JP6331312B2 - Vapor deposition mask manufacturing method and vapor deposition mask preparation - Google Patents

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本発明は、蒸着マスクの製造方法、及び蒸着マスク準備体に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a vapor deposition mask and a vapor deposition mask preparation.

有機ＥＬ素子を用いた製品の大型化或いは基板サイズの大型化にともない、蒸着マスクに対しても大型化の要請が高まりつつある。そして、金属から構成される蒸着マスクの製造に用いられる金属板も大型化している。しかしながら、現在の金属加工技術では、大型の金属板にスリットを精度よく形成することは困難であり、スリットの高精細化への対応はできない。また、金属のみからなる蒸着マスクとした場合には、大型化に伴いその質量も増大し、フレームを含めた総質量も増大することから取り扱いに支障をきたすこととなる。   With the increase in size of products using organic EL elements or the increase in substrate size, there is an increasing demand for increasing the size of vapor deposition masks. And the metal plate used for manufacture of the vapor deposition mask comprised from a metal is also enlarged. However, with the current metal processing technology, it is difficult to accurately form a slit in a large metal plate, and it is not possible to cope with the high definition of the slit. Further, in the case of a vapor deposition mask made of only metal, the mass increases with an increase in size, and the total mass including the frame also increases, resulting in trouble in handling.

このような状況下、特許文献１には、スリットが設けられた金属マスクと、金属マスクの表面に位置し蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクとが積層されてなる蒸着マスクが提案されている。また、特許文献２には、特許文献１等に提案がされている蒸着マスクの製造方法が提案されている。特許文献１に提案がされている蒸着マスクによれば、大型化した場合でも高精細化と軽量化の双方を満たすことができ、また、特許文献２に提案がされている蒸着マスクの製造方法によれば、レーザー照射により樹脂マスクの開口部の開口精度を向上させることができ、より高精細な蒸着パターンの形成が可能な蒸着マスクを製造することができるというものである。   Under such circumstances, Patent Document 1 is laminated with a metal mask provided with slits and a resin mask in which openings corresponding to a pattern to be deposited and formed on the surface of the metal mask are arranged in multiple rows vertically and horizontally. A vapor deposition mask is proposed. Patent Document 2 proposes a method for manufacturing a vapor deposition mask proposed in Patent Document 1 and the like. According to the vapor deposition mask proposed in Patent Document 1, both high definition and light weight can be satisfied even when the size is increased, and the method of manufacturing the vapor deposition mask proposed in Patent Document 2 According to the above, it is possible to improve the opening accuracy of the opening portion of the resin mask by laser irradiation, and to manufacture a vapor deposition mask capable of forming a higher-definition vapor deposition pattern.

しかしながら、レーザー加工を用いた開口部の形成においては、レーザーアブレーションにより生ずる滓、或いはレーザーにより分解しきれなかった樹脂板の滓が、蒸着マスクに付着、或いは固着（以下、付着等と言う）し、当該滓が、蒸着対象物に蒸着パターンを形成する際の支障となる場合がある。具体的には、レーザー加工時に生ずる滓が、樹脂マスクの開口部近傍に付着等した場合には、蒸着対象物に蒸着パターンの形成を行う際に、開口部近傍に存在する滓が蒸着源から放出された蒸着材料を遮断してしまい、蒸着対象物に不十分なパターンが形成されてしまう、いわゆるパターン欠陥を引き起こす要因となる場合もある。   However, in the formation of the opening using laser processing, wrinkles generated by laser ablation or resin plate wrinkles that could not be decomposed by the laser adhered or adhered (hereinafter referred to as adhesion) to the vapor deposition mask. The wrinkles may become an obstacle when forming a vapor deposition pattern on a vapor deposition object. Specifically, in the case where wrinkles generated during laser processing adhere to the vicinity of the opening of the resin mask, the wrinkles that exist in the vicinity of the opening are formed from the vapor deposition source when the vapor deposition pattern is formed on the vapor deposition object. It may cause a so-called pattern defect that blocks the released deposition material and forms an insufficient pattern on the deposition target.

蒸着マスクに付着等した滓を除去する方法としては、超音波による洗浄方法を挙げることができる。ところで、レーザー加工時に生ずる滓は、通常、蒸着マスク上に強固な固着力をもって固着され、その除去を行うには、物理的な力を強くかける必要がある。ここで、蒸着マスクに付着等した滓を除去すべく、物理的な力を強くかけて蒸着マスクの洗浄を行った場合、例えば、物理的な力を強めるべく低い周波数で超音波洗浄を行った場合には、樹脂マスクがダメージを受け、樹脂マスクに設けられた開口部に寸法変動が生じ、高精細な蒸着パターンの形成が困難になるといった問題が生ずる。   As a method for removing wrinkles adhering to the vapor deposition mask, an ultrasonic cleaning method can be used. By the way, the wrinkles generated at the time of laser processing are usually fixed on the vapor deposition mask with a strong fixing force, and it is necessary to apply a strong physical force to remove them. Here, in order to remove wrinkles attached to the vapor deposition mask, when the vapor deposition mask was cleaned by applying a physical force, for example, ultrasonic cleaning was performed at a low frequency to increase the physical force. In such a case, the resin mask is damaged, causing dimensional fluctuations in the opening provided in the resin mask, which makes it difficult to form a high-definition vapor deposition pattern.

特許第５２８８０７２号公報Japanese Patent No. 5288072 特許第５２８８０７３号公報Japanese Patent No. 5288073

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、高精細な蒸着パターンの形成が可能であり、かつ樹脂マスクの開口部に生じ得る寸法変動を抑制しつつも、蒸着マスクに付着等した滓を容易に除去可能な蒸着マスクを得るための蒸着マスクの製造方法、及び、この蒸着マスクの製造に用いられる蒸着マスク準備体を提供することを主たる課題とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and it is possible to form a high-definition vapor deposition pattern, and while adhering to the vapor deposition mask while suppressing dimensional variation that may occur in the opening of the resin mask. It is a main object to provide a method for manufacturing a vapor deposition mask for obtaining a vapor deposition mask from which the soot can be easily removed, and a vapor deposition mask preparation used for the production of this vapor deposition mask.

上記課題を解決するための本発明は、蒸着マスクの製造方法であって、樹脂板の一方の面上にスリットが設けられた金属マスクが積層され、当該樹脂板の一方の面において前記スリットと重なる位置に対応する領域、及び前記樹脂板の他方の面の何れか一方、又は双方の面上に防汚層が設けられた樹脂板付き金属マスクを準備する工程と、前記金属マスク側から前記スリットを通してレーザーを照射して、前記樹脂板に蒸着作製するパターンに対応する開口部を形成する樹脂マスク形成工程と、を含むことを特徴とする。   The present invention for solving the above problems is a method for manufacturing a vapor deposition mask, wherein a metal mask provided with a slit is laminated on one surface of a resin plate, and the slit is formed on one surface of the resin plate. A step of preparing a metal mask with a resin plate provided with an antifouling layer on one or both of the region corresponding to the overlapping position and the other surface of the resin plate; And a resin mask forming step of forming an opening corresponding to a pattern to be deposited on the resin plate by irradiating a laser through the slit.

また、前記防汚層が、溶媒によって除去可能な防汚層であってもよい。また、前記防汚層が、溶媒によって除去不能な防汚層であってもよい。   Further, the antifouling layer may be an antifouling layer removable by a solvent. The antifouling layer may be an antifouling layer that cannot be removed by a solvent.

また、前記樹脂板付き金属マスクを準備する工程が、樹脂板の一方の面上に、スリットが設けられた金属マスクを積層する工程と、前記樹脂板の一方の面において前記スリットと重なる位置に対応する領域、及び前記樹脂板の他方の面の何れか一方、又は双方の面上に防汚層を形成する工程とを含んでいてもよい。   Further, the step of preparing the metal mask with a resin plate includes a step of laminating a metal mask provided with a slit on one surface of the resin plate, and a position overlapping the slit on one surface of the resin plate. And a step of forming an antifouling layer on one or both of the corresponding region and the other surface of the resin plate.

また、前記樹脂板付き金属マスクを準備する工程が、前記樹脂板の一方の面、及び前記樹脂板の他方の面の何れか一方、又は双方の面上に防汚層を形成する工程と、前記樹脂板の一方の面上に、スリットが設けられた金属マスクを積層する工程と、を含んでいてもよい。   In addition, the step of preparing the metal mask with a resin plate is a step of forming an antifouling layer on one side of the resin plate and the other side of the resin plate, or both, And laminating a metal mask provided with a slit on one surface of the resin plate.

また、上記課題を解決するための本発明は、蒸着マスクを製造するために用いられる蒸着マスク準備体であって、樹脂板の一方の面上にスリットが設けられた金属マスクが積層されてなり、前記樹脂板の一方の面において前記スリットと重なる位置に対応する領域、及び前記樹脂板の他方の面の何れか一方、又は双方の面上に防汚層が設けられていることを特徴とする。   Further, the present invention for solving the above problems is a vapor deposition mask preparation used for manufacturing a vapor deposition mask, wherein a metal mask provided with a slit is laminated on one surface of a resin plate. The antifouling layer is provided on one or both of the region corresponding to the position overlapping with the slit on one surface of the resin plate and the other surface of the resin plate. To do.

本発明の蒸着マスクの製造方法や、蒸着マスク準備体によれば、高精細な蒸着パターンの形成が可能であり、かつ樹脂マスクの開口部に生じ得る寸法変動を抑制しつつも、蒸着マスクに付着等した滓を容易に除去可能な蒸着マスクを得ることができる。   According to the method for manufacturing a vapor deposition mask and the vapor deposition mask preparation of the present invention, it is possible to form a high-definition vapor deposition pattern, and to suppress the dimensional variation that may occur in the opening of the resin mask, while using the vapor deposition mask. It is possible to obtain a vapor deposition mask that can easily remove attached soot and the like.

