JP6241102B2 - Antireflection film, optical member using the same, and optical instrument - Google Patents
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Description
本発明はテレビカメラ、ビデオカメラ、デジタルカメラ、車載カメラ、顕微鏡、望遠鏡等の光学機器に搭載するレンズ、プリズム、フィルター等の光学部材に適用される反射防止膜、それを用いた光学部材、及び光学機器に関する。 The present invention relates to an antireflection film applied to optical members such as lenses, prisms, and filters mounted on optical devices such as television cameras, video cameras, digital cameras, vehicle cameras, microscopes, and telescopes, optical members using the same, and It relates to optical equipment.
写真用や放送用等に広く用いられている単焦点レンズやズームレンズは、一般的に多数枚のレンズからなる鏡筒構成を有しており、そのレンズ数は10枚程度から40枚程度にもなる。 Single focus lenses and zoom lenses that are widely used for photography, broadcasting, etc., generally have a lens barrel structure consisting of a large number of lenses, and the number of lenses is about 10 to 40. Also become.
レンズ枚数が多くなると各レンズ表面の反射光の総量が増加し、またその反射光が多重反射を繰り返して感光面に入射することでフレアやゴーストといった光学特性を著しく劣化させる弊害を発生させる原因となる。そのためこれらのレンズの表面には、レンズとは異なる屈折率をもつ誘電体膜を組み合わせ、各誘電体膜の光学膜厚を中心波長λに対して１／２λや１／４λに設定して干渉効果を利用した多層膜による反射防止処理が施されている。 When the number of lenses increases, the total amount of reflected light on the surface of each lens increases, and the reflected light repeatedly enters the photosensitive surface after multiple reflections, which causes adverse effects such as flare and ghost. Become. Therefore, a dielectric film having a refractive index different from that of the lens is combined on the surface of these lenses, and the optical film thickness of each dielectric film is set to 1 / 2λ or 1 / 4λ with respect to the center wavelength λ to interfere. An antireflection treatment using a multilayer film utilizing the effect is performed.
例えば、特開2000-111702号公報（特許文献１）は、屈折率1.6以上と屈折率1.5以下の14層膜で波長330〜710 nmにおける反射率１%以下、400〜680 nmにおける反射率0.25％以下の広帯域反射特性を有する反射防止膜を提案している。しかし、この反射防止膜は、反射防止帯域の特に可視域付近における反射率がせいぜい0.25％以下であり、近年のデジタルカメラレンズにおいて要求される可視域の反射率0.1％を満たしていない。 For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-111702 (Patent Document 1) discloses a 14-layer film having a refractive index of 1.6 or more and a refractive index of 1.5 or less, a reflectance of 1% or less at a wavelength of 330 to 710 nm, and a reflectance of 0.25 at 400 to 680 nm. An antireflection film having a broadband reflection characteristic of less than 10% is proposed. However, this antireflection film has a reflectance of 0.25% or less at most in the vicinity of the visible region of the antireflection band, and does not satisfy the reflectance of 0.1% in the visible region required in recent digital camera lenses.
特開2002-14203号公報（特許文献２）は、屈折率2.407のTiO2と屈折率1.450のSiO2による14層〜17層膜で波長400〜700 nmにおける反射率0.1％以下の超低反射率特性を有する反射防止膜を提案している。この反射防止膜は、反射防止の波長帯が、一般的に可視域とされる波長帯380〜780 nmに対して300 nm程度の幅に留まっている。しかし、人間の目にはこれらの可視域の中でも波長390〜720 nmの範囲において色みを強く感じる視覚感度を持つ。それは明所視の際に働く視細胞である錯体の分光視感効率から分かる。 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-14203 (Patent Document 2) describes an ultra-low reflection with a reflectance of 0.1% or less at a wavelength of 400 to 700 nm with 14 to 17 layers of TiO 2 having a refractive index of 2.407 and SiO 2 having a refractive index of 1.450. An antireflection film having a rate characteristic is proposed. This antireflection film has an antireflection wavelength band of about 300 nm with respect to a wavelength band of 380 to 780 nm that is generally in the visible range. However, the human eye has a visual sensitivity that strongly feels color in the visible wavelength range of 390 to 720 nm. This can be seen from the spectral luminous efficiency of the complex, which is the photoreceptor that works during photopic vision.
