JP6171757B2 - Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and image forming apparatus - Google Patents

Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and image forming apparatus Download PDF

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Description

本発明は、複写機、レーザープリンター、普通ファクシミリ等の電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member such as a copying machine, a laser printer, and a normal facsimile, a process cartridge, and an image forming apparatus.

近年、オフィスの省スペース化、ビジネスオポチュニティの拡大等の観点から、電子写真装置に対して、高速化、小型化、カラー化、更には、高画質化、易メンテナンス性が望まれている。これらは、電子写真感光体の特性の向上、耐久性の向上等が関係していることから、電子写真感光体の開発により解決すべき問題と位置付けられている。易メンテナンス性の向上の観点からは、電子写真感光体の交換頻度の低減が挙げられる。これは、電子写真感光体由来の画像欠陥を、長期に亘って可能な限り少なくすることであり、電子写真感光体の長寿命化に他ならない。また、長期に亘る出力画像の高画質化にも関連するため、近年、電子写真感光体の長寿命化に関する開発が多く報告されている。   In recent years, from the viewpoints of saving office space, expanding business opportunities, etc., high speed, downsizing, colorization, high image quality, and easy maintenance have been desired for electrophotographic apparatuses. These are regarded as problems to be solved by developing an electrophotographic photosensitive member because they are related to improvement in characteristics and durability of the electrophotographic photosensitive member. From the viewpoint of improving ease of maintenance, there is a reduction in the replacement frequency of the electrophotographic photosensitive member. This is to reduce image defects derived from the electrophotographic photosensitive member as much as possible over a long period of time, which is nothing but a longer life of the electrophotographic photosensitive member. In addition, in recent years, there have been many reports on development relating to extending the life of electrophotographic photosensitive members because they are related to the improvement of the image quality of output images over a long period of time.

電子写真感光体の長寿命化を達成するためには、画像形成プロセスから電子写真感光体が受ける種々のハザードに対する耐久性の向上が重要な課題となる。ここで言うところのハザードとしては、大きくは機械的ハザード、化学的ハザードの二種類に大別できる。
前記機械的ハザードの一例としては、画像形成プロセスの転写後に電子写真感光体上に残留するトナーを除去(所謂トナークリーニングプロセス)する手段の一つであるブレードクリーニング由来のものが挙げられる。ブレードクリーニングとは、感光体上に弾性部材(所謂クリーニングブレード)を当接することにより、強制的に電子写真感光体上からトナーを除去する手段であり、少ないスペースで大きなトナー除去能力を有するため、電子写真装置の小型化には非常に有効である。しかし、その一方で電子写真感光体に直接弾性部材を当接し、摺擦させるため、電子写真感光体への機械的なストレスが非常に大きく、感光体の最表面に配置された層が摩耗しやすいと言ったデメリットが指摘されている。このため、本クリーニング方式を適用した電子写真装置においては、電子写真感光体の摩耗が長寿命化に対する課題となることが多く、この課題に対しては、高硬度保護層を積層する技術が提案されている(特許文献1〜5参照)。
In order to achieve a long life of the electrophotographic photosensitive member, it is an important issue to improve durability against various hazards that the electrophotographic photosensitive member receives from the image forming process. The hazards mentioned here can be broadly divided into two types: mechanical hazards and chemical hazards.
An example of the mechanical hazard is derived from blade cleaning, which is one of means for removing toner remaining on the electrophotographic photosensitive member after transfer of the image forming process (so-called toner cleaning process). Blade cleaning is a means for forcibly removing toner from the electrophotographic photosensitive member by contacting an elastic member (so-called cleaning blade) on the photosensitive member, and has a large toner removing ability in a small space. This is very effective for miniaturization of an electrophotographic apparatus. However, on the other hand, since the elastic member is brought into direct contact with the electrophotographic photosensitive member and rubbed, the mechanical stress on the electrophotographic photosensitive member is very large, and the layer disposed on the outermost surface of the photosensitive member is worn away. The demerit that it is easy is pointed out. For this reason, in an electrophotographic apparatus to which the present cleaning method is applied, wear of the electrophotographic photosensitive member is often a problem for extending the life, and a technique for laminating a high-hardness protective layer is proposed for this problem. (See Patent Documents 1 to 5).

次に、前記化学的ハザードについて説明する。通常の画像形成プロセスにおいては、電子写真感光体表面に電荷を付与し、所定の電位まで帯電した後に、電子写真感光体への露光によって感光体を経由して表面に付与した電荷を除去する。この際に電子写真感光体の各層(例えば、表面層、電荷発生層、電荷輸送層、中間層)を電荷が通過することによって、電子写真感光体に静電ストレスが負荷される。現在、広く普及している電子写真感光体は、有機材料からなるものが大部分を占めており、繰り返し帯電、除電を繰り返すような現在の電子写真プロセスにおいては、電子写真感光体を構成する有機材料が静電ハザードによって徐々に変質し、層中での電荷トラップの発生や、帯電性・光減衰性等の変化に挙げられるような電子写真特性の低下が生じる。
また、帯電プロセスで電子写真感光体表面に電荷を付与する際に、帯電器近傍でオゾン・窒素酸化物などの酸性ガスが発生することが知られており(非特許文献6参照)、電子写真感光体はこれら酸性ガスに曝される。電子写真感光体の多くには正孔輸送性材料や、電子輸送性材料といった電荷輸送性材料を含有しており、これらの材料の電子供与性・受容性や感光層中の含有量によって電子写真感光体の電荷輸送機能が決定する。しかしながら、これらの材料の多くは酸性ガスによって変質しやすい性質を有する(非特許文献7参照)ことが知られており、前述のような帯電プロセスにおいて発生した酸性ガスによって電荷輸送製材量が酸化劣化を起こし、電荷輸送機能等の感光体特性が変化する。短寿命の電子写真感光体を用いる場合には、酸性ガスによる劣化が電子写真感光体の最表層のみとなることが多く、劣化成分も少量に留まることから大きな電子写真感光体の特性低下は引き起こさないが、長寿命の電子写真感光体を用いる場合には、酸性ガスによる劣化が電子写真感光体内部まで至る場合もあり、多くの劣化成分を電子写真感光体内部に有することとなるため、前記のような電子写真感光体の特性低下は大きくなる。結果として出力画像の画質への影響が大きく、画像濃度の低下、地汚れ、連続出力時の画像の均質性等の重大な問題を引き起こすことが知られている。
Next, the chemical hazard will be described. In a normal image forming process, an electric charge is applied to the surface of the electrophotographic photosensitive member, and after charging to a predetermined potential, the electric charge applied to the surface via the photosensitive member is removed by exposure to the electrophotographic photosensitive member. At this time, electrostatic stress is applied to the electrophotographic photosensitive member as charges pass through the layers (for example, the surface layer, the charge generation layer, the charge transport layer, and the intermediate layer) of the electrophotographic photosensitive member. Currently, the most widely used electrophotographic photoreceptors are composed of organic materials, and in the current electrophotographic processes in which repeated charging and discharging are repeated, the organics constituting the electrophotographic photoreceptor are included. The material gradually changes in quality due to electrostatic hazards, resulting in the deterioration of electrophotographic characteristics such as the generation of charge traps in the layer and changes in chargeability and light attenuation.
In addition, it is known that acidic gas such as ozone and nitrogen oxide is generated in the vicinity of the charger when an electric charge is applied to the surface of the electrophotographic photosensitive member in the charging process (see Non-Patent Document 6). The photoreceptor is exposed to these acidic gases. Many electrophotographic photoreceptors contain charge transporting materials such as hole transporting materials and electron transporting materials. Depending on the electron donating and accepting properties of these materials and their content in the photosensitive layer, electrophotography is possible. The charge transport function of the photoreceptor is determined. However, many of these materials are known to have a property of being easily altered by acid gas (see Non-Patent Document 7), and the amount of charge transport lumber is oxidized and deteriorated by the acid gas generated in the charging process as described above. Photoconductor characteristics such as the charge transport function change. In the case of using a short-life electrophotographic photosensitive member, the deterioration due to the acid gas is often only the outermost layer of the electrophotographic photosensitive member, and the deterioration component remains in a small amount, causing a large deterioration in the characteristics of the electrophotographic photosensitive member. However, in the case of using a long-life electrophotographic photosensitive member, deterioration due to an acid gas may reach the inside of the electrophotographic photosensitive member, and since there are many deterioration components inside the electrophotographic photosensitive member, Such deterioration of the characteristics of the electrophotographic photosensitive member becomes large. As a result, it is known that the output image has a great influence on the image quality, and causes serious problems such as a decrease in image density, background contamination, and image homogeneity during continuous output.

このような化学的ハザードに対する電子写真感光体の耐性向上に対しては、電荷輸送層や表面層に酸化防止剤を添加し、電子写真感光体の特性決定に大きな寄与を有する構成成分の劣化を抑制する技術が提案されている(特許文献6参照)。また、電荷輸送層や表面層の内部に至るまでの酸性ガスの浸透を抑制し、酸化劣化する構成成分を表面の一部とするために、これらの層のガス透過性を低減する技術が提案されている(特許文献7及び8参照)。更に、電子写真感光体自体の酸化劣化を電子写真システムで抑制する技術として、例えば、帯電プロセスとして放電生成物の発生が少ない帯電技術が提案されている(特許文献9及び10参照)。この帯電方式を画像形成プロセスにおける帯電プロセスに適用することによって、放電生成物によって引き起こされる電子写真感光体の特性低下を抑制することが可能である。
しかしながら、これらの技術を用いた場合であっても、酸化劣化を生じる構成成分を電子写真感光体内部に比較的多量に有しているため本質的な改善とはならず、長期の使用に適用した場合には電荷輸送性材料に代表されるような酸化劣化されやすい構成成分が徐々に変質することによって、電子写真感光体の特性変化が引き起こされ、長期に亘って画像品質を維持できないという課題がある。
In order to improve the resistance of the electrophotographic photosensitive member against such chemical hazards, an antioxidant is added to the charge transport layer and the surface layer to reduce the deterioration of the constituent components that greatly contribute to the determination of the characteristics of the electrophotographic photosensitive member. The technique to suppress is proposed (refer patent document 6). In addition, in order to suppress the penetration of acidic gas to the inside of the charge transport layer and the surface layer, and to make the component that oxidizes and deteriorates part of the surface, a technology to reduce the gas permeability of these layers is proposed (See Patent Documents 7 and 8). Further, as a technique for suppressing the oxidative degradation of the electrophotographic photosensitive member itself by an electrophotographic system, for example, a charging technique that generates less discharge products as a charging process has been proposed (see Patent Documents 9 and 10). By applying this charging method to the charging process in the image forming process, it is possible to suppress deterioration of the characteristics of the electrophotographic photosensitive member caused by the discharge product.
However, even when these technologies are used, since there is a relatively large amount of components that cause oxidative degradation inside the electrophotographic photosensitive member, this is not an essential improvement and can be used for long-term use. In such a case, the characteristics of the electrophotographic photosensitive member are gradually changed due to the oxidative deterioration of the constituent components typified by the charge transporting material, and the image quality cannot be maintained over a long period of time. There is.

また、表面層中に無機微粒子を分散させ、電界強度によって膜抵抗を変動させる技術が提案されている(特許文献11参照)。この技術においては1×10V/cmの比較的高電界において抵抗値を1014Ω・cm以上に維持し、2×10V/cmの高電界において表面層が低抵抗化することによってよい電荷輸送性と鮮明な画像を得ることができることが開示されている。しかし、1×10V/cmにおける抵抗値を1×1014Ω・cm以上では十分な電荷輸送性を得ることができず、電子写真感光体の残留電位が高いものとなってしまい、その結果、高い階調性を得ることができる電子写真感光体を得ることができないといった不具合がある。加えて、本発明に記載の無機微粒子の含有量(10質量%〜40質量%)において、前記記載の抵抗値を得るためには、比較的高抵抗の無機微粒子を使用する必要があり、無機微粒子内のバルク伝導性の不足に由来した制限電流の支配的な伝導となりやすく、連続使用においては残留電位上昇が顕著に発生するといった課題がある。更に、前記特許文献11に記載の電子写真感光体は摩耗耐久性が高く、表面がリフレッシュされにくいため、実使用においては電子写真感光体最表面に帯電プロセス等で生成された酸性ガス由来のイオン性物質が堆積しやすく、本物質が吸湿した場合には感光体最表面が抵抗低下しやすく、所望の静電潜像を得ることが困難となりやすい。 In addition, a technique has been proposed in which inorganic fine particles are dispersed in the surface layer, and the film resistance is varied depending on the electric field strength (see Patent Document 11). In this technique, the resistance value is maintained at 10 14 Ω · cm or more in a relatively high electric field of 1 × 10 5 V / cm, and the resistance of the surface layer is reduced in a high electric field of 2 × 10 5 V / cm. It is disclosed that a good charge transport property and a clear image can be obtained. However, if the resistance value at 1 × 10 5 V / cm is 1 × 10 14 Ω · cm or more, sufficient charge transportability cannot be obtained, and the residual potential of the electrophotographic photosensitive member becomes high. As a result, there is a problem that it is impossible to obtain an electrophotographic photosensitive member capable of obtaining high gradation. In addition, in order to obtain the above-described resistance value in the content (10% by mass to 40% by mass) of the inorganic fine particles described in the present invention, it is necessary to use relatively high-resistance inorganic fine particles. There is a problem that the limiting current is likely to be dominant conduction due to the lack of bulk conductivity in the fine particles, and the residual potential rises remarkably in continuous use. Furthermore, since the electrophotographic photosensitive member described in Patent Document 11 has high wear durability and the surface is difficult to be refreshed, in actual use, ions derived from acid gas generated on the outermost surface of the electrophotographic photosensitive member by a charging process or the like. When the substance absorbs moisture, the outermost surface of the photoconductor tends to have a resistance drop, and it is difficult to obtain a desired electrostatic latent image.

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、酸性ガスによって変質しやすい電荷輸送性材料の含有量を可能な限り低減又は使用せずに、優れた電子写真感光体特性を示す表面層を有する電子写真感光体を得ることができ、感光体の長期の使用による酸化劣化が極めて少なく、加えて、電子写真感光体の最表面に堆積する酸性物質による画像先鋭性低下を抑制することによって、画像形成装置の出力画質に関わる欠陥の少ない、長期に亘って優れた画像品質を維持できる電子写真感光体を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, the present invention provides an electrophotographic photoreceptor having a surface layer exhibiting excellent electrophotographic photoreceptor characteristics without reducing or using as much as possible the content of a charge transporting material that is easily altered by an acidic gas. In addition, there is very little oxidative degradation due to long-term use of the photoconductor, and in addition, it contributes to the output image quality of the image forming apparatus by suppressing deterioration of image sharpness due to acidic substances deposited on the outermost surface of the electrophotographic photoconductor An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member with few defects and capable of maintaining excellent image quality over a long period of time.

前記課題を解決するための手段としての本発明の電子写真感光体は、導電性支持体と、該導電性支持体上に、少なくとも感光層及び表面層をこの順に有する電子写真感光体であって、
前記表面層が、無機微粒子と、下記一般式(1)、(2)、及び(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物を含有し、
前記無機微粒子が、第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子であり、
前記表面層における電界強度が1×10V/cmであるときの表面固有抵抗率Rが、1×1013Ω/cm以上であり、
前記表面固有抵抗率Rと、前記表面層における電界強度が1.5×10V/cmであるときの表面固有抵抗率R15との比(R/R15)が、100〜5,000である。
The electrophotographic photosensitive member of the present invention as means for solving the above problems is an electrophotographic photosensitive member having a conductive support and at least a photosensitive layer and a surface layer in this order on the conductive support. ,
The surface layer contains inorganic fine particles and at least one compound selected from compounds represented by the following general formulas (1), (2), and (3),
The inorganic fine particles are zinc oxide fine particles doped with a Group 13 element;
The surface resistivity R 1 when the electric field strength in the surface layer is 1 × 10 4 V / cm is 1 × 10 13 Ω / cm 2 or more,
And the surface resistivity R 1, the ratio of the surface resistivity R 15 when the electric field intensity at the surface layer is 1.5 × 10 5 V / cm ( R 1 / R 15) is 100 to 5 , 000.

<一般式(1)>
ただし、前記一般式(1)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Arは、置換又は無置換の芳香環基を表す。
<General formula (1)>
In the general formula (1), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic ring group.

<一般式(2)>
ただし、前記一般式(2)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。m及びnは、0〜3の整数を表し、mとnが同時に0となることはない。R及びRは、水素原子、置換又は無置換の炭素数1〜11のアルキル基、及び置換又は無置換の芳香環基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。
<General formula (2)>
However, In the general formula (2), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. m and n represent an integer of 0 to 3, and m and n are not 0 at the same time. R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different. Good. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different.

<一般式(3)>
ただし、前記一般式(3)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表す。l及びmは、0〜3の整数を表し、lとmが同時に0となることはない。nは、1〜3の整数を表す。
<General formula (3)>
In the general formula (3), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group. l and m represent an integer of 0 to 3, and l and m are not 0 at the same time. n represents an integer of 1 to 3.

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、酸性ガスによって変質しやすい電荷輸送性材料の含有量を可能な限り低減又は使用せずに、優れた電子写真感光体特性を示す表面層を有する電子写真感光体を得ることができ、感光体の長期の使用による酸化劣化が極めて少なく、加えて、電子写真感光体の最表面に堆積する酸性物質による画像先鋭性低下を抑制することによって、画像形成装置の出力画質に関わる欠陥の少ない、長期に亘って優れた画像品質を維持できる電子写真感光体を提供することを目的とする。   According to the present invention, the conventional problems can be solved, the object can be achieved, and the content of the charge transporting material that is easily denatured by acid gas is reduced or used as much as possible. An electrophotographic photosensitive member having a surface layer exhibiting electrophotographic photosensitive member characteristics can be obtained, and there is very little oxidative deterioration due to long-term use of the photosensitive member, and in addition, an acidic substance deposited on the outermost surface of the electrophotographic photosensitive member. An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member capable of maintaining excellent image quality over a long period of time with few defects related to the output image quality of an image forming apparatus by suppressing a reduction in image sharpness.

図1は、電子写真感光体の表面固有抵抗率の測定方法における測定回路図である。FIG. 1 is a measurement circuit diagram in the method for measuring the surface resistivity of the electrophotographic photosensitive member. 図2は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic view showing an example of the layer structure of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 図3は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic view showing an example of the layer structure of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 図4は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic view showing an example of the layer structure of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 図5は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic view showing an example of the layer structure of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 図6は、本発明の画像形成装置の一例を示す概略図である。FIG. 6 is a schematic view showing an example of the image forming apparatus of the present invention. 図7は、本発明のプロセスカートリッジの一例を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic view showing an example of the process cartridge of the present invention.

(電子写真感光体)
本発明の電子写真感光体は、導電性支持体と、前記導電性支持体上に、少なくとも感光層及び表面層をこの順に有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
(Electrophotographic photoreceptor)
The electrophotographic photosensitive member of the present invention has at least a photosensitive layer and a surface layer in this order on a conductive support and the conductive support, and further has other layers as necessary. .

本発明において、電子写真感光体の長寿命化を達成するためには、前述の通り作像における各プロセスから受ける種々のハザードに対して耐久性を付与することが重要となる。特に電子写真感光体表面に残留したトナーを除去するためのクリーニングプロセスや現像部での摺擦等で負荷される機械的ハザード、及び帯電プロセスや転写プロセスから受ける化学的ハザードの2つのハザードが感光体に大きなストレスを与え、感光体の特性変化を引き起こし、感光体の長寿命化に対する阻害要因であると考えられている。このうち、本発明においては化学的ハザードに対する耐久性向上に関するものであり、より具体的には、長期に亘る使用によっても電子写真感光体表面近傍の構成成分の変質乃至劣化を抑制し、電子写真感光体特性の低下が生じにくく、帯電プロセス等での酸性ガス由来のイオン性物質の堆積を主原因とする画像先鋭性低下を抑制する技術に関する。   In the present invention, in order to achieve a long life of the electrophotographic photosensitive member, it is important to impart durability to various hazards received from each process in image formation as described above. In particular, there are two hazards: a cleaning process for removing the toner remaining on the surface of the electrophotographic photosensitive member, a mechanical hazard applied by rubbing at the developing unit, and a chemical hazard received from the charging process and the transfer process. It is considered to be a factor that imposes great stress on the body, changes the characteristics of the photoreceptor, and is an impeding factor for extending the life of the photoreceptor. Among these, in the present invention, it relates to an improvement in durability against chemical hazards. More specifically, it is possible to suppress deterioration or deterioration of constituent components near the surface of the electrophotographic photosensitive member even when used for a long period of time. The present invention relates to a technique for suppressing deterioration in image sharpness mainly caused by deposition of an ionic substance derived from an acidic gas in a charging process or the like, which is less likely to cause deterioration in photoreceptor characteristics.

繰り返し使用による電子写真感光体の特性低下は、前述の通り電子写真プロセス内での電気的及び化学的ハザードによる構成成分の劣化が主要因と考えられる。特に、電子写真感光体の帯電性・電荷輸送性に大きな寄与を有する構成成分の劣化が生じた場合に、著しい電子写真感光体の特性低下が生じることが予想されることから、これらの特性に寄与の大きな構成成分が静電的及び化学的に安定であることが、電子写真感光体の特性低下抑制には重要となる。
一般に電子写真感光体の帯電性及び電荷輸送性に大きな寄与を有する材料としては電荷輸送材料が挙げられる。多くの電子写真感光体の特性は当該材料の機能によって決定されるといっても過言ではなく、そのため比較的多くの電荷輸送材料が含有される。当該材料は電荷輸送性を有する反面、酸性ガス及びアルカリ性ガス雰囲気においては劣化しやすいといった特徴を有しており、前述の通り、長期の使用においては電子写真プロセスや、使用環境上負荷される酸性ガス及びアルカリ性ガスによって容易に変質し、結果として電子写真感光体の特性低下を引き起こす。この材料劣化を抑制しつつ、優れた電子写真感光体特性を発現させるために酸化防止剤、光安定剤等を電子写真感光体の感光層又は表面層に添加するなどの手段が多く検討されており、処方設計を重ねることによって長期間の使用によっても特性低下の少ない電子写真感光体が実用化されるなど、比較的高い効果を示す。しかしながら、酸性ガス及びアルカリ性ガスによって劣化する材料は電子写真感光体中に含有されており、長期間の使用によって徐々に特性低下が生じることは自明であり、この改善手段によって生じる副作用が別の問題を引き起こすなど、本質的な改善には至らないのが現状である。
As described above, it is considered that the deterioration of the characteristics of the electrophotographic photosensitive member due to repeated use is mainly caused by deterioration of constituent components due to electrical and chemical hazards in the electrophotographic process. In particular, it is expected that the characteristics of the electrophotographic photosensitive member will be significantly deteriorated when deterioration of the constituent components having a large contribution to the chargeability and charge transporting property of the electrophotographic photosensitive member occurs. It is important to suppress the deterioration of the characteristics of the electrophotographic photosensitive member that the components that contribute greatly are electrostatically and chemically stable.
In general, examples of the material having a large contribution to the chargeability and charge transportability of the electrophotographic photoreceptor include charge transport materials. It is no exaggeration to say that the properties of many electrophotographic photoreceptors are determined by the function of the material, and therefore contain a relatively large amount of charge transport material. While the material has charge transport properties, it is characterized by being easily deteriorated in an acidic gas and alkaline gas atmosphere. Deterioration easily occurs due to gas and alkaline gas, and as a result, the characteristics of the electrophotographic photoreceptor are deteriorated. Many means such as addition of an antioxidant, a light stabilizer, etc. to the photosensitive layer or surface layer of the electrophotographic photosensitive member have been studied in order to exhibit excellent electrophotographic photosensitive member characteristics while suppressing this material deterioration. In addition, by repeating the prescription design, an electrophotographic photosensitive member with little deterioration in characteristics even after long-term use is put to practical use, and a relatively high effect is exhibited. However, it is obvious that the material deteriorated by acid gas and alkaline gas is contained in the electrophotographic photosensitive member, and the characteristic deterioration is gradually caused by long-term use. The side effect caused by this improvement means is another problem. At present, it does not lead to substantial improvement.

また、電子写真プロセスにおいては帯電プロセスにおいて放電によって電子写真感光体を帯電させるプロセスを採用することが多く、本プロセスを繰り返し電子写真感光体に適用した場合には、電子写真感光体最表面に帯電プロセス時に形成される酸性ガス由来のイオン性物質が堆積すると言った現象が生じることがある。前記物質は電子写真感光体の最表面を酸化劣化させると共に、前記物質が吸湿した場合にはイオン伝導性が高い極薄層を形成するため、画像先鋭性が低下するといった感光体の劣化には由来しない画像品質低下を引き起こすことがあり、特に摩耗耐久性に優れた電子写真感光体においては堆積したイオン性物質が除去されにくいため顕在化しやすい。   In addition, the electrophotographic process often employs a process in which the electrophotographic photosensitive member is charged by discharging in the charging process, and when this process is repeatedly applied to the electrophotographic photosensitive member, the surface of the electrophotographic photosensitive member is charged. There may be a phenomenon that an ionic substance derived from an acid gas formed during the process is deposited. The substance oxidizes and deteriorates the outermost surface of the electrophotographic photosensitive member, and when the substance absorbs moisture, an extremely thin layer having high ion conductivity is formed. It may cause image quality deterioration that does not originate, and in particular, in an electrophotographic photoreceptor excellent in wear durability, the deposited ionic substance is difficult to be removed and thus is easily manifested.

前記課題を達成すべく本発明者らが鋭意研究を重ねた結果、導電性支持体と、該導電性支持体上に、少なくとも感光層及び表面層をこの順に有する電子写真感光体であって、
前記表面層が、無機微粒子と、下記一般式(1)、(2)、及び(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物を含有し、
前記無機微粒子が、第13族元素をドープした酸化亜鉛であり、
前記表面層における電界強度が1×10V/cmであるときの表面固有抵抗率Rが、1×1013Ω/cm以上であり、
前記表面固有抵抗率Rと、前記表面層における電界強度が1.5×10V/cmであるときの表面固有抵抗率R15との比(R/R15)が、100〜5,000であることにより、前述のような繰り返し使用によって容易に劣化する電荷輸送性材料を極力低減した場合であっても、優れた帯電性・電荷輸送性を有するとともに、長期に亘って安定した特性を有する電子写真感光体を得ることができることを知見した。
As a result of intensive studies by the present inventors to achieve the above-mentioned problems, an electrophotographic photoreceptor having at least a photosensitive layer and a surface layer in this order on a conductive support and the conductive support,
The surface layer contains inorganic fine particles and at least one compound selected from compounds represented by the following general formulas (1), (2), and (3),
The inorganic fine particles are zinc oxide doped with a Group 13 element;
The surface resistivity R 1 when the electric field strength in the surface layer is 1 × 10 4 V / cm is 1 × 10 13 Ω / cm 2 or more,
And the surface resistivity R 1, the ratio of the surface resistivity R 15 when the electric field intensity at the surface layer is 1.5 × 10 5 V / cm ( R 1 / R 15) is 100 to 5 Even when the charge transporting material that easily deteriorates by repeated use as described above is reduced as much as possible, it has excellent chargeability and charge transportability and is stable over a long period of time. It has been found that an electrophotographic photoreceptor having characteristics can be obtained.

本発明において、主として用いる構成成分(無機微粒子及び電荷輸送性構造を有しない樹脂)は、一般に酸性ガス・アルカリ性ガス等の酸化還元に対して堅牢であり、更に下記一般式(1)、(2)、及び(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物は、電子写真感光体最表面に堆積するイオン性物質を無害化するとともに、前記表面層内で電荷輸送機能も発現することから、静電特性にも際だった効果を示し、長期に亘る使用によっても劣化する構成成分が極めて少なく、イオン性物質の堆積の影響も小さくすることができる電子写真感光体であることから、優れた出力画像を長期間に亘って得ることが可能となる。   In the present invention, the constituents mainly used (inorganic fine particles and resins not having a charge transporting structure) are generally robust against oxidation / reduction of acidic gas / alkaline gas and the like, and the following general formulas (1), (2 ) And at least one compound selected from the compounds represented by (3) renders the ionic substance deposited on the outermost surface of the electrophotographic photoreceptor harmless and also exhibits a charge transport function in the surface layer. Therefore, it is an electrophotographic photoreceptor that exhibits outstanding effects on electrostatic characteristics, has very few components that deteriorate even after long-term use, and can reduce the effects of ionic substance deposition. Therefore, an excellent output image can be obtained over a long period of time.

<一般式(1)>
ただし、前記一般式(1)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Arは、置換又は無置換の芳香環基を表す。
<General formula (1)>
In the general formula (1), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic ring group.

<一般式(2)>
ただし、前記一般式(2)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。m及びnは、0〜3の整数を表し、mとnが同時に0となることはない。R及びRは、水素原子、置換又は無置換の炭素数1〜11のアルキル基、及び置換又は無置換の芳香環基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。
<General formula (2)>
However, In the general formula (2), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. m and n represent an integer of 0 to 3, and m and n are not 0 at the same time. R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different. Good. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different.

<一般式(3)>
ただし、前記一般式(3)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表す。l及びmは、0〜3の整数を表し、lとmが同時に0となることはない。nは、1〜3の整数を表す。
<General formula (3)>
In the general formula (3), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group. l and m represent an integer of 0 to 3, and l and m are not 0 at the same time. n represents an integer of 1 to 3.

本発明においては、前記表面層の電荷輸送材料を極力低減した場合であっても、優れた電子写真感光体特性を備えるためには、一般の電子写真感光体と同様に「帯電性」、「電荷輸送性」、「潜像維持性」を持たせることが重要である。「帯電性」に関しては感光層に代替機能として持たせることが可能であるため、特に前記構成の表面層に必要とされる機能としては「電荷輸送性」、「潜像維持性」が重要な要件と考えられる。
本発明者は、表面層の電荷輸送性材料を極力低減した場合であってもこれらの機能を十分に有する電子写真感光体とするためには、低電界において高抵抗を示し、中電界〜高電界においては低抵抗を示すことが重要であることが突き止め、本発明を完成した。
In the present invention, even when the charge transport material of the surface layer is reduced as much as possible, in order to provide excellent electrophotographic photoreceptor characteristics, “chargeability”, “ It is important to provide “charge transportability” and “latent image maintenance”. With regard to “chargeability”, it is possible to give the photosensitive layer as an alternative function. Therefore, “charge transportability” and “latent image maintenance” are particularly important as functions required for the surface layer having the above structure. Considered a requirement.
In order to obtain an electrophotographic photosensitive member having sufficient functions even when the charge transport material of the surface layer is reduced as much as possible, the present inventor exhibits a high resistance in a low electric field, a medium electric field to a high electric field. Ascertaining that it is important to show low resistance in the electric field, the present invention has been completed.

まず、潜像維持性に優れた表面層を有する本発明の電子写真感光体の電気特性について説明する。
潜像維持性に優れた電子写真感光体を得るためには、電子写真感光体の劣化抑制、及び電子写真感光体の最表面に堆積するイオン性物質の影響低減が重要な要件となる。電子写真感光体の劣化抑制に関しては1×10V/cm以上3×10V/cm以下における電子写真感光体の表面固有抵抗率が1×1013Ω/cm以上であり、好ましくは1×1014Ω/cm以上であれば優れた潜像維持性を示すことが種々の実験から判明した。これは本発明に記載の表面層においては、潜像維持に対して寄与の大きな電界が前記電界強度近傍であることに由来すると考えられ、この電界強度範囲において比較的高抵抗とすることによって、電荷の移動を阻害し潜像維持性が高くすることが可能と思われる。1×10V/cmの電界強度において1×1013Ω/cm未満である場合には潜像維持性が十分ではなく、出力画像のドットの細りや画像ボケが発生するため好ましくない。
First, the electrical characteristics of the electrophotographic photosensitive member of the present invention having a surface layer excellent in latent image maintenance will be described.
In order to obtain an electrophotographic photoreceptor excellent in latent image maintenance, it is important to suppress the deterioration of the electrophotographic photoreceptor and reduce the influence of ionic substances deposited on the outermost surface of the electrophotographic photoreceptor. Regarding the suppression of deterioration of the electrophotographic photosensitive member, the surface resistivity of the electrophotographic photosensitive member at 1 × 10 4 V / cm or more and 3 × 10 4 V / cm or less is 1 × 10 13 Ω / cm 2 or more, preferably It was found from various experiments that excellent latent image maintenance is exhibited at 1 × 10 14 Ω / cm 2 or more. In the surface layer according to the present invention, it is considered that the electric field having a large contribution to the latent image maintenance is derived from the vicinity of the electric field strength, and by making the resistance relatively high in this electric field strength range, It seems that it is possible to inhibit the charge transfer and to improve the latent image maintenance. When the electric field strength is 1 × 10 4 V / cm and is less than 1 × 10 13 Ω / cm 2 , the latent image maintaining property is not sufficient, and dot thinning and image blurring of the output image occur.

更に、前記電界強度範囲においては抵抗変動が小さいことが好ましく、具体的には1×10V/cmにおける表面固有抵抗率Rと3×10V/cmにおける表面固有抵抗率Rとの比(R/R)は、0.1〜10が好ましく、0.1〜2がより好ましい。前記比(R/R)が、0.1未満であると、後述する電荷輸送性が低下し、残留電位の上昇などが発生することが懸念される。一方、前記比R/Rが、10を超えると、潜像維持性が十分とはならず、出力画像のドットの細りが発生することがあり好ましくない。電子写真感光体の最表面に堆積するイオン性物質の影響低減に関しては、堆積したイオン性物質を無害化するような酸化防止剤等の添加剤が有効であることが種々の検討から明らかとなり、特に電子写真感光体の電荷輸送特性低下を引き起こしにくい、前記一般式(1)、(2)及び(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物を含有させること潜像維持性に対しては極めて有効であることが判明した。 Furthermore, it is preferable resistance variation is small in the field strength range, in particular the surface resistivity R 3 in 1 × 10 4 surface resistivity in V / cm R 1 and 3 × 10 4 V / cm The ratio (R 1 / R 3 ) is preferably from 0.1 to 10, and more preferably from 0.1 to 2. If the ratio (R 1 / R 3 ) is less than 0.1, there is a concern that the charge transporting property described later is lowered and the residual potential is increased. On the other hand, when the ratio R 1 / R 3 exceeds 10, the latent image maintenance property is not sufficient, and the dots of the output image may be thinned, which is not preferable. Regarding the reduction of the influence of ionic substances deposited on the outermost surface of the electrophotographic photoreceptor, it has become clear from various studies that additives such as antioxidants that render the deposited ionic substances harmless are effective, In particular, at least one compound selected from the compounds represented by the general formulas (1), (2), and (3) that hardly deteriorates the charge transport property of the electrophotographic photosensitive member is contained, and the latent image maintaining property is contained. Was found to be extremely effective.

次に、電荷輸送性に優れた表面層を有する電子写真感光体の電気特性について説明する。1×10V/cmの表面固有抵抗率と比較して1.5×10V/cmにおける表面固有抵抗率を十分小さくすることによって優れた電荷輸送性を示すことが、同じく本発明者の検討から明らかになった。これは本発明に記載の表面層においては、電荷輸送機能に対して寄与の大きな電界強度が1.5×10V/cm以上の範囲であることに由来すると考えられ、この電界強度範囲において比較的高抵抗とすることによって、スムーズな電荷輸送を促されるためと思われる。具体的には、1×10V/cmの表面固有抵抗率Rと1.5×10V/cmにおける表面固有抵抗率R15との比(R/R15)は、100〜5,000であり、100〜1,000が好ましい。前記比(R/R15)が、100未満であると、表面層の電荷輸送性が十分ではなく、残留電位上昇に伴う画像欠陥の発生などが生じるため好ましくない。一方、前記比(R/R15)が、5,000を超えると、電子写真感光体の帯電性が不足することなどが考えられ、地汚れの発生、階調性低下などの懸念が生じるため好ましくない。 Next, the electrical characteristics of the electrophotographic photoreceptor having a surface layer excellent in charge transportability will be described. The present inventor also shows excellent charge transport properties by sufficiently reducing the surface resistivity at 1.5 × 10 5 V / cm compared to the surface resistivity of 1 × 10 4 V / cm. It became clear from the examination. In the surface layer described in the present invention, it is considered that the electric field strength that greatly contributes to the charge transport function is derived from the range of 1.5 × 10 5 V / cm or more. It seems that smooth charge transport is promoted by using a relatively high resistance. Specifically, the ratio of 1 × 10 4 V / cm surface resistivity R 1 and the surface resistivity R 15 at 1.5 × 10 5 V / cm of (R 1 / R 15) is 100 5,000, preferably 100 to 1,000. If the ratio (R 1 / R 15 ) is less than 100, the surface layer has insufficient charge transport properties, and image defects may occur due to an increase in residual potential. On the other hand, if the ratio (R 1 / R 15 ) exceeds 5,000, it is considered that the electrophotographic photosensitive member is insufficiently charged, and there are concerns such as the occurrence of background stains and a decrease in gradation. Therefore, it is not preferable.

<<電子写真感光体の表面固有抵抗率の測定方法>>
ここで、電子写真感光体の表面固有抵抗率の測定方法について記載する。
前記電子写真感光体の表面固有抵抗率は、一般に知られる方法で測定してよく、例えば、JIS−C2139:2008(固体電気絶縁材料−体積抵抗率及び表面固有抵抗率の測定方法)などに準拠して測定する方法などが挙げられる。一般に電子写真感光体はシリンダー形状を示すものが多く、前記文献の方法では測定が困難な場合は下記に示す方法で測定してもよい。
<< Method for measuring surface resistivity of electrophotographic photosensitive member >>
Here, a method for measuring the surface resistivity of the electrophotographic photosensitive member will be described.
The surface specific resistivity of the electrophotographic photosensitive member may be measured by a generally known method, for example, in accordance with JIS-C2139: 2008 (Solid Electrical Insulating Material—Measurement Method of Volume Resistivity and Surface Resistivity) The method of measuring by doing. In general, many electrophotographic photoreceptors have a cylinder shape, and when measurement is difficult by the method of the above-mentioned literature, the measurement may be performed by the following method.

−電極形状及び作製方法−
前記電極形状としては既知長さを有し、既知間隙を有する対抗電極とし、電極長さとしては10mm以上、30mm以下であることが好ましく、電極間隙としては25μm以上100μm以下であることが好ましい。前記電極長さ、及び前記電極間隙は測定に使用する直流電圧源の容量及び電流計の精度に基づいて決定するとよい。電極を構成する金属としては電子写真感光体表面に電極形成可能であれば適宜選択してよく、一般に用いられる金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、プラチナ、クロム、亜鉛、炭素等が挙げられる。対抗電極は互いに同種金属であることが好ましい。電極作製方法としては、電子写真感光体の構成成分が変質しない方法であれば特に限定はされないが、真空蒸着法が電子写真感光体の変質が生じにくく、好ましい。
-Electrode shape and manufacturing method-
The electrode shape has a known length and is a counter electrode having a known gap. The electrode length is preferably 10 mm or more and 30 mm or less, and the electrode gap is preferably 25 μm or more and 100 μm or less. The electrode length and the electrode gap may be determined based on the capacity of a DC voltage source used for measurement and the accuracy of an ammeter. The metal constituting the electrode may be appropriately selected as long as the electrode can be formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member, and examples thereof include commonly used gold, silver, copper, aluminum, nickel, platinum, chromium, zinc, and carbon. The counter electrodes are preferably made of the same metal. The method for producing the electrode is not particularly limited as long as the constituent components of the electrophotographic photosensitive member do not change in quality, but a vacuum deposition method is preferable because it does not easily change the electrophotographic photosensitive member.

<測定方法>
電界印可電源としては十分安定な直流電圧源であれば特に限定されない。また電圧印可時の試料通過電流の測定には微少電流計を使用し、本発明に記載の1×10V/cmの測定が可能な測定精度が得られれば特に限定されない。
測定回路図を図1に示す。電圧印可極性は負帯電用電子写真感光体を評価する場合には負電圧印可とし、正帯電用電子写真感光体を評価する場合には正電圧印可とすることが好ましい。60秒間以上の測定を実施し、60秒間における電流値に基づいて表面固有抵抗率を算出することが好ましい。
<Measurement method>
The electric field applying power source is not particularly limited as long as it is a sufficiently stable DC voltage source. Further, the measurement of the current passing through the sample when a voltage is applied is not particularly limited as long as a microammeter is used and the measurement accuracy capable of measuring 1 × 10 4 V / cm described in the present invention is obtained.
A measurement circuit diagram is shown in FIG. The voltage application polarity is preferably a negative voltage application when evaluating a negatively charged electrophotographic photosensitive member, and a positive voltage application when evaluating a positively charged electrophotographic photosensitive member. It is preferable to perform measurement for 60 seconds or more and calculate the surface resistivity based on the current value for 60 seconds.

本発明においては、上記記載の方法を用いて下記条件で測定することができる。
・電流−電圧計:Keithley社製 ソースメジャーユニット タイプ2410
・電極金属:金
・電極長さ:10mm
・電極間隙:25μm
・測定雰囲気:25℃で50%RH
・測定時間:70秒間(電圧印可後60秒間後の電流値から表面抵抗を算出する)
In this invention, it can measure on condition of the following using the above-mentioned method.
Current-voltmeter: Keithley source measure unit type 2410
-Electrode metal: Gold-Electrode length: 10 mm
-Electrode gap: 25 μm
Measurement atmosphere: 50% RH at 25 ° C
・ Measurement time: 70 seconds (surface resistance is calculated from the current value 60 seconds after voltage application)

<表面層>
前記表面層は、無機微粒子と、前記一般式(1)、(2)、及び(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物とを含有し、電荷輸送性を有さない樹脂及び電荷輸送性化合物を含有することが好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
<Surface layer>
The surface layer contains inorganic fine particles and at least one compound selected from the compounds represented by the general formulas (1), (2), and (3), and has no charge transport property. It preferably contains a resin and a charge transporting compound, and further contains other components as necessary.

