定に保持可能であるとともに、基板Pの搬送速度に依存することなく、比較的広い範囲の流速に設定することができる。 The second embodiment described above, similarly to the first embodiment, particularly as shown in FIG. 6, the first liquid LQ1, the inside of the cylinder of the liquid holding portion LQPa in contact with the surface of the substrate P as well as a stable to be able to hold a liquid layer defined in the thickness of the gap WS1a between the surface CU1a the substrate P surface (cylindrical surface), without depending on the transport speed of the substrate P, a relatively wide range flow rates of it can be set to. さらに、第1の液体LQ1を現像液やメッキ液とした場合は、従来のシャワー方式や浴槽(パット)方式の現像処理やメッキ処理に比べて、その使用量を大幅低減することができ、さらに液体の再生処理部と併用することによって、廃液処理の設備を小型化することも可能である。 Further, when the first liquid LQ1 to the developing solution and plating solution, as compared to the development process and a plating process of a conventional shower system or bath (pat) method, can greatly reduce the amount, more by combination with the reproduction processing of the liquid, it is also possible to reduce the size of the equipment of the waste liquid treatment.

[第3の実施の形態] Third Embodiment
第3の実施の形態においては、回転ドラムDRの側方(X方向)に露光ヘッド18を設けることで、側方から基板Pに対してパターンの描画露光を行う露光装置EXについて説明する。 In the third embodiment, by providing the exposure head 18 on the side of the rotary drum DR (X direction), a description will be given of an exposure apparatus EX that performs writing exposure pattern from the side with respect to the substrate P. 図7は、第3の実施の形態における露光装置EXの構成を示す図である。 Figure 7 is a diagram showing the arrangement of an exposure apparatus EX according to the third embodiment. なお、上記第1の実施の形態と同様の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。 The same components as in the first embodiment, description thereof is omitted are denoted by the same reference numerals. また、上記第3の実施の形態を説明する上で必要のない構成についてはその図示を省略しているものもある。 Further, the unnecessary configuration in explaining the third embodiment is also what is not shown.

基板搬送機構12は、NR1、エッジポジションコントローラEPC、案内ローラR21〜R26、および、回転ドラムDRを有する。 Substrate transfer mechanism 12, NR1, edge position controller EPC, the guide rollers R21 to R26, and has a rotary drum DR. エッジポジションコントローラEPCから搬出された基板Pは、案内ローラR21、R22の順に長尺方向に沿って掛け渡されることで、X方向と平行に−X方向側から回転ドラムDRの上部に搬入される。 Substrate P taken out from the edge position controller EPC is carried by being passed over along the order of the guide roller R21, R22 in the elongated direction, parallel to the -X direction side and the X-direction at the top of the rotary drum DR . 回転ドラムDRは、+X方向側(露光ヘッド18側)で外周面の約半周面に亘って基板Pを支持しつつ、中心軸AXを中心に回転して基板Pを回転ドラムDRの下部からX方向と平行に−X方向側に搬送する。 Rotary drum DR is + while X direction for about half surface of the outer peripheral surface at the (exposure head 18 side) supports the substrate P, X substrate P by rotating around the central axis AX from the bottom of the rotary drum DR parallel to conveying the -X direction side and direction. 回転ドラムDRは、描画ユニットU(U1〜U6)によって所定のパターンが露光される基板P上の領域(部分)、および、アライメント顕微鏡AM(AM1〜AM3)によって撮像される基板P上の領域(部分)をその円周面で支持する。 Rotary drum DR, the area on the substrate P on which a predetermined pattern is exposed by the drawing unit U (U1 to U6) (partial), and areas on the substrate P to be imaged by the alignment microscope AM (AM1 to AM3) ( the portion) is supported by the circumferential surface. 回転ドラムDRから搬出された基板Pは、案内ローラR23、R24、R25、R26の順に長尺方向に沿って掛け渡されることで、回転ドラムDRの下方(−Z方向)を通って+X方向に進み、プロセス装置PR2に搬送される。 Substrate P is unloaded from the rotating drum DR, the guide roller R23, R24, R25, in the order of R26 by being passed over along the elongated direction, passes below the rotary drum DR (-Z direction) the + X direction proceeds, is conveyed to process equipment PR2.

露光ヘッド18は、回転ドラムDRの右側(+X方向側)に設けられており、露光ヘッド18の各描画ユニットU(U1〜U3)は、右側(+X方向側)から基板Pに向かってレーザ光LB(スポット光SP)を照射する。 Exposure head 18 is provided on the right side (+ X direction side) of the rotary drum DR, each rendering unit U of the exposure head 18 (U1 to U3) is a laser beam toward the right side (+ X direction side) to the substrate P irradiating the LB (spot light SP). 本第3の実施の形態においては、露光ヘッド18は、3つの描画ユニットU(U1〜U3)を有するものとする。 In the third embodiment, the exposure head 18 is assumed to have the three drawing units U (U1 to U3). この複数の描画ユニットU(U1〜U3)は、2列に千鳥配列で配置されており、偶数番の描画ユニットU2は、奇数番の描画ユニットU1、U3に対して+Z方向側に配置されている。 The plurality of rendering units U (U1 to U3) are arranged in a staggered arrangement in two rows, the drawing unit U2 in the even-numbered, are arranged in the + Z direction side with respect to the drawing unit U1, U3 odd numbered there. これにより、最初に偶数番の描画ユニットU2によって描画露光が行われ、その後、奇数番の描画ユニットU1、U3によって描画露光が行われる。 Thus, the first imaging exposure by the drawing unit U2 of the even-numbered in is performed, then, imaging exposure by the drawing unit U1, U3 odd numbered is performed. この複数の描画ユニットU(U1〜U3)は、YZ平面において、中心軸AXより+Z方向側に配置しておくのが好ましい。 The plurality of rendering units U (U1 to U3) is in the YZ plane, to leave placed from the + Z direction side central axis AX preferred. なお、描画ユニットUの数を3つとしたが、描画ユニットUの数は、1つであってもよいし、6つであってもよく、その数は任意に変更可能である。 Incidentally, although three and the number of drawing units U, the number of the drawing unit U may be a one, may also be six, the number may be arbitrarily changed. 各描画ユニットU(U1〜U3)は、各描画ユニットU(U1〜U3)の終端光学素子の射出面22から中心軸AXまでの長さが同一の距離となるように設定されている。 Each rendering unit U (U1 to U3) is set so that the length from the exit surface 22 of the last optical element of each rendering unit U (U1 to U3) to the central axis AX are the same distance. 描画ユニットU(U1〜U6)から基板Pに照射されるスポット光SPの進行方向は、XZ平面において、回転ドラムDRの中心軸AXに向かって直線状に進む方向となっている。 Traveling direction of the spot light SP radiated from the drawing unit U (U1 to U6) on the substrate P, in the XZ plane, and has a direction of travel in a straight line towards the central axis AX of the rotary drum DR.

本第3の実施の形態においても、露光装置EXは、液体LQを保持する液体保持部LQPbを備える。 Also in the third embodiment, the exposure apparatus EX includes a liquid holding portion LQPb holding a liquid LQ. 第3の実施の形態の液体保持部LQPbは、回転ドラムDRの右側(+X方向側)の約半周面に巻き付けられた基板Pに対して液中露光を行うために、回転ドラムDRの右側で液体LQを保持するためのものである。 The third liquid holding portion LQPb embodiment of, in order to perform the liquid during the exposure with respect to the right substrate P about wound around the half surface of the (+ X direction side) of the rotary drum DR, the right of the rotary drum DR it is intended to hold the liquid LQ. 液体保持部LQPbは、回転ドラムDRの右側(+X方向側)に設けられており、回転ドラムDRによって支持される基板Pの一部の表面を浸すための第1の液体LQ1を保持する。 Liquid holding unit LQPb is provided on the right side (+ X direction side) of the rotary drum DR, holding the first liquid LQ1 to immerse a portion of the surface of the substrate P supported by the rotary drum DR. 液体保持部LQPbから排出された第1の液体LQ1は、回収パレット部LQEによって回収される。 The first liquid LQ1 discharged from the liquid holding unit LQPb is recovered by collecting the pallet unit LQE. なお、乾燥ユニット24は、案内ローラR24、R25の間に設けられている。 The drying unit 24 is disposed between the guide roller R24, R25.

図8は、第3の実施の形態の液体保持部LQPbと回収パレット部LQEの外観斜視図、図9は、液体保持部LQPbを回転ドラムDR側(−X方向側)から見た外観斜視図、図10は、液体保持部LQPbの一部断面図、図11は、回収パレット部LQEの外観斜視図である。 Figure 8 is a perspective view of a third liquid retaining section LQPb a recovery pallet portion LQE embodiment of FIG. 9 is an external perspective view of the liquid holding portion LQPb from the rotating drum DR side (-X direction side) 10 shows a part cross-sectional view of the liquid holding portion LQPb, 11 is an external perspective view of a collecting pallet portion LQE. 原則として、図8を用いて説明するが、図8では説明できない構成要素については、図9〜図11を参照する。 In principle, it will be described with reference to FIG. 8, components that can not be explained in FIG. 8, 9-11.

液体保持部LQPbと回転ドラムDRとは、液体保持部LQPbと回転ドラムDRとの3次元的な位置関係を精度よく保つための図示しない支持機構によって支持され、回収パレット部LQEも該支持機構によって支持されている。 And the rotary drum DR liquid holding portion LQPb, is supported by a support mechanism (not shown) for maintaining high accuracy three-dimensional position relation between the rotary drum DR and the liquid holding portion LQPb, by the support mechanism recovered pallet unit LQE It is supported. 基板Pは、+X方向に水平に搬送され回転ドラムDRの上側から外周面に沿って約半周分密着して巻き付けられ、回転ドラムDRの下側から−X方向に搬送される。 The substrate P, + X direction wound in close contact about half the circumference along the outer peripheral surface from the upper side of the conveyed horizontally rotating drum DR, is conveyed from the lower side of the rotary drum DR in the -X direction. 回転ドラムDRのY方向の両側には、中心軸AXの周りを回転するようにベアリングで支持されたシャフトSfを有する。 On both sides in the Y direction of the rotary drum DR has a shaft Sf supported by bearings for rotation about a central axis AX. なお、上記第1および第2の実施の形態においても、同様に、回転ドラムDRはこのシャフトSfを有する。 The above also in the first and second embodiments, similarly, the rotary drum DR has the shaft Sf. 回転ドラムDRの外周面のY方向の両端側には、基板Pを支持する外周面よりも径が大きいフランジ部FRが全周に亘って設けられている。 At both ends of the outer peripheral surface of the Y-direction of the rotary drum DR, the flange portion FR diameter is larger than the outer peripheral surface for supporting the substrate P is provided around the entire circumference. フランジ部FRは、第1の液体LQ1がY方向に漏れ出すことを防止する土手(シール部材)として機能する。 Flange FR functions as a bank (seal member) which the first liquid LQ1 is prevented from leaking in the Y direction.