従って本発明の目的は、垂直に入射する光に対して、従来の反射防止域の波長帯300 nmを越える、波長390〜720 nmの可視域の範囲の広い波長帯330 nmにおける反射率が0.1％以下である反射防止膜を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is that the reflectivity in a wide wavelength band 330 nm in the visible range of
本発明の別の目的は、かかる反射防止膜を施した光学部材を提供することである。 Another object of the present invention is to provide an optical member provided with such an antireflection film.
本発明のさらに別の目的は、かかる光学部材を有する光学機器を提供することである。 Still another object of the present invention is to provide an optical apparatus having such an optical member.
上記課題に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、He光源のｄ線（波長587.56 nm）における屈折率が1.43〜2.01の光学基材の表面上に、所定の光学膜厚を有する第１層〜第14層を基材側からこの順に積層し、第１層，第３層，第５層，第７層，第９層，第11層及び第13層をd線における屈折率が2.201〜2.7の高屈折率材料により形成された高屈折率層とし、第２層，第４層，第６層，第８層，第10層及び第12層をd線における屈折率が1.501〜1.7の中間屈折率材料により形成された中間屈折率層とし、第14層をd線における屈折率が1.37〜1.44の低屈折率材料により形成された低屈折率層とすることにより、垂直に入射する光に対して波長390〜720 nmの波長帯330 nmにおける反射率が0.1％以下である反射防止膜が得られることを発見し、本発明に想到した。 As a result of diligent research in view of the above problems, the present inventor has found that the first layer having a predetermined optical film thickness on the surface of an optical substrate having a refractive index of 1.43 to 2.01 at the d-line (wavelength 587.56 nm) of the He light source. The 14th layer is laminated in this order from the substrate side, and the first layer, the 3rd layer, the 5th layer, the 7th layer, the 9th layer, the 11th layer, and the 13th layer have a refractive index at d-line of 2.201 A high refractive index layer formed of a high refractive index material of 2.7, and the second layer, the fourth layer, the sixth layer, the eighth layer, the tenth layer, and the twelfth layer have a refractive index in the d-line of 1.501 to 1.7. By using an intermediate refractive index layer formed of an intermediate refractive index material and the 14th layer as a low refractive index layer formed of a low refractive index material having a refractive index of 1.37 to 1.44 at the d-line, light incident vertically On the other hand, the inventors have found that an antireflection film having a reflectance of 0.1% or less in a wavelength band of 330 nm from 390 to 720 nm can be obtained, and have arrived at the present invention.
即ち、本発明の反射防止膜、光学部材及び光学機器は以下の特徴を有している。
[1] He光源のd線（波長587.56 nm）における屈折率が1.43以上2.01以下の光学基材の表面上に、第１層〜第14層を前記基材側からこの順に積層してなる反射防止膜であって、
前記第１層，前記第３層，前記第５層，前記第７層，前記第９層，前記第11層及び第13層は前記d線における屈折率が2.201以上2.7以下の高屈折率材料により形成された高屈折率層からなり、
前記第２層，前記第４層，前記第６層，前記第８層，前記第10層及び前記第12層は前記d線における屈折率が1.501以上1.7以下の中間屈折率材料により形成された中間屈折率層であり、
前記第14層は前記d線における屈折率が1.37以上1.44以下の低屈折率材料により形成された低屈折率層であり、
前記第１層の光学膜厚が５nm以上45 nm以下であり、
前記第２層の光学膜厚が15 nm以上125 nm以下であり、
前記第３層の光学膜厚が40 nm以上130 nm以下であり、
前記第４層の光学膜厚が１nm以上45 nm以下であり、
前記第５層の光学膜厚が135 nm以上175 nm以下であり、
前記第６層の光学膜厚が20 nm以上50 nm以下であり、
前記第７層の光学膜厚が30 nm以上65 nm以下であり、
前記第８層の光学膜厚が155 nm以上180 nm以下であり、
前記第９層の光学膜厚が10 nm以上35 nm以下であり、
前記第10層の光学膜厚が45 nm以上75 nm以下であり、
前記第11層の光学膜厚が147 nm以上170 nm以下であり、
前記第12層の光学膜厚が５nm以上28 nm以下であり、
前記第13層の光学膜厚が55 nm以上85 nm以下であり、
前記第14層の光学膜厚が120 nm以上145 nm以下であることを特徴とする反射防止膜。
[2] 上記[1] に記載の反射防止膜において、前記光学基材は光学ガラス、樹脂材料又は光学結晶からなることを特徴とした反射防止膜。
[3] 上記[1] 又は[2] に記載の反射防止膜において、
前記高屈折率材料はTiO2又はNb2O5の単体又はTiO2とNb2O5の混合材料であり、
前記中間屈折率材料はAl2O3の単体，SiO2とTiO2の混合材料，SiO2とNb2O5の混合材料，Al2O3とTiO2の混合材料又はAl2O3とNb2O5の混合材料であり、
前記低屈折率材料はMgF2の単体であることを特徴とした反射防止膜。
[4] 上記[1] 〜[3] のいずれかに記載の反射防止膜を施したことを特徴とする光学部材。
[5] 上記[4] に記載の光学部材を有することを特徴とする光学機器。
That is, the antireflection film, the optical member, and the optical apparatus of the present invention have the following characteristics.