<<無機微粒子>>
前記無機微粒子としては、第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子が用いられる。
前記第13族元素としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、硼素、アルミニウム、ガリウム、インジウムなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、電荷輸送性及び潜像維持性に優れ、表面層の電気的特性を維持できる点で、ガリウムが好ましい。
<< Inorganic fine particles >>
As the inorganic fine particles, zinc oxide fine particles doped with a Group 13 element are used.
The group 13 element is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include boron, aluminum, gallium, and indium. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, gallium is preferable because it is excellent in charge transporting property and latent image maintaining property and can maintain the electrical characteristics of the surface layer.

前記酸化亜鉛微粒子に前記第13族元素をドープする方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、「バルク母体である酸化亜鉛」又は「焼成することにより酸化亜鉛となる前駆体」と「ドープ金属」とを固体状態で混合して混合物を調製し、この混合物を高温雰囲気で焼成することにより形成する焼成法などが挙げられる。
ここで、ドープするとは、前記第13族元素を制御された濃度だけ前記酸化亜鉛に添加することをいう。
The method for doping the zinc oxide fine particles with the group 13 element is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, “zinc oxide as a bulk matrix” or “by firing” Examples thereof include a firing method in which a “precursor that becomes zinc oxide” and a “dope metal” are mixed in a solid state to prepare a mixture, and the mixture is fired in a high-temperature atmosphere.
Here, doping means adding the group 13 element to the zinc oxide in a controlled concentration.

前記酸化亜鉛微粒子に前記第13族元素がドープされていることを確認する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、X線光電子分光法(XPS)、オージェ分光分析法(AES)、エネルギー分散型X線分光法(EDX)等の一般に知られる元素分析方法により確認する方法などが挙げられる。   The method for confirming that the zinc oxide fine particles are doped with the group 13 element is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. For example, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Examples thereof include a method of confirming by a generally known elemental analysis method such as Auger spectroscopy (AES) and energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX).

前記第13族元素の前記酸化亜鉛微粒子における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、酸化亜鉛であれば1モルに対して、元素換算で、0.001モル〜0.2モルが好ましく、0.01モル〜0.1モルがより好ましく、0.02モル〜0.1モルが更に好ましい。前記含有量が、0.001モル未満であると、酸化亜鉛の電気特性安定性が低下することがある。一方、前記含有量が、0.2モルを超えると、電気特性安定性や微粒子導電性向上効果が飽和することが多く、効果的な位置に拡散されない過剰の添加元素が粒界に化合物となって析出しやすくなるため、各種電子写真感光体特性が低下することがある。   There is no restriction | limiting in particular as content in the said zinc oxide microparticles | fine-particles of the said group 13 element, Although it can select suitably according to the objective, For example, in the element conversion with respect to 1 mol if it is zinc oxide, 0.001 mol to 0.2 mol is preferable, 0.01 mol to 0.1 mol is more preferable, and 0.02 mol to 0.1 mol is still more preferable. When the content is less than 0.001 mol, the electrical property stability of zinc oxide may be lowered. On the other hand, when the content exceeds 0.2 mol, the effect of improving electrical property stability and fine particle conductivity is often saturated, and an excessive additive element that is not diffused to an effective position becomes a compound at the grain boundary. Therefore, the characteristics of various electrophotographic photoreceptors may be deteriorated.

前記第13族元素の酸化亜鉛における含有量の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、X線光電子分光法(XPS)、オージェ分光分析法(AES)、エネルギー分散型X線分光法(EDX)等の一般に知られる元素分析方法により測定する方法などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a measuring method of content in the zinc oxide of the said group 13 element, According to the objective, it can select suitably, For example, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Auger spectroscopy (AES) ), A method of measuring by a generally known elemental analysis method such as energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX).

前記第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子として、酸化亜鉛微粒子表面に焼結防止効果を有する焼結防止剤を含有することがより好ましい。前記焼結防止剤を含有することにより、粒子製造時に極端な粒子成長の抑制が可能となり、一次粒子径のばらつきの少ない酸化亜鉛微粒子とすることができると共に、比較的高温での焼成が可能であることから、酸化亜鉛微粒子中におけるドーパント元素の拡散を容易ならしめることができるという特徴を有する。加えて焼結防止剤として酸化亜鉛微粒子の主構成元素よりも焼結温度が高いものを選択することにより、酸化亜鉛微粒子を焼成時に無機微粒子同士の合一乃至凝集が生じにくくなり、本発明の用途に類するような液中分散液を使用して塗膜形成をする用途に適用する際には、酸化亜鉛微粒子の分散が良好な塗膜を得やすいという特徴を有する。   It is more preferable that the zinc oxide fine particles doped with the group 13 element contain a sintering inhibitor having an anti-sintering effect on the surface of the zinc oxide fine particles. By containing the sintering inhibitor, it becomes possible to suppress the extreme particle growth during the production of the particles, to make the zinc oxide fine particles with little variation in the primary particle diameter, and to be able to be fired at a relatively high temperature. Since it exists, it has the characteristic that the spreading | diffusion of the dopant element in a zinc oxide microparticle can be made easy. In addition, by selecting a sintering inhibitor having a sintering temperature higher than that of the main constituent element of the zinc oxide fine particles, it becomes difficult for the inorganic fine particles to coalesce or aggregate when firing the zinc oxide fine particles. When applied to an application for forming a coating film using a liquid dispersion similar to the application, it has a feature that it is easy to obtain a coating film in which zinc oxide fine particles are well dispersed.

前記焼結防止剤としては、例えば、Si、Zr、Mg、Hf、Sn、Sr、Mo、W、Ge、Nb、V、Ca、Ta、及びBaから選ばれる少なくとも1種元素の化合物が好ましく、前記焼結温度が酸化亜鉛よりも高い焼結防止剤としてはシリカがより好ましい。
前記焼結防止剤の含有量としては、前記第13族元素をドープした酸化亜鉛に対して、0.5質量%〜20質量%の範囲であることが好ましい。
前記無機微粒子として表面修飾されたガリウムドープ酸化亜鉛微粒子、焼結防止剤としてSiを用いた場合には、Siの含有量はSiO換算で2質量%〜15質量%が好ましい。
このような特徴を有する第13属元素をドープした酸化亜鉛を本発明に適用した場合に、比較的高い透明性を有する塗膜とすることが可能であると共に、高い電気的安定性を有する酸化亜鉛とすることができ、本発明に記載の電子写真感光体の特徴の一つである静電安定性を更に高くする効果がある。
As the sintering inhibitor, for example, a compound of at least one element selected from Si, Zr, Mg, Hf, Sn, Sr, Mo, W, Ge, Nb, V, Ca, Ta, and Ba is preferable. Silica is more preferable as the sintering inhibitor having a sintering temperature higher than that of zinc oxide.
As content of the said sintering inhibitor, it is preferable that it is the range of 0.5 mass%-20 mass% with respect to the zinc oxide doped with the said group 13 element.
When the gallium-doped zinc oxide fine particles whose surface is modified as the inorganic fine particles and Si as the sintering inhibitor are used, the content of Si is preferably 2% by mass to 15% by mass in terms of SiO 2 .
When zinc oxide doped with a Group 13 element having such characteristics is applied to the present invention, it is possible to form a coating film having relatively high transparency and an oxidation having high electrical stability. Zinc can be used, and has the effect of further increasing the electrostatic stability, which is one of the characteristics of the electrophotographic photosensitive member described in the present invention.

前記第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子における前記焼結防止剤の含有量の測定方法としては、公知の元素定量分析手段であれば特に制限はなく、目的に応じて前記記載の分析手段を適宜選択することができる。例えば、X線光電子分光法(XPS)、オージェ分光分析法(AES)、エネルギー分散型X線分光法(EDX)等の一般に知られる元素分析方法により測定する方法、などが挙げられる。   The method for measuring the content of the sintering inhibitor in the zinc oxide fine particles doped with the Group 13 element is not particularly limited as long as it is a known elemental quantitative analysis means, and the analysis means described above may be used depending on the purpose. It can be selected appropriately. Examples thereof include a method of measuring by a generally known elemental analysis method such as X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Auger spectroscopy (AES), energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX), and the like.

前記第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子の体積抵抗率は、1×10Ω・cm以下が好ましく、1×10Ω・cm以上1×10Ω・cm以下がより好ましく、1×10Ω・cm以上1×10Ω・cm以下がより好ましい。1×10Ω・cm未満の体積抵抗率の無機微粒子を用いた表面層を有する電子写真感光体においては、本発明の表面層電気特性適性範囲であっても、細線又は小ドットの細り・滲みが発生しやすくなるため好ましくない。また、1×10Ω・cmを超える体積抵抗率の無機微粒子を用いた場合には表面層内部における電荷輸送性の環境依存性が大きくなり、特に低温環境における電荷輸送性の低下による画像濃度低下などが生じやすくなるため好ましくない。 The volume resistivity of the zinc oxide fine particles doped with the Group 13 element, 1 × is preferably from 10 8 Ω · cm, more preferably at most 1 × 10 3 Ω · cm or more 1 × 10 8 Ω · cm, 1 × 10 3 Ω · cm to 1 × 10 6 Ω · cm is more preferable. In an electrophotographic photosensitive member having a surface layer using inorganic fine particles having a volume resistivity of less than 1 × 10 3 Ω · cm, even if the surface layer electrical property suitability range of the present invention is within the range of fine lines or small dots, This is not preferable because bleeding tends to occur. In addition, when inorganic fine particles having a volume resistivity exceeding 1 × 10 6 Ω · cm are used, the environmental dependency of the charge transport property inside the surface layer increases, and the image density due to the decrease in the charge transport property particularly in a low temperature environment. This is not preferable because it tends to cause a decrease.

<<第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子の体積抵抗率の測定方法>>
前記第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子の体積抵抗率の測定方法としては、所定量の粉体の圧密体を所定の圧力を用いて作製した後に、圧密体上下端に電極を設け、所定の電圧を印加した場合の電流値を測定する方法が挙げられる。本発明においては圧密体作製時に二水準の圧力を適用して供試体を作製し、各圧密体空隙率と各圧密体体積抵抗率とを算出した後に、空隙率50vol%における抵抗率を指数関数近似から求めたものを無機微粒子の体積抵抗率とした。下記に測定条件を記載する。
・供試体に用いる酸化亜鉛微粒子量:1.0g
・供試体形状:円柱(直径20mm)
・供試体作製時の圧力:10MPa、20MPa
・供試体電極:W
・印加電圧:0.1V
<< Method for Measuring Volume Resistivity of Zinc Oxide Fine Particles Doped with Group 13 Element >>
As a method for measuring the volume resistivity of the zinc oxide fine particles doped with the group 13 element, a compact body of a predetermined amount of powder is prepared using a predetermined pressure, and electrodes are provided on the upper and lower ends of the compact body. The method of measuring the electric current value at the time of applying this voltage is mentioned. In the present invention, a specimen is prepared by applying two levels of pressure during the production of a compact, and after calculating the respective compact body porosity and each compact volume resistivity, the resistivity at a porosity of 50 vol% is an exponential function. The volume resistivity of the inorganic fine particles was determined from the approximation. The measurement conditions are described below.
-Amount of fine zinc oxide particles used in the specimen: 1.0 g
-Specimen shape: cylinder (diameter 20mm)
-Pressure at the time of specimen preparation: 10 MPa, 20 MPa
・ Sample electrode: W
・ Applied voltage: 0.1V

以下、前記焼結防止剤を含む第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子の製造方法について説明するが、同種の酸化亜鉛微粒子が形成可能であれば後述する方法に限定されない。
前記焼結防止剤を含む第13族元素をドープした酸化亜鉛の製造方法は(1)酸化亜鉛又は焼成によって酸化亜鉛となる前駆化合物と第13族元素とが固体状態で混合された混合物を作製する工程、(2)工程(1)で作製した混合物と焼結防止剤とを混合する工程、(3)工程(2)によって得られた混合物を所定の温度によって焼成する工程からなる。前記焼成温度としては第13族元素が酸化亜鉛微粒子中で拡散することを目的として比較的高温とすることが好ましく、また焼結防止剤が有効に働く温度範囲内で焼成することが好ましい。具体的には、600℃以上850℃以下で焼成することによって本発明に適した第13族元素をドープした酸化亜鉛を得ることができる。
Hereinafter, although the manufacturing method of the zinc oxide fine particle doped with the group 13 element containing the said sintering inhibitor is demonstrated, if the same kind of zinc oxide fine particle can be formed, it will not be limited to the method mentioned later.
The method for producing zinc oxide doped with a group 13 element containing the sintering inhibitor is as follows: (1) preparing a mixture in which zinc oxide or a precursor compound that becomes zinc oxide by firing and a group 13 element are mixed in a solid state (2) a step of mixing the mixture prepared in step (1) and the sintering inhibitor, and (3) a step of firing the mixture obtained in step (2) at a predetermined temperature. The firing temperature is preferably set to a relatively high temperature for the purpose of diffusing the Group 13 element in the zinc oxide fine particles, and is preferably fired within a temperature range in which the sintering inhibitor effectively works. Specifically, zinc oxide doped with a Group 13 element suitable for the present invention can be obtained by baking at 600 ° C. or higher and 850 ° C. or lower.

前記第13族元素をドープした酸化亜鉛の平均一次粒径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、表面層の光透過率及び耐摩耗性に優れる点で、10nm〜50nmが好ましい。前記平均一次粒径が、10nm未満であると、無機微粒子の凝集が生じやすく、本発明に記載した表面固有抵抗率の制御が安定して行うことができないなどの不具合を生じやすくなることがある。前記平均一次粒径が、50nmを超えると、前記表面層における電荷輸送機能が不均質となりやすく、所望の潜像形成が困難となることがある。また、前記表面層の表面粗さが大きくなり、後述するブレードクリーニング部材の摩耗が速やかに進行するため、早期にトナークリーニング不良などが発生することがある。また、前記無機微粒子の比重にもよるが、分散液中において前記無機微粒子の沈降性が促進されるなどの塗工液寿命に関わる問題を生じることがある。   The average primary particle size of zinc oxide doped with the Group 13 element is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but in terms of excellent light transmittance and wear resistance of the surface layer, 10 nm-50 nm are preferable. When the average primary particle size is less than 10 nm, the aggregation of inorganic fine particles is likely to occur, and problems such as inability to stably control the surface resistivity described in the present invention may occur. . When the average primary particle size exceeds 50 nm, the charge transport function in the surface layer tends to be inhomogeneous, making it difficult to form a desired latent image. Further, since the surface roughness of the surface layer increases and wear of a blade cleaning member, which will be described later, progresses rapidly, toner cleaning failure or the like may occur at an early stage. Further, although depending on the specific gravity of the inorganic fine particles, there may be a problem relating to the life of the coating solution, such as promoting the sedimentation of the inorganic fine particles in the dispersion.

前記第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子の平均一次粒径の測定は、例えば、走査型電子顕微鏡により3,000倍〜10,000倍の観察像を得た後、ランダムに選択した200個の粒子を画像解析ソフトにより算出することにより測定することができる。   Measurement of the average primary particle size of the zinc oxide fine particles doped with the Group 13 element is, for example, 200 randomly selected images after obtaining observation images of 3,000 to 10,000 times with a scanning electron microscope These particles can be measured by calculating with the image analysis software.

前記第13族元素をドープした酸化亜鉛としては、亜鉛粒子が一級及び二級のいずれかのアミノ基で修飾された、体積抵抗率が1×10Ω・cm以下のものが好ましい(以下、「表面修飾亜鉛微粒子」と称することがある)。
前記一級及び二級のいずれかのアミノ基による前記亜鉛粒子の修飾法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、一級乃至二級のアミノ基を有する化合物を用いて、前記亜鉛粒子を修飾する方法などが挙げられる。
As the zinc oxide doped with the Group 13 element, those having a volume resistivity of 1 × 10 8 Ω · cm or less in which zinc particles are modified with either primary or secondary amino groups are preferred (hereinafter referred to as “the zinc oxide”). Sometimes referred to as “surface-modified zinc fine particles”).
The method for modifying the zinc particles with either the primary or secondary amino group is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, a compound having a primary or secondary amino group may be selected. And a method of modifying the zinc particles.

−一級乃至二級のアミノ基を有する化合物−
前記一級乃至二級のアミノ基を有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、p−アミノフェニルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノメチルフェネチルトリメトキシシラン、N−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニルアミノメチルトリエトキシシラン、フェニルアミノメチルメチルジメトキシシランなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、フェニルアミノ基を有する化合物が好ましい。
-Compounds having primary or secondary amino groups-
The compound having a primary or secondary amino group is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N 2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3 -Triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, p-aminophenyltrimethoxysilane, aminoethylaminomethylphenethyltrimethoxysilane, N-phenylaminopropyltrimethoxysilane, N-phenylaminomethyl Triethoxysilane, phenylaminomethylmethyl Such as methoxy silane. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, a compound having a phenylamino group is preferable.

−表面修飾亜鉛粒子の製造方法−
前記表面修飾亜鉛粒子を製造する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、一級乃至二級のアミノ基を有する化合物を用いて、亜鉛粒子を修飾する以下の方法が例示として挙げられる。
-Manufacturing method of surface modified zinc particles-
The method for producing the surface-modified zinc particles is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. The zinc particles are modified with a compound having a primary or secondary amino group as described below. The method is given as an example.

無機微粒子と一級乃至二級のアミノ基を有する化合物とを含むスラリー(固体微粒子の懸濁液)を湿式粉砕することにより、前記無機微粒子を微細化すると同時に無機微粒子の表面処理を進行させる。その後、溶媒を除去し、熱処理した後、粉体化することで、均一で微細な、アミノ基を有する化合物により修飾された表面修飾無機微粒子を得ることができる。   A slurry (a suspension of solid fine particles) containing inorganic fine particles and a compound having a primary or secondary amino group is wet pulverized, whereby the inorganic fine particles are refined and at the same time the surface treatment of the inorganic fine particles proceeds. Thereafter, the solvent is removed, heat treatment is performed, and powderization is performed, whereby uniform and fine surface-modified inorganic fine particles modified with an amino group-containing compound can be obtained.

前記表面処理に用いる表面処理装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、湿式メディア分散型装置が挙げられる。
前記湿式メディア分散型装置は、容器内にメディアとしてビーズを充填し、更に回転軸と垂直に取り付けられた攪拌ディスクを高速回転させることにより、無機微粒子の凝集粒子を砕いて粉砕乃至分散する工程を有する装置である。その構成としては、無機微粒子に表面処理を行う際に金属酸化物粒子を十分に分散させ、かつ表面処理できる形式であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、縦型乃至横型、連続式乃至回分式など、種々の様式のものが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as a surface treatment apparatus used for the said surface treatment, Although it can select suitably according to the objective, For example, a wet media dispersion type | mold apparatus is mentioned.
The wet media dispersion type apparatus comprises a step of crushing or dispersing agglomerated particles of inorganic fine particles by filling beads in a container as a medium and rotating an agitation disk attached perpendicularly to a rotation axis at a high speed. It is a device that has. The configuration is not particularly limited as long as the metal oxide particles are sufficiently dispersed when the surface treatment is performed on the inorganic fine particles and can be surface-treated, and can be appropriately selected according to the purpose. Various types such as vertical type or horizontal type, continuous type or batch type can be used.

具体的には、例えば、サンドグラインダーミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミルなどが挙げられる。これらの分散型装置で、ボール、ビーズ等の粉砕媒体(メディア)を使用して、衝撃圧壊、摩擦、せん断、ズリ応力などにより微粉砕、分散が行われる。前記サンドグラインダーミルで用いるビーズとしては、例えば、ガラス、アルミナ、ジルコン、ジルコニア、スチール、フリント石などを原材料としたボールが挙げられるが、ジルコニア製やジルコン製のものが好ましい。また、前記ビーズとしては、直径1mm〜2mmのものが好ましい。   Specific examples include a sand grinder mill, an ultra visco mill, a pearl mill, a grain mill, a dyno mill, an agitator mill, and a dynamic mill. In these dispersion-type apparatuses, pulverization and dispersion are performed by impact crushing, friction, shearing, shear stress, and the like using a pulverizing medium (media) such as balls and beads. Examples of the beads used in the sand grinder mill include balls made of glass, alumina, zircon, zirconia, steel, flint stone, and the like, but those made of zirconia or zircon are preferable. The beads preferably have a diameter of 1 mm to 2 mm.

前記湿式メディア分散型装置に使用するディスクや容器内壁の素材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ステンレス製、ナイロン製、セラミック製などの素材が挙げられる。これらの中でも、ジルコニア、シリコンカーバイド等のセラミック製の素材がより好ましい。   The material of the disk and container inner wall used in the wet media dispersion type device is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include materials made of stainless steel, nylon, ceramic, and the like. . Among these, ceramic materials such as zirconia and silicon carbide are more preferable.

アルミナ、酸化チタン、酸化錫、シリカ等の金属酸化物粒子も、酸化亜鉛と同様に表面に水酸基を有しているので、アミノ基を有する化合物を用いた湿式処理により、前記表面修飾無機微粒子を得ることができる。   Since metal oxide particles such as alumina, titanium oxide, tin oxide, and silica also have a hydroxyl group on the surface in the same manner as zinc oxide, the surface-modified inorganic fine particles are obtained by wet treatment using a compound having an amino group. Can be obtained.

また、前記第13族元素をドープした酸化亜鉛(表面修飾無機微粒子)の製造方法の別例としては、無機微粒子と、一級乃至二級のアミノ基を有するシランカップリング剤とを反応させることで、前記無機微粒子を一級乃至二級のアミノ基で修飾する方法が挙げられる。   Another example of the method for producing zinc oxide doped with the group 13 element (surface-modified inorganic fine particles) is to react inorganic fine particles with a silane coupling agent having a primary or secondary amino group. And a method of modifying the inorganic fine particles with primary or secondary amino groups.

前記無機微粒子を修飾する方法に用いる材料としては、アミノ基以外の修飾基をもつ材料を含んでいてもよいが、アミノ基を有する材料を50質量%以上含むことが好ましい。   The material used in the method for modifying the inorganic fine particles may include a material having a modifying group other than an amino group, but preferably contains 50% by mass or more of a material having an amino group.

−表面修飾無機微粒子の体積抵抗率−
前記表面修飾無機微粒子の体積抵抗率は、JIS−K6911に準拠する測定装置を用いることで測定することができる。前記測定装置としては、例えば、MCP−PD51型、ロレスタGP、ハイレスタUP(いずれも、株式会社三菱化学アナリテック製)などが挙げられる。
前記測定装置においては任意の圧力下での測定が可能である。前記表面修飾無機微粒子の体積抵抗率は、シリンダー空隙率が50%の状態における粉体抵抗率の値を複数の測定結果より内挿もしくは外挿することで算出し、この値を前記表面修飾無機微粒子の体積抵抗率とする。近似は指数関数近似を用いる。前記空隙率は以下の算出式にて求められる。
シリンダー空隙率(%)=(1−測定した微粒子の重量÷微粒子の密度÷加圧時の微粒子の体積)×100
-Volume resistivity of surface-modified inorganic fine particles-
The volume resistivity of the surface-modified inorganic fine particles can be measured by using a measuring device based on JIS-K6911. Examples of the measuring device include MCP-PD51 type, Loresta GP, Hiresta UP (all manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) and the like.
The measuring device can measure under any pressure. The volume resistivity of the surface-modified inorganic fine particles is calculated by interpolating or extrapolating the value of the powder resistivity with a cylinder porosity of 50% from a plurality of measurement results, and this value is calculated as the surface-modified inorganic fine particle. The volume resistivity of the fine particles. The approximation uses exponential function approximation. The porosity is obtained by the following calculation formula.
Cylinder porosity (%) = (1−measured fine particle weight ÷ fine particle density ÷ particulate volume during pressurization) × 100

前記表面修飾無機微粒子の体積抵抗率は、1×10Ω・cm以下のものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、体積抵抗率が5×10Ω・cm以下のものが好ましく、1×10Ω・cm以下のものがより好ましい。 The volume resistivity of the surface-modified inorganic fine particles is not particularly limited as long as it is 1 × 10 8 Ω · cm or less, and can be appropriately selected according to the purpose, but the volume resistivity is 5 × 10 4. The thing of ohm * cm or less is preferable and the thing of 1 * 10 < 3 > ohm * cm or less is more preferable.

−表面修飾無機微粒子の検出方法−
表面層における前記表面修飾無機微粒子の検出には、例えば、ガスクロマトグラフ質量分析計(GCMS)、飛行時間質量分析計(TOF−SIMS)、核磁気共鳴(NMR)、赤外分光光度計(IR)、ラマン分光光度計、オージェ分光(AES)など一般的な分析手法を用いることができる。
-Detection method of surface-modified inorganic fine particles-
For the detection of the surface-modified inorganic fine particles in the surface layer, for example, gas chromatograph mass spectrometer (GCMS), time-of-flight mass spectrometer (TOF-SIMS), nuclear magnetic resonance (NMR), infrared spectrophotometer (IR) Common analysis techniques such as Raman spectrophotometer and Auger spectroscopy (AES) can be used.

前記第13族元素をドープした酸化亜鉛(表面修飾無機微粒子)の表面層における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することがでるが、前記電荷輸送性を有さない樹脂100質量部に対して、10質量部〜130質量部が好ましい。前記含有量が、10質量部未満であると、耐ガス性が低下し異常画像が発生することがあり、130質量部を超えると、第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子の凝集により塗工不良が生じることがある。   There is no restriction | limiting in particular as content in the surface layer of the zinc oxide (surface modification inorganic fine particle) doped with the said group 13 element, Although it can select suitably according to the objective, It does not have the said charge transport property. 10 mass parts-130 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of resin. When the content is less than 10 parts by mass, gas resistance may be deteriorated and an abnormal image may be generated. When the content exceeds 130 parts by mass, coating is caused by aggregation of zinc oxide fine particles doped with a Group 13 element. Defects may occur.

前記表面修飾無機微粒子の表面層中への分散方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面層用塗工液の調製に関して一般に用いられる分散方法である、ボールミル、サンドミル、KDミル、3本ロールミル、圧力式ホモジナイザー等を用いる方法や、超音波分散などが挙げられる。   The method for dispersing the surface-modified inorganic fine particles in the surface layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, the dispersion method is generally used for the preparation of the surface layer coating liquid. , A method using a ball mill, a sand mill, a KD mill, a three-roll mill, a pressure homogenizer, and ultrasonic dispersion.

本発明に記載するような表面層を用いる場合、第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子を比較的多く含有するため、耐傷性、耐摩耗性が高い反面、帯電プロセスなどで生成されるオゾンやNOxなどの酸性ガスに由来するイオン性物質の堆積によって画質の劣化(画像濃度ムラ)が生じやすい欠点がある。酸性ガスによる画像濃度ムラのメカニズムは、帯電器によって生成した酸性ガス由来のイオン性物質が感光体表面に堆積し、吸湿することにより感光体の最表面の抵抗が低下することにより、静電潜像上の電荷が感光体表面上を横に移動するためと考えられている。
これまで一般に用いられていた電子写真感光体は、機械的耐久性に乏しかったため、クリーニングブレードなどで負荷される機械的外力によって摩耗が生じ、最表面に堆積したイオン性物質を容易に除去できたため、画像濃度ムラが顕在化しにくいものであった。しかしながら、本発明に記載するような無機微粒子を比較的多く含有した表面層を有する電子写真感光体は、感光体表面が摩耗しにくく、表面に堆積したイオン性物質の除去が非常に困難となるため、画像濃度ムラが顕在化しやすい。特に架橋性材料を用いて表面層を形成する場合は、架橋による体積収縮のために表面層の自由体積が大きくなり、比較的層内部までイオン性物質の影響を受けやすい。このため画像濃度ムラが顕在化しやすく、加えて回復が遅くなるといった、これまでにみられなかった不具合が生じる。このような電子写真感光体最表面に堆積したイオン性物質によって引き起こされる課題を解決するためには、下記一般式(1)、(2)、及び(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物を含有させることが効果的である。
When a surface layer as described in the present invention is used, since it contains a relatively large amount of zinc oxide fine particles doped with a group 13 element, it has high scratch resistance and wear resistance, but ozone generated by a charging process, etc. There is a drawback in that image quality deterioration (image density unevenness) is likely to occur due to deposition of an ionic substance derived from an acidic gas such as NOx. The mechanism of unevenness of image density due to acid gas is that the ionic substance derived from acid gas generated by the charger is deposited on the surface of the photoconductor and absorbs moisture, thereby reducing the resistance of the outermost surface of the photoconductor. It is considered that the charge on the image moves laterally on the surface of the photoreceptor.
The electrophotographic photosensitive member that has been generally used so far has poor mechanical durability, and therefore wear due to a mechanical external force applied by a cleaning blade or the like, and ionic substances deposited on the outermost surface can be easily removed. Further, the image density unevenness was hardly manifested. However, an electrophotographic photosensitive member having a surface layer containing a relatively large amount of inorganic fine particles as described in the present invention is difficult to wear on the surface of the photosensitive member, and it is very difficult to remove ionic substances deposited on the surface. Therefore, image density unevenness is likely to be manifested. In particular, when a surface layer is formed using a crosslinkable material, the free volume of the surface layer becomes large due to volume shrinkage due to crosslinking, and the inside of the layer is relatively susceptible to ionic substances. For this reason, image density unevenness tends to be manifested, and in addition, there is a problem that has not been seen so far, such as slow recovery. In order to solve the problem caused by the ionic substance deposited on the outermost surface of the electrophotographic photosensitive member, the compound is selected from compounds represented by the following general formulas (1), (2), and (3). It is effective to contain at least one compound.

<一般式(1)>
ただし、前記一般式(1)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Arは、置換又は無置換の芳香環基を表す。
<General formula (1)>
In the general formula (1), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic ring group.

<一般式(2)>
ただし、前記一般式(2)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。m及びnは、0〜3の整数を表し、mとnが同時に0となることはない。R及びRは、水素原子、置換又は無置換の炭素数1〜11のアルキル基、及び置換又は無置換の芳香環基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。
<General formula (2)>
However, In the general formula (2), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. m and n represent an integer of 0 to 3, and m and n are not 0 at the same time. R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different. Good. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different.

<一般式(3)>
ただし、前記一般式(3)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表す。l及びmは、0〜3の整数を表し、lとmが同時に0となることはない。nは、1〜3の整数を表す。
<General formula (3)>
In the general formula (3), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group. l and m represent an integer of 0 to 3, and l and m are not 0 at the same time. n represents an integer of 1 to 3.

<一般式(1)で表される化合物>
前記一般式(1)で表されるジアミン化合物は特公昭62−13382号公報、米国特許第4223144号公報、米国特許第3271383号公報、米国特許第3291788号公報で染料中間体もしくは高分子化合物の前駆体として記載されている。前記化合物は、感光体を繰り返し使用する際の画像品質維持に有効である。その理由は、現時点では明らかになっていないが、化学構造内に含まれるアルキルアミノ基が塩基性の強い基であるので、画像農奴ムラの原因物質と考えられている酸化性ガスやイオン性物質に対しての中和効果が推測される。また、芳香族炭化水素環基置換アミノ基は、電荷輸送能が優れる官能基であることが知られており[高橋ら、電子写真学会誌、25巻、3号、16頁、1986年]、本発明に用いられる前記ジアミン化合物はこの基を含むことから電荷輸送能の高い化合物であることがわかる。更には、他の電荷輸送物質と併用することにより高感度、並びに繰り返し安定性等が更に増すことも置換されている。
<Compound represented by the general formula (1)>
The diamine compound represented by the general formula (1) is disclosed in Japanese Patent Publication No. 62-13382, US Pat. No. 4,223,144, US Pat. No. 3,271,383, and US Pat. No. 3,291,788. It is described as a precursor. The compound is effective for maintaining image quality when the photoreceptor is used repeatedly. The reason for this is not clarified at the moment, but the alkylamino group contained in the chemical structure is a strongly basic group. The neutralization effect is estimated. In addition, it is known that the aromatic hydrocarbon ring group-substituted amino group is a functional group having excellent charge transporting ability [Takahashi et al., Electrophotographic Society, Vol. 25, No. 3, page 16, 1986], Since the said diamine compound used for this invention contains this group, it turns out that it is a compound with high charge transport ability. Furthermore, the high sensitivity and the repeated stability are further increased when used in combination with other charge transport materials.

前記一般式(1)で表されるジアミン化合物は、文献(E.ElceandA.S.Hay,Polymer,Vol.37 No.9,1745(1996))に記載の方法によって容易に製造することができる。即ち、下記一般式(1−1)で表されるジハロゲン化物と、下記一般式(1−2)で表される第二級アミン化合物とを塩基性化合物の存在下、室温から100℃程度の温度において反応させることにより得ることができる。   The diamine compound represented by the general formula (1) can be easily produced by the method described in the literature (E. Elceand AS Hay, Polymer, Vol. 37 No. 9, 1745 (1996)). . That is, a dihalide represented by the following general formula (1-1) and a secondary amine compound represented by the following general formula (1-2) are heated from room temperature to about 100 ° C. in the presence of a basic compound. It can be obtained by reacting at a temperature.

<一般式(1−1)>
ただし、前記一般式(1−1)中、Arは置換もしくは無置換の芳香族炭化水素基を表す。Xはハロゲン原子を表す。
<General formula (1-1)>
However, in the general formula (1-1), Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group. X represents a halogen atom.

<一般式(1−2)>
ただし、前記一般式(1−2)中、R及びRは、置換もしくは無置換のアルキル基、芳香族炭化水素基を表し、同一でも異なっていてもよい。但し、R、Rのいずれか1つは置換もしくは無置換の芳香族炭化水素基である。また、RとRは互いに結合し、窒素原子を含む置換もしくは無置換の複素環基を形成してもよい。
<General formula (1-2)>
In the general formula (1-2), R 2 and R 3 is a substituted or unsubstituted alkyl group, an aromatic hydrocarbon group, may be the same or different. However, any one of R 2 and R 3 is a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group. R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a substituted or unsubstituted heterocyclic group containing a nitrogen atom.

前記塩基性化合物としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、カリウム−t−ブトキシドなどが挙げられる。また、反応溶媒としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、アセトニトリルなどが挙げられる。   Examples of the basic compound include potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium hydride, sodium methylate, potassium t-butoxide and the like. Examples of the reaction solvent include dioxane, tetrahydrofuran, toluene, xylene, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, acetonitrile, and the like.

前記一般式(1)及び前記一般式(1−2)の説明にある、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ウンデカニル基、などが挙げられる。また、芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、フルオレン及びピレンなどの芳香族環、並びにピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾールなど芳香族複素環の基が挙げられる。また、これらの置換基としては、前記アルキル基の具体例で挙げたもの、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、又はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、前記芳香族炭化水素基、及びピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなどの複素環の基などが挙げられる。更に、RとRが互いに結合し窒素原子を含む複素環基を形成する場合、その複素環基としてはピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基などに芳香族炭化水素基が縮合した縮合複素環基を挙げることができる。 Examples of the alkyl group in the description of the general formula (1) and the general formula (1-2) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, and an undecanyl group. Examples of the aromatic hydrocarbon group include aromatic rings such as benzene, biphenyl, naphthalene, anthracene, fluorene, and pyrene, and aromatic heterocyclic rings such as pyridine, quinoline, thiophene, furan, oxazole, oxadiazole, and carbazole. The group of is mentioned. These substituents include those exemplified in the specific examples of the alkyl group, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group, or halogen atoms of fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom. Atoms, the aromatic hydrocarbon groups, and heterocyclic groups such as pyrrolidine, piperidine, piperazine and the like can be mentioned. Further, when R 1 and R 2 are bonded to each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom, the heterocyclic group is a condensed heterocyclic ring in which an aromatic hydrocarbon group is condensed to a pyrrolidino group, piperidino group, piperazino group or the like. The group can be mentioned.

以下に、前記一般式(1)で表される化合物の好ましい例を挙げる。但し、本発明は、これらの化合物に限定されるものではない。   Below, the preferable example of a compound represented by the said General formula (1) is given. However, the present invention is not limited to these compounds.

<一般式(1)>
<General formula (1)>

本発明においては、前記一般式(1)で表される化合物を単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。 In the present invention, the compound represented by the general formula (1) may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

<一般式(2)で表される化合物>
前記一般式(2)で表される化合物が、前記電子写真感光体最表面に堆積したイオン性物質によって引き起こされる課題を解決する上で好ましい理由は、現時点で明確にされていないが、前記化合物の構造内に含まれる、例えば、前記一般式(2)におけるR及びR置換アミノ基(R、Rは、芳香環基置換もしくは無置換の炭素数1〜4のアルキルアミノ基)が酸化性ガスに対して有効なラジカル物質生成抑制を行うことにあると推測される。下記一般式(2)で表される化合物は、電荷輸送能力も有しているため、それ自身で電荷担体のトラップとして働かず、添加に伴う残留電位上昇等の電気的な特性劣化は殆どみられないものとなる。
<Compound represented by formula (2)>
The reason why the compound represented by the general formula (2) is preferable in solving the problem caused by the ionic substance deposited on the outermost surface of the electrophotographic photosensitive member has not been clarified at the present time. For example, R 2 and R 3 substituted amino groups in the general formula (2) (R 2 and R 3 are substituted or unsubstituted alkylamino groups having 1 to 4 carbon atoms) in the general formula (2) It is presumed that there is effective radical substance generation suppression for oxidizing gas. Since the compound represented by the following general formula (2) also has a charge transport capability, it does not act as a charge carrier trap by itself, and almost no deterioration in electrical characteristics such as an increase in residual potential due to addition is observed. It will not be possible.

<一般式(2)>
ただし、前記一般式(2)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。m及びnは、0〜3の整数を表し、mとnが同時に0となることはない。R及びRは、水素原子、置換又は無置換の炭素数1〜11のアルキル基、及び置換又は無置換の芳香環基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。
<General formula (2)>
However, In the general formula (2), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. m and n represent an integer of 0 to 3, and m and n are not 0 at the same time. R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different. Good. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different.

そのため、このような課題に対する解決手段として従来用いられている酸化防止剤などと異なり、本発明に示される化合物を感光体中に添加することよる電荷輸送能低下や架橋阻害、硬度低下を引き起こすことなく、目的としている酸性ガス耐久性を有する電子写真感光体を得ることが可能となる。
前記一般式(2)で表されるアルキルアミノ基を有するアリールメタン化合物としては、下記一般式(2−1)〜(2−3)で表される化合物が挙げられる。
Therefore, unlike the antioxidants conventionally used as a solution to such problems, the addition of the compound shown in the present invention to the photoreceptor causes a decrease in charge transport ability, inhibition of crosslinking, and a decrease in hardness. Therefore, it is possible to obtain an intended electrophotographic photosensitive member having acid gas durability.
Examples of the arylmethane compound having an alkylamino group represented by the general formula (2) include compounds represented by the following general formulas (2-1) to (2-3).

<一般式(2−1)>
ただし、前記一般式(2−1)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換の炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。m、nは0〜3の整数を表す。ただし、mとnが同時に0となることはない。Rは、水素原子、置換又は無置換の炭素数1〜11のアルキル基、置換又は無置換の芳香環基を表す。また、Ar、Ar、Ar、Ar、及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。また、ArとAr、又はArとArは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。
<General formula (2-1)>
However, the general formula (2-1), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, these May be the same or different, and R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. m and n represent an integer of 0 to 3. However, m and n are not 0 simultaneously. R 4 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aromatic ring group. Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 , Ar 4 , and Ar 5 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and may be the same or different. Ar 4 and Ar 5 , or Ar 4 and Ar 3 may be bonded to each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom.

<一般式(2−2)>
ただし、前記一般式(2−2)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換の炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。m、nは0〜3の整数を表す。ただし、mとnが同時に0となることはない。また、Ar、Ar、Ar、Ar、及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。また、ArとAr、又はArとArは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。
<General formula (2-2)>
However, the general formula (2-2), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, these May be the same or different, and R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. m and n represent an integer of 0 to 3. However, m and n are not 0 simultaneously. Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 , Ar 4 , and Ar 5 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and may be the same or different. Ar 4 and Ar 5 , or Ar 4 and Ar 3 may be bonded to each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom.

<一般式(2−3)>
ただし、前記一般式(2−3)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換の炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。m、nは0〜3の整数を表す。ただし、mとnが同時に0となることはない。また、Ar、Ar、Ar、Ar、及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。また、ArとAr、又はArとArは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。
<General formula (2-3)>
However, in said general formula (2-3), R < 2 > and R < 3 > represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group and a substituted or unsubstituted C1-C4 alkyl group, These May be the same or different, and R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. m and n represent an integer of 0 to 3. However, m and n are not 0 simultaneously. Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 , Ar 4 , and Ar 5 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and may be the same or different. Ar 4 and Ar 5 , or Ar 4 and Ar 3 may be bonded to each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom.