液体保持部LQPbは、基板Pを支持する回転ドラムDRの約半周分の外周面に倣って対向するように、XZ面内で円弧状(円筒の一部)に湾曲して形成されている。 Liquid holding unit LQPb, as opposed to following the outer peripheral surface of about half the circumference of the rotary drum DR which supports a substrate P, and is curved in an arc shape (a part of the cylinder) in the XZ plane. 図9、図10に示すように、液体保持部LQPbの回転ドラムDRと対向する面(−X方向側の面)は、回転ドラムDRによって支持されて円筒状に湾曲した基板Pの表面(感光面側)に対して一定の隙間(ギャップ)WS1bが形成されるように形成された円筒面(曲面)CU1bとなっている。 9, as shown in FIG. 10, the rotary drum DR and opposed surfaces of the liquid holding portion LQPb (surface of the -X direction side) is supported by the rotary drum DR with cylindrically curved surface of the substrate P of the (photosensitive is constant clearance (gap) cylindrical surface WS1b is formed so as to be formed (curved) CU1b to the plane side). したがって、円筒状に湾曲した基板Pの曲率(回転ドラムDRの外周面の曲率)と、円筒面CU1bとの曲率とは同一となる。 Therefore, the curvature of the substrate P cylindrically curved with (curvature of the outer peripheral surface of the rotary drum DR), the same as the curvature of the cylindrical surface CU1b. 円筒面CU1bが形成された範囲(特定範囲)は、複数の描画ユニットU(U1〜U3)によってスポット光SPが走査される基板P上の走査領域(走査ラインL1〜L3)を全て覆うように設定されている。 Range cylindrical surface CU1b is formed (specific range), so as to cover the entire scanning area on the substrate P that spot light SP is scanned by a plurality of rendering units U (U1 to U3) (scanning lines L1 to L3) It has been set. つまり、回転ドラムDRの外周面に沿った円筒面CU1bの範囲(特定範囲)内に、複数の描画ユニットU(U1〜U3)によってスポット光SPが走査される走査ラインL(描画領域)が含まれている。 That is, in the range of the cylindrical surface CU1b along the outer circumferential surface of the rotary drum DR (specified range), includes scan lines by a plurality of rendering units U (U1 to U3) is spot light SP is scanned L (drawing area) It has been.

液体保持部LQPbは、円筒面CU1bと基板Pとの隙間WS1bで液体供給部SUPから供給される第1の液体LQ1を保持する。 Liquid holding unit LQPb holds the first liquid LQ1 supplied from the liquid supply unit SUP a feeler WS1b between the cylindrical surface CU1b and the substrate P. これにより、液体保持部LQPbは、円筒面に湾曲した基板Pの表面(または回転ドラムDRの外周面)から径方向に所定の厚み(一定の厚み)となるように第1の液体LQ1を保持することができる。 Thus, the liquid holding unit LQPb is holding a first liquid LQ1 to be a surface of the substrate P curved cylindrical surface a predetermined thickness from the radial direction (or the outer peripheral surface of the rotary drum DR) (constant thickness) can do. これにより、回転ドラムDRの回転方向に沿って描画ユニットU1、U3と描画ユニットU2とを設けた場合であっても、描画ユニットU1、U3から射出されたレーザ光LBが第1の液体LQ1を通る距離と描画ユニットU2から射出されたレーザ光LBが第1の液体LQ1を通る距離とを等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。 Accordingly, even when provided with drawing unit U1, U3 along the rotational direction of the rotary drum DR and drawing unit U2, the laser beam LB emitted from the drawing unit U1, U3 is the first liquid LQ1 the distance between the laser beam LB emitted from the drawing unit U2 through which can be equal to the distance through the first liquid LQ1, can be improved drawing accuracy of the pattern. 液体保持部LQPbで保持される液体LQの使用量(体積)を少なくすることと、描画ユニットUの作動距離(ワーキングディスタンス)が小さい場合も考慮して、この隙間WS1bは、なるべく狭くすることが好ましく、例えば、10mm以下、好ましくは、5mm以下に設定される。 And reducing the amount of the liquid LQ held in the liquid holding portion LQPb (volume), if considering also the working distance of the rendering units U (working distance) is small, the gap WS1b may be as narrow as possible preferably, for example, 10 mm or less, preferably in 5mm or less. なお、作動距離は、描画ユニットUの先端部分Uaに設けられた先端光学素子の射出面22から射出したレーザ光LBが基板Pに到達する距離である。 Incidentally, working distance, the laser beam LB emitted from the exit surface 22 of the tip optical element provided at the end portion Ua of rendering units U is the distance to reach the substrate P.

装置の設計上は、液体保持部LQPbの内側の円筒面CU1bと回転ドラムDRの外周面との径方向の間隔が一定値(WSdとする)になるように設定されるため、隙間WS1bは、基板Pの厚みをTpとして、WS1b=WSd−Tpとなる。 The design of the device, since the radial distance between the outer peripheral surface of the inner cylindrical surface CU1b the rotary drum DR of the liquid holding portion LQPb is set to be a constant value (a WSD), the gap WS1b is the thickness of the substrate P as Tp, the WS1b = WSd-Tp. 隙間WS1bを狭くすればするほど、第1の液体LQ1の使用量(実質的な体積)が減って経済的であるが、極端に狭くすると、基板Pの厚みTpの平均値、厚み公差ΔTpによっては、液体層が極端に薄くなって、隙間WS1bの空間内での第1の液体LQ1の自由な流れを阻害することもある。 The more you narrow the gap WS1b, the amount of the first liquid LQ1 (substantial volume), but it is economically reduced, if extremely narrow, the average value of the thickness Tp of the substrate P, the thickness tolerance ΔTp It is taken extremely thin liquid layer, sometimes inhibiting first free flow of liquid LQ1 in the interstitial spaces WS1b. したがって、処理すべき基板Pの厚みTpの最大値や厚み公差ΔTpを考慮して、隙間WS1bの空間内で第1の液体LQ1が重力の影響を受けて自由に流れる程度に間隔WSdを設定するのがよい。 Therefore, in consideration of the maximum value and thickness tolerances ΔTp thickness Tp of the substrate P to be processed, to set the interval WSd to the extent that flow freely under the influence first liquid LQ1 in the space of the gravity of the gap WS1b good it is.

そのような考え方とは逆に、隙間WS1bの空間内での第1の液体LQ1の自由な流れをある程度制限する構成であってもよい。 Contrary to such a concept, may be configured to a certain extent restrict the first free flow of liquid LQ1 in the interstitial spaces WS1b. 液体保持部LQPbの内側の円筒面CU1b、基板Pの表面の各々の撥液性(または親液性)の程度、第1の液体LQ1の種類や粘性によって異なるが、図8、図9で示した液体保持部LQPbの場合、隙間WS1bが、例えば1mm以下になると、隙間WS1bの空間内の第1の液体LQ1は重力の影響を受けても、毛細管現象(表面張力)によってその空間内に留まろうとする。 Liquid holding portion LQPb inner cylindrical surface CU1b, the degree of each of the liquid repellency of the surface of the substrate P (or lyophilic), varies depending on the type and viscosity of the first liquid LQ1, 8, shown in Figure 9 If the liquid holding portion LQPb, gap WS1b is, for example, becomes 1mm or less, the first liquid LQ1 in the space of the gap WS1b even under the influence of gravity, distill that space by capillarity (surface tension) and mallow. そのような場合であっても、本実施の形態では、液体供給部SUPから所定圧で第1の液体LQ1を供給できるので、隙間WS1bの空間内で第1の液体LQ1の制御された流れを起こすことが可能である。 Even in such a case, in this embodiment, it is possible to supply the first liquid LQ1 in a predetermined pressure from the liquid supply unit SUP, the controlled flow of the first liquid LQ1 in the space of the gap WS1b it is possible to cause. 以上のように、第1の液体LQ1が重力の影響によって隙間WS1bの空間内を自由に流れる程度の隙間にするか、或いは重力の影響を受けても隙間WS1bの空間内に留まる程度の隙間にするかは、先の第1の実施の形態の図4で示した液体保持部LQPによる隙間WS1の設定、または第2の実施の形態の図6で示した液体保持部LQPaによる隙間WS1aの設定においても同様に適用でき、いずれの場合であってもよい。 As described above, if the first liquid LQ1 is the gap enough to flow freely in the space of the gap WS1b the influence of gravity, or to the extent of the gap even under the influence of gravity remains in the interstitial spaces WS1b is either, the provision of the gaps WS1a by the liquid holding portion LQPa shown in the liquid holding portion LQP set clearance WS1 by or 6 of the second embodiment, shown in FIG. 4 of the first embodiment described above applies equally in, or in any case.

さて、液体保持部LQPbのY方向の両端部の内側(回転ドラムDR側)には、フランジ部FRの外周面(円筒状)FRaに倣って対向するように、XZ面内で円弧状に形成されたシール部SEPbが設けられる。 Now, formed on the inside of both ends of the Y direction of the liquid holding portion LQPb (rotary drum DR side), so as to face following the outer peripheral surface (cylindrical) FRa flange portion FR, arcuately in the XZ plane has been sealed portion SEPb is provided. シール部SEPbは、液体保持部LQPbによって保持された第1の液体LQ1が、液体保持部LQPbのY方向の両端部から漏れないようにシールする。 Seal portion SEPb the first liquid LQ1 held by the liquid holding portion LQPb is sealed so as not to leak from both ends of the Y direction of the liquid holding portion LQPb. つまり、シール部SEPbは、Y方向における特定範囲外への第1の液体LQ1の遺漏を防止する。 In other words, the sealing portion SEPb prevents first omissions liquid LQ1 to a particular range in the Y direction.

