JP6266918B2 - Joined body of ceramic body and Ni-Cr-Fe alloy, and joining method of ceramic body and Ni-Cr-Fe alloy - Google Patents

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Description

本発明は、セラミック体と金属体との接合体、およびセラミック体と金属体との接合方法に関する。   The present invention relates to a joined body between a ceramic body and a metal body, and a joining method between the ceramic body and the metal body.

セラミック基板などのセラミック体と金属基板などの金属体とを接合する方法としては、例えば下記特許文献1に記載されているように、Tiなどの活性金属を含む金属層を介してセラミック体と金属体とを接合する活性金属法が従来から利用されている。代表的な活性金属法として、AgとCuとTiとを含む金属層(Ag−Cu−Tiメタライズ層)を用いる方法がある。   As a method of joining a ceramic body such as a ceramic substrate and a metal body such as a metal substrate, for example, as described in Patent Document 1 below, the ceramic body and the metal are interposed via a metal layer containing an active metal such as Ti. An active metal method for joining the body has been conventionally used. As a typical active metal method, there is a method using a metal layer (Ag—Cu—Ti metallized layer) containing Ag, Cu and Ti.

特開平2−252682号公報JP-A-2-252682

しかし、このAg−Cu−Tiメタライズ層を用いた活性金属法で接合された接合体を、例えば800℃より高い高温雰囲気下に配置すると、セラミック体と金属体との接合強度が低下してしまうといった問題点があった。   However, when the joined body joined by the active metal method using the Ag-Cu-Ti metallized layer is disposed in a high-temperature atmosphere higher than 800 ° C., for example, the joining strength between the ceramic body and the metal body is lowered. There was a problem.

Ag−Cu−Tiメタライズ層を用いた活性金属法では、メタライズ層内でAgとCuとが共晶を形成している。AgとCuとが共晶を形成する温度(共晶点)は約780℃であり、Ag−Cu−Tiメタライズ層は、AgとCuとTiとを含むペーストを800℃程度の温度で焼成することで形成される。このAg−Cu−Tiメタライズ層を用いた活性金属法で接合された接合体を、例えば800℃より高い高温雰囲気下に配置すると、AgとCuとの共晶状態が変化するとともに、このAgとCuとの共晶が一部溶融してメタライズ層が劣化する。これが、セラミック体と金属体との接合強度が低下してしまう原因であると考えられる。このように、セラミック体と金属体との接合は高温雰囲気下で劣化して接合強度が低下し易いので、高温で用いることが難しいといった課題があった。本願発明は、かかる課題を解決することを目的とする。   In the active metal method using an Ag—Cu—Ti metallization layer, Ag and Cu form a eutectic in the metallization layer. The temperature at which Ag and Cu form a eutectic (eutectic point) is about 780 ° C., and the Ag—Cu—Ti metallized layer is obtained by baking a paste containing Ag, Cu, and Ti at a temperature of about 800 ° C. Is formed. When a joined body joined by an active metal method using this Ag—Cu—Ti metallized layer is placed in a high temperature atmosphere higher than 800 ° C., for example, the eutectic state of Ag and Cu changes, and this Ag and Cu The eutectic with Cu partially melts and the metallized layer deteriorates. This is considered to be the cause of the decrease in the bonding strength between the ceramic body and the metal body. As described above, since the bonding between the ceramic body and the metal body is deteriorated in a high temperature atmosphere and the bonding strength is easily lowered, there is a problem that it is difficult to use at a high temperature. The present invention aims to solve such a problem.

上記課題を解決するために、本願発明は、セラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合体であって、前記セラミック体と前記金属体とが、Agを主成分とし、Cu、Ti、Ni、さらにCrが含有された接合層を介して接合されており、前記接合層は、前記Cr−Ni基合金と接する部分が、Agを主成分としてCuを含んでいることを特徴とするセラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合体を提供する。 In order to solve the above problems, the present invention is a joined body of a ceramic body and a Ni-Cr-Fe alloy, wherein the ceramic body and the metal body are mainly composed of Ag, Cu, Ti, Ni Further, the ceramic body is bonded through a bonding layer containing Cr, and a portion of the bonding layer in contact with the Cr-Ni-based alloy contains Cu containing Ag as a main component. And a Ni—Cr—Fe alloy joined body.

本発明のセラミック体と金属体との接合体は、例えば800℃以上の高い高温雰囲気下に配置した場合であっても、接合強度を比較的高く保つことができる。   Even when the joined body of the ceramic body and the metal body of the present invention is disposed in a high temperature atmosphere of, for example, 800 ° C. or higher, the joint strength can be kept relatively high.

