JP6222428B2 - Epoxy resin composition - Google Patents

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本発明は、接着性エポキシ樹脂組成物、当該接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜形成用フィルム、当該接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜を備えた配線板、及び、当該接着性エポキシ樹脂組成物からなる放熱部材を備えた電子回路基板に関する。 The present invention relates to an adhesive epoxy resin composition, a film for forming an interlayer insulating film made of the adhesive epoxy resin composition, a wiring board provided with an interlayer insulating film made of the adhesive epoxy resin composition, and the adhesive property The present invention relates to an electronic circuit board provided with a heat dissipation member made of an epoxy resin composition.

一般的に、エポキシ樹脂及び硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物は、硬化させることにより、機械的性質、耐水性、耐薬品性、耐熱性、電気的性質等に優れた硬化物を形成することができる。そのため、エポキシ樹脂組成物は、接着剤、塗料、絶縁材料、成形材料、注型材料、放熱材料等の幅広い用途に用いられている。
エポキシ樹脂組成物を上述したような用途で使用する場合、作業性を確保する観点からエポキシ樹脂組成物の粘度を低粘度にすることを要求されることがある。
Generally, an epoxy resin composition containing an epoxy resin and a curing agent is cured to form a cured product having excellent mechanical properties, water resistance, chemical resistance, heat resistance, electrical properties, and the like. Can do. Therefore, epoxy resin compositions are used in a wide range of applications such as adhesives, paints, insulating materials, molding materials, casting materials, heat dissipation materials, and the like.
When using an epoxy resin composition for the above-mentioned use, it is requested | required that the viscosity of an epoxy resin composition should be made low from a viewpoint of ensuring workability | operativity.

しかしながら、エポキシ樹脂組成物に反応性希釈剤を配合した場合、エポキシ樹脂組成物の粘度は下げることができるものの、エポキシ樹脂組成物を接着剤として使用した際にその接着性が低下してしまうことがあった。そのため、エポキシ樹脂組成物では、その粘度を低下させたいとの要求に対して、反応性希釈剤を配合して粘度を低下させると、接着性を確保することが困難になるとの課題があり、低粘度化と良好な接着性の維持とは両立を図ることが困難であった。 However, when a reactive diluent is added to the epoxy resin composition, the viscosity of the epoxy resin composition can be lowered, but the adhesiveness is reduced when the epoxy resin composition is used as an adhesive. was there. Therefore, in the epoxy resin composition, there is a problem that it is difficult to ensure adhesiveness when the viscosity is reduced by adding a reactive diluent to the request to reduce the viscosity, It has been difficult to achieve both low viscosity and good adhesion.

低粘度であって、かつ、硬化物とした際の接着性に優れるエポキシ樹脂組成物として、特許文献1には、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、3官能型エポキシ樹脂、及び、アミノ化合物を含有する耐熱エポキシ接着剤組成物が提案されている。また、特許文献2には、3官能(メタ)アクリレート、水酸基を有するビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート、特定の構造単位を有するジ(メタ)アクリレート、及び、光重合開始剤を含有する接着剤用放射線硬化型樹脂組成物が提案されている。
しかしながら、特許文献1、2に記載されたエポキシ樹脂組成物を硬化させて得られた硬化物は、金属に対する接着性が未だ十分ではないとの課題があった。
As an epoxy resin composition having a low viscosity and excellent adhesion when cured, Patent Document 1 contains, for example, a phenol novolac type epoxy resin, a trifunctional type epoxy resin, and an amino compound. A heat resistant epoxy adhesive composition has been proposed. Patent Document 2 discloses an adhesive containing a trifunctional (meth) acrylate, a bisphenol-type epoxy (meth) acrylate having a hydroxyl group, a di (meth) acrylate having a specific structural unit, and a photopolymerization initiator. Radiation curable resin compositions have been proposed.
However, the hardened | cured material obtained by hardening the epoxy resin composition described in patent document 1, 2 had the subject that the adhesiveness with respect to a metal was not yet enough.

特開平9−100457号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-100457 特開2006−16434号公報JP 2006-16434 A

本発明は、低粘度であって、かつ、硬化物とした際に金属との引張せん断接着性及びピール接着性に優れるとの特性を有する接着性エポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜形成用フィルム、及び、当該接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜を備えた配線板を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなる放熱部材を備えた電子回路基板を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide an adhesive epoxy resin composition having a low viscosity and excellent properties of tensile shear adhesiveness and peel adhesiveness with metal when cured. .
Moreover, this invention aims at providing the wiring board provided with the film for interlayer insulation film formation which consists of an adhesive epoxy resin composition of this invention, and the interlayer insulation film which consists of the said adhesive epoxy resin composition. To do.
Furthermore, an object of this invention is to provide the electronic circuit board provided with the heat radiating member which consists of an adhesive epoxy resin composition of this invention.

本発明者らは、鋭意検討の結果、(a)エポキシ樹脂及び(c)硬化剤に加えて、反応性希釈剤として、(b)特定の構造(トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造)を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を含有するエポキシ樹脂組成物では、反応性希釈剤を含有することにより低粘度化が図られているにもかかわらず、硬化物とした場合に金属との引張せん断接着性及びピール接着性に優れるとの特性を特異的に有することを見出した。
そして、本発明者らはこれらの知見に基づき、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物、本発明の層間絶縁膜形成用フィルム、本発明の配線板、及び、本発明の電子回路基板を完成した。
As a result of intensive studies, the present inventors have (b) a specific structure (trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton) as a reactive diluent in addition to (a) an epoxy resin and (c) a curing agent. In the case of an epoxy resin composition containing a reactive diluent mainly composed of an epoxy compound having a low viscosity due to the inclusion of the reactive diluent, a metal is obtained when the cured product is used. It has been found that it has a characteristic that it is excellent in tensile shear adhesiveness and peel adhesiveness.
Based on these findings, the present inventors have completed the adhesive epoxy resin composition of the present invention, the interlayer insulating film forming film of the present invention, the wiring board of the present invention, and the electronic circuit board of the present invention. .

即ち、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物は、(a)エポキシ樹脂、(b)下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤、及び、(c)硬化剤を含むことを特徴とする。 That is, the adhesive epoxy resin composition of the present invention comprises (a) an epoxy resin, (b) a reactive diluent mainly composed of an epoxy compound represented by the following general formula (1), and (c) curing. It contains an agent.

Figure 0006222428
(ただし、R〜Rは、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数2〜10のアルケニレン基、又は、炭素数6〜10のアリーレン基を表し、互いに同一であっても良く、異なっていても良い。また、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基、又は、水素原子を表す。)
Figure 0006222428
(However, R 1 to R 4 represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and may be the same or different. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom.)

本発明の接着性エポキシ樹脂組成物において、(b)反応性希釈剤の含有量は、(a)エポキシ樹脂と(b)反応性希釈剤との合計量に対して5〜95重量%であることが好ましい。 In the adhesive epoxy resin composition of the present invention, the content of (b) reactive diluent is 5 to 95% by weight with respect to the total amount of (a) epoxy resin and (b) reactive diluent. It is preferable.

本発明の接着性エポキシ樹脂組成物において、(b)反応性希釈剤は、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(b1)であることが好ましく、この場合、(b1)反応性希釈剤は、エポキシ当量が101〜120g/eqであり、全ハロゲン量が100ppm以下であり、かつ、粘度が50〜130mPa・sであることが好ましい。 In the adhesive epoxy resin composition of the present invention, the reactive diluent (b) is preferably a reactive diluent (b1) mainly composed of trimethylolpropane triglycidyl ether. In this case, (b1) The reactive diluent preferably has an epoxy equivalent of 101 to 120 g / eq, a total halogen content of 100 ppm or less, and a viscosity of 50 to 130 mPa · s.

本発明の接着性エポキシ樹脂組成物において、(a)エポキシ樹脂は、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールフェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールクレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、エチルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ブチルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、オクチルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック型エポキシ樹脂、4,4’−ビフェニルフェノール型エポキシ樹脂、テトラメチル−4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂、ジメチル−4,4’−ビフェニルフェノール型エポキシ樹脂、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン型エポキシ樹脂、2,2’―メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)型エポキシ樹脂、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル6−tert−ブチルフェノール)型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ピロガロール型エポキシ樹脂、ジイソプロピリデン型エポキシ樹脂、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフルオレン型エポキシ樹脂、フェノール化ポリブタジエン型エポキシ樹脂、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−シクロヘキシルカルボキシレート型エポキシ樹脂、1,4−ブタンジオール型エポキシ樹脂、1,6−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂、ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ペンタエリスリトール型エポキシ樹脂、キシリレングリコール誘導体型エポキシ樹脂、イソシアヌル環型エポキシ樹脂、ヒダントイン環型エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂、アニリン型エポキシ樹脂、トルイジン型エポキシ樹脂、p−フェニレンジアミン型エポキシ樹脂、m−フェニレンジアミン型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン誘導体型エポキシ樹脂、ジアミノメチルベンゼン誘導体型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、及び、ブロム化クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の中から選択される少なくとも1種であることが好ましい。 In the adhesive epoxy resin composition of the present invention, (a) the epoxy resin is biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetra Phenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolac type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol phenol co-condensed novolac type epoxy resin, naphthol cresol co-condensed novolac type epoxy Resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin type epoxy resin, biphenyl novolac type epoxy resin, ethylphenol novolak type epoxy resin Xylene resin, butylphenol novolac type epoxy resin, octylphenol novolac type epoxy resin, xylylene skeleton-containing phenol novolac type epoxy resin, fluorene skeleton containing phenol novolac type epoxy resin, 4,4'-biphenylphenol type epoxy resin, tetramethyl-4,4 '-Biphenol type epoxy resin, dimethyl-4,4'-biphenylphenol type epoxy resin, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] Propane type epoxy resin, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol) type epoxy resin, 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol) type epoxy resin, trishydroxy Phenylmethane type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, pyrogallol type epoxy resin, diisopropylidene type epoxy resin, 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene type epoxy resin, phenolized polybutadiene type epoxy resin, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-cyclohexylcarboxylate type epoxy resin, 1,4-butanediol type epoxy resin, 1,6-hexanediol type epoxy resin, polyethylene glycol type epoxy resin, polypropylene glycol type Epoxy resin, pentaerythritol type epoxy resin, xylylene glycol derivative type epoxy resin, isocyanuric ring type epoxy resin, hydantoin ring type epoxy resin, hexahydrophthalic acid di Glycidyl ester type epoxy resin, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester type epoxy resin, aniline type epoxy resin, toluidine type epoxy resin, p-phenylenediamine type epoxy resin, m-phenylenediamine type epoxy resin, diaminodiphenylmethane derivative type epoxy resin, diamino It is preferably at least one selected from methylbenzene derivative type epoxy resin, brominated phenol novolac type epoxy resin, and brominated cresol novolak type epoxy resin.

本発明の接着性エポキシ樹脂組成物において、(c)硬化剤は、2−エチル−4−メチルイミダゾール、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ−ル、三フッ化ホウ素−アミン錯体、グアニジン誘導体、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンにより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、多価ヒドロキシ化合物とホルムアルデヒドとから合成される多価フェノールノボラック樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトールフェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトールクレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂、及び、アルコキシ基含有芳香環変性ノボラック樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。 In the adhesive epoxy resin composition of the present invention, (c) the curing agent is 2-ethyl-4-methylimidazole, diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, imidazole, trifluoride. Boron-amine complex, guanidine derivative, dicyandiamide, polyamide resin synthesized from linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydro Phthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, phenol novolac resin, cresol novolac resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified pheno Resins, dicyclopentadiene phenol addition resins, phenol aralkyl resins, polyhydric phenol novolac resins synthesized from polyvalent hydroxy compounds and formaldehyde, naphthol aralkyl resins, trimethylol methane resins, tetraphenylol ethane resins, naphthol novolac resins, At least one selected from the group consisting of naphtholphenol co-condensed novolak resins, naphthol cresol co-condensed novolak resins, biphenyl-modified phenol resins, biphenyl-modified naphthol resins, aminotriazine-modified phenol resins, and alkoxy group-containing aromatic ring-modified novolak resins. Preferably there is.

本発明の接着性エポキシ樹脂組成物は、さらに(d)充填剤を含有することが好ましく、(d)充填剤は、窒化ホウ素であることが好ましい。 The adhesive epoxy resin composition of the present invention preferably further contains (d) a filler, and (d) the filler is preferably boron nitride.

本発明の接着性エポキシ樹脂組成物は、層間絶縁膜の形成や、電子回路基板に設ける放熱部材の形成に用いられることが好ましい。 The adhesive epoxy resin composition of the present invention is preferably used for forming an interlayer insulating film or a heat dissipation member provided on an electronic circuit board.

本発明の層間絶縁膜形成用フィルムは、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなることを特徴とする。 The film for forming an interlayer insulating film of the present invention is characterized by comprising the adhesive epoxy resin composition of the present invention.