図9、図10に示すように、シール部SEPbは、フランジ部FRの外周面FRaに対向する円筒状の曲面(以下、円筒面)CU2bを有し、該円筒面(パッド面、パッド部)CU2bとフランジ部FRの外周面FRaとは、一定の隙間(ギャップ)WS2bを有する。 9, as shown in FIG. 10, the sealing portion SEPb the cylindrical curved surface facing the outer peripheral surface FRa of the flange portion FR (hereinafter, cylindrical surface) having a CU2b, cylindrical surface (pad surface, the pad portion) the outer peripheral surface FRa of CU2b and the flange portion FR, has a fixed gap (gap) WS2b. つまり、シール部SEPbの円筒面CU2bの曲率は、フランジ部FRの外周面FRaの曲率(回転ドラムDRの外周面の曲率)と同一となる。 In other words, the curvature of the cylindrical surface CU2b of the seal portion SEPb consists curvature of the outer peripheral surface FRa of the flange portion FR and (curvature of the outer peripheral surface of the rotary drum DR) the same. 図10に示すように、この円筒面CU2bは、フランジ部FRの外周面FRaを覆うように形成されている。 As shown in FIG. 10, the cylindrical surface CU2b is formed so as to cover the outer peripheral surface FRa of the flange portion FR. 隙間WS2bは、隙間WS1bに比べ極めて小さく、例えば、数μm〜数十μm程度に設定されている。 Clearance WS2b is very small compared to the gap WS1b, for example, it is set to several μm~ several tens μm approximately.

そして、シール部SEPbには、円筒面CU2bとフランジ部FRの外周面FRaとの間に、静圧気体層(気体層)が生成されるように、気体(圧縮気体)を供給する噴出口(気体供給部)ASと、供給された気体を吸引する吸引口VAとが周方向に複数形成されている。 Then, the seal portion SEPB, between the outer peripheral surface FRa cylindrical surface CU2b and the flange portion FR, so that the static pressure gas layer (gas layer) is produced, a gas (compressed gas) to the spout ( gas supply unit) and aS, a suction port VA is formed with a plurality circumferentially sucking the supplied gas. したがって、この噴出口ASと吸引口VAとによって隙間WS2b内では気体の圧力が高くなり、フランジ部FRとシール部SEPbとの隙間WS2bから第1の液体LQ1が漏れないようにシールすることができる。 Therefore, within the gap WS2b this spout AS by the suction port VA gas pressure is increased, it is possible to seal so as to prevent leakage of the first liquid LQ1 from a gap WS2b the flange portion FR and the seal portion SEPb . これにより、シール部SEPbは、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって、第1の液体LQ1が液体保持部LQPbのY方向の両端部から漏れることを防止することができる。 Thus, the sealing portion SEPb can prevent the air bearing system or Bernoulli chuck method, leaking the first liquid LQ1 from both ends of the Y direction of the liquid holding portion LQPb. また、図10に示すように、シール部SEPbに、フランジ部FRよりY方向内側の円筒面CU1bに向けて高圧な気体(圧縮気体)を噴出する噴出口AS1を周方向に複数設けてもよい。 Further, as shown in FIG. 10, the seal portion SEPB, may be provided with a plurality of ejection ports AS1 for ejecting a high-pressure gas (compressed gas) toward the flange portion FR in the Y direction inside the cylindrical surface CU1b circumferentially . この噴出口AS1により、さらにフランジ部FRとシール部SEPbとの隙間WS2bから第1の液体LQ1が漏れないようにシールすることができる。 The spout AS1, can be further sealed so that the first liquid LQ1 does not leak from the gap WS2b the flange portion FR and the seal portion SEPB. 噴出口AS、AS1は、気体を出力するポンプ等の図示しない気体供給装置が接続されており、吸引口VAは、気体を吸引する真空発生装置等の図示しない気体吸引装置に接続されている。 Spout AS, AS1 is a gas supply device (not shown) such as a pump for outputting a gas is connected, the suction port VA is connected to the gas suction device (not shown) of the vacuum generator or the like for sucking the gas.

なお、シール部SEPbによる静圧気体層は、フランジ部FRの側壁面(XZ面と平行な面)に形成されるようにしてもよい。 The static pressure gas layer by the sealing portion SEPb may also be formed on the side wall surface of the flange portion FR (XZ plane parallel to the plane). さらに、フランジ部FRの代わりに回転ドラムDRの外周面の全周に亘って一定の深さの溝部を形成し、シール部SEPbは、この溝部内に静圧気体層を形成してもよい。 Furthermore, over the entire outer peripheral surface of the rotary drum DR, instead of the flange portion FR to form a groove of a constant depth, the seal portion SEPb may form hydrostatic gas layer in the groove. また、シール部SEPbは、磁性流体シールであってもよい。 The sealing portion SEPb may be a magnetic fluid seal.

液体保持部LQPbには、露光ヘッド18の複数の描画ユニットU(U1〜U3)の終端光学素子の射出面22から射出されるレーザ光LBが基板P上に照射されるように形成された複数の開口部AHb(AHb1〜AHb3)が設けられている。 The liquid holding portion LQPb a plurality of laser beam LB emitted from the exit face 22 of the last optical element of the plurality of rendering units U of the exposure head 18 (U1 to U3) is formed so as to be irradiated onto the substrate P opening AHb (AHb1~AHb3) is provided for. つまり、描画ユニットU1から射出されたレーザ光LBは、開口部AHb1を通って基板Pに到達する。 That is, the laser beam LB emitted from the drawing unit U1 reaches the substrate P through the opening AHB1. 同様に、描画ユニットU2、U3から射出されたレーザ光LBは、開口部AHb2、AHb3を通って基板Pに到達する。 Similarly, the laser beam LB emitted from the drawing unit U2, U3 reaches the substrate P through the opening AHB2, AHB3. 複数の描画ユニットU(U1〜U3)は、2列に千鳥配列で配置されているので、それに対応して開口部AHb(AHb1〜AHb3)も、2列に千鳥配列で配置されている。 A plurality of rendering units U (U1 to U3), so are arranged in a staggered arrangement in two rows, also correspondingly an opening AHb (AHb1~AHb3), are arranged in a staggered arrangement in two rows. なお、開口部AHb1〜AHb3の各々の中心を通る中心線LAX1、LAX2、LAX3は、描画ユニットU1〜U3から射出されるレーザ光LBの光軸または描画領域の中心を通る主光線を示す。 The center line LAX1, LAX2, LAX3 passing through the center of each opening AHb1~AHb3 shows the principal ray passing through the center of the optical axis or the drawing area of ​​the laser beam LB emitted from the drawing unit U1 to U3. なお、図10は、開口部AHb1を通る中心線LAX1と回転ドラムDRの中心軸AXとを通る平面でせん断した液体保持部LQPbの断面を示している。 Incidentally, FIG. 10 shows the center axis AX and the cross section of the liquid holding portion LQPb sheared in a plane passing through the center line LAX1 the rotary drum DR through the opening AHB1.

開口部AHb(AHb1〜AHb3)は、液体保持部LQPbを貫通するように形成されており、円筒面CU1b側には、開口部AHb(AHb1〜AHb3)の開口を塞ぐための透明材料で形成されたシール板GS(GS1〜GS3)が設けられている。 Opening AHb (AHb1~AHb3) is formed so as to penetrate through the liquid holding portion LQPb, the cylindrical surface CU1b side, is formed of a transparent material for closing the opening of the opening AHb (AHb1~AHb3) seal plate GS (GS1~GS3) is provided with. シール板GS1は、開口部AHb1の開口を塞ぎ、同様に、シール板GS2、GS3は、開口部AHb2、AHb3の開口を塞ぐ。 Sealing plate GS1 occludes the opening of the opening AHB1, likewise, the seal plate GS2, GS3 is to close the opening of the opening AHB2, AHB3. 図10に示すように、シール板GSの回転ドラムDRと対向する面が、円筒面CU1bと揃った面(フラッシュサーフェス)となるように、シール板GSをその厚さ分だけ円筒面CU1bに埋め込んでもよい。 As shown in FIG. 10, the rotary drum DR and opposed surfaces of the sealing plate GS is, such that the cylindrical surface CU1b a uniform surface (flush surface), embed a seal plate GS cylindrical surface CU1b by that the thickness of But good. なお、このシール板GSは、全ての開口部AHb(AHb1〜AHb3)の開口を塞ぐ一枚の板であってもよい。 Incidentally, the seal plate GS may be single plate closing the opening of all of the openings AHb (AHb1~AHb3).

開口部AHb(AHb1〜AHb3)には、描画ユニットU(U1〜U3)の先端部分(終端光学素子を含む)Uaが右方(+X方向)から左方(−X方向)に向かって挿入されてもよい(図10参照)。 The opening AHb (AHb1~AHb3), (including final optical element) the tip portion of the rendering units U (U1 to U3) Ua is inserted from the right side (+ X direction) toward the left side (-X direction) which may be (see Figure 10). このとき、シール板GS(GS1〜GS3)と接触しないように先端部分Uaは開口部AHb(AHb1〜AHb3)に挿入される。 At this time, the tip portion Ua so as not to contact the sealing plate GS (GS1~GS3) is inserted into the opening AHb (AHb1~AHb3). また、開口部AHb(AHb1〜AHb3)は、描画ユニットU(U1〜U3)が挿入された状態で、終端光学素子の射出面22が浸されるように第2の液体LQ2を保持してもよい。 The opening AHb (AHb1~AHb3), in a state where the drawing unit U (U1 to U3) is inserted, even if holding the second liquid LQ2 to the exit surface 22 of the last optical element is immersed good. この場合は、開口部AHb(AHb1〜AHb3)から第2の液体LQ2が漏れないように、図10に示すように、開口部AHb(AHb1〜AHb3)と描画ユニットU(U1〜U3)の先端部分Uaとの間には、可撓性の樹脂等(例えば、ゴム)で形成されたOリングや磁性流体シール等のシール部RSが設けられている。 In this case, as the second liquid LQ2 from the opening AHb (AHb1~AHb3) does not leak, as shown in FIG. 10, the distal end of the drawing unit U opening AHb (AHb1~AHb3) (U1~U3) between the portion Ua, flexible resin (e.g., rubber) seal portion RS of the O-ring or a magnetic fluid seal or the like formed by provided.