前記一般式(2)、及び前記一般式(2−1)〜(2−3)において、R、及びRのアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられる。また、R、R、Ar〜Arの芳香環基としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、及びピレンなど芳香族炭化水素環の1価〜6価の芳香族炭化水素基、並びにピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾールなど芳香族複素環の1価〜6価の芳香族複素環基が挙げられる。また、これらの置換基としては、前記アルキル基の具体例で挙げたもの、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、又はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、及び芳香環基などが挙げられる。更に、RとRが互いに結合して窒素原子を含む複素環基の具体例としては、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ピロリニル基等が挙げられる。その他、共同で窒素原子を含む複素環基としては、例えば、N−メチルカルバゾール、N−エチルカルバゾール、N−フェニルカルバゾール、インドール、キノリンの芳香族複素環基などを挙げることができる。 In the general formula (2) and the general formulas (2-1) to (2-3), specific examples of the alkyl group of R 2 and R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Etc. Examples of the aromatic ring group of R 2 , R 3 and Ar 1 to Ar 5 include monovalent to hexavalent aromatic hydrocarbon groups of aromatic hydrocarbon rings such as benzene, naphthalene, anthracene, and pyrene, and pyridine, Examples thereof include monovalent to hexavalent aromatic heterocyclic groups such as quinoline, thiophene, furan, oxazole, oxadiazole, and carbazole. These substituents include those exemplified in the specific examples of the alkyl group, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group, or halogen atoms of fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom. An atom, an aromatic ring group, etc. are mentioned. Furthermore, specific examples of the heterocyclic group containing a nitrogen atom in which R 1 and R 2 are bonded to each other include a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, and a pyrrolinyl group. In addition, examples of the heterocyclic group jointly containing a nitrogen atom include aromatic heterocyclic groups such as N-methylcarbazole, N-ethylcarbazole, N-phenylcarbazole, indole, and quinoline.

以下に、前記一般式(2)、及び前記一般式(2−1)〜前記(2−3)で表される化合物の具体的構造例を示す。ただし、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。   Specific examples of structures of the compounds represented by the general formula (2) and the general formulas (2-1) to (2-3) are shown below. However, the present invention is not limited to these compounds.

本発明においては、前記一般式(2)及び前記一般式(2−1)から(2−3)で表される化合物を単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。   In the present invention, the compounds represented by the general formula (2) and the general formulas (2-1) to (2-3) may be used alone or in combination of two or more. .

<一般式(3)で表される化合物>
電子写真感光体の最表面に堆積したイオン性物質によって引き起こされる課題を解決するためには下記一般式(3)及び下記一般式(3−1)で表される化合物を含有させることが効果的である。その理由については、現時点では明らかになっていないが、該化合物の構造内に含まれる置換アミノ基が酸化性ガスに対して有効なラジカル物質生成抑制を行っているものと推測される。また、下記一般式(3)及び下記一般式(3−1)で表される化合物は、電荷輸送能力も有しているため、それ自身が電荷担体のトラップとして働くことがなく、添加に伴う残留電位上昇等の電気的な特性劣化は殆どみられない。
そのため、このような課題に対する解決手段として従来用いられている酸化防止剤などと異なり、本発明に示される化合物を感光体中に添加することよる電荷輸送能低下や架橋阻害、硬度低下を引き起こすことなく、目的としている酸性ガス耐久性を有する電子写真感光体を得ることが可能となる
<Compound represented by formula (3)>
In order to solve the problem caused by the ionic substance deposited on the outermost surface of the electrophotographic photosensitive member, it is effective to contain a compound represented by the following general formula (3) and the following general formula (3-1). It is. The reason for this is not clarified at the present time, but it is presumed that the substituted amino group contained in the structure of the compound effectively suppresses the generation of radical substances against the oxidizing gas. Moreover, since the compound represented by the following general formula (3) and the following general formula (3-1) also has a charge transport capability, the compound itself does not act as a trap for the charge carrier and is accompanied by the addition. There is almost no deterioration in electrical characteristics such as increase in residual potential.
Therefore, unlike the antioxidants conventionally used as a solution to such problems, the addition of the compound shown in the present invention to the photoreceptor causes a decrease in charge transport ability, inhibition of crosslinking, and a decrease in hardness. It is possible to obtain an intended electrophotographic photosensitive member having acid gas durability.

<一般式(3)>
ただし、前記一般式(3)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表す。l及びmは、0〜3の整数を表し、lとmが同時に0となることはない。nは、1〜3の整数を表す。
<General formula (3)>
In the general formula (3), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group. l and m represent an integer of 0 to 3, and l and m are not 0 at the same time. n represents an integer of 1 to 3.

<一般式(3−1)>
ただし、前記一般式(3−1)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表す。l′及びm′は、それぞれ0〜3の整数を表し、ただし、l′とm′が同時に0となることはない。n′は、1〜3の整数を表す。
<General formula (3-1)>
However, in said general formula (3-1), R < 4 > and R < 5 > represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group and a substituted or unsubstituted alkyl group, and these may be the same. R 4 and R 5 may be bonded to each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 3 and Ar 4 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group. l ′ and m ′ each represent an integer of 0 to 3, provided that l ′ and m ′ are not 0 at the same time. n ′ represents an integer of 1 to 3.

前記一般式(3)及び前記一般式(3−1)において、R〜Rの芳香族炭化水素基の具体例としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ピレンなどの芳香族炭化水素環基を挙げることができ、R〜Rのアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ウンデカニル基などを挙げることができ、炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。また、Ar〜Arの芳香環基としてはベンゼン、ナフタレン、アントラセン、及びピレンなど芳香族炭化水素環の1価〜4価の芳香族炭化水素基、並びにピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、オキサゾール、オキサジアゾール、カルバゾールなど芳香族複素環の1価〜4価の芳香族複素環基が挙げられる。また、これらの置換基としては、前記アルキル基の具体例で挙げたもの、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、又はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、及び芳香環基などが挙げられる。更に、RとR、又はRとRが互いに結合し窒素原子を含む複素環基の具体例としてはピロリジニル基、ピペリジニル基、ピロリニル基等が挙げられる。その他、共同で窒素原子を含む複素環基としては、N−メチルカルバゾール、N−エチルカルバゾール、N−フェニルカルバゾール、インドール、キノリンの芳香族複素環基などが挙げられる。 In the general formula (3) and the general formula (3-1), specific examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R 2 to R 5 include aromatic hydrocarbon ring groups such as benzene, naphthalene, anthracene, and pyrene. Specific examples of the alkyl group represented by R 2 to R 5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, and an undecanyl group. Groups are preferred. In addition, examples of the aromatic ring group of Ar 1 to Ar 4 include monovalent to tetravalent aromatic hydrocarbon groups of aromatic hydrocarbon rings such as benzene, naphthalene, anthracene, and pyrene, and pyridine, quinoline, thiophene, furan, and oxazole. And monovalent to tetravalent aromatic heterocyclic groups of aromatic heterocyclic rings such as oxadiazole and carbazole. These substituents include those exemplified in the specific examples of the alkyl group, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group, or halogen atoms of fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom. An atom, an aromatic ring group, etc. are mentioned. Furthermore, specific examples of the heterocyclic group in which R 2 and R 3 , or R 4 and R 5 are bonded to each other and contain a nitrogen atom include a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, and a pyrrolinyl group. In addition, examples of the heterocyclic group jointly containing a nitrogen atom include N-methylcarbazole, N-ethylcarbazole, N-phenylcarbazole, indole, and an aromatic heterocyclic group of quinoline.

以下に、前記一般式(3)又は前記一般式(3−1)で表される化合物の好ましい例を挙げる。但し、本発明は、これらの化合物に限定されるものではない。
なお、前記一般式(3)及び前記一般式(3−1)で表される化合物には、特公昭58−57739号公報、特許第2529299号公報等に記載された化合物も含まれるが、前記一般式(3−1)で表される化合物は、対応するホスホン酸エステル化合物又はトリフェニルホスホニウム塩化合物と、対応するアルデヒド化合物との反応による、所謂変性ウイッチヒ(Wittig)反応又はウイッチヒ(Wittig)反応により製造でき、更に該一般式(3−1)で表される化合物は、該一般式(3)で表される化合物を還元することにより製造することができる。
Below, the preferable example of a compound represented by the said General formula (3) or the said General formula (3-1) is given. However, the present invention is not limited to these compounds.
In addition, the compounds represented by the general formula (3) and the general formula (3-1) include compounds described in Japanese Patent Publication No. 58-5739, Japanese Patent No. 2529299, and the like. The compound represented by the general formula (3-1) is a so-called modified Wittig reaction or Wittig reaction by reaction of a corresponding phosphonic acid ester compound or triphenylphosphonium salt compound with a corresponding aldehyde compound. Further, the compound represented by the general formula (3-1) can be produced by reducing the compound represented by the general formula (3).

<一般式(3)>
<General formula (3)>

<一般式(3−1)>
<General formula (3-1)>

本発明においては、前記一般式(3)及び前記一般式(3−1)で表される化合物を単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。 In this invention, the compound represented by the said General formula (3) and the said General formula (3-1) may be used independently, and may be used in combination of 2 or more types.

前記一般式(1)から(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物は、感光層又は表面層中へ添加してもよいし、前記感光層と前記表面層の両方に同時に添加してもよい。感光層が電荷発生層と電荷輸送層からなるような多層構造を有する場合であっても、いずれの層へ適用してもよいし、2層以上の層に適用してもよい。
前記一般式(1)から(3)のいずれかで表される化合物の含有量としては、所望の感光体電気特性及び機械特性を満足する量であれば、特に限定されないが、具体的には、添加する層の全量100質量部に対して、0.01質量部〜150質量部が好ましい。前記含有量が、0.01質量部未満であると、所望の酸化性ガス耐久性が得にくいことがある。一方、前記含有量が、150質量部を超えると、充分な酸化性ガス耐久性が得られる一方で、所望の機械的耐久性や電気特性が得られないことが有り好ましくない。
At least one compound selected from the compounds represented by the general formulas (1) to (3) may be added to the photosensitive layer or the surface layer, or to both the photosensitive layer and the surface layer. You may add simultaneously. Even when the photosensitive layer has a multilayer structure composed of a charge generation layer and a charge transport layer, it may be applied to any layer, or may be applied to two or more layers.
The content of the compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) is not particularly limited as long as it satisfies the desired electrical characteristics and mechanical characteristics of the photoreceptor. The total amount of the layer to be added is preferably 0.01 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass. When the content is less than 0.01 parts by mass, it may be difficult to obtain desired oxidizing gas durability. On the other hand, if the content exceeds 150 parts by mass, sufficient oxidizing gas durability can be obtained, but desired mechanical durability and electrical characteristics may not be obtained, which is not preferable.

<<電荷輸送性を有さない樹脂>>
電荷輸送性を有さないとは、正孔輸送性構造と電子輸送性構造を有さないことをいう。 前記正孔輸送性構造としては、例えば、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどがもつ構造が挙げられ、前記電子輸送性構造としては、例えば、縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基、ニトロ基等の電子吸引性芳香族環が挙げられる。
前記電荷輸送性を有さない樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子輸送性構造を有さない熱可塑性樹脂や架橋性官能基を有する架橋重合性化合物の架橋樹脂などが挙げられる。これらの中でも、機械的耐久性の点で、架橋重合性化合物の架橋樹脂が好ましい。
<< Resin without charge transportability >>
Having no charge transporting property means having no hole transporting structure and electron transporting structure. Examples of the hole transporting structure include structures possessed by triarylamine, hydrazone, pyrazoline, carbazole, and the like, and examples of the electron transporting structure include condensed polycyclic quinone, diphenoquinone, cyano group, and nitro group. And electron withdrawing aromatic rings.
The resin having no charge transporting property is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, a thermoplastic resin having no electron transporting structure or a cross-linking polymerization having a cross-linkable functional group. Cross-linked resin of a functional compound. Among these, a crosslinked resin of a crosslinked polymerizable compound is preferable from the viewpoint of mechanical durability.

−電子輸送性構造を有さない熱可塑性樹脂−
前記電子輸送性構造を有さない熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、酢酸セルロース、エチルセルロース、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾールなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、スチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。
-Thermoplastic resin without electron transport structure-
The thermoplastic resin having no electron transport structure is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, styrene resin, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, Styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate resin, cellulose acetate, ethyl cellulose, polyvinyl butyral, Examples include polyvinyl formal, polyvinyl toluene, and poly-N-vinyl carbazole. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, styrene resin, polycarbonate resin, and polyarylate resin are preferable.

−架橋重合性化合物の架橋樹脂−
前記架橋重合性化合物の架橋樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、有機珪素樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。これらの架橋重合性化合物の架橋樹脂の中でも、前記表面層の電荷輸送性、潜像維持性の観点からアクリル樹脂が好ましい。
-Crosslinked resin of crosslinkable polymerizable compound-
There is no restriction | limiting in particular as crosslinked resin of the said crosslinking | crosslinked polymerizable compound, According to the objective, it can select suitably, For example, resin, such as an acrylic resin, a phenol resin, a urethane resin, an organosilicon resin, an epoxy resin, is mentioned. . These may be used alone or in combination of two or more. Of these cross-linked polymerizable compounds, acrylic resins are preferred from the viewpoint of charge transportability and latent image maintenance of the surface layer.

−−アクリル樹脂−−
前記アクリル樹脂とは、アクリル重合性化合物とラジカル重合開始剤とを混合し架橋したものであり、合成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、公知のアクリル重合性化合物と公知のラジカル重合開始剤とを混合し、加熱、光照射等のエネルギーを付与して架橋することにより合成する方法が好ましい。
--Acrylic resin--
The acrylic resin is obtained by mixing and crosslinking an acrylic polymerizable compound and a radical polymerization initiator, and the synthesis method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. A method of synthesizing by mixing an acrylic polymerizable compound and a known radical polymerization initiator, applying energy such as heating and light irradiation, and crosslinking is preferable.

前記アクリル重合性化合物における重合性官能基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、架橋反応性の点から、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基などが好ましい。   The polymerizable functional group in the acrylic polymerizable compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. From the viewpoint of crosslinking reactivity, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, and the like are preferable.

前記アクリル重合性化合物の重合性官能基数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、表面層強度及び製膜性の点で、2個以上が好ましい。   The number of polymerizable functional groups of the acrylic polymerizable compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 2 or more in terms of surface layer strength and film formability.

前記アクリル重合性化合物の重合性官能基数が2個である化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、EO変性ビスフェノールFジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。   The compound having two polymerizable functional groups of the acrylic polymerizable compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4- Butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, EO-modified bisphenol A diacrylate, EO Examples thereof include modified bisphenol F diacrylate and neopentyl glycol diacrylate.

前記アクリル重合性化合物の重合性官能基数が3個以上である化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性(以後EO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性(以後PO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンカプロラクトン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、グリセロールトリアクリレート、グリセロールエピクロロヒドリン変性(ECH変性)トリアクリレート、グリセロールEO変性トリアクリレート、グリセロールPO変性トリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート(DTMPTA)、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、リン酸EO変性トリアクリレート、2,2,5,5,−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   The compound having 3 or more polymerizable functional groups of the acrylic polymerizable compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include trimethylolpropane triacrylate (TMPTA) and trimethylolpropane. Trimethacrylate, trimethylolpropane alkylene-modified triacrylate, trimethylolpropane ethyleneoxy-modified (hereinafter EO-modified) triacrylate, trimethylolpropane propyleneoxy-modified (hereinafter PO-modified) triacrylate, trimethylolpropane caprolactone-modified triacrylate, trimethylolpropane Alkylene-modified trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), glycerol triacrylate Glycerol epichlorohydrin modified (ECH modified) triacrylate, glycerol EO modified triacrylate, glycerol PO modified triacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), dipentaerythritol caprolactone modified hexaacrylate , Dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, alkylated dipentaerythritol pentaacrylate, alkylated dipentaerythritol tetraacrylate, alkylated dipentaerythritol triacrylate, dimethylolpropane tetraacrylate (DTMPTA), pentaerythritol ethoxytetraacrylate, phosphoric acid EO Modified triacrylate, 2,2,5,5-te And La hydroxymethyl cyclopentanone tetraacrylate and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記アクリル重合性化合物と組み合わせて使用するラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、過酸化物系開始剤、アゾ系開始剤等の熱重合開始剤;アセトフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物等の光重合開始剤などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、光重合開始剤が好ましい。   The radical polymerization initiator used in combination with the acrylic polymerizable compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, thermal polymerization of a peroxide initiator, an azo initiator, etc. Initiator; acetophenone photopolymerization initiator, ketal photopolymerization initiator, benzoin ether photopolymerization initiator, benzophenone photopolymerization initiator, thioxanthone photopolymerization initiator, titanocene photopolymerization initiator, acridine compound, Examples include photopolymerization initiators such as triazine compounds and imidazole compounds. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, a photopolymerization initiator is preferable.

前記ラジカル重合開始剤は単独で使用してもよく、ラジカル重合促進剤と併用してもよい。前記ラジカル重合促進剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。   The radical polymerization initiator may be used alone or in combination with a radical polymerization accelerator. The radical polymerization accelerator is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and benzoic acid. Examples include acid (2-dimethylamino) ethyl, 4,4′-dimethylaminobenzophenone, and the like.

前記ラジカル重合開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、アクリル重合性化合物100質量部に対して、0.5質量部〜40質量部が好ましく、1質量部〜20質量部がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said radical polymerization initiator, Although it can select suitably according to the objective, 0.5 mass part-40 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of acrylic polymerizable compounds. 1 mass part-20 mass parts are more preferable.

−−フェノール樹脂−−
前記フェノール樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ノボラック樹脂、レゾール樹脂などが挙げられる。これらの中でも、潜像維持性に優れ、酸触媒等の開始剤を必須とするノボラック樹脂と比較して、前記開始剤を用いることなく架橋反応させることができる点で、レゾール樹脂が好ましい。
--- Phenolic resin--
There is no restriction | limiting in particular as said phenol resin, According to the objective, it can select suitably, For example, a novolak resin, a resole resin, etc. are mentioned. Among these, a resole resin is preferable in that it is excellent in latent image maintenance and can be crosslinked without using the initiator as compared with a novolak resin in which an initiator such as an acid catalyst is essential.

前記フェノール系架橋重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、メチロール基を単位構造中に1個乃至複数個有するフェノール誘導体を加熱して架橋することにより合成されたものが好ましい。   The phenolic crosslinkable compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. By heating and crosslinking a phenol derivative having one or more methylol groups in the unit structure. Those synthesized are preferred.

前記フェノール樹脂としては、市販品を使用してもよく、適宜合成したものを使用してもよい。前記合成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、メチロール基を単位構造中に1個乃至複数個有するフェノール誘導体を加熱して架橋することにより合成する方法が好ましい。   As said phenol resin, a commercial item may be used and what was synthesize | combined suitably may be used. The synthesis method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. However, the synthesis method is performed by heating and crosslinking a phenol derivative having one or more methylol groups in the unit structure. Is preferred.

前記メチロール基を単位構造中に1個乃至複数個有するフェノール誘導体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フェノール類モノマーのジメチロール化合物、フェノール類モノマーのトリメチロール化合物、フェノール類ダイマー等の高分子体などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   The phenol derivative having one or more methylol groups in the unit structure is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include dimethylol compounds of phenolic monomers, trimethylol of phenolic monomers. Examples thereof include high molecular weight compounds such as compounds and phenolic dimers. These may be used alone or in combination of two or more.

前記フェノール類モノマーのジメチロール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、2,6−ジヒドロキシメチル−4−メチルフェノール、2,4−ジヒドロキシメチル−6−メチルフェノール、2,6−ジヒドロキシメチル−3,4−ジメチルフェノール、4,6−ジヒドロキシメチル−2,3−ジメチルフェノール、4−t−ブチル−2,6−ジヒドロキシメチルフェノール、4−シクロヘキシル−2,6−ジヒドロキシメチルフェノール、2−シクロヘキシル−4,6−ジヒドロキシメチルフェノール、2,6−ジヒドロキシメチル−4−エチルフェノール、4,6−ジヒドロキシメチル−2−エチルフェノール、4,6−ジヒドロキシメチル−2−イソプロピルフェノール、6−シクロヘキシル−2,4−ジヒドロキシメチル−3−メチルフェノールなどが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a dimethylol compound of the said phenols monomer, According to the objective, it can select suitably, For example, 2, 6- dihydroxymethyl-4-methylphenol, 2, 4- dihydroxymethyl-6-methyl Phenol, 2,6-dihydroxymethyl-3,4-dimethylphenol, 4,6-dihydroxymethyl-2,3-dimethylphenol, 4-t-butyl-2,6-dihydroxymethylphenol, 4-cyclohexyl-2, 6-dihydroxymethylphenol, 2-cyclohexyl-4,6-dihydroxymethylphenol, 2,6-dihydroxymethyl-4-ethylphenol, 4,6-dihydroxymethyl-2-ethylphenol, 4,6-dihydroxymethyl-2 -Isopropylphenol, 6-cyclohex Etc. Le-2,4-dihydroxy-3-methyl phenol.

前記フェノール類モノマーのトリメチロール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、2,4,6−トリヒドロキシメチルフェノールなどが挙げられる。   The trimethylol compound of the phenolic monomer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include 2,4,6-trihydroxymethylphenol.

−−ウレタン樹脂−−
前記ウレタン樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エステル系ウレタン樹脂、エーテル系ウレタン樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
-Urethane resin-
There is no restriction | limiting in particular as said urethane resin, According to the objective, it can select suitably, For example, ester type urethane resin, ether type urethane resin, etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

前記ウレタン樹脂としては、特に制限はなく、市販品を使用してもよく、適宜合成したものを使用してもよい。前記合成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、公知のポリオール化合物と公知のイソシアネート化合物とを混合し、加熱、光照射等のエネルギーを付与して架橋することにより合成する方法が好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as said urethane resin, A commercial item may be used and what was synthesize | combined suitably may be used. The method for synthesizing is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. However, a known polyol compound and a known isocyanate compound are mixed and subjected to crosslinking by applying energy such as heating and light irradiation. Thus, a method of synthesizing is preferable.

前記ポリオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、表面強度及び製膜性に優れる点で、2官能以上のポリオール化合物が好ましい。
前記2官能以上のポリオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルキレングリコール、アルキレンエーテルグリコール、脂環式ジオール、脂環式ジオールのアルキレンオキサイド付加物、ビスフェノール類のアルキレンオキサイド付加物等のジオール化合物;多価脂肪族アルコール(例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等)、3価以上のフェノール類(例えば、フェノールノボラック、クレゾールノボラック等)、3価以上のフェノール類のアルキレンオキサイド付加物等の3価以上のポリオール化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
There is no restriction | limiting in particular as said polyol compound, Although it can select suitably according to the objective, A bifunctional or more functional polyol compound is preferable at the point which is excellent in surface strength and film forming property.
The bifunctional or higher functional polyol compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include alkylene glycol, alkylene ether glycol, alicyclic diol, and alkylene oxide adduct of alicyclic diol, Diol compounds such as alkylene oxide adducts of bisphenols; polyhydric aliphatic alcohols (eg glycerin, trimethylol ethane, trimethylol propane, pentaerythritol, sorbitol, etc.), trivalent or higher phenols (eg phenol novolac, cresol) Novolak, etc.) and trivalent or higher polyol compounds such as alkylene oxide adducts of trivalent or higher phenols. These may be used alone or in combination of two or more.

前記イソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、表面層強度及び製膜性に優れる点で、2官能以上のイソシアネート化合物が好ましい。
前記2官能以上のイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、HDIイソシアヌレート体、HDIビウレット体、XDIトリメチロールプロパンアダクト体、IPDIトリメチロールプロパンアダクト体、IPDIイソシアヌレート体などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
There is no restriction | limiting in particular as said isocyanate compound, Although it can select suitably according to the objective, A bifunctional or more isocyanate compound is preferable at the point which is excellent in surface layer intensity | strength and film forming property.
The bifunctional or higher functional isocyanate compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate, xylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, bis ( Isocyanatomethyl) cyclohexane, trimethylhexamethylene diisocyanate, HDI isocyanurate, HDI biuret, XDI trimethylolpropane adduct, IPDI trimethylolpropane adduct, IPDI isocyanurate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記イソシアネート化合物の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記ポリオール化合物100質量部に対し、0.5質量部〜40質量部が好ましく、1質量部〜20質量部がより好ましく、OH価及びNCO価に基づき適量を配合することが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said isocyanate compound, Although it can select suitably according to the objective, 0.5 mass part-40 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of said polyol compounds, 1 mass part -20 mass parts is more preferable, and it is preferable to mix | blend an appropriate quantity based on OH value and NCO value.

−−エポキシ樹脂−−
前記エポキシ樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
--- Epoxy resin--
There is no restriction | limiting in particular as said epoxy resin, According to the objective, it can select suitably, For example, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, a phenol novolak type epoxy resin etc. are mentioned. It is done. These may be used alone or in combination of two or more.

前記エポキシ樹脂としては、市販品を使用してもよく、適宜合成したものを使用してもよい。前記合成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1分子中に2個以上のエポキシ環を有するエポキシ環含有化合物と硬化剤とを混合し、加熱、光照射等のエネルギーを付与して架橋することにより合成する方法が好ましい。   As said epoxy resin, a commercial item may be used and what was synthesize | combined suitably may be used. The method of synthesizing is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. However, an epoxy ring-containing compound having two or more epoxy rings in one molecule and a curing agent are mixed, heated, A method of synthesizing by applying energy such as light irradiation and crosslinking is preferable.

前記エポキシ環含有化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアルキレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   The epoxy ring-containing compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, polyalkylene glycol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, diglycerol triglycidyl ether, Examples thereof include diglycidyl hexahydrophthalate, trimethylolpropane diglycidyl ether, allyl glycidyl ether, and phenyl glycidyl ether. These may be used alone or in combination of two or more.

前記硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱酸発生剤、光酸発生剤などが挙げられ、具体的には、脂肪族アミン化合物、脂環族アミン化合物、芳香族アミン化合物、変性アミン化合物、ポリアミドアミン、イミダゾール、ポリメルカプタン、酸無水物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   There is no restriction | limiting in particular as said hardening | curing agent, According to the objective, it can select suitably, For example, a thermal acid generator, a photo-acid generator, etc. are mentioned, Specifically, an aliphatic amine compound, an alicyclic ring, etc. Group amine compounds, aromatic amine compounds, modified amine compounds, polyamidoamines, imidazoles, polymercaptans, acid anhydrides and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記硬化剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記エポキシ環含有化合物100質量部に対して、0.5質量部〜20質量部が好ましく、1質量部〜10質量部がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said hardening | curing agent, Although it can select suitably according to the objective, 0.5 mass part-20 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of said epoxy ring containing compounds, 1 mass part-10 mass parts are more preferable.

−−有機珪素樹脂−−
前記有機珪素樹脂(シリコーン樹脂)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ビニルシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、ポリグリセリン変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、メタクリル変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、アルコール変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、フロロアルキル変性シリコーンなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
--- Organic silicon resin--
The organosilicon resin (silicone resin) is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, Vinyl silicone, polyether modified silicone, polyglycerin modified silicone, amino modified silicone, epoxy modified silicone, mercapto modified silicone, methacryl modified silicone, carboxylic acid modified silicone, fatty acid ester modified silicone, alcohol modified silicone, alkyl modified silicone, fluoroalkyl modified Examples include silicone. These may be used alone or in combination of two or more.

前記有機珪素樹脂としては、市販品を使用してもよく、適宜合成したものを使用してもよい。前記合成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、珪素原子に1つ以上の加水分解性基を有する反応性有機珪素化合物を単独又は縮合触媒と混合し、加熱等のエネルギーを付与して架橋することにより合成する方法が好ましい。   As said organosilicon resin, a commercial item may be used and what was synthesize | combined suitably may be used. The synthesis method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. However, a reactive organosilicon compound having one or more hydrolyzable groups on a silicon atom may be used alone or mixed with a condensation catalyst. A method of synthesizing by crosslinking by applying energy such as heating is preferable.

前記反応性有機珪素化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面層強度に優れる点で、珪素原子に2つ以上の加水分解性基が結合している構造を有する反応性有機珪素化合物が好ましい。前記加水分解性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メトキシ基、エトキシ基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルアミノ基、アセトキシ基、プロペノキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基などが挙げられる。   The reactive organosilicon compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, two or more hydrolyzable groups are bonded to a silicon atom in terms of excellent surface layer strength. A reactive organosilicon compound having a structure is preferred. The hydrolyzable group is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, methoxy group, ethoxy group, methyl ethyl ketoxime group, diethylamino group, acetoxy group, propenoxy group, propoxy group, butoxy group And a methoxyethoxy group.

前記縮合触媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、縮合反応に接触的に作用する触媒、縮合反応の反応平衡を生成系に移動させる働きをする触媒などが挙げられ、具体的には、有機カルボン酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸、チオシアン酸等のアルカリ金属塩;水酸化テトラメチルアンモニウム、テトラメチルアンモニウムアセテート等の有機アミン塩;スタンナスオクトエート、ジブチルチンジアセテート、ジブチルチンジラウレート、ジブチルチンメルカプチド、ジブチルチンチオカルボキシレート、ジブチルチンマリエート等のスズ有機酸塩などが挙げられる。   The condensation catalyst is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, a catalyst that acts catalytically in a condensation reaction, a catalyst that moves a reaction equilibrium of a condensation reaction to a production system, etc. Specifically, alkali metal salts such as organic carboxylic acid, nitrous acid, sulfurous acid, aluminate, carbonic acid and thiocyanic acid; organic amine salts such as tetramethylammonium hydroxide and tetramethylammonium acetate; stanna octo And tin organic acid salts such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin mercaptide, dibutyltin thiocarboxylate, and dibutyltin malate.

前記縮合触媒の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記反応性有機珪素化合物100質量部に対して、0.5質量部〜20質量部が好ましく、1質量部〜10質量部がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said condensation catalyst, Although it can select suitably according to the objective, 0.5 mass part-20 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of said reactive organosilicon compounds. 1 mass part-10 mass parts are more preferable.

−電荷輸送性化合物−
前記電荷輸送性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾール等の正孔輸送性構造を有する公知の正孔輸送物質;電子吸引性芳香族環(縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基、ニトロ基等)などの電子輸送構造を有する公知の電子輸送物質などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
また、前記電荷輸送性を有さない樹脂として、前記架橋樹脂を用いる場合には、前記架橋樹脂に対して反応性を有する官能基、例えば、水酸基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等を有する電荷輸送性化合物を用いてもよい。
-Charge transporting compounds-
The charge transporting compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, a known hole transporting material having a hole transporting structure such as triarylamine, hydrazone, pyrazoline, and carbazole. A known electron transport material having an electron transport structure such as an electron-withdrawing aromatic ring (condensed polycyclic quinone, diphenoquinone, cyano group, nitro group, etc.) and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
Further, when the cross-linked resin is used as the resin having no charge transport property, the charge having a functional group having reactivity with the cross-linked resin, for example, a hydroxyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, etc. A transport compound may be used.

前記電荷輸送性化合物の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、電荷輸送性化合物の劣化による電子写真感光体特性の低下の影響を小さくすることができる点で、前記電荷輸送性を有さない樹脂100質量部に対して、20質量部以下が好ましい。   The content of the charge transporting compound is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. However, it is possible to reduce the influence of deterioration of the electrophotographic photoreceptor characteristics due to deterioration of the charge transporting compound. In this respect, 20 parts by mass or less is preferable with respect to 100 parts by mass of the resin having no charge transporting property.

前記電荷輸送性化合物の表面層における含有量を測定する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、X線光電子分光法(XPS)、エネルギー分散型X線分光法(EDX)、波長分散型X線分析装置(WDX)等の元素分析により測定する方法、試薬により染色された染色量に基づき測定する方法、フーリエ変換赤外分光法(FT−IR)により測定する方法などが挙げられる。これらの中でも、定量が簡便であり汎用性が高い点で、フーリエ変換赤外分光法(FT−IR)により測定された各ピーク強度の比をもとに作成した検量線に基づき定量することが好ましい。   The method for measuring the content of the charge transporting compound in the surface layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), energy dispersive X-ray Spectroscopic method (EDX), method of measuring by elemental analysis such as wavelength dispersive X-ray analyzer (WDX), method of measuring based on dyeing amount stained with reagent, Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR) The method of measuring is mentioned. Among these, quantification is simple and highly versatile, and it is possible to perform quantification based on a calibration curve created based on the ratio of peak intensities measured by Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR). preferable.

前記検量線としては、例えば、前記電荷輸送性化合物を既知量配合して前記表面層を作製し、前記電荷輸送性化合物に特徴的な振動ピークの強度(ピーク高さ又はピーク面積)を前記FT−IRにより測定し、得られた各振動ピーク強度の比に基づき作成する。前記検量線の精度を高めるために、2水準〜5水準の配合量で作製した表面層を作製し、前記FT−IRにより測定して得られた振動ピーク強度をもとに検量線を作成してもよい。前記振動ピーク強度としては、前記電荷輸送性化合物に特徴的な振動ピークの強度(ピーク高さ又はピーク面積)を用いることが好ましく、反応性に乏しく膜中の配合比が既知である、カルボニル由来の振動ピーク強度を用いることがより好ましい。   As the calibration curve, for example, the surface layer is prepared by blending a known amount of the charge transporting compound, and the vibration peak intensity (peak height or peak area) characteristic of the charge transporting compound is expressed as the FT. -Measured by -IR and prepared based on the ratio of the obtained vibration peak intensities. In order to improve the accuracy of the calibration curve, a surface layer prepared with a blending amount of 2 to 5 levels is prepared, and a calibration curve is created based on the vibration peak intensity obtained by measurement by the FT-IR. May be. As the vibration peak intensity, it is preferable to use the vibration peak intensity (peak height or peak area) characteristic of the charge transporting compound, which has poor reactivity and has a known compounding ratio in the film. It is more preferable to use the vibration peak intensity.

<<その他の成分>>
前記添加剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、分散剤、界面活性剤、可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤などが挙げられる。
<< Other ingredients >>
There is no restriction | limiting in particular as said additive, According to the objective, it can select suitably, For example, a dispersing agent, surfactant, a plasticizer, a leveling agent, antioxidant, etc. are mentioned.

−分散剤−
前記表面修飾無機微粒子を表面層中に良好に分散させる場合、分散剤を用いてもよい。前記分散剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記分散剤の含有量としては、特に制限はなく、無機微粒子の粒径等に応じて適宜選択することができるが、無機微粒子全量に対して、0.5質量%〜30質量%が好ましく、1質量%〜15質量%がより好ましい。前記含有量が、0.5質量%未満であると、前記無機微粒子の分散効果が得られないことがあり、30質量%を超えると、残留電位の著しい上昇を引き起こす等の不具合を生じることがある。
-Dispersant-
When the surface-modified inorganic fine particles are favorably dispersed in the surface layer, a dispersant may be used. There is no restriction | limiting in particular as said dispersing agent, According to the objective, it can select suitably.
The content of the dispersant is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the particle size of the inorganic fine particles, but is preferably 0.5% by mass to 30% by mass with respect to the total amount of the inorganic fine particles, 1 mass%-15 mass% are more preferable. When the content is less than 0.5% by mass, the dispersion effect of the inorganic fine particles may not be obtained. is there.

−界面活性剤−
前記表面修飾無機微粒子を前記表面層中に良好に分散させる場合、界面活性剤を用いてもよい。前記界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記界面活性剤の含有量としては、特に制限はなく、無機微粒子の粒径等に応じて適宜選択することができるが、前記無機微粒子全量に対して、0.5質量%〜30質量%が好ましく、1質量%〜15質量%がより好ましい。前記含有量が、0.5質量%未満であると、前記無機微粒子の分散効果が得られないことがあり、30質量%を超えると、残留電位の著しい上昇を引き起こす等の不具合を生じることがある。
-Surfactant-
When the surface-modified inorganic fine particles are favorably dispersed in the surface layer, a surfactant may be used. There is no restriction | limiting in particular as said surfactant, According to the objective, it can select suitably.
There is no restriction | limiting in particular as content of the said surfactant, Although it can select suitably according to the particle size etc. of inorganic fine particles, 0.5 mass%-30 mass% are with respect to the said inorganic fine particle whole quantity. Preferably, 1% by mass to 15% by mass is more preferable. When the content is less than 0.5% by mass, the dispersion effect of the inorganic fine particles may not be obtained. is there.

−可塑剤−
前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。前記可塑剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記電荷輸送性を有さない樹脂100質量部に対して、0質量部〜30質量部が好ましい。
-Plasticizer-
The plasticizer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include dibutyl phthalate and dioctyl phthalate. These may be used alone or in combination of two or more. There is no restriction | limiting in particular as content of the said plasticizer, Although it can select suitably according to the objective, 0 mass part-30 mass parts are with respect to 100 mass parts of resin which does not have the said charge transportability. preferable.

−レベリング剤−
前記レベリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類;側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマーなどが挙げられる。前記レベリング剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記電荷輸送性を有さない樹脂100質量部に対して、0質量部〜1質量部が好ましい。
-Leveling agent-
The leveling agent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil; polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain. Etc. There is no restriction | limiting in particular as content of the said leveling agent, Although it can select suitably according to the objective, 0 mass part-1 mass part are with respect to 100 mass parts of resin which does not have the said charge transportability. preferable.

−酸化防止剤−
前記酸化防止剤としては、特に制限はなく、例えば、フェノール系化合物、パラフェニレンジアミン類、ハイドロキノン類、有機硫黄化合物類、有機燐化合物類、ヒンダードアミン類などが挙げられる。前記酸化防止剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記電荷輸送性を有さない樹脂100質量部に対して、0質量部〜5質量部が好ましい。
-Antioxidant-
The antioxidant is not particularly limited, and examples thereof include phenol compounds, paraphenylenediamines, hydroquinones, organic sulfur compounds, organic phosphorus compounds, hindered amines, and the like. There is no restriction | limiting in particular as content of the said antioxidant, Although it can select suitably according to the objective, 0 mass part-5 mass parts with respect to 100 mass parts of resin which does not have the said charge transportability. Is preferred.

<<表面層の形成方法>>
前記表面層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記電荷輸送性を有さない樹脂、前記表面修飾無機微粒子、及び前記添加剤を含む塗工液を、電子写真感光体における感光層の表面に塗工した後、UV照射や加熱乾燥を行い、硬化することにより形成する方法などが挙げられる。
<< Method for forming surface layer >>
The method for forming the surface layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, a coating containing the resin having no charge transport property, the surface-modified inorganic fine particles, and the additive may be used. Examples of the method include a method in which the working solution is applied to the surface of the photosensitive layer of the electrophotographic photosensitive member, and then is formed by UV irradiation or heat drying and curing.

前記塗工液の塗工方法としては、特に制限はなく、塗工液の粘性、所望とする表面層の膜厚等の目的に応じて適宜選択することができ、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法などが挙げられる。   The coating method of the coating liquid is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose such as the viscosity of the coating liquid and the desired film thickness of the surface layer. For example, dip coating, spraying Examples thereof include a coating method, a bead coating method, and a ring coating method.

前記塗工液は、常温で固体又は比較的高粘性液体であることから、溶媒に溶解して作製することが好ましい。前記溶媒としては、前記表面層を構成する上述した成分を溶解乃至分散させることができる溶媒であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテル等のエーテル系溶媒;ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Since the coating liquid is a solid or a relatively highly viscous liquid at normal temperature, it is preferably prepared by dissolving in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the above-described components constituting the surface layer, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, methanol, ethanol, propanol Alcohol solvents such as butanol, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and propyl ether; dichloromethane, dichloroethane, Halogen solvents such as trichloroethane and chlorobenzene; aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene; cellosolv solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and cellosolve acetate. These may be used alone or in combination of two or more.

前記表面層中に残留する前記溶媒を除去するために、前記方法で表面層を形成した後に加熱乾燥処理することが好ましい。
前記加熱する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、空気、窒素等の気体、蒸気、各種熱媒体、赤外線、電磁波等の熱エネルギーを塗工面側又は前記導電性支持体側から加熱する方法などが挙げられる。
前記加熱する際の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、100℃〜170℃が好ましい。前記温度が、100℃未満であると、前記表面層中に残留する溶媒が多くなりやすく、電子写真感光体特性に影響を与えることがある。一方、前記温度が170℃を超えると、前記表面層に隣接する感光層中の低分子量成分が、前記表面層に移行しやすくなり、本発明に記載した表面固有抵抗率の制御やその他特性の低下を引き起こす恐れがある。
In order to remove the solvent remaining in the surface layer, it is preferable to perform a heat drying treatment after forming the surface layer by the method.
The heating method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, air, gas such as nitrogen, steam, various heat media, infrared energy, heat energy such as electromagnetic waves, etc. The method etc. which heat from the said electroconductive support body side are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as temperature at the time of the said heating, Although it can select suitably according to the objective, 100 to 170 degreeC is preferable. When the temperature is less than 100 ° C., the amount of the solvent remaining in the surface layer tends to increase, which may affect the characteristics of the electrophotographic photosensitive member. On the other hand, when the temperature exceeds 170 ° C., the low molecular weight component in the photosensitive layer adjacent to the surface layer is likely to migrate to the surface layer, and the surface resistivity control and other characteristics described in the present invention are performed. May cause decline.

前記電荷輸送性を有さない樹脂として、光硬化性樹脂を用いる場合には、硬化に使用するエネルギー線を照射できるランプを用いる。前記ランプとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、低圧、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、(パルス)キセノンランプ、無電極放電ランプなどが挙げられる。   When using a photocurable resin as the resin having no charge transporting property, a lamp capable of irradiating energy rays used for curing is used. The lamp is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include a low pressure, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a (pulse) xenon lamp, and an electrodeless discharge lamp. Can be mentioned.

前記表面層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、解像度及び応答性に優れる点で、10μm以下が好ましく、8μm以下がより好ましい。下限値に関しては、使用するシステム(特に帯電電位等)により異なるが、帯電性及び摩耗耐久性の観点から、3μm以上が好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said surface layer, Although it can select suitably according to the objective, 10 micrometers or less are preferable and 8 micrometers or less are more preferable at the point which is excellent in the resolution and responsiveness. The lower limit value varies depending on the system to be used (particularly charging potential), but is preferably 3 μm or more from the viewpoint of chargeability and wear durability.