本発明の配線板は、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜を備えたことを特徴とする。 The wiring board of the present invention includes an interlayer insulating film made of the adhesive epoxy resin composition of the present invention.

本発明の電子回路基板は、本発明の(d)充填剤を含有する接着性エポキシ樹脂組成物からなる放熱部材を備えたことを特徴とする。 The electronic circuit board of the present invention is characterized by including a heat dissipating member made of an adhesive epoxy resin composition containing the filler (d) of the present invention.

本発明の接着性エポキシ樹脂組成物は、(b)特定の構造(トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造)を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を含むため、低粘度でありながら、硬化物とした場合に金属との引張せん断接着強さ及びピール接着強さに優れるとの特性を有する。
また、(b)特定の構造のエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を含むため、(d)充填剤を含有する場合でも、硬化物とした場合に金属との引張せん断接着強さ及びピール接着強さに優れるとの特性を有し、かつ、(d)充填剤を接着性エポキシ樹脂組成物中に均一に分散させることができる。
そのため、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物は、層間絶縁膜の形成や、電子回路基板に設ける放熱部材の形成に極めて好適に用いることができる。
The adhesive epoxy resin composition of the present invention includes a reactive diluent mainly composed of an epoxy compound having (b) a specific structure (trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton), so that the viscosity is low. When it is made into a cured product, it has a characteristic that it has excellent tensile shear adhesive strength and peel adhesive strength with metal.
In addition, since (b) a reactive diluent containing an epoxy compound having a specific structure as a main component is included, (d) the tensile shear bond strength with a metal and a cured product even when containing a filler and It has the property that it has excellent peel adhesive strength, and (d) the filler can be uniformly dispersed in the adhesive epoxy resin composition.
Therefore, the adhesive epoxy resin composition of the present invention can be very suitably used for forming an interlayer insulating film or a heat dissipation member provided on an electronic circuit board.

本発明の層間絶縁膜形成用フィルムは、層間絶縁膜とした際に金属との引張せん断接着強さ及びピール接着強さに優れる本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなるため、金属回路との密着性に優れた層間絶縁膜を提供することができる。
また、本発明の配線板は、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜を備えるため、金属回路と層間絶縁膜とが高い密着性を有し、金属回路の剥離の発生を回避することができ、信頼性に優れる。
また、本発明の電子回路基板は、本発明の(d)充填剤を含有する接着性エポキシ樹脂組成物からなる放熱部材を備えるため、回路等の金属部材と放熱部材との間で優れた接着性を有するとともに、充分な放熱性を確保することができる。
The film for forming an interlayer insulating film of the present invention is composed of the adhesive epoxy resin composition of the present invention which is excellent in tensile shear adhesive strength and peel adhesive strength with a metal when used as an interlayer insulating film. An interlayer insulating film excellent in adhesion can be provided.
Moreover, since the wiring board of the present invention includes the interlayer insulating film made of the adhesive epoxy resin composition of the present invention, the metal circuit and the interlayer insulating film have high adhesion, and the occurrence of peeling of the metal circuit is avoided. Can be excellent in reliability.
Moreover, since the electronic circuit board of this invention is equipped with the heat radiating member which consists of an adhesive epoxy resin composition containing the (d) filler of this invention, it was excellent adhesion between metal members, such as a circuit, and a heat radiating member. And sufficient heat dissipation can be ensured.

<<接着性エポキシ樹脂組成物>>
まず、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物について説明する。
本発明の接着性エポキシ樹脂組成物は、(a)エポキシ樹脂、(b)特定の構造(トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造)を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤、及び、(c)硬化剤を含むことを特徴とする。
<< Adhesive Epoxy Resin Composition >>
First, the adhesive epoxy resin composition of the present invention will be described.
The adhesive epoxy resin composition of the present invention comprises (a) an epoxy resin, (b) a reactive diluent mainly comprising an epoxy compound having a specific structure (trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton), and (C) It contains a curing agent.

<(b)反応性希釈剤>
上記(b)反応性希釈剤は、下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤である。
<(B) Reactive diluent>
The (b) reactive diluent is a reactive diluent mainly composed of an epoxy compound represented by the following general formula (1).

Figure 0006222428
(ただし、R〜Rは、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数2〜10のアルケニレン基、又は、炭素数6〜10のアリーレン基を表し、互いに同一であっても良く、異なっていても良い。また、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基、又は、水素原子を表す。)
Figure 0006222428
(However, R 1 to R 4 represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and may be the same or different. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom.)

本発明の接着性エポキシ樹脂組成物においては、(b)反応性希釈剤として、上記一般式(1)で表されるエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を用いることが極めて重要である。本発明の接着性エポキシ樹脂組成物は、このような特定の構造(トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造)を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を含むが故に、低粘度でありながら、硬化物とした場合に金属との引張せん断接着強さ及びピール接着強さに優れるとの特性を有し、これらの優れた接着強さは(d)充填剤を含有する場合も維持することができる。
また、これらの特性を有するがために、層間絶縁膜や、電子回路基板に設ける放熱部材等を形成するのに極めて好適に用いることができる。
In the adhesive epoxy resin composition of the present invention, it is very important to use a reactive diluent mainly composed of the epoxy compound represented by the general formula (1) as the reactive diluent (b). . The adhesive epoxy resin composition of the present invention has a low viscosity because it contains a reactive diluent mainly composed of an epoxy compound having such a specific structure (trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton). However, when it is made into a cured product, it has the property of being excellent in tensile shear adhesive strength and peel adhesive strength with metal, and these excellent adhesive strengths are maintained even when (d) a filler is contained. be able to.
Moreover, since it has these characteristics, it can be used very suitably for forming an interlayer insulation film, a heat radiating member provided in an electronic circuit board, etc.

本発明において、「上記一般式(1)で表されるエポキシ化合物を主成分とする」とは、(b)反応性希釈剤において、上記一般式(1)で表されるエポキシ化合物を50wt%以上含むことをいう。 In the present invention, “having the epoxy compound represented by the general formula (1) as a main component” means that the epoxy compound represented by the general formula (1) is 50 wt% in the reactive diluent (b). This includes the above.

上記一般式(1)におけるR〜Rは、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数2〜10のアルケニレン基、又は、炭素数6〜10のアリーレン基を表す。
上記炭素数1〜10のアルキレン基、又は、炭素数2〜10のアルケニレン基は、直鎖状であっても良く、分鎖状であっても良い。また、上記炭素数6〜10のアリーレン基は、その骨格が単環構造であっても良く、縮環構造であっても良い。
上記R〜Rに含まれる水素原子の全部又は一部は、置換されていても良い。
上記R〜Rは、互いに同一であっても良く、異なっていても良い。
R < 1 > -R < 4 > in the said General formula (1) represents a C1-C10 alkylene group, a C2-C10 alkenylene group, or a C6-C10 arylene group.
The alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or the alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms may be linear or branched. Moreover, the skeleton of the arylene group having 6 to 10 carbon atoms may have a monocyclic structure or a condensed ring structure.
All or part of the hydrogen atoms contained in R 1 to R 4 may be substituted.
R 1 to R 4 may be the same as or different from each other.

上記一般式(1)におけるRは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基、又は、水素原子を表す。
上記炭素数1〜10のアルキル基、又は、炭素数2〜10のアルケニル基は、直鎖状であっても良く、分鎖状であっても良い。また、上記炭素数6〜10のアリール基は、その骨格が単環構造であっても良く、縮環構造であっても良い。
上記Rに含まれる水素原子の全部又は一部は、置換されていても良い。
R 5 in the general formula (1) represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom.
The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms may be linear or branched. Further, the aryl group having 6 to 10 carbon atoms may have a skeleton having a monocyclic structure or a condensed ring structure.
All or part of the hydrogen atoms contained in R 5 may be substituted.

上記(b)反応性希釈剤に主成分として含まれる、上記一般式(1)で表されるエポキシ化合物としては、上記一般式(1)で表されるものであれば特に限定されず、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリメチロールメタントリグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル等が挙げられる。
上記(b)反応性希釈剤に主成分として含まれる、上記一般式(1)で表されるエポキシ化合物は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
The epoxy compound represented by the general formula (1) contained as a main component in the (b) reactive diluent is not particularly limited as long as it is represented by the general formula (1). , Trimethylolpropane triglycidyl ether, trimethylolmethane triglycidyl ether, trimethylolethane triglycidyl ether, and the like.
The epoxy compound represented by the general formula (1) contained as a main component in the reactive diluent (b) may be used alone or in combination of two or more.

上記(b)反応性希釈剤は、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(b1)であることが好ましい。トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(b1)を用いた場合、低粘度でありながら、硬化物とした場合に金属との引張せん断接着強さ及びピール接着強さに優れるとの効果、並びに、(d)充填剤を含有する場合であっても硬化物の接着性を維持することができるとの効果が顕著だからである。そして、その理由は、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルが、トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造であり、かつ、特有の四面体骨格を有するからであると推測している。
なお、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの化学構造式を下記式(2)に示す。
The reactive diluent (b) is preferably a reactive diluent (b1) mainly composed of trimethylolpropane triglycidyl ether. When the reactive diluent (b1) containing trimethylolpropane triglycidyl ether as a main component is used, the tensile shear bond strength and peel bond strength with a metal are excellent when cured as a cured product while having low viscosity. And the effect that the adhesiveness of the cured product can be maintained even when (d) a filler is contained. The reason is presumed that trimethylolpropane triglycidyl ether has a trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton and a specific tetrahedral skeleton.
The chemical structural formula of trimethylolpropane triglycidyl ether is shown in the following formula (2).

Figure 0006222428
Figure 0006222428

上記(b)反応性希釈剤として、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(b1)を用いる場合においては、反応性希釈剤(b1)におけるトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの濃度(本発明においては、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの純度に相当する)が非常に重要である。
その理由は、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの合成において、トリメチロールプロパンのアルコール性水酸基をグリシジルエーテル化する際に、原料化合物が未反応のまま残存したり、2官能構造や1官能構造、オリゴマー等の副生成物が発生することがあり、これらの不純物が多量に存在する場合(トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの純度が低い場合)には、トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造や特有の四面体骨格に起因する上述の効果を享受することができないことがあるためである。
In the case where the reactive diluent (b1) mainly composed of trimethylolpropane triglycidyl ether is used as the reactive diluent (b), the concentration of trimethylolpropane triglycidyl ether in the reactive diluent (b1) (In the present invention, corresponding to the purity of trimethylolpropane triglycidyl ether) is very important.
The reason for this is that in the synthesis of trimethylolpropane triglycidyl ether, when the alcoholic hydroxyl group of trimethylolpropane is glycidyl etherified, the raw material compound remains unreacted, or a bifunctional structure, monofunctional structure, oligomer, etc. When these impurities are present in a large amount (when the purity of trimethylolpropane triglycidyl ether is low), a trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton or a specific tetrahedron This is because the above-described effects resulting from the skeleton may not be enjoyed.

反応性希釈剤(b1)におけるトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの純度の指標としては、反応性希釈剤(b1)のエポキシ当量、全ハロゲン量及び粘度が挙げられる。
反応性希釈剤(b1)のエポキシ当量については、反応性希釈剤(b1)におけるトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの純度が100%と仮定した場合の理論値が約101g/eqであり、反応性希釈剤(b1)中に含まれる2官能構造や1官能構造、未反応物等の不純物の量が多ければ多いほど、即ち、反応性希釈剤(b1)中におけるトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの純度が低ければ低いほど、実測値が理論値よりも大きくなるという関係が成り立つ。そのため、反応性希釈剤(b1)のエポキシ当量の実測値が理論値に近いほど、反応性希釈剤(b1)におけるトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの純度が高いと言える。
Examples of the purity index of trimethylolpropane triglycidyl ether in the reactive diluent (b1) include the epoxy equivalent, the total halogen content and the viscosity of the reactive diluent (b1).
The epoxy equivalent of the reactive diluent (b1) has a theoretical value of about 101 g / eq, assuming that the purity of the trimethylolpropane triglycidyl ether in the reactive diluent (b1) is 100%. The greater the amount of impurities such as bifunctional structure, monofunctional structure and unreacted material contained in the agent (b1), that is, the purity of trimethylolpropane triglycidyl ether in the reactive diluent (b1) The lower the value is, the higher the actual measurement value is than the theoretical value. Therefore, it can be said that the purity of the trimethylolpropane triglycidyl ether in the reactive diluent (b1) is higher as the measured value of the epoxy equivalent of the reactive diluent (b1) is closer to the theoretical value.

また、反応性希釈剤(b1)の粘度については、反応性希釈剤(b1)に不純物としてオリゴマーが含まれていると粘度が高くなる傾向があることから、反応性希釈剤(b1)の粘度が低いほど、反応性希釈剤(b1)におけるトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの純度が高いという関係が成り立つ。 Moreover, about the viscosity of a reactive diluent (b1), when the oligomer is contained as an impurity in the reactive diluent (b1), there exists a tendency for a viscosity to become high, Therefore The viscosity of a reactive diluent (b1) The lower the value, the higher the purity of trimethylolpropane triglycidyl ether in the reactive diluent (b1).