液体保持部LQPbの上端部(+Z方向側)には、第1の液体LQ1を所定の流量で供給するポートとしての液体供給部SUPと、液体供給部SUPから供給された第1の液体LQ1を基板Pの幅方向に一様に拡散して流すための拡散部LQDとが設けられている。 The upper end of the liquid holding portion LQPb the (+ Z direction side), a liquid supply portion SUP of the first liquid LQ1 as a port for supplying a predetermined flow rate, the first liquid LQ1 supplied from the liquid supply unit SUP a spreading unit LQD to flow uniformly diffused in the width direction of the substrate P is provided. 液体保持部LQPbの円筒面CU1bの上部には、図9に示すように、この拡散部LQDに流れた第1の液体LQ1を隙間WS1bに供給するスリット状のノズル(開口)LSHがY方向(中心軸AXの軸方向)に沿って多数設けられている。 The top of the cylindrical surface CU1b of the liquid holding portion LQPb, as shown in FIG. 9, the first liquid LQ1 in the gap WS1b slit supplying nozzle (opening) LSH is Y direction flows into the diffusion portion LQD ( It is provided a number along the axial direction) of the center axis AX. この複数のノズルLSHからは、一様な流量で第1の液体LQ1が噴出されて隙間WS1bに供給される。 From this plurality of nozzles LSH, the first liquid LQ1 is supplied to the ejected by a gap WS1b in a uniform flow rate. なお、このノズルLSHは、開口部AHb(AHb1〜AHb3)よりも上方(+Z方向)に設けられている。 Incidentally, the nozzle LSH is provided above (+ Z direction) than the opening AHb (AHb1~AHb3).

液体保持部LQPbの下端部(−Z方向側)には、保持している第1の液体LQ1を回収する回収スロット部(液体回収部)LQSが設けられている。 The lower end of the liquid holding portion LQPb the (-Z direction side), the recovery slot portion (liquid recovery section) LQS is provided for recovering the first liquid LQ1 held. この回収スロット部LQSには、図9に示すように、液体保持部LQPbによって保持されている第1の液体LQ1を下方(−Z方向)に排出するスロット部STがY方向(中心軸AXの軸方向)に沿って複数設けられている。 This collection slot LQS, as shown in FIG. 9, the slot portion ST for discharging the first liquid LQ1 held by the liquid holding portion LQPb downward (-Z direction) of the Y-direction (center axis AX along the axial direction) are provided in plural. また、図9に示すように、回収スロット部LQSの上方(+Z方向)であって、液体保持部LQPbの円筒面CU1bの下部側(−Z方向側)のY方向の両端部側に凹部BPを設けてもよい。 Further, as shown in FIG. 9, a top of the collection slot LQS (+ Z direction), the recess BP on both ends of the Y direction of the lower side of the cylindrical surface CU1b liquid holding portion LQPb (-Z direction side) the may be provided. この凹部BPは、下方(−Z方向)に向かうにつれて円筒面CU1bのY方向の中央に向かうように傾斜したエッジ部EEが形成されるように回転ドラムDRの外周面から遠ざかる方向に窪んでいる。 The recess BP is recessed in a direction away from the outer circumferential surface of the rotary drum DR as slanted edge section EE to face the center of the Y-direction of the cylindrical surface CU1b is formed toward downward (-Z direction) . この凹部BPにより、回収スロット部LQSによって回収される第1の液体LQ1を隙間WS1bのY方向中央側に集めることができる。 This recess BP, it is possible to collect the first liquid LQ1 is recovered by the recovery slot LQS the Y direction center side of the gap WS1b. これは、液体保持部LQPbの円筒面CU1bと基板Pとの径方向の隙間WS1bを1mm程度に狭くした場合に、液体が隙間のより狭い方に寄ろうとする特性を利用したものである。 This is because when narrow radial gap WS1b the cylindrical surface CU1b the substrate P of the liquid holding portion LQPb about 1 mm, the liquid is obtained by utilizing the characteristics to be Yolo towards a narrower gap. さらにこの場合は、円筒面CU1bおよびシール板GSの回転ドラムDRと対向した表面は、第1の液体LQ1に対して親液性が高くなるように表面処理が施され、凹部BPは、第1の液体LQ1に対して撥液性が高い状態となるように、例えば、フッ素系の薄膜でコーティングされてもよい。 Further in this case, the rotary drum DR and opposed surfaces of the cylindrical surface CU1b and seal plate GS is surface treated to lyophilic property is higher than the first liquid LQ1 is performed, the recess BP is first so against the liquid LQ1 and the liquid repellency is high, for example, may be coated with a thin film of a fluorine-based.

なお、図9においては、液体保持部LQPbの円筒面CU1bの下部側(−Z方向側)のY方向の両端部側に凹部BPを形成することによって、回収スロット部LQSによって回収される第1の液体LQ1を円筒面CU1bの下部側でY方向の中央に集める(寄せる)ようにしたが、円筒面CU1bと基板Pとの隙間WS1bの程度に応じて、他の構成によっても同様に第1の液体LQ1を中央に集める(寄せる)ことができる。 In FIG. 9, by forming a recess BP on both ends of the Y direction of the lower side of the cylindrical surface CU1b liquid holding portion LQPb (-Z direction side), the recovered by collecting slots LQS 1 collecting the liquid LQ1 in the center of the Y-direction at the bottom side of the cylindrical surface CU1b (lapping) as in the but according to the degree of the gap WS1b the cylindrical surface CU1b and the substrate P, the first as well by other configurations can collect the liquid LQ1 in the center (gather) the. 例えば、重力の影響によって液体が自由に流れる程度の隙間WS1bの寸法(例えば2mm以上)の場合、図9のような凹部BPでは液体LQ1をY方向の中央に集めることは難しい。 For example, when the dimension of the gap WS1b the extent that the liquid flows freely under the influence of gravity (for example 2mm or more), it is difficult to collect the liquid LQ1 in the recess BP as shown in Figure 9 in the center of the Y direction. そこで、そのような場合は、凹部BPの代わりに、円筒面CU1bの下部側(−Z方向側)の表面に、基板Pの表面との隙間が1mm以下となるような上端面を有する細い線状の突起部(リム)を、図9中のエッジ部EEの位置に、円筒面CU1bのY方向の端部から中央部に向けて傾斜するように、周方向に複数本並べて形成してもよい。 Therefore, thin line such a case, instead of the concave portion BP, on the surface of the lower side of the cylindrical surface CU1b (-Z direction side), having an upper surface as the gap between the surface of the substrate P becomes 1mm or less Jo protrusions (the rim), the position of the edge portion EE of FIG. 9, so as to be inclined toward the central portion from the Y direction of the end portion of the cylindrical surface CU1b, be formed by arranging a plurality of circumferentially good.

液体供給部SUPによって供給された第1の液体LQ1は、拡散部LQDと円筒面CU1bに設けられた複数のノズルLSHを介して隙間WS1bに供給されて、重力、或いは液体供給部SUPによる第1の液体LQ1の送出圧によって、回転ドラムDRに外周面に沿って−Z方向に流れる。 The first liquid LQ1 supplied by the liquid supply unit SUP is spread portion is supplied to the gap WS1b via a plurality of nozzles LSH provided LQD and the cylindrical surface CU1b, gravity, or the first by the liquid supply unit SUP the delivery pressure of the liquid LQ1, flowing in the -Z direction along the outer peripheral surface on the rotary drum DR. 回転ドラムDRの外周面に沿って流れた第1の液体LQ1は、シール板GS1〜GS3と基板Pとの間を通って回収スロット部LQSに到達する。 The first liquid LQ1 flowing along the outer peripheral surface of the rotary drum DR reaches the collecting slot LQS passes between the seal plate GS1~GS3 and the substrate P. なお、隙間WS1bに供給された第1の液体LQ1の一部は、両側のフランジ部FRまで達するが、シール部SEPbによりシールされているので、両端のフランジ部FRに達した第1の液体LQ1が液体保持部LQPbのY方向の両端部から漏れることはない。 A part of the first liquid LQ1 supplied to the gap WS1b, but reach both sides of the flange portion FR, since it is sealed by the seal portion SEPB, the first liquid which has reached the flange portion FR of the ends LQ1 There is not leak from both ends of the Y direction of the liquid holding portion LQPb. また、重力、或いは液体LQ1の送出圧によって上方から下方に向かって流れ回収スロット部LQSに到達する第1の液体LQ1は、凹部BPとのエッジ部EE、または複数の線状の突起部(リム)によって回収スロット部LQSのY方向中央に集められる。 Also, gravity, or the first liquid LQ1 to be reached from the top to bottom in flow recovery slot LQS by the delivery pressure of the liquid LQ1, the edge portion EE of the recess BP or more linear protrusions, (rim ) are collected in the Y-direction center of the collection slot LQS by. そして、回収スロット部LQSに到達した第1の液体LQ1は、Y方向に沿って複数設けられたスロット部STに流れ込み、複数のスロット部STを通って下方に排出される。 The first liquid LQ1, which has reached the collecting slot LQS along the Y-direction flows into a plurality provided slot unit ST, and is discharged downward through a plurality of slots ST. これにより、回収スロット部LQSによって液体保持部LQPbが保持している第1の液体LQ1が回収される。 Thus, the first liquid LQ1 of the liquid holding portion LQPb holds the recovered slot LQS is recovered.

なお、回収スロット部LQSのスロット部STに、流量を調整する調整可能な弁機構を設け、この弁機構を流れる第1の液体LQ1の流量の制御と、ノズルLSHから供給される第1の液体LQ1の流量の制御とのバランスによって、第1の液体LQ1が隙間WS1b内を上から下に向かって流れる流速を制御するようにしてもよい。 Incidentally, the slot portion ST of the recovery slot LQS, an adjustable valve mechanism for regulating the flow rate provided, the control of the flow rate of the first liquid LQ1 flowing through the valve mechanism, the first liquid supplied from the nozzle LSH the balance between the flow rate control of LQ1, the first liquid LQ1 may be adapted to control the flow rate flowing from top to bottom in the gap WS1b. また、隙間WS1b内の第1の液体LQ1の圧力によって液体保持部LQPbには、回転ドラムDR(基板P)から離間する方向の力も働くため、それと対峙する付勢力を作用させる機構を、液体保持部LQPbを支持する前記支持機構に設けてもよい。 Further, the first liquid retaining section LQPb by the pressure of the liquid LQ1 in the gap WS1b, to work even force away from the rotating drum DR (substrate P), therewith a mechanism for applying a biasing force to facing, liquid retention part LQPb may be provided on the support mechanism for supporting the. このことは、上記第1および第2の実施の形態でも同様である。 This also applies to the first and second embodiments.

