JP6212455B2 - マーキング装置およびマーキング方法 - Google Patents
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Description
図1は、一実施形態によるマーキング装置の概略構成を示すブロック図である。
図1に示すマーキング装置は、鏡筒9と、電子銃制御ユニット22と、レンズ制御ユニット23,25と、偏向器制御ユニット24と、対物レンズ可動機構制御ユニット73と、画像生成ユニット27と、ステージ制御ユニット26と、制御コンピュータ21と、ケガキ針可変機構制御ユニット28と、記憶装置MR2と、表示装置29と、入力装置20と、を含む。
一実施形態によるマーキング方法について図6を参照しながら説明する。
Claims (4)
- 荷電粒子ビームを生成し、積層体を備える試料に照射して前記試料から発生する二次荷電粒子を検出して試料像を取得する荷電粒子ビーム装置と、
前記荷電粒子ビーム装置による前記試料の観察視野内において前記積層体のうちの少なくとも表面から第2層にまで至る孔を穿設するマーキングユニットと、を備え、
前記マーキングユニットは、少なくとも先端が前記積層体の硬度よりも高硬度の材料で形成されたケガキ針を備える、マーキング装置。 - 前記マーキングユニットは、前記試料の表面に対する前記ケガキ針の角度を調整し、または前記ケガキ針の前後の移動量を調整するマーカ可動機構を備えることを特徴とする請求項1に記載のマーキング装置。
- 前記ケガキ針が前記試料に刺さったままで前記試料を任意の方向へ移動させるステージをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のマーキング装置。
- 積層体を備える試料のSEM像を荷電粒子ビーム装置で観察しながら前記積層体のうちの少なくとも表面から第2層にまで至る孔を、 前記荷電粒子ビーム装置に設けられ少なくとも先端が前記積層体の硬度よりも高硬度の材料で形成されたケガキ針で穿設することにより、不良推定箇所を特定するためのマークをつけることを備えるマーキング方法。
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