JP6344594B2 - 電子ビームリソグラフィによってプレート又はマスク上に印刷されるパターンを準備する方法、対応する印刷回路設計システム、及び対応するコンピュータプログラム - Google Patents
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Description
パターンを再生産するために電子ビームの形状を調節することによって、個々に印刷されることが意図された基本幾何学的形状の集団にこのパターンを解体することによって、前記パターンをモデリングするステップ、及びメモリに取得されたモデルを記録するステップ、並びに
モデルの各基本幾何学的形状に関して、この基本幾何学的形状の個々の印刷の間に電子ビームに適用される電荷のドーズをメモリにアクセスするプロセッサによって決定するステップであって、このドーズはメモリに記録された所定のドーズの離散集団から選択される、ステップ
を包含するこの種の方法に適用する。
パターンを再生産するために電子ビームの形状を調節することによって、個々に印刷されることが意図された基本幾何学的形状の集団にこのパターンを解体することによって、前記パターンをモデリングするステップ、及びメモリに取得されたモデルを記録するステップ、並びに
モデルの各基本幾何学的形状に関して、この基本幾何学的形状の個々の印刷の間に電子ビームに適用される電荷のドーズをメモリにアクセスするプロセッサによって決定するステップであって、このドーズはメモリに記録されたいくつかの非ゼロの所定のドーズを含むドーズの離散集団から選択される、ステップ
を包含し、
その基本幾何学的形状の集団は、印刷されるパターンを覆う同一の基本幾何学的形状の二次元ペイビングであり、幾何学的形状に適用されるドーズが決定された時には、離散化誤差補正がディザリングによって行われる。
粗い集団と呼ばれる、メモリに記録された所定のドーズの第1の離散集団は、印刷されるパターンの内側に置かれる基本幾何学的形状に対して使用され、
細かい集団と呼ばれる、メモリに記録された所定のドーズの第2の離散集団は、粗い集団よりも多くのドーズの離散値を備え、印刷されるパターンの輪郭上に置かれた基本幾何的形状に対して使用される。
上記パターンを再生産するために個々に印刷されることが意図された基本幾何学的形状の集団によってパターンをモデリングするためのパラメータを格納するためのメモリ、及び
先に定義された通り、印刷されるパターンを準備するための方法を実装するようにプログラミングされたプロセッサ
を備える。
Claims (10)
- 可変成形電子ビームリソグラフィによってプレート又はマスク上に印刷されるパターン(C)を準備するための方法であって、前記方法は、以下のステップ:
前記パターン(C)を再生産するために、個々に印刷されることが意図された基本幾何学的形状(Mf[1,1]・・・Mf[Nf,Nf])の集合(Mf)に前記パターン(C)を解体することによって前記パターン(C)をモデル化するステップ(102)、及び取得されたモデルをメモリ(14)に記録するステップ、並びに
前記モデルの基本幾何学的形状の各々に関して、基本幾何学的形状の個々の印刷の間に、基本幾何学的形状の各々の電子ビームに適用される電荷のドーズを、前記メモリ(14)に対するアクセスを有するプロセッサ(12)によって、前記メモリ(14)に記録された所定の複数の非ゼロのドーズから構成されるドーズの離散集合(D)から選択して、決定するステップ(104、106)
を包含し、
前記基本幾何学的形状(Mf[1,1]・・・Mf[Nf,Nf])の集合は、印刷される前記パターン(C)を覆う同一の基本幾何学的形状の二次元ペイビングであること、及び前記幾何学的形状の各々の電子ビームに適用されるドーズが決定された(104、106)時に、離散化誤差補正(106)がディザリングによって行われることを特徴とする、方法。 - 前記電子ビームに対する単一の露光で印刷されることをそれぞれが意図された大きいサイズの幾何学的形状で、前記ドーズが同一である隣接する基本幾何学的形状を分類するステップ(108)をさらに包含する、請求項1に記載の印刷されるパターンを準備するための方法。
