以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
(第1の実施形態)
先ず、本発明の第1の実施形態として例えば図1に示すプロジェクター1の一例について説明する。なお、図1は、このプロジェクター1の概略構成を示す模式図である。
このプロジェクター1は、図1に示すように、スクリーン(被投射面)SCR上にカラー映像(画像)を表示する投射型画像表示装置である。また、このプロジェクター1は、光変調素子として、各々が赤色光RL、緑色光GL、青色光BLの各色光に対応した3つの液晶ライトバルブ(液晶パネル)を用いている。さらに、このプロジェクター1は、照明装置の光源として、高輝度・高出力な光が得られる半導体レーザー(レーザー光源)を用いている。
具体的に、このプロジェクター1は、赤色光RLを照射する第1の照明装置11Rと、緑色光GLを照射する第2の照明装置11Gと、青色光BLを照射する第3の照明装置11Bと、各々が各色光RL,GL,BLを画像情報に応じて変調し、各色光RL,GL,BLに対応した画像光を形成する光変調装置12R,光変調装置12G,光変調装置12Bと、各光変調装置12R,12G,12Bからの画像光を合成する合成光学系13と、合成光学系13からの画像光WLをスクリーンSCRに向かって投射する投射光学系14とを概略備えている。
第1の照明装置11Rと第2の照明装置11Gと第3の照明装置11Bとは、赤色光RLに対応したレーザー光を射出する第1の光源15Rと、緑色光GLに対応したレーザー光を射出する第2の光源15Gと、青色光BLに対応したレーザー光を射出する第1の光源15Bとをそれぞれ備える以外は同じ構成を有している。したがって、以下の説明では、第1の照明装置11Rについて説明を行い、第2の照明装置11G及び第3の照明装置11Bにおいて第1の照明装置11Rと共通する部分については、その説明を省略するものとする。
第1の照明装置11Rは、複数の赤色光RLを射出する第1の光源15Rと、第1の光源15Rから射出された複数の赤色光RLが入射するコリメータ光学系16と、コリメータ光学系16から射出された複数の赤色光RLが入射するアフォーカル光学系17と、アフォーカル光学系17から射出された複数の赤色光RLが入射する回折光学素子18と、回折光学素子18から射出された複数の回折光(赤色光RL)が入射する重畳光学系19とを有している。
第1の光源15Rは、赤色光RLに対応したレーザー光を射出する複数の半導体レーザー20Rを有し、これら複数の半導体レーザー20Rが二次元的に配列されたアレイ光源からなる。そして、各半導体レーザー20Rから射出された赤色光RLは、コリメータ光学系16に入射する。
なお、第2の光源15Gは、緑色光GLに対応したレーザー光を射出する複数の半導体レーザー20Gを有する以外は、第1の照明装置11Rと同じ構成を有している。また、第3の光源15Bは、青色光BLに対応したレーザー光を射出する複数の半導体レーザー20Bを有する以外は、第1の照明装置11Rと同じ構成を有している。
コリメータ光学系16は、複数のコリメータレンズ16aが二次元的に配列されたレンズアレイからなる。複数のコリメータレンズ16aは、複数の半導体レーザー20Bに対応した位置にそれぞれ配置されている。コリメータレンズ16aは、半導体レーザー20Rから射出された赤色光RLを平行光束に変換するものである。そして、コリメータレンズ16aを通過することにより平行光束に変換された赤色光RLは、アフォーカル光学系17に入射する。
アフォーカル光学系17は、赤色光RLのサイズ(スポット径)を調整するものであり、例えばアフォーカルレンズ17aとアフォーカルレンズ17bから構成されている。そして、このアフォーカル光学系17を通過することによりサイズが調整された赤色光RLは、回折光学素子18に入射する。
回折光学素子18は、計算機合成ホログラム(CGH:Computer Generated Hologram)からなる。回折光学素子18から射出された回折光は、重畳光学系19に入射する。この回折光学素子18は、入射した赤色光RLを回折することによって、後述する光変調装置12Rに入射する赤色光(回折光)RLの強度分布を均一化し、且つ、この光変調装置12Rに入射する赤色光RLの利用効率を高める機能を有する。
重畳光学系19は、少なくとも1枚以上の重畳レンズ19aからなる。重畳レンズ19aから射出された複数の回折光は、光変調装置12Rに入射する。複数の回折光は、重畳光学系19によって光変調装置12R上で互いに重畳される。これにより、光変調装置12Rを照明する光の輝度分布が均一化されると共に光線軸周りの軸対称性が高められる。
プロジェクター1では、第1の照明装置11Rから射出された赤色光RLが光変調装置12Rに入射する。同様に、第2の照明装置11Gから射出された緑色光GLが光変調装置12Gに入射する。また、第3の照明装置11Bから射出された青色光BLが光変調装置12Bに入射する。
