JP6241705B2 - Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension substrate - Google Patents

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Description

本発明は、サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法に係り、とりわけ、実装されるアクチュエータ素子との電気的接続の信頼性を向上させるとともにアクチュエータ素子の信頼性低下を抑制することができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate. The present invention relates to a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate capable of suppressing a decrease.

一般に、ハードディスクドライブ(HDD)は、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込みおよび読み取りを行う磁気ヘッドスライダが実装されたサスペンション用基板(フレキシャー)を備えている。このサスペンション用基板は、磁気ヘッドスライダが実装されるヘッド領域から、FPC基板(フレキシブルプリント基板)に接続されるテール領域に延びるように形成されており、金属支持層と、金属支持層に絶縁層を介して積層された複数の配線を有する配線層と、を備え、各配線に電気信号を流すことにより、ディスクに対してデータの書き込みまたは読み取りを行うようになっている。   Generally, a hard disk drive (HDD) includes a suspension substrate (flexure) on which a magnetic head slider for writing and reading data to and from a disk storing data is mounted. The suspension substrate is formed to extend from a head region on which the magnetic head slider is mounted to a tail region connected to an FPC substrate (flexible printed circuit board), and a metal support layer and an insulating layer on the metal support layer And a wiring layer having a plurality of wirings stacked via each other, and by writing an electric signal through each wiring, data is written to or read from the disk.

このようなハードディスクドライブにおいては、ディスク上の所望のデータトラックに磁気ヘッドスライダを移動させるために、磁気ヘッドスライダを支持するアクチュエータアームを回動させるVCMアクチュエータ(ボイスコイルモータ)を、サーボコントロールシステムによって制御している。   In such a hard disk drive, in order to move the magnetic head slider to a desired data track on the disk, a VCM actuator (voice coil motor) that rotates an actuator arm that supports the magnetic head slider is provided by a servo control system. I have control.

ところで、近年、ディスクの容量増大の要求が高まっている。この要求に応えるために、ディスクが高密度化されて、トラックの幅が小さくなっている。このため、VCMアクチュエータによって、磁気ヘッドスライダを所望のトラックに精度良く位置合わせすることが困難な場合がある。   In recent years, there has been an increasing demand for an increase in disk capacity. In order to meet this demand, the density of the disk is increased and the width of the track is reduced. For this reason, it may be difficult to accurately align the magnetic head slider to a desired track by the VCM actuator.

このことに対処するために、VCMアクチュエータとPZTマイクロアクチュエータ(Dual Stage Actuator:DSA)とを協働させて、所望のトラックに磁気ヘッドスライダを移動させるデュアルアクチュエータ方式のサスペンションが知られている(例えば、特許文献1参照)。このPZTマイクロアクチュエータは、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)からなるピエゾ素子(圧電素子)により構成され、電圧が印加されることにより伸縮し、磁気ヘッドスライダを微小に移動させるようになっている。このようなデュアルアクチュエータ方式のサスペンションにおいては、VCMアクチュエータが、磁気ヘッドスライダの位置を大まかに調整し、PZTマイクロアクチュエータが、磁気ヘッドスライダの位置を微小調整する。このようにして、磁気ヘッドスライダを、所望のトラックに、迅速に、かつ精度良く位置合わせするようになっている。   In order to cope with this, a dual actuator type suspension is known in which a VCM actuator and a PZT microactuator (Dual Stage Actuator: DSA) cooperate to move a magnetic head slider to a desired track (for example, , See Patent Document 1). This PZT microactuator is composed of a piezo element (piezoelectric element) made of PZT (lead zirconate titanate), and expands and contracts when a voltage is applied to move the magnetic head slider minutely. In such a dual actuator type suspension, the VCM actuator roughly adjusts the position of the magnetic head slider, and the PZT microactuator finely adjusts the position of the magnetic head slider. In this way, the magnetic head slider is aligned with a desired track quickly and accurately.

特許文献1においては、サスペンション用基板のヘッド領域にピエゾ素子が実装されている。この場合、ピエゾ素子をヘッドスライダに近接して配置することができるため、ヘッドスライダの位置合わせの精度向上が可能となる。なお、特許文献1においては、金属支持層にピエゾ素子を収容する収容開口部が設けられ、絶縁層のうち収容開口部に露出された部分に、ピエゾ素子が配置されるようになっている。また、絶縁層には端子開口部が設けられており、この端子開口部内に、ピエゾ素子に電気的に接続される素子接続端子が設けられている。   In Patent Document 1, a piezo element is mounted on a head region of a suspension substrate. In this case, since the piezo element can be disposed close to the head slider, it is possible to improve the accuracy of alignment of the head slider. In Patent Document 1, a housing opening for housing the piezoelectric element is provided in the metal support layer, and the piezoelectric element is arranged in a portion of the insulating layer exposed to the housing opening. In addition, a terminal opening is provided in the insulating layer, and an element connection terminal that is electrically connected to the piezo element is provided in the terminal opening.

特開2012−99204号公報JP 2012-99204 A

しかしながら、特許文献1においては、端子開口部内に設けられた素子接続端子の下面が、絶縁層の下面と同一平面上に形成されている。このことにより、ピエゾ素子と素子接続端子との電気的接続の信頼性向上が困難になるという問題がある。例えば、半田ボールを用いてピエゾ素子と素子接続端子とを電気的に接続する場合、半田ボールが、素子接続端子から位置ずれしやすくなる。この場合、アクチュエータ素子と素子接続端子とを半田材料によって電気的に接続することが困難になり得る。また、半田ペーストを用いる場合には、半田ペーストが、素子接続端子から周囲に濡れ広がるという問題があり、この場合においても、アクチュエータ素子と素子接続端子とを半田材料によって電気的に接続することが困難になり得る。   However, in Patent Document 1, the lower surface of the element connection terminal provided in the terminal opening is formed on the same plane as the lower surface of the insulating layer. As a result, there is a problem that it is difficult to improve the reliability of electrical connection between the piezoelectric element and the element connection terminal. For example, when a piezo element and an element connection terminal are electrically connected using a solder ball, the solder ball is likely to be displaced from the element connection terminal. In this case, it may be difficult to electrically connect the actuator element and the element connection terminal with a solder material. Further, in the case of using the solder paste, there is a problem that the solder paste spreads from the element connection terminal to the surroundings. Even in this case, the actuator element and the element connection terminal may be electrically connected by the solder material. Can be difficult.

また、ピエゾ素子と素子接続端子とを半田材料によって電気的に接続する場合、アクチュエータ素子の信頼性が低下し得るという問題もある。すなわち、半田材料をアクチュエータ素子の電極に溶着させる際、半田材料が加熱されるが、この際、アクチュエータ素子が、熱的損傷を受ける可能性がある。   In addition, when the piezo element and the element connection terminal are electrically connected by a solder material, there is a problem that the reliability of the actuator element can be lowered. That is, when the solder material is welded to the electrode of the actuator element, the solder material is heated. At this time, the actuator element may be thermally damaged.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、実装されるアクチュエータ素子との電気的接続の信頼性を向上させるとともにアクチュエータ素子の信頼性低下を抑制することができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and the suspension substrate is capable of improving the reliability of the electrical connection with the mounted actuator element and suppressing the decrease in the reliability of the actuator element. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension substrate.

本発明は、ヘッドスライダと、前記ヘッドスライダを変位させる伸縮自在なアクチュエータ素子とが実装されるヘッド領域を有するサスペンション用基板において、金属支持層と、前記金属支持層上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、素子接続端子を有する配線層と、を備え、前記ヘッド領域において、前記金属支持層に、前記アクチュエータ素子を収容する収容開口部が設けられ、前記絶縁層に、前記素子接続端子を前記収容開口部に露出させる端子開口部が設けられ、前記端子開口部内に、前記アクチュエータ素子と前記素子接続端子とを接続する導電層が設けられ、前記導電層は、前記素子接続端子の前記絶縁層側の面に設けられた半田層と、前記半田層の前記素子接続端子側とは反対側の面に設けられた導電性接着剤層と、を有していることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   The present invention provides a suspension substrate having a head region on which a head slider and a telescopic actuator element that displaces the head slider are mounted, a metal support layer, an insulating layer provided on the metal support layer, A wiring layer provided on the insulating layer and having an element connection terminal, and in the head region, the metal support layer is provided with an accommodating opening for accommodating the actuator element, and the insulating layer is provided with: A terminal opening that exposes the element connection terminal to the accommodation opening is provided, and a conductive layer that connects the actuator element and the element connection terminal is provided in the terminal opening, and the conductive layer includes the element Solder layer provided on the surface of the connection terminal on the insulating layer side, and conductive adhesive provided on the surface of the solder layer on the side opposite to the element connection terminal side If, to provide a substrate for suspension, characterized in that a.

