JP6223906B2 - Treatment liquid exchange method and liquid treatment apparatus - Google Patents
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Description
開示の実施形態は、処理液交換方法および液処理装置に関する。 Embodiments disclosed herein relate to a processing liquid replacement method and a liquid processing apparatus.
半導体装置の製造においては、半導体ウェハ等の基板に対し、たとえばフッ酸などの処理液を用いた液処理が行われる。このような液処理を行う液処理装置には、液処理装置に組み込まれた各処理ユニットに処理液を供給する処理液循環システムが設けられる。 In manufacturing a semiconductor device, a liquid process using a process liquid such as hydrofluoric acid is performed on a substrate such as a semiconductor wafer. A liquid processing apparatus that performs such liquid processing is provided with a processing liquid circulation system that supplies a processing liquid to each processing unit incorporated in the liquid processing apparatus.
処理液循環システムは、処理液を貯留するタンクと、タンクに接続された循環ラインを備える。循環ラインにはポンプが設けられ、ポンプによりタンクから処理液が送り出され、再びタンクに戻される。循環ラインの途中には、複数台の処理ユニットが各々の分岐ラインを介して並列に接続される。各処理ユニットは、タンクから循環ラインおよび分岐ラインを介して供給される処理液を用いて基板に所定の液処理を施す。 The processing liquid circulation system includes a tank for storing the processing liquid and a circulation line connected to the tank. A pump is provided in the circulation line, and the processing liquid is sent out from the tank by the pump and returned to the tank again. In the middle of the circulation line, a plurality of processing units are connected in parallel via each branch line. Each processing unit performs predetermined liquid processing on the substrate using processing liquid supplied from a tank via a circulation line and a branch line.
また、液処理装置は、各処理ユニットにおいて使用された処理液を回収して再利用する場合がある。回収した処理液には、異物が混在しているおそれがある。このため、処理液循環システムの循環ラインには、処理液に含まれる異物を除去するフィルタが設けられる。 Further, the liquid processing apparatus sometimes collects and reuses the processing liquid used in each processing unit. There is a possibility that foreign substances are mixed in the collected processing liquid. For this reason, the circulation line of the treatment liquid circulation system is provided with a filter for removing foreign substances contained in the treatment liquid.
かかる液処理装置では、タンクに貯留された処理液を新しい処理液に交換する処理が、たとえば定期的に実施される。また、この処理の実施に際し、フィルタに付着した異物を取り除くためにフィルタを洗浄する処理も併せて実施される。 In such a liquid processing apparatus, for example, processing for exchanging the processing liquid stored in the tank with a new processing liquid is periodically performed. In addition, when this process is performed, a process for cleaning the filter is also performed in order to remove foreign matters attached to the filter.
たとえば、特許文献1には、上記処理液循環システムにおける処理液交換方法が開示されている。具体的には、タンクから古い処理液を全て排出した後、処理液と異なる洗浄液をタンクに貯留し、タンク内の洗浄液をポンプを用いて循環させることにより、フィルタを含む処理液循環システム全体を洗浄液で洗浄する。その後、タンク内の洗浄液を全て排出し、タンクに処理液を貯留した後、処理液を循環させて処理液循環システム全体を処理液でとも洗いする。そして、とも洗いに用いた処理液を全て排出した後、新しい処理液をタンクに貯留する。 For example, Patent Document 1 discloses a processing liquid replacement method in the processing liquid circulation system. Specifically, after all of the old processing liquid is discharged from the tank, a cleaning liquid different from the processing liquid is stored in the tank, and the cleaning liquid in the tank is circulated using a pump, so that the entire processing liquid circulation system including the filter is obtained. Wash with cleaning solution. Thereafter, all the cleaning liquid in the tank is discharged and the processing liquid is stored in the tank, and then the processing liquid is circulated to wash the entire processing liquid circulation system with the processing liquid. Then, after all the processing liquid used for washing is discharged, a new processing liquid is stored in the tank.
しかしながら、上述した従来技術には、処理液の交換に要する時間を短縮するという点でさらなる改善の余地がある。 However, the above-described conventional technology has room for further improvement in terms of shortening the time required for replacing the treatment liquid.
実施形態の一態様は、処理液の交換に要する時間を短縮することのできる処理液交換方法および液処理装置を提供することを目的とする。 An object of one embodiment of the present invention is to provide a processing liquid replacement method and a liquid processing apparatus that can reduce the time required for replacement of a processing liquid.
