JP6135815B1 - Printed wiring boards and electronic devices - Google Patents

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Abstract

【課題】リフロー工程を経た後にも発泡が生じ難く、導電性接着剤層と金属補強板とが良好な接着力を有し、グランド回路と金属板との導電性が良好なプリント配線板の提供を目的とする。【解決手段】配線回路基板、導電性接着剤層、および金属補強板を備え、前記導電性接着剤層は、前記配線回路基板および金属補強板に対してそれぞれ接着し、前記金属補強板は、金属板の表面に保護層を有し、前記金属板はステンレス板であって、前記保護層は貴金属およびその合金から形成されてなり、保護層表面のクロムの原子濃度が1〜20%であることを特徴とするプリント配線板によって解決される。【選択図】図1Provided is a printed wiring board in which foaming hardly occurs even after a reflow process, a conductive adhesive layer and a metal reinforcing plate have a good adhesive force, and a conductive property between a ground circuit and a metal plate is good. With the goal. A wiring circuit board, a conductive adhesive layer, and a metal reinforcing plate are provided, and the conductive adhesive layer is bonded to the wiring circuit board and the metal reinforcing plate, respectively. A protective layer is provided on the surface of the metal plate, the metal plate is a stainless steel plate, the protective layer is formed of a noble metal and an alloy thereof, and the atomic concentration of chromium on the surface of the protective layer is 1 to 20%. This is solved by a printed wiring board. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、金属補強板を備えたプリント配線板およびそのプリント配線板を備えた電子機器に関する。   The present invention relates to a printed wiring board including a metal reinforcing plate and an electronic apparatus including the printed wiring board.

携帯電話、およびスマートフォン等の電子機器は、内部に実装された電子部品が発する電磁波ノイズまたは外部から侵入する電磁波ノイズを原因とした誤作動を防止するために電磁波シールド層を設けることが一般的である。また、電子機器の内部に搭載されるプリント配線板、特にフレキシブルプリント配線板は、柔軟であるためその表面に電子部品を実装する場合、フレキシブルプリント配線板の電子部品実装面に対向した他面に導電性接着剤で金属板を貼り付けて補強することが行なわれている。特許文献1では、導電性接着剤とニッケルメッキステンレス板で補強したプリント配線板が開示されている。   Electronic devices such as mobile phones and smartphones are generally provided with an electromagnetic shielding layer to prevent malfunction caused by electromagnetic noise generated by electronic components mounted inside or electromagnetic noise entering from the outside. is there. Also, printed wiring boards mounted inside electronic devices, especially flexible printed wiring boards, are flexible, so when mounting electronic components on the surface, be sure to place them on the other side of the flexible printed wiring board facing the electronic component mounting surface. A metal plate is attached and reinforced with a conductive adhesive. Patent Document 1 discloses a printed wiring board reinforced with a conductive adhesive and a nickel-plated stainless steel plate.

また、特許文献2では、電子部品に対する電磁波の効率的な除去のため、金属板の表面に金メッキを施し、導電性を改善したプリント配線板が開示されている。   Further, Patent Document 2 discloses a printed wiring board in which the surface of a metal plate is plated with gold in order to efficiently remove electromagnetic waves from an electronic component to improve conductivity.

特開2013−41869号公報JP 2013-41869 A 国際公開2014/132951号International Publication No. 2014/132951

しかし、特許文献1に記載されたプリント配線板は、ニッケルメッキの酸化による抵抗値不足のため、導電性接着剤との接続抵抗値が悪化する問題があった。
また、特許文献2に記載されたプリント配線板は、金属板全面に金メッキが施されており、金属板表面の極性が著しく低いために、導電性接着剤層との接着力が低く、リフロー工程で発泡する問題があった。
However, the printed wiring board described in Patent Document 1 has a problem that the connection resistance value with the conductive adhesive deteriorates due to insufficient resistance value due to oxidation of nickel plating.
Further, the printed wiring board described in Patent Document 2 is gold-plated on the entire surface of the metal plate, and the polarity of the surface of the metal plate is remarkably low, so that the adhesive force with the conductive adhesive layer is low, and the reflow process There was a problem of foaming.

本発明は、導電性接着剤層と金属補強板とが良好な接着力を有し、リフロー工程を経た後にも発泡が生じ難く、湿熱経時後もグランド回路と金属板との導電性が良好なプリント配線板の提供を目的とする。   In the present invention, the conductive adhesive layer and the metal reinforcing plate have a good adhesive force, hardly foam after the reflow process, and the electrical conductivity between the ground circuit and the metal plate is good even after aging. The purpose is to provide a printed wiring board.

本発明のプリント配線板は、配線回路基板、導電性接着剤層、および金属補強板を備え、前記導電性接着剤層は、前記配線回路基板および金属補強板に対してそれぞれ接着し、前記金属補強板は、金属板の表面に保護層を有し、前記金属板はステンレス板であって、
前記保護層は貴金属、またはその合金から形成されてなり、保護層表面のクロム原子濃度が1〜20%であることを特徴とする。
The printed wiring board of the present invention includes a wiring circuit board, a conductive adhesive layer, and a metal reinforcing plate, and the conductive adhesive layer is bonded to the wiring circuit board and the metal reinforcing plate, respectively, and the metal The reinforcing plate has a protective layer on the surface of the metal plate, the metal plate is a stainless steel plate,
The protective layer is made of a noble metal or an alloy thereof, and has a chromium atom concentration of 1 to 20% on the surface of the protective layer.

本発明によれば、金属板の全面を覆う貴金属層を設ける場合よりも接着性に優れ、十分な密着力で一体化することができる。また、リフロー工程時の発泡が抑制され、保護層と導電性接着剤層の接続抵抗値も良化する。加えて、長期にわたって安定した導電性を維持することができ、機械的強度および導電性に優れたプリント配線板を得ることができる。   According to this invention, it is excellent in adhesiveness compared with the case where the noble metal layer which covers the whole surface of a metal plate is provided, and it can integrate with sufficient adhesive force. Further, foaming during the reflow process is suppressed, and the connection resistance value between the protective layer and the conductive adhesive layer is improved. In addition, it is possible to maintain a stable conductivity over a long period of time, and to obtain a printed wiring board excellent in mechanical strength and conductivity.

本発明のプリント配線板の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the printed wiring board of this invention.

以下、本発明のプリント配線板について、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, the printed wiring board of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

図1は、本発明のプリント配線板の構成を示す断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図1中の上側を「上」、下側を「下」とする。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of the printed wiring board of the present invention. In the following, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 1 is “upper” and the lower side is “lower”.

《プリント配線板》
本発明のプリント配線板1は、図1に示す通り、配線基板6と、金属補強板2とを接着する導電性接着剤層3を備えている。金属補強板2は、ステンレス板2aの表面に保護層2bを有している。
そして、前記保護層2bは、保護層表面のクロム原子濃度が1〜20%であることを特徴とする。
<Printed wiring board>
As shown in FIG. 1, the printed wiring board 1 of the present invention includes a conductive adhesive layer 3 that bonds a wiring board 6 and a metal reinforcing plate 2. The metal reinforcing plate 2 has a protective layer 2b on the surface of the stainless steel plate 2a.
The protective layer 2b has a chromium atom concentration of 1 to 20% on the surface of the protective layer.