- 論理的ドーズの集合(Di)とそれぞれ関連付けられる異なる寸法を有する幾何学的形状の論理的集合(Mi)に前記パターン(C)を解体することによって、前記パターン(C)をモデリングする事前のステップ(100)をさらに包含し、前記基本幾何学的形状のペイビングに適用されるドーズが決定される(104、106)時に、前記基本幾何学的形状(Mf[1,1]・・・Mf[Nf,Nf])の前記集合(Mf)上での論理的集合(Mi)の事前画素化(104)が前記基本幾何学的形状に適用されるドーズの初期値(D’i)を決定するために実行される、請求項1又は2に記載の印刷されるパターンを準備するための方法。
- ドーズの離散集合が、前記論理的ドーズ(Di)を決定するために事前モデリングステップ(100)の間に使用され、前記ドーズの離散集合は、前記基本幾何学的形状に適用されるドーズの決定(104、106)の間に使用されるドーズの離散集合とは異なり、事前モデリングステップ(100)の間に使用されるドーズの離散集合は、より少ない離散ドーズ値を備える、請求項3に記載の印刷されるパターンを準備するための方法。
- 前記基本幾何学的形状に適用されるドーズの決定(104、106)は、前記メモリに記録された所定のドーズの前記離散集合(D)と前記ドーズの前記初期値(D’ i )との比較(106)、前記離散集合(D)からのドーズの選択(106)、及び前記選択によって引き起こされる誤差のディザリングによる補正(106)を包含する、請求項3又は4に記載の印刷されるパターンを準備するための方法。
- 前記所定のドーズは単位表面当たりの電荷の数として表される電荷密度の形態で定義される、請求項1〜5のうちのいずれか1項に記載の印刷されるパターンを準備するための方法。
- 前記ディザリングによる離散化誤差補正(106)は、所定の、フロイド−スタインバーグアルゴリズムの誤差拡散マトリックスによって行われる、請求項1〜6のうちのいずれか1項に記載の印刷されるパターンを準備するための方法。
- 前記基本幾何学的形状に適用されるドーズが決定される(104、106)時に、
粗い集合と呼ばれる、メモリに記録された所定のドーズの第1の離散集合は、印刷される前記パターンの内側に置かれる前記基本幾何学的形状に対して使用され、
細かい集合と呼ばれる、メモリに記録された所定のドーズの第2の離散集合は、前記粗い集合よりも多くのドーズの離散値を備え、印刷される前記パターンの輪郭上に置かれた前記基本幾何的形状に対して使用される、
請求項1〜7のうちのいずれか1項に記載の印刷されるパターンを準備するための方法。 - 通信ネットワークからダウンロード可能であり、および/またはコンピュータによって読み取られることが出来、および/またはプロセッサ(12)によって実行されることが出来る媒体上に記録されるコンピュータプログラム(16、18、20、22、24)であって、前記コンピュータプログラム(16、18、20、22、24)は、前記プログラムがコンピュータ上で実行された時に、請求項1〜8のうちのいずれか1項に記載の電子ビームリソグラフィによって印刷されるパターンを準備するための方法のステップを実行するための命令を備えることを特徴とする、コンピュータプログラム(16、18、20、22、24)。
- 電子ビームリソグラフィを使用してプレートまたはマスク上にパターンを印刷することによって印刷回路を設計するためのシステム(10)であって、前記システム(10)は、
パターン(C)を再生産するために個々に印刷されることを意図された基本的幾何学的形状(Mf[1,1]・・・Mf[Nf,Nf])の集合によって前記パターンをモデリングするためのパラメータを格納するためのメモリ(14)、及び
請求項1〜請求項8のうちのいずれか1項に記載の印刷されるパターンを準備するための方法を実装するようにプログラミングされたプロセッサ(12)
を備えることを特徴とする、システム(10)。
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