実施形態の一態様に係る処理液交換方法は、処理液を貯留するタンクと、タンクから送られる処理液をタンクへ戻す循環ラインと、分岐ラインを介して循環ラインに接続され、循環ラインから分岐ラインを介して供給される処理液を用いて基板を処理する処理部と、循環ラインに設けられ、循環ラインを流れる処理液から異物を除去するフィルタとを備える液処理装置における処理液交換方法であって、排出工程と、貯留工程と、フィルタ洗浄工程と、置換工程とを含む。排出工程は、タンクに貯留された処理液をタンクから排出する。貯留工程は、排出工程後、タンクに処理液を貯留する。フィルタ洗浄工程は、循環ラインにおけるフィルタの上流側および下流側をそれぞれ遮断した後、循環ラインの遮断された区間に洗浄液を供給してフィルタを洗浄する。置換工程は、フィルタ洗浄工程後、遮断された区間に処理液を供給して残存する洗浄液を処理液に置換する。また、貯留工程は、フィルタ洗浄工程と並行して行われるとともに、フィルタ洗浄工程後、置換工程と並行して行われる。フィルタ洗浄工程は、貯留工程において、タンクに対して処理液を予め決められた最大液位よりも低い所定の液位まで貯留した場合に、遮断された区間への洗浄液の供給を停止する。置換工程は、遮断された区間への洗浄液の供給を停止した後、遮断された区間におけるフィルタの上流側を開放することによって、タンクに貯留された処理液を循環ラインに供給して残存する洗浄液を処理液に置換する。 A treatment liquid replacement method according to an aspect of an embodiment includes a tank that stores a treatment liquid, a circulation line that returns the treatment liquid sent from the tank to the tank, and a branch line that is connected to the circulation line and branches from the circulation line. A processing liquid replacement method in a liquid processing apparatus comprising: a processing unit that processes a substrate using a processing liquid supplied via a line; and a filter that is provided in the circulation line and removes foreign substances from the processing liquid flowing in the circulation line. Thus, a discharge process, a storage process, a filter cleaning process, and a replacement process are included. In the discharging step, the processing liquid stored in the tank is discharged from the tank. In the storage step, the treatment liquid is stored in the tank after the discharge step. In the filter cleaning step, the upstream side and the downstream side of the filter in the circulation line are blocked, and then the cleaning liquid is supplied to the section where the circulation line is blocked to clean the filter. In the replacement step, after the filter cleaning step, the processing liquid is supplied to the blocked section and the remaining cleaning liquid is replaced with the processing liquid. In addition, the storage process is performed in parallel with the filter cleaning process, and is performed in parallel with the replacement process after the filter cleaning process. The filter cleaning process stops the supply of the cleaning liquid to the blocked section when the processing liquid is stored in the storage process up to a predetermined liquid level lower than the predetermined maximum liquid level. In the replacement step, after stopping the supply of the cleaning liquid to the blocked section, the cleaning liquid remaining by supplying the processing liquid stored in the tank to the circulation line by opening the upstream side of the filter in the blocked section Is replaced with a treatment solution.
実施形態の一態様によれば、処理液の交換に要する時間を短縮することができる。 According to one aspect of the embodiment, the time required for replacing the treatment liquid can be shortened.
以下、添付図面を参照して、本願の開示する処理液交換方法および液処理装置の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of a treatment liquid replacement method and a liquid treatment apparatus disclosed in the present application will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, this invention is not limited by embodiment shown below.
図1は、本実施形態に係る液処理装置の概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸、Y軸およびZ軸を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。 FIG. 1 is a diagram illustrating a schematic configuration of a liquid processing apparatus according to the present embodiment. In the following, in order to clarify the positional relationship, the X axis, the Y axis, and the Z axis that are orthogonal to each other are defined, and the positive direction of the Z axis is the vertically upward direction.
図1に示すように、液処理装置1は、搬入出ステーション2と、処理ステーション3とを備える。搬入出ステーション2と処理ステーション3とは隣接して設けられる。
As shown in FIG. 1, the liquid processing apparatus 1 includes a carry-in /
搬入出ステーション2は、キャリア載置部11と、搬送部12とを備える。キャリア載置部11には、複数枚の基板、本実施形態では半導体ウェハ(以下ウェハW)を水平状態で収容する複数のキャリアCが載置される。
The carry-in /
搬送部12は、キャリア載置部11に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置13と、受渡部14とを備える。基板搬送装置13は、ウェハWを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置13は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いてキャリアCと受渡部14との間でウェハWの搬送を行う。
The
処理ステーション3は、搬送部12に隣接して設けられる。処理ステーション3は、搬送部15と、複数の処理ユニット16とを備える。複数の処理ユニット16は、搬送部15の両側に並べて設けられる。
The
搬送部15は、内部に基板搬送装置17を備える。基板搬送装置17は、ウェハWを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置17は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いて受渡部14と処理ユニット16との間でウェハWの搬送を行う。
The
処理ユニット16は、基板搬送装置17によって搬送されるウェハWに対して処理液を用いた液処理を行う。
The
また、液処理装置1は、制御装置4を備える。制御装置4は、たとえばコンピュータであり、制御部18と記憶部19とを備える。記憶部19には、液処理装置1において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部18は、記憶部19に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって液処理装置1の動作を制御する。
In addition, the liquid processing apparatus 1 includes a control device 4. The control device 4 is a computer, for example, and includes a
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置4の記憶部19にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルディスク(MO)、メモリカードなどがある。
