JP6384088B2 - Method for producing aromatic heterocyclic compound having phenolic hydroxy group - Google Patents
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Description
本発明は、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group.
フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法としては、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物と、ルイス酸化合物とを反応する方法が知られている。例えば特許文献1には、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物を含む溶液に、ルイス酸化合物を含む溶液を添加し、反応する方法が記載されている。 As a method for producing an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group, a method of reacting an aromatic heterocyclic compound having an ether structure with a Lewis acid compound is known. For example, Patent Document 1 describes a method in which a solution containing a Lewis acid compound is added to a solution containing an aromatic heterocyclic compound having an ether structure and reacted.
従来のフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法は、副生成物の生成量が多く、生成物の収率が十分ではなかった。 The conventional method for producing an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group has a large amount of by-products, and the yield of the products is not sufficient.
本発明は、以下の発明を含む。
[1] 工程(1)〜(3)を行うフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法。
工程(1):ルイス酸化合物とチオール化合物とを混合し、混合物(Q)を得る工程
工程(2):エーテル構造を有する芳香族複素環化合物と溶媒とを混合し、混合物(R)を得る工程
工程(3):混合液(Q)に、混合液(R)を加え、混合する工程
[2] 工程(3)における混合する温度が、−15〜120℃である[1]に記載の芳香族複素環化合物の製造方法。
[3] ルイス酸化合物が塩化アルミニウムである[1]又は[2]に記載の芳香族複素環化合物の製造方法。
[4] チオール化合物が式(C)で表される化合物である[1]〜[3]のいずれかに記載の芳香族複素環化合物の製造方法。
[式中、R0は炭素数1〜31のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよい。]
[5] エーテル基を有する芳香族複素環化合物が、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−1級炭素原子又は芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−2級炭素原子で表される構造を有する化合物である[1]〜[4]のいずれかに記載の芳香族複素環化合物の製造方法。
[6] エーテル基を有する芳香族複素環化合物が式(B)で表される化合物であり、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物が式(A)で表される化合物である[1]〜[4]のいずれかに記載の芳香族複素環化合物の製造方法。
[式中、Q1は、−CR1R2−、−S−、−NR1−、−CO−又は−O−を表す。Y1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Z1及びZ2は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。]
The present invention includes the following inventions.
[1] A method for producing an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group, which performs the steps (1) to (3).
Step (1): A Lewis acid compound and a thiol compound are mixed to obtain a mixture (Q) Step (2): An aromatic heterocyclic compound having an ether structure and a solvent are mixed to obtain a mixture (R). Process step (3): Step of adding and mixing the mixed solution (R) to the mixed solution (Q)
[2] The method for producing an aromatic heterocyclic compound according to [1], wherein the mixing temperature in the step (3) is −15 to 120 ° C.
[3] The method for producing an aromatic heterocyclic compound according to [1] or [2], wherein the Lewis acid compound is aluminum chloride.
[4] The method for producing an aromatic heterocyclic compound according to any one of [1] to [3], wherein the thiol compound is a compound represented by the formula (C).
[Wherein, R 0 represents an alkyl group having 1 to 31 carbon atoms, and the methylene group contained in the alkyl group may be substituted with an oxygen atom or a sulfur atom. ]
[5] The aromatic heterocyclic compound having an ether group is represented by the carbon atom-oxygen atom-primary carbon atom of the aromatic heterocyclic ring or the carbon atom-oxygen atom-secondary carbon atom of the aromatic heterocyclic ring. The manufacturing method of the aromatic heterocyclic compound in any one of [1]-[4] which is a compound which has a structure.
[6] The aromatic heterocyclic compound having an ether group is a compound represented by the formula (B), and the aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group is a compound represented by the formula (A) [1. ] The manufacturing method of the aromatic heterocyclic compound in any one of [4].
[Wherein, Q 1 represents —CR 1 R 2 —, —S—, —NR 1 —, —CO— or —O—. Y 1 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Z 1 and Z 2 each independently represents an alkyl group. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
本発明によれば、副生成物の生成量が少なく、高い収率でフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を製造することができる。 According to the present invention, an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group can be produced in a high yield with a small amount of by-products.
[工程(1)]
ルイス酸化合物の使用量は、芳香族複素環化合物が有するフェノール性ヒドロキシ基1モルに対して1〜10モルが好ましく、1〜8モルがより好ましく、1〜5モルがさらに好ましい。
[Process (1)]
1-10 mol is preferable with respect to 1 mol of phenolic hydroxy groups which an aromatic heterocyclic compound has, and, as for the usage-amount of a Lewis' acid compound, 1-8 mol is more preferable, and 1-5 mol is more preferable.
チオール化合物の使用量は、芳香族複素環化合物が有するフェノール性ヒドロキシ基1モルに対して1〜10モルが好ましく、1〜8モルがより好ましく、1〜5モルがさらに好ましい。また、ルイス酸化合物1モルに対して1〜10モルが好ましく、1〜6モルがより好ましく、1〜4モルがさらに好ましい。 1-10 mol is preferable with respect to 1 mol of phenolic hydroxy groups which an aromatic heterocyclic compound has, and, as for the usage-amount of a thiol compound, 1-8 mol is more preferable, and 1-5 mol is more preferable. Moreover, 1-10 mol is preferable with respect to 1 mol of Lewis' acid compounds, 1-6 mol is more preferable, and 1-4 mol is more preferable.
