JP6118094B2 - Pixel peripheral recording image sensor - Google Patents

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Description

本発明は、画素周辺記録型撮像素子に関する。   The present invention relates to a pixel peripheral recording type imaging device.

高速度撮影に使用される高速度撮像素子として、従来、最高撮影速度が100万枚/秒の超高速度撮影が可能な斜行直線CCDメモリを持つ画素周辺記録型撮像素子が知られている(例えば、特許文献1参照)。   As a high-speed imaging device used for high-speed imaging, a pixel peripheral recording type imaging device having an oblique linear CCD memory capable of ultra-high-speed imaging with a maximum imaging speed of 1 million images / second is conventionally known. (For example, refer to Patent Document 1).

また、より高速度撮影の可能な従来の画素周辺記録型撮像素子として、配線面積を小さくし、素子の高集積化を図るため、稲妻バスラインと称されるジグザグ形状の配線構造を持つものが知られている(例えば、特許文献2参照)。   In addition, as a conventional pixel peripheral recording type imaging device capable of high-speed photography, there is a device having a zigzag wiring structure called a lightning bus line in order to reduce the wiring area and increase the integration of the element. It is known (see, for example, Patent Document 2).

また、分割駆動と配線抵抗の低減により、最高撮影速度が200万枚/秒の画素周辺記録型撮像素子が知られている(例えば、特許文献3参照)。この画素周辺記録型撮像素子では、画素部を4分割駆動とし、画素配線抵抗をこれまでの2分の1に低減している。   Further, a pixel peripheral recording type imaging device having a maximum photographing speed of 2 million frames / second is known by dividing driving and reducing wiring resistance (for example, see Patent Document 3). In this pixel peripheral recording type image pickup device, the pixel portion is driven in four divisions, and the pixel wiring resistance is reduced to one half of the conventional one.

図12に、特許文献3に記載されている画素周辺記録型撮像素子の画素領域400の一部の周囲の配線構成を模式化した図を示す。図12に示す画素領域400は、撮像素子全体の画素領域を4ブロックに分割したものの1ブロックである。画素領域400の副画素領域は、X方向に80画素が並べられており、Y方向に410画素が並べられている。なお、明細書を通じて、X方向およびY方向は、直交座標の座標軸を意味するものとする。   FIG. 12 schematically shows a wiring configuration around a part of the pixel region 400 of the pixel peripheral recording type image pickup element described in Patent Document 3. As shown in FIG. A pixel region 400 shown in FIG. 12 is one block obtained by dividing the pixel region of the entire image sensor into four blocks. In the sub-pixel area of the pixel area 400, 80 pixels are arranged in the X direction and 410 pixels are arranged in the Y direction. Throughout the specification, the X direction and the Y direction mean coordinate axes of orthogonal coordinates.

図12に示す画素領域400の一部の副画素領域の周囲の配線構成は、入力電極部500の入力電極510〜580の電極パッド部分と出力電極710〜780とが接続された構成になっている。なお、出力電極710〜780は、画素領域400のY方向端部に対向する位置に配置されているドライバ回路120aのパッケージ700に設けられている。   The wiring configuration around a part of the sub-pixel region of the pixel region 400 shown in FIG. 12 is a configuration in which the electrode pad portions of the input electrodes 510 to 580 of the input electrode unit 500 and the output electrodes 710 to 780 are connected. Yes. Note that the output electrodes 710 to 780 are provided in the package 700 of the driver circuit 120 a that is disposed at a position facing the Y direction end of the pixel region 400.

出力電極710〜780は、ドライバ回路120aの図示しないパルス生成部から出力される8種類の駆動系信号、つまり、露光パルスφPG1,φPG2、蓄積転送パルスφM1,φM2,φM3,φM4、および垂直転送パルスφV2,φV4を出力する電極である。   The output electrodes 710 to 780 are eight kinds of drive system signals output from a pulse generation unit (not shown) of the driver circuit 120a, that is, exposure pulses φPG1, φPG2, accumulation transfer pulses φM1, φM2, φM3, φM4, and vertical transfer pulses. The electrodes output φV2 and φV4.

入力電極部500の入力電極510〜580は、例えばアルミニウム膜で形成されており、それぞれ、略矩形の電極パッド部分と、電極パッド部分から略X方向に延びた狭いアルミ配線部分とからなる。   The input electrodes 510 to 580 of the input electrode unit 500 are made of, for example, an aluminum film, and are each composed of a substantially rectangular electrode pad portion and a narrow aluminum wiring portion extending from the electrode pad portion in a substantially X direction.

入力電極510〜580の電極パッド部分は、X方向において互いに隣接し、各電極パッド部分は、Y方向において隣接する入力電極のアルミ配線部分と近接している。なお、入力電極510〜580の組は、隣接する副画素領域の入力電極と電気的に切断されていて、各副画素領域はそれぞれ別個のドライバ回路により駆動されている。   The electrode pad portions of the input electrodes 510 to 580 are adjacent to each other in the X direction, and each electrode pad portion is close to the aluminum wiring portion of the input electrode adjacent in the Y direction. Note that the set of the input electrodes 510 to 580 is electrically disconnected from the input electrodes of the adjacent subpixel regions, and each subpixel region is driven by a separate driver circuit.

入力電極510〜580の電極パッド部分と、出力電極710〜780とは、それぞれ、ボンディングワイヤ610〜680によって電気的に接続されている。   The electrode pad portions of the input electrodes 510 to 580 and the output electrodes 710 to 780 are electrically connected by bonding wires 610 to 680, respectively.

また、入力電極510〜580と、画素領域400内の各画素電極との間は、後述する通り、画素のY方向列ごとにタングステン配線510a〜580a、タングステン配線510b〜580b(以下、単に、「配線510a〜580a、配線510b〜580b」という)等によって電気的に接続されている。   Further, between the input electrodes 510 to 580 and each pixel electrode in the pixel region 400, as will be described later, tungsten wirings 510 a to 580 a and tungsten wirings 510 b to 580 b (hereinafter simply referred to as “ The wirings 510 a to 580 a and the wirings 510 b to 580 b ”are electrically connected.

図13に、8種類の駆動系配線の出力電極710〜780のうちの露光パルスφPG1,φPG2の駆動系配線の出力電極710,720に関する周囲配線構成部の模式図を示す。   FIG. 13 is a schematic diagram of a peripheral wiring configuration unit related to the output electrodes 710 and 720 of the driving system wirings of the exposure pulses φPG1 and φPG2 among the output electrodes 710 to 780 of the eight types of driving system wirings.

出力電極710,720と入力電極510,520とは、それぞれ、ボンディングワイヤ610,620によって電気的に接続されている。入力電極510,520から画素領域400の副画素領域内のY方向の各画素列の各画素電極までは配線510a〜580a等によって電気的に接続されている。   The output electrodes 710 and 720 and the input electrodes 510 and 520 are electrically connected by bonding wires 610 and 620, respectively. The input electrodes 510 and 520 are electrically connected to each pixel electrode of each pixel column in the Y direction in the sub-pixel region of the pixel region 400 by wirings 510a to 580a and the like.

電極パッド部を含む入力電極510,520等による配線を周囲配線と称し、入力電極510,520等から画素領域400の副画素領域内のY方向の各画素列の各画素電極まで接続されている配線510a〜580a等を内部配線と称する。また、画素間の配線抵抗を画素配線抵抗と称す。   Wiring by the input electrodes 510 and 520 including the electrode pad portion is referred to as peripheral wiring, and is connected from the input electrodes 510 and 520 to each pixel electrode of each pixel column in the Y direction in the sub-pixel region of the pixel region 400. The wirings 510a to 580a are referred to as internal wirings. Further, the wiring resistance between the pixels is referred to as pixel wiring resistance.

図14は、図13におけるA−A線断面の構成を模式化した断面図を示す。図14に示すように、半導体基板25上に絶縁膜24が形成されており、絶縁膜24中に複数の内部配線510a,520a,510b,520bおよび入力電極530の周囲配線が配置されている。内部配線510a,520a,510b,520bと周囲配線の入力電極530とは配線のレイヤが異なるので、それらは、図示しないコンタクトホールで接続した部分で導通している。なお、図の簡略化および明瞭化のために、図14では、半導体基板25、絶縁膜24、配線510a等および入力電極530の断面の表示は省略している。   FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the cross section along line AA in FIG. As shown in FIG. 14, an insulating film 24 is formed on the semiconductor substrate 25, and a plurality of internal wirings 510 a, 520 a, 510 b, 520 b and peripheral wirings for the input electrode 530 are arranged in the insulating film 24. Since the internal wirings 510a, 520a, 510b, and 520b and the input electrodes 530 of the peripheral wirings have different wiring layers, they are electrically connected at portions connected by contact holes (not shown). Note that for simplification and clarification of the drawing, in FIG. 14, display of cross sections of the semiconductor substrate 25, the insulating film 24, the wiring 510 a and the like and the input electrode 530 is omitted.