[1] Reflection formed by laminating
The first layer, the third layer, the fifth layer, the seventh layer, the ninth layer, the eleventh layer, and the thirteenth layer have a high refractive index material having a refractive index of 2.201 or more and 2.7 or less at the d-line. Consisting of a high refractive index layer formed by
The second layer, the fourth layer, the sixth layer, the eighth layer, the tenth layer, and the twelfth layer are formed of an intermediate refractive index material having a refractive index of 1.501 to 1.7 in the d-line. An intermediate refractive index layer,
The fourteenth layer is a low refractive index layer formed of a low refractive index material having a refractive index in the d line of 1.37 or more and 1.44 or less,
The optical thickness of the first layer is 5 nm or more and 45 nm or less,
The optical thickness of the second layer is 15 nm or more and 125 nm or less,
The optical thickness of the third layer is 40 nm or more and 130 nm or less,
The optical thickness of the fourth layer is from 1 nm to 45 nm,
The optical thickness of the fifth layer is from 135 nm to 175 nm,
The optical thickness of the sixth layer is 20 nm or more and 50 nm or less,
The optical thickness of the seventh layer is 30 nm or more and 65 nm or less,
The optical thickness of the eighth layer is 155 nm or more and 180 nm or less,
The optical thickness of the ninth layer is 10 nm or more and 35 nm or less,
The optical thickness of the tenth layer is 45 nm or more and 75 nm or less,
The optical thickness of the eleventh layer is 147 nm or more and 170 nm or less,
The optical thickness of the twelfth layer is 5 nm or more and 28 nm or less,
The optical thickness of the thirteenth layer is 55 nm or more and 85 nm or less,
An antireflection film, wherein the optical thickness of the 14th layer is 120 nm or more and 145 nm or less.
[2] The antireflection film as described in [1] above, wherein the optical substrate is made of optical glass, a resin material, or an optical crystal.
[3] In the antireflection film according to [1] or [2] above,
The high refractive index material is a simple substance of TiO 2 or Nb 2 O 5 or a mixed material of TiO 2 and Nb 2 O 5 ,
The intermediate refractive index material is a simple substance of Al 2 O 3 , a mixed material of SiO 2 and TiO 2, a mixed material of SiO 2 and Nb 2 O 5, a mixed material of Al 2 O 3 and TiO 2 , or Al 2 O 3 and Nb. 2 O 5 mixed material,
The antireflective film, wherein the low refractive index material is MgF 2 alone.
[4] An optical member comprising the antireflection film according to any one of [1] to [3].
[5] An optical apparatus comprising the optical member according to [4].
本発明によれば、垂直に入射する光に対して、従来の反射防止域の波長帯300 nmを越える、波長390〜720 nmの可視域の範囲の広い波長帯330 nmにおける反射率が0.1％以下である反射防止膜、それを用いたフレアやゴースト等の光学特性を著しく劣化させる弊害を発生しない高性能な光学部材、及びそれを有する光学機器が得られる。 According to the present invention, with respect to vertically incident light, the reflectance in a wide wavelength band of 330 nm that exceeds the wavelength band of 300 nm of the conventional antireflection area and in the visible wavelength range of 390 to 720 nm is 0.1%. The following antireflection film, a high-performance optical member that does not cause adverse effects such as flare and ghost using the same, and an optical apparatus having the same are obtained.