ルイス酸化合物と、チオール化合物とは好ましくは溶媒中で混合される。
溶媒としては、ルイス酸化合物に対して不活性なものであれば、特に制限されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、フェノール、クロロベンゼン及び、ニトロベンゼン等の芳香族溶媒、並びに、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素及び、トリクロロエタン等の含ハロゲン溶媒が挙げられる。好ましくは、トルエン、キシレン、クロロベンゼン及び、これらの混合溶媒であり、より好ましくは、クロロベンゼンである。溶媒には、これらの溶媒を単独で用いてもよいし、複数組み合わせて用いてもよい。これらの溶媒は、ルイス酸化合物の溶解性が高く、取り扱いが容易なため好ましい。
The Lewis acid compound and the thiol compound are preferably mixed in a solvent.
The solvent is not particularly limited as long as it is inactive with respect to the Lewis acid compound. For example, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, phenol, chlorobenzene, and nitrobenzene, and chloroform, dichloromethane, Examples include halogen-containing solvents such as carbon tetrachloride and trichloroethane. Preferred are toluene, xylene, chlorobenzene and a mixed solvent thereof, and more preferred is chlorobenzene. As the solvent, these solvents may be used alone or in combination. These solvents are preferable because the Lewis acid compound has high solubility and is easy to handle.
溶媒量は、ルイス酸化合物1質量部に対して、好ましくは1〜10質量部であり、より好ましくは2〜8質量部である。また、ルイス酸化合物が完溶する量であると好ましい。
The amount of the solvent is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 2 to 8 parts by mass with respect to 1 part by mass of the Lewis acid compound. Moreover, it is preferable that it is the quantity which a Lewis' acid compound dissolves completely.
混合する温度は、−20〜120℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜80℃がさらに好ましい。
混合は、ルイス酸化合物が溶解するまで行うのが好ましい。
The mixing temperature is preferably -20 to 120 ° C, more preferably 0 to 100 ° C, and further preferably 0 to 80 ° C.
The mixing is preferably performed until the Lewis acid compound is dissolved.
ルイス酸化合物としては、塩化アルミニウム、三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、三塩化ホウ素、四塩化チタン及び、四塩化スズ等が挙げられ、好ましくは塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、四塩化チタン及び、四塩化スズであり、より好ましくは塩化アルミニウムである。 Examples of the Lewis acid compound include aluminum chloride, boron tribromide, boron trifluoride diethyl ether complex, boron trichloride, titanium tetrachloride and tin tetrachloride, preferably aluminum chloride, boron trifluoride diethyl ether. Complexes, titanium tetrachloride and tin tetrachloride are preferable, and aluminum chloride is more preferable.
チオール化合物としては、ベンゼンチオール、ベンゼンジチオール及び、フェニルエタンチオール等の芳香族チオール類、エタンチオール、プロパンチオール、t−ブタンチオール、ペンタンチオール、ヘキサンチオール、ヘプタンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、ヘキサデカンチオール、エイコサンチオール、ヘントリアコンタンチオール等のアルキルチオール類、並びに、エタンジチオール、プロパンジチオール及び、エタントリチオール等の多官能アルキルチオール類等が挙げられる。好ましくはアルキルチオール類であり、より好ましくは式(C)で表される化合物(以下「化合物(C)」という場合がある)である。
[式中、R0は炭素数1〜31のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる炭素原子は、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよい。]
As thiol compounds, aromatic thiols such as benzenethiol, benzenedithiol and phenylethanethiol, ethanethiol, propanethiol, t-butanethiol, pentanethiol, hexanethiol, heptanethiol, octanethiol, nonanethiol, decanethiol And alkyl thiols such as undecane thiol, dodecane thiol, hexadecane thiol, eicosane thiol and hentria contane thiol, and polyfunctional alkyl thiols such as ethanedithiol, propanedithiol and ethanetrithiol. Preferred are alkylthiols, and more preferred is a compound represented by formula (C) (hereinafter sometimes referred to as “compound (C)”).
[Wherein, R 0 represents an alkyl group having 1 to 31 carbon atoms, and a carbon atom contained in the alkyl group may be substituted with an oxygen atom or a sulfur atom. ]
R0は好ましくは炭素数6〜31のアルキル基であり、より好ましくは炭素数8〜22のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数10〜16のアルキル基である。また、好ましくは酸素原子及び、硫黄原子を含まないアルキル基である。炭素数が10以上のアルキル基であると、臭気がなく取扱いが容易であるため好ましい。
R0としては、エチル基、プロピル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、エイコシル基、ヘントリアコンチル基等が挙げられる。
R 0 is preferably an alkyl group having 6 to 31 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 8 to 22 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 10 to 16 carbon atoms. Also preferred are an oxygen atom and an alkyl group containing no sulfur atom. An alkyl group having 10 or more carbon atoms is preferred because it has no odor and is easy to handle.
As R 0 , ethyl group, propyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, hexadecyl group, eicosyl group, entriacontyl group Etc.
[工程(2)]
工程(2)で用いられる溶媒は、ルイス酸化合物に不活性なものであれば、特に制限されないが、好ましくは、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物の溶解性が高い溶媒である。工程(1)において、溶媒を用いた場合には、該溶媒と同一であると好ましい。
具体的には、前記した溶媒と同じものが挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、複数組合わせて用いてもよい。
[Process (2)]
The solvent used in step (2) is not particularly limited as long as it is inert to the Lewis acid compound, but is preferably a solvent in which the aromatic heterocyclic compound having an ether structure is highly soluble. In the step (1), when a solvent is used, it is preferably the same as the solvent.
Specifically, the same solvent as described above can be used. These solvents may be used alone or in combination.
溶媒量は、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物1質量部に対して、好ましくは1〜20質量部であり、より好ましくは2〜10質量部である。 The amount of the solvent is preferably 1 to 20 parts by mass, more preferably 2 to 10 parts by mass with respect to 1 part by mass of the aromatic heterocyclic compound having an ether structure.