保護層表面のクロムの原子濃度は、保護層がピンホールやクラック等の空孔を有する多孔質膜である場合、金属板であるステンレスが一部表面に露出し、この表面に一部露出したステンレスに由来して、クロムの表面原子濃度を制御することが可能となる。ステンレスに含有しているクロムは金等に比べて極性が高く、空孔を介して導電接着剤が一部露出したステンレス板と接着することで、金メッキを形成した金属補強板でも大幅に接着力が向上する。その結果、金属板の全面を覆う貴金属層を設ける場合よりも接着性に優れ、十分な密着力で、金属板と保護層とを一体化することができる。
また、リフロー工程時の発泡が抑制され、保護層と導電性接着剤層の接続抵抗値も良化する。加えて、長期にわたって安定した導電性を維持することができ、機械的強度および導電性に優れたプリント配線板を得ることができる。
あるいは、保護層中に合金成分としてクロム原子が含有される場合においても上記と同様の効果が得られる。
The atomic concentration of chromium on the surface of the protective layer is such that when the protective layer is a porous film having pores such as pinholes and cracks, stainless steel, which is a metal plate, is partially exposed on this surface and partially exposed on this surface. Derived from stainless steel, it is possible to control the surface atomic concentration of chromium. Chromium contained in stainless steel has a higher polarity than gold, etc., and adheres to a stainless steel plate with a conductive adhesive partly exposed through a hole. Will improve. As a result, the metal plate and the protective layer can be integrated with superior adhesion and sufficient adhesion as compared with the case where a noble metal layer covering the entire surface of the metal plate is provided.
Further, foaming during the reflow process is suppressed, and the connection resistance value between the protective layer and the conductive adhesive layer is improved. In addition, it is possible to maintain a stable conductivity over a long period of time, and to obtain a printed wiring board excellent in mechanical strength and conductivity.
Or the effect similar to the above is acquired also when a chromium atom contains as an alloy component in a protective layer.

プリント配線板1の実施態様をさらに説明する。配線基板6は、絶縁基材9と接する面であって金属補強板2と対向する面に電子部品10を実装することで、プリント配線板1に必要な強度が得られる。金属補強板2を備えることで、プリント配線板1に曲げ等の力が加わった際の半田接着部位ないし電子部品10に対するダメージを防止できる。また、導電性接着剤層3は、プリント配線板の上方向から下方向に対する電磁波をシールドすることができる。   The embodiment of the printed wiring board 1 will be further described. The wiring board 6 has a strength required for the printed wiring board 1 by mounting the electronic component 10 on a surface that is in contact with the insulating base material 9 and that is opposed to the metal reinforcing plate 2. By providing the metal reinforcing plate 2, it is possible to prevent damage to the solder bonding site or the electronic component 10 when a force such as bending is applied to the printed wiring board 1. Moreover, the conductive adhesive layer 3 can shield electromagnetic waves from the upper direction to the lower direction of the printed wiring board.

<金属補強板>
本発明の金属補強板2は、ステンレス板2aの表面に表面保護層としての保護層2bを有している。
<Metal reinforcement plate>
The metal reinforcing plate 2 of the present invention has a protective layer 2b as a surface protective layer on the surface of the stainless steel plate 2a.

[ステンレス板]
ステンレス板2aは、腐食性が高く導電性に優れた金属板であり、一定の厚み以上で金属補強板としての強度を備えたものである。ステンレス板は、オーステナイト系ステンレス板、フェライト系ステンレス板、2相系ステンレス板、マルテンサイト系ステンレス板、析出硬化系ステンレス板が使用できる。オーステナイト系ステンレス板としては、例えばSUS301、SUS301L、SUS301J1、SUS302B、SUS303、SUS304、SUS304Cu、SUS304L、SUS304N1、SUS304N2、SUS304LN、SUS304J1、SUS304J2、SUS305、SUS309S、SUS310S、SUS312L、SUS315J1、SUS315J2、SUS316、SUS316L、SUS316LN、SUS316Ti、SUS316J1、SUS316J1L、SUS317、SUS317L、SUS317LN、SUS317J1、SUS317J2、SUS836L、SUS890L、SUS321、SUS347、SUSXM7、SUSXM15J1が挙げられる。フェライト系ステンレス板としては、例えばSUS405、SUS410L、SUS429、SUS430、SUS430LX、SUS430J1L、SUS434、SUS436L、SUS436J1L、SUS445J1、SUS445J2、SUS444、SUS447J1、SUSXM27が挙げられる。2相系ステンレス板としては、例えばSUS329J1、SUS329J3L、SUS329J4Lが挙げられる。マルテンサイト系ステンレス板としては、例えばSUS403、SUS410、SUS410S、SUS420J1、SUS420J2、SUS440Aが挙げられる。析出硬化系ステンレス板としては、例えばSUS630、SUS631が挙げられる。
これらの中でも金属補強板としての強度、コストおよび化学的安定性の面でSUS301、SUS303、SUS304、SUS305、SUS316、SUS316Lが好ましい。
金属補強板2aの厚みは、0.04〜1mmが好ましい。
[Stainless steel plate]
The stainless steel plate 2a is a metal plate that is highly corrosive and excellent in electrical conductivity, and has a strength as a metal reinforcing plate with a certain thickness or more. As the stainless steel plate, an austenitic stainless steel plate, a ferritic stainless steel plate, a two-phase stainless steel plate, a martensitic stainless steel plate, or a precipitation hardening stainless steel plate can be used. As an austenitic stainless steel plate, for example, SUS301, SUS301L, SUS301J1, SUS302B, SUS303, SUS304, SUS304Cu, SUS304L, SUS304N1, SUS304N2, SUS304LN, SUS304J1, SUS304J2, SUS3J, SUS3S3, SUS309S, SUS310S, SUS3L SUS316LN, SUS316Ti, SUS316J1, SUS316J1L, SUS317, SUS317L, SUS317LN, SUS317J1, SUS317J2, SUS836L, SUS890L, SUS321, SUS347, SUSXM7, SUSXM15J1. Examples of the ferritic stainless steel plate include SUS405, SUS410L, SUS429, SUS430, SUS430LX, SUS430J1L, SUS434, SUS436L, SUS436J1L, SUS445J1, SUS445J2, SUS444, SUS447J1, and SUS447M1. Examples of the duplex stainless steel plate include SUS329J1, SUS329J3L, and SUS329J4L. Examples of the martensitic stainless plate include SUS403, SUS410, SUS410S, SUS420J1, SUS420J2, and SUS440A. Examples of the precipitation hardening stainless steel plate include SUS630 and SUS631.
Among these, SUS301, SUS303, SUS304, SUS305, SUS316, and SUS316L are preferable in terms of strength, cost, and chemical stability as a metal reinforcing plate.
The thickness of the metal reinforcing plate 2a is preferably 0.04 to 1 mm.