Such a program may be recorded on a computer-readable storage medium, and may be installed in the
上記のように構成された液処理装置1では、まず、搬入出ステーション2の基板搬送装置13が、キャリア載置部11に載置されたキャリアCからウェハWを取り出し、取り出したウェハWを受渡部14に載置する。受渡部14に載置されたウェハWは、処理ステーション3の基板搬送装置17によって受渡部14から取り出されて、処理ユニット16へ搬入される。
In the liquid processing apparatus 1 configured as described above, first, the
処理ユニット16へ搬入されたウェハWは、処理ユニット16によって処理液による液処理が施された後、基板搬送装置17によって処理ユニット16から搬出されて、受渡部14に載置される。そして、受渡部14に載置された処理済のウェハWは、基板搬送装置13によってキャリア載置部11のキャリアCへ戻される。
The wafer W carried into the
液処理装置1は、処理ユニット16に対して処理液を供給する処理流体供給源をさらに備える。かかる処理流体供給源の構成について図2を参照して説明する。図2は、処理流体供給源の構成を示す図である。
The liquid processing apparatus 1 further includes a processing fluid supply source that supplies a processing liquid to the
図2に示すように、液処理装置は、基板に対して液処理を行う複数の処理ユニット(液処理ユニット)16と、処理ユニット16に処理液を供給する処理流体供給源70を有している。
As shown in FIG. 2, the liquid processing apparatus includes a plurality of processing units (liquid processing units) 16 that perform liquid processing on the substrate, and a processing
処理流体供給源70は、処理液を貯留するタンク102と、タンク102から出てタンク102に戻る循環ライン104とを有している。循環ライン104にはポンプ106が設けられている。ポンプ106は、タンク102から出て循環ライン104を通りタンク102に戻る循環流を形成する。ポンプ106の下流側において循環ライン104には、処理液に含まれるパーティクル等の汚染物質を除去するフィルタ108が設けられている。必要に応じて、循環ライン104に補機類(例えばヒータ等)をさらに設けてもよい。
The processing
循環ライン104に設定された接続領域110に、1つまたは複数の分岐ライン112が接続されている。各分岐ライン112は、循環ライン104を流れる処理液を対応する処理ユニット16に供給する。各分岐ライン112には、必要に応じて、流量制御弁等の流量調整機構、フィルタ等を設けることができる。
One or
液処理装置は、タンク102に、処理液または処理液構成成分を補充するタンク液補充部116を有している。タンク102には、タンク102内の処理液を廃棄するためのドレン部118が設けられている。
The liquid processing apparatus includes a tank
つづいて、処理流体供給源70の具体的な構成について図3を参照して説明する。図3は、処理流体供給源70の具体的な構成の一例を示す図である。
Next, a specific configuration of the processing
なお、本実施形態では、処理液として有機系の薬液が用いられるものとするが、処理液は、たとえばSC1(アンモニア、過酸化水素および水の混合液)、SC2(塩酸、過酸化水素および水の混合液)、フッ酸等であってもよい。 In this embodiment, an organic chemical solution is used as the treatment liquid. Examples of the treatment liquid include SC1 (mixed liquid of ammonia, hydrogen peroxide and water) and SC2 (hydrochloric acid, hydrogen peroxide and water). Or a hydrofluoric acid or the like.
図3に示すように、循環ライン104には、フィルタ108の下流側にヒータ109が設けられる。ヒータ109は、循環ライン104を流れる処理液を加熱する。
As shown in FIG. 3, the
また、循環ライン104には、フィルタ108の上流側かつポンプ106の下流側に第1バルブ301が配置され、フィルタ108の下流側かつヒータ109の上流側に第2バルブ302が配置される。
In the
本実施形態に係る液処理装置1では、これら第1バルブ301および第2バルブ302を閉じることにより、フィルタ108を含む第1バルブ301から第2バルブ302までの区間を遮断することができる。
In the liquid processing apparatus 1 according to the present embodiment, the section from the
また、第1バルブ301から第2バルブ302までの区間のうち、フィルタ108の上流側には第1ドレンライン201が設けられ、下流側には第2ドレンライン202が設けられる。第1ドレンライン201には第3バルブ303が設けられ、第2ドレンライン202には第4バルブ304が設けられる。
In the section from the
また、第1ドレンライン201の第3バルブ303よりも上流側の中途部には、洗浄液としてのDIWを循環ライン104へ供給するための第1供給ライン203が設けられる。第1供給ライン203には、第5バルブ305が設けられる。
A
洗浄液としてのDIWは、たとえば常温(20℃程度)の純水である。なお、洗浄力を高めるために、所定の温度に加熱したDIWを用いてもよい。また、DIWに限らず、たとえばSC1などの他の液体を洗浄液として用いてもよい。 DIW as the cleaning liquid is, for example, pure water at room temperature (about 20 ° C.). In order to increase the cleaning power, DIW heated to a predetermined temperature may be used. In addition to DIW, other liquids such as SC1 may be used as the cleaning liquid.
また、フィルタ108には、エア抜き用のベントライン204の一端が接続される。ベントライン204の他端は、タンク102に接続される。
In addition, one end of a
ベントライン204には、第6バルブ306と第3ドレンライン205とが設けられる。第3ドレンライン205は、第6バルブ306よりも下流側に設けられる。第3ドレンライン205には、第7バルブ307が設けられる。
The
また、フィルタ108には、第4ドレンライン206と、第5ドレンライン207とが設けられる。第4ドレンライン206は、フィルタ108の一次側に接続され、第5ドレンライン207は、フィルタ108の二次側に接続される。第4ドレンライン206には、第8バルブ308が設けられ、第5ドレンライン207には、第9バルブ309が設けられる。
The
また、循環ライン104には、ヒータ109の下流側に、排液用気体としてのN2を循環ライン104へ供給するための第2供給ライン208が設けられる。第2供給ライン208には、第10バルブ310が設けられる。
Further, the
また、処理流体供給源70は、回収ライン113を備える。回収ライン113は、各処理ユニット16に一端が接続されるとともに、他端がタンク102に接続される。各処理ユニット16において使用された処理液は、かかる回収ライン113を通ってタンク102に回収される。
Further, the processing
また、タンク液補充部116からタンク102への供給ラインには、第11バルブ311が設けられ、ドレン部118には、第12バルブ312が設けられる。
An
また、処理流体供給源70は、タンク102に貯留された処理液の液位を検知するための第1センサLL、第2センサLJおよび第3センサHを備える。
Further, the processing
第1センサLLは、タンク102内の処理液が空になったことを検知するためのセンサであり、タンク102の底部近傍に配置される。また、第3センサHは、処理液がタンク102に対して予め決められた最大液位まで貯留されたことを検知するためのセンサであり、タンク102の頂部近傍に配置される。また、第2センサLJは、処理液がタンク102の最大液位よりも低い所定の液位まで貯留されたことを検知するためのセンサであり、第1センサLLと第3センサHとの間に配置される。
The first sensor LL is a sensor for detecting that the processing liquid in the
上記のように構成された液処理装置1では、たとえば処理液が劣化した場合、あるいは、使用する処理液の種類を変更する場合に、タンク102に貯留された処理液を新しい処理液に交換する処理液交換処理が行われる。ここで、本実施形態に係る液処理装置1において実行される処理液の交換処理の手順について説明する。
In the liquid processing apparatus 1 configured as described above, for example, when the processing liquid is deteriorated or when the type of the processing liquid to be used is changed, the processing liquid stored in the
まず、本実施形態に係る液処理装置1が実行する処理液交換処理の概要について図4を参照して説明する。図4は、本実施形態に係る液処理装置1が実行する処理液交換処理の概要を示す図である。 First, an overview of the processing liquid replacement process executed by the liquid processing apparatus 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a diagram showing an outline of the processing liquid replacement process executed by the liquid processing apparatus 1 according to this embodiment.