特開2001−345441号公報JP 2001-345441 A 特開2009−49146号公報JP 2009-49146 A 特開2011−239278号公報JP 2011-239278 A

図13に示すように、出力電極710はボンディングワイヤ610を経由して入力電極510の電極パッド部分に接続されている。この電極パッド部分から、X方向およびY方向にそれぞれ10画素および410画素配置された画素列の各列の各画素に、駆動信号の1相分(φPG1)の配線510aが接続されている。   As shown in FIG. 13, the output electrode 710 is connected to the electrode pad portion of the input electrode 510 via the bonding wire 610. A wiring 510a for one phase (φPG1) of the drive signal is connected from this electrode pad portion to each pixel in each of the pixel columns in which 10 pixels and 410 pixels are arranged in the X direction and Y direction, respectively.

また、図13に示すように、電極パッド部分からX方向に延びた狭い配線部分からは、配線510aが接続されている画素列に隣接する画素列の各列の各画素に、駆動信号の1相分(φPG1)の配線510bが接続されている。この隣接する画素列は、X方向およびY方向にそれぞれ10画素および410画素配置された画素列である。   Further, as shown in FIG. 13, from a narrow wiring portion extending in the X direction from the electrode pad portion, 1 of the drive signal is supplied to each pixel of each pixel column adjacent to the pixel column to which the wiring 510a is connected. A wiring 510b for the phase (φPG1) is connected. This adjacent pixel column is a pixel column in which 10 pixels and 410 pixels are arranged in the X direction and the Y direction, respectively.

図13に示すように、各配線510aは、電極パッド部分の画素領域400に近い側の端面に接続されている。したがって、入力電極510の電極パッド部分の下側の端面は、X方向右側に行くにつれて、左側の端面よりも画素領域400側に近づいている。   As shown in FIG. 13, each wiring 510a is connected to the end face of the electrode pad portion on the side close to the pixel region 400. Therefore, the lower end surface of the electrode pad portion of the input electrode 510 is closer to the pixel region 400 side than the left end surface as it goes to the right in the X direction.

また、図12から分かるように、電極パッド部分からX方向に延びた狭い配線部分の下側の端面は、電極パッド部分の下側の端面のX方向右端から上方に移行した位置から、右側に行くにつれて、その移行した位置よりも画素領域400側に近づいている。   Further, as can be seen from FIG. 12, the lower end surface of the narrow wiring portion extending in the X direction from the electrode pad portion is shifted to the right side from the position shifted upward from the right end in the X direction of the lower end surface of the electrode pad portion. As it goes, it is closer to the pixel region 400 side than the shifted position.

このように、電極パッド部分および狭い配線部分の下側端面の位置は、X方向右側に行くにつれて、画素領域400側に近づいている。   Thus, the position of the lower end face of the electrode pad portion and the narrow wiring portion approaches the pixel region 400 side as it goes to the right in the X direction.

このため、この電極パッド部分の下側の端面の左側の画素列の配線510aの長さは、その端面の右側の画素列の配線510aの長さよりも徐々に短くなっている。   For this reason, the length of the left pixel column wiring 510a on the lower end face of the electrode pad portion is gradually shorter than the length of the right pixel column wiring 510a on the end face.

また、電極パッド部分からX方向に延びた狭い配線部分の下側の端面に接続された配線510bのうち右側の配線510bの長さは、その左側の配線510bの長さよりも徐々に短くなっている。   The length of the right wiring 510b among the wirings 510b connected to the lower end surface of the narrow wiring portion extending in the X direction from the electrode pad portion is gradually shorter than the length of the left wiring 510b. Yes.

一方、出力電極710と入力電極510の電極パッド部分とは、1本のボンディングワイヤ610によって接続されており、また、電極パッド部分および電極パッド部分から延びた配線部分は電流通過量に対し十分な断面積を有する。このため、出力電極710から各配線510a、510bまでの電気的抵抗値はほぼ同一である。   On the other hand, the output electrode 710 and the electrode pad portion of the input electrode 510 are connected by a single bonding wire 610, and the electrode pad portion and the wiring portion extending from the electrode pad portion are sufficient for the amount of current passing. Has a cross-sectional area. For this reason, the electrical resistance value from the output electrode 710 to each wiring 510a, 510b is substantially the same.

したがって、入力電極510から画素領域400の副画素領域内の各画素列の各画素電極までの配線の抵抗値の相違は、各配線510a、510bの長さの相違で決まることになる。すなわち、各配線510a、510bの長さが大であると、ボンディングワイヤ610から画素領域400の副画素領域内の各画素列の各画素電極までの配線の抵抗値は大きくなる。   Accordingly, the difference in resistance value of the wiring from the input electrode 510 to each pixel electrode in each pixel column in the sub-pixel area of the pixel area 400 is determined by the difference in length between the wirings 510a and 510b. That is, if the length of each of the wirings 510a and 510b is large, the resistance value of the wiring from the bonding wire 610 to each pixel electrode of each pixel column in the sub-pixel region of the pixel region 400 increases.

図15は、図12に示す撮像素子の画素領域400の1ブロック(副画素領域)のボンディングワイヤ610等から画素領域400の副画素領域のY方向の各画素列の各画素電極までの配線の抵抗値を測定した結果を示すもので、各画素列の各画素の位置とその各画素までの配線の抵抗値との関係を示す。   FIG. 15 shows the wiring from the bonding wire 610 in one block (subpixel region) of the pixel region 400 of the image sensor shown in FIG. 12 to each pixel electrode of each pixel column in the Y direction of the subpixel region of the pixel region 400. The result of measuring the resistance value shows the relationship between the position of each pixel in each pixel column and the resistance value of the wiring to each pixel.

図15では、駆動信号によって配線を特定している。つまり、例えば、駆動信号φPG1を各画素に供給するための配線を「PG1」と表している。   In FIG. 15, the wiring is specified by the drive signal. That is, for example, a wiring for supplying the drive signal φPG1 to each pixel is represented as “PG1”.

配線の抵抗値は、周囲配線および内部配線の抵抗値と画素配線抵抗とを含む。また、画素は、光学素子およびその光学素子用CCDメモリ素子を意味するものとする。   The resistance value of the wiring includes the resistance value of the peripheral wiring and the internal wiring and the pixel wiring resistance. The pixel means an optical element and a CCD memory element for the optical element.

図15のグラフを参照して、出力電極710(φPG1)に関する配線の抵抗値を表す波形を見ると、図13においてX方向の画素列の位置が1列目から10列目までは、出力電極710(φPG1)に関する配線の抵抗値は徐々に減少している。   Referring to the graph of FIG. 15, when a waveform indicating the resistance value of the wiring relating to the output electrode 710 (φPG1) is seen, in FIG. 13, the position of the pixel column in the X direction is from the first column to the tenth column. The resistance value of the wiring relating to 710 (φPG1) gradually decreases.

このように、図15に示すように画素列の位置が1列目から10列目までの抵抗値が徐々に減少していることは、図13に示すように、電極パッド部分の下側の端面に接続されている各配線510aの長さが、電極パッド部分の下側の端面の右側に行くにつれて短くなっていることに対応している。   As described above, as shown in FIG. 15, the resistance value from the first column to the tenth column of the pixel column gradually decreases as shown in FIG. This corresponds to the fact that the length of each wiring 510a connected to the end surface becomes shorter toward the right side of the lower end surface of the electrode pad portion.

また、図15から分かるように、画素の位置が10列目から11列目の間では、各配線の抵抗値は、約217オームから約276オームまで大きく変化している。画素の位置が11列目から80列目までは、各配線の抵抗値は線形的に減少している。   Further, as can be seen from FIG. 15, when the pixel position is between the 10th column and the 11th column, the resistance value of each wiring greatly changes from about 217 ohms to about 276 ohms. When the pixel position is from the 11th column to the 80th column, the resistance value of each wiring decreases linearly.

