JP6341356B2 - Musical sound generating apparatus, musical sound generating method and program - Google Patents
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Description
本発明は、自然楽器と同様の楽音変化や、自然楽器では表現出来ない楽音変化を再現する楽音発生装置、楽音発生方法およびプログラムに関する。 The present invention relates to a musical sound generating apparatus, a musical sound generating method, and a program for reproducing a musical sound change similar to a natural musical instrument or a musical sound change that cannot be expressed by a natural musical instrument.
従来より楽音消音指示操作、つまり離鍵後の楽音に多様な変化を付与する技術が知られている。例えば特許文献1には、鍵の表面に設けられたタッチセンサに基づいて離鍵時のタッチ位置を検出し、検出されたタッチ位置および現在の楽音の発音状態に応じて、消音させる楽音波形のリリース部の楽音波形サンプル(波形データ)およびエンベロープをそれぞれ指定し、指定されたリリース部の楽音波形サンプル(波形データ)およびエンベロープを用いてキーオフ後の楽音を形成する技術が開示されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a technique for giving various changes to a musical tone mute instruction operation, that is, a musical tone after a key release has been known. For example,
また近年では、例えばチェンバロやクラビネット等、離鍵などの楽音消音指示操作時にある程度の音量増加や音色変化を起こす自然楽器の減衰機構をシミュレートする電子楽器も知られている。この種の電子楽器では、離鍵などの楽音消音指示操作後のリリース段階において、エンベロープのブレイクポイントのレベルやレートをユーザ設定可能とし、これにより自然楽器のリリース特性をシミュレートして楽音消音指示操作後の楽音(減衰音)の音量や音色を修飾するようになっている。 In recent years, electronic musical instruments that simulate a decay mechanism of a natural musical instrument that causes a certain volume increase or timbre change when a musical sound muting instruction operation such as a key release is performed are also known. This type of electronic musical instrument allows the user to set the level and rate of the breakpoint of the envelope at the release stage after a musical sound muting instruction operation such as key release, thereby simulating the release characteristics of a natural instrument and instructing the musical sound muting. The volume and tone of the musical tone (attenuating sound) after operation are modified.
ところで、上述した減衰機構をシミュレートする電子楽器のように、楽音消音指示操作後のリリース段階において、リリースレベルおよびリリースレートを目標値としてユーザ設定可能とすると、例えば図19に図示する一例のように、楽音消音指示操作のタイミングによってはユーザが意図したものとは異なるリリース制御となる虞が生じる。 By the way, when the user can set the release level and the release rate as the target values in the release stage after the musical sound mute instruction operation, as in the electronic musical instrument simulating the attenuation mechanism described above, for example, as shown in FIG. In addition, depending on the timing of the musical sound mute instruction operation, there is a possibility that release control different from that intended by the user is performed.
つまり、図19に図示するように、音量エンベロープ波形がユーザ設定された目標値のリリースレベルより小さい第2のタイミングで楽音消音指示操作がなされた場合には、音量エンベロープを一旦目標値のリリースレベルまで増加させた後、ユーザ設定されたリリースレートに従って減衰させるリリース特性によって楽音消音指示操作時の音量増加や音色変化を起こす自然楽器の減衰機構をシミュレートすることが出来る。 That is, as shown in FIG. 19, when the sound mute instruction is performed at the second timing when the volume envelope waveform is smaller than the release level of the target value set by the user, the volume envelope is temporarily set to the release level of the target value. It is possible to simulate an attenuation mechanism of a natural musical instrument that causes an increase in sound volume or a change in timbre during a musical tone mute instruction operation by a release characteristic that is attenuated according to a release rate set by the user.
これに対し、音量エンベロープ波形がユーザ設定された目標値のリリースレベルより大きい第1のタイミングで楽音消音指示操作された場合には、音量エンベロープ波形をユーザ設定された目標値のリリースレベルにまで強制的に減衰させた後、当該リリースレベルからユーザ設定されたリリースレートに従って減衰させる二段階減衰のリリース制御、すなわちユーザが意図したものとは異なるリリース制御となってしまう弊害が生じる。 On the other hand, if the musical sound mute instruction is operated at the first timing that is greater than the release level of the target value set by the user, the volume envelope waveform is forced to the release level of the target value set by the user. After attenuating automatically, there is a negative effect that the release control is a two-stage attenuation that attenuates according to the release rate set by the user from the release level, that is, a release control different from the one intended by the user.
従って、以上の内容を言い換えると、楽音消音指示操作のタイミングによっては、ユーザが意図した通りに自然楽器と同様の楽音変化や、自然楽器では表現出来ない楽音変化を再現することが出来ない、という問題が有る。 Therefore, in other words, depending on the timing of the musical sound mute instruction operation, it is not possible to reproduce the same musical sound change as a natural instrument or a musical sound change that cannot be expressed with a natural musical instrument as intended by the user. There is a problem.
そこで本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、楽音消音指示操作のタイミングに依らず、ユーザが意図した通りに自然楽器と同様の楽音変化や、自然楽器では表現出来ない楽音変化を再現することが出来る楽音発生装置、楽音発生方法およびプログラムを提供することを目的としている。 Therefore, the present invention has been made in view of such circumstances, regardless of the timing of the musical sound mute instruction operation, the musical sound change similar to the natural musical instrument as the user intended, or the musical sound change that cannot be expressed by the natural musical instrument It is an object to provide a musical sound generating apparatus, a musical sound generating method, and a program that can reproduce the above.
上記目的を達成するため、本発明の楽音発生装置は、楽音発生指示操作に応じてエンベロープ波形を発生するエンベロープ発生手段と、楽音消音指示操作時ベロシティを検出する検出手段と、前記検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応するオフセット値を、当該楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に加算してリリース目標レベルを設定するリリース目標レベル設定手段と、前記設定されたリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり及び立ち下がり特性のリリース波形を、前記エンベロープ発生手段が発生するエンベロープ波形に付与するリリース波形付与手段と、前記リリース波形付与手段によりリリース波形が付与されたエンベロープ波形に従って前記楽音発生指示操作により発生の指示された楽音を制御する楽音制御手段とを具備することを特徴とする。 In order to achieve the above object, a musical tone generating apparatus according to the present invention includes an envelope generating means for generating an envelope waveform in response to a musical sound generation instruction operation, a detecting means for detecting a velocity during a musical sound muting instruction operation, and the detected musical sound. Release target level setting means for setting the release target level by adding the offset value corresponding to the velocity at the time of mute instruction operation to the amplitude of the envelope waveform at the time of the sound mute instruction operation, and for the set release target level certain rising and falling characteristics of the release waveform, and release corrugator means the envelope generating means is applied to the envelope waveform generated, the tone generation instructing according envelope waveform release waveform imparted by the release corrugator means Easy to control musical sounds that are instructed by operation Characterized by comprising a control means.
また、本発明の楽音発生方法では、楽音発生指示操作に応じてエンベロープ波形を発生させ、検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応するオフセット値を、当該楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に加算して設定されたリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり及び立ち下がり特性のリリース波形をエンベロープ波形に付与し、このリリース波形が付与されたエンベロープ波形に従って前記楽音を制御することを特徴とする。 In the musical sound generating method of the present invention, an envelope waveform is generated in response to the musical sound generation instruction operation, and the detected offset value corresponding to the velocity at the musical sound muting instruction operation is set to the amplitude of the envelope waveform at the musical sound muting instruction operation. certain rising and falling characteristics of the release waveform applied to the envelope waveform to the addition to the set release target level, and wherein the controller controls the musical tone in accordance with the envelope waveform which the release waveform is applied To do.
更に、本発明のプログラムでは、コンピュータに、楽音発音指示操作に応じてエンベロープ波形を発生するエンベロープ発生ステップと、楽音消音指示操作時ベロシティを検出する検出ステップと、前記検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応するオフセット値を、楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に加算してリリース目標レベルを設定するリリース目標レベル設定ステップと、前記設定されたリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり及び立ち下がり特性のリリース波形を、前記エンベロープ発生ステップで発生するエンベロープ波形に付与するリリース波形付与ステップと、前記リリース波形付与ステップにてリリース波形が付与されたエンベロープ波形に従って前記発生の指示された楽音を制御する楽音制御ステップとを実行させることを特徴とする。 Further, in the program of the present invention, an envelope generating step for generating an envelope waveform in response to a musical tone sounding instruction operation, a detecting step for detecting a velocity during a musical sound muting instruction operation, and the detected musical sound muting instruction operation time. A release target level setting step for setting a release target level by adding an offset value corresponding to velocity to the amplitude of the envelope waveform at the time of musical sound mute instruction operation, and a constant rise and rise with respect to the set release target level the edge characteristics of release waveform, and release corrugator step of applying the envelope waveform generated by the envelope generator step, the indicated tone of the generator according to the envelope waveform release waveform is applied at the release corrugator step Tone control to control Characterized in that to execute the steps.