また、反応性希釈剤(b1)中の全ハロゲン量については、トリメチロールプロパンのアルコール性水酸基をグリシジルエーテル化する際に、トリメチロールプロパンとエピハロヒドリンとを反応させてグリシジルエーテル化を行った場合には、未反応のエピハロヒドリンが不純物として残留し、その結果、反応性希釈剤(b1)中の全ハロゲン量が多くなり、相対的にトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの含有量が少なくなるため、反応性希釈剤(b1)の全ハロゲン量が少ないほど、反応性希釈剤(b1)におけるトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの純度が高いという関係が成り立つ。
なお、上記エピハロヒドリンとしてエピクロロヒドリンを用いた場合には塩素量が多くなり、エピブロモヒドリンを用いた場合には臭素量が多くなり、エピヨードヒドリンを用いた場合にはヨウ素量が多くなり、エピフルオロヒドリンを用いた場合にはフッ素量が多くなるからである。
The total amount of halogen in the reactive diluent (b1) is determined when glycidyl etherification is carried out by reacting trimethylolpropane with epihalohydrin when the alcoholic hydroxyl group of trimethylolpropane is glycidyl etherified. Is reactive because the unreacted epihalohydrin remains as an impurity, and as a result, the total halogen content in the reactive diluent (b1) increases and the content of trimethylolpropane triglycidyl ether decreases relatively. The relationship is established that the smaller the total halogen content of the diluent (b1), the higher the purity of trimethylolpropane triglycidyl ether in the reactive diluent (b1).
When epichlorohydrin is used as the epihalohydrin, the amount of chlorine is increased, when epibromohydrin is used, the amount of bromine is increased, and when epiiohydrin is used, the amount of iodine is increased. This is because the amount of fluorine increases when epifluorohydrin is used.

上記(b)反応性希釈剤としてトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(b1)を用いる場合において、上記反応性希釈剤(b1)のエポキシ当量は、90〜200g/eqであることが好ましく、101〜120g/eqであことがより好ましい。
エポキシ当量がこの範囲にあると、硬化物とした場合に、金属との引張せん断接着強さ及びピール接着強さが特に良好となるからである。
また、エポキシ当量が上記範囲にあることにより、接着性エポキシ樹脂組成物に(d)充填剤を配合した場合に、エポキシ成分の硬化物と(d)充填剤との間の良好な接着性を確保することができる。
In the case where the reactive diluent (b1) mainly composed of trimethylolpropane triglycidyl ether is used as the reactive diluent (b), the epoxy equivalent of the reactive diluent (b1) is 90 to 200 g / eq. It is preferable that it is 101-120 g / eq.
This is because when the epoxy equivalent is within this range, the tensile shear adhesive strength and peel adhesive strength with a metal are particularly good when cured.
Moreover, when the epoxy equivalent is in the above range, when the filler (d) is blended in the adhesive epoxy resin composition, good adhesion between the cured epoxy component and the filler (d) is obtained. Can be secured.

上記(b)反応性希釈剤としてトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(b1)を用いる場合において、上記反応性希釈剤(b1)の全ハロゲン量が100000ppm以下であることが好ましく、100ppm以下であることがより好ましい。
全ハロゲン量がこの範囲にあると、硬化物とした場合に、金属との引張せん断接着強さ及びピール接着強さが特に良好となるからである。
また、全ハロゲン量が上記範囲にあることにより、接着性エポキシ樹脂組成物に(d)充填剤を配合した場合に、エポキシ成分の硬化物と(d)充填剤との間の良好な接着性を確保することができる。
また、上記全ハロゲン量が100000ppmを超えると、反応性希釈剤(b1)を含有する接着性エポキシ樹脂組成物を層間絶縁膜の用途に用いた場合、硬化物の電気的絶縁性が低下するおそれが生じる。
In the case where the reactive diluent (b1) mainly composed of trimethylolpropane triglycidyl ether is used as the reactive diluent (b), the total halogen content of the reactive diluent (b1) is 100000 ppm or less. Is more preferable, and 100 ppm or less is more preferable.
This is because when the total halogen content is within this range, the tensile shear bond strength and peel bond strength with the metal are particularly good when cured.
In addition, when the total halogen content is in the above range, when (d) filler is blended in the adhesive epoxy resin composition, good adhesion between the cured epoxy component and (d) filler. Can be secured.
If the total halogen content exceeds 100,000 ppm, the electrical insulation of the cured product may be reduced when the adhesive epoxy resin composition containing the reactive diluent (b1) is used for an interlayer insulating film. Occurs.

また、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルをトリメチロールプロパンとエピハロヒドリンとを反応させて合成する場合、エピハロヒドリンとしては一般的にエピクロロヒドリンが使用される。そのため、本発明においては、反応性希釈剤(b1)中の全塩素量が100000ppm以下であることが好ましく、100ppm以下であることがより好ましい。 When trimethylolpropane triglycidyl ether is synthesized by reacting trimethylolpropane with epihalohydrin, epichlorohydrin is generally used as the epihalohydrin. Therefore, in this invention, it is preferable that the total chlorine amount in a reactive diluent (b1) is 100000 ppm or less, and it is more preferable that it is 100 ppm or less.

なお、本発明において、上記反応性希釈剤(b1)中の全ハロゲン量は、下記の方法により求める。
即ち、反応性希釈剤(b1)の全塩素量をJIS K 7243−3に準拠して、全臭素量をJIS K 7392に準拠して、ヨウ素量をJIS K 6217−1に準拠して、フッ素量をJIS K 0102 34.1に準拠してそれぞれ測定し、各測定値を合算して得た値を全ハロゲン量とする。
In the present invention, the total halogen content in the reactive diluent (b1) is determined by the following method.
That is, the total amount of chlorine in the reactive diluent (b1) is based on JIS K 7243-3, the total amount of bromine is based on JIS K 7392, the amount of iodine is based on JIS K 6217-1, The amount is measured according to JIS K 0102 34.1, and the value obtained by adding the respective measured values is defined as the total halogen amount.

上記(b)反応性希釈剤としてトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(b1)を用いる場合において、上記反応性希釈剤(b1)の粘度は、10〜500mPa・sであることが好ましく、粘度が50〜130mPa・sであることがより好ましい。その理由は、粘度がこの範囲にあると、硬化物とした場合に、金属との引張せん断接着強さ及びピール接着強さが特に優れるためである。
また、粘度が上記範囲にあることにより、接着性エポキシ樹脂組成物に(d)充填剤を配合した場合に、エポキシ成分の硬化物と(d)充填剤との間の良好な接着性を確保することができる。
なお、本発明において、粘度とは、25℃における粘度をいう。
When the reactive diluent (b1) mainly composed of trimethylolpropane triglycidyl ether is used as the reactive diluent (b), the reactive diluent (b1) has a viscosity of 10 to 500 mPa · s. It is preferable that the viscosity is 50 to 130 mPa · s. The reason is that when the viscosity is within this range, the tensile shear bond strength and peel bond strength with the metal are particularly excellent when the cured product is used.
Moreover, when the viscosity is in the above range, when (d) filler is blended in the adhesive epoxy resin composition, good adhesion between the cured epoxy component and (d) filler is ensured. can do.
In addition, in this invention, a viscosity means the viscosity in 25 degreeC.

上記(b)反応性希釈剤の含有量は、特に限定されないが、(a)エポキシ樹脂と(b)反応性希釈剤との合計量に対して、5〜95重量%であることが好ましく、5〜70重量%であることがより好ましく、5〜50重量%であることがさらに好ましい。上記(b)反応性希釈剤の含有量が5重量%未満であると、エポキシ樹脂組成物の粘度が高くなることがあり、95重量%を超えると、硬化物の機械物性が低下することがある。 The content of the (b) reactive diluent is not particularly limited, but is preferably 5 to 95% by weight based on the total amount of the (a) epoxy resin and the (b) reactive diluent, It is more preferably 5 to 70% by weight, and further preferably 5 to 50% by weight. When the content of the reactive diluent (b) is less than 5% by weight, the viscosity of the epoxy resin composition may increase, and when it exceeds 95% by weight, the mechanical properties of the cured product may decrease. is there.

<(a)エポキシ樹脂>
本発明において、上記(a)エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有する樹脂(化合物)であって、上記(b)反応性希釈剤に該当しないものをいう。
上記(a)エポキシ樹脂としては、特に限定されず公知のエポキシ樹脂を用いることができ、その具体例としては、例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールフェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールクレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、エチルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ブチルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、オクチルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック型エポキシ樹脂、4,4’−ビフェニルフェノール型エポキシ樹脂、テトラメチル−4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂、ジメチル−4,4’−ビフェニルフェノール型エポキシ樹脂、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン型エポキシ樹脂、2,2’―メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)型エポキシ樹脂、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ピロガロール型エポキシ樹脂、ジイソプロピリデン型エポキシ樹脂、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフルオレン型エポキシ樹脂、フェノール化ポリブタジエン型エポキシ樹脂、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−シクロヘキシルカルボキシレート型エポキシ樹脂、1,4−ブタンジオール型エポキシ樹脂、1,6−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂、ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ペンタエリスリトール型エポキシ樹脂、キシリレングリコール誘導体型エポキシ樹脂、イソシアヌル環型エポキシ樹脂、ヒダントイン環型エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂、アニリン型エポキシ樹脂、トルイジン型エポキシ樹脂、p−フェニレンジアミン型エポキシ樹脂、m−フェニレンジアミン型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン誘導体型エポキシ樹脂、ジアミノメチルベンゼン誘導体型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ブロム化クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらの(a)エポキシ樹脂は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
<(A) Epoxy resin>
In the present invention, the above (a) epoxy resin refers to a resin (compound) having an epoxy group, which does not correspond to the above (b) reactive diluent.
The (a) epoxy resin is not particularly limited, and a known epoxy resin can be used. Specific examples thereof include, for example, a biphenyl type epoxy resin, a tetramethylbiphenyl type epoxy resin, a phenol novolac type epoxy resin, and cresol. Novolak type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol phenol Condensed novolac type epoxy resin, naphthol cresol co-condensed novolac type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin type epoxy resin, biphenyl novolac Type epoxy resin, ethylphenol novolak type epoxy resin, butylphenol novolak type epoxy resin, octylphenol novolak type epoxy resin, xylylene skeleton containing phenol novolak type epoxy resin, fluorene skeleton containing phenol novolak type epoxy resin, 4,4'-biphenylphenol type epoxy Resin, tetramethyl-4,4′-biphenol type epoxy resin, dimethyl-4,4′-biphenylphenol type epoxy resin, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis (4 -Hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane type epoxy resin, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol) type epoxy resin, 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butyl) Phenol) type epoxy resin, trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, pyrogallol type epoxy resin, diisopropylidene type epoxy resin, 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene type epoxy resin Phenolic polybutadiene type epoxy resin, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-cyclohexylcarboxylate type epoxy resin, 1,4-butanediol type epoxy resin, 1,6-hexanediol type epoxy resin, polyethylene Glycol type epoxy resin, polypropylene glycol type epoxy resin, pentaerythritol type epoxy resin, xylylene glycol derivative type epoxy resin, isocyanuric ring type epoxy resin, hydantoy Ring type epoxy resin, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester type epoxy resin, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester type epoxy resin, aniline type epoxy resin, toluidine type epoxy resin, p-phenylenediamine type epoxy resin, m-phenylenediamine type epoxy Resin, diaminodiphenylmethane derivative type epoxy resin, diaminomethylbenzene derivative type epoxy resin, brominated phenol novolac type epoxy resin, brominated cresol novolac type epoxy resin and the like.
These (a) epoxy resins may be used independently and may use 2 or more types together.

上記(a)エポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、上記接着性エポキシ樹脂組成物中、1〜60重量%であることが好ましく、5〜50重量%であることがより好ましい。上記(a)エポキシ樹脂の含有量が1重量%未満であると、硬化物の機械物性が低下することがあり、60重量%を超えると、エポキシ樹脂組成物の粘度が高くなり作業性に劣ることがある。 Although content of the said (a) epoxy resin is not specifically limited, It is preferable that it is 1 to 60 weight% in the said adhesive epoxy resin composition, and it is more preferable that it is 5 to 50 weight%. When the content of the epoxy resin (a) is less than 1% by weight, the mechanical properties of the cured product may be lowered. When the content exceeds 60% by weight, the viscosity of the epoxy resin composition is increased and the workability is inferior. Sometimes.