このように、画素の位置が10列目から11列目の間で、抵抗値が大きく相違しているのは、10列目の画素に接続されている配線は配線510aであるのに対し、11列目の画素に接続されている配線はそれより長い配線510bであることに対応している。   In this way, the pixel position is between the 10th column and the 11th column, and the resistance value is greatly different from the wiring connected to the pixel in the 10th column is the wiring 510a. The wiring connected to the pixels in the eleventh column corresponds to a wiring 510b longer than that.

また、画素列の位置が11列目から80列目までの各配線の抵抗値が徐々に減少しているのは、電極パッド部分から延びた配線部分の下側の端面に接続されている各配線510bの長さが、その配線部分の下側の端面の右側に行くにつれて短くなっていることに対応している。   Further, the resistance values of the respective wirings in the pixel column positions from the 11th column to the 80th column are gradually decreased because each of the wirings connected to the lower end face of the wiring portion extending from the electrode pad portion. This corresponds to the fact that the length of the wiring 510b becomes shorter toward the right side of the lower end face of the wiring portion.

他の出力パルスPG2,M1等が出力される出力電極720,730等に接続されている配線の抵抗値も、上述の出力電極710に接続されたボンディングワイヤ610から画素領域400の画素列までの配線の抵抗値と同様に、電極パッド部分まで接続された配線の抵抗値と、図13に示すように電極部分からX方向右側に延びる狭い配線部分に接続された配線の抵抗値とは、図15に示すように、その移行部分で大きく相違し、他の部分においては、右下がりになるように減少している。   The resistance value of the wiring connected to the output electrodes 720, 730, etc. from which the other output pulses PG2, M1, etc. are output is also from the bonding wire 610 connected to the output electrode 710 to the pixel column in the pixel region 400. Similar to the resistance value of the wiring, the resistance value of the wiring connected to the electrode pad portion and the resistance value of the wiring connected to the narrow wiring portion extending to the right in the X direction from the electrode portion as shown in FIG. As shown in FIG. 15, the transition portion is greatly different, and the other portions are reduced to the right.

このように、従来の装置によると、共通の入力電極に接続された画素列であっても、画素列の位置が相違すると、画素電極までの配線の抵抗値は互いに異なっている。これにより、画素列の位置の相違に対応して画素配線の抵抗および電極容量の積であるRC時定数が異なることになる。   As described above, according to the conventional device, even in the pixel columns connected to the common input electrode, if the positions of the pixel columns are different, the resistance values of the wirings to the pixel electrodes are different from each other. As a result, the RC time constant, which is the product of the resistance of the pixel wiring and the electrode capacitance, differs according to the difference in the position of the pixel column.

このように、画素列の位置によって配線のRC時定数が異なると、画素電極を駆動する矩形波の電圧波形の周期を短くしたときに、電圧降下量が画素列によって異なってしまうことになる。この結果、高速駆動時の電荷転送量が画素列ごとに異なってしまい、画面に縦縞のノイズを生じさせる原因となる。   Thus, if the RC time constant of the wiring differs depending on the position of the pixel column, the amount of voltage drop varies depending on the pixel column when the period of the rectangular wave voltage waveform for driving the pixel electrode is shortened. As a result, the amount of charge transfer during high-speed driving differs for each pixel column, causing vertical stripe noise on the screen.

また、従来の装置では、入力電極に電極パッド部分があるため、入力電極から画素列の画素の電極までの配線が長くならざるを得ず、配線の抵抗値が比較的高くなっていた。これは裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子の撮像速度を高めることを阻害する要因の1つになっている。   Further, in the conventional device, since the input electrode has an electrode pad portion, the wiring from the input electrode to the pixel electrode of the pixel column has to be long, and the resistance value of the wiring is relatively high. This is one of the factors that hinder the increase in the imaging speed of the back-illuminated pixel peripheral recording type imaging device.

そこで、本発明は、縦縞状のノイズを抑制できるだけでなく、撮影速度をさらに向上することができる画素周辺記録型撮像素子を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a pixel peripheral recording type image pickup device that can not only suppress vertical stripe noise but can further improve the photographing speed.

本発明の撮像素子は、X方向およびY方向にマトリクスに配置された複数の受光素子、各受光素子に直結され、受光信号を記録する複数のメモリおよび前記メモリに記録された受光信号を読み出す読み出し回路を含む画素領域を有し、撮像時の動作が外部駆動回路から供給される駆動信号により制御される画素周辺記録型の撮像素子であって、前記画素領域をX方向もしくはY方向またはX方向およびY方向に分割した副画素領域ごとにY方向の一端部に前記駆動信号を入力するためのボンディングパッドを有し、前記ボンディングパッドから前記副画素領域内に含まれる前記複数の受光素子、前記複数のメモリおよび前記読み出し回路に前記駆動信号を供給するための配線である駆動信号配線の前記ボンディングパッドから前記副画素領域のY方向他端の前記複数の受光素子、前記複数のメモリおよび前記読み出し回路までの長さが等しいことを特徴とする。   The imaging device of the present invention includes a plurality of light receiving elements arranged in a matrix in the X direction and the Y direction, a plurality of memories directly connected to each light receiving element, and a light receiving signal recorded in the memory. A pixel peripheral recording type imaging device having a pixel region including a circuit and whose operation at the time of imaging is controlled by a drive signal supplied from an external drive circuit, wherein the pixel region is in an X direction, a Y direction, or an X direction And each of the sub-pixel regions divided in the Y direction has a bonding pad for inputting the drive signal at one end in the Y direction, and the plurality of light receiving elements included in the sub-pixel region from the bonding pad, The sub-pixel region from the bonding pad of a drive signal wiring that is a wiring for supplying the drive signal to a plurality of memories and the readout circuit Wherein the plurality of light receiving elements in the Y direction end, and wherein the equal length to the plurality of memory and the readout circuitry.

この構成により、本発明の撮像素子は、縦縞状のノイズを抑制できるだけでなく、撮影速度をさらに向上することができる。   With this configuration, the imaging element of the present invention can not only suppress vertical stripe noise but also can further improve the shooting speed.

なお、本発明の撮像素子においては、前記駆動信号を前記複数の受光素子、前記複数のメモリおよび前記読み出し回路に供給するために前記駆動信号の数と同本数の駆動電極であって、それぞれが前記副画素領域のX方向全幅に延伸し、前記ボンディングパッドと前記副画素領域の間に並列配置される駆動信号電極を有し、前記駆動信号配線が、前記ボンディングパッドと前記駆動信号電極とを接続する周囲配線と、前記駆動信号電極と前記複数の受光素子、前記複数のメモリおよび前記読み出し回路とを接続する内部配線とからなるようにしてもよい。   In the imaging device of the present invention, the number of drive electrodes is the same as the number of drive signals for supplying the drive signals to the plurality of light receiving elements, the plurality of memories, and the readout circuit, The driving signal electrode extends in the X-direction full width of the sub-pixel region and is arranged in parallel between the bonding pad and the sub-pixel region, and the driving signal wiring includes the bonding pad and the driving signal electrode. You may make it consist of the surrounding wiring to connect, and the internal wiring which connects the said drive signal electrode, the said several light receiving element, these memories, and the said read-out circuit.

なお、本発明の撮像素子においては、前記ボンディングパッドと前記駆動信号電極とが複数の周囲配線によって接続されるようにしてもよい。   In the imaging device of the present invention, the bonding pad and the drive signal electrode may be connected by a plurality of peripheral wires.

なお、本発明の撮像素子においては、前記撮像素子が、半導体基板の裏面に前記受光素子が形成され、前記半導体基板の表面に前記メモリおよび前記読み出し回路が形成され、前記表面に少なくとも1層の配線層が積層される裏面照射型であってもよい。   In the imaging device of the present invention, the imaging device includes the light receiving device formed on the back surface of the semiconductor substrate, the memory and the readout circuit formed on the surface of the semiconductor substrate, and at least one layer on the surface. A back-illuminated type in which wiring layers are laminated may be used.

本発明によると、縦縞状のノイズを抑制できるだけでなく、撮影速度をさらに向上することができる画素周辺記録型撮像素子を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a pixel peripheral recording type image pickup device that can not only suppress vertical stripe noise but also can further improve the photographing speed.

