JP6334871B2 - Solar cell module - Google Patents

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Description

本発明は、太陽電池モジュールに関する。   The present invention relates to a solar cell module.

無尽蔵に降り注ぐ太陽エネルギーを利用して発電することができ、且つ排気ガスを排出することなくクリーンであり、さらに放射能を放出するといった危険もなく安全であることから、太陽電池が注目を集めている。太陽電池は、多くの場合、屋外に置かれるため、過酷な環境にさらされることとなる。また太陽電池は、10年以上の長期にわたって使用させるべきものであり、耐候性、特に湿気に対しての構造が屋外使用における劣化に影響を及ぼす。そのため、湿気に対する耐久性を確保することが求められ、例えば、アルミニウム等からなる金属箔を、単層構造または複層構造で積層した構造を有する積層フィルムが、裏面側保護材として用いられてきた。   Solar cells are attracting attention because they can generate power using inexhaustible solar energy, are clean without discharging exhaust gas, and are safe without danger of releasing radioactivity. Yes. Since solar cells are often placed outdoors, they are exposed to harsh environments. The solar cell should be used for a long period of 10 years or longer, and the weather resistance, particularly the structure against moisture, affects the deterioration in outdoor use. Therefore, it is required to ensure durability against moisture. For example, a laminated film having a structure in which a metal foil made of aluminum or the like is laminated in a single layer structure or a multilayer structure has been used as a back side protective material. .

図1は、太陽電池モジュールの構造の一例を示す。図1に示すように、太陽電池モジュールは、ガラス板と、例えばアルミニウム箔をプラスチックフィルムで挟みこんだ裏面側保護材との間に、複数の太陽電池セルが例えばEVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)樹脂からなる封止材で封止された構成をなしている。隣り合う太陽電池セル同士は、例えば銅箔からなる接続部材にて直列または並列に電気的に接続されている。しかしながら、裏面側保護材として金属箔を含んだ材料を用いた場合、ガスバリア性に優れるものの、導電性を有するために短絡が生じるといった問題がある。   FIG. 1 shows an example of the structure of a solar cell module. As shown in FIG. 1, a solar cell module has a plurality of solar cells, for example, EVA (ethylene-vinyl acetate copolymer) between a glass plate and a back surface side protective material in which an aluminum foil is sandwiched between plastic films. Combined) It is configured to be sealed with a sealing material made of resin. Adjacent solar cells are electrically connected in series or in parallel with a connecting member made of, for example, copper foil. However, when a material including a metal foil is used as the back surface side protective material, although it has excellent gas barrier properties, there is a problem that a short circuit occurs due to its electrical conductivity.

これを解決するために、裏面側保護材として、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムなどの基材フィルム上に真空蒸着法、あるいはプラズマ化学蒸着法などを用いて酸化ケイ素、酸化アルミニウムなどの無機酸化物の皮膜コートを行い、防湿性を高めた材料が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。また、裏面側保護材として、封止材側(セル側)に高耐湿フィルムが、外気側に高耐湿フィルムの水蒸気透過量以上の水蒸気透過量を示す防水フィルムが配置され、両フィルム間に吸湿性部材を配置するような材料も提案されている(特許文献2参照)。   In order to solve this problem, as a backside protective material, an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is used on a base film such as a PET (polyethylene terephthalate) film by vacuum deposition or plasma chemical vapor deposition. A material that has been coated to improve moisture resistance has been proposed (see, for example, Patent Document 1). In addition, a high moisture-resistant film is disposed on the sealing material side (cell side) as a back surface side protective material, and a waterproof film showing a water vapor transmission amount equal to or higher than the water vapor transmission amount of the high moisture resistance film is disposed on the outside air side. There has also been proposed a material for disposing an adhesive member (see Patent Document 2).

また保護層(裏面側保護材)の水蒸気透過量に応じて、太陽電池の集電極を構成するエポキシ樹脂の含有率を調整する方法も提案されている(特許文献3参照)。具体的には加水分解しにくいエポキシ樹脂を用いることにより、裏面からの湿分を防止できる旨が記載されている。   In addition, a method of adjusting the content of the epoxy resin constituting the collector electrode of the solar cell according to the water vapor transmission amount of the protective layer (back surface side protective material) has been proposed (see Patent Document 3). Specifically, it is described that moisture from the back surface can be prevented by using an epoxy resin that is difficult to hydrolyze.

特開2000−114565号公報JP 2000-114565 A 特開2005−101404号公報JP-A-2005-101404 特開2005−276939号公報JP 2005-276939 A

本発明者らの検討によれば、モジュール端部(側面)から浸入した湿分が太陽電池セルに浸入することにより、長期信頼性が低下し、劣化してしまうということが明らかとなった。例えば、従来のようなAl箔を用いた場合、裏面側からの湿分がモジュール内へ浸入することを防止できるものの、側面からの湿分がモジュール内に溜まり、長期信頼性が悪くなるということがわかった。   According to the study by the present inventors, it has been clarified that the moisture that has entered from the end portion (side surface) of the module enters the solar battery cell, thereby reducing long-term reliability and deterioration. For example, when using conventional Al foil, moisture from the back side can be prevented from entering the module, but moisture from the side accumulates in the module and long-term reliability deteriorates. I understood.

しかしながら特許文献1〜3のような裏面側保護材を用いた場合、ある程度の湿分の抑制効果は得られると考えられるが、側面から浸入する湿分の影響について何ら検討されておらず、側面からの湿分抑制効果は必ずしも十分でないと考えられる。また特許文献1,2のように裏面側保護材として積層フィルムなどを用いた場合、生産性や生産コストの点から課題が残る。また特許文献3のようにエポキシ樹脂の含有率を適宜調整する場合、湿分を抑制するためには集電極に含まれる樹脂濃度を増加させる必要があり、抵抗が高くなってしまうと考えられる。   However, when the back surface side protective material as in Patent Documents 1 to 3 is used, it is considered that a certain degree of moisture suppression effect is obtained, but the influence of moisture entering from the side surface has not been studied at all. It is considered that the moisture suppression effect from is not necessarily sufficient. Moreover, when a laminated film etc. are used as a back surface side protective material like patent document 1, 2, a subject remains from the point of productivity or production cost. Moreover, when adjusting the content rate of an epoxy resin suitably like patent document 3, in order to suppress moisture, it is necessary to increase the resin concentration contained in a collector electrode, and it is thought that resistance will become high.

本発明は、所定の電極を有する太陽電池セルを有し、所定の封止構造を有する太陽電池モジュールを用いることで、太陽電池モジュールの性能劣化を防止し、耐用年数を向上させることを目的とする。   It is an object of the present invention to prevent the deterioration of the performance of a solar cell module and improve the service life by using a solar cell module having a solar cell having a predetermined electrode and having a predetermined sealing structure. To do.

本発明者らは上記課題に鑑み鋭意検討した結果、所定の電極構造、封止構造を用いることにより、太陽電池モジュールの性能劣化を防止し、耐用年数を向上させることが可能であることを見出し、本発明に至った。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have found that by using a predetermined electrode structure and sealing structure, it is possible to prevent the performance deterioration of the solar cell module and to improve the service life. The present invention has been reached.

すなわち、本発明は以下に関する。   That is, the present invention relates to the following.

本発明の太陽電池モジュールは、太陽電池セルと、前記太陽電池セルの受光面側に受光面側封止材と受光面側保護材をこの順に有し、前記太陽電池セルの裏面側に裏面側封止材と裏面側保護材をこの順に有し、前記太陽電池セルは、光電変換部と、前記光電変換部の受光面側に受光面電極と、前記光電変換部の裏面側に裏面電極と、を備え、前記裏面電極は、前記光電変換部の裏面側表面の40%以上に形成されており、前記受光面側封止材と裏面側封止材の水蒸気透過量を各々W1およびW2としたとき、W1<W2を満たし、前記裏面側保護材は、水蒸気透過量が、0.1[g/m/day]以上15.0[g/m/day]以下を満たす。 The solar cell module of the present invention has a solar cell, a light receiving surface side sealing material and a light receiving surface side protective material in this order on the light receiving surface side of the solar cell, and a back surface side on the back surface side of the solar cell. It has a sealing material and a back surface side protective material in this order, and the solar battery cell includes a photoelectric conversion unit, a light receiving surface electrode on the light receiving surface side of the photoelectric conversion unit, and a back electrode on the back surface side of the photoelectric conversion unit. The back electrode is formed on 40% or more of the back side surface of the photoelectric conversion part, and the water vapor permeation amounts of the light receiving side sealing material and the back side sealing material are W1 and W2, respectively. In this case, W1 <W2 is satisfied, and the back surface side protective material satisfies a water vapor transmission rate of 0.1 [g / m 2 / day] to 15.0 [g / m 2 / day].

前記裏面電極は、前記光電変換部の裏面側表面の90%以上に形成されていることが好ましい。   The back electrode is preferably formed on 90% or more of the back side surface of the photoelectric conversion part.

前記裏面電極は、金属膜により形成されていることが好ましい。   The back electrode is preferably formed of a metal film.

前記受光面側封止材と前記裏面側封止材の40℃、90%RHにおける水蒸気透過量は、W1≦3.0[g/m/day]、W2≦30.0[g/m/day]を満たすことが好ましい。 The water vapor permeation amount at 40 ° C. and 90% RH of the light receiving surface side sealing material and the back surface side sealing material is W1 ≦ 3.0 [g / m 2 / day], W2 ≦ 30.0 [g / m. 2 / day] is preferably satisfied.

前記裏面側保護材が、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、エチレン・四フッ化エチレン共重合体(ETFE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリフッ化ビニル(PVF) から選ばれる少なくとも1種類以上の材料を主成分とすることが好ましい。   The back surface side protective material is mainly composed of at least one material selected from polyvinylidene fluoride (PVDF), ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), polyethylene terephthalate (PET), and polyvinyl fluoride (PVF). It is preferable to use as a component.

前記裏面電極は、前記光電変換部側から、第一導電層と第二導電層をこの順に有し、前記第二導電層が銅であることが好ましい。   The back electrode preferably has a first conductive layer and a second conductive layer in this order from the photoelectric conversion portion side, and the second conductive layer is preferably copper.

本発明によれば、所定の電極を有する太陽電池セルと、所定の封止材および裏面側保護材と、を有する太陽電池モジュールを用いることにより、太陽電池特性や信頼性に優れた太陽電池モジュールを作製することができる。   According to the present invention, a solar cell module having excellent solar cell characteristics and reliability is obtained by using a solar cell module having a solar cell having a predetermined electrode, and a predetermined sealing material and a back surface side protective material. Can be produced.