(a)および(b)は、本発明のセラミック体と金属体との接合体の一実施形態について説明する概略断面図であり、(a)は全体図、(b)は(a)の一部(図1(a)に示す領域A)を拡大して示している。(A) And (b) is a schematic sectional drawing explaining one Embodiment of the joined body of the ceramic body and metal body of this invention, (a) is a general view, (b) is one of (a). The part (area A shown in FIG. 1 (a)) is shown enlarged. (a)〜(e)は、本発明のセラミック体と金属体との接合方法の一実施形態における概略断面図である。(A)-(e) is a schematic sectional drawing in one Embodiment of the joining method of the ceramic body and metal body of this invention. (a)は本発明のセラミック体と金属体との接合体の一実施形態の断面を、走査型電子顕微鏡で観察して得られた写真(断面SEM写真)である。また(b)〜(f)は、(a)に示す断面SEM写真を取得する際に測定した、当該断面における元素の分布状態を示す図であり、(b)はAgの分布、(c)はCuの分布、(d)はTiの分布、(e)はCrの分布、(f)はNiの分布をそれぞれ示している。(A) is the photograph (cross-sectional SEM photograph) obtained by observing the cross section of one Embodiment of the joined body of the ceramic body and metal body of this invention with a scanning electron microscope. Moreover, (b)-(f) is a figure which shows the distribution state of the element in the said cross section measured when acquiring the cross-sectional SEM photograph shown to (a), (b) is distribution of Ag, (c). Is a Cu distribution, (d) is a Ti distribution, (e) is a Cr distribution, and (f) is a Ni distribution. セラミック体と金属体との接合体の一実施形態における熱処理前後の接合強度の変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change of the joint strength before and behind heat processing in one Embodiment of the joined body of a ceramic body and a metal body.

以下、本発明のセラミック体と金属体との接合体、および接合方法について詳細に説明する。図1(a)および(b)は、本発明のセラミック体と金属体との接合体の一実施形態である接合体10における概略断面図であり、(a)は全体図、(b)は図1(a)に示す領域Aを拡大して示している。   Hereinafter, the joined body of the ceramic body and the metal body and the joining method of the present invention will be described in detail. 1A and 1B are schematic cross-sectional views of a joined body 10 as an embodiment of a joined body of a ceramic body and a metal body according to the present invention, where FIG. 1A is an overall view, and FIG. The area A shown in FIG.

本実施形態の接合体10は、セラミック体12と金属体14との接合体であって、セラミック体12と金属体14とが、Agを主成分とし、Cu、Ti、Ni、さらにCrが含有された接合層16を介して接合されている。セラミック体12は、例えばAlを主成分とする。本実施形態のセラミック体12は例えばAlを主成分とする板状の部材であるが、本発明のセラミック体の材質や形状については特に限定されない。金属体14は例えばNiを76%、Crを16%、Feを8%含む合金(いわゆるインコネル)を主成分とする板状部材である。この合金(インコネル)は耐熱性が高く例えば900℃以上の高温でも酸化し難いことが知られている。またセラミック体12は、アルミナを主成分とするセラミックスである。アルミナは比較的安価で耐熱性も高いセラミックスであり、例えば焼成炉や単結晶製造装置炉の炉壁など、1000℃以上の高温環境下で使用する部材の材料としてよく利用されている。 The joined body 10 of the present embodiment is a joined body of a ceramic body 12 and a metal body 14, and the ceramic body 12 and the metal body 14 contain Ag as a main component and contain Cu, Ti, Ni, and Cr. Bonded via the bonded layer 16. The ceramic body 12 contains, for example, Al 2 O 3 as a main component. Ceramic body 12 of this embodiment is a plate-like member mainly composed of for example, Al 2 O 3, there is no particular limitation on the material and shape of the ceramic body of the present invention. The metal body 14 is a plate-like member whose main component is, for example, an alloy (so-called inconel) containing 76% Ni, 16% Cr, and 8% Fe. It is known that this alloy (Inconel) has high heat resistance and is not easily oxidized even at a high temperature of, for example, 900 ° C. or higher. The ceramic body 12 is a ceramic mainly composed of alumina. Alumina is a ceramic that is relatively inexpensive and has high heat resistance, and is often used as a material for members used in a high-temperature environment of 1000 ° C. or higher, such as a furnace wall of a firing furnace or a single crystal manufacturing apparatus furnace.

接合体10は、例えばディーゼルエンジン内に配置されるセンサの電極部材などのように、セラミック体の有する機械的な耐久性と金属体の導電性とを有するとともに、使用状態において全体の最高温度が800℃〜900℃程度まで昇温する部分に用いられる部材である。   The joined body 10 has, for example, the mechanical durability of the ceramic body and the electrical conductivity of the metal body, such as an electrode member of a sensor disposed in a diesel engine. It is a member used for a portion where the temperature is raised to about 800 ° C to 900 ° C.