回収スロット部LQSの下方(−Z方向)には、回収スロット部LQSによって回収(排出)された第1の液体LQ1を回収する回収パレット部LQEが設けられている。 Downward (-Z direction) of the collection slot LQS is recovered pallet portion LQE is provided for recovering the first liquid LQ1 recovered (discharged) by the recovery slot LQS. 回収パレット部LQEは、回転ドラムDRのY方向の幅全体をカバーする寸法を有し、回収スロット部LQSから流れてくる第1の液体LQ1だけでなく、基板Pまたは回転ドラムDRに残留して付着している第1の液体LQ1の滴等も回収する。 Collecting pallet unit LQE has dimensions that cover the entire width of the Y direction of the rotary drum DR, not only the first liquid LQ1 flowing from the recovery slot LQS, remaining on the substrate P or the rotary drum DR It drops, etc. of the first liquid LQ1 adhering also recovered.

図11に示すように、回収スロット部LQSから流れて落ちてくる第1の液体LQ1や基板Pに残留して付着した第1の液体LQ1の滴は、塵取り状に構成された回収パレット部LQEの底部LQEa上に溜められ、溜められた第1の液体LQ1は、排出ポートDPから排出される。 As shown in FIG. 11, the first drop of liquid LQ1 adhering remaining in the first liquid LQ1 and the substrate P falling flow from the collection slot LQS is recovered pallet unit configured to dustpan shape It accumulated on LQE bottom LQEa, the first liquid LQ1, which accumulated is discharged from the discharge port DP. 回収パレット部LQEの−X方向側の傾斜壁部LQEbには、基板Pや回転ドラムDRに向けて高圧な気体(圧縮気体、エアジェット)を噴出し、基板Pや回転ドラムDRに残留して付着した第1の液体LQ1の滴を吹き飛ばすノズルANがY方向に複数設けられている。 The inclined wall portion LQEb the -X direction side of the collecting pallet unit LQE high-pressure gas (compressed gas, air jet) toward the substrate P and the rotary drum DR spewing, remaining on the substrate P and the rotary drum DR nozzles aN to blow the first drop of liquid LQ1 adhering is provided with a plurality in the Y direction. これにより、基板Pや回転ドラムDRに付着した第1の液体LQ1の滴が回収パレット部LQEによって回収される。 Accordingly, droplets of the first liquid LQ1, which has adhered to the substrate P and the rotary drum DR is recovered by the recovery pallet unit LQE. このノズルANには、高圧の気体(圧縮気体)を供給する図示しない気体供給装置が接続されている。 This nozzle AN, the gas supply apparatus is connected (not shown) for supplying a high-pressure gas (compressed gas).

上記第1の実施の形態と同様に、感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間WS1bには第1の液体LQ1として純水が保持されるとともに、開口部AHb(AHb1〜AHb3)によって第2の液体LQ2としての純水が保持され、描画ユニットU(U1〜U3)の終端光学素子の射出面22が第2の液体LQ2に浸るようにしてもよい。 Similar to the first embodiment, when using the photoresist as a photosensitive coating layer, as well as the gap WS1b pure water is retained as the first liquid LQ1, opening AHb (AHb1~AHb3 ) pure water as the second liquid LQ2 is held by the exit surface 22 of the last optical element of the drawing unit U (U1 to U3) may also be immersed in the second liquid LQ2. 感光性の被膜層として、高NAで集光した紫外線が照射された部分が除去される被膜層を用いた場合も同様に、液体保持部LQPbが純水の第1および第2の液体LQ1、LQ2を保持することで、レーザ光LB(スポット光SP)が照射された部分を除去することができる。 As the photosensitive coating layer, also if the ultraviolet rays focused by the high NA is used a coating layer is irradiated portion is removed, the first and second liquid LQ1 liquid holding portion LQPb is pure water, by holding the LQ2, it is possible to remove a portion of the laser beam LB (spot light SP) is irradiated. 感光性の被膜層としてフォトレジストを使用する場合は、隙間WS1bには第1の液体LQ1として現像液が保持されてもよい。 When using a photoresist as a photosensitive coating layer, the gap WS1b may developer is held as the first liquid LQ1. 感光性の被膜層をメッキ還元基を有する感光性シランカップリング剤で形成した場合、第1の液体LQ1としてパラジウムイオン(Pd + )等を含むメッキ核析出液(メッキ液)を用いてもよい。 When forming a photosensitive silane coupling agent having a plating reducing group a photosensitive coating layer, palladium ion (Pd +) such as plating nucleus deposition solution containing a (plating solution) may be used as the first liquid LQ1 . 液体保持部LQPbは、現像液やメッキ液を保持する場合は、第2の液体LQ2を保持しなくてもよい。 Liquid holding unit LQPb, when holding the developer or the plating solution may not be holding the second liquid LQ2.

このように、第3の実施の形態においては、液体保持部LQPbは、回転ドラムDRの外周面によって支持された円筒状に湾曲した基板Pの表面から径方向に所定の厚み(隙間WS1b)となるように第1の液体LQ1を保持するので、回転ドラムDRの回転方向(基板Pの搬送方向)に沿って配置された複数の描画ユニットUから基板Pに射出されるレーザ光LBの距離を等しくすることができ、パターンの描画精度を向上させることができる。 Thus, in the third embodiment, the liquid holding unit LQPb the outer peripheral surface by a predetermined thickness from the surface in the radial direction of the substrate P curved supported cylindrical rotary drum DR and (clearance WS1b) since holding the first liquid LQ1 to be the distance of the laser beam LB emitted from the plurality of rendering units U arranged along the rotational direction (conveying direction of the substrate P) of the rotary drum DR to the substrate P can be made equal, it is possible to improve the writing precision of a pattern. その結果、効率よく液中露光を行うことができる。 As a result, it is possible to perform efficiently submerged exposure.

また、第3の実施の形態においては、液体保持部LQPbを回転ドラムDRの側方(X方向)に設け、液体保持部LQPbは、第1の液体LQ1がY方向の両端部から漏れることを防止するシール部SEPbを有するので、回転ドラムDRの側方(X方向)において、第1の液体LQ1を保持することができる。 In the third embodiment, provided with a liquid holding portion LQPb on the side of the rotary drum DR (X direction), the liquid holding unit LQPb is that the first liquid LQ1 leaks from both ends of the Y-direction because it has a seal portion SEPb to prevent, on the side of the rotary drum DR (X direction), it is possible to hold the first liquid LQ1. このシール部SEPbは、静圧気体層を生成する噴出口ASを有するので、エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式によって、第1の液体LQ1がY方向の両端部から漏れることを防止することができ、効率的に回転ドラムDRの側方で液中露光を行うことができる。 The seal portion SEPb Since has a spout AS to generate a hydrostatic gas layer, by an air bearing system or Bernoulli chuck method, it is possible to first liquid LQ1 is prevented from leaking from both ends of the Y-direction, it can be exposed in a liquid at the side of efficiently rotary drum DR.

露光装置EXは、液体保持部LQPbに第1の液体LQ1を供給する液体供給部SUPと、液体保持部LQPbが保持している第1の液体LQ1を回収する回収スロット部LQSとを備えるので、液体保持部LQPbが保持する第1の液体LQ1を綺麗な状態に保つことができる。 Since the exposure apparatus EX includes a liquid supply portion SUP supplying a first liquid LQ1 in the liquid holding portion LQPb, and a recovery slot portion LQS for recovering the first liquid LQ1 of the liquid holding portion LQPb holds, it is possible to keep the first liquid LQ1 of the liquid holding portion LQPb is held in a beautiful state. 液体保持部LQPbは、描画ユニットUの終端光学素子の射出面22が浸される第2の液体LQ2を保持する場合は、第1の液体LQ1と第2の液体LQ2とはシール板GSによって仕切られている。 Liquid holding unit LQPb, when holding the second liquid LQ2 to the exit surface 22 of the last optical element of the drawing unit U is immersed in the partition by the sealing plate GS and the first liquid LQ1 and the second liquid LQ2 It is. その結果、第1の液体LQ1および第2の液体LQ2の流動が互いに影響を与えることを防止することができる。 As a result, it is possible to flow of the first liquid LQ1 and the second liquid LQ2 is prevented from affecting each other. また、射出面22から射出されたレーザ光LB(スポット光SP)は、空気中を通ることなく基板Pに照射されるので、解像度が向上し、焦点深度を拡大することが可能となる。 The laser beam LB emitted from the exit face 22 (the spot light SP), because is irradiated without the substrate P passing through the air, improve the resolution, it is possible to enlarge the depth of focus. そして、第1の液体LQ1、第2の液体LQ2、および、シール板GSの屈折率を、終端光学素子の屈折率と同一または一定の許容範囲内にすることで、解像度が向上し、焦点深度が拡大する。 The first liquid LQ1, a second liquid LQ2, and the refractive index of the sealing plate GS, by in the same or constant tolerance and refractive index of the last optical element, better resolution, depth of focus but to expand. 液体保持部LQPbは、第2の液体LQ2を保持しない場合であっても、第1の液体LQ1として現像液またはメッキ液を保持することで、露光と現像またはメッキとを略同時に行うことができる。 Liquid holding unit LQPb, even when not holding the second liquid LQ2, by holding the developer or the plating liquid as the first liquid LQ1, can be carried out exposure and development or the plating substantially simultaneously .

以上の第3の実施の形態も、第1の実施の形態または第2の実施の形態と同様に、特に図10に示すように、基板Pの表面に接触する第1の液体LQ1を、液体保持部LQPbの内側の円筒面CU1bと基板Pの表面(円筒面状)との隙間WS1bの厚みに規定された液体層として安定に保持可能であるとともに、基板Pの搬送速度に依存することなく、比較的広い範囲の流速に設定することができる。 More than the third embodiment, as in the first embodiment or the second embodiment, particularly as shown in FIG. 10, the first liquid LQ1 in contact with the front surface of the substrate P, the liquid as well as a stable to be able to hold a liquid layer defined in the thickness of the gap WS1b the holding portion inner cylindrical surface CU1b surface of the substrate P in LQPb (cylindrical surface), without depending on the transport speed of the substrate P it can be set to the flow rate of a relatively wide range. さらに、第1の液体LQ1を現像液やメッキ液とした場合は、従来のシャワー方式や浴槽(パット)方式の現像処理やメッキ処理に比べて、その使用量を大幅低減することができ、さらに液体の再生処理部と併用することによって、廃液処理の設備を小型化することも可能である。 Further, when the first liquid LQ1 to the developing solution and plating solution, as compared to the development process and a plating process of a conventional shower system or bath (pat) method, can greatly reduce the amount, more by combination with the reproduction processing of the liquid, it is also possible to reduce the size of the equipment of the waste liquid treatment.