本発明の一実施の形態に係る画素周辺記録型撮像素子を表面側から見た構造を模式化した平面図である。1 is a plan view schematically showing a structure of a pixel peripheral recording type image pickup device according to an embodiment of the present invention viewed from the surface side. 本発明の一実施の形態に係る画素周辺記録型撮像素子の8分割したブロックのうちの1ブロックの周囲の配線構成を模式化した平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically illustrating a wiring configuration around one block among eight divided blocks of the pixel peripheral recording type image pickup device according to the embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態に係る画素周辺記録型撮像素子の8分割したブロックのうちの1ブロックの中の一部の画素を表面側から見た構造を模式化した平面図である。It is the top view which modeled the structure which looked at the one part block of one block among the blocks divided into 8 of the pixel periphery recording type image pick-up element which concerns on one embodiment of this invention from the surface side. 本発明の一実施の形態に係る画素周辺記録型撮像素子の8分割したブロックのうちの1ブロックのCCDメモリ1相分の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram for one phase of a CCD memory of one block among eight divided blocks of a pixel peripheral recording type image pickup device according to an embodiment of the present invention. 図2に示す画素周辺記録型撮像素子の8分割したブロックのうちの1ブロックの中の2種類の配線の部分の周囲の配線構成を模式化した拡大平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view schematically illustrating a wiring configuration around two types of wiring in one block among eight divided blocks of the pixel peripheral recording type image pickup device shown in FIG. 2. 図2に示す本発明の一実施の形態に係る画素周辺記録型撮像素子の8分割したブロックのうちの1ブロックのボンディングワイヤから各画素電極までの抵抗値と画素列の位置との関係を示す図である。2 shows the relationship between the resistance value from one bonding wire to each pixel electrode and the position of the pixel column in the eight divided blocks of the pixel peripheral recording type imaging device according to the embodiment of the present invention shown in FIG. FIG. 本発明の一実施の形態に係る画素周辺記録型撮像素子による1670万枚/秒での撮像例を示す図である。It is a figure which shows the example of an imaging at 16.7 million pieces / second by the pixel periphery recording type imaging device which concerns on one embodiment of this invention. 図7に示す本発明の一実施の形態に係る画素周辺記録型撮像素子による1670万枚/秒での撮像例のグレースケールを示す図である。It is a figure which shows the gray scale of the example of imaging at 16.7 million sheets / second by the pixel periphery recording type imaging device which concerns on one embodiment of this invention shown in FIG. 本発明の一実施の形態に係る画素周辺記録型撮像素子により1670万枚/秒での撮像を行った場合の所定の回路部分の駆動電圧波形図である。It is a drive voltage waveform diagram of a predetermined circuit portion when imaging at 16.7 million images / second is performed by the pixel peripheral recording type imaging device according to the embodiment of the present invention. 飽和信号レベルの撮影速度依存性を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the imaging speed dependence of a saturation signal level. 本発明の一実施の形態に係る画素周辺記録型撮像素子を含む様々な種類の高速度撮像素子の画素数と撮影速度との関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the relationship between the pixel count of various kinds of high-speed image sensors including the pixel periphery recording type image sensor which concerns on one embodiment of this invention, and an imaging speed. 従来の画素周辺記録型撮像素子の画素部の1ブロックの周囲の配線構成を模式化した平面図である。It is the top view which modeled the wiring structure around 1 block of the pixel part of the conventional pixel periphery recording type image pick-up element. 図12に示す従来の画素周辺記録型撮像素子の画素部の1ブロックのうちパッケージ部の2種類の配線の部分の周囲の配線構成を模式化した平面図である。FIG. 13 is a plan view schematically showing a wiring configuration around two types of wiring portions of a package portion in one block of a pixel portion of the conventional pixel peripheral recording type imaging device shown in FIG. 12. 図13におけるA−A線断面の構成を模式化した断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a cross section taken along line AA in FIG. 図12に示す従来の画素周辺記録型撮像素子の画素部の1ブロックのボンディングワイヤから各画素電極までの抵抗値と画素の位置との関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the relationship between the resistance value from the bonding wire of 1 block of each pixel part of the pixel part of the conventional pixel periphery recording type image pick-up element shown in FIG. 12, and each pixel electrode, and the position of a pixel.

以下、本発明の一実施の形態に係る超高速度の裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子を説明する。   Hereinafter, an ultra-high-speed backside-illuminated pixel peripheral recording type imaging device according to an embodiment of the present invention will be described.

図1に、裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20を表面側からみた構成を模式化した平面図を示す。裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20は複数の画素からなる画素領域40を有する。   FIG. 1 is a plan view schematically showing the configuration of a back-illuminated pixel peripheral recording type image pickup device 20 viewed from the front side. The back-illuminated pixel peripheral recording image pickup device 20 has a pixel region 40 composed of a plurality of pixels.

画素領域40は、X方向(図1に向かって左右方向)に4分割され、さらに、Y方向(図1に向かって上下方向)に2分割されていて、8副画素領域に分割されている。画素領域40の中央から上下に分割した画素周辺記録型撮像素子20の上下の部分は、中央を境にミラー形状の構成になっている。   The pixel region 40 is divided into four in the X direction (left and right direction toward FIG. 1), and further divided into two in the Y direction (up and down direction toward FIG. 1), and is divided into eight subpixel regions. . The upper and lower portions of the pixel peripheral recording type image pickup device 20 divided in the vertical direction from the center of the pixel region 40 have a mirror configuration with the center as a boundary.

このため、画素周辺記録型撮像素子20の副画素領域ごとに、駆動回路10が接続されているが、図面の簡略化の観点から、図1に向かって上側の4分割されたブロックについて駆動回路10を図示し、下側の4分割されたブロックの駆動回路の図示は省略している。   For this reason, the drive circuit 10 is connected to each sub-pixel region of the pixel peripheral recording type image pickup device 20, but from the viewpoint of simplification of the drawing, the drive circuit for the upper four divided blocks in FIG. 10 is shown, and the drive circuit of the lower four divided block is not shown.

また、詳しくは後述するように、副画素領域ごとに複数のボンディングパッド30が設けられており、ボンディングパッド30と各ドライバ回路12とがそれぞれボンディングワイヤ60によって接続されているが、図1の簡略化の観点から、ボンディングパッド30およびボンディングワイヤ60は一部のみを図示し他は省略している。   Further, as will be described in detail later, a plurality of bonding pads 30 are provided for each sub-pixel region, and the bonding pads 30 and the driver circuits 12 are connected by bonding wires 60, respectively. From the standpoint of realizing, only a part of the bonding pad 30 and the bonding wire 60 are shown and others are omitted.

以下、駆動回路10の説明は、図示を省略した画素領域40の下側の4ブロックにも適用される。   Hereinafter, the description of the drive circuit 10 is also applied to the lower four blocks of the pixel region 40 (not shown).

駆動回路10は、FPGA(Field Programmable Gate Array)11およびドライバ回路12を備えている。FPGA11は、電圧振幅が例えば3.3Vp−p程度のタイミングパルスTP1〜4を生成して出力するように構成されている。   The drive circuit 10 includes an FPGA (Field Programmable Gate Array) 11 and a driver circuit 12. The FPGA 11 is configured to generate and output timing pulses TP1 to TP4 having a voltage amplitude of about 3.3 Vp-p, for example.

ドライバ回路12は、ドライバ回路12a〜12dを含んでおり、各ドライバ回路は、後述する8種類の駆動系信号、つまり、露光パルスφPG1,φPG2、蓄積転送パルスφM1,φM2,φM3,φM4、および垂直転送パルスφV2,φV4をそれぞれ出力するための出力部(図示していない)を備えている。   The driver circuit 12 includes driver circuits 12a to 12d, and each driver circuit has eight types of drive system signals, that is, an exposure pulse φPG1, φPG2, an accumulation transfer pulse φM1, φM2, φM3, φM4, and a vertical signal. An output unit (not shown) for outputting transfer pulses φV2 and φV4 is provided.

画素周辺記録型撮像素子20は、半導体基板25と、X方向およびY方向にそれぞれ320画素および760画素並んだ画素領域40とを備える。   The pixel peripheral recording type image pickup device 20 includes a semiconductor substrate 25 and a pixel region 40 in which 320 pixels and 760 pixels are arranged in the X direction and the Y direction, respectively.

画素領域40は、8ブロックの副画素領域に分割されており、各副画素領域は、X方向およびY方向にそれぞれ80画素および380画素並んだ構成を有する。各副画素領域は各ドライバ回路12a〜12dによって駆動される。   The pixel area 40 is divided into eight blocks of subpixel areas, and each subpixel area has a configuration in which 80 pixels and 380 pixels are arranged in the X direction and the Y direction, respectively. Each sub-pixel region is driven by each driver circuit 12a to 12d.