本実施形態においては、接合体10の接合層16内には、セラミック体12に接する、Tiを主成分とする第1チタン層22と、第1チタン層22よりも金属体14に近い側に配置された、Agを主成分としてCuを含む第1中間層32と、第1中間層32よりも金属体14に近い側に配置され、かつ第1チタン層32と離れて配置された、Tiを主成分とする第2チタン層24とを有し、さらに、第2チタン層24よりも金属体14に近い側に少なくとも配置されて第2チタン層24に接する、NiとCrとを含むニッケル−クロム層26とを有する。なお、接合層16は複数の層が積層されてもいいし、単層であってもよい。Agを主成分とする場合には、接合層16全体でAgを50質量%以上であればよい。接合層16における元素の含有割合や分布は、例えば公知のEDS(Energy Dispersive X−ray Spectroscopy)装置等を用いて測定する
ことができる。例えば日本電子製EDZ分析装置JED−2300を用い、加速電圧15kVの条件で分析すればよい。本実施形態の接合層16は、例えばAgを88.6質量%、Cuを8.6%、Tiを5質量%、Crを1.25質量%、Niを5質量%含んでいる。接合層におけるAgとCuとTiとCrとNiの含有割合は、例えばAgが60〜95質量%、Cuが1〜5質量%、Tiが1〜10質量%、Crが0.2〜5質量%、Niが3〜10質量%程度であれば好ましい。
In the present embodiment, in the bonding layer 16 of the bonded body 10, a first titanium layer 22 mainly composed of Ti that is in contact with the ceramic body 12, and closer to the metal body 14 than the first titanium layer 22. A first intermediate layer 32 containing Cu as a main component and containing Cu, and Ti arranged closer to the metal body 14 than the first intermediate layer 32 and arranged away from the first titanium layer 32. Nickel containing Ni and Cr, which is disposed at least closer to the metal body 14 than the second titanium layer 24 and is in contact with the second titanium layer 24. A chromium layer 26; Note that the bonding layer 16 may be a stack of a plurality of layers or a single layer. When Ag is the main component, Ag may be 50 mass% or more in the entire bonding layer 16. The element content and distribution in the bonding layer 16 can be measured using, for example, a known EDS (Energy Dispersive X-ray Spectroscopy) apparatus. For example, analysis may be performed under the condition of an acceleration voltage of 15 kV using an EDZ analyzer JED-2300 manufactured by JEOL. The bonding layer 16 of the present embodiment includes, for example, 88.6% by mass of Ag, 8.6% of Cu, 5% by mass of Ti, 1.25% by mass of Cr, and 5% by mass of Ni. The content ratios of Ag, Cu, Ti, Cr, and Ni in the bonding layer are, for example, 60 to 95 mass% for Ag, 1 to 5 mass% for Cu, 1 to 10 mass% for Ti, and 0.2 to 5 mass% for Cr. %, Ni is preferably about 3 to 10% by mass.

第1チタン層22は、接合に寄与する活性金属であるTiが拡散してセラミック体12の側に集中することで形成された層であり、Alを主成分とするセラミック体12と高い強度で接合している。接合層16は、セラミック体12と高い強度で接合されたこの第1チタン層22を有することで、本来は金属との濡れ性が低いセラミック体12の表面に比較的高強度に接合されている。第1中間層32は、第1チタン層22と第2チタン層24との間に配置されており、AgとCuとの共晶が含まれている。第1中間層32は、Tiを主成分とする第1チタン層22と、同じくTiを主成分とする第2チタン層24と高い強度で接合している。第2チタン層24は、活性金属であるTiのうちセラミック体12の側に拡散しなかった(セラミック体12との直接的な接合に寄与しなかった)分が集まって形成された層である。 The first titanium layer 22 is a layer formed by diffusing Ti, which is an active metal that contributes to bonding, and concentrating on the ceramic body 12 side. The first titanium layer 22 includes a ceramic body 12 mainly composed of Al 2 O 3 and Bonded with high strength. The bonding layer 16 has the first titanium layer 22 bonded to the ceramic body 12 with high strength, so that the bonding layer 16 is bonded to the surface of the ceramic body 12 that originally has low wettability with metal with relatively high strength. . The first intermediate layer 32 is disposed between the first titanium layer 22 and the second titanium layer 24, and contains a eutectic of Ag and Cu. The first intermediate layer 32 is bonded to the first titanium layer 22 containing Ti as a main component and the second titanium layer 24 also containing Ti as a main component with high strength. The second titanium layer 24 is a layer formed by collecting a part of Ti which is an active metal that did not diffuse to the ceramic body 12 side (which did not contribute to direct bonding with the ceramic body 12). .

Tiは比較的酸化し易く、かつ酸化することで脆くなり易い。接合層16の形成過程で接合層16に取り込まれた酸素がこの第2チタン層24に触れた場合は、第2チタン層24が酸化してこの第2チタン層24が脆くなってしまう。本実施形態の接合体10では、第2チタン層24に接するNiとCrとを含むニッケル−クロム層26が、第2チタン層24と酸素分子との接触を抑制するので、第2チタン層24が酸化し難く、接合体10を比較的高温雰囲気化に配置した場合であっても第2チタン層24が脆くなり難い。図1に示す実施形態ではニッケル−クロム層26は、第2チタン層24よりも金属体14に近い側のみに配置されているが、第2チタン層24よりもセラミック体12に近い側にももう一層配置されて、第2チタン層24を挟むように配置されていてもよい。ニッケル−クロム層26が第2チタン層24を挟むように配置されている場合は、第2チタン層24の酸化をより抑制することができる。また、ニッケル−クロム層26はCuを含んでおり、Cuを含有する第1中間層32との接合強度が高い。   Ti is relatively easy to oxidize, and easily fragile when oxidized. When oxygen taken into the bonding layer 16 in the process of forming the bonding layer 16 touches the second titanium layer 24, the second titanium layer 24 is oxidized and the second titanium layer 24 becomes brittle. In the joined body 10 of the present embodiment, the nickel-chromium layer 26 containing Ni and Cr in contact with the second titanium layer 24 suppresses the contact between the second titanium layer 24 and oxygen molecules. Are difficult to oxidize, and even when the bonded body 10 is placed in a relatively high temperature atmosphere, the second titanium layer 24 is unlikely to become brittle. In the embodiment shown in FIG. 1, the nickel-chrome layer 26 is disposed only on the side closer to the metal body 14 than the second titanium layer 24, but also on the side closer to the ceramic body 12 than the second titanium layer 24. Another layer may be disposed so as to sandwich the second titanium layer 24. When the nickel-chromium layer 26 is disposed so as to sandwich the second titanium layer 24, the oxidation of the second titanium layer 24 can be further suppressed. Further, the nickel-chromium layer 26 contains Cu, and the bonding strength with the first intermediate layer 32 containing Cu is high.

