JP6323086B2 - Thermosetting resin composition and article using the same - Google Patents

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本発明は、保存安定性、高耐熱性、高透明、耐熱黄変性に優れたシルセスキオキサンとオルガノポリシロキサンから;なる熱硬化性樹脂組成物と、該熱硬化性樹脂組成物を成型して得られる成型体及び、硬化した該成型体を含む発光装置に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition comprising silsesquioxane and organopolysiloxane excellent in storage stability, high heat resistance, high transparency, and heat-resistant yellowing, and molding the thermosetting resin composition. And a light emitting device including the cured molded body.

白色LEDパッケージを構成する部材としては金属リードフレーム、リフレクタ樹脂、LEDチップ、金線、封止樹脂並びに蛍光体などが挙げられる。LEDは照明等の用途に市場が拡大しているが、その大出力化に伴いLEDパッケージ内の発熱が問題となっており、構成部材にも高耐熱性が要求されるようになってきている。封止樹脂に関しては、エポキシ樹脂を用いた場合には、その発熱による黄変が避けられなくなっているため、エポキシ樹脂に変わってより耐熱性、耐光性に優れているシリコーン樹脂が白色LEDの封止材料として用いられてきている。一般的に使用されているシリコーン封止樹脂は、付加反応を応用する2液混合型である。これは、異なる組成をもつ2つの組成物を混ぜ合わせ、一方の組成物に含まれる触媒の作用により付加反応を開始させて硬化させるものである。   Examples of the member constituting the white LED package include a metal lead frame, reflector resin, LED chip, gold wire, sealing resin, and phosphor. Although the market for LEDs is expanding for applications such as lighting, heat generation in the LED package has become a problem as the output increases, and high heat resistance is also required for components. . As for the sealing resin, when an epoxy resin is used, yellowing due to its heat generation is unavoidable. Therefore, instead of the epoxy resin, a silicone resin having higher heat resistance and light resistance is sealed in the white LED. It has been used as a stopping material. The silicone sealing resin generally used is a two-component mixed type that applies an addition reaction. In this method, two compositions having different compositions are mixed, and an addition reaction is initiated by the action of a catalyst contained in one composition to be cured.

この場合、混合後、室温においても硬化反応が進むために粘度が徐々に上昇し、その後の工程である蛍光体の分散工程、パッケージへのディスペンス工程などにおいて、粘度変化がある故に、工程初期と後期の製品品質で蛍光体の分散状態やディスペンス量変化が発生し、その結果、均質な製品が作りにくいなどの問題がある。また粘度が上昇し続けて最終的にはゲル化または固体化してディスペンスができなくなり、結果として封止樹脂や蛍光体の歩留まりが低下する。さらに、2液混合操作において、混合比率が若干ずれることで、樹脂の硬度や弾性率が変化し、生産ロット間で性能差が発生する問題も指摘されている。   In this case, after mixing, the viscosity gradually increases because the curing reaction proceeds even at room temperature, and since there is a change in viscosity in the subsequent steps such as phosphor dispersion process and package dispensing process, There is a problem in that the dispersion state of the phosphor and the change in the dispense amount occur in the product quality in the latter period, and as a result, it is difficult to make a homogeneous product. In addition, the viscosity continues to increase and eventually becomes gelled or solidified and cannot be dispensed. As a result, the yield of the sealing resin and phosphor decreases. Furthermore, it has been pointed out that in the two-liquid mixing operation, the hardness and elastic modulus of the resin change due to a slight shift in the mixing ratio, resulting in a difference in performance between production lots.

このような問題を解決するために、近年、予め2液を混合して−30℃程度の低温保存し、粘度上昇を抑制した製品も販売されているが、使用に際しては室温に戻す必要があり、室温に戻した直後から粘度変化が発生する為、根本的な解決には至っていない。   In order to solve such a problem, in recent years, a product in which two liquids are mixed in advance and stored at a low temperature of about −30 ° C. to suppress an increase in viscosity has been sold, but it is necessary to return to room temperature before use. However, since a change in viscosity occurs immediately after returning to room temperature, no fundamental solution has been reached.

また、粘度変化による蛍光体の分散状態やディスペンス量変化による光学ばらつきを改善するために蛍光体シートの開発も行なわれている。蛍光体シートは発光するチップ上に取り付けられるため、封止樹脂同様に耐熱性、耐光性が必要であり、多くの場合このようなシート形成材料には封止樹脂向けに好適な材料もしくは封止樹脂そのものが転用して使用されている(特許文献1)。   In addition, a phosphor sheet has been developed in order to improve the dispersion state of the phosphor due to the change in viscosity and the optical variation due to the change in the dispense amount. Since the phosphor sheet is mounted on a chip that emits light, heat resistance and light resistance are required in the same manner as the sealing resin. In many cases, such a sheet forming material is a suitable material or sealing material for the sealing resin. The resin itself is diverted and used (Patent Document 1).

この様に蛍光体シートが完全に硬化された場合、接着層を使用してLEDチップに貼りつける必要があり工程が複雑となる。また接着層を用いない場合にはシート形成後に半硬化状態にまで一旦硬化させてシート形成を行ない、その後チップに載せて本硬化すると共に蛍光体シートを接着させる。この場合、半硬化の蛍光体シートは室温においても封止樹脂と同様に徐々に硬化が更に進行し、本硬化の際には接着不良を起こす欠点がある為、保管には非常に低い温度条件を要する(特許文献2)。   In this way, when the phosphor sheet is completely cured, it is necessary to use an adhesive layer to adhere to the LED chip, which complicates the process. When the adhesive layer is not used, after the sheet is formed, it is once cured to a semi-cured state to form the sheet, and then placed on a chip to be fully cured and the phosphor sheet is adhered. In this case, the semi-cured phosphor sheet gradually cures at room temperature in the same manner as the sealing resin and has the disadvantage of causing poor adhesion during the main curing. (Patent Document 2).

また、特許文献1には、加工に優れる程度まで硬化を進行させることが記載されているが、最終的にはシート形成温度以上でLEDチップと接着させる為に、やはり半硬化状態であることが必要である。実施例を見ても明らかな通り、転用された封止樹脂はメーカーが硬化に必要としている温度よりも低い温度でフィルムが形成されている。このように半硬化樹脂はやはりその保管に際しては硬化がこれ以上進行しないように非常に低い温度での保管が必要となる。   Further, Patent Document 1 describes that the curing proceeds to an extent that is excellent in processing, but in order to finally adhere to the LED chip at a temperature higher than the sheet forming temperature, it may still be in a semi-cured state. is necessary. As is apparent from the examples, the diverted sealing resin has a film formed at a temperature lower than the temperature required for curing by the manufacturer. As described above, the semi-cured resin also needs to be stored at a very low temperature so that the curing does not proceed any more.

特開2013−1792号公報JP2013-1792A 特開2009−235368号公報JP 2009-235368 A

上記のように、LED用封止剤や蛍光体シートは2液混合型のシリコーン樹脂を使用する為、混合後の付加反応進行の為に作業性に制限があったり、保存には低温保管が必要となったりしている。そこで本発明は、室温で保存が可能で粘度変化やポットライフによる作業制限を受けず、また従来のような2液混合の工程で発生する分量誤差による性能ばらつきが生じない熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いた物品を提供することを課題とする。   As mentioned above, the LED sealant and phosphor sheet use a two-component silicone resin, so there are limitations on workability due to the progress of the addition reaction after mixing, and low temperature storage is required for storage. It is necessary. Therefore, the present invention is a thermosetting resin composition that can be stored at room temperature, is not subject to work restrictions due to viscosity changes or pot life, and does not cause performance variation due to a quantity error that occurs in the conventional two-liquid mixing process. It is another object of the present invention to provide an article using the same.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとの反応から得られるSiH基とアルケニル基とを含む熱硬化性樹脂とPt触媒並びに硬化遅延剤からなる熱硬化性樹脂組成物が室温で保存安定性が高く、しかも熱により硬化が可能で、封止材料として好適に使用でき、成型物としても保存安定性が高く、ポストキュアにより好適に硬化物を与え、なおかつ密着性を兼ね備えることを見出した。また、本発明は該熱硬化性樹脂組成物にSiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとアルケニル基を有するエポキシ化合物とアルケニル基を有するシリル化合物とを反応させることにより得られるSiH基を有する熱硬化性樹脂や、片末端にのみSiH基を有するオルガノポリシロキサンを含有させることによっても、上記の課題が解決されることを見出し、本発明を完成させるに至った。   The present inventors have intensively studied to solve the above problems. As a result, a thermosetting resin comprising a thermosetting resin containing a SiH group and an alkenyl group obtained from a reaction of a silsesquioxane having a SiH group and an organopolysiloxane having two alkenyl groups, a Pt catalyst, and a curing retarder. The storage resin composition has high storage stability at room temperature, and can be cured by heat, and can be suitably used as a sealing material, has high storage stability as a molded product, and gives a cured product suitably by post-cure, Moreover, it discovered that it had adhesiveness. In the present invention, the thermosetting resin composition is reacted with silsesquioxane having SiH group, organopolysiloxane having two alkenyl groups, epoxy compound having alkenyl groups, and silyl compound having alkenyl groups. It was found that the above-mentioned problems can be solved by including a thermosetting resin having a SiH group obtained by the above and an organopolysiloxane having a SiH group only at one end, and the present invention has been completed. .

すなわち、本発明は以下の通りである。
1.(A)および(B)を含有する熱硬化性樹脂組成物。
(A)SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとの反応物であって、SiH基とアルケニル基とを有する熱硬化性樹脂。
(B)Pt触媒。
That is, the present invention is as follows.
1. A thermosetting resin composition containing (A) and (B).
(A) A thermosetting resin that is a reaction product of a silsesquioxane having a SiH group and an organopolysiloxane having two alkenyl groups and having a SiH group and an alkenyl group.
(B) Pt catalyst.

2.さらに、(C)を含む前項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(C)硬化禁止剤。
ここで、(C)硬化禁止剤は、(B)Pt触媒の配合量(質量)の250〜200,000倍である。
2. Furthermore, the thermosetting resin composition of the preceding clause 1 containing (C).
(C) Curing inhibitor.
Here, (C) the curing inhibitor is 250 to 200,000 times the blending amount (mass) of (B) Pt catalyst.

3.前記シルセスキオキサンがダブルデッカー型シルセスキオキサンである前項1または2に記載の熱硬化性樹脂組成物。 3. 3. The thermosetting resin composition according to item 1 or 2, wherein the silsesquioxane is a double-decker silsesquioxane.

4.さらに、(D)〜(F)の少なくとも1つを含む、前項1〜3のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(D)SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとアルケニル基を有するエポキシ化合物とアルケニル基を有するシリル化合物とを反応させることにより得られる、SiH基を有する熱硬化性樹脂。
(E)アルケニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン化合物。
(F)片末端にのみSiH基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン化合物。
4). The thermosetting resin composition according to any one of items 1 to 3, further comprising at least one of (D) to (F).
(D) Thermosetting having a SiH group obtained by reacting a silsesquioxane having a SiH group, an organopolysiloxane having two alkenyl groups, an epoxy compound having an alkenyl group and a silyl compound having an alkenyl group Resin.
(E) An organopolysiloxane compound having two or more alkenyl groups.
(F) A linear organopolysiloxane compound having a SiH group only at one end.

5.前記熱硬化性樹脂(A)が、下記式(1)で示される化合物である、前項1〜3のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 5. 4. The thermosetting resin composition according to any one of items 1 to 3, wherein the thermosetting resin (A) is a compound represented by the following formula (1).

Figure 0006323086
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式(1)において、Xはそれぞれ独立して、
下記式(X−I)、式(X−II)または式(X−III)で表される基であり、式(1)で表される化合物1分子あたり[該化合物が式(X−I)で表される基と式(X−II)で表される基と式(X−III)で表される基の割合が異なる化合物の混合物である場合は該化合物1分子平均]の式(X−I)で表される基の数をa、式(X−II)で表される基の数をb、式(X−III)で表される基の数をcとした場合に、
a+2b+c=4であり、0<a≦3であり、0≦b≦1であり、0<c≦3である。
はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル及びシクロヘキシ
ルから選択される基であり、mは1〜100を満たす平均値である。
In Formula (1), each X is independently
It is a group represented by the following formula (XI), formula (X-II) or formula (X-III), and per molecule of the compound represented by formula (1) [the compound is represented by formula (XI ), A group represented by the formula (X-II), and a group represented by the formula (X-III), the compound is a mixture of different compounds. When the number of groups represented by XI) is a, the number of groups represented by formula (X-II) is b, and the number of groups represented by formula (X-III) is c,
a + 2b + c = 4, 0 <a ≦ 3, 0 ≦ b ≦ 1, and 0 <c ≦ 3.
R 1 is each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, and cyclohexyl, and m is an average value satisfying 1 to 100.

Figure 0006323086
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Figure 0006323086
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式(X−II)において、Rは式(1)におけるRと同様であり、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、rは−OSi(R−の繰り返しの数であり、rは、2〜20を満たす平均値である。 In the formula (X-II), R 1 is the same as R 1 in formula (1), R 2 and R 3 are each independently selected from alkyl of 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl R is the number of repeating -OSi (R 3 ) 2- , and r is an average value satisfying 2-20.

Figure 0006323086
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式(X−III)において、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、sは−OSi(R−の繰り返しの数であり、sは、2〜20を満たす平均値である。 In the formula (X-III), R 4 and R 5 are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and s is —OSi (R 5 ) 2 —. S is an average value satisfying 2 to 20.

6.前記熱硬化性樹脂(D)が、下記式(D1)で示される化合物である、前項4に記載の熱硬化性樹脂組成物。 6). The thermosetting resin composition according to item 4, wherein the thermosetting resin (D) is a compound represented by the following formula (D1).


Figure 0006323086

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式(D1)において、X’はそれぞれ独立して、下記式(a)、式(b)、式(c−i)、式(c−ii)、式(c−iii)、式(d−i)、式(d−ii)または式(d−iii)で表される基であり、式(1)で表される化合物1分子あたり[該化合物が式(a)で表される基と式(b)〜式(d−iii)で表される基の割合が異なる化合物の混合物である場合は該化合物1分子平均]の、
式(a)で表される基の数をA、
式(b)で表される基の数をB、
式(c−i)、式(c―ii)または式(c−iii)で表される基の数をC、
式(d−i)、式(d−ii)または式(d−iii)で表される基の数をDとした場合に、A+2B+C+D=4であり、0.5≦A≦3.0であり、0.5≦2B≦2.0であり、0.1≦C≦2であり、0≦D≦1.0である。
1’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル及びシクロヘキシルから選択される基であり、m’は1〜100を満たす平均値である。
In the formula (D1), each X ′ independently represents the following formula (a), formula (b), formula (ci), formula (c-ii), formula (c-iii), formula (d- i) a group represented by the formula (d-ii) or the formula (d-iii), and per molecule of the compound represented by the formula (1) [the compound is represented by the formula (a) In the case of a mixture of compounds in which the proportions of groups represented by formula (b) to formula (d-iii) are different, the compound averages 1 molecule]
The number of groups represented by formula (a) is A,
The number of groups represented by formula (b) is B,
The number of groups represented by formula (ci), formula (c-ii) or formula (c-iii) is C,
When the number of groups represented by formula (d-i), formula (d-ii) or formula (d-iii) is D, A + 2B + C + D = 4, and 0.5 ≦ A ≦ 3.0 Yes, 0.5 ≦ 2B ≦ 2.0, 0.1 ≦ C ≦ 2, and 0 ≦ D ≦ 1.0.
R 1 ′ is independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, and cyclohexyl, and m ′ is an average value satisfying 1 to 100.

Figure 0006323086
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Figure 0006323086
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式(b)において、R1’は式(D1)におけるR1’と同様であり、R2’及びR3’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、tは−OSi(R3’−の繰り返しの数であり、1〜20を満たす平均値である。 In formula (b), R 1 'is R 1 in Formula (D1)' is the same as, R 2 'and R 3' are each independently alkyl of 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl And t is the number of repeating -OSi (R 3 ' ) 2- and is an average value satisfying 1-20.

Figure 0006323086
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Figure 0006323086
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式(d−i)〜(d−iii)において、R、R4’およびR4’’はそれぞれ独立して、メチル、エチル、ブチルおよびイソプロピルから選択される基である。xは−OSi(R4’−の繰り返しの数であり、1〜20を満たす平均値である。yは−OSi(R4’’−の繰り返しの数であり、1〜10を満たす平均値である。 In the formulas (di) to (d-iii), R 4 , R 4 ′ and R 4 ″ are each independently a group selected from methyl, ethyl, butyl and isopropyl. x is the number of repetitions of -OSi (R4 ' ) 2- and is an average value satisfying 1-20. y is the number of repetitions of -OSi (R 4 '' ) 2- and is an average value satisfying 1 to 10.

7.前記熱硬化性樹脂(D)が、下記式(D2)で示される化合物である、前項4に記載の熱硬化性樹脂組成物。 7). 5. The thermosetting resin composition according to item 4, wherein the thermosetting resin (D) is a compound represented by the following formula (D2).

Figure 0006323086
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式(D2)において、R’’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、rは0〜100の整数である。aiiは、0.1≦aii≦3.5、Xiiは、0≦2Xii≦2.0、Yiiは、0≦Yii≦3.0、Ziiは、0.1≦Zii≦3.5である。   In formula (D2), R ″ is independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and r is an integer of 0 to 100. aii is 0.1 ≦ aii ≦ 3.5, Xii is 0 ≦ 2Xii ≦ 2.0, Yii is 0 ≦ Yii ≦ 3.0, and Zii is 0.1 ≦ Zii ≦ 3.5.

8.前記片末端にのみSiH基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン化合物(F)が、下記式(2)で示される化合物である前項4に記載の熱硬化性樹脂組成物。 8). 5. The thermosetting resin composition according to item 4, wherein the linear organopolysiloxane compound (F) having a SiH group only at one end is a compound represented by the following formula (2).

