JP6160182B2 - Manufacturing method of display element - Google Patents

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Description

本発明は、基板上に表示層を有する表示素子の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a display element having a display layer on a substrate.

近年、電気泳動型等の表示素子(例えば、E-INK社製のe-inkシートを用いた表示方法)が普及してきている。この表示素子は、視認性がよく、かつ、薄型・軽量で、低消費電力であることから携帯機器などへの利用に優れた特徴を有している。このようなことから、例えば、電気泳動型の表示素子は携帯電話のサブディスプレイやICカード、電子書籍などの種々の電子表示装置に用いられてきている。   In recent years, electrophoretic display elements (for example, a display method using an e-ink sheet manufactured by E-INK) have become widespread. This display element has excellent visibility, is thin and light, and has low power consumption. For this reason, for example, electrophoretic display elements have been used in various electronic display devices such as mobile phone sub-displays, IC cards, and electronic books.

しかしながら、従来の表示素子は、単に表裏面を防湿処理を施した樹脂フィルムで被覆されたものであるため、高温度や高湿度下に晒された場合には水分が侵入して劣化が生じ、表示品質が著しく低下するという問題を持っている。そのため、耐湿性向上のために、過去において様々な技術開発がなされている。(例えば、下記特許文献1参照)
図9、図10は、特許文献1に示された電気泳動型の表示素子の耐湿性向上の製造方法を示したものである。図9は製造方法での工程図を示しており、図10は図9における E−E断面図を示したものである。なお、図中において、符号は主旨を逸脱しない範囲で修正している。
However, since the conventional display element is simply coated on the front and back surfaces with a moisture-proof resin film, when it is exposed to high temperature or high humidity, moisture enters and deteriorates. There is a problem that the display quality is significantly degraded. For this reason, various technological developments have been made in the past to improve moisture resistance. (For example, see Patent Document 1 below)
9 and 10 show a manufacturing method for improving the moisture resistance of the electrophoretic display element disclosed in Patent Document 1. FIG. FIG. 9 shows a process chart in the manufacturing method, and FIG. 10 shows an EE cross-sectional view in FIG. In the figure, the reference numerals are corrected without departing from the spirit of the invention.

最初に、図9(a)は、ベースフィルム上に配線電極などを形成したFPC(Flexible
Printed Circuit)70上にE-INK社製のe−inkシート80を設けている。FPC70は幅が狭くなった突出部71を持っており、この突出部71を含めた位置の3か所に丸穴なる位置決め穴72、73、74を持っている。
First, FIG. 9A shows an FPC (Flexible) in which wiring electrodes and the like are formed on a base film.
An e-ink sheet 80 manufactured by E-INK is provided on a (Printed Circuit) 70. The FPC 70 has a projecting portion 71 having a narrow width, and has positioning holes 72, 73, and 74 that are round holes at three positions including the projecting portion 71.

次に、図9(b)は、FPC70とFPC70上に形成したe−inkシート80とを、表面側から透明で、防湿処理を施した樹脂フィルムであるフロントバリアシート90と、裏面側からリアバリアシート91とでサンドイッチ状(図10参照)に挟み込んで、e−inkシート80を封止した構造を取っている。   Next, FIG. 9B shows an FPC 70 and an e-ink sheet 80 formed on the FPC 70, a front barrier sheet 90 which is a resin film which is transparent from the front surface side and subjected to moisture-proof treatment, and a rear surface side from the rear side. A structure in which the e-ink sheet 80 is sealed is sandwiched between the barrier sheet 91 and the barrier sheet 91 (see FIG. 10).

次に、図9(c)は、図10に示すように、上面防湿シート90と下面防湿シート91とを貼り合わせた後に、3箇所の位置決め穴72、73、74に固定器具の位置決めピン102、103、104に嵌め込んでFPC70を固定器具に固定し、一点鎖線で示した切断線90aの部分を切断する。   Next, FIG. 9 (c) shows the positioning pins 102 of the fixing device in the three positioning holes 72, 73, 74 after the upper moisture-proof sheet 90 and the lower moisture-proof sheet 91 are bonded together as shown in FIG. , 103, 104 to fix the FPC 70 to the fixing device, and cut the portion of the cutting line 90a indicated by the one-dot chain line.

次に、図9(d)は、切断後の完成状態になった電気泳動型の表示素子の形状を示したものである。FPC70の外形(鎖線で示した部分)の外側の斜線部分は、上面防湿シート90と下面防湿シート91とが重なり合って接合した部分を示している。また、位置決め穴73と74の間には、e−inkシート80の駆動用のIC115を取付けている。   Next, FIG. 9D shows the shape of an electrophoretic display element in a completed state after cutting. A hatched portion outside the outer shape of the FPC 70 (portion indicated by a chain line) indicates a portion where the upper moisture-proof sheet 90 and the lower moisture-proof sheet 91 are overlapped and joined. An IC 115 for driving the e-ink sheet 80 is attached between the positioning holes 73 and 74.

特許文献1によれば、上面防湿シート90に実装されたe−inkシート80は、上面防湿シート90とFPC70との間に封入されており、更に、FPC70の外周域部で接合した上面防湿シート90と下面防湿シート91とによって被覆されて保護されているので、e−inkシート80への水分の侵入は防止されるとしている。   According to Patent Document 1, the e-ink sheet 80 mounted on the upper moisture-proof sheet 90 is enclosed between the upper moisture-proof sheet 90 and the FPC 70, and is further joined at the outer peripheral region of the FPC 70. 90 and the lower moisture-proof sheet 91 are covered and protected, so that intrusion of moisture into the e-ink sheet 80 is prevented.

また、FPC70の突出部71の部分の切断面は、上面防湿シート90と下面防湿シート91との間に挟まれて外部に露出するが、突出部71の幅を最小限に小さく抑えているので、露出した切断面からの水分の侵入は最小限に抑制できるとしている。そして、耐湿
性の優れた表示素子が得られるとしている。
Further, the cut surface of the protruding portion 71 of the FPC 70 is sandwiched between the upper moisture-proof sheet 90 and the lower moisture-proof sheet 91 and exposed to the outside, but the width of the protruding portion 71 is kept to a minimum. Intrusion of moisture from the exposed cut surface can be minimized. A display element having excellent moisture resistance is obtained.

特開2009−230129号公報(図1、2)JP 2009-230129 A (FIGS. 1 and 2)

上述のように、特許文献1に記載された表示素子は、耐湿性の面で極めて優れたものであるが、このような表示素子をいかに効率よく複数個製造するかが課題の一つとなっていた。   As described above, the display element described in Patent Document 1 is extremely excellent in terms of moisture resistance, but how to efficiently manufacture a plurality of such display elements is one of the problems. It was.

