JP6277712B2 - Indicator - Google Patents

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Description

本発明は、偽造防止、装飾効果及び美的効果の提供に好適な表示体に関する。   The present invention relates to a display suitable for providing anti-counterfeiting, decorative effects, and aesthetic effects.

有価証券、証明書、ブランド品及び個人認証媒体などの物品は、偽造が困難であることが望まれる。そのため、このような物品には、偽造防止効果に優れた表示体を支持させることがある。   Articles such as securities, certificates, branded products and personal authentication media are desired to be difficult to counterfeit. For this reason, such an article may support a display body having an excellent anti-counterfeit effect.

このような表示体の多くは、回折格子、ホログラム及びレンズアレイなどの微細構造を含んでいる。これらの微細構造は、通常は解析することが困難である。また、これらの微細構造を含んだ表示体を製造するためには、電子線描画装置などの高価な製造設備が必要である。それゆえ、このような表示体は、高い偽造防止効果を発揮し得る。   Many of such displays include fine structures such as diffraction gratings, holograms, and lens arrays. These microstructures are usually difficult to analyze. Moreover, in order to manufacture a display body including these fine structures, expensive manufacturing equipment such as an electron beam drawing apparatus is required. Therefore, such a display body can exhibit a high anti-counterfeit effect.

また、このような表示体の視認性を高めるため、および偽造をより困難とするために、文字、ロゴ、または他のパターンの形をした金属反射層を付与することが知られている。   It is also known to provide a metallic reflective layer in the form of letters, logos or other patterns to increase the visibility of such displays and to make forgery more difficult.

従来より、パターン状の金属反射層を有する金属反射層のパターン化は、金属反射層上にマスク剤をポジパターンで印刷し、マスク剤で印刷されていない部分を腐食剤で腐食させることによりパターンを形成するエッチング加工によりパターン化されてきた。   Conventionally, patterning of a metal reflective layer having a patterned metal reflective layer is performed by printing a mask agent on the metal reflective layer with a positive pattern and corroding a portion not printed with the mask agent with a corrosive agent. It has been patterned by etching process to form.

例えば、金属反射層上にマスク剤をポジパターンで印刷し、マスク剤で印刷されていない部分を腐食剤で腐食させる加工方法として、特許文献1に記載の方法が知られている。   For example, a method described in Patent Document 1 is known as a processing method in which a mask agent is printed on a metal reflection layer in a positive pattern and a portion not printed with the mask agent is corroded with a corrosive agent.

また、反射層を高い位置精度で形成するために、深さ幅比が大きな凹凸構造を備えた第一の領域と、平坦であるかまたは深さ対幅比がより小さな凹凸構造を備えた第二の領域とを含んだレリーフ構造形成層を示す特許文献2が知られている。   In addition, in order to form the reflective layer with high positional accuracy, the first region having a concavo-convex structure with a large depth-width ratio and the first region having a concavo-convex structure that is flat or has a smaller depth-to-width ratio. Patent Document 2 showing a relief structure forming layer including two regions is known.

特開2005−7624号公報JP 2005-7624 A 国際公開第2010/147185号明細書International Publication No. 2010/147185

金属反射層上にマスク剤をポジパターンで印刷し、マスク剤で印刷されていない部分を腐食剤で腐食させる加工方法(特許文献1)は、マスク印刷のかすれから網点のばらつきが起きるため、比較的大きな解像度(例えば300dpi)が限界である。そのため、上記加工方法では、豊かな階調表現が難しい。   In the processing method (Patent Document 1) in which a mask agent is printed in a positive pattern on a metal reflective layer and a portion not printed with the mask agent is corroded with a corrosive agent, variation in halftone dots occurs due to fading of the mask printing. A relatively large resolution (for example, 300 dpi) is the limit. Therefore, rich gradation expression is difficult with the above processing method.

他方、細かい画素でのスムーズな階調表現、段階的な濃度の移り変わりを表現できる表示体が望まれている。   On the other hand, a display body capable of expressing smooth gradation expression with fine pixels and stepwise density transition is desired.

本発明の目的は、偽造防止効果、装飾効果、または美的効果を奏する表示体を提供することである。   An object of the present invention is to provide a display body that exhibits an anti-counterfeit effect, a decorative effect, or an aesthetic effect.

本発明の他の目的は、細かい画素でのスムーズな階調表現、段階的な濃度の移り変わりを表現できる表示体を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a display body capable of expressing smooth gradation expression with fine pixels and stepwise density transition.

本発明の課題を解決するための手段の一例は、光学構造形成層(16)および反射層(18)を含む表示体(10)であって、
前記光学構造形成層(16)が、その表面に複数のグラデーション構成要素領域を含み、
前記複数のグラデーション構成要素領域が、2つの界面領域をそれぞれ含み、
前記2つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられており、
前記一方の界面領域が、前記2つの界面領域のうちの他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有し、
単位面積当たりの前記一方の界面領域の見かけ上の面積の割合が、前記複数のグラデーション構成要素領域ごとに異なっており、
前記反射層(18)が、前記2つの界面領域のうち前記他方の界面領域上に選択的に形成されている、表示体である。
An example of means for solving the problems of the present invention is a display body (10) including an optical structure forming layer (16) and a reflective layer (18),
The optical structure-forming layer (16) includes a plurality of gradation component regions on its surface;
The plurality of gradation component regions each include two interface regions;
A plurality of concave portions or convex portions are provided in one interface region of the two interface regions,
The one interface region has a larger surface area to surface area ratio compared to the other of the two interface regions;
The ratio of the apparent area of the one interface region per unit area is different for each of the plurality of gradation component regions,
It is a display body in which the reflective layer (18) is selectively formed on the other interface region of the two interface regions.

ここで、前記他方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられていてもよい。   Here, a plurality of concave portions or convex portions may be provided in the other interface region.

また、前記複数のグラデーション構成要素領域が連続的または非連続的に配置されていることにより全体として滑らかなグラデーション表現を実現しているのが好ましい。   Further, it is preferable that a smooth gradation expression is realized as a whole by arranging the plurality of gradation component areas continuously or discontinuously.

あるいは、前記複数のグラデーション構成要素領域が、更なる界面領域を含み、前記更なる界面領域が鏡面として構成されていても良い。   Alternatively, the plurality of gradation component regions may include a further interface region, and the further interface region may be configured as a mirror surface.

また、前記反射層が金属を含む層として構成されているのが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said reflective layer is comprised as a layer containing a metal.