[保護層]
表面保護層としての保護層2bは、金属補強板2の最表面に形成された貴金属層であり、保護層表面のクロム原子濃度が1〜20%であり、3〜17%が好ましく、5〜15%がより好ましい。
ここで貴金属層とは、貴金属、および貴金属を主成分とする合金の、少なくともいずれかにより形成されてなる層をいう。
保護層表面のクロム原子濃度が1〜20%であることで、保護層全面にピンホール等の空孔が形成された多孔質膜が得られ、ステンレス板が一部表面に露出している状態となる。ステンレス板の部分的な露出部のクロム成分と導電性接着剤層が強固に接着するため、金属補強板に対する導電性接着剤層の接着力を向上させ、リフロー時の発泡を抑制することができる。また、長期にわたって安定した導電性を維持することが可能となり、機械的強度および導電性に優れたプリント配線板を得ることができる。
[Protective layer]
The protective layer 2b as the surface protective layer is a noble metal layer formed on the outermost surface of the metal reinforcing plate 2, the chromium atom concentration on the surface of the protective layer is 1 to 20%, preferably 3 to 17%, 15% is more preferable.
Here, the noble metal layer refers to a layer formed of at least one of a noble metal and an alloy containing the noble metal as a main component.
When the chromium atom concentration on the surface of the protective layer is 1 to 20%, a porous film in which holes such as pinholes are formed on the entire surface of the protective layer is obtained, and the stainless steel plate is partially exposed on the surface It becomes. Since the chromium component in the partially exposed part of the stainless steel plate and the conductive adhesive layer are firmly bonded, the adhesive strength of the conductive adhesive layer to the metal reinforcing plate can be improved and foaming during reflow can be suppressed. . Moreover, it becomes possible to maintain the electroconductivity stable over the long term, and the printed wiring board excellent in mechanical strength and electroconductivity can be obtained.

なお、本発明において保護層は、導電性接着剤層と接する界面全面に形成されていることが好ましい。
導電性接着剤層と接する界面全面に保護層を形成した場合、ステンレス板の一部に点または線等、局所的に保護層を施す形態よりも、保護層全面にミクロンまたはナノサイズのピンホールが形成されることで、上記の効果を得ることができる。
また、保護層中に合金成分としてクロム原子を含有させ保護層表面のクロム原子濃度を1〜20%とする形態も、上記と同様の効果を得ることができる。
張り合わせる導電性接着剤層の面積100に対して保護層の面積は、80以上が好ましく90以上がより好ましい。上記の範囲とすることで、ハンダフロート試験による発泡をより抑制し、高温高湿試験後の接続信頼性を向上することができる。
In the present invention, the protective layer is preferably formed on the entire interface in contact with the conductive adhesive layer.
When a protective layer is formed on the entire interface in contact with the conductive adhesive layer, micron or nano-sized pinholes are formed on the entire surface of the protective layer, rather than a form in which a protective layer is locally applied to a part of the stainless steel plate. By forming the above, the above-described effect can be obtained.
Moreover, the form which contains a chromium atom as an alloy component in a protective layer and makes the chromium atom density | concentration of a protective layer surface 1-20% can also acquire the effect similar to the above.
The area of the protective layer is preferably 80 or more and more preferably 90 or more with respect to the area 100 of the conductive adhesive layer to be bonded. By setting it as said range, foaming by a solder float test can be suppressed more and the connection reliability after a high temperature, high humidity test can be improved.

保護層表面のクロムの原子濃度を1%以上とすることで、剥離強度およびリフロー時の発泡を抑制できる。また、保護層に対するクロムの表面原子濃度を20%以下とすることで、85℃相対湿度(RH)85%の高温高湿の経時後であっても接続抵抗値が良好であり、接続信頼性を高めることができる。   By setting the atomic concentration of chromium on the surface of the protective layer to 1% or more, peeling strength and foaming during reflow can be suppressed. In addition, by setting the surface atomic concentration of chromium to the protective layer to 20% or less, the connection resistance value is good even after aging at a high temperature and high humidity of 85% relative humidity (RH) 85%, and connection reliability Can be increased.

保護層2bの形成に使用可能な貴金属としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(0s)等があり、金、銀、白金、およびパラジウムのいずれか1種であることが好ましい。または、これら貴金属を主成分とする合金から形成することも好ましい。
これらの貴金属であれば、保護層の酸化による抵抗値上昇が起こりにくいため85℃相対湿度(RH)85%経時後の接続抵抗値の安定性向上の点から好ましい。
Examples of noble metals that can be used to form the protective layer 2b include gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), palladium (Pd), iridium (Ir), ruthenium (Ru), osmium (0s), and the like. And preferably any one of gold, silver, platinum, and palladium. Or it is also preferable to form from the alloy which has these noble metals as a main component.
These noble metals are preferable from the viewpoint of improving the stability of the connection resistance value after 85% relative humidity (RH) 85% since the resistance value hardly increases due to oxidation of the protective layer.

なかでも、金を用いて形成する場合、軟質金メッキ、硬質金メッキ及び、無電解メッキで形成することが好ましい。この中でも軟質金メッキが金属補強板2への密着力および高度な導電性を維持する点で好ましい。   Especially, when forming using gold | metal | money, it is preferable to form by soft gold plating, hard gold plating, and electroless plating. Among these, soft gold plating is preferable in terms of maintaining adhesion to the metal reinforcing plate 2 and high conductivity.

保護層2bの厚みは、0.005μm〜1μmが好ましく、0.01μm〜0.05μmがより好ましい。保護層の厚みを0.005μm〜1μmとすることで、コストを抑えつつ導電性を良化することができる。   The thickness of the protective layer 2b is preferably 0.005 μm to 1 μm, and more preferably 0.01 μm to 0.05 μm. By setting the thickness of the protective layer to 0.005 μm to 1 μm, the conductivity can be improved while suppressing the cost.

また、保護層2bは、その表面粗さRaが0.2μm以上であることが好ましく、0.3μm以上がより好ましく、0.4μm以上がさらに好ましい。表面粗さRaの数値が大きいと、保護層2bの表面が粗面となるため、金属補強板2と導電性接着剤層3を熱圧着する際、導電性接着剤層3が保護層2bの表面の窪みに侵入して両者の接着力を強固にすることができる。   The protective layer 2b preferably has a surface roughness Ra of 0.2 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, and further preferably 0.4 μm or more. If the numerical value of the surface roughness Ra is large, the surface of the protective layer 2b becomes rough. Therefore, when the metal reinforcing plate 2 and the conductive adhesive layer 3 are thermocompression bonded, the conductive adhesive layer 3 is the protective layer 2b. It can penetrate into the recesses on the surface and strengthen the adhesive force between them.

本発明では、ステンレス板にニッケル層などを介さず直接保護層を形成する態様が好ましい。ニッケル層などの中間層を設けない場合、工程の簡略化によりコストダウンが図れる他、保護層の厚みを薄く形成できることからステンレス板表面の凹凸形状を保護層表面に確実に転写することができる。すなわちRaのコントロールが容易となるため、保護層と導電性接着剤の接着力を向上することができる。   In this invention, the aspect which forms a protective layer directly on a stainless steel plate without a nickel layer etc. is preferable. When an intermediate layer such as a nickel layer is not provided, the cost can be reduced by simplifying the process, and the thickness of the protective layer can be reduced, so that the uneven shape on the surface of the stainless steel plate can be reliably transferred to the surface of the protective layer. That is, since Ra can be easily controlled, the adhesive force between the protective layer and the conductive adhesive can be improved.

なお、表面粗さRaは、保護層2bの表面を接触式表面粗さ計を使用してJIS B 0601−2001に準拠して測定した数値である。   In addition, surface roughness Ra is the numerical value which measured the surface of the protective layer 2b based on JISB0601-2001 using the contact-type surface roughness meter.

Raに対する保護層2bの厚みの割合は、Ra1に対し、保護層の厚みが0.001〜0.5であることが好ましく、0.01〜0.3がより好ましい。Raに対する保護層2bの厚みの割合を0.001〜0.5とすることで、剥離強度と接続抵抗値を良化することができる。
As for the ratio of the thickness of the protective layer 2b to Ra, the thickness of the protective layer is preferably 0.001 to 0.5, and more preferably 0.01 to 0.3, relative to Ra 1. By setting the ratio of the thickness of the protective layer 2b to Ra to be 0.001 to 0.5, the peel strength and the connection resistance value can be improved.