そこで、本発明は、複数個の耐湿性の優れた表示素子を効率よく得ることができる表示素子の製造方法を提供することを目的とする。   Then, this invention aims at providing the manufacturing method of the display element which can obtain the several display element excellent in moisture resistance efficiently.

上記の課題を解決するための手段として、本発明は、複数の表示層が搭載された大型基板を前記表示層毎に切断し、表示層に基板を備えて構成される表示素子を複数得る表示素子の製造方法であって、大型基板の表示層が搭載される領域の周囲の一部を切り抜いて切抜領域を形成する切抜工程と、表示層が搭載された大型基板の表裏面を各々防湿シートで覆い、切抜領域において防湿シート同士を貼り合わせる防湿シート貼着工程と、を有することを特徴とするものである。   As means for solving the above problems, the present invention provides a display in which a large-sized substrate on which a plurality of display layers are mounted is cut for each display layer, and a plurality of display elements each having a substrate in the display layer are obtained. A device manufacturing method, in which a part of a periphery of a region where a display layer of a large substrate is mounted is cut out to form a cut region, and a moisture-proof sheet is provided on each of the front and back surfaces of the large substrate on which the display layer is mounted And a moisture-proof sheet adhering step for adhering the moisture-proof sheets to each other in the cutout region.

本発明の表示素子の製造方法によれば、表裏の防湿シート内に表示層が密封され耐湿性に優れた表示素子を効率よく複数個製造することができる。また、それぞれの工程は複数個分を一度の作業工程で終えることができるので、コストアドバンテージが大きくなり、コスト削減効果を得ることができる。   According to the display element manufacturing method of the present invention, it is possible to efficiently manufacture a plurality of display elements that are sealed in the moisture-proof sheets on the front and back sides and have excellent moisture resistance. In addition, since each process can be completed by a single work process, the cost advantage is increased and a cost reduction effect can be obtained.

本発明の表示素子の製造方法は、切抜工程が、複数の切抜領域が形成されるように、切抜領域間に大型基板の一部を残して切り抜くことが好ましい。
また、本発明の表示素子の製造方法は、切抜工程が、表示層に接続される配線電極パターンが形成される領域を除き、表示層を囲む領域を切り抜くことが好ましい。
本発明の表示パネルの製造方法は、切抜工程の前に、大型基板に表示層を形成する工程を有していてもよい。
本発明の表示パネルの製造方法は、切抜工程と防湿シート貼着工程の間に、大型基板に表示層を形成する工程を有していてもよい。
本発明の表示パネルの製造方法は、表示層が電気泳動型表示層であってもよい。
本発明の表示パネルの製造方法は、表示層がエレクトロルミネッセンス型表示層であってもよい。
In the method for manufacturing a display element of the present invention, it is preferable that the cutting process is performed by leaving a part of the large substrate between the cut regions so that a plurality of cut regions are formed.
In the method for manufacturing a display element of the present invention, it is preferable that the cutting process cuts out a region surrounding the display layer except a region where a wiring electrode pattern connected to the display layer is formed.
The manufacturing method of the display panel of this invention may have the process of forming a display layer in a large sized board | substrate before a cutting-out process.
The manufacturing method of the display panel of this invention may have the process of forming a display layer in a large sized board | substrate between a cutting-out process and a moisture-proof sheet sticking process.
In the method for manufacturing a display panel of the present invention, the display layer may be an electrophoretic display layer.
In the display panel manufacturing method of the present invention, the display layer may be an electroluminescence type display layer.

本発明によれば、耐湿性の優れた複数個の表示素子を効率よく得ることができる。   According to the present invention, a plurality of display elements having excellent moisture resistance can be obtained efficiently.

本発明の第1実施形態に係り、大型基板の平面レイアウトを説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the planar layout of a large sized board | substrate concerning 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る表示素子の製造方法を説明する工程図で、図2(a)は大型基板の所定の位置に複数個の表示層を形成する工程図で、図2(b)は表示層の周囲の大型基板に切抜領域を形成する工程図、図2(c)は表示層の上下を覆う全面に2枚の防湿シートを配設し、切抜領域を通して2枚の防湿シートを互いに接着して接合した工程図、図2(d)は接合した2枚の防湿シートの部分、及び大型基板の部分を切断してそれぞれ単個の表示素子を形成する工程図を表している。FIG. 2A is a process diagram for explaining a method for manufacturing a display element according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2A is a process diagram for forming a plurality of display layers at predetermined positions on a large substrate, and FIG. ) Is a process diagram for forming a cutout region on a large substrate around the display layer, and FIG. 2C is a diagram showing two moistureproof sheets disposed on the entire surface covering the top and bottom of the display layer, and passing through the cutout region. FIG. 2D shows a process chart in which a single display element is formed by cutting the bonded two moisture-proof sheet portions and the large-sized substrate portion. . 図2(a)におけるA−A断面図である。It is AA sectional drawing in Fig.2 (a). 図2(c)におけるB−B断面図である。It is BB sectional drawing in FIG.2 (c). 図2の工程図によって形成された表示素子の平面図と断面図で、図5(a)は平面図、図5(b)は図5(a)のC−C断面図、図5(c)は図5(a)のD−D断面図である。FIG. 5A is a plan view, FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 5A, and FIG. ) Is a sectional view taken along the line DD of FIG. 本発明の第2実施形態に係る表示素子の製造方法を説明する工程図で、図6(a)は表示層形成予定の所定の位置の周囲の大型基板に切抜領域を形成する工程図、図6(b)は大型基板の所定の位置に複数個の表示層を形成する工程図で、図6(c)は表示層の上下を覆う全面に2枚の防湿シートを配設し、切抜領域を通して2枚の防湿シートを互いに接着して接合した工程図、図6(d)は接合した2枚の防湿シートの部分、及び大型基板の部分を切断してそれぞれ単個の表示パネルを形成する工程図を表している。FIG. 6A is a process diagram for explaining a method for manufacturing a display element according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 6A is a process diagram for forming a cutout region on a large substrate around a predetermined position where a display layer is to be formed. 6 (b) is a process diagram for forming a plurality of display layers at predetermined positions on a large substrate, and FIG. 6 (c) is a cut-out region in which two moisture-proof sheets are arranged on the entire surface covering the top and bottom of the display layer. 6D is a process diagram in which two moisture-proof sheets are bonded and joined together, and FIG. 6D is a diagram showing a single display panel formed by cutting the two moisture-proof sheets and the large-sized substrate. A process diagram is shown. 本発明の第3実施形態に係る表示素子の製造方法で、切抜領域の他の形状を説明する平面図である。It is a top view explaining the other shape of a cut-out area | region with the manufacturing method of the display element which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係る表示素子の製造方法で、表示層がエレクトロルミネッセンス型表示層の構成を示す要部断面図である。In the method for manufacturing a display element according to the fourth embodiment of the present invention, the display layer is a cross-sectional view of an essential part showing the configuration of an electroluminescence type display layer. 従来の技術として、引用文献1に示された電気泳動型表示素子の耐湿性向上の製造方法を示した工程図で、図9(a)はFPC上にe−inkシートを形成した工程図、図9(b)は上面防湿シートと下面防湿シートとを貼り合わせた工程図、図9(c)は位置決め穴を基準にして切断状態を示す工程図、図9(d)は切断後の表示パネルの平面図である。FIG. 9A is a process diagram showing a manufacturing method for improving the moisture resistance of the electrophoretic display device disclosed in the cited document 1 as a conventional technique, and FIG. 9A is a process diagram in which an e-ink sheet is formed on an FPC; FIG. 9B is a process diagram in which the upper moisture-proof sheet and the lower moisture-proof sheet are bonded together, FIG. 9C is a process diagram showing a cutting state based on the positioning holes, and FIG. 9D is a display after cutting. It is a top view of a panel. 図9(c)におけるE−E断面図である。It is EE sectional drawing in FIG.9 (c).