従来の太陽電池モジュールの構造の一例Example of the structure of a conventional solar cell module 本発明の一実施形態にかかる太陽電池モジュール構造を示す模式的断面図1 is a schematic cross-sectional view showing a solar cell module structure according to an embodiment of the present invention. 本発明の太陽電池セルの模式図Schematic diagram of solar cell of the present invention 水蒸気透過量測定試験機の模式図Schematic diagram of water vapor transmission rate measurement tester 比較例1の構造の湿分浸入経路Moisture permeation path of the structure of Comparative Example 1 実施例の構造の湿分浸入経路Example moisture penetration path

以下さらに本発明の実施形態について説明する。図2に模式的に示すように、本発明の太陽電池モジュール100は、太陽電池セル101と、前記太陽電池セル101の受光面側に受光面側保護材200と受光面側封止材201をこの順に有し、前記太陽電池セル101の裏面側に裏面側封止材202と裏面側保護材203をこの順に有する。前記太陽電池セル101は、光電変換部50と、前記光電変換部50の受光面側に受光面電極7と、前記光電変換部の裏面側に裏面電極8と、を備える。前記裏面電極8は、前記光電変換部50の裏面側表面の40%以上に形成されている。前記受光面側封止材201と裏面側封止材202の水蒸気透過量を各々W1およびW2としたとき、W1<W2を満たす。前記裏面側保護材203は、水蒸気透過量が、0.1[g/m/day]以上15[g/m/day]以下を満たす。 Embodiments of the present invention will be further described below. As schematically shown in FIG. 2, the solar cell module 100 of the present invention includes a solar cell 101 and a light-receiving surface side protective material 200 and a light-receiving surface-side sealing material 201 on the light-receiving surface side of the solar cell 101. In this order, the back surface side sealing material 202 and the back surface side protective material 203 are provided in this order on the back surface side of the solar battery cell 101. The solar battery cell 101 includes a photoelectric conversion unit 50, a light receiving surface electrode 7 on the light receiving surface side of the photoelectric conversion unit 50, and a back electrode 8 on the back surface side of the photoelectric conversion unit. The back electrode 8 is formed on 40% or more of the back side surface of the photoelectric conversion unit 50. When the water vapor permeation amounts of the light receiving surface side sealing material 201 and the back surface side sealing material 202 are W1 and W2, respectively, W1 <W2 is satisfied. The back surface side protective material 203 has a water vapor transmission rate of 0.1 [g / m 2 / day] to 15 [g / m 2 / day].

本発明の太陽電池のモジュール化は、適宜の方法により行われる。例えば、図2に示すように、受光面電極7や裏面電極8に配線材204が接続されることによって、複数の太陽電池セルが直列または並列に接続され、受光面側封止材201と裏面側封止材202、また受光面保護材200と裏面側保護材203、により封止されることによりモジュール化が行われる。即ち、図2のように各材料を配置して押圧等を行うことにより、太陽電池セルと太陽電池セルの間や、モジュールの端部にも封止材が流動してモジュール化が行われる。   The solar cell of the present invention is modularized by an appropriate method. For example, as shown in FIG. 2, the wiring material 204 is connected to the light receiving surface electrode 7 and the back surface electrode 8, whereby a plurality of solar cells are connected in series or in parallel, and the light receiving surface side sealing material 201 and the back surface Modularization is performed by sealing with the side sealing material 202 and the light-receiving surface protection material 200 and the back surface protection material 203. That is, by arranging and pressing each material as shown in FIG. 2, the sealing material flows between the solar cells and the end portions of the modules, and modularization is performed.

本発明においては、太陽電池セル101の受光面側および裏面側に受光面側封止材201および裏面側封止材202が形成される。受光面側封止材201および裏面側封止材202は、水蒸気透過量を各々W1およびW2としたとき、W1<W2を満たす。40℃、90%RHにおける水蒸気透過量は、好ましくは、W1≦3.0[g/m/day]、W1<W2≦30.0[g/m/day]である。より好ましくは、W1≦2.6[g/m/day]、W1<W2≦20.0[g/m/day]である。 In the present invention, the light receiving surface side sealing material 201 and the back surface side sealing material 202 are formed on the light receiving surface side and the back surface side of the solar battery cell 101. The light-receiving surface side sealing material 201 and the back surface side sealing material 202 satisfy W1 <W2, where the water vapor transmission amounts are W1 and W2, respectively. 40 ° C., the water vapor permeation amount of 90% RH is preferably, W1 ≦ 3.0 [g / m 2 /day],W1<W2≦30.0[g/m 2 / day]. More preferably W1 ≦ 2.6 [g / m 2 /day],W1<W2≦20.0[g/m 2 / day].

ここで、図5に示すように、従来のように裏面側保護材としてAl箔等を用いる場合、裏面側からの湿分は防止できるものの、本発明者らの検討によれば、側面からの湿分がモジュール内に溜まり、長期信頼性が低下することが明らかとなった。一方、上記範囲の封止材を用いることにより、図6に示すように、太陽電池モジュールの側面から浸入する湿分のうち、太陽電池セルの受光面側の湿分は、受光面側封止材201により防止することができる。また側面からの湿分のうち、太陽電池セルの裏面側の湿分は、太陽電池セルの裏面電極8により防止することができる。   Here, as shown in FIG. 5, when Al foil or the like is used as the back surface side protective material as in the prior art, moisture from the back surface side can be prevented, but according to the study by the present inventors, from the side surface, It became clear that moisture accumulated in the module, reducing long-term reliability. On the other hand, by using the sealing material in the above range, the moisture on the light receiving surface side of the solar cell out of the moisture entering from the side surface of the solar cell module is sealed on the light receiving surface side as shown in FIG. The material 201 can prevent this. Moreover, the moisture of the back surface side of a photovoltaic cell among the moisture from a side surface can be prevented with the back surface electrode 8 of a photovoltaic cell.

また裏面側保護材203として、従来好ましく使用されていたAl箔等(水蒸気透過量0.1[g/m/day]未満)とは異なり、水蒸気透過量が0.1[g/m/day]以上の材料を用いることにより、側面からの湿分を裏面側保護材から太陽電池モジュールの外部へと開放することができる。従って、長期信頼性を向上させることができる。 Further, unlike the Al foil or the like (less than the water vapor transmission rate of 0.1 [g / m 2 / day]) conventionally used as the back surface side protective material 203, the water vapor transmission rate is 0.1 [g / m 2]. / Day] By using a material greater than or equal to the day, moisture from the side surface can be released from the back surface side protective material to the outside of the solar cell module. Therefore, long-term reliability can be improved.

太陽電池セルの受光面側は、光を取り込むために、受光面電極はできる限り細いものが好ましく、櫛形のものが一般的に使用されている。従って、受光面側からの湿分の影響が裏面側よりも大きくなってしまう。本発明においては、受光面側封止材として、裏面側封止材よりも水蒸気透過量が低い、即ちW1<W2を満たすものを用いることにより、受光面側からの湿分をより抑制できる。   On the light receiving surface side of the solar cell, in order to take in light, the light receiving surface electrode is preferably as thin as possible, and a comb-shaped electrode is generally used. Therefore, the influence of moisture from the light receiving surface side becomes larger than that on the back surface side. In the present invention, moisture from the light receiving surface side can be further suppressed by using a light receiving surface side sealing material that has a lower water vapor transmission rate than the back surface side sealing material, that is, satisfying W1 <W2.

受光面側封止材201としては、水蒸気透過量が2.6[g/m/day]以下の材料、例えばエチレンを主成分とするオレフィン系エラストマーを主成分としたポリエチレン系樹脂組成物の、高密度ポリエチレン(HDPE)、高圧法低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン・α-オレフィン共重合体を用いることがより好ましい。 The light-receiving surface side sealing material 201 is made of a material having a water vapor transmission amount of 2.6 [g / m 2 / day] or less, for example, a polyethylene resin composition mainly composed of an olefin elastomer mainly composed of ethylene. High-density polyethylene (HDPE), high-pressure low-density polyethylene (LDPE), linear low-density polyethylene (LLDPE), polypropylene (PP), and an ethylene / α-olefin copolymer are more preferable.

また、裏面側封止材202としては、水蒸気透過量が20.0[g/m/day]以下の材料、例えば、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン/酢酸ビニル/トリアリルイソシアヌレート(EVAT)、ポリビニルブチラート(PVB)、シリコン、ウレタン、アクリル、エポキシ等の透光性の樹脂を用いることがより好ましい。 Further, as the back surface side sealing material 202, a material having a water vapor transmission rate of 20.0 [g / m 2 / day] or less, for example, ethylene / vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene / vinyl acetate / triallyl. It is more preferable to use a light-transmitting resin such as isocyanurate (EVAT), polyvinyl butyrate (PVB), silicon, urethane, acrylic, and epoxy.

通常、水蒸気透過量が低くなるにつれて材料が高価となるが、本発明においては、所定の裏面電極を有する太陽電池セルと、太陽電池モジュールの裏面側保護材を用いることにより、裏面側封止材として安価な材料を用いた場合でも、長期信頼性をより向上させた太陽電池モジュールを作製できる。上記のような太陽電池モジュールを作製すると、以下の効果を発揮する。つまり、モジュール内に浸入した湿分を、裏面側保護材から大気中に開放させることができる。   Usually, the material becomes more expensive as the water vapor transmission amount becomes lower. In the present invention, the back surface side sealing material is obtained by using the solar cell having a predetermined back surface electrode and the back surface side protective material of the solar cell module. Even when an inexpensive material is used, a solar cell module with improved long-term reliability can be produced. When the solar cell module as described above is manufactured, the following effects are exhibited. That is, moisture that has entered the module can be released from the back surface side protective material into the atmosphere.

受光面側保護材は、複数の太陽電池セルを有する太陽電池モジュールを作製する場合、それぞれの太陽電池セルの受光面側(光入射面側)に配置し、太陽電池モジュールの表面を保護することが好ましい。受光面側保護材としては、ガラス基板(青板ガラス基板や、白板ガラス基板)、ポリフッ化ビニルフィルム(例えば、テドラーフィルム(登録商標))等のフッ素樹脂フィルムやポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムのような有機フィルムが例示されるが、強度、光線透過率(短波長側・長波長側の光など光線透過率の波長依存性を含む)、工業的に得られる他の素材との比較において価格の点で、また表面からの湿分をより防止できる点から、白板ガラス基板が好ましい。上述のように、太陽電池セルの受光面側には、櫛形の受光面側電極が一般的に用いられるため、受光面側においては湿分の影響が大きくなる。この点からも、白板ガラス基板がより好ましい。   When producing a solar cell module having a plurality of solar cells, the light receiving surface side protective material is disposed on the light receiving surface side (light incident surface side) of each solar cell to protect the surface of the solar cell module. Is preferred. As a light receiving surface side protective material, a fluororesin film such as a glass substrate (blue plate glass substrate or white plate glass substrate), a polyvinyl fluoride film (for example, Tedlar film (registered trademark)), or a polyethylene terephthalate (PET) film is used. The organic film is exemplified, but the strength, light transmittance (including the wavelength dependency of light transmittance such as light on the short wavelength side and long wavelength side), and the price in comparison with other industrially obtained materials A white glass substrate is preferable from the viewpoint of further preventing moisture from the surface. As described above, since the comb-shaped light receiving surface side electrode is generally used on the light receiving surface side of the solar battery cell, the influence of moisture is increased on the light receiving surface side. From this point, a white glass substrate is more preferable.

裏面側保護材は、複数の太陽電池セルを有する太陽電池モジュールを作製する場合、それぞれの太陽電池セルの裏面側に配置し、太陽電池モジュールの裏面を保護することが好ましい。本発明においては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムのような有機フィルム(アルミニウム等からなる金属箔を含まず)を用いることにより裏面の保護と共に、モジュール内に浸入した湿分、湿分を開放させることができる。   When producing a solar cell module having a plurality of solar cells, the back side protective material is preferably disposed on the back side of each solar cell to protect the back side of the solar cell module. In the present invention, by using an organic film such as a polyethylene terephthalate (PET) film (not including a metal foil made of aluminum or the like), the moisture entering the module and the moisture are released together with protecting the back surface. Can do.