なお、上述したサスペンション用基板において、前記導電性接着剤層の一部は、前記端子開口部内に形成されている、ようにしてもよい。   In the suspension substrate described above, a part of the conductive adhesive layer may be formed in the terminal opening.

また、上述したサスペンション用基板において、前記導電性接着剤層は、前記端子開口部から前記収容開口部の側に突出している、ようにしてもよい。   In the suspension substrate described above, the conductive adhesive layer may protrude from the terminal opening toward the housing opening.

また、上述したサスペンション用基板において、前記半田層の前記導電性接着剤層側の面は、前記絶縁層の前記金属支持層側の面と、同一平面上に配置されている、ようにしてもよい。   In the suspension substrate described above, the surface of the solder layer on the conductive adhesive layer side may be disposed on the same plane as the surface of the insulating layer on the metal support layer side. Good.

また、上述したサスペンション用基板において、前記導電性接着剤層は、前記半田層の当該導電性接着剤層側の面の一部に形成されている、ようにしてもよい。   In the suspension substrate described above, the conductive adhesive layer may be formed on a part of the surface of the solder layer on the conductive adhesive layer side.

本発明は、ベースプレートと、前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた上述のサスペンション用基板と、前記サスペンション用基板の前記ヘッド領域に実装された前記アクチュエータ素子と、を備えたことを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention includes a base plate, the above-described suspension substrate attached to the base plate via a load beam, and the actuator element mounted on the head region of the suspension substrate. To provide a suspension.

本発明は、上述のサスペンションと、前記サスペンション用基板の前記ヘッド領域に実装されたヘッドスライダと、を備えたことを特徴とするヘッド付サスペンションを提供する。   The present invention provides a suspension with a head comprising the above-described suspension and a head slider mounted on the head region of the suspension substrate.

本発明は、上述のヘッド付サスペンションを備えたことを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention provides a hard disk drive including the above-described suspension with a head.

本発明は、ヘッドスライダと、前記ヘッドスライダを変位させる伸縮自在なアクチュエータ素子とが実装されるヘッド領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、金属支持層と、前記金属支持層上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、素子接続端子を有する配線層と、を備えた基板材料体であって、前記ヘッド領域をなす領域において、前記金属支持層に、前記アクチュエータ素子を収容する収容開口部が設けられ、前記絶縁層に、前記素子接続端子を前記収容開口部に露出させる端子開口部が設けられた、基板材料体を準備する工程と、前記端子開口部内に、実装される前記アクチュエータ素子と前記素子接続端子とを接続する導電層を形成する工程と、を備え、前記導電層を形成する工程は、前記素子接続端子の前記絶縁層側の面に半田層を形成する工程と、前記半田層の前記素子接続端子側とは反対側の面に、導電性接着剤層を形成する工程と、を有していることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。   The present invention relates to a method for manufacturing a suspension substrate having a head region on which a head slider and a telescopic actuator element that displaces the head slider are mounted, and is provided on the metal support layer and the metal support layer. A substrate material body including an insulating layer and a wiring layer provided on the insulating layer and having an element connection terminal, wherein the actuator element is accommodated in the metal support layer in a region forming the head region. And a step of preparing a substrate material body provided with a terminal opening that exposes the element connection terminal to the accommodation opening, and the insulating layer is mounted in the terminal opening. Forming a conductive layer that connects the actuator element and the element connection terminal, wherein the step of forming the conductive layer includes the element connection terminal. Forming a solder layer on the surface on the insulating layer side, and forming a conductive adhesive layer on the surface of the solder layer opposite to the element connection terminal side. A suspension substrate manufacturing method is provided.

本発明によれば、実装されるアクチュエータ素子との電気的接続の信頼性を向上させるとともにアクチュエータ素子の信頼性低下を抑制することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while reducing the reliability of the electrical connection with the actuator element mounted, the reliability fall of an actuator element can be suppressed.

図1は、本発明の実施の形態におけるヘッド付サスペンションの一例を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an example of a suspension with a head according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1のヘッド付サスペンションにおけるヘッド領域を拡大して示す平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view showing a head region in the suspension with a head shown in FIG. 図3は、図2のヘッド領域を示す部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing the head region of FIG. 図4は、図3の部分拡大断面図である。4 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 図5は、図1のヘッド付サスペンションを含むハードディスクドライブの一例を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing an example of a hard disk drive including the suspension with a head shown in FIG. 図6(a)〜(c)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法を説明する図である。6 (a) to 6 (c) are diagrams illustrating a method for manufacturing a suspension substrate according to an embodiment of the present invention. 図7(a)、(b)は、図6に示すサスペンション用基板にピエゾ素子を実装する方法を説明する図である。7A and 7B are views for explaining a method of mounting a piezoelectric element on the suspension substrate shown in FIG. 図8は、図4の変形例を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a modification of FIG.

図1乃至図7を用いて、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   A manufacturing method of a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension substrate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones.

図1に示すように、ヘッド付サスペンション111は、サスペンション101と、サスペンション用基板1のヘッド領域2に実装されたヘッドスライダ112と、を備えている。このうちヘッドスライダ112は、後述するディスク123(図5参照)に対してデータの書き込みおよび読み取りを行うためのものであり、後述するサスペンション用基板1のヘッド領域2に接着剤を用いて接合されている。なお、ヘッドスライダ112のスライダ端子(図示せず)は、半田材料によってヘッド端子41に電気的に接続されている。   As shown in FIG. 1, the suspension with head 111 includes a suspension 101 and a head slider 112 mounted on the head region 2 of the suspension substrate 1. Of these, the head slider 112 is for writing and reading data on a disk 123 (see FIG. 5) described later, and is bonded to the head region 2 of the suspension substrate 1 described later using an adhesive. ing. A slider terminal (not shown) of the head slider 112 is electrically connected to the head terminal 41 by a solder material.

サスペンション101は、ベースプレート102と、ベースプレート102上に取り付けられたロードビーム103と、ロードビーム103に取り付けられたサスペンション用基板1と、サスペンション用基板1のヘッド領域2に実装された一対のピエゾ素子(アクチュエータ素子)104と、を備えている。このうちベースプレート102およびロードビーム103は、いずれも、好適にはステンレスにより形成され、互いに溶接されて固定されている。   The suspension 101 includes a base plate 102, a load beam 103 attached on the base plate 102, a suspension substrate 1 attached to the load beam 103, and a pair of piezo elements (mounted on the head region 2 of the suspension substrate 1). Actuator element) 104. Of these, the base plate 102 and the load beam 103 are both preferably made of stainless steel and are fixed to each other by welding.

また、ロードビーム103は、サスペンション用基板1の金属支持層20(後述)に、溶接により取り付けられるようになっている。なお、ロードビーム103には、治具孔(図示せず)が設けられており、サスペンション用基板1には、図1に示すように、当該ロードビーム103の治具孔とアライメント(位置合わせ)を行うための治具孔5が設けられている。このことにより、サスペンション用基板1にロードビーム103を取り付ける際に、サスペンション用基板1とロードビーム103との位置合わせを行うことができるようになっている。ロードビーム103の治具孔およびサスペンション用基板1の治具孔5は、図1に示す長手方向軸線(X)上に配置されている。   The load beam 103 is attached to the metal support layer 20 (described later) of the suspension substrate 1 by welding. The load beam 103 is provided with a jig hole (not shown), and the suspension substrate 1 is aligned with the jig hole of the load beam 103 as shown in FIG. A jig hole 5 for performing the above is provided. Thus, when the load beam 103 is attached to the suspension substrate 1, the suspension substrate 1 and the load beam 103 can be aligned. The jig hole of the load beam 103 and the jig hole 5 of the suspension substrate 1 are arranged on the longitudinal axis (X) shown in FIG.

図1および図2に示すように、ピエゾ素子104は、長手方向(図2のP方向)に伸縮自在に構成されている。これにより、一対のピエゾ素子104は、ヘッドスライダ112をスウェイ方向(旋回方向、図2の矢印Q方向)に変位させることができるようになっている。また、各ピエゾ素子104は、図3に示すように、一対の電極(第1電極104a、第2電極104b)と、例えばPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等の圧電セラミックスからなる圧電材料部104cと、を有している。一対の電極104a、104bは、圧電材料部104cの絶縁層10の側の面において、圧電材料部104cのうち伸縮方向における両端部(第1素子端部104dおよび第2素子端部104e)に形成されている。すなわち、ピエゾ素子104は、伸縮方向における端部として、第1素子端部104dと第2素子端部104eとを有しており、第1素子端部104dに第1電極104aが形成され、第2素子端部104eに第2電極104bが形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the piezo element 104 is configured to be stretchable in the longitudinal direction (P direction in FIG. 2). As a result, the pair of piezo elements 104 can displace the head slider 112 in the sway direction (the turning direction, the arrow Q direction in FIG. 2). Further, as shown in FIG. 3, each piezo element 104 includes a pair of electrodes (first electrode 104a, second electrode 104b) and a piezoelectric material portion 104c made of piezoelectric ceramics such as PZT (lead zirconate titanate). And have. The pair of electrodes 104a and 104b is formed at both ends (first element end 104d and second element end 104e) of the piezoelectric material portion 104c in the expansion / contraction direction on the surface of the piezoelectric material portion 104c on the insulating layer 10 side. Has been. That is, the piezo element 104 has a first element end 104d and a second element end 104e as ends in the expansion / contraction direction, the first electrode 104a is formed on the first element end 104d, A second electrode 104b is formed on the two-element end portion 104e.