[変形例] [Modification]
上記第1〜第3の実施の形態は、以下のように変形してもよい。 The first to third embodiments may be modified as follows.

上記各実施の形態では、液体保持部LQP、LQPa、LQPbを回転ドラムDRの周りに1つ設けた態様で説明したが、回転ドラムDRの周りに複数設けてもよい。 In each of the above embodiments, the liquid holding unit LQP, LQPa, has been described in one provided manner of LQPb around the rotary drum DR, it may be multiply provided around the rotary drum DR. 図12は、回転ドラムDRの周りに、上記第1の実施の形態で説明した液体保持部LQPを複数設けた場合の一例を示す。 Figure 12 shows an example in which around the rotary drum DR, provided with a plurality of liquid holding portion LQP explained in the first embodiment. 回転ドラムDRの回転方向に沿って(基板Pの搬送方向に沿って)、3つの液体保持部LQPが設けられており、便宜上、この3つの液体保持部LQPを、基板Pの搬送方向の上流側から順に、LQP1、LQP2、LQP3と呼ぶ。 Along the rotational direction of the rotary drum DR (along the transport direction of the substrate P), is provided with three liquid holding portion LQP, for convenience, the three liquid holding portion LQP, upstream in the conveying direction of the substrate P in order from the side, it referred to as the LQP1, LQP2, LQP3.

液体保持部LQP1は、例えば、第1の液体LQ1として現像液を保持する。 Liquid holding unit LQP1, for example, to hold the developer as the first liquid LQ1. したがって、複数の描画ユニットUの先端部分Uaから射出したレーザ光(スポット光SP)は、液体保持部LQP1が保持している第1の液体LQ1を介して基板Pの表面に照射されるので、露光と現像とを略同時に行うことができる。 Therefore, the laser light emitted from the tip portion Ua of the plurality of rendering units U (spot light SP), since the liquid holding portion LQP1 is irradiated onto the surface of the substrate P through the first liquid LQ1 held, and developing the exposed substantially can be performed simultaneously. 現像液である第1の液体LQ1は、溝部DRC2から供給され溝部DRC1で回収される。 The first liquid LQ1 is a developing solution is supplied from the groove DRC2 is recovered in the groove DRC1. なお、液体保持部LQP1は、現像液ではなく、メッキ液を第1の液体LQ1として保持してもよい。 The liquid holding unit LQP1 is not a developer, may hold the plating solution as the first liquid LQ1. これにより、露光とメッキとを略同時に行うことができる。 Thus, the exposure and the plating substantially can be performed simultaneously.

液体保持部LQP2は、例えば、第1の液体LQ1として純水を保持することで、露光・現像が行われた基板Pに対して洗浄を行う。 Liquid holding unit LQP2, for example, by holding the pure water as the first liquid LQ1, to clean the substrate P that exposure and development were performed. つまり、液体保持部LQP2は、液中露光ではなく、基板Pの洗浄を行うために純水である第1の液体LQ1を保持する。 That is, the liquid holding unit LQP2 is not in liquid exposure, holding the first liquid LQ1 is pure water in order to clean the substrate P. したがって、液体保持部LQP2には、描画ユニットUの先端部分Uaからのレーザ光LB(スポット光SP)が基板Pに照射されるように設けられた開口部AHおよびシール板GSを設けなくてもよい。 Therefore, the liquid holding unit LQP2, even without providing the laser beam LB (spot light SP) is opening AH and the sealing plate GS provided so as to be irradiated onto the substrate P from the tip portion Ua of rendering units U good. 純水である第1の液体LQ1は、溝部DRC2から供給され溝部DRC1で回収される。 The first liquid LQ1 is pure water is recovered by the supplied groove DRC1 from the groove DRC2.

液体保持部LQP3は、例えば、液体LQではなく気体を保持することで、洗浄が行われた基板Pの表面に付着した液体(液滴、液膜)を除去して乾燥させる。 Liquid holding unit LQP3, for example, by holding the liquid LQ rather gas cleaning is attached to the surface of the substrate P made liquid (droplets, liquid film) is removed to dry the. したがって、液体保持部LQP3には、描画ユニットUの先端部分Uaからのレーザ光LB(スポット光SP)が基板Pに照射されるように設けられた開口部AHおよびシール板GSを設けなくてもよい。 Therefore, the liquid holding unit LQP3, even without providing the laser beam LB (spot light SP) is opening AH and the sealing plate GS provided so as to be irradiated onto the substrate P from the tip portion Ua of rendering units U good. 乾燥エアーである温度調整された気体は、溝部DRC2から供給され溝部DRC1で回収される。 Drying temperature adjusted gas is air is supplied from the groove DRC2 is recovered in the groove DRC1. このような構成を有することで、回転ドラムDR上で、露光・現像(または、露光・メッキ)、洗浄、乾燥等の処理を行うことができる。 By having such a configuration, on the rotary drum DR, exposure and development (or, exposure and plating), washing, can perform processing such as drying.

なお、液体保持部LQP1、LQP3の代わりに、上記第3の実施の形態で説明した液体保持部LQPbを用いてもよい。 Instead of the liquid holding portion LQP1, LQP3, may be used liquid holding portion LQPb described in the third embodiment. また、液体保持部LQP2の代わりに、上記第2の実施の形態で説明した液体保持部LQPaを用いてもよい。 Further, instead of the liquid holding portion LQP2, it may be used a liquid holding portion LQPa described in the second embodiment. また、回転ドラムDRの周りに3つではなく、2つ、または4つ以上の液体保持部LQP、LQPa、LQPbを設けてもよい。 Further, 3 Tsude around the rotary drum DR is not, two, or four or more liquid holding unit LQP, LQPa, may be provided LQPb.

また、図12において、例えば、液体保持部LQP1は、第1の液体LQ1として超純水を保持して、基板Pの表面のメッキ還元基を有する感光性シランカップリング剤による被膜層を液浸露光する露光部、液体保持部LQP2は、第2の液体LQ2としてパラジウムイオン(Pd + )等を含むメッキ核析出液(メッキ液)を保持して、露光部で露光された基板P上の領域(被処理領域)にパターンに応じてパラジウムを析出させるメッキ処理部、そして液体保持部LQP3は、第3の液体LQ3として純水(洗浄液)を保持して、メッキ処理によって基板Pに付着したメッキ液を除去する洗浄処理部、としてもよい。 Also, immersion in 12, for example, the liquid holding unit LQP1 holds the ultrapure water as the first liquid LQ1, a coating layer by photosensitive silane coupling agent having a plating reducing group on the surface of the substrate P exposure unit for exposing the liquid holding portion LQP2 as the second liquid LQ2 plating nucleus deposition solution containing palladium ions (Pd +) or the like (plating solution) holds, areas on the substrate P exposed at the exposure portion plating the plating section precipitating palladium in accordance with the pattern (treated area), and the liquid holding portion LQP3 is that holds the pure water (cleaning liquid) as a third liquid LQ3, attached to the substrate P by plating cleaning unit for removing liquid may be. この図12のような構成によれば、1つの回転ドラムDRの外周面にシート状の基板Pを巻き付けた状態で、露光処理、湿式処理(現像、無電解メッキ、洗浄等)を順次行うことができ、一連のプロセス装置PRをコンパクトに集約することが可能である。 According to the configuration as in FIG. 12, in a state wound around a sheet-like substrate P on the outer peripheral surface of the one rotary drum DR, the exposure process, a wet process (development, electroless plating, cleaning, etc.) sequentially performing the can be, it can be integrated into a compact series of process equipment PR.

また、液体保持部LQP1が現像液を保持し、液体保持部LQP2が洗浄用の純水を保持し、液体保持部LQP3が乾燥用の気体を保持する現像処理の場合、一般的な液体フォトレジストの現像時間(現像液に浸す時間)は、そのフォトレジストの層厚に依存するが、層厚が1〜数μmの場合で10秒〜20秒位である。 Furthermore, the liquid holding portion LQP1 holds the developer, the liquid holding portion LQP2 holds pure water for cleaning, if the development processing liquid retaining portion LQP3 holds the gas for drying, typical liquid photoresists the developing time (immersion time in the developer) is dependent on the layer thickness of the photoresist layer thickness is 10 to 20 seconds position in the case of one to several [mu] m. したがって、基板Pの搬送速度が5mm/秒である場合、液体保持部LQP1が現像液を保持する周方向の長さ(周長距離)は、5〜10cm程度になる。 Therefore, if the conveying speed of the substrate P is 5 mm / sec, in the circumferential direction in which the liquid holding portion LQP1 holds the developer length (circumferential long distance) is about 5 to 10 cm. さらに、液体保持部LQP2が洗浄用の純水を保持する周方向の長さ、液体保持部LQP3が乾燥用の気体を保持する周方向の長さも10cm程度(20秒)あれば十分である。 Furthermore, the liquid holding portion LQP2 pure water held circumferential length of the cleaning, the length of the circumferential direction of the liquid holding portion LQP3 holds the gas for drying be 10cm approximately (20 sec) is sufficient. このことから、液体保持部LQP1、液体保持部LQP2、液体保持部LQP3を図12のように、回転ドラムDRの下側(重力方向側)の略半周分に渡って並べるためには、回転ドラムDRの直径を30cm程度にすればよく、これは現実的な数値である。 Therefore, the liquid holding unit LQP1, the liquid holding unit LQP2, the liquid holding unit LQP3 as in Figure 12, to align over substantially half the circumference of the lower rotary drum DR (gravity direction side), the rotary drum It may be the diameter of the DR to about 30 cm, which is a realistic value.