また接合層16はさらに、第2チタン層24と金属体14との間に配置された、Agを主成分としてCuを含む第2中間層34を有している。Agを主成分としてCuを含む第2中間層34は、第2チタン層24との接合強度が高く、また金属体14との接合強度も高い。   Further, the bonding layer 16 further includes a second intermediate layer 34 which is disposed between the second titanium layer 24 and the metal body 14 and contains Cu containing Ag as a main component. The second intermediate layer 34 containing Ag as a main component and containing Cu has high bonding strength with the second titanium layer 24 and high bonding strength with the metal body 14.

接合層16を構成する各層はそれぞれ接する隣り合った層との接合強度が高いので、金属体10では、セラミック体12と金属体14とが接合層16を介して比較的強固に結合している。また、NiとCrとを含むニッケル−クロム層26が第2チタン層24と酸素分子との接触を抑制しているので、高温雰囲気下に配置した場合でも、第2チタン層24の酸化が抑えられ、第2チタン層24自体が脆くなることが抑制されている。このため接合層16では、例えば800℃よりも高い高温雰囲気下に配置した場合であっても、セラミック体12と金属体14との接合強度を比較的高く保つことができる。接合体10は、例えばディーゼルエンジンの燃費を最適化させるために用いるセンサ部材や、エンジンやボイラー等からの排熱を電気エネルギーに変換する熱電変換器など、高い温度環境下で使用される色々な種類のデバイスの一部として使用することが可能であり、その用途については限定されない。   Since each layer constituting the bonding layer 16 has high bonding strength with the adjacent layers that are in contact with each other, in the metal body 10, the ceramic body 12 and the metal body 14 are bonded relatively firmly via the bonding layer 16. . In addition, since the nickel-chromium layer 26 containing Ni and Cr suppresses the contact between the second titanium layer 24 and oxygen molecules, the oxidation of the second titanium layer 24 is suppressed even when placed in a high temperature atmosphere. Thus, the second titanium layer 24 itself is suppressed from becoming brittle. For this reason, even if it is a case where it arrange | positions in the high temperature atmosphere higher than 800 degreeC, for example in the joining layer 16, the joining strength of the ceramic body 12 and the metal body 14 can be kept comparatively high. The joined body 10 is used in various high temperature environments such as a sensor member used for optimizing the fuel efficiency of a diesel engine, a thermoelectric converter that converts exhaust heat from an engine, a boiler, and the like into electric energy. It can be used as part of a type of device and its use is not limited.

本実施形態の接合体10は、例えば以下に示す方法で製造することができる。図2(a)〜(e)は、本発明のセラミック体と金属体との接合方法の一実施形態について説明する概略断面図である。   The joined body 10 of this embodiment can be manufactured by the method shown below, for example. 2A to 2E are schematic cross-sectional views illustrating an embodiment of a method for joining a ceramic body and a metal body according to the present invention.

例えばAlを主成分とするセラミック体12を準備し、Agを主成分とし、Cu、TiさらにCrが含有された粉末と、焼成助剤とが混合されたペーストをセラミック体の表面に塗布する。具体的には、例えば、Agの粉末とCuの粉末とTiの粉末とCrの粉末を所定量計量し、エチルセルロースなどのバインダーをテルピネオールなどの有機溶剤で溶解したビヒクルと上記粉体をミキサーで混合し、ペーストを作成する。次に、スク
リーン印刷法など公知の方法をもって、このペーストをセラミック体12表面の所定箇所に塗布して図2(a)に示すようにペースト層42を形成する。AgとCuとTiとCrの各粉末は、例えばAgが88質量%、Cuが5質量%、Tiが5質量%、Crが2質量%となるよう混合したものを用いればよい。AgとCuとTiとCrの各粉末は、例えばAgが70〜98質量%、Cuが1〜5質量%、Tiが1〜10質量%、Crが0.2〜5質量%程度であれば好ましい。
For example, a ceramic body 12 having Al 2 O 3 as a main component is prepared, and a paste in which a powder containing Ag, a Cu, Ti, and Cr mixture and a firing aid is mixed is applied to the surface of the ceramic body. Apply. Specifically, for example, a predetermined amount of Ag powder, Cu powder, Ti powder, and Cr powder are weighed, and a vehicle in which a binder such as ethyl cellulose is dissolved in an organic solvent such as terpineol and the above powder are mixed with a mixer. And create a paste. Next, this paste is applied to a predetermined portion of the surface of the ceramic body 12 by a known method such as a screen printing method to form a paste layer 42 as shown in FIG. For example, Ag, Cu, Ti, and Cr powders may be mixed such that Ag is 88% by mass, Cu is 5% by mass, Ti is 5% by mass, and Cr is 2% by mass. If each powder of Ag, Cu, Ti and Cr is, for example, Ag is 70 to 98% by mass, Cu is 1 to 5% by mass, Ti is 1 to 10% by mass, and Cr is about 0.2 to 5% by mass. preferable.

