JP6107657B2 - Organic electroluminescence device - Google Patents

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Description

本発明は有機エレクトロルミネッセンス素子に関し、特に電力効率や発光寿命に優れた白色発光を得るのに好適な技術に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence element, and more particularly to a technique suitable for obtaining white light emission excellent in power efficiency and light emission lifetime.

一般に、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)は、陽極/有機発光層/陰極からなる層構成を基本とし、これに正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層等の層を適宜設けることによって構成されている。
有機発光層では、陽極および陰極からそれぞれ注入された正孔および電子が再結合して励起子が生成され、この励起子を経由して発光が起こっている。ここで生成される励起子には、一重項励起子と三重項励起子とが混在しており、統計理論的に一重項励起子:三重項励起子=1:3の割合で生成すると考えられている。
In general, an organic electroluminescence element (organic EL element) basically has a layer structure composed of an anode / an organic light emitting layer / a cathode, and a layer such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. Is appropriately provided.
In the organic light emitting layer, holes and electrons injected from the anode and the cathode recombine to generate excitons, and light emission occurs via the excitons. The excitons generated here are a mixture of singlet excitons and triplet excitons, and are considered to be generated at a ratio of singlet excitons: triplet excitons = 1: 3 in statistical theory. ing.

これまで多くの有機EL素子では、一重項励起状態から基底状態へと戻る際に蛍光を発する発光物質が用いられていたため、25%の一重項エネルギーが発光に利用されているだけで、残りの75%の三重項エネルギーは最終的に熱として消費されていた。そこで三重項エネルギーを発光に有効利用するために、リン光物質(リン光ドーパント)を有機発光層に用いた有機EL素子(例えば、特許文献1および2参照)や、リン光ドーパントを含む複数の有機発光層間に、電子輸送性材料からなる励起子阻止層を設けた有機EL素子(例えば、特許文献3参照)が提案されている。   Until now, many organic EL devices have used a light emitting substance that emits fluorescence when returning from a singlet excited state to a ground state, so only 25% of singlet energy is used for light emission, and the rest 75% of the triplet energy was eventually consumed as heat. Therefore, in order to effectively use triplet energy for light emission, an organic EL element using a phosphorescent substance (phosphorescent dopant) in an organic light emitting layer (see, for example, Patent Documents 1 and 2), or a plurality of phosphorescent dopants An organic EL element in which an exciton blocking layer made of an electron transporting material is provided between organic light emitting layers (for example, see Patent Document 3) has been proposed.

ところで、照明用途またはバックライト用途に適した白色光を得るためには、青、緑、赤の3波長成分を有することが必要であり、有機EL素子においては、例えば青色発光材料、緑色発光材料、赤色発光材料を、1つの素子中で混合して白色光を得る方法が知られている。例えば、上記リン光素子の例でいえば、青、緑、赤の各色発光材料を用いることになる。
リン光発光素子は上記のように原理的に高効率を得ることが期待できるが、一方で駆動時の輝度寿命に関しては、現在のところ必ずしも満足のいくものではない。これは、主に青色リン光発光材料の駆動安定性が良好でないことによる。そのため、高効率、長寿命のデバイスを得るために、青色蛍光発光材料と緑色、赤色リン光発光材料を用いた有機EL素子が提案されている(例えば、特許文献4〜6参照)。
特許文献5,6の技術では、赤色や緑色リン光ドーパントを含む有機発光層と青色蛍光ドーパントを含む有機発光層との間に、特殊なバイポーラ層を設けたり(特許文献5参照)、特殊な非発光界面層を設けたりして(特許文献6参照)、発光効率や素子寿命を向上させている。
By the way, in order to obtain white light suitable for illumination use or backlight use, it is necessary to have three wavelength components of blue, green, and red. In an organic EL element, for example, a blue light emitting material and a green light emitting material are used. A method for obtaining white light by mixing red light emitting materials in one element is known. For example, in the case of the phosphorescent element, blue, green, and red light emitting materials are used.
The phosphorescent light emitting element can be expected to obtain high efficiency in principle as described above, but on the other hand, the luminance life at the time of driving is not always satisfactory at present. This is mainly because the driving stability of the blue phosphorescent material is not good. Therefore, in order to obtain a highly efficient and long-life device, an organic EL element using a blue fluorescent material and green and red phosphorescent materials has been proposed (see, for example, Patent Documents 4 to 6).
In the techniques of Patent Documents 5 and 6, a special bipolar layer is provided between an organic light emitting layer containing a red or green phosphorescent dopant and an organic light emitting layer containing a blue fluorescent dopant (see Patent Document 5). For example, a non-light emitting interface layer is provided (see Patent Document 6) to improve luminous efficiency and device life.