Figure 0006323086
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及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル及びシクロヘキシルから選択される基であり、mは−OSi(R−の繰り返しの数であり、1〜20を満たす平均値である。 R 6 and R 7 are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl and cyclohexyl, m is the number of repeating -OSi (R 7 ) 2 —, and 1 to 20 The average value satisfying

9.前記アルケニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン化合物(E)が式(3)で示される化合物である、前項4に記載の熱硬化性樹脂組成物。 9. The thermosetting resin composition according to item 4, wherein the organopolysiloxane compound (E) having two or more alkenyl groups is a compound represented by the formula (3).

Figure 0006323086
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式(3)において、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、nは、−OSi(R−の繰り返しの数であり、1〜50を満たす平均値である。 In the formula (3), R 8 and R 9 are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and n is —OSi (R 9 ) 2 —. It is the number of repetitions and is an average value satisfying 1-50.

10.熱硬化性樹脂組成物全量基準で、前記(D)SiH基を有するシルセスキオキサン、アルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサン、アルケニル基を有するエポキシ化合物およびアルケニル基を有するシリル化合物を反応させることにより得られる、SiH基を有する熱硬化性樹脂を1〜50質量%の割合で含有する前項1〜9のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 10. Reacting (D) silsesquioxane having SiH group, organopolysiloxane having two alkenyl groups, epoxy compound having alkenyl groups and silyl compound having alkenyl groups on the basis of the total amount of the thermosetting resin composition. 10. The thermosetting resin composition according to any one of the preceding items 1 to 9, which comprises a thermosetting resin having a SiH group, obtained at 1 to 50% by mass.

11.熱硬化性樹脂組成物全量基準で、前記熱硬化性樹脂(E)を1〜10質量%の割合で含有する前項1〜10のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 11. 11. The thermosetting resin composition according to any one of items 1 to 10, which contains the thermosetting resin (E) at a ratio of 1 to 10% by mass on the basis of the total amount of the thermosetting resin composition.

12.熱硬化性樹脂組成物全量基準で、前記(F)片末端にのみSiH基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン化合物を2〜20質量%含有する、前項1〜11のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 12 12. The method according to any one of 1 to 11 above, containing 2 to 20% by mass of a linear organopolysiloxane compound having a SiH group only at one end of the (F), based on the total amount of the thermosetting resin composition. Thermosetting resin composition.

13.さらに、無機化合物が分散された前項1〜12のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 13. Furthermore, the thermosetting resin composition of any one of the preceding clauses 1-12 by which the inorganic compound was disperse | distributed.

14.無機化合物が蛍光体および/または金属酸化物である、前項13に記載の熱硬化性樹脂組成物。 14 14. The thermosetting resin composition according to item 13, wherein the inorganic compound is a phosphor and / or a metal oxide.

15.80℃の温度で30日間保管条件下での粘度上昇率が50%以内である、前項1〜14のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 15. The thermosetting resin composition according to any one of items 1 to 14, wherein the rate of increase in viscosity under a storage condition of 30 days at a temperature of 80 ° C. is within 50%.

16.前項1〜15のいずれか1項記載の熱硬化性樹脂組成物を成型して得られるプリプレグ。 16. A prepreg obtained by molding the thermosetting resin composition according to any one of items 1 to 15.

17.項16に記載のプレプリグを熱硬化させて得られる物品。 17. Item obtained by heat-curing the prepreg according to Item 16.

18.塗膜状またはシート状であり、厚みが0.1μm〜3,000μmである、前項17に記載の物品。 18. 18. The article according to item 17 above, which is in the form of a coating film or a sheet and has a thickness of 0.1 μm to 3,000 μm.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、保存安定性に優れるため、室温での粘度変化や化学変化を起こすことがなく、なお且つ高屈折率、高耐熱性、密着性に優れる硬化物及び半硬化物を与えることができる。そのため、本発明の熱硬化性樹脂組成物を利用してなるシリコーン封止樹脂(封止剤)は従来のように直前に2液混合して使用する必要がない。   Since the thermosetting resin composition of the present invention is excellent in storage stability, it does not cause a change in viscosity or chemical change at room temperature, and has a high refractive index, high heat resistance, and excellent adhesiveness. A cured product can be provided. Therefore, the silicone sealing resin (sealing agent) using the thermosetting resin composition of the present invention does not need to be used by mixing two liquids just before as in the conventional case.

さらに、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、容易に、半硬化状態のまま任意の形状に成型し、プリプレグとすることができる。保存安定性に優れるため、半硬化状態を長期間維持しており、使用の自由度が極めて高い。さらに、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、無機化合物を分散させて使用することも可能である。   Furthermore, the thermosetting resin composition of the present invention can be easily molded into an arbitrary shape in a semi-cured state to form a prepreg. Due to excellent storage stability, the semi-cured state is maintained for a long period of time, and the degree of freedom of use is extremely high. Furthermore, the thermosetting resin composition of the present invention can be used by dispersing an inorganic compound.

さらに、該プリプレグを熱処理し、熱硬化させることができる。本発明の熱硬化性樹脂組成物はシルセスキオキサン骨格が主成分であるので、その硬化物は耐熱性に優れるとともに、耐UV性にも優れる。さらには、ポリフタルアミド樹脂、銀またはセラミックス等のハウジング基材に対する優れた接着性を示し、吸湿リフロー、ヒートサイクル試験、さらには耐イオウ試験等の厳しい信頼性試験にも耐えうる、室温で保存安定な樹脂組成物及び当該樹脂組成物からなる優れた成型硬化物を得ることができる。   Furthermore, the prepreg can be heat-treated and thermally cured. Since the thermosetting resin composition of the present invention has a silsesquioxane skeleton as a main component, the cured product is excellent in heat resistance and UV resistance. In addition, it exhibits excellent adhesion to housing base materials such as polyphthalamide resin, silver or ceramics, and can withstand rigorous reliability tests such as moisture reflow, heat cycle tests, and sulfur resistance tests, and is stored at room temperature. A stable resin composition and an excellent molded cured product comprising the resin composition can be obtained.

以下、本発明を詳細に説明する。
なお、単独で(A)と表記された場合は、本書では(A)で定義されたものを意味するが、例えば熱硬化性樹脂(A)のように適宜表現しなおすことがある。このルールは、(B)〜(F)も同様である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In addition, when written alone as (A), it means what is defined in (A) in this document, but it may be re-expressed as appropriate, for example, thermosetting resin (A). This rule is the same for (B) to (F).

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、以下の(A)および(B)を含有することを特徴とする。
(A)SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとの反応物であって、SiH基とアルケニル基とを含む熱硬化性樹脂。
(B)Pt触媒。
The thermosetting resin composition of the present invention is characterized by containing the following (A) and (B).
(A) A thermosetting resin comprising a SiH group and an alkenyl group, which is a reaction product of a silsesquioxane having a SiH group and an organopolysiloxane having two alkenyl groups.
(B) Pt catalyst.

(A)で定義される熱硬化性樹脂(以降、熱硬化性樹脂(A)ともいう)は、SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとの反応物である。SiH基を有するシルセスキオキサンとしては、ダブルデッカー型シルセスキオキサンおよびT8構造のカゴ型シルセスキオキサンが挙げられる。T8構造のカゴ型シルセスキオキサンは8個の官能基を有しているのに対して、本発明で用いているダブルデッカー型シルセスキオキサンは4つの官能基しか有しておらず、構造の制御が行いやすい。また完全縮合型のカゴ型シルセスキオキサンと違い、本発明で好適に用いているダブルデッカー型シルセスキオキサンは不完全縮合型であり、分子の自由度が比較的高く、柔軟性に優れる。このような観点からダブルデッカー型シルセスキオキサンが好ましい。   The thermosetting resin defined by (A) (hereinafter also referred to as thermosetting resin (A)) is a reaction product of silsesquioxane having SiH groups and organopolysiloxane having two alkenyl groups. . Examples of silsesquioxanes having SiH groups include double-decker silsesquioxanes and cage-type silsesquioxanes having a T8 structure. The cage silsesquioxane having a T8 structure has eight functional groups, whereas the double-decker silsesquioxane used in the present invention has only four functional groups. Easy to control the structure. Unlike the fully condensed cage silsesquioxane, the double-decker silsesquioxane preferably used in the present invention is incompletely condensed, has a relatively high degree of molecular freedom, and is excellent in flexibility. . From such a viewpoint, double-decker silsesquioxane is preferable.

熱硬化性樹脂(A)としては、例えば、下記式(1)で表される化合物が挙げられる。   As a thermosetting resin (A), the compound represented by following formula (1) is mentioned, for example.

Figure 0006323086
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式(1)において、Xはそれぞれ独立して、下記式(X−I)、式(X−II)または式(X−III)で表される基である。Rはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルから選択される基であり、mは1〜100を満たす平均値である。その中でも、mは1が好ましい。 In the formula (1), each X is independently a group represented by the following formula (XI), formula (X-II) or formula (X-III). R 1 is each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl and cyclohexyl, and m is an average value satisfying 1 to 100. Among these, m is preferably 1.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

Figure 0006323086
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式(X−II)において、Rは式(1)におけるRと同様であり、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、rは−OSi(R−の繰り返しの数であり、rは、2〜20を満たす平均値である。rは、2〜10が好ましい。Rは式(1)におけるRと同様である。 In the formula (X-II), R 1 is the same as R 1 in formula (1), R 2 and R 3 are each independently selected from alkyl of 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl R is the number of repeating -OSi (R 3 ) 2- , and r is an average value satisfying 2-20. r is preferably 2 to 10. R 1 is the same as R 1 in Formula (1).

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(X−III)において、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、sは−OSi(R−の繰り返しの数であり、sは、2〜20を満たす平均値である。sは、2〜10が好ましく、2〜4がより好ましい。 In the formula (X-III), R 4 and R 5 are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and s is —OSi (R 5 ) 2 —. S is an average value satisfying 2 to 20. As for s, 2-10 are preferable and 2-4 are more preferable.

式(1)で表される化合物1分子あたり[該化合物が式(X−I)で表される基と式(X−II)で表される基と式(X−III)で表される基の割合が異なる化合物の混合物である場合は該化合物1分子平均]の式(X−I)で表される基の数をa、式(X−II)で表される基の数をb、式(X−III)で表される基の数をcとした場合に、a+2b+c=4であり、0<a≦3であり、0≦b≦1であり、0<c≦3である。   Per molecule of the compound represented by the formula (1) [the compound is represented by the group represented by the formula (XI), the group represented by the formula (X-II), and the formula (X-III) In the case of a mixture of compounds having different group ratios, the number of groups represented by the formula (XI) of the compound 1 molecule average] is a, and the number of groups represented by the formula (X-II) is b When the number of groups represented by formula (X-III) is c, a + 2b + c = 4, 0 <a ≦ 3, 0 ≦ b ≦ 1, and 0 <c ≦ 3. .

本発明において、a+2b+c=4であり、0<a≦3であり、0≦b≦1であり、0<c≦3を満たす範囲の化合物について説明する。   In the present invention, a compound in a range where a + 2b + c = 4, 0 <a ≦ 3, 0 ≦ b ≦ 1, and 0 <c ≦ 3 will be described.

a>cであれば、一般式(1)で表される前記化合物は、平均的にビニル基よりSiH基の数の方が多く、いわゆるSiH基型の熱硬化性樹脂と定義できる。   If a> c, the compound represented by the general formula (1) has on average more SiH groups than vinyl groups, and can be defined as a so-called SiH group type thermosetting resin.

前記熱硬化性樹脂(A)としては、SiH基型の熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。前記aは、硬化物とした際の優れた特性を顕著とさせる観点から、aが1.0〜3.0であることが好ましく、1.5〜2.5であることがより好ましい。一般式(1)で表される上記化合物中の、a、b、cは、発明者の任意により、例えば、国際公開第2011/145638号に記載の製造方法に準拠することにより調整できる。   As the thermosetting resin (A), it is preferable to use a SiH-based thermosetting resin. The a is preferably 1.0 to 3.0, and more preferably 1.5 to 2.5 from the viewpoint of conspicuous excellent characteristics when cured. A, b, and c in the compound represented by the general formula (1) can be adjusted by the inventor's discretion, for example, by conforming to the production method described in International Publication No. 2011/145638.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物全量基準で、前記熱硬化性樹脂(A)を50〜95質量%含有することが好ましく、80〜90質量%含有することがより好ましい。熱硬化性樹脂(A)の配合割合を80質量%以上とすることにより、ダブルデッカー型シルセスキオキサンが保有する特性、すなわち耐熱性、耐UV性、高屈折率等の特性を保持させることが可能である。また、熱硬化性樹脂(A)の配合割合を95質量%以下とすることにより、硬化物の硬度をD45以下にすることが可能である。   The thermosetting resin composition of the present invention preferably contains 50 to 95% by mass, and preferably 80 to 90% by mass of the thermosetting resin (A) based on the total amount of the thermosetting resin composition. More preferred. By setting the blending ratio of the thermosetting resin (A) to 80% by mass or more, the characteristics possessed by the double-decker silsesquioxane, that is, characteristics such as heat resistance, UV resistance, and high refractive index are maintained. Is possible. Moreover, the hardness of hardened | cured material can be D45 or less by making the mixture ratio of a thermosetting resin (A) into 95 mass% or less.

(B)のPt触媒(以降、Pt触媒(B)ともいう)は、熱硬化性樹脂(A)を加熱下に硬化させることができる白金を含む触媒であり、白金は酸化されていなくてもよいし、酸化されていてもよい。酸化された白金としては、例えば、酸化白金が挙げられる。部分的に酸化された白金としては、例えば、アダムス触媒などが挙げられる。   The Pt catalyst of (B) (hereinafter also referred to as Pt catalyst (B)) is a catalyst containing platinum that can cure the thermosetting resin (A) under heating, and even if platinum is not oxidized. It may be oxidized. Examples of oxidized platinum include platinum oxide. Examples of the partially oxidized platinum include an Adams catalyst.

白金触媒としては、例えば、カルステッド触媒(Karstedt catalyst)、スパイヤー触媒(Speier catalyst)およびヘキサクロロプラチニック酸などが挙げられる。これらは一般的によく知られた触媒である。このなかでも酸化されていないタイプのカルステッド触媒が好ましく用いられる。   Examples of the platinum catalyst include a Karstedt catalyst, a Spear catalyst, and hexachloroplatinic acid. These are generally well known catalysts. Of these, a non-oxidized type Karsted catalyst is preferably used.

全熱硬化性樹脂組成物中の白金触媒(B)の配合割合は、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化を進めるのに十分な量であることが好ましいが、後述する(C)硬化禁止剤との配合割合により、混合後、ある温度以上に上昇する以外には安定した粘度を保持するか、または半硬化させた状態で、ある温度以上に上昇する以外には硬化反応がそれ以上進まず硬度や反応性を保持することが可能な配合割合として、白金純分で10ppb〜200ppbが好適である。好ましくは30ppb〜150ppbであり、より好ましくは50ppb〜100ppbである。   The blending ratio of the platinum catalyst (B) in the total thermosetting resin composition is preferably an amount sufficient to advance the curing of the curable resin composition of the present invention. Depending on the blending ratio with the agent, after the mixing, the curing reaction proceeds further than the temperature rises above a certain temperature while maintaining a stable viscosity or semi-cured in addition to the temperature rising above a certain temperature. First, as a blending ratio capable of retaining hardness and reactivity, 10 ppb to 200 ppb in terms of pure platinum is preferable. Preferably they are 30 ppb-150 ppb, More preferably, they are 50 ppb-100 ppb.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、前述の熱硬化性樹脂(A)およびPt触媒(B)に加えて、さらに(C)硬化禁止剤を含むことにより、保存安定性が一層向上する。このため、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、(C)硬化禁止剤を含むことが好ましい。   In addition to the thermosetting resin (A) and the Pt catalyst (B) described above, the thermosetting resin composition of the present invention further includes (C) a curing inhibitor, thereby further improving storage stability. For this reason, it is preferable that the thermosetting resin composition of this invention contains (C) hardening inhibitor.

(C)硬化禁止剤(以降(C)成分ともいう)について説明する。
熱硬化性樹脂(A)にPt触媒(B)を配合することで硬化反応がスタートするが、この反応を所定温度まで禁止させる為に配合するのが硬化禁止剤である。
(C) The curing inhibitor (hereinafter also referred to as component (C)) will be described.
The curing reaction starts when the Pt catalyst (B) is blended with the thermosetting resin (A), but a curing inhibitor is blended to inhibit this reaction up to a predetermined temperature.

硬化禁止剤としては、ヒドロシリル化触媒による付加型硬化性組成物で用いられている公知のものが使用できる。具体的には、例えば、アルケニル基を2個以上含む化合物、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、スズ系化合物および有機過酸化物が挙げられる。これらを単独使用、または2種以上併用してもよい。   As the curing inhibitor, known ones used in addition-type curable compositions with hydrosilylation catalysts can be used. Specific examples include compounds containing two or more alkenyl groups, compounds containing aliphatic unsaturated bonds, organophosphorus compounds, tin compounds, and organic peroxides. These may be used alone or in combination of two or more.

アルケニル基を2個以上含む化合物としては、例えば、両末端ビニル基含有のジシロキサン、トリシロキサン類および1,3,5,7−テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン等のビニル基含有環状シロキサン類が挙げられる。   Examples of the compound containing two or more alkenyl groups include disiloxanes containing both vinyl groups, trisiloxanes, and vinyl group-containing cyclic siloxanes such as 1,3,5,7-tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane. Can be mentioned.

脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、例えば、3−メチル−1−ドデシン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、無水マレイン酸およびマレイン酸ジメチル等のマレイン酸エステル類が挙げられる。   Examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include 3-methyl-1-dodecin-3-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 1-ethynyl-1-cyclohexanol and the like. Mention may be made of propargyl alcohols, ene-yne compounds, maleic acid esters such as maleic anhydride and dimethyl maleate.

有機リン化合物としては、例えば、トリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類およびトリオルガノフォスファイト類が挙げられる。   Examples of the organophosphorus compound include triorganophosphine, diorganophosphine, organophosphon, and triorganophosphite.

スズ系化合物としては、例えば、ハロゲン化第一スズ2水和物およびカルボン酸第一スズが挙げられる。また有機過酸化物としては、例えば、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシドおよび過安息香酸t−ブチルが挙げられる。   Examples of tin compounds include stannous halide dihydrate and stannous carboxylate. Examples of the organic peroxide include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl perbenzoate.