工程(1)及び工程(2)で使用する溶媒の含水率は、0.03重量%以下であると好ましい。含水率が0.03重量%以下であると、ルイス酸化合物の活性が低下しないため好ましい。溶媒の含水率が0.03重量%よりも高い場合は、脱水還流等の手段を用いて脱水することが好ましい。 The water content of the solvent used in step (1) and step (2) is preferably 0.03% by weight or less. A water content of 0.03% by weight or less is preferable because the activity of the Lewis acid compound does not decrease. When the water content of the solvent is higher than 0.03% by weight, it is preferable to dehydrate using means such as dehydration reflux.
エーテル構造を有する芳香族複素環化合物としては、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−1級炭素原子、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−2級炭素原子、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−3級炭素原子、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−4級炭素原子、又は、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−芳香族炭素原子で表される構造を有する化合物が挙げられる。好ましくは芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−1級炭素原子、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−2級炭素原子又は、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−3級炭素原子で表される構造を有する化合物であり、より好ましくは芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−1級炭素原子又は、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−2級炭素原子で表される構造を有する化合物である。 The aromatic heterocyclic compound having an ether structure includes a carbon atom-oxygen atom-primary carbon atom that the aromatic heterocyclic ring has, a carbon atom-oxygen atom-secondary carbon atom that the aromatic heterocyclic ring has, and an aromatic heterocyclic ring. Represented by carbon atom-oxygen atom-tertiary carbon atom, aromatic heterocycle has carbon atom-oxygen atom-quaternary carbon atom, or aromatic heterocycle has carbon atom-oxygen atom-aromatic carbon atom. And a compound having a structure as described above. Preferably, the aromatic heterocycle has a carbon atom-oxygen atom-primary carbon atom, the aromatic heterocycle has a carbon atom-oxygen atom-secondary carbon atom, or the aromatic heterocycle has a carbon atom-oxygen atom-3. A compound having a structure represented by a secondary carbon atom, more preferably a carbon atom-oxygen atom-primary carbon atom of an aromatic heterocycle or a carbon atom-oxygen atom-secondary carbon of an aromatic heterocycle It is a compound having a structure represented by an atom.
1級炭素を構成する基としては、メチル基が挙げられる。
2級炭素を構成する基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基及び、オクチル基等が挙げられる。
3級炭素を構成する基としては、イソプロピル基、sec−ブチル基等が挙げられる。
4級炭素を構成する基としては、tert-ブチル基等が挙げられる。
芳香族炭素を構成する基としては、フェニル基、ナフチル基及び、ピリジル基等が挙げられる。
Examples of the group constituting the primary carbon include a methyl group.
Examples of the group constituting the secondary carbon include an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and an octyl group.
Examples of the group constituting the tertiary carbon include an isopropyl group and a sec-butyl group.
Examples of the group constituting the quaternary carbon include a tert-butyl group.
Examples of the group constituting the aromatic carbon include a phenyl group, a naphthyl group, and a pyridyl group.
芳香族複素環は、好ましくは、少なくとも一つの−NH−、−N<、−N=、−P<、−O−又は、−S−で表される構造を有する化合物であり、より好ましくは、少なくとも一つの−NH−、−N<又は、−N=で表される構造を有する化合物であり、さらに好ましくは、少なくとも一つの−N=で表される構造を有する化合物である。 The aromatic heterocyclic ring is preferably a compound having a structure represented by at least one of —NH—, —N <, —N═, —P <, —O—, or —S—, and more preferably. , At least one compound having a structure represented by —N—, —N <or —N═, and more preferably a compound having a structure represented by at least one —N═.
エーテル基を有する芳香族複素環化合物は、特に好ましくは式(B)で表される化合物(以下「化合物(B)」という場合がある)である。
[式中、Q1は、−CR1R2−、−S−、−NR1−、−CO−又は−O−を表す。Y1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Z1及びZ2は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。]
The aromatic heterocyclic compound having an ether group is particularly preferably a compound represented by the formula (B) (hereinafter sometimes referred to as “compound (B)”).
[Wherein, Q 1 represents —CR 1 R 2 —, —S—, —NR 1 —, —CO— or —O—. Y 1 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Z 1 and Z 2 each independently represents an alkyl group. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
Q1は、好ましくは−O−又は、−S−である。
Z1及びZ2はそれぞれ独立に、好ましくはエーテル結合に隣接する炭素原子が1級炭素であるアルキル基、及び、エーテル結合に隣接する炭素原子が2級炭素であるアルキル基である。より好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及び、ヘキシル基であり、さらに好ましくはメチル基及び、エチル基であり、特に好ましくはメチル基である。
Q 1 is preferably —O— or —S—.
Z 1 and Z 2 are each independently preferably an alkyl group in which the carbon atom adjacent to the ether bond is a primary carbon, and an alkyl group in which the carbon atom adjacent to the ether bond is a secondary carbon. More preferred are a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group and a hexyl group, still more preferred are a methyl group and an ethyl group, and particularly preferred is a methyl group.
Y1で表される、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基及び、置換基を有していてもよい芳香族複素環基が有する置換基としては、ハロゲン原子、−R3、シアノ基、ニトロ基、−SO2R4、−SOR4、−SR4、−OR4、カルボキシ基及び−NR1R5が挙げられる。R3及びR4は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルキル基を表す。 Examples of the substituent represented by the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent and the aromatic heterocyclic group which may have a substituent represented by Y 1 include a halogen atom, —R 3. , A cyano group, a nitro group, —SO 2 R 4 , —SOR 4 , —SR 4 , —OR 4 , a carboxy group, and —NR 1 R 5 . R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Y1は好ましくは、式(Y1−1)〜式(Y1−7)表される基である。
[式(Y1−1)〜式(Y1−7)中、Z3は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、−R3、シアノ基、ニトロ基、−SO2R4、−SOR4、−SR4、−OR4、カルボキシ基又は−NR4R5を表す。
V1及びV2は、それぞれ独立に−CO−、−NR1−、−SO2−、又は16族元素を表す。
W1〜W6は、それぞれ独立に、−CH=又は−N=を表す。
R1は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルキル基を表す。
aは、0〜5の整数を表す。
bは、0〜3の整数を表す。
cは、0〜2の整数を表す。
a又はbが2以上の整数である場合、複数のZ3は、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
*は結合手を表す。]
Y 1 is preferably a group represented by formula (Y 1 -1) to formula (Y 1 -7).