画素領域40の画素のY方向にあるドライバ回路12に対向する半導体基板25上の位置には、ボンディングパッド30および駆動信号電極部50が設けられている。駆動信号電極部50は、駆動信号電極51〜58を備えている(図2)。   A bonding pad 30 and a drive signal electrode unit 50 are provided at a position on the semiconductor substrate 25 facing the driver circuit 12 in the Y direction of the pixel in the pixel region 40. The drive signal electrode unit 50 includes drive signal electrodes 51 to 58 (FIG. 2).

ドライバ回路12a〜12dは後述する出力電極71〜78(図2)を備えており、出力電極71〜78とボンディングパッド30とがそれぞれ1本のボンディングワイヤ60によって接続されている。   The driver circuits 12a to 12d include output electrodes 71 to 78 (FIG. 2), which will be described later, and the output electrodes 71 to 78 and the bonding pad 30 are connected by a single bonding wire 60, respectively.

詳しくは後述するように、ボンディングパッド31〜38と駆動信号電極51〜58とは複数の配線によって接続されている。   As will be described in detail later, the bonding pads 31 to 38 and the drive signal electrodes 51 to 58 are connected by a plurality of wirings.

また、半導体基板25上には、各ブロックの画素から信号電荷をY方向に読み出すための水平方向読出用のHCCD46と、そのHCCDから信号電荷を取り出すための増幅器46aとが設けられている。   On the semiconductor substrate 25, there are provided an HCCD 46 for horizontal reading for reading out signal charges from the pixels of each block in the Y direction, and an amplifier 46a for taking out signal charges from the HCCD.

図1に示す画素領域40は、上記のとおり、320×760の画素をX方向およびY方向にマトリクス状に並べて構成し、それを8ブロックの副画素領域に分割している。各副画素領域は、80×380の画素を含み、一部に、図3に示す画素の構造を備える。   As described above, the pixel area 40 shown in FIG. 1 includes 320 × 760 pixels arranged in a matrix in the X direction and the Y direction, and is divided into eight blocks of subpixel areas. Each sub-pixel region includes 80 × 380 pixels, and partially includes the pixel structure shown in FIG. 3.

図2は、本発明の一実施の形態に係る裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子の1つの副画素領域の周囲の配線構成(図1において「B」で示すもの)を模式化した平面図を示す。   FIG. 2 is a plan view schematically showing a wiring configuration (shown by “B” in FIG. 1) around one sub-pixel region of the back-illuminated pixel peripheral recording type imaging device according to the embodiment of the present invention. The figure is shown.

図2に示す副画素領域の周囲の配線構成は、ドライバ回路12aのパッケージ70に設けられた出力電極71〜78と駆動信号電極部50とが接続された構成である。   The wiring configuration around the sub-pixel region shown in FIG. 2 is a configuration in which the output electrodes 71 to 78 provided in the package 70 of the driver circuit 12a and the drive signal electrode unit 50 are connected.

出力電極71〜78は、ドライバ回路12aの図示しないパルス生成部から生成される8種類の駆動系信号、つまり、露光パルスφPG1,φPG2、蓄積転送パルスφM1,φM2,φM3,φM4、および垂直転送パルスφV2,φV4を出力する電極である。   The output electrodes 71 to 78 are eight kinds of drive system signals generated from a pulse generator (not shown) of the driver circuit 12a, that is, exposure pulses φPG1, φPG2, accumulation transfer pulses φM1, φM2, φM3, φM4, and vertical transfer pulses. The electrodes output φV2 and φV4.

駆動信号電極部50は、駆動信号電極51〜58を含む。駆動信号電極51〜58は、例えばアルミニウム膜で構成されており、それぞれが水平方向に延び互いに平行に配置されたアルミ配線である。   The drive signal electrode unit 50 includes drive signal electrodes 51 to 58. The drive signal electrodes 51 to 58 are made of, for example, an aluminum film, and are aluminum wirings that extend in the horizontal direction and are arranged in parallel to each other.

駆動信号電極51〜58は、それぞれ、後述する通り、配線によって、ボンディングパッド31〜38に接続されている。なお、駆動信号電極51〜58の組は、隣のブロックの駆動信号電極と電気的に切断されていて、各ブロックはそれぞれ別々のドライバ回路により駆動される。   The drive signal electrodes 51 to 58 are connected to the bonding pads 31 to 38 by wiring, as will be described later. Note that the set of drive signal electrodes 51 to 58 is electrically disconnected from the drive signal electrode of the adjacent block, and each block is driven by a separate driver circuit.

ボンディングパッド31〜38および駆動信号電極51〜58は周囲配線部を構成する。   The bonding pads 31 to 38 and the drive signal electrodes 51 to 58 constitute a peripheral wiring portion.

出力電極71〜78は、それぞれ、ボンディングワイヤ61〜68を介してボンディングパッド31〜38に接続されている。   The output electrodes 71 to 78 are connected to bonding pads 31 to 38 via bonding wires 61 to 68, respectively.

また、駆動信号電極51〜58と、画素領域40内の各電極との間は、後述のとおり、画素の垂直方向列ごとにタングステン配線51a〜58a、タングステン配線51b〜58b等によって電気的に接続されている(図5参照)。   Further, as described later, the drive signal electrodes 51 to 58 are electrically connected to the respective electrodes in the pixel region 40 by tungsten wirings 51a to 58a, tungsten wirings 51b to 58b, etc. for each vertical column of pixels. (See FIG. 5).

図3は、裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20の画素領域40の一部(図1において「C」で示すもの)を表面側から見た構造を模式化した平面図である。   FIG. 3 is a plan view schematically showing the structure of a part of the pixel region 40 (shown by “C” in FIG. 1) of the back-illuminated pixel peripheral recording image pickup device 20 as viewed from the front side.

図3に示すように、各画素の光学素子は、画素幅Pwと画素長pdを有する。また、各画素は、電荷収集ゲート1(CG1)41、電荷収集ゲート2(CG2)42、オーバーフロードレインゲート(OFD)43、ドレイン44、斜行直線CCDメモリ45、合流部47および上書きゲート48を備える。   As shown in FIG. 3, the optical element of each pixel has a pixel width Pw and a pixel length pd. Each pixel includes a charge collection gate 1 (CG1) 41, a charge collection gate 2 (CG2) 42, an overflow drain gate (OFD) 43, a drain 44, a skewed linear CCD memory 45, a merge unit 47, and an overwrite gate 48. Prepare.

各画素の上書きゲート48は画素列ごとに設置される垂直方向読出用のVCCD49に接続され、垂直方向読出用のVCCD49は水平方向読出用のHCCD46に接続されており、水平方向読出用のHCCD46は信号取出用の増幅器46aに接続されている。   The overwriting gate 48 for each pixel is connected to a VCCD 49 for vertical reading provided for each pixel column, the VCCD 49 for vertical reading is connected to an HCCD 46 for horizontal reading, and the HCCD 46 for horizontal reading is It is connected to an amplifier 46a for signal extraction.

図4は、駆動回路10を含む画素周辺記録型撮像素子20の1つの副画素領域のCCDメモリ1相の等価回路図を示す。1つの副画素領域は、X方向およびY方向にそれぞれ80画素および380画素からなる。等価回路は、FPGA11、ドライバ回路12、および1つの副画素領域13を含む。   FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of the CCD memory 1 phase in one sub-pixel region of the pixel peripheral recording type image pickup device 20 including the drive circuit 10. One sub-pixel region is composed of 80 pixels and 380 pixels in the X direction and the Y direction, respectively. The equivalent circuit includes an FPGA 11, a driver circuit 12, and one subpixel region 13.

1つの副画素領域13は、電気的要素の観点からは、Y方向への画素列ごとの周囲配線抵抗Rsと内部配線抵抗Riと画素配線抵抗Rpと電極容量Qgとから構成されている。Y方向への画素列ごとの周囲配線抵抗Rsおよび内部配線抵抗Riの合計値は一定である。   One sub-pixel region 13 is composed of a peripheral wiring resistance Rs, an internal wiring resistance Ri, a pixel wiring resistance Rp, and an electrode capacitance Qg for each pixel column in the Y direction from the viewpoint of electrical elements. The total value of the peripheral wiring resistance Rs and the internal wiring resistance Ri for each pixel column in the Y direction is constant.