本発明では、楽音消音指示操作のタイミングに依らず、ユーザが意図した通りに自然楽器と同様の楽音変化や、自然楽器では表現出来ない楽音変化を再現することが出来る。 According to the present invention, it is possible to reproduce a musical sound change similar to a natural musical instrument or a musical sound change that cannot be expressed by a natural musical instrument as intended by the user, regardless of the timing of the musical sound muting instruction operation.
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
A.構成
図1は、本発明の実施の一形態による楽音発生装置100の全体構成を示すブロック図である。この図において、鍵盤10は、押離鍵操作に応じたキーオン/キーオフ信号、鍵番号およびベロシティ等からなる鍵盤情報を発生する。鍵盤10が発生する鍵盤情報は、CPU13を介して音源16に供給される。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
A. Configuration FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a musical
操作部11は、装置電源をパワーオン/パワーオフする電源スイッチの他、例えば発生する楽音の音色を選択する音色選択スイッチなどの各種スイッチを備え、これらスイッチ操作に応じた種類のスイッチイベントを発生する。表示部12は、CPU13から供給される表示制御信号に基づき、装置各部のパラメータ設定状態や動作状態などを画面表示する。
The
CPU13は、操作部11から供給される各種スイッチイベントに基づき装置各部の動作状態を設定する他、鍵盤10から供給される鍵盤情報に基づき音源16に楽音発生を指示する。本発明に係わるCPU13の特徴的な処理動作については追って詳述する。ROM14は、CPU13にロードされる各種制御プログラムを記憶する。各種制御プログラムとは、後述する押鍵エンベロープ処理、エンベロープ定常処理、エンベロープ定常処理サブルーチン、離鍵エンベロープパラメータ計算処理および離鍵エンベロープ処理を含む。
The
RAM15は、ワークエリアWEおよびデータエリアDEを備える。RAM15のワークエリアWEには、CPU13の処理に用いられる各種レジスタ・フラグデータが一時記憶される。RAM15のデータエリアDEには、例えばフィルタエンベロープ波形、アンプエンベロープ波形およびフィルタエンベロープ波形を形成する各種パラメータが記憶される。エンベロープ波形を形成する各種パラメータの内容については追って述べる。
The
音源16は、周知の波形メモリ読み出し方式にて構成され、CPU13から供給される鍵盤情報および楽音パラメータで指定される音色、音高および音量の楽音データWを発生する。音源16の具体的な構成について追って述べる。波形ROM17は、各種音色の波形データを記憶する。サウンドシステム18は、音源16から出力される楽音データWをアナログ形式の楽音信号に変換し、当該楽音信号から不要ノイズを除去する等のフィルタリングを施した後、これを増幅してスピーカから発音させる。
The
B.音源16の構成
次に、図2を参照して音源16の構成について説明する。音源16は周知のDSPから構成される。したがって、図2に図示する構成は、そのDSPにおいて実行されるマイクロプログラムの各機能をハードウェアイメージとして捉らえた機能ブロックに相当する。
B. Next, the configuration of the
図2に図示する音源16は、64チャンネル分の同時発音チャンネルに各々対応する楽音形成部16−1〜16−64と、これら楽音形成部16−1〜16−64の各出力を混合して楽音データWを発生するミキサ16gとから構成される。
The
1つの発音チャンネルに対応して設けられる楽音形成部16−nは、デジタル制御オシレータ(以下、DCOと記す)16a、DCO用エンベロープジェネレータ(以下、DCO EGと記す)16b、デジタル制御フィルタ(以下、DCFと記す)16c、DCF用エンベロープジェネレータ(以下、DCF EGと記す)16d、デジタル制御アンプ(以下、DCAと記す)16eおよびDCA用エンベロープジェネレータ(以下、DCA EGと記す)16fを備える。 A tone generator 16-n provided corresponding to one tone generation channel includes a digital control oscillator (hereinafter referred to as DCO) 16a, a DCO envelope generator (hereinafter referred to as DCO EG) 16b, a digital control filter (hereinafter referred to as DCO EG). A DCF envelope generator (hereinafter referred to as DCF EG) 16d, a digital control amplifier (hereinafter referred to as DCA) 16e, and a DCA envelope generator (hereinafter referred to as DCA EG) 16f.
DCO16aは、CPU13から供給される楽音パラメータで指定される音色の波形データを、DCO EG16bから出力されるオシレータエンベロープ波形(後述する)に対応した読み出し速度で波形ROM17から読み出す。これにより、楽音パラメータで指定される音色の波形データが、押鍵された鍵の鍵番号に対応した音高で再生される。DCO EG16bは、CPU13から供給される楽音パラメータで指定される形状のオシレータエンベロープ波形を、鍵盤情報に応じて発生する。
The
オシレータエンベロープ波形の一例を図3に図示する。DCO EG16bでは、CPU13から供給される楽音パラメータ、すなわち図3に図示するイニシャルレベルIL、アタックレートAR、アタックレベルAL、ディケイレートDR、サスティンレベルSL、リリースレートRR1、リリースレートRR2、リリースレベルオフセットRLOおよびファイナルレベルFLに従い、押鍵(キーオン)されてから離鍵(キーオフ)されるまでのADSR各領域のオシレータエンベロープ波形を形成する。
An example of an oscillator envelope waveform is illustrated in FIG. In the
DCF16cは、DCF EG16dから出力されるフィルタエンベロープ波形に応じて、カットオフ周波数を変調してローパス特性を変化させ、これにより前段のDCO16aから出力される波形データの音色を制御する。DCF EG16dは、CPU13から供給される楽音パラメータで指定される形状のフィルタエンベロープ波形を、鍵盤情報に応じて発生する。
The
フィルタエンベロープ波形の一例を図4に図示する。DCF EG16dでは、CPU13から供給される楽音パラメータ、すなわち図4に図示するイニシャルレベルIL、アタックレートAR、アタックレベルAL、ディケイレートDR、サスティンレベルSL、リリースレートRR1、リリースレートRR2、リリースレベルオフセットRLOおよびファイナルレベルFLに従い、押鍵(キーオン)されてから離鍵(キーオフ)されるまでのADSR各領域のフィルタエンベロープ波形を形成する。
An example of the filter envelope waveform is shown in FIG. In the
DCA16eは、DCA EG16fから供給されるアンプエンベロープ波形に応じて増幅率を可変制御して前段のDCF16cから出力される波形データの音量(振幅)を制御する。DCA EG16fは、CPU13から供給される楽音パラメータで指定される形状のアンプエンベロープ波形を、鍵盤情報に応じて発生する。
The
アンプエンベロープ波形の一例を図5に図示する。DCA EG16fでは、CPU13から供給される楽音パラメータ、すなわち図5に図示するイニシャルレベルIL、アタックレートAR、アタックレベルAL、ディケイレートDR、サスティンレベルSL、リリースレートRR1、リリースレートRR2、リリースレベルRatioおよびファイナルレベルFLに従い、押鍵(キーオン)されてから離鍵(キーオフ)されるまでのADSR各波形領域のエンベロープ波形を形成して出力する。
An example of the amplifier envelope waveform is shown in FIG. In the
このような構成において、本発明の要旨に係わる特徴的な技術事項は、DCO EG16bが発生するオシレータエンベロープ波形およびDCF EG16dが発生するフィルタエンベロープ波形にリリースレベルオフセットRLOを設け、DCA EG16fが発生するアンプエンベロープ波形にリリースレベルRatioを設けたことにある。
In such a configuration, a characteristic technical matter relating to the gist of the present invention is that an amplifier envelope generated by the
オシレータエンベロープ波形およびフィルタエンベロープ波形に定義されるリリースレベルオフセットRLOとは、離鍵時点のエンベロープ値に加算するオフセット値であり、次式(1)で算出される。
A+(離鍵時ベロシティ/127)×(B−A)…(1)
なお、上記(1)式において、オフセット最小値Aおよびオフセット最大値Bは、予めユーザ設定される値であり、オフセット最小値Aは離鍵時ベロシティが最小の時のオフセット値、オフセット最大値Bは離鍵時ベロシティが最大の時のオフセット値である。
The release level offset RLO defined in the oscillator envelope waveform and the filter envelope waveform is an offset value to be added to the envelope value at the time of key release, and is calculated by the following equation (1).
