JP6253169B2 - Method for producing cyclic hemiacetal compound - Google Patents
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Classifications
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- C07H9/04—Cyclic acetals
Description
本発明は、環状ヘミアセタール化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a cyclic hemiacetal compound.
糖は生体を構成する必須成分(遺伝子や細胞構成成分)であり、またエネルギーになる。自然界における存在量が少ない希少糖の研究が進むにつれ、希少糖のうちのいくつかに食後血糖値上昇抑制作用・脂肪蓄積抑制作用・動脈硬化予防作用・血圧上昇抑制作用・抗酸化作用などの作用があることが報告されている。また、希少糖は、メタボリックシンドローム対策に期待される新たな機能性素材としても注目されている。さらに、植物に対しても、幾つかの希少糖がイネなどの病害虫防御関連遺伝子の発現を誘導すること、また生育調節作用を持つことがわかってきた。
また、L−ヌクレオシド類似体は優れた抗ウイルス剤として有用であり、L−リボースから容易に合成することが可能である。しかし、L−リボースは高価である。そのため、代わりとなるL−ヌクレオシド類似体の合成方法や、L−リボースおよび誘導体の立体選択的な合成の研究が行われている(例えば、非特許文献1参照)。
このため、希少糖を含めた各種糖の誘導体の需要が、従来にも増して高まっている。Sugar is an essential component (gene and cell component) that constitutes a living body, and also becomes energy. As research on rare sugars with low abundance in nature progresses, some of the rare sugars have postprandial blood glucose level-inhibiting action, fat accumulation-inhibiting action, arteriosclerosis-preventing action, blood pressure-inhibiting action, antioxidant action, etc. It has been reported that there is. Rare sugars are also attracting attention as new functional materials that are expected to prevent metabolic syndrome. Furthermore, it has been found that some rare sugars induce the expression of pest defense-related genes such as rice and also have a growth regulating action on plants.
In addition, L-nucleoside analogs are useful as excellent antiviral agents and can be easily synthesized from L-ribose. However, L-ribose is expensive. For this reason, research has been conducted on synthetic methods for alternative L-nucleoside analogues and stereoselective synthesis of L-ribose and derivatives (for example, see Non-patent Document 1).
For this reason, the demand for derivatives of various sugars including rare sugars is increasing more than ever.
一方、有機合成により、糖を合成する研究(非特許文献2、3参照)も知られている。 On the other hand, research on synthesizing sugars by organic synthesis (see Non-Patent Documents 2 and 3) is also known.
非特許文献2に記載の方法は、アセタールを酸性条件下で加水分解して、トシレートが脱離し、5員環が形成される反応である。しかし、この方法は収率が低い。一方、非特許文献3に記載の方法は、アセタールを酸性条件下で加水分解し、6員環に環化する反応である。しかし、この方法は環化させる化合物構造が限定されている。また、塩基性条件下で特殊な2,2,2−トリフルオロエタノールを求核剤として用いており、反応条件としても限定されている。
また、医薬、農薬などにおける生理活性物質は、化合物の立体構造により、生体などに及ぼす作用が大きく異なる。このため、一方の立体異性体のみを選択的に合成する必要がある。また、一方の異性体から他方の立体異性体(例えばD体−L体変換)を温和な反応条件で、かつ短工程で変換させることが求められる。The method described in Non-Patent Document 2 is a reaction in which acetal is hydrolyzed under acidic conditions, tosylate is eliminated, and a 5-membered ring is formed. However, this method has a low yield. On the other hand, the method described in Non-Patent Document 3 is a reaction in which acetal is hydrolyzed under acidic conditions and cyclized to a 6-membered ring. However, this method has a limited compound structure to be cyclized. In addition, special 2,2,2-trifluoroethanol is used as a nucleophile under basic conditions, and the reaction conditions are also limited.
In addition, physiologically active substances in pharmaceuticals, agricultural chemicals, and the like have greatly different effects on living bodies depending on the three-dimensional structure of the compound. For this reason, it is necessary to selectively synthesize only one stereoisomer. Moreover, it is required to convert one stereoisomer to the other stereoisomer (for example, D-form-L conversion) under mild reaction conditions and in a short process.
従って、本発明は、穏和な条件で、簡便、かつ高収率で、環状ヘミアセタール化合物を合成できる製造方法を提供することを課題とする。
さらには、糖などのように立体異性体を考慮しなければならない場合であっても適用でき、立体選択性に優れ、大量製造が可能な環状ヘミアセタール化合物の製造方法を提供することを課題とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a production method capable of synthesizing a cyclic hemiacetal compound in a simple and high yield under mild conditions.
Furthermore, it is an object to provide a method for producing a cyclic hemiacetal compound that can be applied even when a stereoisomer such as a sugar has to be considered, is excellent in stereoselectivity, and can be mass-produced. To do.
本発明者らは、一方の立体異性体から他方の立体異性体に変換すべく、D−リボフラノース(D−Ribofuranose)からL−リキソフラノース(L−Lyxofuranose)への変換方法を種々検討した。この結果、糖の直鎖構造におけるアルデヒドのカルボニル基をオキシム化したオキシム体から直接環化反応させる方法を見出し、さらに検討することで、本発明に至った。 The present inventors examined various methods for converting D-ribofuranose to L-lyxofuranose in order to convert from one stereoisomer to the other. . As a result, the inventors have found a method of directly cyclizing a carbonyl group of an aldehyde in a saccharide linear structure from an oxime form obtained by oximation, and have further studied the present invention.
本発明によれば、以下の手段が提供される:
<1>下記一般式(I)で表される化合物を酸性条件下で反応させる、下記一般式(II)で表される化合物の製造方法。According to the present invention, the following means are provided:
<1> A method for producing a compound represented by the following general formula (II), wherein a compound represented by the following general formula (I) is reacted under acidic conditions.
一般式(I)および(II)において、Lはハロゲン原子または−OSO2Raを表す。RNは−Rb、−ORbまたは−N(Rb)(Rc)を表す。ここで、Raはハロゲン原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表し、RbおよびRcは各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。R1は水素原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Xは単結合または−C(RXA)(RXB)−を表す。R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBは各々独立に、水素原子または置換基を表す。R2AとR2B、R3AとR3B、RXAとRXBが、互いに共同して、=O、または=C(Rd)(Re)で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBの少なくとも2つが、互いに結合して環を形成してもよい。RdおよびReは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
<2>一般式(I)で表される化合物が、下記一般式(IA)で表される化合物であり、一般式(II)で表される化合物が、下記一般式(IIA)で表される化合物である、<1>に記載の製造方法。In the general formula (I) and (II), L represents a halogen atom or -OSO 2 Ra. R N represents -Rb, the -ORb or -N (Rb) (Rc). Here, Ra represents a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group, and Rb and Rc each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an acyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 1 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group. X represents a single bond or —C (R XA ) (R XB ) —. R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB each independently represent a hydrogen atom or a substituent. R 2A and R 2B , R 3A and R 3B , R XA and R XB may jointly form a methylidene group represented by ═O or ═C (Rd) (Re), , R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB may be bonded to each other to form a ring. Rd and Re each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
<2> The compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following general formula (IA), and the compound represented by the general formula (II) is represented by the following general formula (IIA). <1> The production method according to <1>.
一般式(IA)および(IIA)において、L、RN、R1、R2A〜R4AおよびR2B〜R4Bは、一般式(I)および(II)におけるL、RN、R1、R2A〜R4AおよびR2B〜R4Bと同義である。
<3>Lが、ハロゲン原子または−OSO2Raであって、RNが−Rb、−ORbまたは−N(Rb)(Rc)であり、ここで、Raが、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基であって、RbおよびRcが各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基であり、
R1が、水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、Xが、単結合または−C(RXA)(RXB)−であって、R2A、R2B、R3A、R3B、RXAおよびRXBが、各々独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基またはアジド基であり、R4AおよびR4Bが各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基であり、
ここで、R2AとR2B、R3AとR3B、RXAとRXBが、互いに共同して、=O、または=C(Rd)(Re)で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBの少なくとも2つが、互いに結合して環を形成してもよいが、この場合、RdおよびReが、各々独立に、水素原子またはアルキル基である、
<1>に記載の製造方法。
<4>RNが、−ORbである<1>〜<3>のいずれか1つに記載の製造方法。
<5>R1が、水素原子である<1>〜<4>のいずれか1つに記載の製造方法。
<6>Lが、−OSO2Raである<1>〜<5>のいずれか1つに記載の製造方法。
<7>R4AおよびR4Bの一方が水素原子で、他方が置換基であるか、R4AおよびR4Bが異なる置換基である<1>〜<6>のいずれか1つに記載の製造方法。
<8>R2A、R3A、R2BおよびR3Bの少なくとも1つが、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である<1>〜<7>のいずれか1つに記載の製造方法。
<9>Lが、−OSO2Raであり、RNが、−ORbであり、R1が水素原子であり、R2A、R3A、R2BおよびR3Bが、各々独立に水素原子、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基であり、R4AおよびR4Bのいずれか一方が水素原子で他方がアルキル基である<1>〜<8>のいずれか1つに記載の製造方法。
<10>下記一般式(IIIA)で表される化合物から一般式(IA)で表される化合物を製造した後、反応を行う、<2>に記載の製造方法。In formula (IA) and (IIA), L, R N , R 1, R 2A ~R 4A and R 2B to R 4B is, L in the general formula (I) and (II), R N, R 1, R 2A to R 4A and R 2B to R 4B is as defined above.
<3> L is a halogen atom or -OSO 2 Ra, is R N is -Rb, -ORb or -N (Rb) (Rc), wherein, Ra is a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl A group, an aryl group or a heterocyclic group, wherein Rb and Rc are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an acyl group, an aryl group or a heterocyclic group;
R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group, X is a single bond or —C (R XA ) (R XB ) —, and R 2A , R 2B , R 3A , R 3B , R XA and R XB are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkylsulfonyloxy Group, arylsulfonyloxy group, silyloxy group, amino group, acylamino group, cyano group or azide group, and R 4A and R 4B are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. Yes,
Here, even if R 2A and R 2B , R 3A and R 3B , R XA and R XB jointly form a methylidene group represented by ═O or ═C (Rd) (Re) Or at least two of R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB may be bonded to each other to form a ring, in which case Rd and Re are each independently A hydrogen atom or an alkyl group,
The manufacturing method as described in <1>.
<4> R N is an -ORb <1> ~ The process according to any one of <3>.
<5> The production method according to any one of <1> to <4>, wherein R 1 is a hydrogen atom.
The production method according to <6> L is any one of a -OSO 2 Ra <1> ~ < 5>.
<7> The production according to any one of <1> to <6>, wherein one of R 4A and R 4B is a hydrogen atom and the other is a substituent, or R 4A and R 4B are different substituents. Method.
<8> At least one of R 2A , R 3A , R 2B and R 3B is a hydroxyl group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, silyloxy group, alkylsulfonyloxy group or arylsulfonyloxy group < The manufacturing method according to any one of 1> to <7>.
<9> L is a -OSO 2 Ra, R N is a -ORb, R 1 is hydrogen atom, R 2A, R 3A, R 2B and R 3B are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group , An alkoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group, and any one of R 4A and R 4B is a hydrogen atom and the other is an alkyl group <1> to The manufacturing method as described in any one of <8>.
<10> The production method according to <2>, wherein the reaction is performed after the compound represented by the general formula (IA) is produced from the compound represented by the following general formula (IIIA).
一般式(IIIA)において、R1は、一般式(I)におけるR1と同義である。R2Ax〜R4AxおよびR2Bx〜R4Bxは各々独立に、水素原子または置換基を表す。R2AxとR2Bx、R3AxとR3Bxが、互いに共同して、=O、または=C(Rdx)(Rex)で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、R2Ax〜R4AxおよびR2Bx〜R4Bxの少なくとも2つが、互いに結合して環を形成してもよい。RdxおよびRexは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
<11>反応を、水存在下で行う<1>〜<10>のいずれか1つに記載の製造方法。
<12>反応を、アルデヒド化合物存在下で行う<1>〜<11>のいずれか1つに記載の製造方法。
<13>反応を、グリオキシル酸存在下で行う<1>〜<12>のいずれか1つに記載の製造方法。In the general formula (IIIA), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (I). R 2Ax to R 4Ax and R 2Bx to R 4Bx each independently represent a hydrogen atom or a substituent. R 2Ax and R 2Bx , R 3Ax and R 3Bx may jointly form a methylidene group represented by ═O or ═C (Rdx) (Rex), and R 2Ax to R 4Ax And at least two of R 2Bx to R 4Bx may be bonded to each other to form a ring. Rdx and Rex each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
<11> The production method according to any one of <1> to <10>, wherein the reaction is performed in the presence of water.
<12> The production method according to any one of <1> to <11>, wherein the reaction is performed in the presence of an aldehyde compound.
<13> The production method according to any one of <1> to <12>, wherein the reaction is performed in the presence of glyoxylic acid.
本明細書において、各置換基は、特段の断りがない限り、さらに置換基で置換されていてもよい。また、複数の同じ符号の基が存在する場合、これらの複数の基は、特段の断りがない限り、互いに同一であっても異なっていても構わないことを意味する。 In the present specification, each substituent may be further substituted with a substituent unless otherwise specified. In addition, when a plurality of groups having the same symbol are present, it means that these groups may be the same or different from each other unless otherwise specified.
本発明により、穏和な条件で、簡便、かつ高収率で、環状ヘミアセタール化合物を合成できる製造方法を提供できる。
しかも、糖などのように立体異性体を考慮しなければならない場合であっても適用でき、立体選択性に優れ、大量製造が可能な環状ヘミアセタール化合物の製造方法を提供することができる。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、下記の記載からより明らかになるであろう。According to the present invention, it is possible to provide a production method capable of synthesizing a cyclic hemiacetal compound in a simple and high yield under mild conditions.
In addition, the present invention can be applied even when a stereoisomer such as a sugar has to be considered, and can provide a method for producing a cyclic hemiacetal compound that is excellent in stereoselectivity and can be mass-produced.