ここで、従来のように裏面側保護材としてAl箔などの金属層を用いた場合、通常、水蒸気透過量が0.1[g/m/day]未満であるため、裏面側からの湿分の浸入は防止できるものの、モジュール側面からの湿分を開放させることが出来ず、長期信頼性が悪化する傾向があった。 Here, when a metal layer such as an Al foil is used as the back surface side protective material as in the prior art, the moisture permeation from the back side is usually because the water vapor transmission amount is less than 0.1 [g / m 2 / day]. Although the infiltration of the minute could be prevented, the moisture from the side of the module could not be released, and the long-term reliability tended to deteriorate.

しかしながら、本発明のように、裏面側保護材として、水蒸気透過量が、0.1[g/m/day]以上15[g/m/day]以下を満たす材料、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムのような有機フィルムなど(アルミニウム等からなる金属箔を含まず)を用いることにより太陽電池モジュール内に滞在する湿分を開放することができ、また裏面側から浸入しうる湿分は、後述のように太陽電池セルの裏面電極により防止することができるため、長期信頼性の向上が期待できる。 However, as in the present invention, as the back surface side protective material, a material satisfying a water vapor transmission rate of 0.1 [g / m 2 / day] to 15 [g / m 2 / day], for example, polyethylene terephthalate ( The moisture staying in the solar cell module can be released by using an organic film such as PET (not including a metal foil made of aluminum or the like), and the moisture that can enter from the back side is As described later, since it can be prevented by the back electrode of the solar battery cell, improvement in long-term reliability can be expected.

裏面側保護材としては、ポリフッ化ビニルフィルム(例えば、テドラーフィルム(登録商標))等のフッ素樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムのような有機フィルムを、単層構造または複層構造で積層した構造が挙げられる。中でも、製造コストをより低減できる観点から、PETの単層を用いることがより好ましい。   As the back side protection material, a fluorine resin film such as a polyvinyl fluoride film (for example, Tedlar film (registered trademark)) or an organic film such as a polyethylene terephthalate (PET) film is laminated in a single layer structure or a multilayer structure. Structure. Among these, it is more preferable to use a single layer of PET from the viewpoint of further reducing the manufacturing cost.

本発明における太陽電池セル101は、光電変換部50と、光電変換部50の受光面側に受光面電極7と、光電変換部50の裏面側に裏面電極8と、を有する。本発明における太陽電池セル101の裏面電極8は、前記光電変換部50の裏面側表面の40%以上を覆うように形成される。上記範囲とすることにより、太陽電池の裏面側もしくは側面からの湿分が太陽電池セル101に浸入することを防止できる。   The solar battery cell 101 in the present invention includes a photoelectric conversion unit 50, a light receiving surface electrode 7 on the light receiving surface side of the photoelectric conversion unit 50, and a back electrode 8 on the back surface side of the photoelectric conversion unit 50. The back surface electrode 8 of the solar battery cell 101 in the present invention is formed so as to cover 40% or more of the back surface side surface of the photoelectric conversion unit 50. By setting it as the said range, it can prevent that the moisture from the back surface side or side surface of a solar cell permeates into the photovoltaic cell 101. FIG.

即ち、本発明においては、太陽電池モジュールの裏面側保護材として、水蒸気透過量が0.1[g/m/day]以上15.0[g/m/day]以下と比較的高い材料を用い、かつ裏面側封止材として、W1<W2を満たす(水蒸気透過量が受光面側封止材よりも高い)ものを用いる。このため、受光面側に比べて裏面側から湿分が浸入しやすくなるものの、上記裏面電極8を用いることにより、裏面側から浸入しうる湿分を防止することができる。 That is, in the present invention, a material having a relatively high water vapor transmission rate of 0.1 [g / m 2 / day] to 15.0 [g / m 2 / day] as the back surface side protective material of the solar cell module. And the back side sealing material satisfying W1 <W2 (the water vapor transmission amount is higher than the light receiving side sealing material) is used. For this reason, although moisture easily enters from the back side compared to the light receiving surface side, the use of the back electrode 8 can prevent moisture that can enter from the back side.

裏面電極8としては、中でも、湿分をより防止できる観点から、前記光電変換部50の裏面側表面の90%以上が覆われていることが好ましく、95%以上が覆われていることがより好ましく、100%すなわち全面が覆われていることが特に好ましい。なお、前記光電変換部の裏面側表面において、裏面電極で覆われる面積は、例えば、光学顕微鏡により、裏面電極側表面のある範囲における線幅をもとめ、フィンガー長、本数とかけあわせることにより求めることが出来る。   As the back electrode 8, from the viewpoint of preventing moisture, 90% or more of the surface of the back surface of the photoelectric conversion unit 50 is preferably covered, and more than 95% is covered. It is particularly preferable that 100%, that is, the entire surface is covered. In addition, the area covered with the back electrode on the back surface of the photoelectric conversion unit is obtained by, for example, obtaining the line width in a certain range of the back electrode surface with an optical microscope and multiplying it with the finger length and the number. I can do it.

太陽電池セル101としては、特に限定されず、結晶シリコン太陽電池や、GaAs等のシリコン以外の半導体基板が用いられる太陽電池、非晶質シリコン系薄膜や結晶質シリコン系薄膜のpin接合あるいはpn接合上に透明電極層が形成されたシリコン系薄膜太陽電池や、CIS,CIGS等の化合物半導体太陽電池、色素増感太陽電池や有機薄膜(導電性ポリマー)等の有機薄膜太陽電池のような各種の太陽電池に適用可能である。中でも、非晶質半導体層を有する太陽電池が好ましく、ヘテロ接合太陽電池を用いることがより好ましい。例えば、ヘテロ接合太陽電池では、一般的に非晶質シリコン系薄膜層を有するものが用いられており、非晶質シリコン系薄膜層は、湿分によりダメージを受けやすい。しかしながら本発明の太陽電池モジュールを用いることにより、湿分の太陽電池セルへの浸入をより防止することができる。   The solar battery cell 101 is not particularly limited, and is a crystalline silicon solar battery, a solar battery using a semiconductor substrate other than silicon such as GaAs, a pin junction or a pn junction of an amorphous silicon thin film or a crystalline silicon thin film. Various types of organic thin film solar cells such as silicon-based thin film solar cells having a transparent electrode layer formed thereon, compound semiconductor solar cells such as CIS and CIGS, dye-sensitized solar cells and organic thin films (conductive polymers) Applicable to solar cells. Among these, a solar cell having an amorphous semiconductor layer is preferable, and a heterojunction solar cell is more preferably used. For example, a heterojunction solar cell generally has an amorphous silicon thin film layer, and the amorphous silicon thin film layer is easily damaged by moisture. However, by using the solar cell module of the present invention, moisture can be further prevented from entering the solar cell.

以下に、本発明の一実施形態に係る太陽電池セルおよび太陽電池モジュールについて詳細に説明する。以下の実施形態では、太陽電池セルとして、ヘテロ接合太陽電池セルを用いた場合について説明するが、以下の実施形態に限定されるものではない。   Below, the photovoltaic cell and solar cell module which concern on one Embodiment of this invention are demonstrated in detail. In the following embodiment, a case where a heterojunction solar cell is used as the solar cell will be described, but the present invention is not limited to the following embodiment.

[太陽電池セル]
太陽電池セルとしては、例えば、図3のように一導電型の単結晶シリコン基板の表面に、単結晶シリコンとはバンドギャップの異なるシリコン系薄膜を有することで、拡散電位が形成された結晶系太陽電池(ヘテロ接合結晶シリコン太陽電池)を用いることが好ましい。太陽電池セルは、光電変換部として、一導電型単結晶シリコン基板の一方の面(光入射側の面)に、導電型シリコン系薄膜および光入射側透明電極層をこの順に有する。一導電型単結晶シリコン基板の他方の面(光入射側とは異なる面)には、導電型シリコン系薄膜および裏面側透明電極層をこの順に有することが好ましい。光電変換部表面の光入射側透明電極層上には、受光面電極が形成されている。裏面側透明電極層上には受光面電極より光電変換部を覆う面積が大きい裏面電極が形成されている。
[Solar cells]
As a solar cell, for example, a crystal system in which a diffusion potential is formed by having a silicon thin film having a band gap different from that of single crystal silicon on the surface of a single crystal silicon substrate of one conductivity type as shown in FIG. It is preferable to use a solar cell (heterojunction crystalline silicon solar cell). The solar battery cell has a conductive silicon-based thin film and a light incident side transparent electrode layer in this order on one surface (light incident side surface) of the one conductivity type single crystal silicon substrate as a photoelectric conversion unit. It is preferable to have a conductive silicon-based thin film and a back-side transparent electrode layer in this order on the other surface (a surface different from the light incident side) of the one-conductive single crystal silicon substrate. A light receiving surface electrode is formed on the light incident side transparent electrode layer on the surface of the photoelectric conversion unit. A back electrode having a larger area covering the photoelectric conversion portion than the light receiving surface electrode is formed on the back side transparent electrode layer.

一導電型単結晶シリコン基板と導電型シリコン系薄膜との間には、真性シリコン系薄膜を有することが好ましい。まず、一導電型単結晶シリコン基板1について説明する。一般的に単結晶シリコン基板は、導電性を持たせるために、シリコンに対して電荷を供給する不純物を含有している。単結晶シリコン基板は、シリコン原子に電子を導入するための原子(例えばリン)を含有させたn型と、シリコン原子に正孔を導入する原子(例えばボロン)を含有させたp型がある。すなわち、本発明における「一導電型」とは、n型またはp型のどちらか一方であることを意味する。   An intrinsic silicon-based thin film is preferably provided between the one-conductivity-type single crystal silicon substrate and the conductive silicon-based thin film. First, the one conductivity type single crystal silicon substrate 1 will be described. In general, a single crystal silicon substrate contains an impurity that supplies electric charge to silicon in order to provide conductivity. Single crystal silicon substrates include an n-type in which atoms (for example, phosphorus) for introducing electrons into silicon atoms and a p-type in which atoms (for example, boron) for introducing holes into silicon atoms are contained. That is, “one conductivity type” in the present invention means either n-type or p-type.

ヘテロ接合太陽電池では、単結晶シリコン基板へ入射した光が最も多く吸収される入射側のへテロ接合を逆接合として強い電場を設けることで、電子・正孔対を効率的に分離回収することができる。そのため、光入射側のヘテロ接合は逆接合であることが好ましい。一方で、正孔と電子とを比較した場合、有効質量および散乱断面積の小さい電子の方が、一般的に移動度が大きい。以上の観点から、ヘテロ接合太陽電池に用いられる単結晶シリコン基板1は、n型単結晶シリコン基板であることが好ましい。単結晶シリコン基板1は、光閉じ込めの観点から、表面にテクスチャ構造を有することが好ましい。   In heterojunction solar cells, electron / hole pairs are efficiently separated and recovered by providing a strong electric field with the heterojunction on the incident side where the most incident light is absorbed as the reverse junction. Can do. Therefore, the heterojunction on the light incident side is preferably a reverse junction. On the other hand, when holes and electrons are compared, electrons having smaller effective mass and scattering cross section generally have higher mobility. From the above viewpoint, the single crystal silicon substrate 1 used for the heterojunction solar cell is preferably an n-type single crystal silicon substrate. The single crystal silicon substrate 1 preferably has a texture structure on the surface from the viewpoint of light confinement.

