JP6363885B2 - Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer - Google Patents

Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer Download PDF

Info

Publication number
JP6363885B2
JP6363885B2 JP2014128423A JP2014128423A JP6363885B2 JP 6363885 B2 JP6363885 B2 JP 6363885B2 JP 2014128423 A JP2014128423 A JP 2014128423A JP 2014128423 A JP2014128423 A JP 2014128423A JP 6363885 B2 JP6363885 B2 JP 6363885B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermoplastic resin
resin composition
molded product
weight
resin molded
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014128423A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015025127A (en
Inventor
隆大 高野
隆大 高野
隆介 山田
隆介 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Engineering Plastics Corp
Original Assignee
Mitsubishi Engineering Plastics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Engineering Plastics Corp filed Critical Mitsubishi Engineering Plastics Corp
Priority to JP2014128423A priority Critical patent/JP6363885B2/en
Publication of JP2015025127A publication Critical patent/JP2015025127A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6363885B2 publication Critical patent/JP6363885B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本発明は、熱可塑性樹脂組成物、特に、レーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物に関する。さらに、該熱可塑性樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品および、該樹脂成形品の表面に、メッキ層を形成したメッキ層付き樹脂成形品の製造方法に関する。   The present invention relates to a thermoplastic resin composition, and more particularly to a thermoplastic resin composition for laser direct structuring. Furthermore, the present invention relates to a resin molded product formed by molding the thermoplastic resin composition and a method for producing a resin molded product with a plated layer in which a plated layer is formed on the surface of the resin molded product.

近年、発光ダイオード(LED)、有機ELなどの新しい光源が、低電力、高寿命などのメリットを活かして、照明、表示素子などとして需要を拡大しつつある。特にLEDは、携帯電話などの移動通信機器、ディスプレイ、自動車コンソールパネル、信号機器、その他の家電用品など種々の用途に使用されている。このような電気電子機器製品においては、意匠性、携帯性等の要求のために、ますます軽薄短小化が進んでいる。
このような軽薄短小化を実現するための鍵となる技術として、表面実装技術(SMT)が普及し、多くの電気電子機器製品に使用されている。これにより電子基板の実装密度が飛躍的に向上し、従来では実現できなかったような軽薄短小化が達成されている。
In recent years, new light sources such as light-emitting diodes (LEDs) and organic ELs have been increasing in demand as lighting, display elements and the like by taking advantage of low power and long life. In particular, LEDs are used in various applications such as mobile communication devices such as mobile phones, displays, automobile console panels, signal devices, and other household appliances. Such electrical and electronic equipment products are increasingly becoming lighter, thinner, and smaller due to demands for design and portability.
Surface mounting technology (SMT) has become widespread as a key technology for realizing such miniaturization, and is used in many electrical and electronic equipment products. As a result, the mounting density of the electronic substrate has been dramatically improved, and a light, thin, and small size that has not been realized in the past has been achieved.

SMTが適用される場合には、電子基板上に実装された部品全体をハンダ付けするために、ハンダ付けの温度(230〜240℃)に耐えられる材料でなければ使用できない。このような用途に使用できる材料として、耐熱性樹脂組成物が知られている(例えば、特許文献1)。   When SMT is applied, in order to solder the entire component mounted on the electronic substrate, the material can only be used if it can withstand the soldering temperature (230 to 240 ° C.). A heat-resistant resin composition is known as a material that can be used for such applications (for example, Patent Document 1).

ここで、LED等に、直接に、3次元設計ができるメッキを形成する技術の1つとして、レーザーダイレクトストラクチャリング(以下、「LDS」ということがある)技術が注目されている。LDS技術は、例えば、LDS添加剤を含む樹脂成形品の表面にレーザーを照射し、レーザーを照射した部分のみを活性化させ、該活性化させた部分に金属を適用することによってメッキ層を形成する技術である。この技術の特徴は、接着剤などを使わずに、樹脂基材表面に金属構造体を製造できる点にある。かかるLDS技術は、例えば、特許文献2〜4等に開示されている。   Here, a laser direct structuring (hereinafter, also referred to as “LDS”) technique has attracted attention as one of the techniques for directly forming a plating that can be three-dimensionally designed on an LED or the like. LDS technology, for example, irradiates the surface of a resin molded product containing an LDS additive with a laser, activates only the portion irradiated with the laser, and forms a plating layer by applying metal to the activated portion. Technology. A feature of this technique is that a metal structure can be manufactured on the surface of a resin base material without using an adhesive or the like. Such LDS technology is disclosed in, for example, Patent Documents 2 to 4.

特開2004−075994号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-075994 特表2000−503817号公報Special table 2000-503817 特表2004−534408号公報Special table 2004-534408 gazette 国際公開WO2009/141800号パンフレットInternational Publication WO2009 / 141800 Pamphlet

LEDは一般に、発光する半導体部、リード線、ハウジングを兼ねたリフレクタ、半導体を封止する透明な封止剤から構成されている。このうち、リフレクタ部分についてはセラミックや耐熱性樹脂組成物など種々の材料で製品化されているが、セラミックでは生産性が、耐熱性樹脂組成物では射出成形工程、封止剤の熱硬化工程や実際の使用環境下において、変色による光反射率の低下が問題とされている。さらに、近年、かかる樹脂組成物についても、難燃性が要求されている。しかしながら、LDS添加剤を含む熱可塑性樹脂組成物においては、添加剤を配合するとメッキ性が落ちてしまうことが懸念される。
本発明は上記要求を満たし、かつ、問題点を解決した樹脂組成物を提供することを目的としたものであって、耐熱性および難燃性を維持しつつ、反射率が高く、メッキ特性(Plating外観)に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供することを目的とする。
The LED is generally composed of a semiconductor part that emits light, a lead wire, a reflector that also serves as a housing, and a transparent sealing agent that seals the semiconductor. Of these, the reflector part has been commercialized with various materials such as ceramics and heat-resistant resin compositions, but with ceramics the productivity is high, with heat-resistant resin compositions the injection molding process, the sealant thermosetting process, In an actual use environment, a decrease in light reflectance due to discoloration is a problem. Further, in recent years, such resin compositions are also required to have flame retardancy. However, in a thermoplastic resin composition containing an LDS additive, there is a concern that if the additive is blended, the plating property is lowered.
The present invention aims to provide a resin composition that satisfies the above-mentioned requirements and solves the problems, and has high reflectivity while maintaining heat resistance and flame retardancy, and plating characteristics ( It is an object to provide a thermoplastic resin composition excellent in (plating appearance).

かかる状況のもと、本願発明者が検討を行った結果、下記手段<1>により、好ましくは<2>〜<23>により上記課題を解決しうることを見出した。
<1>(A)示差走査熱量測定(DSC)により昇温速度10℃/分にて測定した融点が250℃以上の結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、(B)波長450nmにおける反射率が25%以上であるレーザーダイレクトストラクチャリング添加剤2〜30重量部、(C)酸化チタン30〜150重量部、および、(D)リン系難燃剤5.5重量部以上を含む、熱可塑性樹脂組成物。
<2>さらに、ガラスフィラーを前記(A)結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、ガラスフィラー10〜90重量部を含む、<1>に記載の熱可塑性樹脂組成物。
<3>さらに、硼酸亜鉛を含む、<1>または<2>に記載の熱可塑性樹脂組成物。
<4>(D)リン系難燃剤が、(a)メラミンとリン酸との反応生成物、(b)(ジ)ホスフィン酸塩および(c)ホスファゼン化合物から選択される、<1>〜<3>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<5>(A)結晶性熱可塑性樹脂がポリアミド樹脂である、<1>〜<4>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<6>(C)レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤が、アンチモンおよび錫を含むことを特徴とする、<1>〜<5>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<7>(C)レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤が、アンチモンおよび錫を含み、アンチモンよりも錫の方が含有量が多いことを特徴とする、<1>〜<6>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<8>前記熱可塑性樹脂組成物中のハロゲン原子の割合が全体の0.1重量%以下である、<1>〜<7>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<9>さらに、タルクを熱可塑性樹脂組成物100重量部に対し0.1〜20重量部の割合で含む<1>〜<8>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<10>(D)酸化チタンの平均一次粒子径が、1μm以下である、<1>〜<9>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<11>(D)酸化チタンがルチル型である、<1>〜<10>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<12>(B)ガラスフィラーが、チョップドストランド、ミルドファイバー、フレーク、ビーズおよびバルーンから選択される少なくとも1種である、<2>〜<11>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<13>(B)ガラスフィラーがEガラスである、<2>〜<12>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<14>(A)結晶性熱可塑性樹脂が、分子内に芳香環を含み、芳香環を構成する炭素原子のポリアミド樹脂分子中に対する割合が30モル%以上であるポリアミド樹脂である、<1>〜<13>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
<15><1>〜<14>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品。
<16>発光ダイオード機器部品である、<15>に記載の樹脂成形品。
<17>前記発光ダイオード機器部品が反射板としての機能を有する、<16>に記載の樹脂成形品。
<18>さらに、表面にメッキ層を有する、<15>〜<17>のいずれかに記載の樹脂成形品。
<19>前記メッキ層が導電回路としての性能を保有する、<18>に記載の樹脂成形品。
<20><1>〜<19>のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品の表面に、レーザーを照射後、金属を適用して、メッキ層を形成することを含む、メッキ層付樹脂成形品の製造方法。
<21>前記メッキが、銅、ニッケル、銀、および金の少なくとも1種を含む、<20>に記載のメッキ層付樹脂成形品の製造方法。
<22>前記メッキを多層構造で使用する<21>に記載のメッキ層付樹脂成形品の製造方法。
<23><20>〜<22>のいずれかに記載のメッキ層付樹脂成形品の製造方法を含む、導電回路を有する発光ダイオード機器部品の製造方法。
Under such circumstances, the inventors have studied and found that the above problems can be solved by the following means <1>, preferably <2> to <23>.
<1> (A) With respect to 100 parts by weight of a crystalline thermoplastic resin having a melting point measured by differential scanning calorimetry (DSC) at a temperature rising rate of 10 ° C./min. A thermoplastic resin containing 2 to 30 parts by weight of a laser direct structuring additive having a content of 25% or more, (C) 30 to 150 parts by weight of titanium oxide, and (D) 5.5 parts by weight or more of a phosphorus-based flame retardant Composition.
<2> The thermoplastic resin composition according to <1>, further comprising 10 to 90 parts by weight of a glass filler with respect to 100 parts by weight of the crystalline thermoplastic resin (A).
<3> The thermoplastic resin composition according to <1> or <2>, further comprising zinc borate.
<4> (D) The phosphorous flame retardant is selected from (a) a reaction product of melamine and phosphoric acid, (b) (di) phosphinate and (c) phosphazene compound, 3> The thermoplastic resin composition according to any one of the above.
<5> (A) The thermoplastic resin composition according to any one of <1> to <4>, wherein the crystalline thermoplastic resin is a polyamide resin.
<6> (C) The thermoplastic resin composition according to any one of <1> to <5>, wherein the laser direct structuring additive contains antimony and tin.
<7> (C) The laser direct structuring additive contains antimony and tin, and the content of tin is higher than that of antimony, according to any one of <1> to <6> Thermoplastic resin composition.
<8> The thermoplastic resin composition according to any one of <1> to <7>, wherein the halogen atom ratio in the thermoplastic resin composition is 0.1% by weight or less.
<9> The thermoplastic resin composition according to any one of <1> to <8>, further comprising talc at a ratio of 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin composition.
<10> (D) The thermoplastic resin composition according to any one of <1> to <9>, wherein the titanium oxide has an average primary particle size of 1 μm or less.
<11> (D) The thermoplastic resin composition according to any one of <1> to <10>, wherein the titanium oxide is a rutile type.
<12> (B) The thermoplastic resin composition according to any one of <2> to <11>, wherein the glass filler is at least one selected from chopped strands, milled fibers, flakes, beads, and balloons.
<13> (B) The thermoplastic resin composition according to any one of <2> to <12>, wherein the glass filler is E glass.
<14> (A) The crystalline thermoplastic resin is a polyamide resin containing an aromatic ring in the molecule, and a ratio of carbon atoms constituting the aromatic ring to the polyamide resin molecule is 30 mol% or more. <1> ~ The thermoplastic resin composition according to any one of <13>.
<15> A resin molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition according to any one of <1> to <14>.
<16> The resin molded product according to <15>, which is a light-emitting diode device part.
<17> The resin molded product according to <16>, wherein the light-emitting diode device part has a function as a reflector.
<18> The resin molded product according to any one of <15> to <17>, further having a plating layer on the surface.
<19> The resin molded product according to <18>, wherein the plating layer retains performance as a conductive circuit.
<20> Forming a plating layer by applying a metal to a surface of a resin molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition according to any one of <1> to <19>, after irradiating a laser. The manufacturing method of the resin molded product with a plating layer containing.
<21> The method for producing a resin-molded article with a plating layer according to <20>, wherein the plating includes at least one of copper, nickel, silver, and gold.
<22> The method for producing a resin-molded article with a plating layer according to <21>, wherein the plating is used in a multilayer structure.
<23> A method for producing a light-emitting diode device component having a conductive circuit, comprising the method for producing a resin-molded article with a plated layer according to any one of <20> to <22>.

本発明により、耐熱性および難燃性を維持しつつ、反射率が高く、メッキ特性(Plating外観)に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供可能になった。   According to the present invention, it is possible to provide a thermoplastic resin composition having high reflectivity and excellent plating characteristics (plating appearance) while maintaining heat resistance and flame retardancy.

樹脂成形品の表面にメッキを設ける工程を示す概略図である。図1中、1は樹脂成形品を、2はレーザーを、3はレーザーが照射された部分を、4はメッキ液を、5はメッキ層をそれぞれ示している。It is the schematic which shows the process of providing plating on the surface of a resin molded product. In FIG. 1, 1 indicates a resin molded product, 2 indicates a laser, 3 indicates a portion irradiated with the laser, 4 indicates a plating solution, and 5 indicates a plating layer.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。本明細書における反射率は特に述べない限り、波長450nmにおける反射率をいう。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value. Unless otherwise stated, the reflectance in this specification refers to the reflectance at a wavelength of 450 nm.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、(A)示差走査熱量測定(DSC)により昇温速度10℃/分にて測定した融点が250℃以上の結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、(B)波長450nmにおける反射率が25%以上であるレーザーダイレクトストラクチャリング添加剤2〜30重量部、(C)酸化チタン30〜150重量部、および、(D)リン系難燃剤5.5重量部以上を含むことを特徴とする。このような構成とすることにより、耐熱性および難燃性を維持しつつ、反射率が高く、メッキ特性(Plating外観)に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供できる。
以下、本発明の各構成成分について説明する。
The thermoplastic resin composition of the present invention comprises (A) 100 parts by weight of a crystalline thermoplastic resin having a melting point of 250 ° C. or higher measured by differential scanning calorimetry (DSC) at a temperature rising rate of 10 ° C./min. B) 2 to 30 parts by weight of a laser direct structuring additive having a reflectance at a wavelength of 450 nm of 25% or more, (C) 30 to 150 parts by weight of titanium oxide, and (D) 5.5 parts by weight of a phosphorus-based flame retardant It is characterized by including the above. By adopting such a configuration, it is possible to provide a thermoplastic resin composition having high reflectance and excellent plating characteristics (plating appearance) while maintaining heat resistance and flame retardancy.
Hereinafter, each component of the present invention will be described.

<(A)結晶性熱可塑性樹脂>
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、示差走査熱量測定(DSC)により昇温速度10℃/分にて測定した融点が250℃以上であることを特徴とし、融点が255℃以上であることが好ましい。上限は特に定めるものではないが、通常、350℃以下である。このような樹脂を採用することにより、リフローハンダ工程時の製品寸法がより効果的に保持される。
<(A) Crystalline thermoplastic resin>
The thermoplastic resin composition of the present invention has a melting point measured by differential scanning calorimetry (DSC) at a rate of temperature increase of 10 ° C./min of 250 ° C. or more, and the melting point is 255 ° C. or more. preferable. The upper limit is not particularly defined, but is usually 350 ° C. or lower. By adopting such a resin, the product dimensions during the reflow soldering process are more effectively maintained.

結晶性熱可塑性樹脂とは、明確に結晶構造または結晶化可能な分子構造を有し、非ガラス様特性を示す熱可塑性樹脂であり、測定可能な融解熱を有し明確な融点を示すものをいう。融点および融解熱は、示差走査熱量測定装置、例えば、パーキン・エルマー(PERKIN-ELMER)社製、DSC−IIを用いて測定することができる。すなわち、この装置を用いて測定される融解熱が、1カロリー/グラム以上のものを、結晶性熱可塑性樹脂と定義する。融点は、示差走査熱量測定装置を用いて、1分間当り10℃の昇温速度で、試料を予測される融点以上の温度に加熱し、次に試料を1分間当り10℃の速度で降温し、20℃まで冷却し、そのまま約1分間放置した後、再び1分間当り10℃の速度で加熱昇温することにより測定することができる。   A crystalline thermoplastic resin is a thermoplastic resin that has a distinct crystal structure or crystallizable molecular structure and exhibits non-glass-like properties, and has a measurable heat of fusion and a distinct melting point. Say. The melting point and heat of fusion can be measured using a differential scanning calorimeter, for example, DSC-II manufactured by PERKIN-ELMER. That is, a resin having a heat of fusion of 1 calorie / gram or more measured using this apparatus is defined as a crystalline thermoplastic resin. The melting point is determined by using a differential scanning calorimeter and heating the sample to a temperature above the expected melting point at a rate of 10 ° C. per minute, and then lowering the sample at a rate of 10 ° C. per minute. The temperature can be measured by cooling to 20 ° C., leaving it for about 1 minute, and then heating again at a rate of 10 ° C. per minute.