<導電性接着剤層>
導電性接着剤層3は、配線回路基板および金属補強板に対してそれぞれ接着している。また、熱硬化性樹脂および導電性成分を含む、等方導電性接着剤または異方導電性接着剤を使用して形成する。ここで等方導電性とは、X軸(図1における左右方向)、Y軸(図1における奥行き方)およびZ軸(図1における上下方向)の3次元方向に導電する性質である。また異方導電性とはZ軸にのみ導電する性質である。これらの導電性はプリント配線板の使用態様に応じて適宜選択できる。
<Conductive adhesive layer>
The conductive adhesive layer 3 is bonded to the printed circuit board and the metal reinforcing plate, respectively. Further, it is formed using an isotropic conductive adhesive or an anisotropic conductive adhesive containing a thermosetting resin and a conductive component. Here, the isotropic conductivity is a property of conducting in the three-dimensional direction of the X axis (left and right direction in FIG. 1), Y axis (depth direction in FIG. 1), and Z axis (up and down direction in FIG. 1). The anisotropic conductivity is a property of conducting only in the Z axis. These electrical conductivity can be suitably selected according to the usage mode of a printed wiring board.

熱硬化性樹脂は、水酸基およびカルボキシル基のうち少なくともいずれか一方を有することが好ましい。具体的には、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタンウレア樹脂、シリコーン樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂、アミドイミド樹脂、エラストマー樹脂およびゴム樹脂等が挙げられる。上記樹脂は、単独または2種類以上を併用できる。   The thermosetting resin preferably has at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group. Specific examples include acrylic resins, epoxy resins, polyester resins, urethane resins, urethane urea resins, silicone resins, amide resins, imide resins, amideimide resins, elastomer resins, and rubber resins. The above resins can be used alone or in combination of two or more.

熱硬化性樹脂は、硬化剤を使用して硬化することが好ましい。前記硬化剤は、熱硬化性樹脂の架橋性官能基と反応できる官能基を1つ以上有する化合物であれば良く、限定されない。架橋性官能基がカルボキシル基の場合、硬化剤は、エポキシ化合物、アリジリン化合物、イソシアネート化合物、ポリオール化合物、アミン化合物、メラミン化合物、シラン系、カルボジイミド系化合物、金属キレート化合物等が好ましい。
また、架橋性官能基が水酸基の場合、硬化剤は、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、カルボジイミド化合物、金属キレート化合物が好ましい。また、架橋性官能基がアミノ基の場合、硬化剤は、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、カルボジイミド化合物、金属キレート化合物が好ましい。これらの硬化剤は、1 種または2 種以上使用できる。
The thermosetting resin is preferably cured using a curing agent. The curing agent is not limited as long as it is a compound having at least one functional group capable of reacting with the crosslinkable functional group of the thermosetting resin. When the crosslinkable functional group is a carboxyl group, the curing agent is preferably an epoxy compound, an alidiline compound, an isocyanate compound, a polyol compound, an amine compound, a melamine compound, a silane-based, carbodiimide-based compound, a metal chelate compound, or the like.
When the crosslinkable functional group is a hydroxyl group, the curing agent is preferably an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, a carbodiimide compound, or a metal chelate compound. When the crosslinkable functional group is an amino group, the curing agent is preferably an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, a carbodiimide compound, or a metal chelate compound. These curing agents can be used alone or in combination of two or more.

導電性成分は、導電性微粒子、導電性繊維、およびカーボンナノチューブ等から適宜選択して使用できる。導電性微粒子は、金、銀、銅、鉄、ニッケル、およびアルミニウム等の金属、ないしその合金、ないしカーボンブラック、フラーレン、および黒鉛等の無機材料等が挙げられる。また、銅粒子の表面を銀で被覆した銀被覆銅微粒子も挙げられる。   The conductive component can be appropriately selected from conductive fine particles, conductive fibers, carbon nanotubes, and the like. Examples of the conductive fine particles include metals such as gold, silver, copper, iron, nickel, and aluminum, alloys thereof, and inorganic materials such as carbon black, fullerene, and graphite. Moreover, the silver coating copper fine particle which coat | covered the surface of the copper particle with silver is also mentioned.

導電性接着剤層は、さらに、粘着付与樹脂、イオン捕集剤、無機フィラー、金属不活性化剤、難燃剤、光重合開始剤、帯電防止剤、および酸化防止剤等を適宜選択して含むことができる。導電性接着剤層の厚みは、通常10〜80μm程度である。   The conductive adhesive layer further includes a tackifying resin, an ion scavenger, an inorganic filler, a metal deactivator, a flame retardant, a photopolymerization initiator, an antistatic agent, an antioxidant, and the like as appropriate. be able to. The thickness of the conductive adhesive layer is usually about 10 to 80 μm.

<配線回路基板>
配線回路基板6は、絶縁層4aおよび4b、接着剤層5aおよび5b、ならびにグランド配線回路7、ならびに配線回路8、ならびに絶縁基板9を備えている。また配線回路基板6は、グランド配線回路7上にビア11(Via)といわれる円柱状ないしすり鉢状の穴を備えている。
<Wiring circuit board>
The printed circuit board 6 includes insulating layers 4a and 4b, adhesive layers 5a and 5b, a ground wiring circuit 7, a wiring circuit 8, and an insulating substrate 9. The printed circuit board 6 has a cylindrical or mortar-shaped hole called a via 11 (Via) on the ground wiring circuit 7.

絶縁層4aおよび4bは、カバーレイフィルムともいい、少なくとも樹脂を含む。樹脂は、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、イレタンウレア樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、アミドイミド樹脂およびフェノール樹脂等が挙げられる。また、樹脂は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂および紫外線硬化性樹脂から適宜選択して使用できるが、耐熱性の面で熱硬化性樹脂が好ましい。これらの樹脂は、単独または2種類以上を併用できる。絶縁層4aおよび4bの厚みは、通常5〜50μm程度である。   The insulating layers 4a and 4b are also called cover lay films and contain at least a resin. Examples of the resin include acrylic resins, epoxy resins, polyester resins, urethane resins, ethane urethane resins, silicone resins, polyamide resins, polyimide resins, amideimide resins, and phenol resins. The resin can be appropriately selected from a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ultraviolet curable resin, and is preferably a thermosetting resin in terms of heat resistance. These resins can be used alone or in combination of two or more. The thickness of the insulating layers 4a and 4b is usually about 5 to 50 μm.

接着剤層5aおよび5bは、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、およびアミド樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。熱硬化樹脂に使用する硬化剤は、エポキシ硬化剤、イソシアネート硬化剤、およびアリジリン硬化剤等が挙げられる。接着剤層5aおよび5bは、絶縁層4aおよび4bと、グランド配線回路7および配線回路8を備えた絶縁基板9とを接着するために使用し、絶縁性を有する。接着剤層5aおよび5bの厚みは、通常1〜20μm程度である。   Examples of the adhesive layers 5a and 5b include thermosetting resins such as acrylic resins, epoxy resins, polyester resins, urethane resins, silicone resins, and amide resins. Examples of the curing agent used for the thermosetting resin include an epoxy curing agent, an isocyanate curing agent, and an alidiline curing agent. The adhesive layers 5a and 5b are used for bonding the insulating layers 4a and 4b to the insulating substrate 9 including the ground wiring circuit 7 and the wiring circuit 8, and have insulating properties. The thickness of the adhesive layers 5a and 5b is usually about 1 to 20 μm.