画素の接続の観点からは、X方向に10画素並んだ画素グループ16がY方向に380列並んで画素グループ15を構成し、この画素グループ15が、X方向に8行並んで(14−1から14−8)、1つの副画素領域13を構成している。   From the viewpoint of pixel connection, a pixel group 16 in which 10 pixels are arranged in the X direction constitutes a pixel group 15 that is arranged in 380 columns in the Y direction, and this pixel group 15 is arranged in 8 rows in the X direction (14-1 To 14-8) One sub-pixel region 13 is formed.

図5は、図2に示す8種類の駆動系配線の出力電極71〜78のうちの一部の配線を説明するための模式図である。一部の配線とは、8種類の駆動系配線のうちの露光パルスφPG1,φPG2用の2種類の配線の出力電極71,72から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線である。   FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a part of the output electrodes 71 to 78 of the eight types of drive system wirings shown in FIG. Some of the wirings are wirings from the output electrodes 71 and 72 of the two types of exposure pulses φPG1 and φPG2 among the eight types of driving system wirings to the pixel electrodes of each pixel column in the pixel region 40. is there.

出力電極71,72からボンディングパッド31,32まで、ボンディングワイヤ61,62によって接続されている。ボンディングパッド31,32から駆動信号電極51,52までは、複数本の配線50a,50bによって配線する。なお、ボンディングパッド31,32と駆動信号電極51,52とを接続する配線を周囲配線と称する。   The output electrodes 71 and 72 are connected to the bonding pads 31 and 32 by bonding wires 61 and 62. The bonding pads 31 and 32 to the drive signal electrodes 51 and 52 are wired by a plurality of wirings 50a and 50b. The wiring connecting the bonding pads 31 and 32 and the drive signal electrodes 51 and 52 is referred to as a peripheral wiring.

本実施の形態では、ボンディングパッド31,32と駆動信号電極51〜58を分離することにより、並べられた方向の幅(垂直方向の幅)を広くして、駆動信号電極の抵抗値を低減している。   In the present embodiment, by separating the bonding pads 31 and 32 and the drive signal electrodes 51 to 58, the width in the arranged direction (width in the vertical direction) is widened, and the resistance value of the drive signal electrode is reduced. ing.

駆動信号電極51,52から画素領域40内の各画素列の各画素電極までは、配線51a、52aによって接続されている。この配線を内部配線と称する。また、画素間の配線抵抗を画素配線抵抗と称す。   The drive signal electrodes 51 and 52 to the pixel electrodes of the pixel columns in the pixel region 40 are connected by wirings 51a and 52a. This wiring is called internal wiring. Further, the wiring resistance between the pixels is referred to as pixel wiring resistance.

図5に示すように、ボンディングパッド31から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの電気的接続は、ボンディングパッド31から駆動信号電極51までの複数本の周囲配線50aと、駆動信号電極51から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線51aとによって達成されている。   As shown in FIG. 5, the electrical connection from the bonding pad 31 to each pixel electrode of each pixel column in the pixel region 40 includes a plurality of peripheral wirings 50a from the bonding pad 31 to the drive signal electrode 51, and a drive signal. This is achieved by the wiring 51 a from the electrode 51 to each pixel electrode of each pixel column in the pixel region 40.

また、図5に示すように、ボンディングパッド32から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの電気的接続は、ボンディングパッド32から駆動信号電極52までの複数本の周囲配線50bと、駆動信号電極52から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線52aとによって達成されている。   As shown in FIG. 5, the electrical connection from the bonding pad 32 to each pixel electrode of each pixel column in the pixel region 40 includes a plurality of peripheral wirings 50 b from the bonding pad 32 to the drive signal electrode 52, and This is achieved by the wiring 52 a from the drive signal electrode 52 to each pixel electrode of each pixel column in the pixel region 40.

このように、ボンディングパッドは対応する駆動信号電極に接続されることになる。このため、ボンディングパッド31,32と駆動信号電極51,52とを接続する配線の長さは、駆動信号ごとに異なっている。   Thus, the bonding pad is connected to the corresponding drive signal electrode. For this reason, the length of the wiring connecting the bonding pads 31 and 32 and the drive signal electrodes 51 and 52 is different for each drive signal.

一方、図5に示すように、ボンディングパッド32と駆動信号電極52とを接続する配線50bは、ボンディングパッド31と駆動信号電極51とを接続する配線50aよりも長い。ただし、駆動信号電極52から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線52aは、配線50bが配線50aよりも長い分だけ、駆動信号電極51から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線51aよりも短くなっている。   On the other hand, as shown in FIG. 5, the wiring 50 b that connects the bonding pad 32 and the drive signal electrode 52 is longer than the wiring 50 a that connects the bonding pad 31 and the drive signal electrode 51. However, the wiring 52a from the driving signal electrode 52 to each pixel electrode of each pixel column in the pixel region 40 is equal to the length of the wiring 50b from the driving signal electrode 51 to each pixel column in the pixel region 40. It is shorter than the wiring 51a to each pixel electrode.

したがって、図5に示す撮像素子では、1本の配線50aと配線51aとの合計の長さは、他の1本の配線50bと配線51bとの合計の長さと等しい。言い換えると、駆動信号電極51,52等と内部配線51a,52a等との接続の組み合わせに関わらず、ボンディングパッド31,32から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線である駆動信号配線の合計の長さは、一定である。   Therefore, in the imaging element shown in FIG. 5, the total length of one wiring 50a and wiring 51a is equal to the total length of the other wiring 50b and wiring 51b. In other words, a drive that is a wiring from the bonding pads 31 and 32 to each pixel electrode of each pixel column in the pixel region 40 regardless of the combination of connection between the drive signal electrodes 51 and 52 and the internal wirings 51a and 52a. The total length of the signal wiring is constant.

また、ボンディングパッド31,32から駆動信号電極51,52までを複数本の周囲配線50a,50bで接続しているため、ボンディングパッド31,32から駆動信号電極51,52までの抵抗値は、ボンディングパッド31,32から駆動信号電極51,52までを1本のボンディングワイヤで接続する場合に比して低くすることができる。   Since the bonding pads 31 and 32 to the drive signal electrodes 51 and 52 are connected by a plurality of peripheral wirings 50a and 50b, the resistance value from the bonding pads 31 and 32 to the drive signal electrodes 51 and 52 is determined by bonding. This can be made lower than the case where the pads 31 and 32 to the drive signal electrodes 51 and 52 are connected by a single bonding wire.

図6は、図2に示す撮像素子の画素領域40の1ブロック(副画素領域)のボンディングワイヤ61等から画素領域40の副画素領域のY方向の各画素列の各画素電極までの配線の抵抗値を測定した結果を示すもので、各画素列の各画素の位置とその各画素までの配線の抵抗値との関係を示す。   6 shows the wiring from the bonding wire 61 of one block (subpixel region) of the pixel region 40 of the image sensor shown in FIG. 2 to each pixel electrode of each pixel column in the Y direction of the subpixel region of the pixel region 40. The result of measuring the resistance value shows the relationship between the position of each pixel in each pixel column and the resistance value of the wiring to each pixel.

図6では、駆動信号によって配線を特定している。つまり、例えば、駆動信号φPG1を各画素に供給するための配線を「PG1」と表している。   In FIG. 6, the wiring is specified by the drive signal. That is, for example, a wiring for supplying the drive signal φPG1 to each pixel is represented as “PG1”.

配線の抵抗値は、周囲配線および内部配線の抵抗値と画素配線抵抗とを含む。また、画素は、光学素子およびその光学素子用CCDメモリ素子を意味するものとする。   The resistance value of the wiring includes the resistance value of the peripheral wiring and the internal wiring and the pixel wiring resistance. The pixel means an optical element and a CCD memory element for the optical element.

画素列の位置は、図2に示す副画素領域において、X方向左側から右側に向かって画素列ごとに1から80番とする。   The positions of the pixel columns are numbered 1 to 80 for each pixel column from the left side in the X direction to the right side in the sub-pixel region shown in FIG.

上記のとおり、図5に示す画素周辺記録型撮像素子20では、ボンディングパッド31,32から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線の長さは、画素列ごとに画素グループによらず一定である。   As described above, in the pixel peripheral recording type imaging device 20 shown in FIG. 5, the length of the wiring from the bonding pads 31 and 32 to each pixel electrode of each pixel column in the pixel region 40 is divided into pixel groups for each pixel column. It is constant regardless.