結晶性熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリアミド樹脂、液晶ポリマーなどが挙げられ、ポリアミド樹脂が好ましい。   Specific examples of the crystalline thermoplastic resin include polyolefin resin, polyester resin, polyacetal resin, polyphenylene sulfide resin, polyamide resin, liquid crystal polymer, and the like, and polyamide resin is preferable.

ポリエステル樹脂としては、特開2010−174223号公報の段落番号0013〜0016の記載を参酌することができる。
ポリアセタール樹脂としては、特開2003−003041号公報の段落番号0011、特開2003−220667号公報の段落番号0018〜0020の記載を参酌することができる。
As the polyester resin, the description of paragraph numbers 0013 to 0016 in JP2010-174223A can be referred to.
As the polyacetal resin, description of paragraph number 0011 of JP-A-2003-003041 and paragraph numbers 0018 to 0020 of JP-A-2003-220667 can be referred to.

ポリアミド樹脂としては、特開2011−132550号公報の段落番号0011〜0013の記載を参酌することができる。好ましくは、ジアミン構成単位(ジアミンに由来する構成単位)の50モル%以上がキシリレンジアミンに由来するポリアミド樹脂である。ジアミンの50モル%以上がキシリレンジアミンに由来し、ジカルボン酸と重縮合されたキシリレンジアミン系ポリアミド樹脂である。
好ましくは、ジアミン構成単位の70モル%以上、より好ましくは80モル%以上がメタキシリレンジアミンおよび/またはパラキシリレンジアミンに由来し、ジカルボン酸構成単位(ジカルボン酸に由来する構成単位)の好ましくは50モル%以上、より好ましくは70モル%以上、特には80モル%以上が、炭素原子数が好ましくは4〜20の、α,ω−直鎖脂肪族ジカルボン酸に由来するキシリレンジアミン系ポリアミド樹脂である。4〜20のα、ω−直鎖脂肪族二塩基酸は、アジピン酸、セバシン酸、スベリン酸、ドデカン二酸、エイコジオン酸などが好適に使用できる。
本発明では特に、分子内に芳香環を含み、芳香環を構成する炭素原子のポリアミド樹脂分子中に対する割合が30モル%以上であるポリアミド樹脂が好ましい。このような樹脂を採用することにより、吸水率の減少し、結果として、吸水寸法変化がより効果的に抑えられる。
As the polyamide resin, the description in paragraph numbers 0011 to 0013 of JP2011-132550A can be referred to. Preferably, 50 mol% or more of the diamine structural unit (structural unit derived from diamine) is a polyamide resin derived from xylylenediamine. More than 50 mol% of the diamine is derived from xylylenediamine and is a xylylenediamine-based polyamide resin polycondensed with a dicarboxylic acid.
Preferably, 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more of the diamine structural unit is derived from metaxylylenediamine and / or paraxylylenediamine, and preferably a dicarboxylic acid structural unit (a structural unit derived from dicarboxylic acid). Is a xylylenediamine system derived from an α, ω-linear aliphatic dicarboxylic acid having 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, particularly 80 mol% or more, preferably having 4 to 20 carbon atoms. Polyamide resin. Adipic acid, sebacic acid, suberic acid, dodecanedioic acid, eicodioic acid and the like can be preferably used as the 4-20 α, ω-linear aliphatic dibasic acid.
In the present invention, a polyamide resin containing an aromatic ring in the molecule and having a ratio of carbon atoms constituting the aromatic ring to the polyamide resin molecule is preferably 30 mol% or more. By adopting such a resin, the water absorption rate is reduced, and as a result, the water absorption dimensional change is more effectively suppressed.

本発明で用いる結晶性熱可塑性樹脂のガラス転移点は、40〜180℃であることが好ましく、60〜130℃であることがより好ましい。
本発明で用いる結晶性熱可塑性樹脂の数平均分子量は、5000〜45000であることが好ましく、10000〜25000であることがより好ましい。
The glass transition point of the crystalline thermoplastic resin used in the present invention is preferably 40 to 180 ° C, and more preferably 60 to 130 ° C.
The number average molecular weight of the crystalline thermoplastic resin used in the present invention is preferably 5,000 to 45,000, and more preferably 10,000 to 25,000.

本発明の熱可塑性樹脂組成物中における結晶性熱可塑性樹脂の配合量は、50〜95重量%であることが好ましく、60〜90重量%であることがより好ましい。結晶性熱可塑性樹脂は、単独でも2種類の樹脂の混合物であってもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記の範囲となることが好ましい。   The compounding amount of the crystalline thermoplastic resin in the thermoplastic resin composition of the present invention is preferably 50 to 95% by weight, and more preferably 60 to 90% by weight. The crystalline thermoplastic resin may be a single type or a mixture of two types of resins. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<(B)レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤>
本発明の熱可塑性樹脂組成物に含まれるLDS添加剤は、波長450nmにおける反射率が25%以上であることを特徴とし、反射率が50〜100%であることが好ましく、反射率が60〜100%であることがさらに好ましい。LDS添加剤は、1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。
<(B) Laser direct structuring additive>
The LDS additive contained in the thermoplastic resin composition of the present invention is characterized in that the reflectance at a wavelength of 450 nm is 25% or more, the reflectance is preferably 50 to 100%, and the reflectance is 60 to More preferably, it is 100%. Only one type of LDS additive may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明におけるLDS添加剤は、三菱ガス化学社製PAMP6(後述する実施例で合成しているPAMP6)100重量部に対し、LDS添加剤と考えられる添加剤を4重量部添加し、波長1064nmのYAGレーザーを用い、出力10W、周波数80kHz、速度3m/sにて照射し、その後のメッキ工程は無電解のMacDermid社製M−Copper85のメッキ槽にて実施し、該レーザー照射面に金属を適用したときに、メッキを形成できる化合物をいう。例えば、仮に上記樹脂に添加剤を添加した場合にYAGレーザーの吸収が悪く、樹脂の表面がきれいに焼けない場合、レーザーで表面を焼くために酸化チタンを10〜40重量部添加して評価しても良い。
本発明で用いるLDS添加剤は、合成品であってもよいし、市販品を用いてもよい。また、市販品はLDS添加剤として市販されているものの他、本発明におけるLDS添加剤の要件を満たす限り、他の用途として販売されている物質であってもよい。公知のLDS添加剤は、黒色のものが多かったが、本発明では、黒色でないLDS添加剤も広く採用できるので、樹脂成形品に色をつけることが可能になる。
The LDS additive in the present invention is 4 parts by weight of an additive considered to be an LDS additive with respect to 100 parts by weight of PAMP6 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. (PAMP6 synthesized in Examples described later), and has a wavelength of 1064 nm. Using a YAG laser, irradiate at an output of 10W, a frequency of 80kHz, and a speed of 3m / s. The subsequent plating process was performed in an electroless MacDermid M-Copper85 plating tank, and metal was applied to the laser irradiation surface. Refers to a compound that can form a plating. For example, if an additive is added to the resin, the absorption of the YAG laser is poor and the surface of the resin cannot be burned cleanly. In order to burn the surface with the laser, 10 to 40 parts by weight of titanium oxide is added and evaluated. Also good.
The LDS additive used in the present invention may be a synthetic product or a commercial product. Moreover, as long as the commercially available product satisfies the requirements for the LDS additive in the present invention, it may be a material sold for other uses as well as those marketed as LDS additives. Although many known LDS additives are black, in the present invention, non-black LDS additives can also be widely used, so that it becomes possible to color resin molded products.

本発明で用いるLDS添加剤は、銅、錫およびアンチモンの少なくとも1種を含むことが好ましく、アンチモンと錫を含むことがより好ましく、アンチモンと錫を含み、アンチモンよりも錫の方が含有量が多いことがさらに好ましく、アンチモンと酸化錫を含み、アンチモンよりも錫の方が含有量が多いことが特に好ましい。また、酸化アンチモンと酸化錫を含み、アンチモンよりも錫の方が含有量が多い態様も好ましく例示される。
アンチモンと錫を含む場合、その重量比は、3.5:96.5〜25:75が好ましく、7.5:92.5〜20:80がより好ましい。
The LDS additive used in the present invention preferably contains at least one of copper, tin and antimony, more preferably contains antimony and tin, contains antimony and tin, and the content of tin is higher than that of antimony. More preferably, it contains antimony and tin oxide, and it is particularly preferable that the content of tin is higher than that of antimony. Moreover, the aspect which contains an antimony oxide and a tin oxide and tin has more content than an antimony is illustrated preferably.
When antimony and tin are included, the weight ratio is preferably 3.5: 96.5 to 25:75, and more preferably 7.5: 92.5 to 20:80.

さらに、本発明で用いるLDS添加剤は、波長450nmにおける反射率が50%以上の組成物を中心部とし、中心部の表面の一部または全部に、銅、錫およびアンチモンの少なくとも1種を含む組成物がコーティングされているものであることが好ましい。より好ましくは、反射率が50%以上の組成物を中心部とし、中心部の表面積の60%以上の領域に、銅、錫およびアンチモンの少なくとも1種を含む組成物がコーティングされているものである。このような構成とすることにより、銅、錫およびアンチモンの少なくとも1種を含む組成物が表面に出る割合が多くなり、少量の銅、錫およびアンチモンの少なくとも1種を含む組成物でも、高いLDS効果を発揮させることが可能になる。また、中心部を構成する組成物に反射率が50%以上の組成物を採用することにより、本発明の熱可塑性樹脂組成物の高い反射率を達成することができる。   Furthermore, the LDS additive used in the present invention has a composition having a reflectance of 50% or more at a wavelength of 450 nm as a central portion, and contains at least one of copper, tin, and antimony in part or all of the surface of the central portion. It is preferable that the composition is coated. More preferably, a composition having a reflectivity of 50% or more in the center is coated with a composition containing at least one of copper, tin and antimony in an area of 60% or more of the surface area of the center. is there. By adopting such a configuration, the ratio of the composition containing at least one of copper, tin and antimony to the surface increases, and even a composition containing a small amount of at least one of copper, tin and antimony has a high LDS. It becomes possible to show the effect. Moreover, the high reflectance of the thermoplastic resin composition of this invention can be achieved by employ | adopting a composition with a reflectance of 50% or more for the composition which comprises center part.

中心部を構成する組成物の反射率は、80%以上であることがより好ましい。
中心部を構成する、反射率が50%以上の組成物は、金属酸化物を含むことが好ましく、二酸化ケイ素、マイカおよび酸化チタンの少なくとも1種を含むことがより好ましく、二酸化チタンを含むことがさらに好ましい。本発明実施形態として、中心部を構成する反射率が50%以上の組成物が、その20重量%以上が金属酸化物(好ましくは実質的に金属酸化物のみ)からなる組成物である実施形態が挙げられる。かかる金属酸化物は、酸化チタンが好ましい。
The reflectance of the composition constituting the central part is more preferably 80% or more.
The composition constituting the central portion and having a reflectance of 50% or more preferably contains a metal oxide, more preferably contains at least one of silicon dioxide, mica and titanium oxide, and contains titanium dioxide. Further preferred. As an embodiment of the present invention, a composition having a reflectance of 50% or more constituting the central portion is an embodiment in which 20% by weight or more of the composition is composed of a metal oxide (preferably substantially only a metal oxide). Is mentioned. Such metal oxide is preferably titanium oxide.

コーティングされる、銅、錫およびアンチモンの少なくとも1種を含む組成物は、アンチモンと錫を含む組成物であることが好ましく、アンチモンと錫を含み、アンチモンよりも錫の方が含有量が多い組成物であることがより好ましく、アンチモンと酸化錫を含み、アンチモンよりも錫の方が含有量が多い組成物であることがさらに好ましい。また、酸化アンチモンと酸化錫を含み、アンチモンよりも錫の方が含有量が多い組成物も好ましく例示される。
アンチモンと錫を含む場合、その重量比は、3.5:96.5〜25:75が好ましく、7.5:92.5〜20:80がより好ましい。
The composition containing at least one of copper, tin and antimony to be coated is preferably a composition containing antimony and tin. The composition contains antimony and tin, and the content of tin is higher than that of antimony. More preferably, the composition contains antimony and tin oxide, and more preferably a composition containing more tin than antimony. Further, a composition containing antimony oxide and tin oxide, in which the content of tin is higher than that of antimony is also preferably exemplified.
When antimony and tin are included, the weight ratio is preferably 3.5: 96.5 to 25:75, and more preferably 7.5: 92.5 to 20:80.

LDS添加剤が、反射率が50%以上の組成物を中心部とし、中心部の表面の一部または全部に、銅、錫およびアンチモンの少なくとも1種を含む組成物がコーティングされているものである場合、中心部の組成物と、コーティング部分の組成物の重量比が、40〜90:60〜10であることが好ましく、70〜90:30〜10であることがより好ましい。   The LDS additive has a composition having a reflectance of 50% or more as a central part, and a part or all of the surface of the central part is coated with a composition containing at least one of copper, tin and antimony. In some cases, the weight ratio of the composition at the center and the composition at the coating portion is preferably 40 to 90:60 to 10, more preferably 70 to 90:30 to 10.

本発明で用いられるLDS添加剤として、アンチモンがドープされた錫、および、アンチモンがドープされた酸化錫および酸化アンチモンがドープされた酸化錫、ならびに、これらの1種が、反射率が50%以上の組成物を中心部とし、その表面にコーティングされたものを好ましく用いることができる。   As the LDS additive used in the present invention, antimony-doped tin, antimony-doped tin oxide and antimony oxide-doped tin oxide, and one of these has a reflectance of 50% or more A composition coated with the surface of the above composition at the center can be preferably used.

LDS添加剤の平均粒径は、0.01〜50μmであることが好ましく、0.05〜30μmであることがより好ましい。このような構成とすることにより、メッキを適応した際のメッキ表面状態の均一性が良好になる傾向にある。   The average particle size of the LDS additive is preferably 0.01 to 50 μm, and more preferably 0.05 to 30 μm. By adopting such a configuration, the uniformity of the plating surface state tends to be good when plating is applied.

本発明の熱可塑性樹脂組成物における、LDS添加剤の配合量は、結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、2〜30重量部であり、好ましくは3〜25重量部であり、より好ましくは5〜22重量部であり、さらに好ましくは、8〜20重量部である。LDS添加剤は、1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。2種類以上用いる場合は、合計量が上記範囲となる。
特に、後述するタルクを配合する場合、LDS添加剤の配合量を少なくしても本発明の効果をより効果的に発揮させることができる。
In the thermoplastic resin composition of the present invention, the amount of the LDS additive is 2 to 30 parts by weight, preferably 3 to 25 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the crystalline thermoplastic resin. It is 5 to 22 parts by weight, and more preferably 8 to 20 parts by weight. Only one type of LDS additive may be used, or two or more types may be used in combination. When two or more types are used, the total amount falls within the above range.
In particular, when blending talc described later, the effects of the present invention can be more effectively exhibited even if the blending amount of the LDS additive is reduced.

<(C)酸化チタン>
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、(C)酸化チタンを少なくとも1種を含む。
酸化チタンとしては、一般に市販されているもののなかで白色度と隠蔽性の点で、酸化チタンを80重量%以上含有するものを用いるのが好ましい。
本発明で使用する酸化チタンとしては、例えば、一酸化チタン(TiO)、三酸化ニチタン(Ti23)、二酸化チタン(TiO2)などが挙げられ、これらのいずれを使用してもよいが、二酸化チタンが好ましい。また、酸化チタンとしては、ルチル型の結晶構造を有するものが好ましく使用される。
<(C) Titanium oxide>
The thermoplastic resin composition of the present invention contains (C) at least one titanium oxide.
As titanium oxide, it is preferable to use titanium oxide containing 80% by weight or more of titanium oxide from the viewpoint of whiteness and hiding properties among those commercially available.
Examples of the titanium oxide used in the present invention include titanium monoxide (TiO), titanium trioxide (Ti 2 O 3 ), titanium dioxide (TiO 2 ), and any of these may be used. Titanium dioxide is preferred. Further, as the titanium oxide, those having a rutile type crystal structure are preferably used.

酸化チタンの平均一次粒子径は、1μm以下であることが好ましく、0.001〜0.5μmの範囲内であることがより好ましく、0.002〜0.1μmの範囲内であることがさらに好ましい。酸化チタンの平均粒径をこのような範囲とし、配合量を上記の範囲内とすることにより、白色度が高く、表面反射率の高い成形品を与える熱可塑性樹脂組成物を得ることができる。   The average primary particle diameter of titanium oxide is preferably 1 μm or less, more preferably in the range of 0.001 to 0.5 μm, and still more preferably in the range of 0.002 to 0.1 μm. . By setting the average particle diameter of titanium oxide in such a range and the blending amount in the above range, a thermoplastic resin composition giving a molded product having high whiteness and high surface reflectance can be obtained.

酸化チタンとして、表面処理を施したものを使用してもよい。表面処理剤としては、無機材料および/または有機材料が好ましい。具体的には、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛等の金属酸化物、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、有機酸、ポリオール、シリコーン等の有機材料などが挙げられる。
また、酸化チタンとして、市販されているものを使用することができる。さらには、塊状のものや平均粒径が大きなものを適宜粉砕し、必要に応じて篩い等によって分級して、上記した平均粒径となるようにしたものを使用してもよい。
As the titanium oxide, a surface-treated one may be used. As the surface treatment agent, inorganic materials and / or organic materials are preferable. Specific examples include metal oxides such as silica, alumina, and zinc oxide, silane coupling agents, titanium coupling agents, organic materials such as organic acids, polyols, and silicones.
Moreover, what is marketed can be used as a titanium oxide. Furthermore, it is also possible to use a material obtained by pulverizing a lump-shaped material or a material having a large average particle size, and classifying the material with a sieve or the like as necessary to obtain the above-mentioned average particle size.