These and other features and advantages of the present invention will become more apparent from the following description.
<<環状ヘミアセタール化合物の製造方法>>
本発明の製造方法は、下記一般式(I)で表される化合物を酸性条件下で反応させ、下記一般式(II)で表される化合物を合成する製造方法である。<< Method for Producing Cyclic Hemiacetal Compound >>
The production method of the present invention is a production method in which a compound represented by the following general formula (I) is reacted under acidic conditions to synthesize a compound represented by the following general formula (II).
一般式(I)および(II)において、Lはハロゲン原子または−OSO2Raを表す。RNは−Rb、−ORbまたは−N(Rb)(Rc)を表す。ここで、Raはハロゲン原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表し、RbおよびRcは各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。R1は水素原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Xは単結合または−C(RXA)(RXB)−を表す。R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBは各々独立に、水素原子または置換基を表す。R2AとR2B、R3AとR3B、RXAとRXBが、互いに共同して、=O、または=C(Rd)(Re)で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBの少なくとも2つが、互いに結合して環を形成してもよい。RdおよびReは各々独立に、水素原子または置換基を表す。In the general formula (I) and (II), L represents a halogen atom or -OSO 2 Ra. R N represents -Rb, the -ORb or -N (Rb) (Rc). Here, Ra represents a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group, and Rb and Rc each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an acyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 1 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group. X represents a single bond or —C (R XA ) (R XB ) —. R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB each independently represent a hydrogen atom or a substituent. R 2A and R 2B , R 3A and R 3B , R XA and R XB may jointly form a methylidene group represented by ═O or ═C (Rd) (Re), , R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB may be bonded to each other to form a ring. Rd and Re each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
この反応は、下記に示すように、酸性条件下で、一般式(I)における>C=N−RNが加水分解されて>C=Oとなり、この加水分解中間体を経由して環化することにより進行する。This reaction, as shown below, under acidic conditions, general formula (I)> in the C = N-R N is hydrolysed> C = O, and the cyclization via the hydrolysis intermediate It progresses by doing.
上記のように、反応に関与する部分は、R4A、R4BおよびLが結合する炭素原子と、>C=N−RNの炭素原子である。R4A、R4BおよびLが結合する炭素原子は、カルボニルの酸素原子による求核攻撃を受け、絶対立体配座の反転(ワルデン反転;Walden inversion)が起こる。また、一般式(II)において、R1とOHが結合した炭素原子は、環化に際して、α−もしくはβ−アノマーが存在し得る。しかしながら、R2A、R2B、X部分、R3A、R3Bは反応に関与しないため、絶対立体配座は保持される。
なお、上記の加水分解中間体は、上記の反応系(反応液)中に、一時的に生じる中間体である。As noted above, the moieties involved in the reaction are the carbon atom to which R 4A , R 4B and L are attached and the carbon atom> C = N—R N. The carbon atom to which R 4A , R 4B and L are bonded undergoes a nucleophilic attack by the oxygen atom of the carbonyl, resulting in absolute conformational inversion (Walden inversion). In the general formula (II), the carbon atom to which R 1 and OH are bonded may have an α- or β-anomer upon cyclization. However, since R 2A , R 2B , X moiety, R 3A and R 3B are not involved in the reaction, the absolute conformation is retained.
In addition, said hydrolysis intermediate body is an intermediate body which arises temporarily in said reaction system (reaction liquid).
本発明においては、R2A、R2B、X部分、R3AおよびR3Bの絶対立体配座は保持され、R4A、R4BおよびLが結合する炭素原子の絶対立体配座のみが反転する。このため、例えば、D−リボフラノース誘導体からL−リキソフラノース誘導体を合成する、D体−L体変換が可能となる。In the present invention, the absolute conformations of R 2A , R 2B , X moiety, R 3A and R 3B are retained, and only the absolute conformation of the carbon atom to which R 4A , R 4B and L are attached is inverted. For this reason, for example, a D-form-L form conversion which synthesize | combines a L-lyxofuranose derivative from a D-ribofuranose derivative is attained.
ここで、Bzはベンゾイル基を表す。 Here, Bz represents a benzoyl group.
以下に、本発明の製造方法で使用する一般式(I)で表される化合物、本発明の製造方法で製造される一般式(II)で表される化合物、反応条件および一般式(I)で表される化合物の合成方法の順に説明する。 Hereinafter, the compound represented by the general formula (I) used in the production method of the present invention, the compound represented by the general formula (II) produced by the production method of the present invention, reaction conditions and the general formula (I) Will be described in the order of the method of synthesizing the compounds represented by formula (1).
<一般式(I)で表される化合物> <Compound represented by formula (I)>
Lは、ハロゲン原子または−OSO2Raを表す。このうち、本発明では、−OSO2Raが好ましい。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、臭素原子またはヨウ素原子がより好ましく、ヨウ素原子がさらに好ましい。L represents a halogen atom or —OSO 2 Ra. Among them, in the present invention, -OSO 2 Ra are preferred.
The halogen atom is preferably a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, more preferably a bromine atom or an iodine atom, and even more preferably an iodine atom.
−OSO2RaにおけるRaは、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
Raにおけるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、フッ素原子または塩素原子がより好ましい。
脂肪族基は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基が好ましい。このうち、アルキル基の炭素数は1〜6が好ましく、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシルが挙げられる。アルケニル基の炭素数は2〜6が好ましく、例えば、ビニル、アリル、1−プロペニル、2−プロペニルが挙げられる。アルキニル基の炭素数は2〜6が好ましく、例えば、エチニル、2−プロピニル挙げられる。シクロアルキル基の炭素数は、3〜8が好ましく、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。シクロアルケニル基の炭素数は5〜10が好ましく、例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニルが挙げられる。
アリール基の炭素数は、6〜20が好ましく、6〜12がより好ましく、例えば、フェニル、ナフチルが挙げられる。
ヘテロ環基は、SO2の硫黄原子に結合する原子が炭素原子のものが好ましく、ヘテロ環基のヘテロ環を構成するヘテロ原子が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子で、5または6員環のものが好ましく、ベンゼン環などの環が縮環していても構わない。またヘテロ環基のヘテロ環は、飽和環でも不飽和環もしくは芳香環のいずれでも構わない。ヘテロ環基の炭素数は0〜20が好ましい。このようなヘテロ環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、テトラヒドロフラン環、ピロール環、ピペラジン環、モルホリン環が挙げられる。Ra in —OSO 2 Ra represents a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group.
The halogen atom in Ra is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, more preferably a fluorine atom or a chlorine atom.
The aliphatic group is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, or a cycloalkenyl group. Of these, the alkyl group preferably has 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, t-butyl, n-pentyl, and n-hexyl. The alkenyl group preferably has 2 to 6 carbon atoms, and examples thereof include vinyl, allyl, 1-propenyl, and 2-propenyl. The number of carbon atoms of the alkynyl group is preferably 2 to 6, and examples thereof include ethynyl and 2-propynyl. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group is preferably 3 to 8, and examples thereof include cyclopropyl, cyclopentyl, and cyclohexyl. The number of carbon atoms of the cycloalkenyl group is preferably 5 to 10, and examples thereof include cyclopentenyl and cyclohexenyl.
6-20 are preferable and, as for carbon number of an aryl group, 6-12 are more preferable, for example, phenyl and naphthyl are mentioned.
The heterocyclic group is preferably one in which the atom bonded to the sulfur atom of SO 2 is a carbon atom, and the hetero atom constituting the heterocyclic ring of the heterocyclic group is an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom and is a 5- or 6-membered ring And a ring such as a benzene ring may be condensed. The heterocyclic ring of the heterocyclic group may be a saturated ring, an unsaturated ring or an aromatic ring. As for carbon number of a heterocyclic group, 0-20 are preferable. Examples of such heterocycle include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, indole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, tetrahydrofuran ring, pyrrole ring, Examples include a piperazine ring and a morpholine ring.
Raにおける各基はさらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては、上記で挙げた脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基に加えて、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基(−NH2以外にアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含む)、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ウレイド基、ウレタン基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルオキシ基、アルキルもしくはアリールのスルフィニルオキシ基、シリル基、シリルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アジド基、ヒドラジノ基が挙げられる。Each group in Ra may be further substituted with a substituent. Examples of such a substituent include a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group in addition to the aliphatic group, aryl group, and heterocyclic group mentioned above. Group, alkylthio group, arylthio group, amino group (including alkylamino group, arylamino group and heterocyclic amino group in addition to —NH 2 ), acyl group, acyloxy group, acylamino group, sulfonamide group, carbamoyl group, sulfamoyl group , Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, ureido group, urethane group, alkyl or aryl sulfonyl group, alkyl or aryl sulfinyl group, alkyl or aryl sulfonyloxy group, alkyl or aryl sulfinyloxy group, silyl group, silyloxy Group, cyano group, nitro group, sulfo group, carboxy group, hydroxy group, azide group, hydrazino group.
これらの置換基の炭素数は25以下が好ましく、12以下がより好ましい。なかでも、脂肪族部分を有する基の脂肪族部分の炭素数は1〜6が好ましく、アリール部分を有する基のアリール部分の炭素数は6〜20が好ましく、ヘテロ環部分を有する基のヘテロ環部分の炭素数は0〜20が好ましい。例えば、アシル基で、アルキルカルボニル基の場合、「アルキル」の炭素数は1〜6が好ましいことになり、カルボニル基の炭素数1を合計すると、「アルキルカルボニル基」の好ましい炭素数は2〜7となる。 These substituents preferably have 25 or less carbon atoms, more preferably 12 or less. Among them, the aliphatic part of the group having an aliphatic part preferably has 1 to 6 carbon atoms, the aryl part of the group having an aryl part preferably has 6 to 20 carbon atoms, and the heterocyclic ring of the group having a heterocyclic part. As for carbon number of a part, 0-20 are preferable. For example, in the case of an acyl group and an alkylcarbonyl group, the number of carbon atoms of “alkyl” is preferably 1 to 6. When the total number of carbon atoms of the carbonyl group is 1, the preferable number of carbon atoms of the “alkylcarbonyl group” is 2 to 2. 7
Raにおける各基にさらに置換してもよい置換基は、これらのうち、電子求引性の基が好ましく、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ウレイド基、ウレタン基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基が挙げられる。 Among these, the substituent that may be further substituted on each group in Ra is preferably an electron-withdrawing group, and is a halogen atom, acyl group, acyloxy group, sulfonamido group, carbamoyl group, sulfamoyl group, alkoxycarbonyl group. , Aryloxycarbonyl group, ureido group, urethane group, alkyl or aryl sulfonyl group, alkyl or aryl sulfinyl group, cyano group, nitro group, sulfo group and carboxy group.
Raは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基または芳香族ヘテロ環基(ヘテロアリール基)がより好ましく、アルキル基またはアリール基がさらに好ましく、特にアリール基が好ましい。なかでも、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、またはシアノ基が置換したアリール基が好ましい。アリール基に置換するこれらの置換基の数は、1〜5が好ましい。なかでもハロゲン原子が置換する場合、ハロゲン原子の数は2〜5が好ましく、3〜5がより好ましい。 Ra is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group, more preferably a halogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aromatic heterocyclic group (heteroaryl group), and an alkyl group or an aryl group. Further preferred is an aryl group. Among them, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkyl or aryl sulfonyl group, an alkyl or aryl sulfinyl group, or an aryl group substituted with a cyano group is preferable. As for the number of these substituents substituted to an aryl group, 1-5 are preferable. Especially, when a halogen atom substitutes, 2-5 are preferable and, as for the number of halogen atoms, 3-5 are more preferable.
Raで特に好ましいものは、ハロゲン原子が1〜9個置換したアルキル基、ハロゲン原子が1〜5個置換したフェニル基であり、なかでもハロゲン原子が2〜5個置換したフェニル基が好ましく、ハロゲン原子が3〜5個置換したフェニル基が最も好ましい。 Particularly preferable Ra is an alkyl group substituted with 1 to 9 halogen atoms, a phenyl group substituted with 1 to 5 halogen atoms, and a phenyl group substituted with 2 to 5 halogen atoms is particularly preferred. Most preferred is a phenyl group substituted with 3 to 5 atoms.
RNは−Rb、−ORbまたは−N(Rb)(Rc)を表す。ここで、RbおよびRcは各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。RbおよびRcにおける脂肪族基、アリール基およびヘテロ環基は、Raにおける脂肪族基、アリール基およびヘテロ環基で挙げたものが挙げられ、好ましい。R N represents -Rb, the -ORb or -N (Rb) (Rc). Here, Rb and Rc each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an acyl group, an aryl group or a heterocyclic group. Preferred examples of the aliphatic group, aryl group and heterocyclic group for Rb and Rc include those exemplified for the aliphatic group, aryl group and heterocyclic group for Ra.
アシル基は、脂肪族のアシル基でも芳香族のアシル基でも構わない。なお、アルキルカルボニル基またはアリールカルボニル基が好ましい。ここで、「脂肪族のアシル基」とは、RbおよびRcにおける「脂肪族基」を有するアシル基を意味し、脂肪族基−C(=O)−である。
アシル基の炭素数は、2〜20が好ましく、このうち、アリールカルボニル基を含む芳香族のアシル基の炭素数は6〜20が好ましく、脂肪族のアシル基は2〜10が好ましい。脂肪族基−C(=O)−の「脂肪族基」、芳香族のアシル基の「芳香族」基部分の「アリール」基は、Raにおける脂肪族基およびアリール基で挙げた好ましい範囲および具体的な例示の基が好ましく適用される。The acyl group may be an aliphatic acyl group or an aromatic acyl group. An alkylcarbonyl group or an arylcarbonyl group is preferred. Here, the “aliphatic acyl group” means an acyl group having an “aliphatic group” in Rb and Rc, and is an aliphatic group —C (═O) —.
The number of carbon atoms of the acyl group is preferably 2-20, and among these, the number of carbon atoms of the aromatic acyl group containing an arylcarbonyl group is preferably 6-20, and the aliphatic acyl group is preferably 2-10. The “aliphatic group” of the aliphatic group —C (═O) — and the “aryl” group in the “aromatic” group part of the aromatic acyl group are the preferred ranges mentioned for the aliphatic group and aryl group in Ra, and Specific exemplary groups are preferably applied.