一般的ないわゆるAg−Cu−Tiメタライズに用いるペーストのAgとCuとTiの比率は、例えばAgが70質量%、Cuが20質量%、Tiが10%程度である。本実施形態では、一般的なAg−Cu−Tiメタライズに用いるペーストに対して、さらにCrを添加したものを用いている。また、一般的なAg−Cu−Tiメタライズに用いるペーストに対して、Cuの含有割合を比較的小さくしている。   The ratio of Ag, Cu, and Ti of a paste used for general so-called Ag—Cu—Ti metallization is, for example, about 70% by mass for Ag, 20% by mass for Cu, and about 10% for Ti. In the present embodiment, a paste further added with Cr is used for a paste used for general Ag—Cu—Ti metallization. In addition, the Cu content is relatively small with respect to the paste used for general Ag-Cu-Ti metallization.

次に、塗布したペースト(ペースト層42)を焼成して、図2(b)に示すようにセラミック体12の表面に、Agを主成分とし、Cu、TiさらにCrが含有された金属膜44を形成する。より具体的には、約1.0×10−5Paの真空雰囲気で、約1100℃で15分熱処理を行って金属膜44を形成する。金属膜44ではAgとCuとが共晶を形成している。Cuの融点は約1080℃であり、通常のAg−Cu−Tiメタライズ層を形成する際に1100℃まで昇温させて熱処理を行うと、溶融したCuが磁器中に拡散し易い。本実施形態では、AgとCuとTiに加えて、さらにCrを含有させており、このCrの作用によってCuの拡散が抑制されている。Crの作用に関しては明らかではないが、従来のAg−Cu−Tiメタライズ層で主に形成されていた共晶点が800℃程度であるAg−Cu共晶のみでなく、Ag−Cu−CrまたはAg−Cu−Cr−Tiといった高融点の液相が形成されることで、Cuの拡散が抑制されていると推測することができる。 Next, the applied paste (paste layer 42) is fired, and a metal film 44 containing Ag as a main component and containing Cu, Ti, and Cr on the surface of the ceramic body 12 as shown in FIG. 2B. Form. More specifically, the metal film 44 is formed by performing heat treatment at about 1100 ° C. for 15 minutes in a vacuum atmosphere of about 1.0 × 10 −5 Pa. In the metal film 44, Ag and Cu form a eutectic. The melting point of Cu is about 1080 ° C., and when the heat treatment is performed by raising the temperature to 1100 ° C. when forming a normal Ag—Cu—Ti metallized layer, the molten Cu is likely to diffuse into the porcelain. In this embodiment, Cr is further contained in addition to Ag, Cu, and Ti, and the diffusion of Cu is suppressed by the action of Cr. Although it is not clear about the effect | action of Cr, not only the Ag-Cu eutectic whose eutectic point mainly formed in the conventional Ag-Cu-Ti metallization layer is about 800 degreeC but Ag-Cu-Cr or It can be presumed that diffusion of Cu is suppressed by forming a high melting point liquid phase such as Ag-Cu-Cr-Ti.

次に、図2(c)に示すように、金属膜44の表面にNiを主成分とするニッケルメッキ層46を形成する。ニッケルメッキ層46は、例えば電界Niメッキ法など従来公知の手法を用いて厚み1〜3μm程度に形成すればよい。   Next, as shown in FIG. 2C, a nickel plating layer 46 containing Ni as a main component is formed on the surface of the metal film 44. The nickel plating layer 46 may be formed to a thickness of about 1 to 3 μm using a conventionally known method such as an electric field Ni plating method.

次に、図2(d)に示すように、ニッケルメッキ層46の表面に金属を主成分とするロウ材48を介して金属体14を配置する。具体的には、例えば厚さ0.6mmの、Agを主成分とするAgロウ材48をニッケルメッキ層46上に配置し、その上に金属体14を配置する。Agロウ材48は、例えばAgを95質量%を含むとともにCuを5質量%含むものを使用すればよい。   Next, as shown in FIG. 2D, the metal body 14 is disposed on the surface of the nickel plating layer 46 via a brazing material 48 containing metal as a main component. Specifically, for example, an Ag brazing material 48 having a thickness of 0.6 mm and containing Ag as a main component is disposed on the nickel plating layer 46, and the metal body 14 is disposed thereon. As the Ag brazing material 48, for example, a material containing 95% by mass of Ag and 5% by mass of Cu may be used.

次に、この状態で全体を加熱してロウ材48とニッケルメッキ層46と金属膜44とを溶融させ、その後に全体を降温させて固化して、図2(e)および図1(a)(b)に示すような、セラミック体12と金属体14とを接合する接合層16を形成する。具体的には、約1.0×10−5Paの真空雰囲気で、約1000℃で15分間全体を加熱した後、全体を室温まで降下させて接合層16を形成する。 Next, in this state, the whole is heated to melt the brazing material 48, the nickel plating layer 46, and the metal film 44, and then the whole is cooled and solidified to obtain FIGS. 2 (e) and 1 (a). As shown in (b), a bonding layer 16 for bonding the ceramic body 12 and the metal body 14 is formed. Specifically, the whole is heated at about 1000 ° C. for 15 minutes in a vacuum atmosphere of about 1.0 × 10 −5 Pa, and then the whole is lowered to room temperature to form the bonding layer 16.