本発明の熱可塑性樹脂組成物における(C)酸化チタンの配合量は、(A)結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、30〜150重量部であり、好ましくは30〜145重量部であり、さらに好ましくは35〜110重量部である。酸化チタンは1種類のみ含んでいても良く、2種類以上含んでいても良い。2種類以上含む場合は、合計量が上記範囲となる。   The blending amount of (C) titanium oxide in the thermoplastic resin composition of the present invention is 30 to 150 parts by weight, preferably 30 to 145 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of (A) crystalline thermoplastic resin. More preferably, it is 35 to 110 parts by weight. Titanium oxide may contain only 1 type and may contain 2 or more types. When two or more types are included, the total amount falls within the above range.

<(D)リン系難燃剤>
本発明で使用する(D)リン系難燃剤とは、リン原子を含有する難燃剤であり、例えば、(a)メラミンとリン酸との反応生成物、(b)(ジ)ホスフィン酸塩、(c)ホスファゼン化合物等を挙げることができる。
(D)リン系難燃剤の配合量は、(A)結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、リン系難燃剤5.5重量部以上であり、好ましくは6〜60重量部であり、より好ましくは7〜30重量部であり、さらに好ましくは、8〜20重量部であり、特に好ましくは8〜15重量部である。リン系難燃剤は1種類のみ含んでいても良く、2種類以上含んでいても良い。2種類以上含む場合は、合計量が上記範囲となる。
より具体的には、(b)(ジ)ホスフィン酸塩は、(A)結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、10〜40重量部であることが好ましく、15〜35重量部であることがより好ましい。
より具体的には、(c)ホスファゼン化合物は、(A)結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、5.5〜25重量部であることが好ましく、7〜20重量部であることがより好ましい。
<(D) Phosphorus flame retardant>
The (D) phosphorus flame retardant used in the present invention is a flame retardant containing a phosphorus atom. For example, (a) a reaction product of melamine and phosphoric acid, (b) (di) phosphinic acid salt, (C) A phosphazene compound can be mentioned.
(D) The compounding amount of the phosphorus flame retardant is 5.5 parts by weight or more, preferably 6 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (A) crystalline thermoplastic resin. Preferably it is 7-30 weight part, More preferably, it is 8-20 weight part, Especially preferably, it is 8-15 weight part. The phosphorous flame retardant may contain only one type or two or more types. When two or more types are included, the total amount falls within the above range.
More specifically, (b) (di) phosphinic acid salt is preferably 10 to 40 parts by weight, and 15 to 35 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (A) crystalline thermoplastic resin. Is more preferable.
More specifically, (c) the phosphazene compound is preferably 5.5 to 25 parts by weight and more preferably 7 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (A) the crystalline thermoplastic resin. preferable.

(a)メラミンとリン酸との反応生成物とは、メラミンまたはメラミンの縮合生成物と、リン酸、ピロリン酸、もしくはポリリン酸との実質的に等モルの反応生成物から得られるものを意味し、製法には特に制約はない。通常、リン酸メラミンを窒素雰囲気下、加熱縮合して得られるポリリン酸メラミン(化学式「(C366・HPO3n」(ここでnは縮合度を表す))を挙げることができる。 (A) The reaction product of melamine and phosphoric acid means a product obtained from a substantially equimolar reaction product of melamine or a condensation product of melamine and phosphoric acid, pyrophosphoric acid, or polyphosphoric acid. However, there are no particular restrictions on the production method. Usually, mention may be made of melamine polyphosphate (chemical formula “(C 3 H 6 N 6 .HPO 3 ) n ” (where n represents the degree of condensation)) obtained by heat condensation of melamine phosphate under a nitrogen atmosphere. it can.

ここでリン酸メラミンを構成するリン酸としては、具体的にはオルトリン酸、亜リン酸、次亜リン酸、メタリン酸、ピロリン酸、三リン酸、四リン酸等が挙げられるが、特にオルトリン酸、ピロリン酸を用いたメラミンとの付加物を縮合したポリリン酸メラミンが難燃剤としての効果が高く、好ましい。特に耐熱性の点から、かかるポリリン酸メラミンの縮合度nは5以上が好ましい。
また、ポリリン酸メラミンはポリリン酸とメラミンの等モルの付加塩であっても良く、上記ポリリン酸とメラミンの全てが付加塩を形成しているものには限られず、これらの混合物であってもよい。すなわち、メラミンとの付加塩を形成するポリリン酸としては、いわゆる縮合リン酸と呼ばれる鎖状ポリリン酸、環状ポリメタリン酸を用いてもよい。これらポリリン酸の縮合度nには特に制約はなく通常3〜50であるが、得られるポリリン酸メラミン付加塩の耐熱性の点で、ここに用いるポリリン酸の縮合度nは5以上が好ましい。かかるポリリン酸メラミン付加塩は、メラミンとポリリン酸との混合物を例えば水スラリーとなし、よく混合して両者の反応生成物を微粒子状に形成させた後、このスラリーを濾過、洗浄、乾燥し、さらに必要であれば焼成し、得られた固形物を粉砕して得られる粉末である。
また、該ポリリン酸メラミンは、リン酸とメラミン縮合生成物の付加塩であってもよく、上記リン酸とメラミン縮合生成物の全てが付加塩を形成しているものには限られず、これらの混合物であってもよい。リン酸と付加塩を形成するメラミン縮合生成物としては、メレム、メラム、メロン等が挙げられる。
Specific examples of phosphoric acid constituting melamine phosphate include orthophosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, metaphosphoric acid, pyrophosphoric acid, triphosphoric acid, and tetraphosphoric acid. Melamine polyphosphate obtained by condensing an adduct with acid and melamine using pyrophosphoric acid has a high effect as a flame retardant and is preferable. In particular, from the viewpoint of heat resistance, the condensation degree n of the melamine polyphosphate is preferably 5 or more.
In addition, melamine polyphosphate may be an equimolar addition salt of polyphosphoric acid and melamine, and is not limited to those in which all of polyphosphoric acid and melamine form an addition salt, and may be a mixture thereof. Good. That is, as polyphosphoric acid forming an addition salt with melamine, chain polyphosphoric acid or cyclic polymetaphosphoric acid called so-called condensed phosphoric acid may be used. The condensation degree n of these polyphosphoric acids is not particularly limited and is usually from 3 to 50. From the viewpoint of heat resistance of the resulting polyphosphate melamine addition salt, the condensation degree n of polyphosphoric acid used here is preferably 5 or more. The melamine polyphosphate addition salt is prepared by, for example, forming a mixture of melamine and polyphosphoric acid into a water slurry, mixing well to form both reaction products into fine particles, and then filtering, washing, and drying the slurry. Further, it is a powder obtained by firing if necessary and pulverizing the obtained solid.
The melamine polyphosphate may be an addition salt of phosphoric acid and a melamine condensation product, and is not limited to those in which all of the phosphoric acid and melamine condensation product form an addition salt. It may be a mixture. Examples of melamine condensation products that form addition salts with phosphoric acid include melem, melam, and melon.

本発明においては、成形品の機械的強度や外観の点で、ポリリン酸メラミンの重量平均粒径が好ましくは100μm以下、より好ましくは50μm以下になるように粉砕した粉末を用いるのが好ましい。特に、0.5〜20μmの粉末を用いることにより、高い難燃性を発現するばかりでなく、成形品の強度が著しく向上するのでさらに好ましい。また、ポリリン酸メラミンは必ずしも完全に純粋である必要はなく、未反応のメラミン、メラミン縮合物、あるいはリン酸、ポリリン酸が多少残存していてもよい。さらに、ポリリン酸メラミン中のリン原子の含有量は8〜18重量%であるものが、成形加工時に成形金型に汚染物質が付着する現象が少なく特に好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a powder pulverized so that the weight average particle diameter of melamine polyphosphate is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, from the viewpoint of mechanical strength and appearance of the molded product. In particular, use of a powder of 0.5 to 20 μm is more preferable because not only high flame retardancy is exhibited but also the strength of the molded product is remarkably improved. The melamine polyphosphate is not necessarily completely pure, and some unreacted melamine, melamine condensate, phosphoric acid or polyphosphoric acid may remain. Further, the content of phosphorus atoms in the melamine polyphosphate is 8 to 18% by weight, which is particularly preferable because there is little phenomenon that contaminants adhere to the molding die during molding.

本発明に用いられる(b)(ジ)ホスフィン酸塩とは、下記式(I)で表されるホスフィン酸塩および/または下記式(II)で表されるジホスフィン酸塩であり、例えば、ホスフィン酸と金属炭酸塩、金属水酸化物または金属酸化物を用いて水性媒体中で製造されたものが挙げられる。該(ジ)ホスフィン酸塩は、本質的にモノマー性化合物であるが、反応条件に依存して、環境によっては縮合度が1〜3のポリマー性ホスフィン酸塩となる場合もある。   (B) (Di) phosphinic acid salt used in the present invention is a phosphinic acid salt represented by the following formula (I) and / or a diphosphinic acid salt represented by the following formula (II). Examples thereof include those produced in an aqueous medium using an acid and a metal carbonate, a metal hydroxide, or a metal oxide. The (di) phosphinate is essentially a monomeric compound, but depending on the reaction conditions, it may be a polymeric phosphinate having a degree of condensation of 1 to 3 depending on the environment.

Figure 0006363885
Figure 0006363885
(一般式(I)および(II)において、R1およびR2は、それぞれ、線状もしくは分枝状の炭素数1〜6(「C1〜C6」と記載する。以下同様)のアルキル基および/またはC6〜C10のアリール基、R3は線状もしくは分枝状のC1〜C10のアルキレン基、C6〜C10のアリーレン基、C7〜C10のアルキルアリーレン基またはC7〜C10のアリールアルキレン基、MはCa、Mg、Alおよび/またはZn、mはMの価数を表し、2n=mxであり、nは1または3、xは1または2である。)
ここで、mまたはnが2以上の場合、それぞれの、R1〜R3は同一であっても良いし異なっていても良い。
Figure 0006363885
Figure 0006363885
(In the general formulas (I) and (II), R 1 and R 2 are each linear or branched alkyl having 1 to 6 carbon atoms (described as “C 1 to C 6 ”). Group and / or C 6 -C 10 aryl group, R 3 is linear or branched C 1 -C 10 alkylene group, C 6 -C 10 arylene group, C 7 -C 10 alkylarylene group Or C 7 to C 10 arylalkylene group, M represents Ca, Mg, Al and / or Zn, m represents the valence of M, 2n = mx, n is 1 or 3, x is 1 or 2 is there.)
Here, when m or n is 2 or more, R 1 to R 3 may be the same or different.

ホスフィン酸としては、例えば、ジメチルホスフィン酸、エチルメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、メチル−n−プロピルホスフィン酸、メタンジ(メチルホスフィン酸)、ベンゼン−1,4−ジ(メチルホスフィン酸)、メチルフェニルホスフィン酸及びジフェニルホスフィン酸等が挙げられる。また金属成分(M)としてはカルシウムイオン、マグネシウムイオン、アルミニウムイオンおよび/または亜鉛イオン等が挙げられる。   Examples of phosphinic acid include dimethylphosphinic acid, ethylmethylphosphinic acid, diethylphosphinic acid, methyl-n-propylphosphinic acid, methandi (methylphosphinic acid), benzene-1,4-di (methylphosphinic acid), methylphenyl Examples include phosphinic acid and diphenylphosphinic acid. Examples of the metal component (M) include calcium ions, magnesium ions, aluminum ions and / or zinc ions.

ホスフィン酸塩としては、ジメチルホスフィン酸カルシウム、ジメチルホスフィン酸マグネシウム、ジメチルホスフィン酸アルミニウム、ジメチルホスフィン酸亜鉛、エチルメチルホスフィン酸カルシウム、エチルメチルホスフィン酸マグネシウム、エチルメチルホスフィン酸アルミニウム、エチルメチルホスフィン酸亜鉛、ジエチルホスフィン酸カルシウム、ジエチルホスフィン酸マグネシウム、ジエチルホスフィン酸アルミニウム、ジエチルホスフィン酸亜鉛、メチル−n−プロピルホスフィン酸カルシウム、メチル−n−プロピルホスフィン酸マグネシウム、メチル−n−プロピルホスフィン酸アルミニウム、メチル−n−プロピルホスフィン酸亜鉛、メチルフェニルホスフィン酸カルシウム、メチルフェニルホスフィン酸マグネシウム、メチルフェニルホスフィン酸アルミニウム、メチルフェニルホスフィン酸亜鉛、ジフェニルホスフィン酸カルシウム、ジフェニルホスフィン酸マグネシウム、ジフェニルホスフィン酸アルミニウム、ジフェニルホスフィン酸亜鉛等が挙げられる。
ジホスフィン酸塩としては、メタンジ(メチルホスフィン酸)カルシウム、メタンジ(メチルホスフィン酸)マグネシウム、メタンジ(メチルホスフィン酸)アルミニウム、メタンジ(メチルホスフィン酸)亜鉛、ベンゼン−1,4−ジ(メチルホスフィン酸)カルシウム、ベンゼン−1,4−ジ(メチルホスフィン酸)マグネシウム、ベンゼン−1,4−ジ(メチルホスフィン酸)アルミニウム、ベンゼン−1,4−ジ(メチルホスフィン酸)亜鉛等が挙げられる。
これら、(ジ)ホスフィン酸塩の中でも、特に、難燃性、電気特性の観点から、エチルメチルホスフィン酸アルミニウム、ジエチルホスフィン酸アルミニウム、ジエチルホスフィン酸亜鉛が好ましい。
Examples of phosphinates include calcium dimethylphosphinate, magnesium dimethylphosphinate, aluminum dimethylphosphinate, zinc dimethylphosphinate, calcium ethylmethylphosphinate, magnesium ethylmethylphosphinate, aluminum ethylmethylphosphinate, zinc ethylmethylphosphinate, Calcium diethylphosphinate, magnesium diethylphosphinate, aluminum diethylphosphinate, zinc diethylphosphinate, calcium methyl-n-propylphosphinate, magnesium methyl-n-propylphosphinate, aluminum methyl-n-propylphosphinate, methyl-n -Zinc propylphosphinate, calcium methylphenylphosphinate, magnesium phenylphenylphosphinate , Aluminum methylphenyl phosphinate, methyl phenyl phosphinate, zinc, calcium diphenyl phosphinate, magnesium diphenyl phosphinate, aluminum diphenyl phosphinate, and zinc diphenyl phosphinate and the like.
Diphosphinic acid salts include methandi (methylphosphinic acid) calcium, methandi (methylphosphinic acid) magnesium, methandi (methylphosphinic acid) aluminum, methandi (methylphosphinic acid) zinc, benzene-1,4-di (methylphosphinic acid) Examples include calcium, benzene-1,4-di (methylphosphinic acid) magnesium, benzene-1,4-di (methylphosphinic acid) aluminum, and benzene-1,4-di (methylphosphinic acid) zinc.
Among these (di) phosphinic acid salts, aluminum ethylmethylphosphinate, aluminum diethylphosphinate, and zinc diethylphosphinate are particularly preferable from the viewpoints of flame retardancy and electrical properties.

本発明においては、成形品の機械的強度や外観の点で、(ジ)ホスフィン酸塩の重量平均粒径が好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下になるように粉砕した粉末を用いるのが好ましい。特に、0.5〜50μmの粉末を用いることにより、高い難燃性を発現するばかりでなく成形品の強度が著しく向上するのでより好ましい。さらに、(ジ)ホスフィン酸塩中のリン原子の割合は5〜40重量%のものが、成形加工時に成形金型に汚染物質が附着する現象が少なく特に好ましい。該(ジ)ホスフィン酸塩は難燃剤として作用するが、(a)メラミンとリン酸との反応生成物と併用することで、優れた難燃性と優れた電気特性を発現することができる。   In the present invention, in view of the mechanical strength and appearance of the molded product, it is preferable to use a powder pulverized so that the weight average particle diameter of the (di) phosphinate is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less. preferable. In particular, the use of a powder of 0.5 to 50 μm is more preferable because it not only exhibits high flame retardancy but also significantly improves the strength of the molded product. Further, the proportion of phosphorus atoms in the (di) phosphinate is preferably 5 to 40% by weight because there is little phenomenon that contaminants adhere to the molding die during molding. The (di) phosphinic acid salt acts as a flame retardant, but (a) when used in combination with a reaction product of melamine and phosphoric acid, can exhibit excellent flame retardancy and excellent electrical properties.

本発明において用いられる(c)ホスファゼン化合物は分子中に−P=N−結合を有する有機化合物、好ましくは、下記一般式(III)で表される環状フェノキシホスファゼン、下記一般式(IV)で表される鎖状フェノキシホスファゼン、ならびに、下記一般式(III)および下記一般式(IV)からなる群より選択される少なくとも一種のフェノキシホスファゼンが、下記一般式(V)で表される架橋基によって架橋されてなる架橋フェノキシホスファゼン化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物である。(c)ホスファゼン化合物は難燃化効果が高く、特に後述の硼酸金属塩と併用することにより、少ない含有量でも優れた難燃性を発揮することができため、難燃剤の配合によって起こり得る機械的強度の低下やガスの発生を抑制しやすい傾向にあり好ましい。

Figure 0006363885
(一般式(III)において、mは3〜25の整数であり、Phはフェニル基を示す。) The (c) phosphazene compound used in the present invention is an organic compound having a —P═N— bond in the molecule, preferably a cyclic phenoxyphosphazene represented by the following general formula (III), and represented by the following general formula (IV). A chain phenoxyphosphazene, and at least one phenoxyphosphazene selected from the group consisting of the following general formula (III) and the following general formula (IV) is crosslinked by a crosslinking group represented by the following general formula (V) And at least one compound selected from the group consisting of crosslinked phenoxyphosphazene compounds. (C) The phosphazene compound has a high flame retarding effect, and in particular, when used in combination with a metal borate described later, excellent flame retardancy can be exhibited even with a small content. This is preferable because it tends to suppress the reduction of the mechanical strength and the generation of gas.
Figure 0006363885
(In General Formula (III), m is an integer of 3 to 25, and Ph represents a phenyl group.)