3つの光変調装置12R,12G,12Bは、例えば透過型の液晶ライトバルブ(液晶パネル)からなる。そして、これら3つの光変調装置12R,12G,12Bは、各色光RL,GL,BLを画像情報に応じて変調した画像光を形成する。なお、各光変調装置12R,12G,12Bの入射側及び射出側には、一対の偏光板(図示せず。)が配置されており、特定の方向の直線偏光の光のみを通過させる仕組みとなっている。
合成光学系13は、クロスダイクロイックプリズムからなり、各光変調装置12R,12G,12Bから入射した画像光を合成し、この合成された画像光WLを投射光学系14に向かって射出する。
投射光学系14は、投射レンズからなり、合成光学系13により合成された画像光WLをスクリーンSCRに向かって拡大投射する。これにより、スクリーンSCR上には、拡大されたカラー映像(画像)が表示される。
ところで、第1の照明装置11R、第2の照明装置11G及び第3の照明装置11Bでは、図2(a),(b)に示すような回折光学素子18が用いられている。なお、図2(a)は、回折光学素子18の構成を示す平面図であり、図2(b)は、回折光学素子18の一部を拡大して示す平面図である。
なお、第1の照明装置11R、第2の照明装置11G及び第3の照明装置11Bは、赤色光RLに対応したレーザー光を射出する複数の半導体レーザー20Rを有する第1の光源15Gと、緑色光GLに対応したレーザー光を射出する複数の半導体レーザー20Gを有する第2の光源15Gと、青色光BLに対応したレーザー光を射出する複数の半導体レーザー20Bを有する第3の光源15Bとを備える以外は、基本的に同じ構成を有している。
したがって、以下の説明では、第1の照明装置11R、第2の照明装置11G及び第3の照明装置11Bについては、「照明装置11」として扱い、第1の光源15R、第2の光源15G及び第3の光源15Bについては、「光源15」として扱い、半導体レーザー20R、半導体レーザー20G及び半導体レーザー20Bについては、「半導体レーザー20」として扱い、赤色光RLに対応したレーザー光、緑色光GLに対応したレーザー光及び青色光BLに対応したレーザー光については、「レーザー光L」とし、3つの光変調装置12R,12G,12Bについては、「光変調装置12」として扱うものとする。
図2(a),(b)に示す回折光学素子18は、複数の半導体レーザー20から射出された複数のレーザー光LA〜LIが入射する複数の回折素子パターン領域30a〜30iを有している。また、各回折素子パターン領域30a〜30iは、回折素子パターンが互いに異なる複数のサブ領域を有している。例えば、回折素子パターン領域30aは、回折素子パターンが互いに異なる複数のサブ領域30a1〜30a9を有している。回折素子パターン領域30bは、回折素子パターンが互いに異なる複数のサブ領域30b1〜30b9を有している。本発明において、例えば回折素子パターン領域30aが第1の領域に相当し、回折素子パターン領域30bが第2の領域に相当し、回折素子パターン領域30aが有する複数のサブ領域30a1〜30a9が複数の第1のサブ領域に相当し、回折素子パターン領域30bが有する複数のサブ領域30b1〜30b9が複数の第1のサブ領域に相当する。
複数の回折素子パターン領域30a〜30iは、複数の半導体レーザー20に対応して、矩形状を為す回折光学素子18の面内にマトリックス状に配列されている。図2(a),(b)に示した例では、回折素子パターン領域30a〜30iが3行×3列のマトリクス状に配置されており、光源15は9個の半導体レーザー20が3行×3列のマトリクス状に配置されている。これにより、各回折素子パターン領域30a〜30iには、各半導体レーザー20から射出されたレーザー光LA〜LIがそれぞれ入射する。具体的には、レーザー光LAが回折素子パターン領域30aに入射し、レーザー光LBが回折素子パターン領域30bに入射する。レーザー光LAは回折素子パターン領域30aに対応した半導体レーザー20から射出され、レーザー光LBは回折素子パターン領域30bに対応した半導体レーザー20から射出される。本発明において、レーザー光LAが第1の光束に対応し、レーザー光LBが第2の光束に対応する。
回折光学素子18は、各回折素子パターン領域30a〜30iに、対応した半導体レーザー20からのレーザー光Lが入射したときに、各回折光それぞれが所定の被照明領域を照射するように設計されている。
具体的には、図3に示したように、回折素子パターン領域30aとレーザー光LAとが形成する回折光DPAの回折パターンもしくは回折光DPAの主光線の方向は、回折素子パターン領域30bとレーザー光LBとが形成する回折光DPBの回折パターンもしくは回折光DPBの主光線の方向とは異なる。
これにより、回折光DPAと回折光DPBとは、同一の被照明領域を効率的に照射することができる。このように、複数のサブ領域30a1〜30a9各々の回折素子パターンは、複数のサブ領域30b1〜30b9いずれの回折素子パターンとも異なっている。