1100℃まで昇温させることで、融点が961℃であるAgを主成分としたロウ材48と、同じくAgを主成分とする金属膜44とが溶融して、これらロウ材48と金属膜44とに含まれる各成分が溶融層内で拡散するともに、ニッケルメッキ層46に含まれるNi成分も溶融層内で拡散する。金属膜44に含まれていたTiは、セラミック体12の側に集中することで第1チタン層22を形成するとともに、Tiのうちセラミック体12の側に拡散しなかった(セラミック体12との直接的な接合に寄与しなかった)分が、ニッケルメッキ層46の側(すなわち金属体14の側)に集中することで第2チタン層24を形成する。また、金属膜44に含まれていたCrは拡散して主にNiメッキ層46に含ま
れていたNiと反応し、NiとCrとを含むニッケル−クロム層26を形成する。金属膜44に含まれていたCu成分は全体に拡散し、第1チタン層22と第2チタン層24との間に配置された、Agを主成分としてCuを含む第1中間層32と、第2チタン層24と金属体14との間に配置された、Agを主成分としてCuを含む第2中間層34が形成される。
By raising the temperature to 1100 ° C., the brazing material 48 containing Ag having a melting point of 961 ° C. as a main component and the metal film 44 also containing Ag as the main component are melted, and the brazing material 48 and the metal film 44 are melted. In addition, the components contained in the nickel plating layer diffuse in the molten layer, and the Ni component contained in the nickel plating layer 46 also diffuses in the molten layer. Ti contained in the metal film 44 is concentrated on the ceramic body 12 side to form the first titanium layer 22 and does not diffuse to the ceramic body 12 side of Ti (with the ceramic body 12). The second titanium layer 24 is formed by concentrating the portion that has not contributed to the direct bonding to the nickel plating layer 46 side (that is, the metal body 14 side). Further, Cr contained in the metal film 44 diffuses and reacts mainly with Ni contained in the Ni plating layer 46 to form a nickel-chrome layer 26 containing Ni and Cr. The Cu component contained in the metal film 44 diffuses throughout and is disposed between the first titanium layer 22 and the second titanium layer 24. The first intermediate layer 32 containing Cu as a main component of Ag, A second intermediate layer 34 containing Cu as a main component and disposed between the second titanium layer 24 and the metal body 14 is formed.

本実施形態の接合方法を用いることでこのように、セラミック体12に接する、Tiを主成分とする第1チタン層22と、少なくとも第1チタン層22よりも金属体14に近い側に第1チタン層22と離れて配置された、Tiを主成分とする第2チタン層24と、第1チタン層22と第2チタン層24との間に配置された、Agを主成分としてCuを含む第1中間層32と、第2チタン層24よりも金属体14に近い側に少なくとも配置されて第2チタン層24に接する、NiとCrとを含むニッケル−クロム層26とを有する接合層46を形成することができる。   As described above, by using the bonding method of the present embodiment, the first titanium layer 22 mainly composed of Ti that is in contact with the ceramic body 12 and at least the first titanium layer 22 closer to the metal body 14 than the first titanium layer 22. A second titanium layer 24 mainly composed of Ti, which is disposed apart from the titanium layer 22, and a Cu which is mainly composed of Ag and which is disposed between the first titanium layer 22 and the second titanium layer 24. The joining layer 46 which has the 1st intermediate | middle layer 32 and the nickel-chromium layer 26 which is arrange | positioned at least by the side close | similar to the metal body 14 rather than the 2nd titanium layer 24, and is in contact with the 2nd titanium layer 24. Can be formed.

本実施形態の接合方法を用いて製造されたセラミック体と金属体との接合体は、例えば800℃よりも高い高温雰囲気下に配置した場合であっても、セラミック体12と金属体14との接合強度を比較的高く保つことができる。   Even if the joined body of the ceramic body and the metal body manufactured by using the joining method of the present embodiment is disposed in a high temperature atmosphere higher than 800 ° C., for example, the ceramic body 12 and the metal body 14 The bonding strength can be kept relatively high.

以下、本発明の実施例を示すとともに、本発明の効果の一例について説明しておく。図3(a)は、上記工程を経て作製されたメタライズ基板の断面を、走査型電子顕微鏡で観察して得られた写真(断面SEM写真)である。また、図3(b)は、図3(a)に示す断面SEM写真を取得する際に測定した、当該断面におけるAgの分布状態を示す図(EPMA象:Electron Probe Micro Analyzer象)である。ま
た、図3(c)は当該断面におけるCuの分布状態を示す図であり、図3(d)は当該断面におけるTiの分布状態を示す図であり、図3(e)は当該断面におけるCrの分布状態を示す図であり、図3(f)は当該断面におけるNiの分布状態を示す図である。走査型電子顕微鏡は、例えば日立製S−800を用い、加速電圧15kVで撮影した。
Examples of the present invention will be described below, and examples of the effects of the present invention will be described. FIG. 3A is a photograph (cross-sectional SEM photograph) obtained by observing a cross section of the metallized substrate manufactured through the above-described steps with a scanning electron microscope. FIG. 3B is a diagram (EPMA elephant: Electron Probe Micro Analyzer elephant) showing a distribution state of Ag in the cross section measured when the cross-sectional SEM photograph shown in FIG. 3A is acquired. FIG. 3C is a diagram showing a Cu distribution state in the cross section, FIG. 3D is a diagram showing a Ti distribution state in the cross section, and FIG. 3E is a diagram showing Cr in the cross section. FIG. 3F is a diagram showing a Ni distribution state in the cross section. The scanning electron microscope was, for example, an S-800 manufactured by Hitachi and photographed at an acceleration voltage of 15 kV.