図１は本発明の一実施例による基材10の表面上に基材10から順に第１層21〜第14層34を積層してなる反射防止膜20を示す図である。
FIG. 1 is a view showing an
図１に示す基材10は平板であるが、本発明はこれに限らず、レンズ、プリズム、ライトガイド、フィルム又は回折素子でも良い。基材10は、波長587.56 nmのHe光源のｄ線（以下、単に「ｄ線」とする。）に対して屈折率が1.43〜2.01であるものが好適に用いられる。基材10の材料は、ガラス、結晶性材料、樹脂材料（プラスチック等）等の透明材料を用いても良い。具体的には、FK03、FK5、BK7、SK20、SK14、LAK7、LAK10、LASF016、LASF04 SFL03、LASF08、NPH2、TAFD4、S-FPL53（登録商標）、S-PSL5（登録商標）、S-BSL7（登録商標）、S-BAL50（登録商標）、S-BSM14（登録商標）、S-LAL7（登録商標）、S-LAL10（登録商標）等の光学ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英、青板ガラス、白板ガラス、ルミセラ（登録商標）、ゼロデュア（登録商標）、蛍石、サファイア、アクリル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アペル（登録商標）、ゼオネクス（登録商標）、アートン（登録商標）等が挙げられる。
The
反射防止膜20の奇数層（第１層21，第３層23，第５層25，第７層27，第９層29，第11層31，第13層33）はｄ線に対して2.201以上2.7以下の屈折率を示す高屈折率材料により形成された高屈折率層であり、第14層34を除く偶数層（第２層22，第４層24，第６層26，第８層28，第10層30，第12層32）はｄ線に対して1.501以上1.7以下の屈折率を示す中間屈折率材料により形成された中間屈折率層であり、第14層34はｄ線に対して1.37以上1.44以下の屈折率を示す低屈折率材料により形成された低屈折率層である。
The odd-numbered layers (
本発明の反射防止膜としての特性に影響を与えない範囲であれば反射防止膜20にさらに膜を追加しても良い。例えば、反射防止膜の特性に影響を与えない範囲であれば、高屈折率層、中間屈折率層及び低屈折率層の間に屈折率の異なる薄い膜を挿入しても良い。また、高屈折率層、中間屈折率層及び低屈折率層と同じ光学特性が得られるのであれば、高屈折率層、中間屈折率層及び低屈折率層のうち少なくとも１層を複数の膜で置き換えても良い。
A film may be further added to the
基材10の表面上に上記層構成を有する反射防止膜20を形成することにより、可視域の長波長側の波長域を含む広い波長帯に亘って反射率を十分に低減することができる。具体的には、基材10の表面に対して垂直に入射する光に対して波長390〜720 nmの波長帯330 nmにおける反射率を0.1％以下に抑えることができる。
By forming the
高屈折率層の屈折率は2.201〜2.500であるのが好ましく、中間屈折率層の屈折率は1.501〜1.690であるのが好ましく、低屈折率層の屈折率は1.370〜1.430であるのが好ましい。これにより、波長390〜720 nmの波長帯330 nmに亘って反射率をより抑えることができる。 The refractive index of the high refractive index layer is preferably 2.201 to 2.500, the refractive index of the intermediate refractive index layer is preferably 1.501 to 1.690, and the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.370 to 1.430. . Thereby, a reflectance can be suppressed more over the wavelength band 330 nm of wavelengths 390-720 nm.
高屈折率材料としては、TiO2又はNb2O5の単体又はTiO2とNb2O5の混合材料を用いることができる。中間屈折率材料としては、Al2O3の単体，SiO2とTiO2の混合材料，SiO2とNb2O5の混合材料，Al2O3とTiO2の混合材料又はAl2O3とNb2O5の混合材料を用いることができる。低屈折率材料としては、MgF2の単体を用いることができる。 As the high refractive index material, a simple substance of TiO 2 or Nb 2 O 5 or a mixed material of TiO 2 and Nb 2 O 5 can be used. As the intermediate refractive index material, Al 2 O 3 alone, mixed material of SiO 2 and TiO 2 , mixed material of SiO 2 and Nb 2 O 5 , mixed material of Al 2 O 3 and TiO 2 or Al 2 O 3 and A mixed material of Nb 2 O 5 can be used. As the low refractive index material, a simple substance of MgF 2 can be used.