本発明の課題を解決するための手段の別の例は、光学構造形成層(16)および反射層(18)を含む表示体(10)であって、
前記光学構造形成層(16)が、その表面に第1グラデーション構成要素領域(D1)および前記第1グラデーション構成要素領域(D1)と異なる第2グラデーション構成要素領域(D2)を含み、
前記第1グラデーション構成要素領域(D1)が、第1界面領域(I1)および第2界面領域(I2)を含み、
前記第1界面領域(I1)に第1の複数の凹部または凸部(16a)が設けられており、
前記第1界面領域(I1)が、前記第2界面領域(I2)と比較して、より大きな見かけ上の面積(S1)に対する表面積の比を有し、
単位面積当たりの前記第2界面領域(I2)の見かけ上の面積(S2)の割合が、第1面積割合(A1)であり、
前記第2グラデーション構成要素領域(D2)が、第3界面領域(I3)および前記第3界面領域(I3)と異なる第4界面領域(I4)を含み、
前記第3界面領域(I3)に第3の複数の凹部または凸部(16c)が設けられており、
前記第3界面領域(I3)が、前記第4界面領域(I4)と比較して、より大きな見かけ上の面積(S3)に対する表面積の比を有し、
単位面積当たりの前記第4界面領域(I4)の見かけ上の面積(S4)の割合が、第2面積割合(A2)であり、
前記第2面積割合(A2)が前記第1面積割合(A1)より大きく、
前記反射層(18)が、前記第1界面領域(I1)および前記第2界面領域(I2)のうち前記第2界面領域(I2)上に選択的に形成され、かつ、前記第3界面領域(I3)および前記第4界面領域(I4)のうち前記第4界面領域(I4)上に選択的に形成されている、表示体である。
Another example of means for solving the problems of the present invention is a display body (10) including an optical structure forming layer (16) and a reflective layer (18),
The optical structure forming layer (16) includes a first gradation component region (D1) and a second gradation component region (D2) different from the first gradation component region (D1) on the surface thereof,
The first gradation component region (D1) includes a first interface region (I1) and a second interface region (I2);
A plurality of first concave portions or convex portions (16a) are provided in the first interface region (I1);
The first interface region (I1) has a larger surface area to surface area (S1) ratio compared to the second interface region (I2);
The ratio of the apparent area (S2) of the second interface region (I2) per unit area is the first area ratio (A1),
The second gradation component region (D2) includes a third interface region (I3) and a fourth interface region (I4) different from the third interface region (I3);
A third plurality of recesses or protrusions (16c) are provided in the third interface region (I3);
The third interface region (I3) has a larger surface area to surface area (S3) ratio compared to the fourth interface region (I4);
The ratio of the apparent area (S4) of the fourth interface region (I4) per unit area is the second area ratio (A2),
The second area ratio (A2) is larger than the first area ratio (A1);
The reflective layer (18) is selectively formed on the second interface region (I2) of the first interface region (I1) and the second interface region (I2), and the third interface region The display body is selectively formed on the fourth interface region (I4) among (I3) and the fourth interface region (I4).

本発明によれば、例えば偽造防止効果、装飾効果、または美的効果を奏する表示体を提供できる。あるいは、細かい画素でのスムーズな階調表現、段階的な濃度の移り変わりを表現できる表示体を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a display body that exhibits, for example, an anti-counterfeit effect, a decorative effect, or an aesthetic effect. Alternatively, it is possible to provide a display body capable of expressing smooth gradation expression with fine pixels and stepwise density transition.

本発明の表示体の一例を概念的に示す横断面図である。It is a cross-sectional view which shows an example of the display body of this invention notionally. 本発明の表示体の別の例を概念的に示す横断面図である。It is a cross-sectional view which shows notionally another example of the display body of this invention. 本発明の表示体の形成過程の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the formation process of the display body of this invention. 本発明の表示体の別の例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows another example of the display body of this invention. 図4のA部分の拡大図である。It is an enlarged view of the A part of FIG. 図4のB部分の拡大図である。It is an enlarged view of the B part of FIG. 互いに隣接したグラデーション構成要素領域の一例を示す。図中の数値は面積割合の例を示す。An example of the gradation component area | region adjacent to each other is shown. The numerical value in the figure shows an example of the area ratio. 互いに離間した複数のグラデーション構成要素領域とこれに隣接したグラデーション構成要素領域との組み合わせの一例を示す。図中の数値は面積割合の例を示す。An example of a combination of a plurality of gradation component regions spaced apart from each other and a gradation component region adjacent thereto is shown. The numerical value in the figure shows an example of the area ratio. 互いに隣接した複数のグラデーション構成要素領域を1単位とした例を示す。図中の数値は面積割合の例を示す。An example in which a plurality of gradation component regions adjacent to each other is taken as one unit is shown. The numerical value in the figure shows an example of the area ratio.

以下、本発明を実施するための好適な形態を、図面を参照して説明する。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments for carrying out the invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の表示体の好適な形態の一例を概念的に示す横断面図である。図1において、表示体10は、光学構造形成層16、反射層18およびマスク層20をこの順に含む。図2は、本発明の表示体の使用例を概念的に示す横断面図である。なお、図2においてマスク層は図示省略されている。なお、以降の各図において同一または類似した機能を発揮する構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。   FIG. 1 is a cross-sectional view conceptually showing an example of a preferred embodiment of the display body of the present invention. In FIG. 1, the display body 10 includes an optical structure forming layer 16, a reflective layer 18, and a mask layer 20 in this order. FIG. 2 is a cross-sectional view conceptually showing an example of use of the display body of the present invention. In FIG. 2, the mask layer is not shown. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component which exhibits the same or similar function in each subsequent figure, and the description is abbreviate | omitted.

<支持体>
図2に示すように、表示体10の形成時に、光学構造形成層16を支持するため支持体12を設けることができる。支持体12は、後述する剥離兼保護層14を介して光学構造形成層16を支持する。なお、光学構造形成層16は、図示省略した基材上に接着層22を介して接着することができる。基材としては、PET等の公知のプラスチックフィルムを用いることができる。
<Support>
As shown in FIG. 2, a support 12 can be provided to support the optical structure forming layer 16 when the display 10 is formed. The support 12 supports the optical structure forming layer 16 via a peeling / protecting layer 14 described later. The optical structure forming layer 16 can be bonded to a base material (not shown) via the adhesive layer 22. As the substrate, a known plastic film such as PET can be used.

<剥離兼保護層>
剥離兼保護層14は、後述する光学構造形成層16の一方の面に配置し得る層である。例えば、光学構造形成層16と支持体12との間に、剥離兼保護層14を配置することができる。この場合、光学構造形成層16および剥離兼保護層14は、光学層を構成し、光学層は支持体12上に形成される。
<Peeling and protective layer>
The peeling / protecting layer 14 is a layer that can be disposed on one surface of an optical structure forming layer 16 described later. For example, the peeling / protecting layer 14 can be disposed between the optical structure forming layer 16 and the support 12. In this case, the optical structure forming layer 16 and the peeling / protecting layer 14 constitute an optical layer, and the optical layer is formed on the support 12.

剥離兼保護層14は、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ゴム樹脂、あるいはこの塩化ゴム樹脂とニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレンまたは塩酢ビ樹脂の混合物等から形成することができる。また、これらの材料にメラミン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂あるいは尿素樹脂等の熱硬化性樹脂を加えた材料により構成してもよい。剥離兼保護層14は、これらの層構成材料をグラビア法やマイクログラビア法などの公知のコーティング法を用いて0.1μmから10μmの厚さで基材上にコーティングすることにより形成することができる。   The release / protection layer 14 can be formed of a thermoplastic acrylic resin, a chlorinated rubber resin, or a mixture of the chlorinated rubber resin and nitrocellulose, acetylcellulose, cellulose acetate butyrate, polystyrene, or vinyl acetate resin. Moreover, you may comprise by the material which added thermosetting resins, such as a melamine resin, an alkyd resin, an epoxy resin, or a urea resin, to these materials. The peeling / protecting layer 14 can be formed by coating these layer constituent materials on a substrate with a thickness of 0.1 μm to 10 μm using a known coating method such as a gravure method or a micro gravure method. .

<光学構造形成層>
光学構造形成層16は、例えば光透過性の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び紫外線または電子線硬化性樹脂(以下、光硬化性樹脂ともいう)などの樹脂を使用して形成することができる。光学構造形成層16の材料として熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂を用いると、原版を用いた転写により、一方の主面に、凹構造または凸構造を容易に形成することができる。
<Optical structure forming layer>
The optical structure forming layer 16 may be formed using a resin such as a light transmissive thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ultraviolet ray or an electron beam curable resin (hereinafter also referred to as a photocurable resin). it can. When a thermoplastic resin, a thermosetting resin or a photocurable resin is used as the material of the optical structure forming layer 16, a concave structure or a convex structure can be easily formed on one main surface by transfer using an original plate. it can.