A + (Velocity at key release / 127) × (B−A) (1)
In the above equation (1), the minimum offset value A and the maximum offset value B are values set in advance by the user, and the minimum offset value A is the offset value when the key release velocity is minimum, and the maximum offset value B. Is the offset value when the velocity at the time of key release is maximum.
つまり、上記(1)式で算出されるリリースレベルオフセットRLOは、実際に離鍵された時のベロシティ値に応じて、オフセット最小値Aとオフセット最大値Bとの間を直線補間(内挿補間)して得られるオフセット値となる。こうして算出されるリリースレベルオフセットRLOは離鍵時点のエンベロープ値に加算されてリリース波形領域の目標レベル(リリースレベル)となる。 That is, the release level offset RLO calculated by the above equation (1) is linearly interpolated between the minimum offset value A and the maximum offset value B according to the velocity value when the key is actually released (interpolation interpolation). ) To obtain the offset value. The release level offset RLO calculated in this way is added to the envelope value at the time of key release to become the target level (release level) of the release waveform area.
ここで、図6〜図7を参照してリリースレベルオフセットRLOが定義されたフィルタエンベロープ波形の変化例について説明する。なお、図6は離鍵時ベロシティを一定とした場合に、異なる離鍵タイミング(第1〜第3の離鍵タイミング)で変化するリリース領域のエンベロープ波形をまとめて図示したものであり、図7(a)〜(c)は第1〜第3の離鍵タイミング別に分けたフィルタエンベロープ波形全体を図示したものである。 Here, a change example of the filter envelope waveform in which the release level offset RLO is defined will be described with reference to FIGS. FIG. 6 collectively shows envelope waveforms of release areas that change at different key release timings (first to third key release timings) when the key release velocity is constant. (A)-(c) shows the whole filter envelope waveform divided according to the 1st-3rd key release timing.
図6および図7(a)に図示するように、フィルタエンベロープ波形がディケイ領域にある段階で第1の離鍵が為された場合には、その第1の離鍵タイミング時点のエンベロープ値に、上記(1)式で取得したリリースレベルオフセットRLOを加算してリリース波形領域の目標レベルを設定する。 As shown in FIGS. 6 and 7A, when the first key release is performed when the filter envelope waveform is in the decay region, the envelope value at the time of the first key release timing is The target level of the release waveform area is set by adding the release level offset RLO acquired by the above equation (1).
第1の離鍵タイミング時点のエンベロープ値から当該目標レベルまではリリースレートRR1で増加する。この場合、リリースレベルオフセットRLOを加算したリリース波形領域の目標レベルは、フィルタエンベロープ波形の最大値を超える為、リリース領域のエンベロープ波形は当該最大値に制限された後、ファイナルレベルFLまでリリースレートRR2で減少する。 The release value RR1 increases from the envelope value at the time of the first key release timing to the target level. In this case, since the target level of the release waveform area to which the release level offset RLO is added exceeds the maximum value of the filter envelope waveform, the release waveform of the release area is limited to the maximum value, and then the release rate RR2 up to the final level FL. Decrease.
次に、図6および図7(b)に図示するように、フィルタエンベロープ波形がゼロレベルに達した時点で第2の離鍵が為された場合には、その第2の離鍵タイミング時点のエンベロープ値に、上記(1)式で取得したリリースレベルオフセットRLOを加算してリリース波形領域の目標レベルを設定する。第2の離鍵タイミング時点のエンベロープ値から当該目標レベルまでリリースレートRR1で増加し、当該目標レベルからファイナルレベルFLまでリリースレートRR2で減少する。 Next, as shown in FIG. 6 and FIG. 7B, when the second key release is performed when the filter envelope waveform reaches the zero level, the second key release timing point is displayed. The target level of the release waveform area is set by adding the release level offset RLO obtained by the above equation (1) to the envelope value. The value increases from the envelope value at the time of the second key release timing to the target level at the release rate RR1, and decreases from the target level to the final level FL at the release rate RR2.
更に、図6および図7(c)に図示するように、フィルタエンベロープ波形がサステイン領域にある時点で第3の離鍵が為された場合には、その第3の離鍵タイミング時点のエンベロープ値に、上記(1)式で取得したリリースレベルオフセットRLOを加算してリリース波形領域の目標レベルを設定する。第3の離鍵タイミング時点のエンベロープ値から当該目標レベルまでリリースレートRR1で増加し、当該目標レベルからファイナルレベルFLまでリリースレートRR2で減少する。 Further, as shown in FIGS. 6 and 7C, when the third key release is performed when the filter envelope waveform is in the sustain region, the envelope value at the third key release timing point In addition, the release level offset RLO acquired by the above equation (1) is added to set the target level of the release waveform area. It increases from the envelope value at the time of the third key release timing to the target level at the release rate RR1, and decreases from the target level to the final level FL at the release rate RR2.
以上述べたように、リリースレベルオフセットRLOが定義されたフィルタエンベロープ波形では、離鍵時点のエンベロープ値に、上記(1)式で算出されるリリースレベルオフセットRLOを加算した目標レベルを設定し、当該目標レベルまではリリースレートRR1で増加し、目標レベルからはリリースレートRR2で減少するので、離鍵タイミングに依らず常に一定の立ち上がり/立ち下がり特性のリリース領域が形成されることになる。なお、ここではフィルタエンベロープ波形を用いて説明したが、オシレータエンベロープ波形についても同様である。 As described above, in the filter envelope waveform in which the release level offset RLO is defined, the target level obtained by adding the release level offset RLO calculated by the above equation (1) to the envelope value at the time of key release is set, and Since it increases at the release rate RR1 up to the target level and decreases at the release rate RR2 from the target level, a release region having a constant rising / falling characteristic is always formed regardless of the key release timing. In addition, although it demonstrated using the filter envelope waveform here, it is the same also about an oscillator envelope waveform.
次に、アンプエンベロープ波形で定義されるリリースレベルRatioについて説明する。リリースレベルRatioとは、離鍵時点のエンベロープ値に乗算する係数であり、次式(2)で算出される。
A+(離鍵時ベロシティ/127)×(B−A)…(2)
なお、上記(2)式において、レシオ最小値Aおよびレシオ最大値Bは、予めユーザ設定される値であり、レシオ最小値Aは離鍵時ベロシティが最小の時の係数、レシオ最大値Bは離鍵時ベロシティが最大の時の係数である。
Next, the release level Ratio defined by the amplifier envelope waveform will be described. The release level Ratio is a coefficient by which the envelope value at the time of key release is multiplied and is calculated by the following equation (2).
A + (Velocity at key release / 127) × (B−A) (2)
In the above equation (2), the ratio minimum value A and the ratio maximum value B are values set in advance by the user. The ratio minimum value A is a coefficient when the key release velocity is minimum, and the ratio maximum value B is This is the coefficient when the velocity at the time of key release is maximum.
つまり、上記(2)式で算出されるリリースレベルRatioは、実際に離鍵された時のベロシティ値に応じて、レシオ最小値Aとレシオ最大値Bとの間を直線補間(内挿補間)して得られる係数となる。こうして算出されるリリースレベルRatioは離鍵時点のエンベロープ値に乗算されてリリース波形領域の目標レベルとなる。 That is, the release level Ratio calculated by the above equation (2) is linearly interpolated between the minimum ratio value A and the maximum ratio value B according to the velocity value when the key is actually released (interpolation interpolation). This is the coefficient obtained. The release level Ratio thus calculated is multiplied by the envelope value at the time of key release to become the target level of the release waveform area.
次に、図8〜図9を参照してリリースレベルRatioが定義されたアンプエンベロープ波形の変化例について説明する。なお、図8は離鍵時ベロシティを一定とした場合に、異なる離鍵タイミング(第1〜第3の離鍵タイミング)で変化するリリース領域のエンベロープ波形をまとめて図示したものであり、図9(a)〜(c)は第1〜第3の離鍵タイミング別に分けたアンプエンベロープ波形全体を図示したものである。 Next, with reference to FIGS. 8 to 9, a description will be given of examples of changes in the amplifier envelope waveform in which the release level Ratio is defined. FIG. 8 collectively shows the envelope waveforms of the release areas that change at different key release timings (first to third key release timings) when the key release velocity is constant. (A)-(c) shows the whole amplifier envelope waveform divided according to the 1st-3rd key release timing.