本発明の一実施形態の蒸着マスクの製造方法を説明するための図であり、（ａ）〜（ｃ）はともに部分概略断面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the vapor deposition mask of one Embodiment of this invention, (a)-(c) is a partial schematic sectional drawing. 第１実施形態の樹脂板付き金属マスクの形成方法を説明するための図であり、（ａ）、（ｂ）はともに部分概略断面図である。It is a figure for demonstrating the formation method of the metal mask with a resin plate of 1st Embodiment, (a), (b) is a partial schematic sectional drawing. 第２実施形態の樹脂板付き金属マスクの形成方法を説明するための図であり、（ａ）、（ｂ）はともに部分概略断面図である。It is a figure for demonstrating the formation method of the metal mask with a resin plate of 2nd Embodiment, (a), (b) is a partial schematic sectional drawing. 樹脂板付き金属マスクの一例を示す部分概略断面図である。It is a partial schematic sectional drawing which shows an example of the metal mask with a resin plate. 樹脂板付き金属マスクの一例を示す部分概略断面図である。It is a partial schematic sectional drawing which shows an example of the metal mask with a resin plate. 本発明の一実施形態の蒸着マスク準備体の一例を示す部分概略断面図である。It is a partial schematic sectional drawing which shows an example of the vapor deposition mask preparation body of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態の製造方法で製造される蒸着マスクの一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the vapor deposition mask manufactured with the manufacturing method of one Embodiment of this invention. 第３実施形態の樹脂板付き金属マスクの形成方法を説明するための図であり、（ａ）、（ｂ）はともに部分概略断面図である。It is a figure for demonstrating the formation method of the metal mask with a resin plate of 3rd Embodiment, (a), (b) is a partial schematic sectional drawing. 第４実施形態の樹脂板付き金属マスクの形成方法を説明するための図であり、（ａ）、（ｂ）はともに部分概略断面図である。It is a figure for demonstrating the formation method of the metal mask with a resin plate of 4th Embodiment, (a), (b) is a partial schematic sectional drawing. 第５実施形態の樹脂板付き金属マスクの形成方法を説明するための図であり、（ａ）、（ｂ）はともに部分概略断面図である。It is a figure for demonstrating the formation method of the metal mask with a resin plate of 5th Embodiment, (a), (b) is a partial schematic sectional drawing.

＜＜蒸着マスクの製造方法＞＞
以下に、本発明の一実施形態の蒸着マスクの製造方法について図面を用いて具体的に説明する。なお、各図においては、各層の厚みを誇張して示している。 << Method for Manufacturing Deposition Mask >>
Below, the manufacturing method of the vapor deposition mask of one Embodiment of this invention is demonstrated concretely using drawing. In each figure, the thickness of each layer is exaggerated.

本発明の一実施形態の蒸着マスクの製造方法は、図１（ａ）に示すように、樹脂板３０の一方の面上にスリット１５が設けられた金属マスク１０が積層され、当該樹脂板３０の一方の面においてスリット１５と重なる位置に対応する領域、及び樹脂板３０の他方の面の何れか一方、又は双方の面上（図１（ａ）では、樹脂板３０の一方の面においてスリット１５と重なる位置に対応する領域上）に防汚層４０が設けられた樹脂板付き金属マスク５０を準備する工程と、図１（ｂ）に示すように、樹脂板付き金属マスク５０に対し、金属マスク１０側からスリット１５を通してレーザーを照射して、図１（ｃ）に示すように、樹脂板３０に蒸着作製するパターンに対応する開口部２５を形成する樹脂マスク形成工程と、を含むことを特徴とする。以下、各工程について説明する。   In the method for manufacturing a vapor deposition mask according to an embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1A, the metal mask 10 provided with the slits 15 is laminated on one surface of the resin plate 30, and the resin plate 30. On one surface of the resin plate 30 and the other surface of the resin plate 30, or on both surfaces (in FIG. 1A, a slit is formed on one surface of the resin plate 30. 15), a step of preparing a metal mask 50 with a resin plate provided with an antifouling layer 40 on a region corresponding to a position overlapping with 15), and as shown in FIG. A resin mask forming step of irradiating a laser through the slit 15 from the metal mask 10 side to form an opening 25 corresponding to a pattern to be deposited on the resin plate 30 as shown in FIG. Characterized byHereinafter, each step will be described.

＜樹脂板付き金属マスクを準備する工程＞
本工程は、図１（ａ）に示すように樹脂板３０の一方の面上にスリット１５が設けられた金属マスク１０が積層され、当該樹脂板３０の一方の面においてスリット１５と重なる位置に対応する領域、及び樹脂板３０の他方の面の何れか一方、又は双方の面上に防汚層４０が設けられた樹脂板付き金属マスク５０を準備する工程である。以下、樹脂板付き金属マスク５０、及び樹脂板付き金属マスクを形成する方法の一例について具体的に説明する。 <Process for preparing metal mask with resin plate>
In this step, as shown in FIG. 1A, the metal mask 10 provided with the slits 15 is laminated on one surface of the resin plate 30, and the resin plate 30 is overlapped with the slits 15 on one surface. This is a step of preparing a metal mask 50 with a resin plate in which the antifouling layer 40 is provided on one or both of the corresponding region and the other surface of the resin plate 30. Hereinafter, an example of a method for forming the metal mask with resin plate 50 and the metal mask with resin plate will be described in detail.

（第１実施形態の樹脂板付き金属マスク）
第１実施形態の樹脂板付き金属マスク５０は、図２（ａ）に示すように、樹脂板３０の一方の面上に、スリット１５が設けられた金属マスク１０を積層する工程と、図２（ｂ）に示すように金属マスク１０が積層された樹脂板３０の一方の面上においてスリット１５と重なる位置に防汚層４０を形成する工程とにより得られる。 (Metal mask with resin plate of the first embodiment)
2A, the metal mask 50 with a resin plate according to the first embodiment includes a step of laminating the metal mask 10 provided with the slits 15 on one surface of the resin plate 30; As shown in (b), the antifouling layer 40 is formed at a position overlapping the slit 15 on one surface of the resin plate 30 on which the metal mask 10 is laminated.

「樹脂板」
樹脂板３０としては、レーザー加工等によって高精細な開口部２５の形成が可能であり、熱や経時での寸法変化率や吸湿率が小さく、軽量な材料を用いることが好ましい。このような材料としては、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体樹脂、エチレン−メタクリル酸共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、セロファン、アイオノマー樹脂等を挙げることができる。上記に例示した材料の中でも、その熱膨張係数が１６ｐｐｍ／℃以下である樹脂材料が好ましく、吸湿率が１．０％以下である樹脂材料が好ましく、この双方の条件を備える樹脂材料が特に好ましい。 "Resin plate"
As the resin plate 30, it is preferable to use a light-weight material that can form a high-definition opening 25 by laser processing or the like and has a small dimensional change rate and moisture absorption rate over time and with time. Examples of such materials include polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyester resin, polyethylene resin, polyvinyl alcohol resin, polypropylene resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyacrylonitrile resin, ethylene vinyl acetate copolymer resin, ethylene- Examples thereof include vinyl alcohol copolymer resin, ethylene-methacrylic acid copolymer resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, cellophane, and ionomer resin. Among the materials exemplified above, a resin material having a thermal expansion coefficient of 16 ppm / ° C. or less is preferable, a resin material having a moisture absorption rate of 1.0% or less is preferable, and a resin material having both conditions is particularly preferable. .

開口部２５が形成されることで最終的に樹脂マスク２０となる樹脂板３０の厚みについても特に限定はないが、シャドウの影響を考慮すると、３μｍ以上２５μｍ以下であることが好ましい。樹脂板３０の厚みをこの範囲内とすることで、最終的に形成される樹脂マスク２０においてピンホール等の欠陥や変形等のリスクを低減でき、かつシャドウの発生を効果的に防止することができる。特に、樹脂板３０の厚みを、３μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは４μｍ以上８μｍ以下とすることで、最終的に、４００ｐｐｉを超える高精細パターンを形成する際のシャドウの影響をより効果的に防止することができる樹脂マスク２０とすることができる。なお、シャドウとは、蒸着源から放出された蒸着材の一部が、金属マスク１０のスリット１５の内壁面に衝突して蒸着対象物へ到達しないことにより、目的とする蒸着膜厚よりも薄い膜厚となる未蒸着部分が生ずる現象のことをいう。特に、本発明の一実施形態の製造方法で形成される開口部２５の形状を微細化していくことにともない、シャドウによる影響は大きくなる。   The thickness of the resin plate 30 that will eventually become the resin mask 20 by forming the opening 25 is not particularly limited, but is preferably 3 μm or more and 25 μm or less in consideration of the influence of shadows. By setting the thickness of the resin plate 30 within this range, it is possible to reduce the risk of defects such as pinholes and deformation in the finally formed resin mask 20, and to effectively prevent the occurrence of shadows. it can. In particular, by setting the thickness of the resin plate 30 to 3 μm or more and 10 μm or less, more preferably 4 μm or more and 8 μm or less, it is possible to more effectively prevent the influence of shadows when forming a high-definition pattern exceeding 400 ppi in the end. The resin mask 20 can be made. Note that the shadow is thinner than the target deposition film thickness because a part of the deposition material released from the deposition source collides with the inner wall surface of the slit 15 of the metal mask 10 and does not reach the deposition target. This refers to a phenomenon in which an undeposited portion having a film thickness occurs. In particular, as the shape of the opening 25 formed by the manufacturing method according to the embodiment of the present invention is miniaturized, the influence of the shadow increases.

また、図示する形態では、開口部２５の開口形状は、矩形状を呈しているが、開口形状について特に限定はなく、開口部２５の開口形状は、台形状、円形状等いかなる形状であってもよい。   In the illustrated form, the opening shape of the opening 25 is rectangular, but the opening shape is not particularly limited, and the opening shape of the opening 25 is any shape such as a trapezoidal shape or a circular shape. Also good.