Figure 0006363885
(一般式(IV)において、X1は−N=P(OPh)3基、または、−N=P(O)OPh基であり、Y1は−P(OPh)4基、または、−P(O)(OPh)2基であり、nは3〜10000の整数であり、Phはフェニル基を示す。)
Figure 0006363885
(In General Formula (IV), X 1 is —N═P (OPh) 3 group or —N═P (O) OPh group, Y 1 is —P (OPh) 4 group, or —P (O) (OPh) 2 group, n is an integer of 3 to 10,000, and Ph represents a phenyl group.)

Figure 0006363885
(一般式(V)において、Aは−C(CH32−、−SO2−、−S−、または−O−であり、qは0または1である。)
Figure 0006363885
(In the general formula (V), A is —C (CH 3 ) 2 —, —SO 2 —, —S—, or —O—, and q is 0 or 1.)

一般式(III)で表される環状フェノキシホスファゼン化合物としては、例えば、塩化アンモニウムと五塩化リンとを120〜130℃の温度で反応させて得られる環状および直鎖状のクロロホスファゼン混合物から、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、オクタクロロシクロテトラホスファゼン、デカクロロシクロペンタホスファゼン等の環状のクロルホスファゼンを取り出した後にフェノキシ基で置換して得られる、フェノキシシクロトリホスファゼン、オクタフェノキシシクロテトラホスファゼン、デカフェノキシシクロペンタホスファゼン等の化合物が挙げられる。また、該環状フェノキシホスファゼン化合物は、一般式(III)中のmが3〜8の整数である化合物が好ましい。   As the cyclic phenoxyphosphazene compound represented by the general formula (III), for example, a mixture of cyclic and linear chlorophosphazene obtained by reacting ammonium chloride and phosphorus pentachloride at a temperature of 120 to 130 ° C. Cyclic chlorophosphazenes such as cyclotriphosphazene, octachlorocyclotetraphosphazene, decachlorocyclopentaphosphazene, etc. are taken out and then substituted with phenoxy groups. Phenoxycyclotriphosphazenes, octaphenoxycyclotetraphosphazenes, decaffenoxycyclopentaphosphazenes And the like. The cyclic phenoxyphosphazene compound is preferably a compound in which m in the general formula (III) is an integer of 3 to 8.

一般式(IV)で表される鎖状フェノキシホスファゼン化合物としては、例えば、上記の方法で得られるヘキサクロロシクロトリホスファゼンを220〜250℃の温度で開還重合し、得られた重合度3〜10000の直鎖状ジクロロホスファゼンをフェノキシ基で置換することにより得られる化合物が挙げられる。該直鎖状フェノキシホスファゼン化合物の、一般式(IV)中のnは、好ましくは3〜1000、より好ましくは3〜100、さらに好ましくは3〜25である。   As the chain phenoxyphosphazene compound represented by the general formula (IV), for example, hexachlorocyclotriphosphazene obtained by the above method is subjected to reduction polymerization at a temperature of 220 to 250 ° C., and the degree of polymerization obtained is 3 to 10,000. And a compound obtained by substituting the linear dichlorophosphazene with a phenoxy group. N of general formula (IV) of this linear phenoxyphosphazene compound becomes like this. Preferably it is 3-1000, More preferably, it is 3-100, More preferably, it is 3-25.

架橋フェノキシホスファゼン化合物としては、例えば、4,4'−スルホニルジフェニレン(ビスフェノールS残基)の架橋構造を有する化合物、2,2−(4,4'−ジフェニレン)イソプロピリデン基の架橋構造を有する化合物、4,4'−オキシジフェニレン基の架橋構造を有する化合物、4,4'−チオジフェニレン基の架橋構造を有する化合物等の、4,4'−ジフェニレン基の架橋構造を有する化合物等が挙げられる。架橋フェノキシホスファゼン化合物中のフェニレン基の含有量は、一般式(III)で表される環状ホスファゼン化合物および/または一般式(IV)で表される鎖状フェノキシホスファゼン化合物中の全フェニル基およびフェニレン基数を基準として、通常50〜99.9%、好ましくは70〜90%である。また、該架橋フェノキシホスファゼン化合物は、その分子内にフリーの水酸基を有しない化合物であることが特に好ましい。   Examples of the crosslinked phenoxyphosphazene compound include a compound having a crosslinked structure of 4,4′-sulfonyldiphenylene (bisphenol S residue) and a crosslinked structure of 2,2- (4,4′-diphenylene) isopropylidene group. Compounds having a crosslinked structure of 4,4′-diphenylene groups, such as compounds, compounds having a crosslinked structure of 4,4′-oxydiphenylene groups, compounds having a crosslinked structure of 4,4′-thiodiphenylene groups, etc. Is mentioned. The content of the phenylene group in the crosslinked phenoxyphosphazene compound is the number of all phenyl groups and phenylene groups in the cyclic phosphazene compound represented by the general formula (III) and / or the chain phenoxyphosphazene compound represented by the general formula (IV). Is usually from 50 to 99.9%, preferably from 70 to 90%. The crosslinked phenoxyphosphazene compound is particularly preferably a compound having no free hydroxyl group in the molecule.

上記環状フェノキシホスファゼン化合物および鎖状フェノキシホスファゼン化合物は、例えば、H.R.Allcook著「Phosphorus−Nitrogen Compounds(Academic Press,(1972))」、J.E.Mark、H.R.Allcook、R.West著「Inorganic Polymers(Prentice−Hall International、Inc.(1992))」に記載されている方法によって合成することができる。   Examples of the cyclic phenoxyphosphazene compound and the chain phenoxyphosphazene compound include H.I. R. Allcook, “Phosphorus-Nitrogen Compounds (Academic Press, (1972))”, J. Am. E. Mark, H.C. R. Allcook, R.A. It can be synthesized by the method described in “Inorganic Polymers (Prentice-Hall International, Inc. (1992))” by West.

リン系難燃剤、特に、ホスファゼンはマスターバッチとして配合してもよい。その他、国際公開WO2009/141799号パンフレットに記載の難燃剤も好ましく用いることができ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の熱可塑性樹脂組成物には、本発明の目的を阻害しない範囲内で、(D)リン系難燃剤以外の難燃剤、例えば、トリアジン系、金属水和物系、シリコーン系等の難燃剤を配合することができる。これら、その他の難燃剤成分の含有量は、添加する場合、本発明の熱可塑性樹脂組成物中の0.5〜10重量%であることが好ましい。また、本発明の熱可塑性樹脂組成物には、ハロゲン系難燃剤を実質的に含まないことが好ましく、例えば、本発明の熱可塑性樹脂組成物の0.1重量%以下であることが好ましい。このような構成とすることにより、環境にやさしい組成物とすることができる。さらに、本発明の熱可塑性樹脂組成物において、リン系難燃剤の代わりにハロゲン系の難燃剤を用いるとメッキ性が劣ってしまう。特に、ハロゲン系難燃剤と三酸化アンチモンの組み合わせでは、メッキ性が劣る傾向にある。さらには、本発明の熱可塑性樹脂組成物には、ハロゲン原子を実質的に含まないことが好ましく、例えば、本発明の熱可塑性樹脂組成物の全体の0.1重量%以下であることが好ましい。
Phosphorus flame retardants, particularly phosphazenes, may be formulated as a masterbatch. In addition, the flame retardant described in the pamphlet of International Publication No. WO2009 / 141799 can also be preferably used, and the contents thereof are incorporated herein.
The thermoplastic resin composition of the present invention includes flame retardants other than (D) phosphorus-based flame retardants, such as triazine-based, metal hydrate-based, and silicone-based flame retardants, as long as the object of the present invention is not impaired. A flame retardant can be blended. The content of these other flame retardant components is preferably 0.5 to 10% by weight in the thermoplastic resin composition of the present invention when added. Moreover, it is preferable that the thermoplastic resin composition of the present invention does not substantially contain a halogen-based flame retardant. For example, it is preferably 0.1% by weight or less of the thermoplastic resin composition of the present invention. By setting it as such a structure, it can be set as an environmentally friendly composition. Furthermore, in the thermoplastic resin composition of the present invention, if a halogen-based flame retardant is used instead of the phosphorus-based flame retardant, the plating property is inferior. In particular, a combination of a halogen-based flame retardant and antimony trioxide tends to have poor plating properties. Furthermore, it is preferable that the thermoplastic resin composition of the present invention does not substantially contain a halogen atom. For example, it is preferably 0.1% by weight or less of the entire thermoplastic resin composition of the present invention. .

<難燃助剤>
本発明の熱可塑性樹脂組成物には、難燃性を高めるために難燃助剤を配合してもよい。難燃助剤としては、例えば、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、酸化マグネシウム、硫化亜鉛、酸化鉄、酸化硼素、錫酸亜鉛、硼酸金属塩等が挙げられ、これらの中でも、水酸化マグネシウム、硼酸金属塩が好ましく、特に硼酸亜鉛が好ましい。本発明の組成物に硼酸亜鉛を配合することにより、該組成物を加熱すると水を放出する。この水が冷却効果を奏し、難燃性をより向上させる。このような添加剤は、メッキ性能を低下させる場合があるが、硼酸亜鉛では高いメッキ性を維持できる点で価値が高い。
<Flame retardant aid>
In the thermoplastic resin composition of the present invention, a flame retardant aid may be blended in order to enhance flame retardancy. Examples of the flame retardant aid include magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, calcium hydroxide, magnesium oxide, zinc sulfide, iron oxide, boron oxide, zinc stannate, metal borate and the like. Among these, water Magnesium oxide and metal borate are preferable, and zinc borate is particularly preferable. By incorporating zinc borate into the composition of the present invention, water is released when the composition is heated. This water has a cooling effect and further improves the flame retardancy. Such an additive may lower the plating performance, but zinc borate is highly valuable in that it can maintain high plating properties.

本発明において、難燃助剤として使用してもよい硼酸金属塩とは、通常用いる処理条件下で安定的であり、揮発成分のないものが好ましい。硼酸金属塩としては硼酸のアルカリ金属塩(四硼酸ナトリウム、メタ硼酸カリウム等)あるいはアルカリ土類金属塩(硼酸カルシウム、オルト硼酸マグネシウム、オルト硼酸バリウム、硼酸亜鉛等)等が挙げられる。これらの中でも好ましくは、2ZnO・3B23・xH2O(x=3.3〜3.7)で示される水和硼酸亜鉛塩であり、好ましくは、2ZnO・3B23・3.5H2Oで示されるものであり、より好ましくは260℃またはそれより高い温度まで安定なものである。
本発明においては、成形品の機械的強度や成形品外観の点で、硼酸金属塩の重量平均粒径が、30μm以下のものが好ましく、20μm以下のものがより好ましい。特に、1〜20μmの粉末を用いることにより、機械的強度が安定するため好ましい。
In the present invention, the boric acid metal salt that may be used as a flame retardant aid is preferably one that is stable under normal processing conditions and has no volatile components. Examples of the boric acid metal salt include alkali metal salts of boric acid (sodium tetraborate, potassium metaborate, etc.) or alkaline earth metal salts (calcium borate, magnesium orthoborate, barium orthoborate, zinc borate, etc.). Among these, a hydrated zinc borate salt represented by 2ZnO · 3B 2 O 3 · xH 2 O (x = 3.3 to 3.7) is preferable, and 2ZnO · 3B 2 O 3 · 3. It is represented by 5H 2 O, more preferably stable up to a temperature of 260 ° C. or higher.
In the present invention, the metal borate has a weight average particle size of preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, from the viewpoint of mechanical strength of the molded product and appearance of the molded product. In particular, it is preferable to use a powder of 1 to 20 μm because the mechanical strength is stabilized.

難燃助剤の含有量は、本発明の熱可塑性樹脂組成物中の、例えば、10重量%以下であることが好ましい(ただし、全成分の合計を100重量%とする)。含有量を10重量%以下とすることにより、成形時の樹脂の分解を抑制することができる。難燃性と電気特性、機械的特性のバランスの点から、より好ましくは1〜9重量%、さらに好ましくは2〜8重量%である。   The content of the flame retardant aid is preferably, for example, 10% by weight or less in the thermoplastic resin composition of the present invention (however, the total of all components is 100% by weight). By setting the content to 10% by weight or less, decomposition of the resin during molding can be suppressed. From the viewpoint of the balance between flame retardancy, electrical properties, and mechanical properties, it is more preferably 1 to 9% by weight, still more preferably 2 to 8% by weight.

<ガラスフィラー>
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、ガラスフィラーを含むことが好ましい。ガラスフィラーは、チョップドストランド、ミルドファイバー、フレーク、ビーズおよびバルーンから選択される少なくとも1種であり、チョップドファイバー、ミルドファイバー、フレークが好ましい。
<Glass filler>
The thermoplastic resin composition of the present invention preferably contains a glass filler. The glass filler is at least one selected from chopped strands, milled fibers, flakes, beads, and balloons, and chopped fibers, milled fibers, and flakes are preferable.

チョップドストランドとは、ガラスファイバーを1〜10mmに切りそろえものであり、ミルドファイバーとは、ガラスファイバーを長さ10〜500μm程度に粉砕したものである。ガラスファイバーとしては、日本電気硝子社より、市販されており、容易に入手可能である。
ガラスフレークとは、厚さ1〜20μm、一辺の長さ0.05〜1.0mmの鱗片状のものであり、例えば、日本板硝子社より、「フレカ」の商品名で市販されており、容易に入手可能である。
また、ガラスビーズとは、外径10〜100μmの球状のものであり、例えば、東芝バロティーニ社より、商品名「EGB731」として市販されており、容易に入手可能である。
バルーンとは、中空のガラスビーズであり、東海工業社より、「PZ6000」の商品名で市販されており、容易に入手可能である。
The chopped strand is obtained by cutting glass fibers into 1 to 10 mm, and the milled fiber is obtained by pulverizing glass fibers to a length of about 10 to 500 μm. The glass fiber is commercially available from Nippon Electric Glass Co., Ltd. and can be easily obtained.
The glass flake is a scale-like one having a thickness of 1 to 20 μm and a side length of 0.05 to 1.0 mm. For example, it is commercially available from Nippon Sheet Glass Co., Ltd. under the trade name “Fureka”. Is available.
Further, the glass beads are spherical ones having an outer diameter of 10 to 100 μm, and are, for example, commercially available from Toshiba Barotini under the trade name “EGB731” and are easily available.
The balloon is a hollow glass bead, which is commercially available from Tokai Kogyo under the trade name “PZ6000” and is easily available.

原料ガラスの組成は、無アルカリのものが好ましく、例えば、Eガラス、Cガラス、Sガラス、Rガラス等が挙げられるが、本発明では、Eガラスが好ましく用いられる。   The composition of the raw glass is preferably alkali-free, and examples thereof include E glass, C glass, S glass, and R glass. In the present invention, E glass is preferably used.

ガラスフィラーは、例えば、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤等で表面処理されていてもよく、その付着量は、通常、ガラスフィラーの重量の0.01〜1重量%である。さらに必要に応じて、脂肪酸アミド化合物、シリコーンオイル等の潤滑剤、第4級アンモニウンム塩等の帯電防止剤、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等の被膜形成能を有する樹脂、被膜形成能を有する樹脂と熱安定剤、難燃剤等の混合物で表面処理されたものを用いることもできる。   The glass filler may be surface-treated with a silane coupling agent such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, and the like. The amount is usually from 0.01 to 1% by weight of the glass filler. Furthermore, if necessary, a lubricant such as a fatty acid amide compound, silicone oil, an antistatic agent such as a quaternary ammonium salt, a resin having a film forming ability such as an epoxy resin or a urethane resin, a resin having a film forming ability and a heat. What was surface-treated with a mixture of a stabilizer, a flame retardant, etc. can also be used.

本発明の熱可塑性樹脂組成物における、ガラスフィラーの配合量は、結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、好ましくは10〜100重量部であり、より好ましくは15〜90重量部であり、さらに好ましくは20〜80重量部である。
本発明の熱可塑性樹脂組成物では、通常、結晶性熱可塑性樹脂とガラスフィラーで、全成分の70重量%以上を占める。
The blending amount of the glass filler in the thermoplastic resin composition of the present invention is preferably 10 to 100 parts by weight, more preferably 15 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the crystalline thermoplastic resin. Preferably it is 20-80 weight part.
In the thermoplastic resin composition of the present invention, the crystalline thermoplastic resin and the glass filler usually occupy 70% by weight or more of all components.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更に種々の添加剤を含有していても良い。このような添加剤としては、タルク、熱安定剤、光安定剤、アルカリ、離型剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、染顔料、蛍光増白剤、滴下防止剤、帯電防止剤、防曇剤、滑剤、アンチブロッキング剤、流動性改良剤、可塑剤、分散剤、抗菌剤などが挙げられる。
また、これらの成分は、それぞれ、1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。
The thermoplastic resin composition of the present invention may further contain various additives as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such additives include talc, heat stabilizer, light stabilizer, alkali, mold release agent, antioxidant, ultraviolet absorber, flame retardant, dye / pigment, fluorescent whitening agent, anti-dripping agent, and antistatic agent. , Antifogging agents, lubricants, antiblocking agents, fluidity improvers, plasticizers, dispersants, antibacterial agents and the like.
Moreover, these components may each use only 1 type and may use 2 or more types together, respectively.