特開2001−284056号公報JP 2001-284056 A 特表2002−525808号公報Special table 2002-525808 gazette 特表2004−522276号公報JP-T-2004-522276 特開2004−227814号公報JP 2004-227814 A 特許第4496948号公報Japanese Patent No. 4969948 特許第4496949号公報Japanese Patent No. 4496949

しかしながら、特許文献5,6の技術によれば、上記バイポーラ層や非発光界面層といった特殊な層を形成する必要があり、特許文献5,6の技術も含めた有機EL素子一般において、電力効率や発光寿命の面でさらなる改善が求められ、色度や駆動電圧の経時変化の抑制についても改善が求められている。
したがって、本発明の主な目的は、青色などの蛍光発光材料とそれとは異なる他色のリン光発光材料とを用いて白色を得る有機EL素子において、電力効率や発光寿命を向上させ、更には色度や駆動電圧の経時変化も抑制することができる有機EL素子を提供することにある。
However, according to the techniques of Patent Documents 5 and 6, it is necessary to form a special layer such as the bipolar layer or the non-light emitting interface layer, and in general organic EL elements including the techniques of Patent Documents 5 and 6, power efficiency Further improvements are required in terms of the light emission lifetime, and improvements are also required for the suppression of changes over time in chromaticity and drive voltage.
Therefore, the main object of the present invention is to improve power efficiency and light emission lifetime in an organic EL device that obtains white color using a fluorescent light-emitting material such as blue and a phosphorescent light-emitting material of another color different from that. An object of the present invention is to provide an organic EL element capable of suppressing chronological changes in chromaticity and driving voltage.

上記課題を解決するため本発明によれば、
陽極、陰極および複数層の発光層を備え、前記複数層の発光層が前記陽極と前記陰極との間に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記複数の発光層が蛍光発光層と少なくとも2層以上のリン光発光層とを有し、
前記蛍光発光層と前記リン光発光層とのうち、前記蛍光発光層が前記陽極側に配置され、
前記リン光発光層の各層には、リン光発光ドーパントとホスト化合物とがそれぞれ含有され、
前記リン光発光層のうち、発光波長が最も長いリン光発光層が、前記蛍光発光層側に配置され、さらに、
当該発光波長が最も長いリン光発光層には、含有量がその層の主たるリン光発光ドーパントより多く、かつ、最低励起三重項エネルギーT1がその層の主たるリン光発光ドーパントのT1より大きくてホスト化合物のT1より小さいリン光発光性の金属錯体が含有されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子が提供される。
In order to solve the above problems, according to the present invention,
In an organic electroluminescence device comprising an anode, a cathode, and a plurality of light emitting layers, wherein the plurality of light emitting layers are disposed between the anode and the cathode,
The plurality of light emitting layers have a fluorescent light emitting layer and at least two or more phosphorescent light emitting layers,
Of the fluorescent light emitting layer and the phosphorescent light emitting layer, the fluorescent light emitting layer is disposed on the anode side,
Each layer of the phosphorescent layer contains a phosphorescent dopant and a host compound,
Among the phosphorescent light emitting layers, the phosphorescent light emitting layer having the longest emission wavelength is disposed on the fluorescent light emitting layer side, and
The phosphorescent light emitting layer having the longest emission wavelength has a content higher than that of the main phosphorescent light emitting dopant of the layer, and the lowest excited triplet energy T1 is larger than T1 of the main phosphorescent light emitting dopant of the layer. There is provided an organic electroluminescence device characterized by containing a phosphorescent metal complex smaller than T1 of the compound.

本発明によれば、電力効率や発光寿命を向上させ、更には色度や駆動電圧の経時変化を抑制することができる。   According to the present invention, it is possible to improve the power efficiency and the light emission lifetime, and further suppress the change in chromaticity and drive voltage with time.

本発明の有機EL素子を組み込んだ照明装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the illuminating device incorporating the organic EL element of this invention. 本発明の有機EL素子を組み込んだ照明装置の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the illuminating device incorporating the organic EL element of this invention.

以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

《有機EL素子の層構成》
次に、本発明の有機EL素子の層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
<< Layer structure of organic EL element >>
Next, although the preferable specific example of the layer structure of the organic EL element of this invention is shown below, this invention is not limited to these.

(i)陽極/蛍光発光層/リン光発光層/電子輸送層/陰極
(ii)陽極/正孔輸送層/蛍光発光層/リン光発光層/電子輸送層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/蛍光発光層/リン光発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
(iv)陽極/正孔輸送層/蛍光発光層/リン光発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(v)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/蛍光発光層/リン光発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(I) Anode / fluorescence emission layer / phosphorescence emission layer / electron transport layer / cathode (ii) anode / hole transport layer / fluorescence emission layer / phosphorescence emission layer / electron transport layer / cathode (iii) anode / hole Transport layer / fluorescence emission layer / phosphorescence emission layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode (iv) anode / hole transport layer / fluorescence emission layer / phosphorescence emission layer / hole blocking layer / electron transport layer / Cathode buffer layer / cathode (v) anode / anode buffer layer / hole transport layer / fluorescent light emitting layer / phosphorescent light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode

蛍光発光層は、リン光発光層より陽極側に配置されている。
蛍光発光層は、好ましくは青色の蛍光発光ドーパントを含む青色蛍光発光層である。
当該青色蛍光発光層の青領域の発光とは、その発光極大波長が430nm〜480nmにあるものをいう。
リン光発光層は少なくとも2層以上の層構成を有している。
リン光発光層は、好ましくは赤色のリン光発光ドーパントを含む赤色リン光発光層と、緑色のリン光発光ドーパントを含む緑色リン光発光層とで、構成される。
蛍光発光層とリン光発光層との積層構造においては、好ましくは陽極から陰極にかけて青色蛍光発光層、赤色リン光発光層および緑色リン光発光層がこの順に積層されているのがよい。
The fluorescent light emitting layer is disposed on the anode side of the phosphorescent light emitting layer.
The fluorescent light emitting layer is preferably a blue fluorescent light emitting layer containing a blue fluorescent light emitting dopant.
The light emission in the blue region of the blue fluorescent light-emitting layer means that the light emission maximum wavelength is in the range of 430 nm to 480 nm.
The phosphorescent light emitting layer has a layer structure of at least two layers.
The phosphorescent light emitting layer is preferably composed of a red phosphorescent light emitting layer containing a red phosphorescent light emitting dopant and a green phosphorescent light emitting layer containing a green phosphorescent light emitting dopant.
In the laminated structure of the fluorescent light emitting layer and the phosphorescent light emitting layer, the blue fluorescent light emitting layer, the red phosphorescent light emitting layer, and the green phosphorescent light emitting layer are preferably laminated in this order from the anode to the cathode.

《発光層(リン光発光層、蛍光発光層)》
本発明に係る発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。本発明に係る発光層は、本発明で規定する要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。
<Light emitting layer (phosphorescent light emitting layer, fluorescent light emitting layer)>
The light emitting layer according to the present invention is a layer that emits light by recombination of electrons and holes injected from the electrode, the electron transport layer, or the hole transport layer, and the light emitting portion is in the layer of the light emitting layer. May be the interface between the light emitting layer and the adjacent layer. The structure of the light emitting layer according to the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the requirements defined in the present invention.

発光層の膜厚の総和は、特に制限はないが、形成する膜の均質性や、発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、且つ、駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、5nm〜200nmの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは20nm以上、150nm以下の範囲に調整される。また、本発明の構成で規定される構成において個々の発光層の膜厚としては、5nm〜200nmの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは、3nm以上、150nm以下の範囲に調整することである。   The total thickness of the light emitting layer is not particularly limited, but it prevents the uniformity of the film to be formed, the application of unnecessary high voltage during light emission, and the improvement of the stability of the emission color with respect to the driving current. From a viewpoint, it is preferable to adjust to the range of 5 nm-200 nm, More preferably, it adjusts to the range of 20 nm or more and 150 nm or less. Moreover, in the structure prescribed | regulated by the structure of this invention, it is preferable to adjust as the film thickness of each light emitting layer in the range of 5 nm-200 nm, More preferably, by adjusting in the range of 3 nm or more and 150 nm or less. is there.

上記のとおり、本実施形態にかかる発光層は蛍光発光層とリン光発光層とで構成される。
蛍光発光層には蛍光発光ドーパントとホスト化合物とが含有される。
リン光発光層にもリン光発光ドーパントとホスト化合物とが含有される。
As described above, the light emitting layer according to this embodiment includes a fluorescent light emitting layer and a phosphorescent light emitting layer.
The fluorescent light emitting layer contains a fluorescent light emitting dopant and a host compound.
The phosphorescent layer also contains a phosphorescent dopant and a host compound.

発光層を形成する方法としては、後述する発光ドーパントやホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法(ラングミュア−ブロジェット法)、インクジェット法、スプレー法、印刷法、スロット型コータ法等の公知の薄膜形成法により製膜して形成することができる。   As a method for forming the light emitting layer, a light emitting dopant or a host compound described later can be used, for example, a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, an LB method (Langmuir-Blodget method), an ink jet method, a spray method, a printing method, The film can be formed by a known thin film forming method such as a slot type coater method.

発光層を構成する層は、本発明で規定する要件を満たす構成を有していれば何層でもよいが、少なくとも2層以上のリン光発光層と、1層の青領域に発光を有する青色蛍光発光層とを有している。   The number of layers constituting the light emitting layer is not particularly limited as long as it satisfies the requirements defined in the present invention, but at least two phosphorescent light emitting layers and blue light emitting in one blue region. And a fluorescent light emitting layer.