複数のサブ領域30a1〜30a9は、回折素子パターン領域30a内に3行×3列のマトリクス状に配置されている。そして、各サブ領域30a1〜30a9には、それぞれ互いに異なる回折素子パターンが設けられている。
しかし、複数のサブ領域30a1〜30a9各々の回折素子パターンは互いに異なるが、サブ領域30a1〜30a9各々とレーザー光LAとによって形成される回折光の回折パターンは互いに同じである。具体的には、サブ領域30a1とレーザー光LAとによって形成される回折光の回折パターンは、サブ領域30a2とレーザー光LAとによって形成される回折光の回折パターンと同じであり、サブ領域30a1とレーザー光LAとによって形成される回折光と、サブ領域30a2とレーザー光LAとによって形成される回折光とは、同一の被照明領域を照射する。
同様に、回折素子パターン領域30bは3行×3列のマトリクス状に配置された複のサブ領域30b1〜30b9を備える。複数のサブ領域30b1〜30b9各々の回折素子パターンは互いに異なる。しかし、サブ領域30b1〜30b9各々とレーザー光LBとによって形成される回折光の回折パターンは互いに同じである。なお、他の回折素子パターン領域の構成も同様である。
なお、図2に示す回折光学素子18では、9つ(3行×3列)の回折素子パターン領域30a〜30i各々が9つ(3行×3列)のサブ領域を有する場合について例示しているが、この場合に必ずしも限定されるものではなく、回折素子パターン領域の数や配列及びサブ領域の数や配列等については適宜変更を加えることが可能である。
図4は、回折光学素子18の一部を拡大した断面図である。この回折光学素子18は、CGHとして、例えば石英(ガラス)や合成樹脂などの光透過性材料からなる基材32の表面に、計算機によって設計された微細な凹凸構造33を有する表面レリーフ型のホログラム素子からなる。また、回折光学素子18は、回折現象を利用して入射光の波面を変換する波面変換素子である。特に、位相変調型のCGHでは、入射光波のエネルギーをほとんど失うことなく波面変換が可能である。したがって、CGHは、均一な強度分布や単純な形状の強度分布を発生させることができる。
回折素子パターンは、このような微細な凹凸構造33からなり、互いに異なる深さで断面視矩形状に形成された複数の凹部33aと、これら凹部33aの間に互いに異なる高さで断面視矩形状に形成された凸部33bとを有している。回折光学素子18では、回折素子パターンにおいて、凹部33aの幅d及び凹部33aの深さ(凸部33bの高さ)tを含む設計条件を適宜調整することによって、回折素子パターンに所望の拡散機能を持たせることができる。また、回折素子パターンの設定条件を最適化する手法としては、例えば反復フーリエ法などの演算手法を挙げることができる。
照明装置11は、図2に示すように、回折光学素子18を駆動する駆動機構40を備えている。駆動機構40は、本発明の入射位置切り替え機構である。ここで、複数の回折素子パターン領域30a〜30iが設けられている回折光学素子18の面を主面と呼ぶことにする。この駆動機構40は、回折光学素子18を支持するコイルバネ41と、主面内において回折光学素子18を揺動させる揺動駆動部42とを有している。
コイルバネ41は、回折光学素子18の四隅に4つ配置されると共に、それぞれの一端が回折光学素子18の四隅に取り付けられることによって、回折光学素子18を支持している。
揺動駆動部42は、駆動モータ43と、この駆動モータ43により回転駆動される偏芯カム44とを有している。また、偏芯カム44の中心から偏芯した位置に駆動モータ43の回転軸43aが取り付けられている。そして、このような駆動モータ43の回転軸43aに偏芯して取り付けられた偏芯カム44は、回折光学素子18の互いに直交するX方向の一側面とY方向の一側面とに、それぞれの外周部を当接させた状態で配置されている。なお、複数の回折素子パターン領域30a〜30iがマトリクス状に配置されており、マトリクスの行方向をX方向として、マトリクスの列方向をY方向とし、主面の法線方向をZ方向とする。
駆動機構40では、駆動モータ43が偏芯カム44を回転駆動することによって、偏芯カム44の外周部に当接された回折光学素子18を主面内で旋回させながら往復駆動することが可能となっている。
これにより、光源15の各半導体レーザー20から射出されたレーザー光LA〜LIが入射する位置を各回折素子パターン領域30a〜30i内で移動させることができる。更に、各回折素子パターン領域30a〜30i内に配置された複数のサブ領域の間で、各レーザー光LA〜LIが入射する位置を周期的に変化させることができる。具体的には、例えば、回折素子パターン領域30aに対応する半導体レーザー20から射出されたレーザー光LAは、回折素子パターン領域30aに入射する。回折素子パターン領域30aでのレーザー光LAの入射位置は、回折素子パターン領域30aに設けられたサブ領域30a1〜30a9の間で移動する。しかし、レーザー光LAの入射位置は回折素子パターン領域30aの外へは移動しない。なお、図2に示した円弧状の矢印は、レーザー光の入射位置の軌跡を表している。同様に、レーザー光LBの入射位置は、回折素子パターン領域30bに設けられたサブ領域30b1〜30b9の間で移動する。しかし、レーザー光LBの入射位置は回折素子パターン領域30bの外へは移動しない。