光透過性を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、ニトロセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリルスチレン共重合体、塩化ビニル及びポリメタクリル酸メチルが挙げられる。   Examples of the light-transmitting thermoplastic resin include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, nitrocellulose, polyethylene, polypropylene, acrylic styrene copolymer, vinyl chloride, and the like. Polymethyl methacrylate is mentioned.

光透過性を有する熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステルウレタン、アクリルウレタン、エポキシウレタン、シリコーン、エポキシ及びメラミン樹脂が挙げられる。   Examples of the light curable thermosetting resin include polyimide, polyamide, polyester urethane, acrylic urethane, epoxy urethane, silicone, epoxy, and melamine resin.

光硬化性樹脂とは、紫外線及び電子線などの光の照射によって硬化する樹脂をいう。光の照射によってラジカル重合する代表的な樹脂としては、分子中にアクリロイル基を有するアクリル樹脂が挙げられる。アクリル樹脂として、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系若しくはポリオールアクリレート系のオリゴマー若しくはポリマー、単官能、2官能若しくは多官能重合性(メタ)アクリル系モノマー(例えば、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−ヒドロキシメチルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートまたはペンタエリトリトールテトラアクリレート)またはそのオリゴマー若しくはポリマー、またはこれらの混合物が使用される。   The photocurable resin refers to a resin that is cured by irradiation with light such as ultraviolet rays and electron beams. A typical resin that undergoes radical polymerization upon irradiation with light includes an acrylic resin having an acryloyl group in the molecule. Examples of the acrylic resin include epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, and polyol acrylate oligomers or polymers, monofunctional, bifunctional, or polyfunctional polymerizable (meth) acrylic monomers (for example, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-hydroxymethyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate or pentaerythritol tetraacrylate) or oligomers or polymers thereof, or these A mixture of

<グラデーション構成要素領域>
光学構造形成層16は、その表面に複数のグラデーション構成要素領域を含む。複数のグラデーション構成要素領域は、典型的には互いに隣接しまたはその近くに位置する。本発明は、複数のグラデーション構成要素領域が互いに離間している構成も含む。図1に示された例において、光学構造形成層16は、その表面に第1グラデーション構成要素領域D1および第1グラデーション構成要素領域D1と異なる第2グラデーション構成要素領域D2を含む。複数のグラデーション構成要素領域が互いに離間している場合、複数のグラデーション構成要素領域間に例えば図2に示されるような平坦面領域dを配置してもよい。
<Gradation component area>
The optical structure forming layer 16 includes a plurality of gradation component regions on the surface thereof. The plurality of gradation component regions are typically located adjacent to or near each other. The present invention also includes a configuration in which a plurality of gradation component regions are separated from each other. In the example shown in FIG. 1, the optical structure forming layer 16 includes a first gradation component region D1 and a second gradation component region D2 different from the first gradation component region D1 on the surface thereof. When the plurality of gradation component regions are separated from each other, for example, a flat surface region d as shown in FIG. 2 may be arranged between the plurality of gradation component regions.

<界面領域>
複数のグラデーション構成要素領域は、2つの界面領域をそれぞれ含む。図1において、第1グラデーション構成要素領域D1は、第1界面領域I1および第2界面領域I2を含み、第2グラデーション構成要素領域D2は、第3界面領域I3および第4界面領域I4を含む。複数のグラデーション構成要素領域は、それぞれ界面領域を少なくとも2種類含んでいれば良い。複数のグラデーション構成要素領域は、同種または異種の界面領域を更に含んでいても良い。
<Interface area>
The plurality of gradation component regions each include two interface regions. In FIG. 1, the first gradation component region D1 includes a first interface region I1 and a second interface region I2, and the second gradation component region D2 includes a third interface region I3 and a fourth interface region I4. Each of the plurality of gradation component regions only needs to include at least two types of interface regions. The plurality of gradation component regions may further include the same type or different types of interface regions.

2つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられている。図1の第1グラデーション構成要素領域D1においては、第1界面領域I1に第1の複数の凹部または凸部16aが設けられている。これら第1の複数の凹部または凸部16aは、200〜1500nmの範囲内の最小中心間距離で二次元的に配置するのが好ましい。第1の複数の凹部または凸部16aは、典型的には、規則的に配置されている。第1の複数の凹部または凸部16aの各々は、典型的には順テーパ形状を有している。第1の複数の凹部または凸部16aの深さまたは高さは、典型的には0.3〜0.5μmの範囲にある。第1の複数の凹部または凸部16aの最小中心間距離に対する深さまたは高さの比(以下、アスペクト比ともいう)は、例えば、0.5〜1.5の範囲にある。これらの構造は、版を用いて光学構造形成層の形成時または形成後に形成することができる。   A plurality of concave portions or convex portions are provided in one of the two interface regions. In the first gradation component region D1 of FIG. 1, the first plurality of concave portions or convex portions 16a are provided in the first interface region I1. These first plurality of recesses or projections 16a are preferably arranged two-dimensionally with a minimum center-to-center distance within a range of 200 to 1500 nm. The first plurality of concave portions or convex portions 16a are typically arranged regularly. Each of the first plurality of concave portions or convex portions 16a typically has a forward tapered shape. The depth or height of the first plurality of recesses or protrusions 16a is typically in the range of 0.3 to 0.5 μm. The ratio of the depth or height (hereinafter also referred to as aspect ratio) to the minimum center-to-center distance of the first plurality of concave portions or convex portions 16a is, for example, in the range of 0.5 to 1.5. These structures can be formed during or after the formation of the optical structure forming layer using a plate.

他方の界面領域は、例えば虹色を呈する回折構造、白っぽく見える光散乱構造、または銀色を呈するアルミの鏡面等の無構造とすることができる。   The other interface region may be unstructured such as a rainbow-colored diffractive structure, a whitish light scattering structure, or a silver-colored aluminum mirror.

ここで界面領域の見かけ上の大きさとは、当該領域に平行な平面への当該領域の正射影の領域の最大長さまたは幅、あるいは、凹部または凸部を無視した当該領域の最大長さまたは幅を意味する。本願においては、超微細な反射層を含むグラデーション構成要素領域を、以下に詳述される方法で形成できるので、種々のグラデーション表現を実現できる。なお、本願において「グラデーション」とは、階調、ぼかし、濃淡、および濃淡の段階的変化を意味し、更に、連続的な濃度変化の他、非連続的な濃度変化を呈するステップパターンの変化をも意味し、「グラデーション表現」は、これらを実現する表現を意味するものとする。グラデーション表現は、典型的には、金属で形成された反射層が目で見て階調になっているものおよび混色するもの(並置混色等)すべてを含んでいる。特に複数のグラデーション構成要素領域を連続的に配置することにより、超微細な反射層を含むグラデーション構成要素領域も連続的に配置され、従来のマスク印刷等ではなし得なかった滑らかなグラデーション表現が実現可能となっている。   Here, the apparent size of the interface region is the maximum length or width of the orthogonal projection region of the region onto a plane parallel to the region, or the maximum length of the region ignoring the concave portion or the convex portion, or It means width. In the present application, since the gradation component area including the ultrafine reflection layer can be formed by the method described in detail below, various gradation expressions can be realized. In the present application, “gradation” means gradation, blurring, shading, and stepwise change in shading. Furthermore, in addition to continuous density change, step pattern change that exhibits non-continuous density change is also indicated. "Gradation expression" means an expression that realizes these. The gradation expression typically includes everything in which a reflective layer made of metal has a gradation as viewed with the eye and those that mix colors (such as juxtaposed color mixing). In particular, by arranging multiple gradation component areas continuously, gradation component areas including ultra-fine reflective layers are also arranged continuously, realizing smooth gradation expression that could not be achieved by conventional mask printing etc. It is possible.