テクスチャが形成された一導電型単結晶シリコン基板1の表面に、シリコン系薄膜が製膜される。シリコン系薄膜の製膜方法としては、プラズマCVD法が好ましい。プラズマCVD法によるシリコン系薄膜の形成条件としては、基板温度100〜300℃、圧力20〜2600Pa、高周波パワー密度0.004〜0.8W/cmが好ましく用いられる。シリコン系薄膜の形成に使用される原料ガスとしては、SiH4、Si2H6等のシリコン含有ガス、またはシリコン系ガスとH2との混合ガスが好ましく用いられる。 A silicon-based thin film is formed on the surface of the one conductivity type single crystal silicon substrate 1 on which the texture is formed. As a method for forming a silicon-based thin film, a plasma CVD method is preferable. As conditions for forming a silicon-based thin film by plasma CVD, a substrate temperature of 100 to 300 ° C., a pressure of 20 to 2600 Pa, and a high frequency power density of 0.004 to 0.8 W / cm 2 are preferably used. As a raw material gas used for forming a silicon-based thin film, a silicon-containing gas such as SiH 4 or Si 2 H 6 or a mixed gas of silicon-based gas and H 2 is preferably used.

導電型シリコン系薄膜3は、一導電型または逆導電型のシリコン系薄膜である。例えば、一導電型単結晶シリコン基板1としてn型が用いられる場合、一導電型シリコン系薄膜、および逆導電型シリコン系薄膜は、各々n型、およびp型となる。p型またはn型シリコン系薄膜を形成するためのドーパントガスとしては、B2H6またはPH3等が好ましく用いられる。また、PやBといった不純物の添加量は微量でよいため、予めSiH4やH2で希釈された混合ガスを用いることが好ましい。導電型シリコン系薄膜の製膜時に、CH4、CO2、NH3、GeH4等の異種元素を含むガスを添加して、シリコン系薄膜を合金化することにより、シリコン系薄膜のエネルギーギャップを変更することもできる。   The conductive silicon thin film 3 is a one-conductivity type or reverse conductivity type silicon thin film. For example, when n-type is used as the one-conductivity-type single crystal silicon substrate 1, the one-conductivity-type silicon-based thin film and the reverse-conductivity-type silicon-based thin film are n-type and p-type, respectively. As a dopant gas for forming a p-type or n-type silicon-based thin film, B2H6 or PH3 is preferably used. Moreover, since the addition amount of impurities such as P and B may be very small, it is preferable to use a mixed gas diluted in advance with SiH4 or H2. When forming a conductive silicon thin film, the energy gap of the silicon thin film may be changed by adding a gas containing a different element such as CH4, CO2, NH3, GeH4 and alloying the silicon thin film. it can.

シリコン系薄膜としては、非晶質シリコン薄膜、微結晶シリコン(非晶質シリコンと結晶質シリコンとを含む薄膜)等が挙げられる。中でも非晶質シリコン系薄膜を用いることが好ましい。例えば、一導電型単結晶シリコン基板1としてn型単結晶シリコン基板を用いた場合の光電変換部50の好適な構成としては、透明電極層6a/p型非晶質シリコン系薄膜3a/i型非晶質シリコン系薄膜2a/n型単結晶シリコン基板1/i型非晶質シリコン系薄膜2b/n型非晶質シリコン系薄膜3b/透明電極層6bの順の積層構成が挙げられる。この場合、前述の理由から、p層側を光入射面とすることが好ましい。   Examples of silicon-based thin films include amorphous silicon thin films, microcrystalline silicon (thin films containing amorphous silicon and crystalline silicon), and the like. Among these, it is preferable to use an amorphous silicon thin film. For example, as a preferable configuration of the photoelectric conversion unit 50 when an n-type single crystal silicon substrate is used as the one-conductivity-type single crystal silicon substrate 1, the transparent electrode layer 6a / p-type amorphous silicon thin film 3a / i type is used. Examples include a laminated structure in the order of amorphous silicon thin film 2a / n type single crystal silicon substrate 1 / i type amorphous silicon thin film 2b / n type amorphous silicon thin film 3b / transparent electrode layer 6b. In this case, for the reason described above, it is preferable that the p-layer side be the light incident surface.

なお、上述のように、太陽電池セルとして、非晶質シリコン薄膜等の非晶質半導体層を用いる場合、非晶質半導体層は湿分に弱いため、長期信頼性の観点で課題となることが多い。しかしながら、本発明の構造を有する太陽電池モジュールを用いることにより、太陽電池セルへの湿分の浸入をより抑制することができる。   In addition, as described above, when an amorphous semiconductor layer such as an amorphous silicon thin film is used as a solar battery cell, the amorphous semiconductor layer is vulnerable to moisture, and thus it is a problem in terms of long-term reliability. There are many. However, by using the solar cell module having the structure of the present invention, it is possible to further suppress the intrusion of moisture into the solar cell.

真性シリコン系薄膜2a,2bとしては、シリコンと水素で構成されるi型水素化非晶質シリコンが好ましい。単結晶シリコン基板上に、CVD法によってi型水素化非晶質シリコンが製膜されると、単結晶シリコン基板への不純物拡散を抑えつつ表面パッシベーションを有効に行うことができる。また、膜中の水素量を変化させることで、エネルギーギャップにキャリア回収を行う上で有効なプロファイルを持たせることができる。   The intrinsic silicon thin films 2a and 2b are preferably i-type hydrogenated amorphous silicon composed of silicon and hydrogen. When i-type hydrogenated amorphous silicon is deposited on a single crystal silicon substrate by CVD, surface passivation can be effectively performed while suppressing impurity diffusion into the single crystal silicon substrate. Further, by changing the amount of hydrogen in the film, it is possible to give an effective profile to the carrier recovery in the energy gap.

p型シリコン系薄膜は、p型水素化非晶質シリコン層、p型非晶質シリコンカーバイド層、またはp型非晶質シリコンオキサイド層であることが好ましい。不純物拡散の抑制や直列抵抗低下の観点ではp型水素化非晶質シリコン層が好ましい。一方、p型非晶質シリコンカーバイド層およびp型非晶質シリコンオキサイド層は、ワイドギャップの低屈折率層であるため、光学的なロスを低減できる点において好ましい。   The p-type silicon thin film is preferably a p-type hydrogenated amorphous silicon layer, a p-type amorphous silicon carbide layer, or a p-type amorphous silicon oxide layer. A p-type hydrogenated amorphous silicon layer is preferable from the viewpoint of suppressing impurity diffusion and reducing the series resistance. On the other hand, the p-type amorphous silicon carbide layer and the p-type amorphous silicon oxide layer are wide gap low-refractive index layers, which are preferable in terms of reducing optical loss.

ヘテロ接合太陽電池101の光電変換部50は、導電型シリコン系薄膜3a,3b上に、透明電極層6a,6bを備えることが好ましい。透明電極層は、透明電極層形成工程により形成される。透明電極層6a,6bは、導電性酸化物を主成分とする。導電性酸化物としては、例えば、酸化亜鉛や酸化インジウム、酸化錫を単独または混合して用いることができる。導電性、光学特性、および長期信頼性の観点から、酸化インジウムを含んだインジウム系酸化物が好ましく、中でも酸化インジウム錫(ITO)を主成分とするものがより好ましく用いられる。ここで「主成分とする」とは、含有量が50重量%より多いことを意味し、70重量%以上が好ましく、90%重量以上がより好ましい。透明電極層は、単層でもよく、複数の層からなる積層構造でもよい。   The photoelectric conversion unit 50 of the heterojunction solar cell 101 preferably includes the transparent electrode layers 6a and 6b on the conductive silicon thin films 3a and 3b. The transparent electrode layer is formed by a transparent electrode layer forming step. The transparent electrode layers 6a and 6b are mainly composed of a conductive oxide. As the conductive oxide, for example, zinc oxide, indium oxide, or tin oxide can be used alone or in combination. From the viewpoints of conductivity, optical characteristics, and long-term reliability, an indium oxide containing indium oxide is preferable, and an indium tin oxide (ITO) as a main component is more preferably used. Here, “main component” means that the content is more than 50% by weight, preferably 70% by weight or more, and more preferably 90% by weight or more. The transparent electrode layer may be a single layer or a laminated structure composed of a plurality of layers.

透明電極層には、ドーピング剤を添加することができる。例えば、透明電極層として酸化亜鉛が用いられる場合、ドーピング剤としては、アルミニウムやガリウム、ホウ素、ケイ素、炭素等が挙げられる。透明電極層として酸化インジウムが用いられる場合、ドーピング剤としては、亜鉛や錫、チタン、タングステン、モリブデン、ケイ素等が挙げられる。透明電極層として酸化錫が用いられる場合、ドーピング剤としては、フッ素等が挙げられる。   A doping agent can be added to the transparent electrode layer. For example, when zinc oxide is used as the transparent electrode layer, examples of the doping agent include aluminum, gallium, boron, silicon, and carbon. When indium oxide is used as the transparent electrode layer, examples of the doping agent include zinc, tin, titanium, tungsten, molybdenum, and silicon. When tin oxide is used as the transparent electrode layer, examples of the doping agent include fluorine.

ドーピング剤は、光入射側透明電極層6aおよび裏面側透明電極層6bの一方もしくは両方に添加することができる。特に、光入射側透明電極層6aにドーピング剤を添加することが好ましい。光入射側透明電極層6aにドーピング剤を添加することで、透明電極層自体が低抵抗化されるとともに、透明電極層6aと受光面電極7との間での抵抗損を抑制することができる。   The doping agent can be added to one or both of the light incident side transparent electrode layer 6a and the back surface side transparent electrode layer 6b. In particular, it is preferable to add a doping agent to the light incident side transparent electrode layer 6a. By adding a doping agent to the light incident side transparent electrode layer 6a, the resistance of the transparent electrode layer itself can be reduced and resistance loss between the transparent electrode layer 6a and the light receiving surface electrode 7 can be suppressed. .

光入射側透明電極層6aの膜厚は、透明性、導電性、および光反射低減の観点から、10nm以上140nm以下であることが好ましい。透明電極層6aの役割は、受光面電極7へのキャリアの輸送であり、そのために必要な導電性があればよく、膜厚は10nm以上であることが好ましい。膜厚を140nm以下にすることにより、透明電極層6aでの吸収ロスが小さく、透過率の低下に伴う光電変換効率の低下を抑制することができる。また、透明電極層6aの膜厚が上記範囲内であれば、透明電極層内のキャリア濃度上昇も防ぐことができるため、赤外域の透過率低下に伴う光電変換効率の低下も抑制される。   The film thickness of the light incident side transparent electrode layer 6a is preferably 10 nm or more and 140 nm or less from the viewpoints of transparency, conductivity, and light reflection reduction. The role of the transparent electrode layer 6a is to transport carriers to the light-receiving surface electrode 7, as long as it has conductivity necessary for that purpose, and the film thickness is preferably 10 nm or more. By setting the film thickness to 140 nm or less, absorption loss in the transparent electrode layer 6a is small, and a decrease in photoelectric conversion efficiency accompanying a decrease in transmittance can be suppressed. Moreover, if the film thickness of the transparent electrode layer 6a is within the above range, an increase in carrier concentration in the transparent electrode layer can also be prevented, so that a decrease in photoelectric conversion efficiency due to a decrease in transmittance in the infrared region is also suppressed.