これらのうち、1,3−ジビニルジシロキサン、1,3,5,7−テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサンまたは1−エチニル−1−シクロヘキサノールが好ましい。   Of these, 1,3-divinyldisiloxane, 1,3,5,7-tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane or 1-ethynyl-1-cyclohexanol is preferred.

(C)成分の配合量としては、本発明の硬化性樹脂組成物が、ある温度以上に上昇するまで安定した粘度を保持するか、または半硬化させた状態で、ある温度以上に上昇するまで硬化反応がそれ以上進まない量である。具体的にはPt触媒(B)の配合量(質量)の250〜200,000倍であり、好ましくは500〜100,000倍である。さらに好ましくは5000〜50,000倍である。   (C) As a compounding quantity of a component, until the curable resin composition of this invention hold | maintains the stable viscosity until it raises more than a certain temperature, or it rises above a certain temperature in the semi-hardened state The amount is such that the curing reaction does not proceed further. Specifically, it is 250 to 200,000 times, preferably 500 to 100,000 times the blending amount (mass) of the Pt catalyst (B). More preferably, it is 5000 to 50,000 times.

また本発明は必要に応じて、
(D)SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとアルケニル基を有するエポキシ化合物とアルケニル基を有するシリル化合物とを反応させることにより得られるSiH基を有する熱硬化性樹脂(以降、熱硬化性樹脂(D)ともいう)、
(E)アルケニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン化合物(以降、化合物(E)ともいう)、
(F)片末端にのみSiH基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン化合物(以降、化合物(F)ともいう)、
のうち一つまたは二つ以上を含むことも可能である。
In addition, the present invention, as necessary,
(D) Thermosetting having SiH group obtained by reacting silsesquioxane having SiH group, organopolysiloxane having two alkenyl groups, epoxy compound having alkenyl group and silyl compound having alkenyl group Resin (hereinafter, also referred to as thermosetting resin (D)),
(E) an organopolysiloxane compound having two or more alkenyl groups (hereinafter also referred to as compound (E)),
(F) a linear organopolysiloxane compound having a SiH group only at one end (hereinafter also referred to as compound (F)),
It is also possible to include one or more of these.

熱硬化性樹脂(D)としては、例えば、下記式(D1)で表される化合物が挙げられる。   As a thermosetting resin (D), the compound represented by a following formula (D1) is mentioned, for example.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(D1)において、X’はそれぞれ独立して、下記式(a)、式(b)、式(c−i)、式(c−ii)、式(c−iii)、式(d−i)、式(d−ii)または式(d−iii)で表される基であり、式(1)で表される化合物1分子あたり[該化合物が式(a)で表される基と式(b)〜式(d−iii)で表される基の割合が異なる化合物の混合物である場合は該化合物1分子平均]の、
式(a)で表される基の数をA、
式(b)で表される基の数をB、
式(c−i)、式(c−ii)または式(c−iii)で表される基の数をC、
式(d−i)、式(d−ii)または式(d−iii)で表される基の数をDとした場合に、A+2B+C+D=4であり、0.5≦A≦3.0であり、0.5≦2B≦2.0であり、0.1≦C≦2であり、0≦D≦1.0である。
In the formula (D1), each X ′ independently represents the following formula (a), formula (b), formula (ci), formula (c-ii), formula (c-iii), formula (d- i) a group represented by the formula (d-ii) or the formula (d-iii), and per molecule of the compound represented by the formula (1) [the compound is represented by the formula (a) In the case of a mixture of compounds in which the proportions of groups represented by formula (b) to formula (d-iii) are different, the compound averages 1 molecule]
The number of groups represented by formula (a) is A,
The number of groups represented by formula (b) is B,
The number of groups represented by formula (ci), formula (c-ii) or formula (c-iii) is C,
When the number of groups represented by formula (d-i), formula (d-ii) or formula (d-iii) is D, A + 2B + C + D = 4, and 0.5 ≦ A ≦ 3.0 Yes, 0.5 ≦ 2B ≦ 2.0, 0.1 ≦ C ≦ 2, and 0 ≦ D ≦ 1.0.

1’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル及びシクロヘキシルから選択される基であり、m’は1〜100を満たす平均値である。 R 1 ′ is independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, and cyclohexyl, and m ′ is an average value satisfying 1 to 100.

Figure 0006323086
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Figure 0006323086
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式(b)において、R2’及びR3’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、tは−OSi(R3’−の繰り返しの数であり、1〜20を満たす平均値である。 In the formula (b), R 2 ′ and R 3 ′ are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbons, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and t is —OSi (R 3 ′ ) 2. It is the number of repetitions of-and is an average value satisfying 1-20.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(d−i)〜(d−iii)において、R、R4’およびR4’’はそれぞれ独立して、メチル、エチル、ブチルおよびイソプロピルから選択される基である。xは−OSi(R4’−の繰り返しの数であり、1〜20を満たす平均値である。yは−OSi(R4’’−の繰り返しの数であり、1〜10を満たす平均値である。 In the formulas (di) to (d-iii), R 4 , R 4 ′ and R 4 ″ are each independently a group selected from methyl, ethyl, butyl and isopropyl. x is the number of repetitions of -OSi (R4 ' ) 2- and is an average value satisfying 1-20. y is the number of repetitions of -OSi (R 4 '' ) 2- and is an average value satisfying 1 to 10.

前記式(a)で表される基は、前記SiH基を有するシルセスキオキサン由来の基であり、前記式(b)で表される基に相当する化合物と、式(c−i)〜(c−iii)で表される基に相当するエポキシ誘導体、必要に応じて用いられる式(d−i)〜式(d−iii)で表される基に相当する化合物とが反応した後のSiH基残基である。したがって、前記式(a)で表される基は、本発明の化合物を密着付与材として適用するシルセスキオキサンとオルガノポリシロキサンとの反応物である熱硬化性樹脂と反応し得るため、本発明の化合物の密着付与材としての機能を強化する役割を持つ。   The group represented by the formula (a) is a silsesquioxane-derived group having the SiH group, a compound corresponding to the group represented by the formula (b), and formulas (ci) to An epoxy derivative corresponding to the group represented by (c-iii), and a compound corresponding to the group represented by formula (d-i) to (d-iii) used as necessary after the reaction SiH group residue. Therefore, the group represented by the formula (a) can react with a thermosetting resin that is a reaction product of silsesquioxane and an organopolysiloxane to which the compound of the present invention is applied as an adhesion promoter. It has a role to reinforce the function of the compound of the invention as an adhesion-imparting material.

前記式(b)で表される基は、シルセスキオキサンの架橋成分であり、本発明の化合物に柔軟性を与えることができる。具体的には、例えば、下記式(1−1)で表される化合物のように、ポリマー構造をとる。   The group represented by the formula (b) is a cross-linking component of silsesquioxane, and can give flexibility to the compound of the present invention. Specifically, for example, a polymer structure is taken like a compound represented by the following formula (1-1).

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(1−1)において、X1はそれぞれ独立して、前記式(a)、式(c−i)〜(c−iii)、式(d−i)〜(d−iii)で表される基であり、X2は式(b)で表される式である。R17はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルから選択される基であり、メチルであることが好ましい。uは0〜1000を満たす平均値である。 In Formula (1-1), X1 is each independently represented by Formula (a), Formulas (ci) to (c-iii), and Formulas (di) to (d-iii). X2 is a group represented by the formula (b). R 17 is independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl and cyclohexyl, and is preferably methyl. u is an average value satisfying 0 to 1000.

式(b)で表される基の数であるBの値が大きくなればなるほど、分子同士の架橋成分が多くなり、本発明の化合物は高分子量の化合物になる。B=0であれば、架橋成分が全く無い状態である。0<B<1の範囲では、Bの値が大きくなるにつれて架橋成分が増加し、分子量は増加する。B>1の範囲では、分子同士の架橋が非常に進行した状態であり、ゲル状となるため熱硬化性樹脂として使用できない。Bの値を0<B≦1の範囲内で変えることによって、本発明の化合物の分子量を調整することが出来る。   As the value of B, which is the number of groups represented by formula (b), increases, the cross-linking component between molecules increases, and the compound of the present invention becomes a high molecular weight compound. If B = 0, there is no cross-linking component. In the range of 0 <B <1, the crosslinking component increases and the molecular weight increases as the value of B increases. In the range of B> 1, the cross-linking of molecules is in a very advanced state, and it cannot be used as a thermosetting resin because it becomes a gel. The molecular weight of the compound of the present invention can be adjusted by changing the value of B within the range of 0 <B ≦ 1.

式(c−i)〜(c−iii)で表される基は、前記シルセスキオキサンとオルガノポリシロキサンとの架橋体中のSiH残基に結合したエポキシ基であり、LED用ハウジング基材との密着性を高める役割を持つ。(c−i)の成分は、エポキシ基に加えイソシアヌル環骨格を有する基であり、金属との密着性も高める役割を有する。   The groups represented by the formulas (c-i) to (c-iii) are epoxy groups bonded to SiH residues in the cross-linked product of the silsesquioxane and the organopolysiloxane, and the housing substrate for LED It has a role to improve adhesion. The component (ci) is a group having an isocyanuric ring skeleton in addition to an epoxy group, and also has a role of improving adhesion with a metal.

式(d−i)〜式(d−iii)で表される基は、前記シルセスキオキサンとオルガノポリシロキサンとの架橋体中のSiH残基に結合したアルコキシシリル基またはトリアルキルシリル基またはビニルシリル基である。   The groups represented by the formulas (di) to (d-iii) are an alkoxysilyl group or a trialkylsilyl group bonded to a SiH residue in the cross-linked product of the silsesquioxane and the organopolysiloxane. Vinylsilyl group.

下記式(d−i)で表される基は、熱硬化性樹脂(D)由来の基であり、任意の成分である。式(d−i)で表される基は、金属との密着を向上する目的や、樹脂との相溶性を向上する目的で用いられる。   The group represented by the following formula (di) is a group derived from the thermosetting resin (D) and is an arbitrary component. The group represented by the formula (d-i) is used for the purpose of improving the adhesion with a metal or the compatibility with a resin.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(d−i)において、Rはそれぞれ独立して、メチル、エチル、ブチルおよびイソプロピルから選択される基である。 In formula (di), each R 4 is independently a group selected from methyl, ethyl, butyl and isopropyl.

下記式(d−ii)で表される基は、熱硬化性樹脂(D)由来の基であり、任意の成分である。式(d−ii)で表される基は、樹脂との相溶性を向上する目的、粘度を調整する目的、または硬化性樹脂組成物を硬化させた後の硬度を調整する目的で用いられる。   The group represented by the following formula (d-ii) is a group derived from the thermosetting resin (D) and is an optional component. The group represented by the formula (d-ii) is used for the purpose of improving the compatibility with the resin, the purpose of adjusting the viscosity, or the purpose of adjusting the hardness after curing the curable resin composition.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(d−ii)において、R4’はそれぞれ独立して、メチル、エチル、ブチルおよびイソプロピルから選択される基であり、好ましくはメチルである。xは−OSi(R4’−の繰り返しの数である。xは、1〜20を満たす平均値であり、1〜10を満たす平均値であることが好ましい。 In the formula (d-ii), each R 4 ′ is independently a group selected from methyl, ethyl, butyl and isopropyl, preferably methyl. x is the number of repetitions of -OSi (R 4 ' ) 2- . x is an average value satisfying 1 to 20, and preferably an average value satisfying 1 to 10.

下記式(d−iii)で表される基は、熱硬化性樹脂(D)由来の基であり、任意の成分である。式(d−iii)で表される基は、樹脂との相溶性を向上する目的、粘度を調整する目的、または硬化性樹脂組成物を硬化させた後の硬度を調整する目的で用いられる。   The group represented by the following formula (d-iii) is a group derived from the thermosetting resin (D) and is an optional component. The group represented by the formula (d-iii) is used for the purpose of improving the compatibility with the resin, the purpose of adjusting the viscosity, or the purpose of adjusting the hardness after curing the curable resin composition.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(d−iii)において、R4’’はそれぞれ独立して、メチル、エチル、ブチルおよびイソプロピルから選択される基であり、好ましくはメチルである。yは−OSi(R4’’−の繰り返しの数である。yは、1〜10を満たす平均値である。 In the formula (d-iii), each R 4 ″ is independently a group selected from methyl, ethyl, butyl and isopropyl, preferably methyl. y is the number of repetitions of -OSi (R4 " ) 2- . y is an average value satisfying 1 to 10.

A+2B+C+D=4であり、0.5≦A≦3.0であり、0.5≦2B≦2.0であり、0.1≦C≦2であり、0≦D≦1.0である。AからDの値は、本発明の化合物を密着付与材として適用する熱可塑性樹脂組成物の性質に合わせて任意に調整できる。   A + 2B + C + D = 4, 0.5 ≦ A ≦ 3.0, 0.5 ≦ 2B ≦ 2.0, 0.1 ≦ C ≦ 2, and 0 ≦ D ≦ 1.0. The values of A to D can be arbitrarily adjusted according to the properties of the thermoplastic resin composition to which the compound of the present invention is applied as an adhesion promoter.

熱硬化性樹脂(D)由来の基に関してさらに説明する。式(d−ii)または式(d−iii)で表される基を得るための反応試剤と反応の方法について説明する。   The group derived from the thermosetting resin (D) will be further described. A reaction reagent and a reaction method for obtaining a group represented by formula (d-ii) or formula (d-iii) will be described.

まず式(d−ii)で表される基または式(d−iii)で表される基を得るための反応試剤について説明する。   First, a reaction reagent for obtaining a group represented by the formula (d-ii) or a group represented by the formula (d-iii) will be described.

下記反応式に示すように、環状のオクタメチルテトラシクロシロキサン(D4)に対して、過剰モルのジビニルテトラジシロキサン(DVDS)とヘキサメチルジシロキサン(MM)を酸触媒存在下に平衡化反応を行い、化合物a、化合物b、化合物cの平衡化混合物を得て、式(d−ii)で表される基または式(d−iii)で表される基を得るための反応試剤とする。   As shown in the following reaction formula, an equimolar reaction of excess moles of divinyltetradisiloxane (DVDS) and hexamethyldisiloxane (MM) in the presence of an acid catalyst with respect to cyclic octamethyltetracyclosiloxane (D4). And an equilibrated mixture of compound a, compound b, and compound c is obtained, and used as a reaction reagent for obtaining a group represented by formula (d-ii) or a group represented by formula (d-iii).

Figure 0006323086
Figure 0006323086

前記反応式において、aは1〜20であり、bは1〜20であり、cは1〜20である。   In the reaction formula, a is 1 to 20, b is 1 to 20, and c is 1 to 20.

D4に対するDVDSとMMを合わせた反応のモル比は、2以上が好ましい。モル比が2以上であれば、生成するシロキサン鎖の分子量は短く、蒸留で除去可能な成分となり、後の精製工程にて、反応に関与しなかった余分の化合物a、化合物bおよび化合物cの除去が容易になる。   The molar ratio of the combined reaction of DVDS and MM with respect to D4 is preferably 2 or more. If the molar ratio is 2 or more, the molecular weight of the resulting siloxane chain is short and becomes a component that can be removed by distillation, and in the subsequent purification step, excess compound a, compound b, and compound c that were not involved in the reaction. Easy to remove.

式(d−ii)または式(d−iii)で表される基を得るための反応の方法について記載する。
本発明のイソシアヌル環骨格を有し且つエポキシ基を有する化合物であり且つ、前記式(d−ii)または式(d−iii)で表される基を持たせる反応として、熱硬化性樹脂(D)由来の基が式(c−i)で表される基である場合において説明する。
It describes about the method of reaction in order to obtain group represented by a formula (d-ii) or a formula (d-iii).
Thermosetting resin (D) which is a compound having an isocyanuric ring skeleton of the present invention and having an epoxy group and having a group represented by the above formula (d-ii) or formula (d-iii) ) -Derived group is a group represented by the formula (ci).

下記反応式に示すように、第1段目の反応おいて、SiH基を4つ持つダブルデッカー型の化合物であるDD−4Hと(c−i)であるMA−DGICを先にヒドロシリル化反応させ、式(c−i)で表される基を有する化合物をまず得る。なお式(c−i)の化合物は、四国化成株式会社よりMA−DGICとして販売されている。DD−4Hは国際公開第2004/024741号に記載された方法に従って合成することができる。   As shown in the following reaction formula, in the first reaction, DD-4H which is a double-decker compound having four SiH groups and MA-DGIC which is (ci) are first hydrosilylated. First, a compound having a group represented by the formula (ci) is obtained. The compound of the formula (ci) is sold as MA-DGIC by Shikoku Kasei Co., Ltd. DD-4H can be synthesized according to the method described in International Publication No. 2004/024741.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

前記反応式において、aiは0.1〜3.5である。   In the reaction formula, ai is 0.1 to 3.5.

次いで、下記反応式に示すように、2段目の反応において、上記1段目の化合物中のSiH基のモル数に対して、前記化合物a、化合物b、化合物cの混合物のビニル基のモル数が過剰になるようにヒドロシリル化反応させることにより、下記生成物を得る。   Next, as shown in the following reaction formula, in the second-stage reaction, the moles of vinyl groups in the mixture of the compound a, the compound b, and the compound c with respect to the number of moles of SiH groups in the first-stage compound. The following product is obtained by hydrosilylation reaction so that the number becomes excessive.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

前記反応式において、aiは、0.1≦ai≦3.5、Xiは、0≦2Xi≦2.0、Yiは0≦Yi≦3.0、Ziは0.1≦Zi≦3.5、Wiは0≦Wi≦3.0である。   In the above reaction formula, ai is 0.1 ≦ ai ≦ 3.5, Xi is 0 ≦ 2Xi ≦ 2.0, Yi is 0 ≦ Yi ≦ 3.0, Zi is 0.1 ≦ Zi ≦ 3.5. , Wi is 0 ≦ Wi ≦ 3.0.

ビニル基のモル数が過剰になるようにヒドロシリル化反応させるが、100℃以上、さらには120℃以上の高温度領域においても消失することはなく残存SiH基が残る。   The hydrosilylation reaction is performed so that the number of moles of vinyl groups is excessive, but the remaining SiH groups remain without disappearing even in a high temperature region of 100 ° C. or higher, and further 120 ° C. or higher.