以降、本発明の実施形態について、図を用いながら説明する。
〔第1実施形態の説明〕
最初に、本発明の第1実施形態に係る表示素子の製造方法を図1〜図5を用いて説明する。なお、図1は本発明の第1実施形態に係り、大型基板の平面レイアウトを説明する説明図である。図2は本発明の第1実施形態に係る表示素子の製造方法を説明する工程図で、図2(a)は大型基板の所定の位置に複数個の表示層を形成する工程図、図2(b)は表示層の周囲の大型基板に切抜領域を形成する工程図、図2(c)は表示層の上下を覆う全面に2枚の防湿シートを配設し、切抜領域を通して2枚の防湿シートを互いに接着して接合した工程図、図2(d)は接合した2枚の防湿シートの部分、及び大型基板の部分を切断してそれぞれ単個の表示素子を形成する工程図を表している。また、図3は図2(a)におけるA−A断面図、図4は図2(c)におけるB−B断面図を示している。また、図5は図2の工程図によって形成された表示素子の平面図と断面図で、図5(a)は平面図、図5(b)は図5(a)のC−C断面図、図5(c)は図5(a)のD−D断面図を示している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Description of First Embodiment]
Initially, the manufacturing method of the display element which concerns on 1st Embodiment of this invention is demonstrated using FIGS. FIG. 1 relates to the first embodiment of the present invention, and is an explanatory diagram for explaining a planar layout of a large substrate. FIG. 2 is a process diagram for explaining a method of manufacturing a display element according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 (a) is a process diagram for forming a plurality of display layers at predetermined positions on a large substrate. FIG. 2B is a process diagram for forming a cutout region on a large substrate around the display layer, and FIG. 2C shows two moisture-proof sheets disposed on the entire surface covering the top and bottom of the display layer. Process diagram in which moisture-proof sheets are bonded and joined together, FIG. 2 (d) shows a process diagram in which a single display element is formed by cutting a portion of two joined moisture-proof sheets and a portion of a large substrate. ing. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 2A, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 5 is a plan view and a sectional view of the display element formed by the process diagram of FIG. 2, FIG. 5 (a) is a plan view, and FIG. 5 (b) is a sectional view taken along the line CC in FIG. 5 (a). FIG.5 (c) has shown DD sectional drawing of Fig.5 (a).

最初に、本発明の第1実施形態に係る表示素子の製造方法に用いられる大型基板の平面
形状を図1を用いて説明する。図1に示した大型基板10は4個の表示層が形成できる基板を示していて、二点鎖線で示したL1〜L4で囲まれた領域は表示層を形成する表示層形成領域部10aを表している。
First, the planar shape of a large substrate used in the method for manufacturing a display element according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. A large substrate 10 shown in FIG. 1 shows a substrate on which four display layers can be formed. A region surrounded by L1 to L4 indicated by a two-dot chain line is a display layer forming region portion 10a that forms a display layer. Represents.

大型基板10は、FPC基板からなるもので、ポリイミド樹脂などからなるベースフィルム11の表面には、金メッキを施した銅パターンなどによって形成した画素電極パターン16と、先端部には外部との導通接続をとるための電極端子14が設けられており、これら画素電極16と電極端子14は、ベースフィルム11の裏面に、銅パターンなどによって形成した配線電極パターン13と、スルーホールにより接続されている。また同様に、ベースフィルム11の表面には、表示層の共通電極(図3の22)と接続するため、金メッキを施した銅パターンなどによって形成したCOM電極18と、外部との導通接続をとるためのCOM端子17が設けられており、裏面の配線電極パターン13とスルーホールにより、接続されている。ベースフィルム11の裏面には、配線電極パターン13の保護や防湿のための下面防湿シートや、レジストが塗布されている。ななお、図面を簡略化するため、画素電極16とCOM電極18を合わせて、表示層形成領域部10aとしてある。   The large substrate 10 is made of an FPC substrate. On the surface of the base film 11 made of polyimide resin or the like, a pixel electrode pattern 16 formed by a gold-plated copper pattern or the like and a conductive connection with the outside at the tip portion. The pixel electrode 16 and the electrode terminal 14 are connected to the back surface of the base film 11 with a wiring electrode pattern 13 formed of a copper pattern or the like through a through hole. Similarly, on the surface of the base film 11, in order to connect to the common electrode (22 in FIG. 3) of the display layer, the COM electrode 18 formed of a gold-plated copper pattern or the like is electrically connected to the outside. For this purpose, a COM terminal 17 is provided and is connected to the wiring electrode pattern 13 on the back surface by a through hole. On the back surface of the base film 11, a bottom moisture-proof sheet for protecting the wiring electrode pattern 13 and moisture prevention, and a resist are applied. In order to simplify the drawing, the pixel electrode 16 and the COM electrode 18 are combined to form the display layer forming region portion 10a.

また、大型基板10には、二点鎖線で囲って示した切抜領域形成部10bが設けられている。後述することではあるが、この切抜領域形成部10bは、表示層形成領域部10aを囲うようにして、配線電極パターン13を設けた側の一辺を除く他の三辺側の周囲に設けている。   The large substrate 10 is provided with a cutout region forming portion 10b surrounded by a two-dot chain line. As will be described later, the cutout region forming portion 10b is provided around the other three sides except one side where the wiring electrode pattern 13 is provided so as to surround the display layer forming region portion 10a. .

