JP6374752B2 - 耐火物とその製造方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、従来の中子では、精密鋳造に要求される寸法精度を満足できるほどの十分な耐高温クリープ特性を達成するのは困難であった。
ここで、詳細な機構は明らかではないが、焼結体2の気孔5の内部の表面に、とりわけ微小粒子4に由来する微小寸法部分に、未焼結粒子6が存在することで、このような微小寸法部分における融液の生成や変形が抑制されるものと考えられる。これにより、高温でも高強度を有しつつ、形状並びに寸法安定性(例えば、耐高温クリープ特性、低収縮性)に優れた耐火物1が実現される。
例えば、セラミック粒子3は、焼結体2の骨格を形成する目的で、従来と同様に比較的粒径の大きなものを好ましく用いることができる。平均粒子径が小さすぎると、成形時の成形性が低下する傾向にあり、また、焼成前のグリーン成形体が緻密になって焼成時に収縮(焼き縮み)量が大きく、所望の形状を保てなくなるおそれがある。一方、平均粒子径が大きすぎると、最終製品の用途によっては欠けが生じ易い場合があり得る。そこで、例えば、多孔質構造を有する耐火物1を作製する場合は、セラミック粒子3の平均粒子径を、1μm以上90μm以下、典型的には10μm以上80μm以下、好ましくは15μm以上75μm以下、より好ましくは20μm以上70μm以下程度にするとよい。
かかる大きさのセラミック粒子3を用いることで、例えば、成形性および骨格強度を高く保ちつつ、焼成時の焼き縮みを小さく抑えることが可能となる。このような平均粒子径を有するセラミック粒子3を用いて焼成体2を構築することで、例えば、気孔率が25%以上40%以下程度の多孔質構造を有する焼結体2を好適に得ることができる。なお、このようにして得られる焼結体2の微細組織において、水銀圧入法に基づく細孔径分布は、凡そ0.1μm以上50μm以下の範囲となる。
また、本明細書における「気孔率」は、アルキメデス法または水銀圧入法に基づき測定される細孔量から算出される値である。
ここで、セラミック微小粒子4に関する「平均粒子径」は、特記しない限り、BET法(例えばBET1点法)等により得られるセラミック微小粒子4の比表面積から算出される平均粒子径を意味する。この平均粒子径は、当該セラミック微小粒子の一次粒子径が、比表面積を実現し得る球形状粒子の直径(球相当径)に一致すると仮定して算出される値である。この平均粒子径Dは、例えば、セラミック微小粒子4の比表面積をS、当該セラミック微小粒子4の密度をρとしたとき、次式;D=6/(ρS)に基づき求めることができる。
そこで焼結体2は、全て(100質量%)をシリカにより構成しても良いし、その一部をシリカ以外の材料により構成しても良い。しかしながら、シリカが100質量%であると、用途によっては十分な耐熱性が得られない場合があり得る。そのような場合は、シリカとシリカ以外の材料とを併用することができる。例えば、耐熱性が求められる用途においては、焼結体2に含まれるシリカの上限は、95質量%以下程度とすることが好ましい。この場合、焼結体2(典型的には、セラミック粒子3およびセラミック微小粒子4の合計)に対して70質量%以上(例えば75質量%以上、好ましくは80質量%以上)をシリカにより構成することができる。なお、セラミック成分としてシリカを用いることで、例えば、耐火物1を中子として用いた時に、鋳造後にアルカリ溶液にて容易かつ短時間で溶解除去できるために好ましい。シリカは、より精密に粒度調整されたものを比較的安価で簡便に入手できることからも好ましい。
なお、シリカに占めるクリストバライトの割合は、常法に基づき、例えば、X線回折(XRD)分析法における回折パターンに基づき算出することができる。具体的には、X線回折パターンにおいて、クリストバライトに基づく回折ピークは2θ=21.9°に現れることから、このピークの回折強度(例えば、ピーク高さを積分して求められるピーク面積(積分強度)であり得る)を算出し、検量線法等により定量することができる。
なお、未焼結粒子の平均粒子径については、電子顕微鏡(例えば、透過型電子顕微鏡;TEM)等の観察手段により観察される複数(例えば2以上)の観察視野あるいは観察像内で選定された粒子の100個以上の粒子の円相当径の算術平均値として求めることができる。
(1)セラミック粒子と、該セラミック粒子よりも平均粒子径が小さいセラミック微小粒子とが焼結されてなる焼結体を用意すること。
(2)セラミックからなる未焼結粒子が分散媒に分散された分散液を用意すること。
(3)上記焼結体の気孔に上記分散液を浸透させて分散液含浸焼結体とすること。
(4)上記分散液含浸焼結体から上記分散媒を除去すること。