反応に関与しなかった余分の化合物a、化合物b、化合物cは、薄膜蒸発器を用いた蒸留にて留去することができる。あるいは溶媒抽出法によっても除去することは可能である。あるいは発明者の任意により、そのまま残存させてもよい。薄膜蒸発器を用いた蒸留において余分の化合物a、化合物b、化合物cを留去させる場合の温度は、120℃〜180℃の範囲が好ましく、操作圧力は0.13kPa以下が好ましい。   Excess compound a, compound b, and compound c not involved in the reaction can be distilled off by distillation using a thin film evaporator. Alternatively, it can be removed by a solvent extraction method. Alternatively, it may be left as it is at the discretion of the inventor. The temperature when distilling off excess compound a, compound b, and compound c in distillation using a thin film evaporator is preferably in the range of 120 ° C. to 180 ° C., and the operating pressure is preferably 0.13 kPa or less.

溶媒抽出法において余分の化合物a、化合物b、化合物cを除去するための好ましい溶剤は、溶解力が大きく、沸点の比較的低い溶剤である。好ましい溶媒は、低級アルコールである。特に好ましい溶媒はメタノールである。さらに精製度を上げるためには、溶媒抽出操作の繰り返しを多くすればよい。   A preferable solvent for removing excess compound a, compound b, and compound c in the solvent extraction method is a solvent having a large dissolving power and a relatively low boiling point. A preferred solvent is a lower alcohol. A particularly preferred solvent is methanol. In order to further increase the degree of purification, the number of repeated solvent extraction operations may be increased.

次に式(d−iii)で表される基のみを得る方法について詳細に記載する。   Next, a method for obtaining only the group represented by the formula (d-iii) will be described in detail.

下記反応式に示すように、第1段目の反応おいて、DD−4HとMA−DGICを先にヒドロシリル化反応させ、式(c−i)で表される基を有する化合物をまず得る。   As shown in the following reaction formula, in the first stage reaction, DD-4H and MA-DGIC are first hydrosilylated to obtain a compound having a group represented by the formula (ci).

Figure 0006323086
Figure 0006323086

前記反応式において、aiiは0.1≦aii≦3.5である。   In the reaction formula, aii is 0.1 ≦ aii ≦ 3.5.

第2段目の反応において用いる反応剤は、式(G)で表される化合物を用いる。   As the reactant used in the second stage reaction, a compound represented by the formula (G) is used.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(G)において、R’およびR’’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、rは0〜100の整数である。R’とR’’は、メチルが好ましい。rは、1〜100であることが好ましく、2〜20であることがより好ましい。   In the formula (G), R ′ and R ″ are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and r is an integer of 0 to 100. R ′ and R ″ are preferably methyl. r is preferably 1 to 100, and more preferably 2 to 20.

下記反応式に示すように、上記1段目の化合物中のSiH基のモル数に対して、前記式(G)で表される化合物のビニル基のモル数が過剰になるようにヒドロシリル化反応させることにより、下記生成物を得る。   As shown in the following reaction formula, the hydrosilylation reaction is performed so that the number of moles of the vinyl group of the compound represented by the formula (G) is excessive with respect to the number of moles of the SiH group in the first-stage compound. To obtain the following product.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

前記反応式において、aiiは、0.1≦aii≦3.5、Xiiは、0≦2Xii≦2.0、Yiiは0≦Yii≦3.0、Ziiは0.1≦Zii≦3.5、rは1〜20である。   In the above reaction formula, aii is 0.1 ≦ aii ≦ 3.5, Xii is 0 ≦ 2Xii ≦ 2.0, Yii is 0 ≦ Yii ≦ 3.0, and Zii is 0.1 ≦ Zii ≦ 3.5. , R is 1-20.

前記式(G)で表される化合物のビニル基のモル数が過剰になるようにヒドロシリル化反応させるが、100℃以上、さらには120℃以上の高温度領域においても消失することはなく残存SiH基が残る。   The hydrosilylation reaction is performed so that the number of moles of the vinyl group of the compound represented by the formula (G) is excessive, but the residual SiH does not disappear even in a high temperature region of 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher. The group remains.

反応に関与しなかった余分のオルガノポリシロキサンは、ビニル基を有する化合物であるので熱硬化性可能な樹脂成分としてそのまま残存させてもよい。あるいは適宜溶媒抽出等で除去してもよい。余分のオルガノポリシロキサンを除去するための好ましい溶剤は、溶解力が大きく、沸点の比較的低い溶剤である。好ましい溶媒は、低級アルコールである。特に好ましい溶媒はメタノールである。さらに精製度を上げるためには、溶媒抽出操作の繰り返しを多くすればよい。   Since the excess organopolysiloxane not involved in the reaction is a compound having a vinyl group, it may be left as it is as a thermosetting resin component. Or you may remove by solvent extraction etc. suitably. A preferred solvent for removing excess organopolysiloxane is a solvent having a high dissolving power and a relatively low boiling point. A preferred solvent is a lower alcohol. A particularly preferred solvent is methanol. In order to further increase the degree of purification, the number of repeated solvent extraction operations may be increased.

また、熱硬化性樹脂(D)としては、例えば、下記式(D2)で表される化合物が挙げられる。   Moreover, as a thermosetting resin (D), the compound represented by a following formula (D2) is mentioned, for example.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(D2)において、R’’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、rは0〜100の整数である。aiiは、0.1≦aii≦3.5、Xiiは、0≦2Xii≦2.0、Yiiは0≦Yii≦3.0、Ziiは0.1≦Zii≦3.5である。   In formula (D2), R ″ is independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and r is an integer of 0 to 100. aii is 0.1 ≦ aii ≦ 3.5, Xii is 0 ≦ 2Xii ≦ 2.0, Yii is 0 ≦ Yii ≦ 3.0, and Zii is 0.1 ≦ Zii ≦ 3.5.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物全量基準で、硬化性樹脂(D)を1〜50質量%含有することが好ましく、2〜15質量%含有することがより好ましい。SiH基を有する熱硬化性樹脂(D)の配合割合を1質量%以上とすることにより、LEDハウジング基材との密着強度を向上させることが可能である。   The thermosetting resin composition of the present invention preferably contains 1 to 50% by mass, more preferably 2 to 15% by mass of the curable resin (D) based on the total amount of the thermosetting resin composition. . By setting the blending ratio of the thermosetting resin (D) having a SiH group to 1% by mass or more, it is possible to improve the adhesion strength with the LED housing substrate.

なお、熱硬化性樹脂(D)におけるエポキシ部は、任意に用いることができるものであることから、エポキシ部の合計が熱硬化性樹脂組成物全量基準で0.01〜10質量%となるような質量部で含有することが好ましく0.05〜5質量%となるような質量部で含有することがより好ましい。   In addition, since the epoxy part in a thermosetting resin (D) can be used arbitrarily, the sum total of an epoxy part will be 0.01-10 mass% on the thermosetting resin composition whole quantity reference | standard. It is preferable to contain by a mass part, and it is more preferable to contain by a mass part which will be 0.05-5 mass%.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて(E)アルケニル基を2個以上有するオルガノシロキサン化合物(化合物E)を含んでもよい。本発明のアルケニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとしては、下記一般式(3)で示される化合物が挙げられる。   The thermosetting resin composition of the present invention may contain (E) an organosiloxane compound (compound E) having two or more alkenyl groups as required. Examples of the organopolysiloxane having two or more alkenyl groups of the present invention include compounds represented by the following general formula (3).

Figure 0006323086
Figure 0006323086

前記式(3)において、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、nは、−OSi(R−の繰り返しの数であり、1〜50を満たす平均値である。 In the formula (3), R 8 and R 9 are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and n is —OSi (R 9 ) 2 —. The average value satisfying 1 to 50.

化合物(E)は、本発明の硬化組成物の粘度の調整や、硬化物に強度または柔軟性を補佐するための成分である。前記式(3)において、R及びRが、全て炭素数1〜4のアルキルの場合は、好ましくはメチルが用いられ、下記一般式(4)で表される。 The compound (E) is a component for adjusting the viscosity of the cured composition of the present invention and assisting the cured product with strength or flexibility. In the formula (3), when R 8 and R 9 are all alkyl having 1 to 4 carbon atoms, methyl is preferably used and is represented by the following general formula (4).

Figure 0006323086
Figure 0006323086

前記式(4)において、n’は、1〜20を満たす平均値である。n’が20以下であると本発明の硬化組成物との相溶性が良好となり好ましい。柔軟性を付与する意味では、5以上が好ましく、ガスバリアの観点からは、10以下が好ましい。柔軟性とガスバリアの観点から5〜8が特に好ましい。   In the formula (4), n ′ is an average value satisfying 1-20. When n 'is 20 or less, the compatibility with the cured composition of the present invention is good, which is preferable. In terms of imparting flexibility, 5 or more is preferable, and 10 or less is preferable from the viewpoint of a gas barrier. 5 to 8 is particularly preferable from the viewpoints of flexibility and gas barrier.

また、前記式(3)においてR及びRの少なくとも一部がフェニル基である下記一般式、(5)または(6)も好適に用いることができる。 Moreover, the following general formula (5) or (6) in which at least a part of R 8 and R 9 in the formula (3) is a phenyl group can also be suitably used.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

前記式(5)において、xは1〜50を満たす平均値であり、好ましくは1〜20である。   In said Formula (5), x is an average value which satisfy | fills 1-50, Preferably it is 1-20.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

前記式(6)において、y+zは、1〜50を満たす平均値であり、屈折率とガスバリアの観点からy/(y+z)<0.5を満たす値が好ましい。硬化物に柔軟性を付与する意味では、y+zが10以上であることが好ましい。   In the formula (6), y + z is an average value satisfying 1 to 50, and a value satisfying y / (y + z) <0.5 is preferable from the viewpoint of refractive index and gas barrier. In the sense of imparting flexibility to the cured product, y + z is preferably 10 or more.

これら化合物(E)は、任意により組み合わせて使用してもよい。   These compounds (E) may be optionally used in combination.

化合物(E)は、公知慣用の方法により製造することができる。式(4)で表されるオルガノシロキサン化合物は、例えば、テトラメチルビニルジシロキサンとオクタメチルシクロテトラシロキサンとを活性白土等の固体酸触媒存在下に平衡化反応させた後、ろ過により固体酸触媒を除去し、その後、0.13kPa程度の真空条件、100〜120℃の温度条件下で低沸カットさせることにより製造できる。式(5)または式(6)で表されるオルガノシロキサン化合物も、公知慣用の方法により製造できる。また、工業的にGELEST社より入手可能である。   Compound (E) can be produced by a known and commonly used method. The organosiloxane compound represented by the formula (4) is obtained by, for example, subjecting tetramethylvinyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane to an equilibration reaction in the presence of a solid acid catalyst such as activated clay and then filtering the solid acid catalyst. Then, low boiling cutting is performed under a vacuum condition of about 0.13 kPa and a temperature condition of 100 to 120 ° C. The organosiloxane compound represented by formula (5) or formula (6) can also be produced by a known and commonly used method. It is also industrially available from GELEST.

化合物(E)の配合割合は、本発明の全熱硬化性樹脂組成物中、1質量〜10質量%以下とすることが好ましい。化合物(E)の配合割合を上記の範囲とすることにより、耐熱性が向上し、樹脂強度が高まるため、好ましい。   The compounding ratio of the compound (E) is preferably 1% by mass to 10% by mass or less in the total thermosetting resin composition of the present invention. By making the compounding ratio of the compound (E) within the above range, heat resistance is improved and resin strength is increased, which is preferable.

(F)片末端にのみSiH基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン化合物(化合物(F))について説明する。
化合物(F)としては、下記式(2)で表される化合物が挙げられる。
(F) A linear organopolysiloxane compound (compound (F)) having a SiH group only at one end will be described.
Examples of the compound (F) include a compound represented by the following formula (2).

Figure 0006323086
Figure 0006323086

式(2)において、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル及びシクロヘキシルから選択される基であり、メチルまたはブチルが好ましい。mは−OSi(R−の繰り返しの数である。mは、1〜20を満たす平均値であり、2〜15を満たす平均値であることが好ましい。 In the formula (2), R 6 and R 7 are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl and cyclohexyl, preferably methyl or butyl. m is the number of repetitions of -OSi (R 7 ) 2- . m is an average value satisfying 1 to 20, and preferably an average value satisfying 2 to 15.

化合物(F)は、硬度を低くするために用いる。すなわち前記熱硬化性樹脂(A)が有するアルケニル基と反応させることができ、このことにより全体の架橋密度を下げることにより、低硬度化を達成できる。   The compound (F) is used for reducing the hardness. That is, it can be made to react with the alkenyl group which the said thermosetting resin (A) has, and low hardness can be achieved by reducing the whole crosslinking density by this.

化合物(F)の配合が多い程、硬化物の硬度を下げることができる。本発明の熱硬化性樹脂組成物における(F)の含有量は、硬化物の屈折率が1.5以上を保てるになるような含有量であることが好ましい。硬化物の屈折率が1.5以上を保てるような含有量とすることにより、LED用封止剤として光の取り出し効率が向上し、密着性を高めることができる。   The more compound (F) is blended, the lower the hardness of the cured product. The content of (F) in the thermosetting resin composition of the present invention is preferably such a content that the cured product can maintain a refractive index of 1.5 or more. By setting the content such that the refractive index of the cured product can maintain 1.5 or more, light extraction efficiency as an LED sealing agent can be improved, and adhesion can be enhanced.

化合物(F)の数平均分子量は、148〜2000であることが好ましく、400〜1000であることがより好ましい。(F)の数平均分子量が400以下であると、揮発性が高くなり硬化組成物を配合し硬化させる段階で気散する恐れがあるため400以上の数平均分子量がより好ましい。   The number average molecular weight of the compound (F) is preferably 148 to 2000, and more preferably 400 to 1000. When the number average molecular weight of (F) is 400 or less, the volatility is high, and there is a risk of dispersal in the stage of blending and curing the cured composition, so a number average molecular weight of 400 or more is more preferable.

また、化合物(F)の数平均分子量を2000以下とすることにより、SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとの反応物であって、SiH基とアルケニル基とを含む熱硬化性樹脂との相溶性を保ち、硬化物の透明性を保ち、また、密着性能を保つことが可能である。   Further, by setting the number average molecular weight of the compound (F) to 2000 or less, a reaction product of a silsesquioxane having a SiH group and an organopolysiloxane having two alkenyl groups, wherein the SiH group and the alkenyl group It is possible to maintain compatibility with the thermosetting resin containing, maintain the transparency of the cured product, and maintain adhesion performance.

化合物(F)の配合割合は、本発明の全熱硬化性樹脂組成物中、2〜20質量%とすることが好ましく、5〜15質量%とすることがより好ましい。化合物(F)の配合割合を2質量%以上とすることにより、硬化物の硬度をD45以下に下げることが可能である。また、化合物(F)の配合割合を20質量%以下とすることにより、硬化物の耐熱性、耐UV性、密着性等の諸特性を保持させながら効果的に低硬度の硬化物を得ることが可能である。   The compounding ratio of the compound (F) is preferably 2 to 20% by mass and more preferably 5 to 15% by mass in the total thermosetting resin composition of the present invention. By setting the compounding ratio of the compound (F) to 2% by mass or more, the hardness of the cured product can be lowered to D45 or less. Moreover, by setting the compounding ratio of the compound (F) to 20% by mass or less, a cured product having a low hardness can be obtained effectively while maintaining various properties such as heat resistance, UV resistance, and adhesion of the cured product. Is possible.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、チクソ性の付与や光学特性付与といった任意の目的に応じて、さらに無機化合物を分散させて用いる事ができる。使用する無機化合物に限定はなく、公知の材料が使用できる。また、無機化合物の構造は、アモルファスでもよく、結晶をなしていてもよい。分散させる無機化合物の組み合わせも限定されない。無機化合物としては、各種の蛍光体や金属酸化物を好適に用いることができる。勿論、蛍光体や金属酸化物を併用して使用してもよい。   The thermosetting resin composition of the present invention can be used by further dispersing an inorganic compound in accordance with any purpose such as imparting thixotropy or imparting optical properties. There is no limitation in the inorganic compound to be used, A well-known material can be used. Further, the structure of the inorganic compound may be amorphous or may be crystallized. The combination of inorganic compounds to be dispersed is not limited. As the inorganic compound, various phosphors and metal oxides can be suitably used. Of course, phosphors and metal oxides may be used in combination.

本発明の熱硬化性樹脂組成物に蛍光体を分散させることで、発光機能を有し、LED用の組成物として用いることができる。本発明の熱硬化性樹脂組成物における蛍光体の含有量は、1〜90質量%であることが好ましく、2〜50質量%であることがより好ましい。   By dispersing the phosphor in the thermosetting resin composition of the present invention, it has a light emitting function and can be used as a composition for LED. The phosphor content in the thermosetting resin composition of the present invention is preferably 1 to 90% by mass, and more preferably 2 to 50% by mass.

本発明の熱硬化性樹脂組成物に用いる事ができる蛍光体に制限はない。また、組成物中における蛍光体の濃度分布が均一であっても、異なっていてもよい。使用する蛍光体の種類、または蛍光体の濃度分布の有無およびその分布の条件は、LEDの使用環境や用途、目的に応じて決定すればよい。   There is no restriction | limiting in the fluorescent substance which can be used for the thermosetting resin composition of this invention. Further, the concentration distribution of the phosphor in the composition may be uniform or different. The type of phosphor to be used, the presence / absence of the phosphor concentration distribution, and the conditions for the distribution may be determined according to the use environment, application, and purpose of the LED.

蛍光体は、LEDチップから放出される青色光、紫色光、紫外光を吸収して波長を変換し、LEDチップの光と異なる波長の赤、橙色、黄色、緑色、青色領域の波長の光を放出するものである。これにより、LEDチップから放出される光の一部と、蛍光体から放出される光の一部とが混合して、白色を含む多色系のLEDが得られる。具体的には、青色系LEDにLEDからの光によって黄色系の発光色を発光する蛍光体を光学的に組み合わせることによって、単一のLEDチップを用いて白色系を発光させることができる。   The phosphor absorbs blue light, violet light, and ultraviolet light emitted from the LED chip, converts the wavelength, and emits red, orange, yellow, green, and blue light with wavelengths different from those of the LED chip. To be released. Thereby, a part of the light emitted from the LED chip and a part of the light emitted from the phosphor are mixed to obtain a multicolor LED including white. Specifically, a white LED can be emitted using a single LED chip by optically combining a blue LED with a phosphor that emits a yellow emission color by light from the LED.