各発光層に含有されるリン光発光性、または蛍光発光性発光ドーパントは、発光層内においてその膜厚方向に対し、均一な濃度で含有されていてもよいが、濃度分布を有していてもよい。   The phosphorescent light emitting or fluorescent light emitting dopant contained in each light emitting layer may be contained in the light emitting layer at a uniform concentration in the film thickness direction, but has a concentration distribution. Also good.

(1)ホスト化合物
次に、発光層に含まれるホスト化合物(発光ホスト化合物ともいう)について説明する。
(1) Host Compound Next, a host compound (also referred to as a light emitting host compound) contained in the light emitting layer will be described.

本発明の有機EL素子のリン光発光層に含まれるリン光ホスト化合物とは、室温(25℃)におけるリン光発光のリン光量子収率が、0.1未満の化合物であることが好ましく、更に好ましくはリン光量子収率が0.01未満の化合物である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での質量比が20質量%以上であることが好ましい。   The phosphorescent host compound contained in the phosphorescent layer of the organic EL device of the present invention is preferably a compound having a phosphorescence quantum yield of phosphorescence emission at room temperature (25 ° C.) of less than 0.1. Preferably, it is a compound having a phosphorescence quantum yield of less than 0.01. Moreover, in the compound contained in a light emitting layer, it is preferable that the mass ratio in the layer is 20 mass% or more.

リン光ホスト化合物としては、ホスト化合物を単独で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。   As the phosphorescent host compound, the host compound may be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられるリン光ホスト化合物としては、構造的には特に制限はないが、代表的にはカルバゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体、芳香族ボラン誘導体、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体、オリゴアリーレン化合物等の基本骨格を有するもの、または、カルボリン誘導体やジアザカルバゾール誘導体(ここで、ジアザカルバゾール誘導体とは、カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置換されているものを表す。)等が挙げられる。   The phosphorescent host compound used in the present invention is not particularly limited in terms of structure, but is typically a carbazole derivative, triarylamine derivative, aromatic borane derivative, nitrogen-containing heterocyclic compound, thiophene derivative, furan derivative. A compound having a basic skeleton such as an oligoarylene compound, or a carboline derivative or a diazacarbazole derivative (herein, a diazacarbazole derivative is at least one carbon atom of a hydrocarbon ring constituting a carboline ring of a carboline derivative) Represents the one substituted with a nitrogen atom).

本発明に係る発光層に用いられるリン光ホスト化合物としては、下記一般式(a)で表される化合物が好ましい。   As the phosphorescent host compound used in the light emitting layer according to the present invention, a compound represented by the following general formula (a) is preferable.

Figure 0006107657
Figure 0006107657

一般式(a)において、Xは、NR′、O、S、CR′R″またはSiR′R″を表し、R′、R″は各々水素原子または置換基を表す。Arは芳香環を表す。nは0から8の整数を表す。   In the general formula (a), X represents NR ′, O, S, CR′R ″ or SiR′R ″, R ′ and R ″ each represent a hydrogen atom or a substituent. Ar represents an aromatic ring. N represents an integer of 0 to 8.

一般式(a)におけるXにおいて、R′、R″で各々表される置換基としては、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、2−ブテニル基、1,3−ブタジエニル基、2−ペンテニル基、イソプロペニル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(芳香族炭素環基、アリール基等ともいい、例えば、フェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する任意の炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す)、フタラジニル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基またはヘテロアリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、ホスホノ基等が挙げられる。   In X in the general formula (a), the substituents represented by R ′ and R ″ are alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group). Group, octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, etc.), cycloalkyl group (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group, 1-propenyl group, 2 -Butenyl group, 1,3-butadienyl group, 2-pentenyl group, isopropenyl group, etc.), alkynyl group (for example, ethynyl group, propargyl group, etc.), aromatic hydrocarbon group (aromatic carbocyclic group, aryl group, etc.) For example, phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, an Ryl group, azulenyl group, acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl group, pyrenyl group, biphenylyl group, etc., aromatic heterocyclic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group) Group, triazinyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, quinazolinyl group, carbazolyl group, carbolinyl group, diazacarbazolyl group (one of the carbon atoms constituting the carboline ring of the carbolinyl group is replaced by a nitrogen atom) ), A phthalazinyl group, etc.), a heterocyclic group (eg, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, Hexyloxy group, oct Ruoxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy group (eg, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (eg, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group). Propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (for example, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (Eg, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, etc.) Xycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, Dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group) 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy (For example, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethyl group) Carbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (For example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, A cyclohexylaminocarbonyl group, an octylaminocarbonyl group, a 2-ethylhexylaminocarbonyl group, a dodecylaminocarbonyl group, a phenylaminocarbonyl group, a naphthylaminocarbonyl group, a 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), a ureido group (for example, a methylureido group, Ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl) Group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, Dilsulfinyl group etc.), alkylsulfonyl group (eg methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group etc.), arylsulfonyl group or heteroarylsulfonyl group (eg , Phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group) Anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, Tafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group, etc.), phosphono Groups and the like.

これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよい。また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。   These substituents may be further substituted with the above substituents. In addition, a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring.

一般式(a)において、好ましいXはNR′またはOであり、R′としては芳香族炭化水素基、芳香族複素環基が特に好ましい。   In the general formula (a), X is preferably NR ′ or O, and R ′ is particularly preferably an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group.

一般式(a)において、Arで表される芳香族環としては、芳香族炭化水素環または芳香族複素環が挙げられる。また、該芳香族環は単環でもよく、縮合環でもよく、更に未置換でも、後述するような置換基を有していてもよい。   In the general formula (a), examples of the aromatic ring represented by Ar include an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring. Further, the aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and may be unsubstituted or may have a substituent as described later.

一般式(a)において、Arで表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、o−テルフェニル環、m−テルフェニル環、p−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。これらの環は更に置換基を有していてもよい。   In the general formula (a), examples of the aromatic hydrocarbon ring represented by Ar include a benzene ring, biphenyl ring, naphthalene ring, azulene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, pyrene ring, chrysene ring, naphthacene ring, triphenylene ring, o-terphenyl ring, m-terphenyl ring, p-terphenyl ring, acenaphthene ring, coronene ring, fluorene ring, fluoranthrene ring, naphthacene ring, pentacene ring, perylene ring, pentaphen ring, picene ring, pyrene ring, Examples include a pyranthrene ring and anthraanthrene ring. These rings may further have a substituent.

一般式(a)において、Arで表される芳香族複素環としては、例えば、フラン環、ジベンゾフラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、カルバゾール環、カルボリン環、ジアザカルバゾール環(カルボリン環を構成する炭化水素環の炭素原子の一つが更に窒素原子で置換されている環を示す)等が挙げられる。これらの環は更に置換基を有していてもよい。   In the general formula (a), examples of the aromatic heterocycle represented by Ar include a furan ring, a dibenzofuran ring, a thiophene ring, an oxazole ring, a pyrrole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a triazine ring. , Benzimidazole ring, oxadiazole ring, triazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, indazole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoxaline ring, quinazoline ring, cinnoline ring, quinoline Ring, isoquinoline ring, phthalazine ring, naphthyridine ring, carbazole ring, carboline ring, diazacarbazole ring (showing a ring in which one of the carbon atoms of the hydrocarbon ring constituting the carboline ring is further substituted with a nitrogen atom), etc. Can be mentioned. These rings may further have a substituent.

上記の中でも、一般式(a)において、Arで表される芳香族環として好ましく用いられるのは、カルバゾール環、カルボリン環、ジベンゾフラン環、ベンゼン環であり、特に好ましく用いられるのは、カルバゾール環、カルボリン環、ベンゼン環である。上記の中でも、置換基を有するベンゼン環が好ましく、特に好ましくは、カルバゾリル基を有するベンゼン環が好ましい。   Among these, in the general formula (a), the aromatic ring represented by Ar is preferably a carbazole ring, a carboline ring, a dibenzofuran ring, or a benzene ring, and particularly preferably used is a carbazole ring, A carboline ring or a benzene ring. Among these, a benzene ring having a substituent is preferable, and a benzene ring having a carbazolyl group is particularly preferable.

また、一般式(a)において、Arで表される芳香族環としては、下記に示すような、各々3環以上の縮合環が好ましい一態様であり、3環以上が縮合した芳香族炭化水素縮合環としては、具体的には、ナフタセン環、アントラセン環、テトラセン環、ペンタセン環、ヘキサセン環、フェナントレン環、ピレン環、ベンゾピレン環、ベンゾアズレン環、クリセン環、ベンゾクリセン環、アセナフテン環、アセナフチレン環、トリフェニレン環、コロネン環、ベンゾコロネン環、ヘキサベンゾコロネン環、フルオレン環、ベンゾフルオレン環、フルオランテン環、ペリレン環、ナフトペリレン環、ペンタベンゾペリレン環、ベンゾペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピラントレン環、コロネン環、ナフトコロネン環、オバレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。尚、これらの環は更に、置換基を有していてもよい。   In the general formula (a), the aromatic ring represented by Ar is preferably a condensed ring having three or more rings, as shown below, and is an aromatic hydrocarbon in which three or more rings are condensed. Specific examples of the condensed ring include naphthacene ring, anthracene ring, tetracene ring, pentacene ring, hexacene ring, phenanthrene ring, pyrene ring, benzopyrene ring, benzoazulene ring, chrysene ring, benzochrysene ring, acenaphthene ring, acenaphthylene ring, Triphenylene ring, coronene ring, benzocoronene ring, hexabenzocoronene ring, fluorene ring, benzofluorene ring, fluoranthene ring, perylene ring, naphthoperylene ring, pentabenzoperylene ring, benzoperylene ring, pentaphen ring, picene ring, pyranthrene ring, coronene ring , Naphthocoronene ring, Ovalene ring, Anse Antoren ring and the like. In addition, these rings may further have a substituent.