図6によると、駆動パルスPG1等が出力される出力電極71等に接続されたボンディングワイヤ61等から画素部40の各画素列の各画素電極までの配線の抵抗値は、画素の位置に関わらず、それぞれがほぼ一定である。各配線の抵抗値の差は、各配線が接続されている駆動信号電極の位置の相違に伴う配線の長さの相違に相当する。   According to FIG. 6, the resistance value of the wiring from the bonding wire 61 or the like connected to the output electrode 71 or the like to which the driving pulse PG1 or the like is output to each pixel electrode of each pixel column of the pixel unit 40 is related to the position of the pixel. Each is almost constant. The difference in the resistance value of each wiring corresponds to the difference in the length of the wiring accompanying the difference in the position of the drive signal electrode to which each wiring is connected.

また、その配線の抵抗値の最大値は、駆動パルスPG1が入力される配線の値で、約160オームである。一方、図15に示すように、従来の装置において、配線の抵抗値の最大値は、駆動パルスPG1が入力される配線の値で、約278オームである。   Further, the maximum resistance value of the wiring is the value of the wiring to which the driving pulse PG1 is input, and is about 160 ohms. On the other hand, as shown in FIG. 15, in the conventional apparatus, the maximum value of the resistance value of the wiring is the value of the wiring to which the drive pulse PG1 is input, and is about 278 ohms.

このように、本実施の形態に係る裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20によると、ボンディングパッド31,32から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線の長さを画素列ごとに一定にできるだけでなく、配線の抵抗値の最大値を約278オームからその約58%の約160オームまで低減することができる。   As described above, according to the back-illuminated pixel peripheral recording type image pickup device 20 according to the present embodiment, the length of the wiring from the bonding pads 31 and 32 to each pixel electrode of each pixel column in the pixel region 40 is set to the pixel. Not only can it be constant for each column, but the maximum resistance value of the wiring can be reduced from about 278 ohms to about 160 ohms, about 58% thereof.

図7に、本実施の形態に係る裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20の1670万枚/秒での撮像例を示す。この撮像素子20は、斜行直線CCDメモリを持つ画素周辺記録型撮像素子であり、また、裏面照射型であり、8分割駆動し、上記のとおり、配線の抵抗を大きく低減したものである。   FIG. 7 shows an example of imaging at 16.7 million images / second of the backside illuminated pixel peripheral recording type imaging element 20 according to the present embodiment. This image pickup device 20 is a pixel peripheral recording type image pickup device having a slanted linear CCD memory, and is a back-illuminated type, and is driven in 8 divisions and greatly reduces the resistance of the wiring as described above.

撮影速度は、1670万枚/秒で、図8に示すグレースケールを撮影した。図7は、撮影されたグレースケールを示す。なお、図7において白色の円形状の部分は、ストロボ発光の反射によるものである。   The shooting speed was 16.7 million frames / second, and the gray scale shown in FIG. 8 was shot. FIG. 7 shows a photographed gray scale. In FIG. 7, the white circular portion is due to the reflection of strobe light emission.

図9に、図7に撮像例を示す1670万枚/秒で撮像を行った時の画素周辺記録型撮像素子の電荷収集ゲート2(CG2)42、オーバーフロードレインゲート(OFD)43、CCDメモリ3(M3)の駆動電圧波形の測定結果を示す。   FIG. 9 shows a charge collection gate 2 (CG2) 42, an overflow drain gate (OFD) 43, and a CCD memory 3 of the pixel peripheral recording type image pickup device when image pickup is performed at 16.7 million images / second, which is shown in FIG. The measurement result of the drive voltage waveform of (M3) is shown.

図9に示すように、1周期60ナノ秒の駆動パルスで動作させた時に、CG2およびM3に駆動電圧波形が表れている。1670万枚/秒は、1周期60ナノ秒の駆動パルスで動作させた時の撮影速度である。このように、図7の撮像が行えたということは、図9に示すように、1周期60ナノ秒の駆動パルスで動作させた時に、CG2およびM3の駆動電圧波形が表れていることからも明らかである。   As shown in FIG. 9, when operating with a driving pulse of one period of 60 nanoseconds, driving voltage waveforms appear in CG2 and M3. 16.7 million frames / second is a photographing speed when operated with a driving pulse of 60 nanoseconds per cycle. Thus, the fact that the imaging of FIG. 7 has been performed is also because the driving voltage waveforms of CG2 and M3 appear when operating with a driving pulse of one period of 60 nanoseconds as shown in FIG. it is obvious.

なお、CG2およびM3の駆動電圧波形はデューティ比50%の電圧波形であり、M3の駆動電圧波形の位相は、CG2の駆動電圧波形の位相よりも少し遅れている。OFDの駆動電圧波形には一定の電圧が加わっている。   The drive voltage waveforms of CG2 and M3 are voltage waveforms with a duty ratio of 50%, and the phase of the drive voltage waveform of M3 is slightly delayed from the phase of the drive voltage waveform of CG2. A constant voltage is applied to the drive voltage waveform of the OFD.

図10は、素子の相違による撮影速度に対する飽和信号レベルの測定結果を示す。これから、素子の飽和信号レベルの撮影速度依存性が分かる。すなわち、図10は、1万枚/秒での飽和信号レベルを100%としたとき、異なる素子による各撮影速度での飽和信号レベルが何%になるかを示している。   FIG. 10 shows the measurement result of the saturation signal level with respect to the photographing speed due to the difference in elements. From this, it is understood that the saturation signal level of the element depends on the photographing speed. That is, FIG. 10 shows what percentage of the saturation signal level at each photographing speed by different elements when the saturation signal level at 10,000 frames / second is 100%.

図10から、表面照射型1,2の素子では、撮影速度1670万枚/秒の撮影速度において飽和信号レベルがゼロになっていることが分かる。それに対し、裏面照射型3の素子は、撮影速度1670万枚/秒の撮影速度においても、飽和信号レベル100%を維持している。裏面照射型3の素子は、本実施の形態に係る裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20である。   From FIG. 10, it can be seen that the saturation signal level is zero at the imaging speed of 16.7 million images / second in the surface irradiation type 1 and 2 elements. In contrast, the back-illuminated type 3 element maintains a saturation signal level of 100% even at a shooting speed of 16.7 million frames / second. The back-illuminated type 3 element is the back-illuminated pixel peripheral recording type image sensor 20 according to the present embodiment.

なお、図10に示す測定は、各撮影速度における飽和信号レベルとして、光強度が強く映像信号が飽和している領域の信号レベルを抽出することによって行った。また、各撮影速度の飽和信号レベルは、1万枚/秒での飽和信号レベルで規格化した。   Note that the measurement shown in FIG. 10 was performed by extracting the signal level of a region where the light intensity is high and the video signal is saturated as the saturation signal level at each photographing speed. Further, the saturation signal level at each photographing speed was standardized by the saturation signal level at 10,000 frames / second.

図11は、各種の高速度撮像素子の画素数と撮影速度との関係を示したグラフである。高速度撮像素子の特性を示す性能指標としては、画素数×撮影速度の値が用いられる。単位は、画素/秒である。撮像素子には連続読み出し型と画素周辺記録型がある。   FIG. 11 is a graph showing the relationship between the number of pixels of various high-speed image sensors and the shooting speed. As a performance index indicating the characteristics of the high-speed image sensor, the value of the number of pixels × shooting speed is used. The unit is pixels / second. There are a continuous readout type and a pixel peripheral recording type in the imaging device.

連続読み出し型は、撮影速度を速くすると読み出すことができる画素数が減少するという特性を有する。このため、図11のグラフでは左上と右下をつなぐ線が同一撮像素子の特性を示している。この結果、連続読み出し型では、性能指標である画素数×撮影速度はほぼ同じ値になる。   The continuous readout type has a characteristic that the number of pixels that can be read out decreases when the imaging speed is increased. For this reason, in the graph of FIG. 11, the line connecting the upper left and the lower right indicates the characteristics of the same image sensor. As a result, in the continuous reading type, the number of pixels, which is a performance index × shooting speed, becomes almost the same value.

一方、画素周辺記録型は、画素数一定で最高撮影速度がどこまで動作するかが性能となる。グラフでは最高性能の一点を示す。図11では、図に向かって右上に行くほど高性能となる。   On the other hand, in the pixel peripheral recording type, the performance depends on the maximum number of pixels and the maximum shooting speed. The graph shows one point of maximum performance. In FIG. 11, the higher the performance is, the higher the performance becomes.