グランド配線回路7および配線回路8は、銅等の導電性金属層をエッチングして形成する方法、ないし導電性ペーストを印刷することで形成する方法が一般的である。図示はしないが配線回路基板6は、グランド配線回路7および配線回路8を複数有することができる。グランド配線回路7は、グランド電位を保つ回路であり、配線回路8は、電子部品等に電気信号を送信する回路である。グランド配線回路7および配線回路8の厚みは、それぞれ通常5〜50μm程度である。   The ground wiring circuit 7 and the wiring circuit 8 are generally formed by etching a conductive metal layer such as copper or by printing a conductive paste. Although not shown, the printed circuit board 6 can have a plurality of ground wiring circuits 7 and wiring circuits 8. The ground wiring circuit 7 is a circuit that maintains a ground potential, and the wiring circuit 8 is a circuit that transmits an electrical signal to an electronic component or the like. The thicknesses of the ground wiring circuit 7 and the wiring circuit 8 are usually about 5 to 50 μm, respectively.

絶縁基板9は、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェレンサルファイド、ポリエチレンテレフタレート、および、ポリエチレンナフタレート等の絶縁性を有するフィルムであり、配線回路基板6のベース材である。絶縁基板9は、リフロー工程を行なう場合、ポリフェレンサルファイドおよびポリイミドが好ましく、リフロー工程を行なわない場合、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。絶縁基板9の厚みは、通常5〜100μm程度である。   The insulating substrate 9 is a film having insulating properties such as polyimide, polyamideimide, polyferene sulfide, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and is a base material for the printed circuit board 6. The insulating substrate 9 is preferably polyferene sulfide and polyimide when the reflow process is performed, and is preferably polyethylene terephthalate when the reflow process is not performed. The thickness of the insulating substrate 9 is usually about 5 to 100 μm.

ビア11は、グランド配線回路7および配線回路8から適宜選択した回路パターンの一部を露出するためにエッチングやレーザー等により形成される。図1によるとビア11によりグランド配線回路7の一部が露出しており導電接着剤層3を介してグランド配線回路7と金属補強板2とが電気的に接続されている。ビア11の直径は、通常0.5〜2μm程度である。   The via 11 is formed by etching, laser, or the like in order to expose a part of the circuit pattern appropriately selected from the ground wiring circuit 7 and the wiring circuit 8. According to FIG. 1, a part of the ground wiring circuit 7 is exposed by the via 11, and the ground wiring circuit 7 and the metal reinforcing plate 2 are electrically connected through the conductive adhesive layer 3. The diameter of the via 11 is usually about 0.5 to 2 μm.

プリント配線板1は、通常、電磁波シールドシートを備える。電磁波シールドシートは、絶縁層101、金属膜102、および導電性接着剤層103を備えるのが一般的であり、配線回路8を流れる電気信号が高周波である場合は、特に好ましい。一方、図示しないが、配線回路8を流れる電気信号が比較的低周波である場合、電磁波シールドシートは、少なくとも絶縁層101および導電性接着剤層103を備えていれば良い。   The printed wiring board 1 usually includes an electromagnetic wave shield sheet. The electromagnetic wave shielding sheet generally includes an insulating layer 101, a metal film 102, and a conductive adhesive layer 103, and is particularly preferable when an electrical signal flowing through the wiring circuit 8 is a high frequency. On the other hand, although not shown, when the electric signal flowing through the wiring circuit 8 has a relatively low frequency, the electromagnetic wave shielding sheet only needs to include at least the insulating layer 101 and the conductive adhesive layer 103.

絶縁層101は、絶縁基板9で説明した絶縁性を有するフィルムを使用する他に、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、およびアミド樹脂等の熱硬化性樹脂を適宜選択して形成することもできる。絶縁層101の厚みは、通常2〜20μm程度が好ましい   For the insulating layer 101, in addition to using the insulating film described in the insulating substrate 9, a thermosetting resin such as an acrylic resin, an epoxy resin, a polyester resin, a urethane resin, a silicone resin, and an amide resin is appropriately selected. It can also be formed. The thickness of the insulating layer 101 is usually preferably about 2 to 20 μm.

金属膜102は、金、銀、銅、アルミニウム、および鉄等の導電性金属、ならびにこれらの合金から形成した被膜が好ましく、コスト面から銅がより好ましい。また金属膜102は、圧延金属箔、電解金属箔、スパッタ膜ならびに蒸着膜から適宜選択できるが、コスト面から圧延金属箔が好ましく、圧延銅箔がより好ましい。金属膜102の厚さは、金属箔の場合、0.1〜20μm程度が好ましく、スパッタ膜の場合、0.05〜5.0μm程度が好ましく、蒸着膜の場合、10〜500nm程度が好ましい。なお、スパッタ膜を形成する場合は、ITO(酸化インジウムスズ)またはATO(三酸化アンチモン)を使用することが好ましく、蒸着膜を形成する場合は、金、銀、銅、アルミニウムまたはニッケルを使用することが好ましい。   The metal film 102 is preferably a film formed of a conductive metal such as gold, silver, copper, aluminum, and iron, and an alloy thereof, and copper is more preferable from the viewpoint of cost. The metal film 102 can be appropriately selected from a rolled metal foil, an electrolytic metal foil, a sputtered film, and a deposited film, but a rolled metal foil is preferable and a rolled copper foil is more preferable from the viewpoint of cost. The thickness of the metal film 102 is preferably about 0.1 to 20 μm in the case of a metal foil, about 0.05 to 5.0 μm in the case of a sputtered film, and preferably about 10 to 500 nm in the case of a deposited film. In addition, when forming a sputtered film, it is preferable to use ITO (indium tin oxide) or ATO (antimony trioxide), and when forming a vapor deposition film, gold, silver, copper, aluminum, or nickel is used. It is preferable.

導電性接着剤層103は、導電性接着剤層3で説明した原料を含むことが好ましい。導電性接着剤層103の厚みは、2〜20μm程度が好ましい。   The conductive adhesive layer 103 preferably includes the raw materials described in the conductive adhesive layer 3. The thickness of the conductive adhesive layer 103 is preferably about 2 to 20 μm.