また、3環以上が縮合した芳香族複素環としては、具体的には、アクリジン環、ベンゾキノリン環、カルバゾール環、カルボリン環、フェナジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、カルボリン環、サイクラジン環、キンドリン環、テペニジン環、キニンドリン環、トリフェノジチアジン環、トリフェノジオキサジン環、フェナントラジン環、アントラジン環、ペリミジン環、ジアザカルバゾール環(カルボリン環を構成する炭素原子の任意の一つが窒素原子で置き換わったものを表す)、フェナントロリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、ナフトフラン環、ナフトチオフェン環、ベンゾジフラン環、ベンゾジチオフェン環、ナフトジフラン環、ナフトジチオフェン環、アントラフラン環、アントラジフラン環、アントラチオフェン環、アントラジチオフェン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、チオファントレン環(ナフトチオフェン環)等が挙げられる。尚、これらの環は更に置換基を有していてもよい。   Specific examples of the aromatic heterocycle condensed with three or more rings include an acridine ring, a benzoquinoline ring, a carbazole ring, a carboline ring, a phenazine ring, a phenanthridine ring, a phenanthroline ring, a carboline ring, a cyclazine ring, Quindrine ring, tepenidine ring, quinindrin ring, triphenodithiazine ring, triphenodioxazine ring, phenanthrazine ring, anthrazine ring, perimidine ring, diazacarbazole ring (any one of the carbon atoms constituting the carboline ring is a nitrogen atom) Phenanthroline ring, dibenzofuran ring, dibenzothiophene ring, naphthofuran ring, naphthothiophene ring, benzodifuran ring, benzodithiophene ring, naphthodifuran ring, naphthodithiophene ring, anthrafuran ring, anthradifuran ring, A Tiger thiophene ring, anthradithiophene ring, thianthrene ring, phenoxathiin ring, such as thio fan Tren ring (naphthaldehyde thiophene ring), and the like. In addition, these rings may further have a substituent.

ここで、一般式(a)において、Arで表される芳香族環が有してもよい置換基は、R′、R″で、各々表される置換基と同義である。   Here, in the general formula (a), the substituents that the aromatic ring represented by Ar may have are the same as the substituents represented by R ′ and R ″.

また、一般式(a)において、nは0〜8の整数を表すが、0〜2であることが好ましく、特にXがO、Sである場合には1または2であることが好ましい。   In the general formula (a), n represents an integer of 0 to 8, preferably 0 to 2, and particularly preferably 1 or 2 when X is O or S.

以下に、一般式(a)で表される発光ホスト化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the light-emitting host compound represented by the general formula (a) are shown below, but are not limited thereto.

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また、本発明に用いるリン光ホスト化合物は、低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物(蒸着重合性発光ホスト)でもいい。   The phosphorescent host compound used in the present invention may be a low molecular compound or a high molecular compound having a repeating unit, and a low molecular compound having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group (evaporation polymerizable light emitting host). But it is good.

リン光ホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ、発光の長波長化を防ぎ、高Tg(ガラス転移温度)である化合物が好ましい。   As the phosphorescent host compound, a compound that has a hole transporting ability and an electron transporting ability, prevents emission light from being increased in wavelength, and has a high Tg (glass transition temperature) is preferable.

従来公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が好適である。例えば、特開2001−257076号公報、同2002−308855号公報、同2001−313179号公報、同2002−319491号公報、同2001−357977号公報、同2002−334786号公報、同2002−8860号公報、同2002−334787号公報、同2002−15871号公報、同2002−334788号公報、同2002−43056号公報、同2002−334789号公報、同2002−75645号公報、同2002−338579号公報、同2002−105445号公報、同2002−343568号公報、同2002−141173号公報、同2002−352957号公報、同2002−203683号公報、同2002−363227号公報、同2002−231453号公報、同2003−3165号公報、同2002−234888号公報、同2003−27048号公報、同2002−255934号公報、同2002−260861号公報、同2002−280183号公報、同2002−299060号公報、同2002−302516号公報、同2002−305083号公報、同2002−305084号公報、同2002−308837号公報等が挙げられる。   As specific examples of conventionally known host compounds, compounds described in the following documents are suitable. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357777, 2002-334786, 2002-8860 Gazette, 2002-334787 gazette, 2002-15871 gazette, 2002-334788 gazette, 2002-43056 gazette, 2002-334789 gazette, 2002-75645 gazette, 2002-338579 gazette. No. 2002-105445, No. 2002-343568, No. 2002-141173, No. 2002-352957, No. 2002-203683, No. 2002-363227, No. 2002-231453. No. 2003-3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002-255934, No. 2002-286061, No. 2002-280183, No. 2002-299060. 2002-302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837, and the like.