<(c)硬化剤>
上記(c)硬化剤としては、特に限定されず、公知の硬化剤を用いることができ、その具体例としては、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾール、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾール、三フッ化ホウ素−アミン錯体、グアニジン誘導体、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンにより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、多価ヒドロキシ化合物とホルムアルデヒドとから合成される多価フェノールノボラック樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトールフェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトールクレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂、アルコキシ基含有芳香環変性ノボラック樹脂等が挙げられる。
これらの(c)硬化剤は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
<(C) Curing agent>
The (c) curing agent is not particularly limited, and a known curing agent can be used. Specific examples thereof include 2-ethyl-4-methylimidazole, diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, Diaminodiphenyl sulfone, isophorone diamine, imidazole, boron trifluoride-amine complex, guanidine derivative, dicyandiamide, polyamide resin synthesized from linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride , Maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, phenol novolac resin, cresol novolac resin, aromatic Aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin, dicyclopentadiene phenol addition type resin, phenol aralkyl resin, polyhydric phenol novolac resin synthesized from polyhydric hydroxy compound and formaldehyde, naphthol aralkyl resin, trimethylol methane resin, tetraphenylol Examples include ethane resins, naphthol novolak resins, naphthol phenol co-condensed novolak resins, naphthol cresol co-condensed novolak resins, biphenyl-modified phenol resins, biphenyl-modified naphthol resins, aminotriazine-modified phenol resins, alkoxy group-containing aromatic ring-modified novolak resins, and the like.
These (c) curing agents may be used alone or in combination of two or more.

上記フェノールアラルキル樹脂は、ザイロック樹脂ともいう。
上記ビフェニル変性フェノール樹脂とは、ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価フェノール化合物をいう。
上記ビフェニル変性ナフトール樹脂とは、ビスメチレン基でナフトール核が連結された多価ナフトール化合物をいう。
上記アミノトリアジン変性フェノール樹脂とは、メラミン、ベンゾグアナミン等でフェノール核が連結された多価フェノール化合物をいう。
上記アルコキシ基含有芳香環変性ノボラック樹脂とは、ホルムアルデヒドでフェノール核及びアルコキシ基含有芳香環が連結された多価フェノール化合物をいう。
The phenol aralkyl resin is also referred to as a zyloc resin.
The biphenyl-modified phenol resin refers to a polyhydric phenol compound in which phenol nuclei are linked by a bismethylene group.
The biphenyl-modified naphthol resin is a polyvalent naphthol compound in which naphthol nuclei are linked by a bismethylene group.
The aminotriazine-modified phenol resin refers to a polyhydric phenol compound in which phenol nuclei are linked with melamine, benzoguanamine or the like.
The alkoxy group-containing aromatic ring-modified novolak resin refers to a polyhydric phenol compound in which a phenol nucleus and an alkoxy group-containing aromatic ring are connected with formaldehyde.

上記(c)硬化剤の含有量は、エポキシ樹脂組成物中に通常配合される量であれば良く、接着性エポキシ樹脂組成物中に含まれる(a)エポキシ樹脂及び(b)反応性希釈剤のエポキシ当量や、各種硬化剤の配合規定を考慮して、適宜設定すれば良い。 The content of the curing agent (c) may be an amount usually blended in the epoxy resin composition, and (a) the epoxy resin and (b) the reactive diluent contained in the adhesive epoxy resin composition. It may be set as appropriate in consideration of the epoxy equivalent of and the blending rules of various curing agents.

上記接着性エポキシ樹脂組成物は、上記(a)エポキシ樹脂、(b)反応性希釈剤、(c)硬化剤の他に、必要に応じて他の任意成分を含有していても良い。
上記他の任意成分としては、(d)充填剤、(e)硬化促進剤、(f)有機溶剤、(g)接着性付与剤等が挙げられる。
The adhesive epoxy resin composition may contain other optional components as required in addition to the (a) epoxy resin, (b) reactive diluent, and (c) curing agent.
Examples of the other optional components include (d) a filler, (e) a curing accelerator, (f) an organic solvent, and (g) an adhesion promoter.

<(d)充填剤>
上記(d)充填剤としては、特に限定されず公知の充填剤を用いることができ、例えば、無機酸化物、無機塩、ガラス、窒化物、金属粉等からなるものが挙げられ、これらは接着性エポキシ樹脂組成物の用途に応じて、適宜選択して用いればよい。
上記無機酸化物としては、特に限定されず、例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ベリリウム、酸化ジルコニウム等が挙げられる。
上記無機塩としては、特に限定されず、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム等が挙げられる。
上記窒化物としては、特に限定されず、例えば、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、窒化インジウム、窒化ケイ素等が挙げられる。
上記金属粉としては、特に限定されず、例えば、銀粉、銅粉、銀メッキ銅粉、スズメッキ銅粉、ニッケル粉、アルミニウム粉等が挙げられる。
本発明の接着性エポキシ樹脂組成物を電子回路基板に設ける放熱部材の形成に用いる場合、上記(d)充填剤は、窒化ホウ素であることが好ましい。その理由は、熱伝導率が高く、かつ、熱膨張率が低いためである。
これらの(d)充填剤は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
また、上記(d)充填剤の形状も特に限定されず、粒子状、繊維状、鱗片状等、任意の形状であればよい。
<(D) Filler>
The (d) filler is not particularly limited, and a known filler can be used, and examples thereof include those made of inorganic oxides, inorganic salts, glass, nitrides, metal powders, and the like. The epoxy resin composition may be appropriately selected and used according to the use of the epoxy resin composition.
The inorganic oxide is not particularly limited, and examples thereof include titanium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, beryllium oxide, and zirconium oxide.
The inorganic salt is not particularly limited, and examples thereof include calcium carbonate, barium sulfate, zirconium silicate, calcium silicate, and magnesium silicate.
The nitride is not particularly limited, and examples thereof include boron nitride, aluminum nitride, gallium nitride, indium nitride, and silicon nitride.
It does not specifically limit as said metal powder, For example, silver powder, copper powder, silver plating copper powder, tin plating copper powder, nickel powder, aluminum powder etc. are mentioned.
When the adhesive epoxy resin composition of the present invention is used to form a heat dissipation member provided on an electronic circuit board, the filler (d) is preferably boron nitride. The reason is that the thermal conductivity is high and the thermal expansion coefficient is low.
These (d) fillers may be used alone or in combination of two or more.
In addition, the shape of the filler (d) is not particularly limited, and may be any shape such as a particulate shape, a fibrous shape, and a scale shape.

上記接着性エポキシ樹脂組成物が上記(d)充填剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、上記接着性エポキシ樹脂組成物中、5〜95重量%であることが好ましく、10〜80重量%であることがより好ましい。
上記(d)充填剤の含有量が5重量%未満であると、熱膨張係数が高くなることがあり、95重量%を超えると、粘度が高くなり、作業性が低下することがある。
When the said adhesive epoxy resin composition contains the said (d) filler, the content is although it does not specifically limit, It is preferable that it is 5-95 weight% in the said adhesive epoxy resin composition. More preferably, it is -80 weight%.
When the content of the filler (d) is less than 5% by weight, the thermal expansion coefficient may be high, and when it exceeds 95% by weight, the viscosity may be high and workability may be reduced.

<(e)硬化促進剤>
本発明において、上記(e)硬化促進剤とは、上記接着性エポキシ樹脂組成物が硬化する際にそれ自体架橋することはないが、架橋反応を促進するものをいう。
上記(e)硬化促進剤としては、特に限定されず公知の硬化促進剤を用いることができ、例えば、トリフェニルホスフィン、イミダゾール、第3級アミン等が挙げられる。
上記イミダゾールとしては、特に限定されず、例えば、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール等が挙げられる。
上記第3級アミンとしては、特に限定されず、例えば、ベンジルメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジアミノメチル)フェノール、トリエチルアミン、1、5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネン(サンアプロ社商標:DBN)、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン(サンアプロ社商標:DBU)、DBU−フェノール塩、DBU−オクチル酸塩、DBU−p−トルエンスルホン酸塩等が挙げられる。
これらの(e)硬化促進剤は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
<(E) Curing accelerator>
In the present invention, the above (e) curing accelerator refers to a substance that does not crosslink itself when the adhesive epoxy resin composition is cured, but promotes a crosslinking reaction.
The (e) curing accelerator is not particularly limited, and a known curing accelerator can be used. Examples thereof include triphenylphosphine, imidazole, and tertiary amine.
The imidazole is not particularly limited. For example, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methyl Examples include imidazole.
The tertiary amine is not particularly limited, and for example, benzylmethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (diaminomethyl) phenol, triethylamine, 1,5-diazabicyclo [4. , 3,0] -5-Nonene (Trademark: DBA), 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (Trademark: DBU), DBU-phenol salt, DBU-octylic acid Examples thereof include salts and DBU-p-toluenesulfonate.
These (e) curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

上記接着性エポキシ樹脂組成物が上記(e)硬化促進剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、上記接着性エポキシ樹脂組成物中、0.1〜10重量%であることが好ましく、0.3〜7重量%であることがより好ましく、0.5〜5重量%であることがさらに好ましい。
上記(e)硬化促進剤の含有量が0.1重量%未満であると、硬化性が低下することがあり、10重量%を超えると、エポキシ樹脂組成物を半硬化させる際、半硬化状態とするための硬化時間や硬化温度等の硬化条件を厳密に制御しなければならず、作業性が低下することがある。
When the said adhesive epoxy resin composition contains the said (e) hardening accelerator, the content is although it does not specifically limit, It is 0.1 to 10 weight% in the said adhesive epoxy resin composition. Preferably, it is 0.3-7 weight%, More preferably, it is 0.5-5 weight%.
When the content of the above (e) curing accelerator is less than 0.1% by weight, the curability may be lowered. Therefore, the curing conditions such as the curing time and the curing temperature must be strictly controlled, and workability may be reduced.

<(f)有機溶剤>
上記(f)有機溶剤としては、特に限定されず、例えば、N−メチルピロリドン;N,N−ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート及び上記グリコールエーテル類のエステル化物等のエステル類;エタノール、プロパノール、メタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤等が挙げられる。
これらの(f)有機溶剤は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
<(F) Organic solvent>
The organic solvent (f) is not particularly limited. For example, N-methylpyrrolidone; N, N-dimethylformamide; dimethyl sulfoxide; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone; toluene, xylene, tetramethylbenzene Aromatic hydrocarbons such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether Ethers; ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate and the above-mentioned glycol ethers Esters such as chlorides; Alcohols such as ethanol, propanol, methanol, ethylene glycol, and propylene glycol; Aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Petroleum such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha System solvents and the like.
These (f) organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

上記接着性エポキシ樹脂組成物が上記(f)有機溶剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、上記接着性エポキシ樹脂組成物に対して、20〜300重量%であることが好ましい。
上記(f)有機溶剤の含有量が20重量%未満であると、粘度が高くなることがあり、300重量%を超えると、硬化性が低下することがある。
When the said adhesive epoxy resin composition contains the said (f) organic solvent, the content is although it does not specifically limit, It is preferable that it is 20 to 300 weight% with respect to the said adhesive epoxy resin composition. .
If the content of the organic solvent (f) is less than 20% by weight, the viscosity may be increased, and if it exceeds 300% by weight, the curability may be lowered.

<(g)接着性付与剤>
上記(g)接着性付与剤としては、特に限定されず、例えば、カップリング剤、フェノール樹脂、有機ポリイソシアネート等が挙げられる。
上記カップリング剤としては、例えば、シラン系、アルミニウム系、ジルコアルミネート系、チタン系等の各種カップリング剤や、これらの部分加水分解縮合物等が挙げられる。これらのカップリング剤の中では、シラン系カップリング剤やその部分加水分解縮合物が、接着性付与効果が高いことから好ましい。
なお、カップリング剤の部分加水分解縮合物は、同種以上のカップリング剤の部分加水分解縮合物であってもよいし、2種以上のカップリング剤の部分加水分解縮合物であってもよい。
上記シラン系カップリング剤としては、例えば、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等のアルコキシシリル基を含有する化合物等が挙げられる。
これらの(g)接着性付与剤は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
<(G) Adhesiveness imparting agent>
The (g) adhesiveness imparting agent is not particularly limited, and examples thereof include a coupling agent, a phenol resin, and an organic polyisocyanate.
Examples of the coupling agent include various coupling agents such as silane-based, aluminum-based, zircoaluminate-based, and titanium-based compounds, and partial hydrolysis condensates thereof. Among these coupling agents, silane coupling agents and partial hydrolysis-condensation products thereof are preferable because of their high adhesiveness-imparting effects.
The partially hydrolyzed condensate of the coupling agent may be a partially hydrolyzed condensate of the same or more coupling agents, or may be a partially hydrolyzed condensate of two or more coupling agents. .
Examples of the silane coupling agent include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2- Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, etc. The compound etc. which contain the alkoxy silyl group of these are mentioned.
These (g) adhesiveness imparting agents may be used alone or in combination of two or more.