図2および図3に示すように、ピエゾ素子104の第1電極104aは、後述する第1導電層71を介して、サスペンション用基板1の第1素子接続端子45(後述)に接続されている。この第1素子接続端子45は、導電接続部60(後述)を介して、金属支持層20に接続されて電気的に接地されている。第2電極104bは、後述する第2導電層72を介して、サスペンション用基板1の第2素子接続端子46(後述)に電気的に接続されている。この第2素子接続端子46は、後述する素子配線44に接続されており、第2素子接続端子46には、ピエゾ素子104を伸縮させるために所定の電圧が印加されるようになっている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the first electrode 104a of the piezo element 104 is connected to a first element connection terminal 45 (described later) of the suspension substrate 1 via a first conductive layer 71 described later. . The first element connection terminal 45 is connected to the metal support layer 20 through a conductive connection portion 60 (described later) and is electrically grounded. The second electrode 104b is electrically connected to a second element connection terminal 46 (described later) of the suspension substrate 1 via a second conductive layer 72 described later. The second element connection terminal 46 is connected to an element wiring 44 which will be described later, and a predetermined voltage is applied to the second element connection terminal 46 in order to expand and contract the piezo element 104.

図3に示すように、各素子端部104d、104eには、非導電性接着剤(例えば、UV硬化樹脂)106が塗布されている。非導電性接着剤106は、ピエゾ素子104をサスペンション用基板1に機械的に接合するためのものである。   As shown in FIG. 3, a non-conductive adhesive (for example, UV curable resin) 106 is applied to each of the element end portions 104d and 104e. The non-conductive adhesive 106 is for mechanically joining the piezo element 104 to the suspension substrate 1.

一対のピエゾ素子104の圧電材料部104cは、互いに180°異なる分極方向となるように形成されており、所定の電圧が印加されると、一方のピエゾ素子104が収縮すると共に、他方のピエゾ素子104が伸長するようになっている。すなわち、ピエゾ素子104は、電極104a、104b間に所定の電圧が印加されることにより図2の矢印P方向に伸縮自在な圧電素子として構成されている。   The piezoelectric material portions 104c of the pair of piezo elements 104 are formed to have polarization directions different from each other by 180 °. When a predetermined voltage is applied, one piezo element 104 contracts and the other piezo element 104 104 extends. That is, the piezoelectric element 104 is configured as a piezoelectric element that can expand and contract in the direction of arrow P in FIG. 2 when a predetermined voltage is applied between the electrodes 104a and 104b.

このようなピエゾ素子104は、図1に示すように、長手方向軸線(X)に沿って細長の矩形状に形成されており、その伸縮方向が、当該長手方向軸線(X)に平行となっている。また、ピエゾ素子104は、長手方向軸線(X)に対して互いに線対称に配置されており、各ピエゾ素子104の伸縮が、ヘッドスライダ112に均等に伝達されるようになっている。   As shown in FIG. 1, such a piezo element 104 is formed in an elongated rectangular shape along the longitudinal axis (X), and its expansion / contraction direction is parallel to the longitudinal axis (X). ing. The piezo elements 104 are arranged symmetrically with respect to the longitudinal axis (X) so that the expansion and contraction of each piezo element 104 is evenly transmitted to the head slider 112.

次に、サスペンション用基板1について説明する。   Next, the suspension substrate 1 will be described.

図1に示すように、サスペンション用基板1は、ヘッドスライダ112とピエゾ素子104とが実装されるヘッド領域(ジンバル領域)2と、FPC基板(外部接続基板)131が接続されるテール領域3と、を有している。ヘッド領域2には、ヘッドスライダ112に接続される複数のヘッド端子41が設けられ、テール領域3には、FPC基板131に接続される複数のテール端子(外部接続基板端子)42が設けられている。ヘッド端子41とテール端子42とは、後述する複数の信号配線43によってそれぞれ接続されている。   As shown in FIG. 1, the suspension substrate 1 includes a head region (gimbal region) 2 on which the head slider 112 and the piezoelectric element 104 are mounted, and a tail region 3 to which an FPC substrate (external connection substrate) 131 is connected. ,have. The head region 2 is provided with a plurality of head terminals 41 connected to the head slider 112, and the tail region 3 is provided with a plurality of tail terminals (external connection substrate terminals) 42 connected to the FPC board 131. Yes. The head terminal 41 and the tail terminal 42 are respectively connected by a plurality of signal wirings 43 described later.

図1乃至図3に示すように、サスペンション用基板1は、金属支持層20と、金属支持層20上に設けられた絶縁層10と、絶縁層10上に設けられ、複数の配線43、44を有する配線層40と、を備えている。すなわち、金属支持層20に、絶縁層10を介して配線層40が積層されている。絶縁層10上には、配線43、44を覆う保護層50が設けられている。上述したヘッドスライダ112は、サスペンション用基板1の保護層50の側(保護層50上)に配置され、ピエゾ素子104は、金属支持層20の側に配置されている。なお、図1および図2においては、図面を明瞭にするために、保護層50は省略している。   As shown in FIGS. 1 to 3, the suspension substrate 1 includes a metal support layer 20, an insulating layer 10 provided on the metal support layer 20, and a plurality of wirings 43 and 44 provided on the insulating layer 10. And a wiring layer 40 having. That is, the wiring layer 40 is laminated on the metal support layer 20 via the insulating layer 10. A protective layer 50 that covers the wirings 43 and 44 is provided on the insulating layer 10. The head slider 112 described above is disposed on the protective layer 50 side (on the protective layer 50) of the suspension substrate 1, and the piezo element 104 is disposed on the metal support layer 20 side. In FIGS. 1 and 2, the protective layer 50 is omitted for the sake of clarity.

金属支持層20は、図2乃至図4に示すように、金属支持層本体21と、ヘッド領域2に配置され、ヘッドスライダ112が取り付けられたタング部22と、を有している。金属支持層本体21とタング部22とは、長手方向軸線(X)に沿って延びる中央連結部24によって連結されている。中央連結部24の幅は小さくなっており、これにより中央連結部24は柔軟性を有し、ヘッドスライダ112のピボット運動が阻害されることを防止すると共に、ピエゾ素子104の伸縮動作が阻害されることを防止している。   As shown in FIGS. 2 to 4, the metal support layer 20 includes a metal support layer main body 21 and a tongue portion 22 that is disposed in the head region 2 and to which the head slider 112 is attached. The metal support layer main body 21 and the tongue portion 22 are connected by a central connecting portion 24 that extends along the longitudinal axis (X). The width of the central connecting portion 24 is reduced, whereby the central connecting portion 24 has flexibility, prevents the pivot movement of the head slider 112 from being inhibited, and prevents the piezoelectric element 104 from expanding and contracting. Is prevented.

ヘッド領域2において、金属支持層20に、ピエゾ素子104を収容する矩形状の収容開口部25が設けられている。収容開口部25は、中央連結部24の両側に配置されている。すなわち、一対の収容開口部25の間に中央連結部24が配置されている。本実施の形態においては、収容開口部25の外側(中央連結部24の側とは反対側)には、金属支持層20を構成する部材は形成されていない。しかしながら、ピエゾ素子104の伸縮動作に問題が無ければ、収容開口部25の外側に、金属支持層20を構成する部材が形成されていてもよい。   In the head region 2, a rectangular accommodation opening 25 that accommodates the piezoelectric element 104 is provided in the metal support layer 20. The accommodation opening 25 is disposed on both sides of the central coupling portion 24. That is, the central connecting portion 24 is disposed between the pair of accommodation openings 25. In the present embodiment, the member constituting the metal support layer 20 is not formed on the outer side of the accommodation opening 25 (the side opposite to the side of the central coupling portion 24). However, if there is no problem in the expansion / contraction operation of the piezo element 104, a member constituting the metal support layer 20 may be formed outside the accommodation opening 25.

