JP6200831B2 - ガラスチョップドストランドの製造装置、ゴムロールの表面維持方法、及びガラスチョップドストランドの製造方法 - Google Patents
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Description
上流から供給されるガラスストランドを下流に搬送するゴムロールと、
前記ゴムロールの表面に当接して回転しながら前記ガラスストランドを切断するカッターロールと、
前記ゴムロールの表面を当該ゴムロールの幅方向に往復移動しながら研磨し、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記ゴムロールに近接する研磨手段と、
を備えたガラスチョップドストランドの製造装置であって、
前記ゴムロールの径の減少に応じて単位時間あたりの前記ゴムロールの研磨量が増加するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態が変更可能に構成されていることにある。
単位時間あたりの前記ゴムロールの径の減少量が増加するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態が変更可能に構成されていることが好ましい。
前記ゴムロールの径の減少に応じて前記ゴムロールの研磨量の増加率が上昇するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態が変更可能に構成されていることが好ましい。
前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の平均往復移動速度が増加するように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記ゴムロールの径が減少するに連れて前記平均往復移動速度の増加率が小さくなるように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記研磨手段は、往復移動における、移動方向が変わる時に前記ゴムロールに近接し、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段が前記ゴムロールに近接する近接移動距離が増加するように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の往復移動を一時的に停止させるように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の往復移動を部分的に減速させるように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記研磨手段が一定速度で往復移動する定速移動期間と、一時的に停止する停止期間とが設けられることが好ましい。
前記研磨手段の往復移動における、移動方向が変わる時に前記研磨手段の状態が変更可能に構成されていることが好ましい。
製造したガラスチョップドストランドに前記ゴムロールの研磨屑が混入することを防止する混入防止手段を備えていることが好ましい。
上流から供給されるガラスストランドをゴムロールにより下流に搬送する搬送工程と、
前記ゴムロールの表面にカッターロールを当接させた状態で、当該カッターロールを回転させながら前記ガラスストランドを切断する切断工程と、
当該ゴムロールの幅方向に研磨手段を往復移動させて、前記ゴムロールの表面を研磨する研磨工程と、
を包含するガラスチョップドストランドの製造に用いるゴムロールの表面維持方法であって、
前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて単位時間あたりの前記ゴムロールの研磨量が増加するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態を変更させることにある。
前記研磨工程において、単位時間あたりの前記ゴムロールの径の減少量が増加するように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記ゴムロールの研磨量の増加率が上昇するように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の平均往復移動速度が増加するように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記研磨工程において、前記ゴムロールの径が減少するに連れて前記平均往復移動速度の増加率が小さくなるように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記研磨工程において、前記研磨手段の往復移動における、移動方向が変わる時に前記ゴムロールに近接し、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段が前記ゴムロールに近接する近接移動距離が増加するように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の往復移動を一時的に停止させるように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の往復移動を部分的に減速させるように、前記研磨手段の状態が設定されることが好ましい。
前記研磨工程において、前記研磨手段が一定速度で往復移動する定速移動期間と、一時的に停止する停止期間とが設けられることが好ましい。
前記研磨工程において、前記研磨手段の往復移動における、移動方向が変わる時に前記研磨手段の状態が変更されることが好ましい。
前記ゴムロールを所定の頻度で取り外して前記ゴムロールの表面の再生を行う再生工程を実行することが好ましい。
上流から供給されるガラスストランドをゴムロールにより下流に搬送する搬送工程と、
前記ゴムロールの表面にカッターロールを当接させた状態で、当該カッターロールを回転させながら前記ガラスストランドを切断する切断工程と、
を包含するガラスチョップドストランドの製造方法であって、