上記接着性エポキシ樹脂組成物が上記(g)接着性付与剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、上記接着性エポキシ樹脂組成物中、3〜30重量%であることが好ましい。
上記(g)接着性付与剤の含有量が3重量%未満であると、接着性が低下することがあり、30重量%を超えると、コスト高となり、また作業性、貯蔵安定性が悪化することがある。
When the said adhesive epoxy resin composition contains the said (g) adhesive imparting agent, the content is although it does not specifically limit, It is preferable that it is 3-30 weight% in the said adhesive epoxy resin composition. .
When the content of the above-mentioned (g) adhesiveness-imparting agent is less than 3% by weight, the adhesiveness may be lowered, and when it exceeds 30% by weight, the cost is increased, and workability and storage stability are deteriorated. Sometimes.

<接着性エポキシ樹脂組成物の作製方法>
上記接着性エポキシ樹脂組成物は、(a)エポキシ樹脂、(b)反応性希釈剤、及び、(c)硬化剤、更には、必要に応じて(d)充填剤、(e)硬化促進剤、(f)有機溶剤、(g)接着性付与剤等の任意成分を混合することにより得ることができる。
これらを混合する方法としては、特に限定されず従来公知の方法を用いることができるが、例えば、撹拌機を用いて撹拌する方法、3本ロールミルを用いて混練する方法等を用いることができる。
<Method for producing adhesive epoxy resin composition>
The adhesive epoxy resin composition comprises (a) an epoxy resin, (b) a reactive diluent, and (c) a curing agent, and further, if necessary, (d) a filler, (e) a curing accelerator. (F) Organic solvent, (g) It can obtain by mixing arbitrary components, such as adhesive provision agent.
A method of mixing these is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. For example, a method of stirring using a stirrer, a method of kneading using a three-roll mill, or the like can be used.

<硬化物>
上記接着性エポキシ樹脂組成物を硬化させることにより、硬化物を得ることができる。
上記接着性エポキシ樹脂組成物を硬化させる方法としては、特に限定されないが、例えば、加熱装置を用いて、100℃にて1時間、その後180℃にて4時間加熱する方法等が挙げられる。
上記加熱装置としては、特に限定されず、例えば、送風定温乾燥器、定温恒温乾燥器等を用いることができる。
<Hardened product>
A cured product can be obtained by curing the adhesive epoxy resin composition.
The method of curing the adhesive epoxy resin composition is not particularly limited, and examples thereof include a method of heating at 100 ° C. for 1 hour and then at 180 ° C. for 4 hours using a heating device.
It does not specifically limit as said heating apparatus, For example, a ventilation constant temperature dryer, a constant temperature constant temperature dryer, etc. can be used.

<用途>
上記接着性エポキシ樹脂組成物の用途としては特に限定されず、金属を被着体とし、金属との間で接着性が要求される用途であればいずれの用途であっても好適に使用することができる。
具体的には、例えば、金属用接着剤は勿論のこと、配線板の層間絶縁膜を形成するための樹脂組成物、プリプレグを作製するための含浸用樹脂組成物、封止剤用樹脂組成物、放熱材料用樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物、金属箔引積層板用樹脂組成物、繊維強化複合材用樹脂組成物、電磁波遮蔽板用樹脂組成物、太陽電池モジュール用樹脂組成物等であって、金属との接着性が要求される部位に使用される樹脂組成物として好適に使用することができる。
<Application>
The application of the adhesive epoxy resin composition is not particularly limited, and it is preferably used for any application as long as the metal is an adherend and adhesion is required with the metal. Can do.
Specifically, for example, a metal composition, a resin composition for forming an interlayer insulating film of a wiring board, a resin composition for impregnation for preparing a prepreg, and a resin composition for a sealant , Resin composition for heat dissipation material, resin composition for optical material, resin composition for metal foil-clad laminate, resin composition for fiber reinforced composite material, resin composition for electromagnetic wave shielding plate, resin composition for solar cell module, etc. And it can be used conveniently as a resin composition used for the site | part which requires the adhesiveness with a metal.

上記接着性エポキシ樹脂組成物は、特に、配線板の層間絶縁膜を形成するための樹脂組成物として好適に用いることができる。
その理由は、上述した通り、上記接着性エポキシ樹脂組成物は、(b)特定の構造(トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造)を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を含むため、低粘度でありながら、硬化物とした場合に金属との引張せん断接着強さ及びピール接着強さに優れるとの特性を有するからである。
また、上記接着性エポキシ樹脂組成物は、配線板の回路を構成する一般的な材料であるCuとの密着性に優れ、このことも層間絶縁膜を形成するための樹脂組成物として好適に用いることができる理由の1つである。
In particular, the adhesive epoxy resin composition can be suitably used as a resin composition for forming an interlayer insulating film of a wiring board.
The reason is that, as described above, the adhesive epoxy resin composition includes a reactive diluent mainly composed of an epoxy compound having (b) a specific structure (trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton). This is because, when it is made into a cured product, it has a property of being excellent in tensile shear adhesive strength and peel adhesive strength with a metal while having low viscosity.
Further, the adhesive epoxy resin composition is excellent in adhesion with Cu, which is a general material constituting a circuit of a wiring board, and this is also suitably used as a resin composition for forming an interlayer insulating film. This is one reason why it can.

上記接着性エポキシ樹脂組成物は、上述した通り、硬化後に各種金属との間で優れた密着性を示すが、特に、Cu、Al、Ga、In、Fe、Ni、Ag、Au、Pb、Mn、Ti、Cr、Mo、W、Snとの間で優れた密着性を示す。 As described above, the adhesive epoxy resin composition exhibits excellent adhesion with various metals after curing, and in particular, Cu, Al, Ga, In, Fe, Ni, Ag, Au, Pb, Mn Excellent adhesion between Ti, Cr, Mo, W, and Sn.

また、上記接着性エポキシ樹脂組成物が(d)充填剤を含有する場合、上記接着性エポキシ樹脂組成物は、電子回路基板に設ける放熱部材を形成するための樹脂組成物としても好適に用いることができる。
その理由は、上述した通り、上記接着性エポキシ樹脂組成物は、(b)特定の構造(トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造)を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を含むため、(d)充填剤を配合した場合であっても硬化物とした場合に接着性が低下することなく、金属回路等の電子回路基板を構成する金属部材との引張せん断接着強さ及びピール接着強さに優れるとの特性を有するためである。
Moreover, when the said adhesive epoxy resin composition contains (d) filler, the said adhesive epoxy resin composition should be used suitably also as a resin composition for forming the heat radiating member provided in an electronic circuit board. Can do.
The reason is that, as described above, the adhesive epoxy resin composition includes a reactive diluent mainly composed of an epoxy compound having (b) a specific structure (trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton). (D) Even when a filler is blended, when it is a cured product, the adhesiveness does not decrease, and the tensile shear bond strength and peel adhesion with a metal member constituting an electronic circuit board such as a metal circuit It is because it has the characteristic that it is excellent in strength.

<<層間絶縁膜形成用フィルム>>
次に、本発明の層間絶縁膜形成用フィルムについて説明する。
本発明の層間絶縁膜形成用フィルムは、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなることを特徴とする。
上記層間絶縁膜形成用フィルムは、通常、離型性に優れた支持フィルム上に製膜された本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなるフィルムである。
<< Interlayer insulating film forming film >>
Next, the interlayer insulating film forming film of the present invention will be described.
The film for forming an interlayer insulating film of the present invention is characterized by comprising the adhesive epoxy resin composition of the present invention.
The film for forming an interlayer insulation film is usually a film made of the adhesive epoxy resin composition of the present invention formed on a support film having excellent releasability.

上記支持フィルムとしては特に限定されず、例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート等からなるフィルムが挙げられる。また、上記支持フィルムはその表面が離型剤で処理される等の表面処理が施されていても良い。 The support film is not particularly limited, and examples thereof include films made of polyolefins such as polyethylene and polyvinyl chloride, polyesters such as polyethylene terephthalate, and polycarbonates. The support film may be subjected to surface treatment such as treatment of the surface with a release agent.

上記接着性エポキシ樹脂組成物を上記支持フィルム上で製膜する方法としては、上記接着性エポキシ樹脂組成物を従来公知の方法、例えば、カーテンコート、ロールコート、スプレーコート、バーコート、スクリーン印刷等の方法で塗布した後、必要に応じて、有機溶媒等を乾燥除去する方法が挙げられる。 As a method of forming the adhesive epoxy resin composition on the support film, the adhesive epoxy resin composition is conventionally known, for example, curtain coating, roll coating, spray coating, bar coating, screen printing, etc. After applying by this method, there may be mentioned a method of drying and removing an organic solvent or the like, if necessary.

また、上記層間絶縁膜形成用フィルムは、上記支持フィルム上に塗布した上記接着性エポキシ樹脂組成物を半硬化状態(Bステージ状態)にしたものであっても良く、更には、完全に硬化させたものであってもよい。 The interlayer insulating film-forming film may be a semi-cured state (B-stage state) of the adhesive epoxy resin composition applied on the support film, and further completely cured. It may be.

上記層間絶縁膜形成用フィルムは、その片面及び/又は両面に、金属回路パターンや、ベタの導体層が形成されていても良い。
上記金属回路パターンや導体層は、例えば、メッキや蒸着等の従来公知の方法により形成すれば良い。
The interlayer insulating film-forming film may have a metal circuit pattern or a solid conductor layer formed on one side and / or both sides thereof.
What is necessary is just to form the said metal circuit pattern and conductor layer by conventionally well-known methods, such as plating and vapor deposition, for example.

このような層間絶縁膜形成用フィルムは、多層配線板の層間絶縁膜を形成するための材料として好適に使用することができる。 Such a film for forming an interlayer insulating film can be suitably used as a material for forming an interlayer insulating film of a multilayer wiring board.

<<配線板>>
次に、本発明の配線板について説明する。
本発明の配線板は、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜を備えたことを特徴とする。
即ち、配線板を構成する絶縁層が上記接着性エポキシ樹脂組成物により形成されている。
以下、配線板が内層回路基板上にビルドアップ層が積層されたビルドアップ配線板である場合を例に、本発明の配線板を説明する。
勿論、本発明の配線板は上記ビルドアップ配線板に限定されるわけではなく、全層がビルドアップ層のみで構成されたビルドアップ配線板であってもよいし、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなる1層の層間絶縁膜の片面に金属回路が形成された単層板であってもよいし、他の多層配線板であってもよい。
<< wiring board >>
Next, the wiring board of the present invention will be described.
The wiring board of the present invention includes an interlayer insulating film made of the adhesive epoxy resin composition of the present invention.
That is, the insulating layer which comprises a wiring board is formed with the said adhesive epoxy resin composition.
Hereinafter, the wiring board of the present invention will be described by taking as an example a case where the wiring board is a build-up wiring board in which a build-up layer is laminated on an inner layer circuit board.
Of course, the wiring board of the present invention is not limited to the above-mentioned buildup wiring board, and may be a buildup wiring board in which all layers are composed only of the buildup layer, or the adhesive epoxy resin of the present invention. A single-layer board in which a metal circuit is formed on one surface of a single interlayer insulating film made of the composition may be used, or another multilayer wiring board may be used.

上記ビルドアップ配線板では、内層回路基板上に本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜と導電層(金属回路)とが交互に積層されている。
このようなビルドアップ配線板を作製する方法としては、具体的には、例えば、
(1)内層回路基板上に上記層間絶縁膜形成用フィルムを積層した後、上記層間絶縁膜形成用フィルムを硬化させるとともに、必要に応じてビアホール等を形成し、層間絶縁膜とする。その後、上記層間絶縁膜上に、サブトラクティブ法やアディティブ法等の従来公知の方法により金属からなる導体回路を形成する。この層間絶縁膜を形成する工程と導体回路を形成する工程とを繰り返すことによりビルドアップ配線板を作製する方法を採用することができる。
なお、このとき、上記層間絶縁膜形成用フィルムとして、その表面に回路パターンやベタの導体層が積層された層間絶縁膜形成用フィルムを用いることもできる。
In the build-up wiring board, interlayer insulating films and conductive layers (metal circuits) made of the adhesive epoxy resin composition of the present invention are alternately laminated on an inner layer circuit board.
As a method for producing such a build-up wiring board, specifically, for example,
(1) After laminating the interlayer insulating film forming film on the inner layer circuit board, the interlayer insulating film forming film is cured, and via holes are formed as necessary to form an interlayer insulating film. Thereafter, a conductor circuit made of metal is formed on the interlayer insulating film by a conventionally known method such as a subtractive method or an additive method. A method of producing a build-up wiring board by repeating the step of forming the interlayer insulating film and the step of forming the conductor circuit can be employed.
At this time, as the interlayer insulating film forming film, an interlayer insulating film forming film having a circuit pattern or a solid conductor layer laminated on the surface thereof may be used.