配線層40は、複数の配線、すなわち、一対の読取配線と一対の書込配線とを含む信号配線43と、ピエゾ素子104に接続される一対の素子配線44と、を有している。このうち、信号配線43は、ヘッド端子41とテール端子42とを接続しており、この信号配線43に電気信号が流されることによって、ヘッドスライダ112がディスク123(図6参照)に対してデータの書き込みまたは読み取りを行うようになっている。テール端子42から延びる素子配線44は、第2素子接続端子46に接続されており、ピエゾ素子104の第2電極104bに所定の電圧を印加するようになっている。   The wiring layer 40 includes a plurality of wirings, that is, a signal wiring 43 including a pair of reading wirings and a pair of writing wirings, and a pair of element wirings 44 connected to the piezoelectric element 104. Among these, the signal wiring 43 connects the head terminal 41 and the tail terminal 42, and an electric signal is passed through the signal wiring 43, so that the head slider 112 receives data from the disk 123 (see FIG. 6). Write or read. The element wiring 44 extending from the tail terminal 42 is connected to the second element connection terminal 46, and applies a predetermined voltage to the second electrode 104 b of the piezo element 104.

配線層40は、ピエゾ素子104の第1電極104aに接続される第1素子接続端子45と、ピエゾ素子104の第2電極104bに接続される第2素子接続端子46と、を有している。このうち、第1素子接続端子45は、ピエゾ素子104の第1電極104aを接地して、ピエゾ素子104の接地をとるためのものであり、後述の導電接続部60を介して、金属支持層20のタング部22に電気的に接続されている。第2素子接続端子46は、上述したように、ピエゾ素子104の第2電極104bに所定の電圧を印加するためのものであり、第2素子接続端子46には、素子配線44が接続されている。   The wiring layer 40 includes a first element connection terminal 45 connected to the first electrode 104a of the piezo element 104 and a second element connection terminal 46 connected to the second electrode 104b of the piezo element 104. . Among these, the first element connection terminal 45 is for grounding the first electrode 104a of the piezo element 104 and grounding the piezo element 104, and the metal support layer is connected via a conductive connection portion 60 described later. It is electrically connected to 20 tongue portions 22. As described above, the second element connection terminal 46 is for applying a predetermined voltage to the second electrode 104b of the piezo element 104, and the element wiring 44 is connected to the second element connection terminal 46. Yes.

図3に示すように、絶縁層10に、素子接続端子45、46をピエゾ素子104の側に露出させる端子開口部11が設けられている。素子接続端子45、46のうち端子開口部11に露出された部分に、ニッケル(Ni)めっきおよび金(Au)めっきがこの順に施されて形成されためっき層(図示せず)が設けられている。このことにより、素子接続端子45、46が腐食することを防止するとともに、ピエゾ素子104の電極104a、104bと素子接続端子45、46との接続抵抗を低減している。なお、ヘッド端子41およびテール端子42にも、同様にして、めっき層が設けられている。   As shown in FIG. 3, a terminal opening 11 is provided in the insulating layer 10 to expose the element connection terminals 45 and 46 to the piezoelectric element 104 side. A plating layer (not shown) formed by applying nickel (Ni) plating and gold (Au) plating in this order is provided on a portion of the element connection terminals 45 and 46 exposed to the terminal opening 11. Yes. This prevents the element connection terminals 45 and 46 from corroding and reduces the connection resistance between the electrodes 104 a and 104 b of the piezoelectric element 104 and the element connection terminals 45 and 46. The head terminal 41 and the tail terminal 42 are similarly provided with plating layers.

図3および図4に示すように、端子開口部11には、ピエゾ素子104と素子接続端子45、46とを電気的に接続する導電層(第1導電層71、第2導電層72)が設けられている。このうち、第1導電層71は、第1素子接続端子45に対応する端子開口部11内に設けられており、第2導電層72は、第2素子接続端子46に対応する端子開口部11内に設けられている。なお、図4(後述する図6乃至図8も同様)においては、第1導電層71を示しているが、第2導電層72は、第1導電層71と同様の構成とすることができるため、第2導電層72を示す部分拡大断面図は省略する。   As shown in FIGS. 3 and 4, the terminal openings 11 have conductive layers (first conductive layer 71 and second conductive layer 72) that electrically connect the piezoelectric element 104 and the element connection terminals 45 and 46. Is provided. Among these, the first conductive layer 71 is provided in the terminal opening 11 corresponding to the first element connection terminal 45, and the second conductive layer 72 is the terminal opening 11 corresponding to the second element connection terminal 46. Is provided inside. In FIG. 4 (the same applies to FIGS. 6 to 8 described later), the first conductive layer 71 is shown, but the second conductive layer 72 can have the same configuration as the first conductive layer 71. Therefore, a partial enlarged cross-sectional view showing the second conductive layer 72 is omitted.

図4に示すように、導電層71、72は、素子接続端子45、46の絶縁層10の側の面に設けられた半田層73と、半田層73の素子接続端子45、46の側とは反対側の面(ピエゾ素子104の側の面)に設けられた導電性接着剤層74と、を有している。このうち、導電性接着剤層74は、例えば、銀ペースト(エポキシ樹脂などのバインダーと、銀フィラーとが混合されたペースト)などの導電性接着剤により形成されている。この導電性接着剤層74は、ピエゾ素子104の電極104a、104bに接続されるようになっている。このようにして、ピエゾ素子104の電極104a、104bと素子接続端子45、46とが、半田層73および導電性接着剤層74を介して、電気的に接続されるようになっている。なお、導電性接着剤層74は、半田層73の導電性接着剤層74の側の面(ピエゾ素子104の側の面)の全体に設けられていることが好適である。また、導電性接着剤層74は、端子開口部11から収容開口部25の側(ピエゾ素子104の側)に盛り上がるように突出していることが好適である。   As shown in FIG. 4, the conductive layers 71 and 72 include a solder layer 73 provided on the surface of the element connection terminals 45 and 46 on the insulating layer 10 side, and the element connection terminals 45 and 46 side of the solder layer 73. Has a conductive adhesive layer 74 provided on the opposite surface (the surface on the piezoelectric element 104 side). Among these, the conductive adhesive layer 74 is formed of a conductive adhesive such as a silver paste (a paste in which a binder such as an epoxy resin and a silver filler are mixed). The conductive adhesive layer 74 is connected to the electrodes 104 a and 104 b of the piezo element 104. In this way, the electrodes 104 a and 104 b of the piezoelectric element 104 and the element connection terminals 45 and 46 are electrically connected through the solder layer 73 and the conductive adhesive layer 74. Note that the conductive adhesive layer 74 is preferably provided on the entire surface of the solder layer 73 on the side of the conductive adhesive layer 74 (the surface on the side of the piezoelectric element 104). Further, it is preferable that the conductive adhesive layer 74 protrudes so as to rise from the terminal opening 11 to the housing opening 25 side (piezo element 104 side).

図4に示すように、導電性接着剤層74の一部は、端子開口部11内に形成されている。すなわち、半田層73のピエゾ素子104の側の面は、絶縁層10の金属支持層20の側の面より、上側(素子接続端子45、46の側)に配置されている。   As shown in FIG. 4, a part of the conductive adhesive layer 74 is formed in the terminal opening 11. That is, the surface of the solder layer 73 on the piezo element 104 side is arranged on the upper side (element connection terminals 45 and 46 side) of the surface of the insulating layer 10 on the metal support layer 20 side.

このような、半田層73と導電性接着剤層74とを含む導電層71、72は、本実施の形態においては、サスペンション用基板1を構成する部材として取り扱う。   Such conductive layers 71 and 72 including the solder layer 73 and the conductive adhesive layer 74 are handled as members constituting the suspension substrate 1 in the present embodiment.

上述したように、第1素子接続端子45は、導電接続部(ビア)60によって、金属支持層20のタング部22に電気的に接続されている。すなわち、絶縁層10に絶縁層貫通孔12が設けられ、配線層40に配線層貫通孔48が設けられており、この絶縁層貫通孔12および配線層貫通孔48に、ニッケルめっきまたは銅めっきを施すことにより導電接続部60が形成されている。このようにして、第1素子接続端子45が接地されるようになっている。なお、図3に示す形態においては、導電接続部60は、保護層50により覆われており、導電接続部60の腐食を防止している。   As described above, the first element connection terminal 45 is electrically connected to the tongue portion 22 of the metal support layer 20 by the conductive connection portion (via) 60. That is, the insulating layer through hole 12 is provided in the insulating layer 10, and the wiring layer through hole 48 is provided in the wiring layer 40, and nickel plating or copper plating is applied to the insulating layer through hole 12 and the wiring layer through hole 48. As a result, the conductive connection portion 60 is formed. In this way, the first element connection terminal 45 is grounded. In the form shown in FIG. 3, the conductive connection portion 60 is covered with a protective layer 50 to prevent corrosion of the conductive connection portion 60.