<感光層>
前記感光層としては、積層型感光層であってもよく、単層型感光層であってもよい。
<Photosensitive layer>
The photosensitive layer may be a laminated type photosensitive layer or a single layer type photosensitive layer.

<<単層型感光層>>
前記単層型感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能とを同時に有する層である。
前記単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、及び結着樹脂を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
<< Single-layer type photosensitive layer >>
The single-layer type photosensitive layer is a layer having a charge generation function and a charge transport function at the same time.
The single-layer type photosensitive layer contains a charge generating substance, a charge transporting substance, and a binder resin, and further contains other components as necessary.

−電荷発生物質−
前記電荷発生物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の物質などが挙げられる。前記電荷発生物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記結着樹脂100質量部に対し、5質量部〜40質量部が好ましい。
-Charge generation material-
The charge generating material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include the same materials as those used in the laminated photosensitive layer described later. There is no restriction | limiting in particular as content of the said charge generation substance, Although it can select suitably according to the objective, 5 mass parts-40 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of said binder resins.

−電荷輸送物質−
前記電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の物質などが挙げられる。前記電荷輸送物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記結着樹脂100質量部に対して、190質量部以下が好ましく、50質量部〜150質量部がより好ましい。
-Charge transport material-
There is no restriction | limiting in particular as said charge transport substance, According to the objective, it can select suitably, For example, the substance similar to what is used by the laminated type photosensitive layer mentioned later etc. are mentioned. There is no restriction | limiting in particular as content of the said charge transport material, Although it can select suitably according to the objective, 190 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of said binder resin, and 50 mass parts-150 mass parts. Part by mass is more preferable.

−結着樹脂−
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の結着樹脂などが挙げられる。
-Binder resin-
There is no restriction | limiting in particular as said binder resin, According to the objective, it can select suitably, For example, the binder resin similar to what is used by the laminated type photosensitive layer mentioned later etc. are mentioned.

−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の低分子電荷輸送物質、同様の溶媒、同様のレベリング剤、上述の酸化防止剤などが挙げられる。
-Other ingredients-
The other components are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the same low molecular charge transport material, the same solvent, and the same as those used in the laminated photosensitive layer described later A leveling agent, the above-mentioned antioxidant, etc. are mentioned.

−単層型感光層の形成方法−
前記単層型感光層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂、その他の成分等を分散機を用いて適当な溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサン等)に溶解乃至分散して得られた塗工液を、塗布乃至乾燥することにより形成する方法などが挙げられる。
-Method for forming a single-layer type photosensitive layer-
The method for forming the single-layer photosensitive layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, a charge generating material, a charge transporting material, a binder resin, other components, etc. Examples thereof include a method of forming a coating liquid obtained by dissolving or dispersing in a suitable solvent (for example, tetrahydrofuran, dioxane, dichloroethane, cyclohexane, etc.) by coating or drying.

前記塗工液を塗工する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート、ビードコート、リングコートなどが挙げられる。また、必要に応じて、可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤等を添加してもよい。   There is no restriction | limiting in particular as a method to apply the said coating liquid, According to the objective, it can select suitably, For example, a dip coating method, a spray coat, a bead coat, a ring coat etc. are mentioned. Moreover, you may add a plasticizer, a leveling agent, antioxidant, etc. as needed.

前記単層型感光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5μm〜25μmが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said single layer type photosensitive layer, Although it can select suitably according to the objective, 5 micrometers-25 micrometers are preferable.

<<積層型感光層>>
前記積層型感光層は、電荷発生機能及び電荷輸送機能をそれぞれ独立した層が担うため、少なくとも電荷発生層と、電荷輸送層とをこの順に有する。なお、前記電荷発生層、及び前記電荷輸送層は、従来公知のものを使用することができる。
<< Laminated Photosensitive Layer >>
Since the layered photosensitive layer has independent charge generation functions and charge transport functions, it has at least a charge generation layer and a charge transport layer in this order. In addition, a conventionally well-known thing can be used for the said charge generation layer and the said charge transport layer.

前記積層型感光層において、前記電荷発生層と前記電荷輸送層との積層順としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、多くの電荷発生材料は化学的安定性に乏しく、電子写真作像プロセスにおける帯電器周辺での放電生成物のような酸性ガスにさらされると電荷発生効率の低下などを引き起こす。このため、前記電荷発生層の上に前記電荷輸送層を積層することが好ましい。   In the stacked photosensitive layer, the stacking order of the charge generation layer and the charge transport layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Many charge generation materials are chemically stable. However, exposure to an acidic gas such as a discharge product around a charger in an electrophotographic imaging process causes a reduction in charge generation efficiency. For this reason, it is preferable to laminate the charge transport layer on the charge generation layer.

−電荷発生層−
前記電荷発生層は、電荷発生物質を含み、結着樹脂を含むことが好ましく、更に必要に応じて上述の酸化防止剤等のその他の成分を含む。
-Charge generation layer-
The charge generation layer includes a charge generation material, preferably includes a binder resin, and further includes other components such as the above-described antioxidant as necessary.

−−電荷発生物質−−
前記電荷発生物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機系材料、有機系材料などが挙げられる。
-Charge generation material-
There is no restriction | limiting in particular as said charge generation substance, According to the objective, it can select suitably, For example, an inorganic material, an organic material, etc. are mentioned.

−−−無機系材料−−−
前記無機系材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、結晶セレン、アモルファス−セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物、アモルファス−シリコン(例えば、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子等でターミネートしたもの;ホウ素原子、リン原子等をドープしたものなどが好適)などが挙げられる。
---- Inorganic material ---
The inorganic material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, crystalline selenium, amorphous selenium, selenium-tellurium, selenium-tellurium-halogen, selenium-arsenic compound, amorphous silicon (For example, a dangling bond that is terminated with a hydrogen atom, a halogen atom, or the like; a boron atom, a phosphorus atom, or the like is preferred).

−−−有機系材料−−−
前記有機系材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料;アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
---- Organic materials ---
The organic material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include phthalocyanine pigments such as metal phthalocyanine and metal-free phthalocyanine; azulenium salt pigments, squaric acid methine pigments, and carbazole skeletons. Azo pigments having a triphenylamine skeleton, azo pigments having a diphenylamine skeleton, azo pigments having a dibenzothiophene skeleton, azo pigments having a fluorenone skeleton, azo pigments having an oxadiazole skeleton, azo having a bisstilbene skeleton Pigment, azo pigment having distyryl oxadiazole skeleton, azo pigment having distyryl carbazole skeleton, perylene pigment, anthraquinone or polycyclic quinone pigment, quinoneimine pigment, diphenylmethane and triphenylmethane face , Benzoquinone and naphthoquinone pigments, cyanine and azomethine pigments, indigoid pigments, and bis-benzimidazole-based pigments. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

−−結着樹脂−−
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール樹脂、ポリアクリルアミド樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
--Binder resin--
The binder resin is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, polyamide resin, polyurethane resin, epoxy resin, polyketone resin, polycarbonate resin, silicone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral resin, Examples thereof include polyvinyl formal resin, polyvinyl ketone resin, polystyrene resin, poly-N-vinyl carbazole resin, polyacrylamide resin and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記結着樹脂としては、上述の結着樹脂の他に、電荷輸送機能を有する電荷輸送性高分子材料を含んでもよく、例えば、アリールアミン骨格、ベンジジン骨格、ヒドラゾン骨格、カルバゾール骨格、スチルベン骨格、ピラゾリン骨格等を有する、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料、ポリシラン骨格を有する高分子材料などを用いることができる。   As the binder resin, in addition to the above-mentioned binder resin, a charge transporting polymer material having a charge transport function may be included.For example, an arylamine skeleton, a benzidine skeleton, a hydrazone skeleton, a carbazole skeleton, a stilbene skeleton, A polymer material having a pyrazoline skeleton or the like, such as a polycarbonate, polyester, polyurethane, polyether, polysiloxane, or acrylic resin, or a polymer material having a polysilane skeleton can be used.

−−その他の成分−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、低分子電荷輸送物質、溶媒、レベリング剤などが挙げられ、上述の酸化防止剤を含んでもよい。
前記その他の成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、添加する層の総質量に対して0.01質量%〜10質量%が好ましい。
-Other ingredients-
There is no restriction | limiting in particular as said other component, According to the objective, it can select suitably, For example, a low molecular charge transport material, a solvent, a leveling agent etc. are mentioned, You may contain the above-mentioned antioxidant.
There is no restriction | limiting in particular as content of the said other component, Although it can select suitably according to the objective, 0.01 mass%-10 mass% are preferable with respect to the total mass of the layer to add.

−−−低分子電荷輸送物質−−−
前記低分子電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子輸送物質、正孔輸送物質などが挙げられる。
--- Low molecular charge transport material ---
There is no restriction | limiting in particular as said low molecular charge transport material, According to the objective, it can select suitably, For example, an electron transport material, a hole transport material, etc. are mentioned.

前記電子輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The electron transport material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, chloroanil, bromilyl, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitroxanthone, 2,4,8-trinitrothioxanthone, 2,6,8-trinitro-4H-indeno [1 , 2-b] thiophen-4-one, 1,3,7-trinitrodibenzothiophene-5,5-dioxide, diphenoquinone derivatives and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記正孔輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The hole transport material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, monoarylamine derivatives, diarylamine derivatives, and triarylamine derivatives. , Stilbene derivatives, α-phenylstilbene derivatives, benzidine derivatives, diarylmethane derivatives, triarylmethane derivatives, 9-styrylanthracene derivatives, pyrazoline derivatives, divinylbenzene derivatives, hydrazone derivatives, indene derivatives, butadiene derivatives, pyrene derivatives, etc. Derivatives, enamine derivatives and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

−−−溶媒−−−
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
--- Solvent ---
The solvent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.For example, tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane, toluene, dichloromethane, monochlorobenzene, dichloroethane, cyclohexanone, cyclopentanone, anisole, xylene, methyl ethyl ketone, Acetone, ethyl acetate, butyl acetate and the like can be mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

−−−レベリング剤−−−
前記レベリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイルなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
--- Leveling agent ---
There is no restriction | limiting in particular as said leveling agent, According to the objective, it can select suitably, For example, silicone oils, such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

−−電荷発生層の形成方法−−
前記電荷発生層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記電荷発生物質及び前記結着樹脂を前記溶媒等の前記その他の成分に溶解乃至分散して得られた塗工液を、前記導電性支持体上に塗布して乾燥することにより形成する方法などが挙げられる。なお、前記塗工液は、キャスティング法などにより塗布することができる。
--Method of forming charge generation layer--
The method for forming the charge generation layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the charge generation material and the binder resin are dissolved or dispersed in the other components such as the solvent. For example, a method of forming the coating liquid obtained by applying the coating liquid on the conductive support and drying it may be used. In addition, the said coating liquid can be apply | coated by the casting method etc.

前記電荷発生層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.01μm〜5μmが好ましく、0.05μm〜2μmがより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said charge generation layer, Although it can select suitably according to the objective, 0.01 micrometer-5 micrometers are preferable, and 0.05 micrometer-2 micrometers are more preferable.

−電荷輸送層−
前記電荷輸送層は、帯電電荷を保持させ、かつ、露光により電荷発生層で発生分離した電荷を移動させて保持していた帯電電荷と結合させることを目的とする層である。帯電電荷を保持させる目的を達成するためには、電気抵抗が高いことが要求される。また、保持していた帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成するためには、誘電率が小さく、かつ、電荷移動性がよいことが要求される。
-Charge transport layer-
The charge transport layer is a layer intended to hold a charged charge and to couple the charge generated and separated in the charge generation layer by exposure to the charged charge held by movement. In order to achieve the purpose of holding the charged charge, it is required that the electric resistance is high. Further, in order to achieve the purpose of obtaining a high surface potential with the charged charge that has been held, it is required that the dielectric constant is small and the charge mobility is good.

前記電荷輸送層は、電荷輸送物質を含み、結着樹脂を含むことが好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含む。   The charge transport layer preferably includes a charge transport material, preferably includes a binder resin, and further includes other components as necessary.

−−電荷輸送物質−−
前記電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子輸送物質、正孔輸送物質、高分子電荷輸送物質などが挙げられる。
-Charge transport material-
The charge transport material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include an electron transport material, a hole transport material, and a polymer charge transport material.

前記電荷輸送物質の電荷輸送層全量における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、20質量%〜80質量%が好ましく、30質量%〜70質量%がより好ましい。前記含有量が、20質量%未満であると、電荷輸送層の電荷輸送性が小さくなることにより所望の光減衰特性が得られないことがあり、80質量%を超えると、画像形成工程から感光体が受ける各種ハザードによって必要以上に摩耗することがある。一方、前記電荷輸送物質の電荷輸送層における含有量が、前記より好ましい範囲内であると、所望の光減衰性が得られるとともに、使用によっても摩耗量が少ない電子写真感光体を得ることができる点で有利である。   There is no restriction | limiting in particular as content in the charge transport layer whole quantity of the said charge transport material, Although it can select suitably according to the objective, 20 mass%-80 mass% are preferable, and 30 mass%-70 mass% are preferable. More preferred. If the content is less than 20% by mass, the charge transporting property of the charge transport layer may be reduced, so that desired light attenuation characteristics may not be obtained. The body may wear more than necessary due to various hazards. On the other hand, when the content of the charge transport material in the charge transport layer is within the more preferable range, a desired light attenuation can be obtained, and an electrophotographic photoreceptor with less wear can be obtained by use. This is advantageous.

−−−電子輸送物質−−−
前記電子輸送物質(電子受容性物質)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェン−4オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイドなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
---- Electron transport material ---
The electron transport material (electron-accepting material) is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, chloroanil, bromoanil, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, 2, 4, 7 -Trinitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitroxanthone, 2,4,8-trinitrothioxanthone, 2,6,8-trinitro -4H-indeno [1,2-b] thiophene-4-one, 1,3,7-trinitrodibenzothiophene-5,5-dioxide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

−−−正孔輸送物質−−−
前記正孔輸送物質(電子供与性物質)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、9−(p−ジエチルアミノスチリルアントラセン)、1,1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
--- Hole transport material ---
The hole transport material (electron donating material) is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, triphenylamine derivatives, 9- (P-diethylaminostyrylanthracene), 1,1-bis- (4-dibenzylaminophenyl) propane, styrylanthracene, styrylpyrazoline, phenylhydrazones, α-phenylstilbene derivatives, thiazole derivatives, triazole derivatives, phenazine derivatives, Examples include acridine derivatives, benzofuran derivatives, benzimidazole derivatives, thiophene derivatives, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

−−−高分子電荷輸送物質−−−
前記高分子電荷輸送物質は、後述する結着樹脂の機能と電荷輸送物質の機能を併せ持つ材料である。
--- Polymer charge transport material ---
The polymer charge transport material is a material having both the functions of a binder resin and a charge transport material described later.

前記高分子電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルバゾール環を有する重合体、ヒドラゾン構造を有する重合体、ポリシリレン重合体、トリアリールアミン構造を有する重合体(例えば、特許第3852812号公報、特許第3990499号公報等に記載のトリアリールアミン構造を有する重合体等)、電子供与性基を有する重合体、その他の重合体などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよく、摩耗耐久性や製膜性の点で、後述する結着樹脂と併用してもよい。   The polymer charge transport material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.For example, a polymer having a carbazole ring, a polymer having a hydrazone structure, a polysilylene polymer, or a triarylamine structure may be used. For example, a polymer having a triarylamine structure described in Japanese Patent No. 3852812, Japanese Patent No. 3990499, and the like, a polymer having an electron donating group, and other polymers. These may be used individually by 1 type, may use 2 or more types together, and may use together with the binder resin mentioned later at the point of abrasion durability or film forming property.

前記高分子電荷輸送物質の電荷輸送層全質量における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記高分子電荷輸送物質と前記結着樹脂とを併用する場合、40質量%〜90質量%が好ましく、50質量%〜80質量%がより好ましい。   The content of the polymer charge transport material in the total mass of the charge transport layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. The polymer charge transport material and the binder resin are used in combination. In the case, 40 mass%-90 mass% is preferable, and 50 mass%-80 mass% is more preferable.

−−結着樹脂−−
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、フェノキシ樹脂などが用いられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
なお、前記電荷輸送層は、架橋性のバインダー樹脂と架橋性の電荷輸送物質との共重合体を含むこともできる。
--Binder resin--
The binder resin is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, polycarbonate resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, Polystyrene resin, phenol resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyvinylidene chloride resin, alkyd resin, silicone resin, polyvinyl carbazole resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyacrylate resin, polyacrylamide resin, phenoxy resin, and the like are used. These may be used alone or in combination of two or more.
The charge transport layer may also contain a copolymer of a crosslinkable binder resin and a crosslinkable charge transport material.

−−その他の成分−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶媒、可塑剤、レベリング剤などが挙げられ、上述した酸化防止剤を含んでもよい。
前記その他の成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、添加する層の総質量に対して0.01質量%〜10質量%が好ましい。
-Other ingredients-
There is no restriction | limiting in particular as said other component, According to the objective, it can select suitably, For example, a solvent, a plasticizer, a leveling agent, etc. are mentioned, You may contain antioxidant mentioned above.
There is no restriction | limiting in particular as content of the said other component, Although it can select suitably according to the objective, 0.01 mass%-10 mass% are preferable with respect to the total mass of the layer to add.

−−−溶媒−−−
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、前記電荷輸送物質及び前記結着樹脂を良好に溶解する溶媒が好ましい。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。
--- Solvent ---
The solvent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. The same solvent as the charge generation layer can be used, but a solvent that dissolves the charge transport material and the binder resin satisfactorily. preferable. These may be used singly or in combination of two or more.

−−−可塑剤−−−
前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般樹脂の可塑剤などが挙げられる。
---- Plasticizer ---
The plasticizer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include plasticizers for general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate.

−−−レベリング剤−−−
前記レベリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類;側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー乃至オリゴマーなどが挙げられる。
--- Leveling agent ---
The leveling agent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include silicone oils such as dimethyl silicone oil and methyl phenyl silicone oil; polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain. Etc.

−−電荷輸送層の形成方法−−
前記電荷輸送層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記電荷輸送物質及び前記結着樹脂を前記溶媒等の前記その他の成分に溶解乃至分散して得られた塗工液を、前記電荷発生層上に塗布して加熱乃至乾燥することにより形成する方法などが挙げられる。
--Method of forming charge transport layer--
The method for forming the charge transport layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, the charge transport material and the binder resin are dissolved or dispersed in the other components such as the solvent. And a method of forming the coating liquid obtained by applying the coating liquid on the charge generation layer and heating or drying.

前記電荷輸送層形成の際に用いる前記塗工液の塗工方法としては、特に制限はなく、塗工液の粘性、所望とする電荷輸送層の厚み等の目的に応じて適宜選択することができ、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法などが挙げられる。   The method for applying the coating liquid used for forming the charge transport layer is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose such as the viscosity of the coating liquid and the desired thickness of the charge transport layer. Examples thereof include a dip coating method, a spray coating method, a bead coating method, and a ring coating method.

前記電荷輸送層は、電子写真特性や膜粘性の観点から、何らかの手段を用いて加熱を行い、前記溶媒を前記電荷輸送層中から取り除く必要がある。
前記加熱する方法としては、例えば、空気、窒素等の気体、蒸気、各種熱媒体、赤外線、電磁波等の熱エネルギーを塗工面側又は支持体側から加熱する方法などが挙げられる。
前記加熱する際の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、100℃〜170℃が好ましい。前記温度が100℃未満であると、膜中の有機溶媒を十分取り除くことができず、電子写真特性の低下や摩耗耐久性低下が生じることがある。一方、前記温度が170℃を超えると、表面にゆず肌状の欠陥や亀裂の発生、隣接層との界面で剥離の発生などが生じるだけでなく、感光層中の揮発性成分が外部に霧散した場合、所望の電気特性が得られなくなることがある。
From the viewpoint of electrophotographic characteristics and film viscosity, the charge transport layer needs to be heated by some means to remove the solvent from the charge transport layer.
Examples of the heating method include a method of heating heat energy such as air, nitrogen and other gases, steam, various heat media, infrared rays, and electromagnetic waves from the coated surface side or the support side.
There is no restriction | limiting in particular as temperature at the time of the said heating, Although it can select suitably according to the objective, 100 to 170 degreeC is preferable. When the temperature is less than 100 ° C., the organic solvent in the film cannot be sufficiently removed, and electrophotographic characteristics and wear durability may be deteriorated. On the other hand, when the temperature exceeds 170 ° C., not only the surface of the surface is distorted and cracks are generated, peeling occurs at the interface with the adjacent layer, etc., but volatile components in the photosensitive layer are scattered to the outside. In this case, desired electrical characteristics may not be obtained.

前記電荷輸送層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、解像度乃至応答性の点から、50μm以下が好ましく、45μm以下がより好ましい。下限値に関しては、使用するシステム(特に帯電電位等)により異なるが、5μm以上が好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said charge transport layer, Although it can select suitably according to the objective, From the point of resolution thru | or response, 50 micrometers or less are preferable and 45 micrometers or less are more preferable. The lower limit varies depending on the system to be used (particularly charging potential), but is preferably 5 μm or more.

<その他の層>
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下引き層、中間層などが挙げられる。
<Other layers>
There is no restriction | limiting in particular as said other layer, According to the objective, it can select suitably, For example, an undercoat layer, an intermediate | middle layer, etc. are mentioned.

−下引き層−
前記下引き層は、前記導電性支持体と前記感光層との間に設けることができる。
前記下引き層は、樹脂を含み、更に必要に応じて上述の酸化防止剤、微粉末顔料、カップリング剤等のその他の成分を含む。
-Undercoat layer-
The undercoat layer can be provided between the conductive support and the photosensitive layer.
The undercoat layer contains a resin and, if necessary, further contains other components such as the above-mentioned antioxidant, fine powder pigment, and coupling agent.

前記下引き層に含まれる樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、前記樹脂の上に感光層を溶媒で塗布する点で、一般の有機溶媒に対して耐溶媒性の高い樹脂が好ましい。
The resin contained in the undercoat layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, casein and sodium polyacrylate, copolymer nylon, and methoxymethyl. Examples thereof include alcohol-soluble resins such as nylon fluoride, curable resins that form a three-dimensional network structure, such as polyurethane, melamine resin, phenol resin, alkyd-melamine resin, and epoxy resin.
Among these, a resin having a high solvent resistance with respect to a general organic solvent is preferable in that a photosensitive layer is coated on the resin with a solvent.

前記下引き層に含まれる微粉末顔料としては、モアレ防止、残留電位の低減等を図ることができる顔料であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物などが挙げられる。   The fine powder pigment contained in the undercoat layer is not particularly limited as long as it is a pigment that can prevent moire, reduce residual potential, etc., and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include metal oxides such as titanium, silica, alumina, zirconium oxide, tin oxide, and indium oxide.

前記下引き層に含まれるカップリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a coupling agent contained in the said undercoat layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a chromium coupling agent etc. are mentioned.

前記下引き層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、単層であってもよく、2層以上の積層であってもよい。   There is no restriction | limiting in particular as said undercoat layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a single layer may be sufficient and the lamination | stacking of two or more layers may be sufficient.

前記下引き層の形成方法としては、特に制限はなく、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができ、例えば、Alを陽極酸化して形成する方法、ポリパラキシリレン(パリレン)等の有機物;SiO、SnO、TiO、ITO、CeO等の無機物;を真空薄膜作製法にて形成する方法などが挙げられる。 A method for forming the undercoat layer is not particularly limited, and can be formed by using an appropriate solvent and a coating method as in the above-described photosensitive layer. For example, a method of forming by anodizing Al 2 O 3 And an organic material such as polyparaxylylene (parylene); an inorganic material such as SiO 2 , SnO 2 , TiO 2 , ITO, and CeO 2 ; by a vacuum thin film manufacturing method.

前記下引き層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1μm〜5μmが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said undercoat layer, Although it can select suitably according to the objective, 1 micrometer-5 micrometers are preferable.

−中間層−
前記中間層は、前記電荷輸送層と前記表面層との間に、前記表面層への電荷輸送層成分の混入を抑える又は両層間の接着性を改善することを目的として設けることができる。
-Intermediate layer-
The intermediate layer can be provided between the charge transport layer and the surface layer for the purpose of suppressing mixing of charge transport layer components into the surface layer or improving adhesion between the two layers.

前記中間層は、結着樹脂を含み、更に必要に応じて上述の酸化防止剤等のその他の成分を含む。中間層用塗工液としては、表面層用塗工液に対し不溶性又は難溶性であるものが好ましい。   The intermediate layer includes a binder resin, and further includes other components such as the above-described antioxidant as necessary. The intermediate layer coating solution is preferably insoluble or sparingly soluble in the surface layer coating solution.

前記中間層に含まれる結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as binder resin contained in the said intermediate | middle layer, According to the objective, it can select suitably, For example, polyamide, alcohol soluble nylon, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, etc. are mentioned.

前記中間層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記感光層と同様の適当な溶媒及び塗工法を用いて形成する方法などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said intermediate | middle layer, According to the objective, it can select suitably, For example, the method etc. which form using the suitable solvent and coating method similar to the said photosensitive layer are mentioned.

前記中間層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.05μm〜2μmが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said intermediate | middle layer, Although it can select suitably according to the objective, 0.05 micrometer-2 micrometers are preferable.

<導電性支持体>
前記導電性支持体としては、体積抵抗値が1×1010Ω・cm以下の導電性を示すものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。なお、特開昭52−36016号公報に開示されたエンドレスベルト(エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルト等)を用いてもよい。
<Conductive support>
The conductive support is not particularly limited as long as it has a volume resistivity of 1 × 10 10 Ω · cm or less, and can be appropriately selected according to the purpose. An endless belt (such as an endless nickel belt or an endless stainless steel belt) disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 52-36016 may be used.

前記導電性支持体の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属(アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金等)又は金属酸化物(酸化スズ、酸化インジウム等)を蒸着又はスパッタリングして、支持体(フィルム状、円筒状等のプラスチック、紙等)を被覆することにより形成する方法;金属(アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等)の板を押出し、引抜き等を行い、表面処理(素管化後、切削、超仕上げ、研摩等)を施して形成する方法などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said electroconductive support body, According to the objective, it can select suitably, For example, a metal (aluminum, nickel, chromium, nichrome, copper, gold | metal | money, silver, platinum etc.) or a metal A method of forming an oxide (tin oxide, indium oxide, etc.) by depositing or sputtering and coating a support (film, cylindrical plastic, paper, etc.); metal (aluminum, aluminum alloy, nickel, For example, a method of extruding a plate of stainless steel, etc., performing drawing, etc., and performing surface treatment (cutting, superfinishing, polishing, etc. after forming a blank), and the like.

前記導電性支持体は、前記導電性支持体上に導電性層を設けてもよい。
前記導電性層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、導電性粉体及び結着樹脂を、必要に応じて溶媒に分散乃至溶解して得られた塗工液を前記導電性支持体上に塗布することにより形成する方法、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン(登録商標)等の素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブを用いて形成する方法などが挙げられる。
The conductive support may be provided with a conductive layer on the conductive support.
The method for forming the conductive layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the conductive layer and the binder resin may be dispersed or dissolved in a solvent as necessary. A method of forming the applied coating liquid on the conductive support, such as polyvinyl chloride, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinylidene chloride, polyethylene, chlorinated rubber, and Teflon (registered trademark) Examples include a method of forming using a heat-shrinkable tube containing conductive powder.

前記導電性粉体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カーボンブラック、アセチレンブラック等の炭素微粒子;アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀等の金属粉;導電性酸化スズ、ITO等の金属酸化物粉体などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as said electroconductive powder, According to the objective, it can select suitably, For example, carbon fine particles, such as carbon black and acetylene black; Aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc, silver, etc. And metal oxide powders such as conductive tin oxide and ITO.

前記導電性層に用いる結着樹脂として、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などが挙げられ、具体的には、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルトルエン樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as binder resin used for the said electroconductive layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a photocurable resin etc. are mentioned, Specifically, Are polystyrene resin, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester resin, polyvinyl chloride resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate resin, Polyvinylidene chloride resin, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate resin, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyvinyl toluene resin, poly-N-vinylcarbazole, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, Melamine resin, Ureta Resins, phenol resins, and alkyd resins.

前記導電性層に用いる溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a solvent used for the said electroconductive layer, According to the objective, it can select suitably, For example, tetrahydrofuran, a dichloromethane, methyl ethyl ketone, toluene etc. are mentioned.

[電子写真感光体の実施形態]
以下では、本発明の電子写真感光体の実施形態について説明する。
[Embodiment of electrophotographic photosensitive member]
Hereinafter, embodiments of the electrophotographic photosensitive member of the present invention will be described.

<第1の実施形態>
第1の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図2を用いて説明する。
図2は、単層型感光層を有する構成であり、導電性支持体21上に、単層型感光層26及び表面層25を順次積層した電子写真感光体の層構成を示した図である。
<First Embodiment>
The layer structure of the electrophotographic photosensitive member according to the first embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 2 is a diagram showing a layer structure of an electrophotographic photosensitive member having a single-layer type photosensitive layer, in which a single-layer type photosensitive layer 26 and a surface layer 25 are sequentially laminated on a conductive support 21. .

<第2の実施形態>
第2の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図3を用いて説明する。
図3は、積層型感光層を有する構成であり、導電性支持体21上に、電荷発生層23、電荷輸送層24、及び表面層25を順次積層した電子写真感光体の層構成を示した図である。なお、電荷発生層23及び電荷輸送層24が感光層に該当する。
<Second Embodiment>
The layer structure of the electrophotographic photosensitive member according to the second embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 3 shows a structure having a laminated photosensitive layer, and shows a layer structure of an electrophotographic photosensitive member in which a charge generation layer 23, a charge transport layer 24, and a surface layer 25 are sequentially laminated on a conductive support 21. FIG. The charge generation layer 23 and the charge transport layer 24 correspond to the photosensitive layer.

<第3の実施形態>
第3の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図4を用いて説明する。
図4は、図3の構成を有する電子写真感光体に、更に中間層を設けた構成を有する。
図4は、導電性支持体21上に、下引き層22、電荷発生層23、電荷輸送層24、及び表面層25を順次積層した電子写真感光体の層構成を示した図である。なお、電荷発生層23及び電荷輸送層24が感光層に該当する。
<Third Embodiment>
The layer structure of the electrophotographic photosensitive member according to the third embodiment will be described with reference to FIG.
4 has a configuration in which an intermediate layer is further provided on the electrophotographic photosensitive member having the configuration of FIG.
FIG. 4 is a diagram showing a layer structure of an electrophotographic photosensitive member in which an undercoat layer 22, a charge generation layer 23, a charge transport layer 24, and a surface layer 25 are sequentially laminated on a conductive support 21. The charge generation layer 23 and the charge transport layer 24 correspond to the photosensitive layer.

<第4の実施形態>
第4の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図5を用いて説明する。
図5は、積層型感光層を有する構成であり、導電性支持体21上に、電荷輸送層24、電荷発生層23、及び表面層25を順次積層した電子写真感光体の層構成を示した図である。なお、電荷発生層23及び電荷輸送層24が感光層に該当する。
<Fourth Embodiment>
The layer structure of the electrophotographic photosensitive member according to the fourth embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 5 shows a structure having a laminated photosensitive layer, and shows a layer structure of an electrophotographic photoreceptor in which a charge transport layer 24, a charge generation layer 23, and a surface layer 25 are sequentially laminated on a conductive support 21. FIG. The charge generation layer 23 and the charge transport layer 24 correspond to the photosensitive layer.

(画像形成装置)
前記画像形成装置は、電子写真感光体、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段、及び前記可視像を記録媒体に転写する転写手段を少なくとも有してなり、更に必要に応じて、その他の手段を有してなる。前記画像形成装置において使用する電子写真感光体が、上述の本発明の電子写真感光体である。なお、帯電手段と、露光手段とを合わせて静電潜像形成手段と称することもある。
(Image forming device)
The image forming apparatus includes: an electrophotographic photosensitive member; a charging unit that charges a surface of the electrophotographic photosensitive member; an exposure unit that exposes the charged surface of the electrophotographic photosensitive member to form an electrostatic latent image; It has at least developing means for developing the latent image with toner to form a visible image, and transfer means for transferring the visible image to a recording medium, and further has other means if necessary. Do it. The electrophotographic photosensitive member used in the image forming apparatus is the above-described electrophotographic photosensitive member of the present invention. The charging unit and the exposure unit may be collectively referred to as an electrostatic latent image forming unit.

<帯電手段>
前記帯電手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、導電性又は半導電性のロール、ブラシ、フィルム、ゴムブレード等を備えたそれ自体公知の接触帯電器、コロトロン、スコロトロン等のコロナ放電を利用した非接触帯電器(電子写真感光体表面と帯電器との間に100μm以下の空隙を有する近接方式の非接触帯電器を含む)などが挙げられる。
<Charging means>
The charging means is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. For example, a known contact charger including a conductive or semiconductive roll, brush, film, rubber blade, etc. And non-contact chargers using corona discharge such as corotron and scorotron (including proximity-type non-contact chargers having a gap of 100 μm or less between the surface of the electrophotographic photosensitive member and the charger).

<露光手段>
前記露光手段としては、前記帯電手段により帯電された前記電子写真感光体の表面に、形成すべき像様に露光を行うことができれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、複写光学系、ロッドレンズアレイ系、レーザー光学系、液晶シャッタ光学系、LED光学系などの各種露光器が挙げられ、前記露光器における光源としては、発光ダイオード(LED)、半導体レーザー(LD)、エレクトロルミネッセンス(EL)などの高輝度が確保できる光源などが挙げられる。なお、本発明においては、前記電子写真感光体の裏面側から像様に露光を行う光背面方式を採用してもよい。
<Exposure means>
The exposure means is not particularly limited as long as the surface of the electrophotographic photosensitive member charged by the charging means can be exposed like an image to be formed, and can be appropriately selected according to the purpose. Examples include various exposure devices such as a copying optical system, a rod lens array system, a laser optical system, a liquid crystal shutter optical system, and an LED optical system, and examples of the light source in the exposure device include a light emitting diode (LED) and a semiconductor laser. (LD), electroluminescence (EL), etc. and the light source etc. which can ensure high brightness | luminance are mentioned. In the present invention, an optical backside system that performs imagewise exposure from the backside of the electrophotographic photosensitive member may be employed.

<現像手段>
前記現像手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記トナー乃至現像剤を用いて現像することができる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記現像剤を収容し、前記静電潜像に該現像剤を接触又は非接触的に付与可能な現像器を少なくとも有するものが好ましい。前記現像器としては、乾式現像方式のものであってもよいし、湿式現像方式のものであってもよく、また、単色用現像器であってもよいし、多色用現像器であってもよい。例えば、前記現像剤を摩擦攪拌させて帯電させる攪拌器と、回転可能なマグネットローラとを有するものなどが好ましい。前記現像器内では、例えば、前記トナーと前記キャリアとが混合攪拌され、その際の摩擦により該トナーが帯電し、回転するマグネットローラの表面に穂立ち状態で保持され、磁気ブラシが形成される。該マグネットローラは、前記電子写真感光体近傍に配置されているため、該マグネットローラの表面に形成された前記磁気ブラシを構成する前記トナーの一部は、電気的な吸引力によって該電子写真感光体の表面に移動する。その結果、前記静電潜像が該トナーにより現像されて該電子写真感光体の表面に該トナーによる可視像が形成される。
<Developing means>
The developing means is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, as long as development can be performed using the toner or developer, there is no particular limitation, and the developing means is appropriately selected according to the purpose. However, it is preferable to have at least a developing unit that accommodates the developer and can apply the developer to the electrostatic latent image in a contact or non-contact manner. The developing unit may be a dry developing type, a wet developing type, a single color developing unit, or a multicolor developing unit. Also good. For example, a developer having a stirrer that charges the developer by frictional stirring and a rotatable magnet roller is preferable. In the developing device, for example, the toner and the carrier are mixed and agitated, and the toner is charged by friction at that time, and held on the surface of the rotating magnet roller in a raised state to form a magnetic brush. . Since the magnet roller is disposed in the vicinity of the electrophotographic photosensitive member, a part of the toner constituting the magnetic brush formed on the surface of the magnet roller is electrically attracted to the electrophotographic photosensitive member. Move to the surface of the body. As a result, the electrostatic latent image is developed with the toner, and a visible image is formed with the toner on the surface of the electrophotographic photosensitive member.

<転写手段>
前記転写手段は、前記可視像を記録媒体に転写する手段であるが、前記電子写真感光体表面から記録媒体に可視像を直接転写する方法と、中間転写体を用い、該中間転写体上に可視像を一次転写した後、該可視像を前記記録媒体上に二次転写する方法がある。いずれの態様も良好に使用することができるが、高画質化に際して転写による悪影響が大きいような場合には、転写回数が少ない前者(直接転写)の方法が好ましい。前記転写は、例えば、前記可視像を、転写帯電器を用いて前記電子写真感光体を帯電することにより行うことができ、前記転写手段により行うことができる。
<Transfer means>
The transfer means is a means for transferring the visible image to a recording medium, and uses a method for directly transferring a visible image from the surface of the electrophotographic photosensitive member to a recording medium, and an intermediate transfer member. There is a method in which a visible image is primarily transferred onto the recording medium, and then the visible image is secondarily transferred onto the recording medium. Either aspect can be used satisfactorily, but the former (direct transfer) method with a small number of transfers is preferred when the adverse effect of the transfer is great when the image quality is improved. The transfer can be performed, for example, by charging the electrophotographic photosensitive member with the transfer charger using the visible image, and can be performed by the transfer unit.

<その他の手段>
前記その他の手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、定着手段、除電手段、クリーニング手段、リサイクル手段、制御手段などが挙げられる。
<Other means>
The other means is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include a fixing means, a static elimination means, a cleaning means, a recycling means, and a control means.

−定着手段−
前記定着手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、公知の加熱加圧手段が好ましく、前記加熱加圧手段としては、加熱ローラと加圧ローラとの組み合わせ、加熱ローラと加圧ローラと無端ベルトとの組み合わせなどが挙げられ、前記加熱加圧手段における加熱としては、通常80℃〜200℃が好ましい。前記定着としては、例えば、各色のトナーに対し前記記録媒体に転写する毎に行ってもよいし、各色のトナーに対しこれを積層した状態で一度に同時に行ってもよい。
-Fixing means-
The fixing unit is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. However, a known heating and pressing unit is preferable, and the heating and pressing unit includes a combination of a heating roller and a pressing roller, A combination of a heating roller, a pressure roller, and an endless belt can be mentioned. The fixing may be performed, for example, every time the toner of each color is transferred to the recording medium, or may be performed simultaneously in a state where the toner of each color is stacked.

−除電手段−
前記除電手段としては、特に制限はなく、前記電子写真感光体に対し除電バイアスを印加することができればよく、公知の除電器の中から適宜選択することができ、例えば、除電ランプなどが好適に挙げられる。
-Static elimination means-
The neutralizing means is not particularly limited, and may be appropriately selected from known neutralizers as long as it can apply a neutralizing bias to the electrophotographic photosensitive member. For example, a neutralizing lamp is preferable. Can be mentioned.

−クリーニング手段−
前記クリーニング手段としては、特に制限はなく、前記電子写真感光体上に残留する前記電子写真トナーを除去することができればよく、公知のクリーナの中から適宜選択することができ、例えば、磁気ブラシクリーナ、静電ブラシクリーナ、磁気ローラクリーナ、ブレードクリーナ、ブラシクリーナ、ウエブクリーナなどが好適に挙げられる。
-Cleaning means-
The cleaning means is not particularly limited as long as it can remove the electrophotographic toner remaining on the electrophotographic photosensitive member, and can be appropriately selected from known cleaners. For example, a magnetic brush cleaner Suitable examples include electrostatic brush cleaners, magnetic roller cleaners, blade cleaners, brush cleaners, and web cleaners.

−リサイクル手段−
前記リサイクル手段としては、特に制限はなく、公知の搬送手段などが挙げられる。
-Recycling means-
There is no restriction | limiting in particular as said recycling means, A well-known conveyance means etc. are mentioned.

−制御手段−
前記制御手段としては、前記各手段の動きを制御できれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シークエンサー、コンピュータ等の機器などが挙げられる。
-Control means-
The control means is not particularly limited as long as the movement of each means can be controlled, and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include devices such as a sequencer and a computer.

[画像形成装置の実施形態]
以下では、本発明の画像形成装置の実施形態について説明する。
図6は、本発明の画像形成装置を説明するための概略図であり、電子写真感光体1の周りに、帯電手段3、露光手段5、現像手段6、転写手段10などが配置される。
[Embodiment of Image Forming Apparatus]
Hereinafter, embodiments of the image forming apparatus of the present invention will be described.
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining the image forming apparatus of the present invention. A charging unit 3, an exposing unit 5, a developing unit 6, a transfer unit 10 and the like are arranged around the electrophotographic photosensitive member 1. FIG.

まず、図6に示す帯電手段3により、電子写真感光体1が平均的に帯電される。帯電手段3としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラ帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。   First, the electrophotographic photosensitive member 1 is charged on average by the charging means 3 shown in FIG. As the charging means 3, a corotron device, a scorotron device, a solid discharge element, a needle electrode device, a roller charging device, a conductive brush device, or the like is used, and a known system can be used.

次に、図6に示す露光手段5により、均一に帯電された電子写真感光体1上に静電潜像が形成される。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード(LED)、半導体レーザー(LD)、エレクトロルミネッセンス(EL)などの発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。   Next, an electrostatic latent image is formed on the uniformly charged electrophotographic photosensitive member 1 by the exposure means 5 shown in FIG. As this light source, all luminescent materials such as fluorescent lamps, tungsten lamps, halogen lamps, mercury lamps, sodium lamps, light emitting diodes (LEDs), semiconductor lasers (LD), and electroluminescence (EL) can be used. Various types of filters such as a sharp cut filter, a band pass filter, a near infrared cut filter, a dichroic filter, an interference filter, and a color temperature conversion filter can be used to irradiate only light in a desired wavelength range.