図4に示すように、液処理装置1は、処理液交換処理として、排出処理(S01)、貯留処理(S02)、フィルタ洗浄処理(S03)、置換処理(S04)および循環処理(S05)を行う。 As shown in FIG. 4, the liquid processing apparatus 1 performs a discharge process (S01), a storage process (S02), a filter cleaning process (S03), a replacement process (S04), and a circulation process (S05) as the process liquid replacement process. Do.
排出処理(S01)は、タンク102に貯留された処理液をドレン部118経由でタンク102から排出する処理である。貯留処理(S02)は、排出処理後、タンク102に処理液を貯留する処理である。フィルタ洗浄処理(S03)は、循環ライン104に洗浄液としてのDIWを供給してフィルタ108を洗浄する処理である。置換処理(S04)は、フィルタ洗浄処理後、循環ライン104等に残存する洗浄液を処理液に置換する処理である。循環処理(S05)は、置換処理後、タンク102内の処理液を循環ライン104に循環させる処理である。
The discharge process (S01) is a process of discharging the processing liquid stored in the
本実施形態に係る液処理装置1は、フィルタ洗浄処理(S03)、置換処理(S04)および循環処理(S05)を貯留処理(S02)と並行して実施することにより、処理液の交換に要する時間を短縮することとしている。かかる処理液交換処理の具体的な手順について図5〜図12を参照して説明する。図5〜図12は、処理液交換処理の手順を示す図である。 The liquid processing apparatus 1 according to the present embodiment requires the replacement of the processing liquid by performing the filter cleaning process (S03), the replacement process (S04), and the circulation process (S05) in parallel with the storage process (S02). Time is going to be shortened. A specific procedure of the treatment liquid exchange process will be described with reference to FIGS. 5 to 12 are diagrams showing the procedure of the treatment liquid exchange process.
ここで、図5〜図12のうち、図5および図6には、排出処理(S01)の処理手順を、図7には、貯留処理(S02)およびフィルタ洗浄処理(S03)の処理手順を、図8および図9には、貯留処理(S02)および置換処理(S04)の処理手順を、図10〜図12には、貯留処理(S02)および循環処理(S05)の処理手順をそれぞれ示している。 5 to 12, FIGS. 5 and 6 show the processing procedure of the discharge process (S01), and FIG. 7 shows the processing procedure of the storage process (S02) and the filter cleaning process (S03). 8 and 9 show the processing procedures of the storage processing (S02) and the replacement processing (S04), and FIGS. 10 to 12 show the processing procedures of the storage processing (S02) and the circulation processing (S05), respectively. ing.