上述のような蛍光体には、緑色に発光する蛍光体、青色に発光する蛍光体、黄色に発光する蛍光体、赤色に発光する蛍光体等の種々の蛍光体がある。本発明に用いられる具体的な蛍光体としては、有機蛍光体、無機蛍光体、蛍光顔料、蛍光染料等公知の蛍光体が挙げられる。有機蛍光体としては、アリルスルホアミド・メラミンホルムアルデヒド共縮合染色物やペリレン系蛍光体等を挙げることができ、長期間使用可能な点からペリレン系蛍光体が好ましく用いられる。本発明に特に好ましく用いられる蛍光物質としては、無機蛍光体が挙げられる。以下に本発明に用いられる無機蛍光体について記載する。   The phosphors as described above include various phosphors such as a phosphor that emits green light, a phosphor that emits blue light, a phosphor that emits yellow light, and a phosphor that emits red light. Specific phosphors used in the present invention include known phosphors such as organic phosphors, inorganic phosphors, fluorescent pigments, and fluorescent dyes. Examples of organic phosphors include allylsulfoamide / melamine formaldehyde co-condensed dyes and perylene phosphors. Perylene phosphors are preferably used because they can be used for a long period of time. Examples of the fluorescent material that is particularly preferably used in the present invention include inorganic phosphors. The inorganic phosphor used in the present invention is described below.

緑色に発光する蛍光体として、例えば、[SrAl:Eu]、[YSiO:Ce,Tb]、[MgAl1119:Ce,Tb]、[SrAl1225:Eu]、[(Mg、Ca、Sr、Baのうち少なくとも1以上)Ga:Eu]がある。 Examples of phosphors that emit green light include [SrAl 2 O 4 : Eu], [Y 2 SiO 5 : Ce, Tb], [MgAl 11 O 19 : Ce, Tb], and [Sr 7 Al 12 O 25 : Eu. ] [(At least one of Mg, Ca, Sr, Ba) Ga 2 S 4 : Eu].

青色に発光する蛍光体として、例えば、[Sr(POCl:Eu]、[(SrCaBa)(POCl:Eu]、[(BaCa)(POCl:Eu]、[(Mg、Ca、Sr、Baのうち少なくとも1以上)Cl:Eu,Mn]、[(Mg、Ca、Sr、Baのうち少なくとも1以上)(POCl:Eu,Mn]がある。 Examples of phosphors that emit blue light include [Sr 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu], [(SrCaBa) 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu], and [(BaCa) 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu], [(at least one of Mg, Ca, Sr, Ba) 2 B 5 O 9 Cl: Eu, Mn], [(at least one of Mg, Ca, Sr, Ba) (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu, Mn].

緑色から黄色に発光する蛍光体として、少なくともセリウムで賦活されたイットリウム・アルミニウム酸化物蛍光体、少なくともセリウムで賦括されたイットリウム・ガドリニウム・アルミニウム酸化物蛍光体、少なくともセリウムで賦活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット酸化物蛍光体、及び、少なくともセリウムで賦活されたイットリウム・ガリウム・アルミニウム酸化物蛍光体などがある(いわゆるYAG系蛍光体)。具体的には、[Ln12:R(Lnは、Y、Gd、Laから選ばれる少なくとも1以上であり、Mは、Al、Caの少なくともいずれか一方を含み、Rは、ランタノイド系である。)]、[(Y1−xGax)(Al1−yGay)12:R(Rは、Ce、Tb、Pr、Sm、Eu、Dy、Hoから選ばれる少なくとも1以上であり、0<Rx<0.5、0<y<0.5である。)]を使用することができる。
赤色に発光する蛍光体として、例えば、[YS:Eu]、[LaS:Eu]、[Y:Eu]、[GdS:Eu]がある。
As phosphors emitting green to yellow, at least cerium-activated yttrium / aluminum oxide phosphors, at least cerium-enriched yttrium / gadolinium / aluminum oxide phosphors, at least cerium-activated yttrium / aluminum There are garnet oxide phosphors and at least cerium activated yttrium gallium aluminum oxide phosphors (so-called YAG phosphors). Specifically, [Ln 3 M 5 O 12 : R (Ln is at least one selected from Y, Gd, La, M includes at least one of Al and Ca, and R is a lanthanoid a system)], [(Y1-xGax ) 3 (Al1-yGay) 5 O 12:. R (R is at least one or more of Ce, Tb, Pr, Sm, Eu, Dy, selected from Ho, 0 <Rx <0.5, 0 <y <0.5))].
Examples of phosphors that emit red light include [Y 2 O 2 S: Eu], [La 2 O 2 S: Eu], [Y 2 O 3 : Eu], and [Gd 2 O 2 S: Eu]. .

また、現在主流の青色LEDに対応し発光する蛍光体としては、[Y(Al,Ga)12:Ce,(Y,Gd)Al12:Ce,LuAl12:Ce,Yl512:Ce]などのYAG系蛍光体、[TbAl12:Ce]などのTAG系蛍光体、[(Ba,Sr)SiO:Eu]系蛍光体や[CaScSi12:Ce]系蛍光体、[(Sr,Ba,Mg)SiO:Eu]などのシリケート系蛍光体、[(Ca,Sr)Si:Eu]、[(Ca,Sr)AlSiN:Eu]、[CaSiAlN:Eu]などのナイトライド系蛍光体、[Cax(Si,Al)12(O,N)16:Eu]などのオキシナイトライド系蛍光体、さらには[(Ba,Sr,Ca)Si:Eu]系蛍光体、[CaMgSi16Cl:Eu]系蛍光体、[SrAl:Eu,SrAl1425:Eu]などの蛍光体が挙げられる。 Moreover, as a fluorescent substance corresponding to the blue LED currently in the mainstream, [Y 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Ce, (Y, Gd) 3 Al 5 O 12 : Ce, Lu 3 Al 5 O 12 : YAG phosphor such as Ce, Y 3 A 15 O 12 : Ce], TAG phosphor such as [Tb 3 Al 5 O 12 : Ce], [(Ba, Sr) 2 SiO 4 : Eu] phosphor Body, [Ca 3 Sc 2 Si 3 O 12 : Ce] phosphor, silicate phosphor such as [(Sr, Ba, Mg) 2 SiO 4 : Eu], [(Ca, Sr) 2 Si 5 N 8 : Eu], [(Ca, Sr) AlSiN 3 : Eu], nitride phosphors such as [CaSiAlN 3 : Eu], and oxy such as [Cax (Si, Al) 12 (O, N) 16 : Eu] Nitride phosphors, and [ Ba, Sr, Ca) Si 2 O 2 N 2: Eu] phosphor, [Ca 8 MgSi 4 O 16 Cl 2: Eu] phosphor, [SrAl 2 O 4: Eu , Sr 4 Al 14 O 25: And a phosphor such as Eu].

これらの中では、YAG系蛍光体、TAG系蛍光体、シリケート系蛍光体が、発光効率
や輝度などの点で好ましく用いられる。また、これら以外にも、用途や目的とする発光色に応じて公知の蛍光体を用いることができる。
Among these, YAG-based phosphors, TAG-based phosphors, and silicate-based phosphors are preferably used in terms of light emission efficiency and luminance. In addition to these, known phosphors can be used depending on the intended use and the intended emission color.

次に、無機化合物が金属酸化物である場合について説明する。金属酸化物として、シリカ,アルミナ、酸化イットリウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどが好適に用いられる。
本発明の熱硬化性樹脂組成物における金属酸化物の割合は、熱硬化性樹脂組成物全量に対する質量比で1〜70質量%であることが好ましく、より好ましくは1〜40質量%、更に好ましくは1〜20質量%である。
Next, a case where the inorganic compound is a metal oxide will be described. As the metal oxide, silica, alumina, yttrium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide and the like are preferably used.
The ratio of the metal oxide in the thermosetting resin composition of the present invention is preferably 1 to 70% by mass, more preferably 1 to 40% by mass, and still more preferably the mass ratio with respect to the total amount of the thermosetting resin composition. Is 1-20 mass%.

本発明の熱硬化性樹脂組成物に酸化チタンや酸化アルミニウムを使用した場合にはリフレクタ用材料としても好適に用いうる。リフレクタ材料に関しては、ポリフタルアミド樹脂が幅広く利用されている。しかしながらポリフタルアミド樹脂は長期間使用による劣化、特に変色が起こりやすいことが指摘されており、本発明の熱硬化性樹脂組成物はこの問題を解決できる。   When titanium oxide or aluminum oxide is used in the thermosetting resin composition of the present invention, it can be suitably used as a reflector material. Regarding the reflector material, polyphthalamide resin is widely used. However, it has been pointed out that polyphthalamide resins are liable to deteriorate, especially discoloration, due to long-term use, and the thermosetting resin composition of the present invention can solve this problem.

また、例えばシリカでは、天然に産する珪石を細粒化(天然シリカ)したものを使用してもよく、産業的に合成されたシリカ(合成シリカ)を使用してもよい。天然シリカの場合、結晶であるため結晶軸を持つ。このため、結晶由来の光学的な特徴を期待することができるものの、比重が合成シリカと比べてやや高いため、熱硬化性樹脂組成物中での分散に影響する場合がある。また、天然物を粉砕して得る場合、不定形状の粒子であったり、粒径分布が広い材料となる場合がある。   In addition, for example, as silica, a naturally produced silica stone (natural silica) may be used, or industrially synthesized silica (synthetic silica) may be used. Since natural silica is a crystal, it has a crystal axis. For this reason, although the optical characteristic derived from a crystal | crystallization can be anticipated, since specific gravity is a little high compared with a synthetic silica, it may influence the dispersion | distribution in a thermosetting resin composition. Further, when a natural product is pulverized, it may be an irregularly shaped particle or a material having a wide particle size distribution.

合成シリカは、湿式合成シリカ及び乾式合成シリカがあるが、本発明では特に使用の限定はない。ただし、合成シリカでは製法に関わらず結晶水を持つ場合があり、この結晶水が熱硬化性樹脂組成物若しくは硬化物、またはLED素子等に何らかの影響を与える可能性がある場合は、結晶水数も考慮して選択することが好ましい。   Synthetic silica includes wet synthetic silica and dry synthetic silica, but the use is not particularly limited in the present invention. However, synthetic silica may have water of crystallization regardless of the production method, and if this water of crystallization may affect the thermosetting resin composition or cured product, LED element, etc., the number of water of crystallization It is preferable to select in consideration of the above.

合成シリカは、結晶ではなくアモルファスであるため、結晶軸がなく、結晶由来の光学的な特徴はあまり期待できない。しかしながら、粒子分布の制御のほか、粒子径を極めて小さくできるなどの特徴を活かすことができる。   Since synthetic silica is amorphous rather than crystalline, it has no crystal axis and optical characteristics derived from crystals cannot be expected. However, in addition to controlling the particle distribution, it is possible to take advantage of features such as extremely small particle size.

特に、ヒュームドシリカはナノオーダーの粒子径であり、粒子の分散性に優れている。さらに同じ重さで比較した場合は、粒子径が小さいほど表面積の総和が大きくなることから、光の反射方向がより多様化するので、より好ましく用いることができる。   In particular, fumed silica has a nano-order particle size and excellent particle dispersibility. Further, when compared with the same weight, the smaller the particle diameter, the larger the total surface area, so that the light reflection direction becomes more diversified, so that it can be used more preferably.

また、一般にシリカは表面積が大きく、かつ表面に存在するシラノールの効果により親水性の材料(親水性シリカ)であるが、化学修飾により疎水性シリカとすることもできる。どちらの性質のシリカを使用するかは、目的により選択されるが、本発明においては、実験的な検証では親水性シリカの使用が好ましい。   In general, silica has a large surface area and is a hydrophilic material (hydrophilic silica) due to the effect of silanol present on the surface, but can also be made into hydrophobic silica by chemical modification. Which type of silica is used is selected depending on the purpose, but in the present invention, it is preferable to use hydrophilic silica in experimental verification.

本発明の熱硬化性樹脂組成物の混合調製方法としては特に限定されず、例えば、ホモディスパー、ホモミキサー、万能ミキサー、プラネタリウムミキサー、ニーダー、三本ロールまたはビーズミル等の混合機を用いて、常温または加温下で、上述した硬化促進剤、シリコーン樹脂、および、必要に応じて上記熱硬化剤、酸化防止剤等の各所定量を混合する方法が挙げられる。   The method for preparing and mixing the thermosetting resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, using a mixer such as a homodisper, a homomixer, a universal mixer, a planetarium mixer, a kneader, a triple roll or a bead mill, Or the method of mixing each predetermined amount of the said hardening accelerator, a silicone resin, and the said thermosetting agent, antioxidant, etc. as needed under heating is mentioned.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、保存安定性に非常に優れており、温度80℃の環境下で30日間保存した際の粘度上昇率が50%以内である。なお、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、熱硬化性であり、容器中での保存のため、硬化に影響しない湿度条件は考慮しない。粘度上昇率が50%以内であれば、柔らかい状態を維持しており、この後の成型作業などに影響を与えることがなく好ましい。今後、柔らかい状態を半硬化状態と表記することがある。   The thermosetting resin composition of the present invention is very excellent in storage stability, and has a viscosity increase rate of 50% or less when stored for 30 days in an environment at a temperature of 80 ° C. In addition, the thermoplastic resin composition of the present invention is thermosetting and does not consider humidity conditions that do not affect curing because of storage in a container. If the rate of increase in viscosity is within 50%, the soft state is maintained, which is preferable without affecting the subsequent molding operation. In the future, the soft state may be referred to as a semi-cured state.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、半硬化状態で成型し、任意の形状にすることができる。成型方法に制限はなく、例えば熱プレス成型やフィルムコーター、押出し成型などの成形機、またスクリーン印刷、グラビア印刷、平版印刷などの印刷法・・・・が挙げられる。また上記成型物は、プリプレグのように再加工し、次工程で用いる事ができる。例えば、塗膜状またはシート状のような平面状に成型されたプリプレグは、これを細かく切り出して、チップのような形状として封止や接着用の材料にすることが可能である。また、射出成型やコンプレッション成型法を用いることによって、反射機能を備えたLEDハウジング材料、リフレクタ材料にすることが可能である。なお、本書において、形状を問わず熱硬化性樹脂組成物を成型したものを、プリプレグと表現する。   The thermosetting resin composition of the present invention can be molded in a semi-cured state into an arbitrary shape. There is no limitation on the molding method, and examples thereof include molding machines such as hot press molding, film coater, and extrusion molding, and printing methods such as screen printing, gravure printing, and lithographic printing. The molded product can be reprocessed like a prepreg and used in the next step. For example, a prepreg molded into a flat shape such as a coating film or a sheet can be cut out finely to form a chip-like shape as a material for sealing or adhesion. Further, by using an injection molding or a compression molding method, it is possible to obtain an LED housing material or a reflector material having a reflection function. In addition, in this book, what shape | molded the thermosetting resin composition irrespective of the shape is expressed as a prepreg.

上記、塗膜状またはシート状のような平面状に成型されたプリプレグの厚みは、蛍光体含有量と、所望の光学特性から決められる。具体的には、塗膜状であれば0.1μm以上であり、シート状であれば10μm〜3000μm程度が成型可能である。光学特性・耐熱性を高める観点からは、蛍光体シートの膜厚は1000μm以下であることが好ましく、200μm以下であることがより好ましく、100μm以下であることがさらに好ましい。蛍光体シートを1000μm以下の膜厚にすることによって、バインダ樹脂による光吸収や光散乱を提言することができるので、光学的に優れた蛍光体シートとなる。   The thickness of the prepreg molded into a flat shape such as a coating film or a sheet is determined from the phosphor content and desired optical characteristics. Specifically, it is 0.1 μm or more in the case of a coating film, and about 10 μm to 3000 μm can be molded in the case of a sheet. From the viewpoint of improving optical properties and heat resistance, the thickness of the phosphor sheet is preferably 1000 μm or less, more preferably 200 μm or less, and even more preferably 100 μm or less. By setting the phosphor sheet to a film thickness of 1000 μm or less, light absorption and light scattering by the binder resin can be proposed, so that the phosphor sheet is optically excellent.

本発明の熱硬化性樹脂組成物またはこのプリプレグを加熱処理し、目的の物品(硬化物)を得る。硬化物を得る条件としては、温度は60〜200℃であることが好ましく、好ましくは80〜160℃であることがより好ましい。また、時間は1時間〜24時間であることが好ましく、経済的な観点からは、2時間〜5時間であることがより好ましい。
なお、物品は、それ自体が1つの製品として機能するものの他、例えば封止材のように特定の構造体中に存在し、部材の一部として硬化してなるものも物品に含まれる。
The thermosetting resin composition of this invention or this prepreg is heat-processed, and the target article (cured material) is obtained. As conditions for obtaining a cured product, the temperature is preferably 60 to 200 ° C, more preferably 80 to 160 ° C. Moreover, it is preferable that time is 1 to 24 hours, and it is more preferable that it is 2 to 5 hours from an economical viewpoint.
In addition to articles that function as a single product, articles that exist in a specific structure such as a sealing material and are cured as a part of a member are also included in the article.

本発明の熱硬化性樹脂組成物またはこのプリプレグの用途は特に限定されないが、例えば、封止剤、ハウジング材、リード電極または放熱板等に接続するためのダイボンド材、発光ダイオード等の光半導体素子の発光素子をフリップチップ実装した場合のアンダーフィル材、発光素子上のパッシベーション膜として用いることができる。なかでも、光半導体素子からの発光による光を効率よく取り出すことのできる光半導体装置を製造できることから、封止剤、リフレクタ材料、蛍光体シート、アンダーフィル材またはダイボンド材として好適に用いることができる。   The use of the thermosetting resin composition or the prepreg of the present invention is not particularly limited. For example, a die bonding material for connecting to a sealant, a housing material, a lead electrode, a heat sink, or the like, an optical semiconductor element such as a light emitting diode When the light emitting element is flip-chip mounted, it can be used as an underfill material or a passivation film on the light emitting element. Especially, since an optical semiconductor device capable of efficiently extracting light generated by light emission from the optical semiconductor element can be manufactured, it can be suitably used as a sealant, a reflector material, a phosphor sheet, an underfill material, or a die bond material. .