次に、サスペンション用基板1の各層を構成する材料について詳細に述べる。   Next, materials constituting each layer of the suspension substrate 1 will be described in detail.

絶縁層10の材料としては、所望の絶縁性を有する材料であれば特に限定されることはないが、例えば、ポリイミド(PI)を用いることが好適である。なお、絶縁層10の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。また、絶縁層10の厚さは、5μm〜10μmであることが好ましい。このことにより、金属支持層20と各配線43、44との間の絶縁性能を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての剛性が喪失されることを防止することができる。   The material of the insulating layer 10 is not particularly limited as long as it is a material having a desired insulating property. For example, it is preferable to use polyimide (PI). Note that the material of the insulating layer 10 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. Moreover, it is preferable that the thickness of the insulating layer 10 is 5 micrometers-10 micrometers. As a result, the insulation performance between the metal support layer 20 and the wirings 43 and 44 can be ensured, and loss of the rigidity of the suspension substrate 1 as a whole can be prevented.

配線層40の各配線43、44は、電気信号を伝送するための導体として構成されており、各配線43、44の材料としては、所望の導電性を有する材料であれば特に限定されることはないが、銅(Cu)を用いることが好適である。銅以外にも、純銅に準ずる電気特性を有する材料であれば用いることもできる。ここで、各配線43、44の厚さは、5μm〜18μmであることが好ましい。このことにより、各配線43、44の伝送特性を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての柔軟性が喪失されることを防止することができる。なお、ヘッド端子41、テール端子42および素子接続端子45、46は、各配線43、44と同一の材料、同一の厚みとなっており、配線層40を構成している。   The wirings 43 and 44 of the wiring layer 40 are configured as conductors for transmitting electrical signals, and the materials of the wirings 43 and 44 are particularly limited as long as they have a desired conductivity. However, it is preferable to use copper (Cu). In addition to copper, any material having electrical characteristics similar to pure copper can be used. Here, it is preferable that the thickness of each wiring 43 and 44 is 5 micrometers-18 micrometers. As a result, it is possible to ensure the transmission characteristics of the wirings 43 and 44 and to prevent the flexibility of the suspension substrate 1 as a whole from being lost. The head terminal 41, the tail terminal 42, and the element connection terminals 45 and 46 have the same material and the same thickness as the wirings 43 and 44, and constitute the wiring layer 40.

金属支持層20の材料としては、所望の導電性、弾力性、および強度を有するものであれば特に限定されることはないが、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、ベリリウム銅、またはその他の銅合金を用いることができ、このうちステンレスを用いることが好適である。金属支持層20の厚さは、15μm〜20μmであることが好ましい。このことにより、金属支持層20の導電性、剛性、および弾力性を確保することができる。   The material of the metal support layer 20 is not particularly limited as long as it has desired conductivity, elasticity, and strength. For example, stainless steel, 42 alloy, aluminum, beryllium copper, or other copper Alloys can be used, and among these, stainless steel is preferred. The thickness of the metal support layer 20 is preferably 15 μm to 20 μm. As a result, the conductivity, rigidity, and elasticity of the metal support layer 20 can be ensured.

保護層50の材料としては、樹脂材料、例えば、ポリイミドを用いることが好適である。なお、保護層50の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。保護層50の厚さは、配線43、44上において3μm〜10μmであることが好ましい。   As a material of the protective layer 50, it is preferable to use a resin material, for example, polyimide. The material of the protective layer 50 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the protective layer 50 is preferably 3 μm to 10 μm on the wirings 43 and 44.

次に、図5により、本実施の形態におけるハードディスクドライブ121について説明する。図5に示すハードディスクドライブ121は、ケース122と、このケース122に回転自在に取り付けられ、データが記憶されるディスク123と、このディスク123を回転させるスピンドルモータ124と、ディスク123に所望のフライングハイトを保って近接するように設けられ、ディスク123に対してデータの書き込みおよび読み取りを行うヘッドスライダ112を含むヘッド付サスペンション111と、を有している。このうちヘッド付サスペンション111は、ケース122に対して移動自在に取り付けられており、ケース122にはヘッド付サスペンション111のヘッドスライダ112をディスク123上に沿って移動させるボイスコイルモータ125が取り付けられている。また、ヘッド付サスペンション111は、ボイスコイルモータ125にアーム126を介して取り付けられると共に、ハードディスクドライブ121を制御する制御部(図示せず)に接続されたFPC基板131(図1参照)に接続されている。このようにして、電気信号が、サスペンション用基板1とFPC基板131を介して、制御部とヘッドスライダ112との間で伝送されるようになっている。   Next, the hard disk drive 121 in the present embodiment will be described with reference to FIG. The hard disk drive 121 shown in FIG. 5 has a case 122, a disk 123 that is rotatably attached to the case 122 and stores data, a spindle motor 124 that rotates the disk 123, and a desired flying height on the disk 123. And a suspension 111 with a head including a head slider 112 that writes and reads data to and from the disk 123. Of these, the suspension with head 111 is movably attached to the case 122, and a voice coil motor 125 that moves the head slider 112 of the suspension with head 111 along the disk 123 is attached to the case 122. Yes. The suspension with head 111 is attached to the voice coil motor 125 via an arm 126, and is connected to an FPC board 131 (see FIG. 1) connected to a control unit (not shown) that controls the hard disk drive 121. ing. In this way, an electrical signal is transmitted between the control unit and the head slider 112 via the suspension board 1 and the FPC board 131.

次に、本実施の形態によるサスペンション用基板1の製造方法について図6を用いて説明する。   Next, a method for manufacturing the suspension substrate 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG.

まず、基板材料体1aを準備する(図6(a)参照)。ここで、基板材料体1aとは、本実施の形態における導電層71、72を含むサスペンション用基板1を作製するための基板であって、図6(a)に示すように、導電層71、72が形成される前の段階の基板のことを意味する。ここでは、基板材料体1aを、一例として、サブトラクティブ法により製造する場合について説明する。   First, a substrate material body 1a is prepared (see FIG. 6A). Here, the substrate material body 1a is a substrate for producing the suspension substrate 1 including the conductive layers 71 and 72 in the present embodiment. As shown in FIG. It means a substrate at a stage before 72 is formed. Here, the case where the board | substrate material body 1a is manufactured by a subtractive method as an example is demonstrated.

まず、金属支持層20と絶縁層10と配線層40とが積層された積層体(図示せず)を準備する。続いて、配線層40が、所望の形状にエッチングされて、ヘッド端子41、テール端子42、配線43、44、および素子接続端子45、46が形成される。次に、絶縁層10上に、各配線43、44を覆う保護層50が所望の形状で形成される。続いて、絶縁層10が所望の形状にエッチングされる。この際、ヘッド領域2をなす領域において、絶縁層10に端子開口部11が形成される。その後、金属支持層20が所望の形状にエッチングされて外形加工され、ヘッド領域2をなす領域において、金属支持層20にタング部22および収容開口部25が形成される。このようにして、基板材料体1aが得られる。   First, a laminate (not shown) in which the metal support layer 20, the insulating layer 10, and the wiring layer 40 are laminated is prepared. Subsequently, the wiring layer 40 is etched into a desired shape, so that the head terminal 41, the tail terminal 42, the wirings 43 and 44, and the element connection terminals 45 and 46 are formed. Next, the protective layer 50 covering the wirings 43 and 44 is formed on the insulating layer 10 in a desired shape. Subsequently, the insulating layer 10 is etched into a desired shape. At this time, a terminal opening 11 is formed in the insulating layer 10 in a region forming the head region 2. Thereafter, the metal support layer 20 is etched into a desired shape and is subjected to outer shape processing. In the region forming the head region 2, the tongue portion 22 and the accommodation opening portion 25 are formed in the metal support layer 20. In this way, the substrate material body 1a is obtained.

基板材料体1aを準備した後、ピエゾ素子104と素子接続端子45、46とを接続するための導電層71、72が形成される。   After the substrate material body 1a is prepared, conductive layers 71 and 72 for connecting the piezoelectric element 104 and the element connection terminals 45 and 46 are formed.

この場合、まず、素子接続端子45、46の端子開口部11に露出された面に、半田層73が形成される(図6(b)参照)。   In this case, first, the solder layer 73 is formed on the surface exposed to the terminal opening 11 of the element connection terminals 45 and 46 (see FIG. 6B).

半田層73の形成方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、端子開口部11内に、半田ボールを供給し、この半田ボールにレーザ光を照射することによって半田ボールを加熱して溶融させ、素子接続端子45、46に溶着した半田層73を得ることができる。なお、半田ボールを溶融させる際、半田ボールは300℃以上に加熱されることが好適である。   The method for forming the solder layer 73 is not particularly limited. For example, a solder ball is supplied into the terminal opening 11 and the solder ball is irradiated with laser light to heat the solder ball. The solder layer 73 melted and welded to the element connection terminals 45 and 46 can be obtained. Note that when the solder ball is melted, the solder ball is preferably heated to 300 ° C. or higher.