透明電極層の製膜方法は、特に限定されないが、スパッタ法等の物理気相堆積法や、有機金属化合物と酸素または水との反応を利用した化学気相堆積(MOCVD)法等が好ましい。いずれの製膜方法においても、熱やプラズマ放電によるエネルギーを利用することもできる。   The method for forming the transparent electrode layer is not particularly limited, but a physical vapor deposition method such as a sputtering method, a chemical vapor deposition (MOCVD) method using a reaction between an organometallic compound and oxygen or water is preferable. In any film forming method, energy by heat or plasma discharge can be used.

透明電極層作製時の基板温度は、適宜設定される。例えば、シリコン系薄膜として非晶質シリコン系薄膜が用いられる場合、200℃以下が好ましい。基板温度を200℃以下とすることにより、非晶質シリコン層からの水素の脱離や、それに伴うシリコン原子へのダングリングボンドの発生を抑制でき、結果として変換効率を向上させることができる。   The substrate temperature at the time of producing the transparent electrode layer is appropriately set. For example, when an amorphous silicon thin film is used as the silicon thin film, the temperature is preferably 200 ° C. or lower. By setting the substrate temperature to 200 ° C. or lower, desorption of hydrogen from the amorphous silicon layer and accompanying dangling bonds to silicon atoms can be suppressed, and as a result, conversion efficiency can be improved.

透明電極層6a上に、受光面電極7が形成される。受光面電極7の電極材料としては、特に限定されず、金、銀、銅、アルミなどを用いることが出来るが、電気導電率の点から、銀や銅を用いることが好ましい。受光面電極7は、インクジェット法、スクリーン印刷法、導線接着法、スプレー法、真空蒸着法、スパッタ法等の公知技術によって作製できるが、生産性の観点から銀ペーストを用いたスクリーン印刷法や、銅を用いたメッキ法等が好ましい。受光面電極は、受光面側に形成されるため、遮光損をより抑制できる観点から、櫛形状に形成することが好ましい。   The light receiving surface electrode 7 is formed on the transparent electrode layer 6a. The electrode material for the light-receiving surface electrode 7 is not particularly limited, and gold, silver, copper, aluminum, or the like can be used. From the viewpoint of electrical conductivity, silver or copper is preferably used. The light-receiving surface electrode 7 can be produced by a known technique such as an ink jet method, a screen printing method, a wire bonding method, a spray method, a vacuum deposition method, a sputtering method, etc., but from the viewpoint of productivity, a screen printing method using a silver paste, A plating method using copper is preferred. Since the light receiving surface electrode is formed on the light receiving surface side, it is preferable to form the light receiving surface electrode in a comb shape from the viewpoint of further suppressing the light blocking loss.

裏面側透明電極層6bの上には、裏面電極8が形成される。前記裏面電極8としては、金属膜や導電性ペースト等を用いることができるが、低抵抗化の観点から、金属膜を用いることが好ましい。裏面電極は、単層でもよく、複数層でもよいが、コストや長期信頼性の観点から、複数層が好ましい。   A back electrode 8 is formed on the back transparent electrode layer 6b. As the back electrode 8, a metal film, a conductive paste, or the like can be used, but a metal film is preferably used from the viewpoint of reducing resistance. The back electrode may be a single layer or a plurality of layers, but a plurality of layers is preferable from the viewpoint of cost and long-term reliability.

裏面電極として複数層を有するものを用いる場合、例えば、前記裏面側透明電極層6b側から順に第一導電層と第二導電層を有するものを用いることができる。この際、第一導電層としては、近赤外から赤外域の反射率が高く、また導電性や化学的安定性が高い材料を用いることが望ましい。このような材料としては、銀、金、アルミニウムなどが挙げられる。中でも、銀を用いることが特に好ましい。また第二導電層としては、コスト抑制の観点からアルミニウム、銅を用いることが好ましく、電気導電率の観点から銅を主成分とすることがより好ましい。   When using what has multiple layers as a back electrode, what has a 1st conductive layer and a 2nd conductive layer in order from the said back side transparent electrode layer 6b side can be used, for example. At this time, as the first conductive layer, it is desirable to use a material having high reflectivity from the near infrared to the infrared region and high conductivity and chemical stability. Examples of such a material include silver, gold, and aluminum. Among these, it is particularly preferable to use silver. Moreover, as a 2nd conductive layer, it is preferable to use aluminum and copper from a viewpoint of cost suppression, and it is more preferable to have copper as a main component from a viewpoint of electrical conductivity.

裏面電極として、例えば、銅を主成分とした第二導電層を用いる場合など、第二導電層の酸化や、封止材への拡散の抑制のため、第二導電層上にさらに導電性保護層を形成することが好ましい。中でも導電性保護層として、変性を抑制できる観点から銀が好ましく、より酸化されにくく、より低コストで作製できる観点から、チタンや錫、クロムなどを用いることがより好ましい。   For example, when a second conductive layer containing copper as a main component is used as the back electrode, the conductive protection is further provided on the second conductive layer in order to suppress oxidation of the second conductive layer and diffusion to the sealing material. It is preferable to form a layer. Of these, silver is preferable as the conductive protective layer from the viewpoint of suppressing modification, and it is more preferable to use titanium, tin, chromium, or the like from the viewpoint of being less oxidized and being manufactured at a lower cost.

本発明における裏面電極の膜厚は、低抵抗化の観点から、200〜1200nmが好ましい。例えば、裏面電極として、第一導電層上に第二導電層を有するものを用いる場合、各層の材料等により膜厚を適宜設定すればよいが、例えば第一導電層/第二導電層として、Ag/Cuを用いる場合、第一導電層=8〜100nm、第二導電層=200〜1000nmなどを用いることができる。また導電性保護層をさらに有する場合、例えば10〜100nmのものなどを用いることができる。   The thickness of the back electrode in the present invention is preferably 200 to 1200 nm from the viewpoint of reducing resistance. For example, when a back electrode having a second conductive layer on the first conductive layer is used, the film thickness may be appropriately set depending on the material of each layer. For example, as the first conductive layer / second conductive layer, When Ag / Cu is used, the first conductive layer = 8 to 100 nm, the second conductive layer = 200 to 1000 nm, and the like can be used. Moreover, when it further has an electroconductive protective layer, a 10-100 nm thing etc. can be used, for example.

例えば、裏面電極として複数層を有するものを用いる場合(例えば、裏面電極として第一導電層と第二導電層を有する場合)、第二導電層が形成された領域に、第一導電層が形成されていれば、第一導電層を有さない部分があってもよく、例えば、グリッド状であっても良い。   For example, when a back electrode having a plurality of layers is used (for example, when the back electrode includes a first conductive layer and a second conductive layer), the first conductive layer is formed in the region where the second conductive layer is formed. If it is, there may be a part which does not have a 1st conductive layer, for example, a grid form may be sufficient.

本発明により、外部から太陽電池モジュール内への湿分の浸入を防止するだけなく、開放も行うことで、太陽電池モジュールの性能劣化を防止し、耐用年数を向上させることができる。   According to the present invention, not only the entry of moisture into the solar cell module from the outside is prevented, but also the opening is performed, so that the performance deterioration of the solar cell module can be prevented and the service life can be improved.

[太陽電池モジュール]
モジュール化に関し、太陽電池モジュールは、通常、太陽電池セル同士、もしくは太陽電池セルと外部回路を接続するための配線材を備える。この場合、太陽電池セルの受光面電極もしくは裏面電極に配線材を接続される。配線材の接続は、直列であっても良いし、並列であってもよい。
[Solar cell module]
Regarding modularization, a solar cell module usually includes a wiring material for connecting solar cells or solar cells and an external circuit. In this case, a wiring material is connected to the light receiving surface electrode or the back surface electrode of the solar battery cell. The wiring members may be connected in series or in parallel.

配線材と太陽電池セルの接続は、一般的に導電性微粒子を含有する樹脂製接着剤で接着する方法や、半田付けによる方法などが挙げられるが、受光面電極や裏面電極として金属を用いた場合、該金属との接合のしやすさや熱ダメージをより抑制する観点から、導電性微粒子を含有する樹脂製接着剤により接着されることが好ましい。   The connection between the wiring material and the solar cell generally includes a method of bonding with a resin adhesive containing conductive fine particles, a method of soldering, etc., but a metal was used as the light receiving surface electrode and the back surface electrode. In this case, from the viewpoint of further suppressing the ease of bonding with the metal and thermal damage, it is preferable that the bonding is performed with a resin adhesive containing conductive fine particles.

太陽電池セルと、樹脂製接着剤を介して配線材を互いに接続し太陽電池ストリングを作製し、次に、受光面側保護材上に、受光面側封止材、太陽電池ストリング、裏面側封止材及び裏面側保護材を順次積層して積層体とすることにより太陽電池モジュールを作製することができる。 次に、上記積層体を所定条件で加熱することにより、封止材を硬化させることが好ましい。そしてAlフレーム等を取り付けることで太陽電池モジュールを作製することが好ましい。   A solar battery string and a wiring material are connected to each other via a resin adhesive to produce a solar battery string. Next, a light receiving surface side sealing material, a solar battery string, a back surface side seal are formed on the light receiving surface side protective material. A solar cell module can be produced by sequentially laminating a stopper and a back surface side protective material to form a laminate. Next, it is preferable to cure the encapsulant by heating the laminate body under predetermined conditions. And it is preferable to produce a solar cell module by attaching an Al frame or the like.

以上のようにして太陽電池モジュールを作製することができるが、上記に限定されるものではない。   Although a solar cell module can be produced as described above, it is not limited to the above.

(実施例1)
実施例1のヘテロ接合太陽電池モジュールを以下のように製造した。
Example 1
The heterojunction solar cell module of Example 1 was manufactured as follows.

一導電型単結晶シリコン基板として、入射面の面方位が(100)で、厚みが200μmのn型単結晶シリコンウェハを用い、このシリコンウェハを2重量%のHF水溶液に3分間浸漬し、表面の酸化シリコン膜が除去された後、超純水によるリンスを2回行った。このシリコン基板を、70℃に保持された5/15重量%のKOH/イソプロピルアルコール水溶液に15分間浸漬し、ウェハの表面をエッチングすることでテクスチャを形成した。その後に超純水によるリンスが2回行った。原子間力顕微鏡(AFM パシフィックナノテクノロジー社製)により、ウェハの表面観察を行ったところ、ウェハの表面はエッチングが最も進行しており、(111)面が露出したピラミッド型のテクスチャを形成した。   As a single conductivity type single crystal silicon substrate, an n-type single crystal silicon wafer having an incident plane of (100) and a thickness of 200 μm was used, and this silicon wafer was immersed in a 2 wt% HF aqueous solution for 3 minutes. After the silicon oxide film was removed, rinsing with ultrapure water was performed twice. This silicon substrate was immersed in a 5/15 wt% KOH / isopropyl alcohol aqueous solution maintained at 70 ° C. for 15 minutes, and the surface of the wafer was etched to form a texture. Thereafter, rinsing with ultrapure water was performed twice. When the surface of the wafer was observed with an atomic force microscope (manufactured by AFM Pacific Nanotechnology), etching was most advanced on the surface of the wafer, and a pyramidal texture with the (111) plane exposed was formed.