また、例えば、
(2)内層回路基板上に上記接着性エポキシ樹脂組成物を塗布した後、塗布された接着性エポキシ樹脂組成物を硬化させるとともに、必要に応じてビアホール等を形成し、層間絶縁膜とする。その後、上記層間絶縁膜上に、サブトラクティブ法やアディティブ法等の従来公知の方法により金属からなる導体回路を形成する。この層間絶縁膜を形成する工程と導体回路を形成する工程とを繰り返すことによりビルドアップ配線板を作製する方法を採用することができる。
ここで、上記接着性エポキシ樹脂組成物を塗布する方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができるが、例えば、カーテンコート、ロールコート、スプレーコート、スクリーン印刷等の方法が挙げられる。
For example,
(2) After applying the adhesive epoxy resin composition on the inner circuit board, the applied adhesive epoxy resin composition is cured, and via holes are formed as necessary to form an interlayer insulating film. Thereafter, a conductor circuit made of metal is formed on the interlayer insulating film by a conventionally known method such as a subtractive method or an additive method. A method of producing a build-up wiring board by repeating the step of forming the interlayer insulating film and the step of forming the conductor circuit can be employed.
Here, the method for applying the adhesive epoxy resin composition is not particularly limited, and a known method can be used. Examples thereof include curtain coating, roll coating, spray coating, and screen printing. .

また、上記接着性エポキシ樹脂組成物の硬化は、必要に応じて、加圧しながら行っても良い。加圧することにより、層間絶縁膜と導体回路との引張せん断接着性及びピール接着性をより高めることができる。
上記接着性エポキシ樹脂組成物の硬化を加圧しながら行う場合、加圧する方法としては、特に限定されないが、例えば、加圧ロールを用いて加圧する方法等が挙げられる。また、その圧力は、特に限定されないが、0.1〜20MPaであることが好ましく、0.2〜15MPaであることがより好ましい。圧力が0.1MPa未満であると、層間絶縁膜と導体回路との引張せん断接着性及びピール接着性向上効果を享受することができないことがあり、20MPaを超えると、層間絶縁膜の厚さを調整することができないことがある。
Moreover, you may perform hardening of the said adhesive epoxy resin composition, pressing as needed. By applying pressure, the tensile shear adhesiveness and peel adhesiveness between the interlayer insulating film and the conductor circuit can be further enhanced.
When the curing of the adhesive epoxy resin composition is performed while applying pressure, the method of applying pressure is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying pressure using a pressure roll. The pressure is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 MPa, and more preferably 0.2 to 15 MPa. If the pressure is less than 0.1 MPa, the effect of improving the tensile shear adhesion and peel adhesion between the interlayer insulating film and the conductor circuit may not be obtained. If the pressure exceeds 20 MPa, the thickness of the interlayer insulating film may be reduced. It may not be possible to adjust.

本発明の配線板において、導体回路を構成する金属としては、例えば、Cu、Ni、Cr、Sn、Ag、Al等が挙げられる。 In the wiring board of the present invention, examples of the metal constituting the conductor circuit include Cu, Ni, Cr, Sn, Ag, and Al.

本発明の配線板において、上記層間絶縁膜の厚さは、特に限定されないが、0.5〜300μmであることが好ましく、20〜40μmであることがより好ましい。
上記層間絶縁膜の厚さが0.5μm未満であると、層間の絶縁性を確保できなくなることがあり、300μmを超えると、薄形の配線板に適さず、ビアホールの形成等に時間がかかり、また、コスト高となることがある。
In the wiring board of the present invention, the thickness of the interlayer insulating film is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 300 μm, and more preferably 20 to 40 μm.
If the thickness of the interlayer insulating film is less than 0.5 μm, insulation between the layers may not be secured. If the thickness exceeds 300 μm, it is not suitable for a thin wiring board and it takes time to form a via hole. Also, the cost may be high.

このような本発明の配線板は、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜を備えるため、金属回路と層間絶縁膜とが高い密着性を有し、金属回路の剥離の発生を回避することができ、信頼性に優れる。 Since the wiring board of the present invention includes an interlayer insulating film made of the adhesive epoxy resin composition of the present invention, the metal circuit and the interlayer insulating film have high adhesion, and the occurrence of peeling of the metal circuit is prevented. It can be avoided and has excellent reliability.

<<電子回路基板>>
次に、本発明の電子回路基板について説明する。
本発明の電子回路基板は、本発明の(d)充填剤を含有する接着性エポキシ樹脂組成物からなる放熱部材を備えたことを特徴とする。
上記電子回路基板は、例えば、上述したようなビルドアップ基板等の配線板にICチップ等の半導体素子が実装され、更に放熱部材が形成されたものである。
<< Electronic circuit board >>
Next, the electronic circuit board of the present invention will be described.
The electronic circuit board of the present invention is characterized by including a heat dissipating member made of an adhesive epoxy resin composition containing the filler (d) of the present invention.
The electronic circuit board is obtained by mounting a semiconductor element such as an IC chip on a wiring board such as a build-up board as described above and further forming a heat dissipation member.

ここで、上記放熱部材は、本発明の接着性エポキシ樹脂組成物のうち、(d)充填剤を含有する接着性エポキシ樹脂組成物を用いて形成されている。このとき、(d)充填剤としては窒化ホウ素を含有することが好ましい。熱伝導率が高く、かつ、熱膨張率が低いためである。
上記放熱部材を形成する方法としては特に限定されず、例えば、予め接着性エポキシ樹脂組成物を未硬化、半硬化又は硬化状態のシート状に加工しておき、これを半導体素子が実装された配線板に貼付し、その後、必要に応じて硬化させることにより形成しても良いし、半導体素子が実装された配線板に、接着性エポキシ樹脂組成物を塗布等により直接供給した後、硬化処理を行うことにより形成してもよい。
Here, the said heat radiating member is formed using the adhesive epoxy resin composition containing (d) filler among the adhesive epoxy resin compositions of this invention. At this time, it is preferable that (d) the filler contains boron nitride. This is because the thermal conductivity is high and the thermal expansion coefficient is low.
The method for forming the heat radiating member is not particularly limited. For example, the adhesive epoxy resin composition is previously processed into an uncured, semi-cured or cured sheet, and this is a wiring on which a semiconductor element is mounted. It may be formed by affixing to a board and then curing as necessary, or after directly supplying the adhesive epoxy resin composition by coating or the like to a wiring board on which a semiconductor element is mounted, a curing treatment is performed. You may form by doing.

上記電子回路基板では、上記放熱部材は、金属回路等の金属部材と接するように形成されていることが好ましい。上記放熱部材は金属との接着性に優れるからである。
また、上記放熱部材を形成する場合、電子回路基板の各面(表面及び裏面)において、その全体を覆うように形成しても良いし、一部にのみ存在するように形成してもよい。
In the electronic circuit board, the heat dissipation member is preferably formed so as to be in contact with a metal member such as a metal circuit. This is because the heat dissipating member is excellent in adhesion to metal.
Moreover, when forming the said heat radiating member, in each surface (front surface and back surface) of an electronic circuit board, you may form so that the whole may be covered, and you may form so that it may exist only in part.

このような電子回路基板は、本発明の(d)充填剤を含有する接着性エポキシ樹脂組成物からなる放熱部材を備えるため、金属回路等の金属部材と放熱部材とが高い密着性を有することとなる。そのため、熱伝導時に障壁となりえる空気層等が介在しにくく、効率良く放熱することができる。 Since such an electronic circuit board includes a heat radiating member made of an adhesive epoxy resin composition containing the filler (d) of the present invention, the metal member such as a metal circuit and the heat radiating member have high adhesion. It becomes. Therefore, an air layer or the like that can be a barrier during heat conduction is unlikely to intervene, and heat can be radiated efficiently.

以下に、本発明の実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものでない。なお、以下において「%」とあるのは、特に断りのない限り全て「重量%」を表す。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples and comparative examples of the present invention, but the present invention is not limited to the following examples. In the following, “%” means “% by weight” unless otherwise specified.

[合成例]
(b)反応性希釈剤として、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(b1)(反応性希釈剤A)を以下の方法により合成した。
還流冷却器、窒素吹き込み管、温度計を備えた1LのSUS製4つ口フラスコにトリメチロールプロパントリアリルエーテル127.2g(0.5mol)、メタノール200g(6.25mol)、アセトニトリル123.1g(3mol)、及び、ケイ酸ナトリウム(キシダ化学社製)45.8g(0.38mol)を仕込み、内温を40℃
に調整しながら、滴下ロートにて35%過酸化水素水291.4g(3mol)を撹拌しながら5時間かけてゆっくりと滴下し、その後、8時間撹拌し反応させた。反応終了時の系内の過酸化物濃度は0.21%であった。その後トルエンで抽出を行い、水洗で過酸化物を除去した後濃縮することにより、反応性希釈剤(b1)を収率80%で得た。また、得られた反応性希釈剤(b1)のガスクロマトグラフィー(GC)純度は95.4%、エポキシ当量は118g/eq、粘度は123mPa・s、全塩素量は92ppmであった。
[Synthesis example]
(B) As the reactive diluent, reactive diluent (b1) (reactive diluent A) mainly composed of trimethylolpropane triglycidyl ether was synthesized by the following method.
In a 1 L SUS four-necked flask equipped with a reflux condenser, a nitrogen blowing tube, and a thermometer, 127.2 g (0.5 mol) of trimethylolpropane triallyl ether, 200 g (6.25 mol) of methanol, and 123.1 g of acetonitrile ( 3 mol) and 45.8 g (0.38 mol) of sodium silicate (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) with an internal temperature of 40 ° C.
While stirring, 291.4 g (3 mol) of 35% aqueous hydrogen peroxide was slowly added dropwise over 5 hours while stirring, and then stirred for 8 hours to react. The peroxide concentration in the system at the end of the reaction was 0.21%. Thereafter, extraction with toluene was performed, and the peroxide was removed by washing with water, followed by concentration to obtain a reactive diluent (b1) at a yield of 80%. The reactive diluent (b1) obtained had a gas chromatography (GC) purity of 95.4%, an epoxy equivalent of 118 g / eq, a viscosity of 123 mPa · s, and a total chlorine content of 92 ppm.

上記合成例で得た反応性希釈剤Aの他に、以下に示すエポキシ樹脂、反応性希釈剤、硬化剤、硬化促進剤及び充填剤を使用した。原料の略号を併せて示す。
(エポキシ樹脂)
・エポキシ樹脂A:フェノールノボラック型エポキシ樹脂(DIC社製、EPICLON N−730A、液状、エポキシ当量175g/eq、粘度4500Pa・s)
・エポキシ樹脂B:トリフェニルメタン型エポキシ樹脂(三菱化学社製、jER 1032H60、固形、エポキシ当量170g/eq)
In addition to the reactive diluent A obtained in the above synthesis example, the following epoxy resin, reactive diluent, curing agent, curing accelerator and filler were used. The abbreviations of the raw materials are also shown.
(Epoxy resin)
Epoxy resin A: phenol novolac type epoxy resin (manufactured by DIC, EPICLON N-730A, liquid, epoxy equivalent 175 g / eq, viscosity 4500 Pa · s)
Epoxy resin B: Triphenylmethane type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, jER 1032H60, solid, epoxy equivalent 170 g / eq)

(反応性希釈剤)
・反応性希釈剤B:トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(ナガセケムテックス社製、EX−321、液状、GC純度75%、エポキシ当量141g/eq、粘度132mPa・s、全塩素量74000ppm)
・反応性希釈剤C:p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(ナガセケムテックス社製、EX−146、液状、エポキシ当量225g/eq、粘度20mPa・s、全塩素量3000ppm)
・反応性希釈剤D:エチレングリコールジグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(ナガセケムテックス社製、EX−810、液状、エポキシ当量113g/eq、粘度20mPa・s、全塩素量6000ppm)
(Reactive diluent)
Reactive diluent B: Reactive diluent based on trimethylolpropane triglycidyl ether (manufactured by Nagase Chemtex, EX-321, liquid, GC purity 75%, epoxy equivalent 141 g / eq, viscosity 132 mPa · s , Total chlorine amount 74000ppm)
Reactive diluent C: Reactive diluent based on p-tert-butylphenylglycidyl ether (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, EX-146, liquid, epoxy equivalent 225 g / eq, viscosity 20 mPa · s, total chlorine (Amount 3000ppm)
Reactive diluent D: Reactive diluent based on ethylene glycol diglycidyl ether (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, EX-810, liquid, epoxy equivalent 113 g / eq, viscosity 20 mPa · s, total chlorine amount 6000 ppm)

(硬化剤)
・硬化剤A:2−エチル−4−メチルイミダゾール(三菱化学社製、EMI24、アミン当量110g/eq)
・硬化剤B:フェノールノボラック樹脂(住友ベークライト社製、PR−HF−6)
(硬化促進剤)
・硬化促進剤A:トリフェニルホスフィン(北興化学工業社製、ホクコーTPP)
(充填剤)
・充填剤A:二酸化ケイ素(龍森社製、MSR−2212)
・充填剤B:窒化ホウ素(昭和電工社製、UHP−1K)
(Curing agent)
Curing agent A: 2-ethyl-4-methylimidazole (Mitsubishi Chemical Corporation, EMI24, amine equivalent 110 g / eq)
Curing agent B: phenol novolac resin (manufactured by Sumitomo Bakelite, PR-HF-6)
(Curing accelerator)
Curing accelerator A: Triphenylphosphine (Hokuko TPP, manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.)
(filler)
Filler A: silicon dioxide (manufactured by Tatsumori, MSR-2212)
Filler B: Boron nitride (manufactured by Showa Denko KK, UHP-1K)