図3(a)〜(f)からも明らかなように、セラミック体12と金属体14とが、Agを主成分とし、Cu、Ti、Ni、さらにCrが含有された接合層16を介して接合されている。また、接合体10の接合層16は、セラミック体12に接する、Tiを主成分とする第1チタン層22と、少なくとも第1チタン層22よりも金属体14に近い側に第1チタン層22と離れて配置された、Tiを主成分とする第2チタン層24と、第1チタン層22と第2チタン層24との間に配置された、Agを主成分としてCuを含む第1中間層32と、第2チタン層24よりも金属体14に近い側に少なくとも配置されて第2チタン層24に接する、NiとCrとを含むニッケル−クロム層26とを有することがわかる。なお、図3(d)から分かるように本実施例では、Tiを主成分とする第1チタン層22と第2チタン層24とが、一部つながるように配置されている。このように本発明の接合体では、接合層内の全てが一様に同じ層構成になっている必要はなく、一部が変形していてもよい。   As is clear from FIGS. 3A to 3F, the ceramic body 12 and the metal body 14 are formed via a bonding layer 16 containing Ag as a main component and containing Cu, Ti, Ni, and Cr. It is joined. The bonding layer 16 of the bonded body 10 includes a first titanium layer 22 mainly composed of Ti that is in contact with the ceramic body 12 and a first titanium layer 22 that is at least closer to the metal body 14 than the first titanium layer 22. A second titanium layer 24 mainly composed of Ti, which is disposed apart from the first titanium layer 22, and a first intermediate layer including Cu, which is mainly composed of Ag, disposed between the first titanium layer 22 and the second titanium layer 24. It can be seen that the layer 32 and the nickel-chromium layer 26 containing Ni and Cr are disposed at least on the side closer to the metal body 14 than the second titanium layer 24 and are in contact with the second titanium layer 24. As can be seen from FIG. 3D, in the present embodiment, the first titanium layer 22 and the second titanium layer 24 containing Ti as a main component are arranged so as to be partially connected. As described above, in the joined body of the present invention, it is not necessary that all of the inside of the joining layer have the same layer configuration, and a part thereof may be deformed.

次に、本発明の接合体の一例の、セラミック体と金属体との接合体の接合強度を調べた結果を以下に示す。   Next, the result of investigating the joining strength of the joined body of the ceramic body and the metal body as an example of the joined body of the present invention is shown below.

調査手順および条件については、以下の通りとした。まず、セラミック体として、30mm×30mm×1.5mmのAl基板を用意し、また、金属体として2mm×40mm×0.3mmのインコネル(Ni−Cr−Fe合金)基板を用意した。このセラミック体と金属体とを上記実施例に示す通りの工程で接合することで実施例1の接合体を得た。また、比較例として、金属膜を形成するペーストからCrを除いた、従来のAg−C
u−Tiメタライズ用のペーストを用いた接合体(比較例1)を得た。比較例1では、Agが90質量%、Cuが5質量%、Tiが5質量%となるよう混合した、従来のAg−Cu−Tiメタライズ用のペーストを用いた。実施例1の接合体と、比較例1の接合体とはそれぞれ複数用意し、それぞれ一部の接合体についてピール強度を測定した。また、実施例1の接合体と比較例1の接合体とのうち、それぞれ一部の接合体について、800℃に昇温させた状態で空気中に1h配置する熱処理を行い、この熱処理後の各接合体についてピール強度の測定を行った。ピール強度は、JIS−C5012に準拠した方法で測定した。
The investigation procedure and conditions were as follows. First, an Al 2 O 3 substrate of 30 mm × 30 mm × 1.5 mm was prepared as a ceramic body, and an Inconel (Ni—Cr—Fe alloy) substrate of 2 mm × 40 mm × 0.3 mm was prepared as a metal body. The joined body of Example 1 was obtained by joining the ceramic body and the metal body in the steps as shown in the above-mentioned Examples. Further, as a comparative example, a conventional Ag-C in which Cr is removed from a paste for forming a metal film.
A joined body (Comparative Example 1) using a paste for u-Ti metallization was obtained. In Comparative Example 1, a conventional paste for Ag—Cu—Ti metallization mixed so that Ag was 90% by mass, Cu was 5% by mass, and Ti was 5% by mass was used. A plurality of joined bodies of Example 1 and a joined body of Comparative Example 1 were prepared, and peel strength was measured for some of the joined bodies. Further, among the joined body of Example 1 and the joined body of Comparative Example 1, each of the joined bodies was subjected to a heat treatment that was placed in the air for 1 h while being heated to 800 ° C. The peel strength of each joined body was measured. The peel strength was measured by a method based on JIS-C5012.

図4は、各条件での複数のサンプルについて測定したピール強度の平均値をとった結果をグラフとして示している。   FIG. 4 is a graph showing the results of taking the average value of peel strength measured for a plurality of samples under each condition.

図4に示す実験結果から分かるように、従来のAg−Cu−Tiメタライズ用のペーストを用いた接合体(比較例1)に比べて、実施例1の接合体は、例えば800℃以上の高い高温雰囲気下に配置した場合であっても、従来に比べて接合強度を比較的高く保つことができる。   As can be seen from the experimental results shown in FIG. 4, the joined body of Example 1 is higher than, for example, 800 ° C. or higher compared to the joined body using the paste for conventional Ag—Cu—Ti metallization (Comparative Example 1). Even when arranged in a high-temperature atmosphere, the bonding strength can be kept relatively high as compared with the prior art.