図8および図9(a)に図示するように、アンプエンベロープ波形がディケイ領域にある段階で第1の離鍵が為された場合には、その第1の離鍵タイミング時点のエンベロープ値に、上記(2)式で取得したリリースレベルRatioを乗算してリリース波形領域の目標レベルを設定する。 As shown in FIGS. 8 and 9A, when the first key release is performed when the amplifier envelope waveform is in the decay region, the envelope value at the time of the first key release timing is The target level of the release waveform area is set by multiplying the release level Ratio acquired by the above equation (2).
第1の離鍵タイミング時点のエンベロープ値から当該目標レベルまではリリースレートRR1で増加する。この場合、リリースレベルRatioを乗算したリリース波形領域の目標レベルは、アンプエンベロープ波形の最大値を超える為、リリース領域のエンベロープ波形は当該最大値に制限された後、ファイナルレベルFLまでリリースレートRR2で減少する。 The release value RR1 increases from the envelope value at the time of the first key release timing to the target level. In this case, since the target level of the release waveform area multiplied by the release level Ratio exceeds the maximum value of the amplifier envelope waveform, the envelope waveform in the release area is limited to the maximum value, and then the release level RR2 until the final level FL. Decrease.
次に、図8および図9(b)に図示するように、第2の離鍵タイミングで離鍵された場合には、その離鍵時点におけるエンベロープ値に、上記(2)式で取得したリリースレベルRatioを乗算してリリース波形領域の目標レベルを設定する。第2の離鍵タイミング時点のエンベロープ値から当該目標レベルまでリリースレートRR1で増加し、当該目標レベルからファイナルレベルFLまでリリースレートRR2で減少する。 Next, as shown in FIGS. 8 and 9B, when the key is released at the second key release timing, the release value obtained by the above equation (2) is used as the envelope value at the time of the key release. The target level of the release waveform area is set by multiplying the level Ratio. The value increases from the envelope value at the time of the second key release timing to the target level at the release rate RR1, and decreases from the target level to the final level FL at the release rate RR2.
更に、図8および図9(c)に図示するように、第3の離鍵タイミングで離鍵された場合には、その離鍵時点におけるエンベロープ値に、上記(2)式で取得したリリースレベルRatioを乗算してリリース波形領域の目標レベルを設定する。そして、第3の離鍵タイミング時点のエンベロープ値から当該目標レベルまでリリースレートRR1で増加し、当該目標レベルからファイナルレベルFLまでリリースレートRR2で減少する。 Further, as shown in FIGS. 8 and 9C, when the key is released at the third key release timing, the release level obtained by the above equation (2) is added to the envelope value at the time of the key release. The target level of the release waveform area is set by multiplying Ratio. Then, the value increases from the envelope value at the time of the third key release timing to the target level at the release rate RR1, and decreases from the target level to the final level FL at the release rate RR2.
このように、リリースレベルRatioが定義されたアンプエンベロープ波形では、離鍵時点のエンベロープ値に、上記(2)式で算出されるリリースレベルRatioを乗算してリリース波形領域の目標レベルを設定し、当該目標レベルまではリリースレートRR1で増加し、目標レベルからはリリースレートRR2で減少するので、離鍵タイミングに依らず、常に一定の立ち上がり/立ち下がり特性のリリース領域が形成されることになる。 Thus, in the amplifier envelope waveform in which the release level Ratio is defined, the target level of the release waveform area is set by multiplying the envelope value at the time of key release by the release level Ratio calculated by the above equation (2), Since it increases at the release rate RR1 up to the target level and decreases at the release rate RR2 from the target level, a release region having a constant rising / falling characteristic is always formed regardless of the key release timing.
したがって、以上説明した内容をまとめると、
(a)DCO EG16bは、離鍵時ベロシティに応じたリリースレベルオフセットRLOを、離鍵時点のエンベロープ値に加算してリリース波形領域の目標レベルを設定し、その目標レベルまでリリースレートRR1で増加し、目標レベルからリリースレートRR2で減少するリリース波形を発生するので、どのようなタイミングで離鍵されても常に一定の立ち上がり/立ち下がり特性のリリース波形を形成する。この結果、離鍵のタイミングに依らず、ユーザが意図した通りに自然楽器と同様の音高変化や、自然楽器では表現出来ない音高変化を再現することが可能になる。
Therefore, if we summarize the contents explained above,
(A) The
(b)DCF EG16dは、離鍵時ベロシティに応じたリリースレベルオフセットRLOを、離鍵時点のエンベロープ値に加算してリリース波形領域の目標レベルを設定し、その目標レベルまでリリースレートRR1で増加し、目標レベルからリリースレートRR2で減少するリリース波形を発生するので、どのようなタイミングで離鍵されても常に一定の立ち上がり/立ち下がり特性のリリース波形を形成する。この結果、離鍵のタイミングに依らず、ユーザが意図した通りに自然楽器と同様の音色変化や、自然楽器では表現出来ない音色変化を再現することが可能になる。
(B) The
(c)DCA EG16fは、離鍵時ベロシティに応じたリリースレベルRatioを、離鍵時点のエンベロープ値に乗算してリリース波形領域の目標レベルを設定し、その目標レベルまでリリースレートRR1で増加し、目標レベルからリリースレートRR2で減少するリリース波形を発生するので、どのようなタイミングで離鍵されても常に一定の立ち上がり/立ち下がり特性のリリース波形を形成する。この結果、離鍵のタイミングに依らず、ユーザが意図した通りに自然楽器と同様の音量変化や、自然楽器では表現出来ない音量変化を再現することが可能になる。
(C) The
B.動作
次に、図10〜図18を参照して、上記構成による楽音発生装置100のCPU13が実行する押鍵エンベロープ処理、エンベロープ定常処理、エンベロープ定常処理サブルーチン、離鍵エンベロープパラメータ計算処理および離鍵エンベロープ処理の各動作について説明する。
B. Operation Next, with reference to FIGS. 10 to 18, the key depression envelope process, the envelope steady process, the envelope steady process subroutine, the key release envelope parameter calculation process and the key release envelope which are executed by the
(1)押鍵エンベロープ処理の動作
図10は、押鍵エンベロープ処理の動作を示すフローチャートである。押鍵エンベロープ処理は、押鍵操作に応じて鍵盤10が鍵盤情報(キーオン信号、鍵番号およびベロシティ)を発生した場合に実行される。本処理が実行されると、CPU13は図10に図示するステップSA1に進み、発音割り当てを行う。ここで言う発音割り当てとは、音源16を構成する楽音形成部16−1〜16−64の中から空きチャンネル(消音中の発音チャンネル)の楽音形成部16−nを探し出し、該当する楽音形成部16−nに発音を割り当てる処理を指す。なお、全ての発音チャンネルが発音中の場合には、例えば後着優先などで発音割り当てを行う。
(1) Operation of Key Press Envelope Process FIG. 10 is a flowchart showing the operation of the key press envelope process. The key press envelope process is executed when the
続いて、ステップSA2では、発音割り当てされた楽音形成部16−nのDCO16aに基準ピッチを設定する。基準ピッチとは、押鍵に応じて発生した鍵盤情報に含まれる鍵番号に相当する。次いで、ステップSA3では、発音割り当てされた楽音形成部16−nのDCO16aに波形アドレスを設定する。波形アドレスとは、音色選択スイッチ操作で選択された音色の波形データの読み出し開始アドレスを指す。
Subsequently, in step SA2, a reference pitch is set in the
そして、ステップSA4〜SA5では、発音割り当てされた楽音形成部16−nのDCO EG16bに対してアタック領域のオシレータエンベロープ波形を発生させる為にイニシャルレベルILおよびアタックレートARを設定する。続いて、ステップSA6〜SA8では、発音割り当てされた楽音形成部16−nのDCF EG16dに基準カットオフ周波数を設定すると共に、アタック領域のフィルタエンベロープ波形を発生させる為にイニシャルレベルILおよびアタックレートARを設定する。
In steps SA4 to SA5, an initial level IL and an attack rate AR are set in order to generate an oscillator envelope waveform in the attack area for the
次いで、ステップSA9〜SA11では、発音割り当てされた楽音形成部16−nのDCA EG16fに基準音量を設定すると共に、アタック領域のアンプエンベロープ波形を発生させる為にイニシャルレベルILおよびアタックレートARを設定する。そして、ステップSA12では、DCO16aに波形データの読み出し開始を指示すると共に、DCO EG16b、DCF EG16dおよびDCA EG16fのそれぞれにアタック領域のオシレータエンベロープ波形、フィルタエンベロープ波形およびアンプエンベロープ波形の発生開始を指示して本処理を終える。
Next, in steps SA9 to SA11, a reference volume is set in the
(2)エンベロープ定常処理の動作
図11は、エンベロープ定常処理の動作を示すフローチャートである。エンベロープ定常処理は、押離鍵操作に関わらず一定周期毎に割込実行される。本処理の実行タイミングになると、CPU13は、ステップSB1に進み、DCO EG16bに対してエンベロープ定常処理サブルーチン(後述する)を実行する。続いて、ステップSB2では、DCF EG16dに対してエンベロープ定常処理サブルーチン(後述する)を実行する。そして、ステップSB3では、DCA EG16fに対してエンベロープ定常処理サブルーチン(後述する)を実行する。