[第4の実施の形態] Fourth Embodiment
図13は、第4の実施の形態による液体保持部LQPcの構成を示す斜視断面図であり、ここでは、図5、図6のように、回転ドラムDRの下方(重力の向きと同じ−Z方向)に約半周分に渡って液体保持部LQPcが配置される。 Figure 13 is a perspective cross-sectional view showing the structure of a fourth liquid holding portion LQPc according to an embodiment of the, here, FIG. 5, as shown in FIG. 6, the same -Z a lower (gravity direction of the rotary drum DR liquid holding portion LQPc is disposed over approximately half the circumference direction). また、図13は、液体保持部LQPcを回転中心AXが延びるY方向の適当な位置でXZ面と平行に破断した状態を示す。 Further, FIG. 13 shows a state in which parallel broken and XZ surface of the liquid holding portion LQPc in a suitable position in the Y direction the rotational center AX extends. 図5、図6の場合と同様に、液体保持部LQPcの内側には、複数の描画ユニットUの各々の先端部分Uaと基板Pとの間に配置される透明なシール板GS1、GS2、GS3、・・・が設けられる。 5, as in the case of FIG. 6, on the inside of the liquid holding portion LQPc a plurality of rendering units U of each of the tip portion Ua and transparent sealing plate GS1 disposed between the substrate P, GS2, GS3 , ... are provided. 先に説明した各実施の形態では、シール板GS1、GS2、GS3、・・・を、湾曲した基板Pの表面と平行に倣うように円筒状に湾曲させた薄いガラス板としたが、本実施の形態では、比較的に厚みのある平行平板ガラスとする。 In each embodiment described above, the sealing plate GS1, GS2, GS3, and ... has a thin glass plate having curved cylindrically so as to follow parallel to the curved surface of the substrate P, the embodiment in the embodiment, a parallel plate glass with a thickness relatively.

そのため、液体保持部LQPcの内側の面(液体LQ1が接する面)で、シール板GS1、GS2、GS3が設けられる領域は、円筒面ではなく、平面FS1、FS2とした。 Therefore, the inside surface of the liquid holding portion LQPc (surface where the liquid LQ1 in contact), a region where a seal plate GS1, GS2, GS3 is provided, rather than a cylindrical surface and a plane FS1, FS2. すなわち、Y方向に一列に並ぶ奇数番の描画ユニットU1、U3、・・・に対応したシール板GS1、GS3、・・・は、図8、図9にて説明した中心線LAX1、LAX3、・・・の各々と垂直で、且つ、液体保持部LQPcの内側の円筒面CU1bの接平面と平行な平面FS1に、面一となるように固定される。 In other words, the drawing unit U1 of odd numbered line up in the Y direction, U3, seal plate GS1 which corresponds to · · ·, GS3, · · ·, as shown in FIG. 8, the center line LAX1 explained in FIG. 9, LAX3, · perpendicular to the respective ..., and, to the tangent plane parallel to the plane FS1 inner cylindrical surface CU1b of the liquid holding portion LQPc, it is fixed so as to be flush. 同様に、Y方向に一列に並ぶ偶数番の描画ユニットU2、・・・に対応したシール板GS2、・・・は、図8、図9にて説明した中心線LAX2、・・・と垂直で、且つ、液体保持部LQPcの内側の円筒面CU1bの接平面と平行な平面FS2に、面一となるように固定される。 Similarly, the rendering units U2 even numbered line up in the Y direction, the seal plate GS2 corresponding to ..., ... is 8, the center line LAX2 described in FIG. 9, in ... vertical and, the tangent plane parallel to the plane FS2 inner cylindrical surface CU1b of the liquid holding portion LQPc, is fixed so as to be flush. 但し、平面FS1、FS2の径方向の位置は、シール部SEPdの円筒状の面(パッド面、パッド部)CU4bの径方向の位置に対して外側となるように設定される。 However, the radial position of the plane FS1, FS2 is cylindrical surface (pad surface, the pad portion) of the seal portion SEPd are set to be outside with respect to the radial position of the CU4b.

平面FS1、FS2のY方向の両端部には、径方向にリム状に突出した円弧状のシール部SEPdが形成され、シール部SEPdの中心軸AXに向いた円筒面CU4bは、エアベアリング用のパッド面となっている。 At both ends of the Y-direction of the plane FS1, FS2, arcuate seal portion SEPd projecting rim is formed in the radial direction, the cylindrical surface CU4b facing the central axis AX of the seal portion SEPd is for air bearings and it has a pad surface. 平面FS1、FS2は、シール部SEPdの内側側面SSに連接するようにY方向に延びており、この内側側面SSにより第1の液体LQ1がシール部SEPdを超えて液体保持部LQPcの外部に流れ出さないように塞き止められている。 Plane FS1, FS2 extend in the Y direction so as to articulate on the inner side surface SS of the seal portion SEPD, first flow liquid LQ1 is beyond the sealing portion SEPD outside of the liquid holding portion LQPc by the inner side surface SS It is blocked so as not issued. 円筒面CU4bは、回転ドラムDRの外周面に支持される基板PのY方向(幅方向)の両端部付近の表面と対向するように設定され、円筒面CU4bと基板Pの表面との間に数μm〜数十μm程度の静圧気体層が形成され、シール部SEPdを超えた液体LQ1が液体保持部LQPcの外部へ遺漏することを防止する。 Cylindrical surface CU4b is set to the surface facing the vicinity of both end portions in the Y direction of the substrate P supported on the outer peripheral surface of the rotary drum DR (width direction), between the cylindrical surface CU4b and the front surface of the substrate P number μm~ several tens μm approximately hydrostatic pressure gas layer is formed, the liquid LQ1 beyond the seal portion SEPd is prevented from leaking to the outside of the liquid holding portion LQPc. したがって、基板Pは、図13中では、矢印Piのように−Z方向に搬送されて、シール部SEPdの円弧状の円筒面CU4bに沿ってU字状に湾曲して進むため、第1の液体LQ1は、円筒面CU4bに沿って湾曲した基板Pと、円筒面CU1bと平面FS1、FS2とで囲まれる空間(隙間)内に保持(充填)される。 Accordingly, the substrate P is in FIG. 13 is conveyed in the -Z direction as indicated by the arrow Pi, to advance curved in U-shape along an arcuate cylindrical surface CU4b of the seal portion SEPD, first liquid LQ1 includes a substrate P which is curved along the cylindrical surface CU4b, is held in a space (gap) surrounded by the cylindrical surface CU1b and plane FS1, FS2 (filling).

なお、第1の液体LQ1を保持する円筒面CU1bと平面FS1、FS2とに対して、シール部SEPdの外側に位置するフランジ部FRG(中心AXに向けて突出したリム状部分)は、液体LQ1がシール部SEPdの面CU4bに形成される静圧気体層を破って外部に遺漏した場合に、その遺漏した液体LQ1を一時的にトラップして液体保持部LQPcの外にたれ流さないようにするための土手である。 Incidentally, the cylindrical surface CU1b and relative to the plane FS1, FS2, (rim-shaped section that protrudes toward the center AX) flange FRG located outside the sealing portion SEPd for holding the first liquid LQ1, the liquid LQ1 There when leaking outside beating hydrostatic gas layer formed on the surface CU4b seal portion SEPD, the omissions to the liquid LQ1 was temporarily trap to prevent flow drip out of the liquid holding portion LQPc it is a bank for. そのため、フランジ部FRGの−Z方向の底部付近には、遺漏した液体LQ1を回収するための回収ポート(開口)も設けられている。 Therefore, in the vicinity of the bottom of the -Z direction of the flange portion FRG, recovery port (opening) for recovering the liquid LQ1, which has been leaking are also provided.

以上のように、液体保持部LQPcの内側の液体LQ1と接する面は、必ずしも、回転ドラムDRの外周面に倣って連続した円筒面である必要はなく、周方向に部分的に平面であってもよい。 As described above, the surface in contact with the liquid LQ1 of the liquid inside holding portion LQPc need not necessarily be a cylindrical surface that is continuous to follow the outer peripheral surface of the rotary drum DR, a partially planar circumferentially it may be. すなわち、本実施の形態における液体保持部LQPcでは、回転ドラムDRの外周面から径方向に所定の隙間を持って周方向に円筒面状に形成した内面だけでなく、平面状に形成された内面(FS1、FS2)を周方向に連続させて多角面状(2つ以上の平面が角度を持ってつながった状態)に湾曲させた内面としてもよい。 That is, in the liquid holding portion LQPc in this embodiment, not only the inner surface formed in a cylindrical shape with a predetermined gap from the outer circumferential surface of the rotary drum DR in the radial direction in the circumferential direction, are formed in a planar inner surface (FS1, FS2) may be an inner face of a curved in the circumferential direction is continuously polygonal surface shape (state in which two or more planes led at an angle). また、液体保持部LQPcの内面(液体LQ1と接する面)の全体のうち、周方向の一定範囲だけ平面とし、他の部分は円筒状の面CU1bにした場合であっても、周方向に曲率半径が異なる面(一方の曲率半径が有限で他方の曲率半径が無限大)がつながることから、多角面状と呼ぶことにする。 Further, of the entire inner surface of the liquid holding portion LQPc (surface in contact with the liquid LQ1), as the plane by a predetermined range in the circumferential direction, the other parts even when the cylindrical surface CU1b, curvature in the circumferential direction radius from the different surfaces (the other radius of curvature one radius of curvature in the finite infinite) leads are to be referred to as a polygonal surface shape. さらに、液体保持部LQPcの内側の面は、有限の曲率半径を持つ円筒面を持たず、全てを周方向に分割された複数の平面でつなげた多面体状としてもよい。 Furthermore, the inner surface of the liquid holding portion LQPc has no cylindrical surface having a finite radius of curvature, it may be all the circumferentially divided polyhedron shape obtained by connecting a plurality of planes.

また、図13の液体保持部LQPcでは、シール部SEPdの円筒状の面CU4bを、基板PのY方向の両端部付近の表面に対向するように設置したが、面CU4bを回転ドラムDRの外周面(基板Pが存在しないY方向の端部付近)に対向させ、面CU4bと回転ドラムDRの外周面との間に、液体の遺漏防止用の静圧気体層を形成してもよい。 Furthermore, the liquid holding unit LQPc 13, a cylindrical surface CU4b seal portion SEPD, was placed so as to face the surface near the both ends in the Y direction of the substrate P, the outer periphery of the surface CU4b rotary drum DR is opposed to the surface (near the end of the Y-direction in which the substrate P is not present), between the surface CU4b the outer circumferential surface of the rotary drum DR, it may form a hydrostatic gas layer for omission prevention of liquid. さらに、図13においては、液体保持部LQPcの内側の面のうち平面FS1、FS2が形成される部分は、平面状のシール板GS1、GS2、GS3、・・・が設けられる部分としたが、必ずしもそのような場合に限られない。 Further, in FIG. 13, the portion plane FS1, FS2 of the inner surface of the liquid holding portion LQPc are formed, flat sealing plate GS1, GS2, GS3, but a portion where ... is provided, not necessarily limited to such a case. 例えば、先の図12に示した液体処理のみを行う液体保持部LQP2、または液体保持部LQP3においても、その内側の面(液体と接する面)を多角面状或いは多面体状にしてもよい。 For example, the liquid holding unit LQP2 performs only liquid processing shown in FIG. 12, or in the liquid holding portion LQP3, may be a surface of its inner surface (the surface in contact with liquid) into a polygonal surface shape or polyhedral shape. この場合は、液体処理のみを行うので、液体保持部LQPcに開口部AHb1、AHBb2、AHb3、・・・、シール板GS1、GS2、GS3、・・・を設けなくてもよい。 In this case, since the only liquid processing, opening AHb1 the liquid holding portion LQPc, AHBb2, AHb3, ···, seal plate GS1, GS2, GS3, may not be provided,. また、上記変形例において、第4の実施の形態で説明した液体保持部LQPcを用いてもよい。 In the above modification, it may be used a liquid holding portion LQPc described in the fourth embodiment.