前記切断工程の実行中に、前記ゴムロールの幅方向に研磨手段を往復移動させて、前記ゴムロールの表面を研磨する研磨工程を実行し、当該研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて単位時間あたりの前記ゴムロールの研磨量が増加するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態を変更させることにある。
図1は、ガラスチョップドストランドの製造装置100の概略正面図である。図2は、ガラスチョップドストランドの製造装置100の概略平面図である。ガラスチョップドストランドの製造装置100は、図1及び図2に示すように、ガラスストランドFを所定の長さに切断してガラスチョップドストランドSを製造する装置であり、切断刃10aを円周方向に等間隔で且つ回転軸に対して放射状に取り付けたカッターロール10と、ローラ芯11dの周囲に弾性体11cを被覆したゴムロール11と、ゴムロール11の表面11aを研磨して一定の平滑な状態に維持する研磨手段12とを備えている。図1中に示す白抜きの矢印はカッターロール10及びゴムロール11の回転方向を示し、図1及び図2中に示す黒矢印はカッターロール10及び研磨手段12の移動方向を示している。
次に、上記のガラスチョップドストランドの製造装置100におけるゴムロール11の表面維持方法、及び当該表面維持方法と同時に実行されるガラスチョップドストランドの製造方法について説明する。本発明のゴムロール11の表面維持方法、及びガラスチョップドストランドの製造方法においては、ゴムロール11の径の減少に応じて単位時間あたりのゴムロール11の研磨量が増加するように、ゴムロール11に対する研磨手段12の状態を変更させる。研磨手段12の状態は、「ガラスチョップドストランドの製造装置」で説明したものと同様である。ガラスチョップドストランドの製造装置100によってガラスチョップドストランドの製造を行う場合、図示しないケーキスタンドに設置された複数のケーキからガラスストランドが解舒され、1本ずつ分離した状態のガラスストランドFがカッターロール10とゴムロール11との間に供給される。ゴムロール11は、供給された複数のガラスストランドFをゴムロール11の表面11aに載せながら、ゴムロール11の回転によりガラスストランドFを下流に搬送する(搬送工程)。カッターロール10は、切断刃10aをゴムロール11の表面11aに所定の圧力で押圧しながら回転することで、カッターロール10の表面に等間隔(例えば、3mm)で配置されている切断刃10aによってガラスストランドFを一定の長さのガラスチョップドストランドS(例えば、3mm)に切断する(切断工程)。
研磨手段の往復移動速度をゴムロールの径の減少に応じて増加させたガラスチョップドストランドの製造装置(実施例)と、ゴムロールの径が小さくなっても平滑な表面が得られるように、研磨手段の往復移動速度を一定にしたガラスチョップドストランドの製造装置(比較例)とを使用し、夫々のゴムロールの研磨作業を実施した。図4は、ガラスチョップドストランドの製造装置に用いるゴムロールの径の減少と研磨手段の往復移動時間との関係を示したグラフである。グラフの縦軸は、研磨手段がゴムロールの幅方向を往復する時間(分)を示している。つまり、研磨手段が往復にかかる時間が短いほど、往復移動速度は速くなる。グラフの横軸は、ゴムロールの径(mm)を示している。グラフ中の白のマーカーは、研磨手段の往復移動速度をゴムロールの径の減少に応じて増加させた実施例である。実施例では、後述するように、研磨手段がゴムロールの幅方向を往復する時間が38分から6分までに段階的に短くなるように設定した。黒のマーカーは、研磨手段の往復移動時間を8分に固定し、研磨手段の往復移動速度を一定とした比較例である。
図5は、ゴムロールの研磨工程中におけるゴムロールの径と研磨作業の経過時間との関係を示したグラフである。図6は、ゴムロールの研磨工程中におけるゴムロールの研磨量と研磨作業の経過時間との関係を示したグラフである。
11 ゴムロール
11a ゴムロールの表面
12 研磨手段
16 邪魔板(混入防止手段)
100 ガラスチョップドストランドの製造装置
F ガラスストランド
S ガラスチョップドストランド
Claims (23)
- 上流から供給されるガラスストランドを下流に搬送するゴムロールと、
前記ゴムロールの表面に当接して回転しながら前記ガラスストランドを切断するカッターロールと、
前記ゴムロールの表面を当該ゴムロールの幅方向に往復移動しながら研磨し、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記ゴムロールに近接する研磨手段と、
を備えたガラスチョップドストランドの製造装置であって、
前記ゴムロールの径の減少に応じて単位時間あたりの前記ゴムロールの研磨量が増加するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態が変更可能に構成されているガラスチョップドストランドの製造装置。 - 単位時間あたりの前記ゴムロールの径の減少量が増加するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態が変更可能に構成されている請求項1に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 前記ゴムロールの径の減少に応じて前記ゴムロールの研磨量の増加率が上昇するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態が変更可能に構成されている請求項1又は2に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の平均往復移動速度が増加するように、前記研磨手段の状態が設定される請求項1〜3の何れか一項に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 前記ゴムロールの径が減少するに連れて前記平均往復移動速度の増加率が小さくなるように、前記研磨手段の状態が設定される請求項4に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 