<プリント配線板の製造方法>
本発明のプリント配線板の製造方法は、少なくとも配線回路基板6、導電性接着剤層3、および金属補強板2を圧着する工程を備えていることが必要である。圧着は、例えば、配線回路基板6と電磁波シールドシートと圧着した後、導電性接着剤層3および金属補強板2を重ね圧着を行い、次いで電子部品を実装する方法が挙げられるが、圧着の順序は限定されない。本発明では配線回路基板6、導電性接着剤層3、および金属補強板2を圧着する工程を備えていれば良く、他の工程は、プリント配線板の構成ないし使用態様に応じて適宜変更できる。
前記圧着は、導電性接着剤層3が熱硬化型樹脂を含む場合、硬化促進の観点から同時に加熱することが特に好ましい。一方、導電性接着剤層3が熱可塑性樹脂を含む場合であっても密着が強固になり易いため加熱することが好ましい。加熱は150〜180℃程度が好ましく、圧着は、3〜30kg/cm程度が好ましい。圧着装置は、平板圧着機またはロール圧着機を使用できるが、平板圧着機を使用する場合、一定の圧力を一定の時間かけることができるため好ましい。圧着時間は、配線回路基板6、導電性接着剤層3、および金属補強板2が十分密着すればよいので特に限定されないが、通常1分〜2時間程度である。
<Method for manufacturing printed wiring board>
The method for producing a printed wiring board of the present invention needs to include a step of crimping at least the printed circuit board 6, the conductive adhesive layer 3, and the metal reinforcing plate 2. Examples of the crimping include a method in which after the printed circuit board 6 and the electromagnetic wave shielding sheet are crimped, the conductive adhesive layer 3 and the metal reinforcing plate 2 are laminated and crimped, and then an electronic component is mounted. Is not limited. In this invention, what is necessary is just to provide the process of crimping | bonding the wiring circuit board 6, the conductive adhesive layer 3, and the metal reinforcement board 2, and another process can be suitably changed according to the structure thru | or use aspect of a printed wiring board. .
In the case where the conductive adhesive layer 3 contains a thermosetting resin, the pressure bonding is particularly preferably performed simultaneously from the viewpoint of acceleration of curing. On the other hand, even when the conductive adhesive layer 3 includes a thermoplastic resin, it is preferable to heat the adhesive adhesive layer 3 because adhesion is likely to be strong. The heating is preferably about 150 to 180 ° C., and the pressure bonding is preferably about 3 to 30 kg / cm 2 . As the crimping apparatus, a flat plate crimping machine or a roll crimping machine can be used. However, when a flat plate crimping machine is used, it is preferable because a certain pressure can be applied for a certain period of time. The crimping time is not particularly limited as long as the printed circuit board 6, the conductive adhesive layer 3, and the metal reinforcing plate 2 are sufficiently adhered to each other, but is usually about 1 minute to 2 hours.

本発明のプリント配線板は、例えば、携帯電話、スマートフォン、ノートPC、デジタルカメラ、液晶ディスプレイ等の電子機器に搭載する(備える)ことはもとより、自動車、電車、船舶、航空機等の輸送機器にも好適に搭載できる(備える)ことができる。   The printed wiring board of the present invention is mounted (provided) on an electronic device such as a mobile phone, a smartphone, a notebook PC, a digital camera, and a liquid crystal display, and also on a transportation device such as an automobile, a train, a ship, and an aircraft. It can be suitably mounted (equipped).

以下、実施例を示して本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、「部」は「質量部」を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. “Part” means “part by mass”.

評価に使用した部材は、下記の通りである。   The members used for the evaluation are as follows.

<導電性接着シートA>
熱硬化性ポリアミド樹脂(酸価=10mgKOH/g、トーヨーケム社製)を100部、導電性微粒子(核体に銅、被覆層に銀を使用した樹枝状粒子D50平均粒子径=12μm、福田金属箔粉工業社製) を400部容器に仕込み、不揮発分濃度が40質量%になるようトルエン: イソプロピルアルコール(質量比=2:1)の混合溶剤を加えて混合した。次いでビスフェノールA型エポキシ樹脂(「JER828」(エポキシ当量=189g/eq)三菱化学社製)を40部、およびアミン系エポキシ硬化剤(「YN100」三菱化学社製)15部を加えディスパーで10分攪拌して導電性樹脂組成物を作製した。得られた導電性樹脂組成物を、ドクターブレードを使用して、乾燥後の厚みが60μmになるように剥離性フィルムの離形処理された面上に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥することで導電性接着シートAを得た。
<Conductive adhesive sheet A>
100 parts of thermosetting polyamide resin (acid value = 10 mg KOH / g, manufactured by Toyochem), conductive fine particles (dendritic particles D50 using copper as the core and silver as the coating layer, average particle size = 12 μm, Fukuda Metal Foil) (Made by Kogyo Kogyo Co., Ltd.) was added to a 400-part container, and a mixed solvent of toluene: isopropyl alcohol (mass ratio = 2: 1) was added and mixed so that the nonvolatile content concentration was 40% by mass. Next, 40 parts of bisphenol A type epoxy resin (“JER828” (epoxy equivalent = 189 g / eq), manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and 15 parts of amine type epoxy curing agent (“YN100” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) were added, and 10 minutes with a disper. The conductive resin composition was produced by stirring. The obtained conductive resin composition was applied on the release-treated surface of the peelable film using a doctor blade so that the thickness after drying was 60 μm. The conductive adhesive sheet A was obtained by drying for minutes.

<配線回路基板>
銅張積層板;エスパーフレックス(厚さ8μm銅箔/厚さ38μmポリイミド 住友金属鉱山社製)
<Wiring circuit board>
Copper-clad laminate; Esperflex (8 μm thick copper foil / 38 μm thick polyimide manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.)

<金属補強板>
市販ステンレス板に対して、各種のメッキによって保護層表面のクロム原子濃度が、1〜20%である保護層を形成した。軟質金メッキ、硬質金メッキ、銀メッキ、パラジウムめっきおよび白金メッキの条件を公知の方法で調整してサンプリングを行ない、保護層の厚みと表面粗さRaがそれぞれ異なる保護層を有するステンレス板(以下、単にSUS板という)1〜16(SUS1〜16)を得た。ステンレス板表面に軟質金メッキを行わずに、ステンレス板表面に電解ニッケルメッキのみを行うことで、ニッケル層のみ有するステンレス板17(SUS17)を得た。別途、ステンレス板17(SUS17)に軟質金メッキを形成してステンレス板18(SUS18)を得た。そして各SUS板を、厚さ0.2mm・幅30mm・長さ150mmの試験板A、および厚さ0.2mm・幅30mm・長さ50mmの大きさの試験板Bに準備した。なお分析用試験板は別途準備した。
<Metal reinforcement plate>
A protective layer having a chromium atom concentration of 1 to 20% on the surface of the protective layer was formed on the commercially available stainless steel plate by various plating methods. A stainless steel plate (hereinafter simply referred to as “protective layer”) having a protective layer with a different thickness and surface roughness Ra, and adjusting the conditions of soft gold plating, hard gold plating, silver plating, palladium plating and platinum plating by a known method. SUS plates) 1 to 16 (SUS1 to 16) were obtained. Stainless steel plate 17 (SUS17) having only a nickel layer was obtained by performing only electrolytic nickel plating on the stainless steel plate surface without performing soft gold plating on the stainless steel plate surface. Separately, soft gold plating was formed on the stainless steel plate 17 (SUS17) to obtain a stainless steel plate 18 (SUS18). Each SUS plate was prepared as a test plate A having a thickness of 0.2 mm, a width of 30 mm, and a length of 150 mm, and a test plate B having a thickness of 0.2 mm, a width of 30 mm, and a length of 50 mm. An analytical test plate was prepared separately.

得られたSUS板(SUS1〜18)について、それぞれ下記に示す方法により分析を行った。結果は、表1に記した。   About the obtained SUS board (SUS1-18), it analyzed by the method shown below, respectively. The results are shown in Table 1.