Wherein (Y 1 -1) ~ formula (Y 1 -7), Z 3 are each independently a halogen atom, -R 3, cyano group, a nitro group, -SO 2 R 4, -SOR 4 , - It represents SR 4 , —OR 4 , a carboxy group or —NR 4 R 5 .
V 1 and V 2 each independently represent —CO—, —NR 1 —, —SO 2 —, or a group 16 element.
W 1 to W 6 each independently represent —CH═ or —N═.
R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R 3 , R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
a represents an integer of 0 to 5.
b represents an integer of 0 to 3.
c represents an integer of 0 to 2.
When a or b is an integer of 2 or more, the plurality of Z 3 may be the same as or different from each other.
* Represents a bond. ]
R1、R2、R3、R4及びR5で表される炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。好ましくは、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基であり、より好ましくは、それぞれ独立に、炭素数1〜2のアルキル基であり、さらに好ましくは、それぞれ独立に、メチル基である。 Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl. Group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group and the like. Preferably, they are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably each independently an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and still more preferably each independently a methyl group.
Y1は、化合物の安定性に優れ、合成が容易である点で式(Y2−1)〜式(Y2−7)で表される基のいずれかであることがより好ましい。 Y 1 is more preferably any one of the groups represented by the formula (Y 2 -1) to the formula (Y 2 -7) in that the compound is excellent in stability and easy to synthesize.
[式(Y2−1)〜式(Y2−7)中、Z3、a、b、c及び*は、上記と同じ意味を表す。
J1及びJ2は、それぞれ独立に−CO−、−NR1−、又は16族元素を表す。
L1は、それぞれ独立に、−CH=又は−N=を表す。]
Wherein (Y 2 -1) ~ formula (Y 2 -7), Z 3 , a, b, c , and * are the same as defined above.
J 1 and J 2 each independently represent —CO—, —NR 1 —, or a group 16 element.
L 1 each independently represents —CH═ or —N═. ]
L1は、好ましくは−CH=である。 L 1 is preferably —CH═.
Y1は、より好ましくは、式(Y3−1)〜式(Y3−4)で表される基である。
[式(Y3−1)〜式(Y3−4)中、Z3、a、b、c、J1、及び*は、上記と同じ意味を表す。]
Y 1 is more preferably a group represented by the formula (Y 3 -1) to the formula (Y 3 -4).
[In Formula (Y 3 -1) to Formula (Y 3 -4), Z 3 , a, b, c, J 1 , and * represent the same meaning as described above. ]
Z3における−SO2R4としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、sec−ブチルスルホニル基、tert−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基及び、ヘキシルスルホニル基等が挙げられる。 As —SO 2 R 4 in Z 3 , methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, butylsulfonyl group, isobutylsulfonyl group, sec-butylsulfonyl group, tert-butylsulfonyl group, pentylsulfonyl group And a hexyl sulfonyl group etc. are mentioned.
Z3における−SOR4としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、sec−ブチルスルフィニル基、tert−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基及び、ヘキシル基スルフィニル等が挙げられる。 -SOR 4 in Z 3 includes methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, isopropylsulfinyl group, butylsulfinyl group, isobutylsulfinyl group, sec-butylsulfinyl group, tert-butylsulfinyl group, pentylsulfinyl group, and And hexyl group sulfinyl.
Z3における−SR4としては、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、sec−ブチルスルファニル基、tert−ブチルスルファニル基、ペンチルスルファニル基及び、ヘキシルスルファニル基等が挙げられる。 As —SR 4 in Z 3 , methylsulfanyl group, ethylsulfanyl group, propylsulfanyl group, isopropylsulfanyl group, butylsulfanyl group, isobutylsulfanyl group, sec-butylsulfanyl group, tert-butylsulfanyl group, pentylsulfanyl group, and Examples include a hexylsulfanyl group.
Z3における−OR4としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基及び、ヘキシルオキシ基等が挙げられる。 Examples of —OR 4 in Z 3 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, and a hexyloxy group. .
Z3における−NR1R5としては、N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N−プロピルアミノ基、N−イソプロピルアミノ基、N−ブチルアミノ基、N−イソブチルアミノ基、N−sec−ブチルアミノ基、N−tert−ブチルアミノ基、N−ペンチルアミノ基及び、N−ヘキシルアミノ基等のN−モノアルキルアミノ基;N,N−ジメチルアミノ基、N−メチル−N−エチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N,N−ジプロピルアミノ基、N,N−ジイソプロピルアミノ基、N,N−ジブチルアミノ基、N,N−ジイソブチルアミノ基、N,N−ジペンチルアミノ基及び、N,N−ジヘキシルアミノ基等のN,N−ジアルキルアミノ基が挙げられる。 As —NR 1 R 5 in Z 3 , N-methylamino group, N-ethylamino group, N-propylamino group, N-isopropylamino group, N-butylamino group, N-isobutylamino group, N-sec N-monoalkylamino groups such as -butylamino group, N-tert-butylamino group, N-pentylamino group and N-hexylamino group; N, N-dimethylamino group, N-methyl-N-ethylamino Group, N, N-diethylamino group, N, N-dipropylamino group, N, N-diisopropylamino group, N, N-dibutylamino group, N, N-diisobutylamino group, N, N-dipentylamino group and N, N-dialkylamino group such as N, N-dihexylamino group.