「金属マスク」
金属マスク１０は、金属から構成され、縦方向或いは横方向に延びるスリット１５が複数列配置されている。スリット１５は開口と同義である。なお、図７に示す形態では、縦方向、及び横方向に延びるスリットが縦方向、及び横方向に複数列配置されている。図７は、本発明の一実施形態の製造方法により製造された蒸着マスクを金属マスク側からみた平面図である。スリット１５は、図示する形態に限定されるものではなく、縦方向に延びるスリットが、横方向に複数列配置されていてもよく、横方向に延びるスリットが縦方向に複数列配置されていてもよい。また、縦方向、或いは横方向に１列のみ配置されていてもよい。また、スリット１５は、樹脂マスク２０に設けられる全ての開口部２５と重なる１つの貫通孔であってもよい。 "Metal mask"
The metal mask 10 is made of metal, and a plurality of rows of slits 15 extending in the vertical direction or the horizontal direction are arranged. The slit 15 is synonymous with the opening. In the form shown in FIG. 7, a plurality of rows of slits extending in the vertical direction and the horizontal direction are arranged in the vertical direction and the horizontal direction. FIG. 7 is a plan view of the vapor deposition mask manufactured by the manufacturing method according to the embodiment of the present invention as seen from the metal mask side. The slits 15 are not limited to the form shown in the figure, and a plurality of slits extending in the vertical direction may be arranged in the horizontal direction, or a plurality of slits extending in the horizontal direction may be arranged in the vertical direction. Good. Further, only one row may be arranged in the vertical direction or the horizontal direction. Further, the slit 15 may be one through hole that overlaps all the openings 25 provided in the resin mask 20.

金属マスク１０に形成されるスリット１５の断面形状についても特に限定されることはないが、蒸着源に向かって広がりをもつような形状であることが好ましい。より具体的には、金属マスク１０のスリット１５における下底先端と、同じく金属マスク１０のスリット１５における上底先端を結んだ直線と金属マスク１０の底面とのなす角度が５°〜８５°の範囲内であることが好ましく、１５°〜８０°の範囲内であることがより好ましく、２５°〜６５°の範囲内であることがさらに好ましい。特には、この範囲内の中でも、使用する蒸着機の蒸着角度よりも小さい角度であることが好ましい。スリットの断面形状を上記好ましい形態とすることでシャドウの発生をより効果的に防止することができる。   The cross-sectional shape of the slit 15 formed in the metal mask 10 is also not particularly limited, but is preferably a shape that expands toward the vapor deposition source. More specifically, the angle formed by the straight line connecting the lower bottom tip of the slit 15 of the metal mask 10 and the upper bottom tip of the slit 15 of the metal mask 10 and the bottom surface of the metal mask 10 is 5 ° to 85 °. It is preferably within the range, more preferably within the range of 15 ° to 80 °, and even more preferably within the range of 25 ° to 65 °. In particular, within this range, an angle smaller than the vapor deposition angle of the vapor deposition machine to be used is preferable. The occurrence of shadows can be more effectively prevented by setting the cross-sectional shape of the slit to the preferred form.

金属マスク１０の材料について特に限定はなく、蒸着マスクの分野で従来公知のものを適宜選択して用いることができ、例えば、ステンレス鋼、鉄ニッケル合金、アルミニウム合金などの金属材料を挙げることができる。中でも、鉄ニッケル合金であるインバー材は熱による変形が少ないので好適に用いることができる。   The material of the metal mask 10 is not particularly limited, and any conventionally known material can be appropriately selected and used in the field of the evaporation mask, and examples thereof include metal materials such as stainless steel, iron-nickel alloy, and aluminum alloy. . Among them, an invar material that is an iron-nickel alloy can be suitably used because it is less deformed by heat.

金属マスク１０の厚みについても特に限定はないが、シャドウの発生をより効果的に防止するためには、１００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることがより好ましく、３５μｍ以下であることが特に好ましい。なお、５μｍより薄くした場合、破断や変形のリスクが高まるとともにハンドリングが困難となる傾向にある。   Although the thickness of the metal mask 10 is not particularly limited, it is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, and more preferably 35 μm or less in order to more effectively prevent the occurrence of shadows. Particularly preferred. When the thickness is less than 5 μm, the risk of breakage and deformation increases and handling tends to be difficult.

また、図示する形態では、スリット１５の開口形状は、矩形状を呈しているが、開口形状について特に限定はなく、スリット１５の開口形状は、台形状、円形状等いかなる形状であってもよい。   In the illustrated embodiment, the opening shape of the slit 15 has a rectangular shape, but the opening shape is not particularly limited, and the opening shape of the slit 15 may be any shape such as a trapezoidal shape or a circular shape. .

樹脂板３０と金属マスク１０との貼り合せ方法について特に限定はなく、樹脂板３０と金属マスク１０とは各種粘着剤を用いて貼り合わせてもよく、自己粘着性を有する樹脂板を用いてもよい。樹脂板３０と金属マスク１０の大きさは同一であってもよく、異なる大きさであってもよい。なお、この後に任意で行われるフレームへの固定を考慮して、樹脂板３０の大きさを金属マスク１０よりも小さくし、金属マスク１０の外周部分が露出された状態としておくと、金属マスク１０とフレームとの溶接が容易となり好ましい。   The method for bonding the resin plate 30 and the metal mask 10 is not particularly limited. The resin plate 30 and the metal mask 10 may be bonded using various adhesives, or a resin plate having self-adhesiveness may be used. Good. The resin plate 30 and the metal mask 10 may have the same size or different sizes. In consideration of the optional fixing to the frame thereafter, the size of the resin plate 30 is made smaller than that of the metal mask 10 so that the outer peripheral portion of the metal mask 10 is exposed. It is preferable because it can be easily welded to the frame.

「スリットが設けられた金属マスクの形成方法」
スリット１５が設けられた金属マスク１０の形成方法としては、金属板の表面にマスキング部材、例えば、レジスト材を塗工し、所定の箇所を露光し、現像することで、最終的にスリット１５が形成される位置を残したレジストパターンを形成する。マスキング部材として用いるレジスト材としては処理性が良く、所望の解像性があるものが好ましい。次いで、このレジストパターンを耐エッチングマスクとして用いてエッチング法によりエッチング加工する。エッチングが終了後、レジストパターンを洗浄除去する。これにより、スリット１５が設けられた金属マスク１０が得られる。スリット１５を形成するためのエッチングは、金属板の片面側から行ってもよく、両面から行ってもよい。また、金属板に樹脂板が設けられた積層体を用いて、金属板にスリット１５を形成する場合には、金属板の樹脂板と接しない側の表面にマスキング部材を塗工して、片面側からのエッチングによってスリット１５が形成される。なお、樹脂板が、金属板のエッチング材に対し耐エッチング性を有する場合には、樹脂板の表面をマスキングする必要はないが、樹脂板が、金属板のエッチング材に対する耐性を有しない場合には、樹脂板の表面にマスキング部材を塗工しておく必要がある。また、上記では、マスキング部材としてレジスト材を中心に説明を行ったが、レジスト材を塗工する代わりにドライフィルムレジストをラミネートし、同様のパターニングを行ってもよい。なお、スリット１５の形成はエッチング加工以外の方法を用いることもできいる。 "Method of forming a metal mask with slits"
As a method of forming the metal mask 10 provided with the slit 15, a masking member, for example, a resist material is applied to the surface of the metal plate, a predetermined portion is exposed and developed, and finally the slit 15 is formed. A resist pattern is formed leaving the position to be formed. As the resist material used as the masking member, those having good processability and desired resolution are preferable. Next, etching is performed by an etching method using this resist pattern as an etching resistant mask. After the etching is completed, the resist pattern is removed by washing. Thereby, the metal mask 10 provided with the slit 15 is obtained. Etching for forming the slit 15 may be performed from one side of the metal plate or from both sides. In addition, when the slit 15 is formed in the metal plate using a laminate in which the resin plate is provided on the metal plate, a masking member is applied to the surface of the metal plate that is not in contact with the resin plate. A slit 15 is formed by etching from the side. In addition, when the resin plate has etching resistance to the etching material of the metal plate, it is not necessary to mask the surface of the resin plate, but when the resin plate does not have resistance to the etching material of the metal plate. Needs to be coated with a masking member on the surface of the resin plate. In the above description, the resist material is mainly described as the masking member. However, instead of coating the resist material, a dry film resist may be laminated and the same patterning may be performed. The slit 15 can be formed by a method other than etching.

上記の方法において、樹脂板付き金属マスク５０を構成する樹脂板３０は、板状の樹脂のみならず、上記のようにコーティングによって形成された樹脂層や樹脂膜であってもよい。つまり、樹脂板は、予め準備されたものであってもよく、金属板と樹脂板３０とを用いて樹脂板付き金属マスク５０を形成する場合には、金属板上に、従来公知のコーティング法等によって、最終的に樹脂マスクとなる樹脂層、或いは樹脂膜を形成することもできる。   In the above method, the resin plate 30 constituting the metal mask with resin plate 50 may be not only a plate-shaped resin but also a resin layer or a resin film formed by coating as described above. That is, the resin plate may be prepared in advance, and when the metal mask 50 with a resin plate is formed using the metal plate and the resin plate 30, a conventionally known coating method is applied on the metal plate. For example, a resin layer or a resin film that finally becomes a resin mask can be formed.