本実施の形態に係る裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20は、図11においてE社素子3の「ひし形3」として示すものであり、画素数が垂直方向760画素×水平方向411画素の計312360画素を有する。画素周辺記録型撮像素子20は、最高撮影速度が1670万枚/秒であるので、性能指標は5.2テラ画素/秒である。   The back-illuminated pixel peripheral recording type image sensor 20 according to the present embodiment is shown as “diamond 3” of the element 3 of the E company in FIG. 11, and has a number of pixels of 760 pixels in the vertical direction × 411 pixels in the horizontal direction. It has a total of 31360 pixels. Since the maximum photographing speed of the pixel peripheral recording type image pickup device 20 is 16.7 million images / second, the performance index is 5.2 terapixels / second.

したがって、裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20は、固体撮像素子として、撮影速度および画素数の観点から、図11に示す素子の中で最高性能を有している。   Therefore, the back-illuminated pixel peripheral recording type imaging element 20 has the highest performance among the elements shown in FIG. 11 as a solid-state imaging element from the viewpoint of photographing speed and the number of pixels.

このように、本実施の形態に係る裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20によると、固体撮像素子の性能指標である画素数×撮影速度を高くすることができている。   Thus, according to the backside illumination type pixel peripheral recording type image pickup device 20 according to the present embodiment, the number of pixels × shooting speed, which is a performance index of the solid-state image pickup device, can be increased.

また、上記の実施の形態に係る裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子20によると、ボンディングパッド31,32から画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線の長さを画素列ごとに一定にできる。   Further, according to the back-illuminated pixel peripheral recording type image pickup device 20 according to the above-described embodiment, the length of the wiring from the bonding pads 31 and 32 to each pixel electrode of each pixel column in the pixel region 40 is determined by the pixel column. Can be constant for each.

この結果、高速駆動時の電荷転送量が画素列ごとに一定となり、画面にノイズが生じることを防ぐことができる。   As a result, the amount of charge transfer during high-speed driving is constant for each pixel column, and noise can be prevented from being generated on the screen.

さらに、ボンディングパッド31,32から駆動信号電極51,52までを多数の配線50a,50bで接続しているため、ボンディングパッド31,32から駆動信号電極51,52を経由して画素領域40内の各画素列の各画素電極までの配線の抵抗値を低減することができる。   Further, since the bonding pads 31 and 32 to the drive signal electrodes 51 and 52 are connected by a large number of wirings 50a and 50b, the bonding pads 31 and 32 are connected to the drive signal electrodes 51 and 52 in the pixel region 40 via the drive signal electrodes 51 and 52. The resistance value of the wiring to each pixel electrode of each pixel column can be reduced.

この結果、撮像速度をさらに向上させることができる。   As a result, the imaging speed can be further improved.

上記の本発明の実施の形態を説明する際に列記した配線の抵抗値等は一例にすぎず、その数値以外の値を除外する趣旨ではない。また、本発明の実施の形態は裏面照射型の画素周辺記録型撮像素子の周囲配線部について説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。   The resistance values and the like of the wirings listed when describing the above-described embodiment of the present invention are merely examples, and are not intended to exclude values other than the numerical values. Further, although the embodiment of the present invention has been described with respect to the peripheral wiring portion of the back-illuminated pixel peripheral recording image pickup device, the present invention is not limited to the specifically disclosed embodiment, Various modifications and changes can be made without departing from the scope of the claims.

10 駆動回路
11 FPGA
12,12a〜12d ドライバ回路
13 素子の1ブロック(副画素領域)
20 画素周辺記録型撮像素子
24 絶縁膜
25 半導体基板
30,31〜38 ボンディングパッド
40 画素領域
46 HCCD
46a 増幅器(アンプ)
48 上書きゲート
49 VCCD
50 駆動信号電極部
50a,50b 配線(周囲配線)(駆動信号配線)
51〜58 駆動信号電極
51a〜58a タングステン配線(内部配線)(駆動信号配線)
51b〜58b タングステン配線(内部配線)(駆動信号配線)
60,61〜68 ボンディングワイヤ
70 パッケージ
71〜78 出力電極
120a ドライバ回路
400 画素領域
500 入力電極部
510〜580 入力電極
510a〜580a タングステン配線
510b〜580b タングステン配線
610〜680 ボンディングワイヤ
700 パッケージ
710〜780 出力電極
10 drive circuit 11 FPGA
12, 12a to 12d Driver circuit 13 1 block of element (sub-pixel region)
20 pixel peripheral recording type image pickup device 24 insulating film 25 semiconductor substrate 30, 31 to 38 bonding pad 40 pixel region 46 HCCD
46a Amplifier
48 Overwrite gate 49 VCCD
50 drive signal electrode 50a, 50b wiring (peripheral wiring) (driving signal wiring)
51-58 Drive signal electrodes 51a-58a Tungsten wiring (internal wiring) (drive signal wiring)
51b to 58b Tungsten wiring (internal wiring) (drive signal wiring)
60, 61-68 Bonding wire 70 Package 71-78 Output electrode 120a Driver circuit 400 Pixel region 500 Input electrode part 510-580 Input electrode 510a-580a Tungsten wiring 510b-580b Tungsten wiring 610-680 Bonding wire 700 Package 710-780 Output electrode

Claims (4)

X方向およびY方向にマトリクスに配置された複数の受光素子、各受光素子に直結され、受光信号を記録する複数のメモリおよび前記メモリに記録された受光信号を読み出す読み出し回路を含む画素領域を有し、撮像時の動作が外部駆動回路から供給される駆動信号により制御される画素周辺記録型の撮像素子であって、
前記画素領域をX方向もしくはY方向またはX方向およびY方向に分割した副画素領域ごとにY方向の一端部に前記駆動信号を入力するためのボンディングパッドを有し、
前記ボンディングパッドから前記副画素領域内に含まれる前記複数の受光素子、前記複数のメモリおよび前記読み出し回路に前記駆動信号を供給するための配線である駆動信号配線の前記ボンディングパッドから前記副画素領域のY方向他端の前記複数の受光素子、前記複数のメモリおよび前記読み出し回路までの長さが等しい撮像素子。
A pixel area including a plurality of light receiving elements arranged in a matrix in the X direction and the Y direction, a plurality of memories directly connected to each light receiving element and recording a light reception signal, and a readout circuit for reading the light reception signal recorded in the memory. In addition, a pixel peripheral recording type image pickup device whose operation at the time of image pickup is controlled by a drive signal supplied from an external drive circuit,
A bonding pad for inputting the drive signal to one end of the Y direction for each sub-pixel region obtained by dividing the pixel region in the X direction or the Y direction or the X direction and the Y direction;
The sub-pixel region from the bonding pad of the drive signal wiring that is a wire for supplying the drive signal to the plurality of light receiving elements, the plurality of memories, and the readout circuit included in the sub-pixel region from the bonding pad An image sensor having the same length to the plurality of light receiving elements, the plurality of memories, and the readout circuit at the other end in the Y direction.
前記駆動信号を前記複数の受光素子、前記複数のメモリおよび前記読み出し回路に供給するために前記駆動信号の数と同本数の駆動電極であって、それぞれが前記副画素領域のX方向全幅に延伸し、前記ボンディングパッドと前記副画素領域の間に並列配置される駆動信号電極を有し、
前記駆動信号配線が、前記ボンディングパッドと前記駆動信号電極とを接続する周囲配線と、前記駆動信号電極と前記複数の受光素子、前記複数のメモリおよび前記読み出し回路とを接続する内部配線とからなる請求項1に記載の撮像素子。
To supply the drive signals to the plurality of light receiving elements, the plurality of memories, and the readout circuit, the same number of drive electrodes as the number of the drive signals, each extending to the full width in the X direction of the sub-pixel region A driving signal electrode disposed in parallel between the bonding pad and the sub-pixel region;
The drive signal line includes a peripheral line that connects the bonding pad and the drive signal electrode, and an internal line that connects the drive signal electrode to the plurality of light receiving elements, the plurality of memories, and the readout circuit. The imaging device according to claim 1.
前記ボンディングパッドと前記駆動信号電極とが複数の周囲配線によって接続される請求項2に記載の撮像素子。 The imaging device according to claim 2 , wherein the bonding pad and the drive signal electrode are connected by a plurality of peripheral wirings. 前記撮像素子が、半導体基板の裏面に前記受光素子が形成され、前記半導体基板の表面に前記メモリおよび前記読み出し回路が形成され、前記表面に少なくとも1層の配線層が積層される裏面照射型である請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の撮像素子。   The imaging element is a back-illuminated type in which the light receiving element is formed on the back surface of a semiconductor substrate, the memory and the readout circuit are formed on the surface of the semiconductor substrate, and at least one wiring layer is stacked on the surface. The imaging device according to any one of claims 1 to 3.
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