また、大型基板10には、外周域に複数の位置決め穴15(図中、丸穴で示している)を設けており、この位置決め穴15を基準にして、表示層形成領域部10aの所に表示層を形成し、切抜領域形成部10bの所に切抜領域、などが形成できるようにしている。   The large-sized substrate 10 has a plurality of positioning holes 15 (indicated by round holes in the drawing) in the outer peripheral area, and the display layer forming region portion 10a is located on the basis of the positioning holes 15. A display layer is formed so that a cutout region or the like can be formed at the cutout region forming portion 10b.

なお、第1実施形態においては、大型基板10には4個の表示層形成領域部10aを設けているが、表示層形成領域部10aは4個に限られるものではなく、個数は適宜に設定されるのが好ましい。   In the first embodiment, the large substrate 10 is provided with four display layer forming region portions 10a. However, the number of display layer forming region portions 10a is not limited to four, and the number is appropriately set. Preferably it is done.

次に、図2を用いて第1実施形態に係る表示素子の製造方法を説明する。最初に、図2(a)は大型基板の所定の位置に複数個の表示層を形成する工程を示している。図2(a)において、大型基板10の表示層形成領域部10aの位置に合わせて、e−inkシートからなる表示層20を貼り付ける。
この表示層20は、図3に示すように、ITO膜からなる共通電極22を設けたPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムなどからなる透明シート21にマイクロカプセル23を均一に分散し、更に導電性を持つ接着層24をコーティングしてある。なお、共通電極22は大型基板10に設けたCOM電極18に導電性ゴムや導電ペースト(図示せず)を用いて接続されるようになっている。
Next, the manufacturing method of the display element according to the first embodiment will be described with reference to FIG. First, FIG. 2A shows a process of forming a plurality of display layers at predetermined positions on a large substrate. In FIG. 2A, a display layer 20 made of an e-ink sheet is attached in accordance with the position of the display layer forming region 10a of the large substrate 10.
As shown in FIG. 3, the display layer 20 has microcapsules 23 uniformly dispersed in a transparent sheet 21 made of a PET (polyethylene terephthalate) film provided with a common electrode 22 made of an ITO film, and further has conductivity. The adhesive layer 24 is coated. The common electrode 22 is connected to the COM electrode 18 provided on the large substrate 10 using conductive rubber or conductive paste (not shown).

マイクロカプセル23なる電気泳動型の表示層は、例えば、酸化チタンからなる白の粒子とカーボンブラックからなる黒の粒子とをシリコンオイルなどの粘性の高い分散媒で分散してカプセル殻内に封入したしたものからなっている。このマイクロカプセル23なる電気泳動型の表示層20は従来技術で説明されたe−inkシートに該当するものである。   The electrophoretic display layer of the microcapsule 23 includes, for example, white particles made of titanium oxide and black particles made of carbon black dispersed in a highly viscous dispersion medium such as silicon oil and enclosed in a capsule shell. It is made up of. The electrophoretic display layer 20 as the microcapsule 23 corresponds to the e-ink sheet described in the prior art.

このマイクロカプセル23は、画素電極パターン16と共通電極22に電圧が印加され、共通電極22が負極、画素電極パターン16が正極になった場合、正に帯電した白の粒子は共通電極22側に引き寄せられ、負に帯電した黒の粒子は画素電極パターン16側に引き寄せられる。そして、表面側(透明シート21側)から見ると白の粒子の白色が観察
される。
In the microcapsule 23, when a voltage is applied to the pixel electrode pattern 16 and the common electrode 22, and the common electrode 22 is a negative electrode and the pixel electrode pattern 16 is a positive electrode, positively charged white particles are on the common electrode 22 side. The black particles that are attracted and negatively charged are attracted to the pixel electrode pattern 16 side. And when it sees from the surface side (transparent sheet 21 side), the white of white particle | grains is observed.

これに対して、共通電極22が正極、画素電極パターン16が負極になった場合、正に帯電した白の粒子は画素電極パターン16側に引き寄せられ、負に帯電した黒の粒子は共通電極22側に引き寄せられる。そして、黒の粒子の黒色が観察される。本実施形態においては、以上述べたように、表示層20は電気泳動型の表示層をなしている。   On the other hand, when the common electrode 22 is the positive electrode and the pixel electrode pattern 16 is the negative electrode, the positively charged white particles are attracted to the pixel electrode pattern 16 side, and the negatively charged black particles are the common electrode 22. Drawn to the side. Then, black color of black particles is observed. In the present embodiment, as described above, the display layer 20 is an electrophoretic display layer.

第1実施形態においては、表示層20は、大型基板10の外形や、位置決めピン穴15を基準にして、フィルム接着機を用いて接着している。   In the first embodiment, the display layer 20 is bonded using a film bonding machine on the basis of the outer shape of the large substrate 10 and the positioning pin holes 15.

次に、図2(b)は表示層の周囲の大型基板に切抜領域を形成する工程を示している。図2(b)において、斜線で示した部分は切抜領域30を表している。この切抜領域30は、図1で示した大型基板10の切抜領域形成部10bの部位に形成するものである。即ち、第1実施形態においては、この切抜領域30は、搭載されている表示層20の周囲で、配線電極パターン13が設けられている辺側を除いた他の三辺側に設けている。   Next, FIG. 2B shows a process of forming a cutout region in a large substrate around the display layer. In FIG. 2B, the hatched part represents the cutout region 30. This cutout region 30 is formed in the cutout region forming portion 10b of the large substrate 10 shown in FIG. That is, in the first embodiment, the cutout region 30 is provided on the other three sides except the side where the wiring electrode pattern 13 is provided around the display layer 20 on which the cutout region 30 is mounted.

この切抜領域30は、大型基板10の位置決めピン穴15を基準にして切断型やレーザーで切り抜きを行うことによって形成している。   The cutout region 30 is formed by cutting out with a cutting die or laser with reference to the positioning pin hole 15 of the large substrate 10.