「防汚層」
第１実施形態の樹脂板付き金属マスク５０は、上記の方法で得られた樹脂板３０と金属マスク１０の積層体に対し、樹脂板３０の一方の面において金属マスク１０のスリット１５と重なる位置に防汚層４０を設けることで得られる。防汚層４０は、後述する樹脂マスクを形成する工程において蒸着マスクに付着等した滓、具体的には、レーザー加工時に蒸着マスクに付着等した滓を除去するために設けられる層である。なお、本願明細書において、「樹脂板の一方の面上において金属マスクのスリットと重なる位置に防汚層が設けられている」とは、図２（ｂ）に示すように樹脂板３０の一方の面において、スリット１５と重なる位置に対応する全領域上に防汚層４０が設けられている形態のみならず、図４に示すように、樹脂板３０の一方の面において、スリット１５と重なる位置に対応する領域上の一部分に防汚層４０が設けられた形態を含むものである。つまり、スリット１５と重なる位置において、一部樹脂板３０が露出していてもよい。第２実施形態の樹脂板付き金属マスク５０についても同様である。図４は、樹脂板付き金属マスクの一例を示す部分概略断面図である。 "Anti-fouling layer"
The metal mask 50 with a resin plate of the first embodiment is positioned so as to overlap the slit 15 of the metal mask 10 on one surface of the resin plate 30 with respect to the laminate of the resin plate 30 and the metal mask 10 obtained by the above method. It is obtained by providing the antifouling layer 40 on the surface. The antifouling layer 40 is a layer provided for removing wrinkles attached to the vapor deposition mask in the step of forming a resin mask described later, specifically, wrinkles attached to the vapor deposition mask during laser processing. In the present specification, “the antifouling layer is provided on the one surface of the resin plate at a position overlapping with the slit of the metal mask” means that one of the resin plates 30 as shown in FIG. In addition to the form in which the antifouling layer 40 is provided on the entire region corresponding to the position overlapping with the slit 15 on the surface of FIG. 4, the surface of the resin plate 30 overlaps with the slit 15 as shown in FIG. 4. It includes a form in which the antifouling layer 40 is provided in a part on the region corresponding to the position. That is, a part of the resin plate 30 may be exposed at a position overlapping the slit 15. The same applies to the metal mask with resin plate 50 of the second embodiment. FIG. 4 is a partial schematic cross-sectional view showing an example of a metal mask with a resin plate.

防汚層４０を有する本発明の一実施形態の蒸着マスク１００によれば、上記で説明した滓等が、蒸着マスクに付着等した場合であっても、物理的に大きな力をかけることなく当該滓等を容易に除去することができる。なお、防汚層を有しない蒸着マスクにおいては、物理的に大きな力をかけなければ滓等を除去することができず、物理的に大きな力をかけて滓の除去を行った場合、例えば、物理的な力を強めるべく低い周波数で超音波洗浄を行った場合には、樹脂マスクに設けられた開口部の寸法が変動していくこととなる。換言すれば、防汚層を有しない蒸着マスクでは、滓等を除去するための洗浄行うことで、樹脂マスクの開口部の寸法精度が低下していくこととなる。   According to the vapor deposition mask 100 of one embodiment of the present invention having the antifouling layer 40, even if the above-described wrinkles or the like adhere to the vapor deposition mask, the physical force is not exerted. Soot and the like can be easily removed. In addition, in a vapor deposition mask that does not have an antifouling layer, wrinkles and the like cannot be removed unless a large physical force is applied, and when wrinkles are removed by applying a large physical force, for example, When ultrasonic cleaning is performed at a low frequency so as to increase the physical force, the size of the opening provided in the resin mask varies. In other words, in the vapor deposition mask that does not have the antifouling layer, the dimensional accuracy of the opening of the resin mask is reduced by performing cleaning for removing wrinkles and the like.

防汚層４０は、レーザー加工時に生ずる滓が付着等しにくい、或いはレーザー加工時に生じた滓が付着等した場合であっても当該滓を洗浄によって容易に除去可能である、又は、防汚層４０自体を除去できるとの条件を満たすものであれば、防汚層４０の材料について特に限定はない。以下、防汚層４０について、第１実施形態の防汚層、第２実施形態を例に挙げて説明する。   The antifouling layer 40 is difficult to adhere soot generated during laser processing, or even if soot generated during laser processing adheres, the soot can be easily removed by washing, or the antifouling layer The material for the antifouling layer 40 is not particularly limited as long as it satisfies the condition that 40 itself can be removed. Hereinafter, the antifouling layer 40 will be described by taking the antifouling layer of the first embodiment and the second embodiment as examples.

「第１実施形態の防汚層」
樹脂板付き金属マスク５０を構成する第１実施形態の防汚層４０は、溶媒によって除去可能な防汚層４０であることを特徴とする。換言すれば溶媒可溶性な材料からなる防汚層であることを特徴とする。この特徴の防汚層４０によれば、本発明の一実施形態の製造方法により製造される蒸着マスクにレーザー加工時において滓が付着等した場合であっても、当該付着等した滓を、その後の洗浄によって防汚層４０とともに除去することができる。したがって、第１実施形態の防汚層４０は、レーザー加工時に生ずる滓が付着等しやすい層であってもよい。溶媒の一例としては、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、イソプロピルアルコール、エタノール等の有機溶剤や、水等を挙げることができる。 "Anti-fouling layer of the first embodiment"
The antifouling layer 40 of the first embodiment constituting the metal mask with resin plate 50 is characterized by being an antifouling layer 40 that can be removed by a solvent. In other words, the antifouling layer is made of a solvent-soluble material. According to the antifouling layer 40 of this feature, even if wrinkles adhere to the vapor deposition mask manufactured by the manufacturing method of one embodiment of the present invention during laser processing, It can be removed together with the antifouling layer 40 by washing. Therefore, the antifouling layer 40 of the first embodiment may be a layer in which wrinkles generated during laser processing are likely to adhere. Examples of the solvent include organic solvents such as methyl ethyl ketone, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, isopropyl alcohol, and ethanol, and water.

また、防汚層４０の厚みによっては、当該防汚層４０がシャドウの発生を引き起こす場合もあるが、第１実施形態の防汚層４０はレーザー加工時に付着等した滓とともに、蒸着マスクから除去される。したがって、蒸着マスクを用いた蒸着パターン形成時には、防汚層４０は蒸着マスクを構成しない層となる。したがって、第１実施形態の防汚層４０は、その厚みがいかなるものであっても、防汚層４０自体がシャドウの発生に影響を与えることはない。したがって、防汚層４０の厚みは、レーザー加工の妨げにならない程度の厚みでとすればよく、その厚みについて限定されることはない。   Moreover, depending on the thickness of the antifouling layer 40, the antifouling layer 40 may cause the generation of shadows. However, the antifouling layer 40 of the first embodiment is removed from the vapor deposition mask together with wrinkles attached during laser processing. Is done. Therefore, when forming a vapor deposition pattern using a vapor deposition mask, the antifouling layer 40 is a layer that does not constitute a vapor deposition mask. Therefore, even if the antifouling layer 40 of the first embodiment has any thickness, the antifouling layer 40 itself does not affect the generation of shadows. Therefore, the thickness of the antifouling layer 40 may be a thickness that does not hinder laser processing, and the thickness is not limited.

溶媒によって除去可能な防汚層４０の材料としては、例えば、水溶性樹脂等を挙げることができる。水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロエチルセルロース、カルボキシメチルセルロス、フェノール樹脂、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル共重合体、ポリメタクリル酸などの水溶性のアクリル樹脂、ゼラチン、澱粉、カゼインおよびそれらの変性物などが挙げられる。水系樹脂とは塩化ビニル樹脂エマルジョン、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂エマルジョン、塩化ビニル−アクリル樹脂エマルジョンなどの塩ビ系樹脂エマルジョン、アクリル系樹脂エマルジョン、ウレタン系樹脂エマルジョン、塩ビ系樹脂ディスパージョン、アクリル系樹脂ディスパージョン、ウレタン系樹脂ディスパージョンなど溶媒の一部が水で構成されているものを挙げることができる。   Examples of the material of the antifouling layer 40 that can be removed by a solvent include water-soluble resins. Water-soluble resins include water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, phenol resin, polyacrylic acid, polyacrylic acid ester, polyacrylic acid ester copolymer, and polymethacrylic acid. , Gelatin, starch, casein, and modified products thereof. Water-based resins are vinyl chloride resin emulsions, vinyl chloride-vinyl acetate resin emulsions, vinyl chloride resin emulsions such as vinyl chloride-acrylic resin emulsions, acrylic resin emulsions, urethane resin emulsions, PVC resin dispersions, and acrylic resin dispersions. Examples include a solvent in which a part of the solvent is composed of water, such as John and urethane resin dispersions.

また、従来公知の溶剤、例えば、トルエン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、エタノール等の有機溶剤によって溶解・除去可能な防汚層４０とすることもできる。このような材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂などを挙げることができる。   Moreover, it can also be set as the antifouling layer 40 which can be melt | dissolved and removed with conventionally well-known solvents, for example, organic solvents, such as toluene, methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol, ethanol. Examples of such a material include a polyester resin, a polyurethane resin, and a polystyrene resin.

「第２実施形態の防汚層」
樹脂板付き金属マスク５０を構成する第２実施形態の防汚層４０は、溶媒によって除去不能な防汚層４０であることを特徴とする。換言すれば、溶媒に不溶な防汚層であることを特徴とする。この特徴の防汚層４０によれば、本発明の一実施形態の製造方法により製造される蒸着マスクにレーザー加工時において滓が付着等した場合であっても、その後、洗浄によって防汚層４０上に付着等した滓を容易に除去することができる。また、第２実施形態の防汚層４０は、洗浄時に蒸着マスクから除去されることなく蒸着マスクを構成する層としてそのまま残存することから、その後の使用時において蒸着マスクに付着した異物等を、物理的に大きな力を加えることなく当該防汚層４０を利用して容易に除去することができる。したがって、第２実施形態の防汚層を備える蒸着マスクによれば、滓を除去するための洗浄時において、樹脂マスクの開口部の寸法精度が低下することを抑制することができ、長期にわたって精度よく蒸着パターンを形成することができる蒸着マスクとすることができる。 "Anti-fouling layer of the second embodiment"
The antifouling layer 40 of the second embodiment constituting the metal mask with resin plate 50 is an antifouling layer 40 that cannot be removed by a solvent. In other words, the antifouling layer is insoluble in a solvent. According to the antifouling layer 40 having this feature, even if soot adheres to the vapor deposition mask manufactured by the manufacturing method of one embodiment of the present invention at the time of laser processing, the antifouling layer 40 is subsequently cleaned. Wrinkles adhering to the top can be easily removed. In addition, since the antifouling layer 40 of the second embodiment remains as a layer constituting the vapor deposition mask without being removed from the vapor deposition mask at the time of cleaning, foreign matters attached to the vapor deposition mask during subsequent use, It can be easily removed using the antifouling layer 40 without physically applying a large force. Therefore, according to the vapor deposition mask provided with the antifouling layer of the second embodiment, it is possible to suppress a decrease in the dimensional accuracy of the opening of the resin mask at the time of cleaning for removing the soot, and the accuracy over a long period. It can be set as the vapor deposition mask which can form a vapor deposition pattern well.