RbおよびRcは、水素原子、脂肪族基(なかでもアルキル基、アルケニル基)、アシル基、アリール基またはヘテロ環基が好ましい。 Rb and Rc are preferably a hydrogen atom, an aliphatic group (in particular, an alkyl group or an alkenyl group), an acyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
ここで、>C=N−RNは>C=Oであるカルボニル基の保護基であり、酸性条件下で、脱保護され、>C=N−RNが、>C=Oになる。RNは、一般式(I)で表される化合物の安定性、すなわち、>C=N−RNの安定性に影響する。この安定性の点では、RNは−ORbまたは−N(Rb)(Rc)が好ましい。一方、>C=N−RNを>C=Oに脱保護する反応のしやすさの点では、RNは−Rbまたは−ORbが好ましい。このため、安定性と脱保護のしやすさをともに満足する点で、−ORbがなかでも好ましい。Here,> C═N— RN is a protecting group for a carbonyl group, where> C═O, and is deprotected under acidic conditions, so that> C═N—R N becomes> C═O. R N, the stability of the compound represented by the general formula (I), i.e., affect the stability of the> C = N-R N. In terms of this stability, R N is -ORb or -N (Rb) (Rc) is preferred. On the other hand,> C = the N-R N> in terms of ease of deprotection reaction to C = O is, R N is preferably -Rb or -ORb. For this reason, -ORb is particularly preferable in terms of satisfying both stability and ease of deprotection.
RbおよびRcは、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基が好ましく、脂肪族基またはアリール基がより好ましく、脂肪族基がさらに好ましく、アルキル基が特に好ましい。RbおよびRcにおける脂肪族基は、炭素数1〜6が好ましく、炭素数1〜6のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基またはイソプロピル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。 Rb and Rc are preferably an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group, more preferably an aliphatic group or an aryl group, still more preferably an aliphatic group, and particularly preferably an alkyl group. The aliphatic group in Rb and Rc preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, still more preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an isopropyl group, a methyl group or an ethyl group Groups are particularly preferred and methyl groups are most preferred.
R1は、水素原子、脂肪族基(好ましくは、アルキル基、アルケニル基)、アリール基またはヘテロ環基を表す。脂肪族基、アリール基およびヘテロ環基は、Raにおける脂肪族基、アリール基およびヘテロ環基で挙げたものが挙げられ、好ましい。
R1は、水素原子、脂肪族基(好ましくは、アルキル基、アルケニル基)またはアリール基が好ましく、水素原子または脂肪族基がより好ましく、反応性の観点から、水素原子が最も好ましい。R 1 represents a hydrogen atom, an aliphatic group (preferably an alkyl group or an alkenyl group), an aryl group or a heterocyclic group. Examples of the aliphatic group, aryl group and heterocyclic group include those exemplified for the aliphatic group, aryl group and heterocyclic group in Ra, and are preferred.
R 1 is preferably a hydrogen atom, an aliphatic group (preferably an alkyl group, an alkenyl group) or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an aliphatic group, and most preferably a hydrogen atom from the viewpoint of reactivity.
Xは単結合または−C(RXA)(RXB)−を表す。本発明では、Xは単結合が好ましい。X represents a single bond or —C (R XA ) (R XB ) —. In the present invention, X is preferably a single bond.
R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBは、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、脂肪族基(好ましくはアルキル基、アルケニル基)、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基またはアジド基が好ましく、脂肪族基(好ましくはアルキル基、アルケニル基)、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シアノ基またはアジド基が好ましい。R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB are a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an aliphatic group (preferably an alkyl group or an alkenyl group), an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, An alkenyloxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a silyloxy group, an amino group, an acylamino group, a cyano group, or an azido group is preferable, and an aliphatic group (preferably an alkyl group or an alkenyl group) An aryl group, heterocyclic group, amino group, halogen atom, hydroxyl group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, cyano group or azide group is preferred.
ここで、アミノ基は、−NH2以外にアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含む。Here, the amino group includes an alkylamino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group in addition to —NH 2 .
R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBのうち、R2A、R3A、R2B、R3B、RXAおよびRXBは、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、脂肪族基(好ましくはアルキル基、アルケニル基)、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基またはアジド基が好ましく、R4AおよびR4Bは、水素原子、脂肪族基(好ましくはアルキル基、アルケニル基)、アリール基またはヘテロ環基が好ましい。Among R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB , R 2A , R 3A , R 2B , R 3B , R XA and R XB are a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, and an aliphatic group (Preferably alkyl group, alkenyl group), aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, silyloxy group, amino group, acylamino group, A cyano group or an azide group is preferable, and R 4A and R 4B are preferably a hydrogen atom, an aliphatic group (preferably an alkyl group or an alkenyl group), an aryl group, or a heterocyclic group.
各基のうち、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基は、Raにおけるハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、炭素数の範囲も含めて好ましい。
また、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基のアルキル部の炭素数、アリール部の炭素数は、Raにおけるアルキル基、アリール基の好ましい範囲の炭素数が好ましい。アシルアミノ基、アシルオキシ基の「アシル」部の炭素数は、RbおよびRcにおけるアシル基の好ましい範囲が好ましい。Of each group, the halogen atom, aliphatic group, aryl group, and heterocyclic group are preferably a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, and a heterocyclic group in Ra, and preferably include the range of carbon number.
Further, the carbon number of the alkyl part of the alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, and the carbon number of the aryl part are such that the carbon number in the preferred range of the alkyl group and aryl group in Ra is as follows. preferable. The number of carbon atoms in the “acyl” part of the acylamino group and acyloxy group is preferably within the preferable range of the acyl group in Rb and Rc.
ここで、アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、ヘプタノイル基、アクリル基、メタクリル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基が挙げられる。 Here, examples of the acyl group include acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, pivaloyl group, heptanoyl group, acrylic group, methacryl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group, and naphthoyl group.
シリルオキシ基の炭素数は3〜20が好ましく、3〜10がより好ましい。シリルオキシ基としては、トリアルキルシリルオキシ基、ジアルキルベンジルシリルオキシ基、ジアルキルアリールシリルオキシ基、アルキルジアリールシリルオキシ基、トリアリールシリルオキシ基、トリアルコキシシリルオキシ基、ジアルコキシアルキルシリルオキシ基もしくはアリールシリルオキシ基、アルコキシジアルキルシリルオキシ基もしくはジアリールシリルオキシ基が挙げられる。 3-20 are preferable and, as for carbon number of a silyloxy group, 3-10 are more preferable. As silyloxy group, trialkylsilyloxy group, dialkylbenzylsilyloxy group, dialkylarylsilyloxy group, alkyldiarylsilyloxy group, triarylsilyloxy group, trialkoxysilyloxy group, dialkoxyalkylsilyloxy group or arylsilyl An oxy group, an alkoxydialkylsilyloxy group or a diarylsilyloxy group can be mentioned.
アミノ基の炭素数は0〜20が好ましい。アミノ基は、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジブチルアミノ、オクチルアミノ、フェニルアミノ、ナフチルアミノが挙げられる。 As for carbon number of an amino group, 0-20 are preferable. Examples of the amino group include amino, methylamino, dimethylamino, methylethylamino, dibutylamino, octylamino, phenylamino, and naphthylamino.
脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基はさらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基、アシル基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ウレイド基、ウレタン基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基が挙げられる。 Aliphatic groups, aryl groups, heterocyclic groups, alkoxy groups, alkenyloxy groups, aryloxy groups, acyloxy groups, alkylsulfonyloxy groups, arylsulfonyloxy groups, silyloxy groups, amino groups, and acylamino groups are further substituted with substituents. Examples of such substituents include hydroxyl group, halogen atom, aliphatic group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyl Oxy, silyloxy, amino, acylamino, cyano, acyl, sulfonamido, carbamoyl, sulfamoyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, ureido, urethane, alkyl or aryl sulfoni Group, a sulfinyl group of alkyl or aryl, nitro group, a sulfo group and a carboxy group.
これらの、さらに置換してもよい置換基の炭素数は25以下が好ましく、12以下がより好ましい。なかでも、脂肪族部分を有する基の脂肪族部分の炭素数は1〜6が好ましく、アリール部分を有する基のアリール部分の炭素数は6〜20が好ましく、ヘテロ環部分を有する基のヘテロ環部分の炭素数は0〜20が好ましい。 These substituents which may be further substituted preferably have 25 or less carbon atoms, more preferably 12 or less. Among them, the aliphatic part of the group having an aliphatic part preferably has 1 to 6 carbon atoms, the aryl part of the group having an aryl part preferably has 6 to 20 carbon atoms, and the heterocyclic ring of the group having a heterocyclic part. As for carbon number of a part, 0-20 are preferable.
R2A、R2B、R3A、R3B、RXAおよびRXBの各基が有してもよい置換基としては、アルキル基、アリール基またはハロゲン原子が好ましい。As the substituent that each group of R 2A , R 2B , R 3A , R 3B , R XA and R XB may have, an alkyl group, an aryl group or a halogen atom is preferable.
R2A〜R4AおよびRXAのRAシリーズの基とR2B〜R4BおよびRXBのRBシリーズの基において、RAシリーズの基とRBシリーズの基のいずれか一方が置換基の場合、残りのシリーズの基は水素原子が好ましい。R 2A to R 4A and R XA in the R A series group and R 2B to R 4B and R XB in the R B series group, wherein either the R A series group or the R B series group is a substituent In the case, the remaining series of groups are preferably hydrogen atoms.
ただし、R2AとR2Bにおいては、両方が置換基のものも好ましく、このような置換基としては、一方が、アルキル基およびアリール基から選択される置換基であって、他方が、R2AとR2Bが結合する炭素原子と酸素原子を介して結合する置換基(例えば、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、さらには、R2AとR2Bが結合する炭素原子と隣接する炭素原子上の置換基と連結してメチレンジオキシ環もしくはエチレンジオキシ環を形成する基)が好ましい。However, in R 2A and R 2B, it is also preferable that both are substituents. As such substituents, one is a substituent selected from an alkyl group and an aryl group, and the other is R 2A. And a substituent bonded to the carbon atom to which R 2B is bonded and an oxygen atom (for example, a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, R 2A and R 2B are preferably linked to a substituent on the carbon atom adjacent to the carbon atom to which R 2A and R 2B are bonded to form a methylenedioxy ring or an ethylenedioxy ring.
本発明では、Xが−C(RXA)(RXB)−の場合、R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBの少なくとも1つは、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基が好ましい。また、Xが単結合の場合、R2A〜R4AおよびR2B〜R4Bの少なくとも1つは、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基が好ましい。
R2A、R2B、R3AおよびR3Bの少なくとも1つは、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基がより好ましい。R2A、R2B、R3AおよびR3Bが、各々独立に、水素原子、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基であることがさらに好ましい。
本発明では、これらの好ましい基を少なくとも2つ有するものが、さらに好ましい。In the present invention, when X is —C (R XA ) (R XB ) —, at least one of R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB is a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkenyloxy Group, aryloxy group, acyloxy group, silyloxy group, alkylsulfonyloxy group or arylsulfonyloxy group is preferred. When X is a single bond, at least one of R 2A to R 4A and R 2B to R 4B is a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a silyloxy group, an alkylsulfonyloxy group, or An arylsulfonyloxy group is preferred.
At least one of R 2A , R 2B , R 3A and R 3B is more preferably a hydroxyl group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, silyloxy group, alkylsulfonyloxy group or arylsulfonyloxy group. R 2A , R 2B , R 3A and R 3B are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group. preferable.
In the present invention, those having at least two of these preferred groups are more preferred.
ここで、アルコキシ基は、上記のように、無置換のアルコキシ基だけでなく、アリール基が置換したメトキシ基、すなわち−O−CH2−Arが好ましく、ベンジルオキシ基が特に好ましい。なお、Arはアリール基を表し、置換基を有してもよいフェニル基が好ましく、置換基としては、上記で説明した、各基をさらに置換してもよい置換基が挙げられる。Here, as described above, the alkoxy group is preferably not only an unsubstituted alkoxy group but also a methoxy group substituted with an aryl group, that is, —O—CH 2 —Ar, and particularly preferably a benzyloxy group. Ar represents an aryl group and is preferably a phenyl group which may have a substituent. Examples of the substituent include the substituents described above, which may further substitute each group.
なお、R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBのなかでも、R4AとR4Bは、反応で離脱するLが結合する炭素原子に結合していることから、環化反応に影響を与える。
このため、R4AとR4Bは、Lが結合する炭素原子に生じる炭素カチオンの安定性を高める基が好ましく、例えば、アリール基やアリル基のように、この炭素上のカチオンと共役できる基が好ましい。Among R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB , R 4A and R 4B are cyclized because they are bonded to the carbon atom to which L which is released by the reaction is bonded. Affects reaction.
For this reason, R 4A and R 4B are preferably groups that enhance the stability of the carbocation generated on the carbon atom to which L is bonded. For example, a group that can be conjugated with a cation on this carbon, such as an aryl group or an allyl group. preferable.
また、Lが結合する炭素原子に、カルボニルから生じた(立ち上がった)−O−イオンが攻撃するため、R4AおよびR4Bは立体的に小さな基が好ましく、R4AとR4Bのいずれか一方は水素原子であることがより好ましい。
R4AとR4Bのいずれか一方が、上記の理由で水素原子である場合、残りの一方は、水素原子またはアルキル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。このうち、アルキル基は、無置換のアルキル基に加えて、置換基を有するアルキル基も好ましい。アルキル基は、なかでも、メチル基、−CH2−O−Ryが好ましい。ここで、Ryは、水素原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、カルバモイル基またはスルファモイル基が好ましい。Ryにおけるアリール基、ヘテロ環基およびアルキルもしくはアリールのスルホニル基は、Raにおけるアリール基、ヘテロ環基およびアルキルもしくはアリールのスルホニル基が好ましく挙げられ、Ryにおけるアシル基は、RbおよびRcにおけるアシル基が好ましく挙げられる。なお、脂肪族基は、上記の−O−CH2−Arにおける、−CH2−Arが好ましい。Further, the carbon atom to which L is attached, resulting from carbonyl (rose) -O - the ion attacks, R 4A and R 4B are sterically small groups are preferred, either one of R 4A and R 4B Is more preferably a hydrogen atom.