次に、図2(c)は表示層の上下を覆う全面に2枚の防湿シートを配設し、切抜領域を通して2枚の防湿シートを互いに接着して接合した貼着工程を示している。図2(c)において、表示層20が搭載されて切抜領域30が設けられた大型基板10の表裏面に、即ち、上下面(以降、表裏面を上下面と称して説明する)の上面に上面防湿シート35、下面に下面防湿シート36なる防湿シートを被覆して貼り合わせている。それぞれの防湿シートの内側には、熱可塑性の接着材が塗布されており、ロールラミネータ等で、熱圧着することで、封止する。図中において、鎖線は切抜領域30の外形状を表しているが、上面防湿シート35、及び下面防湿シート36は、図示している如く、表示層20と切抜領域30を完全に覆う大きさで、且つ、配線電極パターン13のかなりの部分が覆われるような大きさのものを使用するのが好ましい。そして、切抜領域30において、上面防湿シート35と下面防湿シート36とが接合している。   Next, FIG. 2C shows a sticking process in which two moisture-proof sheets are provided on the entire surface covering the upper and lower sides of the display layer, and the two moisture-proof sheets are bonded to each other through the cutout region. 2C, on the front and back surfaces of the large substrate 10 on which the display layer 20 is mounted and the cutout region 30 is provided, that is, on the upper and lower surfaces (hereinafter, the front and back surfaces will be referred to as upper and lower surfaces). A moisture-proof sheet comprising a top moisture-proof sheet 35 and a bottom moisture-proof sheet 36 is covered and bonded to the bottom surface. A thermoplastic adhesive is applied to the inside of each moisture-proof sheet, and is sealed by thermocompression bonding with a roll laminator or the like. In the figure, the chain line represents the outer shape of the cutout region 30, but the upper moistureproof sheet 35 and the lower moistureproof sheet 36 are large enough to completely cover the display layer 20 and the cutout region 30 as shown. In addition, it is preferable to use a size that covers a considerable portion of the wiring electrode pattern 13. In the cutout region 30, the upper moisture-proof sheet 35 and the lower moisture-proof sheet 36 are joined.

図4は上下面の防湿シート35、36を貼り合わせた構造を示したものであるが、図4に示すように、大型基板10が切抜きされた切抜領域30においては、上下面の防湿シート35、36同士が粘着して接合している。   FIG. 4 shows a structure in which the upper and lower moisture-proof sheets 35 and 36 are bonded together. As shown in FIG. 4, the upper and lower moisture-proof sheets 35 are formed in the cut region 30 where the large substrate 10 is cut. 36 are adhered and bonded together.

なお、上面防湿シート35は、透明なPETフィルムに、酸化アルミニウムや酸化珪素を蒸着法やスパッタリング法を用いて形成した透湿性の非常に低い防湿フィルムを用い、下面防湿シート36は、上面防湿シート35と同じ材料でも良いが、透明である必要性がなく、アルミ箔を貼り付けたPETフィルムやアルミニウムを蒸着法やスパッタリング法で形成したPETフィルムを用いることもできる。   The upper moisture-proof sheet 35 uses a moisture-proof moisture film having a very low moisture permeability formed by using aluminum oxide or silicon oxide on a transparent PET film by vapor deposition or sputtering, and the lower moisture-proof sheet 36 is an upper moisture-proof sheet. Although the same material as 35 may be used, it is not necessary to be transparent, and a PET film on which an aluminum foil is attached or a PET film in which aluminum is formed by a vapor deposition method or a sputtering method can also be used.

次に、図2(d)は、単個の表示素子45を得るために、大型基板10及び上下の防湿シート35、36を切断する状況を説明するもので、一点鎖線で示した符号40は切断線を表したものである。切断線40は、切抜領域30内での上下の防湿シート35、36同士が粘着接合した部位と、大型基板10の配線電極パターン13と電極端子14、COM端子17が有る外側の部位が切断線40によって切断される部分である。この切断は、4連の切断刃を有する切断型を用いて、大型基板10の位置決めピン穴15を基準にして、一度に切断線40の部分を切断することによって単個の表示素子45を複数形成するものである。   Next, FIG. 2D illustrates a situation where the large substrate 10 and the upper and lower moisture-proof sheets 35 and 36 are cut in order to obtain a single display element 45. Reference numeral 40 indicated by a one-dot chain line is It represents a cutting line. The cutting line 40 includes a portion where the upper and lower moisture-proof sheets 35 and 36 in the cutout region 30 are adhesively bonded, and an outer portion where the wiring electrode pattern 13, the electrode terminal 14, and the COM terminal 17 of the large substrate 10 are cut lines. It is a part cut | disconnected by 40. This cutting is performed by cutting a portion of the cutting line 40 at a time using a cutting die having four cutting blades and cutting the portion of the cutting line 40 at a time with a plurality of single display elements 45. To form.

図5は単個の表示素子45の形状と構造を示したものである。図5(a)に示すように、表示素子45は、基板10に搭載された表示層20と、基板10のベースフィルム11、並びにベースフィルム11の裏面に形成された複数の配線電極パターン13、及びベースフィルム11の表面に形成された電極端子14とCOM端子17、上下面に被覆した防湿シート35、36とから構成される。   FIG. 5 shows the shape and structure of a single display element 45. As shown in FIG. 5A, the display element 45 includes a display layer 20 mounted on the substrate 10, a base film 11 of the substrate 10, and a plurality of wiring electrode patterns 13 formed on the back surface of the base film 11. And electrode terminals 14 and COM terminals 17 formed on the surface of the base film 11, and moisture-proof sheets 35 and 36 covered on the upper and lower surfaces.