また、半田層73を形成する方法としては、半田ボールを用いる方法以外にも、例えば、印刷法によって半田層73を形成することができる。この場合、半田ペースト(クリーム半田ともいう)を、端子開口部11内に塗布して、加熱して溶融させることにより、素子接続端子45、46に溶着した半田層73を得ることができる。ここで、半田ペーストは、微細な粉末状の半田粒がフラックスによってペースト状に形成されたものである。このことから、印刷後に加熱すると半田粒が溶融して、素子接続端子45、46の露出された面に溶着した半田層73が形成される。更には、ソルダージェット法により、溶融された半田を端子開口部11内に供給して、素子接続端子45、46に溶着した半田層73を得ることもでき、めっき法によって半田層73を得ることもできる。   Further, as a method for forming the solder layer 73, the solder layer 73 can be formed by, for example, a printing method in addition to the method using a solder ball. In this case, a solder layer 73 welded to the element connection terminals 45 and 46 can be obtained by applying a solder paste (also referred to as cream solder) in the terminal opening 11 and heating and melting it. Here, the solder paste is a paste in which fine powdery solder particles are formed by a flux. For this reason, when heated after printing, the solder grains are melted, and a solder layer 73 welded to the exposed surfaces of the element connection terminals 45 and 46 is formed. Further, the solder jet method can be used to supply molten solder into the terminal opening 11 to obtain the solder layer 73 welded to the element connection terminals 45 and 46, or to obtain the solder layer 73 by plating. You can also.

半田層73が形成された後、半田層73の素子接続端子45、46の側とは反対側の面に、導電性接着剤層74が形成される(図6(c)参照)。この場合、まず、導電性接着剤が、印刷法により半田層73上に塗布される。この際、塗布される導電性接着剤は、端子開口部11から盛り上がるように塗布されることが好適である。   After the solder layer 73 is formed, a conductive adhesive layer 74 is formed on the surface of the solder layer 73 opposite to the element connection terminals 45 and 46 (see FIG. 6C). In this case, first, a conductive adhesive is applied onto the solder layer 73 by a printing method. At this time, the conductive adhesive to be applied is preferably applied so as to rise from the terminal opening 11.

このようにして、本実施の形態による、半田層73と導電性接着剤層74とを含む導電層71、72が端子開口部11に設けられたサスペンション用基板1が得られる。   In this manner, the suspension substrate 1 in which the conductive layers 71 and 72 including the solder layer 73 and the conductive adhesive layer 74 are provided in the terminal opening 11 according to the present embodiment is obtained.

次に、上述のようにして得られたサスペンション用基板1を用いたサスペンション101の製造方法について、図7を用いて説明する。   Next, a method for manufacturing the suspension 101 using the suspension substrate 1 obtained as described above will be described with reference to FIG.

まず、ベースプレート102(図1参照)に、ロードビーム103を介して、上述のサスペンション用基板1が、溶接により取り付けられる。この場合、まず、ベースプレート102にロードビーム103が溶接により固定され、続いて、ロードビーム103に設けられた治具孔(図示せず)と、サスペンション用基板1に設けられた治具孔5とにより、ロードビーム103とサスペンション用基板1とのアライメントが行われる。その後、サスペンション用基板1の金属支持層20に溶接が施されて、ロードビーム103とサスペンション用基板1が互いに接合されて固定される。   First, the above-described suspension substrate 1 is attached to the base plate 102 (see FIG. 1) via the load beam 103 by welding. In this case, first, the load beam 103 is fixed to the base plate 102 by welding, then, a jig hole (not shown) provided in the load beam 103 and a jig hole 5 provided in the suspension substrate 1. Thus, alignment of the load beam 103 and the suspension substrate 1 is performed. Thereafter, the metal support layer 20 of the suspension substrate 1 is welded, and the load beam 103 and the suspension substrate 1 are joined and fixed to each other.

次に、ピエゾ素子104が、サスペンション用基板1のヘッド領域2に実装される(図7(a)参照)。この場合、まず、ピエゾ素子104が収容開口部25に収容される。このことにより、ピエゾ素子104の電極104a、104bが、導電層71、72の導電性接着剤層74に電気的に接続される。   Next, the piezo element 104 is mounted on the head region 2 of the suspension substrate 1 (see FIG. 7A). In this case, first, the piezo element 104 is accommodated in the accommodation opening 25. As a result, the electrodes 104 a and 104 b of the piezoelectric element 104 are electrically connected to the conductive adhesive layer 74 of the conductive layers 71 and 72.

その後、導電性接着剤層74の導電性接着剤を焼成して、硬化させる。なお、焼成処理は、200℃で所定の時間行われることが好適である。   Thereafter, the conductive adhesive of the conductive adhesive layer 74 is baked and cured. Note that the baking treatment is preferably performed at 200 ° C. for a predetermined time.

導電性接着剤を硬化した後、ピエゾ素子104の両端部に、非導電性接着剤106が塗布される(ポッティング)。その後、塗布された非導電性接着剤106を、気中環境下に放置して、硬化させる(図7(b)参照)。このことにより、ピエゾ素子104がサスペンション用基板1に、機械的に接合され、ヘッド領域2にピエゾ素子104が実装される。   After the conductive adhesive is cured, the non-conductive adhesive 106 is applied to both ends of the piezo element 104 (potting). Thereafter, the applied non-conductive adhesive 106 is left in an air environment to be cured (see FIG. 7B). As a result, the piezo element 104 is mechanically bonded to the suspension substrate 1, and the piezo element 104 is mounted on the head region 2.

このようにして、サスペンション用基板1にピエゾ素子104が実装され、本実施の形態によるサスペンション101が得られる。   In this way, the piezo element 104 is mounted on the suspension substrate 1, and the suspension 101 according to the present embodiment is obtained.

その後、得られたサスペンション101にヘッドスライダ112が実装されて、本実施の形態によるヘッド付サスペンション111が得られる。   Thereafter, the head slider 112 is mounted on the obtained suspension 101, and the suspension with head 111 according to the present embodiment is obtained.

さらに、このヘッド付サスペンション111がハードディスクドライブ121のアーム126に取り付けられると共に、サスペンション用基板1のテール端子42にFPC基板131(図1参照)が接続されて、図5に示すハードディスクドライブ121が得られる。   Further, the suspension with head 111 is attached to the arm 126 of the hard disk drive 121 and the FPC board 131 (see FIG. 1) is connected to the tail terminal 42 of the suspension board 1 to obtain the hard disk drive 121 shown in FIG. It is done.

図5に示すハードディスクドライブ121においてデータの書き込みおよび読み取りを行う際、スピンドルモータ124によってディスク123が回転し、ボイスコイルモータ125によってヘッド付サスペンション111のヘッドスライダ112がディスク123に沿って移動する。この際、ヘッドスライダ112は、ディスク123の回転により生じた気流の影響を受けて、タング部22と共にピボット運動を行いながら、ディスク123に所望のフライングハイトを保って浮上する。この状態で、ヘッドスライダ112とディスク123との間で、データの受け渡しが行われる。この間、サスペンション用基板1とFPC基板131を介して、FPC基板131に接続されている制御部(図示せず)とヘッドスライダ112との間で電気信号が伝送される。このような電気信号は、サスペンション用基板1においては、各信号配線43によって、ヘッド端子41(図1参照)とテール端子42との間で伝送される。   When writing and reading data in the hard disk drive 121 shown in FIG. 5, the disk 123 is rotated by the spindle motor 124, and the head slider 112 of the suspension with head 111 is moved along the disk 123 by the voice coil motor 125. At this time, the head slider 112 floats while maintaining a desired flying height on the disk 123 while performing a pivot motion together with the tongue 22 under the influence of the airflow generated by the rotation of the disk 123. In this state, data is exchanged between the head slider 112 and the disk 123. During this time, an electrical signal is transmitted between the head slider 112 and a control unit (not shown) connected to the FPC board 131 via the suspension board 1 and the FPC board 131. Such an electric signal is transmitted between the head terminal 41 (see FIG. 1) and the tail terminal 42 by each signal wiring 43 in the suspension board 1.