When either one of R 4A and R 4B is a hydrogen atom for the above reasons, the remaining one is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably an alkyl group. Of these, the alkyl group is preferably an alkyl group having a substituent in addition to the unsubstituted alkyl group. Among them, the alkyl group is preferably a methyl group or —CH 2 —O—Ry. Here, Ry is preferably a hydrogen atom, an aliphatic group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkyl or aryl sulfonyl group, a carbamoyl group or a sulfamoyl group. The aryl group, heterocyclic group, and alkyl or aryl sulfonyl group in Ry are preferably the aryl group, heterocyclic group, and alkyl or aryl sulfonyl group in Ra, and the acyl group in Ry is the acyl group in Rb and Rc. Preferably mentioned. Note that the aliphatic group is preferably —CH 2 —Ar in the above —O—CH 2 —Ar.
ここで、R4AおよびR4Bの一方が水素原子で、他方が置換基であるか、R4AおよびR4Bが異なる置換基である場合、R4AおよびR4Bが結合する炭素原子が不斉炭素原子となり、環化反応で絶対立体配座が反転し、D体−L体変換が可能となり、好ましい。Here, when one of R 4A and R 4B is a hydrogen atom and the other is a substituent, or when R 4A and R 4B are different substituents, the carbon atom to which R 4A and R 4B are bonded is an asymmetric carbon It becomes an atom, and the absolute conformation is reversed by the cyclization reaction, and D-form-L-form conversion becomes possible, which is preferable.
R2AとR2B、R3AとR3B、RXAとRXBが、互いに共同して、=O、または=C(Rd)(Re)で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBの少なくとも2つが、互いに結合して環を形成してもよい。ここで、RdおよびReは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
RdおよびReにおける置換基は、R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBにおける各基をさらに置換してもよい置換基が挙げられる。RdおよびReは水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。R 2A and R 2B , R 3A and R 3B , R XA and R XB may jointly form a methylidene group represented by ═O or ═C (Rd) (Re), , R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB may be bonded to each other to form a ring. Here, Rd and Re each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
Examples of the substituent in Rd and Re include substituents that may further substitute each group in R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB . Rd and Re are preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBの少なくとも2つが、互いに結合して形成する環としては、ベンゼン環、シクロアルカン(例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン)、ヘテロ環(好ましくはRaで挙げたヘテロ環)が挙げられる。なかでも、隣接する炭素原子上の基が、互いに結合して、−O−C(Rα1)(Rβ1)−C(Rα2)(Rβ2)−O−、−O−C(Rα1)(Rβ1)−O−または−CH2−O−C(Rα1)(Rβ1)−O−で環を形成するものが好ましい。ここで、Rα1、Rα2、Rβ1およびRβ2は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。特に、R4AまたはR4BとR3AまたはR3Bが互いに結合する場合、*−CH2−O−C(Rα1)(Rβ1)−O−**で環を形成することが好ましく、これ以外のR2A〜R3A、R2B〜R3B、RXAおよびRXBのうち、互いに隣接する炭素原子上の基が互いに結合する場合、−O−C(Rα1)(Rβ1)−C(Rα2)(Rβ2)−O−、−O−C(Rα1)(Rβ1)−O−で環を形成することが好ましく、−O−C(Rα1)(Rβ1)−O−で環を形成することがより好ましい。なお、*はR4AまたはR4Bが結合する炭素原子に結合する結合手であり、**はR3AまたはR3Bが結合する炭素原子に結合する結合手である。As a ring formed by combining at least two of R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB with each other, a benzene ring, a cycloalkane (eg, cyclopentane, cyclohexane), a heterocycle (preferably Is a heterocycle exemplified in Ra). Among them, groups on adjacent carbon atoms are bonded to each other to form —O—C (Rα1) (Rβ1) —C (Rα2) (Rβ2) —O—, —O—C (Rα1) (Rβ1) —. O- or -CH 2 -O-C (Rα1) (Rβ1) which -O- in a ring are preferred. Here, Rα1, Rα2, Rβ1 and Rβ2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. In particular, when R 4A or R 4B and R 3A or R 3B are bonded to each other, it is preferable to form a ring with * —CH 2 —O—C (Rα1) (Rβ1) —O — **. When groups on adjacent carbon atoms among R 2A to R 3A , R 2B to R 3B , R XA and R XB are bonded to each other, —O—C (Rα1) (Rβ1) —C (Rα2) ( Rβ2) —O—, —O—C (Rα1) (Rβ1) —O— preferably form a ring, and —O—C (Rα1) (Rβ1) —O— more preferably form a ring. . Note that * is a bond bonded to the carbon atom to which R 4A or R 4B is bonded, and ** is a bond bonded to the carbon atom to which R 3A or R 3B is bonded.
<一般式(II)で表される化合物> <Compound represented by formula (II)>
一般式(II)において、R1、X、R2A〜R4AおよびR2B〜R4Bは一般式(I)におけるR1、X、R2A〜R4AおよびR2B〜R4Bと同義であり、好ましい範囲も同じである。In formula (II), R 1, X , R 2A ~R 4A and R 2B to R 4B is R 1 in the general formula (I), X, it is synonymous with R 2A to R 4A and R 2B to R 4B The preferred range is also the same.
一般式(I)で表される化合物は、下記一般式(IA)で表される化合物が好ましい。この場合、反応の結果、得られる化合物は、下記一般式(IIA)で表される化合物である。 The compound represented by the general formula (I) is preferably a compound represented by the following general formula (IA). In this case, the compound obtained as a result of the reaction is a compound represented by the following general formula (IIA).
一般式(IA)および(IIA)において、L、RN、R1、R2A〜R4AおよびR2B〜R4Bは、一般式(I)および(II)におけるL、RN、R1、R2A〜R4AおよびR2B〜R4Bと同義であり、好ましい範囲も同じである。In formula (IA) and (IIA), L, R N , R 1, R 2A ~R 4A and R 2B to R 4B is, L in the general formula (I) and (II), R N, R 1, has the same meaning as R 2A to R 4A and R 2B to R 4B, the preferred range is also the same.
以下に、一般式(I)で表される化合物の具体例を立体異性体で示す。なお、本発明はこれによって限定されるものではなく、以下の具体例において、立体構造の異なる異性体をも挙げられる。また、代表して記載する一部の立体構造以外にも、当然、同じ置換基を有する異なる立体構造の化合物も例示するものであり、明細書紙面の都合上省略しただけである。 Specific examples of the compound represented by the general formula (I) are shown as stereoisomers below. In addition, this invention is not limited by this, In the following specific examples, the isomer from which a three-dimensional structure differs is also mentioned. Further, in addition to some of the three-dimensional structures described as representatives, naturally, compounds of different three-dimensional structures having the same substituents are also exemplified, and are merely omitted for the convenience of the specification sheet.
以下に、一般式(II)で表される化合物の具体例を立体異性体で示す。
本発明では、上記一般式(I)で表される化合物から得られる一般式(II)で表される化合物が、例示化合物として挙げられるのは当然であるため、省略する。Specific examples of the compound represented by the general formula (II) are shown below as stereoisomers.
In this invention, since it is natural that the compound represented by general formula (II) obtained from the compound represented by the said general formula (I) is mentioned as an exemplary compound, it abbreviate | omits.
<反応条件>
一般式(II)で表される化合物は、一般式(I)で表される化合物を、酸性条件下で反応させることにより、製造できる。
この反応に使用される溶媒(反応溶媒)としては、例えば、脂肪族炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、アルコール化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、ニトリル化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、芳香族炭化水素化合物、尿素化合物および水が挙げられる。これらの溶媒は混合して使用してもよい。<Reaction conditions>
The compound represented by general formula (II) can be produced by reacting the compound represented by general formula (I) under acidic conditions.
Examples of the solvent (reaction solvent) used in this reaction include aliphatic hydrocarbon compounds, halogenated hydrocarbon compounds, alcohol compounds, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, nitrile compounds, amide compounds, sulfoxide compounds, aromatic compounds. Group hydrocarbon compounds, urea compounds and water. These solvents may be used as a mixture.
これらの反応溶媒は、具体的には、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、塩化メチレン、クロロホルム、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、t−ブタノール、ジエチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、水が挙げられる。 Specific examples of these reaction solvents include pentane, hexane, heptane, methylene chloride, chloroform, methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, t-butanol, diethyl ether, methyl-t-butyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane. , Ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolide Non, dimethyl sulfoxide, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, and water can be mentioned.
反応溶媒は、水溶性溶媒が好ましく、ニトリル化合物、ケトン化合物またはアルコール化合物が好ましく、ニトリル化合物またはケトン化合物がより好ましく、具体的には、アセトニトリルまたはアセトンが好ましく、なかでもアセトニトリルが好ましい。 The reaction solvent is preferably a water-soluble solvent, preferably a nitrile compound, a ketone compound or an alcohol compound, more preferably a nitrile compound or a ketone compound, specifically acetonitrile or acetone is preferable, and acetonitrile is particularly preferable.
本発明では、>C=N−RNを>C=Oに脱保護することから、水の存在下で反応を行うことが好ましい。
反応溶媒に含まれる水は、有機溶媒100mLに対して、1〜70mLが好ましく、1〜50mLがより好ましく、1〜20mLがさらに好ましい。In the present invention,> the C = N-R N since the> deprotected C = O, the reaction is preferably carried out in the presence of water.
The amount of water contained in the reaction solvent is preferably 1 to 70 mL, more preferably 1 to 50 mL, and even more preferably 1 to 20 mL with respect to 100 mL of the organic solvent.
溶媒の使用量は、特に限定されるものではなく、一般式(I)で表される化合物に対して、1〜50倍量(volume/weight、以下、v/wと省略して記載する。)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。 The amount of the solvent used is not particularly limited, and is 1 to 50 times the amount of the compound represented by the general formula (I) (volume / weight, hereinafter abbreviated as v / w). 1) to 15 times (v / w) is preferable.
本発明の反応は、酸性条件下で行うものであり、使用する酸は、有機もしくは無機のいずれでも構わない。無機の酸としては、塩酸、硫酸、リン酸が挙げられ、有機の酸としては、グリオキシル酸を含む脂肪族もしくは芳香族カルボン酸、脂肪族もしくは芳香族スルホン酸が挙げられる。脂肪族もしくは芳香族カルボン酸、脂肪族もしくは芳香族スルホン酸は、具体的には、グリオキシル酸、酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、安息香酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸が挙げられ、グリオキシル酸が好ましい。 The reaction of the present invention is carried out under acidic conditions, and the acid used may be either organic or inorganic. Examples of inorganic acids include hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, and examples of organic acids include aliphatic or aromatic carboxylic acids including glyoxylic acid, and aliphatic or aromatic sulfonic acids. Specific examples of the aliphatic or aromatic carboxylic acid and the aliphatic or aromatic sulfonic acid include glyoxylic acid, acetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzoic acid, benzenesulfonic acid, and toluenesulfonic acid, and glyoxylic acid is preferable. .
酸の使用量は、一般式(I)で表される化合物に対して、0.1倍モル以上が好ましく、1倍モル以上がより好ましく、1.5倍モル以上が特に好ましい。上限としては、100倍モル以下が好ましく、60倍モル以下がより好ましく、40倍モル以下が特に好ましい。 The amount of the acid used is preferably 0.1 times mol or more, more preferably 1 time mol or more, and particularly preferably 1.5 times mol or more based on the compound represented by the general formula (I). As an upper limit, 100 times mole or less is preferable, 60 times mole or less is more preferable, and 40 times mole or less is especially preferable.
本発明では、脱保護で生じるNH2−RNを捕獲し、反応の平衡を脱保護側にずらし、反応を促進させるため、カルボニル化合物を添加することが好ましい。カルボニル化合物としては、アセトンおよび2−ブタノンなどのケトン化合物ならびにホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、グリオキサールおよびグリオキシル酸などのアルデヒド化合物が挙げられ、アルデヒド化合物が好ましく、グリオキシル酸がより好ましい。
本発明では、酸と、NH2−RNを捕獲して反応の平衡を脱保護側にずらすカルボニル化合物とを兼ね備えた化合物を用いてもよい。このような化合物は、スルホ基またはカルボキシ基とカルボニル基を分子内に有する化合物であり、グリオキシル酸は、この両方の機能を備えている。グリオキシル酸以外には、ピルビン酸、2−オキソブタン酸、2−オキソグルタミン酸、アセトンジカルボン酸、アセト酢酸、オキサル酢酸、ケトピン酸、2−ホルミルプロピオン酸などが挙げられる。In the present invention, to capture the NH 2 -R N caused by deprotection, shifting the equilibrium of the reaction to deprotection side, in order to accelerate the reaction, it is preferable to add a carbonyl compound. Examples of the carbonyl compound include ketone compounds such as acetone and 2-butanone, and aldehyde compounds such as formaldehyde, benzaldehyde, glyoxal and glyoxylic acid, aldehyde compounds are preferable, and glyoxylic acid is more preferable.
In the present invention, acid and may be a compound having both a carbonyl compound by capturing NH 2 -R N shift the equilibrium of the reaction to deprotection side. Such a compound is a compound having a sulfo group or a carboxy group and a carbonyl group in the molecule, and glyoxylic acid has both functions. In addition to glyoxylic acid, pyruvic acid, 2-oxobutanoic acid, 2-oxoglutamic acid, acetone dicarboxylic acid, acetoacetic acid, oxalacetic acid, ketopinic acid, 2-formylpropionic acid and the like can be mentioned.