表示素子45の表示層20は、図5(b)に示されるように、上下面の防湿シート35、36の接合した内部に完全に封入された状態になるので、水分の浸透は抑制されて表示層20の耐湿性は向上する。
また、図5(c)に示されるように、表示層20は、図中右側の部分は、接合した上下の防湿シート35、36の内部に封入された状態になるので、上下の防湿シート35、36の接合面からの水分の浸透は抑制される。これに対し、図中左側の部分は、表示層20は、被覆した上面防湿シート35と配線電極パター13などが設けられた大型基板10との接合部位から奥まった位置に封入される状態になる。このため、上面防湿シート35と大型基板10の接合した面から水分が浸透する可能性があるが、表示層20が接合端面から離れた位置にあるので、表示層20に到達するには時間がかかる。そのため、表示層20への水分の浸透は抑制され、表示層20の耐湿性は向上する。よって、表示素子45の構成を上記に述べた構成にすることにより、優れた防湿性の効果を得ることができる。
また、上記構成の表示素子45の製造方法は、大型基板10に複数の表示層20を形成し、表示層20の周りに切抜領域30を形成し、そして、上下面に防湿シート35、36を貼り合わせて切抜領域30の所で上下面の防湿シート35、36同士を粘着接合する。そして、上下面の防湿シート35、36同士の粘着接合した部位を一度に切断することによって単個の表示素子を複数個製作する。製造方法が簡単であり、短い工程数で複数の表示素子を一度に製作できるので製造コストは非常に安くなる。
〔第2実施形態の説明〕
次に、第2実施形態に係る表示素子の製造方法を、図6を用いて説明する。図6は本発明の第2実施形態に係る表示素子の製造方法を説明する工程図で、図6(a)は表示層形成領域部の周囲の大型基板に切抜領域を形成する工程図、図6(b)は大型基板の所定の位置に複数個の表示層を形成する工程図、図6(c)は表示層の上下を覆う全面に2枚の防湿シートを配設し、切抜領域を通して2枚の防湿シートを互いに接着して接合した工程図、図6(d)は接合した2枚の防湿シートの部分、及び大型基板の部分を切断してそれぞれ単個の表示素子を形成する工程図を表している。
As shown in FIG. 5 (b), the display layer 20 of the display element 45 is in a state of being completely enclosed inside the moisture-proof sheets 35 and 36 on the upper and lower surfaces, so that moisture penetration is suppressed. The moisture resistance of the display layer 20 is improved.
Further, as shown in FIG. 5C, the display layer 20 is in a state where the right portion in the drawing is enclosed in the upper and lower moisture-proof sheets 35 and 36 that are joined together. , 36 is prevented from penetrating moisture from the joint surface. On the other hand, in the left part of the figure, the display layer 20 is sealed in a position that is recessed from the joint portion between the coated upper surface moisture-proof sheet 35 and the large substrate 10 provided with the wiring electrode pattern 13 and the like. . For this reason, moisture may permeate from the surface where the upper moisture-proof sheet 35 and the large substrate 10 are joined, but it takes time to reach the display layer 20 because the display layer 20 is located away from the joining end face. Take it. Therefore, the penetration of moisture into the display layer 20 is suppressed, and the moisture resistance of the display layer 20 is improved. Therefore, by making the configuration of the display element 45 as described above, an excellent moisture-proof effect can be obtained.
In the method of manufacturing the display element 45 having the above-described configuration, the plurality of display layers 20 are formed on the large substrate 10, the cutout region 30 is formed around the display layer 20, and the moisture-proof sheets 35 and 36 are formed on the upper and lower surfaces. The moisture-proof sheets 35 and 36 on the upper and lower surfaces are bonded to each other at the cutout region 30 by bonding. A plurality of single display elements are manufactured by cutting the adhesively bonded portions of the moisture-proof sheets 35 and 36 on the upper and lower surfaces at a time. Since the manufacturing method is simple and a plurality of display elements can be manufactured at a time with a short number of steps, the manufacturing cost is very low.
[Description of Second Embodiment]
Next, a method for manufacturing a display element according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 6 is a process diagram for explaining a method for manufacturing a display element according to the second embodiment of the present invention. FIG. 6A is a process diagram for forming a cutout region on a large substrate around the display layer formation region. 6 (b) is a process diagram for forming a plurality of display layers at predetermined positions on a large substrate, and FIG. 6 (c) is a diagram showing two moisture-proof sheets disposed on the entire surface covering the upper and lower sides of the display layer. FIG. 6D is a process of bonding two moisture-proof sheets to each other and joining them, and FIG. 6D is a process of cutting a part of the two moisture-proof sheets and a large substrate to form a single display element. The figure is shown.

第2実施形態の製造方法で、第1実施形態の製造方法と異なる点は、大型基板に表示層を形成する工程が大型基板に切抜領域を形成する工程より後に行っている点である。つまり、大型基板に切抜領域を設けた後に表示層を形成する工程を有している。   The manufacturing method of the second embodiment is different from the manufacturing method of the first embodiment in that the step of forming the display layer on the large substrate is performed after the step of forming the cutout region on the large substrate. In other words, the method includes a step of forming the display layer after providing the cutout region on the large substrate.

具体的には、図6(a)において、図1で示した大型基板10の切抜領域形成部10bの所に切抜領域30を形成する。この切抜領域30は、表示層形成領域部10(a)の周囲の一部を残して切り抜くもので、図2(b)で示した切抜領域30と全く同じ形状をなすものである。なお、切抜領域30を形成する方法は、前述の第1実施形態での方法と同じ方法を取るので、ここでの説明は省略する。   Specifically, in FIG. 6A, the cutout region 30 is formed at the cutout region forming portion 10b of the large substrate 10 shown in FIG. This cutout region 30 is cut out leaving a part of the periphery of the display layer forming region portion 10 (a), and has the same shape as the cutout region 30 shown in FIG. 2 (b). Note that the method for forming the cutout region 30 is the same as the method in the first embodiment described above, and a description thereof will be omitted here.

次に、図6(b)において、表示層形成領域部10aの所に表示層20を形成する。表示層20の形成する方法は、前述の第1実施形態での方法と同じ方法を取るので、ここでの説明は省略する。   Next, in FIG. 6B, the display layer 20 is formed at the display layer forming region 10a. The method for forming the display layer 20 is the same as the method in the first embodiment described above, and a description thereof is omitted here.

なお、図6(c)に示された2枚の防湿シートを配設し、切抜領域を通して2枚の防湿シートを互いに接着して接合する工程、並びに、図6(d)に示された接合した2枚の防湿シートの部分、及び大型基板の部分を切断してそれぞれ単個の表示素子を形成する工程
は、前述の第1実施形態における図2(c)、図2(d)に示された工程と同じであるので、その説明は省略する。
Note that the two moisture-proof sheets shown in FIG. 6 (c) are disposed, the two moisture-proof sheets are bonded to each other through the cutout region, and the joining shown in FIG. 6 (d). The process of cutting the two moisture-proof sheet portions and the large substrate portion to form a single display element is shown in FIGS. 2C and 2D in the first embodiment. Since it is the same as the performed process, its description is omitted.

以上述べたように、第2実施形態の製造方法を取っても、第1実施形態での製造方法と同じ効果を得ることができる。
[第3実施形態の説明]
次に、第3実施形態に係る表示素子の製造方法について、図7を用いて説明する。なお、図7は、本発明の第3実施形態に係る表示素子の製造方法で、切抜領域の形状が他の形状をなす平面図を示している。
As described above, even if the manufacturing method of the second embodiment is taken, the same effect as the manufacturing method of the first embodiment can be obtained.
[Description of Third Embodiment]
Next, a method for manufacturing a display element according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 7 shows a plan view in which the shape of the cutout region is another shape in the method for manufacturing a display element according to the third embodiment of the present invention.