また、液処理装置1は、制御部18の制御に従って図5〜図12に示す各処理手順を実行する。制御部18は、たとえばCPU(Central Processing Unit)であり、記憶部19に記憶された図示しないプログラムを読み出して実行することによって液処理装置1の動作を制御する。なお、制御部18は、プログラムを用いずにハードウェアのみで構成されてもよい。
Moreover, the liquid processing apparatus 1 performs each process sequence shown in FIGS. 5-12 according to control of the
なお、処理液交換処理の実行前において、ポンプ106およびヒータ109は、停止した状態であるものとする。また、処理液交換処理の実行前において、第1バルブ301、第2バルブ302および第6バルブ306は開状態であり、その他のバルブ、具体的には、第3バルブ303〜第5バルブ305および第7バルブ307〜第12バルブ312は閉状態であるものとする。
Note that the
図5に示すように、制御部18は、第12バルブ312を開くことにより、タンク102に貯留された処理液をドレン部118経由で外部へ排出する。
As shown in FIG. 5, the
また、制御部18は、上記の処理と並行して、第3バルブ303、第4バルブ304および第10バルブ310を開くことにより、循環ライン104に排出用気体としてのN2を供給する。循環ライン104に供給されたN2は、主に、第1ドレンライン201および第2ドレンライン202を経由して外部へ排出される。これにより、主にヒータ109およびフィルタ108間並びにその周辺に残存する処理液を外部へ排出することができる。
In parallel with the above processing, the
つづいて、制御部18は、第1センサLLからの信号に基づき、タンク102内の処理液がすべて排出されたと判定すると、図6に示すように、第10バルブ310を閉じることにより、循環ライン104へのN2の供給を停止する。そして、制御部18は、第2バルブ302を閉じた後、ポンプ106を作動させる。これにより、主にタンク102および第2バルブ302間に残存する処理液が、第1ドレンライン201および第2ドレンライン202を経由して外部に排出される。
Subsequently, when the
その後、制御部18は、ポンプ106を停止した後、所定時間待機することにより、循環ライン104内に残存する処理液を自重で外部へ排出させる。
Thereafter, the
つづいて、制御部18は、貯留処理(S02)およびフィルタ洗浄処理(S03)を開始する。
Subsequently, the
まず、貯留処理(S02)の手順について説明する。図7に示すように、制御部18は、第1バルブ301を閉じる。これにより、第1バルブ301および第2バルブ302間の循環ライン104が他の区間の循環ライン104から遮断される。また、制御部18は、第3バルブ303、第6バルブ306および第12バルブ312を閉じ、第7バルブ307を開く。
First, the procedure of the storage process (S02) will be described. As shown in FIG. 7, the
そして、制御部18は、第11バルブ311を開くことにより、タンク102への処理液の貯留を開始する。
Then, the
つづいて、フィルタ洗浄処理(S03)の手順について説明する。制御部18は、第5バルブ305を開くことにより、循環ライン104の遮断された区間、すなわち、第1バルブ301および第2バルブ302間の循環ライン104に洗浄液としてのDIWを供給する。なお、DIWは、第1供給ライン203および第1ドレンライン201を介して循環ライン104へ供給される。
Subsequently, the procedure of the filter cleaning process (S03) will be described. The
循環ライン104の遮断された区間には、フィルタ108が含まれる。このため、フィルタ108は、循環ライン104の遮断された区間に供給されるDIWによって洗浄される。また、循環ライン104の遮断された区間に供給されたDIWは、第2ドレンライン202または第3ドレンライン205から外部へ排出される。
A
このように、循環ライン104のフィルタ108を含む一部の区間を遮断することにより、貯留処理(S02)とフィルタ洗浄処理(S03)とを並行して行うことが可能となる。そして、貯留処理とフィルタ洗浄処理とを並行して行うことで、本実施形態に係る液処理装置1によれば、処理液の交換に要する時間を短縮することができる。
As described above, by blocking a part of the
なお、ここでは、貯留処理(S02)とフィルタ洗浄処理(S03)とを同時に開始する場合の例について説明したが、貯留処理(S02)とフィルタ洗浄処理(S03)とは必ずしも同時に開始されることを要しない。たとえば、制御部18は、排出処理が終了する前にフィルタ洗浄処理(S03)を開始し、排出処理が終了した後に貯留処理(S02)を開始してもよい。
Here, an example in which the storage process (S02) and the filter cleaning process (S03) are started at the same time has been described, but the storage process (S02) and the filter cleaning process (S03) are not necessarily started at the same time. Is not required. For example, the
つづいて、制御部18は、第2センサLJからの信号に基づき、タンク102内に処理液が所定の液位まで貯留されたと判定すると、図8に示すように、第5バルブ305を閉じて、循環ライン104へのDIWの供給を停止する。
Subsequently, when the
つづいて、制御部18は、置換処理(S04)を開始する。具体的には、制御部18は、第1バルブ301を開くことにより、第1バルブ301および第2バルブ302によって遮断された区間のうちフィルタ108の上流側を開放する。また、制御部18は、第4バルブ304を閉じ、第3バルブ303を開く。
Subsequently, the
そして、制御部18は、ポンプ106を作動させる。これにより、タンク102に貯留された処理液が、循環ライン104における第1バルブ301および第2バルブ302によって遮断されていた区間に供給されて、かかる区間に残存するDIWが処理液に置換される。処理液およびDIWは、第1ドレンライン201から外部へ排出される。この際、第1ドレンライン201に残存するDIWも一緒に外部へ排出することができる。
Then, the
また、制御部18は、図9に示すように、第3バルブ303を閉じ、第4バルブ304を開く。これにより、処理液およびDIWは、第2ドレンライン202から外部へ排出される。この際、第2ドレンライン202に残存するDIWも一緒に外部へ排出することができる。
Further, as shown in FIG. 9, the
このように、本実施形態に係る液処理装置1は、フィルタ洗浄処理(S03)だけでなく、置換処理(S04)も貯留処理(S02)と並行して行う。すなわち、液処理装置1は、タンク102に対して処理液が予め決められた最大液位よりも低い所定の液位まで貯留された場合に、遮断された区間への洗浄液の供給を停止し、遮断された区間におけるフィルタ108の上流側を開放することによって、タンク102に貯留された処理液を循環ライン104に供給して残存する洗浄液を処理液に置換する。したがって、本実施形態に係る液処理装置1によれば、処理液の交換に要する時間をさらに短縮することができる。
Thus, the liquid processing apparatus 1 according to the present embodiment performs not only the filter cleaning process (S03) but also the replacement process (S04) in parallel with the storage process (S02). That is, when the processing liquid is stored in the
また、液処理装置1によれば、循環ライン104全体でなく、フィルタ108を含む一部の区間に限定して洗浄液としてのDIWを供給することで、後述する置換処理に要する時間を短縮することができる。
In addition, according to the liquid processing apparatus 1, the time required for the replacement process described later can be shortened by supplying DIW as a cleaning liquid to a part of the section including the