次に、図6に示す現像手段6により、電子写真感光体1上に形成された静電潜像が可視化される。この現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法などが挙げられる。電子写真感光体1に正(負)帯電を施し、画像露光を行うと、感光体表面上には正(負)の静電潜像が形成される。これを負(正)極性のトナー(検電微粒子)で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正(負)極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。   Next, the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photoreceptor 1 is visualized by the developing means 6 shown in FIG. Examples of the developing method include a one-component developing method using a dry toner, a two-component developing method, and a wet developing method using a wet toner. When the electrophotographic photoreceptor 1 is positively (negatively) charged and image exposure is performed, a positive (negative) electrostatic latent image is formed on the surface of the photoreceptor. A positive image can be obtained by developing this with negative (positive) toner (electrodetection fine particles), and a negative image can be obtained by developing with positive (negative) toner.

次に、図6に示す転写手段10により、電子写真感光体1上で可視化されたトナー像が記録媒体9上に転写される。また、転写をより良好に行うために転写前チャージャ7を用いてもよい。転写手段10としては、転写チャージャ、バイアスローラー等を用いる静電転写方式;粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式;磁気転写方式などが利用可能である。   Next, the toner image visualized on the electrophotographic photoreceptor 1 is transferred onto the recording medium 9 by the transfer means 10 shown in FIG. In addition, a pre-transfer charger 7 may be used for better transfer. As the transfer means 10, an electrostatic transfer method using a transfer charger, a bias roller, or the like; a mechanical transfer method such as an adhesive transfer method or a pressure transfer method; a magnetic transfer method or the like can be used.

更に必要に応じて、図6に示す記録媒体9を電子写真感光体1より分離する手段として分離チャージャ11、分離爪12を用いてもよい。その他分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等が用いられる。分離チャージャ11としては、前記帯電手段が利用可能である。また、転写後感光体上に残されたトナーをクリーニングするために、ファーブラシ14、クリーニングブレード15等のクリーニング手段が用いられ、クリーニングをより効率的に行うためにクリーニング前チャージャ13を用いてもよい。その他のクリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。また、電子写真感光体1上の潜像が取り除くために除電手段2を用いてもよい。除電手段2としては、除電ランプ、除電チャージャなどが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段が利用できる。その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは公知のものが使用できる。   Further, if necessary, a separation charger 11 and a separation claw 12 may be used as means for separating the recording medium 9 shown in FIG. 6 from the electrophotographic photosensitive member 1. As other separation means, electrostatic adsorption induction separation, side end belt separation, tip grip conveyance, curvature separation, and the like are used. As the separation charger 11, the charging means can be used. In addition, cleaning means such as a fur brush 14 and a cleaning blade 15 are used to clean the toner remaining on the photoconductor after transfer, and the pre-cleaning charger 13 may be used for more efficient cleaning. Good. Other cleaning means include a web method, a magnet brush method, and the like, but each may be used alone or in combination. Further, in order to remove the latent image on the electrophotographic photosensitive member 1, the charge eliminating means 2 may be used. As the charge removal means 2, a charge removal lamp, a charge removal charger or the like is used, and the exposure light source and the charging means can be used, respectively. In addition, known processes can be used for reading, feeding, fixing, paper discharge and the like that are not close to the photoconductor.

(プロセスカートリッジ)
本発明のプロセスカートリッジは、電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段、及び前記可視像を記録媒体に転写する転写手段の少なくともいずれかの手段を有してなり、更に必要に応じてその他の手段を有してなる。本発明のプロセスカートリッジにおいて使用する電子写真感光体は、上述した本発明の電子写真感光体である。
(Process cartridge)
The process cartridge of the present invention includes an electrophotographic photosensitive member, a charging unit that charges the surface of the electrophotographic photosensitive member, an exposure unit that exposes the charged surface of the electrophotographic photosensitive member to form an electrostatic latent image, It comprises at least one of developing means for developing the electrostatic latent image with toner to form a visible image and transfer means for transferring the visible image to a recording medium. And other means. The electrophotographic photosensitive member used in the process cartridge of the present invention is the above-described electrophotographic photosensitive member of the present invention.

前記プロセスカートリッジとは、例えば、図7に示すように、電子写真感光体101を内蔵し、他に帯電手段102、現像手段104、転写手段106、クリーニング手段107、除電手段(不図示)の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置(部品)である。図7のプロセスカートリッジによる画像形成工程について示すと、感光体101は、矢印方向に回転しながら、帯電手段102による帯電、露光手段103による露光により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成され、この静電潜像は、現像手段104でトナー現像され、該トナー現像は転写手段106により、記録媒体105に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の感光体表面は、クリーニング手段107によりクリーニングされ、更に除電手段(不図示)により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。   For example, as shown in FIG. 7, the process cartridge includes an electrophotographic photosensitive member 101, and at least a charging unit 102, a developing unit 104, a transfer unit 106, a cleaning unit 107, and a discharging unit (not shown). This is an apparatus (part) that includes one and is detachable from the image forming apparatus main body. Referring to the image forming process using the process cartridge of FIG. 7, the photosensitive member 101 is charged in the direction of the arrow while being charged by the charging unit 102 and exposed by the exposure unit 103. The electrostatic latent image is developed with toner by the developing unit 104, and the toner development is transferred to the recording medium 105 by the transfer unit 106 and printed out. Next, the surface of the photoconductor after the image transfer is cleaned by the cleaning unit 107 and further neutralized by a neutralizing unit (not shown), and the above operation is repeated again.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、質量部は、部と略記する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to a following example. In addition, a mass part is abbreviated as a part.

(実施例1)
直径40mmのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、及び電荷輸送層用塗工液を順次、塗布し、乾燥することにより、厚み3.5μmの下引き層、厚み0.2μmの電荷発生層、及び厚み20μmの電荷輸送層を形成した。
Example 1
A coating solution for an undercoat layer, a coating solution for a charge generation layer, and a coating solution for a charge transport layer, which are described below, are sequentially applied onto an aluminum cylinder having a diameter of 40 mm and dried to obtain a thickness of 3.5 μm. An undercoat layer, a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm, and a charge transport layer having a thickness of 20 μm were formed.

〔下引き層用塗工液〕
・アルキッド樹脂(ベッコゾール1307−60−EL、DIC株式会社製)・・・12部
・メラミン樹脂(スーパーベッカミン G−821−60、DIC株式会社製)・・・ 8部
・酸化チタン(CR−EL、石原産業株式会社製)・・・80部
・メチルエチルケトン・・・250部
[Coating liquid for undercoat layer]
・ Alkyd resin (Beccosol 1307-60-EL, manufactured by DIC Corporation) ・ ・ ・ 12 parts ・ Melamine resin (Super Becamine G-821-60, manufactured by DIC Corporation) ・ ・ ・ 8 parts ・ Titanium oxide (CR- EL, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) ... 80 parts Methyl ethyl ketone ... 250 parts

〔電荷発生層用塗工液〕
・下記構造式(1)のビスアゾ顔料・・・2.5部
<構造式(1)>
・ポリビニルブチラール(XYHL、UCC社製)・・・0.5部
・シクロヘキサノン・・・200部
・メチルエチルケトン・・・80部
[Coating liquid for charge generation layer]
-Bisazo pigment of the following structural formula (1): 2.5 parts <Structural formula (1)>
・ Polyvinyl butyral (XYHL, manufactured by UCC): 0.5 part ・ Cyclohexanone: 200 parts ・ Methyl ethyl ketone: 80 parts

〔電荷輸送層用塗工液〕
・ビスフェノールZポリカーボネート(パンライトTS−2050、帝人化成社製)・・・10部
・下記構造式(2)の電荷輸送性化合物・・・7部
<構造式(2)>
・テトラヒドロフラン・・・100部
・1%シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液(KF50−100CS、信越化学工業社製)・・・1部
[Coating liquid for charge transport layer]
-Bisphenol Z polycarbonate (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) ... 10 parts-Charge transporting compound of the following structural formula (2) ... 7 parts <Structural formula (2)>
Tetrahydrofuran: 100 parts Tetrahydrofuran solution of 1% silicone oil (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 1 part

次いで、下記組成の表面層塗工液を、前記導電性支持体、前記下引き層、前記電荷発生層、及び前記電荷輸送層からなる積層体上に下記表面層用塗工液を用いてスプレー塗工法にて、厚み4.5μmの表面層を成膜し、電子写真感光体を回転させながら、メタルハライドランプを用いて、照度:900mW/cm、照射時間:120秒間の条件で光照射を行うことで表面層を架橋させた後に、130℃で30分間の乾燥を行った。 Next, a surface layer coating solution having the following composition is sprayed onto the laminate comprising the conductive support, the undercoat layer, the charge generation layer, and the charge transport layer using the following surface layer coating solution. A surface layer having a thickness of 4.5 μm is formed by a coating method, and light irradiation is performed using a metal halide lamp while rotating the electrophotographic photosensitive member under the conditions of illuminance: 900 mW / cm 2 and irradiation time: 120 seconds. After the surface layer was crosslinked by performing, drying was performed at 130 ° C. for 30 minutes.

なお、表面層用塗工液は、下記のように調製した。まず、ジルコニア製ビーズ(平均粒子径:0.1mm)を110g投入した50mL容器に、Alドープ酸化亜鉛、界面活性剤、及びシクロヘキサノンを入れ、1,500rpmの振動条件で2時間の振動分散を行い、Alドープ酸化亜鉛を分散させた分散液を調製した。次に、前記分散液を、シルコニア製ビーズ(平均粒子径:粒径5mm)を60g投入した50mL容器に移し替え、200rpmの回転速度で24時間の分散を行い、ミルベースを調製した。そして、トリメチロールプロパントリアクリレートを溶解したテトラヒドロフラン溶液に、前記ミルベースを添加して、下記組成の表面層用塗工液を調製した。   The surface layer coating solution was prepared as follows. First, in a 50 mL container charged with 110 g of zirconia beads (average particle size: 0.1 mm), Al-doped zinc oxide, a surfactant, and cyclohexanone are placed, and vibration dispersion is performed for 2 hours under a vibration condition of 1,500 rpm. Then, a dispersion liquid in which Al-doped zinc oxide was dispersed was prepared. Next, the dispersion was transferred to a 50 mL container charged with 60 g of sirconia beads (average particle size: particle size 5 mm), and dispersed for 24 hours at a rotation speed of 200 rpm to prepare a mill base. And the said mill base was added to the tetrahydrofuran solution which melt | dissolved the trimethylol propane triacrylate, and the coating liquid for surface layers of the following composition was prepared.

〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・Alドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet CK、平均粒径35nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)・・・35.7部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・7.1部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・1.8部
・テトラヒドロフラン・・・952部
・シクロヘキサノン・・・238部
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Al-doped zinc oxide fine particles (Pazet CK, average particle size 35 nm, Hakusui Tech Co., Ltd. 10 3 Ω · cm) 35.7 parts ・ General formula (2 ) Compound (Exemplary Compound No. 17) ... 7.1 parts Surfactant (BYK-P105, manufactured by BYK Chemie) ... 1.8 parts Tetrahydrofuran ... 952 parts Cyclohexanone・ 238 parts

(実施例2)
実施例1の表面層用塗工液に含まれる酸化亜鉛の含有比を下記配合比に変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・Alドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet CK、平均粒径35nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)・・・111.1部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・11.1部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・5.6部
・テトラヒドロフラン・・・1778部
・シクロヘキサノン・・・444部
(Example 2)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the content ratio of zinc oxide contained in the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following compounding ratio.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Al-doped zinc oxide fine particles (Pazet CK, average particle size 35 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., Ltd., 10 3 Ω · cm) 111.1 parts ・ General formula (1 ) (Exemplary Compound No. 17) ... 11.1 parts -Surfactant (BYK-P105, manufactured by Big Chemie) -5.6 parts -Tetrahydrofuran ... 1778 parts -Cyclohexanone-・ 444 parts

(実施例3)
実施例1の表面層用塗工液に含まれる酸化亜鉛の含有比を下記配合比に変更した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・Alドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet CK、平均粒径35nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)・・・171.4部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・14.3部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・8.6部
・テトラヒドロフラン・・・2438部
・シクロヘキサノン・・・610部
(Example 3)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the content ratio of zinc oxide contained in the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following compounding ratio.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Al-doped zinc oxide fine particles (Pazet CK, average particle size 35 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., Ltd., 10 3 Ω · cm) 171.4 parts ・ General formula (1 ) (Exemplary Compound No. 17) 14.3 parts Surfactant (BYK-P105, manufactured by BYK Chemie) 8.6 parts Tetrahydrofuran 2438 parts Cyclohexanone・ 610 parts

(実施例4)
実施例2の表面層用塗工液に含まれる酸化亜鉛を下記のものに変更した以外は、実施例2と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・Alドープ酸化亜鉛微粒子(23−K、平均粒径152nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)
Example 4
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 2 except that the zinc oxide contained in the surface layer coating solution of Example 2 was changed to the following.
・ Al-doped zinc oxide fine particles (23-K, average particle size 152 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., 10 3 Ω · cm)

(実施例5)
実施例1の表面層用塗工液に用いる酸化亜鉛を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet GK−40、平均粒径32nm)、ハクスイテック社製、10Ω・cm)
(Example 5)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the zinc oxide used in the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
Ga-doped zinc oxide fine particles (Pazet GK-40, average particle size 32 nm), manufactured by Hakusui Tech Co., 10 3 Ω · cm)

(実施例6)
実施例5の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet GK−40、平均粒径32nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)・・・58.3部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・8.3部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・2.9部
・テトラヒドロフラン・・・1200部
・シクロヘキサノン・・・300部
(Example 6)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 5 except that the surface layer coating solution in Example 5 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles (Pazet GK-40, average particle size 32 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., Ltd., 10 3 Ω · cm) 58.3 parts (1) Compound (Exemplary Compound No. 17) 8.3 parts Surfactant (BYK-P105, manufactured by Big Chemie) 2.9 parts Tetrahydrofuran 1200 parts Cyclohexanone ... 300 copies

(実施例7)
実施例2の表面層用塗工液に用いる酸化亜鉛を下記のものに変更した以外は、実施例2と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet GK−40、平均粒径32nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)
(Example 7)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 2 except that the zinc oxide used in the surface layer coating solution of Example 2 was changed to the following.
Ga-doped zinc oxide fine particles (Pazet GK-40, average particle size 32 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., 10 3 Ω · cm)

(実施例8)
実施例3の表面層用塗工液に用いる酸化亜鉛を下記のものに変更した以外は、実施例3と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet GK−40、平均粒径32nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)
(Example 8)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 3 except that the zinc oxide used in the surface layer coating solution of Example 3 was changed to the following.
Ga-doped zinc oxide fine particles (Pazet GK-40, average particle size 32 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., 10 3 Ω · cm)

(実施例9)
実施例5で用いた酸化亜鉛を下記の手順で表面処理した酸化亜鉛を用い、下記表面層用塗工液を用いた以外は、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製した。
なお、表面層用塗工液は、下記のように調製した。まず、ジルコニア製ビーズ(平均粒子径:0.1mm)を110g投入した50mL容器に、後述する表面処理方法で表面処理したGaドープ酸化亜鉛、及びシクロヘキサノンを入れ、1,500rpmの振動条件で2時間の振動分散を行い、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子を分散させた分散液を調製した。次に、前記分散液を、シルコニア製ビーズ(平均粒子径:5mm)を60g投入した50mL容器に移し替え、200rpmの回転速度で24時間の分散を行い、ミルベースを調製した。そして、トリメチロールプロパントリアクリレートを溶解したテトラヒドロフラン溶液に、前記ミルベースを添加して、下記組成の表面層用塗工液を調製した。
〔表面処理方法〕
メタノール100g中にN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−573、信越シリコーン社製)を2.5g加え、Gaドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet GK−40、平均粒径32nm、ハクスイテック社製)25gを加え、95℃で2時間環流し、その後減圧下で溶剤を除去し、溶剤がなくなった時点で150℃に昇温し、2時間保持することでN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子を得た。
Example 9
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 5, except that zinc oxide used in Example 5 was surface-treated by the following procedure and that the following surface layer coating solution was used.
The surface layer coating solution was prepared as follows. First, in a 50 mL container charged with 110 g of zirconia beads (average particle size: 0.1 mm), Ga-doped zinc oxide and cyclohexanone surface-treated by the surface treatment method described later are placed, and the vibration condition of 1,500 rpm is 2 hours. The dispersion liquid in which Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane were dispersed was prepared. Next, the dispersion was transferred to a 50 mL container charged with 60 g of sirconia beads (average particle size: 5 mm), and dispersed for 24 hours at a rotation speed of 200 rpm to prepare a mill base. And the said mill base was added to the tetrahydrofuran solution which melt | dissolved the trimethylol propane triacrylate, and the coating liquid for surface layers of the following composition was prepared.
[Surface treatment method]
2.5 g of N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-573, manufactured by Shin-Etsu Silicone) was added to 100 g of methanol, and Ga-doped zinc oxide fine particles (Pazet GK-40, average particle diameter of 32 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., Ltd.) ) 25 g was added, refluxed at 95 ° C. for 2 hours, and then the solvent was removed under reduced pressure. When the solvent was exhausted, the temperature was raised to 150 ° C. and held for 2 hours to maintain N-phenyl-3-aminopropyltri Ga-doped zinc oxide fine particles modified with methoxysilane were obtained.

〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・35.7部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・7.1部
・テトラヒドロフラン・・・952部
・シクロヘキサノン・・・238部
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) ・ ・ ・ 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) ・ ・ ・ 35.7 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) ... 7.1 parts Tetrahydrofuran ... 952 parts Cyclohexanone ... 238 parts

(実施例10)
実施例5で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・58.3部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・8.3部
・テトラヒドロフラン・・・1200部
・シクロヘキサノン・・・300部
(Example 10)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 5 except that the surface layer coating solution used in Example 5 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 58.3 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 8.3 parts Tetrahydrofuran 1200 parts Cyclohexanone 300 parts

(実施例11)
実施例5で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・111.1部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・11.1部
・テトラヒドロフラン・・・1,778部
・シクロヘキサノン・・・444部
(Example 11)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 5 except that the surface layer coating solution used in Example 5 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 111.1 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) ... 11.1 parts-Tetrahydrofuran ... 1,778 parts-Cyclohexanone ... 444 parts

(実施例12)
実施例5で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・171.4部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・14.3部
・テトラヒドロフラン・・・2,438部
・シクロヘキサノン・・・610部
(Example 12)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 5 except that the surface layer coating solution used in Example 5 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 171.4 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 14.3 parts Tetrahydrofuran 2,438 parts Cyclohexanone 610 parts

(実施例13)
実施例5で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・38.5部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・15.4部
・テトラヒドロフラン・・・1,026部
・シクロヘキサノン・・・256部
(Example 13)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 5 except that the surface layer coating solution used in Example 5 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 38.5 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) ... 15.4 parts Tetrahydrofuran ... 1,026 partsCyclohexanone ... 256 parts

(実施例14)
実施例5で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・63.6部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・18.2部
・テトラヒドロフラン・・・1,309部
・シクロヘキサノン・・・327部
(Example 14)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 5 except that the surface layer coating solution used in Example 5 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 63.6 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) ... 18.2 parts-Tetrahydrofuran ... 1,309 parts-Cyclohexanone ... 327 parts

(実施例15)
実施例5で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・125.0部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・25.0部
・テトラヒドロフラン・・・2,000部
・シクロヘキサノン・・・500部
(Example 15)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 5 except that the surface layer coating solution used in Example 5 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 125.0 parts ・ General Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 25.0 parts Tetrahydrofuran 2,000 parts Cyclohexanone 500 parts

(実施例16)
実施例5で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・200.0部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・33.3部
・テトラヒドロフラン・・・2,844部
・シクロヘキサノン・・・711部
(Example 16)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 5 except that the surface layer coating solution used in Example 5 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 200.0 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 33.3 parts Tetrahydrofuran 2,844 parts Cyclohexanone 711 parts

(実施例17)
実施例9の表面層用塗工液に用いる一般式(1)で示される化合物を下記のものに変更した以外は、実施例9と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.2)
(Example 17)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 9, except that the compound represented by the general formula (1) used in the surface layer coating solution of Example 9 was changed to the following.
Compound represented by the general formula (1) (Exemplary Compound No. 2)

(実施例18)
実施例11の表面層用塗工液に用いる一般式(1)で示される化合物を下記のものに変更した以外は、実施例11と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.2)
(Example 18)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 11 except that the compound represented by the general formula (1) used in the surface layer coating solution of Example 11 was changed to the following.
Compound represented by the general formula (1) (Exemplary Compound No. 2)

(実施例19)
実施例12の表面層用塗工液に用いる一般式(1)で示される化合物を下記のものに変更した以外は、実施例12と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.2)
(Example 19)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 12 except that the compound represented by the general formula (1) used in the surface layer coating solution of Example 12 was changed to the following.
Compound represented by the general formula (1) (Exemplary Compound No. 2)

(実施例20)
実施例9の表面層用塗工液に用いる一般式(1)で示される化合物を下記のものに変更した以外は、実施例9と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.4)
(Example 20)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 9, except that the compound represented by the general formula (1) used in the surface layer coating solution of Example 9 was changed to the following.
Compound represented by the general formula (1) (Exemplary Compound No. 4)

(実施例21)
実施例11の表面層用塗工液に用いる一般式(1)で示される化合物を下記のものに変更した以外は、実施例11と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.4)
(Example 21)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 11 except that the compound represented by the general formula (1) used in the surface layer coating solution of Example 11 was changed to the following.
Compound represented by the general formula (1) (Exemplary Compound No. 4)

(実施例22)
実施例12の表面層用塗工液に用いる一般式(1)で示される化合物を下記のものに変更した以外は、実施例12と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.4)
(Example 22)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 12 except that the compound represented by the general formula (1) used in the surface layer coating solution of Example 12 was changed to the following.
Compound represented by the general formula (1) (Exemplary Compound No. 4)

(実施例23)
実施例11で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例11と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・142.9部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・14.3部
・前記構造式(2)で示される化合物・・・28.6部
・テトラヒドロフラン・・・2,286部
・シクロヘキサノン・・・571部
(Example 23)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 11 except that the surface layer coating solution used in Example 11 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 142.9 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 14.3 parts Compound represented by the structural formula (2) 28.6 parts Tetrahydrofuran 2,286 parts Cyclohexanone: 571 parts

(実施例24)
実施例11で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例11と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・200.0部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・20.0部
・前記構造式(2)で示される化合物・・・80.0部
・テトラヒドロフラン・・・3,200部
・シクロヘキサノン・・・800部
(Example 24)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 11 except that the surface layer coating solution used in Example 11 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 200.0 parts Compound represented by formula (1) (exemplary compound No. 17) 20.0 parts Compound represented by the structural formula (2) 80.0 parts Tetrahydrofuran 3200 parts Cyclohexanone: 800 parts

(実施例25)
実施例11で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例11と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・333.3部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・33.3部
・前記構造式(2)で示される化合物・・・200部
・テトラヒドロフラン・・・5,333部
・シクロヘキサノン・・・1,333部
(Example 25)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 11 except that the surface layer coating solution used in Example 11 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 333.3 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 33.3 parts Compound represented by the structural formula (2) 200 parts Tetrahydrofuran 5333 parts Cyclohexanone ..1,333 parts

(実施例26)
実施例7で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例7と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・142.9部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・14.3部
・下記構造式(3)で示される化合物・・・28.6部
<構造式(3)>
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・7.1部
・テトラヒドロフラン・・・2,286部
・シクロヘキサノン・・・571部
(Example 26)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 7, except that the surface layer coating solution used in Example 7 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 142.9 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) ... 14.3 parts-Compound represented by the following structural formula (3) ... 28.6 parts <Structural formula (3)>
Surfactant (BYK-P105, manufactured by Big Chemie) 7.1 parts Tetrahydrofuran 2,286 parts Cyclohexanone 571 parts

(実施例27)
実施例7で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例7と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・200.0部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・20.0部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・80.0部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・10部
・テトラヒドロフラン・・・3,200部
・シクロヘキサノン・・・800部
(Example 27)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 7, except that the surface layer coating solution used in Example 7 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 200.0 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 20.0 parts Compound represented by Structural Formula (3) 80.0 parts Surfactant (BYK-P105, Big Chemie 10 parts) · Tetrahydrofuran ... 3,200 parts · Cyclohexanone ... 800 parts

(実施例28)
実施例7で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例7と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・333.3部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・33.3部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・200部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・16.7部
・テトラヒドロフラン・・・5,333部
・シクロヘキサノン・・・1,333部
(Example 28)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 7, except that the surface layer coating solution used in Example 7 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts Photoinitiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 333.3 parts Compound represented by Formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 33.3 parts Compound represented by Structural Formula (3) 200 parts Surfactant (BYK-P105, manufactured by Big Chemie) ) ... 16.7 parts Tetrahydrofuran ... 5,333 partsCyclohexanone ... 1,333 parts

(実施例29)
実施例7で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例7と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・142.9部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・14.3部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・28.6部
・テトラヒドロフラン・・・2,286部
・シクロヘキサノン・・・571部
(Example 29)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 7, except that the surface layer coating solution used in Example 7 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 142.9 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 14.3 parts Compound represented by the structural formula (3) 28.6 parts Tetrahydrofuran 2,286 parts Cyclohexanone: 571 parts

(実施例30)
実施例7で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例7と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・200.0部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・20.0部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・80.0部
・テトラヒドロフラン・・・3,200部
・シクロヘキサノン・・・800部
(Example 30)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 7, except that the surface layer coating solution used in Example 7 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 200.0 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary compound No. 17) 20.0 parts Compound represented by the structural formula (3) 80.0 parts Tetrahydrofuran 3200 parts Cyclohexanone: 800 parts

(実施例31)
実施例7で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例7と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・333.3部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・33.3部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・200部
・テトラヒドロフラン・・・5,333部
・シクロヘキサノン・・・1,333部
(Example 31)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 7, except that the surface layer coating solution used in Example 7 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 333.3 parts Compound represented by formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 33.3 parts Compound represented by the structural formula (3) 200 parts Tetrahydrofuran 5333 parts Cyclohexanone ..1,333 parts

(実施例32)
下記組成の表面層塗工液を実施例1の手順で作製した導電性支持体、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層からなる積層体上にスプレー塗工法にて、厚み4.5μmの表面層を成膜し、130℃で30分間の乾燥を行うことによって電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・ビスフェノールZポリカーボネート(パンライトTS−2050、帝人化成社製)・・・100部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・35.7部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・7.1部
・テトラヒドロフラン・・・952部
・シクロヘキサノン・・・238部
(Example 32)
A surface layer coating solution having the following composition was spray coated onto a laminate comprising a conductive support, an undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer prepared according to the procedure of Example 1, with a thickness of 4.5 μm. The surface layer was formed and dried at 130 ° C. for 30 minutes to prepare an electrophotographic photosensitive member.
[Coating liquid for surface layer]
Bisphenol Z polycarbonate (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals) ... 100 parts Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm)・ 35.7 parts ・ Compound represented by the above general formula (1) (Exemplary Compound No. 17)... 7.1 parts ・ Tetrahydrofuran ... 952 parts ・ Cyclohexanone ... 238 parts

(実施例33)
実施例32で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例32と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・ビスフェノールZポリカーボネート(パンライトTS−2050、帝人化成社製)・・・100部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・111.1部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・11.1部
・テトラヒドロフラン・・・1,779部
・シクロヘキサノン・・・444部
(Example 33)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 32 except that the surface layer coating solution used in Example 32 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
Bisphenol Z polycarbonate (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals) ... 100 parts Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm)・ 111.1 parts ・ Compound represented by the above general formula (1) (Exemplary Compound No. 17) ... 11.1 parts ・ Tetrahydrofuran ... 1,779 parts ・ Cyclohexanone ... 444 parts

(実施例34)
実施例32で用いた表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例32と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・ビスフェノールZポリカーボネート(パンライトTS−2050、帝人化成社製)・・・100部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)・・・171.4部
・一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・14.3部
・テトラヒドロフラン・・・2,438部
・シクロヘキサノン・・・610部
(Example 34)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 32 except that the surface layer coating solution used in Example 32 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
Bisphenol Z polycarbonate (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals) ... 100 parts Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 3 Ω · cm) 171.4 parts Compound represented by general formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 14.3 parts Tetrahydrofuran 2,438 parts Cyclohexanone 610 parts

(実施例35〜37)
実施例32〜34の表面層用塗工液に用いるビスフェノールZポリカーボネートを下記のものに変更した以外は、実施例32〜34と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの
(1)下記構造式(3)のポリオール化合物
<構造式(3)>
(2)イソシアネート化合物(タケネートD140N、三井武田ケミカル社製)
(Examples 35-37)
Electrophotographic photosensitive members were produced in the same manner as in Examples 32-34, except that the bisphenol Z polycarbonate used in the surface layer coating solutions of Examples 32-34 was changed to the following.
-The following two compounds were adjusted so that the OH value / NCO value = 1.0 (1) Polyol compound of the following structural formula (3) <Structural formula (3)>
(2) Isocyanate compound (Takenate D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)

(実施例38)
実施例33の表面層用塗工液に用いるビスフェノールZポリカーボネートを下記のものに変更した以外は、実施例33と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・ポリアリレート樹脂(U−100、ユニチカ社製)
(Example 38)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 33 except that the bisphenol Z polycarbonate used in the surface layer coating solution of Example 33 was changed to the following.
・ Polyarylate resin (U-100, manufactured by Unitika)

(実施例39)
実施例33の表面層用塗工液に用いるビスフェノールZポリカーボネートを下記のものに変更した以外は、実施例33と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・スチレン樹脂(製品名:セプトン2043、クラレ社製)
(Example 39)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 33 except that the bisphenol Z polycarbonate used in the surface layer coating solution of Example 33 was changed to the following.
・ Styrene resin (Product name: Septon 2043, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)

(実施例40)
実施例33の表面層用塗工液に用いるビスフェノールZポリカーボネートを下記のものに変更した以外は、実施例33と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・フェノール樹脂(製品名:PR9480、住友ベークライト社製)
(Example 40)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 33 except that the bisphenol Z polycarbonate used in the surface layer coating solution of Example 33 was changed to the following.
・ Phenolic resin (Product name: PR9480, manufactured by Sumitomo Bakelite)

(実施例41)
実施例33の表面層用塗工液に用いるビスフェノールZポリカーボネートを下記のものに変更した以外は、実施例33と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・下記処方の液を60℃の温度条件で2時間攪拌を行った後、錫有機酸塩(nBu・Sn(OAc))を0.016部添加した後、40℃の温度条件で3時間攪拌を行った化合物。
・メチルトリメトキシシラン・・・10部
・1%酢酸水溶液・・・5部
・n−ブタノール・・・15部
(Example 41)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 33 except that the bisphenol Z polycarbonate used in the surface layer coating solution of Example 33 was changed to the following.
- After 2 hours stirring was carried out at a temperature of the liquid to 60 ° C. the following formulation, it was added 0.016 parts of tin organic acid salt (nBu 2 · Sn (OAc) 2), 3 at a temperature of 40 ° C. Compound stirred for hours.
・ Methyltrimethoxysilane ・ ・ ・ 10 parts ・ 1% acetic acid aqueous solution ・ ・ ・ 5 parts ・ n-butanol ・ ・ ・ 15 parts

(比較例1)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・533部
・シクロヘキサノン・・・133部
(Comparative Example 1)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts ・ Tetrahydrofuran ... 533 parts ・ Cyclohexanone ... 133 parts

(比較例2)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・前記構造式(3)で表される化合物・・・5.3部
・テトラヒドロフラン・・・561部
・シクロヘキサノン・・・140部
(Comparative Example 2)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Compound represented by the above structural formula (3) 5.3 parts ・ Tetrahydrofuran 561 parts ・ Cyclohexanone 140 parts

(比較例3)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・酸化亜鉛微粒子(Nanotek ZnO、平均粒径34nm、シーアイ化成社製、10Ω・cm)・・・5.3部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・0.3部
・テトラヒドロフラン・・・590部
・シクロヘキサノン・・・147部
(Comparative Example 3)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.): 5 parts ・ Zinc oxide fine particles (Nanotek ZnO, average particle size: 34 nm, manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 10 9 Ω · cm): 5.3 parts ・ Surfactant (BYK- P105, manufactured by Big Chemie) ... 0.3 part Tetrahydrofuran ... 590 parts Cyclohexanone ... 147 parts

(比較例4)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・酸化亜鉛微粒子(Nanotek ZnO、平均粒径34nm、シーアイ化成社製、10Ω・cm)・・・100部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・1,600部
・シクロヘキサノン・・・400部
(Comparative Example 4)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Zinc oxide fine particles (Nanotek ZnO, average particle size 34 nm, manufactured by CI Chemical Co., Ltd., 10 9 Ω · cm) 100 parts ・ Surfactant (BYK-P105, (Made by Big Chemie) ... 5 parts-Tetrahydrofuran ... 1,600 parts-Cyclohexanone ... 400 parts

(比較例5)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・酸化亜鉛微粒子(Nanotek ZnO、平均粒径34nm、シーアイ化成社製、10Ω・cm)・・・233.3部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・11.7部
・テトラヒドロフラン・・・3,022部
・シクロヘキサノン・・・756部
(Comparative Example 5)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.): 5 parts ・ Zinc oxide fine particles (Nanotek ZnO, average particle size: 34 nm, manufactured by CI Chemical Co., Ltd., 10 9 Ω · cm): 233.3 parts ・ Surfactant (BYK- P105, manufactured by Big Chemie) ... 11.7 parts-Tetrahydrofuran ... 3,022 parts-Cyclohexanone ... 756 parts

(比較例6)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・酸化亜鉛微粒子(Nanotek ZnO、平均粒径34nm、シーアイ化成社製、10Ω・cm)・・・5.6部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・5.6部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・0.3部
・テトラヒドロフラン・・・622部
・シクロヘキサノン・・・156部
(Comparative Example 6)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Zinc oxide fine particles (Nanotek ZnO, average particle size 34 nm, manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 10 9 Ω · cm) 5.6 parts ・ General formula (1) Compound (Exemplary Compound No. 17) represented by: 5.6 parts Surfactant (BYK-P105, manufactured by Big Chemie): 0.3 part Tetrahydrofuran: 622 parts Cyclohexanone: 156 parts

(比較例7)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・酸化亜鉛微粒子(Nanotek ZnO、平均粒径34nm、シーアイ化成社製、10Ω・cm)・・・111.1部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・11.1部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・5.6部
・テトラヒドロフラン・・・1,778部
・シクロヘキサノン・・・444部
(Comparative Example 7)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts ・ Zinc oxide fine particles (Nanotek ZnO, average particle size 34 nm, manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 10 9 Ω · cm) 111.1 parts ・ General formula (1) Compound (Exemplary Compound No. 17) shown in FIG. 11.1 part. Surfactant (BYK-P105, manufactured by Big Chemie). 5.6 parts. Tetrahydrofuran ... 1,778 parts. Cyclohexanone. ..444 parts

(比較例8)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・酸化亜鉛微粒子(Nanotek ZnO、平均粒径34nm、シーアイ化成社製、10Ω・cm)・・・280部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・20部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・14部
・テトラヒドロフラン・・・3,627部
・シクロヘキサノン・・・907部
(Comparative Example 8)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Zinc oxide fine particles (Nanotek ZnO, average particle size 34 nm, manufactured by C.I. Kasei Co., Ltd., 10 9 Ω · cm) 280 parts ・ Indicated by the above general formula (1) Compound (Exemplary Compound No. 17) 20 parts Surfactant (BYK-P105, manufactured by BYK Chemie) 14 parts Tetrahydrofuran 3,627 parts Cyclohexanone 907 parts

(比較例9〜11)
実施例6〜8の表面層用塗工液に用いる酸化亜鉛微粒子を下記のものに変更した以外は、実施例6〜8と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化亜鉛微粒子(10Ω・cm)
〔表面処理方法〕
メタノール100g中にN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−573、信越シリコーン社製)を2.5g加え、酸化亜鉛微粒子(Nanotek ZnO、平均粒径34nm、シーアイ化成社製)を25g加え、95℃で2時間環流し、その後減圧下で溶剤を除去し、溶剤がなくなった時点で150℃に昇温し、2時間保持することでN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化亜鉛微粒子を得た。
(Comparative Examples 9-11)
Electrophotographic photosensitive members were produced in the same manner as in Examples 6-8, except that the zinc oxide fine particles used in the surface layer coating liquids of Examples 6-8 were changed to the following.
・ Zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (10 9 Ω · cm)
[Surface treatment method]
2.5 g of N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-573, manufactured by Shin-Etsu Silicone) was added to 100 g of methanol, and 25 g of zinc oxide fine particles (Nanotek ZnO, average particle size of 34 nm, manufactured by CI Kasei Co., Ltd.). In addition, the mixture was refluxed at 95 ° C. for 2 hours, and then the solvent was removed under reduced pressure. When the solvent was exhausted, the temperature was raised to 150 ° C. and held for 2 hours. Modified zinc oxide fine particles were obtained.

(比較例12)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化亜鉛微粒子・・・7.1部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・7.1部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・28.6部
・テトラヒドロフラン・・・622部
・シクロヘキサノン・・・156部
(Comparative Example 12)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane 7.1 parts ・ Compound represented by the general formula (1) ( Exemplified compound No. 17)... 7.1 parts ・ Compound represented by the structural formula (3)... 28.6 parts. ・ Tetrahydrofuran ..622 parts.

(比較例13)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化亜鉛微粒子・・・200部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・20部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・80部
・テトラヒドロフラン・・・3,200部
・シクロヘキサノン・・・800部
(Comparative Example 13)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane 200 parts ・ Compound represented by the above general formula (1) (exemplary compound) No. 17) ... 20 parts-Compound represented by the structural formula (3) ... 80 parts-Tetrahydrofuran ... 3,200 parts-Cyclohexanone ... 800 parts

(比較例14〜19)
比較例4〜9の表面層用塗工液に使用した酸化亜鉛微粒子を下記のものに変更した以外は、比較例4〜9と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・酸化チタン微粒子(Nanotek TiO、平均粒径36nm、シーアイ化成社製、10Ω・cm)
(Comparative Examples 14-19)
Electrophotographic photosensitive members were produced in the same manner as in Comparative Examples 4 to 9, except that the zinc oxide fine particles used in the surface layer coating solutions of Comparative Examples 4 to 9 were changed to the following.
・ Titanium oxide fine particles (Nanotek TiO 2 , average particle size 36 nm, manufactured by CI Kasei Co., Ltd., 10 7 Ω · cm)

(比較例20〜22)
比較例4〜6の表面層用塗工液に使用した酸化亜鉛微粒子を下記のものに変更した以外は、比較例4〜6と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・酸化錫微粒子(Nanotek SnO、平均粒径21nm、シーアイ化成社製、10Ω・cm)
(Comparative Examples 20-22)
Electrophotographic photosensitive members were produced in the same manner as in Comparative Examples 4 to 6 except that the zinc oxide fine particles used in the surface layer coating solutions of Comparative Examples 4 to 6 were changed to the following.
Tin oxide fine particles (Nanotek SnO 2 , average particle size 21 nm, manufactured by CI Kasei Co., 10 3 Ω · cm)

(比較例23〜25)
比較例4〜6の表面層用塗工液に使用した酸化亜鉛微粒子を下記のものに変更した以外は、比較例4〜6と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子
(Pazet GK−40、平均粒径32nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)
(Comparative Examples 23-25)
Electrophotographic photosensitive members were produced in the same manner as in Comparative Examples 4 to 6 except that the zinc oxide fine particles used in the surface layer coating solutions of Comparative Examples 4 to 6 were changed to the following.
Ga-doped zinc oxide fine particles (Pazet GK-40, average particle size 32 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., 10 3 Ω · cm)

(比較例26)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・Alドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet CK、平均粒径35nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)・・・5.6部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・5.6部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・0.3部
・テトラヒドロフラン・・・622部
・シクロヘキサノン・・・156部
(Comparative Example 26)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Al-doped zinc oxide fine particles (Pazet CK, average particle size 35 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., Ltd., 10 3 Ω · cm) 5.6 parts ・ General formula (1 ) Compound (Exemplary Compound No. 17) 5.6 parts Surfactant (BYK-P105, manufactured by BYK Chemie) 0.3 parts Tetrahydrofuran 622 parts Cyclohexanone・ 156 parts

(比較例27)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・Alドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet CK、平均粒径35nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)・・・280部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・20部
・界面活性剤(BYK−P105、ビックケミー社製)・・・14部
・テトラヒドロフラン・・・3,627部
・シクロヘキサノン・・・907部
(Comparative Example 27)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) ・ ・ ・ 5 parts ・ Al-doped zinc oxide fine particles (Pazet CK, average particle size 35 nm, Hakusitek Co., 10 3 Ω · cm) 280 parts ・ In the general formula (2) Compound shown (Exemplary Compound No. 17) ... 20 parts Surfactant (BYK-P105, manufactured by BYK Chemie) ... 14 partsTetrahydrofuran ... 3,627 parts Cyclohexanone ... 907 parts

(比較例28〜29)
比較例26〜27の表面層用塗工液に使用した酸化亜鉛微粒子を下記のものに変更した以外は、比較例26〜27と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet GK−40、平均粒径32nm、ハクスイテック社製、10Ω・cm)
(Comparative Examples 28-29)
Electrophotographic photosensitive members were produced in the same manner as in Comparative Examples 26 to 27 except that the zinc oxide fine particles used in the surface layer coating liquids of Comparative Examples 26 to 27 were changed to the following.
Ga-doped zinc oxide fine particles (Pazet GK-40, average particle size 32 nm, manufactured by Hakusui Tech Co., 10 3 Ω · cm)

(比較例30〜31)
比較例26〜27の表面層用塗工液に使用した酸化亜鉛微粒子を下記のものに変更した以外は、比較例26〜27と同様にして、電子写真感光体を作製した。
・N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子
(Comparative Examples 30-31)
Electrophotographic photosensitive members were produced in the same manner as in Comparative Examples 26 to 27 except that the zinc oxide fine particles used in the surface layer coating liquids of Comparative Examples 26 to 27 were changed to the following.
Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane

(比較例32)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・5.3部
・テトラヒドロフラン・・・561部
・シクロヘキサノン・・・140部
(Comparative Example 32)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Compound represented by the above general formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 5.3 parts ・ Tetrahydrofuran 561 parts ・ Cyclohexanone 140 Part

(比較例33)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・11.1部
・テトラヒドロフラン・・・593部
・シクロヘキサノン・・・148部
(Comparative Example 33)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Compound represented by the above general formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 11.1 parts ・ Tetrahydrofuran 593 parts ・ Cyclohexanone 148 Part

(比較例34)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・25部
・テトラヒドロフラン・・・667部
・シクロヘキサノン・・・167部
(Comparative Example 34)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Compound represented by the above general formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 25 parts ・ Tetrahydrofuran 667 parts ・ Cyclohexanone 167 parts

(比較例35)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・5.9部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・11.8部
・テトラヒドロフラン・・・628部
・シクロヘキサノン・・・157部
(Comparative Example 35)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Compound represented by the above general formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 5.9 parts ・ Compound represented by the above structural formula (3) 11.8 parts Tetrahydrofuran ... 628 parts Cyclohexanone 157 parts

(比較例36)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・6.7部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・26.7部
・テトラヒドロフラン・・・711部
・シクロヘキサノン・・・178部
(Comparative Example 36)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Compound represented by the above general formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 6.7 parts ・ Compound represented by the above structural formula (3) -26.7 parts-Tetrahydrofuran ... 711 parts-Cyclohexanone ... 178 parts

(比較例37)
実施例1の表面層用塗工液を下記のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
・電荷輸送性構造を有しない樹脂(トリメチロールプロパントリアクリレート、TMPTA、東京化成社製)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュアI−184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)・・・5部
・前記一般式(1)で示される化合物(例示化合物 No.17)・・・7.7部
・前記構造式(3)で示される化合物・・・46.2部
・テトラヒドロフラン・・・821部
・シクロヘキサノン・・・205部
(Comparative Example 37)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
[Coating liquid for surface layer]
-Resin not having a charge transporting structure (trimethylolpropane triacrylate, TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 100 parts-Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure I-184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts ・ Compound represented by the general formula (1) (Exemplary Compound No. 17) 7.7 parts ・ Compound represented by the structural formula (3) -46.2 parts-Tetrahydrofuran ... 821 parts-Cyclohexanone ... 205 parts

次に、前述の通り作製した実施例1〜41及び比較例1〜37の電子写真感光体について、下記試験を実施した。結果を表1−1及び表1−2に示した。   Next, the following tests were carried out on the electrophotographic photoreceptors of Examples 1-41 and Comparative Examples 1-37 produced as described above. The results are shown in Table 1-1 and Table 1-2.