本発明によれば、以下に説明するように、スペックルパターンの時間的重畳と、スペックルパターンの空間的重畳とにより、スペックルやシンチレーションの発生を効果的に低減することができる。
初めに、スペックルパターンの時間的重畳について説明する。複数のサブ領域30a1〜30a9は互いに異なる回折素子パターンを備えている。そのため、各サブ領域30a1〜30a9から射出される回折光は、互いに異なるスペックルパターンを発生させる。ただし、各サブ領域30a1〜30a9から射出される回折光は、同一の被照明領域を照射するように設計されている。レーザー光LAは複数のサブ領域30a1〜30a9に順次入射するため、レーザー光LAと回折光学素子18とによって形成される回折光DPAが生成するスペックルパターンが、観察者の網膜上において時間的に大きく変化する。このようにして、互いに異なる複数のスペックルパターンを観察者の網膜上で時間的に重畳させることで、スペックルが認識されにくくなる。同様に、互いに異なる複数のシンチレーションを観察者の網膜上で時間的に重畳させることで、シンチレーションが認識されにくくなる。
次にスペックルパターンの空間的重畳について説明する。回折光学素子18は、各回折素子パターン領域30a〜30iに、それに対応した半導体レーザー20からのレーザー光Lが入射したときに、各回折光それぞれが、同一の被照明領域を照射するように設計されている。つまり、回折素子パターン領域30aが備える複数のサブ領域30a1〜30a9各々の回折素子パターンは、他の回折素子パターン領域が備える複数のサブ領域いずれの回折素子パターンとも異なっている。また、照明装置11は、各回折素子パターン領域30a〜30iから射出される複数の回折光を被照明領域において互いに重畳させる重畳光学系19を備えている。そのため、ある時刻において、例えば回折素子パターン領域30aから射出される回折光DPAによって生成されるスペックルパターンは、他の回折素子パターン領域、例えば回折素子パターン領域30bから射出される回折光DPBによって生成されるスペックルパターンとは異なる。このため、互いに異なるスペックルパターンを生成する複数の回折光が被照明領域上で互いに重畳される。このようにして、互いに異なる複数のスペックルパターンを空間的に重畳させることで、スペックルが認識されにくくなる。
ところで、観察者は、スクリーンからの反射光の干渉をスペックルとして認識する。図5(a)に示したように、スクリーン上に投射された画像の一の画素に、互いに平行な2つの回折光がそれぞれ位置M1と位置M2に入射した場合、位置M1と位置M2からの反射光が互いに干渉し、観察者の網膜上で干渉の強い部分(例えばP1〜P3)と干渉が弱い部分(暗い部分)が生じることでスペックルが認識される。
本発明においては、光源15は複数の半導体レーザー20Rが二次元的に配列されたアレイ光源であるため、被照明領域である光変調装置12には、互いに異なる方向から複数の回折光が入射する。スクリーンは光変調装置12と共役関係にあるため、スクリーンに形成される画像の一の画素には、図5(b)に示したように、互いに異なる方向から複数の回折光が入射する。これによれば、より多くの反射光が干渉するため、干渉の強い部分が増えると同時に、干渉が弱い部分が少なくなり、画像の明るさが全体として均一になる。この結果、スペックルがさらに認識されにくくなる。
このように、単色の画像を表示しているときも、カラー画像を表示しているときと同様にスペックルやシンチレーションの発生を効果的に低減することができる。
同様に、互いに異なる複数のシンチレーションを空間的に重畳させることで、シンチレーションが認識されにくくなる。このようにして、本発明によれば、スペックルやシンチレーションの発生を効果的に低減することができる。
また、前述したように、回折素子パターン領域30aとレーザー光LAとが形成する回折光DPAの回折パターンもしくは回折光DPAの主光線の方向は、回折素子パターン領域30bとレーザー光LBとが形成する回折光DPBの回折パターンもしくは回折光DPBの主光線の方向とは異なる。そのため、回折光学素子18が移動したことによって、レーザー光LAが他の回折素子パターン領域、例えば回折素子パターン領域30bに入射した場合、レーザー光LAと回折素子パターン領域30bとによって形成される回折光は、所定の領域を正しく照明することができない。しかし、照明装置11では、レーザー光Lの入射位置がレーザー光Lに対応する回折素子パターン領域の外へは移動しないように回折光学素子18を揺動させるため、常に正しく所定の領域を照明することができ、レーザー光Lを効率的に利用することができる。