以上、本発明の実施形態および実施例について説明したが、本発明は上述の実施形態や実施例に限定されるものでない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行なってもよいのはもちろんである。   While the embodiments and examples of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples. It goes without saying that various improvements and modifications may be made to the present invention without departing from the gist of the present invention.

10 接合体
12 セラミック体
14 金属体
16 接合層
22 第1チタン層
24 第2チタン層
26 ニッケル−クロム層
32 第1中間層
34 第2中間層
44 金属膜
46 ニッケルメッキ層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Joining body 12 Ceramic body 14 Metal body 16 Joining layer 22 1st titanium layer 24 2nd titanium layer 26 Nickel-chromium layer 32 1st intermediate layer 34 2nd intermediate layer 44 Metal film 46 Nickel plating layer

Claims (8)

セラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合体であって、
前記セラミック体と前記Ni−Cr−Fe合金とが、Agを主成分とし、Cu、Ti、Ni、さらにCrが含有された接合層を介して接合されており、
前記接合層は、前記Ni−Cr−Fe合金と接する部分が、Agを主成分としてCuを含んでいることを特徴とするセラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合体。
A joined body of a ceramic body and a Ni—Cr—Fe alloy,
The ceramic body and the Ni-Cr-Fe alloy are bonded via a bonding layer containing Ag as a main component, Cu, Ti, Ni, and Cr.
The bonding layer is a bonded body of a ceramic body and a Ni-Cr-Fe alloy, wherein a portion in contact with the Ni-Cr-Fe alloy contains Cu containing Ag as a main component.
前記接合層は、
同一断面におけるEPMA測定による元素の分布状態において、NiとCrとが重なって確認される部分を有することを特徴とする請求項1記載のセラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合体。
The bonding layer is
2. The joined body of a ceramic body and a Ni—Cr—Fe alloy according to claim 1, which has a portion where Ni and Cr are overlapped and confirmed in an element distribution state by EPMA measurement in the same cross section.
前記接合層は、
同一断面におけるEPMA測定による元素の分布状態において、Ni、Crに加えてCuが重なって確認される部分を有することを特徴とする請求項2記載のセラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合体。
The bonding layer is
3. The bonding of a ceramic body and a Ni—Cr—Fe alloy according to claim 2, characterized in that, in the element distribution state by EPMA measurement in the same cross section, there is a portion where Cu is confirmed in addition to Ni and Cr. body.
前記接合層は、前記セラミック体と接する部分が、Tiを主成分とすることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のセラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合体。 4. The bonded body of a ceramic body and a Ni—Cr—Fe alloy according to claim 1, wherein a portion of the bonding layer in contact with the ceramic body contains Ti as a main component. 5. 前記セラミック体は、Alを主成分とすることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のセラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合体。 The ceramic body is bonded body of the ceramic body and the Ni-Cr-Fe alloy as claimed in any one of claims 1 to 4, characterized in that a main component Al 2 O 3. Agを主成分とし、Cu、TiさらにCrが含有された粉末と、ビヒクルとが混合されたペーストをセラミック体の表面に塗布する塗布工程と、
塗布した前記ペーストを焼成して、前記セラミック体の表面に、Agを主成分とし、Cu、TiさらにCrが含有された金属膜を形成する焼成工程と、
前記金属膜の表面にNiを主成分とするニッケルメッキ層を形成するメッキ工程と、
前記ニッケルメッキ層の表面に金属を主成分とするロウ材を介してNi−Cr−Fe合金を配置する工程と、
前記Ni−Cr−Fe合金が前記ロウ材上に配置された状態で全体を加熱して前記ロウ材と前記ニッケルメッキ層と前記金属膜とを溶融させる工程と、
前記溶融させる工程の後に全体を降温させて、前記セラミック体と前記Ni−Cr−Fe合金とを接合する、Agを主成分とし、Cu、Ti、Ni、さらにCrが含有された接合
層を形成する工程とを有することを特徴とするセラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合方法。
An application step of applying a paste in which Ag is a main component, Cu, Ti and Cr are mixed and a vehicle is mixed to the surface of the ceramic body;
A firing step of firing the applied paste to form a metal film containing Ag as a main component, Cu, Ti, and Cr on the surface of the ceramic body;
A plating step of forming a nickel plating layer mainly composed of Ni on the surface of the metal film;
Disposing a Ni-Cr-Fe alloy on the surface of the nickel plating layer through a brazing material containing metal as a main component;
Heating the whole with the Ni—Cr—Fe alloy disposed on the brazing material to melt the brazing material, the nickel plating layer, and the metal film;
After the step of melting, the whole is cooled to join the ceramic body and the Ni—Cr—Fe alloy, and a joining layer containing Ag, Cu, Ti, Ni, and Cr as a main component is formed. A method of joining the ceramic body and the Ni—Cr—Fe alloy.
前記焼成工程では、前記ペーストを900℃以上の温度で焼成することを特徴とする請求項6記載のセラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合方法。 7. The method for joining a ceramic body and a Ni—Cr—Fe alloy according to claim 6, wherein in the firing step, the paste is fired at a temperature of 900 ° C. or higher. 前記ロウ材は、Agを主成分とし、Cuを含有することを特徴とする請求項6または請求項7に記載のセラミック体とNi−Cr−Fe合金との接合方法。 The said brazing material has Ag as a main component and contains Cu, The joining method of the ceramic body and Ni-Cr-Fe alloy of Claim 6 or Claim 7 characterized by the above-mentioned.
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