<タルク>
本発明の熱可塑性樹脂組成物はタルクを含んでいてもよい。本発明では、タルクを配合することにより、レーザーを照射した部分のメッキ性能がより向上する傾向にある。
本発明の熱可塑性樹脂組成物における、タルクの配合量は、熱可塑性樹脂組成物100重量部に対し、0.1〜50重量部であることが好ましく、0.5〜20重量部であることがより好ましく、1〜15重量部であることがさらに好ましく、1〜10重量部であることが特に好ましい。
<Talc>
The thermoplastic resin composition of the present invention may contain talc. In this invention, it exists in the tendency which the plating performance of the part irradiated with the laser improves more by mix | blending a talc.
The blending amount of talc in the thermoplastic resin composition of the present invention is preferably 0.1 to 50 parts by weight, and 0.5 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin composition. Is more preferably 1 to 15 parts by weight, and particularly preferably 1 to 10 parts by weight.

<熱安定剤>
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、有機系および/または無機系熱安定剤をさらに含有していてもよく、有機系熱安定剤を含むことがより好ましい。
本発明で用いる熱安定剤は、実質的に、銅を含まないことが好ましい。実質的にとは、検出限界以下であることをいう。このように銅の配合量を少なくすることにより、変色を抑えることが可能になる。
有機系熱安定剤としては、フェノール系化合物、ホスファイト系化合物、ヒンダードアミン系化合物、トリアジン系化合物、及びイオウ系化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
熱安定剤としては、1種類で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
<Heat stabilizer>
The thermoplastic resin composition of the present invention may further contain an organic and / or inorganic heat stabilizer, and more preferably contains an organic heat stabilizer.
It is preferable that the heat stabilizer used in the present invention does not substantially contain copper. “Substantially” means below the detection limit. Thus, it becomes possible to suppress discoloration by reducing the compounding quantity of copper.
The organic heat stabilizer is preferably at least one selected from the group consisting of phenolic compounds, phosphite compounds, hindered amine compounds, triazine compounds, and sulfur compounds.
One type of heat stabilizer may be used, or two or more types may be used in combination.

フェノール系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、ヒンダートフェノール系化合物を挙げることができる。ヒンダードフェノール系化合物としては、例えば、N,N'−へキサン−1,6−ジイルビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド)、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N'−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,9−ビス{2−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピニロキシ]−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサピロ[5,5]ウンデカン、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート−ジエチルエステル、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、及び1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌル酸などが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a phenolic compound, For example, a hindered phenolic compound can be mentioned. Examples of the hindered phenol compound include N, N′-hexane-1,6-diylbis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylpropionamide), pentaerythrityl-tetrakis. [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide) , Triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis {2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy- 5-methylphenyl) propynyloxy] -1,1-dimethylethyl} -2,4,8,10-tetraoxapyro [5,5] undecane, 3,5-di-tert-butyl-4- Roxybenzylphosphonate-diethyl ester, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, and 1,3,5-tris (4 -T-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) isocyanuric acid and the like.

ホスファイト系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、トリスイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルジ(トリデシル)ホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニル(トリデシル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)ホスファイト、トリス(ブトキシエチル)ホスファイト、4,4'−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−テトラ−トリデシル)ジホスファイト、テトラ(C12〜C15混合アルキル)−4,4'−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、4,4'−イソプロピリデンビス(2−t−ブチルフェニル)・ジ(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ビフェニル)ホスファイト、テトラ(トリデシル)−1,1,3−トリス(2−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタンジホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4'−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル)ジホスファイト、テトラ(C1〜C15混合アルキル)−4,4'−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、トリス(モノ、ジ混合ノニルフェニル)ホスファイト、4,4'−イソプロピリデンビス(2−t−ブチルフェニル)・ジ(ノニルフェニル)ホスファイト、9,10−ジ−ヒドロ−9−オキサ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ホスファイト、水素化−4,4'−イソプロピリデンジフェニルポリホスファイト、ビス(オクチルフェニル)・ビス(4,4'−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル))・1,6−ヘキサノールジホスファイト、ヘキサトリデシル−1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ジホスファイト、トリス(4、4'−イソプロピリデンビス(2−t−ブチルフェニル))ホスファイト、トリス(1,3−ステアロイルオキシイソプロピル)ホスファイト、2、2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、2,2−メチレンビス(3−メチル−4,6−ジ−t−ブチルフェニル)2−エチルヘキシルホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4'−ビフェニレンジホスファイト、及びテトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4'−ビフェニレンジホスファイトなどが挙げられる。   The phosphite compound is not particularly limited, and examples thereof include trioctyl phosphite, trilauryl phosphite, tridecyl phosphite, octyl diphenyl phosphite, trisisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, phenyl diphosphite. (Tridecyl) phosphite, diphenylisooctyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, diphenyl (tridecyl) phosphite, triphenyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) ) Phosphite, tris (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) phosphite, tris (butoxyethyl) phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylpheny) -Tetra-tridecyl) diphosphite, tetra (C12-C15 mixed alkyl) -4,4'-isopropylidene diphenyl diphosphite, 4,4'-isopropylidenebis (2-t-butylphenyl) .di (nonylphenyl) Phosphite, tris (biphenyl) phosphite, tetra (tridecyl) -1,1,3-tris (2-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) butanediphosphite, tetra (tridecyl) -4, 4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenyl) diphosphite, tetra (C1-C15 mixed alkyl) -4,4'-isopropylidene diphenyl diphosphite, tris (mono, dimixed nonylphenyl) phosphite 4,4′-isopropylidenebis (2-t-butylphenyl) · di (noni Ruphenyl) phosphite, 9,10-di-hydro-9-oxa-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) Phosphite, hydrogenated-4,4′-isopropylidene diphenyl polyphosphite, bis (octylphenyl) · bis (4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenyl)), 1,6- Hexanol diphosphite, hexatridecyl-1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) diphosphite, tris (4,4′-isopropylidenebis (2-tert-butyl) Phenyl)) phosphite, tris (1,3-stearoyloxyisopropyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t) Butylphenyl) octyl phosphite, 2,2-methylenebis (3-methyl-4,6-di-t-butylphenyl) 2-ethylhexyl phosphite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) ) -4,4′-biphenylene diphosphite and tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) -4,4′-biphenylene diphosphite.

ホスファイト系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、ペンタエリスリトール型ホスファイト化合物を挙げることもできる。ペンタエリストール型ホスファイト化合物としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・フェニル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・メチル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・2−エチルヘキシル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・イソデシル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・ラウリル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・イソトリデシル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・ステアリル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・シクロヘキシル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・ベンジル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・エチルセロソルブ・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・ブチルカルビトール・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・オクチルフェニル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・ノニルフェニル・ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・2,6−ジ−t−ブチルフェニル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・2,4−ジ−t−ブチルフェニル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・2,4−ジ−t−オクチルフェニル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル・2−シクロヘキシルフェニル・ペンタエリスリトールジホスファイト、2,6−ジ−t−アミル−4−メチルフェニル・フェニル・ペンタエリストリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−アミル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、及びビス(2,6−ジ−t−オクチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a phosphite type compound, For example, a pentaerythritol type phosphite compound can also be mentioned. Examples of pentaerythritol-type phosphite compounds include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl phenyl pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl Methyl pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl, 2-ethylhexyl pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl isodecyl, Pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl lauryl pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl isotridecyl pentaerythritol diphos Phyto, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl stearyl Pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl cyclohexyl pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl benzyl pentaerythritol diphos Phyto, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl / ethylcellosolve / pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl / butylcarbitol / pentaerythritol diphosphite 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl octylphenyl pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl nonylphenyl pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) Intererythritol diphosphite, bis (2,6-di-t-butyl-4-ethylphenyl) pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl 2,6-di- t-butylphenyl pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl 2,4-di-t-butylphenyl pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t -Butyl-4-methylphenyl · 2,4-di-t-octylphenyl pentaerythritol diphosphite, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl · 2-cyclohexylphenyl · pentaerythritol diphosphite 2,6-di-t-amyl-4-methylphenyl phenyl pentaerythritol diphosphite, bis (2 , 6-di-t-amyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-t-octyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, and the like.

ペンタエリストール型ホスファイト化合物としては、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−アミル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、及びビス(2、6−ジ−t−オクチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどが好ましく、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトがより好ましい。   Pentaerythritol phosphite compounds include bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite and bis (2,6-di-t-butyl-4-ethylphenyl). Pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-t-amyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, and bis (2,6-di-t-octyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite Phosphite and the like are preferable, and bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite is more preferable.

ヒンダードアミン系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、4−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(フェニルアセトキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−フェノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(エチルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(シクロヘキシルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(フェニルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−カーボネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−オキサレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−マロネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アジペート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−テレフタレート、1,2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)−エタン、α,α'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)−p−キシレン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルトリレン−2,4−ジカルバメート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレン−1,6−ジカルバメート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ベンゼン−1,3,4−トリカルボキシレート、1−[2−{3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}ブチル]−4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、及び1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとβ,β,β',β'−テトラメチル−3,9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン]ジエタノールとの縮合物などが挙げられる。   The hindered amine compound is not particularly limited, and examples thereof include 4-acetoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (phenylacetoxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetra Methylpiperidine, 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetra Methylpiperidine, 4-benzyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-phenoxy-2,2,6,6-tetra Tilpiperidine, 4- (ethylcarbamoyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (cyclohexylcarbamoyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (phenylcarbamoyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -carbonate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) Oxalate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -malonate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -sebacate, bis (2,2,6 , 6-Tetramethyl-4-piperidyl) -adipate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -terephthalate, 1,2-bis 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxy) -ethane, α, α′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxy) -p-xylene, bis (2 , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyltolylene-2,4-dicarbamate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -hexamethylene-1,6-dicarbamate , Tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -benzene-1,3,5-tricarboxylate, tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -benzene -1,3,4-tricarboxylate, 1- [2- {3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy} butyl] -4- [3- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxy Phenyl) propionyloxy] 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and β, β , Β ′, β′-tetramethyl-3,9- [2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane] diethanol and the like.

トリアジン系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、ヒドロキシフェニルトリアジン類が挙げられる。
ヒドロキシフェニルトリアジン類としては、例えば、2,4,6−トリス(2'−ヒドロキシ−4'−オクチルオキシ−フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2'−ヒドロキシ−4'−ヘキシルオキシ−フェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2'−ヒドロキシ−4'−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2',4'−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2',4'−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2',4'−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2'−ヒドロキシ−4'−プロピルオキシ−フェニル)−6−(2',4'−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4'−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2'−ヒドロキシ−4'−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2',4'−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2'−ヒドロキシ−4'−イソプロピルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2'−ヒドロキシ−4'−n−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、及び2,4,6−トリス(2'−ヒドロキシ−4'−エトキシカルボニルメトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンなどが挙げられる。
Although it does not specifically limit as a triazine type compound, For example, hydroxyphenyl triazine is mentioned.
Examples of the hydroxyphenyltriazines include 2,4,6-tris (2′-hydroxy-4′-octyloxy-phenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2′-hydroxy-4′- Hexyloxy-phenyl) -4,6-diphenyl-1,3,5-triazine, 2- (2′-hydroxy-4′-octyloxyphenyl) -4,6-bis (2 ′, 4′-dimethylphenyl) ) -1,3,5-triazine, 2- (2 ′, 4′-dihydroxyphenyl) -4,6-bis (2 ′, 4′-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4 -Bis (2'-hydroxy-4'-propyloxy-phenyl) -6- (2 ', 4'-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) ) -4,6-bis (4′-methyl) Phenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2′-hydroxy-4′-dodecyloxyphenyl) -4,6-bis (2 ′, 4′-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine 2,4,6-tris (2′-hydroxy-4′-isopropyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2′-hydroxy-4′-n-hexyloxy) Phenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2′-hydroxy-4′-ethoxycarbonylmethoxyphenyl) -1,3,5-triazine and the like.

イオウ系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ジラウリル−3,3'−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3'−チオジプロピオネート、及びジステアリル3,3'−チオジプロピオネートなどを挙げることができる。   Although it does not specifically limit as a sulfur type compound, For example, pentaerythrityl tetrakis (3-lauryl thiopropionate), dilauryl-3,3'- thiodipropionate, dimyristyl-3,3'- Examples thereof include thiodipropionate and distearyl 3,3′-thiodipropionate.

無機系熱安定剤の例としては、金属水酸化物が好ましく、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムや、三酸化アンチモンが例示され、よりメッキ性を向上させる観点からは、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムが好ましい。特に、LDS添加剤が酸性物質のときに、無機系熱安定剤として、アルカリを添加すると、後述するLDS添加剤の色合いを均一するためのアルカリ成分を兼ねることができる。また、このようなアルカリは、熱安定剤としても働く場合がある。   As an example of the inorganic heat stabilizer, metal hydroxide is preferable, and magnesium hydroxide, calcium hydroxide, and antimony trioxide are exemplified. From the viewpoint of further improving the plating property, magnesium hydroxide and calcium hydroxide are exemplified. Is preferred. In particular, when an alkali is added as an inorganic heat stabilizer when the LDS additive is an acidic substance, it can also serve as an alkali component for making the color of the LDS additive described later uniform. Moreover, such an alkali may also work as a heat stabilizer.

熱安定剤の含有量は、本発明の熱可塑性樹脂組成物100重量部に対して、0.01重量部〜5重量部であることが好ましく、0.03〜4重量部であることがより好ましい。熱安定剤が少なすぎると熱安定効果が不十分となる可能性があり、熱安定剤が多すぎると効果が頭打ちとなり経済的でなくなる可能性がある。   The content of the heat stabilizer is preferably 0.01 to 5 parts by weight and more preferably 0.03 to 4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin composition of the present invention. preferable. If the amount of the heat stabilizer is too small, the heat stabilization effect may be insufficient. If the amount of the heat stabilizer is too large, the effect may reach a peak and may not be economical.

<光安定剤>
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、有機系および/または無機系光安定剤を含むことが好ましく、有機系光安定剤を含むことがより好ましい。
有機系光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びシアノアクリレート系化合物などの紫外線吸収効果のある化合物、並びにヒンダードアミン系化合物及びヒンダードフェノール系化合物などのラジカル捕捉能力のある化合物などが挙げられる。
光安定剤としては、紫外線吸収効果のある化合物とラジカル捕捉能力のある化合物を併用することにより、より高い安定化効果を発揮させることができる。
光安定剤としては、1種類で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
<Light stabilizer>
The thermoplastic resin composition of the present invention preferably contains an organic and / or inorganic light stabilizer, and more preferably contains an organic light stabilizer.
Examples of organic light stabilizers include radicals such as benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and cyanoacrylate compounds, and compounds that have an ultraviolet absorption effect, and hindered amine compounds and hindered phenol compounds. Examples thereof include compounds having a capturing ability.
As a light stabilizer, a higher stabilizing effect can be exhibited by using a compound having an ultraviolet absorption effect and a compound having a radical scavenging ability in combination.
As the light stabilizer, one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

ベンゾフェノン系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2,2'−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2'−ジヒドロキシ−4,4'−ジメトキシベンゾフェノン、2,2'4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、及び2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノンなどが挙げられる。   The benzophenone-based compound is not particularly limited, and examples thereof include 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4, Examples include 4′-dimethoxybenzophenone, 2,2′4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, and 2-hydroxy-4-octyloxybenzophenone.

サリシレート系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、フェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレート、及びp−オクチルフェニルサリシレートなどが挙げられる。   The salicylate-based compound is not particularly limited, and examples thereof include phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, and p-octylphenyl salicylate.

ベンゾトリアゾール系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、2−(2'−ヒドロキシ−5'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−5'−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3'−t−ブチル−5'−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ−t−アミノフェニル)ベンゾトリアゾール、2−{2'−ヒドロキシ−3'−(3'',4'',5'',6''−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5'−メチルフェニル}ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス{4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール}、及び6−(2−ベンゾトリアゾリル)−4−t−オクチル−6'−t−ブチル−4'−メチル−2,2'−メチレンビスフェノールなどが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a benzotriazole type compound, For example, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-) Hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-t-octylphenyl) Benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butyl) Phenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-aminophenyl) benzotriazole, 2- {2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 '' , 5 ″, 6 ″ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl} benzotriazole, 2,2-methylenebis {4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H— Benzotriazol-2-yl) phenol}, 6- (2-benzotriazolyl) -4-t-octyl-6′-t-butyl-4′-methyl-2,2′-methylenebisphenol, etc. It is done.

シアノアクリレート系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3'−ジフェニルアクリレート、及びエチル−2−シアノ−3,3'−ジフェニルアクリレートなどが挙げられる。   The cyanoacrylate compound is not particularly limited, and examples thereof include 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3′-diphenyl acrylate and ethyl-2-cyano-3,3′-diphenyl acrylate. Can be mentioned.