一方の界面領域は、他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有している。ここで、領域の見かけ上の面積とは、当該領域に平行な平面への当該領域の正射影の面積、あるいは、凹部または凸部を無視した当該領域の面積を意味する。領域の表面積とは、凹部または凸部を考慮した当該領域の面積を意味する。図1の第1グラデーション構成要素領域D1においては、光学構造形成層16の第1界面領域I1の部分が、光学構造形成層16の第2界面領域I2の部分と比較して、より大きな見かけ上の面積S1に対する表面積の比を有している。この場合、第1界面領域I1の見かけ上の面積S1に対する表面積の比は、第1の凹部または凸部16aの深さまたは高さの値が第2界面領域I2の場合と比較して大きいため、比較的大きくなる。これに対し、第2界面領域I2の見かけ上の面積S2に対する表面積の比は、第2の凹部または凸部16bの深さまたは高さの値が第1界面領域I1の場合と比較して小さいため、比較的小さくなる。この場合、第1界面領域I1の見かけ上の面積S1に対する表面積の比は、第2界面領域I2の見かけ上の面積S1に対する表面積の比と比較して、大きい。   One interface region has a larger surface area to surface area ratio than the other interface region. Here, the apparent area of the region means the area of the orthogonal projection of the region onto a plane parallel to the region, or the area of the region ignoring the concave portion or the convex portion. The surface area of a region means the area of the region in consideration of a concave portion or a convex portion. In the first gradation component region D1 of FIG. 1, the portion of the first interface region I1 of the optical structure forming layer 16 is apparently larger than the portion of the second interface region I2 of the optical structure forming layer 16. The ratio of the surface area to the area S1. In this case, the ratio of the surface area to the apparent area S1 of the first interface region I1 is larger than that of the second interface region I2 in the depth or height of the first recess or protrusion 16a. , Become relatively large. On the other hand, the ratio of the surface area to the apparent area S2 of the second interface region I2 is smaller than the value of the depth or height of the second recess or protrusion 16b compared to the case of the first interface region I1. Therefore, it becomes relatively small. In this case, the ratio of the surface area to the apparent area S1 of the first interface region I1 is larger than the ratio of the surface area to the apparent area S1 of the second interface region I2.

図1に示された第2グラデーション構成要素領域D2の第3界面領域I3に設けられた第3の複数の凹部または凸部16c、および第4界面領域I4に設けられた第4の複数の凹部または凸部16dは、それぞれ第1グラデーション構成要素領域D1の第1界面領域I1に設けられた第1の複数の凹部または凸部16a、および第2界面領域I2に設けられた第2の複数の凹部または凸部16bと同一または類似の構成とすることができるため、その説明を省略する。   The third plurality of recesses or projections 16c provided in the third interface region I3 of the second gradation component region D2 shown in FIG. 1, and the fourth plurality of recesses provided in the fourth interface region I4 Alternatively, the convex portion 16d is a first plurality of concave portions or convex portions 16a provided in the first interface region I1 of the first gradation component region D1 and a second plurality of second provided in the second interface region I2. Since it can be set as the same or similar structure as the recessed part or the convex part 16b, the description is abbreviate | omitted.

単位面積当たりの一方の界面領域の見かけ上の面積の割合(百分率または比率)が、複数のグラデーション構成要素領域ごとに異なっている。単位面積は任意の面積に設定できるが、例えばある領域(単位領域ともいう)の一片が2〜80μm、好ましくは3〜60μm、更に好ましくは5〜10μmの正方形の面積とすることができる。単位面積(単位領域)内の各界面領域の凹部または凸部の分布は、典型的には一様であるが階調表現を含んでいても良い。上記割合は、1%〜100%の範囲で選択的に決定することができる。複数のグラデーション構成要素領域ごとに連続的に分布比率を変化させることでグラデーションを滑らかに表現できる。表示体の上記割合を実際に測定するためには、例えば光学顕微鏡などで拡大観察、撮像し構造の有無による濃淡情報から割合を把握することができる。   The ratio (percentage or ratio) of the apparent area of one interface area per unit area differs for each of the plurality of gradation component areas. The unit area can be set to an arbitrary area. For example, a piece of a certain region (also referred to as a unit region) can have a square area of 2 to 80 μm, preferably 3 to 60 μm, more preferably 5 to 10 μm. The distribution of the concave portions or convex portions of each interface region in the unit area (unit region) is typically uniform, but may include gradation expression. The ratio can be selectively determined in the range of 1% to 100%. The gradation can be smoothly expressed by continuously changing the distribution ratio for each of the plurality of gradation component areas. In order to actually measure the above-mentioned ratio of the display body, the ratio can be grasped from the density information based on the presence or absence of the structure by, for example, magnifying observation and imaging with an optical microscope or the like.

<反射層>
反射層18としては、例えば、アルミニウム、銀、錫、クロム、ニッケル、銅、金、およびこれらの合金からなる群から選択された金属を含む層として構成されることができる。この場合、反射層18は、典型的には、真空製膜法を用いて形成する。真空製膜法としては、例えば、真空蒸着法及びスパッタリング法が挙げられる。反射層の厚みは、例えば、1nm〜100nmの範囲内とする。
<Reflective layer>
The reflective layer 18 can be configured as a layer containing a metal selected from the group consisting of aluminum, silver, tin, chromium, nickel, copper, gold, and alloys thereof, for example. In this case, the reflective layer 18 is typically formed using a vacuum film forming method. Examples of the vacuum film forming method include a vacuum deposition method and a sputtering method. The thickness of the reflective layer is, for example, in the range of 1 nm to 100 nm.

反射層18は、表示の際に、視認性がより優れた像を表示させる役割を担っている。また、反射層18を設けることにより、光学構造形成層16の一方の主面に設けられた凹部または凸部の損傷を生じ難くすることも可能となる。   The reflective layer 18 plays a role of displaying an image with better visibility during display. Further, by providing the reflective layer 18, it is possible to make it difficult to cause damage to the concave portion or the convex portion provided on one main surface of the optical structure forming layer 16.

<マスク層>
反射層18を覆うようにマスク層20を設けることができる。マスク層20の材料としては、例えば、MgF、Sn、Cr、ZnS、ZnO、Ni、Cu、Au、Ag、TiO、MgO、SiO及びAl等の無機物を使用することができる。或いは、マスク層20の材料として、例えば、アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の重合性化合物等の重量平均分子量が1500以下の有機物や、これら重合性化合物と開始剤とを混合し、放射線硬化樹脂として気相堆積した後に、放射線照射によって重合させたものを使用することができる。或いは、マスク層20の材料として、金属アルコキシドや、金属アルコキシドを気相堆積した後これを重合させたものを使用してもよい。この際、気相堆積の後、重合させる前に、乾燥処理を行ってもよい。
<Mask layer>
A mask layer 20 can be provided so as to cover the reflective layer 18. The material of the mask layer 20, for example, can be used MgF 2, Sn, Cr, ZnS , ZnO, Ni, Cu, Au, Ag, TiO 2, MgO, inorganic substances such as SiO 2 and Al 2 O 3 . Alternatively, as a material for the mask layer 20, for example, an organic substance having a weight average molecular weight of 1500 or less such as a polymerizable compound such as acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, or the like, or a mixture of the polymerizable compound and an initiator is used to form a radiation curable resin. After vapor deposition, a polymerized by irradiation with radiation can be used. Alternatively, as a material for the mask layer 20, a metal alkoxide or a metal alkoxide deposited in a vapor phase and then polymerized may be used. At this time, after vapor deposition, drying may be performed before polymerization.