また、液処理装置1は、第1ドレンライン201を開放し、第2ドレンライン202を遮断した状態で、タンク102に貯留された処理液を循環ライン104に供給する処理(第1置換処理)と、第1ドレンライン201を遮断し、第2ドレンライン202を開放した状態で、タンク102に貯留された処理液を循環ライン104に供給する処理(第2置換処理)とを行う。このため、第1ドレンライン201および第2ドレンライン202に残存するDIWを外部へ排出することができる。
Further, the liquid processing apparatus 1 supplies the processing liquid stored in the
なお、上記の置換処理を行う場合、第3バルブ303および第4バルブ304の両方を開放して第1ドレンライン201および第2ドレンライン202に対する置換処理を同時に行うことも考えられる。しかしながら、このようにした場合、フィルタ108が圧損となることで、フィルタ108の上流側に位置する第1ドレンライン201と比べて、フィルタ108の下流側に位置する第2ドレンライン202に処理液が流れにくくなる。この結果、第2ドレンライン202に残存するDIWを処理液に置換するのに時間がかかってしまう。これに対し、液処理装置1では、第1ドレンライン201に対する置換処理である第1置換処理と、第2ドレンライン202に対する置換処理である第2置換処理とを順番に行うこととしているため、各ドレンライン201,202に残存するDIWの処理液への置換を短時間で行うことができる。
When performing the above replacement process, it is conceivable that both the
つづいて、制御部18は、図10に示すように、ポンプ106を停止する。これにより、タンク102から循環ライン104への処理液の供給が停止され、タンク102に処理液が貯留される。また、制御部18は、第2バルブ302を開く。これにより、循環ライン104が遮断された状態が解除される。
Subsequently, the
なお、制御部18は、置換処理(S04)においてタンク102へ供給される処理液の流量を、たとえば貯留処理(S02)においてタンク102へ供給される処理液の流量と比べて増加させることが望ましい。具体的には、置換処理(S04)では、タンク102から排出される処理液の量よりも多い量の処理液をタンク102へ供給することが望ましい。タンク102内の処理液を所定の液位付近まで貯留させることができるため、次に行われる循環処理(S05)の開始を早めることができる。
Note that the
つづいて、制御部18は、循環処理(S05)を開始する。具体的には、第2センサLJからの信号に基づき、タンク102内に処理液が所定の液位まで貯留されたと判定すると、図11に示すように、ポンプ106およびヒータ109を作動させる。これにより、タンク102への処理液の貯留と並行して、タンク102から循環ライン104への処理液の供給が開始される。そして、循環ライン104へ供給された処理液は、ヒータ109によって加熱されて、再びタンク102へ戻される。
Subsequently, the
そして、制御部18は、第3センサHからの信号に基づき、タンク102内に処理液が予め決められた最大液位まで貯留されたと判定すると、図12に示すように、第11バルブ311を閉じて、タンク液補充部116からタンク102への処理液の供給を停止する。これにより、一連の処理液交換処理が終了する。
When the
このように、本実施形態に係る液処理装置1は、フィルタ洗浄処理や置換処理だけでなく、循環処理も貯留処理と並行して行う。すなわち、液処理装置1は、貯留処理が終了する前から循環処理を開始することで、処理液の交換に要する時間をさらに短縮することができる。 Thus, the liquid processing apparatus 1 according to the present embodiment performs not only the filter cleaning process and the replacement process, but also the circulation process in parallel with the storage process. That is, the liquid processing apparatus 1 can further reduce the time required for the replacement of the processing liquid by starting the circulation processing before the storage processing is completed.
上述してきたように、本実施形態に係る液処理装置1は、タンク102と、循環ライン104と、処理ユニット16(「処理部」の一例に相当)と、フィルタ108と、第1バルブ301と、第2バルブ302と、制御部18を備える。タンク102は、処理液を貯留する。循環ライン104は、タンク102から送られる処理液をタンク102へ戻す。処理ユニット16は、分岐ライン112を介して循環ライン104に接続され、循環ライン104から分岐ライン112を介して供給される処理液を用いて基板を処理する。フィルタ108は、循環ライン104に設けられ、循環ライン104を流れる処理液から異物を除去する。第1バルブ301は、循環ライン104におけるフィルタ108の上流側に設けられる。第2バルブ302は、循環ライン104におけるフィルタの下流側に設けられる。制御部18は、タンク102に貯留された処理液をタンク102から排出する排出処理と、排出処理後、タンク102に処理液を貯留する貯留処理と、第1バルブ301および第2バルブ302を閉じることによって循環ライン104におけるフィルタ108の上流側および下流側をそれぞれ遮断した後、循環ライン104の遮断された区間に洗浄液を供給してフィルタ108を洗浄するフィルタ洗浄処理と、フィルタ洗浄処理後、遮断された区間に処理液を供給して残存する洗浄液を処理液に置換する置換処理とを実行する。
As described above, the liquid processing apparatus 1 according to this embodiment includes the
かかる液処理装置1によれば、循環ライン104全体でなく、フィルタ108を含む一部の区間に限定して洗浄液としてのDIWを供給するため、置換処理に要する時間を短縮することができる。したがって、処理液の交換に要する時間を短縮することができる。
According to the liquid processing apparatus 1, DIW as the cleaning liquid is supplied not to the
(その他の実施形態)
上述してきた実施形態では、DIWの供給ラインである第1供給ライン203が接続される第1ドレンライン201が、フィルタ108の上流側に設けられ、第2ドレンライン202がフィルタ108の下流側に設けられる場合の例について説明した。しかし、第1ドレンライン201および第2ドレンライン202の配置は、上記の例に限定されない。すなわち、第1ドレンライン201がフィルタ108の下流側に設けられ、第2ドレンライン202がフィルタ108の上流側に設けられてもよい。
(Other embodiments)
In the embodiment described above, the
第1ドレンライン201および第2ドレンライン202をこのように配置することにより、フィルタ洗浄処理において、フィルタ108に対し、処理液の流通方向とは逆方向からDIWを供給することができる。すなわち、フィルタ108を逆流洗浄することができるため、フィルタ108の洗浄効率を高めることができる。
By disposing the
また、上述した実施形態では、タンク102内に貯留された処理液を用いて置換処理を行う場合の例について説明した。しかし、置換処理は、上記の例に限定されない。たとえば、制御部18は、第1供給ライン203から処理液を供給することにより、循環ライン104の遮断された区間に残存するDIWを処理液に置換することとしてもよい。かかる場合、置換処理は、第1バルブ301および第2バルブ302を閉じた状態で行えばよい。このようにすることで、貯留処理の所要時間を短縮することができる。
In the above-described embodiment, the example in which the replacement process is performed using the processing liquid stored in the
また、制御部18は、第8バルブ308および第9バルブ309を開いた状態で、置換処理を行ってもよい。これにより、仮に、第4ドレンライン206および第5ドレンライン207にDIWが残存していたとしても、かかるDIWを外部へ排出することができる。
The
また、上述した実施形態では、DIWの供給ラインである第1供給ライン203が第1ドレンライン201に接続される場合の例について説明したが、第1供給ライン203は、第4ドレンライン206または第5ドレンライン207に接続されてもよい。このようにすることで、第1バルブ301および第2バルブ302によって遮断する循環ライン104の区間を短くすることができ、置換処理に要する時間をさらに短縮することができる。なお、かかる場合、第1ドレンライン201および第2ドレンライン202は、必ずしも設けることを要しない。