ヒンダードアミン系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの直鎖状又は環状縮合物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,1'−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジル)マロネート、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシネート、N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−1,3−ベンゼンジカルボキシアミド、N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの直鎖状又は環状縮合物、2−クロロ−4,6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合物、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス−(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合物、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、4−ヘキサデシルオキシ−と4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの混合物、N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−シクロヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合物、1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジン並びに4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの縮合物(CAS登録番号[136504−96−6]);1,6−ヘキサンジアミンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジン並びにN,N−ジブチルアミンと4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの縮合物(CAS登録番号[192268−64−7]);N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、2−ウンデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4.5]デカン、7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウンデシル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4.5]デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、1,1−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキシカルボニル)−2−(4−メトキシフェニル)エテン、N,N'−ビス−ホルミル−N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミン、4−メトキシメチレンマロン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ[メチルプロピル−3−オキシ−4−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)]シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと2,2,6,6−テトラメチル−4−アミノピペリジン又は1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−アミノピペリジンとの反応生成物、2,4−ビス[N−(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−N−ブチルアミノ]−6−(2−ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジン、1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−4−オクタデカノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、5−(2−エチルヘキサノイル)オキシメチル−3,3,5−トリメチル−2−モルホリノン、サンドゥバー(Sanduvor)(クラリアント(Clariant);CAS登録番号[106917−31−1])、5−(2−エチルヘキサノイル)オキシメチル−3,3,5−トリメチル−2−モルホリノン、2,4−ビス[(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−ピペリジン−4−イル)ブチルアミノ]−6−クロロ−s−トリアジンとN,N'−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン)との反応生成物、1,3,5−トリス(N−シクロヘキシル−N−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−3−オン−4−イル)アミノ)−s−トリアジン、1,3,5−トリス(N−シクロヘキシル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペラジン−3−オン−4−イル)アミノ)−s−トリアジン、N,N',N",N'''−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10ジアミン、ポリ[[6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]などが挙げられ、中でもビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−1,3−ベンゼンジカルボキシアミド、N,N',N",N'''−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10ジアミンなどが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a hindered amine type compound, For example, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4) -Piperidyl) succinate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) n-butyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl malonate, 1- (2-hydroxyethyl) -2,2 , 6,6-Tetramethyl-4-hydroxypiperidine and succinic acid condensate, N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) hexamethylenediamine And a linear or cyclic condensate of 4-tert-octylamino-2,6-dichloro-1,3,5-triazine, tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) nitrilotriacetate, Tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 1,1 ′-(1,2-ethanediyl) -bis (3,3, 5,5-tetramethylpiperazinone), 4-benzoyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, bis (1,2, 2,6,6-pentamethylpiperidyl) -2-n-butyl-2- (2-hydroxy-3,5-di-t-butylbenzyl) malonate, 3-n-octyl-7,7,9,9 -Tetramethyl-1,3,3 8-Triazaspiro [4.5] decane-2,4-dione, bis (1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl) sebacate, bis (1-octyloxy-2,2,6, 6-tetramethylpiperidyl) succinate, N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) -1,3-benzenedicarboxamide, N, N′-bis (2,2 , 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -hexamethylenediamine and 4-morpholino-2,6-dichloro-1,3,5-triazine, 2-chloro-4,6 A condensate of bis (4-n-butylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl) -1,3,5-triazine and 1,2-bis (3-aminopropylamino) ethane, 2- Chloro-4,6 Condensation product of di- (4-n-butylamino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl) -1,3,5-triazine and 1,2-bis- (3-aminopropylamino) ethane 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4.5] decane-2,4-dione, 3-dodecyl-1- (2,2 , 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) pyrrolidine-2,5-dione, 3-dodecyl-1- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) pyrrolidine-2,5-dione , A mixture of 4-hexadecyloxy- and 4-stearyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) hexa Methylenediamine and 4-cyclohexyl Condensates of Mino-2,6-dichloro-1,3,5-triazine, 1,2-bis (3-aminopropylamino) ethane and 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine and 4 -Condensate of butylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine (CAS registry number [136504-96-6]); 1,6-hexanediamine and 2,4,6-trichloro-1,3 5-triazine and condensate of N, N-dibutylamine and 4-butylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine (CAS Registry Number [192268-64-7]); N- (2,2, 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -n-dodecylsuccinimide, N- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -n-dodecylsuccinimide, 2-undecyl-7, 7,9,9-tetramethyl-1-oxa-3,8-diaza-4-oxo-spiro [4.5] decane, 7,7,9,9-tetramethyl-2-cycloundecyl-1- Reaction product of oxa-3,8-diaza-4-oxo-spiro [4.5] decane and epichlorohydrin, 1,1-bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl Oxycarbonyl) -2- (4-methoxyphenyl) ethene, N, N′-bis-formyl-N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) hexamethylenediamine, 4 A diester of methoxymethylenemalonic acid and 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-hydroxypiperidine, poly [methylpropyl-3-oxy-4- (2,2,6,6-tetramethyl-4 -Piperidyl)] siloxa Reaction product of maleic anhydride-α-olefin copolymer with 2,2,6,6-tetramethyl-4-aminopiperidine or 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-aminopiperidine, 2 , 4-Bis [N- (1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) -N-butylamino] -6- (2-hydroxyethyl) amino-1,3 5-triazine, 1- (2-hydroxy-2-methylpropoxy) -4-octadecanoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 5- (2-ethylhexanoyl) oxymethyl-3, 3,5-trimethyl-2-morpholinone, Sanduvor (Clariant; CAS Registry Number [106917-31-1]), 5- ( -Ethylhexanoyl) oxymethyl-3,3,5-trimethyl-2-morpholinone, 2,4-bis [(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-piperidin-4-yl) butylamino]- The reaction product of 6-chloro-s-triazine and N, N′-bis (3-aminopropyl) ethylenediamine), 1,3,5-tris (N-cyclohexyl-N- (2,2,6,6) -Tetramethylpiperidin-3-one-4-yl) amino) -s-triazine, 1,3,5-tris (N-cyclohexyl-N- (1,2,2,6,6-pentamethylpiperazine-3) -On-4-yl) amino) -s-triazine, N, N ', N ", N' ''-tetrakis- (4,6-bis- (butyl- (N-methyl-2,2,6, 6-tetramethylpiperidin-4-yl) ami ) -Triazin-2-yl) -4,7-diazadecane-1,10 diamine, poly [[6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2, 4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}] and the like, Among them, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) succinate, bis (1,2,2,6,6) -Pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, N, N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) -1,3-benzenedicarboxamide, N, N ', N ", N '' '-Tetrakis- (4,6-bis- (butyl -(N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino) -triazin-2-yl) -4,7-diazadecane-1,10 diamine and the like.

ヒンダードフェノール系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、ペンタエリスリチル−テトラキス{3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド、トリエチレングリコール−ビス{3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、3,9−ビス{2−[3−(3−t−ブチル−4−ハイドロキシ−5−メチルフェニル)プロピニロキシ]−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサピロ[5,5]ウンデカン、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジルホスフォネート−ジエチルエステル、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3ハイドロキシ−2,6−ジメチルベンジ)イソシアネートなどが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a hindered phenol type compound, For example, pentaerythrityl-tetrakis {3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate}, N, N- Hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide, triethylene glycol-bis {3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate}, 3,9-bis {2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propynyloxy] -1,1-dimethylethyl} -2,4,8,10-tetraoxapyro [ 5,5] undecane, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-benzylphosphonate-diethyl ester, 1,3,5-trimethyl-2,4 Examples include 6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 1,3,5-tris (4-t-butyl-3hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) isocyanate. .

光安定剤の含有量は、本発明の熱可塑性樹脂組成物100重量部に対して、0.01重量部〜5重量部であることが好ましく、0.01〜4重量部であることがより好ましい。   The content of the light stabilizer is preferably 0.01 to 5 parts by weight and more preferably 0.01 to 4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin composition of the present invention. preferable.

<アルカリ>
本発明の熱可塑性樹脂組成物はアルカリを含んでいてもよい。本発明で用いるLDS添加剤が酸性物質(例えば、pH6以下)の場合に、組み合わせによって自身が還元することで色目がまだら模様となるケースがあるが、アルカリを添加することにより、得られる樹脂成形品の色あいをより均一にすることができる。アルカリの種類は特に定めるものではなく、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等を用いることができる。アルカリは、1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。
本発明の熱可塑性樹脂組成物における、アルカリの配合量は、LDS添加剤の種類及びアルカリの種類にもよるが、LDS添加剤の配合量の、好ましくは0.01〜20重量%であり、より好ましくは0.05〜15重量%である。
<Alkali>
The thermoplastic resin composition of the present invention may contain an alkali. When the LDS additive used in the present invention is an acidic substance (for example, pH 6 or less), there is a case where the color becomes a mottled pattern by reducing itself by the combination, but the resin molding obtained by adding an alkali The color of the product can be made more uniform. The kind of alkali is not particularly defined, and calcium hydroxide, magnesium hydroxide and the like can be used. Only one type of alkali may be used, or two or more types may be used in combination.
In the thermoplastic resin composition of the present invention, the blending amount of alkali depends on the type of LDS additive and the type of alkali, but is preferably 0.01 to 20% by weight of the blending amount of LDS additive, More preferably, it is 0.05 to 15% by weight.

<離型剤>
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、離型剤を含んでいてもよい。
離型剤としては、例えば、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸とアルコールとのエステル、数平均分子量200〜15,000の脂肪族炭化水素化合物、ポリシロキサン系シリコーンオイルなどが挙げられる。
<Release agent>
The thermoplastic resin composition of the present invention may contain a release agent.
Examples of the release agent include aliphatic carboxylic acids, esters of aliphatic carboxylic acids and alcohols, aliphatic hydrocarbon compounds having a number average molecular weight of 200 to 15,000, polysiloxane silicone oils, and the like.

脂肪族カルボン酸としては、例えば、飽和または不飽和の脂肪族一価、二価または三価カルボン酸を挙げることができる。ここで脂肪族カルボン酸とは、脂環式のカルボン酸も包含する。これらの中で好ましい脂肪族カルボン酸は炭素数6〜36の一価または二価カルボン酸であり、炭素数6〜36の脂肪族飽和一価カルボン酸がさらに好ましい。かかる脂肪族カルボン酸の具体例としては、パルミチン酸、ステアリン酸、カプロン酸、カプリン酸、ラウリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、メリシン酸、テトラリアコンタン酸、モンタン酸、アジピン酸、アゼライン酸などが挙げられる。   Examples of the aliphatic carboxylic acid include saturated or unsaturated aliphatic monovalent, divalent or trivalent carboxylic acid. Here, the aliphatic carboxylic acid includes alicyclic carboxylic acid. Among these, preferable aliphatic carboxylic acids are monovalent or divalent carboxylic acids having 6 to 36 carbon atoms, and aliphatic saturated monovalent carboxylic acids having 6 to 36 carbon atoms are more preferable. Specific examples of such aliphatic carboxylic acids include palmitic acid, stearic acid, caproic acid, capric acid, lauric acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, mellicic acid, tetrariacontanoic acid, montanic acid, adipine Examples include acids and azelaic acid.

脂肪族カルボン酸とアルコールとのエステルにおける脂肪族カルボン酸としては、例えば、前記脂肪族カルボン酸と同じものが使用できる。一方、アルコールとしては、例えば、飽和または不飽和の一価または多価アルコールが挙げられる。これらのアルコールは、フッ素原子、アリール基などの置換基を有していてもよい。これらの中では、炭素数30以下の一価または多価の飽和アルコールが好ましく、炭素数30以下の脂肪族又は脂環式飽和一価アルコールまたは脂肪族飽和多価アルコールがさらに好ましい。   As aliphatic carboxylic acid in ester of aliphatic carboxylic acid and alcohol, the same thing as the said aliphatic carboxylic acid can be used, for example. On the other hand, examples of the alcohol include saturated or unsaturated monohydric or polyhydric alcohols. These alcohols may have a substituent such as a fluorine atom or an aryl group. Among these, a monovalent or polyvalent saturated alcohol having 30 or less carbon atoms is preferable, and an aliphatic or alicyclic saturated monohydric alcohol or aliphatic saturated polyhydric alcohol having 30 or less carbon atoms is more preferable.

かかるアルコールの具体例としては、オクタノール、デカノール、ドデカノール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトール、2,2−ジヒドロキシペルフルオロプロパノール、ネオペンチレングリコール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。   Specific examples of such alcohols include octanol, decanol, dodecanol, stearyl alcohol, behenyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, pentaerythritol, 2,2-dihydroxyperfluoropropanol, neopentylene glycol, ditrimethylolpropane, dipentaerythritol, and the like. Is mentioned.

脂肪族カルボン酸とアルコールとのエステルの具体例としては、蜜ロウ(ミリシルパルミテートを主成分とする混合物)、ステアリン酸ステアリル、ベヘン酸ベヘニル、ベヘン酸ステアリル、グリセリンモノパルミテート、グリセリンモノステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリントリステアレート、ペンタエリスリトールモノパルミテート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート等が挙げられる。   Specific examples of esters of aliphatic carboxylic acids and alcohols include beeswax (a mixture based on myricyl palmitate), stearyl stearate, behenyl behenate, stearyl behenate, glycerin monopalmitate, glycerin monostearate Examples thereof include rate, glycerol distearate, glycerol tristearate, pentaerythritol monopalmitate, pentaerythritol monostearate, pentaerythritol distearate, pentaerythritol tristearate, pentaerythritol tetrastearate and the like.

数平均分子量200〜15,000の脂肪族炭化水素としては、例えば、流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、ポリエチレンワックス、フィッシャ−トロプシュワックス、炭素数3〜12のα−オレフィンオリゴマー等が挙げられる。なお、ここで脂肪族炭化水素としては、脂環式炭化水素も含まれる。また、脂肪族炭化水素の数平均分子量は好ましくは5,000以下である。
これらの中では、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスまたはポリエチレンワックスの部分酸化物が好ましく、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスがさらに好ましい。
Examples of the aliphatic hydrocarbon having a number average molecular weight of 200 to 15,000 include liquid paraffin, paraffin wax, microwax, polyethylene wax, Fischer-Tropsch wax, and α-olefin oligomer having 3 to 12 carbon atoms. Here, the aliphatic hydrocarbon includes alicyclic hydrocarbons. The number average molecular weight of the aliphatic hydrocarbon is preferably 5,000 or less.
Among these, paraffin wax, polyethylene wax, or a partial oxide of polyethylene wax is preferable, and paraffin wax and polyethylene wax are more preferable.

離型剤の含有量は、熱可塑性樹脂とガラスフィラーの合計100重量部に対して、0.001〜2重量部であることが好ましく、0.01〜1重量部であることがより好ましい。離型剤の含有量を0.001重量部以上とすることにより、離型性の効果がより効果的に発揮され、2重量部以下とすることにより、耐加水分解性が低下し、射出成形時の金型汚染が効果的に抑制される。   The content of the release agent is preferably 0.001 to 2 parts by weight, and more preferably 0.01 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the thermoplastic resin and the glass filler. By setting the content of the release agent to 0.001 part by weight or more, the effect of release property is more effectively exhibited, and by setting it to 2 parts by weight or less, the hydrolysis resistance is lowered and injection molding is performed. The mold contamination at the time is effectively suppressed.

<熱可塑性樹脂組成物の製造方法>
本発明の熱可塑性樹脂組成物の製造方法としては、任意の方法が採用される。
例えば、熱可塑性樹脂、ガラスフィラー、LDS添加剤等をV型ブレンダー等の混合手段を用いて混合し、一括ブレンド品を調整した後、ベント付き押出機で溶融混練してペレット化する方法が挙げられる。あるいは、二段階練込法として、予め、ガラスフィラー以外の成分等を、十分混合後、ベント付き押出機で溶融混練りしてペレットを製造した後、そのペレットとガラスフィラーを混合後、ベント付き押出機で溶融混練りする方法が挙げられる。
更に、ガラスフィラー以外の成分等を、V型ブレンダー等で十分混合したものを予め調整しておき、それをベント付き二軸押出機の第一シュートより供給し、ガラスフィラーは押出機途中の第二シュートより供給して溶融混練、ペレット化する方法が挙げられる。
<Method for producing thermoplastic resin composition>
Arbitrary methods are employ | adopted as a manufacturing method of the thermoplastic resin composition of this invention.
For example, a method of mixing a thermoplastic resin, a glass filler, an LDS additive, etc. using a mixing means such as a V-type blender, adjusting a batch blend, and then melt-kneading with a vented extruder to form a pellet. It is done. Alternatively, as a two-step kneading method, after mixing components, etc. other than glass filler, in advance, melt-kneading with a vented extruder to produce pellets, mixing the pellets and glass filler, and then venting The method of melt-kneading with an extruder is mentioned.
In addition, the components other than the glass filler, etc., mixed sufficiently with a V-type blender, etc. are prepared in advance, and supplied from the first chute of the vented twin-screw extruder. A method of supplying from two chutes and melt-kneading and pelletizing can be mentioned.

押出機の混練ゾーンのスクリュー構成は、混練を促進するエレメントを上流側に、昇圧能力のあるエレメントを下流側に配置されることが好ましい。
混練を促進するエレメントとしては、順送りニーディングディスクエレメント、直交ニーディングディスクエレメント、幅広ニーディングディスクエレメント、および順送りミキシングスクリューエレメント等が挙げられる。
As for the screw configuration of the kneading zone of the extruder, it is preferable that the element that promotes kneading is arranged on the upstream side, and the element having a boosting ability is arranged on the downstream side.
Examples of elements that promote kneading include a progressive kneading disk element, an orthogonal kneading disk element, a wide kneading disk element, and a progressive mixing screw element.

溶融混練に際しての加熱温度は、通常180〜360℃の範囲から適宜選ぶことができる。温度が高すぎると分解ガスが発生しやすく、不透明化の原因になる場合がある。それ故、剪断発熱等に考慮したスクリュー構成の選定が望ましい。混練り時や、後行程の成形時の分解を抑制する為、酸化防止剤や熱安定剤の使用が望ましい。   The heating temperature at the time of melt kneading can be appropriately selected from the range of usually 180 to 360 ° C. If the temperature is too high, decomposition gas is likely to be generated, which may cause opacity. Therefore, it is desirable to select a screw configuration in consideration of shear heat generation. In order to suppress decomposition during kneading or molding in the subsequent process, it is desirable to use an antioxidant or a heat stabilizer.