Z3としては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シアノ基、ニトロ基、メチルスルホニル基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、N,N−ジメチルアミノ基又はN−メチルアミノ基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。 Z 3 includes hydrogen atom, halogen atom, methyl group, ethyl group, isopropyl group, sec-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyano group, nitro group, methylsulfonyl group, carboxy group, trifluoromethyl group, methoxy Group, methylsulfanyl group, N, N-dimethylamino group or N-methylamino group is preferred, hydrogen atom, halogen atom, methyl group, ethyl group, isopropyl group, sec-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyano group Nitro group and trifluoromethyl group are more preferable, and hydrogen atom, methyl group, ethyl group, isopropyl group, sec-butyl group, pentyl group and hexyl group are particularly preferable.
V1及びV2で表される16族元素としては、S、O及び、Seが挙げられる。V1及びV2は好ましくは、それぞれ独立に、−S−、−NR1−又は−O−である。 Examples of the group 16 element represented by V 1 and V 2 include S, O, and Se. V 1 and V 2 are preferably each independently —S—, —NR 1 — or —O—.
化合物(B)としては、具体的には、以下の化合物(B−001)〜化合物(B−076)が挙げられる。 Specific examples of the compound (B) include the following compound (B-001) to compound (B-076).
混合する温度は、−20〜120℃が好ましく、0〜100℃がより好ましく、0〜80℃がさらに好ましい。
混合は、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物が溶解するまで行うのが好ましい。
The mixing temperature is preferably -20 to 120 ° C, more preferably 0 to 100 ° C, and further preferably 0 to 80 ° C.
The mixing is preferably performed until the aromatic heterocyclic compound having an ether structure is dissolved.
[工程(3)]
混合液(R)は、滴下によって加えるのが好ましい。
混合液(R)を加える速度は、通常、混合液(R)全量の0.08〜2質量%/分であり、好ましくは0.15〜2質量%/分である。また、好ましい加える速度は、加えられたエーテル構造を有する芳香族複素環化合物の80モル%以上が、加えられた後1分以内にフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物となる速度であり、より好ましくは10秒以内にフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物となる速度である。
加える時間は、混合液(R)の量と加える速度から決定されるが、通常1〜20時間であり、好ましくは1〜8時間である。
[Process (3)]
The mixed liquid (R) is preferably added dropwise.
The speed | rate which adds a liquid mixture (R) is 0.08-2 mass% / min of a liquid mixture (R) whole quantity normally, Preferably it is 0.15-2 mass% / min. Further, a preferable addition rate is a rate at which 80 mol% or more of the added aromatic heterocyclic compound having an ether structure becomes an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group within 1 minute after the addition. More preferably, the speed is such that an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group is formed within 10 seconds.
The addition time is determined from the amount of the mixed solution (R) and the addition speed, but is usually 1 to 20 hours, preferably 1 to 8 hours.
混合する温度は、好ましくは−15〜120℃であり、より好ましくは0〜100℃であり、さらに好ましくは0〜80℃である。 The mixing temperature is preferably -15 to 120 ° C, more preferably 0 to 100 ° C, and further preferably 0 to 80 ° C.
混合液(Q)に、混合液(R)を加えた後に、混合する時間は、好ましくは1〜72時間であり、より好ましくは2〜48時間である。 The time for mixing after adding the mixed solution (R) to the mixed solution (Q) is preferably 1 to 72 hours, more preferably 2 to 48 hours.
混合液(Q)と、混合液(R)とを混合して反応させることで、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物が生成する。 By mixing and reacting the mixed liquid (Q) and the mixed liquid (R), an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group is produced.
エーテル構造を有する芳香族複素環化合物と、ルイス酸化合物とを反応させると、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物が有する、エーテル構造と、芳香族複素環構造との副反応によって副生成物を生じることがあり、かかる副反応によってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の収率が低下することがある。
例えば、化合物(B)とルイス酸との反応によって、化合物(A)と、副生成物として式(D)で表される化合物(以下「化合物(D)」という場合がある)を生成することがある。
[式中、Z1、Z2、Q1及びY1は上記と同じ意味を表す。]
When an aromatic heterocyclic compound having an ether structure is reacted with a Lewis acid compound, a by-product is formed by a side reaction between the ether structure and the aromatic heterocyclic structure of the aromatic heterocyclic compound having an ether structure. The side reaction may reduce the yield of the aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group.
For example, a compound (A) and a compound represented by the formula (D) as a by-product (hereinafter may be referred to as “compound (D)”) are produced by a reaction between the compound (B) and a Lewis acid. There is.
[Wherein, Z 1 , Z 2 , Q 1 and Y 1 represent the same meaning as described above. ]
化合物(D)は溶解性が低く精製除去することが困難である。本発明の製造方法によれば、化合物(D)等の副生成物の生成を少なくすることができ、化合物(A)等のフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を高い収率で得ることができる。 Compound (D) has low solubility and is difficult to purify and remove. According to the production method of the present invention, the production of by-products such as compound (D) can be reduced, and an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group such as compound (A) is obtained in high yield. be able to.