10…デバイス製造システム 12…基板搬送機構14…光源装置 14a…光源16…光導入光学系 18…露光ヘッド20…制御装置 22…射出面24…乾燥ユニットAH、AH1〜AH6、AHb、AHb1〜AHb3…開口部AN、LSH…ノズル ARB…気体供給部AX…中心軸CU1、CU1a、CU1b、CU2、CU2b、CU4b…曲面DR…回転ドラム DRC、DRC1、DRC2…溝部DRP…液体回収部 EPC…エッジポジションコントローラES1、ES2…スケール部 EX…露光装置FR、FRG…フランジ部 FS1、FS2…平面GS、GS1〜GS6…シール板 L、L1〜L6…走査ラインLB…レーザ光 LQ1…第1の液体LQ2…第2の液体 LQD…拡散部LQE…回収パレット部LQP、LQPa 10 ... device manufacturing system 12 ... substrate transfer mechanism 14 ... light source device 14a ... source 16 ... light introducing optical system 18 ... exposure head 20 ... controller 22 ... exit surface 24 ... drying unit AH, AH1~AH6, AHb, AHb1~AHb3 ... opening AN, LSH ... nozzle ARB ... gas supply unit AX ... central axis CU1, CU1a, CU1b, CU2, CU2b, CU4b ... curved DR ... rotary drum DRC, DRC1, DRC2 ... groove DRP ... liquid recovery unit EPC ... edge position controller ES1, ES2 ... scale unit EX ... exposure apparatus FR, FRG ... flange FS1, FS2 ... plane GS, GS1~GS6 ... sealing plate L, L1 to L6 ... scanning line LB ... laser light LQ1 ... first liquid LQ2 ... the second liquid LQD ... spreading unit LQE ... recovery pallet unit LQP, LQPa LQPb、LQPc、LQP1〜3…液体保持部LQS…回収スロット部P…基板 PR1、PR2…プロセス装置RS、SEP、SEPb、SEPd…シール部SP…スポット光ST…スロット部 SUP…液体供給部U、U1〜U6…描画ユニット Ua…先端部分WS1、WS1a、WS1b、WS2、WS2b…隙間 LQPb, LQPc, LQP1~3 ... liquid holding unit LQS ... recovery slot portion P ... substrate PR1, PR2 ... process equipment RS, SEP, SEPb, SEPd ... sealing portion SP ... spot light ST ... slots SUP ... liquid supply unit U, U1 to U6 ... rendering units Ua ... tip portion WS1, WS1a, WS1b, WS2, WS2b ... clearance

Claims (9)

  1. 長尺の可撓性のシート基板を長尺方向に搬送しつつ、照射光を照射することで前記シート基板の表面にパターンを露光するパターン露光装置であって、 While conveying the flexible sheet substrate is elongated in the longitudinal direction, a pattern exposure apparatus that exposes a pattern on the front surface of the sheet substrate by irradiating the irradiation light,
    前記シート基板の前記長尺方向と直交する幅方向に延びるとともに重力の方向と交差した方向に延びた中心軸と、前記中心軸から一定半径の円筒状の外周面とを有し、重力が働く方向とは反対側で前記外周面に倣って前記シート基板の一部を前記長尺方向に湾曲させて支持しつつ、前記中心軸の回りに回転して前記シート基板を前記長尺方向に搬送する回転ドラムと、 The has a central axis extending in a direction intersecting the direction of gravity extends in a width direction orthogonal to the long direction of the sheet substrate, and a cylindrical outer peripheral surface of constant radius from said central axis, acts gravity while supporting it in the direction by curving a portion of the sheet substrate following the outer circumferential surface opposite to the elongated direction, conveying the sheet substrate in the elongated direction by rotating about said central axis a rotating drum that,
    前記回転ドラムによって前記シート基板が湾曲して支持される領域であって 、前記シート基板の幅方向に関して前記照射光が照射される露光領域を含む特定範囲内で前記シート基板の表面が第1の液体で浸され、且つ前記特定範囲外への前記第1の液体の遺漏を防止するシール部によって、前記第1の液体を前記回転ドラムの重力が働く方向とは反対側で保持するとともに、前記照射光が通る部分に透明材料を設けた液体保持部と、 Wherein the sheet substrate by a rotating drum is a region that is supported by a curved, surface of the sheet substrate in a specific range including the exposure region in which the irradiation light with respect to the width direction of the sheet substrate is irradiated first immersed in the liquid, and by a sealing portion for preventing said first omissions liquid in the to a particular range, together with said first direction of gravity acts in a liquid the rotary drum held on the opposite side, the a liquid holding portion in which a transparent material in a portion irradiated light passes,
    前記液体保持部保持される前記第1の液体に浸された前記シート基板に、前記透明材料を介して前記照射光を照射して前記パターンを露光する露光ユニットと、 The sheet substrate immersed in the first liquid held in the liquid holding unit, an exposure unit that exposes the pattern by irradiating the irradiation light through the transparent material,
    を備える、 パターン露光装置。 Comprising a pattern exposure device.
  2. 請求項に記載のパターン露光装置であって、 A pattern exposure apparatus according to claim 1,
    前記シール部は、前記第1の液体を保持する前記特定範囲の領域を囲むように前記液体保持部の底部に、 前記シート基板の表面と対向して設けられるパターン露光装置。 The seal portion, the bottom portion of the liquid holding portion so as to surround a region of the specific range for holding the first liquid, the surface opposite to provided et the sheet substrate is a pattern exposure device.
  3. 請求項に記載のパターン露光装置であって、 A pattern exposure apparatus according to claim 2,
    前記シール部は、前記シート基板と前記シール部の底面との間に、 エアベアリング方式またはベルヌイチャック方式による気体層を生成するための気体を供給する気体供給部を有する、 パターン露光装置。 The seal portion is provided between the bottom surface of the sheet substrate and the sealing portion, having a gas supply unit for supplying a gas for generating a gas layer due to the air bearing system or Bernoulli chuck method, pattern exposure apparatus.
  4. 請求項1に記載のパターン露光装置であって、 A pattern exposure apparatus according to claim 1,
    前記シール部は、前記第1の液体を保持する前記特定範囲の領域を囲むように前記液体保持部の底部に設けられる磁性流体シールである、パターン露光装置。 The sealing portion is a magnetic fluid seal provided at the bottom of the liquid holding portion so as to surround a region of the specific range for holding the first liquid, the pattern exposure apparatus.
  5. 請求項1〜 のいずれか1項に記載のパターン露光装置であって、 A pattern exposure apparatus according to any one of claims 1-4,
    前記液体保持部に前記第1の液体を供給する液体供給部と、 A liquid supply portion for supplying the first liquid to the liquid holding portion,
    前記液体保持部が保持している前記第1の液体を回収する液体回収部と、 A liquid recovery unit for recovering the first liquid, wherein the liquid holding portion is holding,
    を備える、 パターン露光装置。 Comprising a pattern exposure device.
  6. 請求項1〜 のいずれか1項に記載のパターン露光装置であって、 A pattern exposure apparatus according to any one of claims 1 to 5
    前記液体保持部は、前記描画ユニットの終端光学素子から前記シート基板に向かって射出される前記照射光が空気中を通らないように前記終端光学素子の射出面が浸される第2の液体を保持し、 The liquid holding portion, a second liquid, wherein the irradiation light from the final optical element of the drawing unit is emitted toward the sheet substrate is immersed is the exit surface of the last optical element so as not to pass through the air held,
    前記透明材料は、前記描画ユニットからの前記照射光の波長域において90%以上の透過率を有し、前記第1の液体と前記第2の液体とを仕切るように配置されたガラス板である、パターン露光装置。 The transparent material, the in the wavelength range of the light irradiated from the drawing unit has a transmittance of 90% or higher, is a glass plate disposed to partition and the second liquid and the first liquid , pattern exposure apparatus.
  7. 請求項に記載のパターン露光装置であって、 A pattern exposure apparatus according to claim 6,
    前記液体保持部は、前記回転ドラムの外周面によって支持された円筒状に湾曲した前記シート基板の表面の周方向に沿って所定の隙間が形成されるように設けられた内側の円筒面と前記描画ユニットからの前記照射光が前記透明材料に入射するように形成された開口部と、を有し、前記第1の液体は前記内側の円筒面と前記シート基板との隙間で保持され、前記第2の液体は前記開口部によって保持される、パターン露光装置。 The liquid holding portion has an inner cylindrical surface provided so that a predetermined gap is formed along the circumferential direction of the surface of the sheet substrate which is curved supported cylindrical shape outer peripheral surface of the rotary drum, wherein said irradiation light is formed opening to be incident on the transparent material from the rendering unit comprises a first liquid is held in the gap between the sheet substrate and the inner cylindrical surface, the second liquid is retained by the opening, the pattern exposure apparatus.
  8. 請求項またはに記載のパターン露光装置であって、 A pattern exposure apparatus according to claim 6 or 7,
    前記液体保持部によって保持される前記第1の液体および前記第2の液体は、前記終端光学素子の屈折率と同一または一定の範囲内の屈折率を持つように設定される、パターン露光装置。 Wherein it is held by the liquid holding portion first liquid and the second liquid is set to have a refractive index in the same or a certain range and the refractive index of the last optical element, the pattern exposure apparatus.
  9. 請求項1〜 のいずれか1項に記載のパターン露光装置であって、 A pattern exposure apparatus according to any one of claims 1 to 5
    前記液体保持部によって保持される前記第1の液体を、純水、現像液、および、メッキ液のいずれか1つにしたパターン露光装置。 The first liquid held by the liquid holding unit, pure water, a developing solution, and were either 1 Tsunishi plating solution, the pattern exposure apparatus.
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