以上のようにして、照明装置11は、スペックルやシンチレーションが認識されにくい照明光を生成することができる。また、照明装置11を備えるプロジェクター1では、上述した各照明装置11R,11G,11Bから各光変調装置12R,12G,12Bに入射する照明光の強度分布を均一化するだけでなく、スペックルやシンチレーションの発生を低減しながら、画像品質に優れた明るい表示を行うことが可能である。
なお、図2に示す回折光学素子18は、駆動機構40により主面内で旋回する構成となっているが、このような構成に必ずしも限定されるものではない。例えば、回折光学素子18をX方向に一次元的に振動させてもよい。また、回折光学素子18をZ方向に振動させてもよい。さらに回折光学素子18を三次元的に動かしてもよい。
また、図2に示す回折光学素子18では、複数の半導体レーザー20に対応して、複数の回折素子パターン領域30a〜30iがマトリックス状に配列され、更に、各回折素子パターン領域30a〜30i内には複数のサブ領域30a1〜30a9がマトリックス状に配列されているが、このような構成に必ずしも限定されるものではない。すなわち、複数の回折素子パターン領域の配列の仕方やその数等については、複数の半導体レーザー20の配列や数等に合わせて適宜変更することができる。また、複数のサブ領域の配列の仕方やその数等についても適宜変更することができる。
(第2の実施形態)
本実施形態では、回折光学素子18の代わりに、図6(a),(b)に示すような回折光学素子18Aを用いた。回折光学素子18Aと回折光学素子18との主な違いは、複数の回折素子パターン領域の配列の仕方と、各回折素子パターン領域における複数のサブ領域の配列の仕方である。なお、図6(a)は、この回折光学素子18Aの構成を示す平面図であり、図6(b)は、この回折光学素子18Aの構成を示す断面図である。
図6(a),(b)に示す回折光学素子18Aは、3つの半導体レーザー20から射出されたレーザー光LJ,レーザー光LK,レーザー光LLが入射する回折素子パターン領域30J,回折素子パターン領域30K,回折素子パターン領域30Lを有している。回折素子パターン領域30J,回折素子パターン領域30K,回折素子パターン領域30Lは、円形状を為す回折光学素子18Aの面内の半径方向に並んで配置されている。また、各回折素子パターン領域は、回折素子パターンが互いに異なる複数のサブ領域を有している。これら複数のサブ領域は、円形状を為す回折光学素子18Aの面内の周方向(回転方向)に並んで配置されている。例えば、回折素子パターン領域30Jは、サブ領域30J1〜サブ領域30Jnを備えている。ただし、nは任意の正の整数である。
照明装置11は、回折光学素子18Aを駆動する駆動機構50を備えている。駆動機構50は本発明の入射位置切り替え機構である。この駆動機構50は、回折光学素子18Aを回転駆動する駆動モータ(回転駆動部)51を有し、この駆動モータ51の回転軸51aに回折光学素子18Aの中心部が取り付けられている。
駆動機構50では、駆動モータ51が回折光学素子18Aを回転駆動する。これにより、光源15の各半導体レーザー20から射出されたレーザー光LJ,LK,LLが入射する位置を各回折素子パターン領域30J,30K,30L内で回転軸51aの周りに移動させることができる。更に、各回折素子パターン領域30J,30K,30L内に配置された複数のサブ領域の間で、各レーザー光LJ,LK,LLが入射する位置を周期的に変化させることができる。具体的には、例えば、回折素子パターン領域30Jに対応する半導体レーザー20から射出されたレーザー光LJは、回折素子パターン領域30Jに入射する。回折素子パターン領域30Jへのレーザー光LJの入射位置は、回折素子パターン領域30Jに設けられたサブ領域30J1〜30Jnの間で移動する。しかし、レーザー光LJの入射位置は回折素子パターン領域30Jの外へは移動しない。
そして、この回折光学素子18の各回折素子パターン領域30J,30K,30Lから射出される複数の回折光は、重畳光学系19によって光変調装置12の画像形成領域上で互いに重畳される。
本実施形態によっても、第1の実施形態で得られた効果が得られる。
(第3の実施形態)
第1の実施形態および第2の実施形態では、一の回折素子パターン領域が備える複数のサブ領域各々の回折素子パターンは、他の回折素子パターン領域が備える複数のサブ領域いずれの回折素子パターンとも異なっていた。しかし、本実施形態では、一の回折素子パターン領域が、他の回折素子パターン領域が備える複数のサブ領域と同じ複数のサブ領域を備えている。
図7は、回折光学素子18Bの一部を拡大した平面図である。回折光学素子18Bは、回折素子パターン領域30Pと回折素子パターン領域30Qと回折素子パターン領域30Rとを備える。回折素子パターン領域30Pは、サブ領域30P1とサブ領域30P2とサブ領域30P3とを備え、回折素子パターン領域30Qは、サブ領域30Q1とサブ領域30Q2とサブ領域30Q3とを備え、回折素子パターン領域30Rは、サブ領域30R1とサブ領域30R2とサブ領域30R3とを備える。