カルボニル化合物の使用量は、一般式(I)で表される化合物に対して、0.5倍モル以上が好ましく、1倍モル以上がより好ましく、1.5倍モル以上が特に好ましい。上限としては、100倍モル以下が好ましく、60倍モル以下がより好ましく、40倍モル以下が特に好ましい。 The amount of the carbonyl compound used is preferably 0.5 times mol or more, more preferably 1 time mol or more, and particularly preferably 1.5 times mol or more based on the compound represented by the general formula (I). As an upper limit, 100 times mole or less is preferable, 60 times mole or less is more preferable, and 40 times mole or less is especially preferable.
反応温度は、0℃以上が好ましく、30℃以上がより好ましく、50℃以上がさらに好ましい。上限としては、120℃以下が好ましく、100℃以下がより好ましく、80℃以下がさらに好ましい。反応時間は、5分間以上が好ましい。上限としては、50時間以内が好ましく、24時間以内がより好ましく、6時間以内がさらに好ましい。 The reaction temperature is preferably 0 ° C. or higher, more preferably 30 ° C. or higher, and further preferably 50 ° C. or higher. As an upper limit, 120 degrees C or less is preferable, 100 degrees C or less is more preferable, and 80 degrees C or less is further more preferable. The reaction time is preferably 5 minutes or longer. The upper limit is preferably within 50 hours, more preferably within 24 hours, and even more preferably within 6 hours.
<<一般式(I)で表される化合物の製造方法>>
一般式(I)で表される化合物は、下記一般式(III)で表される化合物を用いて、合成することが好ましい。<< Method for Producing Compound Represented by Formula (I) >>
The compound represented by the general formula (I) is preferably synthesized using a compound represented by the following general formula (III).
一般式(III)において、R1は、一般式(I)におけるR1と同義である。Xxは単結合または−C(RXAx)(RXBx)−を表す。R2Ax〜R4Ax、R2Bx〜R4Bx、RXAxおよびRXBxは各々独立に、水素原子または置換基を表す。R2AxとR2Bx、R3AxとR3Bx、RXAxとRXBxが、互いに共同して、=O、または=C(Rdx)(Rex)で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、R2Ax〜R4Ax、R2Bx〜R4Bx、RXAxおよびRXBxの少なくとも2つが、互いに結合して環を形成してもよい。RdxおよびRexは各々独立に、水素原子または置換基を表す。In general formula (III), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (I). Xx represents a single bond or —C (R XAx ) (R XBx ) —. R 2Ax to R 4Ax , R 2Bx to R 4Bx , R XAx and R XBx each independently represent a hydrogen atom or a substituent. R 2Ax and R 2Bx , R 3Ax and R 3Bx , R XAx and R XBx may cooperate with each other to form a methylidene group represented by ═O or ═C (Rdx) (Rex). , R 2Ax to R 4Ax , R 2Bx to R 4Bx , R XAx and R XBx may be bonded to each other to form a ring. Rdx and Rex each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
ここで、Xx、R2Ax〜R4Ax、R2Bx〜R4Bx、RXAx、RXBx、RdxおよびRexは、一般式(I)におけるX、R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXA、RXB、RdおよびReと同義であり、好ましい範囲も同じである。Here, Xx, R 2Ax to R 4Ax , R 2Bx to R 4Bx , R XAx , R XBx , Rdx and Rex are X, R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA in the general formula (I) , R XB , Rd and Re, and the preferred range is also the same.
一般式(III)で表される化合物は、下記一般式(IIIA)で表される化合物が好ましい。 The compound represented by the general formula (III) is preferably a compound represented by the following general formula (IIIA).
一般式(IIIA)において、R1は、一般式(I)におけるR1と同義である。R2Ax〜R4AxおよびR2Bx〜R4Bxは各々独立に、水素原子または置換基を表す。R2AxとR2Bx、R3AxとR3Bxが、互いに共同して、=O、または=C(Rdx)(Rex)で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、R2Ax〜R4AxおよびR2Bx〜R4Bxの少なくとも2つが、互いに結合して環を形成してもよい。RdxおよびRexは各々独立に、水素原子または置換基を表す。In the general formula (IIIA), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (I). R 2Ax to R 4Ax and R 2Bx to R 4Bx each independently represent a hydrogen atom or a substituent. R 2Ax and R 2Bx , R 3Ax and R 3Bx may jointly form a methylidene group represented by ═O or ═C (Rdx) (Rex), and R 2Ax to R 4Ax And at least two of R 2Bx to R 4Bx may be bonded to each other to form a ring. Rdx and Rex each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
ここで、R2Ax〜R4Ax、R2Bx〜R4Bx、RXAx、RXBx、RdxおよびRexは、一般式(III)におけるR2Ax〜R4Ax、R2Bx〜R4Bx、RXAx、RXBx、RdxおよびRexと同義であり、好ましい範囲も同じである。Here, R 2Ax to R 4Ax , R 2Bx to R 4Bx , R XAx , R XBx , Rdx and Rex are R 2Ax to R 4Ax , R 2Bx to R 4Bx , R XAx , R XBx , It is synonymous with Rdx and Rex, and its preferable range is also the same.
一般式(III)で表される化合物から、一般式(I)で表される化合物を合成する合成ルートは、下記の合成ルートが好ましい。 The synthetic route for synthesizing the compound represented by the general formula (I) from the compound represented by the general formula (III) is preferably the following synthetic route.
ここで、NH2−RNで表される化合物におけるRNおよびY−SO2−Raで表される化合物におけるRaは、一般式(I)におけるRNおよびRaと同義であり、好ましい範囲も同じである。Yは、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、臭素原子がより好ましい。)を表す。なお、一般式(III’)、(I−1)および(I−2)におけるR1、Xx、R2Ax〜R4AxおよびR2Bx〜R4Bxは、一般式(III)におけるR1、Xx、R2Ax〜R4AxおよびR2Bx〜R4Bxと同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式(III’)、(I−1)、(I−2)におけるRNは一般式(I)におけるRNと同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式(I−1)におけるRaは一般式(I)におけるRaと同義であり、好ましい範囲も同じである。Here, Ra is in the compound represented by R N and Y-SO 2 -Ra in the compound represented by NH 2 -R N, has the same meaning as R N and Ra in formula (I), preferable range The same. Y represents a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferable, and a bromine atom is more preferable). In the general formulas (III ′), (I-1) and (I-2), R 1 , Xx, R 2Ax to R 4Ax and R 2Bx to R 4Bx are R 1 , Xx, R 2AX to R 4AX and R 2BX to R 4BX and are synonymous, and preferred ranges are also the same. Formula (III '), (I- 1), has the same meaning as R N R N in the general formula (I) in (I-2), and the preferred range is also the same. Ra in general formula (I-1) is synonymous with Ra in general formula (I), and its preferable range is also the same.
上記のように、まず、一般式(III)で表される化合物とNH2−RNで表される化合物を反応させ、一般式(III’)で表される化合物を得る。その後、R4AxおよびR4Bxが結合する炭素原子上の水酸基(−OH)を、(a)Y−SO2−Raで表される化合物と反応させて−O−SO2−Raとすることで、一般式(I−1)で表される化合物を合成するか、または、(b)塩化チオニルのようなハロゲン化剤でハロゲン原子に変換することで、一般式(I−2)で表される化合物を合成する。As described above, first, the general formula is reacted with a compound represented by NH 2 represented by -R N compound (III), to obtain a compound represented by the general formula (III '). Then, the hydroxyl group (—OH) on the carbon atom to which R 4Ax and R 4Bx are bonded is reacted with a compound represented by (a) Y—SO 2 —Ra to form —O—SO 2 —Ra. The compound represented by the general formula (I-1) is synthesized, or (b) is converted to a halogen atom with a halogenating agent such as thionyl chloride. A compound is synthesized.
また、一般式(IIIA)で表される化合物から、一般式(IA)で表される化合物を合成する合成ルートは、下記の合成ルートとして表される。 Moreover, the synthetic route which synthesize | combines the compound represented by general formula (IA) from the compound represented by general formula (IIIA) is represented as the following synthetic route.
ここで、一般式(IIIA’)におけるR1、R2Ax〜R4AxおよびR2Bx〜R4Bxは、一般式(III)におけるR1、R2Ax〜R4AxおよびR2Bx〜R4Bxと同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式(IIIA’)におけるRNは一般式(I)におけるRNと同義であり、好ましい範囲も同じである。Here, the general formula (IIIA ') R 1, R 2Ax ~R 4Ax and R 2BX to R 4BX in is located in the general formula (III) in R 1, R 2Ax ~R 4Ax and R 2BX to R 4BX synonymous The preferred range is also the same. Is R N in the general formula (IIIA ') it has the same meaning as R N in formula (I), and preferred ranges are also the same.
<一般式(III’)で表される化合物の製造>
一般式(III’)で表される化合物は、一般式(III)で表される化合物と、NH2−RNで表される化合物を反応させることで合成することが好ましい。
一般式(III)で表される化合物としては、例えば、常用されるピラノース化合物またはフラノースを用いることができる。<Production of compound represented by formula (III ')>
Formula (III ') The compound represented by the general formula (III) compounds represented by, it is preferably synthesized by reacting a compound represented by NH 2 -R N.
As the compound represented by the general formula (III), for example, a commonly used pyranose compound or furanose can be used.
NH2−RNで表される化合物は、RNが−Rbの場合、NH2−Rbで表される第1級アミン化合物である。第1級アミン化合物は、具体的には、メチルアミン、エチルアミン、ビニルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、トルイジン、1−ナフチルアミン、2−アミノピリミジン、2−アミノトリアジンが好ましく、メチルアミンまたはエチルアミンがなかでも好ましい。A compound represented by NH 2 -R N, if R N is -Rb, a primary amine compound represented by NH 2 -Rb. Specifically, the primary amine compound is preferably methylamine, ethylamine, vinylamine, cyclopentylamine, cyclohexylamine, aniline, toluidine, 1-naphthylamine, 2-aminopyrimidine, 2-aminotriazine, and methylamine or ethylamine is preferred. Especially preferred.
NH2−RNで表される化合物は、RNが−ORbの場合、NH2−ORbで表されるヒドロキシルアミン化合物である。NH2−ORbで表される化合物は、具体的には、ヒドロキシルアミン、O−メチルヒドロキシルアミン、O−エチルヒドロキシルアミン、O−フェニルヒドロキシルアミン、O−トリチルヒドロキシルアミン、またはO−ベンジルヒドロキシルアミンが好ましく、O−メチルヒドロキシルアミンまたはO−ベンジルヒドロキシルアミンがより好ましく、O−メチルヒドロキシルアミンがなかでも好ましい。A compound represented by NH 2 -R N, if R N is -ORb, a hydroxylamine compound represented by NH 2 -ORb. The compound represented by NH 2 —ORb is specifically hydroxylamine, O-methylhydroxylamine, O-ethylhydroxylamine, O-phenylhydroxylamine, O-tritylhydroxylamine, or O-benzylhydroxylamine. Preferably, O-methylhydroxylamine or O-benzylhydroxylamine is more preferable, and O-methylhydroxylamine is particularly preferable.
NH2−RNで表される化合物は、RNが−N(Rb)(Rc)の場合、NH2−N(Rb)(Rc)で表されるヒドラジン化合物である。ヒドラジン化合物は、具体的には、ヒドラジン、N−メチルヒドラジン、N,N−ジメチルヒドラジン、フェニルヒドラジンが好ましく、N−メチルヒドラジンまたはN,N−ジメチルヒドラジンがより好ましい。NH compounds represented by 2 -R N, if R N is -N (Rb) (Rc), a hydrazine compound represented by NH 2 -N (Rb) (Rc ). Specifically, the hydrazine compound is preferably hydrazine, N-methylhydrazine, N, N-dimethylhydrazine, or phenylhydrazine, and more preferably N-methylhydrazine or N, N-dimethylhydrazine.
NH2−RNで表される化合物は、塩であっても構わない。このような塩としては、例えば塩酸塩などが挙げられる。A compound represented by NH 2 -R N are may be a salt. Examples of such a salt include hydrochloride.
一般式(III’)で表される化合物は、アルデヒドやケトンのアセタールもしくはケタールとの反応より、高収率で合成することが可能であり、また得られた一般式(III’)で表される化合物が安定である。
このため、続く、一般式(I)で表される化合物を得るための反応条件でも、>C=N−RN部分が安定である。また、一般式(I)で表される化合物を、酸性条件下で反応させ、脱保護で得られるアルデヒドもしくはケトン体の中間体を経由して、一般式(II)で表される化合物を合成する反応がも、温和な条件で進行する。The compound represented by the general formula (III ′) can be synthesized in a high yield by the reaction of an aldehyde or ketone with an acetal or ketal, and is represented by the obtained general formula (III ′). The compound is stable.
For this reason, even in the subsequent reaction conditions for obtaining the compound represented by the general formula (I), the> C = N- RN portion is stable. In addition, the compound represented by the general formula (I) is reacted under acidic conditions, and the compound represented by the general formula (II) is synthesized via an aldehyde or ketone intermediate obtained by deprotection. This reaction also proceeds under mild conditions.
反応溶媒は、例えば、脂肪族炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、アルコール化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ニトリル化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、芳香族炭化水素化合物、ヘテロ芳香族化合物および水が挙げられる。これらの溶媒は混合して使用してもよい。溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(III)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。 Examples of the reaction solvent include aliphatic hydrocarbon compounds, halogenated hydrocarbon compounds, alcohol compounds, ether compounds, ester compounds, nitrile compounds, amide compounds, sulfoxide compounds, aromatic hydrocarbon compounds, heteroaromatic compounds, and water. It is done. These solvents may be used as a mixture. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It should just be 1-50 times amount (v / w) with respect to the compound represented by general formula (III), and 1-15 times amount (v / w). Is preferred.