マスク層20の材料の気相堆積は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法又はCVD法を用いて行う。この気相堆積は、光学構造形成層16の表面に平行な面内方向について均一な密度で行うことが好ましい。   The vapor deposition of the material of the mask layer 20 is performed using, for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a CVD method. This vapor deposition is preferably performed at a uniform density in the in-plane direction parallel to the surface of the optical structure forming layer 16.

ここで、第1材料18a上に、第1界面領域I1の見かけ上の面積に対する第1界面領域I1の位置における第2材料20aの量の比と、第2界面領域I2の見かけ上の面積に対する第2界面領域I2の位置における第2材料20aの量との比が互いに等しくなるように、第2材料20aを積層する。   Here, on the first material 18a, the ratio of the amount of the second material 20a at the position of the first interface region I1 to the apparent area of the first interface region I1 and the apparent area of the second interface region I2 The second material 20a is stacked so that the ratio of the amount of the second material 20a at the position of the second interface region I2 is equal to each other.

上述したように、第1界面領域I1は、第2界面領域I2と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きい。従って、マスク層20が第1界面領域I1及び第2界面領域I2の表面形状に対応した表面形状を有するように上記の設定膜厚を定めた場合、第2材料20aのうち第1界面領域I1に対応した部分は、第2界面領域I2に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さくなる。   As described above, the first interface region I1 has a larger ratio of the surface area to the apparent area than the second interface region I2. Therefore, when the set film thickness is determined so that the mask layer 20 has surface shapes corresponding to the surface shapes of the first interface region I1 and the second interface region I2, the first interface region I1 of the second material 20a. The average film thickness of the portion corresponding to is smaller than that of the portion corresponding to the second interface region I2.

また、上記の設定膜厚を更に小さな値に定めることにより、第1界面領域I1に対応した部分では複数の凹部又は凸部16aの配置に対応して部分的に開口しており且つ第2界面領域I2に対応した部分では第2界面領域I2の表面形状に対応した表面形状を有したマスク層20を形成することができる。   Further, by setting the set film thickness to a smaller value, the portion corresponding to the first interface region I1 is partially opened corresponding to the arrangement of the plurality of concave portions or convex portions 16a, and the second interface. In the portion corresponding to the region I2, the mask layer 20 having a surface shape corresponding to the surface shape of the second interface region I2 can be formed.

こうして、マスク層20のうち第1、3界面領域I1、I3に対応した部分は、当該領域の表面形状に対応した表面形状を有するか、又は、当該領域に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口しているようにすることができる。図3に示す例では、マスク層20を形成するための第2材料20aが、反射層18を形成するための第1材料18aの上で、第1の複数の凹部または凸部16aの位置に部分的に開口した不連続膜を形成している。   Thus, portions of the mask layer 20 corresponding to the first and third interface regions I1 and I3 have a surface shape corresponding to the surface shape of the region, or a plurality of recesses or protrusions provided in the region. It can be made to open partially corresponding to arrangement | positioning. In the example shown in FIG. 3, the second material 20 a for forming the mask layer 20 is placed on the first material 18 a for forming the reflective layer 18 at the position of the first plurality of concave portions or convex portions 16 a. A partially open discontinuous film is formed.

図3に示された第2グラデーション構成要素領域D2の第1材料18aおよび第2材料20aは、それぞれ第1グラデーション構成要素領域D1の第1材料18aおよび第2材料20a同一の構成とすることができるため、その説明を省略する。   The first material 18a and the second material 20a of the second gradation component region D2 shown in FIG. 3 may have the same configuration as the first material 18a and the second material 20a of the first gradation component region D1, respectively. Since it is possible, the description is omitted.

なお、表示体においてマスク層は省略されることもある。   In the display body, the mask layer may be omitted.

<反応性材料>
本発明においては、第2材料を反応性材料と反応させることにより、反射層およびマスク層を、2つの界面領域のうち他方の界面領域上に選択的に形成する。
<Reactive material>
In the present invention, the reflective layer and the mask layer are selectively formed on the other interface region of the two interface regions by reacting the second material with the reactive material.

典型的には、第1材料18aおよび第2材料20aを設けた光学構造形成層18を、反応性材料と反応させる。反応性材料は、第2材料20aの材料との反応を生じ得る反応性ガス又は液である。反応性材料として、第2材料20aの材料を溶解可能なエッチング液を使用する場合、のエッチング液としては、典型的には、水酸化ナトリウム溶液、炭酸ナトリウム溶液及び水酸化カリウム溶液等のアルカリ性溶液を使用する。或いは、エッチング液として、塩酸、硝酸、硫酸及び酢酸等の酸性溶液を使用してもよい。   Typically, the optical structure forming layer 18 provided with the first material 18a and the second material 20a is reacted with a reactive material. The reactive material is a reactive gas or liquid that can cause a reaction with the material of the second material 20a. When an etching solution capable of dissolving the material of the second material 20a is used as the reactive material, the etching solution is typically an alkaline solution such as a sodium hydroxide solution, a sodium carbonate solution, or a potassium hydroxide solution. Is used. Alternatively, an acidic solution such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, and acetic acid may be used as the etching solution.

<具体的な手順>
本発明の表示体は、例えば次の手順で形成される。
(1)1ピクセル2〜80μの画像を用意する。
(2)市販のソフトウェアで画像をモノクロ(グレースケール)にする。
(3)市販のソフトウェアでディザ処理を行い白黒画像にする。
(4)上記白黒画像を、光学構造形成層の界面領域を設定するためのデータ(描画データ)として使用する。
(5)以下の方法で形成する。
<Specific procedure>
The display body of the present invention is formed by the following procedure, for example.
(1) Prepare an image of 2 to 80 μm per pixel.
(2) Make the image monochrome (grayscale) using commercially available software.
(3) Dithering with commercially available software to make a black and white image.
(4) The black and white image is used as data (drawing data) for setting the interface region of the optical structure forming layer.
(5) It is formed by the following method.

まず、図3に示すような複数の第1凹部または凸部16a〜16dを含んだ光学構造形成層16を準備する。図3において複数の第1凹部または凸部16aおよび複数の第1凹部または凸部16cの各凹部または凸部は同じ構造を有しており、複数の第2凹部または凸部16bおよび複数の第4凹部または凸部16dの各凹部または凸部は同じ構造を有している。この光学構造形成層16が、最終的な表示体の表面に対応する表面を有することになる。   First, an optical structure forming layer 16 including a plurality of first concave portions or convex portions 16a to 16d as shown in FIG. 3 is prepared. In FIG. 3, the plurality of first recesses or projections 16a and the plurality of first recesses or projections 16c have the same structure, and the plurality of second recesses or projections 16b and the plurality of first recesses or projections 16c. Each concave or convex portion of the four concave or convex portions 16d has the same structure. This optical structure forming layer 16 has a surface corresponding to the surface of the final display body.

次に、第1材料18aを複数の第1凹部または凸部16a〜dの全体に対して気相堆積させる。第1材料18aは、反射層18を形成するための材料である。第1材料18aは、複数の第1凹部または凸部16a〜dに対応した表面形状を有した連続膜を形成している。   Next, the first material 18a is vapor deposited on the whole of the plurality of first concave portions or convex portions 16a to 16d. The first material 18 a is a material for forming the reflective layer 18. The first material 18a forms a continuous film having a surface shape corresponding to the plurality of first concave portions or convex portions 16a to 16d.