第２実施形態の防汚層４０の材料としては、溶媒に溶解不能であり、かつレーザー加工時において生ずる滓が付着等しにくい、或いは付着等した滓を容易に除去しやすい性質を有する材料を適宜選択して用いることができる。例えば、第２実施形態の防汚層４０としては、「反射防止フィルム」、「撥水シート」等の分野で従来公知の防汚層を用いることができる。具体的な材料としては、例えば、離型性樹脂を挙げることができる。離型性樹脂は、溶媒に溶解不能であり、かつ、樹脂板３０に変形を生じさせることのない温度で、防汚層を形成することが可能な点で、第２実施形態の防汚層４０の材料として好適である。離型性樹脂としては、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。   As a material of the antifouling layer 40 of the second embodiment, a material that is insoluble in a solvent and has a property that the soot generated during laser processing is difficult to adhere or the attached soot is easily removed. It can be appropriately selected and used. For example, as the antifouling layer 40 of the second embodiment, a conventionally known antifouling layer in the field of “antireflection film”, “water repellent sheet” and the like can be used. Specific examples of the material include a release resin. The releasable resin is insoluble in the solvent and can form the antifouling layer at a temperature at which the resin plate 30 is not deformed. Suitable as 40 materials. Examples of the releasable resin include a fluororesin and a silicone resin.

第２実施形態の防汚層４０は、溶媒によって除去不能であり、洗浄を繰り返し行った場合であっても、蒸着マスク側に残存する層である。ここで、第２実施形態の防汚層４０の厚みを厚くしていった場合には、見かけ上の樹脂マスク２０の厚みが厚くなり、防汚層４０の厚みによってはシャドウの発生を防止できない場合が生じ得る。したがって、防汚層４０の厚みについては、この点を考慮して決定することが望ましい。具体的には、第２実施形態の防汚層４０の厚みは、２μｍ以下であることが好ましい。下限値について特に限定はないが、防汚層形成の容易性の点からは１００ｎｍ程度である。より好ましい防汚層４０の厚みの一例としては、１００ｎｍ以上１μｍ以下の範囲内である。   The antifouling layer 40 of the second embodiment is a layer that cannot be removed by a solvent and remains on the vapor deposition mask side even when cleaning is repeatedly performed. Here, when the thickness of the antifouling layer 40 of the second embodiment is increased, the apparent thickness of the resin mask 20 is increased, and depending on the thickness of the antifouling layer 40, generation of shadows cannot be prevented. Cases can arise. Therefore, it is desirable to determine the thickness of the antifouling layer 40 in consideration of this point. Specifically, the thickness of the antifouling layer 40 of the second embodiment is preferably 2 μm or less. Although there is no limitation in particular about a lower limit, it is about 100 nm from the point of the ease of antifouling layer formation. An example of a more preferable thickness of the antifouling layer 40 is in the range of 100 nm to 1 μm.

防汚層の形成方法について特に限定はなく、樹脂板３０の一方の面上に金属マスク１０が設けられた積層体に対し、樹脂板の一方の面側に、上記第１実施形態の防汚層４０、第２実施形態の防汚層４０の材料を、適当な溶媒に溶解、又は分散した塗工液を、スプレーコート、スピンコート、ディップコート、カーテンコート、ダイコート等の従来公知の塗工方法を用いて、塗工・乾燥することで形成することができる。なお、この塗工方法を用いた場合には、金属マスク１０の頂面、及び金属マスク１０のスリット１５を構成する内壁面にも防汚層４０（内壁面については記載を省略している）が形成される。金属マスク１０の頂面、及び金属マスク１０のスリット１５を構成する内壁面に防汚層４０を形成することで、金属マスク１０の頂面や、スリット１５を構成する内壁面にレーザー加工時の滓が固着した場合であっても、当該付着等した滓を洗浄によって容易に除去することができる。   The method for forming the antifouling layer is not particularly limited, and the antifouling of the first embodiment is applied to one side of the resin plate with respect to the laminate in which the metal mask 10 is provided on one side of the resin plate 30. Conventionally known coating methods such as spray coating, spin coating, dip coating, curtain coating, and die coating are applied to the coating solution obtained by dissolving or dispersing the material of the layer 40 and the antifouling layer 40 of the second embodiment in an appropriate solvent. It can be formed by coating and drying using a method. When this coating method is used, the antifouling layer 40 is also applied to the top surface of the metal mask 10 and the inner wall surface forming the slit 15 of the metal mask 10 (the inner wall surface is not shown). Is formed. By forming the antifouling layer 40 on the top surface of the metal mask 10 and the inner wall surface constituting the slit 15 of the metal mask 10, the top surface of the metal mask 10 and the inner wall surface constituting the slit 15 are subjected to laser processing. Even if the wrinkles are fixed, the attached wrinkles can be easily removed by washing.

（第２実施形態の樹脂板付き金属マスク）
第２実施形態の樹脂板付き金属マスク５０は、図３（ａ）に示すように、樹脂板３０の一方の面に防汚層４０を形成する工程と、図３（ｂ）に示すように、樹脂板３０の一方の面上にスリット１５が設けられた金属マスク１０を積層する工程とにより得られる。なお、図３（ａ）では、樹脂板３０の一方の面の全面に、防汚層４０が設けられているが、樹脂板３０の一方の面上において、スリット１５と重なる位置にのみ防汚層４０を設けてもよい。また、スリット１５と重なる位置に対応する領域の一部分に防汚層４０を設けてもよい。 (Metal mask with resin plate of the second embodiment)
As shown in FIG. 3A, the metal mask 50 with a resin plate according to the second embodiment includes a step of forming an antifouling layer 40 on one surface of the resin plate 30 and a step shown in FIG. The step of laminating the metal mask 10 provided with the slits 15 on one surface of the resin plate 30 is obtained. In FIG. 3A, the antifouling layer 40 is provided on the entire surface of one surface of the resin plate 30. However, the antifouling layer is provided only on the surface overlapping the slit 15 on one surface of the resin plate 30. A layer 40 may be provided. Further, the antifouling layer 40 may be provided in a part of the region corresponding to the position overlapping the slit 15.

好ましくは、樹脂板３０の一方の面において、最終的に開口部２５が形成される開口部形成予定位置、及びその近傍に防汚層４０を設けておくことが好ましい。これは、最終的に樹脂マスク２０としたときの開口部２５の近傍に防汚層４０が存在していない場合には、樹脂マスク２０の開口部２５近傍に付着等した滓を除去することができず、当該滓が、高精細な蒸着パターン形成時における支障となることによる。したがって、図５に示すように、防汚層４０は、樹脂板３０の一方の面においてスリット１５と重なる位置に対応する領域のうち、開口部２５が形成される予定位置、及びこの近傍に設けられていることが好ましい。図５は、樹脂板付き金属マスク５０の一例を示す部分概略断面図である。   Preferably, on one surface of the resin plate 30, the antifouling layer 40 is preferably provided at an opening formation planned position where the opening 25 is finally formed and in the vicinity thereof. If the antifouling layer 40 does not exist in the vicinity of the opening 25 when the resin mask 20 is finally formed, wrinkles attached to the vicinity of the opening 25 of the resin mask 20 can be removed. This is because the wrinkles hinder the formation of a high-definition deposition pattern. Therefore, as shown in FIG. 5, the antifouling layer 40 is provided in the area corresponding to the position overlapping the slit 15 on one surface of the resin plate 30 and in the vicinity of the position where the opening 25 is formed. It is preferable that FIG. 5 is a partial schematic cross-sectional view showing an example of the metal mask 50 with a resin plate.

第２実施形態の樹脂板付き金属マスク５０の形成においては、まず、図３（ａ）に示すように樹脂板３０上に防汚層４０を形成する。防汚層４０の材料としては、上記第１実施形態の防汚層、第２実施形態の防汚層で説明した材料そのまま用いることができる。形成される防汚層の厚みについても同様である。   In the formation of the metal mask with resin plate 50 of the second embodiment, first, the antifouling layer 40 is formed on the resin plate 30 as shown in FIG. As the material of the antifouling layer 40, the materials described in the antifouling layer of the first embodiment and the antifouling layer of the second embodiment can be used as they are. The same applies to the thickness of the antifouling layer formed.

樹脂板３０上に防汚層４０を形成する方法としては、上記第１実施形態の樹脂板付き金属マスクで説明した、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、カーテンコート、ダイコート等に加え、バーコート、コンマコート、ナイフコート、グラビア印刷、スクリーン印刷、又はグラビア版を用いたリバースロールコーティング等の従来公知の塗工法を挙げることができる。   As a method of forming the antifouling layer 40 on the resin plate 30, in addition to the spin coat, spray coat, dip coat, curtain coat, die coat, etc. described in the metal mask with resin plate of the first embodiment, a bar coat And a conventionally known coating method such as reverse coat coating using a comma coat, knife coat, gravure printing, screen printing, or gravure plate.

次いで、図３（ｂ）に示すように、防汚層４０が設けられた樹脂板３０の一方の面上にスリット１５が設けられた金属マスク１０を積層する。これにより、第２実施形態の樹脂板付き金属マスクを得る。金属マスク１０としては、上記第１実施形態の樹脂板付き金属マスクで説明した金属マスクをそのまま用いることができる。また、防汚層４０が設けられた樹脂板３０の一方の面上に金属板を貼り合せ、当該金属板にスリット１５を形成することで、第２実施形態の樹脂板付き金属マスクを得ることもできる。   Next, as shown in FIG. 3B, the metal mask 10 provided with the slits 15 is laminated on one surface of the resin plate 30 provided with the antifouling layer 40. Thereby, the metal mask with a resin plate of the second embodiment is obtained. As the metal mask 10, the metal mask described in the metal mask with a resin plate of the first embodiment can be used as it is. Moreover, a metal plate is bonded on one surface of the resin plate 30 provided with the antifouling layer 40, and the slit 15 is formed in the metal plate, thereby obtaining the metal mask with a resin plate of the second embodiment. You can also.