レーザー光LPは、回折素子パターン領域30Pに入射し、レーザー光LQは、回折素子パターン領域30Qに入射し、レーザー光LRは、回折素子パターン領域30Rに入射する。そして、レーザー光LPの入射位置は、回折素子パターン領域30Pに設けられたサブ領域30P1とサブ領域30P2とサブ領域30P3との間で移動する。しかし、レーザー光LPの入射位置は、回折素子パターン領域30Pの外へは移動しない。同様に、レーザー光LQとレーザー光LRの入射位置はそれぞれ、回折素子パターン領域30Qの内部と回折素子パターン領域30Rの内部で移動する。
サブ領域30P1の回折素子パターンとサブ領域30P2の回折素子パターンとサブ領域30P3の回折素子パターンは、互いに異なっている。しかし、レーザー光LPとサブ領域30P1とが形成する回折光の回折パターンと、レーザー光LPとサブ領域30P2とが形成する回折光の回折パターンと、レーザー光LPとサブ領域30P3とが形成する回折光の回折パターンとは、同一である。
サブ領域30P1の回折素子パターンとサブ領域30Q3の回折素子パターンとサブ領域30R2の回折素子パターンとは、同一である。また、サブ領域30P2の回折素子パターンとサブ領域30Q1の回折素子パターンとサブ領域30R3の回折素子パターンとは、同一である。また、サブ領域30P3の回折素子パターンとサブ領域30Q2の回折素子パターンとサブ領域30R1の回折素子パターンとは、同一である。
本実施形態では、複数のサブ領域が配列されている方向(矢印70)に回折光学素子18Bを振動させる。そして、レーザー光LPが入射するサブ領域の回折素子パターンと、レーザー光LQが入射するサブ領域の回折素子パターンと、レーザー光LRが入射するサブ領域の回折素子パターンと、が互いに異なるように、各回折素子パターン領域に複数のサブ領域を配置する。
これにより、例えば、レーザー光LPがサブ領域30P1に入射しているとき、レーザー光LQがサブ領域30Q1に入射し、レーザー光LRがサブ領域30R1に入射する。サブ領域30P1の回折素子パターンと、サブ領域30Q1の回折素子パターンと、サブ領域30R1の回折素子パターンと、は互いに異なるため、本実施形態によっても、スペックルパターンの時間的重畳と空間的重畳が行われる。このように、単色の画像を表示しているときも、カラー画像を表示しているときと同様にスペックルやシンチレーションの発生を効果的に低減することができる。
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態として例えば図8に示すプロジェクター60の一例について説明する。なお、図8は、このプロジェクター60の概略構成を示す模式図である。また、以下の説明では、上記図1に示すプロジェクター1と同等の部位については、説明を省略すると共に、図面において同じ符号を付すものとする。
このプロジェクター60は、図8に示すように、図1に示す光変調装置12R,光変調装置12G,光変調装置12Bの代わりに、1つのデジタルミラーデバイス(DMD:米国テキサスインツルメンツ社の登録商標)からなる光変調装置61を用いた構成である。
DMDは、ねじれ軸周りに±12゜の角度範囲で傾きが変化する複数のマイクロミラー(図示せず。)がマトリックス状に配列された構成を有している。そして、このDMDでは、各マイクロミラーの傾きを画像情報に応じて切り換えることによって、各マイクロミラーに入射する光の反射方向を制御し、各マイクロミラーからの反射光の有無によって画像を表示することが可能となっている。
図8に示すプロジェクター60では、光変調装置61が合成光学系13の射出面側に配置されている。そして、第1の照明装置11R、第2の照明装置11G及び第3の照明装置11Bから射出された赤色光RL,緑色光GL,青色光BLを時分割で光変調装置61に入射させながら、この光変調装置61によって赤色光RL,緑色光GL,青色光BLに対応した画像光WLを形成する。そして、この画像光WLは、投射光学系14よってスクリーンSCR上に拡大投射される。このとき、スクリーンSCR上に表示された画像光WLは、人の目の網膜で赤色光RL,緑色光GL,青色光BLが残像となって重なり合い、その結果、カラー映像(画像)として認識されることになる。
それ以外の構成については、図1に示すプロジェクター1と基本的に同じである。したがって、この図8に示すプロジェクター60では、図1に示すプロジェクター1と同様に、スペックルやシンチレーションの発生による表示品質の低下を低減することができる。
なお、本発明は、上記第1〜第4の実施形態のものに必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
(変形例1)