生成したフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の溶解性が高い場合は、反応混合液と、塩酸水溶液又は硫酸水溶液等の酸とを混合して前記反応混合液中のルイス酸化合物を失活させた後、分液洗浄を行うことでルイス酸化合物を除去することができる。ルイス酸化合物を除去した後、溶媒を留去する、貧溶媒を加えて晶析する、冷却することで晶析する、又は、一部の溶媒を蒸発することで晶析する等の方法によってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を得ることができる。 When the generated aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group is highly soluble, the reaction mixture is mixed with an acid such as aqueous hydrochloric acid or sulfuric acid to lose the Lewis acid compound in the reaction mixture. After being activated, the Lewis acid compound can be removed by separating and washing. After removing the Lewis acid compound, the solvent is distilled off, crystallization is performed by adding a poor solvent, crystallization is performed by cooling, or crystallization is performed by evaporating a part of the solvent. An aromatic heterocyclic compound having a functional hydroxy group can be obtained.
生成したフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の溶解性が低く、析出した場合は、析出した固形物を濾過することにより得られた固形物を塩酸水溶液若しくは硫酸水溶液等の酸で洗浄する、又は、該酸と水溶性有機溶媒との混合溶液で洗浄することによってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を得ることができる。また、得られた固体を、水溶性有機溶媒等の反応に用いた溶媒とは異なる溶媒に溶解させた後に、塩酸水溶液又は硫酸水溶液等の酸によって洗浄してもよい。洗浄後、溶媒を留去する、貧溶媒を加えて晶析する、冷却することで晶析する、又は、一部の溶媒を蒸発することで晶析する等の方法によってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を得ることができる。 The generated aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group has low solubility, and in the case of precipitation, the solid obtained by filtering the precipitated solid is washed with an acid such as aqueous hydrochloric acid or sulfuric acid. Alternatively, an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group can be obtained by washing with a mixed solution of the acid and a water-soluble organic solvent. Further, the obtained solid may be dissolved in a solvent different from the solvent used for the reaction, such as a water-soluble organic solvent, and then washed with an acid such as an aqueous hydrochloric acid solution or an aqueous sulfuric acid solution. After washing, it has a phenolic hydroxy group by a method such as distilling off the solvent, crystallization by adding a poor solvent, crystallization by cooling, or crystallization by evaporating some of the solvent. An aromatic heterocyclic compound can be obtained.
生成したフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物が、粘稠液体として混合液中で相分離した場合は、混合液中の溶媒層をデカンテーションにより除去することによって得られた粘稠液体を水溶性有機溶媒等の反応に用いた溶媒とは異なる溶媒に溶解させた後に、塩酸水溶液又は硫酸水溶液等の酸によって洗浄してもよい。洗浄後、溶媒を留去する、貧溶媒を加えて晶析する、冷却することで晶析する、又は、一部の溶媒を蒸発することで晶析する等の方法によってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を得ることができる。 When the generated aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group is phase-separated as a viscous liquid in a mixed liquid, the viscous liquid obtained by removing the solvent layer in the mixed liquid by decantation is used. You may wash | clean with acids, such as aqueous hydrochloric acid or sulfuric acid aqueous solution, after making it melt | dissolve in the solvent different from the solvent used for reaction, such as a water-soluble organic solvent. After washing, it has a phenolic hydroxy group by a method such as distilling off the solvent, crystallization by adding a poor solvent, crystallization by cooling, or crystallization by evaporating some of the solvent. An aromatic heterocyclic compound can be obtained.
水溶性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール及び、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、並びに、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及び、N−メチルピロリドン等の溶媒が挙げられ、好ましくはメタノール、N,N−ジメチルホルムアミド及び、N−メチルピロリドンである。 Examples of the water-soluble organic solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, and ethylene glycol, and solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone. Methanol, N, N-dimethylformamide and N-methylpyrrolidone are preferred.
さらに、洗浄、再結晶又は、カラムクロマトグラフィー等で精製してもよい。 Furthermore, you may refine | purify by washing | cleaning, recrystallization, or column chromatography.
かくして、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物が得られる。フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物としては、例えば、式(A)で表される化合物(以下「化合物(A)」という場合がある)が挙げられる。
[式中、Q1および、Y1は上記と同じ意味を表す。]
Thus, an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group is obtained. Examples of the aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group include a compound represented by the formula (A) (hereinafter sometimes referred to as “compound (A)”).
[Wherein, Q 1 and Y 1 represent the same meaning as described above. ]
フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物は、特開2010−31223号公報等に記載の液晶化合物等の原料として使用することができる。 An aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group can be used as a raw material for liquid crystal compounds described in JP 2010-31223 A and the like.
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」は、特記ない限り、質量%である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. “%” In the examples is mass% unless otherwise specified.
液体クロマトグラフ(LC)測定は以下に示す条件で行った。
使用カラム:Kinetex、2.6μm、C18、100Å、50×4.mm
カラム温度:40℃
移動相:(A液)0.1%(v/v)−TFA/水
(B液)0.1%(v/v)−TFA/アセトニトリル
グラジェンと条件 0min A液98%、B液2%
30min A液0%、B液100%
35min A液0%、B液100%
流量:1.0mL/min
注入量:5μL
検出方法:UV(254nm)
Liquid chromatograph (LC) measurement was performed under the following conditions.
