JP6190900B2 - 光画像形成方法及び光画像形成装置 - Google Patents
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Description
まず、実施形態に係る光画像形成方法の原理を説明する。
以下、この実施形態を実用化する場合の一例を説明する。
この実施形態に係る光画像形成装置の構成例を図6に示す。ここではSS−OCTを用いた装置について説明するが、SD−OCTを用いた装置に対しても同様の構成を適用することが可能である。つまり、この発明に係るSS−OCTを用いた装置と、この発明に係るSD−OCTを用いた装置との相異は、SS−OCTとSD−OCTとの一般的な相異に過ぎない。
図6に示す光画像形成装置400は、波長可変レーザー等の波長掃引光源401を有する。波長掃引光源401は、高速で連続的に波長を変えながら光を出力する。波長掃引光源401から出力された光は、光ファイバー402を経由してファイバーカプラ403に導かれる。ファイバーカプラ403は、4本の光ファイバー402、404、410及び412を接続している。光ファイバー402により導かれた光は、ファイバーカプラ403により信号光と参照光とに分割される。信号光は、対象物に照射される光であり、測定光、サンプル光などとも呼ばれる。参照光は、所定の参照経路を介して信号光に合成される。
光画像形成装置400の制御系の構成の一例を図7に示す。
発明者らは、このような位相交代方式のSS−OCTを用いて生体眼の測定を行った。オーバーサンプリングレシオはRs=8に設定に設定した。ここで、オーバーサンプリングレシオRsは、焦点スポットサイズwと、横スキャンのステップサイズ(隣接するAラインの間隔)Δxとの比として定義される:Rs=w/Δx。
この実施形態の作用を説明する。
(1)干渉光の検出結果に基づく干渉スペクトルにローパスフィルターを適用して第1の干渉スペクトルを求め、この第1の干渉スペクトルを位相差の余弦で除算して実数部を求める。
(2)検出結果に基づく干渉スペクトルに−(−1)nを乗算し、この積にローパスフィルターを適用して第2の干渉スペクトルを求め、この第2の干渉スペクトルを位相差の正弦で除算して虚数部を求める。
(3)実数部と虚数部に虚数単位を乗算した積とを加算することにより複素干渉スペクトルを生成する。
この実施形態の効果を説明する。
101 光源
102 ビームスプリッター
103 スキャナー
104 位相変調器
104a 変調コントローラー
105 参照ミラー
106 検出システム
107 コントローラー
400光画像形成装置
401波長掃引光源
402 光ファイバー
403 ファイバーカプラ
404 光ファイバー
405 コリメーター
406 スキャナー
407 レンズ
408 レンズ
410 光ファイバー
411 ファイバーストレッチャー
412 光ファイバー
413 ファイバーカプラ
414a、414b 光ファイバー
415 検出器
416 データ収集部
417 ファイバーストレッチャー駆動部
4171 J−Kフリップフロップ
4172 狭帯域バンドパスフィルター
4173 位相シフター
4174 スイッチ
420 演算制御部
421 同期制御部
422 画像形成部
423 複素干渉スペクトル生成部
430 ユーザインターフェイス
E 被検眼
Ef 眼底
Claims (6)
- 対象物を経由した信号光と参照光とを合成して得られる干渉光に基づく干渉スペクトルを処理して前記対象物の断層像を形成する光画像形成方法であって、
信号光と参照光との間の位相差をあらかじめ設定された2つの位相差に交互に変更しながら対象物を信号光でスキャンするスキャンステップと、
前記対象物を経由した前記信号光と前記参照光との干渉光を単一の検出器により検出する検出ステップと、
前記スキャンに伴い前記検出ステップで前記単一の検出器により逐次に得られた複数の前記干渉光の検出結果に基づいて前記対象物の断層像を形成する画像形成ステップと、
を含み、
前記画像形成ステップは、前記スキャンに伴い前記検出ステップで前記単一の検出器により逐次に得られた複数の前記干渉光の検出結果に基づいて、前記2つの位相差を両端とする範囲を定義域とし、かつ、背景成分を中心とする低周波数部と前記両端のそれぞれの近傍に存在する高周波数部のみからなる干渉スペクトルを生成する処理を含み、
前記スキャンステップにおける前記スキャンは、前記低周波数部と前記高周波数部とが分離されるオーバーサンプリングレシオで実行される、
ことを特徴とする光画像形成方法。 - 前記オーバーサンプリングレシオは、前記信号光の焦点スポットサイズと前記スキャンステップにおける前記信号光のスキャン間隔との比に等しいことを特徴とする請求項1に記載の光画像形成方法。
- 前記2つの位相差は、実質的に+π/4及び−π/4であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光画像形成方法。
- 光源と、
前記光源から出力された光を信号光と参照光とに分割する光学部材と、
対象物に対する前記信号光の照射位置を変更するスキャナーと、
前記信号光と前記参照光との間の位相差を、あらかじめ設定された2つの位相差に交互に変更する位相変更部と、
前記対象物を経由した信号光と参照光とを合成して干渉光を生成する光学部材と、
前記干渉光を検出する単一の検出器と、
前記信号光の照射位置の変更に伴い前記単一の検出器により逐次に得られた複数の前記干渉光の検出結果に基づいて前記対象物の断層像を形成する画像形成部と、
を備え、
前記画像形成部は、前記信号光の照射位置の変更に伴い前記単一の検出器により逐次に得られた複数の前記干渉光の検出結果に基づいて、前記2つの位相差を両端とする範囲を定義域とし、かつ、背景成分を中心とする低周波数部と前記両端のそれぞれの近傍に存在する高周波数部のみからなる干渉スペクトルを生成し、
前記光源及び前記スキャナーを制御して、前記低周波数部と前記高周波数部とが分離されるオーバーサンプリングレシオで前記対象物を前記信号光でスキャンさせる制御部を更に備える、
ことを特徴とする光画像形成装置。 - 前記オーバーサンプリングレシオは、前記信号光の焦点スポットサイズと前記スキャナーによる前記信号光のスキャン間隔との比に等しいことを特徴とする請求項4に記載の光画像形成装置。
- 前記2つの位相差は、実質的に+π/4及び−π/4であることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の光画像形成装置。
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