In the above-described embodiment, an example in which the
また、上述した実施形態では、貯留処理(S02)とフィルタ洗浄処理(S03)とを並行して行うこととしたが、貯留処理(S02)とフィルタ洗浄処理(S03)とは、必ずしも並行して行われることを要しない。たとえば、制御部18は、フィルタ洗浄処理(S03)が終了した後に、貯留処理(S02)を開始してもよい。また、置換処理(S04)についても、必ずしもフィルタ洗浄処理(S03)と並行して行われることを要しない。たとえば、制御部18は、置換処理(S04)が終了した後に、貯留処理(S02)を開始してもよい。かかる場合、制御部18は、たとえば第1供給ライン203から処理液を供給することにより、循環ライン104の遮断された区間に残存するDIWを処理液に置換すればよい。
In the embodiment described above, the storage process (S02) and the filter cleaning process (S03) are performed in parallel. However, the storage process (S02) and the filter cleaning process (S03) are not necessarily performed in parallel. It doesn't need to be done. For example, the
さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本発明のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。 Further effects and modifications can be easily derived by those skilled in the art. Thus, the broader aspects of the present invention are not limited to the specific details and representative embodiments shown and described above. Accordingly, various modifications can be made without departing from the spirit or scope of the general inventive concept as defined by the appended claims and their equivalents.
1 液処理装置
4 制御装置
16 処理ユニット
18 制御部
70 処理流体供給源
102 タンク
104 循環ライン
106 ポンプ
108 フィルタ
109 ヒータ
112 分岐ライン
118 ドレン部
201 第1ドレンライン
202 第2ドレンライン
203 第1供給ライン
204 ベントライン
205 第3ドレンライン
206 第4ドレンライン
207 第5ドレンライン
208 第2供給ライン
301〜312 第1バルブ〜第12バルブ
LL 第1センサ
LJ 第2センサ
H 第3センサ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid processing apparatus 4
Claims (4)
前記タンクに貯留された処理液を前記タンクから排出する排出工程と、
前記排出工程後、前記タンクに処理液を貯留する貯留工程と、
前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側および下流側をそれぞれ遮断した後、前記循環ラインの遮断された区間に洗浄液を供給して前記フィルタを洗浄するフィルタ洗浄工程と、
前記フィルタ洗浄工程後、前記遮断された区間に処理液を供給して残存する洗浄液を処理液に置換する置換工程と
を含み、
前記貯留工程は、
前記フィルタ洗浄工程と並行して行われるとともに、前記フィルタ洗浄工程後、前記置換工程と並行して行われ、
前記フィルタ洗浄工程は、
前記貯留工程において、前記タンクに対して処理液を予め決められた最大液位よりも低い所定の液位まで貯留した場合に、前記遮断された区間への洗浄液の供給を停止し、
前記置換工程は、
前記遮断された区間への洗浄液の供給を停止した後、前記遮断された区間における前記フィルタの上流側を開放することによって、前記タンクに貯留された処理液を前記循環ラインに供給して残存する洗浄液を処理液に置換すること
を特徴とする処理液交換方法。 A tank for storing the processing liquid, a circulation line for returning the processing liquid sent from the tank to the tank, a process connected to the circulation line via a branch line, and a process supplied from the circulation line via the branch line A processing liquid replacement method in a liquid processing apparatus comprising: a processing unit that processes a substrate using a liquid; and a filter that is provided in the circulation line and removes foreign substances from the processing liquid flowing through the circulation line,
A discharge step of discharging the processing liquid stored in the tank from the tank;
After the discharging step, a storing step of storing the processing liquid in the tank;
A filter cleaning step of cleaning the filter by supplying a cleaning liquid to the section where the circulation line is shut off after shutting off the upstream side and the downstream side of the filter in the circulation line;
After the filter cleaning process, look including a replacement step of replacing the processing solution cleaning fluid remaining in supplying a processing liquid to the blocked sections,
The storage step includes
Performed in parallel with the filter cleaning step, and after the filter cleaning step, performed in parallel with the replacement step,
The filter cleaning step
In the storage step, when the processing liquid is stored up to a predetermined liquid level lower than a predetermined maximum liquid level for the tank, the supply of the cleaning liquid to the blocked section is stopped,
The replacement step includes
After the supply of the cleaning liquid to the blocked section is stopped, the processing liquid stored in the tank is supplied to the circulation line and remains by opening the upstream side of the filter in the blocked section. A treatment liquid replacement method, wherein the cleaning liquid is replaced with a treatment liquid.