[クロム表面原子濃度(Cr濃度)]
専用台座に両面粘着テープを貼り、SUS板を固定したものを測定試料とした。測定試料を下記条件で、3箇所場所を変えて測定した。
装置:AXIS−HS(島津製作所社製/Kratos)
試料チャンバー内真空度:1×10−8Torr以下
X線源:Dual(Al)15kV,5mA Pass energy 80eV
Step:0.1 eV/Step
Speed:120秒/元素
Dell:300、積算回数:5
光電子取り出し角:試料表面に対して90度
結合エネルギー:C1s主ピークを284.6eVとしてシフト補正
Au(4f)ピーク領域:80〜92eV
Ag(3d)ピーク領域:376〜362eV
Pd(3d)ピーク領域:332〜348eV
Pt(4f)ピーク領域:69〜82eV
Ni(2p)ピーク領域:848〜890eV
Cr(2p)ピーク領域:572〜583eV
[Chromium surface atom concentration (Cr concentration)]
A measurement sample was obtained by attaching a double-sided adhesive tape to a dedicated pedestal and fixing a SUS plate. The measurement sample was measured under the following conditions at three locations.
Apparatus: AXIS-HS (manufactured by Shimadzu Corporation / Kratos)
Vacuum degree in sample chamber: 1 × 10 −8 Torr or less X-ray source: Dual (Al) 15 kV, 5 mA Pass energy 80 eV
Step: 0.1 eV / Step
Speed: 120 seconds / element Dell: 300, integration number: 5
Photoelectron extraction angle: 90 degrees with respect to the sample surface Binding energy: C1s main peak is 284.6 eV, shift correction Au (4f) peak region: 80-92 eV
Ag (3d) peak area: 376 to 362 eV
Pd (3d) peak area: 332-348 eV
Pt (4f) peak area: 69 to 82 eV
Ni (2p) peak region: 848-890 eV
Cr (2p) peak area: 572-583 eV

上記ピーク領域に出現したピークをスムージング処理し、直線法にてベースラインを引き、貴金属等およびクロムの表面原子濃度「Atomic Conc」を求めた。
得られた貴金属の表面原子濃度およびクロムの表面原子濃度の合計100%中のクロムの表面原子濃度について、3箇所の値の平均値を求め、保護層表面のクロム原子濃度を求めた。
The peak that appeared in the peak region was smoothed, and a baseline was drawn by a linear method to determine the surface atomic concentration “Atomic Con” of noble metals and chromium.
With respect to the surface atom concentration of chromium in the total surface atom concentration of the obtained noble metal and chromium, the average value of three values was determined to determine the chromium atom concentration on the surface of the protective layer.

[表面粗さ(Ra)]
表面粗さRaは、JISB0601:2001に準じて、次の条件で測定した。
Raは算術平均粗さRaを指し、規定された中心線平均粗さであり、その基準粗さを1mmとした場合の中心線平均粗さを言う。上記のSUS板を、接触式表面粗さ計(「SURFCOM480A」東京精密社製)を使用し、測定速度0.03mm/s、測定長さ2mm、カットオフ値0.8mmの条件で表面粗さRaを測定した。測定場所を変えて得られた5 か所のRaの平均値をRaとした。
[Surface roughness (Ra)]
The surface roughness Ra was measured according to JISB0601: 2001 under the following conditions.
Ra refers to the arithmetic average roughness Ra, is a defined centerline average roughness, and refers to the centerline average roughness when the reference roughness is 1 mm. Using the contact type surface roughness meter ("SURFCOM 480A" manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.), the above SUS plate was subjected to surface roughness under the conditions of a measurement speed of 0.03 mm / s, a measurement length of 2 mm, and a cutoff value of 0.8 mm. Ra was measured. Ra was an average value of 5 Ras obtained by changing the measurement location.

「実施例1〜14、および比較例1〜4」
<試験用積層体の作製>
導電性接着シートAを幅25mm・長さ100mmの大きさに準備した。次いで剥離性シート上の露出した導電性接着剤層を表1に示す金属補強板(SUS1〜18)から得られた試験板Aの上に載せ、ロールラミネーター(SA−1010小型卓上テストラミネーターテスター産業株式会社)90℃、3kgf/cm、1m/分で仮止めした。そして、剥離性シートを剥がして、露出した導電性接着剤層に銅張積層板のエスパーフレックスのポリイミド面が導電性接着剤層と接するように載せ、上記同様のロールラミネート条件で仮止した。そして、これらを170℃、2MPa、5分の条件で圧着をした後、160℃の電気オーブンで60分間加熱を行なうことで積層体を得た。
得られた積層体を用いて、プリント配線基板の評価を下記の方法で行った。
ただし、実施例1、5、6、および7は参考例である。
"Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 4"
<Preparation of test laminate>
The conductive adhesive sheet A was prepared to have a width of 25 mm and a length of 100 mm. Next, the exposed conductive adhesive layer on the peelable sheet is placed on the test plate A obtained from the metal reinforcing plate (SUS1-18) shown in Table 1, and a roll laminator (SA-1010 small tabletop test laminator tester industry). Ltd.) Temporarily fixed at 90 ° C., 3 kgf / cm 2 , 1 m / min. Then, the peelable sheet was peeled off and placed on the exposed conductive adhesive layer so that the polyimide surface of the Esperflex of the copper clad laminate was in contact with the conductive adhesive layer, and temporarily fixed under the same roll laminating conditions as described above. And after crimping | bonding these on 170 degreeC, 2 Mpa, and the conditions for 5 minutes, the laminated body was obtained by heating for 60 minutes with a 160 degreeC electric oven.
Using the obtained laminate, the printed wiring board was evaluated by the following method.
However, Examples 1, 5, 6, and 7 are reference examples.

<剥離強度>
得られた積層体について、導電性接着剤層と試験板との剥離強度を測定するために23℃相対湿度50%の雰囲気下で、引っ張り速度50mm/分でTピール剥離試験をおこない、常温(23℃)の剥離強度(N/cm)を測定した。試験機は小型卓上試験機(EZ−TEST 島津製作所社製)を用いた。なお、剥離強度は、接着力ともいう。
<Peel strength>
In order to measure the peel strength between the conductive adhesive layer and the test plate, the obtained laminate was subjected to a T-peel peel test at 23 ° C. and 50% relative humidity at a pulling rate of 50 mm / min. 23 ° C.) peel strength (N / cm) was measured. A small desktop testing machine (EZ-TEST, manufactured by Shimadzu Corporation) was used as the testing machine. Note that the peel strength is also referred to as adhesive strength.

リフロー後の剥離強度を測定するために得られた積層体を小型リフロー機(SOLSYS−62501RTP アントム社製)を使用してピーク温度を260℃にしてリフロー処理を行なった。前記積層体を23℃相対湿度50%の雰囲気下で1時間放置した後、同雰囲気下、上記同様の方法でリフロー後の剥離強度(N/cm)を測定した。なお、剥離強度は以下の基準で評価した。

○:剥離強度が6N/cm以上
△:剥離強度が3N/cm以上、6N/cm未満
×:剥離強度が3N/cm未満
The laminate obtained for measuring the peel strength after reflow was subjected to a reflow treatment using a small reflow machine (SOLSYS-62501RTP manufactured by Antom Co., Ltd.) at a peak temperature of 260 ° C. The laminate was allowed to stand for 1 hour in an atmosphere of 23 ° C. and 50% relative humidity, and then the peel strength (N / cm) after reflow was measured in the same manner as described above. The peel strength was evaluated according to the following criteria.

○: Peel strength is 6 N / cm or more Δ: Peel strength is 3 N / cm or more and less than 6 N / cm ×: Peel strength is less than 3 N / cm

<ハンダフロート試験>
得られた積層体について金属補強板を下にして260℃の溶融ハンダに1分間浮かべた。次いで、溶融ハンダから取り出した直後の積層体について、積層体の側面から導電性接着剤層の外観を目視で確認し、次の基準で評価した。なお、評価には角型ハンダ槽(POT100C 太洋電機産業社製)を使用した。評価は、1サンプルあたり5回評価した。
ハンダフロート試験が良好であると、リフロー工程時の発泡が抑制されていることを示す。

○:5評価中、全てのサンプルに異常が見られなかった。優れている
△:5評価中、1または2評価に気泡が発生した。実用可
×:5評価中、3評価以上に気泡が発生した。実用不可
<Solder float test>
The obtained laminate was floated on molten solder at 260 ° C. for 1 minute with the metal reinforcing plate down. Subsequently, about the laminated body immediately after taking out from molten solder, the external appearance of the electroconductive adhesive layer was confirmed visually from the side surface of the laminated body, and the following reference | standard evaluated. In addition, a square solder tank (POT100C manufactured by Taiyo Electric Industry Co., Ltd.) was used for the evaluation. Evaluation was performed 5 times per sample.
A good solder float test indicates that foaming during the reflow process is suppressed.