図7に示すように、大型基板10には4つの表示層20を設けている。また、表示層20の周囲に切抜領域30を設けているが、第3実施形態においては、切抜領域30は表示層20の、図中において、右側と左側に分割した状態で設けている。即ち、配線電極パター13が設けられた側の辺に対して、対向する辺の側の一部分に、切抜領域30の無い接続部31を設けていて、この接続部31を挟んで左右に切抜領域30を設けている。   As shown in FIG. 7, four display layers 20 are provided on the large substrate 10. Further, although the cutout region 30 is provided around the display layer 20, in the third embodiment, the cutout region 30 is provided in a state where the display layer 20 is divided into a right side and a left side in the drawing. That is, the connection part 31 without the cutout region 30 is provided in a part of the side on the side opposite to the side on which the wiring electrode pattern 13 is provided, and the cutout region is left and right across the connection part 31. 30 is provided.

切抜領域30をこのように2つに分割すると共に、表示層形成領域部10aと大型基板10との接続した部位をこのように対向した辺上に設けると、第1実施形態の場合に比して、表示層形成領域部10aの動きが安定する。   When the cutout region 30 is divided into two in this way, and the portion where the display layer forming region portion 10a and the large-sized substrate 10 are connected is provided on the opposite sides in this way, compared to the case of the first embodiment. Thus, the movement of the display layer forming region 10a is stabilized.

このように、切抜領域30を2つに分割し、表示層形成領域部10aを大型基板10の2か所で保持するような構成を取ることにより、表示層形成領域部10aの動きが規制され、e−inkシートからなる表示層20の貼り付け工程や、上下の防湿シート35、36を貼り付ける工程において、湾曲や折れ曲がりを防止することができ、作業性や歩留まりが向上する。   As described above, by dividing the cutout region 30 into two parts and holding the display layer forming region portion 10a at two places on the large substrate 10, the movement of the display layer forming region portion 10a is restricted. In the step of attaching the display layer 20 made of an e-ink sheet and the step of attaching the upper and lower moisture-proof sheets 35 and 36, it is possible to prevent bending and bending, and workability and yield are improved.

なお、設ける接続部31の幅は容易に切断されない程度の小さい幅にするのが好ましい。なぜなら、接続部31の幅が大きくなると、上下面の防湿シート35、36を貼り付けて、単個に切断した時には、上面防湿シート35と大型基板10との粘着接合部分の幅が大きくなるからである。これは、粘着接合部分の幅が大きくなると、そこからの水分が浸透する可能性が生じ、耐湿性を悪化させる要因となるからである。   In addition, it is preferable to make the width | variety of the connection part 31 provided so small that it is not cut | disconnected easily. This is because, when the width of the connecting portion 31 is increased, when the moisture-proof sheets 35 and 36 on the upper and lower surfaces are attached and cut into a single piece, the width of the adhesive bonding portion between the upper moisture-proof sheet 35 and the large substrate 10 is increased. It is. This is because if the width of the adhesive bonding portion is increased, there is a possibility that moisture from the adhesive will permeate, which causes a deterioration in moisture resistance.

図7は、大型基板10に表示層20と切抜領域30を設けた平面図であるが、上下面の防湿シート35、36の貼り付け工程や単個への切断工程は前述の第1実施形態での工程と同じであるので、ここでの説明は省略する。   FIG. 7 is a plan view in which the display layer 20 and the cutout region 30 are provided on the large-sized substrate 10. The process of attaching the moistureproof sheets 35 and 36 on the upper and lower surfaces and the process of cutting them into a single piece are described above. Since the process is the same as that in FIG.

なお、第3実施形態においては、接続部31は、配線電極パターン13が設けられた側の辺に対して、対向する辺の側の一部分に一箇所のみ設けたものであるが、一箇所に限定されるものではなく、複数個設けてもよい。
〔第4実施形態の説明〕
次に、第4実施形態に係る表示素子の製造方法について図8を用いて説明する。図8は本発明の第4実施形態に係る表示素子の製造方法で、表示層がエレクトロルミネッセンス型表示層の構成を示す要部断面図を示している。
In the third embodiment, the connection part 31 is provided only at one place on a part of the side opposite to the side on which the wiring electrode pattern 13 is provided. There is no limitation, and a plurality of them may be provided.
[Explanation of Fourth Embodiment]
Next, a method for manufacturing a display element according to the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a cross-sectional view of a principal part showing a configuration of an electroluminescence type display layer as a display layer in the method for manufacturing a display element according to the fourth embodiment of the present invention.

第4実施形態に係る表示素子の製造方法においては、表示層をエレクトロルミネッセンス型の表示層(以降、エレクトロルミネッセンス型表示層と呼ぶ)で表示素子を構成している。今まで述べてきた第1実施形態〜第3実施形態においては、マイクロカプセルを用いた電気泳動型表示層で表示層20を構成したので、第4実施形態においては、表示層の構成のみが異なるものである。以降、図8を用いて表示層の構成について説明することにし、製造方法は第1次実施形態〜第3実施形態の製造方法と同じであるので、製造方法に
係る説明は省略する。
図8において、表示層50は、大型基板10のベースフィルム11上の画素電極12上に設けた誘電体層54と、この誘電体層54上に設けた発光体層53と、この発光体層53上にITO膜からなる共通電極52を設けたPET(ポリエチレンテレフタレート)フィムルなどからなる透明シート51を被覆した構成をなす。なお、共通電極52は大型基板10に設けた配線電極パターン13に接続されるようになっている。
In the method for manufacturing a display element according to the fourth embodiment, the display layer is composed of an electroluminescence type display layer (hereinafter referred to as an electroluminescence type display layer). In the first to third embodiments described so far, the display layer 20 is configured by an electrophoretic display layer using microcapsules. Therefore, only the configuration of the display layer is different in the fourth embodiment. Is. Hereinafter, the configuration of the display layer will be described with reference to FIG. 8, and the manufacturing method is the same as the manufacturing method of the first to third embodiments, and thus the description related to the manufacturing method is omitted.
In FIG. 8, the display layer 50 includes a dielectric layer 54 provided on the pixel electrode 12 on the base film 11 of the large substrate 10, a light emitter layer 53 provided on the dielectric layer 54, and the light emitter layer. A transparent sheet 51 made of PET (polyethylene terephthalate) film, etc., provided with a common electrode 52 made of an ITO film on 53 is formed. The common electrode 52 is connected to the wiring electrode pattern 13 provided on the large substrate 10.