本発明の熱硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物の硬度は、D硬度で45以下、A硬度で30以上の範囲であることが好ましい。また屈折率は1.5以上の高屈折率であることが好ましい。屈折率が1.5以上であると、LEDの光取り出し効率に優れた硬化物となる。   The hardness of the cured product obtained by curing the thermosetting resin composition of the present invention is preferably in the range of 45 or less in D hardness and 30 or more in A hardness. The refractive index is preferably a high refractive index of 1.5 or more. When the refractive index is 1.5 or more, the cured product is excellent in LED light extraction efficiency.

本発明の熱硬化性樹脂組成物で発光素子を封止する方法としては特に限定されず、例えば、モールド型枠中に本発明の光半導体用組成物を予め注入し、そこに発光素子が固定されたリードフレーム等を浸漬した後、硬化させる方法、および発光素子を挿入した型枠中に本発明の光半導体用組成物を注入し硬化する方法が挙げられる。   The method for sealing the light emitting element with the thermosetting resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, the composition for optical semiconductor of the present invention is injected in advance into a mold mold, and the light emitting element is fixed thereto. Examples include a method of immersing the prepared lead frame and then curing, and a method of injecting and curing the composition for optical semiconductors of the present invention into a mold in which a light emitting element is inserted.

本発明の熱硬化性樹脂組成物を注入する方法としては、例えば、ディスペンサーによる注入、トランスファー成形および射出成形が挙げられる。更に、その他の封止方法としては、例えば、本発明の光半導体用組成物を発光素子上へ滴下、孔版印刷、スクリーン印刷、および、マスクを介して塗布し硬化させる方法、および底部に発光素子を配置したカップ等に本発明の光半導体用組成物をディスペンサー等により注入し、硬化させる方法が挙げられる。   Examples of the method for injecting the thermosetting resin composition of the present invention include injection by a dispenser, transfer molding, and injection molding. Further, as other sealing methods, for example, the optical semiconductor composition of the present invention is dropped onto a light emitting device, stencil printing, screen printing, a method of applying and curing through a mask, and a light emitting device on the bottom. A method of injecting the composition for optical semiconductor of the present invention into a cup or the like with a dispenser or the like and curing it.

本発明の熱硬化性樹脂組成物を封止剤として含む光半導体素子もまた、本発明の1つである。   An optical semiconductor element containing the thermosetting resin composition of the present invention as a sealant is also one aspect of the present invention.

本発明の熱硬化性樹脂組成物の硬化物は、例えば、透明性、耐熱性、耐熱黄変性などに優れている。そのため、硬化物を含む物品は、半導体の封止材、光半導体の封止材、蛍光体シート、リフレクタ、絶縁膜、シール剤、光学レンズなどの用途に好適に用いることができる。また、透明材料、光学材料、光学フィルム、光学シート、接着剤、電子材料、絶縁材料、層間絶縁膜、塗料、インク、コーティング材料、成形材料、ポッティング材料、液晶シール剤、表示デバイス用シール剤、太陽電池封止材料、レジスト材料、カラーフィルター、電子ペーパー用材料、ホログラム用材料、太陽電池用材料、燃料電池用材料、表示材料、記録材料、防水材料、防湿材料、電池用固体電解質、ガス分離膜に用いることができる。また、他の樹脂への添加剤等に用いることができる。   The cured product of the thermosetting resin composition of the present invention is excellent in, for example, transparency, heat resistance, and heat yellowing. Therefore, an article containing a cured product can be suitably used for applications such as a semiconductor sealing material, an optical semiconductor sealing material, a phosphor sheet, a reflector, an insulating film, a sealant, and an optical lens. Also, transparent materials, optical materials, optical films, optical sheets, adhesives, electronic materials, insulating materials, interlayer insulating films, paints, inks, coating materials, molding materials, potting materials, liquid crystal sealants, display device sealants, Solar cell sealing material, resist material, color filter, electronic paper material, hologram material, solar cell material, fuel cell material, display material, recording material, waterproof material, moisture proof material, battery solid electrolyte, gas separation Can be used for membranes. Moreover, it can use for the additive etc. to other resin.

本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって限定されない。   The present invention will be described in more detail based on examples. The present invention is not limited to the following examples.

<数平均分子量、重量平均分子量の測定>
本発明で合成したポリマーの数平均分子量と重量平均分子量は、次のように測定した。
日本分光(株)製の高速液体クロマトグラフシステムCO−2065plusを使用し、試料濃度1質量%のTHF溶液20μLを分析サンプルとして、カラム:Shodex KF804L[昭和電工(株)製](直列に2本接続)、カラム温度:40℃、検出器:RI、溶離液:THF、および溶離液流速:1.0mL毎分でGPC法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めた。
<Measurement of number average molecular weight and weight average molecular weight>
The number average molecular weight and the weight average molecular weight of the polymer synthesized in the present invention were measured as follows.
Using a high-performance liquid chromatograph system CO-2065plus manufactured by JASCO Corporation and using 20 μL of a THF solution having a sample concentration of 1 mass% as an analysis sample, a column: Shodex KF804L [manufactured by Showa Denko KK] (two in series) Connection), column temperature: 40 ° C., detector: RI, eluent: THF, eluent flow rate: 1.0 mL per minute, measured by GPC method, and determined by polystyrene conversion.

実施例で使用した試薬等は下記の通りである。
FM−2205(両末端にビニル基を有する数平均分子量が700のポリジメチルシロキサン):MA−DGIC(モノアリルジグリシジルイソアヌレート):四国化成工業株式会社製
S210(ビニルトリメトキシシラン):JNC株式会社製
The reagents used in the examples are as follows.
FM-2205 (polydimethylsiloxane having vinyl groups at both ends and having a number average molecular weight of 700): MA-DGIC (monoallyl diglycidyl isoannulate): S210 (vinyltrimethoxysilane) manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd .: JNC Made by Co., Ltd.

(A)SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとの反応物であって、SiH基とアルケニル基とを含む熱硬化性樹脂
本発明の(A)成分である、SiH基とアルケニル基とを含む熱硬化性樹脂として、国際公開2011/145638号に開示されている方法で製造した、下記シルセスキオキサン誘導体ベースポリマー1またはシルセスキオキサン誘導体ベースポリマー2を用いた。
(A) Thermosetting resin comprising a silsesquioxane having a SiH group and an organopolysiloxane having two alkenyl groups, which is a component (A) of the present invention. The following silsesquioxane derivative base polymer 1 or silsesquioxane derivative base polymer 2 produced by the method disclosed in International Publication No. 2011/145638 is used as a thermosetting resin containing a SiH group and an alkenyl group. Using.

[シルセスキオキサン誘導体ベースポリマー1]
前記式(1)において、a[式(X−I)]=2.34、b[式(X−II)]=0、c[式(X−III)]=1.66である化合物、下記化学式で表される化合物をシルセスキオキサン誘導体ベースポリマー1とした。
[Silsesquioxane derivative base polymer 1]
In the above formula (1), a [formula (XI)] = 2.34, b [formula (X-II)] = 0, c [formula (X-III)] = 1.66, The compound represented by the following chemical formula was designated as silsesquioxane derivative base polymer 1.

Figure 0006323086
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[シルセスキオキサン誘導体ベースポリマー2]
前記式(1)において、a[式(X−I)]=2.37、2b[式(X−II)]=0.48、c[式(X−III)]=1.14である、下記化学式で表される化合物をシルセスキオキサン誘導体ベースポリマー2とした。
[Silsesquioxane derivative base polymer 2]
In the formula (1), a [formula (XI)] = 2.37, 2b [formula (X-II)] = 0.48, c [formula (X-III)] = 1.14. The compound represented by the following chemical formula was designated as silsesquioxane derivative base polymer 2.

Figure 0006323086
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(D)SiH基を有するシルセスキオキサン、アルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサン、アルケニル基を有するエポキシ化合物およびアルケニル基を有するシリル化合物を反応させることにより得られる、SiH基を有する熱硬化性樹脂 (D) Thermosetting having SiH group obtained by reacting silsesquioxane having SiH group, organopolysiloxane having two alkenyl groups, epoxy compound having alkenyl groups and silyl compound having alkenyl groups resin

[シルセスキオキサン誘導体ベースポリマー3]
本発明の(D)成分であるSiH基を有する熱硬化性樹脂として、前記式(D1)において、A[式(a)]=1.32、2B[式(b)]=1.38、C[式(c−i)]=0.65、D[式(d−i)]=0.65である下記式で表されるシルセスキオキサン誘導体ベースポリマー3を用いた。
[Silsesquioxane derivative base polymer 3]
As the thermosetting resin having a SiH group as the component (D) of the present invention, in the above formula (D1), A [formula (a)] = 1.32, 2B [formula (b)] = 1.38, A silsesquioxane derivative base polymer 3 represented by the following formula, in which C [formula (ci)] = 0.65 and D [formula (di)] = 0.65, was used.

Figure 0006323086
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シルセスキオキサン誘導体ベースポリマー3は、下記反応式により、次の方法で合成した。温度計、還流冷却器、および撹拌機を備えた内容積300mLの反応容器にシルセスキオキサン誘導体(DD−4H)を50g、ビニルシリコーン(FM−2205)を18.6g(0.0266モル)、モノアリルジエポキシイソシアヌレート(MA−DGIC)を7.47g(0.0252モル)、S210を3.7g(0.0252モル)、溶媒としてトルエン50gを入れた。   The silsesquioxane derivative base polymer 3 was synthesized by the following method according to the following reaction formula. 50 g of silsesquioxane derivative (DD-4H) and 18.6 g (0.0266 mol) of vinyl silicone (FM-2205) in a 300 mL internal reaction vessel equipped with a thermometer, reflux condenser, and stirrer Then, 7.47 g (0.0252 mol) of monoallyl diepoxy isocyanurate (MA-DGIC), 3.7 g (0.0252 mol) of S210, and 50 g of toluene as a solvent were added.

窒素雰囲気下、加熱攪拌を開始した。内容物が100℃に達した後、Pt濃度がDD−4Hに対して1ppmとなる量を加え、そのまま5時間加熱攪拌を行った。GCよりMA−DGICの消失を確認して反応を終了した。室温まで冷却した後、活性炭を1.6g加え3時間以上攪拌した後、ろ過により活性炭を除去した。ろ液をエバポレーターにて90℃、0.13kPaの減圧条件下に溶媒であるトルエンを留去した。74gの水アメ状の無色透明の液体を得た。   Heating and stirring were started under a nitrogen atmosphere. After the contents reached 100 ° C., an amount that the Pt concentration became 1 ppm with respect to DD-4H was added, and the mixture was heated and stirred as it was for 5 hours. The reaction was completed after confirming the disappearance of MA-DGIC from GC. After cooling to room temperature, 1.6 g of activated carbon was added and stirred for 3 hours or more, and then the activated carbon was removed by filtration. Toluene, which is a solvent, was distilled off from the filtrate under reduced pressure conditions of 90 ° C. and 0.13 kPa using an evaporator. 74 g of a water-like colorless and transparent liquid was obtained.

得られた生成物の分子量をGPCにより分析したところ、数平均分子量:Mn=3900、重量平均分子量:Mw=18200であった。   When the molecular weight of the obtained product was analyzed by GPC, it was number average molecular weight: Mn = 3900 and weight average molecular weight: Mw = 18200.

Figure 0006323086
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(F)片末端にのみSiH基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン化合物
本発明の(F)成分である、片末端にのみSiH基を有するオルガノポリシロキサンとして、JNC株式会社製の数平均分子量が900または500の片末端SiHシリコーンを用いた。また、(F)成分の比較化合物として、数平均分子量500の両末端SiHシリコーンを用いた。
(F) Linear organopolysiloxane compound having a SiH group only at one end As the organopolysiloxane having a SiH group only at one end, which is the component (F) of the present invention, the number average molecular weight manufactured by JNC Corporation A 900 or 500 single-ended SiH silicone was used. In addition, as a comparative compound of the component (F), both-end SiH silicone having a number average molecular weight of 500 was used.

片末端にのみSiH基を有する数平均分子量が900と500のオルガノポリシロキサンは、日本国特開2000−273178号公報に記載されている方法を参照して製造したものを用いた。また、数平均分子量500の両末端SiHシリコーンは、日本国特開2003−252995号公報に記載されている方法を参照することにより製造したものを用いた。   The organopolysiloxanes having number average molecular weights of 900 and 500 having SiH groups only at one end were prepared by referring to the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-273178. Moreover, what was manufactured by referring the method described in Japan Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-252995 was used for the both-ends SiH silicone of the number average molecular weight 500.

[数平均分子量が900の片末端SiHシリコーン]
前記式(2)において、R=ブチル、R=メチル、m=11である、下記化学式により表される化合物を数平均分子量が900の片末端SiHシリコーンとした。
[One-end SiH silicone with a number average molecular weight of 900]
In the above formula (2), R 6 = butyl, R 7 = methyl, m = 11, a compound represented by the following chemical formula was used as a one-terminal SiH silicone having a number average molecular weight of 900.

Figure 0006323086
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[数平均分子量が500の片末端SiHシリコーン]
前記式(2)において、R=ブチル、R=メチル、m=5である、下記化学式で表される化合物を数平均分子量が500の片末端SiHシリコーンとした。
[One-end SiH silicone having a number average molecular weight of 500]
In the above formula (2), R 6 = butyl, R 7 = methyl, m = 5, a compound represented by the following chemical formula was used as a one-terminal SiH silicone having a number average molecular weight of 500.

Figure 0006323086
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[数平均分子量500の両末端SiHシリコーン]
本発明の(F)成分の比較成分として、下記式で表される数平均分子量500の両末端SiHシリコーンを用いた。
[SiH silicone at both ends with a number average molecular weight of 500]
As a comparative component of the component (F) of the present invention, a both-end SiH silicone having a number average molecular weight of 500 represented by the following formula was used.

Figure 0006323086
Figure 0006323086

(B)Pt触媒
本発明の(B)成分であるPt触媒として、カルステッド触媒 商標名Pt−VTS 3wt%キシレン溶液(ユミコア社製)を用いた。
(B) Pt catalyst As a Pt catalyst which is the component (B) of the present invention, a Karsted catalyst trade name Pt-VTS 3 wt% xylene solution (manufactured by Umicore) was used.

(E)アルケニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン化合物
本発明の(E)成分であるアルケニル基を2個以上有する化合物として、前記式(3)において、R=メチル、R=メチル、n=8である、下記化学式で表される数平均分子量が700の両末端ビニルシリコーンを用いた。
(E) Organopolysiloxane compound having two or more alkenyl groups As a compound having two or more alkenyl groups as the component (E) of the present invention, in the formula (3), R 8 = methyl, R 9 = methyl, The both-end vinyl silicone having a number average molecular weight of 700 represented by the following chemical formula, where n = 8, was used.

Figure 0006323086
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エポキシ基含有シランカップリング剤
また、比較実施例には密着付与材としてエポキシ基含有シランカップリング剤として、グリシジルエーテルトリメトキシシラン:商標名S510(JNC株式会社製)を用いた。
Epoxy group-containing silane coupling agent Further, in the comparative examples, glycidyl ether trimethoxysilane: trade name S510 (manufactured by JNC Corporation) was used as an epoxy group-containing silane coupling agent as an adhesion imparting material.

<熱硬化性樹脂組成物の調製>
スクリュー管に上記実施例で合成した化合物、またはポリオルガノシロキサンの混合物を入れた。スクリュー管を自転・公転ミキサー[株式会社シンキー製「あわとり練太郎(登録商標)」ARE−250]にセットし、混合・脱泡を行い、中間樹脂組成物である中間組成物a〜dを得た。表1に各熱硬化性樹脂組成物の質量%を示す。
<Preparation of thermosetting resin composition>
The compound synthesized in the above example or a mixture of polyorganosiloxane was placed in a screw tube. The screw tube is set in a rotating / revolving mixer ["Awatori Nertaro (registered trademark)" ARE-250 manufactured by Sinky Co., Ltd.], mixed and defoamed, and intermediate compositions a to d as intermediate resin compositions are prepared. Obtained. Table 1 shows the mass% of each thermosetting resin composition.

上記中間組成物a〜dに、さらにユミコア社製のカルステッド触媒(商品名Pt−VTS:Pt濃度が3質量%のキシレン溶液)を硬化禁止剤:MVS−H(商品名、1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン:JNC株式会社製)で100倍(質量)に希釈したものをPt濃度が所定量になるように加え、さらに硬化禁止剤を所定量になるように加えて、再び自転・公転ミキサーにて混合・脱泡を行い、熱硬化性樹脂組成物である組成物A1〜A8、B1、C1〜C5、D1〜D2、および比較組成物A9〜A12、C6〜C7を得た。表2に各熱硬化性樹脂組成物の質量%およびPt触媒、硬化禁止剤の配合量を示す。   In addition to the above intermediate compositions a to d, a rusted catalyst (trade name: Pt-VTS: xylene solution having a Pt concentration of 3% by mass) manufactured by Umicore is used as a curing inhibitor: MVS-H (trade name, 1, 3, 5). , 7-tetravinyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane (manufactured by JNC Corporation) diluted 100 times (mass) so that the Pt concentration becomes a predetermined amount, and further prohibition of curing The agent is added to a predetermined amount, mixed and defoamed again with a rotation / revolution mixer, and compositions A1 to A8, B1, C1 to C5, D1 to D2, and thermosetting resin compositions, and Comparative compositions A9 to A12 and C6 to C7 were obtained. Table 2 shows the mass% of each thermosetting resin composition and the blending amounts of the Pt catalyst and the curing inhibitor.

得られた組成物A1〜A8、B1、C1〜C5、D1〜D2、および比較組成物A9〜A12、C6〜C7について、以下の方法により保存安定性、および硬化性を評価した。その結果を表2の中に示す。   About the obtained composition A1-A8, B1, C1-C5, D1-D2, and comparative composition A9-A12, C6-C7, the storage stability and sclerosis | hardenability were evaluated with the following method. The results are shown in Table 2.