なお高屈折率材料、中間屈折率材料及び低屈折率材料は上記のものに限定されず、高屈折率層、中間屈折率層及び低屈折率層の所望の屈折率が得られるものであれば、適宜用いることができる。 The high refractive index material, the intermediate refractive index material, and the low refractive index material are not limited to those described above, as long as the desired refractive indexes of the high refractive index layer, the intermediate refractive index layer, and the low refractive index layer can be obtained. Can be used as appropriate.
第１層21の光学膜厚［屈折率(n)×物理膜厚(d)］は５nm以上45 nm以下であり、第２層22の光学膜厚は15 nm以上125 nm以下であり、第３層23の光学膜厚は40 nm以上130 nm以下であり、第４層24の光学膜厚は１nm以上45 nm以下であり、第５層25の光学膜厚は135 nm以上175 nm以下であり、第６層26の光学膜厚は20 nm以上50 nm以下であり、第７層27の光学膜厚は30 nm以上65 nm以下であり、第８層28の光学膜厚は155 nm以上180 nm以下であり、第９層29の光学膜厚は10 nm以上35 nm以下であり、第10層30の光学膜厚は45 nm以上75 nm以下であり、第11層31の光学膜厚は147 nm以上170 nm以下であり、第12層32の光学膜厚は５nm以上28 nm以下であり、第13層33の光学膜厚は55 nm以上85 nm以下であり、第14層34の光学膜厚は120 nm以上145 nm以下である。第１層21〜第14層34の光学膜厚は、基材10及び反射防止膜20の各層21〜34の屈折率に応じてコンピュータを用いて最適値として求めた値である。
The optical thickness of the first layer 21 [refractive index (n) × physical thickness (d)] is 5 nm to 45 nm, the optical thickness of the
第１層21〜第14層34はスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等の物理蒸着法により形成するのが好ましい。特に第１層〜第６層をスパッタリング法又はイオンプレーティング法により形成し、第７層を加工精度の良い真空蒸着法により形成するのが好ましい。それにより屈折率が安定した反射防止膜20を効率良く形成することができる。
The
本発明の反射防止膜を施した光学部材は、優れた屈折率特性を有し、テレビカメラ、ビデオカメラ、デジタルカメラ、車載カメラ、顕微鏡、望遠鏡等の光学機器に搭載するレンズ、プリズム、フィルター等に好適に用いることができる。 The optical member provided with the antireflection film of the present invention has excellent refractive index characteristics, and is mounted on an optical device such as a TV camera, a video camera, a digital camera, an in-vehicle camera, a microscope, a telescope, a lens, a prism, a filter, and the like. Can be suitably used.