ここで、誘電体層54はチタン酸バリウムをシアノレジン化合物などの高誘電樹脂バインダーに分散させたものからなり、スクリーン印刷法などの印刷法によって形成する。また、発光体層53は硫化亜鉛を発光母体として、これに微量の賦活剤(金属やハロゲン元素)をドーピングして得られた発光体粉末をシアノレジン化合物などの高誘電樹脂バインダーに分散させたものからなり、スクリーン印刷法などの印刷法によって形成する。   Here, the dielectric layer 54 is made of a barium titanate dispersed in a high dielectric resin binder such as a cyanoresin compound, and is formed by a printing method such as a screen printing method. The phosphor layer 53 is obtained by dispersing phosphor powder obtained by doping zinc sulfide as a phosphor matrix with a small amount of activator (metal or halogen element) in a high dielectric resin binder such as a cyanoresin compound. And is formed by a printing method such as a screen printing method.

上記の構成をなすエレクトロルミネッセンス型表示層50は、所定の画素電極12と共通電極52に電圧が印加されると、印加された画素電極12と共通電極52とに挟まれた部位の発光体層53が発光し、その発光色でもって表示がなされる。つまり、発光体層53の発光表示をもって表示層50を構成するものである。   The electroluminescent display layer 50 having the above-described configuration is configured such that when a voltage is applied to the predetermined pixel electrode 12 and the common electrode 52, a light emitting layer at a portion sandwiched between the applied pixel electrode 12 and the common electrode 52. 53 emits light, and the display is made with the light emission color. That is, the display layer 50 is configured with the light emitting display of the light emitting layer 53.

発光体層53を構成する硫化亜鉛は非常に水分に弱く、硫化亜鉛が水分に侵されると劣化して黒化し、発光しなくなる性質を有する。従って、水分の浸透を抑制する構造が求められる。   Zinc sulfide constituting the luminescent layer 53 is very weak against moisture, and has a property that when the zinc sulfide is attacked by moisture, it deteriorates and becomes black and does not emit light. Therefore, a structure that suppresses the penetration of moisture is required.

大型基板10上に形成したエレクトロルミネッセンス型表示層50にあっては、前述の第1実施形態〜第3実施形態と同様に、表示層50の周囲の一部に切抜領域30を形成し、そして、表示層50を形成した大型基板10の上下面に防湿シート35、36を貼り合わせて切抜領域30の所で上下面の防湿シート35、36同士を粘着接合して、表示層50を上下面の防湿シート35、36の内部に完全に封入する構造を取るものである。このような構造を取ることにより、エレクトロルミネッセンス型表示層50には優れた耐湿性が得られると共に、安いコストで製造することができる。   In the electroluminescence type display layer 50 formed on the large-sized substrate 10, the cutout region 30 is formed in a part of the periphery of the display layer 50, as in the first to third embodiments, and The moisture-proof sheets 35 and 36 are bonded to the upper and lower surfaces of the large-sized substrate 10 on which the display layer 50 is formed, and the moisture-proof sheets 35 and 36 on the upper and lower surfaces are adhesively bonded to each other at the cutout region 30. The moisture-proof sheets 35 and 36 are completely enclosed. By adopting such a structure, the electroluminescence type display layer 50 can have excellent moisture resistance and can be manufactured at a low cost.

10 大型基板
10a 表示層形成領域部
10b 切抜領域形成部
11 ベースフィルム
12 画素電極
13 配線電極パターン
14 電極端子
15 位置決めピン穴
16 画素電極パターン
17 COM端子
18 COM電極
20、50 表示層
21、51 透明シート
22、52 共通電極
23 マイクロカプセル
24 接着層
30 切抜領域
31 接続部
35 上面防湿シート
36 下面防湿シート
40 切断線
45 表示素子
53 発光体層
54 誘電体層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Large substrate 10a Display layer formation area part 10b Cutout area formation part 11 Base film 12 Pixel electrode 13 Wiring electrode pattern 14 Electrode terminal 15 Positioning pin hole 16 Pixel electrode pattern 17 COM terminal 18 COM electrode 20, 50 Display layers 21, 51 Transparent Sheets 22 and 52 Common electrode 23 Microcapsule 24 Adhesive layer 30 Cutout region 31 Connection part 35 Upper surface moisture-proof sheet 36 Lower surface moisture-proof sheet 40 Cutting line 45 Display element 53 Light emitter layer 54 Dielectric layer

Claims (6)

複数の表示層が搭載された大型基板を前記表示層毎に切断し、前記表示層に基板を備えて構成される表示素子を複数得る表示素子の製造方法であって、
前記大型基板の前記表示層に接続される配線電極パターンが形成される一辺を除く他の三辺側の周囲を切り抜いて切抜領域を形成する切抜工程と、
前記表示層が搭載された前記大型基板の表裏面を各々防湿シートで覆い、前記切抜領域において上下面の前記防湿シート同士を貼り合わせる防湿シート貼着工程と、
を有することを特徴とする表示素子の製造方法。
A method for producing a display element, wherein a large-sized substrate on which a plurality of display layers are mounted is cut for each display layer, and a plurality of display elements configured to include a substrate in the display layer are obtained,
A cutting step of cutting a periphery of the other three sides except one side where a wiring electrode pattern connected to the display layer of the large substrate is formed to form a cut region;
Covering the front and back surfaces of the large substrate on which the display layer is mounted with a moisture-proof sheet, and a moisture-proof sheet attaching step for bonding the moisture-proof sheets on the upper and lower surfaces in the cutout region;
A method for manufacturing a display element, comprising:
前記防湿シート貼着工程は、上下面の前記防湿シート同士を張り合わせることにより、前記配線電極パターンが形成される一辺を除く他の三辺の内部に前記表示層を完全に封入することを特徴とする請求項1に記載の表示素子の製造方法。 In the moisture-proof sheet attaching step, the moisture-proof sheets on the upper and lower surfaces are pasted together to completely enclose the display layer inside the other three sides except the one side on which the wiring electrode pattern is formed. The manufacturing method of the display element of Claim 1 . 前記切抜工程の前に、前記大型基板に前記表示層を搭載する工程を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の表示素子の製造方法。 Wherein prior to the cut-out process, a method of manufacturing a display device according to claim 1 or 2 characterized by having a step of mounting the display layer on the large substrate. 前記切抜工程と前記防湿シート貼着工程の間に、前記大型基板に前記表示層を搭載する工程を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の表示素子の製造方法。 Wherein between the cutout step and the moisture-proof sheet attaching step, a method of manufacturing a display device according to claim 1 or 2 characterized by having a step of mounting the display layer on the large substrate. 前記表示層は、電気泳動型表示層であることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。 The display layer, method of manufacturing a display device according to any one of claims 1 to 4, characterized in that an electrophoretic display layer. 前記表示層は、エレクトロルミネッセンス型表示層であることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。 The said display layer is an electroluminescence type display layer, The manufacturing method of the display element as described in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.
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