<保存安定性>
保存安定性は、保存容器中に上記組成物をとり、これらを80℃恒温槽に30日間入れた後の粘度を測定して評価するものである。試験前の粘度と比べ、試験後の粘度上昇率が50%以下であるかを調べた。○は粘度上昇率50%以下、×は粘度上昇率50%以上を示す。
<Storage stability>
The storage stability is evaluated by measuring the viscosity after taking the above composition in a storage container and putting them in an 80 ° C. constant temperature bath for 30 days. It was investigated whether the viscosity increase rate after the test was 50% or less compared with the viscosity before the test. ○ indicates a viscosity increase rate of 50% or less, and x indicates a viscosity increase rate of 50% or more.

<熱硬化性樹脂組成物の硬化性>
硬化性は、PFA製シャーレに組成物を入れ、160℃で1時間加熱し硬化するかを調べた。硬化しフィルムが得られれば○、硬化せず液状やワックス上であれば×とした。
<Curability of thermosetting resin composition>
The curability was examined by putting the composition into a PFA petri dish and heating at 160 ° C. for 1 hour to cure. If it was cured and a film was obtained, it was marked as ◯, and if it was not cured and was liquid or waxy, it was marked as x.

<硬化物の作製>
上記熱硬化性樹脂組成物A1、B1、C1、D1それぞれについて、ガラス2枚にニチアス(株)製ナフロンSPパッキン(4mm径)をスペーサーとして挟み、この中に熱硬化性樹脂組成物を流し込み、減圧脱泡後、80℃にて1時間、その後150℃にて4時間の順に加熱することにより硬化させ、ガラスをはがして4mm厚の表面が平滑な硬化物A1、B1、C1、D1を得た。
<Production of cured product>
About each of the thermosetting resin compositions A1, B1, C1, and D1, sandwiched by Nichias Co., Ltd. Naflon SP packing (4 mm diameter) between two glasses, the thermosetting resin composition is poured into this, After degassing under reduced pressure, curing is carried out by heating in order of 1 hour at 80 ° C. and then 4 hours at 150 ° C., and the cured products A1, B1, C1, and D1 having a smooth surface of 4 mm thickness are obtained by removing the glass. It was.

得られた硬化物A1、B1、C1、D1について、以下の方法によりその物性を評価した。その結果を表3に示す。   About the obtained hardened | cured material A1, B1, C1, D1, the physical property was evaluated with the following method. The results are shown in Table 3.

<粘度>
硬化物A1、B1、C1、D1の硬化前の熱硬化性樹脂組成物A1、B1、C1、D1の粘度は、東機産業(株)製のTV−22型粘度計コーンプレートタイプを使用し、恒温槽温度25℃にて測定した。
<Viscosity>
The viscosity of the thermosetting resin compositions A1, B1, C1, and D1 before curing of the cured products A1, B1, C1, and D1 uses a TV-22 type viscometer cone plate type manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. The measurement was performed at a constant temperature of 25 ° C.

<光透過率>
厚さ4mmの硬化物を作製し、島津製作所(株)製紫外可視分光光度計 UV−1650にて波長400nmにおける光の透過率を測定した。
<Light transmittance>
A cured product having a thickness of 4 mm was prepared, and the light transmittance at a wavelength of 400 nm was measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer UV-1650 manufactured by Shimadzu Corporation.

<耐熱透過率>
耐熱試験は、以下の方法にて実施、評価した。厚さ4mmの硬化物を作製し、島津製作所(株)製紫外可視分光光度計 UV−1650にて波長400nmにおける光の透過率を測定し、初期透過率とした。硬化物を180℃のオーブン[定温乾燥機:ヤマト科学(株)製DX302]に入れ、一定時間(表2では1000時間)加熱処理した。
<Heat resistant transmittance>
The heat resistance test was performed and evaluated by the following method. A cured product having a thickness of 4 mm was prepared, and the light transmittance at a wavelength of 400 nm was measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer UV-1650 manufactured by Shimadzu Corporation to obtain an initial transmittance. The cured product was placed in an oven at 180 ° C. [constant temperature dryer: DX302 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.] and heat-treated for a certain time (1000 hours in Table 2).

前記耐熱試験後の硬化物の光線透過率を紫外可視分光光度計で測定し、波長400nmの透過率から、この波長における保持率(一定時間熱処理後の透過率/各波長の初期透過率×100)を計算して評価した。180℃の耐熱試験1000時間後における400nmの透過率保持率が85%以上であれば〇、75%以上であれば△、75%以下であれば×とした。   The light transmittance of the cured product after the heat resistance test was measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer. From the transmittance at a wavelength of 400 nm, the retention at this wavelength (transmittance after heat treatment for a certain time / initial transmittance at each wavelength × 100 ) Was calculated and evaluated. When the transmittance retention at 400 nm after a heat resistance test at 180 ° C. of 1000 hours was 85% or more, “Yes”, when it was 75% or more, Δ, and when it was 75% or less, ×.

<耐UV透過率>
耐UV透過率は、4mm厚の硬化物に、ウシオ株式会社製のDeep UV Lampを用い、365nmのバンドパスフィルターを通して、550〜600mW/cmの照射強度にてUV照射した。2000時間照射後における400nmの保持率99%以上であれば〇、97%以上であれば△、97以下であれば×とした。
<UV resistance>
With respect to UV transmittance, UV light was irradiated on a cured product having a thickness of 4 mm using a Deep UV Lamp manufactured by Ushio Co., Ltd. through a 365 nm bandpass filter at an irradiation intensity of 550 to 600 mW / cm 2 . When the retention rate of 400 nm after irradiation for 2000 hours was 99% or more, it was evaluated as ◯, when 97% or more, Δ, and when 97 or less, ×.

<屈折率>
試験片は硬化物をバンドソーにて切断し、JIS K7142(2008年)に従って試験片を作製した。この試験片を用いて、アッベ屈折計[(株)アタゴ製NAR−2T]によりナトリウムランプのD線(586nm)を用いて屈折率を測定した。中間液はヨウ化メチレンを用いた。
<Refractive index>
The test piece cut the hardened | cured material with the band saw, and produced the test piece according to JISK7142 (2008). Using this test piece, the refractive index was measured with an Abbe refractometer [NAR-2T manufactured by Atago Co., Ltd.] using a D line (586 nm) of a sodium lamp. The intermediate solution was methylene iodide.

<硬化物の硬度>
JIS K6253(2006年)の規定に準じて、D硬度を西東京精密(株)製デュロメータWR−105Dにより、A硬度をWR−104Aにより測定した。
<Hardness of cured product>
In accordance with JIS K6253 (2006), the D hardness was measured with a durometer WR-105D manufactured by Nishitokyo Seimitsu Co., Ltd., and the A hardness was measured with a WR-104A.

<接着強さ試験 PPA>
JIS K6850(1999年)に従って試験を行った。試験片は、基材としてポリフタルアミド樹脂[ソルベイアドバンスドポリマーズ(株)製アモデル(商品名)A−4122NLWH905]をJIS K6850(1999年)に従って寸法を調整して作製したものの間に熱硬化性樹脂組成物を挟み、80℃にて1時間加熱後、150℃にて4時間加熱する条件で加熱硬化させて作製した。接着試験は引張圧縮試験機[(株)島津製作所製オートグラフAGS−500B]により5kNのロードセルを用いて測定した。
<Adhesive strength test PPA>
The test was conducted according to JIS K6850 (1999). The test piece is a thermosetting resin between polyphthalamide resin [Amodel (trade name) A-4122NLWH905 manufactured by Solvay Advanced Polymers Co., Ltd.] adjusted as a substrate according to JIS K6850 (1999). The composition was sandwiched and heated at 80 ° C. for 1 hour and then heated and cured at 150 ° C. for 4 hours. The adhesion test was measured using a 5 kN load cell with a tensile and compression tester [Autograph AGS-500B manufactured by Shimadzu Corporation].

<接着強さ試験 PA9T>
JIS K6850(1999年)に従って試験を行った。試験片は、基材としてポリフタルアミド樹脂[クラレ(株)製ジェネスタ(商品名)PA9T]をJIS K6850(1999年)に従って寸法を調整して作製したものの間に熱硬化性樹脂組成物を挟み、80℃にて1時間加熱後、150℃にて4時間加熱する条件で加熱硬化させて作製した。接着試験は引張圧縮試験機[(株)島津製作所製オートグラフAGS−500B]により5kNのロードセルを用いて測定した。
<Adhesion strength test PA9T>
The test was conducted according to JIS K6850 (1999). The test piece has a thermosetting resin composition sandwiched between polyphthalamide resin [Kuraray Co., Ltd. Genesta (trade name) PA9T] adjusted in accordance with JIS K6850 (1999) as a base material. After heating at 80 ° C. for 1 hour, heat curing was performed under the conditions of heating at 150 ° C. for 4 hours. The adhesion test was measured using a 5 kN load cell with a tensile and compression tester [Autograph AGS-500B manufactured by Shimadzu Corporation].

<接着強さ試験 Ag>
JIS K6850(1999年)に従って試験を行った。試験片は、基材として銀メッキされた標準試験基板[日本テストパネル(株)製]の間に熱硬化性樹脂組成物を挟み、80℃にて1時間加熱後、150℃にて4時間加熱する条件で加熱硬化させて作製した。接着試験は引張圧縮試験機[(株)島津製作所製オートグラフAGS−500B]により5kNのロードセルを用いて測定した。
<Adhesive strength test Ag>
The test was conducted according to JIS K6850 (1999). The test piece sandwiched a thermosetting resin composition between silver-plated standard test substrates [manufactured by Nippon Test Panel Co., Ltd.], heated at 80 ° C. for 1 hour, and then at 150 ° C. for 4 hours. It was made by heat curing under heating conditions. The adhesion test was measured using a 5 kN load cell with a tensile and compression tester [Autograph AGS-500B manufactured by Shimadzu Corporation].

<吸湿リフロー試験>
底辺部が銀メッキされたパワーLED用のPPA樹脂パッケージ[エノモト(株)製 型番5050 D/G]16個に熱硬化性樹脂組成物をディスペンサー(武蔵エンジニアリング(株)製 型番MPP−1)で注入した後、80℃にて1時間加熱後、さらに150℃にて4時間加熱する条件で加熱硬化させた。これらのPPA樹脂パッケージを環境試験機(エスペック社製 型番SH−241)内にて、温度30℃、相対湿度60%、192時間の吸湿条件にて吸湿させた後、模擬リフロー機[マルコム(株)製 型番SRS−1C]にてJEDEC規格に準じた温度条件(260℃)にてリフローを2回通した。16個中の剥離個数、クラック発生個数を示した。
<Hygroscopic reflow test>
A thermosetting resin composition is dispensed into 16 PPA resin packages [Model No. 5050 D / G, manufactured by Enomoto Co., Ltd.] with a silver-plated bottom side, using a dispenser (Model No. MPP-1 manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.). After the injection, the mixture was heated at 80 ° C. for 1 hour, and further heated and cured at 150 ° C. for 4 hours. These PPA resin packages are absorbed in an environmental tester (model number SH-241 manufactured by Espec Corp.) under conditions of moisture absorption at a temperature of 30 ° C., a relative humidity of 60% and 192 hours, and then a simulated reflow machine [Malcom Corp. Reflow was performed twice under the temperature condition (260 ° C.) according to the JEDEC standard with the product model SRS-1C]. The number of peeled pieces and the number of cracks generated in 16 pieces are shown.

<ヒートサイクル試験 PPA 剥離・クラック>
底辺部が銀メッキされたパワーLED用のPPA樹脂パッケージ[エノモト(株)製 型番5050 D/G]16個に熱硬化性樹脂組成物をディスペンサー(武蔵エンジニアリング(株)製 型番MPP−1)で注入した後、80℃にて1時間加熱後、さらに150℃にて4時間加熱する条件で加熱硬化させた。これらのPPA樹脂パッケージを模擬リフロー機[マルコム(株)製 型番SRS−1C]にてJEDEC規格に準じた温度条件(260℃)にてリフローを1回通した。この後、冷熱衝撃装置[エスペック株式会社製 型番TSE−11]のテストエリアに入れ、−40℃で30分間さらし、105℃で30分間さらすことを1サイクルとして、500サイクル繰り返すことにより実施した。なお、両さらし温度の間の移動時間は2分間で実施した。剥離、クラックの発生を顕微鏡にて観察した。16個中の不良率を示す。
<Heat cycle test PPA peeling / cracking>
A thermosetting resin composition is dispensed into 16 PPA resin packages [Model No. 5050 D / G, manufactured by Enomoto Co., Ltd.] with a silver-plated bottom side, using a dispenser (Model No. MPP-1 manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.). After the injection, the mixture was heated at 80 ° C. for 1 hour, and further heated and cured at 150 ° C. for 4 hours. These PPA resin packages were reflowed once in a simulated reflow machine [model SRS-1C manufactured by Malcolm Co., Ltd.] under temperature conditions (260 ° C.) according to JEDEC standards. Then, it put into the test area of the thermal shock apparatus [Espec Co., Ltd. model number TSE-11], and exposed by -40 degreeC for 30 minutes, and carrying out for 30 minutes at 105 degreeC was implemented by repeating 500 cycles. In addition, the movement time between both exposure temperatures was 2 minutes. The occurrence of peeling and cracking was observed with a microscope. The defect rate in 16 pieces is shown.

<ヒートサイクル試験 PA9T 剥離・クラック>
底辺部が銀メッキされたパワーLED用のPA9T樹脂パッケージ[I−CHIUN社製 型番SMD5050N−TA112]15個に熱硬化性樹脂組成物をディスペンサー(武蔵エンジニアリング(株)製 型番MPP−1)で注入した後、80℃にて1時間加熱後、さらに150℃にて4時間加熱する条件で加熱硬化させた。これらのPA9T樹脂パッケージを、模擬リフロー機[マルコム(株)製 型番SRS−1C]にてJEDEC規格に準じた温度条件(260℃)にてリフローを1回通した。これらのPA9T樹脂パッケージを、冷熱衝撃装置[エスペック(株)製 型番TSE−11]のテストエリアに入れ、−40℃で30分間さらし、105℃で30分間さらすことを1サイクルとして、500サイクル繰り返すことにより実施した。なお、両さらし温度の間の移動時間は2分間で実施した。剥離、クラックの発生を顕微鏡にて観察した。表2および4に、15個中の不良率を示す。
<Heat cycle test PA9T peeling / cracking>
A thermosetting resin composition is injected into 15 PA9T resin packages [Model No. SMD5050N-TA112 manufactured by I-CHIUN Co., Ltd.] for power LEDs with a silver-plated bottom portion using a dispenser (Model No. MPP-1 manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.). Then, after heating at 80 ° C. for 1 hour, it was further cured by heating at 150 ° C. for 4 hours. These PA9T resin packages were reflowed once under a temperature condition (260 ° C.) according to the JEDEC standard using a simulated reflow machine [model SRS-1C manufactured by Malcolm Co., Ltd.]. These PA9T resin packages are put in a test area of a thermal shock apparatus [manufactured by ESPEC Co., Ltd., Model No. TSE-11], exposed to −40 ° C. for 30 minutes, and exposed to 105 ° C. for 30 minutes as one cycle and repeated 500 cycles. Was carried out. In addition, the movement time between both exposure temperatures was 2 minutes. The occurrence of peeling and cracking was observed with a microscope. Tables 2 and 4 show the failure rate in 15 pieces.

<ヒートサイクル試験 ワイヤ断線>
ブルーLEDチップ[GeneLite社製 品番B1515ACA0]およびゴールドワイヤ[田中貴金属社製 品番SR−25]を搭載したLED樹脂パッケージ[エノモト(株)製 型番5050 D/G 32個に熱硬化性樹脂組成物をディスペンサー [武蔵エンジニアリング(株)社製 型番MPP−1]で注入した後、80℃にて1時間加熱後、さらに150℃にて4時間加熱する条件で加熱硬化させた。このLED樹脂パッケージを、リフローシミュレーター[マルコム(株)製 型番SRS−1C]にてJEDEC規格に準じた温度条件(260℃)にてリフローを1回通した。さらに、冷熱衝撃装置[エスペック(株)製 型番TSE−11]のテストエリアに入れ、−40℃で30分間さらし、105℃で30分間さらすことを1サイクルとして、500サイクル繰り返すことにより実施した。なお、両さらし温度の間の移動時間は2分間で実施した。LEDを点灯させた。表2および4に、点灯不良率を示す。
<Heat cycle test, wire breakage>
LED resin package [Enomoto Co., Ltd. Model No. 5050 D / G, 32 pieces of thermosetting resin composition, mounted with blue LED chip [Product No. B1515ACA0 manufactured by GeneLite] and Gold Wire [Product No. SR-25 manufactured by Tanaka Kikinzoku Co., Ltd.] After injecting with a dispenser [Model number MPP-1 manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.], it was heated and cured at 80 ° C. for 1 hour, and further heated at 150 ° C. for 4 hours. This LED resin package was reflowed once under a temperature condition (260 ° C.) according to the JEDEC standard using a reflow simulator [model SRS-1C manufactured by Malcolm Co., Ltd.]. Furthermore, it put into the test area of the thermal shock apparatus [Espec Co., Ltd. product type | model number TSE-11], and exposed by -40 degreeC for 30 minutes, and carrying out for 30 minutes at 105 degreeC, and implemented by repeating 500 cycles. In addition, the movement time between both exposure temperatures was 2 minutes. The LED was turned on. Tables 2 and 4 show the lighting failure rate.

Figure 0006323086
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Figure 0006323086
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Figure 0006323086
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表2に示すように、本発明の組成物A1〜A8、B1、C1〜C5、D1〜D2は、Pt触媒および硬化禁止剤の量を厳密に制御することにより、保存安定性および硬化性を両立させた熱硬化性組成物であることが分かった。
これに対し、比較組成物A9〜A12、C6〜C7は、保存安定性が悪い、もしくは硬化性が悪いため、そのまま熱硬化性組成物としては用いられない組成物であることがわかった。
As shown in Table 2, the compositions A1 to A8, B1, C1 to C5, and D1 to D2 of the present invention have storage stability and curability by strictly controlling the amounts of the Pt catalyst and the curing inhibitor. It was found that the thermosetting composition was compatible.
On the other hand, it was found that Comparative Compositions A9 to A12 and C6 to C7 were compositions that were not used as thermosetting compositions as they were because of poor storage stability or poor curability.