(2) Operation of Envelope Steady Processing FIG. 11 is a flowchart showing the operation of envelope steady processing. The envelope steady process is interrupted at regular intervals regardless of the key press / release operation. At the execution timing of this process, the
次いで、ステップSB4では、DCA EG16fの状態が「停止」、すなわち消音状態であるか否かを判断する。消音状態でなければ、判断結果は「NO」になり、本処理を終える。一方、消音状態であれば、上記ステップSB4の判断結果が「YES」になり、ステップSB5に進み、DCO16aに波形データの読み出しを停止させ、当該DCO16aを開放して本処理を終える。
Next, in step SB4, it is determined whether or not the state of the
(3)エンベロープ定常処理サブルーチンの動作
図12〜図14は、エンベロープ定常処理サブルーチンの動作を示すフローチャートである。本処理は、各EG(オシレータエンベロープ波形を発生するDCO EG16b、フィルタエンベロープ波形を発生するDCF EG16dおよびアンプエンベロープ波形を発生するDCA EG16f)に共通するルーチンであり、上述のエンベロープ定常処理からコールされる。
(3) Operation of Envelope Steady Process Subroutine FIGS. 12 to 14 are flowcharts showing the operation of the envelope steady process subroutine. This processing is a routine common to each EG (
エンベロープ定常処理を介して本処理が実行されると、CPU13は図12に図示するステップSC1〜SC5において、エンベロープ波形の状態(波形領域)を判別する。以下、エンベロープ波形が「アタック状態」、「ディケイ状態」、「サスティン状態」、「リリース1状態」および「リリース2状態」の場合に分けて動作説明を進める。
When this process is executed through the envelope steady process, the
a.アタック状態
エンベロープ波形がアタック状態であると、上記ステップSC1の判断結果が「YES」になり、ステップSC6に進み、現在レベルがアタックレベルALに達したか否かを判断する。現在レベルがアタックレベルALに達していなければ、判断結果は「NO」になり、一旦本処理を終える。
a. Attack State If the envelope waveform is in the attack state, the determination result in step SC1 is “YES”, the process proceeds to step SC6, and it is determined whether or not the current level has reached the attack level AL. If the current level does not reach the attack level AL, the determination result is “NO”, and the present process is temporarily terminated.
これに対し、現在レベルがアタックレベルALに達していると、上記ステップSC6の判断結果が「YES」になり、ステップSC7に進む。ステップSC7〜SC8では、EGにサスティンレベルSLおよびディケイレートDRを設定する。なお、ここで言うEGとは、オシレータエンベロープ波形を発生するDCO EG16b、フィルタエンベロープ波形を発生するDCF EG16dおよびアンプエンベロープ波形を発生するDCA EG16fを総称したものである。そして、ステップSC9では、現在レベルがアタックレベルALに達したのに対応してエンベロープ波形の状態(波形領域)を「ディケイ」に遷移して本処理を終える。
On the other hand, if the current level has reached the attack level AL, the determination result in step SC6 is “YES”, and the flow proceeds to step SC7. In steps SC7 to SC8, a sustain level SL and a decay rate DR are set in EG. Here, EG is a generic term for
b.ディケイ状態
エンベロープ波形がディケイ状態であると、上記ステップSC2の判断結果が「YES」になり、図13に図示するステップSC10に処理を進める。ステップSC10では、現在レベルがサスティンレベルSLに達したか否かを判断する。現在レベルがサスティンレベルSLに達していなければ、判断結果は「NO」になり、一旦本処理を終える。
b. Decay state If the envelope waveform is in the decay state, the determination result in step SC2 is "YES", and the process proceeds to step SC10 shown in FIG. In step SC10, it is determined whether or not the current level has reached the sustain level SL. If the current level does not reach the sustain level SL, the determination result is “NO”, and the present process is temporarily terminated.
これに対し、現在レベルがサスティンレベルSLに達していると、上記ステップSC10の判断結果が「YES」になり、ステップSC11に進む。そして、ステップSC11〜SC12では、EGにサスティンレベルSLを設定した後、エンベロープ波形の状態(波形領域)を「サスティン」に遷移して本処理を終える。 On the other hand, if the current level has reached the sustain level SL, the determination result in step SC10 is “YES”, and the flow proceeds to step SC11. In steps SC11 to SC12, after the sustain level SL is set in the EG, the state of the envelope waveform (waveform region) is changed to “sustain” and the present process is completed.
c.サスティン状態
エンベロープ波形がサスティン状態であると、図12に図示するステップSC3の判断結果が「YES」になり、一旦処理を終える。
c. Sustained state If the envelope waveform is in the sustained state, the determination result in step SC3 shown in FIG. 12 is “YES”, and the process is temporarily ended.
d.リリース1状態
エンベロープ波形がリリース1状態であると、図12に図示するステップSC4の判断結果が「YES」になり、図13に図示するステップSC13に処理を進める。ステップSC13では、現在レベルがリリースレベルRLに達したか否かを判断する。現在レベルがリリースレベルRLに達していなければ、判断結果は「NO」になり、一旦本処理を終える。
d.
これに対し、現在レベルがリリースレベルRLに達していると、上記ステップSC13の判断結果が「YES」になり、ステップSC14に進む。そして、ステップSC14〜SC16では、EGにファイナルレベルFLおよびリリースレートRR2を設定した後、エンベロープ波形の状態(波形領域)を「リリース2」に遷移して本処理を終える。
On the other hand, if the current level has reached the release level RL, the determination result in step SC13 is “YES”, and the flow proceeds to step SC14. In steps SC14 to SC16, after the final level FL and the release rate RR2 are set in the EG, the state of the envelope waveform (waveform region) is changed to “
e.リリース2状態
エンベロープ波形がリリース2状態であると、図12に図示するステップSC5の判断結果が「YES」になり、図14に図示するステップSC17に処理を進める。ステップSC17では、現在レベルがファイナルレベルFLに達したか否かを判断する。現在レベルがファイナルレベルFLに達していなければ、判断結果は「NO」になり、一旦本処理を終える。
e.
これに対し、現在レベルがファイナルレベルFLに達していると、上記ステップSC17の判断結果が「YES」になり、ステップSC18に進む。そして、ステップSC18〜SC19では、EGに対してエンベロープ波形の発生を停止させる停止処理を行った後、停止状態に遷移して本処理を終える。 On the other hand, if the current level has reached the final level FL, the determination result in step SC17 is “YES”, and the flow advances to step SC18. Then, in steps SC18 to SC19, after the stop process for stopping the generation of the envelope waveform is performed on the EG, the process proceeds to the stop state and this process is finished.
(4)離鍵エンベロープパラメータ計算処理の動作
図15は、離鍵エンベロープパラメータ計算処理の動作を示すフローチャートである。離鍵エンベロープパラメータ計算処理は、離鍵操作に応じて鍵盤10が鍵盤情報(キーオフ信号、鍵番号およびベロシティ)を発生した場合に実行される。本処理が実行されると、CPU13は図15に図示するステップSD1に進み、鍵盤情報に含まれるキーオフベロシティをレジスタVにストアする。以下、レジスタVの内容をキーオフベロシティVと称す。
(4) Operation of Key Release Envelope Parameter Calculation Process FIG. 15 is a flowchart showing the operation of the key release envelope parameter calculation process. The key release envelope parameter calculation process is executed when the
続いて、ステップSD2では、予めユーザ設定されるDCO リリースレベルオフセット最小値をレジスタAに、予めユーザ設定されるDCO リリースレベルオフセット最大値をレジスタBにそれぞれストアする。次いで、ステップSD3では、前述した(1)式、すなわちDCO リリースレベルオフセット最小値A+(キーオフベロシティV/127)×(DCO リリースレベルオフセット最大値B−DCO リリースレベルオフセット最小値A)からDCO リリースレベルオフセットRLOを算出する。このDCO リリースレベルオフセットRLOは、離鍵時点のオシレータエンベロープ波形の振幅値に加算され、当該オシレータエンベロープ波形におけるリリース波形領域の目標レベルとなる。 Subsequently, in step SD2, the DCO release level offset minimum value preset by the user is stored in the register A, and the DCO release level offset maximum value preset by the user is stored in the register B. Next, in step SD3, the DCO release level is calculated from the above-described equation (1), that is, DCO release level offset minimum value A + (key-off velocity V / 127) × (DCO release level offset maximum value B−DCO release level offset minimum value A). An offset RLO is calculated. The DCO release level offset RLO is added to the amplitude value of the oscillator envelope waveform at the time of key release, and becomes the target level of the release waveform area in the oscillator envelope waveform.