<表面固有抵抗率測定>
各電界強度における電子写真感光体の表面固有抵抗率の測定を以下のようにして行った。
本発明に記載の電子写真感光体の表面固有抵抗率は、一般に知られる方法で測定してよく、例えば、JIS−C2139:2008(固体電気絶縁材料−体積抵抗率及び表面固有抵抗率の測定方法)などに準拠して測定する方法などが挙げられる。一般に電子写真感光体はシリンダー形状を示すものが多く、前記文献の方法では測定が困難な場合は下記に示す方法で測定してもよい。
<Surface specific resistivity measurement>
The surface resistivity of the electrophotographic photosensitive member at each electric field strength was measured as follows.
The surface specific resistivity of the electrophotographic photosensitive member according to the present invention may be measured by a generally known method. ) And the like. In general, many electrophotographic photoreceptors have a cylinder shape, and when measurement is difficult by the method of the above-mentioned literature, the measurement may be performed by the following method.

<電極形状及び作製方法>
電極形状としては既知長さを有し、既知間隙を有する対抗電極とし、電極長さとして10mmであり、電極間隙としては25μmである。電極長さ、電極間隙は測定に使用する直流電圧源の容量及び電流計の精度に基づいて決定するとよい。電極を構成する金属としては電子写真感光体表面に電極形成可能であれば適宜選択してよく、一般に用いられる金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、プラチナ、クロム、亜鉛、炭素等が挙げられる。対抗電極は互いに同種金属であることが好ましい。電極作製方法としては、電子写真感光体の構成成分が変質しない方法であれば特に限定はされないが、真空蒸着法が電子写真感光体の変質が生じにくく、好ましい。
<Electrode shape and production method>
The electrode shape has a known length, a counter electrode having a known gap, an electrode length of 10 mm, and an electrode gap of 25 μm. The electrode length and electrode gap may be determined based on the capacity of the DC voltage source used for measurement and the accuracy of the ammeter. The metal constituting the electrode may be appropriately selected as long as the electrode can be formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member, and examples thereof include commonly used gold, silver, copper, aluminum, nickel, platinum, chromium, zinc, and carbon. The counter electrodes are preferably made of the same metal. The method for producing the electrode is not particularly limited as long as the constituent components of the electrophotographic photosensitive member do not change in quality, but a vacuum deposition method is preferable because it does not easily change the electrophotographic photosensitive member.

表1−1及び表1−2の結果から、実施例に記載の電子写真感光体は低電界(1×10〜3×10V/cm)において表面固有抵抗率が1×1013Ω/cm以上を示し、低電界においては高抵抗を示すことがわかる。1×10V/cmにおける表面固有抵抗率Rと3×10V/cmにおける表面固有抵抗率Rとの比R/Rについては10以下を示す結果となっており、低電界強度領域での表面固有抵抗率がきわめて安定であることが示された。一方で、比較例1〜2乃至32〜37は無機微粒子を含有しない表面層となっており、低電界〜高電界において表面固有抵抗率が大きく、またその変化が小さくなっていることが分かり、電荷輸送性が低いことが推測される。また、粒子を含有している場合であっても、粒子含有率が少なすぎる場合(比較例3、6、9、12、14、17、20、23、26、28、30)には、表面層の表面固有抵抗率が高く維持されるものの、表面固有抵抗率Rと1.5×10V/cmにおける表面固有抵抗率R15との比R/R15については100以下を示す結果となっており、電界変化による表面層の抵抗率変化が小さく、このような表面層も電荷輸送性に乏しいと推測される。これとは対照的に、粒子含有率が多すぎる場合(比較例5、8、11、16、19、22、25、27、29、31)には、表面層の表面固有抵抗率が非常に小さくなる。加えて表面固有抵抗率Rと1.5×10V/cmにおける表面固有抵抗率R15との比R/R15については5,000以上を示す結果となっており、電界変化による表面層の抵抗率変化が大きいことが分かり、前記の表面層とは対照的にこれら表面層は電荷輸送性が高いものの、表面固有抵抗率が低いことに由来したドット再現性不良が発生すると推測される。
粒子含有率が適性に含有されている場合(比較例4、7、10、13、15、18、21、24)には、実施例の場合と同様に表面層の表面固有抵抗率及び電界強度変化による表面固有抵抗率の変化は理想的な形となっていることが分かる。
From the results of Table 1-1 and Table 1-2, the electrophotographic photosensitive member described in the examples has a surface resistivity of 1 × 10 13 at a low electric field (1 × 10 4 to 3 × 10 4 V / cm 2 ). It shows Ω / cm 2 or more, and shows high resistance in a low electric field. About 1 × 10 4 the ratio of the surface resistivity R 3 in the surface resistivity R 1 and 3 × 10 4 V / cm 2 in V / cm 2 R 1 / R 3 is a result showing 10 below The surface resistivity in the low electric field strength region was shown to be extremely stable. On the other hand, Comparative Examples 1-2 to 32-37 are surface layers that do not contain inorganic fine particles, and the surface resistivity is large and the change is small in a low electric field to a high electric field. It is estimated that the charge transporting property is low. Further, even when the particles are contained, if the particle content is too small (Comparative Examples 3, 6, 9, 12, 14, 17, 20, 23, 26, 28, 30), the surface Although the surface specific resistivity of the layer is kept high, the ratio R 1 / R 15 between the surface specific resistivity R 1 and the surface specific resistivity R 15 at 1.5 × 10 5 V / cm 2 is 100 or less. The results show that the change in resistivity of the surface layer due to the change in electric field is small, and it is estimated that such a surface layer also has poor charge transportability. In contrast, when the particle content is too high (Comparative Examples 5, 8, 11, 16, 19, 22, 25, 27, 29, 31), the surface resistivity of the surface layer is very high. Get smaller. In addition, the ratio R 1 / R 15 between the surface specific resistivity R 1 and the surface specific resistivity R 15 at 1.5 × 10 5 V / cm 2 is 5,000 or more, and the electric field change It can be seen that the change in resistivity of the surface layer due to the surface layer is large, and in contrast to the above surface layer, these surface layers have high charge transport properties, but when dot reproducibility is poor due to low surface resistivity. Guessed.
When the particle content is appropriately contained (Comparative Examples 4, 7, 10, 13, 15, 18, 21, 24), the surface resistivity and electric field strength of the surface layer are the same as in the examples. It can be seen that the change in surface resistivity due to the change is in an ideal form.

<長期使用前後における電子写真感光体特性及び出力画像評価>
株式会社リコー製Imagio MP C5000の感光体ユニットから帯電ユニットを除く部材(クリーニングブレード等)を取り除いた改造感光体ユニットを用いてランニング試験に用いた。実施例、比較例で作製した感光体を取り付けた改造感光体ユニットをImagio MP C5000改造機にセットし、通紙を行わず帯電、現像のみを繰り返し実施できるようにした。帯電条件としては、帯電ローラを用い、直流電圧に交流電圧を重畳させた交番電圧を印加し、交流電圧のピークツーピーク電圧Vppは約1.9[kV]、周波数fは約900[Hz]、直流電圧は−650[V]、電子写真感光体の回転速度は230mm/secに設定した。現像条件としては、655nmのLDを用い、書き込みパターンを100%書き込みパターン(全ベタ)とした。本条件で15万枚のランニング(5%テストパターン/帯電−露光電位差550V/電子写真感光体静電容量110pF/cm)と同等の静電疲労を電子写真感光体に負荷するためには、約3.8時間のランニングによって達成できることが通過電荷量計算から示される。本評価ではランニング15万枚相当の静電疲労試験を上述の改造機を用いて実施し、以下に示す評価機を用いて画像評価を実施した。
画像評価には、画像出力時の初期空転プロセスをなくすように改造したIPSiO MP C5000改造機を用いた。トナーとしてはImagioトナータイプ27を用い、用紙としてはNBSリコー社製MyPaper(A4サイズ)を用いた。スタート時の感光体表面電位は−650Vとし、前記静電疲労前後における機内電位(帯電後電位及び露光部電位)の評価を行った。出力画像としては、ハーフトーン出力を3枚連続で行い、出力画像のドット再現状態を目視及び顕微鏡で確認した。機内電位の測定結果及び、画像評価結果を表2−1及び表2−2に示す。
<Electrical photoconductor characteristics and output image evaluation before and after long-term use>
It was used for a running test using a modified photoconductor unit in which a member (cleaning blade, etc.) excluding the charging unit was removed from a photoconductor unit of Imagio MP C5000 manufactured by Ricoh Co., Ltd. The modified photoreceptor unit to which the photoreceptors produced in the examples and comparative examples were attached was set in an Imagio MP C5000 modified machine so that only charging and development could be repeated without passing paper. As charging conditions, a charging roller is used, an alternating voltage obtained by superimposing an AC voltage on a DC voltage is applied, a peak-to-peak voltage Vpp of the AC voltage is about 1.9 [kV], and a frequency f is about 900 [Hz]. The DC voltage was set to -650 [V], and the rotational speed of the electrophotographic photosensitive member was set to 230 mm / sec. As development conditions, a 655 nm LD was used, and the writing pattern was a 100% writing pattern (all solid). In order to load the electrophotographic photoreceptor with an electrostatic fatigue equivalent to 150,000 sheets running (5% test pattern / charge-exposure potential difference 550 V / electrophotographic photoreceptor capacitance 110 pF / cm 2 ) under these conditions, Passage charge calculations show that it can be achieved by running for about 3.8 hours. In this evaluation, an electrostatic fatigue test corresponding to 150,000 sheets of running was performed using the above-described modified machine, and image evaluation was performed using the following evaluation machine.
For the image evaluation, a modified IPSiO MP C5000 was used so as to eliminate the initial idling process during image output. Imagio toner type 27 was used as the toner, and MyPaper (A4 size) manufactured by NBS Ricoh was used as the paper. The photoreceptor surface potential at the start was −650 V, and the in-machine potential (post-charge potential and exposed portion potential) before and after the electrostatic fatigue was evaluated. As an output image, three halftone outputs were performed continuously, and the dot reproduction state of the output image was confirmed visually and with a microscope. The measurement results of the in-machine potential and the image evaluation results are shown in Table 2-1 and Table 2-2.

※ランニング中に異音が発生したためランニングを中止した。 * Running was stopped due to abnormal noise during running.

比較例1〜2乃至比較例32〜36についてはランニング中に異音が発生したためランニングを中止した。原因を調べた結果、明部電位の上昇が大きく、ランニング途中でトナーの供給量が低下したために、現像ユニット部又はクリーニング部において異音が発生したものと考えられる。
その他の結果から、実施例1〜41についてはランニング前後での暗部電位・明部電位の変化は極めて小さく、良好な電子写真感光体となっていることがわかる。その中でもアルミドープの酸化亜鉛、ガリウムドープの酸化亜鉛を用いた場合には明部電位の安定性が高くなっており、特にガリウムドープの酸化亜鉛を用いた場合は非常に高い安定性を示し、暗部電位、明部電位とも変動が極めて少ないことがわかった。これは酸化亜鉛自身はその粒子バルク、表面に酸素欠損を多く含むために大気中で酸化により抵抗値が変動しやすいのに対して、酸素欠損を補填する形で13族元素をドープすることにより、大気中での安定性が高くなるためと考えられ、加えてガリウム元素自身が大気中で参加されにくく、非常に安定な特性を示すことに由来するものと考えられる。加えて、いずれの実施例においても前記一般式(1)で表される化合物を含有しているため、電子写真作像プロセスにおける帯電プロセスでの酸性ガスに対する耐性が高く、長期に亘って使用した場合でも良好な画像品質が得られていることが分かる。これに対して、粒子含有率が小さく、表面固有抵抗率及び表面固有抵抗率の電界強度依存性が小さい表面層を有する比較例3、6、9、12、14、17、20、23、26、28、30については明部電位が初期から高く、また、明部電位の上昇も比較的大きくなっている。これは高電界強度における表面固有抵抗率が比較的高いため、電荷輸送性が十分でなく、使用するうちに、電荷輸送性が大きく低下してしまったためと思われる。特に高電界においても1×1014Ω/cmを上回る比較例26、28、30については明部電位が非常に大きく、画像濃度の低下が顕著に現れる結果であるとともに、ランニング前後での暗部電位、明部電位が大きく、十分な安定性が得られなかった。第13族元素を含有しない酸化亜鉛微粒子ならびにその他酸化物金属微粒子を用いた比較例3〜22及び比較例26〜27については、表1の結果からは表面層の表面固有抵抗率は良好であったが、ランニング前後での暗部電位及び明部電位の変動が実施例と比較して非常に大きくなる傾向を示す。またランニング後の出力画像の濃度低下も生じているが、これはランニング後に明部電位が上昇したことによって生じたものと思われる。また、粒子含有量が大きい表面層を有する比較例5、8、11、16、19、22、25、27、29、31については、暗部電位、明部電位とその変動量はそれほど大きくはないものの、いずれの感光体についてもドット再現性不良が見られた。これは低電界での表面固有抵抗率が1×1013Ω/cm以下と小さく、表面固有抵抗率Rと1.5×10V/cmにおける表面固有抵抗率R15との比R/R15については5,000以上を示すため、潜像が崩れやすいことに由来した現象と考えることができる。これとは対照的に、表面固有抵抗率及びその電界強度変化が適性となっていると考えられる比較例4、7、10、13、15、18、21、24のうち、比較例4、15、21、24については画像濃度低下又は画像ボケ現象が生じる結果となった。これは粒子として大気中で不安定な材料を含有する表面層を使用しているため、帯電プロセスにおいて発生する酸性ガスによって表面抵抗が低下したため生じる現象であると考えられる。また、比較例7、10、13、18については前記一般式(1)で表される化合物を含有しているため、前記酸性ガスに対して耐性が高くなったために画像ボケ発生が抑制されたものと考えられるが、表面層に使用している無機微粒子が大気酸素中で不安定であるために、酸性ガスに対する耐性が不十分であることを示していると考えられる。
以上の結果から、本発明の電子写真感光体は優れた電荷輸送性及び潜像保持性を有し、長期に亘るランニングを実施した場合であっても極めて高い電荷輸送性及び潜像保持性を示し、長期に亘って画像品質に関わる欠陥の少ない電子写真感光体であることが判明した。
About Comparative Examples 1-2 thru | or Comparative Examples 32-36, since abnormal noise generate | occur | produced during running, running was stopped. As a result of investigating the cause, it is considered that abnormal noise was generated in the developing unit or the cleaning unit because the increase in the bright portion potential was large and the toner supply amount decreased during the running.
From the other results, it can be seen that in Examples 1 to 41, the changes in the dark part potential and the bright part potential before and after running are extremely small, and the electrophotographic photosensitive member is satisfactory. Among them, when using aluminum-doped zinc oxide and gallium-doped zinc oxide, the stability of the bright part potential is high, and particularly when using gallium-doped zinc oxide, it shows very high stability, It was found that there was very little fluctuation in both the dark part potential and the light part potential. This is because zinc oxide itself contains a large amount of oxygen vacancies in its particle bulk and surface, and its resistance value is likely to fluctuate due to oxidation in the atmosphere, but by doping a group 13 element to compensate for the oxygen vacancies. It is thought that this is because the stability in the atmosphere is increased, and in addition, the gallium element itself is less likely to participate in the atmosphere, and is considered to be derived from exhibiting very stable characteristics. In addition, since each of the examples contains the compound represented by the general formula (1), it has a high resistance to acid gas in the charging process in the electrophotographic imaging process and has been used for a long time. Even in this case, it can be seen that good image quality is obtained. On the other hand, Comparative Examples 3, 6, 9, 12, 14, 17, 20, 23, 26 having a surface layer having a small particle content and a small surface specific resistance and a small electric field strength dependency of the surface specific resistivity. 28, 30, the bright part potential is high from the beginning, and the rise of the bright part potential is relatively large. This is probably because the surface transport resistivity is relatively high at a high electric field strength, so that the charge transportability is not sufficient, and the charge transportability is greatly reduced during use. In particular, in Comparative Examples 26, 28, and 30 exceeding 1 × 10 14 Ω / cm 2 even in a high electric field, the bright part potential is very large, and the image density is significantly reduced. The potential and the bright part potential were large, and sufficient stability could not be obtained. As for Comparative Examples 3 to 22 and Comparative Examples 26 to 27 using zinc oxide fine particles containing no Group 13 element and other oxide metal fine particles, the surface resistivity of the surface layer was good from the results of Table 1. However, the fluctuation of the dark part potential and the bright part potential before and after running tends to be very large as compared with the example. Further, the density of the output image after running is also reduced, but this is considered to be caused by the increase of the bright part potential after running. Further, in Comparative Examples 5, 8, 11, 16, 19, 22, 25, 27, 29, and 31 having a surface layer having a large particle content, the dark portion potential, the bright portion potential, and the variation amount thereof are not so large. However, dot reproducibility was poor for any of the photoreceptors. This is because the surface resistivity at a low electric field is as small as 1 × 10 13 Ω / cm or less, and the ratio R between the surface resistivity R 1 and the surface resistivity R 15 at 1.5 × 10 5 V / cm 2 . Since 1 / R 15 is 5,000 or more, it can be considered as a phenomenon derived from the fact that the latent image is easily broken. In contrast, among Comparative Examples 4, 7, 10, 13, 15, 18, 21, and 24 that are considered appropriate for the surface resistivity and the change in electric field strength, Comparative Examples 4 and 15 21 and 24, image density reduction or image blurring occurred. This is considered to be a phenomenon that occurs because the surface resistance is reduced by the acidic gas generated in the charging process because the surface layer containing an unstable material in the atmosphere is used as particles. Further, since Comparative Examples 7, 10, 13, and 18 contain the compound represented by the general formula (1), generation of image blur was suppressed because resistance to the acidic gas was increased. Although it is considered that the inorganic fine particles used in the surface layer are unstable in atmospheric oxygen, it is considered that the resistance to acidic gas is insufficient.
From the above results, the electrophotographic photosensitive member of the present invention has excellent charge transportability and latent image retention, and has extremely high charge transportability and latent image retention even when running for a long time. As a result, it was found that the electrophotographic photosensitive member has few defects relating to image quality over a long period of time.

(製造例1:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1の製造)
メタノール100g中に、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−573、信越化学工業株式会社製)2.5gと、Gaドープ酸化亜鉛微粒子(Pazet GK−40、一次粒子平均粒径32nm、ハクスイテック株式会社製)25gを加えた。それを95℃で2時間環流し、その後減圧下で溶剤を除去し、溶剤がなくなった時点で150℃に昇温し、2時間保持することでN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 1: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)
In 100 g of methanol, 2.5 g of N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-573, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and Ga-doped zinc oxide fine particles (Pazet GK-40, average primary particle diameter of 32 nm) , Hakusuitec Co., Ltd.) was added. The mixture was refluxed at 95 ° C. for 2 hours, and then the solvent was removed under reduced pressure. When the solvent was exhausted, the temperature was raised to 150 ° C. and held for 2 hours, whereby N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was used. Modified Ga-doped zinc oxide fine particles (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) were obtained.

<体積抵抗率の測定>
製造されたN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子の体積抵抗率は、MCP−PD51型とロレスタGPとの組み合わせ、又はMCP−PD51型とハイレスタUPとの組み合わせ(いずれも株式会社三菱化学アナリテック製)を用いて、JIS−K6911に基づき測定した。シリンダー空隙率が50%の状態における粉体抵抗率の値を、3回の測定結果より内挿することで算出し、この値を前記N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子の体積抵抗率とした。近似は指数関数近似を用いる。前記空隙率は以下の算出式にて求めた。
シリンダー空隙率(%)=(1−測定した微粒子の重量÷微粒子の密度÷加圧時の微粒子の体積)×100
<Measurement of volume resistivity>
The volume resistivity of the Ga-doped zinc oxide fine particles modified with the produced N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane is a combination of MCP-PD51 type and Loresta GP, or MCP-PD51 type and Hiresta UP. It measured based on JIS-K6911 using the combination (all are Mitsubishi Chemical Analytech make). The powder resistivity value in a state where the cylinder porosity is 50% was calculated by interpolating from the measurement results of three times, and this value was modified with the N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane. The volume resistivity of the Ga-doped zinc oxide fine particles was used. The approximation uses exponential function approximation. The porosity was determined by the following calculation formula.
Cylinder porosity (%) = (1−measured fine particle weight ÷ fine particle density ÷ particulate volume during pressurization) × 100

(製造例2:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化亜鉛微粒子の製造)
Gaドープ酸化亜鉛微粒子を酸化亜鉛微粒子(Nanotek(登録商標) ZnO、一次粒子平均粒径28nm、シーアイ化成株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率3.0×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 2: Production of fine zinc oxide particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)
N-phenyl-3-like in the same manner as in Production Example 1, except that the Ga-doped zinc oxide fine particles were changed to zinc oxide fine particles (Nanotek (registered trademark) ZnO, primary particle average particle size 28 nm, manufactured by CI Kasei Co., Ltd.). Zinc oxide fine particles (volume resistivity: 3.0 × 10 4 Ω · cm) modified with aminopropyltrimethoxysilane were obtained.

(製造例3:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化チタン微粒子1の製造)
Gaドープ酸化亜鉛微粒子を酸化チタン微粒子(ET−300、一次粒子平均粒径40nm、石原産業株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化チタン微粒子(体積抵抗率5.0×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 3: Production of titanium oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)
N-phenyl-3-aminopropyltrimethyl trioxide was changed in the same manner as in Production Example 1 except that the Ga-doped zinc oxide fine particles were changed to titanium oxide fine particles (ET-300, primary particle average particle size 40 nm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.). Titanium oxide fine particles (volume resistivity 5.0 × 10 1 Ω · cm) modified with methoxysilane were obtained.

(製造例4:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化スズ微粒子の製造)
Gaドープ酸化亜鉛微粒子を酸化スズ微粒子(S−2000、一次粒子平均粒径30nm、三菱マテリアル株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化スズ微粒子(体積抵抗率2.0×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 4: Production of tin oxide fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)
N-phenyl-3-aminopropyltrimethyl trioxide was the same as Production Example 1 except that the Ga-doped zinc oxide fine particles were changed to tin oxide fine particles (S-2000, primary particle average particle size 30 nm, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation). Tin oxide fine particles (volume resistivity 2.0 × 10 2 Ω · cm) modified with methoxysilane were obtained.

(製造例5:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化スズ微粒子の製造)
Gaドープ酸化亜鉛微粒子を酸化スズ微粒子(S−1、一次粒子平均粒径43nm、三菱マテリアル株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化スズ微粒子(体積抵抗率7.0×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 5: Production of fine tin oxide particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)
N-phenyl-3-aminopropyltrimethyl trioxide is the same as Production Example 1 except that the Ga-doped zinc oxide fine particles are changed to tin oxide fine particles (S-1, primary particle average particle size 43 nm, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation). Tin oxide fine particles (volume resistivity: 7.0 × 10 7 Ω · cm) modified with methoxysilane were obtained.

(製造例6:N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子の製造)
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランをN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−603、信越化学工業株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率7.2×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 6: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles modified with N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane)
Production Example 1 except that N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was changed to N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Similarly, Ga-doped zinc oxide fine particles (volume resistivity 7.2 × 10 1 Ω · cm) modified with N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane were obtained.

(製造例7:3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子の製造)
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランを3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−903、信越化学工業株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率8.4×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 7: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles modified with 3-aminopropyltrimethoxysilane)
3-aminopropyltrimethoxysilane was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was changed to 3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-903, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Ga-doped zinc oxide fine particles (volume resistivity 8.4 × 10 1 Ω · cm) modified with methoxysilane were obtained.

(製造例8:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子の製造)
Gaドープ酸化亜鉛微粒子をシリカ微粒子(R972CF、一次粒子平均粒径20nm、日本アエロジル株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子(体積抵抗率4.0×1012Ω・cm)を得た。
(Production Example 8: Production of silica fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)
N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was used in the same manner as in Production Example 1 except that the Ga-doped zinc oxide fine particles were changed to silica fine particles (R972CF, primary particle average particle size 20 nm, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). Modified silica fine particles (volume resistivity 4.0 × 10 12 Ω · cm) were obtained.

(製造例9:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子の製造)
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランを3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−503、信越化学工業株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率8.0×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 9: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles modified with 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane)
In the same manner as in Production Example 1, except that N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was changed to 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-methacryloxy Ga-doped zinc oxide fine particles (volume resistivity 8.0 × 10 1 Ω · cm) modified with propyltrimethoxysilane were obtained.

(製造例10:4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子の製造)
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランを4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンに変更した以外は、製造例1と同様にして、4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率5.0×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 10: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles modified with 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine)
4- [2- (Triethoxysilyl) was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was changed to 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine. ) Ethyl] triphenylamine modified Ga-doped zinc oxide fine particles (volume resistivity 5.0 × 10 1 Ω · cm) were obtained.

(製造例11:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子の製造)
Gaドープ酸化亜鉛微粒子をシリカ微粒子(Sciqas 0.05μm、一次粒子平均粒径50nm、堺化学工業株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子(体積抵抗率3.0×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 11: Production of silica fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)
N-phenyl-3-aminopropyl was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the Ga-doped zinc oxide fine particles were changed to silica fine particles (Sciquas 0.05 μm, primary particle average particle size 50 nm, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.). Silica fine particles (volume resistivity 3.0 × 10 9 Ω · cm) modified with trimethoxysilane were obtained.

(製造例12:化合物A−1で修飾された酸化スズ微粒子の製造)
Gaドープ酸化亜鉛微粒子を酸化スズ微粒子(S−2000、一次粒子平均粒径 30nm、三菱マテリアル株式会社製)に、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランを、下記の構造式(1)で表される化合物A−1に変更した以外は、製造例1と同様にして、化合物A−1で修飾された酸化スズ微粒子(体積抵抗率2.0×10Ω・cm)を得た。
ただし、前記構造式(1)において、Rs1は、−Si(OCHで表される官能基である。
(Production Example 12: Production of tin oxide fine particles modified with compound A-1)
Ga-doped zinc oxide fine particles are changed to tin oxide fine particles (S-2000, primary particle average particle size 30 nm, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane is represented by the following structural formula (1). Tin oxide fine particles (volume resistivity 2.0 × 10 2 Ω · cm) modified with compound A-1 were obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the compound A-1 was changed.
However, in the structural formula (1), Rs1 is a functional group represented by —Si (OCH 3 ) 3 .

(製造例13:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化チタン微粒子2の製造)
Gaドープ酸化亜鉛微粒子を酸化チタン微粒子(PT−401M、一次粒子平均粒径 70nm、石原産業株式会社製)に変更した以外は、製造例1と同様にして、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾された酸化チタン微粒子(体積抵抗率7.4×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 13: Production of titanium oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)
N-Phenyl-3-aminopropyltrimethyl was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the Ga-doped zinc oxide fine particles were changed to titanium oxide fine particles (PT-401M, primary particle average particle size 70 nm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.). Titanium oxide fine particles (volume resistivity 7.4 × 10 6 Ω · cm) modified with methoxysilane were obtained.

(製造例14:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2の製造)
メタノール100g中に、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−573、信越化学工業株式会社製)2.5gと、Gaドープ酸化亜鉛微粒子(無機微粒子A、一次粒子平均粒径31nm)25gを加えた。それを95℃で2時間環流し、その後減圧下で溶剤を除去し、溶剤がなくなった時点で150℃に昇温し、2時間保持することでN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 14: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)
In 100 g of methanol, 2.5 g of N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-573, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and Ga-doped zinc oxide fine particles (inorganic fine particles A, primary particle average particle size 31 nm) 25 g was added. The mixture was refluxed at 95 ° C. for 2 hours, and then the solvent was removed under reduced pressure. When the solvent was exhausted, the temperature was raised to 150 ° C. and held for 2 hours, whereby N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was used. Modified Ga-doped zinc oxide fine particles 2 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) were obtained.

<<無機微粒子A(第13族元素をドープした酸化亜鉛)の作製方法>>
酸化亜鉛100gを、35質量%塩酸250gと純水350gからなる塩酸水溶液中へ添加し、酸化亜鉛を溶解させることで、塩化亜鉛水溶液を作製した。次に、作製した塩化亜鉛水溶液中に硝酸ガリウム八水和物14.7gを添加した。これとは別に、重炭酸アンモニウム(特級試薬)230gを精製水1500gに溶解して、重炭酸アンモニウム水溶液を別途調製した。前記硝酸ガリウムを溶解させた塩化亜鉛水溶液を、重炭酸アンモニウム水溶液にゆっくり添加し、沈殿物を生成させた。次いで、メタケイ酸ナトリウム9水和物23.5gを含む水溶液150mLと10質量%硫酸を、pHを7〜9の範囲になるように流量を調整しながら添加し、90分間かけて同時に添加した。その後、沈殿物を充分洗浄した後、液相より分別し、130℃で5時間乾燥した。最後に、乾燥粉をメノウ乳鉢で解砕して、焼成前駆体とし、本前駆体を、アルミナ製ボートへ入れ、管状炉を用いて、窒素ガス0.2リットル/分間、水素ガス0.1リットル/分間の混合気体を流通しながら200℃/時間で700℃まで昇温した。そのまま2時間保持してから室温まで放冷することによって本発明に適した平均粒径31nmの無機微粒子Aを得た。
<< Preparation Method of Inorganic Fine Particle A (Zinc Oxide Doped with Group 13 Element) >>
A zinc chloride aqueous solution was prepared by adding 100 g of zinc oxide to a hydrochloric acid aqueous solution consisting of 250 g of 35 mass% hydrochloric acid and 350 g of pure water, and dissolving the zinc oxide. Next, 14.7 g of gallium nitrate octahydrate was added to the prepared aqueous zinc chloride solution. Separately, 230 g of ammonium bicarbonate (special grade reagent) was dissolved in 1500 g of purified water to prepare an aqueous ammonium bicarbonate solution separately. The zinc chloride aqueous solution in which the gallium nitrate was dissolved was slowly added to the ammonium bicarbonate aqueous solution to form a precipitate. Next, 150 mL of an aqueous solution containing 23.5 g of sodium metasilicate nonahydrate and 10% by mass sulfuric acid were added while adjusting the flow rate so that the pH was in the range of 7 to 9, and simultaneously added over 90 minutes. Thereafter, the precipitate was sufficiently washed, separated from the liquid phase, and dried at 130 ° C. for 5 hours. Finally, the dried powder is crushed in an agate mortar to form a calcined precursor, and this precursor is put into an alumina boat, and nitrogen gas is 0.2 liters / minute, hydrogen gas is 0.1 using a tubular furnace. The temperature was raised to 700 ° C. at 200 ° C./hour while flowing a mixed gas of liter / minute. The inorganic fine particles A having an average particle diameter of 31 nm suitable for the present invention were obtained by maintaining the state as it was for 2 hours and then allowing to cool to room temperature.

(製造例15:N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2の製造)
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランをN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−603、信越化学工業株式会社製)に変更した以外は、製造例14と同様にして、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 15: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane)
Except for changing N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane to N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Production Example 14 and Similarly, Ga-doped zinc oxide fine particles 2 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) modified with N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane were obtained.

(製造例16:3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2の製造)
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランを3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−903、信越化学工業株式会社製)に変更した以外は、製造例14と同様にして、3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率3.8×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 16: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with 3-aminopropyltrimethoxysilane)
3-aminopropyltrimethoxysilane was prepared in the same manner as in Production Example 14 except that N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was changed to 3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-903, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Ga-doped zinc oxide fine particles 2 (volume resistivity 3.8 × 10 4 Ω · cm) modified with methoxysilane were obtained.

(製造例17:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子の製造)
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランを3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−503、信越化学工業株式会社製)に変更した以外は、製造例14と同様にして、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率6.9×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 17: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles modified with 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane)
3-Methacryloxy in the same manner as in Production Example 14 except that N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was changed to 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Ga-doped zinc oxide fine particles (volume resistivity 6.9 × 10 4 Ω · cm) modified with propyltrimethoxysilane were obtained.

(製造例18:4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子の製造)
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランを4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンに変更した以外は、製造例14と同様にして、4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率1.3×10Ω・cm)を得た。
(Production Example 18: Production of Ga-doped zinc oxide fine particles modified with 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine)
4- [2- (Triethoxysilyl) was prepared in the same manner as in Production Example 14 except that N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was changed to 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine. ) Ethyl] Triphenylamine modified Ga-doped zinc oxide fine particles (volume resistivity 1.3 × 10 4 Ω · cm) were obtained.

(実施例A1)
直径40mmのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、平均厚み3.5μmの下引き層、平均厚み0.2μmの電荷発生層、及び平均厚み20μmの電荷輸送層を形成した。
(Example A1)
On an aluminum cylinder having a diameter of 40 mm, an undercoat layer coating solution, a charge generation layer coating solution, and a charge transport layer coating solution having the following composition were sequentially applied and dried to obtain an average thickness of 3.5 μm. An undercoat layer, a charge generation layer having an average thickness of 0.2 μm, and a charge transport layer having an average thickness of 20 μm were formed.

〔下引き層用塗工液〕
・アルキッド樹脂・・・12部
(ベッコゾール1307−60−EL、DIC株式会社製)
・メラミン樹脂・・・8部
(スーパーベッカミン G−821−60、DIC株式会社製)
・酸化チタン・・・80部
(CR−EL、石原産業株式会社製)
・メチルエチルケトン・・・250部
[Coating liquid for undercoat layer]
・ Alkyd resin: 12 parts (Beccosol 1307-60-EL, manufactured by DIC Corporation)
Melamine resin: 8 parts (Super Becamine G-821-60, manufactured by DIC Corporation)
・ Titanium oxide: 80 parts (CR-EL, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
・ Methyl ethyl ketone: 250 parts

〔電荷発生層用塗工液〕
・下記構造式(2)のビスアゾ顔料・・・2.5部
・ポリビニルブチラール(XYHL、UCC社製)・・・0.5部
・シクロヘキサノン・・・200部
・メチルエチルケトン・・・80部
[Coating liquid for charge generation layer]
-Bisazo pigment of the following structural formula (2): 2.5 parts-Polyvinyl butyral (XYHL, manufactured by UCC): 0.5 part-Cyclohexanone: 200 parts-Methyl ethyl ketone: 80 parts

〔電荷輸送層用塗工液〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・10部
(パンライトTS−2050、帝人化成株式会社製)
・下記構造式(3)の電荷輸送性化合物・・・7部
・テトラヒドロフラン・・・100部
・1質量%シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液・・・1部
(KF50−100CS、信越化学工業株式会社製)
[Coating liquid for charge transport layer]
-Bisphenol Z polycarbonate: 10 parts (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Ltd.)
・ Charge transporting compound of the following structural formula (3): 7 parts ・ Tetrahydrofuran: 100 parts ・ Tetrahydrofuran solution of 1 mass% silicone oil: 1 part (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

〔表面層の塗工プロセス〕
下記組成の表面層用塗工液を前記導電性支持体、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層をこの順で有する積層体上に下記表面層用塗工液を用いてスプレー塗工法にて平均厚み4.5μmの表面層を成膜した。
〔表面層用塗工液1〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184,チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
[Coating process of surface layer]
Spray coating method using the following surface layer coating solution on a laminate having the conductive layer, the undercoat layer, the charge generation layer, and the charge transport layer in this order, the surface layer coating solution having the following composition A surface layer having an average thickness of 4.5 μm was formed.
[Coating liquid for surface layer 1]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. 2- 1) ・ ・ ・ 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

〔紫外線照射及び乾燥プロセス〕
前記表面層を成膜した積層体を回転させながら、メタルハライドランプを用いて、照度900mW/cm、照射時間120秒間の条件で光照射を行うことで表面層を架橋させた後に、130℃、30分間の条件で乾燥させて電子写真感光体を得た。
[Ultraviolet irradiation and drying process]
While rotating the laminate on which the surface layer was formed, using a metal halide lamp, the surface layer was crosslinked by irradiating light under the conditions of an illuminance of 900 mW / cm 2 and an irradiation time of 120 seconds. The electrophotographic photosensitive member was obtained by drying for 30 minutes.