（第３実施形態の樹脂板付き金属マスク）
第３実施形態の樹脂板付き金属マスク５０は、図８（ａ）に示すように、樹脂板３０の他方の面上に、防汚層４０を形成する工程と、図８（ｂ）に示すように樹脂板３０の一方の面上に、スリット１５が設けられた金属マスク１０を積層する工程とにより得られる。なお、以下では、樹脂板３０の他方の面上に防汚層４０を形成した後に、樹脂板３０の一方の面上に、金属マスク１０を積層する例を挙げて説明を行うが、樹脂板３０の一方の面上に、金属マスク１０を積層した後に、樹脂板３０の他方の面上に防汚層４０を形成することもできる。 (Metal mask with resin plate of the third embodiment)
As shown in FIG. 8A, the metal mask 50 with a resin plate according to the third embodiment includes a step of forming an antifouling layer 40 on the other surface of the resin plate 30 and a step shown in FIG. Thus, it is obtained by laminating the metal mask 10 provided with the slits 15 on one surface of the resin plate 30. In the following, an example in which the metal mask 10 is laminated on one surface of the resin plate 30 after the antifouling layer 40 is formed on the other surface of the resin plate 30 will be described. The antifouling layer 40 may be formed on the other surface of the resin plate 30 after the metal mask 10 is laminated on one surface of the resin 30.

第３実施形態の樹脂板付き金属マスクにおいて、防汚層４０は、樹脂板３０の他方の面上の全面に設けられていてもよく（図８（ａ)参照）、樹脂板３０の他方の面上の一部に設けられていてもよい。なお、樹脂板３０の他方の面上の一部に防汚層４０を設ける場合にあっては、第２実施形態の樹脂板付き金属マスクで説明した理由と同じ理由により、樹脂板３０において最終的に開口部２５が形成される開口部形成予定位置、及びその近傍に防汚層４０が設けられていることが好ましい。   In the metal mask with a resin plate of the third embodiment, the antifouling layer 40 may be provided on the entire surface of the other surface of the resin plate 30 (see FIG. 8A). It may be provided in a part on the surface. In addition, in the case where the antifouling layer 40 is provided on a part of the other surface of the resin plate 30, for the same reason as described for the metal mask with a resin plate of the second embodiment, In particular, it is preferable that the antifouling layer 40 is provided at a position where the opening 25 is to be formed and in the vicinity thereof.

防汚層４０の材料としては、上記第１実施形態の防汚層、第２実施形態の防汚層で説明した材料そのまま用いることができる。防汚層４０が上記第１実施形態の防汚層４０である場合には、最終的に当該防汚層４０は溶媒によって除去されることから、その厚みについて特に限定はない。一方、防汚層４０が上記第２実施形態の防汚層４０である場合には、本発明の一実施形態の蒸着マスクの製造方法により製造される蒸着マスクにおいて、防汚層４０は蒸着マスクの構成要素の１つとしてそのまま残存することとなる。   As the material of the antifouling layer 40, the materials described in the antifouling layer of the first embodiment and the antifouling layer of the second embodiment can be used as they are. When the antifouling layer 40 is the antifouling layer 40 of the first embodiment, since the antifouling layer 40 is finally removed by a solvent, the thickness thereof is not particularly limited. On the other hand, when the antifouling layer 40 is the antifouling layer 40 of the second embodiment, the antifouling layer 40 is a vapor deposition mask manufactured by the vapor deposition mask manufacturing method of one embodiment of the present invention. It remains as one of the constituent elements.

蒸着マスクは、樹脂マスクの他方の面と、蒸着対象物とが対向するように引き付けが行われることから、樹脂板３０の他方の面上に第２実施形態の防汚層４０が設けられる場合において、防汚層４０の平滑性が低い場合には、上記樹脂板付き金属マスクを用いて得られる蒸着マスク１００と、蒸着対象物との密着性が不十分となる場合や、その平滑性によっては、蒸着マスク１００と蒸着対象物との間に隙間が発生する虞が生じ得る。また、防汚層４０の厚みを厚くしていくにともない、蒸着マスクと、蒸着対象物とのギャップが大きくなり、形成されるパターン精度が低下する傾向にある。したがって、樹脂板３０の他方の面上に第２実施形態の防汚層４０を設ける場合には、この点を考慮して、平滑性が高い防汚層４０を設けることが好ましい。樹脂板３０の他方の面上に上記第２実施形態の防汚層４０を設ける場合における当該防汚層４０の好ましい厚みは、上記第１実施形態の樹脂板付き金属マスクにおいて説明した好ましい防汚層４０の厚みと同じである。なお、樹脂板の一方の面上に第１実施形態の防汚層４０が設けられた形態は、防汚層４０の平滑性にかかわらず、蒸着マスク１００と蒸着対象物とを隙間なく密着させることができる点で、第１実施形態の防汚層４０を用いた好ましい形態であるといえる。   Since the deposition mask is attracted so that the other surface of the resin mask faces the deposition target, the antifouling layer 40 of the second embodiment is provided on the other surface of the resin plate 30. In the case where the smoothness of the antifouling layer 40 is low, the adhesion between the vapor deposition mask 100 obtained using the metal mask with a resin plate and the vapor deposition object becomes insufficient or due to the smoothness. May cause a gap between the vapor deposition mask 100 and the vapor deposition object. Moreover, as the thickness of the antifouling layer 40 is increased, the gap between the vapor deposition mask and the vapor deposition object increases, and the pattern accuracy to be formed tends to decrease. Therefore, when providing the antifouling layer 40 of 2nd Embodiment on the other surface of the resin board 30, it is preferable to provide the antifouling layer 40 with high smoothness in consideration of this point. The preferable thickness of the antifouling layer 40 when the antifouling layer 40 of the second embodiment is provided on the other surface of the resin plate 30 is the preferable antifouling property described in the metal mask with a resin plate of the first embodiment. It is the same as the thickness of the layer 40. In addition, the form in which the antifouling layer 40 of the first embodiment is provided on one surface of the resin plate allows the vapor deposition mask 100 and the vapor deposition object to be in close contact with each other regardless of the smoothness of the antifouling layer 40. It can be said that this is a preferred form using the antifouling layer 40 of the first embodiment.

次いで、図８（ｂ）に示すように、樹脂板３０の一方の面上にスリット１５が設けられた金属マスク１０を積層する。これにより、第３実施形態の樹脂板付き金属マスクを得る。金属マスク１０としては、上記第１実施形態の樹脂板付き金属マスクで説明した金属マスクをそのまま用いることができる。また、樹脂板３０の一方の面上に金属板を貼り合せ、当該金属板にスリット１５を形成することで、第３実施形態の樹脂板付き金属マスクを得ることもできる。   Next, as shown in FIG. 8B, the metal mask 10 provided with the slits 15 is laminated on one surface of the resin plate 30. Thereby, the metal mask with a resin plate of the third embodiment is obtained. As the metal mask 10, the metal mask described in the metal mask with a resin plate of the first embodiment can be used as it is. Moreover, the metal mask with a resin plate of 3rd Embodiment can also be obtained by bonding a metal plate on one surface of the resin plate 30 and forming the slit 15 in the metal plate.

（第４実施形態の樹脂板付き金属マスク）
第４実施形態の樹脂板付き金属マスク５０は、図９（ａ）に示すように、樹脂板３０の一方の面上に、スリット１５が設けられた金属マスク１０を積層する工程と、図９（ｂ）に示すように金属マスク１０が積層された樹脂板３０の一方の面上においてスリット１５と重なる位置に対応する領域、及び樹脂板３０の他方の面上に防汚層４０を形成する工程とにより得られる。 (Metal mask with resin plate of 4th Embodiment)
As shown in FIG. 9A, the metal mask 50 with a resin plate of the fourth embodiment includes a step of laminating the metal mask 10 provided with the slits 15 on one surface of the resin plate 30, and FIG. As shown in FIG. 5B, the antifouling layer 40 is formed on the other surface of the resin plate 30 and the region corresponding to the position overlapping the slit 15 on one surface of the resin plate 30 on which the metal mask 10 is laminated. Obtained by the process.

第４実施形態の樹脂板付き金属マスク５０は、上記第１実施形態の樹脂板付き金属マスク、及び上記第３実施形態の樹脂板付き金属マスクで説明した方法を組合せることで得ることができ、ここでの詳細な説明は省略する。第４実施形態の樹脂板付き金属マスクによれば、樹脂板３０の双方の面上に、防汚層４０が設けられることから、レーザー加工時に生ずる滓をより効果的に除去することができる。以下の、第５実施形態の樹脂板付き金属マスクについても同様である。   The metal mask with resin plate 50 of the fourth embodiment can be obtained by combining the methods described in the metal mask with resin plate of the first embodiment and the metal mask with resin plate of the third embodiment. Detailed description will be omitted here. According to the metal mask with a resin plate of the fourth embodiment, since the antifouling layer 40 is provided on both surfaces of the resin plate 30, wrinkles generated during laser processing can be more effectively removed. The same applies to the following metal mask with a resin plate of the fifth embodiment.

（第５実施形態の樹脂板付き金属マスク）
第５実施形態の樹脂板付き金属マスク５０は、図１０（ａ）に示すように、樹脂板３０の一方の面、及び他方の面上に防汚層４０を形成する工程と、図１０（ｂ）に示すように、樹脂板３０の一方の面上にスリット１５が設けられた金属マスク１０を積層する工程とにより得られる。 (Metal mask with resin plate of the fifth embodiment)
As shown in FIG. 10A, the metal mask 50 with a resin plate of the fifth embodiment includes a step of forming an antifouling layer 40 on one surface and the other surface of the resin plate 30, and FIG. As shown to b), it obtains by the process of laminating | stacking the metal mask 10 in which the slit 15 was provided on one surface of the resin board 30. FIG.