次のステップSD4〜SD3も、上記ステップSD2〜SD3と同様、予めユーザ設定されるDCF リリースレベルオフセット最小値をレジスタAに、予めユーザ設定されるDCF リリースレベルオフセット最大値をレジスタBにそれぞれストアし、DCF リリースレベルオフセット最小値A+(キーオフベロシティV/127)×(DCF リリースレベルオフセット最大値B−DCF リリースレベルオフセット最小値A)からDCF リリースレベルオフセットRLOを算出する。このDCF リリースレベルオフセットRLOは、離鍵時点のフィルタエンベロープ波形の振幅値に加算され、当該フィルタエンベロープ波形におけるリリース波形領域の目標レベルとなる。 In the next steps SD4 to SD3, similarly to the above steps SD2 to SD3, the preset DCF release level offset minimum value is stored in the register A, and the preset DCF release level offset maximum value is stored in the register B. DCF release level offset RLO is calculated from DCF release level offset minimum value A + (key-off velocity V / 127) × (DCF release level offset maximum value B−DCF release level offset minimum value A). This DCF release level offset RLO is added to the amplitude value of the filter envelope waveform at the time of key release, and becomes the target level of the release waveform region in the filter envelope waveform.
そして、ステップSD6では、予めユーザ設定されるDCA レシオ最小値をレジスタAに、予めユーザ設定されるDCA レシオ最大値をレジスタBにそれぞれストアする。続いて、ステップSD7では、前述した(2)式、すなわちDCA レシオ最小値A+(キーオフベロシティV/127)×(DCA レシオ最大値B−DCA レシオ最小値A)からDCA リリースレベルRatioを算出して本処理を終える。このDCA リリースレベルRatioは、離鍵時点のアンプエンベロープ波形の振幅値に乗算され、当該アンプエンベロープ波形におけるリリース波形領域の目標レベルとなる。 In step SD6, the DCA ratio minimum value preset by the user is stored in the register A and the DCA ratio maximum value preset by the user is stored in the register B. Subsequently, in step SD7, the DCA release level Ratio is calculated from the above-described equation (2), that is, the DCA ratio minimum value A + (key-off velocity V / 127) × (DCA ratio maximum value B−DCA ratio minimum value A). This process is finished. This DCA release level Ratio is multiplied by the amplitude value of the amplifier envelope waveform at the time of key release, and becomes the target level of the release waveform area in the amplifier envelope waveform.
(5)離鍵エンベロープ処理の動作
図16〜図18は、)離鍵エンベロープ処理の動作を示すフローチャートである。離鍵エンベロープ処理は、離鍵操作に応じて鍵盤10が鍵盤情報(キーオフ信号、鍵番号およびベロシティ)を発生した時点で実行される。本処理が実行されると、CPU13は図16に図示するステップSE1に進み、DCO EG16bが発生するオシレータエンベロープ波形の現在値に、上述の離鍵エンベロープパラメータ計算処理にて算出されたDCO リリースレベルオフセットRLOを加算してDCO リリースレベルRL(目標レベル)を算出する。
(5) Operation of Key Release Envelope Process FIGS. 16 to 18 are flowcharts showing the operation of the key release envelope process. The key release envelope process is executed when the
続いて、ステップSE2では、上記ステップSE1で算出されたDCO リリースレベルRLが最大値「63」を超えたか否かを判断する。DCO リリースレベルRLが最大値「63」を超えた場合には、判断結果が「YES」になり、ステップSE3に進み、DCO リリースレベルRLを最大値「63」に制限した後、後述のステップSE6に処理を進める。 Subsequently, in step SE2, it is determined whether or not the DCO release level RL calculated in step SE1 exceeds the maximum value “63”. If the DCO release level RL exceeds the maximum value “63”, the determination result is “YES”, the process proceeds to step SE3, the DCO release level RL is limited to the maximum value “63”, and then step SE6 described later is performed. Proceed with the process.
一方、DCO リリースレベルRLが最大値「63」を超えていなければ、上記ステップSE2の判断結果は「NO」になり、ステップSE4に進む。ステップSE4では、上記ステップSE1にて設定されたDCO リリースレベルRLが最小値「−64」より小さいか否かを判断する。DCO リリースレベルRLが最小値「−64」より大きければ、判断結果は「NO」になり、後述のステップSE6に進む。 On the other hand, if the DCO release level RL does not exceed the maximum value “63”, the determination result in step SE2 is “NO”, and the process proceeds to step SE4. In step SE4, it is determined whether or not the DCO release level RL set in step SE1 is smaller than the minimum value “−64”. If the DCO release level RL is greater than the minimum value “−64”, the determination result is “NO”, and the process proceeds to Step SE6 described later.
これに対し、DCO リリースレベルRLが最小値「−64」より小さければ、上記ステップSE4の判断結果は「YES」になり、ステップSE5に進み、DCO リリースレベルRLを最小値「−64」に制限した後、ステップSE6に処理を進める。ステップSE6では、DCO EG16bにDCO リリースレベルRLを設定し、続くステップSE7では、DCO EG16bにDCO リリースレートRR1を設定する。そして、ステップSE8では、DCO EG16bが発生するオシレータエンベロープ波形の状態を「リリース1」に設定した後、図17に図示するステップSE9に処理を進める。
On the other hand, if the DCO release level RL is smaller than the minimum value “−64”, the determination result in step SE4 is “YES”, and the process proceeds to step SE5 to limit the DCO release level RL to the minimum value “−64”. After that, the process proceeds to step SE6. In step SE6, the DCO release level RL is set in the
ステップSE9では、DCF EG16dが発生するフィルタエンベロープ波形の現在値に、前述の離鍵エンベロープパラメータ計算処理にて算出されたDCF リリースレベルオフセットRLOを加算してDCF リリースレベルRL(目標レベル)を算出する。
In step SE9, the DCF release level RL (target level) is calculated by adding the DCF release level offset RLO calculated in the key release envelope parameter calculation process to the current value of the filter envelope waveform generated by the
続いて、ステップSE10では、上記ステップSE9で算出されたDCF リリースレベルRLが最大値「63」を超えたか否かを判断する。DCF リリースレベルRLが最大値「63」を超えた場合には、判断結果が「YES」になり、ステップSE11に進み、DCF リリースレベルRLを最大値「63」に制限した後、後述のステップSE14に処理を進める。 Subsequently, in step SE10, it is determined whether or not the DCF release level RL calculated in step SE9 exceeds the maximum value “63”. If the DCF release level RL exceeds the maximum value “63”, the determination result is “YES”, the process proceeds to step SE11, the DCF release level RL is limited to the maximum value “63”, and step SE14 described later is performed. Proceed with the process.
一方、DCF リリースレベルRLが最大値「63」を超えていなければ、上記ステップSE10の判断結果は「NO」になり、ステップSE12に進む。ステップSE12では、上記ステップSE9で算出されたDCF リリースレベルRLが最小値「−64」より小さいか否かを判断する。DCF リリースレベルRLが最小値「−64」より大きければ、判断結果は「NO」になり、後述のステップSE14に進む。 On the other hand, if the DCF release level RL does not exceed the maximum value “63”, the determination result in Step SE10 is “NO”, and the flow proceeds to Step SE12. In step SE12, it is determined whether or not the DCF release level RL calculated in step SE9 is smaller than the minimum value “−64”. If the DCF release level RL is greater than the minimum value “−64”, the determination result is “NO”, and the process proceeds to Step SE14 described later.