本発明においては、複数の発光層を有する場合には、ホスト化合物は発光層ごとに異なっていてもよいが、同一の化合物であることが優れた駆動寿命特性が得られることから好ましい。   In the present invention, in the case of having a plurality of light emitting layers, the host compound may be different for each light emitting layer, but the same compound is preferable because excellent driving life characteristics are obtained.

また、前記リン光ホスト化合物は、その最低励起3重項エネルギー(T1)が、2.2eVより大きいことがより高い発光効率を得られることから好ましい。本発明でいう最低励起3重項エネルギーとは、ホスト化合物を溶媒に溶解し、液体窒素温度において観測したリン光発光スペクトルの最低振動バンド間遷移に対応する発光バンドのピークエネルギーを言う。   Further, the phosphorescent host compound preferably has a lowest excited triplet energy (T1) larger than 2.2 eV because higher luminous efficiency can be obtained. The lowest excited triplet energy as used in the present invention refers to the peak energy of the emission band corresponding to the transition between the lowest vibrational bands of the phosphorescence emission spectrum observed at a liquid nitrogen temperature after dissolving the host compound in a solvent.

本発明においては、ガラス転移点が90℃以上の化合物が好ましく、更には130℃以上の化合物が優れた駆動寿命特性を得られることから好ましい。   In the present invention, a compound having a glass transition point of 90 ° C. or higher is preferable, and a compound having a glass transition temperature of 130 ° C. or higher is preferable because excellent driving life characteristics can be obtained.

ここで、ガラス転移点(Tg)とは、DSC(Differential Scanning Colorimetry:示差走査熱量法)を用いて、JIS−K−7121に準拠した方法により求められる値である。   Here, the glass transition point (Tg) is a value obtained by a method based on JIS-K-7121 using DSC (Differential Scanning Colorimetry).

本発明の有機EL素子においては、ホスト材料はキャリアの輸送を担うため、キャリア輸送能を有する材料が好ましい。キャリア輸送能を表す物性としてキャリア移動度が用いられるが、有機材料のキャリア移動度は、一般的に電界強度に依存性が見られる。電界強度依存性の高い材料は、正孔と電子注入・輸送バランスを崩しやすい為、中間層材料、ホスト材料は、移動度の電界強度依存性の少ない材料を用いることが好ましい。   In the organic EL device of the present invention, since the host material is responsible for carrier transport, a material having carrier transport capability is preferable. Carrier mobility is used as a physical property representing carrier transport ability, but the carrier mobility of an organic material generally depends on the electric field strength. Since a material having a high electric field strength dependency easily breaks the balance of hole and electron injection / transport, it is preferable to use a material having a low electric field strength dependency of mobility for the intermediate layer material and the host material.

なお、上記リン光ホスト化合物は、蛍光発光ドーパントに対するホスト化合物としても適宜用いることができる。   In addition, the said phosphorescent host compound can be used suitably also as a host compound with respect to a fluorescence emission dopant.

(2)発光ドーパント
次いで、本発明に係る発光ドーパントについて説明する。
(2) Luminescent dopant Next, the luminescent dopant according to the present invention will be described.

(2.1)蛍光発光ドーパント(蛍光性ドーパント、蛍光発光体等ともいう)
本発明に係る発光性材料として用いられる蛍光発光ドーパントとしては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
(2.1) Fluorescent light emitting dopant (also called fluorescent dopant, fluorescent light emitter, etc.)
Examples of the fluorescent dopant used as the luminescent material according to the present invention include a coumarin dye, a pyran dye, a cyanine dye, a croconium dye, a squalium dye, an oxobenzanthracene dye, a fluorescein dye, a rhodamine dye, Examples include pyrylium dyes, perylene dyes, stilbene dyes, polythiophene dyes, and rare earth complex phosphors.