第５実施形態の樹脂板付き金属マスク５０は、上記第２実施形態の樹脂板付き金属マスク、及び上記第３実施形態の樹脂板付き金属マスクで説明した方法を組合せることで得ることができ、ここでの詳細な説明は省略する。   The metal mask with resin plate 50 of the fifth embodiment can be obtained by combining the methods described in the metal mask with resin plate of the second embodiment and the metal mask with resin plate of the third embodiment. Detailed description will be omitted here.

以下、樹脂マスク形成工程について、第１実施形態の樹脂板付き金属マスクを用いた例を挙げて説明を行うが、上記第２実施形態〜第５実施形態の樹脂板付き金属マスクを用いて樹脂マスクを形成することもできる。   Hereinafter, the resin mask forming step will be described with reference to an example using the metal mask with a resin plate of the first embodiment, but the resin is formed using the metal mask with a resin plate of the second to fifth embodiments. A mask can also be formed.

＜樹脂マスク形成工程＞
本工程は、図１（ｂ）に示すように、上記で準備された樹脂板付き金属マスク５０に対し、金属マスク１０側からスリット１５を通してレーザーを照射して、防汚層、及び樹脂板を貫通する貫通孔を形成し、樹脂板３０に蒸着作製するパターンに対応する開口部２５を形成する工程である。樹脂板を貫通孔は、開口部２５に対応する。本工程を経ることで、図１（ｃ）、図７に示すように、蒸着作製するパターンに対応する開口部２５が設けられた樹脂マスク２０の一方の面上にスリット１５が設けられた金属マスク１０が積層され、当該樹脂マスク２０の一方の面上においてスリット１５と重なる位置に防汚層４０が設けられた蒸着マスク１００を得る。なお、図１（ｃ）は、図７のＡ−Ａ断面の一例である。本願明細書において蒸着作製するパターンとは、当該蒸着マスクを用いて作製しようとするパターンを意味し、例えば、当該蒸着マスクを有機ＥＬ素子の有機層の形成に用いる場合には、当該有機層の形状である。 <Resin mask formation process>
In this step, as shown in FIG. 1B, the metal mask 50 with resin plate prepared above is irradiated with a laser through the slit 15 from the metal mask 10 side, and the antifouling layer and the resin plate are removed. This is a step of forming a through hole that penetrates and forming an opening 25 corresponding to a pattern to be deposited on the resin plate 30. The through hole in the resin plate corresponds to the opening 25. Through this step, as shown in FIG. 1C and FIG. 7, the metal having the slit 15 provided on one surface of the resin mask 20 provided with the opening 25 corresponding to the pattern to be deposited. The vapor deposition mask 100 in which the mask 10 is laminated and the antifouling layer 40 is provided at a position overlapping the slit 15 on one surface of the resin mask 20 is obtained. FIG. 1C is an example of the AA cross section of FIG. In the specification of the present application, the pattern to be produced by vapor deposition means a pattern to be produced by using the vapor deposition mask. For example, when the vapor deposition mask is used for forming an organic layer of an organic EL element, Shape.

本工程で用いるレーザー装置については特に限定されることはなく、従来公知のレーザー装置を用いればよい。   The laser device used in this step is not particularly limited, and a conventionally known laser device may be used.

本発明の一実施形態の製造方法で製造される蒸着マスク１００における開口部２５、スリット１０の形状、これらの配置パターンについてはいかなる限定もされることはない。例えば、４００ｐｐｉの高精細な蒸着パターンの形成が可能な蒸着マスクとするためには、隣接する開口部２５の横方向のピッチ、縦方向のピッチが６０μｍ程度、開口部２５の大きさは、５００μｍ2〜１０００μｍ2程度となるように開口部２５を形成すればよい。 In the vapor deposition mask 100 manufactured by the manufacturing method according to the embodiment of the present invention, the shape of the opening 25 and the slit 10 and the arrangement pattern thereof are not limited in any way. For example, in order to obtain a vapor deposition mask capable of forming a high-definition vapor deposition pattern of 400 ppi, the horizontal pitch and vertical pitch of the adjacent openings 25 are about 60 μm, and the size of the openings 25 is 500 μm. The opening 25 may be formed so as to be about 2 to 1000 μm 2 .

開口部２５を形成する樹脂マスクの向かいあう端面同士が略平行であってもよいが、開口部２５はその断面形状が、蒸着源に向かって広がりをもつような形状であることが好ましい。具体的には、樹脂マスクの開口部における下底先端と、同じく樹脂マスクの開口部における上底先端を結んだ角度が５°〜８５°の範囲内であることが好ましく、１５°〜８０°の範囲内であることがより好ましく、２５°〜６５°の範囲内であることがさらに好ましい。特には、この範囲内の中でも、使用する蒸着機の蒸着角度よりも小さい角度であることが好ましい。   Although the end faces of the resin mask that form the opening 25 facing each other may be substantially parallel to each other, it is preferable that the opening 25 has a cross-sectional shape that expands toward the vapor deposition source. Specifically, the angle between the bottom end of the bottom of the resin mask and the top end of the top of the resin mask is preferably in the range of 5 ° to 85 °, and 15 ° to 80 °. More preferably, it is in the range of 25 ° to 65 °. In particular, within this range, an angle smaller than the vapor deposition angle of the vapor deposition machine to be used is preferable.

また、各図に示す形態では、開口部２５の開口形状は、矩形状を呈しているが、開口形状について特に限定はなく、開口部２５の開口形状は、台形状、円形状等いかなる形状であってもよい。   In the form shown in each figure, the opening shape of the opening 25 is rectangular, but the opening shape is not particularly limited, and the opening shape of the opening 25 may be any shape such as a trapezoidal shape or a circular shape. There may be.

また、本工程は、上記樹脂板付き金属マスク５０を、金属フレームに固定した状態で行うことが好ましい。本発明の一実施形態の製造方法で得られた蒸着マスクをフレームに固定するのではなく、フレームに固定された状態の樹脂板付き金属マスク５０に対し、後からレーザーを照射して開口部２５を設けることで、開口部２５の位置精度を格段に向上せしめることができる。   Moreover, it is preferable to perform this process in the state which fixed the said metal mask 50 with a resin plate to the metal frame. Rather than fixing the vapor deposition mask obtained by the manufacturing method of one embodiment of the present invention to the frame, the metal mask 50 with a resin plate fixed to the frame is irradiated with a laser later to open the opening 25. By providing the position accuracy of the opening 25 can be remarkably improved.

ここで用いられる金属フレームは、略矩形形状の枠部材であり、最終的に固定される蒸着マスク１００の樹脂マスクに設けられた開口部２５を蒸着源側に露出させるための開口を有する。金属フレームの材料について特に限定はないが、剛性が大きい金属材料、例えば、ＳＵＳや、インバー材などが好適である。   The metal frame used here is a substantially rectangular frame member and has an opening for exposing the opening 25 provided in the resin mask of the vapor deposition mask 100 to be finally fixed to the vapor deposition source side. The material of the metal frame is not particularly limited, but a metal material having high rigidity, for example, SUS or Invar material is preferable.

（スリミング工程）
また、本発明の一実施形態の製造方法においては、上記で説明した工程間、或いは工程後にスリミング工程を行ってもよい。当該工程は、本発明の一実施形態の製造方法における任意の工程であり、金属マスクの厚みや、樹脂マスクの厚みを最適化する工程である。金属マスクや樹脂マスクの好ましい厚みとしては、後述する好ましい範囲内で適宜設定すればよく、ここでの詳細な説明は省略する。 (Slimming process)
Moreover, in the manufacturing method of one Embodiment of this invention, you may perform a slimming process between the processes demonstrated above, or a process. The said process is an arbitrary process in the manufacturing method of one Embodiment of this invention, and is a process of optimizing the thickness of a metal mask and the thickness of a resin mask. A preferable thickness of the metal mask or the resin mask may be appropriately set within a preferable range described later, and detailed description thereof is omitted here.

金属マスク１０、樹脂マスク２０のスリミング、すなわち金属マスク、樹脂マスクの厚みの最適化は、上記で説明した工程間、或いは工程後に、金属マスクや、樹脂マスクをエッチング可能なエッチング材を用いてエッチングすることで実現可能である。   The slimming of the metal mask 10 and the resin mask 20, that is, the optimization of the thickness of the metal mask and the resin mask is performed using an etching material that can etch the metal mask or the resin mask during or after the above-described steps. This is possible.

＜＜蒸着マスク準備体＞＞
次に、本発明の一実施形態の蒸着マスク準備体について図６を用いて説明する。なお、図６は、本発明の一実施形態の蒸着マスク準備体２００の一例を示す部分概略断面図である。図６に示すように、本発明の一実施形態の蒸着マスク準備体２００は、蒸着マスクを製造するために用いられる蒸着マスク準備体であって、樹脂板３０の一方の面上にスリット１５が設けられた金属マスク１０が積層されてなり、樹脂板３０の一方の面においてスリット１５と重なる位置に対応する領域、及び樹脂板３０の他方の面へのいずれか一方、又は双方の面上に防汚層４０が設けられていることを特徴とする。 << Vapor deposition mask preparation >>
Next, the vapor deposition mask preparation body of one Embodiment of this invention is demonstrated using FIG. FIG. 6 is a partial schematic cross-sectional view showing an example of a deposition mask preparation 200 according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, a vapor deposition mask preparation 200 according to an embodiment of the present invention is a vapor deposition mask preparation used for manufacturing a vapor deposition mask, and a slit 15 is formed on one surface of a resin plate 30. The provided metal mask 10 is laminated, on one surface of the resin plate 30, the region corresponding to the position overlapping the slit 15, and the other surface of the resin plate 30, or on both surfaces An antifouling layer 40 is provided.