Column used: Kinexex, 2.6 μm, C18, 100Å, 50 × 4. mm
Column temperature: 40 ° C
Mobile phase: (A liquid) 0.1% (v / v) -TFA / water (B liquid) 0.1% (v / v) -TFA / acetonitrile Gragen and conditions 0 min A liquid 98%, B liquid 2%
30min A solution 0%, B solution 100%
35min A solution 0%, B solution 100%
Flow rate: 1.0 mL / min
Injection volume: 5 μL
Detection method: UV (254 nm)
(実施例1)
<化合物(A−036)の合成例−1>
化合物(A−036)を以下のスキームにしたがって合成した。
塩化アルミニウム1.65gと、ドデカンチオール2.5gとをクロロベンゼン6gに溶解させた後、60℃に加熱し混合物(Q−1)を得た。一方、化合物(B−036)2gとクロロベンゼン16gとを混合し混合物(R−1)を得た。得られた混合物(Q−1)に、混合物(R−1)を4時間かけて滴下し、さらに3時間攪拌した。得られた混合物についてLC測定を行ったところ、化合物(A−036)のLC面積%は98.52%であり、化合物(D−036)のLC面積%は0%であった。得られた混合物を室温に冷却した後、析出した固形物を濾過し、得られた固形物を1mol/L硫酸とN,N−ジメチルホルムアミドとの混合溶液及び、水で洗浄し、さらに真空乾燥をすることによって、黄色粉末の固形物(1)1.73gを得た。
得られた固形物についてLC測定を行ったところ、化合物(A−036)のLC面積%は98.81%であり、化合物(D−036)のLC面積%は0%であった。
化合物(B−036)を基準とした化合物(A−036)の収率は93.17%であった。なお、収率は、得量とLC面積%とを積し、理論得量で除することで算出した。
得られた固形物(1)の1H−NMR(DMSO):δ(ppm)2.43(s、3H)、2.52(s、3H)、6.71〜6.80(m、2H)、7.00(s、1H)、7.36(s、1H)、7.76(s、1H)、9.58(s、1H)、9.90(s、1H)
Example 1
<Synthesis Example 1 of Compound (A-036)>
Compound (A-036) was synthesized according to the following scheme.
1.65 g of aluminum chloride and 2.5 g of dodecanethiol were dissolved in 6 g of chlorobenzene, and then heated to 60 ° C. to obtain a mixture (Q-1). On the other hand, 2 g of the compound (B-036) and 16 g of chlorobenzene were mixed to obtain a mixture (R-1). To the obtained mixture (Q-1), the mixture (R-1) was added dropwise over 4 hours, and the mixture was further stirred for 3 hours. When LC measurement was performed on the obtained mixture, the LC area% of the compound (A-036) was 98.52%, and the LC area% of the compound (D-036) was 0%. The obtained mixture was cooled to room temperature, and then the precipitated solid was filtered, and the obtained solid was washed with a mixed solution of 1 mol / L sulfuric acid and N, N-dimethylformamide and water, and further dried under vacuum. As a result, 1.73 g of a solid (1) as a yellow powder was obtained.
When LC measurement was performed on the obtained solid, the LC area% of the compound (A-036) was 98.81%, and the LC area% of the compound (D-036) was 0%.
The yield of the compound (A-036) based on the compound (B-036) was 93.17%. The yield was calculated by multiplying the yield and LC area% and dividing by the theoretical yield.
1 H-NMR (DMSO) of the obtained solid (1): δ (ppm) 2.43 (s, 3H), 2.52 (s, 3H), 6.71 to 6.80 (m, 2H) ), 7.00 (s, 1H), 7.36 (s, 1H), 7.76 (s, 1H), 9.58 (s, 1H), 9.90 (s, 1H)
(参考例1)
<化合物(A−036)の合成例−2>
塩化アルミニウム2.5gと、ドデカンチオール3.8gとをクロロベンゼン6gに溶解させ、混合物(Q−3)を得た。一方、化合物(B−036)3gとクロロベンゼン18gとを混合し、60℃に加熱して混合物(R−3)を得た。得られた混合液(R−3)に、混合物(Q−3)を加えて反応させた。反応後、得られた混合物についてLC測定を行ったところ、化合物(A−036)のLC面積%は78.2%であり、化合物(D−036)のLC面積%は13.1%であった。得られた混合物を、実施例1と同様の方法で精製することによって固形分(2)2.05gを得た。
得られた固形物についてLC測定を行ったところ、化合物(A−036)のLC面積%は85.3%であり、化合物(D−036)のLC面積%は12.8%であった。
化合物(B−036)を基準とした化合物(A−036)の収率は63.53%であった。なお、収率は、得量とLC面積%とを積し、理論得量で除することで算出した。
(Reference Example 1)
<Synthesis Example 2 of Compound (A-036)>
2.5 g of aluminum chloride and 3.8 g of dodecanethiol were dissolved in 6 g of chlorobenzene to obtain a mixture (Q-3). On the other hand, 3 g of compound (B-036) and 18 g of chlorobenzene were mixed and heated to 60 ° C. to obtain a mixture (R-3). To the obtained mixture (R-3), the mixture (Q-3) was added and reacted. After the reaction, the obtained mixture was subjected to LC measurement. As a result, the LC area% of the compound (A-036) was 78.2%, and the LC area% of the compound (D-036) was 13.1%. It was. The obtained mixture was purified in the same manner as in Example 1 to obtain 2.05 g of a solid content (2).
When LC measurement was performed on the obtained solid, the LC area% of the compound (A-036) was 85.3%, and the LC area% of the compound (D-036) was 12.8%.
The yield of the compound (A-036) based on the compound (B-036) was 63.53%. The yield was calculated by multiplying the yield and LC area% and dividing by the theoretical yield.
(実施例2)
<化合物(A−001)の合成例−1>
化合物(A−001)を以下のスキームにしたがって合成した。
(Example 2)
<Synthesis Example 1 of Compound (A-001) -1>
Compound (A-001) was synthesized according to the following scheme.