まず、上述のセラミック粒子と、セラミック微小粒子とを焼結した焼結体を用意する。かかる焼結体は、常法に従って、例えば、セラミック粒子と、セラミック微小粒子とを適切な分散媒に分散させた成形用組成物を調製し、かかる成形用組成物を所望の形状に成形してグリーン成形体を作製した後、該グリーン成形体を焼成することで用意することができる。成形用組成物は、採用する成形方法に応じて適切なものを調製すればよい。成形方法については特に制限されず、例えば、冷間静水圧加圧成形(Cold Isostatic Pressing;CIP)法,熱間静水圧加圧成形(Hot Isostatic Pressing;HIP)法等の加圧成形法、押出成形法、射出成形法、鋳込成形法等を採用することができる。
なお、本明細書においてかかるPOE型非イオン性界面活性剤の液性を示す「非水溶性」とは、例えば、以下の手法により確認することができる。すなわち、POE型非イオン性界面活性剤と水とを、質量比で25:75の割合で秤量し、50℃に加温する。そして、かかる温度において界面活性剤が水に対して溶解するか否かを観察する。ここで、界面活性剤が水に均一に溶解した場合を「水溶性」、界面活性剤が水中で僅かでも分離していたら「非水溶性」と判断することができる。なお、POE型非イオン性界面活性剤には水系溶媒に対し乳化する性質のものが存在する。本明細書においてかかる「乳化」は、不溶、すなわち「非水溶性」の概念に包含される。かかる手法によると、水に対して、上記のとおり比較的多量のPOE型非イオン性界面活性剤を混合するため、目視によっても明確に、非水溶性か否かの判定を行うことができる。
また、射出成形用材料には、必須ではないものの、セラミック粉末やバインダ成分の他に、任意添加物を添加することができる。かかる任意添加物としては、カップリング剤,滑剤,可塑剤,離型剤,カーボン等が代表的なものとして挙げられる。かかる任意添加物は、上記の本発明の特徴を損ねない範囲において、例えば、射出成形用材料の10質量%以下の割合で添加することができる。
なお、カップリング剤は、溶融状態の射出成形用材料の流動性を向上させるために添加される。また、上述のように、セラミック微小粒子の射出成形用材料中での分散性を高めるために、セラミック微小粒子の表面処理剤として含まれていても良い。カップリング剤には、バインダとの接合性が良好な高分子化合物を好ましく用いることができる。このような高分子化合物は、バインダ成分と結合することにより、セラミックス粒子とバインダ成分との黍離性を強くするため、溶融状態の射出成形用材料の流動性を向上させることができる。射出成形用材料全体に対するカップリング剤の質量割合は、0質量%(無添加)以上10質量%以下、例えば、5質量%以上15質量%以下であるとよい。
なお、混合材料を溶融状態にするための加熱処理は、ロールミル、ミキサーなどを用い、1rpm〜100000rpmの攪拌速度で混練しながら行ってもよい。これによって、セラミック粉末が好適に分散した状態の複合材料を得ることができる。
上述のようにして、脱脂処理が行われると、熱分解によってバインダ成分がグリーン成形体から除去される。
次いで、セラミックからなる未焼結粒子が分散媒に分散された分散液を用意する。かかる分散液の形態を介して、未焼結粒子を焼結体の気孔に好適に導入することができる。なお、未焼結粒子の気孔への導入を容易に行うために、かかる分散液は、未焼結粒子が凝集することなく独立して分散媒中に均一に浮遊あるいは懸濁した、コロイド状態にある(すなわち、コロイド溶液である)ことが好ましい。なお、このコロイド溶液とは、ゾル、サスペンジョン等を包含する用語である。
かかるセラミックからなる未焼結粒子が分散されたコロイド溶液は、例えば所定の金属塩等と希塩酸とを作用させ透析する等して調製して用いても良いし、市販のものを購入して用いても良い。
次いで、上記で用意した焼結体を、上記分散液に浸漬することで、焼結体の気孔に分散液を含浸させるとともに、気孔の内部に未焼結粒子を導入する。かかる焼結体の分散液への浸漬は、焼結体に形成された機構の形態や、分散液の濃度及び粘度等にもよるため一概には言えないが、例えば、1分間〜1時間程度を目安に実施することができる。これにより、焼結体と未焼結粒子の合計に対し、未焼結粒子を5質量%以上20質量%以下程度の割合で導入することができ、分散液含浸焼結体を用意することができる。
そして、分散液含浸焼結体から分散媒を除去することで、ここに開示される耐火物を得ることができる。分散媒の除去は、いわゆる乾燥により実現することができる。乾燥の手段は特に制限されず、自然乾燥、送風乾燥、熱風乾燥、加熱炉等を利用した加熱による乾燥、真空乾燥、吸引乾燥、凍結乾燥およびこれらの組み合わせにより行うことができる。
これにより、ここに開示される耐火物を作製することができる。
次に、本発明に関する実施例を示し、本発明の特徴を更に説明する。なお、以下で説明する実施例は、本発明を限定することを意図したものではない。
[焼結後寸法精度]