前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側および下流側の一方に設けられるとともに、中途部に洗浄液の供給ラインが接続される第1ドレンラインを開放し、前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側および下流側の他方に設けられる第2ドレンラインを遮断した状態で、前記タンクに貯留された処理液を前記循環ラインに供給する第1置換工程と、
前記第1ドレンラインを遮断し、前記第2ドレンラインを開放した状態で、前記タンクに貯留された処理液を前記循環ラインに供給する第2置換工程と
を含むことを特徴とする請求項1に記載の処理液交換方法。 The replacement step includes
A first drain line that is provided on one of the upstream side and the downstream side of the filter in the circulation line and that is connected to the supply line of the cleaning liquid in the middle is opened, and the upstream side and the downstream side of the filter in the circulation line A first replacement step of supplying the processing liquid stored in the tank to the circulation line in a state where the second drain line provided on the other side is shut off,
Blocking the first drain line, while opening the second drain line, according to claim 1, characterized in that it comprises a second replacement step of supplying a processing solution stored in the tank to said circulation line The process liquid exchange method as described in 4. above.
を含み、
前記置換工程後、前記貯留工程と前記循環工程とを並行して行うこと
を特徴とする請求項1または2に記載の処理液交換方法。 A circulation step of circulating the treatment liquid in the tank to the circulation line after the replacement step;
Wherein after the replacement process, the treatment liquid exchange method according to claim 1 or 2, characterized in that in parallel with the circulation step and the storing step.
前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側に設けられる第1バルブと、
前記循環ラインにおける前記フィルタの下流側に設けられる第2バルブと、
前記タンクに貯留された処理液を前記タンクから排出する排出処理と、前記排出処理後、前記タンクに処理液を貯留する貯留処理と、前記第1バルブおよび前記第2バルブを閉じることによって前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側および下流側をそれぞれ遮断した後、前記循環ラインの遮断された区間に洗浄液を供給して前記フィルタを洗浄するフィルタ洗浄処理と、前記フィルタ洗浄処理後、前記遮断された区間に処理液を供給して残存する洗浄液を処理液に置換する置換処理とを実行する制御部と
を備え、
前記貯留処理は、
前記フィルタ洗浄処理と並行して行われるとともに、前記フィルタ洗浄処理後、前記置換処理と並行して行われ、
前記フィルタ洗浄処理は、
前記貯留処理において、前記タンクに対して処理液を予め決められた最大液位よりも低い所定の液位まで貯留した場合に、前記遮断された区間への洗浄液の供給を停止し、
前記置換処理は、
前記遮断された区間への洗浄液の供給を停止した後、前記遮断された区間における前記フィルタの上流側を開放することによって、前記タンクに貯留された処理液を前記循環ラインに供給して残存する洗浄液を処理液に置換すること
を特徴とする液処理装置。 A tank for storing the processing liquid, a circulation line for returning the processing liquid sent from the tank to the tank, a process connected to the circulation line via a branch line, and a process supplied from the circulation line via the branch line A liquid processing apparatus comprising: a processing unit that processes a substrate using a liquid; and a filter that is provided in the circulation line and removes foreign substances from the processing liquid flowing through the circulation line,
A first valve provided upstream of the filter in the circulation line;
A second valve provided downstream of the filter in the circulation line;
The discharge process for discharging the processing liquid stored in the tank from the tank, the storage process for storing the processing liquid in the tank after the discharge process, and the circulation by closing the first valve and the second valve. A filter cleaning process for cleaning the filter by supplying a cleaning liquid to a section where the circulation line is blocked after blocking the upstream side and the downstream side of the filter in the line; A control unit that supplies a processing liquid to the section and performs a replacement process for replacing the remaining cleaning liquid with the processing liquid ,
The storage process is
Performed in parallel with the filter cleaning process, and after the filter cleaning process, performed in parallel with the replacement process,
The filter cleaning process
In the storage process, when the processing liquid is stored up to a predetermined liquid level lower than a predetermined maximum liquid level for the tank, the supply of the cleaning liquid to the blocked section is stopped,
The replacement process includes:
After the supply of the cleaning liquid to the blocked section is stopped, the processing liquid stored in the tank is supplied to the circulation line and remains by opening the upstream side of the filter in the blocked section. A liquid processing apparatus, wherein a cleaning liquid is replaced with a processing liquid .
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