(実施例A2)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液2に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液2〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA、東京化成工業株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・33.3部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,245部
(Example A2)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 2.
[Coating liquid for surface layer 2]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 33.3 parts Photopolymerization Initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)... 5 parts 2-1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,245 parts

(実施例A3)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液3に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液3〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・150部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,295部
(Example A3)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 3.
[Coating liquid 3 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 150 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. 2- 1) ... 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ... 2,295 parts

(実施例A4)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液4に変更し、実施例A1に記載の導電性支持体、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層をこの順で有する積層体上にスプレー塗工法にて平均厚み4.5μmの表面層を形成し、150℃で30分間の条件で乾燥させて、電子写真感光体を得た。
〔表面層用塗工液4〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.下記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物
(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・100部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example A4)
The surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 4, and the conductive support, undercoat layer, charge generation layer, and charge transport layer described in Example A1 were used. A surface layer having an average thickness of 4.5 μm was formed on the laminated body in this order by spray coating, and dried at 150 ° C. for 30 minutes to obtain an electrophotographic photosensitive member.
[Coating fluid for surface layer 4]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts Polyol compound of the following structural formula (4)
2. Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ The above general formula ( 2) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(実施例A5)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液5に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液5〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・33.3部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,245部
(Example A5)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 5.
[Surface layer coating solution 5]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 33.3 parts Compound represented by formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,245 parts

(実施例A6)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液6に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液6〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・150部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,295部
(Example A6)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 6.
[Surface layer coating solution 6]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 x 10 < 1 > [Omega] .cm) ... 150 parts-General formula ( 2) Compound (Exemplary Compound No. 2-1): 5 parts Methyl ethyl ketone: 2,295 parts

(実施例A7)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液7に変更し、実施例A1に記載の導電性支持体、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層をこの順で有する積層体上にスプレー塗工法にて平均厚み4.5μmの表面層を形成し、150℃で30分間の条件で乾燥させて、電子写真感光体を得た。
〔表面層用塗工液7〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・100部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・4,612部
(Example A7)
The surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 7, and the conductive support, undercoat layer, charge generation layer, and charge transport layer described in Example A1 were used. A surface layer having an average thickness of 4.5 μm was formed on the laminated body in this order by spray coating, and dried at 150 ° C. for 30 minutes to obtain an electrophotographic photosensitive member.
[Surface layer coating solution 7]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ The above general formula ( 2) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 4,612 parts

(実施例A8)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液8に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液8〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・33.3部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・3,113部
(Example A8)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 8.
[Surface layer coating solution 8]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 33.3 parts Compound represented by formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 3,113 parts

(実施例A9)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液9に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液9〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・150部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・5,738部
(Example A9)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 9.
[Coating liquid for surface layer 9]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 x 10 < 1 > [Omega] .cm) ... 150 parts-General formula ( 2) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 5,738 parts

(実施例A10)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液10に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液10〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例6のN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率7.2×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example A10)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 10.
[Coating liquid 10 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga doped zinc oxide fine particles modified with N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 6 (volume resistivity 7.2 × 10 1 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the general formula (2) (exemplary compound) No. 2-1) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(実施例A11)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液11に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液11〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例7の3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率8.4×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example A11)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 11.
[Coating liquid 11 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with 3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 7 (volume resistivity 8.4 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy- Cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

(実施例A12)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液12に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液12〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・ 光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example A12)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 12.
[Coating liquid 12 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. 2- 1) ・ ・ ・ 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

(実施例A13)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液13に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液13〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・33部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,245部
(Example A13)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 13.
[Surface layer coating solution 13]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 33 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. 2- 1) ・ ・ ・ 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,245 parts

(実施例A14)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液14に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液14〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・150部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,295部
(Example A14)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 14.
[Coating liquid for surface layer 14]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 150 parts ・ Photopolymerization initiator (1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)... 5 parts 1) ... 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ... 2,295 parts

(実施例A15)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液15に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液15〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example A15)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 15.
[Surface layer coating solution 15]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 x 10 4 Ω-cm) ... 100 parts-General formula ( 2) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(実施例A16)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液16に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液16〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・33.3部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,245部
(Example A16)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 16.
[Coating liquid 16 for surface layer]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 33.3 parts Compound represented by formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,245 parts

(実施例A17)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液17に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液17〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したも・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・150部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,295部
(Example A17)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 17.
[Coating liquid 17 for surface layer]
The following two compounds were adjusted so that the OH value / NCO value = 1.0. 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 x 10 4 Ω-cm) ... 150 parts-General formula ( 2) Compound (Exemplary Compound No. 2-1): 5 parts Methyl ethyl ketone: 2,295 parts

(実施例A18)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液18に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液18〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・4,612部
(Example A18)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 18.
[Surface layer coating solution 18]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 x 10 4 Ω-cm) ... 100 parts-General formula ( 2) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 4,612 parts

(実施例A19)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液19に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液19〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・33.3部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・3,113部
(Example A19)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 19.
[Coating liquid 19 for surface layer]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 33.3 parts Compound represented by formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 3,113 parts

(実施例A20)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液20に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液20〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・150部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・5,738部
(Example A20)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 20.
[Coating liquid 20 for surface layer]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 x 10 4 Ω-cm) ... 150 parts-General formula ( 2) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 5,738 parts

(実施例A21)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液21に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液21〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例15のN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・ 100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・,845部
(Example A21)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 21.
[Surface layer coating solution 21]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane in Production Example 15 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Compound represented by the above general formula (2) (exemplary) Compound No. 2-1) 5 parts Methyl ethyl ketone 845 parts

(実施例A22)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液22に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液22〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例16の3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率3.8×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example A22)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 22.
[Surface layer coating solution 22]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with 3-aminopropyltrimethoxysilane in Production Example 16 (volume resistivity 3.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy -Cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1)-・ 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

(実施例A23)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液23に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液23〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・下記構造式(A)の電荷輸送材料・・・10部
<構造式A>
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example A23)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 23.
[Surface layer coating solution 23]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The following structural formula ( A) charge transporting material: 10 parts <Structural formula A>
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Compound represented by the above general formula (2) (exemplary) Compound No. 2-1) 5 parts Methyl ethyl ketone 1,845 parts

(実施例A24)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液24に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液24〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・20部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,025部
(Example A24)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 24.
[Surface layer coating solution 24]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The above structural formula ( A) charge transporting material: 20 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ... 5 parts Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 2,025 parts

(実施例A25)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液25に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液25〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・40部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,205部
(Example A25)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 25.
[Coating liquid for surface layer 25]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The above structural formula ( A) charge transport material: 40 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Compound represented by general formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1) 5 parts Methyl ethyl ketone 2,205 parts

(実施例A26)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液26に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液26〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・下記構造式(B)の電荷輸送材料・・・10部
<構造式(B)>
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・4,838部
(Example A26)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 26.
[Coating liquid for surface layer 26]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The following structural formula ( B) Charge transport material: 10 parts <Structural formula (B)>
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Tetrahydrofuran ... 4,838 parts

(実施例A27)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液27に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液27〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・上記構造式(B)の電荷輸送材料・・・20部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・5,062部
(Example A27)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 27.
[Coating liquid for surface layer 27]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The above structural formula ( B) Charge transport material: 20 parts Compound (exemplary compound No. 2-1) represented by general formula (2): 5 parts Tetrahydrofuran: 5,062 parts

(実施例A28)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液28に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液28〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・上記構造式(B)の電荷輸送材料・・・40部
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・5,513部
(Example A28)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 28.
[Coating liquid 28 for surface layer]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The above structural formula ( B) Charge transport material: 40 parts-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. 2-1)-5 parts-Tetrahydrofuran ... 5,513 parts

(実施例A29)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液29に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液29〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example A29)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 29.
[Coating liquid for surface layer 29]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9 × 10 1 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例A30)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液30に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液30〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example A30)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 30.
[Surface layer coating solution 30]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例A31)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液31に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液31〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,120部
・シクロヘキサノン・・・280部
(Example A31)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 31.
[Coating liquid 31 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,120 parts-Cyclohexanone ... 280 parts

(実施例A32)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液32に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液32〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・130部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example A32)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 32.
[Surface layer coating solution 32]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 130 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例A33)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液33に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液33〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example A33)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 33.
[Coating liquid for surface layer 33]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例A34)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液34に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液34〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・5部
・メチルエチルケトン ・・・ 1,120部
・シクロヘキサノン ・・・ 280部
(Example A34)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 34.
[Coating liquid for surface layer 34]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,120 parts-Cyclohexanone ... 280 parts

(実施例A35)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液35に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液35〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・5部
・下記構造式(A)の電荷輸送材料・・・10部
<構造式(A)>
・メチルエチルケトン・・・1,227部
・シクロヘキサノン・・・307部
(Example A35)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 35.
[Coating liquid for surface layer 35]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 5 parts-Charge transport material of the following structural formula (A) ... 10 parts <Structural formula (A)>
・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,227 parts ・ Cyclohexanone ... 307 parts

(実施例A36)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液36に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液36〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・125部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・5部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・20部
・メチルエチルケトン・・・1,333部
・シクロヘキサノン・・・333部
(Example A36)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 36.
[Coating liquid for surface layer 36]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 125 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 5 parts-Charge transport material of the structural formula (A) ... 20 parts-Methyl ethyl ketone ... 1, 333 parts ・ Cyclohexanone ... 333 parts

(実施例A37)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液37に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液37〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・120部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・10部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・10部
・メチルエチルケトン・・・1,280部
・シクロヘキサノン・・・320部
(Example A37)
An electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 37.
[Coating liquid 37 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 120 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 10 parts Charge transport material of the structural formula (A) ... 10 parts Methyl ethyl ketone ... 1, 280 parts ・ Cyclohexanone: 320 parts

(実施例A38)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液38に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液38〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・130部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(2)−1)・・・20部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・10部
・メチルエチルケトン・・・1,387部
・シクロヘキサノン・・・347部
(Example A38)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 38.
[Coating liquid 38 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 130 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (2) -1) ... 20 parts-Charge transport material of the structural formula (A) ... 10 parts-Methyl ethyl ketone ... 1, 387 parts ・ Cyclohexanone: 347 parts

(実施例A39)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液39に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液39〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(3)−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example A39)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 39.
[Surface layer coating liquid 39]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (3) -1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例A40)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液40に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液40〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(3)−1)・・・10部
・メチルエチルケトン・・・1,120部
・シクロヘキサノン・・・280部
(Example A40)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 40.
[Surface layer coating solution 40]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (3) -1) ... 10 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,120 parts-Cyclohexanone ... 280 parts

(実施例A41)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液41に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液41〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(4)−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example A41)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 41.
[Coating liquid 41 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (4) -1) 5 parts Methyl ethyl ketone 1067 parts Cyclohexanone 267 parts

(実施例A42)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液42に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液42〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(4)−1)・・・10部
・メチルエチルケトン・・・1,120部
・シクロヘキサノン・・・280部
(Example A42)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 42.
[Surface Layer Coating Liquid 42]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (4) -1) ... 10 parts Methyl ethyl ketone ... 1,120 partsCyclohexanone ... 280 parts

(実施例A43)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液43に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液43〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(5)−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example A43)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 43.
[Surface layer coating solution 43]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (5) -1) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,067 partsCyclohexanone ... 267 parts

(実施例A44)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液44に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液44〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(2)で示される化合物(例示化合物No.(5)−1)・・・10部
・メチルエチルケトン・・・1,120部
・シクロヘキサノン・・・280部
(Example A44)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 44.
[Coating liquid for surface layer 44]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (2) (Exemplary Compound No. (5) -1) ... 10 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,120 parts-Cyclohexanone ... 280 parts

(比較例A1)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液45に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液45〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・電荷輸送剤(N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン)・・・67部
・製造例8のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子(体積抵抗率4.0×1012Ω・cm)・・・5部
・4フッ化エチレン樹脂粒子・・・10部
(AD911L、平均粒径0.25μm、旭硝子株式会社製)
・フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー・・・0.25部
(重量平均分子量30,000)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.6部
・テトラヒドロフラン・・・1,486部
・トルエン・・・200部
(Comparative Example A1)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 45.
[Surface layer coating solution 45]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Charge transport agent (N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1 ′] biphenyl-4,4′-diamine) 67 parts Silica fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (volume resistivity: 4.0 × 10 12 Ω · cm): 5 parts • Tetrafluoroethylene resin particles: 10 parts (AD911L Average particle size 0.25 μm, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
・ Fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer ... 0.25 part (weight average molecular weight 30,000)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t- Butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.6 parts Tetrahydrofuran ... 1,486 parts Toluene ... 200 parts

(比較例A2)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液46に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液46〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例8のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子(体積抵抗率4.0×1012Ω・cm)・・・5部
・4フッ化エチレン樹脂粒子・・・10部
(AD911L、平均粒径0.25μm、旭硝子株式会社製)
・フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー・・・0.25部
(重量平均分子量30,000)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.6部
・テトラヒドロフラン・・・880部
・トルエン・・・200部
(Comparative Example A2)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 46.
[Coating liquid for surface layer 46]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Silica fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 8 (volume resistivity 4.0 × 10 12 Ω · cm) 5 parts Tetrafluoroethylene resin particles 10 parts (AD911L, average particle size 0.25 μm, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
・ Fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer ... 0.25 part (weight average molecular weight 30,000)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t- Butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.6 parts Tetrahydrofuran ... 880 parts Toluene ... 200 parts

(比較例A3)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液47に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液47〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率2.4×10Ω・cm)・・・100部
(Pazet GK−40、一次粒子平均粒径32nm、ハクスイテック株式会社製)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A3)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 47.
[Surface layer coating solution 47]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (volume resistivity 2.4 × 10 1 Ω · cm)... 100 parts (Pazet GK-40, primary particle average particle size 32 nm, manufactured by Hux Itec Corp.)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例A4)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液48に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液48〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率2.4×10Ω・cm)・・・100部
(Pazet GK−40、一次粒子平均粒径32nm、ハクスイテック株式会社製)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.7部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A4)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 48.
[Coating liquid 48 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (volume resistivity 2.4 × 10 1 Ω · cm)... 100 parts (Pazet GK-40, primary particle average particle size 32 nm, manufactured by Hux Itec Corp.)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t- (Butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.7 parts ・ Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例A5)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液49に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液49〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率2.4×10Ω・cm)・・・100部
(Pazet GK−40、一次粒子平均粒径32nm、ハクスイテック株式会社製)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.7部
・テトラヒドロフラン・・・4,612部
・テトラヒドロフラン・・・4,612部
(Comparative Example A5)
An electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 49.
[Coating liquid for surface layer 49]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (volume resistivity 2.4 × 10 1 Ω · cm)... 100 parts (Pazet GK-40, primary particle average particle size 32 nm, manufactured by Hux Itec Corp.)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t- (Butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.7 parts Tetrahydrofuran ... 4,612 parts Tetrahydrofuran ... 4,612 parts

(比較例A6)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液50に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液50〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例9の3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率8.0×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A6)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 50.
[Surface layer coating solution 50]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga doped zinc oxide fine particles modified with 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane of Production Example 9 (volume resistivity 8.0 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy -Cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例A7)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液51に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液51〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例10の4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率5.0×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A7)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 51.
[Surface layer coating solution 51]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles modified with 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine in Production Example 10 (volume resistivity 5.0 × 10 1 Ω · cm) 100 parts Polymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ··· 5 parts · Methyl ethyl ketone · · · 1,845 parts

(比較例A8)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液52に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液52〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子(無機微粒子A、体積抵抗率3.2×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A8)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 52.
[Surface layer coating solution 52]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga doped zinc oxide fine particles (inorganic fine particles A, volume resistivity 3.2 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例A9)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液53に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液53〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子(無機微粒子A、体積抵抗率3.2×10Ω・cm)・・・ 100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.7部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A9)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 53.
[Surface layer coating solution 53]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga doped zinc oxide fine particles (inorganic fine particles A, volume resistivity 3.2 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.7 parts・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

(比較例A10)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液54に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液54〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例17の3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6.9×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A10)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 54.
[Coating liquid for surface layer 54]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane of Production Example 17 (volume resistivity 6.9 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1- Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例A11)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液55に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液55〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例18の4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率1.3×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A11)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 55.
[Surface layer coating solution 55]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga doped zinc oxide fine particles 2 modified with 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine in Production Example 18 (volume resistivity 1.3 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例A12)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液56に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液56〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例11のN−フェニル−3−アミノプロピルメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子(体積抵抗率3.0×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A12)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 56.
[Coating liquid 56 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Silica fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropylmethoxysilane in Production Example 11 (volume resistivity 3.0 × 10 9 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy- Cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例A13)
実施例A1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液57に変更した以外は、実施例A1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液57〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例12の化合物A−1で修飾された酸化スズ微粒子(体積抵抗率2.0×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example A13)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example A1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example A1 was changed to the following surface layer coating solution 57.
[Coating fluid 57 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Tin oxide fine particles modified with Compound A-1 of Production Example 12 (volume resistivity 2.0 × 10 2 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone , Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

<電子写真感光体の特性>
実施例及び比較例で作製した電子写真感光体について表A1〜表A3に示す。
<Characteristics of electrophotographic photoreceptor>
The electrophotographic photoreceptors produced in the examples and comparative examples are shown in Table A1 to Table A3.

表中に示した表面固有抵抗率の数値において、記号“E”は、その次に続く数値が10を底とした“べき指数”であることを示し、その10を底とした指数関数で表される数値が“E”の前の数値に乗算されることを示す。例えば、「1.0E+14」であれば、「1.0×1014」であることを示す。 In the numerical values of the surface resistivity shown in the table, the symbol “E” indicates that the next numerical value is a “power index” with 10 as the base, and is expressed as an exponential function with 10 as the base. Indicates that the numerical value to be multiplied with the numerical value before "E". For example, “1.0E + 14” indicates “1.0 × 10 14 ”.

表中に示した表面固有抵抗率の数値において、記号“E”は、その次に続く数値が10を底とした“べき指数”であることを示し、その10を底とした指数関数で表される数値が“E”の前の数値に乗算されることを示す。例えば、「1.0E+14」であれば、「1.0×1014」であることを示す。 In the numerical values of the surface resistivity shown in the table, the symbol “E” indicates that the next numerical value is a “power index” with 10 as the base, and is expressed as an exponential function with 10 as the base. Indicates that the numerical value to be multiplied with the numerical value before "E". For example, “1.0E + 14” indicates “1.0 × 10 14 ”.

*Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(GaドープZnO 1)に使用している無機微粒子のSi含有率は0.8%、Gaドープ酸化亜鉛微粒子2(GaドープZnO 2)に使用している無機微粒子のSi含有率は3.2%である。 * The Si content of the inorganic fine particles used in the Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (Ga-doped ZnO 1) is 0.8%, and the inorganic fine particles used in the Ga-doped zinc oxide fine particles 2 (Ga-doped ZnO 2). The Si content is 3.2%.

*酸化防止剤 BHT:2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール
*比較例A1の表面層材料は、4フッ化エチレン樹脂、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー、電荷輸送材料(N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン)を含む。
*比較例B2の表面層材料は、4フッ化エチレン樹脂、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマーを含む。
*比較例A13の表面修飾官能基の構造式(1)は以下の通りである。
ただし、前記構造式(1)において、Rs1は、−Si(OCHで表される官能基である。
*Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(GaドープZnO 1)に使用している無機微粒子のSi含有率は0.8%、Gaドープ酸化亜鉛微粒子2(GaドープZnO 2)に使用している無機微粒子のSi含有率は3.2%である。
* Antioxidant BHT: 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol * The surface layer material of Comparative Example A1 is tetrafluoroethylene resin, fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer, charge transporting material (N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-[1,1 '] biphenyl-4,4'-diamine).
* The surface layer material of Comparative Example B2 includes a tetrafluoroethylene resin and a fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer.
* Structural formula (1) of the surface modification functional group of Comparative Example A13 is as follows.
However, in the structural formula (1), Rs1 is a functional group represented by —Si (OCH 3 ) 3 .
* The Si content of the inorganic fine particles used in the Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (Ga-doped ZnO 1) is 0.8%, and the inorganic fine particles used in the Ga-doped zinc oxide fine particles 2 (Ga-doped ZnO 2). The Si content is 3.2%.

(評価)
実施例及び比較例で作製した電子写真感光体について、下記評価を実施した。
(Evaluation)
The following evaluations were performed on the electrophotographic photoreceptors produced in the examples and comparative examples.

<電気特性(露光部電位)の評価>
imagio Neo270(株式会社リコー製)の現像ユニットを分解して、表面電位計MODEL344(TREK社製)に接続されているプローブを現像ユニットに取り付けた後、実施例及び比較例の各感光体を装着した。23℃、55%RHの環境下で帯電電位が−800Vになるように感光体に印加する電位を調節した後、黒ベタ画像を出力して、通紙試験前の露光部電位を測定した。
次に下記の摩耗耐久性評価を行い、その後に各実施例及び比較例の感光体を用いて、同様の方法により通紙試験後の露光部の電位を測定した。通紙前、通紙後の露光部電位、及び通紙前後における露光部電位の変化を示す。結果を表A4−1及び表A4−2に示す。
実機通紙試験前後における露光部電位の変動が小さいものほど化学的耐久性に優れている。
<Evaluation of electrical characteristics (exposed portion potential)>
After disassembling the development unit of imgio Neo 270 (manufactured by Ricoh Co., Ltd.) and attaching the probe connected to the surface potential meter MODEL 344 (manufactured by TREK) to the developing unit, each of the photoreceptors of the examples and comparative examples is mounted. did. After adjusting the potential applied to the photoconductor so that the charging potential was −800 V in an environment of 23 ° C. and 55% RH, a black solid image was output, and the exposed portion potential before the paper passing test was measured.
Next, the following wear durability was evaluated, and then the potential of the exposed portion after the paper passing test was measured by the same method using the photoreceptors of the examples and comparative examples. The change of the exposure part potential before and after paper passing and the exposure part potential before and after paper passing is shown. The results are shown in Table A4-1 and Table A4-2.
The smaller the variation of the exposed portion potential before and after the actual machine paper passing test, the better the chemical durability.

<摩耗耐久性の評価>
前記摩耗耐久性試験は、画像形成装置として、imagio Neo270(株式会社リコー製)を使用した。
用紙としてはMyPaper(A4サイズ、株式会社NBSリコー製)を用いた。常温常湿(23℃,55%RH)の環境にて短手方向を送り方向として50%ハーフトーン(黒)の3万枚の画像形成を行った。次に、高温高湿(28℃、75%RH)の環境下で同様にして3万枚の画像形成を行った。最後に、低温低湿(10℃、15%RH)の環境下で同様に3万枚の画像形成を行い、合計9万枚の実機通紙試験を行った。実機通紙試験を実施する前後の感光体の膜厚を、渦電流式膜厚計フィッシャースコープMMS(フィッシャー社製)を用いて測定し、摩耗量を求め、下記基準で評価した。結果を表A4−1及び表A4−2に示す。
〔評価基準〕
A:摩耗量が0.2μm以下
B:摩耗量が0.2μmより大きく0.5μm以下
C:摩耗量が0.5μmより大きく1μm以下
D:摩耗量が1μmより大きい
<Evaluation of wear durability>
In the wear durability test, image Neo Neo 270 (manufactured by Ricoh Co., Ltd.) was used as an image forming apparatus.
As the paper, MyPaper (A4 size, manufactured by NBS Ricoh Co., Ltd.) was used. In a normal temperature and normal humidity (23 ° C., 55% RH) environment, 30,000 sheets of 50% halftone (black) images were formed with the short direction as the feeding direction. Next, 30,000 sheets of images were formed in the same manner under an environment of high temperature and high humidity (28 ° C., 75% RH). Finally, 30,000 sheets of images were similarly formed in a low-temperature and low-humidity environment (10 ° C., 15% RH), and a total of 90,000 sheets were tested. The film thickness of the photoconductor before and after the actual machine paper passing test was measured using an eddy current film thickness meter Fischer scope MMS (manufactured by Fischer), and the amount of wear was determined and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table A4-1 and Table A4-2.
〔Evaluation criteria〕
A: Wear amount is 0.2 μm or less B: Wear amount is greater than 0.2 μm and 0.5 μm or less C: Wear amount is greater than 0.5 μm and 1 μm or less D: Wear amount is greater than 1 μm

<画像品質の評価>
imagio Neo270(株式会社リコー製)に、実施例及び比較例の感光体を装着した後、A4サイズの用紙MyPaper(株式会社NBSリコー製)を用いて、上述の実機通紙試験の各環境において3万枚の画像形成を実施した後に、日本画像学会テストチャートNo.3を出力し、下記基準により画質を評価した。結果を表A4−1及び表A4−2に示す。
〔評価基準〕
A:画像品質にほとんど低下がないレベル
B:画像品質は若干低下したが、目視観察では問題ないレベル
C:目視観察でも画像品質の低下がわかるレベル
D:画像品質に重大な問題があるレベル
<Evaluation of image quality>
After attaching the photoconductors of Examples and Comparative Examples to imagio Neo 270 (manufactured by Ricoh Co., Ltd.), using A4 size paper MyPaper (manufactured by NBS Ricoh Co., Ltd.), 3 After forming 10,000 images, the Japanese Society of Imaging Society test chart no. 3 was output, and the image quality was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table A4-1 and Table A4-2.
〔Evaluation criteria〕
A: Level at which image quality is hardly degraded B: Image quality is slightly degraded, but there is no problem with visual observation C: Level at which degradation of image quality can be seen even with visual observation D: Level at which there is a serious problem with image quality

表A4−1及び表A4−2の結果から、実施例A1〜A44の電子写真感光体は、表面層が、電荷輸送性を有さない樹脂と、一級及び二級のいずれかのアミノ基を有する化合物によって修飾された、体積抵抗率が1×10Ω・cm以下の無機微粒子を含有することにより、機械的ハザード及び化学的ハザードに対する耐久性が高く、画像品質を維持できることがわかる。
これに対して、比較例A1の電子写真感光体は、表面層に電荷輸送物質と酸化防止剤を含んでいるため、化学的耐久性は実用に耐えうる水準である。しかし、フィラーとして4フッ化エチレン樹脂粒子、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー、及び二級アミノ基を有する化合物によって修飾された体積抵抗率が1×10Ω・cmより大きい無機微粒子を表面層に添加していても、機械的耐久性が低く、画像品質の維持にも劣ることがわかる。
比較例A2の電子写真感光体は、比較例A1とは異なり、電荷輸送物質が表面層にないため、初期より露光部電位が高く、異常画像が見られた。そのため、摩耗耐久性試験、及び低温低湿、高温高湿の環境での画像品質試験は実施しなかった。
比較例A4、A5、A9の電子写真感光体は、表面層が酸化防止剤を含んでいるために、化学的耐久性は実用に耐えうる水準である。表面層中の無機微粒子の体積抵抗率はいずれも1×10Ω・cm以下であるが、一級及び二級のいずれかのアミノ基を有する化合物によって被覆されていないため、機械的耐久性に乏しく、画像品質の維持にも劣ることがわかる。
比較例A3、A6、A7、A8、A10、A11の電子写真感光体は、表面層が酸化防止剤及び電荷輸送物質を含んでいないため、機械的耐久性は十分である。表面層中の無機微粒子の体積抵抗率はいずれも1×10Ω・cm以下である。しかし、微粒子の表面が修飾されていない(比較例A3)、アミノ基を有さない化合物により修飾されている(比較例A6)、及び三級アミノ基を有する化合物により修飾されている(比較例A7)ため、化学的耐久性に乏しく、画像品質の維持にも劣ることがわかる。
比較例A12の電子写真感光体は、表面層に酸化防止剤及び電荷輸送物質を含んでいないため機械的耐久性は十分である。また、無機微粒子がアミノ基を有する化合物により修飾されているので、通紙前後の露光後電位の変動も小さい。しかし、表面層中の無機微粒子の体積抵抗率は3×10Ω・cmと大きく、23℃,55%RHでは問題なかったものの10℃,20%RH、28℃,75%RH環境では画像品質を維持することができていないことが分かる。
比較例A13の電子写真感光体は、表面層に酸化防止剤及び電荷輸送物質を含んでいないため機械的耐久性は十分である。しかし、無機微粒子が酸化防止剤としての機能を発現する材料で修飾されているものの、その特性は十分ではない。そのために、画像品質の維持が不十分であり、また通紙前後の露光後電位の変動も大きい。
From the results of Table A4-1 and Table A4-2, the electrophotographic photoreceptors of Examples A1 to A44 have a surface layer containing a resin having no charge transporting property and any of primary and secondary amino groups. It can be seen that the inclusion of inorganic fine particles having a volume resistivity of 1 × 10 8 Ω · cm or less, which is modified by a compound having high durability against mechanical and chemical hazards, and image quality can be maintained.
On the other hand, the electrophotographic photosensitive member of Comparative Example A1 contains a charge transport material and an antioxidant in the surface layer, so that the chemical durability is at a level that can withstand practical use. However, inorganic fine particles having a volume resistivity greater than 1 × 10 8 Ω · cm modified with a compound having tetrafluoroethylene resin particles, a fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer, and a secondary amino group as a filler are used as a surface layer. It can be seen that even when added, the mechanical durability is low and the image quality is poorly maintained.
Unlike Comparative Example A1, the electrophotographic photosensitive member of Comparative Example A2 had a higher exposed area potential and an abnormal image because the charge transport material was not present in the surface layer. Therefore, the wear durability test and the image quality test in the environment of low temperature and low humidity and high temperature and high humidity were not performed.
The electrophotographic photoreceptors of Comparative Examples A4, A5, and A9 have chemical durability at a level that can withstand practical use because the surface layer contains an antioxidant. The volume resistivity of the inorganic fine particles in the surface layer is 1 × 10 8 Ω · cm or less, but since it is not coated with a compound having either primary or secondary amino groups, the mechanical durability is improved. It can be seen that the image quality is poor and the image quality is poor.
The electrophotographic photoreceptors of Comparative Examples A3, A6, A7, A8, A10, and A11 have sufficient mechanical durability because the surface layer does not contain an antioxidant and a charge transport material. The volume resistivity of the inorganic fine particles in the surface layer is 1 × 10 8 Ω · cm or less. However, the surface of the fine particles is not modified (Comparative Example A3), modified with a compound having no amino group (Comparative Example A6), and modified with a compound having a tertiary amino group (Comparative Example). A7) Therefore, it can be seen that the chemical durability is poor and the image quality is poorly maintained.
The electrophotographic photoreceptor of Comparative Example A12 has sufficient mechanical durability because the surface layer does not contain an antioxidant and a charge transport material. In addition, since the inorganic fine particles are modified with a compound having an amino group, fluctuations in the post-exposure potential before and after paper passing are small. However, the volume resistivity of the inorganic fine particles in the surface layer is as large as 3 × 10 9 Ω · cm, and there was no problem at 23 ° C. and 55% RH, but there was no image in the environment of 10 ° C., 20% RH, 28 ° C., 75% RH. It turns out that quality cannot be maintained.
The electrophotographic photoreceptor of Comparative Example A13 has sufficient mechanical durability because the surface layer does not contain an antioxidant and a charge transport material. However, although the inorganic fine particles are modified with a material that exhibits a function as an antioxidant, the characteristics are not sufficient. For this reason, the image quality is not sufficiently maintained, and the fluctuation of the post-exposure potential before and after the sheet passing is large.

次に、実施例A1〜A44について、前記摩耗耐久評価を20万枚まで継続して行い、前記電気特性評価を実施した。結果を表A5に示す。   Next, with respect to Examples A1 to A44, the wear durability evaluation was continuously performed up to 200,000 sheets, and the electrical characteristic evaluation was performed. The results are shown in Table A5.

表A5の結果から、実施例A1〜A11の電子写真感光体は20万枚ランニング後の露光部電位の変動量が比較的大きくなるのに対して、実施例A12〜A44の電子写真感光体は20万枚ランニング後の露光部電位の変動量は小さく、9万枚ランニング後の露光部電位と遜色ない程度であり、無機微粒子の体積抵抗率が1×10以上又はSi含有率が2%以上であるGaドープの酸化亜鉛微粒子を用いた場合には非常に高い静電安定性を有することが示された。 From the results of Table A5, the electrophotographic photoreceptors of Examples A1 to A11 have a relatively large amount of fluctuation of the exposed portion potential after running 200,000 sheets, whereas the electrophotographic photoreceptors of Examples A12 to A44 are The amount of fluctuation of the exposed area potential after running 200,000 sheets is small, comparable to the exposed area potential after running 90,000 sheets, and the volume resistivity of the inorganic fine particles is 1 × 10 4 or more, or the Si content is 2%. It was shown that when the Ga-doped zinc oxide fine particles as described above were used, the electrostatic stability was very high.

(実施例B1)
直径40mmのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、平均厚み3.5μmの下引き層、平均厚み0.2μmの電荷発生層、及び平均厚み20μmの電荷輸送層を形成した。
(Example B1)
On an aluminum cylinder having a diameter of 40 mm, an undercoat layer coating solution, a charge generation layer coating solution, and a charge transport layer coating solution having the following composition were sequentially applied and dried to obtain an average thickness of 3.5 μm. An undercoat layer, a charge generation layer having an average thickness of 0.2 μm, and a charge transport layer having an average thickness of 20 μm were formed.

〔下引き層用塗工液〕
・アルキッド樹脂・・・12部
(ベッコゾール1307−60−EL、DIC株式会社製)
・メラミン樹脂・・・8部
(スーパーベッカミン G−821−60、DIC株式会社製)
・酸化チタン・・・80部
(CR−EL、石原産業株式会社製)
・メチルエチルケトン・・・250部
[Coating liquid for undercoat layer]
・ Alkyd resin: 12 parts (Beccosol 1307-60-EL, manufactured by DIC Corporation)
Melamine resin: 8 parts (Super Becamine G-821-60, manufactured by DIC Corporation)
・ Titanium oxide: 80 parts (CR-EL, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
・ Methyl ethyl ketone: 250 parts

〔電荷発生層用塗工液〕
・下記構造式(2)のビスアゾ顔料・・・2.5部
・ポリビニルブチラール(XYHL、UCC社製)・・・0.5部
・シクロヘキサノン・・・200部
・メチルエチルケトン・・・80部
[Coating liquid for charge generation layer]
-Bisazo pigment of the following structural formula (2): 2.5 parts-Polyvinyl butyral (XYHL, manufactured by UCC): 0.5 part-Cyclohexanone: 200 parts-Methyl ethyl ketone: 80 parts

〔電荷輸送層用塗工液〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・10部
(パンライトTS−2050、帝人化成株式会社製)
・下記構造式(3)の電荷輸送性化合物・・・7部
・テトラヒドロフラン・・・100部
・1質量%シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液・・・1部
(KF50−100CS、信越化学工業株式会社製)
[Coating liquid for charge transport layer]
-Bisphenol Z polycarbonate: 10 parts (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Ltd.)
・ Charge transporting compound of the following structural formula (3): 7 parts ・ Tetrahydrofuran: 100 parts ・ Tetrahydrofuran solution of 1 mass% silicone oil: 1 part (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

〔表面層の塗工プロセス〕
下記組成の表面層用塗工液を前記導電性支持体、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層をこの順で有する積層体上に下記表面層用塗工液を用いてスプレー塗工法にて平均厚み4.5μmの表面層を成膜した。
〔表面層用塗工液1〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184,チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
[Coating process of surface layer]
Spray coating method using the following surface layer coating solution on a laminate having the conductive layer, the undercoat layer, the charge generation layer, and the charge transport layer in this order, the surface layer coating solution having the following composition A surface layer having an average thickness of 4.5 μm was formed.
[Coating liquid for surface layer 1]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2- 1) ・ ・ ・ 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

〔紫外線照射及び乾燥プロセス〕
前記表面層を成膜した積層体を回転させながら、メタルハライドランプを用いて、照度900mW/cm、照射時間120秒間の条件で光照射を行うことで表面層を架橋させた後に、130℃、30分間の条件で乾燥させて電子写真感光体を得た。
[Ultraviolet irradiation and drying process]
While rotating the laminate on which the surface layer was formed, using a metal halide lamp, the surface layer was crosslinked by irradiating light under the conditions of an illuminance of 900 mW / cm 2 and an irradiation time of 120 seconds. The electrophotographic photosensitive member was obtained by drying for 30 minutes.

(実施例B2)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液2に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液2〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA、東京化成工業株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・33.3部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,245部
(Example B2)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 2.
[Coating liquid for surface layer 2]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 33.3 parts Photopolymerization Initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the above general formula (3) Compound No. 2-1) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,245 parts

(実施例B3)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液3に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液3〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・150部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,295部
(Example B3)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 3.
[Coating liquid 3 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 150 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2- 1) ... 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ... 2,295 parts

(実施例B4)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液4に変更し、実施例B1に記載の導電性支持体、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層をこの順で有する積層体上にスプレー塗工法にて平均厚み4.5μmの表面層を形成し、150℃で30分間の条件で乾燥させて、電子写真感光体を得た。
〔表面層用塗工液4〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.下記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物
(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・100部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example B4)
The surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 4, and the conductive support, undercoat layer, charge generation layer, and charge transport layer described in Example B1 were used. A surface layer having an average thickness of 4.5 μm was formed on the laminated body in this order by spray coating, and dried at 150 ° C. for 30 minutes to obtain an electrophotographic photosensitive member.
[Coating fluid for surface layer 4]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts Polyol compound of the following structural formula (4)
2. Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ The above general formula ( 3) Compound (Exemplary Compound No. 2-1): 5 parts Methyl ethyl ketone: 1,845 parts

(実施例B5)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液5に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液5〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・33.3部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,245部
(Example B5)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 5.
[Surface layer coating solution 5]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 33.3 parts Compound represented by formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts · Methyl ethyl ketone ... 1,245 parts

(実施例B6)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液6に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液6〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・150部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,295部
(Example B6)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 6.
[Surface layer coating solution 6]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 x 10 < 1 > [Omega] .cm) ... 150 parts-General formula ( 3) Compound (Exemplary Compound No. 2-1): 5 parts Methyl ethyl ketone: 2,295 parts

(実施例B7)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液7に変更し、実施例B1に記載の導電性支持体、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層をこの順で有する積層体上にスプレー塗工法にて平均厚み4.5μmの表面層を形成し、150℃で30分間の条件で乾燥させて、電子写真感光体を得た。
〔表面層用塗工液7〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・100部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・4,612部
(Example B7)
The surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 7, and the conductive support, undercoat layer, charge generation layer, and charge transport layer described in Example B1 were used. A surface layer having an average thickness of 4.5 μm was formed on the laminated body in this order by spray coating, and dried at 150 ° C. for 30 minutes to obtain an electrophotographic photosensitive member.
[Surface layer coating solution 7]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ The above general formula ( 3) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 4,612 parts

(実施例B8)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液8に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液8〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・33.3部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・3,113部
(Example B8)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 8.
[Surface layer coating solution 8]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 33.3 parts Compound represented by formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 3,113 parts

(実施例B9)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液9に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液9〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9.2×10Ω・cm)・・・150部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・5,738部
(Example B9)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 9.
[Coating liquid for surface layer 9]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
Ga doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9.2 × 10 1 Ω · cm) 150 parts 3) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 5,738 parts

(実施例B10)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液10に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液10〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例6のN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率7.2×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example B10)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 10.
[Coating liquid 10 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga doped zinc oxide fine particles modified with N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 6 (volume resistivity 7.2 × 10 1 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the above general formula (3) No. 2-1) ... 5 parts -Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(実施例B11)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液11に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液11〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例7の3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率8.4×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example B11)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 11.
[Coating liquid 11 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles modified with 3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 7 (volume resistivity 8.4 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy- Cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

(実施例B12)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液12に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液12〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example B12)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 12.
[Coating liquid 12 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts 1) ・ ・ ・ 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

(実施例B13)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液13に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液13〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・33部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,245部
(Example B13)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 13.
[Surface layer coating solution 13]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 33 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2- 1) ・ ・ ・ 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,245 parts

(実施例B14)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液14に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液14〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・150部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,295部
(Example B14)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 14.
[Coating liquid for surface layer 14]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 150 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2- 1) ... 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ... 2,295 parts

(実施例B15)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液15に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液15〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example B15)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 15.
[Surface layer coating solution 15]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 x 10 4 Ω-cm) ... 100 parts-General formula ( 3) Compound (Exemplary Compound No. 2-1): 5 parts Methyl ethyl ketone: 1,845 parts

(実施例B16)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液16に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液16〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したもの・・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・33.3部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,245部
(Example B16)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 16.
[Coating liquid 16 for surface layer]
-The following two compounds adjusted to have an OH value / NCO value = 1.0: 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 33.3 parts Compound represented by formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts · Methyl ethyl ketone ... 1,245 parts

(実施例B17)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液17に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液17〕
・下記2つの化合物をOH価/NCO価=1.0となるように調整したも・・100部
1.前記構造式(4)のポリオール化合物
2.イソシアネート化合物(タケネート(登録商標)D140N、三井武田ケミカル株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・150部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,295部
(Example B17)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 17.
[Coating liquid 17 for surface layer]
The following two compounds were adjusted so that the OH value / NCO value = 1.0. 100 parts 1. Polyol compound of the structural formula (4) Isocyanate compound (Takenate (registered trademark) D140N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 x 10 4 Ω-cm) ... 150 parts-General formula ( 3) Compound (Exemplary Compound No. 2-1): 5 parts Methyl ethyl ketone: 2,295 parts

(実施例B18)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液18に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液18〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・4,612部
(Example B18)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 18.
[Surface layer coating solution 18]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 x 10 4 Ω-cm) ... 100 parts-General formula ( 3) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 4,612 parts

(実施例B19)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液19に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液19〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・33.3部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・3,113部
(Example B19)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 19.
[Coating liquid 19 for surface layer]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 33.3 parts Compound represented by formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 3,113 parts

(実施例B20)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液20に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液20〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・150部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・5,738部
(Example B20)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 20.
[Coating liquid 20 for surface layer]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 x 10 4 Ω-cm) ... 150 parts-General formula ( 3) Compound (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Tetrahydrofuran ... 5,738 parts

(実施例B21)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液21に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液21〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例15のN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・,845部
(Example B21)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 21.
[Surface layer coating solution 21]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
-Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 15 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Compound represented by the general formula (3) (exemplary) Compound No. 2-1) 5 parts Methyl ethyl ketone 845 parts

(実施例B22)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液22に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液22〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例16の3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率3.8×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example B22)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 22.
[Surface layer coating solution 22]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with 3-aminopropyltrimethoxysilane in Production Example 16 (volume resistivity 3.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy -Cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts・ 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

(実施例B23)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液23に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液23〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・下記構造式(A)の電荷輸送材料・・・10部
<構造式A>
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Example B23)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 23.
[Surface layer coating solution 23]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The following structural formula ( A) charge transporting material: 10 parts <Structural formula A>
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Compound represented by the general formula (3) Compound No. 2-1) 5 parts Methyl ethyl ketone 1,845 parts

(実施例B24)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液24に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液24〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・20部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,025部
(Example B24)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 24.
[Surface layer coating solution 24]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The above structural formula ( A) charge transporting material: 20 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ... 5 parts Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 2,025 parts

(実施例B25)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液25に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液25〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・40部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・2,205部
(Example B25)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 25.
[Coating liquid for surface layer 25]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The above structural formula ( A) charge transport material: 40 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) 5 parts Methyl ethyl ketone 2,205 parts

(実施例B26)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液26に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液26〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・下記構造式(B)の電荷輸送材料・・・10部
<構造式(B)>
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・4,838部
(Example B26)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 26.
[Coating liquid for surface layer 26]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The following structural formula ( B) Charge transport material: 10 parts <Structural formula (B)>
-Compound represented by the above general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Tetrahydrofuran ... 4,838 parts

(実施例B27)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液27に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液27〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・上記構造式(B)の電荷輸送材料・・・20部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・5,062部
(Example B27)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 27.
[Coating liquid for surface layer 27]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The above structural formula ( B) Charge transporting material: 20 parts Compound (exemplary compound No. 2-1) represented by general formula (3): 5 parts Tetrahydrofuran: 5,062 parts