これに対し、DCF リリースレベルRLが最小値「−64」より小さければ、上記ステップSE12の判断結果は「YES」になり、ステップSE13に進み、DCF リリースレベルRLを最小値「−64」に制限した後、ステップSE14に処理を進める。ステップSE14では、DCF EG16dにDCF リリースレベルRLを設定し、続くステップSE15では、DCF EG16dにDCF リリースレートRR1を設定する。そして、ステップSE16では、DCF EG16dが発生するフィルタエンベロープ波形の状態を「リリース1」に設定した後、図18に図示するステップSE17に処理を進める。
On the other hand, if the DCF release level RL is smaller than the minimum value “−64”, the determination result in Step SE12 is “YES”, and the process proceeds to Step SE13 to limit the DCF release level RL to the minimum value “−64”. Then, the process proceeds to step SE14. In step SE14, the DCF release level RL is set in the DCF EG16d, and in the subsequent step SE15, the DCF release rate RR1 is set in the DCF EG16d. In step SE16, the state of the filter envelope waveform generated by the
ステップSE17では、DCA EG16fが発生するアンプエンベロープ波形の現在値に、前述の離鍵エンベロープパラメータ計算処理にて算出されたDCA リリースレベルRatioを加算してDCA リリースレベルRL(目標レベル)を算出する。
In step SE17, the DCA release level RL (target level) is calculated by adding the DCA release level Ratio calculated in the key release envelope parameter calculation process to the current value of the amplifier envelope waveform generated by the
続いて、ステップSE18では、上記ステップSE17で算出されたDCA リリースレベルRLが最大値「127」を超えたか否かを判断する。DCA リリースレベルRLが最大値「127」を超えた場合には、判断結果が「YES」になり、ステップSE19に進み、DCA リリースレベルRLを最大値「127」に制限した後、後述のステップSE20に処理を進める。 Subsequently, in step SE18, it is determined whether or not the DCA release level RL calculated in step SE17 exceeds the maximum value “127”. If the DCA release level RL exceeds the maximum value “127”, the determination result is “YES”, the process proceeds to step SE19, the DCA release level RL is limited to the maximum value “127”, and then step SE20 described later is performed. Proceed with the process.
一方、DCA リリースレベルRLが最大値「127」を超えていなければ、上記ステップSE18の判断結果は「NO」になり、ステップSE20に進む。ステップSE20では、DCA EG16fにDCA リリースレベルRLを設定し、続くステップSE21では、DCA EG16fにDCA リリースレートRR1を設定する。そして、ステップSE22では、DCA EG16fが発生するアンプエンベロープ波形の状態を「リリース1」に設定して本処理を終える。
On the other hand, if the DCA release level RL does not exceed the maximum value “127”, the determination result in Step SE18 is “NO”, and the flow proceeds to Step SE20. In step SE20, the DCA release level RL is set in the
以上説明したように、本実施形態では、押鍵に応じてエンベロープ波形を発生し、離鍵時ベロシティに対応するオフセット値を、離鍵時のエンベロープ波形の振幅に加算してリリース目標レベルを設定し、このリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり/立ち下がり特性のリリース波形領域を備えたエンベロープ波形に従った楽音を発生するので、離鍵のタイミングに依らず、ユーザが意図した通りに自然楽器と同様の楽音変化や、自然楽器では表現出来ない楽音変化を再現することが出来る。 As described above, in this embodiment, an envelope waveform is generated in response to a key press, and the release target level is set by adding the offset value corresponding to the velocity at the time of key release to the amplitude of the envelope waveform at the time of key release. However, a musical tone is generated according to an envelope waveform having a release waveform area having a constant rising / falling characteristic with respect to the target release level, so that a natural instrument can be used as intended by the user regardless of the key release timing. It is possible to reproduce the same musical tone change and musical tone change that cannot be expressed with natural instruments.
また、本実施形態では、押鍵に応じてエンベロープ波形を発生し、離鍵時ベロシティに対応する係数を、離鍵時のエンベロープ波形の振幅に乗算してリリース目標レベルを設定し、このリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり/立ち下がり特性のリリース波形領域を備えたエンベロープ波形に従って楽音を制御するので、離鍵のタイミングに依らず、ユーザが意図した通りに自然楽器と同様の楽音変化や、自然楽器では表現出来ないアク音変化を再現することが出来る。 In this embodiment, an envelope waveform is generated in response to a key depression, and a release target level is set by multiplying a coefficient corresponding to the velocity at the time of key release by the amplitude of the envelope waveform at the time of key release. Since the tone is controlled according to the envelope waveform with a release waveform area with a constant rising / falling characteristic with respect to the level, the tone change similar to that of a natural instrument can be achieved as intended by the user, regardless of the key release timing. The sound changes that cannot be expressed with natural instruments can be reproduced.
なお、上述した実施形態では、離鍵時に検出されたベロシティに応じたオフセット値を、離鍵時のエンベロープ波形の振幅に加算してリリース目標レベルを設定したり、離鍵時に検出されたベロシティに応じた係数を、離鍵時のエンベロープ波形の振幅に乗算してリリース目標レベルを設定したりするが、これに限定されず、例えば予めユーザ設定された加算値を離鍵時のエンベロープ波形の振幅に加えてリリース目標レベルを設定する態様や、予めユーザ設定された定数を離鍵時のエンベロープ波形の振幅に乗算してリリース目標レベルを設定する態様としても良い。 In the above-described embodiment, the release target level is set by adding the offset value corresponding to the velocity detected when the key is released to the amplitude of the envelope waveform when the key is released, or the velocity detected when the key is released. The release target level is set by multiplying the corresponding coefficient by the envelope waveform amplitude at the time of key release, but is not limited to this. For example, the user-set addition value is set to the amplitude of the envelope waveform at the time of key release. In addition, the release target level may be set, or the release target level may be set by multiplying the amplitude of the envelope waveform at the time of key release by a constant preset by the user.
以上、本発明の実施の一形態について説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、本願出願の特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。以下では、本願出願当初の特許請求の範囲に記載された各発明について付記する。 As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to it, It is included in the invention described in the claim of this-application, and its equivalent range. Hereinafter, each invention described in the scope of claims at the beginning of the present application will be additionally described.
(付記)
[請求項1]
楽音発生指示操作に応じてエンベロープ波形を発生するエンベロープ発生手段と、
楽音消音指示操作時ベロシティを検出する検出手段と、
前記検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応するオフセット値を、楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に加算してリリース目標レベルを設定するリリース目標レベル設定手段と、前記設定されたリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり及び立ち下がり特性のうちいずれかの特性のリリース波形を、前記エンベロープ発生手段が発生するエンベロープ波形に付与するリリース波形付与手段と、
前記リリース波形付与手段によりリリース波形が付与されたエンベロープ波形に従って前記楽音発生指示操作により発生の指示された楽音を制御する楽音制御手段と
を具備することを特徴とする楽音発生装置。
(Appendix)
[Claim 1]
Envelope generating means for generating an envelope waveform in response to a musical sound generation instruction operation;
A detecting means for detecting velocity at the time of musical sound mute instruction operation;
Release target level setting means for setting a release target level by adding an offset value corresponding to the detected velocity at the time of the sound mute instruction operation to the amplitude of the envelope waveform at the time of the sound mute instruction operation, and the set release target A release waveform applying means for applying a release waveform having any one of rising and falling characteristics with respect to a level to an envelope waveform generated by the envelope generating means;
A musical tone generator comprising: a musical tone control unit that controls a musical tone that is instructed to be generated by the musical tone generation instruction operation according to an envelope waveform to which a release waveform is applied by the release waveform applying unit.
[請求項2]
前記エンベロープ発生手段は、楽音波形の読み出し速度を表す第1のエンベロープ波形を発生し、
前記楽音制御手段は、前記リリース波形付与手段によりリリース波形が付与された第1のエンベロープ波形に従って変調された読み出し速度に応じて、楽音波形の音高変化を制御することを特徴とする請求項1記載の楽音発生装置。
[Claim 2]
The envelope generating means generates a first envelope waveform representing a reading speed of a musical sound waveform,
2. The musical tone control means controls a pitch change of a musical sound waveform according to a reading speed modulated according to a first envelope waveform to which a release waveform is given by the release waveform giving means. The musical tone generator described.