樹脂成形品の製造方法は、特に限定されず、熱可塑性樹脂組成物について一般に採用されている成形法を任意に採用できる。その例を挙げると、射出成形法、超高速射出成形法、射出圧縮成形法、二色成形法、ガスアシスト等の中空成形法、断熱金型を使用した成形法、急速加熱金型を使用した成形法、発泡成形(超臨界流体も含む)、インサート成形、IMC(インモールドコーティング成形)成形法、押出成形法、シート成形法、熱成形法、回転成形法、積層成形法、プレス成形法、ブロー成形法などが挙げられる。また、ホットランナー方式を使用した成形法を用いることもできる。   The method for producing the resin molded product is not particularly limited, and a molding method generally adopted for the thermoplastic resin composition can be arbitrarily adopted. For example, injection molding method, ultra-high speed injection molding method, injection compression molding method, two-color molding method, hollow molding method such as gas assist, molding method using heat insulating mold, rapid heating mold were used. Molding method, foam molding (including supercritical fluid), insert molding, IMC (in-mold coating molding) molding method, extrusion molding method, sheet molding method, thermoforming method, rotational molding method, laminate molding method, press molding method, Examples thereof include a blow molding method. A molding method using a hot runner method can also be used.

次に、本発明の熱可塑性樹脂組成物を成形した樹脂成形品の表面にメッキを設ける工程を図1に従って説明する。図1は、レーザーダイレクトストラクチャリング技術によって、樹脂成形品1の表面にメッキを形成する工程を示す概略図である。図1では、樹脂成形品1は、平坦な基板となっているが、必ずしも平坦な基板である必要はなく、一部または全部が曲面している樹脂成形品であってもよい。また、得られるメッキ層付き樹脂成形品は、最終製品に限らず、各種部品も含む趣旨である。   Next, the process of providing plating on the surface of a resin molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic view showing a process of forming plating on the surface of a resin molded product 1 by a laser direct structuring technique. In FIG. 1, the resin molded product 1 is a flat substrate. However, the resin molded product 1 is not necessarily a flat substrate, and may be a resin molded product having a partially or entirely curved surface. The obtained resin molded product with a plated layer is not limited to the final product, and includes various parts.

再び図1に戻り、樹脂成形品1にレーザー2を照射する。ここでのレーザーとは、特に定めるものではなく、YAGレーザー、エキシマレーザー、電磁線等の公知のレーザーから適宜選択することができ、YGAレーザーが好ましい。また、レーザーの波長も特に定めるものではない。好ましい波長範囲は、200nm〜1200nmである。特に好ましくは800〜1200nmである。
レーザーが照射されると、レーザーが照射された部分3のみ、樹脂成形品1が活性化される。この活性化された状態で、樹脂成形品1をメッキ液4に適用する。メッキ液4としては、特に定めるものではなく、公知のメッキ液を広く採用することができ、金属成分として、銅、ニッケル、銀、金、およびパラジウムの少なくとも1種以上からなるメッキ液(特に、無電解のメッキ液)が好ましく、銅、ニッケル、銀、および金の少なくとも1種以上からなるメッキ液(特に、無電解のメッキ液)がより好ましく、銅を含むメッキ液(特に、無電解のメッキ液)がさらに好ましい。すなわち、本発明におけるメッキ層は、金属成分が、上記金属の少なくとも1種からなることが好ましい。
樹脂成形品1をメッキ液4に適用する方法についても、特に定めるものではないが、例えば、メッキ液を配合した液中に投入する方法が挙げられる。メッキ液を適用後の樹脂成形品は、レーザー照射した部分のみ、メッキ層5が形成される。
本発明の方法では、1mm以下、さらには、150μm以下の幅の回線間隔(下限値は特に定めるものではないが、例えば、30μm以上)を形成することができる。メッキは、形成した回路の腐食や劣化を抑えるために、例えば無電解メッキを実施した後にニッケル、金で更に保護することも出来る。また、同様に無電解メッキ後に電解メッキを用い、必要な膜厚を短時間で形成することも出来る。
Returning again to FIG. 1, the resin molded product 1 is irradiated with a laser 2. The laser here is not particularly defined, and can be appropriately selected from known lasers such as a YAG laser, an excimer laser, and electromagnetic radiation, and a YGA laser is preferable. Further, the wavelength of the laser is not particularly defined. A preferable wavelength range is 200 nm to 1200 nm. Especially preferably, it is 800-1200 nm.
When the laser is irradiated, the resin molded product 1 is activated only in the portion 3 irradiated with the laser. In this activated state, the resin molded product 1 is applied to the plating solution 4. The plating solution 4 is not particularly defined, and a known plating solution can be widely used. As the metal component, a plating solution comprising at least one of copper, nickel, silver, gold, and palladium (in particular, Electroless plating solution) is preferred, plating solution comprising at least one of copper, nickel, silver, and gold (especially electroless plating solution) is more preferred, and plating solution containing copper (especially electroless plating solution). Plating solution) is more preferable. That is, the plating layer in the present invention preferably has a metal component made of at least one of the above metals.
The method of applying the resin molded product 1 to the plating solution 4 is not particularly defined, but for example, a method of introducing the resin molded product 1 into a solution containing the plating solution. In the resin molded product after applying the plating solution, the plating layer 5 is formed only in the portion irradiated with the laser.
In the method of the present invention, it is possible to form a line interval (a lower limit value is not specifically defined, for example, 30 μm or more) having a width of 1 mm or less, and further 150 μm or less. In order to suppress corrosion and deterioration of the formed circuit, the plating can be further protected with nickel or gold after performing electroless plating, for example. Similarly, a necessary film thickness can be formed in a short time by using electroplating after electroless plating.

本発明の熱可塑性樹脂組成物から得られる成形品は、例えば、コネクタ、スイッチ、リレー、導電回路等の電子部品、ランプリフレクタ等の反射板、ギヤ、カム等のような摺動部品、エアインテークマニホールドなどの自動車部品、流し台などの水回り部品、種々の装飾部品、あるいは、フィルム、シート、繊維などの種々の用途に用いることができる。
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、成形方法にもよるが、白色度が高く、反射率に優れた成形品を与える。本発明の熱可塑性樹脂組成物から得られる成形品の白色度(ハンター式)は、通常92以上、好ましくは94以上である。また、本発明の熱可塑性樹脂組成物から得られる成形品は、耐熱性に優れるとともに、実際の使用環境下での光安定性に優れている。従って、本発明の熱可塑性樹脂組成物から得られる成形品は、光を反射する機能を有する部品、特に、発光ダイオード(LED)機器部品、好ましくは、LEDの反射板や導電回路として働く。メッキ層は、1層のみであってもよいし、多層構造であってもよい。
Molded articles obtained from the thermoplastic resin composition of the present invention include, for example, electronic parts such as connectors, switches, relays and conductive circuits, reflectors such as lamp reflectors, sliding parts such as gears and cams, air intakes, and the like. It can be used for various parts such as automobile parts such as manifolds, water-borne parts such as sinks, various decorative parts, or films, sheets, and fibers.
Although the thermoplastic resin composition of the present invention depends on the molding method, it gives a molded product having high whiteness and excellent reflectance. The whiteness (Hunter type) of the molded product obtained from the thermoplastic resin composition of the present invention is usually 92 or more, preferably 94 or more. In addition, the molded product obtained from the thermoplastic resin composition of the present invention is excellent in heat resistance and light stability in an actual use environment. Therefore, the molded product obtained from the thermoplastic resin composition of the present invention functions as a component having a function of reflecting light, particularly a light emitting diode (LED) device component, preferably an LED reflector or a conductive circuit. Only one layer may be sufficient as a plating layer, and a multilayered structure may be sufficient as it.

その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、特開2011−219620号公報、特開2011−195820号公報、特開2011−178873号公報、特開2011−168705号公報、特開2011−148267号公報の記載を参酌することができる。   In addition, within the range which does not deviate from the meaning of the present invention, JP2011-219620A, JP2011-195820A, JP2011-178873A, JP2011-168705A, JP2011-148267A. The description of the publication can be taken into consideration.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

<熱可塑性樹脂>
(1)ポリアミド樹脂PAP10は下記方法により合成した。
(ポリアミド(PAP10)の合成)
撹拌機、分縮器、冷却器、温度計、滴下装置及び窒素導入管、ストランドダイを備えた内容積50リットルの反応容器に、精秤したセバシン酸(伊藤製油(株)製、製品名セバシン酸TA)8950g(44.25mol)、次亜リン酸カルシウム12.54g(0.074mol)、酢酸ナトリウム6.45g(0.079mol)を秤量して仕込んだ。反応容器内を十分に窒素置換した後、窒素で0.4MPaに加圧し、撹拌しながら20℃から190℃に昇温して55分間でセバシン酸を均一に溶融した。次いでパラキシリレンジアミン(三菱瓦斯化学(株)製)5960g(43.76mol)を撹拌下で110分を要して滴下した。この間、反応容器内温は293℃まで連続的に上昇させた。滴下工程では圧力を0.42MPaに制御し、生成水は分縮器及び冷却器を通して系外に除いた。分縮器の温度は145〜147℃の範囲に制御した。パラキシリレンジアミン滴下終了後、反応容器内圧力0.42MPaにて20分間重縮合反応を継続した。この間、反応容器内温は296℃まで上昇させた。その後、30分間で反応容器内圧力を0.42MPaから0.12MPaまで減圧した。この間に内温は298℃まで昇温した。その後0.002MPa/分の速度で減圧し、20分間で0.08MPaまで減圧し、分子量1,000以下の成分量を調整した。減圧完了時の反応容器内の温度は301℃であった。その後、系内を窒素で加圧し、反応容器内温度301℃、樹脂温度301℃で、ストランドダイからポリマーをストランド状に取出して20℃の冷却水にて冷却し、これをペレット化し、約13kgのポリアミド樹脂を得た。なお、冷却水中での冷却時間は5秒、ストランドの引き取り速度は100m/分とした。以下、「PAP10」という。融点は、290℃であった。
(2)ポリアミド樹脂MP6は下記方法により合成した。
(ポリアミド(MP6)の合成)
アジピン酸を窒素雰囲気下の反応缶内で加熱溶解した後、内容物を攪拌しながら、パラキシリレンジアミン(三菱瓦斯化学(株)製)とメタキシリレンジアミン(三菱瓦斯化学(株)製)のモル比が3:7の混合ジアミンを、加圧(0.35Mpa)下でジアミンとアジピン酸(ローディア社製)とのモル比が約1:1になるように徐々に滴下しながら、温度を270℃まで上昇させた。滴下終了後、滴下終了後、0.06MPaまで減圧し10分間反応を続け分子量1,000以下の成分量を調整した。その後、内容物をストランド状に取り出し、ペレタイザーにてペレット化し、ポリアミドを得た。以下、「MP6」という。融点は、257℃であった。
上記融点は、パーキン・エルマー(PERKIN-ELMER)社製、DSC−IIを用い、1分間当り10℃の昇温速度で、試料を予測される融点以上の温度に加熱し、次に試料を1分間当り10℃の速度で降温し、20℃まで冷却し、そのまま約1分間放置した後、再び1分間当り10℃の速度で加熱昇温することにより測定した。
<Thermoplastic resin>
(1) Polyamide resin PAP10 was synthesized by the following method.
(Synthesis of polyamide (PAP10))
A sebacic acid (made by Ito Oil Co., Ltd., product name Sebacin) precisely weighed in a reaction vessel having an internal volume of 50 liters equipped with a stirrer, a condenser, a cooler, a thermometer, a dropping device and a nitrogen introduction tube, and a strand die Acid TA) 8950 g (44.25 mol), calcium hypophosphite 12.54 g (0.074 mol), and sodium acetate 6.45 g (0.079 mol) were weighed and charged. After sufficiently purging the inside of the reaction vessel with nitrogen, the pressure was increased to 0.4 MPa with nitrogen, the temperature was raised from 20 ° C. to 190 ° C. with stirring, and sebacic acid was uniformly melted in 55 minutes. Next, 5960 g (43.76 mol) of paraxylylenediamine (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added dropwise over 110 minutes with stirring. During this time, the internal temperature of the reaction vessel was continuously increased to 293 ° C. In the dropping step, the pressure was controlled to 0.42 MPa, and the generated water was removed from the system through a partial condenser and a cooler. The temperature of the partial condenser was controlled in the range of 145 to 147 ° C. After completion of dropwise addition of paraxylylenediamine, the polycondensation reaction was continued for 20 minutes at a reaction vessel internal pressure of 0.42 MPa. During this time, the temperature inside the reaction vessel was raised to 296 ° C. Thereafter, the internal pressure of the reaction vessel was reduced from 0.42 MPa to 0.12 MPa over 30 minutes. During this time, the internal temperature rose to 298 ° C. Thereafter, the pressure was reduced at a rate of 0.002 MPa / minute, the pressure was reduced to 0.08 MPa over 20 minutes, and the amount of the component having a molecular weight of 1,000 or less was adjusted. The temperature in the reaction vessel at the time of completion of decompression was 301 ° C. Thereafter, the inside of the system was pressurized with nitrogen, the temperature in the reaction vessel was 301 ° C., the resin temperature was 301 ° C., the polymer was taken out from the strand die into a strand shape, cooled with 20 ° C. cooling water, pelletized, and about 13 kg. A polyamide resin was obtained. The cooling time in cooling water was 5 seconds, and the strand take-up speed was 100 m / min. Hereinafter, it is referred to as “PAP10”. The melting point was 290 ° C.
(2) The polyamide resin MP6 was synthesized by the following method.
(Synthesis of polyamide (MP6))
After adipic acid is heated and dissolved in a reactor under a nitrogen atmosphere, the contents are stirred and paraxylylenediamine (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) and metaxylylenediamine (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) While gradually adding a mixed diamine having a molar ratio of 3: 7 under pressure (0.35 Mpa) so that the molar ratio of diamine and adipic acid (manufactured by Rhodia) is about 1: 1, Was raised to 270 ° C. After completion of the dropping, the pressure was reduced to 0.06 MPa and the reaction was continued for 10 minutes to adjust the amount of the component having a molecular weight of 1,000 or less. Thereafter, the contents were taken out in a strand shape and pelletized with a pelletizer to obtain polyamide. Hereinafter, it is referred to as “MP6”. The melting point was 257 ° C.
The melting point is determined by using a DSC-II manufactured by PERKIN-ELMER and heating the sample to a temperature above the expected melting point at a rate of temperature increase of 10 ° C. per minute. The temperature was lowered at a rate of 10 ° C. per minute, cooled to 20 ° C., allowed to stand for about 1 minute, and then heated and heated again at a rate of 10 ° C. per minute.

<LDS添加剤>
(1)CP5C:Keeling&Walker社製、アンチモンドープ酸化スズ(酸化スズ95重量%、酸化アンチモン5重量%、酸化鉛0.02重量%、酸化銅0.004重量%)からなる。反射率61.7%
(2)Minatec 40CM: (Sb/Sn)O2(43重量%)からなる組成物をコーティングした、マイカ+SiO2(合計57重量%)(メルク製)、反射率51.1%
(3)Black 1G:CuCr24(Shephred color company製)、反射率7.2%
<LDS additive>
(1) CP5C: Made of Keeling & Walker, made of antimony-doped tin oxide (95% by weight of tin oxide, 5% by weight of antimony oxide, 0.02% by weight of lead oxide, 0.004% by weight of copper oxide). Reflectance 61.7%
(2) Minatec 40CM: Mica + SiO 2 (total 57% by weight) (Merck) coated with a composition comprising (Sb / Sn) O 2 (43% by weight), reflectivity 51.1%
(3) Black 1G: CuCr 2 O 4 (manufactured by Shepherd color company), reflectance 7.2%

上記反射率は、LDS添加剤の粉を約100μm厚のポリエチレン製の袋に入れ、可視紫外分光器、島津製作所製、UV−3100PCを用いて測定したものである。   The reflectance is measured using a UV-3100PC made by placing LDS additive powder in a polyethylene bag having a thickness of about 100 μm and using a visible ultraviolet spectrometer, Shimadzu Corporation.

<酸化チタン>
CR−63:石原産業製、ルチル型、平均一次粒子径0.21μm
<Titanium oxide>
CR-63: manufactured by Ishihara Sangyo, rutile type, average primary particle size of 0.21 μm

<ガラスフィラー>
03T−296GH:日本電気硝子製、Eガラス
<Glass filler>
03T-296GH: Nippon Electric Glass, E glass

<熱安定剤>
Irganox1098:ヒンダートフェノール系熱安定剤、BASF社製
<Heat stabilizer>
Irganox 1098: hindered phenol heat stabilizer, manufactured by BASF

<難燃剤>
PME90FRの作製方法
ポリフェニレンエーテル樹脂34.7重量%、無水マレイン酸0.3重量%、ホスファゼン35重量%および硼酸亜鉛30重量%をドライブレンド後、東芝機械株式会社製「TEX−30α」を用いて、バレル設定温度280℃、スクリュー回転数200rpm、吐出量20kg/hの条件で溶融混練を行い、ホスファゼンマスターバッチのペレットを得た。
<<マスターバッチの製造に使った原料>>
ポリフェニレンエーテル樹脂:製造元:三菱エンジニアリングプラスチックス製、品番:PX100L
ホスファゼン:製造元:大塚化学製、品番:SPS−100
ZnB:製造元:RIO TINTO製、品番:Fire Break ZB
<Flame Retardant>
Method for producing PME90FR After dry blending 34.7% by weight of polyphenylene ether resin, 0.3% by weight of maleic anhydride, 35% by weight of phosphazene and 30% by weight of zinc borate, using “TEX-30α” manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd. The mixture was melt-kneaded under the conditions of a barrel set temperature of 280 ° C., a screw rotation speed of 200 rpm, and a discharge rate of 20 kg / h to obtain phosphazene master batch pellets.
<< Raw materials used for masterbatch production >>
Polyphenylene ether resin: Manufacturer: manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, product number: PX100L
Phosphazene: Manufacturer: manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., product number: SPS-100
ZnB: Manufacturer: manufactured by RIO TINTO, product number: Fire Break ZB

<その他難燃剤>
OP−1230:製造元:クラリアントジャパン製、品番:EXOLIT OP−1230
HP3010:ハロゲン系難燃剤、アルベマール製
<Other flame retardants>
OP-1230: manufacturer: manufactured by Clariant Japan, product number: EXOLIT OP-1230
HP3010: Halogen flame retardant, Albemarle

<難燃助剤>
ZnB:製造元:RIO TINTO製、品番:Fire Break ZB
Sb23:製造元:日本精鉱製、品番:PATOX
<Flame retardant aid>
ZnB: Manufacturer: manufactured by RIO TINTO, product number: Fire Break ZB
Sb 2 O 3 : Manufactured by: Nippon Seiko Co., Ltd., Product Number: PATOX

<アルカリ>
Ca(OH)2
<Alkali>
Ca (OH) 2

<タルク>
MW5000S:林化成製
<Talc>
MW5000S: Hayashi Kasei

<離型剤>
CS−8CP:製造元:日東化工製、品番:CS−8CP
<Release agent>
CS-8CP: Manufacturer: Nitto Kako, Product number: CS-8CP

<コンパウンド>
後述する下記表に示す組成となるように、各成分をそれぞれ秤量し、ガラスフィラーを除く成分をタンブラーにてブレンドし、二軸押出機(東芝機械社製、TEM26SS)の根元から投入し、溶融した後で、ガラスフィラーをサイドフィードして樹脂ペレットを作成した。押出機の温度設定は、300℃とした。
<Compound>
Each component is weighed so as to have the composition shown in the following table, which will be described later, components other than the glass filler are blended with a tumbler, charged from the root of a twin-screw extruder (Toshiki Machine Co., Ltd., TEM26SS), and melted. After that, glass pellets were made by side-feeding the glass filler. The temperature setting of the extruder was 300 ° C.