以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
実施例１〜７
図１に示す基材10及び反射防止膜20を用いて分光反射率のシミュレーションを行った。図２〜８の表(A) は、実施例１〜７の基材10としてそれぞれ光学ガラスS-FPL53（株式会社オハラ製、nd=1.4388）、S-BSL7（株式会社オハラ製、nd=1.5163）、S-BSM15（株式会社オハラ製、nd=1.6230）、S-LAL10（株式会社オハラ製、nd=1.72000）、S-LAH54（株式会社オハラ製、nd=1.8155）、S-NPH2（株式会社オハラ製、nd=1.9229）、TAFD40（HOYA株式会社製、nd=2.0007）を使用したときの反射防止膜20の各層21〜34の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。
Examples 1-7
Spectral reflectance was simulated using the
高屈折率層21，23，25，27，29，31及び33は、高屈折率材料としてｄ線に対して屈折率2.312を示すNb2O5を使用し、スパッタリング法により形成したものとする。中間屈折率層22，24，26，28，30及び32は、中間屈折率材料としてｄ線に対して屈折率1.501を示すNb2O5とSiO2の混合材料を使用し、スパッタリング法により形成したものとする。低屈折率層34は、低屈折率材料としてｄ線に対して屈折率1.388を示すMgF2使用し、真空蒸着法により形成したものとする。
The high refractive index layers 21, 23, 25, 27, 29, 31 and 33 are formed by sputtering using Nb 2 O 5 having a refractive index of 2.312 with respect to the d-line as a high refractive index material. . The intermediate refractive index layers 22, 24, 26, 28, 30 and 32 are formed by a sputtering method using a mixed material of Nb 2 O 5 and SiO 2 having a refractive index of 1.501 with respect to the d-line as an intermediate refractive index material. Shall be. The low
各実施例１〜７の反射防止膜20の表面に対して垂直に入射する光（0°入射光）に対する分光反射率をシミュレーションにより求めた。その際、基材10及び反射防止膜20の各層21〜34の屈折率分散を考慮した。反射防止膜20に用いる材料の屈折率分散を図18に示す。また基材10の反射防止膜20が形成されていない面での反射はないものとした。得られた計算結果を図２〜８のグラフ(B) に示す。
Spectral reflectance with respect to light (0 ° incident light) incident perpendicularly to the surface of the
実施例８〜14
図９〜15の表(A) に示すように、高屈折率材料をTiO2とし、中間屈折率材料をAl2O3とした以外は実施例１〜７と同様の条件で反射防止膜20の各層21〜34の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。各実施例８〜14の反射防止膜20の表面に対して垂直に入射する光（0°入射光）に対する分光反射率を実施例１〜７と同様にシミュレーションにより求めた。得られた計算結果を図９〜15のグラフ(B) に示す。
Examples 8-14
As shown in Tables (A) of FIGS. 9 to 15, the
比較例１
特許文献１の実施態様４を参照し、S-BSL7からなる基材に第１層〜第14層からなる反射防止膜を真空蒸着法により形成したときの各層の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。その際、Ta2O5の屈折率を2.233とし、SiO2の屈折率を1.487とし、MgF2の屈折率を1.388とした。得られた結果を図16の表(A) に示す。この反射防止膜の表面に対して垂直に入射する光（0°入射光）に対する分光反射率を実施例１〜14と同様にシミュレーションにより求めた。得られた計算結果を図16のグラフ(B) に示す。
Comparative Example 1
Referring to Embodiment 4 of
比較例２
特許文献２の実施態様３を参照し、S-BSL7からなる基材に第１層〜第14層からなる反射防止膜を真空蒸着法により形成したときの各層の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。その際、Ta2O5の屈折率を2.233とし、TiO2の屈折率を2.455とし、SiO2の屈折率を1.450とした。得られた結果を図17の表(A) に示す。この反射防止膜の表面に対して垂直に入射する光（0°入射光）に対する分光反射率を実施例１〜14と同様にシミュレーションにより求めた。得られた計算結果を図17のグラフ(B) に示す。
Comparative Example 2
Referring to
図2(B)〜図15(B) から分かるように、本発明の反射防止膜の分光反射率の計算結果は、波長390〜720 nm（波長幅330 nm）において0.1%以下の反射率を達成した。一方、比較例１及び２の反射防止膜の分光反射率の計算結果は、図16(B) 及び17(B) に示すように、波長390〜720 nmにおいて目標である0.1%以下の反射率を達成できなかった。 As can be seen from FIG. 2 (B) to FIG. 15 (B), the calculation result of the spectral reflectance of the antireflection film of the present invention shows a reflectance of 0.1% or less at a wavelength of 390 to 720 nm (wavelength width of 330 nm). Achieved. On the other hand, as shown in FIGS. 16 (B) and 17 (B), the calculation result of the spectral reflectance of the antireflection film of Comparative Examples 1 and 2 is a reflectance of 0.1% or less, which is a target at wavelengths of 390 to 720 nm. Could not be achieved.
１０・・・基材
２０・・・反射防止膜
10 ...