NH2−RNで表される化合物の使用量は、一般式(III)で表される化合物に対して、1倍モル以上が好ましく、2倍モル以上がより好ましく、3倍モル以上が特に好ましい。上限としては、10倍モル以下が好ましく、5倍モル以下がより好ましく、3倍モル以下が特に好ましい。NH2−RNで表される化合物の塩を用いる場合、塩基を添加することが好ましい。塩基としては、有機もしくは無機の塩基が挙げられ、第三級アミン(例えばトリエチルアミン)、窒素原子を環構成原子として有する塩基性のヘテロ環化合物または炭酸水素ナトリウムが好ましい。塩基の使用量は、NH2−RNで表される化合物に対して、1倍モル以上が好ましく、1.5倍モル以上がより好ましく、2倍モル以上がさらに好ましく、3倍モル以上が特に好ましい。上限としては、10倍モル以下が好ましく、5倍モル以下がより好ましく、3倍モル以下が特に好ましい。The amount of NH 2 -R N compounds represented by the for general formula (III) compounds represented by is preferably at least 1-fold mol, more preferably at least 2-fold moles, particularly more than 3 times the molar preferable. As an upper limit, 10 times mole or less is preferable, 5 times mole or less is more preferable, and 3 times mole or less is especially preferable. When using a salt of the compound represented by NH 2 -R N, it is preferable to add a base. Examples of the base include organic or inorganic bases, and tertiary amines (for example, triethylamine), basic heterocyclic compounds having a nitrogen atom as a ring atom, or sodium hydrogen carbonate are preferable. The amount of the base to the compound represented by NH 2 -R N, preferably more than 1-fold molar, more preferably at least 1.5 moles, more preferably twice or more moles, at least 3-fold molar Particularly preferred. As an upper limit, 10 times mole or less is preferable, 5 times mole or less is more preferable, and 3 times mole or less is especially preferable.
反応温度は、−10℃以上が好ましく、−5℃以上がより好ましく、0℃以上が特に好ましい。上限としては、100℃以下が好ましく、80℃以下がより好ましく、60℃以下が特に好ましい。反応時間は、5分間以上が好ましい。上限としては、50時間以内が好ましく、24時間以内がより好ましく、6時間以内が特に好ましい。 The reaction temperature is preferably −10 ° C. or higher, more preferably −5 ° C. or higher, and particularly preferably 0 ° C. or higher. As an upper limit, 100 degrees C or less is preferable, 80 degrees C or less is more preferable, and 60 degrees C or less is especially preferable. The reaction time is preferably 5 minutes or longer. The upper limit is preferably within 50 hours, more preferably within 24 hours, and particularly preferably within 6 hours.
<一般式(I)で表される化合物の製造>
一般式(I)で表される化合物は、一般式(III’)で表される化合物の水酸基をLに変換することで合成することが好ましい。ここで、Lは、ハロゲン原子または−OSO2Raである。<Production of compound represented by formula (I)>
The compound represented by the general formula (I) is preferably synthesized by converting the hydroxyl group of the compound represented by the general formula (III ′) to L. Here, L is a halogen atom or —OSO 2 Ra.
(a)スルホニル化反応(一般式(I−1)で表される化合物の製造方法)
一般式(III’)で表される化合物の水酸基を−OSO2−Raに変換する場合、Y−SO2−Ra、あるいは、O(SO2−Ra)2で、一般式(III’)で表される化合物中の水酸基をスルホニル化することが好ましい。ここで、Yはハロゲン原子である。(A) Sulfonylation reaction (Method for producing compound represented by formula (I-1))
When the hydroxyl group of the compound represented by the general formula (III ′) is converted to —OSO 2 —Ra, Y—SO 2 —Ra or O (SO 2 —Ra) 2 is represented by the general formula (III ′). It is preferable to sulfonylate the hydroxyl group in the represented compound. Here, Y is a halogen atom.
反応溶媒は、例えば、脂肪族炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、アルコール化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ニトリル化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、芳香族炭化水素化合物、ヘテロ芳香族化合物および水が挙げられる。これらの溶媒は混合して使用してもよい。溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(III’)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。 Examples of the reaction solvent include aliphatic hydrocarbon compounds, halogenated hydrocarbon compounds, alcohol compounds, ether compounds, ester compounds, nitrile compounds, amide compounds, sulfoxide compounds, aromatic hydrocarbon compounds, heteroaromatic compounds, and water. It is done. These solvents may be used as a mixture. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It should just be 1-50 times amount (v / w) with respect to the compound represented by general formula (III '), and 1-15 times amount (v / w) ) Is preferred.
Y−SO2−Raで表されるスルホニル化剤の使用量は、一般式(III’)で表される化合物に対して、0.8倍モル以上が好ましく、1倍モル以上がより好ましく、1.2倍モル以上が特に好ましい。上限としては、10倍モル以下が好ましく、4倍モル以下がより好ましく、2倍モル以下が特に好ましい。The amount of the sulfonylating agent represented by Y—SO 2 —Ra is preferably 0.8 times mol or more and more preferably 1 time mol or more based on the compound represented by the general formula (III ′). 1.2 times mole or more is especially preferable. As an upper limit, 10 times mole or less is preferable, 4 times mole or less is more preferable, and 2 times mole or less is especially preferable.
反応が進行するに伴い、HYの酸が発生することから、これを中和するために、塩基を使用することが好ましい。
塩基としては、有機もしくは無機の塩基が挙げられ、例えば、Y−SO2−Raと反応しない第三級アミン、窒素原子を環構成原子として有する塩基性のヘテロ環化合物が挙げられ、トリエチルアミン、ピリジンおよびN−メチルイミダゾールが好ましい。塩基の使用量は、一般式(III’)で表される化合物に対して、0.8〜10倍モルであればよく、0.8〜4.0倍モルが好ましく、1.0〜3.0倍モルがより好ましい。Since the acid of HY is generated as the reaction proceeds, it is preferable to use a base in order to neutralize it.
Examples of the base include organic or inorganic bases such as tertiary amines that do not react with Y—SO 2 —Ra, basic heterocyclic compounds having a nitrogen atom as a ring constituent atom, triethylamine, pyridine. And N-methylimidazole are preferred. The usage-amount of a base should just be 0.8-10 times mole with respect to the compound represented by general formula (III '), 0.8-4.0 times mole is preferable, and 1.0-3 A molar ratio of 0.0 is more preferable.
(b)ハロゲン化反応(一般式(I−2)で表される化合物の製造方法)
一般式(III’)で表される化合物の水酸基をハロゲン原子に変換する場合、ハロゲン化剤で、一般式(III’)で表される化合物中の水酸基をハロゲン化することが好ましい。(B) Halogenation reaction (production method of the compound represented by formula (I-2))
When converting the hydroxyl group of the compound represented by the general formula (III ′) to a halogen atom, it is preferable to halogenate the hydroxyl group in the compound represented by the general formula (III ′) with a halogenating agent.
反応溶媒は、例えば、脂肪族炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、ニトリル化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、芳香族炭化水素化合物、尿素化合物および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(III’)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。 Examples of the reaction solvent include aliphatic hydrocarbon compounds, halogenated hydrocarbon compounds, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, nitrile compounds, amide compounds, sulfoxide compounds, aromatic hydrocarbon compounds, urea compounds, and water. These solvents may be used as a mixture. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It should just be 1-50 times amount (v / w) with respect to the compound represented by general formula (III '), and 1-15 times amount (v / w) ) Is preferred.
ハロゲン化剤としては、一般的に使用される塩素化剤および臭素化剤などが挙げられる。
塩素化剤としては、塩化ホスホリル、三塩化リン、五塩化リン、Vilsmeier試薬(N,N−ジメチルホルムアミド−五塩化リン、N,N−ジメチルホルムアミド−オキシ塩化リン等)、Rydon試薬(Ph3PCl2、トリフェニルホスフィン−四塩化炭素)、塩化チオニルおよび塩化スルフリルなどが挙げられ、塩化スルフリル、三塩化リンまたは塩化チオニルが好ましい。
臭素化剤としては、三臭化リン、N,N−ジメチルホルムアミド−三臭化リン、トリフェニルホスフィン−四臭化炭素およびトリフェニルホスフィンジブロミドなどが挙げられる。Examples of the halogenating agent include commonly used chlorinating agents and brominating agents.
As chlorinating agents, phosphoryl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, Vilsmeier reagent (N, N-dimethylformamide-phosphorus pentachloride, N, N-dimethylformamide-phosphorus oxychloride, etc.), Rydon reagent (Ph 3 PCl) 2 , triphenylphosphine-carbon tetrachloride), thionyl chloride and sulfuryl chloride, and the like, and sulfuryl chloride, phosphorus trichloride or thionyl chloride is preferable.
Examples of brominating agents include phosphorus tribromide, N, N-dimethylformamide-phosphorous tribromide, triphenylphosphine-carbon tetrabromide, and triphenylphosphine dibromide.
ハロゲン化剤の使用量は、一般式(III’)で表される化合物に対して、0.8倍モル以上が好ましく、1倍モル以上がより好ましく、1.2倍モル以上が特に好ましい。上限としては、10倍モル以下が好ましく、5倍モル以下がより好ましく、2倍モル以下が特に好ましい。 The amount of the halogenating agent used is preferably 0.8 times mol or more, more preferably 1 time mol or more, and particularly preferably 1.2 times mol or more based on the compound represented by the general formula (III '). As an upper limit, 10 times mole or less is preferable, 5 times mole or less is more preferable, and 2 times mole or less is especially preferable.
反応が進行するに伴い、HYの酸が発生することから、これを中和するために、塩基を使用することが好ましい。
塩基としては、有機もしくは無機の塩基が挙げられ、例えば、第三級アミン、窒素原子を環構成原子として有する塩基性のヘテロ環化合物が挙げられ、トリエチルアミン、ピリジンおよびN−メチルイミダゾールが好ましい。塩基の使用量は、一般式(III’)で表される化合物に対して、0.8倍モル以上が好ましく、1倍モル以上が特に好ましい。上限としては、50倍モル以下が好ましく、20倍モル以下がより好ましく、10倍モル以下が特に好ましい。Since the acid of HY is generated as the reaction proceeds, it is preferable to use a base in order to neutralize it.
Examples of the base include organic or inorganic bases, such as tertiary amines and basic heterocyclic compounds having a nitrogen atom as a ring constituent atom, and triethylamine, pyridine and N-methylimidazole are preferred. The amount of the base used is preferably 0.8 times mol or more and particularly preferably 1 time mol or more with respect to the compound represented by the general formula (III ′). As an upper limit, 50 times mole or less is preferable, 20 times mole or less is more preferable, and 10 times mole or less is especially preferable.
この反応では、塩を添加することが好ましい。塩としては、塩化リチウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カルシウム、およびピリジン塩酸塩などが挙げられる。このハロゲン化反応においては、通常、エピマー混合物が得られる。一般式(I−2)で表される化合物の純度を向上させるために、塩化スルフリルおよび塩化リチウムを併用することが好ましい。
塩の使用量は、一般式(III’)で表される化合物に対して、0.5倍モル以上が好ましく、0.8倍モル以上がより好ましく、1倍モル以上が特に好ましい。上限としては、20倍モル以下が好ましく、5倍モル以下がより好ましく、3倍モル以下が特に好ましい。In this reaction, it is preferable to add a salt. Examples of the salt include lithium chloride, lithium bromide, sodium bromide, calcium bromide, and pyridine hydrochloride. In this halogenation reaction, an epimer mixture is usually obtained. In order to improve the purity of the compound represented by the general formula (I-2), it is preferable to use sulfuryl chloride and lithium chloride in combination.
The amount of the salt used is preferably 0.5 times mol or more, more preferably 0.8 times mol or more, and particularly preferably 1 time mol or more with respect to the compound represented by the general formula (III ′). As an upper limit, 20 times mole or less is preferable, 5 times mole or less is more preferable, and 3 times mole or less is especially preferable.
反応温度は、−50℃以上が好ましく、−40℃以上がより好ましく、−30℃以上が特に好ましい。上限としては、80℃以下が好ましく、60℃以下がより好ましく、40℃以下が特に好ましい。反応時間は、5分間以上が好ましい。上限としては、50時間以内が好ましく、24時間以内がより好ましく、6時間以内が特に好ましい。 The reaction temperature is preferably −50 ° C. or higher, more preferably −40 ° C. or higher, and particularly preferably −30 ° C. or higher. As an upper limit, 80 degrees C or less is preferable, 60 degrees C or less is more preferable, and 40 degrees C or less is especially preferable. The reaction time is preferably 5 minutes or longer. The upper limit is preferably within 50 hours, more preferably within 24 hours, and particularly preferably within 6 hours.
<<一般式(II)で表される化合物の用途>>
一般式(II)で表される化合物は、抗ウイルス剤として有用なL−ヌクレオシド〔例えば、いずれもTetrahedron,2011,67,p.4031−4035に記載の、B型肝炎ウイルスに有用な2’−フルオロ−5−メチル−β−L−アラビノフラノシルリジンやL−2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジデヒドロ−5−フルオロシチジン、耐C型肝炎ウイルス活性を示す1−(β−L−リボフラノシル)−1,2,4−トリアゾール−3−カルボキサミドやそのバリンエステル前駆薬〕の製造などに有用な化合物である。<< Use of Compound Represented by General Formula (II) >>
The compound represented by the general formula (II) is an L-nucleoside useful as an antiviral agent [for example, all of Tetrahedron, 2011, 67, p. 4031-4035, 2′-fluoro-5-methyl-β-L-arabinofuranosyl lysine and L-2 ′, 3′-dideoxy-2 ′, 3′-didehydro, useful for hepatitis B virus -5-fluorocytidine, a compound useful for the production of 1- (β-L-ribofuranosyl) -1,2,4-triazole-3-carboxamide and its valine ester precursors exhibiting hepatitis C virus activity is there.
また、自然界における存在量が少ない希少糖の製造に適用することにより、これらの希少糖による食後血糖値上昇抑制作用・脂肪蓄積抑制作用・動脈硬化予防作用・血圧上昇抑制作用・抗酸化作用の研究開発、メタボリックシンドローム対策に期待される新たな機能性素材としての研究に対して、安価で大量に供給することが可能となる。また、植物に対しても、イネなどの病害虫防御関連遺伝子の発現の誘導、生育調節作用の研究に対して、安価で大量に供給することが可能となる。 In addition, by applying it to the production of rare sugars with low abundance in nature, research on postprandial blood glucose level increase action, fat accumulation inhibition action, arteriosclerosis prevention action, blood pressure rise prevention action and antioxidant action by these rare sugars It is possible to supply a large amount at a low cost for research as a new functional material expected for development and countermeasures for metabolic syndrome. In addition, plants can be supplied in a large amount at a low cost for inducing expression of pest defense-related genes such as rice and studying growth regulation.