No.1〜15の焼結体の成形から焼成までの寸法精度を評価し、その結果を表1に示した。なお、評価結果は、収縮率が1%未満の場合を「○」、収縮率が1%以上2%未満の場合を「△」、収縮率が2%以上の場合を「×」として示した。なお、本実施形態において「×」の評価はなかった。
[焼結後結晶化度]
No.1〜15の焼結体の結晶化度を、X線回折分析を利用して行った。具体的には、No.1〜15の焼結体のそれぞれについて、粉末X線回折法の検量線法により、SiO2の多形(石英、トリジマイト、クリストバライト、非晶質シリカ)のうちクリストバライトの割合を求めることで、結晶化度とした。その結果を、表1に示した。
また、これにより、No.1,3,5,7,9,11および12の耐火物を得た。
No.1および2から解るように、焼結体の形成時にセラミック微小粒子を配合しなかった耐火物については、焼成後の焼結体の気孔内に未焼成のセラミック微小粒子を配置させても、させなくても、高温でのクリープ量は1.1mmと変わらなかった。このことから、焼結体の形成時にセラミック微小粒子を配合しない場合は、未焼結状態のセラミック微小粒子は、高温クリープ特性に影響を及ぼさないことが確認できた。
なお、上記の耐火物の気孔率を、水銀圧入計に基づく細孔径分布測定の結果から算出した。その結果、例えば、耐火物の気孔率は、38%(No.1)、36%(No.2)、36%(No.7)、34%(No.8,13〜15)であった。ここに開示される技術による耐火物(No.8,13〜15)は、セラミック粒子や未焼結粒子の配合量から他の耐火物(No.1,2,7)に比較して気孔率が若干の大きいものの、精度よく気孔が形成されていることがわかった。また、このように気孔率の大きい耐火物であっても、セラミック微小粒子と未焼結粒子との存在により、焼き縮みを防いで寸法精度よく成形できることが確認できた。
また、No.8の耐火物を、幅20mm、長さ25mm、厚み3mmの寸法に切り出し、25質量%のNaOH水溶液に浸漬し、100℃のオートクレーブにて15分間保持した。その結果、かかる耐火物はアルカリ溶液に50%以上溶解したことが確認された。
以上、本発明を詳細に説明したが、上記実施形態は例示にすぎず、ここで開示される発明には上述の具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
2 焼結体
3 セラミック粒子
4 セラミック微小粒子
5 気孔
6 未焼結粒子
Claims (7)
- セラミック粒子と、該セラミック粒子よりも平均粒子径が相対的に小さいセラミック微小粒子とが焼結されてなる焼結体と、
前記焼結体の気孔に未焼結の状態で配置されたセラミックからなる未焼結粒子と、を含み、
前記セラミック粒子は、平均粒子径が15μm以上75μm以下であって、
前記セラミック微小粒子は、平均粒子径が500nm以下であり、前記セラミック粒子と前記セラミック微小粒子との合計に占める、前記セラミック微小粒子の割合は、0.01質量%以上15質量%以下である、
前記焼結体は、70質量%以上95質量%以下の割合でシリカを含み、
前記未焼結粒子が前記焼結体に焼結されていない状態で中子として使用される、耐火物。 - 前記未焼結粒子は、平均粒子径が20nm以下である、請求項1に記載の耐火物。
- 前記焼結体は、前記シリカの70質量%以上が非晶質である、請求項1または2に記載の耐火物。
- 前記焼結体における前記シリカは、5質量%以上30質量%以下がクリストバライトである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の耐火物。
- 前記焼結体と前記未焼結粒子との合計に占める、前記未焼結粒子の割合は、5質量%以上20質量%以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の耐火物。
- 前記焼結体の気孔率は、25%以上40%以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の耐火物。
- 平均粒子径が500nm以下のセラミック微小粒子と、
平均粒子径が15μm以上75μm以下のセラミック粒子とが焼結されてなる焼結体であって、前記セラミック微小粒子と前記セラミック粒子との合計に占める前記セラミック微小粒子の割合が0.01質量%以上15質量%以下であって、70質量%以上95質量%以下の割合でシリカを含む焼結体を用意すること、
セラミックからなる未焼結粒子が分散媒に分散された分散液を用意すること、
前記焼結体の気孔に前記分散液を浸透させて分散液含浸焼結体とすること、
前記分散液含浸焼結体から前記分散媒を除去すること、
を含む、前記未焼結粒子が前記焼結体に焼結されていない状態で中子として使用される耐火物の製造方法。
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