前記研磨手段は、往復移動における、移動方向が変わる時に前記ゴムロールに近接し、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段が前記ゴムロールに近接する近接移動距離が増加するように、前記研磨手段の状態が設定される請求項1〜5の何れか一項に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の往復移動を一時的に停止させるように、前記研磨手段の状態が設定される請求項1〜6の何れか一項に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の往復移動を部分的に減速させるように、前記研磨手段の状態が設定される請求項1〜6の何れか一項に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 前記研磨手段が一定速度で往復移動する定速移動期間と、一時的に停止する停止期間とが設けられる請求項4に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 前記研磨手段の往復移動における、移動方向が変わる時に前記研磨手段の状態が変更可能に構成されている請求項4に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 製造したガラスチョップドストランドに前記ゴムロールの研磨屑が混入することを防止する混入防止手段を備えている請求項1〜10の何れか一項に記載のガラスチョップドストランドの製造装置。
- 上流から供給されるガラスストランドをゴムロールにより下流に搬送する搬送工程と、
前記ゴムロールの表面にカッターロールを当接させた状態で、当該カッターロールを回転させながら前記ガラスストランドを切断する切断工程と、
当該ゴムロールの幅方向に研磨手段を往復移動させて、前記ゴムロールの表面を研磨する研磨工程と、
を包含するガラスチョップドストランドの製造に用いるゴムロールの表面維持方法であって、
前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて単位時間あたりの前記ゴムロールの研磨量が増加するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態を変更させるゴムロールの表面維持方法。 - 前記研磨工程において、単位時間あたりの前記ゴムロールの径の減少量が増加するように、前記研磨手段の状態が設定される請求項12に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記ゴムロールの研磨量の増加率が上昇するように、前記研磨手段の状態が設定される請求項12又は13に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の平均往復移動速度が増加するように、前記研磨手段の状態が設定される請求項12〜14の何れか一項に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 前記研磨工程において、前記ゴムロールの径が減少するに連れて前記平均往復移動速度の増加率が小さくなるように、前記研磨手段の状態が設定される請求項15に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 前記研磨工程において、前記研磨手段の往復移動における、移動方向が変わる時に前記ゴムロールに近接し、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段が前記ゴムロールに近接する近接移動距離が増加するように、前記研磨手段の状態が設定される請求項12〜16の何れか一項に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の往復移動を一時的に停止させるように、前記研磨手段の状態が設定される請求項12〜17の何れか一項に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 前記研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて前記研磨手段の往復移動を部分的に減速させるように、前記研磨手段の状態が設定される請求項12〜17の何れか一項に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 前記研磨工程において、前記研磨手段が一定速度で往復移動する定速移動期間と、一時的に停止する停止期間とが設けられる請求項15に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 前記研磨工程において、前記研磨手段の往復移動における、移動方向が変わる時に前記研磨手段の状態が変更される請求項15に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 前記ゴムロールを所定の頻度で取り外して前記ゴムロールの表面の再生を行う再生工程を実行する請求項12〜21の何れか一項に記載のゴムロールの表面維持方法。
- 上流から供給されるガラスストランドをゴムロールにより下流に搬送する搬送工程と、
前記ゴムロールの表面にカッターロールを当接させた状態で、当該カッターロールを回転させながら前記ガラスストランドを切断する切断工程と、
を包含するガラスチョップドストランドの製造方法であって、
前記切断工程の実行中に、前記ゴムロールの幅方向に研磨手段を往復移動させて、前記ゴムロールの表面を研磨する研磨工程を実行し、当該研磨工程において、前記ゴムロールの径の減少に応じて単位時間あたりの前記ゴムロールの研磨量が増加するように、前記ゴムロールに対する前記研磨手段の状態を変更させるガラスチョップドストランドの製造方法。
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