表3に示すように、本発明の組成物A〜Dを用いた硬化物A〜Dは、屈折率1.5以上、さらにシルセスキオキサンが有する耐熱透過率、耐UV透過率を保持し、尚かつリフレクター基材であるポリフタルアミド樹脂(PPA、PA9T)や銀との密着性も良く、さらに耐吸湿リフロー、耐ヒートサイクル性に優れていることがわかった。   As shown in Table 3, cured products A to D using the compositions A to D of the present invention have a refractive index of 1.5 or more, and further have heat resistant transmittance and UV transmittance possessed by silsesquioxane. In addition, it was found that the adhesion to the polyphthalamide resin (PPA, PA9T) or silver which is a reflector base material is good, and further, the moisture absorption reflow resistance and the heat cycle resistance are excellent.

<半硬化樹脂シート作成>
PFA製シャーレに、厚さ0.5mmになるように前記熱硬化性組成物A4を入れ、100℃で60分間加熱した。表面タック性のある半硬化樹脂シートが得られた。
<Create semi-cured resin sheet>
The thermosetting composition A4 was placed in a PFA petri dish so as to have a thickness of 0.5 mm and heated at 100 ° C. for 60 minutes. A semi-cured resin sheet having surface tackiness was obtained.

同様に、表面に剥離剤を塗布したSUS製金型の間に、前記熱硬化性組成物A4を入れ、ホットプレス機にて160℃で5分間加熱した。表面タック性のある厚さ1mmの半硬化樹脂成型シートが得られた。   Similarly, the thermosetting composition A4 was placed between SUS molds having a release agent coated on the surface, and heated at 160 ° C. for 5 minutes with a hot press machine. A semi-cured resin molded sheet having a surface tackiness of 1 mm in thickness was obtained.

<半硬化樹脂シートの硬化>
上記で得られた半硬化樹脂シートを、表面鏡面仕上げのSUS板に乗せ、160℃で120分間加熱した。半硬化樹脂シートは一度軟化の後、硬化しSUS板に密着した。
<Curing semi-cured resin sheet>
The semi-cured resin sheet obtained above was placed on a SUS plate with a surface mirror finish and heated at 160 ° C. for 120 minutes. The semi-cured resin sheet was once softened and then cured and adhered to the SUS plate.

<半硬化樹脂シートによるLEDベアチップ封止>
上記で得られた半硬化樹脂シートを、LEDベアチップが実装してある実装面に乗せ、160℃で120分間加熱した。半硬化樹脂シートは一度軟化の後硬化し板に密着し、LEDベアチップの表面が封止されたパッケージが得られた。
<LED bare chip sealing with semi-cured resin sheet>
The semi-cured resin sheet obtained above was placed on the mounting surface on which the LED bare chip was mounted and heated at 160 ° C. for 120 minutes. The semi-cured resin sheet was once softened and then cured and adhered to the plate, and a package in which the surface of the LED bare chip was sealed was obtained.

本発明を特定の態様を用いて詳細に説明したが、本発明の意図と範囲を離れることなく様々な変更および変形が可能であることは、当業者にとって明らかである。   Although the invention has been described in detail using specific embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the invention.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、高耐熱性、高耐UV性であり、基板に対する密着性が高く、靭性に優れているため吸湿リフロー耐性、ヒートサイクル耐性に優れ、さらには耐イオウ性に優れる硬化物を与えるため、特にハイパワーLED等の光半導体素子の封止材、蛍光体シート並びにリフレクタ材料として非常に有用である。また、本発明の熱硬化性樹脂組成物は成型が容易であり、成型後に高温に加熱することで容易に成型硬化物を作成することが可能である。更には、成型後、加熱することで完全に硬化する手前の半硬化状態の成型物は、この状態で室温にて保管してもそれ以上の反応が進行することなく、半硬化成型物として常温で流通させることが可能であり、更にこれを使用する際に、半硬化成型物を作成したよりも高温で再硬化させることで完全な硬化物を得ることが可能である。例えば、本発明の熱硬化性樹脂組成物に蛍光体及び/または無機化合物を添加せしめ、これを充分に混合後、シート状に成型する。得られた成型物を完全に硬化するよりも低い温度、すなわち80℃から140℃または150℃以上で短時間で半硬化することで、一旦冷却させることにより室温で保存しても安定性に優れる蛍光体シートを作成することができる。これらの蛍光体シートは室温で安定であるので、製造後、在庫することが容易であり、流通経路においても冷蔵倉庫、冷蔵車両を必要とすることなく流通コストを抑えることが可能となる。また当該シートを使用する場合にはLEDチップ上に載せて、半硬化物作成時よりも高い温度もしくは長い時間加熱することで一旦軟化・ゲル化することで密着性が生じることとなり、チップやその回りの部材と密着した上で完全硬化し、容易に蛍光体で覆われた好適に光波長変換できる半導体発光装置を作成可能となる。   The thermosetting resin composition of the present invention has high heat resistance and high UV resistance, high adhesion to the substrate, and excellent toughness, so it has excellent moisture absorption reflow resistance, heat cycle resistance, and sulfur resistance. In particular, it is very useful as a sealing material for an optical semiconductor element such as a high-power LED, a phosphor sheet, and a reflector material. Moreover, the thermosetting resin composition of the present invention is easy to mold, and a molded cured product can be easily created by heating to a high temperature after molding. Furthermore, after molding, the semi-cured molded product that is completely cured by heating is kept at room temperature as a semi-cured molded product without further reaction even if stored at room temperature in this state. In addition, when this is used, it is possible to obtain a completely cured product by re-curing at a higher temperature than when a semi-cured molded product is prepared. For example, a phosphor and / or an inorganic compound is added to the thermosetting resin composition of the present invention, and after sufficiently mixing it, it is molded into a sheet. The resulting molded product is semi-cured in a short time at a temperature lower than fully cured, that is, from 80 ° C. to 140 ° C. or 150 ° C., so that it is excellent in stability even when stored at room temperature by cooling once. A phosphor sheet can be created. Since these phosphor sheets are stable at room temperature, they can be easily stocked after production, and the distribution cost can be suppressed without requiring a refrigerated warehouse or a refrigerated vehicle in the distribution route. In addition, when using the sheet, it is placed on the LED chip and heated to a higher temperature or longer time than when the semi-cured product is created, and once softened and gelled, adhesion occurs, and the chip and its A semiconductor light-emitting device capable of suitably converting the light wavelength, which is completely cured after being in close contact with the surrounding members and is easily covered with a phosphor, can be produced.

Claims (17)

(A)(B)、(C)、および(F)を含有する熱硬化性樹脂組成物。
(A)SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとの反応物であって、SiH基とアルケニル基とを有する熱硬化性樹脂。
(B)Pt触媒。
(C)硬化禁止剤。
(F)片末端にのみSiH基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン化合物。
ここで、(C)硬化禁止剤は、(B)Pt触媒の配合量(質量)の250〜200,000倍である。
A thermosetting resin composition containing (A) , (B) , (C), and (F) .
(A) A thermosetting resin that is a reaction product of a silsesquioxane having a SiH group and an organopolysiloxane having two alkenyl groups and having a SiH group and an alkenyl group.
(B) Pt catalyst.
(C) Curing inhibitor.
(F) A linear organopolysiloxane compound having a SiH group only at one end.
Here, (C) the curing inhibitor is 250 to 200,000 times the blending amount (mass) of (B) Pt catalyst.
前記シルセスキオキサンがダブルデッカー型シルセスキオキサンである請求項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 1 , wherein the silsesquioxane is a double-decker silsesquioxane. さらに、(D)または(E)を含む、請求項1または2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(D)SiH基を有するシルセスキオキサンとアルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサンとアルケニル基を有するエポキシ化合物とアルケニル基を有するシリル化合物とを反応させることにより得られる、SiH基を有する熱硬化性樹脂。
(E)アルケニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン化合物。
Furthermore, the thermosetting resin composition of Claim 1 or 2 containing (D) or (E) .
(D) Thermosetting having a SiH group obtained by reacting a silsesquioxane having a SiH group, an organopolysiloxane having two alkenyl groups, an epoxy compound having an alkenyl group and a silyl compound having an alkenyl group Resin.
(E) An organopolysiloxane compound having two or more alkenyl groups.
前記熱硬化性樹脂(A)が、下記式(1)で示される化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure 0006323086
式(1)において、Xはそれぞれ独立して、
下記式(X−I)、式(X−II)または式(X−III)で表される基であり、式(1)で表される化合物1分子あたり[該化合物が式(X−I)で表される基と式(X−II)で表される基と式(X−III)で表される基の割合が異なる化合物の混合物である場合は該化合物1分子平均]の式(X−I)で表される基の数をa、式(X−II)で表される基の数をb、式(X−III)で表される基の数をcとした場合に、
a+2b+c=4であり、0<a≦3であり、0≦b≦1であり、0<c≦3である。
はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル及びシクロヘキシ
ルから選択される基であり、mは1〜100を満たす平均値である。
Figure 0006323086

Figure 0006323086
式(X−II)において、Rは式(1)におけるRと同様であり、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、rは−OSi(R−の繰り返しの数であり、rは、2〜20を満たす平均値である。

Figure 0006323086
式(X−III)において、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、sは−OSi(R−の繰り返しの数であり、sは、2〜20を満たす平均値である。
The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermosetting resin (A) is a compound represented by the following formula (1).
Figure 0006323086
In Formula (1), each X is independently
It is a group represented by the following formula (XI), formula (X-II) or formula (X-III), and per molecule of the compound represented by formula (1) [the compound is represented by formula (XI ), A group represented by the formula (X-II), and a group represented by the formula (X-III), the compound is a mixture of different compounds. When the number of groups represented by XI) is a, the number of groups represented by formula (X-II) is b, and the number of groups represented by formula (X-III) is c,
a + 2b + c = 4, 0 <a ≦ 3, 0 ≦ b ≦ 1, and 0 <c ≦ 3.
R 1 is each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, and cyclohexyl, and m is an average value satisfying 1 to 100.
Figure 0006323086

Figure 0006323086
In the formula (X-II), R 1 is the same as R 1 in formula (1), R 2 and R 3 are each independently selected from alkyl of 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl R is the number of repeating -OSi (R 3 ) 2- , and r is an average value satisfying 2-20.

Figure 0006323086
In the formula (X-III), R 4 and R 5 are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and s is —OSi (R 5 ) 2 —. S is an average value satisfying 2 to 20.
前記熱硬化性樹脂(D)が、下記式(D1)で示される化合物である、請求項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure 0006323086
式(D1)において、X’はそれぞれ独立して、下記式(a)、式(b)、式(c−i)、式(c−ii)、式(c−iii)、式(d−i)、式(d−ii)または式(d−iii)で表される基であり、式(1)で表される化合物1分子あたり[該化合物が式(a)で表される基と式(b)〜式(d−iii)で表される基の割合が異なる化合物の混合物である場合は該化合物1分子平均]の、
式(a)で表される基の数をA、
式(b)で表される基の数をB、
式(c−i)、式(c―ii)または式(c−iii)で表される基の数をC、
式(d−i)、式(d−ii)または式(d−iii)で表される基の数をDとした場合に、A+2B+C+D=4であり、0.5≦A≦3.0であり、0.5≦2B≦2.0であり、0.1≦C≦2であり、0≦D≦1.0である。
1’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル及びシクロヘキシルから選択される基であり、m’は1〜100を満たす平均値である。

Figure 0006323086

Figure 0006323086

式(b)において、R1’は式(D1)におけるR1’と同様であり、R2’及びR3’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、tは−OSi(R3’−の繰り返しの数であり、1〜20を満たす平均値である。

Figure 0006323086

Figure 0006323086
式(d−i)〜(d−iii)において、R、R4’およびR4’’はそれぞれ独立して、メチル、エチル、ブチルおよびイソプロピルから選択される基である。xは−OSi(R4’−の繰り返しの数であり、1〜20を満たす平均値である。yは−OSi(R4’’−の繰り返しの数であり、1〜10を満たす平均値である。
The thermosetting resin composition according to claim 3 , wherein the thermosetting resin (D) is a compound represented by the following formula (D1).
Figure 0006323086
In the formula (D1), each X ′ independently represents the following formula (a), formula (b), formula (ci), formula (c-ii), formula (c-iii), formula (d- i) a group represented by the formula (d-ii) or the formula (d-iii), and per molecule of the compound represented by the formula (1) [the compound is represented by the formula (a) In the case of a mixture of compounds in which the proportions of groups represented by formula (b) to formula (d-iii) are different, the compound averages 1 molecule]
The number of groups represented by formula (a) is A,
The number of groups represented by formula (b) is B,
The number of groups represented by formula (ci), formula (c-ii) or formula (c-iii) is C,
When the number of groups represented by formula (d-i), formula (d-ii) or formula (d-iii) is D, A + 2B + C + D = 4, and 0.5 ≦ A ≦ 3.0 Yes, 0.5 ≦ 2B ≦ 2.0, 0.1 ≦ C ≦ 2, and 0 ≦ D ≦ 1.0.
R 1 ′ is independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, and cyclohexyl, and m ′ is an average value satisfying 1 to 100.

Figure 0006323086

Figure 0006323086

In formula (b), R 1 'is R 1 in Formula (D1)' is the same as, R 2 'and R 3' are each independently alkyl of 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl And t is the number of repeating -OSi (R 3 ' ) 2- and is an average value satisfying 1-20.

Figure 0006323086

Figure 0006323086
In the formulas (di) to (d-iii), R 4 , R 4 ′ and R 4 ″ are each independently a group selected from methyl, ethyl, butyl and isopropyl. x is the number of repetitions of -OSi (R4 ' ) 2- and is an average value satisfying 1-20. y is the number of repetitions of -OSi (R 4 '' ) 2- and is an average value satisfying 1 to 10.
前記熱硬化性樹脂(D)が、下記式(D2)で示される化合物である、請求項項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure 0006323086
式(D2)において、R’’はそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、rは0〜100の整数である。aiiは、0.1≦aii≦3.5、Xiiは、0≦2Xii≦2.0、Yiiは、0≦Yii≦3.0、Ziiは、0.1≦Zii≦3.5である。
The thermosetting resin composition according to claim 3 , wherein the thermosetting resin (D) is a compound represented by the following formula (D2).
Figure 0006323086
In the formula (D2), R ″ is independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and r is an integer of 0 to 100. aii is 0.1 ≦ aii ≦ 3.5, Xii is 0 ≦ 2Xii ≦ 2.0, Yii is 0 ≦ Yii ≦ 3.0, and Zii is 0.1 ≦ Zii ≦ 3.5.
前記片末端にのみSiH基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン化合物(F)が、下記式(2)で示される化合物である請求項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure 0006323086
及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル及びシクロヘキシルから選択される基であり、mは−OSi(R−の繰り返しの数であり、1〜20を満たす平均値である。
The thermosetting resin composition according to claim 1 , wherein the linear organopolysiloxane compound (F) having a SiH group only at one end is a compound represented by the following formula (2).
Figure 0006323086
R 6 and R 7 are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl and cyclohexyl, m is the number of repeating -OSi (R 7 ) 2 —, and 1 to 20 The average value satisfying
前記アルケニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン化合物(E)が式(3)で示される化合物である、請求項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure 0006323086
式(3)において、R及びRはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから選択される基であり、nは、−OSi(R−の繰り返しの数であり、1〜50を満たす平均値である。
The thermosetting resin composition according to claim 3 , wherein the organopolysiloxane compound (E) having two or more alkenyl groups is a compound represented by the formula (3).
Figure 0006323086
In the formula (3), R 8 and R 9 are each independently a group selected from alkyl having 1 to 4 carbon atoms, cyclopentyl, cyclohexyl and phenyl, and n is —OSi (R 9 ) 2 —. It is the number of repetitions and is an average value satisfying 1-50.
熱硬化性樹脂組成物全量基準で、前記(D)SiH基を有するシルセスキオキサン、アルケニル基を2個有するオルガノポリシロキサン、アルケニル基を有するエポキシ化合物およびアルケニル基を有するシリル化合物を反応させることにより得られる、SiH基を有する熱硬化性樹脂を1〜50質量%の割合で含有する請求項1〜のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 Reacting the silsesquioxane having (D) SiH group, the organopolysiloxane having two alkenyl groups, the epoxy compound having alkenyl groups, and the silyl compound having alkenyl groups on the basis of the total amount of the thermosetting resin composition. The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 8 , which comprises a thermosetting resin having a SiH group, obtained in a ratio of 1 to 50% by mass. 熱硬化性樹脂組成物全量基準で、前記熱硬化性樹脂(E)を1〜10質量%の割合で含有する請求項1〜のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 9 , which contains the thermosetting resin (E) at a ratio of 1 to 10% by mass based on the total amount of the thermosetting resin composition. 熱硬化性樹脂組成物全量基準で、前記(F)片末端にのみSiH基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン化合物を2〜20質量%含有する、請求項1〜1のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物 In the thermosetting resin composition the total amount of the (F) containing 2-20 wt% of straight-chain organopolysiloxane compound having SiH groups only at one end, any one of claims 1 to 1 0 Thermosetting resin composition according to さらに、無機化合物が分散された請求項1〜11のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 Furthermore, the thermosetting resin composition of any one of Claims 1-11 in which the inorganic compound was disperse | distributed. 無機化合物が蛍光体および/または金属酸化物である、請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。 Inorganic compound is a fluorescent substance and / or metal oxides, a thermosetting resin composition according to claim 1 2. 80℃の温度で30日間保管条件下での粘度上昇率が50%以内である、請求項1〜1のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 80 ° C. The viscosity increase rate in the 30 days storage conditions at a temperature of is within 50%, thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 1 3. 請求項1〜1のいずれか1項記載の熱硬化性樹脂組成物を成型して得られるプリプレグ。 The prepreg obtained by molding the claims 1 to 1 4 thermosetting resin composition according to any one of. 請求項1に記載のプレプリグを熱硬化させて得られる物品。 Articles obtained by thermally curing the prepreg of claim 1 5. 塗膜状またはシート状であり、厚みが0.1μm〜3,000μmである、請求項1に記載の物品。 A coating or sheet form, the thickness is 0.1Myuemu~3,000myuemu, article of claim 1 6.
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