(実施例B28)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液28に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液28〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率5.8×10Ω・cm)・・・100部
・上記構造式(B)の電荷輸送材料・・・40部
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・テトラヒドロフラン・・・5,513部
(Example B28)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 28.
[Coating liquid 28 for surface layer]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 5.8 × 10 4 Ω · cm) 100 parts ・ The above structural formula ( B) Charge transporting material: 40 parts Compound (exemplary compound No. 2-1) represented by general formula (3): 5 parts Tetrahydrofuran: 5,513 parts

(実施例B29)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液29に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液29〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例1のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率9×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example B29)
An electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 29.
[Coating liquid for surface layer 29]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 1 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 1 (volume resistivity 9 × 10 1 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例B30)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液30に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液30〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example B30)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 30.
[Surface layer coating solution 30]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例B31)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液31に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液31〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,120部
・シクロヘキサノン・・・280部
(Example B31)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 31.
[Coating liquid 31 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,120 parts-Cyclohexanone ... 280 parts

(実施例B32)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液32に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液32〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・130部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example B32)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 32.
[Surface layer coating solution 32]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 130 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例B33)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液33に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液33〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example B33)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 33.
[Coating liquid for surface layer 33]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例B34)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液34に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液34〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,120部
・シクロヘキサノン・・・280部
(Example B34)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 34.
[Coating liquid for surface layer 34]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,120 parts-Cyclohexanone ... 280 parts

(実施例B35)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液35に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液35〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・下記構造式(A)の電荷輸送材料・・・10部
<構造式(A)>
・メチルエチルケトン・・・1,227部
・シクロヘキサノン・・・307部
(Example B35)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 35.
[Coating liquid for surface layer 35]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Charge transport material of the following structural formula (A) ... 10 parts <Structural formula (A)>
・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,227 parts ・ Cyclohexanone ... 307 parts

(実施例B36)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液36に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液36〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・125部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・5部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・20部
・メチルエチルケトン・・・1,333部
・シクロヘキサノン・・・333部
(Example B36)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 36.
[Coating liquid for surface layer 36]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 125 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 5 parts-Charge transport material of the above structural formula (A) ... 20 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,333 parts・ Cyclohexanone: 333 parts

(実施例B37〕
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液37に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液37〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・120部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・10部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・10部
・メチルエチルケトン・・・1,280部
・シクロヘキサノン・・・320部
(Example B37)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 37.
[Coating liquid 37 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 120 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 10 parts-Charge transport material of the structural formula (A) ... 10 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,280 parts・ Cyclohexanone: 320 parts

(実施例B38)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液38に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液38〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・130部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1)・・・20部
・上記構造式(A)の電荷輸送材料・・・10部
・メチルエチルケトン・・・1,387部
・シクロヘキサノン・・・347部
(Example B38)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 38.
[Coating liquid 38 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 130 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1) ... 20 parts-Charge transport material of the above structural formula (A) ... 10 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,387 parts・ Cyclohexanone: 347 parts

(実施例B39)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液39に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液39〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.3−1)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example B39)
An electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 39.
[Surface layer coating liquid 39]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 3-1) ... 5 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts-Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例B40)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液40に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液40〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.3−1)・・・10部
・メチルエチルケトン・・・1,120部
・シクロヘキサノン・・・280部
(Example B40)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 40.
[Surface layer coating solution 40]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
-Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 3-1) ... 10 parts-Methyl ethyl ketone ... 1,120 parts-Cyclohexanone ... 280 parts

(実施例B41)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液41に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液41〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・105部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1:例示化合物3−1=1:1(質量比))・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,067部
・シクロヘキサノン・・・267部
(Example B41)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 41.
[Coating liquid 41 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 105 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1: Exemplified Compound 3-1 = 1: 1 (mass ratio)) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,067 parts Cyclohexanone ... 267 parts

(実施例B42〕
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液42に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液42〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例14のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6×10Ω・cm)・・・110部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)・・・5部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
・前記一般式(3)で示される化合物(例示化合物No.2−1:例示化合物3−1=1:1(質量比))・・・10部
・メチルエチルケトン・・・1,120部
・シクロヘキサノン・・・280部
(Example B42)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 42.
[Surface Layer Coating Liquid 42]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 14 (volume resistivity 6 × 10 4 Ω · cm) 110 parts ・ Photopolymerization initiator (1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) 5 parts (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
Compound represented by the general formula (3) (Exemplary Compound No. 2-1: Exemplified Compound 3-1 = 1: 1 (mass ratio)) ... 10 parts Methyl ethyl ketone ... 1,120 partsCyclohexanone ... 280 parts

(比較例B1)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液43に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液43〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・電荷輸送剤(N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン)・・・67部
・製造例8のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子(体積抵抗率4.0×1012Ω・cm)・・・5部
・4フッ化エチレン樹脂粒子・・・10部
(AD911L、平均粒径0.25μm、旭硝子株式会社製)
・フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー・・・0.25部
(重量平均分子量30,000)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.6部
・テトラヒドロフラン・・・1,486部
・トルエン・・・200部
(Comparative Example B1)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 43.
[Surface layer coating solution 43]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Charge transport agent (N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1 ′] biphenyl-4,4′-diamine) 67 parts Silica fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (volume resistivity: 4.0 × 10 12 Ω · cm): 5 parts • Tetrafluoroethylene resin particles: 10 parts (AD911L Average particle size 0.25 μm, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
・ Fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer ... 0.25 part (weight average molecular weight 30,000)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t- Butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.6 parts Tetrahydrofuran ... 1,486 parts Toluene ... 200 parts

(比較例B2)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液44に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液44〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例8のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子(体積抵抗率4.0×1012Ω・cm)・・・5部
・4フッ化エチレン樹脂粒子・・・10部
(AD911L、平均粒径0.25μm、旭硝子株式会社製)
・フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー・・・0.25部
(重量平均分子量30,000)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.6部
・テトラヒドロフラン・・・880部
・トルエン・・・200部
(Comparative Example B2)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 44.
[Coating liquid for surface layer 44]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Silica fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane of Production Example 8 (volume resistivity 4.0 × 10 12 Ω · cm) 5 parts Tetrafluoroethylene resin particles 10 parts (AD911L, average particle size 0.25 μm, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
・ Fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer ... 0.25 part (weight average molecular weight 30,000)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t- Butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.6 parts Tetrahydrofuran ... 880 parts Toluene ... 200 parts

(比較例B3)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液45に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液45〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率2.4×10Ω・cm)・・・100部
(Pazet GK−40、一次粒子平均粒径32nm、ハクスイテック株式会社製)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・ メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B3)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 45.
[Surface layer coating solution 45]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (volume resistivity 2.4 × 10 1 Ω · cm)... 100 parts (Pazet GK-40, primary particle average particle size 32 nm, manufactured by Hux Itec Corp.)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例B4)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液46に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液46〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率2.4×10Ω・cm)・・・100部
(Pazet GK−40、一次粒子平均粒径32nm、ハクスイテック株式会社製)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.7部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B4)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 46.
[Coating liquid for surface layer 46]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (volume resistivity 2.4 × 10 1 Ω · cm)... 100 parts (Pazet GK-40, primary particle average particle size 32 nm, manufactured by Hux Itec Corp.)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t- (Butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.7 parts ・ Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例B5)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液47に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液47〕
・ビスフェノールZポリカーボネート・・・100部
(パンライト(登録商標)TS−2050、帝人化成株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(体積抵抗率2.4×10Ω・cm)・・・100部
(Pazet GK−40、一次粒子平均粒径32nm、ハクスイテック株式会社製)
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.7部
・テトラヒドロフラン・・・4,612部
(Comparative Example B5)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 47.
[Surface layer coating solution 47]
Bisphenol Z polycarbonate: 100 parts (Panlite (registered trademark) TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (volume resistivity 2.4 × 10 1 Ω · cm)... 100 parts (Pazet GK-40, primary particle average particle size 32 nm, manufactured by Hux Itec Corp.)
Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t- (Butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.7 parts Tetrahydrofuran ... 4,612 parts

(比較例B6)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液48に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液48〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例9の3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率8.0×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B6)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 48.
[Coating liquid 48 for surface layer]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Ga doped zinc oxide fine particles modified with 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane of Production Example 9 (volume resistivity 8.0 × 10 1 Ω · cm) 100 parts ・ Photopolymerization initiator (1-hydroxy -Cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例B7)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液49に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液49〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例10の4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子(体積抵抗率5.0×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B7)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 49.
[Coating liquid for surface layer 49]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles modified with 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine in Production Example 10 (volume resistivity 5.0 × 10 1 Ω · cm) 100 parts Polymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ··· 5 parts · Methyl ethyl ketone · · · 1,845 parts

(比較例B8)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液50に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液50〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子(無機微粒子A、体積抵抗率3.2×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B8)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 50.
[Surface layer coating solution 50]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga doped zinc oxide fine particles (inorganic fine particles A, volume resistivity 3.2 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例B9)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液51に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液51〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・Gaドープ酸化亜鉛微粒子(無機微粒子A、体積抵抗率3.2×10Ω・cm)・・・ 100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、東京化成工業株式会社製)・・・1.7部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B9)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 51.
[Surface layer coating solution 51]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga doped zinc oxide fine particles (inorganic fine particles A, volume resistivity 3.2 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Antioxidant (2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.7 parts・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 1,845 parts

(比較例B10)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液52に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液52〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例17の3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率6.9×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B10)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 52.
[Surface layer coating solution 52]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga-doped zinc oxide fine particles 2 modified with 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane of Production Example 17 (volume resistivity 6.9 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1- Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例B11)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液53に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液53〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例18の4−〔2−(トリエトキシシリル)エチル〕トリフェニルアミンで修飾されたGaドープ酸化亜鉛微粒子2(体積抵抗率1.3×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B11)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 53.
[Surface layer coating solution 53]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Ga doped zinc oxide fine particles 2 modified with 4- [2- (triethoxysilyl) ethyl] triphenylamine in Production Example 18 (volume resistivity 1.3 × 10 4 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例B12)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液54に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液54〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例11のN−フェニル−3−アミノプロピルメトキシシランで修飾されたシリカ微粒子(体積抵抗率3.0×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B12)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 54.
[Coating liquid for surface layer 54]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Silica fine particles modified with N-phenyl-3-aminopropylmethoxysilane in Production Example 11 (volume resistivity 3.0 × 10 9 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy- Cyclohexyl-phenyl-ketone, Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

(比較例B13)
実施例B1で用いた表面層用塗工液1を下記表面層用塗工液55に変更した以外は、実施例B1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液55〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート・・・100部
(TMPTA,東京化成工業株式会社製)
・製造例12の化合物A−1で修飾された酸化スズ微粒子(体積抵抗率2.0×10Ω・cm)・・・100部
・光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、イルガキュア(登録商標)184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)・・・5部
・メチルエチルケトン・・・1,845部
(Comparative Example B13)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example B1, except that the surface layer coating solution 1 used in Example B1 was changed to the following surface layer coating solution 55.
[Surface layer coating solution 55]
・ Trimethylolpropane triacrylate: 100 parts (TMPTA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Tin oxide fine particles modified with Compound A-1 of Production Example 12 (volume resistivity 2.0 × 10 2 Ω · cm) 100 parts Photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone , Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ... 5 parts ・ Methyl ethyl ketone ... 1,845 parts

<電子写真感光体の特性>
実施例及び比較例で作製した電子写真感光体を表B1−1〜表B3−2に示す。
<Characteristics of electrophotographic photoreceptor>
The electrophotographic photoreceptors produced in the examples and comparative examples are shown in Table B1-1 to Table B3-2.

表中に示した表面固有抵抗率の数値において、記号“E”は、その次に続く数値が10を底とした“べき指数”であることを示し、その10を底とした指数関数で表される数値が“E”の前の数値に乗算されることを示す。例えば、「1.0E+14」であれば、「1.0×1014」であることを示す。 In the numerical values of the surface resistivity shown in the table, the symbol “E” indicates that the next numerical value is a “power index” with 10 as the base, and is expressed as an exponential function with 10 as the base. Indicates that the numerical value to be multiplied with the numerical value before "E". For example, “1.0E + 14” indicates “1.0 × 10 14 ”.

表中に示した表面固有抵抗率の数値において、記号“E”は、その次に続く数値が10を底とした“べき指数”であることを示し、その10を底とした指数関数で表される数値が“E”の前の数値に乗算されることを示す。例えば、「1.0E+14」であれば、「1.0×1014」であることを示す。 In the numerical values of the surface resistivity shown in the table, the symbol “E” indicates that the next numerical value is a “power index” with 10 as the base, and is expressed as an exponential function with 10 as the base. Indicates that the numerical value to be multiplied with the numerical value before "E". For example, “1.0E + 14” indicates “1.0 × 10 14 ”.

*Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(GaドープZnO 1)に使用している無機微粒子のSi含有率は0.8%、Gaドープ酸化亜鉛微粒子2(GaドープZnO 2)に使用している無機微粒子のSi含有率は3.2%である。 * The Si content of the inorganic fine particles used in the Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (Ga-doped ZnO 1) is 0.8%, and the inorganic fine particles used in the Ga-doped zinc oxide fine particles 2 (Ga-doped ZnO 2). The Si content is 3.2%.

*酸化防止剤 BHT:2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール
*比較例B1の表面層材料は、4フッ化エチレン樹脂、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー、電荷輸送材料(N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン)を含む。
*比較例B2の表面層材料は、4フッ化エチレン樹脂、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマーを含む。
*比較例B13の表面修飾官能基の構造式(1)は以下の通りである。
ただし、前記構造式(1)において、Rs1は、−Si(OCHで表される官能基である。
*Gaドープ酸化亜鉛微粒子1(GaドープZnO 1)に使用している無機微粒子のSi含有率は0.8%、Gaドープ酸化亜鉛微粒子2(GaドープZnO 2)に使用している無機微粒子のSi含有率は3.2%である。
* Antioxidant BHT: 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol * The surface layer material of Comparative Example B1 is tetrafluoroethylene resin, fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer, charge transport material (N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-[1,1 '] biphenyl-4,4'-diamine).
* The surface layer material of Comparative Example B2 includes a tetrafluoroethylene resin and a fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer.
* Structural formula (1) of the surface modification functional group of Comparative Example B13 is as follows.
However, in the structural formula (1), Rs1 is a functional group represented by —Si (OCH 3 ) 3 .
* The Si content of the inorganic fine particles used in the Ga-doped zinc oxide fine particles 1 (Ga-doped ZnO 1) is 0.8%, and the inorganic fine particles used in the Ga-doped zinc oxide fine particles 2 (Ga-doped ZnO 2). The Si content is 3.2%.

(評価)
実施例及び比較例で作製した電子写真感光体について、下記評価を実施した。
(Evaluation)
The following evaluations were performed on the electrophotographic photoreceptors produced in the examples and comparative examples.

<電気特性(露光部電位)の評価>
imagio Neo270(株式会社リコー製)の現像ユニットを分解して、表面電位計MODEL344(TREK社製)に接続されているプローブを現像ユニットに取り付けた後、実施例及び比較例の各感光体を装着した。23℃、55%RHの環境下で帯電電位が−800Vになるように感光体に印加する電位を調節した後、黒ベタ画像を出力して、通紙試験前の露光部電位を測定した。
次に下記の摩耗耐久性評価を行い、その後に各実施例及び比較例の感光体を用いて、同様の方法により通紙試験後の露光部の電位を測定した。通紙前、通紙後の露光部電位、及び通紙前後における露光部電位の変化を示す。結果を表B4−1及び表4−2に示す。
実機通紙試験前後における露光部電位の変動が小さいものほど化学的耐久性に優れている。
<Evaluation of electrical characteristics (exposed portion potential)>
After disassembling the development unit of imgio Neo 270 (manufactured by Ricoh Co., Ltd.) and attaching the probe connected to the surface potential meter MODEL 344 (manufactured by TREK) to the developing unit, each of the photoreceptors of the examples and comparative examples is mounted. did. After adjusting the potential applied to the photoconductor so that the charging potential was −800 V in an environment of 23 ° C. and 55% RH, a black solid image was output, and the exposed portion potential before the paper passing test was measured.
Next, the following wear durability was evaluated, and then the potential of the exposed portion after the paper passing test was measured by the same method using the photoreceptors of the examples and comparative examples. The change of the exposure part potential before and after paper passing and the exposure part potential before and after paper passing is shown. The results are shown in Table B4-1 and Table 4-2.
The smaller the variation of the exposed portion potential before and after the actual machine paper passing test, the better the chemical durability.

<摩耗耐久性の評価>
前記摩耗耐久性試験は、画像形成装置として、imagio Neo270(株式会社リコー製)を使用した。
用紙としてはMyPaper(A4サイズ、株式会社NBSリコー製)を用いた。常温常湿(23℃,55%RH)の環境にて短手方向を送り方向として50%ハーフトーン(黒)の3万枚の画像形成を行った。次に、高温高湿(28℃、75%RH)の環境下で同様にして3万枚の画像形成を行った。最後に、低温低湿(10℃、15%RH)の環境下で同様に3万枚の画像形成を行い、合計9万枚の実機通紙試験を行った。実機通紙試験を実施する前後の感光体の膜厚を、渦電流式膜厚計フィッシャースコープMMS(フィッシャー社製)を用いて測定し、摩耗量を求め、下記基準で評価した。結果を表B4−1及び表B4−2に示す。
〔評価基準〕
A:摩耗量が0.2μm以下
B:摩耗量が0.2μmより大きく0.5μm以下
C:摩耗量が0.5μmより大きく1μm以下
D:摩耗量が1μmより大きい
<Evaluation of wear durability>
In the wear durability test, image Neo Neo 270 (manufactured by Ricoh Co., Ltd.) was used as an image forming apparatus.
As the paper, MyPaper (A4 size, manufactured by NBS Ricoh Co., Ltd.) was used. In a normal temperature and normal humidity (23 ° C., 55% RH) environment, 30,000 sheets of 50% halftone (black) images were formed with the short direction as the feeding direction. Next, 30,000 sheets of images were formed in the same manner under an environment of high temperature and high humidity (28 ° C., 75% RH). Finally, 30,000 sheets of images were similarly formed in a low-temperature and low-humidity environment (10 ° C., 15% RH), and a total of 90,000 sheets were tested. The film thickness of the photoconductor before and after the actual machine paper passing test was measured using an eddy current film thickness meter Fischer scope MMS (manufactured by Fischer), and the amount of wear was determined and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables B4-1 and B4-2.
〔Evaluation criteria〕
A: Wear amount is 0.2 μm or less B: Wear amount is greater than 0.2 μm and 0.5 μm or less C: Wear amount is greater than 0.5 μm and 1 μm or less D: Wear amount is greater than 1 μm

<画像品質の評価>
imagio Neo270(株式会社リコー製)に、実施例及び比較例の感光体を装着した後、A4サイズの用紙MyPaper(株式会社NBSリコー製)を用いて、上述の実機通紙試験の各環境において3万枚の画像形成を実施した後に、日本画像学会テストチャートNo.3を出力し、下記基準により画質を評価した。結果を表B4−1及び表B4−2に示す。
〔評価基準〕
A: 画像品質にほとんど低下がないレベル
B: 画像品質は若干低下したが、目視観察では問題ないレベル
C: 目視観察でも画像品質の低下がわかるレベル
D: 画像品質に重大な問題があるレベル
<Evaluation of image quality>
After attaching the photoconductors of Examples and Comparative Examples to imagio Neo 270 (manufactured by Ricoh Co., Ltd.), using A4 size paper MyPaper (manufactured by NBS Ricoh Co., Ltd.), 3 After forming 10,000 images, the Japanese Society of Imaging Society test chart no. 3 was output, and the image quality was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables B4-1 and B4-2.
〔Evaluation criteria〕
A: Level at which there is almost no degradation in image quality B: Level at which image quality is slightly degraded but no problem with visual observation C: Level at which degradation in image quality can be seen through visual observation D: Level at which there is a serious problem with image quality

表B4−1及び表B4−2の結果から、実施例B1〜B42の電子写真感光体は、表面層が、電荷輸送性を有さない樹脂と、一級及び二級のいずれかのアミノ基を有する化合物によって修飾された、体積抵抗率が1×10Ω・cm以下の無機微粒子を含有することにより、機械的ハザード及び化学的ハザードに対する耐久性が高く、画像品質を維持できることがわかる。
これに対して、比較例B1の電子写真感光体は、表面層に電荷輸送物質と酸化防止剤を含んでいるため、化学的耐久性は実用に耐えうる水準である。しかし、フィラーとして4フッ化エチレン樹脂粒子、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー、及び二級アミノ基を有する化合物によって修飾された体積抵抗率が1×10Ω・cmより大きい無機微粒子を表面層に添加していても、機械的耐久性が低く、画像品質の維持にも劣ることがわかる。
比較例B2の電子写真感光体は、比較例1とは異なり、電荷輸送物質が表面層にないため、初期より露光部電位が高く、異常画像が見られた。そのため、摩耗耐久性試験、及び低温低湿、高温高湿の環境での画像品質試験は実施しなかった。
比較例B4、B5、B9の電子写真感光体は、表面層が酸化防止剤を含んでいるために、化学的耐久性は実用に耐えうる水準である。表面層中の微粒子の体積抵抗率はいずれも1×10Ω・cm以下であるが、一級及び二級のいずれかのアミノ基を有する化合物によって被覆されていないため、機械的耐久性に乏しく、画像品質の維持にも劣ることがわかる。
比較例B3、B6、B7、B8、B10、B11の電子写真感光体は、表面層が酸化防止剤及び電荷輸送物質を含んでいないため、機械的耐久性は十分である。表面層中の無機微粒子の体積抵抗率はいずれも1×10Ω・cm以下である。しかし、微粒子の表面が修飾されていない(比較例B3)、アミノ基を有さない化合物により修飾されている(比較例B6)、及び三級アミノ基を有する化合物により修飾されている(比較例B7)ため、化学的耐久性に乏しく、画像品質の維持にも劣ることがわかる。
比較例B12の電子写真感光体は、表面層に酸化防止剤及び電荷輸送物質を含んでいないため機械的耐久性は十分である。また、微粒子がアミノ基を有する化合物により修飾されているので、通紙前後の露光後電位の変動も小さい。しかし、表面層中の微粒子の体積抵抗率は3×10Ω・cmと大きく、23℃,55%RHでは問題なかったものの10℃,20%RH、28℃,75%RH環境では画像品質を維持することができていないことが分かる。
比較例B13の電子写真感光体は、表面層に酸化防止剤及び電荷輸送物質を含んでいないため機械的耐久性は十分である。しかし、無機微粒子が酸化防止剤としての機能を発現する材料で修飾されているものの、その特性は十分ではない。そのために、画像品質の維持が不十分であり、また通紙前後の露光後電位の変動も大きい。
From the results of Table B4-1 and Table B4-2, the electrophotographic photoreceptors of Examples B1 to B42 have a surface layer containing a resin having no charge transporting property and any of primary and secondary amino groups. It can be seen that the inclusion of inorganic fine particles having a volume resistivity of 1 × 10 8 Ω · cm or less, which is modified by a compound having high durability against mechanical and chemical hazards, and image quality can be maintained.
On the other hand, since the electrophotographic photosensitive member of Comparative Example B1 contains a charge transport material and an antioxidant in the surface layer, the chemical durability is at a level that can withstand practical use. However, inorganic fine particles having a volume resistivity greater than 1 × 10 8 Ω · cm modified with a compound having tetrafluoroethylene resin particles, a fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer, and a secondary amino group as a filler are used as a surface layer. It can be seen that even when added, the mechanical durability is low and the image quality is poorly maintained.
Unlike the comparative example 1, the electrophotographic photosensitive member of the comparative example B2 had a higher exposure area potential than the initial stage and an abnormal image was observed because no charge transport material was present in the surface layer. Therefore, the wear durability test and the image quality test in the environment of low temperature and low humidity and high temperature and high humidity were not performed.
The electrophotographic photoreceptors of Comparative Examples B4, B5, and B9 have chemical durability at a level that can withstand practical use because the surface layer contains an antioxidant. The volume resistivity of the fine particles in the surface layer is 1 × 10 8 Ω · cm or less, but it is not covered with a compound having either a primary or secondary amino group, and therefore has poor mechanical durability. It can be seen that the image quality is poor.
The electrophotographic photoreceptors of Comparative Examples B3, B6, B7, B8, B10, and B11 have sufficient mechanical durability because the surface layer does not contain an antioxidant and a charge transport material. The volume resistivity of the inorganic fine particles in the surface layer is 1 × 10 8 Ω · cm or less. However, the surface of the fine particles is not modified (Comparative Example B3), modified with a compound having no amino group (Comparative Example B6), and modified with a compound having a tertiary amino group (Comparative Example). B7) Therefore, it can be seen that the chemical durability is poor and the image quality is poorly maintained.
The electrophotographic photoreceptor of Comparative Example B12 has sufficient mechanical durability because the surface layer does not contain an antioxidant and a charge transport material. In addition, since the fine particles are modified with a compound having an amino group, the variation in the post-exposure potential before and after paper passing is small. However, the volume resistivity of the fine particles in the surface layer is as large as 3 × 10 9 Ω · cm, and although there was no problem at 23 ° C. and 55% RH, the image quality was 10 ° C., 20% RH, 28 ° C., and 75% RH. It can be seen that it cannot be maintained.
The electrophotographic photoreceptor of Comparative Example B13 has sufficient mechanical durability because the surface layer does not contain an antioxidant and a charge transport material. However, although the inorganic fine particles are modified with a material that exhibits a function as an antioxidant, the characteristics are not sufficient. For this reason, the image quality is not sufficiently maintained, and the fluctuation of the post-exposure potential before and after the sheet passing is large.

次に、実施例B1〜B42について、前記摩耗耐久評価を20万枚まで継続して行い、前記電気特性評価を実施した。結果を表B5に示す。   Next, with respect to Examples B1 to B42, the wear durability evaluation was continuously performed up to 200,000 sheets, and the electrical characteristic evaluation was performed. The results are shown in Table B5.

表B5の結果から、実施例B1〜B11の電子写真感光体は20万枚ランニング後の露光部電位の変動量が比較的大きくなるのに対して、実施例B12〜B42の電子写真感光体は20万枚ランニング後の露光部電位の変動量は小さく、9万枚ランニング後の露光部電位と遜色ない程度であり、微粒子の体積抵抗率が1×10以上又はSi含有率が2%以上であるGaドープの酸化亜鉛微粒子を用いた場合には非常に高い静電安定性を有することが示された。 From the results of Table B5, the electrophotographic photoreceptors of Examples B1 to B11 have a relatively large amount of fluctuation in the exposed portion potential after running 200,000 sheets, whereas the electrophotographic photoreceptors of Examples B12 to B42 The amount of fluctuation of the exposed area potential after 200,000 sheets running is small, comparable to the exposed area potential after 90,000 sheets running, and the volume resistivity of fine particles is 1 × 10 4 or more, or the Si content is 2% or more. When using Ga-doped zinc oxide fine particles, it has been shown that it has very high electrostatic stability.

本発明の態様としては、例えば、以下のとおりである。
<1> 導電性支持体と、該導電性支持体上に、少なくとも感光層及び表面層をこの順に有する電子写真感光体であって、
前記表面層が、無機微粒子と、下記一般式(1)、(2)、及び(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物を含有し、
前記無機微粒子が、第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子であり、
前記表面層における電界強度が1×10V/cmであるときの表面固有抵抗率Rが、1×1013Ω/cm以上であり、
前記表面固有抵抗率Rと、前記表面層における電界強度が1.5×10V/cmであるときの表面固有抵抗率R15との比(R/R15)が、100〜5,000であることを特徴とする電子写真感光体である。
<一般式(1)>
ただし、前記一般式(1)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Arは、置換又は無置換の芳香環基を表す。
<一般式(2)>
ただし、前記一般式(2)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。m及びnは、0〜3の整数を表し、mとnが同時に0となることはない。R及びRは、水素原子、置換又は無置換の炭素数1〜11のアルキル基、及び置換又は無置換の芳香環基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。
<一般式(3)>
ただし、前記一般式(3)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表す。l及びmは、0〜3の整数を表し、lとmが同時に0となることはない。nは、1〜3の整数を表す。
<2> 表面層の1×10V/cmにおける表面固有抵抗率Rと、3×10V/cmにおける表面固有抵抗率Rとの比(R/R)が、0.1〜10である前記<1>に記載の電子写真感光体である。
<3> 第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子が、ガリウム元素をドープした酸化亜鉛である前記<1>から<2>のいずれかに記載の電子写真感光体である。
<4> 第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子の表面層における含有量が、7体積%〜40体積%である前記<1>から<3>のいずれかに記載の電子写真感光体である。
<5> 無機微粒子が、一級又は二級アミノ基を有する化合物によって被覆されている前記<1>から<4>のいずれかに記載の電子写真感光体である。
<6> 無機微粒子の体積抵抗率が、1×10Ω・cm以下である前記<1>から<5>のいずれかに記載の電子写真感光体である。
<7> 表面層が電荷輸送性を有しない樹脂を含有し、該電荷輸送性を有しない樹脂が、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂、及びウレタン樹脂から選択される少なくとも1種である前記<1>から<6>のいずれかに記載の電子写真感光体である。
<8> 表面層が、電荷輸送性化合物を更に含有し、該電荷輸送性化合物の含有量が、電荷輸送性を有しない樹脂100質量部に対して20質量部以下である前記<7>に記載の電子写真感光体である。
<9> 電子写真感光体、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段、及び前記可視像を記録媒体に転写する転写手段を少なくとも有する画像形成装置であって、
前記電子写真感光体が、前記<1>から<8>のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置である。
<10> 電子写真感光体と、該電子写真感光体上に形成された静電潜像をトナーを用いて現像し可視像を形成する現像手段とを少なくとも有するプロセスカートリッジであって、
前記電子写真感光体が、前記<1>から<8>のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
As an aspect of this invention, it is as follows, for example.
<1> An electrophotographic photosensitive member having a conductive support and at least a photosensitive layer and a surface layer in this order on the conductive support,
The surface layer contains inorganic fine particles and at least one compound selected from compounds represented by the following general formulas (1), (2), and (3),
The inorganic fine particles are zinc oxide fine particles doped with a Group 13 element;
The surface resistivity R 1 when the electric field strength in the surface layer is 1 × 10 4 V / cm is 1 × 10 13 Ω / cm 2 or more,
And the surface resistivity R 1, the ratio of the surface resistivity R 15 when the electric field intensity at the surface layer is 1.5 × 10 5 V / cm ( R 1 / R 15) is 100 to 5 The electrophotographic photosensitive member is characterized in that it is 1,000,000.
<General formula (1)>
In the general formula (1), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic ring group.
<General formula (2)>
However, In the general formula (2), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. m and n represent an integer of 0 to 3, and m and n are not 0 at the same time. R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different. Good. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different.
<General formula (3)>
In the general formula (3), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group. l and m represent an integer of 0 to 3, and l and m are not 0 at the same time. n represents an integer of 1 to 3.
<2> the surface resistivity R 1 in the 1 × 10 4 V / cm of the surface layer, the ratio of the surface resistivity R 3 in the 3 × 10 4 V / cm ( R 1 / R 3) are 0. The electrophotographic photosensitive member according to <1>, wherein the electrophotographic photosensitive member is 1 to 10.
<3> The electrophotographic photosensitive member according to any one of <1> to <2>, wherein the zinc oxide fine particles doped with a Group 13 element are zinc oxide doped with a gallium element.
<4> The electrophotographic photosensitive member according to any one of <1> to <3>, wherein the content of the zinc oxide fine particles doped with the Group 13 element in the surface layer is 7% by volume to 40% by volume. .
<5> The electrophotographic photosensitive member according to any one of <1> to <4>, wherein the inorganic fine particles are coated with a compound having a primary or secondary amino group.
<6> The electrophotographic photosensitive member according to any one of <1> to <5>, wherein the inorganic fine particles have a volume resistivity of 1 × 10 8 Ω · cm or less.
<7> The surface layer contains a resin having no charge transporting property, and the resin not having the charge transporting property is selected from a polycarbonate resin, an acrylic resin, a polyarylate resin, a styrene resin, a phenol resin, and a urethane resin. The electrophotographic photosensitive member according to any one of <1> to <6>, which is at least one kind.
<8> In the above <7>, the surface layer further contains a charge transporting compound, and the content of the charge transporting compound is 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin having no charge transporting property. The electrophotographic photosensitive member described.
<9> An electrophotographic photosensitive member, a charging unit that charges the surface of the electrophotographic photosensitive member, an exposure unit that exposes the charged surface of the electrophotographic photosensitive member to form an electrostatic latent image, and the electrostatic latent image An image forming apparatus having at least developing means for developing a visible image by developing with toner, and transfer means for transferring the visible image to a recording medium,
An electrophotographic photosensitive member according to any one of <1> to <8>, wherein the electrophotographic photosensitive member is an image forming apparatus.
<10> A process cartridge having at least an electrophotographic photosensitive member and developing means for developing a latent image formed on the electrophotographic photosensitive member using a toner to form a visible image,
A process cartridge, wherein the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to any one of <1> to <8>.

1 電子写真感光体
3 帯電手段
5 露光手段
6 現像手段
10 転写手段
21 導電性支持体
23 電荷発生層
24 電荷輸送層
25 表面層
26 単層型感光層
101 電子写真感光体
102 帯電手段
104 現像手段
106 転写手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrophotographic photosensitive member 3 Charging means 5 Exposure means 6 Developing means 10 Transfer means 21 Conductive support body 23 Charge generation layer 24 Charge transport layer 25 Surface layer 26 Single layer type photosensitive layer 101 Electrophotographic photosensitive member 102 Charging means 104 Developing means 106 Transfer means

特開平5−181299号公報JP-A-5-181299 特開2002−6526号公報JP 2002-6526 A 特開2002−82465号公報JP 2002-82465 A 特開2000−284514号公報JP 2000-284514 A 特開2001−194813号公報JP 2001-194413 A 特開2006−99028号公報JP 2006-99028 A 特開平3−45962号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-45762 特開平7−281463号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-281463 特開平9−26685号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-26685 特開2002−229241号公報JP 2002-229241 A 特許第2795566号公報Japanese Patent No. 2795566

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Claims (10)

導電性支持体と、該導電性支持体上に、少なくとも感光層及び表面層をこの順に有する電子写真感光体であって、
前記表面層が、無機微粒子と、下記一般式(1)、(2)、及び(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物を含有し、
前記無機微粒子が、第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子であり、
前記表面層における電界強度が1×10V/cmであるときの表面固有抵抗率Rが、1×1013Ω/cm以上であり、
前記表面固有抵抗率Rと、前記表面層における電界強度が1.5×10V/cmであるときの表面固有抵抗率R15との比(R/R15)が、100〜5,000であることを特徴とする電子写真感光体。
<一般式(1)>
ただし、前記一般式(1)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Arは、置換又は無置換の芳香環基を表す。
<一般式(2)>
ただし、前記一般式(2)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。m及びnは、0〜3の整数を表し、mとnが同時に0となることはない。R及びRは、水素原子、置換又は無置換の炭素数1〜11のアルキル基、及び置換又は無置換の芳香環基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表し、これらは同一であっても異なっていてもよい。
<一般式(3)>
ただし、前記一般式(3)中、R及びRは、置換又は無置換の芳香族炭化水素基及び置換又は無置換のアルキル基のいずれかを表し、これらは同一であっても異なっていてもよく、RとRは互いに結合して窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。Ar及びArは、置換又は無置換の芳香環基を表す。l及びmは、0〜3の整数を表し、lとmが同時に0となることはない。nは、1〜3の整数を表す。
An electrophotographic photosensitive member having a conductive support and at least a photosensitive layer and a surface layer in this order on the conductive support,
The surface layer contains inorganic fine particles and at least one compound selected from compounds represented by the following general formulas (1), (2), and (3),
The inorganic fine particles are zinc oxide fine particles doped with a Group 13 element;
The surface resistivity R 1 when the electric field strength in the surface layer is 1 × 10 4 V / cm is 1 × 10 13 Ω / cm 2 or more,
And the surface resistivity R 1, the ratio of the surface resistivity R 15 when the electric field intensity at the surface layer is 1.5 × 10 5 V / cm ( R 1 / R 15) is 100 to 5 An electrophotographic photosensitive member, wherein
<General formula (1)>
In the general formula (1), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic ring group.
<General formula (2)>
However, In the general formula (2), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. m and n represent an integer of 0 to 3, and m and n are not 0 at the same time. R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different. Good. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group, and these may be the same or different.
<General formula (3)>
In the general formula (3), R 2 and R 3 represents either a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, and a substituted or unsubstituted alkyl groups, they have be the same or different R 2 and R 3 may combine with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted aromatic ring group. l and m represent an integer of 0 to 3, and l and m are not 0 at the same time. n represents an integer of 1 to 3.
表面層の1×10V/cmにおける表面固有抵抗率Rと、3×10V/cmにおける表面固有抵抗率Rとの比(R/R)が、0.1〜10である請求項1に記載の電子写真感光体。 The surface resistivity R 1 in the 1 × 10 4 V / cm of the surface layer, the ratio of the surface resistivity R 3 in the 3 × 10 4 V / cm ( R 1 / R 3) is 0.1 to 10 The electrophotographic photosensitive member according to claim 1. 第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子が、ガリウム元素をドープした酸化亜鉛である請求項1から2のいずれかに記載の電子写真感光体。   3. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the zinc oxide fine particles doped with a group 13 element are zinc oxide doped with a gallium element. 第13族元素をドープした酸化亜鉛微粒子の表面層における含有量が、7体積%〜40体積%である請求項1から3のいずれかに記載の電子写真感光体。   4. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the content of zinc oxide fine particles doped with a Group 13 element in the surface layer is 7% by volume to 40% by volume. 無機微粒子が、一級又は二級アミノ基を有する化合物によって被覆されている請求項1から4のいずれかに記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the inorganic fine particles are coated with a compound having a primary or secondary amino group. 無機微粒子の体積抵抗率が、1×10Ω・cm以下である請求項1から5のいずれかに記載の電子写真感光体。 The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the inorganic fine particles have a volume resistivity of 1 × 10 8 Ω · cm or less. 表面層が電荷輸送性を有しない樹脂を含有し、該電荷輸送性を有しない樹脂が、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂、及びウレタン樹脂から選択される少なくとも1種である請求項1から6のいずれかに記載の電子写真感光体。   The surface layer contains a resin having no charge transporting property, and the resin having no charge transporting property is selected from polycarbonate resin, acrylic resin, polyarylate resin, styrene resin, phenol resin, and urethane resin. The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 6. 表面層が、電荷輸送性化合物を更に含有し、該電荷輸送性化合物の含有量が、電荷輸送性を有しない樹脂100質量部に対して20質量部以下である請求項7に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic image according to claim 7, wherein the surface layer further contains a charge transporting compound, and the content of the charge transporting compound is 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin having no charge transporting property. Photoconductor. 電子写真感光体、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段、及び前記可視像を記録媒体に転写する転写手段を少なくとも有する画像形成装置であって、
前記電子写真感光体が、請求項1から8のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。
An electrophotographic photosensitive member, a charging means for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member, an exposure means for exposing the charged surface of the electrophotographic photosensitive member to form an electrostatic latent image, and the electrostatic latent image using toner An image forming apparatus including at least a developing unit that forms a visible image by developing the image and a transfer unit that transfers the visible image to a recording medium,
An image forming apparatus, wherein the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
電子写真感光体と、該電子写真感光体上に形成された静電潜像をトナーを用いて現像し可視像を形成する現像手段とを少なくとも有するプロセスカートリッジであって、
前記電子写真感光体が、請求項1から8のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
A process cartridge having at least an electrophotographic photosensitive member and developing means for developing an electrostatic latent image formed on the electrophotographic photosensitive member using a toner to form a visible image;
A process cartridge, wherein the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63159865A (en) * 1986-12-24 1988-07-02 Ricoh Co Ltd Electrophotographic sensitive body
JPH047558A (en) * 1990-04-25 1992-01-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electrophotographic sensitive body and method for removing remaining charge
JP3123733B2 (en) * 1993-12-22 2001-01-15 キヤノン株式会社 Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic apparatus
JP2000214602A (en) * 1999-01-25 2000-08-04 Fuji Xerox Co Ltd Image forming device
JP2004138919A (en) * 2002-10-18 2004-05-13 Ricoh Co Ltd Electrophotographic photoreceptor, image forming method, image forming apparatus, and process cartridge to be attached to image forming apparatus
JP2005084445A (en) * 2003-09-10 2005-03-31 Ricoh Co Ltd Electrophotographic photoreceptor, and electrophotographic apparatus and process cartridge for electrophotographic apparatus using the same
JP2007272191A (en) * 2006-03-10 2007-10-18 Ricoh Co Ltd Electrophotographic photoreceptor and image forming method using the same, image forming apparatus and process cartridge for image forming apparatus
JP2007279678A (en) * 2006-03-14 2007-10-25 Ricoh Co Ltd Electrophotographic photoreceptor and image forming method using same, and image forming apparatus and process cartridge therefor
JP2008257147A (en) * 2006-06-13 2008-10-23 Ricoh Co Ltd Electrophotographic photoreceptor and method of manufacturing the same, and image forming apparatus, image forming method and process cartridge
JP4917409B2 (en) * 2006-11-10 2012-04-18 株式会社リコー Image forming apparatus, image forming method, and process cartridge
JP4617369B2 (en) * 2008-04-08 2011-01-26 シャープ株式会社 Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus having the same
JP5492443B2 (en) * 2009-04-16 2014-05-14 シャープ株式会社 Coating liquid for protective layer of electrophotographic photosensitive member having organic photosensitive layer and coating therefor
JP5464025B2 (en) * 2010-04-13 2014-04-09 コニカミノルタ株式会社 Organic photoreceptor and image forming apparatus

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