<反射率(450nm)>
射出成形により、60mm×60mm×2mmtの試験片を作製した。可視紫外分光器、島津製作所製、UV−3100PCを用いて、波長450nmにおける反射率(単位:%)を測定した。450nmは青色発光ダイオードの波長領域である。成形品の初期反射率50%以上であるものは、良好な反射率であると判断され、反射率が要求される用途に使用できる可能性があると判断できる。
<Reflectance (450 nm)>
A test piece of 60 mm × 60 mm × 2 mmt was produced by injection molding. The reflectance (unit:%) at a wavelength of 450 nm was measured using a visible ultraviolet spectrometer, manufactured by Shimadzu Corporation, UV-3100PC. 450 nm is a wavelength region of a blue light emitting diode. If the molded product has an initial reflectance of 50% or more, it is judged that the reflectance is good, and it can be judged that there is a possibility that it can be used for applications requiring reflectance.

<難燃性>
射出成形により、1.5mm厚さの試験片を作製した。
UL−94試験に従い、1.5mm厚さにおける難燃性を以下の通り評価した。結果を下記表に示す。
A:V−0が達成できた。
B:V−1以下のレベルであった。
<Flame retardance>
A test piece having a thickness of 1.5 mm was produced by injection molding.
According to the UL-94 test, the flame retardancy at a thickness of 1.5 mm was evaluated as follows. The results are shown in the table below.
A: V-0 was achieved.
B: The level was V-1 or less.

<メッキ性(Plating外観)>
金型として60×60mmで厚みの2mmのキャビティに、一辺60mmが1.5mm厚みのファンゲートから樹脂を充填して成形を行った。ゲート部分をカットし、プレート試験片を得た。
得られたプレート試験片の10×10mmの範囲に、SUNX(株)製LP−Z SERIESのレーザー照射装置(波長1064nmのYAGレーザー最大出力13W)を用い、出力80%、パルス周期20μs(マイクロ秒)、速度4m/sにて照射した。その後のメッキ工程は無電解のMacDermid社製、MIDCopper100XB Strikeを用い、60℃のメッキ槽にて実施した。メッキ性能は15分間にメッキされた銅の厚みを目視にて判断した。
以下の通り評価した。結果を下記表に示す。
A:良好な外観(銅の色も濃くメッキが厚く乗っている様子が確認された)
B:メッキがほとんど確認されない様子
<Plating properties (plating appearance)>
Molding was performed by filling a cavity of 60 mm × 60 mm and a thickness of 2 mm as a mold from a fan gate having a side of 60 mm and a thickness of 1.5 mm. The gate portion was cut to obtain a plate test piece.
Using an LP-Z SERIES laser irradiation device (YAG laser maximum output 13 W at a wavelength of 1064 nm) manufactured by SUNX Co., Ltd., in an area of 10 × 10 mm of the obtained plate test piece, output 80%, pulse period 20 μs (microseconds) ) And irradiation at a speed of 4 m / s. The subsequent plating process was performed in a plating bath at 60 ° C. using a non-electrolytic MacDermid product, MIDCopper100XB Strike. The plating performance was determined by visual observation of the thickness of copper plated for 15 minutes.
Evaluation was performed as follows. The results are shown in the table below.
A: Good appearance (confirmed that the copper color is dark and the plating is thick)
B: Plating is hardly confirmed

<ハンダ耐熱性>
上記プレート試験片(0.8mmt)の試験片を作製し、240℃のハンダ浴を用い、試験片を1分間浸漬し、変形の度合いを目視にて確認した。以下の通り評価した。
A:1分間の浸漬においても変形がなく良好な外観であった
B:1分以内に若干試験片の角に変形が見られた
C:1分以内に試験片が確実に変形した
<Solder heat resistance>
The test piece of the said plate test piece (0.8mmt) was produced, the test piece was immersed for 1 minute using the soldering bath of 240 degreeC, and the degree of deformation | transformation was confirmed visually. Evaluation was performed as follows.
A: Deformation did not occur even when immersed for 1 minute. B: Deformation was slightly observed at the corner of the test piece within 1 minute. C: The test piece was reliably deformed within 1 minute.

Figure 0006363885
Figure 0006363885

上記表から明らかなとおり、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、ハンダ耐熱性および難燃性に優れ、反射率が高く、メッキ性が高いことが分かった(実施例1〜12)。リン系難燃剤の配合量が少ない場合や配合しない場合(比較例1〜3)、難燃性が劣っていた。また、リン系難燃剤以外の難燃剤を用いた場合(比較例4)、メッキ性やハンダ耐熱性が劣っていた。また、LDS添加剤の反射率が低い場合(比較例5)、反射率が劣っていた。LDS添加剤の配合量が少ない場合(比較例6)、メッキ性が劣っていた。   As is clear from the above table, it was found that the thermoplastic resin composition of the present invention was excellent in solder heat resistance and flame retardancy, had high reflectance, and had high plating properties (Examples 1 to 12). When the blending amount of the phosphorus flame retardant is small or not blended (Comparative Examples 1 to 3), the flame retardancy is inferior. Further, when a flame retardant other than the phosphorus flame retardant was used (Comparative Example 4), the plating property and the solder heat resistance were inferior. Moreover, when the reflectance of the LDS additive was low (Comparative Example 5), the reflectance was poor. When the compounding amount of the LDS additive was small (Comparative Example 6), the plating property was inferior.

1 樹脂成形品
2 レーザー
3 レーザーが照射された部分
4 メッキ液
5 メッキ層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin molding 2 Laser 3 Laser irradiated part 4 Plating solution 5 Plating layer

Claims (23)

(A)示差走査熱量測定(DSC)により昇温速度10℃/分にて測定した融点が250℃以上の結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、(B)波長450nmにおける反射率が25%以上であるレーザーダイレクトストラクチャリング添加剤2〜30重量部、(C)酸化チタン30〜150重量部、および、(D)リン系難燃剤5.5重量部以上を含む、熱可塑性樹脂組成物。 (A) With respect to 100 parts by weight of a crystalline thermoplastic resin having a melting point of 250 ° C. or higher measured by differential scanning calorimetry (DSC) at a heating rate of 10 ° C./min, (B) the reflectance at a wavelength of 450 nm is 25%. A thermoplastic resin composition comprising 2 to 30 parts by weight of the above laser direct structuring additive, (C) 30 to 150 parts by weight of titanium oxide, and (D) 5.5 parts by weight or more of a phosphorus-based flame retardant. さらに、ガラスフィラーを前記(A)結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、ガラスフィラー10〜90重量部を含む、請求項1に記載の熱可塑性樹脂組成物。 Furthermore, the thermoplastic resin composition of Claim 1 which contains 10-90 weight part of glass fillers with respect to 100 weight part of said (A) crystalline thermoplastic resins. 前記ガラスフィラーが、チョップドストランド、ミルドファイバー、フレーク、ビーズおよびバルーンから選択される少なくとも1種である、請求項2に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The gas Rasufira is at least one selected chopped strands, milled fibers, flakes, from beads and balloons, thermoplastic resin composition according to claim 2. 前記ガラスフィラーがEガラスである、請求項2または3に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The gas Rasufira is E glass, thermoplastic resin composition according to claim 2 or 3. さらに、硼酸亜鉛を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 Furthermore, the thermoplastic resin composition of any one of Claims 1-4 containing a zinc borate. (D)リン系難燃剤が、(a)メラミンとリン酸との反応生成物、(b)(ジ)ホスフィン酸塩および(c)ホスファゼン化合物から選択される、請求項1〜のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 (D) a phosphorus-based flame retardant, (a) a reaction product of melamine with phosphoric acid is selected from (b) (di) phosphinic acid salt and (c) phosphazene compound, claim 1-5 2. The thermoplastic resin composition according to item 1. (A)結晶性熱可塑性樹脂がポリアミド樹脂である、請求項1〜のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 (A) The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 6 , wherein the crystalline thermoplastic resin is a polyamide resin. )レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤が、アンチモンおよび錫を含むことを特徴とする、請求項1〜のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 (B) Laser Direct Structuring additives, characterized in that it comprises antimony and tin, the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1-7. )レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤が、アンチモンおよび錫を含み、アンチモンよりも錫の方が含有量が多いことを特徴とする、請求項1〜のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The thermoplastic resin according to any one of claims 1 to 8 , wherein ( B ) the laser direct structuring additive contains antimony and tin, and the content of tin is higher than that of antimony. Composition. 前記熱可塑性樹脂組成物中のハロゲン原子の割合が全体の0.1重量%以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 9 , wherein a proportion of halogen atoms in the thermoplastic resin composition is 0.1% by weight or less of the whole. さらに、タルクを熱可塑性樹脂組成物100重量部に対し0.1〜20重量部の割合で含む請求項1〜10のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 Furthermore, the thermoplastic resin composition of any one of Claims 1-10 which contains a talc in the ratio of 0.1-20 weight part with respect to 100 weight part of thermoplastic resin compositions. )酸化チタンの平均一次粒子径が、1μm以下である、請求項1〜11のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 ( C ) The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 11 , wherein the average primary particle diameter of titanium oxide is 1 µm or less. )酸化チタンがルチル型である、請求項1〜12のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 ( C ) The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 12 , wherein the titanium oxide is a rutile type. (A)結晶性熱可塑性樹脂が、分子内に芳香環を含み、芳香環を構成する炭素原子のポリアミド樹脂分子中に対する割合が30モル%以上であるポリアミド樹脂である、請求項1〜13のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 (A) The crystalline thermoplastic resin is a polyamide resin containing an aromatic ring in the molecule and having a ratio of carbon atoms constituting the aromatic ring to the polyamide resin molecule of 30 mol% or more. The thermoplastic resin composition according to any one of the above. 請求項1〜14のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品。 The resin molded product formed by shape | molding the thermoplastic resin composition of any one of Claims 1-14. 発光ダイオード機器部品である、請求項15に記載の樹脂成形品。 The resin molded product according to claim 15, which is a light-emitting diode device part. 前記発光ダイオード機器部品が反射板としての機能を有する、請求項16に記載の樹脂成形品。 The resin molded product according to claim 16, wherein the light emitting diode device component has a function as a reflector. さらに、表面にメッキ層を有する、請求項15〜17のいずれか1項に記載の樹脂成形品。 Furthermore, the resin molded product of any one of Claims 15-17 which has a plating layer on the surface. 前記メッキ層が導電回路としての性能を保有する、請求項18に記載の樹脂成形品。 The resin molded product according to claim 18, wherein the plated layer retains performance as a conductive circuit. 請求項1〜14のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品の表面に、レーザーを照射後、金属を適用して、メッキ層を形成することを含む、メッキ層付樹脂成形品の製造方法。 Including applying a metal to the surface of a resin molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 14 and then applying a metal to form a plating layer. Manufacturing method of resin molded product with plating layer. 前記メッキが、銅、ニッケル、銀、および金の少なくとも1種を含む、請求項20に記載のメッキ層付樹脂成形品の製造方法。 The manufacturing method of the resin molded product with a plating layer of Claim 20 with which the said plating contains at least 1 sort (s) of copper, nickel, silver, and gold | metal | money. 前記メッキを多層構造で使用する請求項21に記載のメッキ層付樹脂成形品の製造方法。 The method for producing a resin molded product with a plating layer according to claim 21, wherein the plating is used in a multilayer structure. 請求項20〜22のいずれか1項に記載のメッキ層付樹脂成形品の製造方法を含む、導電回路を有する発光ダイオード機器部品の製造方法。 The manufacturing method of the light emitting diode apparatus component which has a conductive circuit including the manufacturing method of the resin molded product with a plating layer of any one of Claims 20-22.
JP2014128423A 2013-06-21 2014-06-23 Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer Active JP6363885B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014128423A JP6363885B2 (en) 2013-06-21 2014-06-23 Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013130212 2013-06-21
JP2013130212 2013-06-21
JP2014128423A JP6363885B2 (en) 2013-06-21 2014-06-23 Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015025127A JP2015025127A (en) 2015-02-05
JP6363885B2 true JP6363885B2 (en) 2018-07-25

Family

ID=52490040

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014128423A Active JP6363885B2 (en) 2013-06-21 2014-06-23 Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6363885B2 (en)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160215124A1 (en) * 2013-09-05 2016-07-28 Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation Thermoplastic resin composition, resin molded article, and method for manufacturing the resin molded article with plating layer
KR20180014019A (en) * 2015-05-28 2018-02-07 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. Thermoplastic polymer compositions, articles made therefrom and methods of making same
US20180230294A1 (en) * 2015-08-26 2018-08-16 Sabic Global Technologies B.V. Alkylphospinate salts as impact modifier for laser platable materials and the process thereby
WO2017061460A1 (en) * 2015-10-08 2017-04-13 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Resin composition, resin molded article, method for producing plated resin molded article, and method for producing portable electronic equipment component having antenna
US20190269012A1 (en) * 2016-11-30 2019-08-29 Dsm Ip Assets B.V. Thermoplastic composition
JP6745226B2 (en) * 2017-01-24 2020-08-26 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Method for producing polyamide resin composition for laser direct structuring, resin molded article, plated resin molded article and method for producing portable electronic device parts
EP3792312B1 (en) * 2018-05-10 2023-09-13 Global Polyacetal Co., Ltd. Resin composition, kit, method for manufacturing resin composition, method for manufacturing formed article, and formed article
JPWO2020138188A1 (en) 2018-12-26 2021-11-18 三菱ケミカル株式会社 Powder for additive manufacturing method and its manufacturing method
WO2020158903A1 (en) 2019-01-30 2020-08-06 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Resin composition for powder lamination shaping method, pellets, powder, method for producing shaped article, and shaped article
WO2022009899A1 (en) 2020-07-06 2022-01-13 三菱ケミカル株式会社 Powder for powder laminate molding method, powder laminate molding method, and molded article
US20230374300A1 (en) * 2020-07-28 2023-11-23 Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation Resin composition, molded article, and method for manufacturing plated molded article

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011148922A (en) * 2010-01-22 2011-08-04 Mitsubishi Engineering Plastics Corp Flame-retardant polyamide resin composition and molded product comprising the same
CN103443328B (en) * 2011-03-18 2016-02-24 三菱化学欧洲有限公司 The manufacture method of the synthetic resin of thermoplastic resin composition, synthetic resin and band coating

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015025127A (en) 2015-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6363885B2 (en) Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer
JP5340513B1 (en) Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer
JP5912704B2 (en) Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer
JP6505015B2 (en) Thermoplastic resin composition, resin molded article, and method for producing resin molded article with plated layer
JP5947577B2 (en) Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer
JP5276000B2 (en) Flame retardant polyamide composition
US11261327B2 (en) Thermoplastic polymer composition, an article made thereof and a process for preparing the same
US20140353543A1 (en) Thermally conductive polymer compositions with laser direct structuring function
JP6889906B2 (en) Polyamide resin composition and molded article obtained by molding the polyamide resin composition
US20100113656A1 (en) Flame resistant semiaromatic polyamide resin compositions and processes for the preparation of the compositions exhibiting increased melt flow and articles therefrom
US20180346711A1 (en) Impact modified lds composition
JP2015522094A (en) Halogen-free flame retardant polyamide composition
JP7174431B2 (en) Polyamide resin composition and molded article obtained by molding the same
JP6131151B2 (en) Polyamide resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer
JP6266852B2 (en) RESIN COMPOSITION, RESIN MOLDED ARTICLE, METHOD FOR PRODUCING PLATED RESIN MOLDED ARTICLE, AND METHOD FOR PRODUCING PORTABLE ELECTRONIC DEVICE COMPONENT HAVING ANTENNA
JP4762034B2 (en) Flame retardant, flame retardant resin composition and flame retardant resin processed product
WO2015067563A1 (en) Flame retardant led for indoor lighting
JP2007246637A (en) Flame retardant, flame-retardant resin composition, and flame-retardant resin processed article
JP6643341B2 (en) Deoxybenzoin-containing flame retardant polymer composition
CN112409638A (en) Flame retardant combinations for polymer compositions and uses thereof
KR102370309B1 (en) Flame-retardant polyesters
WO2014016386A1 (en) Preparation of anti-corrosive phosphinate polyamide flame retardant compositions
EP3390537B1 (en) A thermoplastic polymer composition, an article made thereof and a process for preparing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170425

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171212

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180515

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180606

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180619

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180629

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6363885

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250