エッチング後のウェハがCVD装置へ導入され、その光入射側に、真性シリコン系薄膜2aとしてi型非晶質シリコンを5nmの膜厚で製膜した。i型非晶質シリコンの製膜条件は、基板温度:170℃、圧力:100Pa、SiH4/H2流量比:3/10、投入パワー密度:0.011W/cmであった。なお、本実施例における薄膜の膜厚は、ガラス基板上に同条件にて製膜された薄膜の膜厚を、分光エリプソメトリー(商品名M2000、ジェー・エー・ウーラム社製)にて測定することにより求められた製膜速度から算出された値である。 The etched wafer was introduced into a CVD apparatus, and an i-type amorphous silicon film having a thickness of 5 nm was formed on the light incident side as an intrinsic silicon-based thin film 2a. The film formation conditions for the i-type amorphous silicon were: substrate temperature: 170 ° C., pressure: 100 Pa, SiH 4 / H 2 flow rate ratio: 3/10, and input power density: 0.011 W / cm 2 . In addition, the film thickness of the thin film in a present Example measures the film thickness of the thin film formed on the glass substrate on the same conditions by the spectroscopic ellipsometry (brand name M2000, JA Woollam Co., Ltd. product). It is a value calculated from the film forming speed obtained by this.

i型非晶質シリコン層2a上に、逆導電型シリコン系薄膜3aとしてp型非晶質シリコンを7nmの膜厚で製膜した。p型非晶質シリコン層3aの製膜条件は、基板温度が170℃、圧力60Pa、SiH4/B2H6流量比が1/3、投入パワー密度が0.01W/cmであった。なお、上記でいうB2H6ガス流量は、H2によりB2H6濃度が5000ppmまで希釈された希釈ガスの流量である。 On the i-type amorphous silicon layer 2a, a p-type amorphous silicon film having a thickness of 7 nm was formed as the reverse conductive silicon-based thin film 3a. The film forming conditions for the p-type amorphous silicon layer 3a were a substrate temperature of 170 ° C., a pressure of 60 Pa, a SiH 4 / B 2 H 6 flow rate ratio of 1/3, and an input power density of 0.01 W / cm 2 . The B2H6 gas flow rate mentioned above is a flow rate of a diluted gas diluted with H2 to a B2H6 concentration of 5000 ppm.

次にウェハの裏面側に、真性シリコン系薄膜2bとしてi型非晶質シリコン層を6nmの膜厚で製膜した。i型非晶質シリコン層2bの製膜条件は、上記のi型非晶質シリコン層2aの製膜条件と同様であった。i型非晶質シリコン層2b上に、一導電型シリコン系薄膜3bとしてn型非晶質シリコン層を4nmの膜厚で製膜した。n型非晶質シリコン層3bの製膜条件は、基板温度:170℃、圧力:60Pa、SiH4/PH3流量比:1/2、投入パワー密度:0.01W/cmであった。なお、上記でいうPH3ガス流量は、H2によりPH3濃度が5000ppmまで希釈された希釈ガスの流量である。 Next, an i-type amorphous silicon layer having a thickness of 6 nm was formed as an intrinsic silicon-based thin film 2b on the back side of the wafer. The film formation conditions for the i-type amorphous silicon layer 2b were the same as those for the i-type amorphous silicon layer 2a. On the i-type amorphous silicon layer 2b, an n-type amorphous silicon layer having a thickness of 4 nm was formed as the one-conductivity-type silicon-based thin film 3b. The film forming conditions for the n-type amorphous silicon layer 3b were: substrate temperature: 170 ° C., pressure: 60 Pa, SiH 4 / PH 3 flow rate ratio: 1/2, input power density: 0.01 W / cm 2 . The PH3 gas flow rate mentioned above is the flow rate of the diluted gas diluted with H2 to a PH3 concentration of 5000 ppm.

この上に透明電極層6aおよび6bとして、各々酸化インジウム錫(ITO、屈折率:1.9)を100nmの膜厚で製膜した。ターゲットとして酸化インジウムを用い、基板温度:室温、圧力:0.2Paのアルゴン雰囲気中で、0.5W/cmのパワー密度を印加して透明電極層の製膜を行った。以上のようにして、ヘテロ接合太陽電池の光電変換部を作製した。 On this, as transparent electrode layers 6a and 6b, indium tin oxide (ITO, refractive index: 1.9) was formed to a thickness of 100 nm. Using indium oxide as a target, a transparent electrode layer was formed by applying a power density of 0.5 W / cm 2 in an argon atmosphere at a substrate temperature of room temperature and a pressure of 0.2 Pa. The photoelectric conversion part of the heterojunction solar cell was produced as described above.

上記光入射側透明電極層6a上には、スクリーン印刷法を用いてAgペーストにて受光面電極7を形成した。裏面側透明電極層6b上には、裏面電極9を、スパッタ法で以下のように形成した。第一電極層として100nmの銀を、第二電極層として250nmの銅を、導電性保護層として10nmのチタンを形成した。   On the light incident side transparent electrode layer 6a, the light-receiving surface electrode 7 was formed of Ag paste using a screen printing method. On the back surface side transparent electrode layer 6b, the back surface electrode 9 was formed by the sputtering method as follows. 100 nm of silver was formed as the first electrode layer, 250 nm of copper was formed as the second electrode layer, and 10 nm of titanium was formed as the conductive protective layer.

なお、本発明における裏面電極の厚みは、SEM(フィールドエミッション型走査型電子顕微鏡S4800、日立ハイテクノロジーズ社製)を用いてヘテロ接合太陽電池の断面を観察することにより測定した。この際、裏面電極は、前記光電変換部の裏面側表面の全面に形成されていた。なお、裏面電極は、光学顕微鏡(オリンパス社製BX51)により20倍に拡大して、光電変換部の裏面側表面を観察することにより、求めた。   In addition, the thickness of the back surface electrode in this invention was measured by observing the cross section of a heterojunction solar cell using SEM (Field emission type scanning electron microscope S4800, Hitachi High-Technologies company make). Under the present circumstances, the back surface electrode was formed in the whole surface of the back surface side of the said photoelectric conversion part. In addition, the back surface electrode was calculated | required by magnifying 20 times with an optical microscope (Olympus BX51), and observing the back surface side surface of a photoelectric conversion part.

その後、レーザ加工装置に移動させて、レーザ光によって結晶シリコン基板の光入射側の外周部の全周にわたって溝を形成した。溝の位置は結晶シリコン基板端から0.5mmとした。レーザ光としては、YAGレーザの第三高調波(波長355nm)を用い、溝の深さは結晶シリコン基板の厚みの3分の1程度とした。続いて溝に沿って折り曲げ破断し、結晶シリコン基板外周部を除去することで絶縁処理工程とした。その後、190度で1時間アニール処理を行った。   Then, it moved to the laser processing apparatus and the groove | channel was formed over the perimeter of the outer peripheral part of the light-incidence side of a crystalline silicon substrate with the laser beam. The position of the groove was 0.5 mm from the edge of the crystalline silicon substrate. As the laser light, the third harmonic (wavelength 355 nm) of a YAG laser was used, and the depth of the groove was set to about one third of the thickness of the crystalline silicon substrate. Then, it bent and fractured along the groove | channel, and it was set as the insulation process process by removing the crystalline silicon substrate outer peripheral part. Thereafter, annealing was performed at 190 degrees for 1 hour.

以上のようにして、結晶シリコン系太陽電池を作製した。AM1.5のスペクトル分布を有するソーラーシミュレータを用いて、25℃の下で擬似太陽光を100mW/cmのエネルギー密度で照射して太陽電池特性の測定を行った。 A crystalline silicon solar cell was produced as described above. Using a solar simulator having a spectral distribution of AM1.5, the solar cell characteristics were measured by irradiating simulated sunlight with an energy density of 100 mW / cm 2 at 25 ° C.

受光面電極、裏面電極上に、各々、導電性接着剤を介して、配線材を配置し、温度180℃、15秒間、2MPaの圧力を加え、接続し、太陽電池ストリングを作製した。導電性接着剤として、エポキシ樹脂を主成分とした樹脂中に、平均粒子径約10μmφのNiを10質量%含有したフィルム上樹脂を選択した。   A wiring material was placed on each of the light-receiving surface electrode and the back surface electrode via a conductive adhesive, and a pressure of 2 MPa was applied at a temperature of 180 ° C. for 15 seconds to connect them to produce a solar cell string. As the conductive adhesive, a resin on a film containing 10% by mass of Ni having an average particle diameter of about 10 μmφ in a resin mainly composed of an epoxy resin was selected.

以上の様にして、配線材を接続した太陽電池ストリングを用い、太陽電池モジュールを作製した。受光面側保護材として白板ガラスを、受光面側封止材としてLDPEを、裏面側封止材としてEVAを、裏面側保護材として30μmの厚みを有するPET(Poly Ethylene Terephtalate)の単層フィルムを用い、白板ガラス、LDPE、太陽電池ストリング、EVA、PETの順に積層させ、加熱しながら加圧することで、一体化させた。大気圧での加熱圧着を5分間行い、続いて、150℃にて60分間保持して、EVA樹脂を架橋させた。裏面側保護層として用いたPETの水蒸気透過量は、1.8g/m/day(40℃,90%)であった。 As described above, a solar cell module was produced using the solar cell string to which the wiring material was connected. White plate glass as the light-receiving surface side protective material, LDPE as the light-receiving surface side sealing material, EVA as the back surface side sealing material, and a single layer film of PET (Poly Ethylene Terephthalate) having a thickness of 30 μm as the back surface side protective material Used, laminated in the order of white plate glass, LDPE, solar cell string, EVA, PET, and integrated by applying pressure while heating. Thermocompression bonding at atmospheric pressure was performed for 5 minutes, and subsequently maintained at 150 ° C. for 60 minutes to crosslink the EVA resin. The water vapor transmission rate of PET used as the back side protective layer was 1.8 g / m 2 / day (40 ° C., 90%).