上記合成例、並びに、下記実施例及び比較例における測定及び評価は、以下の方法にて行った。
[ガスクロマトグラフィー(GC)純度]
ガスクロマトグラフ(島津製作所社製、GC−2010)を用いて測定した。
なお、カラムとしてはMPS−50(Quadrex社製)を、キャリアガスとしてはHeガスを使用した。
[反応の終了]
ガスクロマトグラフ(島津製作所社製、GC−2010)により、反応率(エポキシ化率)が95%以上となった時点を反応の終点とした。
[エポキシ当量]
エポキシ当量は、JIS K 7236に準拠して測定した。
[全塩素量]
生成物の全塩素量は、JIS K 7243−3に準拠して測定した。
なお、本実施例及び比較例では、反応性希釈剤A〜Dの全ハロゲン量として全塩素量を測定した。反応性希釈剤B〜Dは、多価アルコールとエピクロロヒドリンとを原料として合成しており、反応性希釈剤A〜Dでは、合成時の原料として塩素以外のハロゲンを含有する原料を使用していない。そのため、反応性希釈剤A〜Dでは、全塩素量を全ハロゲン量と略同一であるとみなすことができる。
[反応率]
ガスクロマトグラフ(島津製作所社製、GC−2010)を用いてGC測定を行い、原料(オレフィン化合物)と生成物(エポキシ化合物)の面積比率から反応率を算出した。
[粘度]
接着性エポキシ樹脂組成物について、粘度計(東機産業社製、B型粘度計)を用いて、25℃での粘度を測定した。
[引張せん断接着強さ]
Cu板(エンジニアリングテストサービス社製、長さ150mm×幅25mm×厚さ1.5mm)とAl板(エンジニアリングテストサービス社製、長さ150mm×幅25mm×厚さ1.5mm)とをアセトンで脱脂後、接着性エポキシ樹脂組成物を薄く塗布し、12.5mmのオーバーラップ距離でCu板とAl板とを重ね合わせた。その後、ハサミ具にて固定し、100℃にて1時間、180℃にて4時間硬化させる事で試験片を作製した。試験は、ストログラフ(東洋精機製作所社製、VG20−E)を用いて行い、引張速度5mm/minにて試験を開始し、試験片が破断したときの荷重を引張せん断接着強さとした。引張せん断接着強さを、下記の基準により3段階で評価した。
◎:20N/mm以上
○:10N/mm以上、20N/mm未満
×:10N/mm未満
[90°ピール接着強さ]
接着性エポキシ樹脂組成物を、厚さ35μmの銅箔と、厚さ1mmのアルミニウム板との間に挟み込み、175℃にて10分間圧着硬化させた後に、175℃にて3時間硬化させることにより、試験片を作製した(樹脂膜厚0.15mm)。その後、ストログラフ(東洋精機製作所社製、VG20−E)を用いて、50mm/分の速度にて10mm幅の銅箔の90°ピール接着強さを測定した。
測定したピール接着強さを、下記の基準により3段階で評価した。
◎:2N/cm以上
○:1N/cm以上、2N/cm未満
×:1N/cm未満
Measurements and evaluations in the above synthesis examples and the following examples and comparative examples were performed by the following methods.
[Gas chromatography (GC) purity]
It measured using the gas chromatograph (Shimadzu Corp. make, GC-2010).
In addition, MPS-50 (made by Quadrex) was used as the column, and He gas was used as the carrier gas.
[End of reaction]
The time when the reaction rate (epoxidation rate) reached 95% or more by a gas chromatograph (manufactured by Shimadzu Corporation, GC-2010) was defined as the end point of the reaction.
[Epoxy equivalent]
The epoxy equivalent was measured according to JIS K 7236.
[Total chlorine content]
The total chlorine content of the product was measured according to JIS K 7243-3.
In the examples and comparative examples, the total chlorine amount was measured as the total halogen amount of the reactive diluents A to D. Reactive diluents B to D are synthesized using polyhydric alcohol and epichlorohydrin as raw materials, and reactive diluents A to D use raw materials containing halogen other than chlorine as raw materials at the time of synthesis. Not done. Therefore, in the reactive diluents A to D, it can be considered that the total chlorine amount is substantially the same as the total halogen amount.
[Reaction rate]
GC measurement was performed using a gas chromatograph (manufactured by Shimadzu Corporation, GC-2010), and the reaction rate was calculated from the area ratio of the raw material (olefin compound) and product (epoxy compound).
[viscosity]
About the adhesive epoxy resin composition, the viscosity in 25 degreeC was measured using the viscometer (the Toki Sangyo company make, B-type viscometer).
[Tensile shear bond strength]
Degrease Cu plate (Engineering Test Service, length 150mm x Width 25mm x Thickness 1.5mm) and Al plate (Engineering Test Service, length 150mm x Width 25mm x Thickness 1.5mm) with acetone Thereafter, the adhesive epoxy resin composition was thinly applied, and the Cu plate and the Al plate were overlapped at an overlap distance of 12.5 mm. Then, it fixed with the scissors tool and produced the test piece by hardening at 100 degreeC for 1 hour and 180 degreeC for 4 hours. The test was performed using a strograph (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, VG20-E), the test was started at a tensile speed of 5 mm / min, and the load when the test piece broke was regarded as the tensile shear bond strength. Tensile shear bond strength was evaluated in three stages according to the following criteria.
A: 20 N / mm 2 or more B: 10 N / mm 2 or more, less than 20 N / mm 2 ×: less than 10 N / mm 2 [90 ° peel adhesion strength]
An adhesive epoxy resin composition is sandwiched between a 35 μm thick copper foil and an aluminum plate having a thickness of 1 mm, cured by pressure bonding at 175 ° C. for 10 minutes, and then cured at 175 ° C. for 3 hours. A test piece was prepared (resin film thickness 0.15 mm). Thereafter, the 90 ° peel adhesive strength of a 10 mm wide copper foil was measured at a rate of 50 mm / min using a strograph (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, VG20-E).
The measured peel adhesive strength was evaluated in three stages according to the following criteria.
A: 2 N / cm or more ○: 1 N / cm or more, less than 2 N / cm x: less than 1 N / cm

[実施例1]
エポキシ樹脂Aを10%、反応性希釈剤Aを5%、硬化剤Aを5%、充填剤Aを80%混合し、接着性エポキシ樹脂組成物を得た。
得られた接着性エポキシ樹脂組成物を用いて、粘度、これを構成するエポキシ樹脂及び反応性希釈剤の全塩素量を測定するとともに、引張せん断接着強さを評価した。結果を表1に示す。
[Example 1]
10% of epoxy resin A, 5% of reactive diluent A, 5% of curing agent A and 80% of filler A were mixed to obtain an adhesive epoxy resin composition.
Using the obtained adhesive epoxy resin composition, the viscosity, the total chlorine content of the epoxy resin and reactive diluent constituting the viscosity were measured, and the tensile shear bond strength was evaluated. The results are shown in Table 1.

[比較例1、2]
接着性エポキシ樹脂組成物の組成を表1に示したように変化させたこと以外は、実施例1と同様に行った。結果を表1に示す。
[Comparative Examples 1 and 2]
The same procedure as in Example 1 was performed except that the composition of the adhesive epoxy resin composition was changed as shown in Table 1. The results are shown in Table 1.

Figure 0006222428
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表1の実施例1で得られた接着性エポキシ樹脂組成物は、反応性希釈剤として、(b)特定の構造(トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造)を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を含有するため、引張せん断接着強さに優れていた。一方、比較例1、2で得られた接着性エポキシ樹脂組成物は、(b)特定の構造を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤の代わりに、特定の構造を有するエポキシ化合物を主成分としない反応性希釈剤(エポキシ基が1官能又は2官能である直鎖状の反応性希釈剤)を含有するため、反応性が低下し、引張せん断接着強さに劣っていた。 The adhesive epoxy resin composition obtained in Example 1 of Table 1 has, as a reactive diluent, (b) an epoxy compound having a specific structure (trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton) as a main component. Since it contains a reactive diluent, the tensile shear bond strength was excellent. On the other hand, the adhesive epoxy resin compositions obtained in Comparative Examples 1 and 2 are (b) an epoxy compound having a specific structure instead of a reactive diluent mainly composed of an epoxy compound having a specific structure. Since it contains a reactive diluent (a linear reactive diluent whose epoxy group is monofunctional or bifunctional) that is not a main component, the reactivity is lowered and the tensile shear bond strength is poor.

[実施例2]
エポキシ樹脂Bを40%、反応性希釈剤Aを15%、硬化剤Bを40%、硬化促進剤Aを5%混合し、接着性エポキシ樹脂組成物を得た。
得られた接着性エポキシ樹脂組成物を用いて、90°ピール接着強さを評価した。結果を表2に示す。
[Example 2]
40% of epoxy resin B, 15% of reactive diluent A, 40% of curing agent B, and 5% of curing accelerator A were mixed to obtain an adhesive epoxy resin composition.
Using the obtained adhesive epoxy resin composition, 90 ° peel adhesive strength was evaluated. The results are shown in Table 2.

[実施例3〜6]
接着性エポキシ樹脂組成物の組成を表2に示したように変化させたこと以外は、実施例2と同様に行った。結果を表2に示す。
[Examples 3 to 6]
The same procedure as in Example 2 was performed except that the composition of the adhesive epoxy resin composition was changed as shown in Table 2. The results are shown in Table 2.

[比較例3、4]
接着性エポキシ樹脂組成物の組成を表2に示したように変化させたこと以外は、実施例2と同様に行った。結果を表2に示す。
[Comparative Examples 3 and 4]
The same procedure as in Example 2 was performed except that the composition of the adhesive epoxy resin composition was changed as shown in Table 2. The results are shown in Table 2.

Figure 0006222428
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表2の実施例2〜6で得られた接着性エポキシ樹脂組成物は、反応性希釈剤として(b)特定の構造(トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造)を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を含有するため、90°ピール接着強さに優れていた。一方、比較例3、4で得られた接着性エポキシ樹脂組成物は、(b)特定の構造(トリメチロールアルカン骨格を有する3官能構造)を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤を含有しないことから、90°ピール接着強さに劣っていた。
また、実施例5と実施例6とを比較すると、(b)特定の構造を有するエポキシ化合物を主成分とする反応性希釈剤として、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを主成分とする反応性希釈剤(b1)を用いた場合において、エポキシ当量が101〜120g/eqであり、粘度が50〜130mPa・sであり、全塩素量が100ppm以下の高純度な反応性希釈剤(b1)を含有する実施例5の接着性エポキシ樹脂組成物は90°ピール接着強さに特に優れていたのに対し、上述のエポキシ当量、粘度、全塩素量を満たさない低純度な反応性希釈剤(b1)を含有する実施例6の接着性エポキシ樹脂組成物は、90°ピール接着強さにやや劣っていた。
The adhesive epoxy resin compositions obtained in Examples 2 to 6 in Table 2 are mainly composed of an epoxy compound having a specific structure (trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton) as a reactive diluent. Because it contains a reactive diluent, it has excellent 90 ° peel adhesive strength. On the other hand, the adhesive epoxy resin composition obtained in Comparative Examples 3 and 4 includes (b) a reactive diluent whose main component is an epoxy compound having a specific structure (trifunctional structure having a trimethylolalkane skeleton). Since it does not contain, it was inferior to 90 degree peel adhesive strength.
Further, when Example 5 is compared with Example 6, (b) a reactive diluent mainly composed of trimethylolpropane triglycidyl ether as a reactive diluent mainly composed of an epoxy compound having a specific structure. When (b1) is used, the epoxy equivalent is 101 to 120 g / eq, the viscosity is 50 to 130 mPa · s, and the total chlorine content is 100 ppm or less and contains a high-purity reactive diluent (b1). The adhesive epoxy resin composition of Example 5 was particularly excellent in 90 ° peel adhesive strength, whereas a low-purity reactive diluent (b1) that did not satisfy the above-mentioned epoxy equivalent, viscosity, and total chlorine content was used. The adhesive epoxy resin composition of Example 6 contained was somewhat inferior in 90 ° peel adhesive strength.