更に、第2材料20aを第1材料18aに対して気相堆積させる。第2材料20aは、マスク層20を形成するための材料である。   Further, the second material 20a is vapor deposited on the first material 18a. The second material 20 a is a material for forming the mask layer 20.

図3に示す例では、第2材料20aのうち第1、3界面領域I1、I3に対応した部分は、第1材料18aの上で、それぞれ複数の凹部または凸部16a、16cに対応して部分的に開口した不連続膜を形成している。また、第2材料20aのうち第2、4界面領域I2、I4に対応した部分は、それぞれ複数の凹部または凸部16b、16dに対応した表面形状を有した連続膜を形成している。   In the example shown in FIG. 3, portions of the second material 20a corresponding to the first and third interface regions I1 and I3 correspond to the plurality of concave or convex portions 16a and 16c on the first material 18a, respectively. A partially open discontinuous film is formed. Further, portions of the second material 20a corresponding to the second and fourth interface regions I2 and I4 form a continuous film having a surface shape corresponding to the plurality of concave portions or convex portions 16b and 16d, respectively.

続いて、第1材料18aおよび第2材料20aを、第1材料18aすなわち反射層18の材料との反応を生じ得る反応性材料に曝す。そして、少なくとも第1、3界面領域I1、I3の位置で、第1材料18aとの反応を生じさせる。ここでは、反応性ガス又は液の一例として、第1材料18aすなわち反射層18の材料を溶解可能なエッチング液を使用する場合について説明する。   Subsequently, the first material 18 a and the second material 20 a are exposed to a reactive material that can cause a reaction with the first material 18 a, that is, the material of the reflective layer 18. Then, a reaction with the first material 18a is caused at least at the positions of the first and third interface regions I1 and I3. Here, a case where an etching solution capable of dissolving the first material 18a, that is, the material of the reflective layer 18 is used as an example of the reactive gas or liquid will be described.

図3に示すように、第2材料20aのうち第2、4界面領域I2、I4に対応した部分は連続膜を形成しているのに対し、第1、3界面領域I1、I3に対応した部分は、部分的に開口した不連続膜を形成している。これに起因して、第1材料18aのうち第1、3界面領域I1、I3に対応した部分は、第2、4界面領域I2、I4に対応した部分と比較してよりエッチングされ易い。   As shown in FIG. 3, the portion corresponding to the second and fourth interface regions I2 and I4 of the second material 20a forms a continuous film, whereas it corresponds to the first and third interface regions I1 and I3. The part forms a discontinuous film partially opened. As a result, portions of the first material 18a corresponding to the first and third interface regions I1 and I3 are more easily etched than portions corresponding to the second and fourth interface regions I2 and I4.

また、第1材料18aのうち第2材料20aによって被覆されていない部分が除去されると、第1材料18aには、第2材料20aの開口に対応した開口が生じる。エッチングを更に続けると、第1材料18aのエッチングは、各開口の位置で面内方向に進行する。その結果、第1、3界面領域I1、I3上では、第1材料18aのうち第2材料20aを支持している部分が、その上の第2材料20aと共に除去される。   Moreover, when the part which is not coat | covered with the 2nd material 20a among the 1st material 18a is removed, the opening corresponding to the opening of the 2nd material 20a will arise in the 1st material 18a. If the etching is further continued, the etching of the first material 18a proceeds in the in-plane direction at the position of each opening. As a result, on the first and third interface regions I1 and I3, a portion of the first material 18a supporting the second material 20a is removed together with the second material 20a thereon.

従って、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、第1材料18aのうち第1、3界面領域I1、I3に対応した部分のみを除去することができる。なお、この際、第1材料18aのうち第1、3界面領域I1、I3に対応する部分の除去に伴って、第2材料20aのうち第1、3界面領域I1、I3に対応した部分も除去される。   Accordingly, by adjusting the concentration and temperature of the etching solution, the etching processing time, etc., only the portions corresponding to the first and third interface regions I1 and I3 can be removed from the first material 18a. At this time, the portion corresponding to the first and third interface regions I1 and I3 in the second material 20a is also removed along with the removal of the portion corresponding to the first and third interface regions I1 and I3 in the first material 18a. Removed.

以上のようにして、図1に示す表示体10を得る。   The display body 10 shown in FIG. 1 is obtained as described above.

以下のようにして、光学構造形成層と反射層とマスク層との積層体を製造した。   A laminated body of the optical structure forming layer, the reflective layer, and the mask layer was manufactured as follows.

まず、紫外線硬化型樹脂の材料として、50.0質量部のウレタン(メタ)アクリレートと、30.0質量部のメチルエチルケトンと、20.0質量部の酢酸エチルと、1.5質量部の光開始剤とを含んだ組成物を準備した。ウレタン(メタ)アクリレートとしては、多官能性であり且つ分子量が6000であるものを使用した。光開始剤としては、チバスペシャリティー製「イルガキュア184」を使用した。   First, 50.0 parts by mass of urethane (meth) acrylate, 30.0 parts by mass of methyl ethyl ketone, 20.0 parts by mass of ethyl acetate, and 1.5 parts by mass of photoinitiator as materials for the ultraviolet curable resin A composition containing an agent was prepared. As the urethane (meth) acrylate, a polyfunctional one having a molecular weight of 6000 was used. As a photoinitiator, “Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty was used.

次に、厚みが23μmである透明PETフィルム上に、上記の組成物を、乾燥膜厚が1μmとなるように、グラビア印刷法によって塗布した。   Next, on the transparent PET film whose thickness is 23 micrometers, said composition was apply | coated by the gravure printing method so that a dry film thickness might be set to 1 micrometer.

次いで、複数の凸部が設けられた原版を版胴の円筒面に支持させ、この原版を先の塗膜に押し当てながら、PETフィルム側から紫外線を照射した。これにより、上記の紫外線硬化樹脂を硬化させた。この際、プレス圧力は2kgf/cmとし、プレス温度は80℃とし、プレススピードは10m/分とした。また、紫外線の照射は、高温水銀灯を用いて、300mJ/cmの強度で行った。ここで、上記原版は、光学構造形成層の界面領域を設定するためのデータ(描画データ)を用いて作成されたものである。 Next, the original plate provided with a plurality of convex portions was supported on the cylindrical surface of the plate cylinder, and ultraviolet rays were irradiated from the PET film side while pressing the original plate against the previous coating film. Thereby, said ultraviolet curable resin was hardened. At this time, the press pressure was 2 kgf / cm 2 , the press temperature was 80 ° C., and the press speed was 10 m / min. Moreover, the ultraviolet irradiation was performed at a strength of 300 mJ / cm 2 using a high-temperature mercury lamp. Here, the original plate is created using data (drawing data) for setting the interface region of the optical structure forming layer.

以上のようにして、複数の界面領域を含んだ主面を有した光学構造形成層を得た。   As described above, an optical structure forming layer having a main surface including a plurality of interface regions was obtained.

この光学構造形成層の一方の界面領域には、その全体に、正方格子状に配列した複数の凹部を形成した。これら凹部の形状は、角錐状とした。また、これら凹部の最小中心間距離は、333nmとした。そして、これら凹部の開口部の幅は333nmとし、深さは333nmとした。即ち、前記一方の界面領域には、溝の開口部の幅に対する深さの比が333nm/333nm=1.0である複数の凹部を形成した。   In one interface region of the optical structure forming layer, a plurality of concave portions arranged in a square lattice shape were formed on the entire interface region. The shape of these recesses was a pyramid shape. The minimum distance between the centers of these recesses was 333 nm. And the width | variety of the opening part of these recessed parts was 333 nm, and the depth was 333 nm. That is, in the one interface region, a plurality of recesses having a depth ratio to the width of the groove opening of 333 nm / 333 nm = 1.0 were formed.