なお、LDPE、EVAの水蒸気透過量をJIS K 7129(プラスチックフィルムおよびシートの水蒸気透過量試験方法(機器測定法))に基づいて測定した。この水蒸気透過量の測定は、図4に示すような測定装置を用いて行った。測定装置にサンプルをセットするとともに、サンプルの下方に水を設置した。そして、サンプルの下側の雰囲気を温度:40℃、湿度:100%とするとともに、サンプルの上側の雰囲気を温度:40℃、湿度:10%(測定開始時の初期湿度)とした。この状態を保持することにより、サンプルに水蒸気を透過させた。そして、サンプルの上側における湿度の変化速度を湿度センサにより測定した。そして、測定した湿度の変化速度を、予め水蒸気透過量の知られている標準試験片を用いた場合の湿度の変化速度と比較することにより、サンプルの水蒸気透過量を測定した。このようにして測定した実施例1によるLDPEの水蒸気透過量は、2.0g/m/day(40℃,90%)、EVAの水蒸気透過量は、15.0g/m/day(40℃,90%)であった。 In addition, the water vapor permeation amount of LDPE and EVA was measured based on JIS K 7129 (Test method for water vapor permeation of plastic film and sheet (instrument measurement method)). The water vapor transmission amount was measured using a measuring apparatus as shown in FIG. A sample was set in the measuring device, and water was placed below the sample. The atmosphere below the sample was set to temperature: 40 ° C. and humidity: 100%, and the atmosphere above the sample was set to temperature: 40 ° C. and humidity: 10% (initial humidity at the start of measurement). By maintaining this state, water vapor was allowed to pass through the sample. The humidity change rate on the upper side of the sample was measured with a humidity sensor. Then, the water vapor transmission rate of the sample was measured by comparing the measured humidity change rate with the humidity change rate in the case of using a standard test piece with a known water vapor transmission rate in advance. Thus, the water vapor transmission rate of LDPE by Example 1 measured in this way is 2.0 g / m < 2 > / day (40 degreeC, 90%), and the water vapor transmission rate of EVA is 15.0 g / m < 2 > / day (40 ° C, 90%).

(実施例2)
裏面側封止材として酸化チタンを含有させた白色EVAを用いた点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。白色EVAの水蒸気透過量は、12.0g/m/day(40℃,90%)であった。
(Example 2)
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that white EVA containing titanium oxide was used as the back side sealing material. The water vapor transmission rate of white EVA was 12.0 g / m 2 / day (40 ° C., 90%).

(実施例3)
表面側封止材として、水蒸気透過量が2.5g/m/day(40℃,90%)であるLLDPEを用いた点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
Example 3
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that LLDPE having a water vapor transmission rate of 2.5 g / m 2 / day (40 ° C., 90%) was used as the surface side sealing material. .

(実施例4)
裏面電極として、300nmの銀を全面製膜した点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
Example 4
A solar cell module was fabricated in the same manner as in Example 1 except that 300 nm of silver was formed on the entire surface as the back electrode.

(実施例5)
裏面電極としてAgペーストを用い、光電変換部の裏面側表面の50%を覆うように裏面電極が形成された点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
(Example 5)
A solar cell module was fabricated in the same manner as in Example 1 except that Ag paste was used as the back electrode and the back electrode was formed so as to cover 50% of the back surface side surface of the photoelectric conversion portion.

(比較例1)
受光面側封止材としてEVAを、裏面側保護材としてAl箔を含んだシート(PET20μm/AL30μm/PET50μmの三層構造)が用いられた点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。Al箔の水蒸気透過量は0.1g/m/day未満(40℃,90%)であった。
(Comparative Example 1)
A solar cell in the same manner as in Example 1 except that a sheet (trilayer structure of PET 20 μm / AL 30 μm / PET 50 μm) containing EVA as the light-receiving surface side sealing material and Al foil as the back surface side protective material was used. A module was produced. The water vapor transmission rate of the Al foil was less than 0.1 g / m 2 / day (40 ° C., 90%).

(比較例2)
受光面側封止材としてEVAを用いた点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
(Comparative Example 2)
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that EVA was used as the light-receiving surface side sealing material.

(比較例3)
裏面電極として、受光面電極と同様のAgペーストを用い、受光面電極と同じパターンで裏面電極が形成された点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。受光面電極及び裏面電極は、光電変換部の受光面側及び裏面側の各々の表面の8%を覆うように形成されていた。
(Comparative Example 3)
A solar cell module was fabricated in the same manner as in Example 1 except that the same paste as that of the light receiving surface electrode was used as the back electrode, and the back electrode was formed in the same pattern as the light receiving surface electrode. The light receiving surface electrode and the back surface electrode were formed so as to cover 8% of the respective surfaces of the light receiving surface side and the back surface side of the photoelectric conversion unit.

(比較例4)
裏面電極としてAgペーストを用い、光電変換部の裏面側表面の25%を覆うように裏面電極が形成されてた点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
(Comparative Example 4)
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that Ag paste was used as the back electrode and the back electrode was formed so as to cover 25% of the back surface side surface of the photoelectric conversion portion.

(比較例5)
受光面側封止材としてEVAを用い、裏面電極として、受光面電極と同様のAgペーストを用い、受光面電極と同じパターンで裏面電極が形成された点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。受光面電極及び裏面電極は、光電変換部の受光面側及び裏面側の各々の表面の8%を覆うように形成されていた。
(Comparative Example 5)
The same as in Example 1 except that EVA is used as the light-receiving surface side sealing material, the back electrode is the same Ag paste as the light-receiving surface electrode, and the back electrode is formed in the same pattern as the light-receiving surface electrode. Thus, a solar cell module was produced. The light receiving surface electrode and the back surface electrode were formed so as to cover 8% of the respective surfaces of the light receiving surface side and the back surface side of the photoelectric conversion unit.

(比較例6)
受光面側封止材としてEVAを、裏面側保護材としてAl箔を含んだシート(PET20μm/AL30μm/PET50μmの三層構造)が用い、裏面電極としてAgペーストを用い、光電変換部の裏面側表面の8%を覆うように裏面電極が形成された点を除いて、実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
(Comparative Example 6)
A sheet (three-layer structure of PET 20 μm / AL 30 μm / PET 50 μm) containing EVA as the light-receiving surface side sealing material and Al foil as the back surface side protective material is used, Ag paste is used as the back surface electrode, and the back surface side surface of the photoelectric conversion unit A solar cell module was fabricated in the same manner as in Example 1 except that the back electrode was formed so as to cover 8%.

(比較例7)
裏面側保護材として、Al箔を含んだシート(PET20μm/AL30μm/PET50μmの三層構造)を用いた点を除いて、実施例5と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
(Comparative Example 7)
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 5 except that a sheet containing Al foil (a three-layer structure of PET 20 μm / AL 30 μm / PET 50 μm) was used as the back surface side protective material.

(比較例8)
裏面側保護材として、Al箔を含んだシート(PET20μm/AL30μm/PET50μmの三層構造)を用いた点を除いて、実施例3と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
(Comparative Example 8)
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 3 except that a sheet containing Al foil (a three-layer structure of PET 20 μm / AL 30 μm / PET 50 μm) was used as the back surface side protective material.

(耐湿性試験)
次に、実施例、比較例および参考例による太陽電池モジュールについて、耐湿性試験を行った。耐湿性試験は、IEC61215に記載されている内容に準じて行った。太陽電池モジュールの初期出力を測定した後、太陽電池モジュールを温度85℃、湿度85%以上の恒温恒室槽中に1000時間保持した。試験後、太陽電池モジュールの出力を再び測定し、太陽電池モジュールの初期出力に対する1000時間の保持後の出力の割合(%)(以下、耐湿性試験の保持率という)を求めた。求めた初期出力比に基づいて、太陽電池モジュールの耐湿性を評価した。なお、IEC61215では、耐湿性試験後の保持率は95.0%以上が合格基準として規定されている。本発明では、より長期で厳しい条件での耐湿性を評価するために2000時間まで保持し、太陽電池モジュールの保持率を求め、96.0%以上を合格とした。
(Moisture resistance test)
Next, a moisture resistance test was performed on the solar cell modules according to Examples, Comparative Examples, and Reference Examples. The moisture resistance test was performed in accordance with the contents described in IEC61215. After measuring the initial output of the solar cell module, the solar cell module was held in a thermostatic chamber at a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% or more for 1000 hours. After the test, the output of the solar cell module was measured again, and the ratio (%) of the output after holding for 1000 hours with respect to the initial output of the solar cell module (hereinafter referred to as the retention rate in the moisture resistance test) was obtained. Based on the obtained initial output ratio, the moisture resistance of the solar cell module was evaluated. In IEC61215, the retention rate after the moisture resistance test is defined as 95.0% or more as an acceptance criterion. In the present invention, in order to evaluate the moisture resistance under a stricter condition for a longer period, it was held for up to 2000 hours, the retention rate of the solar cell module was determined, and 96.0% or more was regarded as acceptable.

上記の結果をまとめたものを表1に示す。   A summary of the above results is shown in Table 1.

比較例3、比較例4、実施例5、実施例1を比較すると、光電変換部の裏面側表面を覆う裏面電極層の面積が増加するにつれて、保持率は向上した。これは、太陽電池セルの裏面電極層により、太陽電池モジュールの端部(側面)や裏面側から浸入した湿分が、太陽電池セルに浸入することを防止できたためと考えられる。特に、実施例5や実施例1では、より厳しい条件である2000時間後の保持率も高くなった。   When Comparative Example 3, Comparative Example 4, Example 5, and Example 1 were compared, the retention rate increased as the area of the back electrode layer covering the back side surface of the photoelectric conversion portion increased. This is considered to be because moisture that has entered from the end (side surface) or the back side of the solar cell module can be prevented from entering the solar cell by the back electrode layer of the solar cell. In particular, in Example 5 and Example 1, the retention rate after 2000 hours, which is a more severe condition, also increased.

比較例5と比較例3、また比較例2と実施例1を各々比較すると、受光面側封止材としてEVAを用いた比較例5、2に対し、水蒸気透過量の低いLDPEを用いた比較例3、実施例1では、保持率が向上した。これは、モジュールの端部から浸入した湿分が、受光面側から太陽電池セルに浸入するのを防止できたためと考えられる。一般的に、太陽電池セルは、光入射面積を増加させるために、受光面側はパターン化する必要がある。従って、本発明のように、受光面側封止材として、水蒸気透過量が低い材料を用いることにより、受光面側からのセルへの湿分浸入を防止することができる。   Comparing Comparative Example 5 and Comparative Example 3 and Comparative Example 2 and Example 1 respectively, compared to Comparative Examples 5 and 2 using EVA as the light-receiving surface side sealing material, a comparison using LDPE having a low water vapor transmission rate In Example 3 and Example 1, the retention rate was improved. This is thought to be because moisture that has entered from the end of the module can be prevented from entering the solar cell from the light receiving surface side. Generally, in order to increase the light incident area, the solar battery cell needs to be patterned on the light receiving surface side. Therefore, as in the present invention, by using a material having a low water vapor transmission amount as the light-receiving surface side sealing material, it is possible to prevent moisture from entering the cell from the light-receiving surface side.

また比較例5と6、比較例2と1、比較例7と実施例5、また比較例8と実施例3を各々比較する。裏面PET(水蒸気透過量1.8g/m/day(40℃,90%))を用いた比較例5と2に対し、裏面Al箔(水蒸気透過量0.1g/m/day未満(40℃,90%))を用いた比較例6と1では保持率が高くなった。一方、比較例7と実施例5、また比較例8と実施例3では、裏面側保護材としてAl箔を用いた比較例7と8に比べて、水蒸気透過量がより低いPETを用いた実施例5と3の方が、各々2000時間後の保持率が96.0%以上と高くなった。 Further, Comparative Examples 5 and 6, Comparative Examples 2 and 1, Comparative Example 7 and Example 5, and Comparative Example 8 and Example 3 are respectively compared. For Comparative Examples 5 and 2 using backside PET (water vapor transmission rate 1.8 g / m 2 / day (40 ° C., 90%)), backside Al foil (water vapor transmission rate less than 0.1 g / m 2 / day ( In Comparative Examples 6 and 1 using 40 ° C. and 90%)), the retention rate was high. On the other hand, in Comparative Example 7 and Example 5, and Comparative Example 8 and Example 3, compared to Comparative Examples 7 and 8 using Al foil as the back surface side protective material, the implementation using PET having a lower water vapor transmission rate. In Examples 5 and 3, the retention after 2000 hours was higher than 96.0%.