以下に、実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明する。ただし、本発明がこれによって限定して解釈されるものではない。 Below, based on an Example, it demonstrates in detail about this invention. However, the present invention is not construed as being limited thereby.
なお、合成した化合物は、以下の測定機器を使用して精製または測定を行った。 The synthesized compound was purified or measured using the following measuring instrument.
(使用測定機器)
カラムクロマトグラフィー
測定機器:山善株式会社製の分取クロマト装置 W−Prep 2XY(商品名)
クロマト担体:シリカゲル(Measurement equipment used)
Column chromatography Measuring instrument: Preparative chromatograph W-Prep 2XY (trade name) manufactured by Yamazen
Chromatographic carrier: silica gel
1H−NMRスペクトル
測定機器:Bruker社のAVANCE 300(商品名)
全δ値をppmで示した。 1 H-NMR spectrum Measuring instrument: AVANCE 300 (trade name) manufactured by Bruker
All δ values are given in ppm.
実施例1
下記反応条件で、例示化合物(I−3)から、例示化合物(II−1)を合成した。Example 1
Exemplified compound (II-1) was synthesized from Exemplified compound (I-3) under the following reaction conditions.
例示化合物(I−3)1.00g、アセトニトリル10mL、50%グリオキシル酸水溶液1.51mL(10モル等量)の混合物を70℃で14時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル20mLを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=73/27〜52/48)で精製し、アモルファスの例示化合物(II−1)0.32g(収率51%)を得た。1H−NMRを測定した結果、アノマー比は3:1であった。A mixture of 1.00 g of exemplary compound (I-3), 10 mL of acetonitrile, and 1.51 mL of 50% glyoxylic acid aqueous solution (10 molar equivalents) was heated and stirred at 70 ° C. for 14 hours. Thereafter, 20 mL of ethyl acetate was added to the reaction solution, followed by liquid separation. The organic layer was washed with water, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution and a saturated aqueous sodium chloride solution in this order, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 73/27 to 52/48) to obtain 0.32 g (51% yield) of amorphous exemplified compound (II-1). As a result of measuring 1 H-NMR, the anomeric ratio was 3: 1.
1H−NMR(CDCl3) δ値:8.10−7.87(6H,m),7.64−7.29(9H,m),6.14−6.08(1H,m),5.78−5.71(1H,m),5.64(0.75H,dd,J=1.8,5.4Hz),5.46(0.25H,t,J=5.1Hz),5.00(0.75H,dd,J=5.7,12.3Hz),4.82−4.60(2.25H,m),3.30(0.25H,d,J=11.1Hz),3.14(0.75H,d,J=2.7Hz) 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ value: 8.10-7.87 (6H, m), 7.64-7.29 (9H, m), 6.14-6.08 (1H, m), 5.78-5.71 (1H, m), 5.64 (0.75H, dd, J = 1.8, 5.4Hz), 5.46 (0.25H, t, J = 5.1Hz) , 5.00 (0.75H, dd, J = 5.7, 12.3 Hz), 4.82-4.60 (2.25H, m), 3.30 (0.25H, d, J = 11) .1 Hz), 3.14 (0.75 H, d, J = 2.7 Hz)
使用した例示化合物(I−3)は、以下の合成ルートで合成した。 The exemplified compound (I-3) used was synthesized by the following synthesis route.
1−O−アセチル−2,3,5−トリ−O−ベンゾイル−D−リボフラノース5.0gの酢酸1.3mL懸濁液に、室温で30%臭化水素/酢酸2.9mLを滴下し、室温で3時間攪拌した。反応混合物にトルエン20mLおよび水20mLを加え、5分間撹拌した後、水槽を除去した。得られた有機層を10%炭酸水素ナトリウム水溶液20mLで洗浄後、溶媒を減圧留去した。得られた油状物にアセトニトリル10mLおよび10%炭酸水素ナトリウム水溶液10mLを加え、室温で1時間攪拌後、一晩放置した。反応混合物にトルエン20mLおよび水10mLを加え、5分間攪拌した後、水層を除去し、溶媒を減圧留去し、2,3,5−トリ−O−ベンゾイル−D−リボフラノースを含む無色油状物を得た。
無色油状物は、そのまま次の反応に使用した。To a 1.3 mL acetic acid suspension of 5.0 g of 1-O-acetyl-2,3,5-tri-O-benzoyl-D-ribofuranose was added dropwise 2.9 mL of 30% hydrogen bromide / acetic acid at room temperature. And stirred at room temperature for 3 hours. After adding 20 mL of toluene and 20 mL of water to the reaction mixture and stirring for 5 minutes, the water tank was removed. The obtained organic layer was washed with 20 mL of 10% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and the solvent was evaporated under reduced pressure. To the obtained oily substance, 10 mL of acetonitrile and 10 mL of 10% aqueous sodium hydrogen carbonate solution were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and allowed to stand overnight. After adding 20 mL of toluene and 10 mL of water to the reaction mixture and stirring for 5 minutes, the aqueous layer was removed, the solvent was distilled off under reduced pressure, and colorless oil containing 2,3,5-tri-O-benzoyl-D-ribofuranose was obtained. I got a thing.
The colorless oil was used as such for the next reaction.
上記で得られた無色油状物に、O−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩1.3gおよびメタノール5.0mLを加え、氷冷下でトリエチルアミン1.8mLを滴下し、室温で3時間攪拌した。反応混合物にトルエン10mLおよび10%塩化ナトリウム水溶液10mLを加え、水層を除去した後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/0〜2/1)で精製し、無色油状物の(2R,3R,4S)−2−ヒドロキシ−5−(メトキシイミノ)ペンタン−1,3,4−トリイル=トリベンゾアート2.7gを得た。
1H−NMRを測定した結果、シン/アンチ比は4:1であった。To the colorless oil obtained above, 1.3 g of O-methylhydroxylamine hydrochloride and 5.0 mL of methanol were added, and 1.8 mL of triethylamine was added dropwise under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. To the reaction mixture, 10 mL of toluene and 10 mL of 10% aqueous sodium chloride solution were added, the aqueous layer was removed, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 1/0 to 2/1) to give (2R, 3R, 4S) -2-hydroxy-5- (methoxyimino) as a colorless oil. 2.7 g of pentane-1,3,4-triyl = tribenzoate was obtained.
As a result of measuring 1 H-NMR, the syn / anti ratio was 4: 1.
1H−NMR(CDCl3) δ値:8.05−8.01(4H,m),7.99−7.94(2H,m),7.62−7.35(9.8H,m),6.92(0.2H,d,J=5.9Hz),6.57(0.2H,dd,J=5.9,2.6Hz),6.16(0.8H,dd,J=6.6,3.3Hz),5.87(0.2H,dd,J=8.9,3.0Hz),5.81(0.8H,dd,J=7.9,3.3Hz),4.68−4.62(1H,m),4.46−4.31(2H,m),4.03(0.6H,s),3.92(2.4H,s),3.24(0.2H,brs),3.06(0.8H,brs) 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ value: 8.05-8.01 (4H, m), 799-7.94 (2H, m), 7.62-7.35 (9.8 H, m) ), 6.92 (0.2 H, d, J = 5.9 Hz), 6.57 (0.2 H, dd, J = 5.9, 2.6 Hz), 6.16 (0.8 H, dd, J = 6.6, 3.3 Hz), 5.87 (0.2 H, dd, J = 8.9, 3.0 Hz), 5.81 (0.8 H, dd, J = 7.9, 3.). 3Hz), 4.68-4.62 (1H, m), 4.46-4.31 (2H, m), 4.03 (0.6H, s), 3.92 (2.4H, s) , 3.24 (0.2H, brs), 3.06 (0.8H, brs)
(2R,3R,4S)−2−ヒドロキシ−5−(メトキシイミノ)ペンタン−1,3,4−トリイル=トリベンゾアート2.7g、アセトニトリル5mL、N−メチルイミダゾール0.5mLおよび2,4,5−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド1.7gの混合物を室温で8時間撹拌し、室温で3日間静置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取して、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/0〜3/1)で精製し、無色油状物の(2R,3R,4S)−5−(メトキシイミノ)−2−(((2,4,5−トリクロロベンゼン)スルホニル)オキシ)ペンタン−1,3,4−トリイル=トリベンゾアート3.0gを得た。 (2R, 3R, 4S) -2-hydroxy-5- (methoxyimino) pentane-1,3,4-triyl = tribenzoate 2.7 g, acetonitrile 5 mL, N-methylimidazole 0.5 mL and 2,4,4 A mixture of 1.7 g of 5-trichlorobenzenesulfonyl chloride was stirred at room temperature for 8 hours and allowed to stand at room temperature for 3 days. Ethyl acetate and water were added to the reaction mixture, the organic layer was separated, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 1/0 to 3/1) to give (2R, 3R, 4S) -5- (methoxyimino) -2- ( 3.0 g of ((2,4,5-trichlorobenzene) sulfonyl) oxy) pentane-1,3,4-triyl = tribenzoate was obtained.
1H−NMR(CDCl3) δ値:8.08−7.96(5H,m),7.91−7.88(2H,m),7.64−7.33(10.75H,m),6.91(0.25H,d,J=5.9Hz),6.55(0.25H,t,J=5.3Hz),6.06−5.95(1.75H,m),5.55−5.49(0.75H,m),5.48−5.42(0.25H,m),4.91−4.84(1H,m),4.69−4.62(1H,m),3.97(0.75H,s),3.85(2.25H,s) 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ value: 8.08-7.96 (5H, m), 7.91-7.88 (2H, m), 7.64-7.33 (10.75H, m ), 6.91 (0.25 H, d, J = 5.9 Hz), 6.55 (0.25 H, t, J = 5.3 Hz), 6.06-5.95 (1.75 H, m) 5.55-5.49 (0.75H, m), 5.48-5.42 (0.25H, m), 4.91-4.84 (1H, m), 4.69-4. 62 (1H, m), 3.97 (0.75H, s), 3.85 (2.25H, s)
実施例2
下記反応条件で、例示化合物(I−2)から、例示化合物(II−1)を合成した。Example 2
Exemplified compound (II-1) was synthesized from Exemplified compound (I-2) under the following reaction conditions.
例示化合物(I−2)0.26g、アセトニトリル2.6mL、50%グリオキシル酸水溶液0.41mL(10モル等量)の混合物を70℃で24時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチルを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=73/27〜52/48)で精製し、アモルファスの例示化合物(II−1)0.087g(収率51%)を得た。 A mixture of 0.26 g of exemplary compound (I-2), 2.6 mL of acetonitrile, and 0.41 mL (10 molar equivalent) of 50% aqueous glyoxylic acid solution was heated and stirred at 70 ° C. for 24 hours. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to separate the layers. The organic layer was washed with water, a sodium bicarbonate aqueous solution and a saturated sodium chloride aqueous solution in this order, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 73/27 to 52/48) to obtain 0.087 g (yield 51%) of amorphous exemplified compound (II-1).
なお、例示化合物(I−2)は、例示化合物(I−3)の合成において、(2R,3R,4S)−2−ヒドロキシ−5−(メトキシイミノ)ペンタン−1,3,4−トリイル=トリベンゾアートに対して、2,4,5−トリクロロベンゼンスルホニルクロリドの代わりに2,5−ジクロロベンゼンスルホニルクロリドを用いた以外は、例示化合物(I−3)と同様にして合成した。 Exemplified compound (I-2) was synthesized from (2R, 3R, 4S) -2-hydroxy-5- (methoxyimino) pentane-1,3,4-triyl in the synthesis of exemplified compound (I-3). The tribenzoate was synthesized in the same manner as Exemplified Compound (I-3) except that 2,5-dichlorobenzenesulfonyl chloride was used instead of 2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl chloride.
例示化合物(I−2)
1H−NMR(CDCl3) δ値:8.10−7.90(7H,m),7.64−7.38(10H,m),7.27−7.20(2H,m),6.90(0.25H,d,J=5.7Hz),6.55(0.25H,dd,J=4.8,5.7Hz),6.07−5.90(1.75H,m),5.56−5.50(0.75H,m),5.49−5.43(0.25H,m),4.90−4.84(1.00H,m),4.68−4.54(1.00H,m),3.96(0.75H,s),3.85(2.25H,s)Exemplary Compound (I-2)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ value: 8.10-7.90 (7H, m), 7.64-7.38 (10H, m), 7.27-7.20 (2H, m), 6.90 (0.25H, d, J = 5.7 Hz), 6.55 (0.25H, dd, J = 4.8, 5.7 Hz), 6.07-5.90 (1.75H, m), 5.56-5.50 (0.75H, m), 5.49-5.43 (0.25H, m), 4.90-4.84 (1.00H, m), 4. 68-4.54 (1.00H, m), 3.96 (0.75H, s), 3.85 (2.25H, s)
実施例3
下記反応条件で、例示化合物(I−1)から、例示化合物(II−1)を合成した。Example 3
Exemplified compound (II-1) was synthesized from Exemplified compound (I-1) under the following reaction conditions.
例示化合物(I−1)0.45g、アセトニトリル4.5mL、50%グリオキシル酸水溶液0.75mL(10モル当量)の混合物を70℃で5時間加熱撹拌した後、100℃で19時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチルを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=73/27〜52/48)で精製し、アモルファスの例示化合物(II−1)0.136g(収率43%)を得た。 A mixture of 0.45 g of exemplary compound (I-1), acetonitrile 4.5 mL, 50% glyoxylic acid aqueous solution 0.75 mL (10 molar equivalent) was heated and stirred at 70 ° C. for 5 hours, and then heated and stirred at 100 ° C. for 19 hours. . Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to separate the layers. The organic layer was washed with water, a sodium bicarbonate aqueous solution and a saturated sodium chloride aqueous solution in this order, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 73/27 to 52/48) to obtain 0.136 g (43% yield) of amorphous exemplified compound (II-1).