ヘッドスライダ112を移動させる際、ボイスコイルモータ125が、ヘッドスライダ112の位置を大まかに調整し、ピエゾ素子104が、ヘッドスライダ112の位置を微小調整する。すなわち、ピエゾ素子104の第2電極104bに所定の電圧を印加することにより、長手方向軸線(X)に沿った方向(図2の矢印P方向)に、一方のピエゾ素子104が収縮すると共に他方のピエゾ素子104が伸長する。この場合、ピエゾ素子104には、素子配線44、第2素子接続端子46および第2導電層72を介して所定の電圧が入力される。   When moving the head slider 112, the voice coil motor 125 roughly adjusts the position of the head slider 112, and the piezo element 104 finely adjusts the position of the head slider 112. That is, by applying a predetermined voltage to the second electrode 104b of the piezo element 104, one piezo element 104 contracts in the direction along the longitudinal axis (X) (the direction of arrow P in FIG. 2) and the other This piezo element 104 extends. In this case, a predetermined voltage is input to the piezoelectric element 104 via the element wiring 44, the second element connection terminal 46, and the second conductive layer 72.

ピエゾ素子104が伸縮すると、ヘッド領域2に実装されているヘッドスライダ112がスウェイ方向(図2の矢印Q方向)に移動する。このことから、ヘッドスライダ112を、ディスク123の所望のトラックに、精度良く位置合わせすることができる。   When the piezo element 104 expands and contracts, the head slider 112 mounted on the head region 2 moves in the sway direction (the arrow Q direction in FIG. 2). Thus, the head slider 112 can be accurately aligned with a desired track on the disk 123.

このように本実施の形態によれば、端子開口部内に、実装されるピエゾ素子104と素子接続端子45、46とを接続する導電層71、72が設けられている。このことにより、導電層71、72を、端子開口部11に係止することができる。このため、導電層71、72が、素子接続端子45、46から位置ずれすることを防止し、ピエゾ素子104と素子接続端子45、46との電気的接続の信頼性を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the conductive layers 71 and 72 that connect the piezoelectric element 104 to be mounted and the element connection terminals 45 and 46 are provided in the terminal opening. As a result, the conductive layers 71 and 72 can be locked to the terminal opening 11. Therefore, the conductive layers 71 and 72 can be prevented from being displaced from the element connection terminals 45 and 46, and the reliability of electrical connection between the piezo element 104 and the element connection terminals 45 and 46 can be improved.

また、本実施の形態によれば、導電性接着剤層74の一部が、端子開口部11内に形成されている。このことにより、導電性接着剤層74を端子開口部11に係止することがでる。このため、導電層71、72が、素子接続端子45、46から位置ずれすることをより一層防止でき、ピエゾ素子104と素子接続端子45、46との電気的接続の信頼性をより一層向上させることができる。また、この場合、導電性接着剤層74を形成する導電性接着剤を塗布した際、塗布された導電性接着剤が、端子開口部11の周囲に濡れ広がることにより金属支持層20に達して短絡することを抑制でき、電気的接続の信頼性を向上させることができる。   Further, according to the present embodiment, a part of the conductive adhesive layer 74 is formed in the terminal opening 11. As a result, the conductive adhesive layer 74 can be locked to the terminal opening 11. Therefore, the conductive layers 71 and 72 can be further prevented from being displaced from the element connection terminals 45 and 46, and the reliability of electrical connection between the piezoelectric element 104 and the element connection terminals 45 and 46 is further improved. be able to. In this case, when the conductive adhesive forming the conductive adhesive layer 74 is applied, the applied conductive adhesive reaches the metal support layer 20 by spreading around the terminal opening 11. Short-circuiting can be suppressed, and the reliability of electrical connection can be improved.

また、本実施の形態によれば、上述したように、導電性接着剤層74の一部が、端子開口部11内に形成されていることにより、端子開口部11からの導電性接着剤層74の突出量を低減することができる。このため、ピエゾ素子104を、絶縁層10に近接させて(または密着させて)実装することができ、ピエゾ素子104の実装を安定化させることができる。   In addition, according to the present embodiment, as described above, a part of the conductive adhesive layer 74 is formed in the terminal opening 11 so that the conductive adhesive layer from the terminal opening 11 is formed. The protrusion amount of 74 can be reduced. Therefore, the piezo element 104 can be mounted close to (or in close contact with) the insulating layer 10, and the mounting of the piezo element 104 can be stabilized.

また、本実施の形態によれば、素子接続端子45、46と導電性接着剤層74との間に、半田層73が介在されている。ここで、導電性接着剤は、素子接続端子45、46上に形成されためっき層との接触抵抗が比較的大きくなる。このため、めっき層と導電性接着剤層74との間に半田層73を介在させることにより、ピエゾ素子104と素子接続端子45、46との接続抵抗を低減することができ、ピエゾ素子104と素子接続端子45、46との電気的接続の信頼性を向上させることができる。   Further, according to the present embodiment, the solder layer 73 is interposed between the element connection terminals 45 and 46 and the conductive adhesive layer 74. Here, the conductive adhesive has a relatively large contact resistance with the plating layer formed on the element connection terminals 45 and 46. Therefore, by interposing the solder layer 73 between the plating layer and the conductive adhesive layer 74, the connection resistance between the piezo element 104 and the element connection terminals 45 and 46 can be reduced. The reliability of electrical connection with the element connection terminals 45 and 46 can be improved.

また、本実施の形態によれば、素子接続端子45、46に、半田層73および導電性接着剤層74を含む導電層71、72を介して、ピエゾ素子104を電気的に接続することができる。このことにより、比較的高価な導電性接着剤の使用量を低減し、サスペンション用基板1の材料コストを低減することができる。また、導電性接着剤の使用量を低減することにより、導電性接着剤の印刷作業を容易にすることができる。この場合、導電性接着剤の塗布後の焼成時間を短縮することもでき、ピエゾ素子104に熱的損傷を与えることを抑制できる。   Further, according to the present embodiment, the piezoelectric element 104 can be electrically connected to the element connection terminals 45 and 46 via the conductive layers 71 and 72 including the solder layer 73 and the conductive adhesive layer 74. it can. As a result, the amount of the relatively expensive conductive adhesive can be reduced, and the material cost of the suspension substrate 1 can be reduced. Moreover, the printing work of a conductive adhesive can be made easy by reducing the usage-amount of a conductive adhesive. In this case, the baking time after application of the conductive adhesive can be shortened, and thermal damage to the piezo element 104 can be suppressed.

また、本実施の形態によれば、端子開口部11内に半田層73が形成された後、導電性接着剤層74が形成され、その後、ピエゾ素子104が収容開口部25に収容される。この場合、収容開口部25にピエゾ素子104を収容する前に、半田層73を形成するための半田材料を加熱して溶融させることができる。すなわち、半田材料を溶融させる際に、ピエゾ素子104が熱的損傷を受けることを回避できる。この結果、ピエゾ素子104の信頼性が低下することを抑制できる。なお、導電性接着剤を焼成する際に、ピエゾ素子104が加熱され得るが、導電性接着剤を焼成する際の温度は、半田を溶融する際の温度より低いため、ピエゾ素子104と素子接続端子45、46とを、導電性接着剤を用いずに半田材料によって接続する場合よりも、ピエゾ素子104が受ける熱的損傷を低減することができる。   Further, according to the present embodiment, after the solder layer 73 is formed in the terminal opening 11, the conductive adhesive layer 74 is formed, and then the piezo element 104 is accommodated in the accommodation opening 25. In this case, the solder material for forming the solder layer 73 can be heated and melted before the piezoelectric element 104 is accommodated in the accommodation opening 25. That is, when the solder material is melted, the piezo element 104 can be prevented from being thermally damaged. As a result, it is possible to suppress a decrease in the reliability of the piezo element 104. Note that the piezoelectric element 104 can be heated when firing the conductive adhesive, but the temperature at which the conductive adhesive is fired is lower than the temperature at which the solder is melted. Thermal damage to the piezo element 104 can be reduced as compared with the case where the terminals 45 and 46 are connected by a solder material without using a conductive adhesive.

さらに、本実施の形態によれば、導電性接着剤層74は、端子開口部11から収容開口部25の側に突出している。このことにより、導電性接着剤層74とピエゾ素子104の電極104a、104bとの接続面積を増大させて、電気的接続の信頼性を向上させることができる。   Furthermore, according to the present embodiment, the conductive adhesive layer 74 protrudes from the terminal opening 11 toward the accommodation opening 25. Accordingly, the connection area between the conductive adhesive layer 74 and the electrodes 104a and 104b of the piezo element 104 can be increased, and the reliability of electrical connection can be improved.