○: During 5 evaluations, no abnormality was observed in all samples. Excellent Δ: During 5 evaluations, bubbles were generated in 1 or 2 evaluations. Practical use ×: During 5 evaluations, bubbles were generated more than 3 evaluations. Impractical

<接続抵抗値>
上記<試験用積層体の作製>で使用した導電性接着シートAの大きさを幅10mm・長さ50mmの大きさに換え、試験板Aと同様にして作製した試験板Bに変更した以外は、<試験用積層体の作製>と同様に行うことで積層体を得た。得られた積層体について、抵抗率計(ロレスターGP MCP−T600 三菱化学社製)を用い、2端子法で接続抵 抗値を測定した。その後、85℃相対湿度85%のオーブンに上記サンプルを投入し、500時間後の抵抗値を測定した。なお、接続抵抗値は以下の基準で評価した。
500時間後の接続抵抗値が良好であると、長期にわたって導電性を維持できていることを示す。

○:接続抵抗値が20mΩ/□未満
△:接続抵抗値が20mΩ/□以上、40mΩ/□未満
×:接続抵抗値が40mΩ/□以上
<Connection resistance value>
Except for changing the size of the conductive adhesive sheet A used in <Preparation of test laminate> to a size of 10 mm in width and 50 mm in length and changing it to test plate B prepared in the same manner as test plate A The laminate was obtained in the same manner as in <Preparation of test laminate>. About the obtained laminated body, the connection resistance value was measured by a two-terminal method using a resistivity meter (Lorestar GP MCP-T600 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). Thereafter, the sample was put into an oven at 85 ° C. and a relative humidity of 85%, and the resistance value after 500 hours was measured. The connection resistance value was evaluated according to the following criteria.
If the connection resistance value after 500 hours is good, it indicates that the conductivity can be maintained for a long time.

○: Connection resistance value is less than 20 mΩ / □ Δ: Connection resistance value is 20 mΩ / □ or more, less than 40 mΩ / □ ×: Connection resistance value is 40 mΩ / □ or more

表1〜3の結果から、ステンレス板である金属板と保護層とを有し、保護層は、貴金属およびその合金から形成されてなり、保護層表面のクロム原子濃度が1〜20%である、金属補強板を有する本発明のプリント配線基板は、リフロー工程を経た後にも気泡が生じ難く、導電性接着剤層と金属板とが良好な接着力を有し、グランド回路と金属板との導電性が良好であった。
これに対し、比較例のプリント配線板は、グランド回路と金属補強板との導電性、剥離強度、およびハンダフロート性のすべてを満足することはできなかった。
From the result of Tables 1-3, it has a metal plate which is a stainless steel plate, and a protective layer, and the protective layer is formed of a noble metal and its alloy, and the chromium atom concentration on the surface of the protective layer is 1 to 20%. The printed wiring board of the present invention having a metal reinforcing plate is less likely to generate bubbles even after the reflow process, and the conductive adhesive layer and the metal plate have a good adhesive force. The conductivity was good.
On the other hand, the printed wiring board of the comparative example could not satisfy all of the electrical conductivity, peel strength, and solder floatability between the ground circuit and the metal reinforcing plate.

そのため、本発明の、機械的強度および導電性に優れるプリント配線板を備える電子機器は、内部に実装された電子部品が発する電磁波ノイズまたは外部から侵入する電磁波ノイズを原因とした誤作動を、長期にかつ安定に防止することが可能である。
また、上記プリント配線板は導電性接着剤層と金属板とが良好な接着力を有しているため、これを使用した電子機器は、振動や落下に強く、長期にわたって安定した動作を保つことができる。
For this reason, the electronic device including the printed wiring board having excellent mechanical strength and conductivity according to the present invention has a long-term malfunction caused by electromagnetic noise generated by an electronic component mounted inside or electromagnetic noise entering from the outside. It is possible to prevent it stably and stably.
In addition, since the printed wiring board has a good adhesive strength between the conductive adhesive layer and the metal plate, electronic devices using the printed wiring board are resistant to vibration and dropping, and maintain stable operation over a long period of time. Can do.

1 プリント配線板
2 金属補強板
2a 金属板
2b 保護層
3 導電性接着剤層
4a 絶縁層
4b 絶縁層
5a 接着剤層
5b 接着剤層
6 配線回路基板
7 グランド配線回路
8 配線回路
9 絶縁基材
10 電子部品
11 ビア
101 絶縁層
102 金属膜
103 導電性接着剤層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed wiring board 2 Metal reinforcement board 2a Metal board 2b Protective layer 3 Conductive adhesive layer 4a Insulating layer 4b Insulating layer 5a Adhesive layer 5b Adhesive layer 6 Wiring circuit board 7 Ground wiring circuit 8 Wiring circuit 9 Insulating base material 10 Electronic component 11 Via 101 Insulating layer 102 Metal film 103 Conductive adhesive layer

Claims (5)

配線回路基板、導電性接着剤層、および金属補強板を備え、前記導電性接着剤層は、前記配線回路基板および金属補強板に対してそれぞれ接着し、
前記金属補強板は、金属板の表面に保護層を有し、
前記金属板はステンレス板であって、
前記保護層は貴金属、またはその合金から形成されてなり、保護層表面のクロム原子濃度が3〜17%であって、
さらに、前記保護層の表面粗さRaが0.2μm以上であり、
前記表面粗さRaを1としたときの前記保護層の厚みの割合が、0.001〜0.3であることを特徴とするプリント配線板。
A wiring circuit board, a conductive adhesive layer, and a metal reinforcing plate, wherein the conductive adhesive layer is bonded to the wiring circuit board and the metal reinforcing plate,
The metal reinforcing plate has a protective layer on the surface of the metal plate,
The metal plate is a stainless steel plate,
The protective layer is formed of a noble metal or an alloy thereof, and the chromium atom concentration on the surface of the protective layer is 3 to 17 % ,
Furthermore, the surface roughness Ra of the protective layer is 0.2 μm or more,
The printed wiring board , wherein the thickness ratio of the protective layer when the surface roughness Ra is 1 is 0.001 to 0.3 .
保護層が、導電性接着剤層と接する界面全面に形成されてなる、請求項1記載のプリント配線板。The printed wiring board according to claim 1, wherein the protective layer is formed on the entire interface in contact with the conductive adhesive layer. 前記保護層は、金、銀、白金、およびパラジウムのいずれか1種からなる単一またはこれらの合金から形成されてなることを特徴とする請求項1または2の記載のプリント配線板。   3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the protective layer is formed of a single material made of any one of gold, silver, platinum, and palladium, or an alloy thereof. 前記保護層は、軟質金メッキであることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 1, wherein the protective layer is soft gold plating. 請求項1〜4いずれか1項記載のプリント配線板を備えた、電子機器。
The electronic device provided with the printed wiring board of any one of Claims 1-4.
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