なお、例示化合物(I−1)は、例示化合物(I−3)の合成において、(2R,3R,4S)−2−ヒドロキシ−5−(メトキシイミノ)ペンタン−1,3,4−トリイル=トリベンゾアートに対して、2,4,5−トリクロロベンゼンスルホニルクロリドの代わりに4−クロロベンゼンスルホニルクロリドを用いた以外は、例示化合物(I−3)と同様にして合成した。 Exemplified compound (I-1) was synthesized from (2R, 3R, 4S) -2-hydroxy-5- (methoxyimino) pentane-1,3,4-triyl in the synthesis of exemplified compound (I-3). The tribenzoate was synthesized in the same manner as the exemplary compound (I-3) except that 4-chlorobenzenesulfonyl chloride was used instead of 2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl chloride.
例示化合物(I−1)
1H−NMR(CDCl3) δ値:8.10−7.89(6H,m),7.83−7.76(2H,m),7.65−7.55(3H,m),7.50−7.40(7H,m),7.34−7.28(2H,m),6.85(0.25H,d,J=5.7Hz),6.51(0.25H,dd,J=4.8,5.7Hz),6.04−5.92(1.75H,m),5.47−5.40(0.75H,m),5.40−5.34(0.25H,m),4.92−4.83(1.00H,m),4.60−4.48(1.00H,m),3.94(0.75H,s),3.85(2.25H,s)Exemplary Compound (I-1)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ value: 8.10-7.89 (6H, m), 7.83-7.76 (2H, m), 7.65-7.55 (3H, m), 7.50-7.40 (7H, m), 7.34-7.28 (2H, m), 6.85 (0.25H, d, J = 5.7 Hz), 6.51 (0.25H) , Dd, J = 4.8, 5.7 Hz), 6.04-5.92 (1.75 H, m), 5.47-5.40 (0.75 H, m), 5.40-5. 34 (0.25H, m), 4.92-4.83 (1.00H, m), 4.60-4.48 (1.00H, m), 3.94 (0.75H, s), 3.85 (2.25H, s)
実施例4
下記反応により、例示化合物(I−21)から、例示化合物(II−3)を合成した。Example 4
Exemplified compound (II-3) was synthesized from exemplified compound (I-21) by the following reaction.
例示化合物(I−21)0.72g、アセトニトリル7.2mL、50%グリオキシル酸水溶液1.15mL(10モル等量)の混合物を70℃で5時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチルを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=69/31〜48/52)で精製し、油状の例示化合物(II−3)0.260g(収率59%)を得た。1H−NMRを測定した結果、アノマー比は1:1であった。A mixture of 0.72 g of exemplary compound (I-21), 7.2 mL of acetonitrile, and 1.15 mL (10 molar equivalent) of 50% aqueous glyoxylic acid solution was heated and stirred at 70 ° C. for 5 hours. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution to separate the layers. The organic layer was washed with water, a sodium bicarbonate aqueous solution and a saturated sodium chloride aqueous solution in this order, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 69/31 to 48/52) to obtain 0.260 g (yield 59%) of oily exemplified compound (II-3). As a result of measuring 1 H-NMR, the anomeric ratio was 1: 1.
1H−NMR(CDCl3) δ値:7.38−7.28(15H,m),5.51(0.5H,d,J=2.4Hz),5.26(0.5H,dd,J=4.2,12.0Hz),4.87−4.44(6H,m),4.29−4.21(1H,m),4.16−4.08(1H,m),3.93−3.89(1H,m),3.85−3.67(2H,m) 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ value: 7.38-7.28 (15H, m), 5.51 (0.5H, d, J = 2.4 Hz), 5.26 (0.5H, dd) , J = 4.2, 12.0 Hz), 4.87-4.44 (6H, m), 4.29-4.21 (1H, m), 4.16-4.08 (1H, m) , 3.93-3.89 (1H, m), 3.85-3.67 (2H, m)
使用した例示化合物(I−21)は、以下の合成ルートで合成した。 The exemplified compound (I-21) used was synthesized by the following synthesis route.
なお、例示化合物(I−21)は、例示化合物(I−3)の合成において、1−O−アセチル−2,3,5−トリ−O−ベンゾイル−D−リボフラノースの代わりに1−O−アセチル−2,3,5−トリ−O−ベンジル−D−リボフラノースを用いた以外は、例示化合物(I−3)と同様にして合成した。1H−NMRを測定した結果、異性体比は4:1であった。In addition, Exemplified Compound (I-21) is an example of 1-O instead of 1-O-acetyl-2,3,5-tri-O-benzoyl-D-ribofuranose in the synthesis of Exemplified Compound (I-3). The compound was synthesized in the same manner as Exemplified Compound (I-3) except that -acetyl-2,3,5-tri-O-benzyl-D-ribofuranose was used. As a result of measuring 1 H-NMR, the isomer ratio was 4: 1.
化合物(I−21’)
1H−NMR(CDCl3) δ値:7.44(0.8H,d,J=8.1Hz),7.37−7.15(15H,m),6.89(0.2H,d,J=6.6Hz),5.02(0.2H,dd,J=2.4,6.6Hz),4.79−4.42(6H,m),4.33(0.8H,dd,J=3.3,8.1Hz),3.88(2.4H,s),3.87(0.6H,s),3.89−3.76(2H,m),3.66−3.54(2H,m),2.68(0.2H,d,J=5.7Hz),2.58(0.8H,d,J=4.8Hz)Compound (I-21 ′)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ value: 7.44 (0.8 H, d, J = 8.1 Hz), 7.37-7.15 (15 H, m), 6.89 (0.2 H, d , J = 6.6 Hz), 5.02 (0.2H, dd, J = 2.4, 6.6 Hz), 4.79-4.42 (6H, m), 4.33 (0.8H, dd, J = 3.3, 8.1 Hz), 3.88 (2.4 H, s), 3.87 (0.6 H, s), 3.89-3.76 (2 H, m), 3. 66-3.54 (2H, m), 2.68 (0.2H, d, J = 5.7 Hz), 2.58 (0.8H, d, J = 4.8 Hz)
例示化合物(I−21)
1H−NMR(CDCl3) δ値:8.08(0.8H,s),8.06(0.2H,s),7.35−7.22(14H,m),7.16(0.8H,d,J=7.5Hz),7.10−7.06(2H,m),6.69(0.2H,d,J=6.6Hz),5.04−4.96(1H,m),4.81(0.2H,dd,J=5.4,6.6Hz),4.74−4.58(3H,m),4.41−4.32(1H,m),4.20(2H,s),4.06−3.94(1.8H,m),3.89(2.4H,s),3.87(0.6H,s),3.74−3.66(1.2H,m),3.52(0.8H,dd,J=3.0,11.4Hz)Exemplary Compound (I-21)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ value: 8.08 (0.8 H, s), 8.06 (0.2 H, s), 7.35-7.22 (14 H, m), 7.16 ( 0.8H, d, J = 7.5 Hz), 7.10-7.06 (2H, m), 6.69 (0.2H, d, J = 6.6 Hz), 5.04-4.96. (1H, m), 4.81 (0.2H, dd, J = 5.4, 6.6 Hz), 4.74-4.58 (3H, m), 4.41-4.32 (1H, m), 4.20 (2H, s), 4.06-3.94 (1.8H, m), 3.89 (2.4H, s), 3.87 (0.6H, s), 3 .74-3.66 (1.2 H, m), 3.52 (0.8 H, dd, J = 3.0, 11.4 Hz)
実施例5
下記反応条件で、例示化合物(I−3)から、例示化合物(II−1)を合成した。Example 5
Exemplified compound (II-1) was synthesized from Exemplified compound (I-3) under the following reaction conditions.
例示化合物(I−3)1.00g、アセトン10mL、35%ホルムアルデヒド水溶液1.08mL(10モル当量)、1mol/L塩酸0.14mLの混合物を70℃で15時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル20mLを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=73/27〜52/48)で精製し、アモルファスの例示化合物(II−1)0.38g(収率60%)を得た。1H−NMRを測定した結果、アノマー比は2:1であった。A mixture of 1.00 g of exemplary compound (I-3), 10 mL of acetone, 1.08 mL (10 molar equivalent) of 35% aqueous formaldehyde solution, and 0.14 mL of 1 mol / L hydrochloric acid was heated and stirred at 70 ° C. for 15 hours. Thereafter, 20 mL of ethyl acetate was added to the reaction solution, followed by liquid separation. The organic layer was washed with water, a sodium bicarbonate aqueous solution and a saturated sodium chloride aqueous solution in this order, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 73/27 to 52/48) to obtain 0.38 g (yield 60%) of amorphous exemplified compound (II-1). As a result of measuring 1 H-NMR, the anomeric ratio was 2: 1.
比較例1
J.Chem.Soc.,C.1967,p.1186〜1187に記載の合成方法を以下に示す。
アセトン60mLにアセタール化合物(VIII)1.5gを加えた溶液と5Nのスルホン酸(10mL)を混合し、還流下で6時間加熱撹拌した。得られた生成物をクロロホルムで分離し、シリカゲル50gを使用したクロマトグラフィーで分離した。ベンゼン−エーテル(19:1)の溶離液から、アセタール化合物(VIII)とアルデヒド化合物(IX)の混合物が得られ、ベンゼン−エーテル(85:15)の溶離液から、スラリー状の2,3,5−トリ−O−ベンジル−L−リキソフラノース(XI)201mgを得た。また、アセタール化合物(VIII)とアルデヒド化合物(IX)の混合物をクロマトグラフィーで、精製を繰り返し、アセタール化合物(VIII)とアルデヒド化合物(IX)の混合物895mgを得た。
アセタール化合物(VIII)からの収率を計算すると20%であった。Comparative Example 1
J. et al. Chem. Soc. , C.I. 1967, p. A synthesis method described in 1186 to 1187 is shown below.
A solution obtained by adding 1.5 g of acetal compound (VIII) to 60 mL of acetone and 5N sulfonic acid (10 mL) were mixed, and the mixture was heated and stirred for 6 hours under reflux. The resulting product was separated with chloroform and chromatographed using 50 g of silica gel. A mixture of acetal compound (VIII) and aldehyde compound (IX) is obtained from the eluent of benzene-ether (19: 1), and slurry-like 2,3,3 is obtained from the eluent of benzene-ether (85:15). 201 mg of 5-tri-O-benzyl-L-lyxofuranose (XI) was obtained. Further, the mixture of the acetal compound (VIII) and the aldehyde compound (IX) was repeatedly purified by chromatography to obtain 895 mg of a mixture of the acetal compound (VIII) and the aldehyde compound (IX).
The yield based on the acetal compound (VIII) was calculated to be 20%.
なお、Bnはベンジル基(−CH2−C6H5)であり、Tsはトシル基(−SO2C6H4−p−CH3)である。Bn is a benzyl group (—CH 2 —C 6 H 5 ), and Ts is a tosyl group (—SO 2 C 6 H 4 —p—CH 3 ).
実施例1〜5および比較例1から明らかなように、本発明の製造方法は、穏和な条件で、簡便かつ高収率で、しかも立体選択性に優れ、大量製造が可能な製造方法であることがわかる。
特に、大量製造を行う場合、10%以上の収率向上は、大幅なコスト削減になる。
このように、本発明の製造方法を、自然界における存在量が少ない希少糖の製造に適用することで、各種の効果が見いだされつつある希少糖を安価に、大量供給することが可能となり、研究開発の促進に有用であることがわかる。As is clear from Examples 1 to 5 and Comparative Example 1, the production method of the present invention is a production method that is easy, high yield, excellent in stereoselectivity, and capable of mass production under mild conditions. I understand that.
In particular, when mass production is performed, a yield improvement of 10% or more results in a significant cost reduction.
In this way, by applying the production method of the present invention to the production of rare sugars having a small abundance in nature, it becomes possible to supply a large amount of rare sugars that are finding various effects at low cost. It turns out that it is useful for promotion of development.
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。 While this invention has been described in conjunction with its embodiments, we do not intend to limit our invention in any detail of the description unless otherwise specified and are contrary to the spirit and scope of the invention as set forth in the appended claims. I think it should be interpreted widely.
本願は、2014年9月24日に日本国で特許出願された特願2014−194394に基づく優先権を主張するものであり、これはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。 This application claims the priority based on Japanese Patent Application No. 2014-194394 for which it applied for a patent in Japan on September 24, 2014, and this is referred to here for the contents of this description. Capture as part.
Claims (13)
前記R1が、水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、前記Xが、単結合または−C(RXA)(RXB)−であって、前記R2A、R3A、R2B、R3B、RXAおよびRXBが、各々独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基またはアジド基であり、前記R4AおよびR4Bが各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基であり、
ここで、R2AとR2B、R3AとR3B、RXAとRXBが、互いに共同して、=O、または=C(Rd)(Re)で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、R2A〜R4A、R2B〜R4B、RXAおよびRXBの少なくとも2つが、互いに結合して環を形成してもよいが、この場合、RdおよびReが、各々独立に、水素原子またはアルキル基である、
請求項1に記載の製造方法。Wherein L is a halogen atom or -OSO 2 Ra, wherein R N is -Rb, a -ORb or -N (Rb) (Rc), wherein, Ra is a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group An aryl group or a heterocyclic group, wherein Rb and Rc are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an acyl group, an aryl group or a heterocyclic group;
The R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group, the X is a single bond or —C (R XA ) (R XB ) —, and the R 2A , R 3A and R 2B , R 3B , R XA and R XB are each independently a hydrogen atom, hydroxyl group, halogen atom, alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, An alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a silyloxy group, an amino group, an acylamino group, a cyano group, or an azide group, and each of the R 4A and R 4B independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or A heterocyclic group,
Here, even if R 2A and R 2B , R 3A and R 3B , R XA and R XB jointly form a methylidene group represented by ═O or ═C (Rd) (Re) Or at least two of R 2A to R 4A , R 2B to R 4B , R XA and R XB may be bonded to each other to form a ring, in which case Rd and Re are each independently A hydrogen atom or an alkyl group,
The manufacturing method according to claim 1.
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