Claims (5)
前記第１層，前記第３層，前記第５層，前記第７層，前記第９層，前記第11層及び第13層は前記d線における屈折率が2.201以上2.7以下の高屈折率材料により形成された高屈折率層からなり、
前記第２層，前記第４層，前記第６層，前記第８層，前記第10層及び前記第12層は前記d線における屈折率が1.501以上1.7以下の中間屈折率材料により形成された中間屈折率層であり、
前記第14層は前記d線における屈折率が1.37以上1.44以下の低屈折率材料により形成された低屈折率層であり、
前記第１層の光学膜厚が５nm以上45 nm以下であり、
前記第２層の光学膜厚が15 nm以上125 nm以下であり、
前記第３層の光学膜厚が40 nm以上130 nm以下であり、
前記第４層の光学膜厚が１nm以上45 nm以下であり、
前記第５層の光学膜厚が135 nm以上175 nm以下であり、
前記第６層の光学膜厚が20 nm以上50 nm以下であり、
前記第７層の光学膜厚が30 nm以上65 nm以下であり、
前記第８層の光学膜厚が155 nm以上180 nm以下であり、
前記第９層の光学膜厚が10 nm以上35 nm以下であり、
前記第10層の光学膜厚が45 nm以上75 nm以下であり、
前記第11層の光学膜厚が147 nm以上170 nm以下であり、
前記第12層の光学膜厚が５nm以上28 nm以下であり、
前記第13層の光学膜厚が55 nm以上85 nm以下であり、
前記第14層の光学膜厚が120 nm以上145 nm以下であることを特徴とする反射防止膜。 An antireflection film in which the first layer to the 14th layer are laminated in this order from the substrate side on the surface of the optical substrate having a refractive index of 1.43 or more and 2.01 or less at the d line (wavelength 587.56 nm) of the He light source. There,
The first layer, the third layer, the fifth layer, the seventh layer, the ninth layer, the eleventh layer, and the thirteenth layer have a high refractive index material having a refractive index of 2.201 or more and 2.7 or less at the d-line. Consisting of a high refractive index layer formed by
The second layer, the fourth layer, the sixth layer, the eighth layer, the tenth layer, and the twelfth layer are formed of an intermediate refractive index material having a refractive index of 1.501 to 1.7 in the d-line. An intermediate refractive index layer,
The fourteenth layer is a low refractive index layer formed of a low refractive index material having a refractive index in the d line of 1.37 or more and 1.44 or less,
The optical thickness of the first layer is 5 nm or more and 45 nm or less,
The optical thickness of the second layer is 15 nm or more and 125 nm or less,
The optical thickness of the third layer is 40 nm or more and 130 nm or less,
The optical thickness of the fourth layer is from 1 nm to 45 nm,
The optical thickness of the fifth layer is from 135 nm to 175 nm,
The optical thickness of the sixth layer is 20 nm or more and 50 nm or less,
The optical thickness of the seventh layer is 30 nm or more and 65 nm or less,
The optical thickness of the eighth layer is 155 nm or more and 180 nm or less,
The optical thickness of the ninth layer is 10 nm or more and 35 nm or less,
The optical thickness of the tenth layer is 45 nm or more and 75 nm or less,
The optical thickness of the eleventh layer is 147 nm or more and 170 nm or less,
The optical thickness of the twelfth layer is 5 nm or more and 28 nm or less,
The optical thickness of the thirteenth layer is 55 nm or more and 85 nm or less,
An antireflection film, wherein the optical thickness of the 14th layer is 120 nm or more and 145 nm or less.
前記高屈折率材料はTiO2又はNb2O5の単体又はTiO2とNb2O5の混合材料であり、
前記中間屈折率材料はAl2O3の単体，SiO2とTiO2の混合材料，SiO2とNb2O5の混合材料，Al2O3とTiO2の混合材料又はAl2O3とNb2O5の混合材料であり、
前記低屈折率材料はMgF2の単体であることを特徴とした反射防止膜。 The antireflection film according to claim 1 or 2,
The high refractive index material is a simple substance of TiO 2 or Nb 2 O 5 or a mixed material of TiO 2 and Nb 2 O 5 ,
The intermediate refractive index material is a simple substance of Al 2 O 3 , a mixed material of SiO 2 and TiO 2, a mixed material of SiO 2 and Nb 2 O 5, a mixed material of Al 2 O 3 and TiO 2 , or Al 2 O 3 and Nb. 2 O 5 mixed material,
The antireflective film, wherein the low refractive index material is MgF 2 alone.
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