なお、上述した本実施の形態においては、導電性接着剤層74の一部が、端子開口部11内に配置されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、例えば、図8に示すように、導電性接着剤層74は、端子開口部11内に入り込まないように形成されていてもよい。すなわち、半田層73の導電性接着剤層74側の面が、絶縁層10の金属支持層20の側の面と、同一平面上に配置されていてもよい。この場合、導電性接着剤層74を形成するための導電性接着剤の使用量をより一層低減することができる。このため、材料コストをより一層低減し、導電性接着剤の印刷作業性をより一層向上させ、焼成時間をより一層短縮させることができる。ここで、同一とは、厳密に同一という意味に限られることはなく、同一とみなすことができる程度の製造誤差等を含む意味として用いている。   In the above-described embodiment, an example in which a part of the conductive adhesive layer 74 is disposed in the terminal opening 11 has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 8, the conductive adhesive layer 74 may be formed so as not to enter the terminal opening 11. That is, the surface of the solder layer 73 on the conductive adhesive layer 74 side may be arranged on the same plane as the surface of the insulating layer 10 on the metal support layer 20 side. In this case, the amount of the conductive adhesive used to form the conductive adhesive layer 74 can be further reduced. Therefore, the material cost can be further reduced, the printing workability of the conductive adhesive can be further improved, and the firing time can be further shortened. Here, the term “same” is not limited to the meaning of exactly the same, but is used as a meaning including a manufacturing error that can be regarded as the same.

また、上述した本実施の形態においては、導電性接着剤層74は、半田層73の導電性接着剤層74の側の面の全体に設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、導電性接着剤層74は、半田層73の導電性接着剤層74の側の面の一部に形成されるようにしてもよい。この場合、半田層73の当該面の一部に、導電性接着剤層74が形成され、当該面の他の部分が露出される。このことにより、導電性接着剤層74を形成するための導電性接着剤の使用量をより一層低減することができる。このため、材料コストをより一層低減し、導電性接着剤の印刷作業性をより一層向上させ、焼成時間をより一層短縮させることができる。   Moreover, in this Embodiment mentioned above, the conductive adhesive layer 74 demonstrated the example provided in the whole surface by the side of the conductive adhesive layer 74 of the solder layer 73. FIG. However, the present invention is not limited to this, and the conductive adhesive layer 74 may be formed on a part of the surface of the solder layer 73 on the conductive adhesive layer 74 side. In this case, the conductive adhesive layer 74 is formed on a part of the surface of the solder layer 73, and the other part of the surface is exposed. Thereby, the usage-amount of the conductive adhesive for forming the conductive adhesive layer 74 can be reduced further. Therefore, the material cost can be further reduced, the printing workability of the conductive adhesive can be further improved, and the firing time can be further shortened.

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明によるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and suspension substrate manufacturing method according to the present invention are not limited to the above-described embodiments. Instead, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

1 サスペンション用基板
2 ヘッド領域
10 絶縁層
11 端子開口部
20 金属支持層
25 収容開口部
40 配線層
45 第1素子接続端子
46 第2素子接続端子
71 第1導電層
72 第2導電層
73 半田層
74 導電性接着剤層
101 サスペンション
102 ベースプレート
103 ロードビーム
104 ピエゾ素子
111 ヘッド付サスペンション
112 ヘッドスライダ
121 ハードディスクドライブ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Suspension board | substrate 2 Head area | region 10 Insulating layer 11 Terminal opening part 20 Metal support layer 25 Accommodating opening part 40 Wiring layer 45 1st element connection terminal 46 2nd element connection terminal 71 1st conductive layer 72 2nd conductive layer 73 Solder layer 74 Conductive adhesive layer 101 Suspension 102 Base plate 103 Load beam 104 Piezo element 111 Suspension with head 112 Head slider 121 Hard disk drive

Claims (9)

ヘッドスライダと、前記ヘッドスライダを変位させる伸縮自在なアクチュエータ素子とが実装されるヘッド領域を有するサスペンション用基板において、
金属支持層と、
前記金属支持層上に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられ、素子接続端子を有する配線層と、を備え、
前記ヘッド領域において、前記金属支持層に、前記アクチュエータ素子を収容する収容開口部が設けられ、
前記絶縁層に、前記素子接続端子を前記収容開口部に露出させる端子開口部が設けられ、
前記端子開口部内に、前記アクチュエータ素子と前記素子接続端子とを接続する導電層が設けられ、
前記導電層は、前記素子接続端子の前記絶縁層側の面に設けられた半田層と、前記半田層の前記素子接続端子側とは反対側の面に設けられた導電性接着剤層と、を有し、
前記素子接続端子のうち前記端子開口部に露出された部分に、めっき層が設けられ、
前記導電層の前記半田層は、前記めっき層を介して前記素子接続端子に接続されていることを特徴とするサスペンション用基板。
In a suspension substrate having a head region on which a head slider and a telescopic actuator element that displaces the head slider are mounted,
A metal support layer;
An insulating layer provided on the metal support layer;
A wiring layer provided on the insulating layer and having an element connection terminal;
In the head region, the metal support layer is provided with an accommodation opening for accommodating the actuator element,
The insulating layer is provided with a terminal opening that exposes the element connection terminal to the accommodation opening,
A conductive layer that connects the actuator element and the element connection terminal is provided in the terminal opening,
The conductive layer includes a solder layer provided on the surface of the element connection terminal on the insulating layer side, and a conductive adhesive layer provided on a surface of the solder layer opposite to the element connection terminal side; Have
A plating layer is provided on a portion of the element connection terminal exposed to the terminal opening,
The suspension substrate, wherein the solder layer of the conductive layer is connected to the element connection terminal through the plating layer.
前記導電性接着剤層の一部は、前記端子開口部内に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein a part of the conductive adhesive layer is formed in the terminal opening. 前記導電性接着剤層は、前記端子開口部から前記収容開口部の側に突出していることを特徴とする請求項1または2に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein the conductive adhesive layer protrudes from the terminal opening toward the accommodation opening. 前記半田層の前記導電性接着剤層側の面は、前記絶縁層の前記金属支持層側の面と、同一平面上に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。   2. The suspension substrate according to claim 1, wherein a surface of the solder layer on the conductive adhesive layer side is disposed on the same plane as a surface of the insulating layer on the metal support layer side. . 前記導電性接着剤層は、前記半田層の当該導電性接着剤層側の面の一部に形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein the conductive adhesive layer is formed on a part of a surface of the solder layer on the conductive adhesive layer side. ベースプレートと、
前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた請求項1乃至5のいずれかに記載の前記サスペンション用基板と、
前記サスペンション用基板の前記ヘッド領域に実装された前記アクチュエータ素子と、を備えたことを特徴とするサスペンション。
A base plate;
The suspension substrate according to any one of claims 1 to 5, attached to the base plate via a load beam;
And the actuator element mounted on the head region of the suspension substrate.
請求項6に記載の前記サスペンションと、
前記サスペンション用基板の前記ヘッド領域に実装されたヘッドスライダと、を備えたことを特徴とするヘッド付サスペンション。
The suspension according to claim 6;
And a head slider mounted on the head region of the suspension substrate.
請求項7に記載の前記ヘッド付サスペンションを備えたことを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with a head according to claim 7. ヘッドスライダと、前記ヘッドスライダを変位させる伸縮自在なアクチュエータ素子とが実装されるヘッド領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、
金属支持層と、前記金属支持層上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、素子接続端子を有する配線層と、を備えた基板材料体であって、前記ヘッド領域をなす領域において、前記金属支持層に、前記アクチュエータ素子を収容する収容開口部が設けられ、前記絶縁層に、前記素子接続端子を前記収容開口部に露出させる端子開口部が設けられた、基板材料体を準備する工程と、
前記端子開口部内に、実装される前記アクチュエータ素子と前記素子接続端子とを接続する導電層を形成する工程と、を備え、
前記導電層を形成する工程は、前記素子接続端子の前記絶縁層側の面に半田層を形成する工程と、前記半田層を形成する工程の後、前記半田層の前記素子接続端子側とは反対側の面に、導電性接着剤層を形成する工程と、を有し、
前記基板材料体を準備する工程において、前記素子接続端子のうち前記端子開口部に露出された部分に、めっき層が設けられ、
前記導電層を形成する工程において、前記導電層の前記半田層は、前記めっき層を介して前記素子接続端子に接続されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
In a method for manufacturing a suspension substrate having a head region on which a head slider and a telescopic actuator element that displaces the head slider are mounted,
A substrate material body comprising a metal support layer, an insulating layer provided on the metal support layer, and a wiring layer provided on the insulating layer and having an element connection terminal, which forms the head region In the region, a substrate material body in which the metal support layer is provided with an accommodation opening for accommodating the actuator element, and the insulating layer is provided with a terminal opening for exposing the element connection terminal to the accommodation opening. The process of preparing
Forming a conductive layer in the terminal opening for connecting the actuator element to be mounted and the element connection terminal, and
The step of forming the conductive layer includes a step of forming a solder layer on the surface of the element connection terminal on the insulating layer side, and a step of forming the solder layer, and then the element connection terminal side of the solder layer. Forming a conductive adhesive layer on the opposite surface,
In the step of preparing the substrate material body, a plating layer is provided on a portion of the element connection terminal exposed to the terminal opening,
In the step of forming the conductive layer, the solder layer of the conductive layer is connected to the element connection terminal through the plating layer.
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