裏面側において、裏面側保護材としてPETを用いた比較例5、2また実施例3、5のうち、裏面電極層を50%以上に形成した比較例2と実施例3、5では、該裏面電極層により、裏面側から浸入した湿分を防止できたと考えられる。一方、裏面電極層として8%が覆われる比較例5では、裏面側から浸入する湿分がセルに浸入してしまうため、裏面側からの湿分の浸入をより防止できるAl箔を用いた比較例6の方が特性が高くなったと考えられる。また比較例では、受光面側封止材としてEVAを用いており、モジュールの端部から浸入した湿分が、受光面側からセルに浸入し、該影響が大きかったと考えられる。   In Comparative Examples 5 and 2 and Examples 3 and 5 using PET as the back surface side protective material on the back surface side, in Comparative Examples 2 and 3 and 5 in which the back electrode layer was formed to 50% or more, the back surface It is thought that moisture that entered from the back side could be prevented by the electrode layer. On the other hand, in Comparative Example 5 in which 8% is covered as the back electrode layer, since moisture entering from the back side enters the cell, a comparison using an Al foil that can further prevent moisture from entering from the back side. It is considered that Example 6 has higher characteristics. In the comparative example, EVA is used as the light-receiving surface side sealing material, and moisture that has entered from the end of the module enters the cell from the light-receiving surface side, which is considered to have a large influence.

一方、比較例7と実施例5、また比較例8と実施例3では、モジュール端部からの湿分のうち、受光面側は水蒸気透過量が低いLDPEにより防止され、裏面側からの湿分は、太陽電池セルの裏面電極層により防止されるため、モジュール端部からの裏面側への影響が相対的に大きくなったと考えられる。具体的には、Al箔を用いた比較例7、8では、側面からの湿分が、裏面側から開放されずにモジュール内に溜まったのに対し、PETを用いた実施例5、3では、側面からの湿分が外部に開放されたと考えられる。   On the other hand, in Comparative Example 7 and Example 5, and Comparative Example 8 and Example 3, out of the moisture from the module end, the light receiving surface side is prevented by LDPE having a low water vapor transmission amount, and moisture from the back side Is prevented by the back electrode layer of the solar battery cell, it is considered that the influence on the back surface side from the module end is relatively large. Specifically, in Comparative Examples 7 and 8 using Al foil, moisture from the side surface was not released from the back side but accumulated in the module, whereas in Examples 5 and 3 using PET, It is thought that moisture from the side was released to the outside.

また実施例1と3を比較すると、受光面側封止材の水蒸気透過量が高い実施例1の方が、実施例3より保持率が高くなった。同様に、実施例1と2を各々比較すると、裏面側封止材の水蒸気透過量が高い実施例2の方が、実施例1より保持率が高くなった。また実施例4と1を比較すると、1000時間後と2000時間後の保持率がいずれも同程度となった。   Further, when Examples 1 and 3 were compared, the retention rate of Example 1 in which the water vapor transmission amount of the light-receiving surface side sealing material was high was higher than that of Example 3. Similarly, when Examples 1 and 2 were compared with each other, the retention rate of Example 2 in which the water vapor transmission amount of the back surface side sealing material was high was higher than that of Example 1. Further, when Examples 4 and 1 were compared, the retention rates after 1000 hours and 2000 hours were almost the same.

従って、封止材の材料を適宜変更させることにより、さらに長期の耐湿性が見込め、太陽電池モジュールの性能劣化を防止し、耐用年数を向上させることができると考えられる。   Therefore, it is considered that by appropriately changing the material of the sealing material, further long-term moisture resistance can be expected, performance deterioration of the solar cell module can be prevented, and the service life can be improved.

以上のように、本発明の太陽電池モジュールを用いることにより、外部からの湿分を防止しつつ開放もできるため、通常より厳しい条件下における保持率の低下を抑制できるため、長期信頼性の高い太陽電池モジュールを作製できると考えられる。   As described above, by using the solar cell module of the present invention, it is possible to release moisture while preventing moisture from the outside. Therefore, it is possible to suppress a decrease in retention rate under harsher conditions than usual, and thus high long-term reliability. It is thought that a solar cell module can be produced.

1.一導電型単結晶シリコン基板
2.真性シリコン系薄膜
3.導電型シリコン系薄膜
6.透明電極層
7.受光面電極
8.裏面電極
100.太陽電池モジュール
101. 太陽電池セル
50.光電変換部
200. 受光面側保護材
201.受光面側封止材
202.裏面側封止材
203.裏面側保護材
204. 配線材
1. 1. One conductivity type single crystal silicon substrate 2. Intrinsic silicon-based thin film 5. Conductive silicon thin film 6. Transparent electrode layer Light receiving surface electrode 8. Back electrode 100. Solar cell module 101. Solar cell 50. Photoelectric conversion unit 200. Light-receiving surface side protective material 201. Light-receiving surface side sealing material 202. Back side sealing material 203. Back side protective material 204. Wiring material

Claims (6)

太陽電池セルと、前記太陽電池セルの受光面側に順に設けられた受光面側封止材および受光面側保護材、前記太陽電池セルの裏面側に順に設けられた裏面側封止材および裏面側保護材と、を有する太陽電池モジュールであって、
前記太陽電池セルは、非晶質シリコン薄膜を含む光電変換部と、前記光電変換部の受光面側に設けられた受光面電極と、前記光電変換部の裏面側に設けられた裏面金属電極と、を備え、
前記裏面金属電極は、前記光電変換部の裏面側表面の40%以上に形成されており、
前記受光面側封止材の40℃90%RHにおける水蒸気透過量W1と裏面側封止材の40℃90%RHにおける水蒸気透過量W2が、W1<W2を満たし、
前記裏面側保護材の40℃90%RHにおける水蒸気透過量が、0.1[g/m/day]以上15.0[g/m/day]以下を満たす太陽電池モジュール。
A solar cell, a light receiving-side sealing member and the light-receiving-surface-side protection member disposed in this order on the light-receiving surface side of the solar cell, back-surface-side sealing member provided in order on the back surface side of the solar cells and and the back side protection member, a solar cell module having,
The solar cell includes a photoelectric conversion unit including an amorphous silicon thin film, a light receiving surface electrode provided on a light receiving surface side of the photoelectric conversion unit, and a back metal electrode provided on a back surface side of the photoelectric conversion unit. With
The back metal electrode is formed on 40% or more of the back side surface of the photoelectric conversion part,
The water vapor transmission amount W1 at 40 ° C. and 90% RH of the light receiving surface side sealing material and the water vapor transmission amount W2 at 40 ° C. and 90% RH of the back surface sealing material satisfy W1 <W2.
The solar cell module in which the water vapor transmission amount at 40 ° C. and 90% RH of the back surface side protective material satisfies 0.1 [g / m 2 / day] to 15.0 [g / m 2 / day].
前記裏面金属電極は、前記光電変換部の裏面側表面の90%以上に形成されている、請求項1に記載の太陽電池モジュール。 The solar cell module according to claim 1, wherein the back surface metal electrode is formed on 90% or more of the back surface side surface of the photoelectric conversion unit. 1≦3.0[g/m/day]、およびW2≦30.0[g/m/day]を満たす、請求項1または2に記載の太陽電池モジュール。 W 1 ≦ 3.0 [g / m 2 / day], and W2 ≦ 30.0 satisfy [g / m 2 / day] , the solar cell module according to claim 1 or 2. 前記裏面側保護材が、ポリフッ化ビニリデン、エチレン・四フッ化エチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、およびポリフッ化ビニルから選ばれる1種類以上の材料を主成分とする、請求項1〜のいずれか1項に記載の太陽電池モジュール。 The backside protection material, polyfluorinated vinylidene down, ethylene tetrafluoroethylene copolymer, composed mainly of polyethylene terephthalate, and polyvinylidene fluoride Le whether we selected Ru one or more materials, claims 1-3 solar cell module according to any one of. 前記裏面金属電極は、前記光電変換部側から、第一導電層と第二導電層をこの順に有し、前記第二導電層が銅である、請求項1〜のいずれか1項記載の太陽電池モジュール。 The back metal electrode from the photoelectric conversion portion side includes a first conductive layer and the second conductive layer in this order, the second conductive layer is copper, according to any one of claims 1-4 Solar cell module. 前記光電変換部は、導電型結晶シリコン基板の受光面側に導電型非晶質シリコン薄膜および光入射側透明電極層をこの順に有し、前記導電型結晶シリコン基板の裏面側に導電型非晶質シリコン薄膜および裏面側透明電極層をこの順に有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の太陽電池モジュール。 The photoelectric conversion portion includes a light receiving surface side of the conductive type crystalline silicon substrate conductivity type amorphous silicon thin film and the light-incident-side transparent electrode layer in this order, the conductive crystal silicon substrate on the back surface conductive type non The solar cell module of any one of Claims 1-5 which has a crystalline silicon thin film and a back surface side transparent electrode layer in this order.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107148679B (en) * 2015-03-26 2019-04-05 株式会社钟化 Solar cell module and its manufacturing method
WO2017170214A1 (en) 2016-03-31 2017-10-05 パナソニックIpマネジメント株式会社 Solar battery module
CN111354808A (en) * 2018-12-20 2020-06-30 广东汉能薄膜太阳能有限公司 Solar chip and preparation method thereof
CN116364794A (en) 2022-04-11 2023-06-30 浙江晶科能源有限公司 Solar cell, photovoltaic module and preparation method of solar cell
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Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3250575B2 (en) * 1992-12-28 2002-01-28 キヤノン株式会社 Photovoltaic element, method for manufacturing the same, and power generation system
JP4278545B2 (en) * 2004-03-23 2009-06-17 三洋電機株式会社 Photovoltaic device
JP2010192858A (en) * 2009-02-20 2010-09-02 Mitsubishi Electric Corp Solar cell and method of manufacturing the same
JP2011159711A (en) * 2010-01-29 2011-08-18 Sanyo Electric Co Ltd Solar cell module
JP5624898B2 (en) * 2011-01-21 2014-11-12 株式会社ブリヂストン Manufacturing method of back surface side protective member integrated sealing film for solar cell, solar cell using the same, and manufacturing method thereof
JP5409966B2 (en) * 2011-11-15 2014-02-05 京セラ株式会社 Solar cell module
JP5360187B2 (en) * 2011-12-05 2013-12-04 大日本印刷株式会社 Solar cell module
EP2816611B1 (en) * 2012-02-16 2019-04-10 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Solar cell module and method for manufacturing same
CN102623533B (en) * 2012-03-16 2014-07-23 友达光电股份有限公司 Solar module capable of absorbing ultraviolet waveband and production method of solar module

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