回折光学素子18として、表面レリーフ型ホログラム素子を用いたが、体積ホログラム型素子を用いてもよい。また、表面レリーフ型ホログラムと体積ホログラムとの複合型ホログラム素子を用いてもよい。
被照明領域(回折バターン)は同じであるがスペックルパターンが互いに異なる複数のサブ領域を形成する手段として、たとえばCGHの素子パターンを変更することが挙げられる。図4には、3段のステップからなるCGHの素子パターンを示したが、一のサブ領域は4段のステップからなるCGHで構成し、他のサブ領域は8段のステップからなるCGHで構成することによって、スペックルパターンを異ならせてもよい。また、サブ領域ごとにCGHの対象波長を数nmずらすことによって、スペックルパターンを異ならせてもよい。
(変形例2)
複数のサブ領域の間でレーザー光が入射する位置が切り替わるタイミングを、各回折素子パターン領域の間で時間的にずらすことも可能である。
図9(a)は、本変形例にかかる回折光学素子18Cの一部分を示す図である。回折光学素子18Cは回折光学素子18Aと同様、駆動モータ51によって回転駆動される。回折光学素子18Cは、回折素子パターン領域30M,回折素子パターン領域30N,回折素子パターン領域30Oを備える。回折素子パターン領域30Mはサブ領域M1〜サブ領域Mnを備え、回折素子パターン領域30Nはサブ領域N1〜サブ領域Nnを備え、回折素子パターン領域30Oはサブ領域O1〜サブ領域Onを備える。nは任意の正の整数である。回折光学素子18Cの半径方向には、サブ領域M1〜サブ領域Mnとサブ領域N1〜サブ領域Nnとサブ領域O1〜サブ領域Onが互い違いに配置されている。レーザー光LMは回折素子パターン領域30Mに入射し、レーザー光LNは回折素子パターン領域30Nに入射し、レーザー光LOは回折素子パターン領域30Oに入射する。
図9(b)は、回折素子パターン領域30M,回折素子パターン領域30N,回折素子パターン領域30Oにおいて、複数のサブ領域の間でレーザー光が入射する位置が切り替わるタイミングを示すタイミングチャートである。このように、回折素子パターン領域30M,30N,30Oにおいて、それぞれのサブ領域の間でレーザー光が入射する位置が切り替わるタイミングをずらすことで、照明装置11全体として、スペックルパターンが変化する頻度を、レーザー光Lの入射位置が変化する頻度よりも高くすることができる。したがって、スペックルやシンチレーションをさらに効果的に低減できる。
なお、各回折素子パターン領域では、サブ領域の間でレーザー光が入射する位置が切り替わるタイミングを60Hz以上で制御することが好ましく、より好ましくは180Hz以上である。これにより、スペックルやシンチレーションの発生をより効果的に抑制することができる。
(変形例3)
一の回折素子パターン領域が備える複数のサブ領域は、全てが互いに異なる回折素子パターンを有していることは必ずしも必要ではない。複数のサブ領域のうち少なくとも一つのサブ領域の回折素子パターンが他のサブ領域の回折素子パターンと異なっていればよい。
(変形例4)
照明装置は、光源15の作動期間に第1の光束の強度と第2の光束の強度とのうち少なくとも一方を断続的に変動させる光源制御装置をさらに備えてもよい。図10は、第1の実施形態で説明した照明装置11において、各半導体レーザー20から射出されるレーザー光LA〜LIの強度の時間変化の一例を示す図である。
この例では、レーザー光LA,LB,LCの強度を同時に変動させ、レーザー光LD,LE,LFの強度を同時に変動させ、レーザー光LG,LH,LIの強度を同時に変動させている。これにより、互いに重畳される複数のスペックルパターンの多様性を高めることができる。この場合、レーザー光の強度を変動させるタイミングとスペックルパターンを変動させるタイミングとをランダムに組み合わせることによって、互いに重畳される複数のスペックルパターンの多様性をさらに高めることができる。従って、スペックルやシンチレーションをさらに効果的に低減できる。
なお、図10で示した例では、レーザー光の強度を消灯状態と点灯状態との間で変動させていたが、必ずしも消灯状態を使う必要はない。消灯状態と点灯状態の間を利用してもよい。
(変形例5)
図11に、入射位置切り替え機構の他の例を示す。回折光学素子の主面と平行な軸52の周りに角柱からなるプリズム46を回転させることにより、回折素子パターン領域30aへのレーザー光LAの入射位置を切り替えることができる。この場合、回折光学素子を動かす必要がない。
(変形例6)
本変形例では、1つの回折素子パターン領域に対して複数のレーザー光を入射させる。この場合、回折光学素子に入射させる個々のレーザー光の強度を低くすることができる。これによれば、回折光学素子の温度上昇を低く抑えることができるため、回折光学素子の損傷を低減することができる。図12(a)に示した例では、例えば回折光学素子18Aの回折素子パターン領域30Jに対して、半径方向に並ぶレーザー光LJ1とレーザー光LJ2を入射させている。また、図12(b)に示すように、例えば回折素子パターン領域30Jに対して、周方向に並ぶレーザー光LJ3とレーザー光LJ4が入射する構成とすることも可能である。