塩化アルミニウム30.3gと、ドデカンチオール46gとをクロロベンゼン60gに溶解させた後、60℃に加熱し混合物(Q−2)を得た。一方、化合物(B−001)30gとクロロベンゼン180gとを混合し混合物(R−2)を得た。得られた混合物(Q−2)に、混合物(R−2)を4時間かけて滴下し、さらに3時間攪拌した。得られた混合物についてLC測定を行ったところ、化合物(A−001)のLC面積%は98.07%であり、化合物(D−001)のLC面積%は0%であった。得られた混合物を室温に冷却した後、析出した固形物を濾過し、得られた固形物を1mol/L硫酸とN,N−ジメチルホルムアミドとの混合溶液及び、水で洗浄し、さらに真空乾燥することによって、黄色粉末の固形物(3)26.3g得た。
得られた固形物についてLC測定を行ったところ、化合物(A−001)のLC面積%は97.52%であり、化合物(D−001)のLC面積%は0%であった。
化合物(B−001)を基準とした化合物(A−001)の収率は95.12%であった。なお、収率は、得量とLC面積%とを積し、理論得量で除することで算出した。
得られた固形物(2)の1H−NMR(DMSO):δ(ppm)6.65〜6.74(m、2H)、7.21〜7.24(m、1H)、7.77〜7.79(dd、1H)、7.81〜7.83(dd、1H)。
30.3 g of aluminum chloride and 46 g of dodecanethiol were dissolved in 60 g of chlorobenzene, and then heated to 60 ° C. to obtain a mixture (Q-2). On the other hand, 30 g of the compound (B-001) and 180 g of chlorobenzene were mixed to obtain a mixture (R-2). To the obtained mixture (Q-2), the mixture (R-2) was added dropwise over 4 hours, and the mixture was further stirred for 3 hours. When LC measurement was performed on the obtained mixture, the LC area% of the compound (A-001) was 98.07%, and the LC area% of the compound (D-001) was 0%. The obtained mixture was cooled to room temperature, and then the precipitated solid was filtered, and the obtained solid was washed with a mixed solution of 1 mol / L sulfuric acid and N, N-dimethylformamide and water, and further dried under vacuum. As a result, 26.3 g of a yellow powdered solid (3) was obtained.
When LC measurement was performed on the obtained solid, the LC area% of the compound (A-001) was 97.52%, and the LC area% of the compound (D-001) was 0%.
The yield of the compound (A-001) based on the compound (B-001) was 95.12%. The yield was calculated by multiplying the yield and LC area% and dividing by the theoretical yield.
1 H-NMR (DMSO) of the obtained solid (2): δ (ppm) 6.65 to 6.74 (m, 2H), 7.21 to 7.24 (m, 1H), 7.77 ~ 7.79 (dd, 1H), 7.81-7.83 (dd, 1H).
(参考例2)
<化合物(A−001)の合成例−2>
塩化アルミニウム5gと、ドデカンチオール7.7gとを、クロロベンゼン10gに溶解させ、混合物(Q−4)を得た。一方、化合物(B−001)5gとクロロベンゼン30gとを混合し、60℃に加熱して混合物(R−4)を得た。得られた混合液(R−4)に、混合物(Q−4)を加えて反応させた。反応後、得られた混合物についてLC測定を行ったところ、化合物(A−001)のLC面積%は77.3%であり、化合物(D−001)のLC面積%は16.7%であった。
(Reference Example 2)
<Synthesis Example 2 of Compound (A-001)>
5 g of aluminum chloride and 7.7 g of dodecanethiol were dissolved in 10 g of chlorobenzene to obtain a mixture (Q-4). On the other hand, 5 g of compound (B-001) and 30 g of chlorobenzene were mixed and heated to 60 ° C. to obtain a mixture (R-4). To the resulting mixture (R-4), the mixture (Q-4) was added and reacted. After the reaction, LC measurement was performed on the obtained mixture. As a result, the LC area% of the compound (A-001) was 77.3%, and the LC area% of the compound (D-001) was 16.7%. It was.
本発明の製造方法は、副生成物の生成量が少なく、高い収率でフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を製造することができるため有用である。 The production method of the present invention is useful because an aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group can be produced in a high yield with a small amount of by-products.
Claims (4)
工程(1)〜(3)を行う前記フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法。
工程(1):ルイス酸化合物とチオール化合物とを混合し、混合物(Q)を得る工程
工程(2):式(B)で示されるエーテル構造を有する芳香族複素環化合物と溶媒とを混合し、混合物(R)を得る工程
工程(3):工程(1)で得た混合液(Q)に、工程(2)で得た混合液(R)を加え、混合する工程
[式中、Q 1 は、−CR 1 R 2 −、−S−、−NR 1 −、−CO−又は−O−を表す。Y 1 は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Z 1 及びZ 2 は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。R 1 及びR 2 は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。] An aromatic heterocyclic compound having a phenolic hydroxy group represented by the following formula (A) is produced by reacting an aromatic heterocyclic compound having an ether structure represented by the following formula (B) with a Lewis acid compound. A method,
The manufacturing method of the aromatic heterocyclic compound which has the said phenolic hydroxy group which performs process (1)-(3).
Step (1): Mixing a Lewis acid compound and a thiol compound to obtain a mixture (Q) Step (2): Mixing an aromatic heterocyclic compound having an ether structure represented by formula (B) and a solvent and a step to obtain a mixture (R) (3): mixture obtained in Engineering about (1) to (Q), a mixed liquid obtained in step (2) to (R) was added, mixing step
[ Wherein , Q 1 represents —CR 1 R 2 —, —S—, —NR 1 —, —CO— or —O—. Y 1 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Z 1 and Z 2 each independently represents an alkyl group. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
[式中、R0は炭素数1〜31のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよい。] The method for producing an aromatic heterocyclic compound according to claim 1 or 2, wherein the thiol compound is a compound represented by the formula (C).
[Wherein, R 0 represents an alkyl group having 1 to 31 carbon atoms, and the methylene group contained in the alkyl group may be substituted with an oxygen atom or a sulfur atom. ]
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