[請求項3]
前記エンベロープ発生手段は、カットオフ周波数を変調する第2のエンベロープ波形を発生し、
前記楽音制御手段は、前記リリース波形付与手段によりリリース波形が付与された第2のエンベロープ波形に従って変調されたカットオフ周波数に応じてローパス特性を変化させ、発生楽音の音色変化を制御する
ことを特徴とする請求項1記載の楽音発生装置。
[Claim 3]
The envelope generating means generates a second envelope waveform for modulating a cutoff frequency;
The musical tone control means controls a timbre change of a generated musical tone by changing a low-pass characteristic in accordance with a cutoff frequency modulated according to a second envelope waveform to which a release waveform is given by the release waveform giving means. The musical tone generator according to
[請求項4]
前記リリース目標レベル設定手段は、前記検出手段により検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応する係数を、楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に乗算してリリースレベルを設定することを特徴とする請求項1記載の楽音発生装置。
[Claim 4]
The release target level setting means sets the release level by multiplying the coefficient corresponding to the velocity at the time of musical sound mute instruction operation detected by the detecting means by the amplitude of the envelope waveform at the time of musical sound mute instruction operation. The musical tone generator according to
[請求項5]
前記エンベロープ発生手段は、音量出力を変調する第3のエンベロープ波形を発生し、
前記楽音制御手段は、前記リリース波形付与手段によりリリース波形が付与された第3のエンベロープ波形に従って変調された音量出力に従って発生楽音の音量変化を制御することを特徴とする請求項1記載の楽音発生装置。
[Claim 5]
The envelope generating means generates a third envelope waveform for modulating the volume output;
2. The tone generation according to
[請求項6]
楽音発生指示操作押鍵に応じてエンベロープ波形を発生させ、
検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応するオフセット値を、当該楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に加算して設定されたリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり及び立ち下がり特性のうちいずれかの特性のリリース波形をエンベロープ波形に付与し、
このリリース波形が付与されたエンベロープ波形に従って前記発生の指示された楽音を制御する
ことを特徴とする楽音発生方法。
[Claim 6]
Musical sound generation instruction operation
The offset value corresponding to the detected velocity at the time of the sound mute instruction operation is added to the amplitude of the envelope waveform at the time of the sound mute instruction operation, and any of the fixed rising and falling characteristics with respect to the set release target level Add a release waveform with some characteristics to the envelope waveform,
A musical tone generation method characterized by controlling the musical tone instructed to be generated according to an envelope waveform to which the release waveform is added.
[請求項7]
コンピュータに、
楽音発生指示操作に応じてエンベロープ波形を発生するエンベロープ発生ステップと、
楽音消音指示操作時ベロシティを検出する検出ステップと、
前記検出ステップで検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応するオフセット値を、当該楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に加算してリリース目標レベルを設定するリリース目標レベル設定ステップと、前記設定されたリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり及び立ち下がり特性のうちいずれかの特性のリリース波形を、前記エンベロープ発生ステップで発生するエンベロープ波形に付与するリリース波形付与ステップと、
前記リリース波形付与ステップにてリリース波形が付与されたエンベロープ波形に従って前記発音の指示された楽音を制御する楽音制御ステップと
を実行させることを特徴とするプログラム。
[Claim 7]
On the computer,
An envelope generation step for generating an envelope waveform in response to a musical sound generation instruction operation;
A detection step for detecting velocity at the time of musical sound mute instruction operation;
Release target level setting step for setting the release target level by adding the offset value corresponding to the velocity at the time of the sound mute instruction operation detected in the detection step to the amplitude of the envelope waveform at the time of the sound mute instruction operation, and the setting A release waveform applying step for applying a release waveform of any one of rising and falling characteristics with respect to the released release target level to the envelope waveform generated in the envelope generating step;
And a musical tone control step of controlling the musical tone instructed to be generated according to the envelope waveform to which the release waveform is imparted in the release waveform imparting step.
10 鍵盤
11 操作部
12 表示部
13 CPU
14 ROM
15 RAM
16 音源
17 波形ROM
18 サウンドシステム
100 音源位置表示装置
10
14 ROM
15 RAM
16
18
Claims (7)
楽音消音指示操作時ベロシティを検出する検出手段と、
前記検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応するオフセット値を、当該楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に加算してリリース目標レベルを設定するリリース目標レベル設定手段と、
前記設定されたリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり及び立ち下がり特性のリリース波形を、前記エンベロープ発生手段が発生するエンベロープ波形に付与するリリース波形付与手段と、
前記リリース波形付与手段によりリリース波形が付与されたエンベロープ波形に従って前記楽音発生指示操作により発生の指示された楽音を制御する楽音制御手段と
を具備することを特徴とする楽音発生装置。 Envelope generating means for generating an envelope waveform in response to a musical sound generation instruction operation;
A detecting means for detecting velocity at the time of musical sound mute instruction operation;
Release target level setting means for setting the release target level by adding an offset value corresponding to the detected velocity at the time of the sound mute instruction operation to the amplitude of the envelope waveform at the time of the sound mute instruction operation;
Certain rising and falling characteristics of the release waveform relative to the set release target level, and the release corrugator means the envelope generating means is applied to the envelope waveform generated,
A musical tone generator comprising: a musical tone control unit that controls a musical tone that is instructed to be generated by the musical tone generation instruction operation according to an envelope waveform to which a release waveform is applied by the release waveform applying unit.
前記楽音制御手段は、前記リリース波形付与手段によりリリース波形が付与された第1のエンベロープ波形に従って変調された読み出し速度に応じて、楽音波形の音高変化を制御することを特徴とする請求項1記載の楽音発生装置。 The envelope generating means generates a first envelope waveform representing a reading speed of a musical sound waveform,
2. The musical tone control means controls a pitch change of a musical sound waveform according to a reading speed modulated according to a first envelope waveform to which a release waveform is given by the release waveform giving means. The musical tone generator described.
前記楽音制御手段は、前記リリース波形付与手段によりリリース波形が付与された第2のエンベロープ波形に従って変調されたカットオフ周波数に応じてローパス特性を変化させ、発生楽音の音色変化を制御することを特徴とする請求項1記載の楽音発生装置。 The envelope generating means generates a second envelope waveform for modulating a cutoff frequency;
The musical tone control means controls a timbre change of a generated musical tone by changing a low-pass characteristic according to a cutoff frequency modulated according to a second envelope waveform to which a release waveform is given by the release waveform giving means. The musical tone generator according to claim 1.
前記楽音制御手段は、前記リリース波形付与手段によりリリース波形が付与された第3のエンベロープ波形に従って変調された音量出力に従って発生楽音の音量変化を制御することを特徴とする請求項1記載の楽音発生装置。 The envelope generating means generates a third envelope waveform for modulating the volume output;
2. The tone generation according to claim 1, wherein the tone control means controls a change in volume of the generated tone according to a volume output modulated according to a third envelope waveform to which the release waveform is given by the release waveform giving means. apparatus.
検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応するオフセット値を、当該楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に加算して設定されたリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり及び立ち下がり特性のリリース波形をエンベロープ波形に付与し、
このリリース波形が付与されたエンベロープ波形に従って前記発生の指示された楽音を制御することを特徴とする楽音発生方法。 An envelope waveform is generated according to the musical sound generation instruction operation,
The offset value corresponding to the detected tone mute instruction operation upon velocity, the tone mute instruction operation at constant rise and fall characteristics releases the amplitude in addition to the set release target level of the envelope waveform Append waveform to envelope waveform,
A musical sound generating method characterized in that the musical sound instructed to be generated is controlled according to an envelope waveform to which the release waveform is added.
楽音発生指示操作に応じてエンベロープ波形を発生するエンベロープ発生ステップと、
楽音消音指示操作時ベロシティを検出する検出ステップと、
前記検出された楽音消音指示操作時ベロシティに対応するオフセット値を、当該楽音消音指示操作時のエンベロープ波形の振幅に加算してリリース目標レベルを設定するリリース目標レベル設定ステップと、
前記設定されたリリース目標レベルに対して一定の立ち上がり及び立ち下がり特性のリリース波形を、前記エンベロープ発生ステップで発生するエンベロープ波形に付与するリリース波形付与ステップと、
前記リリース波形付与ステップにてリリース波形が付与されたエンベロープ波形に従って前記発生の指示された楽音を制御する楽音制御ステップと
を実行させることを特徴とするプログラム。 On the computer,
An envelope generation step for generating an envelope waveform in response to a musical sound generation instruction operation;
A detection step for detecting velocity at the time of musical sound mute instruction operation;
A release target level setting step for setting a release target level by adding an offset value corresponding to the detected velocity at the time of the sound mute instruction operation to the amplitude of the envelope waveform at the time of the sound mute instruction operation;
Certain rising and falling characteristics of the release waveform relative to the set release target level, and the release corrugator step of applying the envelope waveform generated by the envelope generator step,
A musical sound control step for controlling the musical sound instructed to be generated according to the envelope waveform to which the release waveform is imparted in the release waveform imparting step.
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