このように、1つの回折素子パターン領域に対して複数のレーザー光を入射させる構成は、第1の実施形態で用いた回折光学素子18および第3の実施形態で用いた回折光学素子18Bに対しても適用可能である。
(変形例7)
図13に本変形例にかかる回折光学素子18Dの平面図を示す。回折光学素子18Dは、回折素子パターン領域30Sと回折素子パターン領域30Tと回折素子パターン領域30Uと回折素子パターン領域30Vとを備える。回折素子パターン領域30Sは、サブ領域30S1とサブ領域30S2とサブ領域30S3とサブ領域30S4とを備え、回折素子パターン領域30Tは、サブ領域30T1とサブ領域30T2とサブ領域30T3とサブ領域30T4とを備え、回折素子パターン領域30Uは、サブ領域30U1とサブ領域30U2とサブ領域30U3とサブ領域30U4とを備え、回折素子パターン領域30Vは、サブ領域30V1とサブ領域30V2とサブ領域30V3とサブ領域30V4とを備える。
回折光学素子18Dでは、回折素子パターン領域30Sの回折素子パターンは回折素子パターン領域30Vの回折素子パターンと同じである。また、回折素子パターン領域30Tの回折素子パターンは回折素子パターン領域30Uの回折素子パターンと同じである。ただし、各回折素子パターン領域が備える複数のサブ領域の回折素子パターンが、回折光学素子18Dの中心を通る軸72に対して回転対称になるように構成されている。
具体的には、サブ領域30S1の回折素子パターンとサブ領域30S2の回折素子パターンとサブ領域30S3の回折素子パターンとサブ領域30S4の回折素子パターンはそれぞれ、サブ領域30V1の回折素子パターンとサブ領域30V2の回折素子パターンとサブ領域30V3の回折素子パターンとサブ領域30V4の回折素子パターンと同一である。そして、回折素子パターン領域30Vの回折素子パターンは、回折素子パターン領域30Sの回折素子パターンを軸72の周りに180°回転させることによって得られる。同様に、回折素子パターン領域30Uの回折素子パターンは、回折素子パターン領域30Tの回折素子パターンを軸72の周りに180°回転させることによって得られる。
レーザー光LS、レーザー光LT、レーザー光LU、レーザー光LVはそれぞれ、回折素子パターン領域30S、回折素子パターン領域30T、回折素子パターン領域30U、回折素子パターン領域30Vに入射する。実施例1と同様に、図13に示した円弧状の矢印は、レーザー光の入射位置の軌跡を表している。レーザー光LSが入射するサブ領域の回折素子パターンと、レーザー光LTが入射するサブ領域の回折素子パターンと、レーザー光LUが入射するサブ領域の回折素子パターンと、レーザー光LVが入射するサブ領域の回折素子パターンと、が互いに異なるように、各回折素子パターン領域に複数のサブ領域が配置にされている。本変形例によっても、スペックルパターンの時間的重畳と空間的重畳が行われる。
また、各回折素子パターン領域から射出される回折光の主光線の方向は、軸72に対して回転対称である。そのため、各レーザー光LS,LT,LU,LVを効率的に照明光として利用できる。
この構成によれば、回折光学素子18Dは4つの回折素子パターン領域を備えているが、2種類の回折素子パターン(回折素子パターン領域30Sの回折素子パターンと回折素子パターン領域30Tの回折素子パターン)を設計することで、回折光学素子18Dを作成することができる。これにより、製造コストを低減することができる。
さらに、サブ領域30S1の回折素子パターンとサブ領域30S2の回折素子パターンとサブ領域30S3の回折素子パターンとサブ領域30S4の回折素子パターンをそれぞれ、サブ領域30T2の回折素子パターンとサブ領域30T4の回折素子パターンとサブ領域30V1の回折素子パターンとサブ領域30V3の回折素子パターンと同一にすることが好ましい。つまり、回折素子パターン領域30Sの回折素子パターンを軸72の周りに90°回転させることによって得られる回折素子パターンを、回折素子パターン領域30Tの回折素子パターンとする。これによれば、1種類の回折素子パターン(回折素子パターン領域30S)を設計することで、回折光学素子18Dを作成することができる。
なお、回折光学素子18Dは4つの回折素子パターン領域を備えているが、回折素子パターン領域の個数や配置の仕方はこれに限られない。
(変形例8)
照明装置11では、複数の半導体レーザー20が同じ波長のレーザー光Lを射出する構成となっているが、複数の半導体レーザー20が互いに異なる波長のレーザー光を射出する構成であってもよい。この場合、例えば、赤色光RL,緑色光GL,青色光BLに対応したレーザー光を射出する半導体レーザーを備えた光源を用いる。これにより、カラーシーケンシャル方式によるカラー映像表示を行うことが可能である。