また、この光学構造形成層の他方の界面領域には、その全体に、規則的に配列した複数の溝を形成した。これら溝の断面形状は、V字形状とした。また、これら溝のピッチは1000nmとした。そして、これら溝の開口部の幅は1000nmとし、深さは100nmとした。即ち、前記他方の界面領域には、溝の開口部の幅に対する深さの比が100nm/1000nm=0.1である複数の溝を形成した。   A plurality of regularly arranged grooves were formed in the other interface region of the optical structure forming layer. The cross-sectional shape of these grooves was V-shaped. The pitch of these grooves was 1000 nm. And the width | variety of the opening part of these groove | channels was 1000 nm, and the depth was 100 nm. That is, a plurality of grooves having a ratio of the depth to the width of the groove opening portion of 100 nm / 1000 nm = 0.1 was formed in the other interface region.

続いて、光学構造形成層の上記主面上に、反射層を形成するための第1材料として、Alを真空蒸着させた。この際、反射層の設定膜厚は、50nmとした。   Subsequently, Al was vacuum-deposited as a first material for forming a reflective layer on the main surface of the optical structure forming layer. At this time, the set film thickness of the reflective layer was 50 nm.

その後、第1材料の層の光学構造形成層とは反対側の主面上に、マスク層を形成するための第2材料として、MgFを真空蒸着させた。なお、この際、MgFの設定膜厚は、20nmとした。 Thereafter, MgF 2 was vacuum deposited as a second material for forming a mask layer on the main surface of the first material layer opposite to the optical structure forming layer. At this time, the set film thickness of MgF 2 was 20 nm.

以上のようにして、光学構造形成層と反射層とマスク層との積層体を得た。   As described above, a laminate of the optical structure forming layer, the reflective layer, and the mask layer was obtained.

次に、上述の積層体を、エッチング処理に供した。具体的には、この積層体を、濃度が0.1mol/Lで、液温が60℃の水酸化ナトリウム水溶液に7秒間に亘って曝した。これにより、第1材料の層及び第2材料の層のうち前記他方の界面領域に対応した部分を除去した。   Next, the above laminate was subjected to an etching process. Specifically, this laminate was exposed to an aqueous sodium hydroxide solution having a concentration of 0.1 mol / L and a liquid temperature of 60 ° C. for 7 seconds. As a result, the portion corresponding to the other interface region was removed from the first material layer and the second material layer.

図4は、本発明の表示体の別の例を示す説明図である。図5は、図4のA部分の拡大図である。図6は、図4のB部分の拡大図である。   FIG. 4 is an explanatory view showing another example of the display body of the present invention. FIG. 5 is an enlarged view of a portion A in FIG. 6 is an enlarged view of a portion B in FIG.

図4において、表示体30は、複数のグラデーション構成要素領域として多数のグラデーション構成要素領域を含んでいて連続的で滑らかなグラデーション表現を実現している表示体である。図4においては、これら多数のグラデーション構成要素領域のうち、3つのグラデーション構成要素領域が示されている。表示体が連続的で滑らかなグラデーション表現を実現している場合は、表示体は多数のグラデーション構成要素領域を含むが、そのような表示体は、互いに隣接したグラデーション構成要素領域を多数組含む表示体として理解することができる(図7)。なお、本願の表示体は、連続的なグラデーション表現を含む表示体であっても良いし、非連続的なグラデーション表現を含む表示体であっても良い。ここで、本願において連続的なグラデーション表現を含む表示体は、互いに離間した任意の2つのグラデーション構成要素領域を含む表示体を含み、互いに離間した複数のグラデーション構成要素領域とこれに隣接したグラデーション構成要素領域とを組み合わせた表示体を含む(図8)。また、本願の表示体は、互いに隣接した複数のグラデーション構成要素領域を1単位として(図9)、段階的にならべた表示体を含む。非連続的なグラデーション表現は、例えば点描様のグラデーション表現であり、ディザ(誤差拡散やパターンなど)によるグラデーション表現とすることができる。なお、1つのグラデーション構成要素領域内で、第1界面領域および第2界面領域が、規則的に、不規則に、一様に、またはグラデーション表現を実現するように、分布していても良い。   In FIG. 4, a display body 30 is a display body that includes a large number of gradation component areas as a plurality of gradation component areas and realizes continuous and smooth gradation expression. FIG. 4 shows three gradation component regions among these many gradation component regions. When the display body realizes a continuous and smooth gradation expression, the display body includes a large number of gradation component areas, but such a display body includes a plurality of sets of gradation component areas adjacent to each other. It can be understood as a body (FIG. 7). The display body of the present application may be a display body including a continuous gradation expression or a display body including a discontinuous gradation expression. Here, the display body including a continuous gradation expression in this application includes a display body including two arbitrary gradation component areas separated from each other, and a plurality of gradation component areas separated from each other and a gradation structure adjacent thereto. A display body combined with element regions is included (FIG. 8). Further, the display body of the present application includes a display body that is arranged step by step with a plurality of gradation component regions adjacent to each other as one unit (FIG. 9). The discontinuous gradation expression is, for example, a stippled gradation expression, and can be a gradation expression by dithering (error diffusion, pattern, etc.). Note that, within one gradation component area, the first interface area and the second interface area may be distributed regularly, irregularly, uniformly, or so as to realize gradation expression.

ここで、例えば単位面積当たりの第2界面領域I2の見かけ上の面積S2の割合を、第1面積割合A1とする。あるいは、第1界面領域I1の単位面積当たりの見かけ上の面積をS1とし、第2界面領域I2の単位面積当たりの見かけ上の面積をS2としたとき、第2界面領域I2の単位面積当たりの見かけ上の面積S2の、第1界面領域I1の単位面積当たりの見かけ上の面積S1および第2界面領域I2の単位面積当たりの見かけ上の面積S2の合計に対する比を、第1面積割合A1としても良い。図示された例においては、第1面積割合A1は20%である。   Here, for example, the ratio of the apparent area S2 of the second interface region I2 per unit area is defined as a first area ratio A1. Alternatively, when the apparent area per unit area of the first interface region I1 is S1, and the apparent area per unit area of the second interface region I2 is S2, the unit area of the second interface region I2 per unit area The ratio of the apparent area S2 to the total of the apparent area S1 per unit area of the first interface region I1 and the apparent area S2 per unit area of the second interface region I2 is defined as a first area ratio A1. Also good. In the illustrated example, the first area ratio A1 is 20%.

また、単位面積当たりの第4界面領域I4の見かけ上の面積S4の割合を、第2面積割合A2とする。あるいは、第3界面領域I3の単位面積当たりの見かけ上の面積をS3とし、第4界面領域I4の単位面積当たりの見かけ上の面積をS4としたとき、第4界面領域I4の単位面積当たりの見かけ上の面積をS4の、第3界面領域I3の単位面積当たりの見かけ上の面積S3および第4界面領域I4の単位面積当たりの見かけ上の面積S4の合計に対する比を、第2面積割合A2としても良い。図示された例においては、第2面積割合A2は50%である。   Further, the ratio of the apparent area S4 of the fourth interface region I4 per unit area is defined as a second area ratio A2. Alternatively, when the apparent area per unit area of the third interface region I3 is S3 and the apparent area per unit area of the fourth interface region I4 is S4, the fourth interface region I4 per unit area The ratio of the apparent area S4 to the sum of the apparent area S3 per unit area of the third interface region I3 and the apparent area S4 per unit area of the fourth interface region I4 is defined as the second area ratio A2. It is also good. In the illustrated example, the second area ratio A2 is 50%.