本発明の一実施形態の蒸着マスク準備体によれば、当該蒸着マスク準備体の樹脂板３０にレーザー加工によって開口部２５を形成するに際し、レーザー加工時に蒸着マスク準備体上に付着等した滓を、洗浄によって容易に除去することができ、高精細な蒸着パターンを形成することができる蒸着マスクを得ることができる。   According to the vapor deposition mask preparation of one embodiment of the present invention, when the opening 25 is formed by laser processing on the resin plate 30 of the vapor deposition mask preparation, wrinkles that adhere to the vapor deposition mask preparation during laser processing or the like. Thus, it is possible to obtain a vapor deposition mask that can be easily removed by washing and can form a high-definition vapor deposition pattern.

本発明の一実施形態の蒸着マスク準備体２００は、上記本発明の一実施形態の蒸着マスクの製造方法で説明した樹脂板付き金属マスク５０をそのまま用いることができる。例えば、第１実施形態〜第５実施形態の樹脂板付き金属マスクをそのまま用いることができる。したがって、防汚層４０は、レーザー加工時における滓が付着等しにくい、又は、洗浄により当該滓を容易に除去できる、或いは、付着等した滓を、防汚層ごと除去することができるものであればよく、例えば、第１実施形態の防汚層、或いは第２実施形態の防汚層で説明したものを適宜選択して用いることができる。   The vapor deposition mask preparation 200 of one embodiment of the present invention can use the metal mask 50 with a resin plate described in the vapor deposition mask manufacturing method of the first embodiment of the present invention as it is. For example, the metal mask with a resin plate according to the first to fifth embodiments can be used as it is. Therefore, the antifouling layer 40 is difficult to adhere soot at the time of laser processing, or can easily be removed by washing, or the attached soot can be removed together with the antifouling layer. For example, those described in the antifouling layer of the first embodiment or the antifouling layer of the second embodiment can be appropriately selected and used.

例えば、蒸着マスク準備体２００を構成する防汚層４０が、上記第１実施形態の防汚層４０である場合には、レーザー加工によって開口部２５が形成された蒸着マスクを得た後に、当該蒸着マスクの防汚層４０を溶媒によって除去することで、レーザー加工時に蒸着マスクに付着等した滓を防汚層４０ごと取り除くことができる。   For example, when the antifouling layer 40 constituting the vapor deposition mask preparation 200 is the antifouling layer 40 of the first embodiment, after obtaining the vapor deposition mask in which the opening 25 is formed by laser processing, By removing the antifouling layer 40 of the vapor deposition mask with a solvent, wrinkles attached to the vapor deposition mask during laser processing can be removed together with the antifouling layer 40.

一方で、蒸着マスク準備体２００を構成する防汚層４０が、上記第２実施形態の防汚層４０である場合には、レーザー加工によって開口部２５が形成された蒸着マスクを得た後に、当該蒸着マスクの防汚層４０上に付着等した滓を、洗浄によって容易に除去することができる。また、第２実施形態の防汚層４０は、蒸着マスク側にそのまま残存することから、蒸着パターン作製時に蒸着マスクに付着等した滓を、その都度、洗浄により除去することができ、より長期にわたっての繰り返しの使用が可能となる。   On the other hand, when the antifouling layer 40 constituting the vapor deposition mask preparation 200 is the antifouling layer 40 of the second embodiment, after obtaining the vapor deposition mask in which the opening 25 is formed by laser processing, Wrinkles adhering to the antifouling layer 40 of the vapor deposition mask can be easily removed by washing. In addition, since the antifouling layer 40 of the second embodiment remains on the vapor deposition mask side, soot that adheres to the vapor deposition mask during the production of the vapor deposition pattern can be removed by washing each time, and for a longer period of time. Can be used repeatedly.

１００…蒸着マスク
１０…金属マスク
１５…スリット
２０…樹脂マスク
２５…開口部
５０…樹脂板付き金属マスク
２００…蒸着マスク準備体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Deposition mask 10 ... Metal mask 15 ... Slit 20 ... Resin mask 25 ... Opening 50 ... Metal mask 200 with a resin plate ... Deposition mask preparation body

Claims (13)

蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板の一方の面上にスリットが設けられた金属マスクが積層され、少なくとも当該樹脂板の金属マスク側の面において前記スリットと重なる位置に対応する領域に防汚層が設けられた樹脂板付き金属マスクを準備する工程と、
前記金属マスク側から前記スリットを通してレーザーを照射して、前記樹脂板に蒸着作製するパターンに対応する開口部を形成する樹脂マスク形成工程と、
を含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 A method of manufacturing a vapor deposition mask,
A metal mask provided with a slit is laminated on one surface of the resin plate, and a resin plate is provided with an antifouling layer in a region corresponding to the position overlapping the slit at least on the surface of the resin plate on the metal mask side Preparing a metal mask;
Resin mask forming step of forming an opening corresponding to a pattern to be deposited on the resin plate by irradiating a laser through the slit from the metal mask side;
The manufacturing method of the vapor deposition mask characterized by including. 前記防汚層が、溶媒によって除去可能な防汚層であることを特徴とする請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。   The said antifouling layer is an antifouling layer removable with a solvent, The manufacturing method of the vapor deposition mask of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記溶媒によって除去可能な防汚層が、水溶性樹脂または水系樹脂であることを特徴とする請求項２に記載の蒸着マスクの製造方法。  The method for producing a vapor deposition mask according to claim 2, wherein the antifouling layer removable by the solvent is a water-soluble resin or a water-based resin. 前記水溶性樹脂が、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロエチルセルロース、カルボキシメチルセルロス、フェノール樹脂、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル共重合体、ポリメタクリル酸の水溶性のアクリル樹脂、ゼラチン、澱粉、およびカゼイン、からなる群から選択される一つであることを特徴とする請求項３に記載の蒸着マスクの製造方法。  The water-soluble resin is polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, phenol resin, polyacrylic acid, polyacrylic ester, polyacrylic ester copolymer, water-soluble acrylic resin of polymethacrylic acid, 4. The method for producing a vapor deposition mask according to claim 3, wherein the vapor deposition mask is one selected from the group consisting of gelatin, starch, and casein. 前記水系樹脂が、塩化ビニル樹脂エマルジョン、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂エマルジョン、塩化ビニル−アクリル樹脂エマルジョンの塩ビ系樹脂エマルジョン、アクリル系樹脂エマルジョン、ウレタン系樹脂エマルジョン、塩ビ系樹脂ディスパージョン、アクリル系樹脂ディスパージョン、ウレタン系樹脂ディスパージョンからなる群から選択される一つであることを特徴とする請求項３に記載の蒸着マスクの製造方法。  The water-based resin is a vinyl chloride resin emulsion, a vinyl chloride-vinyl acetate resin emulsion, a vinyl chloride resin emulsion of a vinyl chloride-acrylic resin emulsion, an acrylic resin emulsion, a urethane resin emulsion, a vinyl resin dispersion, an acrylic resin dispersion. 4. The method for producing a vapor deposition mask according to claim 3, wherein the vapor deposition mask is one selected from the group consisting of John and urethane resin dispersions. 前記溶媒によって除去可能な防汚層が、有機溶媒によって除去可能な樹脂であることを特徴とする請求項２に記載の蒸着マスクの製造方法。  The method of manufacturing a vapor deposition mask according to claim 2, wherein the antifouling layer removable by the solvent is a resin removable by an organic solvent. 前記有機溶媒によって除去可能な樹脂が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、からなる群から選択される一つであることを特徴とする請求項６に記載の蒸着マスクの製造方法。  The method for producing a vapor deposition mask according to claim 6, wherein the resin removable by the organic solvent is one selected from the group consisting of a polyester resin, a polyurethane resin, and a polystyrene resin. 前記防汚層が、溶媒によって除去不能な防汚層であることを特徴とする請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。  The said antifouling layer is an antifouling layer which cannot be removed with a solvent, The manufacturing method of the vapor deposition mask of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 溶媒によって除去不能な防汚層が、離型性樹脂であることを特徴とする請求項８に記載の蒸着マスクの製造方法。  The method for producing a vapor deposition mask according to claim 8, wherein the antifouling layer that cannot be removed by a solvent is a releasable resin. 前記離型性樹脂が、フッ素樹脂またはシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項９に記載の蒸着マスクの製造方法。  The method for manufacturing a vapor deposition mask according to claim 9, wherein the releasable resin is a fluororesin or a silicone resin. 前記樹脂板付き金属マスクを準備する工程が、  The step of preparing the metal mask with the resin plate,
樹脂板の一方の面上に、スリットが設けられた金属マスクを積層する工程と、  Laminating a metal mask provided with slits on one surface of the resin plate;
少なくとも前記樹脂板の金属マスク側の面において前記スリットと重なる位置に対応する領域に防汚層を形成する工程と、  Forming an antifouling layer in a region corresponding to a position overlapping with the slit on at least the surface of the resin plate on the metal mask side;
を含むことを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。  The manufacturing method of the vapor deposition mask of any one of Claims 1 thru | or 10 characterized by the above-mentioned. 前記樹脂板付き金属マスクを準備する工程が、  The step of preparing the metal mask with the resin plate,
少なくとも前記樹脂板の一方の面上に防汚層を形成する工程と、  Forming an antifouling layer on at least one surface of the resin plate;
前記樹脂板の防汚層を形成した側の面上に、スリットが設けられた金属マスクを積層する工程と、  Laminating a metal mask provided with slits on the surface of the resin plate on which the antifouling layer is formed;
を含むことを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。  The manufacturing method of the vapor deposition mask of any one of Claims 1 thru | or 10 characterized by the above-mentioned. 蒸着マスクを製造するために用いられる蒸着マスク準備体であって、  A deposition mask preparation used for manufacturing a deposition mask,
樹脂板の一方の面上にスリットが設けられた金属マスクが積層されてなり、  A metal mask provided with a slit is laminated on one surface of the resin plate,
少なくとも前記樹脂板の金属マスク側の面において前記スリットと重なる位置に対応する領域に防汚層が設けられていることを特徴とする蒸着マスク準備体。  A vapor deposition mask preparation, wherein an antifouling layer is provided at least in a region corresponding to a position overlapping with the slit on the surface of the resin plate on the metal mask side.
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