Claims (11)

(a)エポキシ樹脂(ただし、下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物およびトリメチロールメタントリグリシジルエーテルを除く)、(b)下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物またはトリメチロールメタントリグリシジルエーテルを50wt%以上含む反応性希釈剤、(c)硬化剤、及び、(d)窒化ホウ素を含むことを特徴とする接着性エポキシ樹脂組成物。
Figure 0006222428
(ただし、R〜Rは、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数2〜10のアルケニレン基、又は、炭素数6〜10のアリーレン基を表し、互いに同一であっても良く、異なっていても良い。また、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基、又は、水素原子を表す。)
(A) epoxy resin (however, excluding an epoxy compound represented by the following general formula (1) and trimethylolmethane triglycidyl ether), (b) an epoxy compound or trimethylolmethane represented by the following general formula (1) An adhesive epoxy resin composition comprising a reactive diluent containing 50 wt% or more of triglycidyl ether, (c) a curing agent, and (d) boron nitride.
Figure 0006222428
(However, R 1 to R 4 represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and may be the same or different. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom.)
(b)反応性希釈剤の含有量は、(a)エポキシ樹脂と(b)反応性希釈剤との合計量に対して5〜95重量%である請求項1に記載の接着性エポキシ樹脂組成物。 The adhesive epoxy resin composition according to claim 1, wherein the content of (b) the reactive diluent is 5 to 95% by weight based on the total amount of (a) the epoxy resin and (b) the reactive diluent. object. (b)反応性希釈剤は、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを含む反応性希釈剤(b1)である請求項1又は2に記載の接着性エポキシ樹脂組成物。 The adhesive epoxy resin composition according to claim 1 or 2, wherein (b) the reactive diluent is a reactive diluent (b1) containing trimethylolpropane triglycidyl ether. (b1)反応性希釈剤は、エポキシ当量が101〜120g/eqであり、全ハロゲン量が100ppm以下であり、かつ、25℃における粘度が50〜130mPa・sである、請求項3に記載の接着性エポキシ樹脂組成物。 The reactive diluent (b1) has an epoxy equivalent of 101 to 120 g / eq, a total halogen content of 100 ppm or less, and a viscosity at 25 ° C of 50 to 130 mPa · s. Adhesive epoxy resin composition. (a)エポキシ樹脂は、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールフェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールクレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、エチルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ブチルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、オクチルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック型エポキシ樹脂、4,4’−ビフェニルフェノール型エポキシ樹脂、テトラメチル−4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂、ジメチル−4,4’−ビフェニルフェノール型エポキシ樹脂、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン型エポキシ樹脂、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)型エポキシ樹脂、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ピロガロール型エポキシ樹脂、ジイソプロピリデン型エポキシ樹脂、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフルオレン型エポキシ樹脂、フェノール化ポリブタジエン型エポキシ樹脂、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−シクロヘキシルカルボキシレート型エポキシ樹脂、1,4−ブタンジオール型エポキシ樹脂、1,6−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂、ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ペンタエリスリトール型エポキシ樹脂、キシリレングリコール誘導体型エポキシ樹脂、イソシアヌル環型エポキシ樹脂、ヒダントイン環型エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂、アニリン型エポキシ樹脂、トルイジン型エポキシ樹脂、p−フェニレンジアミン型エポキシ樹脂、m−フェニレンジアミン型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン誘導体型エポキシ樹脂、ジアミノメチルベンゼン誘導体型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、及び、ブロム化クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の中から選択される少なくとも1種である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の接着性エポキシ樹脂組成物。 (A) Epoxy resin is biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene phenol addition Reactive epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol phenol co-condensed novolac type epoxy resin, naphthol cresol co-condensed novolac type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin Type epoxy resin, biphenyl novolac type epoxy resin, ethylphenol novolac type epoxy resin, butylphenol novolac type Xy resin, octylphenol novolac epoxy resin, phenol novolac epoxy resin containing xylylene skeleton, phenol novolac epoxy resin containing fluorene skeleton, 4,4'-biphenylphenol epoxy resin, tetramethyl-4,4'-biphenol epoxy resin Dimethyl-4,4′-biphenylphenol type epoxy resin, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane type epoxy resin, 2 , 2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol) type epoxy resin, 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol) type epoxy resin, trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, resorci Type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, pyrogallol type epoxy resin, diisopropylidene type epoxy resin, 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene type epoxy resin, phenolized polybutadiene type epoxy resin, 3,4-epoxy Cyclohexylmethyl-3 ′, 4′-cyclohexylcarboxylate type epoxy resin, 1,4-butanediol type epoxy resin, 1,6-hexanediol type epoxy resin, polyethylene glycol type epoxy resin, polypropylene glycol type epoxy resin, pentaerythritol Type epoxy resin, xylylene glycol derivative type epoxy resin, isocyanuric ring type epoxy resin, hydantoin ring type epoxy resin, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester type epoxy resin, tetra Hydrophthalic acid diglycidyl ester type epoxy resin, aniline type epoxy resin, toluidine type epoxy resin, p-phenylenediamine type epoxy resin, m-phenylenediamine type epoxy resin, diaminodiphenylmethane derivative type epoxy resin, diaminomethylbenzene derivative type epoxy resin, The adhesive epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is at least one selected from a brominated phenol novolac-type epoxy resin and a brominated cresol novolac-type epoxy resin. (c)硬化剤は、2−エチル−4−メチルイミダゾール、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ−ル、三フッ化ホウ素−アミン錯体、グアニジン誘導体、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンにより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、多価ヒドロキシ化合物とホルムアルデヒドとから合成される多価フェノールノボラック樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトールフェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトールクレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂、及び、アルコキシ基含有芳香環変性ノボラック樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の接着性エポキシ樹脂組成物。 (C) The curing agent is 2-ethyl-4-methylimidazole, diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, imidazole, boron trifluoride-amine complex, guanidine derivative, dicyandiamide, linolene. Polyamide resin synthesized by dimer of acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydro anhydride Addition of phthalic acid, methylhexahydrophthalic anhydride, phenol novolac resin, cresol novolac resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin, dicyclopentadiene phenol Resins, phenol aralkyl resins, polyhydric phenol novolak resins synthesized from polyvalent hydroxy compounds and formaldehyde, naphthol aralkyl resins, trimethylol methane resins, tetraphenylol ethane resins, naphthol novolac resins, naphthol phenol co-condensed novolak resins, naphthols The cresol co-condensed novolak resin, biphenyl-modified phenol resin, biphenyl-modified naphthol resin, aminotriazine-modified phenol resin, and at least one selected from the group consisting of alkoxy group-containing aromatic ring-modified novolak resins. The adhesive epoxy resin composition according to any one of the above. 電子回路基板に設ける放熱部材の形成に用いられる請求項1〜6のいずれか1項に記載の接着性エポキシ樹脂組成物。 The adhesive epoxy resin composition of any one of Claims 1-6 used for formation of the heat radiating member provided in an electronic circuit board. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の接着性エポキシ樹脂組成物からなる放熱部材を備えたことを特徴とする電子回路基板。 An electronic circuit board comprising a heat radiating member made of the adhesive epoxy resin composition according to claim 1. (a)エポキシ樹脂(ただし、下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物およびトリメチロールメタントリグリシジルエーテルを除く)、(b)下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物またはトリメチロールメタントリグリシジルエーテルを50wt%以上含む反応性希釈剤、及び、(c)硬化剤を含む、層間絶縁膜の形成に用いられる接着性エポキシ樹脂組成物。
Figure 0006222428
(ただし、R〜Rは、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数2〜10のアルケニレン基、又は、炭素数6〜10のアリーレン基を表し、互いに同一であっても良く、異なっていても良い。また、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基、又は、水素原子を表す。)
(A) epoxy resin (however, excluding an epoxy compound represented by the following general formula (1) and trimethylolmethane triglycidyl ether), (b) an epoxy compound or trimethylolmethane represented by the following general formula (1) The adhesive epoxy resin composition used for formation of the interlayer insulation film containing the reactive diluent containing 50 wt% or more of triglycidyl ether, and (c) hardening | curing agent.
Figure 0006222428
(However, R 1 to R 4 represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and may be the same or different. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom.)
(a)エポキシ樹脂(ただし、下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物およびトリメチロールメタントリグリシジルエーテルを除く)、(b)下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物またはトリメチロールメタントリグリシジルエーテルを50wt%以上含む反応性希釈剤、及び、(c)硬化剤を含む接着性エポキシ樹脂組成物からなることを特徴とする層間絶縁膜形成用フィルム。
Figure 0006222428
(ただし、R〜Rは、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数2〜10のアルケニレン基、又は、炭素数6〜10のアリーレン基を表し、互いに同一であっても良く、異なっていても良い。また、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基、又は、水素原子を表す。)
(A) epoxy resin (however, excluding an epoxy compound represented by the following general formula (1) and trimethylolmethane triglycidyl ether), (b) an epoxy compound or trimethylolmethane represented by the following general formula (1) A film for forming an interlayer insulating film comprising a reactive diluent containing 50 wt% or more of triglycidyl ether and an adhesive epoxy resin composition containing (c) a curing agent.
Figure 0006222428
(However, R 1 to R 4 represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and may be the same or different. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom.)
(a)エポキシ樹脂(ただし、下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物およびトリメチロールメタントリグリシジルエーテルを除く)、(b)下記一般式(1)で表されるエポキシ化合物またはトリメチロールメタントリグリシジルエーテルを50wt%以上含む反応性希釈剤、及び、(c)硬化剤を含む接着性エポキシ樹脂組成物からなる層間絶縁膜を備えたことを特徴とする配線板。
Figure 0006222428
(ただし、R〜Rは、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数2〜10のアルケニレン基、又は、炭素数6〜10のアリーレン基を表し、互いに同一であっても良く、異なっていても良い。また、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜10のアリール基、又は、水素原子を表す。)
(A) epoxy resin (however, excluding an epoxy compound represented by the following general formula (1) and trimethylolmethane triglycidyl ether), (b) an epoxy compound or trimethylolmethane represented by the following general formula (1) A wiring board comprising an interlayer insulating film made of an adhesive epoxy resin composition containing a reactive diluent containing 50 wt% or more of triglycidyl ether and (c) a curing agent.
Figure 0006222428
(However, R 1 to R 4 represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and may be the same or different. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom.)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016159102A1 (en) 2015-04-01 2016-10-06 三菱鉛筆株式会社 Nonaqueous dispersion containing fluorine-based resin; polyimide precursor solution composition containing fluorine-based resin; polyimide, polyimide film and adhesive composition for circuit boards, each using said polyimide precursor solution composition containing fluorine-based resin; and production methods thereof
TWI725054B (en) 2015-10-01 2021-04-21 日商三菱鉛筆股份有限公司 Non-aqueous dispersion of fluorine resin, thermosetting resin composition of fluorine resin and its cured product, and adhesive composition for circuit board
CN108349919B (en) * 2015-11-05 2022-06-03 日产化学工业株式会社 Polyfunctional epoxy compound and curable composition containing the same
US11873398B2 (en) 2016-09-29 2024-01-16 Sekisui Chemical Co., Ltd. Interlayer insulating material and multilayer printed wiring board
JP6743738B2 (en) * 2017-03-27 2020-08-19 信越化学工業株式会社 Laminated body and manufacturing method thereof
EP3620481B1 (en) * 2017-05-31 2024-03-27 Resonac Corporation Liquid resin composition for sealing and electronic component apparatus
SG11201911388PA (en) * 2017-05-31 2020-01-30 Hitachi Chemical Co Ltd Liquid resin composition for compression molding and electronic component device
KR102279438B1 (en) 2017-12-01 2021-07-19 엘에스일렉트릭(주) Epoxy resin composition and transformer comprising the same
CN108976437B (en) * 2018-05-30 2021-07-06 紫荆花涂料(上海)有限公司 Nonionic emulsifier, epoxy emulsion, and preparation method and application thereof
CN109251477A (en) * 2018-07-26 2019-01-22 江西科技师范大学 The preparation method of composite material based on linear epoxy resin
JP2021098786A (en) * 2019-12-20 2021-07-01 信越化学工業株式会社 Liquid epoxy resin composition
CN112717720B (en) * 2020-12-25 2022-05-20 湖南澳维科技股份有限公司 Pollution-resistant polyamide composite membrane and preparation method thereof
CN113683777A (en) * 2021-09-15 2021-11-23 中国科学院山西煤炭化学研究所 Preparation method of epoxy-terminated hyperbranched polyether sulfone and application of epoxy-terminated hyperbranched polyether sulfone in salt spray-resistant epoxy resin
WO2024075229A1 (en) * 2022-10-05 2024-04-11 株式会社レゾナック Photosensitive resin composition, photosensitive element, printed wiring board, and method for producing printed wiring board

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0794631B2 (en) * 1987-11-14 1995-10-11 ソマール株式会社 Resist ink for electroless plating
EP0459951A3 (en) * 1990-05-30 1993-09-15 Ciba-Geigy Ag Char forming nonhalogenated flame retardant epoxy composition
JPH1150003A (en) * 1997-08-01 1999-02-23 Natoko Kk Coating composition
US6462108B1 (en) * 2000-07-20 2002-10-08 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation High Tg potting compound
JP5069460B2 (en) * 2006-12-22 2012-11-07 Ntn株式会社 Sealing agent, thermal spray coating member and bearing

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