ここで、第1グラデーション構成要素領域D1の第1面積割合20%は、光学顕微鏡で拡大観察、撮像し構造の有無による濃淡情報から割合を把握した。こうして、第1界面領域と、第2界面領域の面積分割によりグラデーション表現を行った。   Here, the first area ratio 20% of the first gradation component area D1 was obtained by enlarging observation and imaging with an optical microscope and grasping the ratio from the density information based on the presence or absence of the structure. In this way, gradation expression is performed by area division of the first interface region and the second interface region.

なお、本発明は第1グラデーション構成要素領域D1および第2グラデーション構成要素領域D2と異なる第3表領域D3を更に含むことができる。第3グラデーション構成要素領域D3は、第5界面領域および第6界面領域を含み、第1グラデーション構成要素領域D1の第1面積割合および第2グラデーション構成要素領域の第2面積割合と異なる第3面積割合を有することができるが、第1グラデーション構成要素領域D1および第2グラデーション構成要素領域D2の説明を援用できるので、その説明を省略する。   The present invention can further include a third table region D3 different from the first gradation component region D1 and the second gradation component region D2. The third gradation component region D3 includes a fifth interface region and a sixth interface region, and has a third area different from the first area ratio of the first gradation component region D1 and the second area ratio of the second gradation component region. Although it can have a ratio, the description of the first gradation component region D1 and the second gradation component region D2 can be used, and the description thereof is omitted.

本発明は、上記具体的な態様または実施例に記載された記載に限定されない。特に、特許請求の範囲の参照符号の記載は、本発明の理解を容易にする目的にのみ用いられるものであり、本発明の範囲は参照符号の記載に何ら限定されるものではない。本願発明から逸脱しない範囲で、具体的な態様または実施例に記載された内容の各要素の組み合わせや様々な変形が可能である。   The present invention is not limited to the description described in the specific embodiments or examples. In particular, the description of the reference signs in the claims is used only for the purpose of facilitating the understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the description of the reference signs. Combinations and various modifications of the elements described in the specific embodiments or examples can be made without departing from the present invention.

10 表示体
12 支持体
14 剥離兼保護層
16 光学構造形成層
16a〜16d 複数の第1〜4凹部または凸部
18 反射層
18a 第1材料
20 マスク層
20a 第2材料
22 接着層
D1〜D2 第1〜2グラデーション構成要素領域
I1〜I4 第1〜4界面領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Display body 12 Support body 14 Peeling and protection layer 16 Optical structure formation layer 16a-16d Several 1st-4th recessed part or convex part 18 Reflective layer 18a 1st material 20 Mask layer 20a 2nd material 22 Adhesive layer D1-D2 1-2 gradation component area I1-I4 1st-4th interface area

Claims (4)

光学構造形成層(16)および反射層(18)を含む表示体(10)であって、
前記光学構造形成層(16)が、その表面に第1グラデーション構成要素領域(D1)および前記第1グラデーション構成要素領域(D1)と異なる第2グラデーション構成要素領域(D2)を含み、
前記第1グラデーション構成要素領域(D1)が、第1界面領域(I1)および第2界面領域(I2)を含み、
前記第1界面領域(I1)に第1の複数の凹部または凸部(16a)が設けられており、前記第2界面領域(I2)に第2の複数の凹部または凸部(16b)が設けられており、
前記第1界面領域(I1)が、前記第2界面領域(I2)と比較して、より大きな見かけ上の面積(S1)に対する表面積の比を有し、
単位面積当たりの前記第2界面領域(I2)の見かけ上の面積(S2)の割合が、第1面積割合(A1)であり、
前記第2グラデーション構成要素領域(D2)が、第3界面領域(I3)および前記第3界面領域(I3)と異なる第4界面領域(I4)を含み、
前記第3界面領域(I3)に第3の複数の凹部または凸部(16c)が設けられており、前記第4界面領域(I4)に第4の複数の凹部または凸部(16d)が設けられており、
前記第3界面領域(I3)が、前記第4界面領域(I4)と比較して、より大きな見かけ上の面積(S3)に対する表面積の比を有し、
単位面積当たりの前記第4界面領域(I4)の見かけ上の面積(S4)の割合が、第2面積割合(A2)であり、
前記第2面積割合(A2)が前記第1面積割合(A1)より大きく、
前記反射層(18)が、前記第1界面領域(I1)および前記第2界面領域(I2)のうち前記第2界面領域(I2)の第2の複数の凹部または凸部(16b)上に選択的に形成され、かつ、前記第3界面領域(I3)および前記第4界面領域(I4)のうち前記第4界面領域(I4)の第4の複数の凹部または凸部(16d)上に選択的に形成されており、
前記第4の複数の凹部または凸部(16d)上に選択的に形成された前記反射層(18)の見かけ上の面積の割合が、前記第2の複数の凹部または凸部(16b)上に選択的に形成された前記反射層(18)の見かけ上の面積の割合よりも大きいことにより、前記表示体がグラデーション表現を実現している、表示体。
A display (10) comprising an optical structure forming layer (16) and a reflective layer (18),
The optical structure forming layer (16) includes a first gradation component region (D1) and a second gradation component region (D2) different from the first gradation component region (D1) on the surface thereof,
The first gradation component region (D1) includes a first interface region (I1) and a second interface region (I2);
The first interface region (I1) is provided with a plurality of first recesses or projections (16a), and the second interface region (I2) is provided with a plurality of second recesses or projections (16b). And
The first interface region (I1) has a larger surface area to surface area (S1) ratio compared to the second interface region (I2);
The ratio of the apparent area (S2) of the second interface region (I2) per unit area is the first area ratio (A1),
The second gradation component region (D2) includes a third interface region (I3) and a fourth interface region (I4) different from the third interface region (I3);
The third interface region (I3) is provided with a third plurality of recesses or projections (16c), and the fourth interface region (I4) is provided with a fourth plurality of recesses or projections (16d). And
The third interface region (I3) has a larger surface area to surface area (S3) ratio compared to the fourth interface region (I4);
The ratio of the apparent area (S4) of the fourth interface region (I4) per unit area is the second area ratio (A2),
The second area ratio (A2) is larger than the first area ratio (A1);
The reflective layer (18) is on the second plurality of concave portions or convex portions (16b) of the second interface region (I2) among the first interface region (I1) and the second interface region (I2). Selectively formed on the fourth plurality of recesses or protrusions (16d) of the fourth interface region (I4) of the third interface region (I3) and the fourth interface region (I4). Selectively formed ,
The ratio of the apparent area of the reflective layer (18) selectively formed on the fourth plurality of recesses or projections (16d) is higher than that on the second plurality of recesses or projections (16b). A display body in which the display body realizes gradation expression by being larger than a ratio of an apparent area of the reflection layer (18) selectively formed .
前記第1グラデーション構成要素領域(D1)および前記第2グラデーション構成要素領域(D2)が連続的または非連続的に配置されていることにより全体として滑らかなグラデーション表現を実現している、請求項1に記載の表示体。  The smooth gradation expression as a whole is realized by arranging the first gradation component area (D1) and the second gradation component area (D2) continuously or discontinuously. Display body described in 1. 前記第1グラデーション構成要素領域(D1)または前記第2グラデーション構成要素領域(D2)が、更なる界面領域を含み、前記更なる界面領域が鏡面として構成されている、請求項1または2に記載の表示体。  The said 1st gradation component area | region (D1) or the said 2nd gradation component area | region (D2) contains the further interface area | region, and the said further interface area | region is comprised as a mirror surface. The display body. 前記反射層(18)が金属を含む層として構成されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の表示体。  The display body according to any one of claims 1 to 3, wherein the reflective layer (18) is configured as a layer containing a metal.
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