また、従来公知のドーパントも本発明に用いることができ、例えば、国際公開第00/70655号パンフレット、特開2002−280178号公報、同2001−181616号公報、同2002−280179号公報、同2001−181617号公報、同2002−280180号公報、同2001−247859号公報、同2002−299060号公報、同2001−313178号公報、同2002−302671号公報、同2001−345183号公報、同2002−324679号公報、国際公開第02/15645号パンフレット、特開2002−332291号公報、同2002−50484号公報、同2002−332292号公報、同2002−83684号公報、特表2002−540572号公報、特開2002−117978号公報、同2002−338588号公報、同2002−170684号公報、同2002−352960号公報、国際公開第01/93642号パンフレット、特開2002−50483号公報、同2002−100476号公報、同2002−173674号公報、同2002−359082号公報、同2002−175884号公報、同2002−363552号公報、同2002−184582号公報、同2003−7469号公報、特表2002−525808号公報、特開2003−7471号公報、特表2002−525833号公報、特開2003−31366号公報、同2002−226495号公報、同2002−234894号公報、同2002−235076号公報、同2002−241751号公報、同2001−319779号公報、同2001−319780号公報、同2002−62824号公報、同2002−100474号公報、同2002−203679号公報、同2002−343572号公報、同2002−203678号公報等が挙げられる。   Conventionally known dopants can also be used in the present invention. For example, International Publication No. 00/70655 pamphlet, JP-A Nos. 2002-280178, 2001-181616, 2002-280179, 2001 181617, 2002-280180, 2001-247859, 2002-299060, 2001-313178, 2002-302671, 2001-345183, 2002. No. 324679, International Publication No. 02/15645, JP 2002-332291 A, 2002-50484, 2002-332292, 2002-83684, JP 2002-540572, JP 2 No. 02-117978, No. 2002-338588, No. 2002-170684, No. 2002-352960, Pamphlet of International Publication No. 01/93642, JP 2002-50483, No. 2002-1000047. No. 2002-173684, No. 2002-359082, No. 2002-17584, No. 2002-363552, No. 2002-184582, No. 2003-7469, No. 2002-525808. JP-A 2003-7471, JP-T 2002-525833, JP-A 2003-31366, JP-A 2002-226495, JP-A 2002-234894, JP-A 2002-2335076, JP-A 2002-24175 Gazette, 2001-319779, 2001-319780, 2002-62824, 2002-1000047, 2002-203679, 2002-343572, 2002-203678. A gazette etc. are mentioned.

(2.2)リン光発光ドーパント
本発明に係るリン光発光ドーパントは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温(25℃)にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は0.1以上である。
(2.2) Phosphorescent dopant The phosphorescent dopant according to the present invention is a compound in which light emission from an excited triplet is observed, specifically, a compound that emits phosphorescence at room temperature (25 ° C.). The phosphorescence quantum yield is defined as a compound of 0.01 or more at 25 ° C., but the preferred phosphorescence quantum yield is 0.1 or more.

上記リン光量子収率は、例えば、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光発光体は、任意の溶媒のいずれかにおいても、上記リン光量子収率(0.01以上)が達成されればよい。   The phosphorescence quantum yield can be measured, for example, by the method described in Spectroscopic II, page 398 (1992 edition, Maruzen) of 4th edition Experimental Chemistry Course 7. Although the phosphorescence quantum yield in a solution can be measured using various solvents, the phosphorescent emitter according to the present invention has the phosphorescence quantum yield (0.01 or more) in any solvent. It only has to be achieved.

リン光発光ドーパントの発光の原理としては、2タイプが挙げられる。
一つのタイプはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリア(電子、正孔)が結合し、ホスト化合物の励起状態が生成し、この励起エネルギーをリン光発光ドーパントに移動させることでリン光発光ドーパントからの発光を得るというエネルギー移動型である。
もう一つのタイプは、リン光発光ドーパントがキャリアトラップとなり、リン光発光ドーパント上でキャリアの再結合が生じ、リン光発光ドーパントからの発光が得られるというキャリアトラップ型である。
いずれの場合においても、リン光発光ドーパントの励起状態のエネルギーは、ホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが高い発光効率を得る上で好ましい。
There are two types of light emission principle of the phosphorescent dopant.
One type is that a carrier (electron, hole) is combined on the host compound to which the carrier is transported, and an excited state of the host compound is generated, and this excitation energy is transferred to the phosphorescent dopant. It is an energy transfer type that obtains light emission from.
The other type is a carrier trap type in which the phosphorescent light emitting dopant becomes a carrier trap, carrier recombination occurs on the phosphorescent light emitting dopant, and light emission from the phosphorescent light emitting dopant is obtained.
In any case, the excited state energy of the phosphorescent dopant is preferably lower than the excited state energy of the host compound in order to obtain high light emission efficiency.

リン光発光ドーパントは、有機EL素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができる。   The phosphorescent light emitting dopant can be appropriately selected from known materials used for the light emitting layer of the organic EL device.

本発明に係るリン光発光ドーパントとしては、好ましくは元素の周期表で8族〜10族の金属を含有する錯体系化合物であり、更に好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、または白金化合物(白金錯体系化合物)、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。   The phosphorescent dopant according to the present invention is preferably a complex compound containing a group 8-10 metal in the periodic table of elements, more preferably an iridium compound, an osmium compound, or a platinum compound (platinum complex system). Compound) and rare earth complexes, and most preferred is an iridium compound.

本発明に用いることができる化合物の具体例を以下に示すが、これらの化合物は、例えば、Inorg.Chem.40巻、1704〜1711に記載の方法等により合成できる。   Specific examples of compounds that can be used in the present invention are shown below. These compounds are described in, for example, Inorg. Chem. 40, 1704-1711, and the like.

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(2.3)リン光発光ドーパントの特性等
上記のとおり、リン光発光層は少なくとも2層以上の層構成を有している。
これらリン光発光層のうち、発光波長の最も長いリン光発光層には、その層の主たる(発光主となる)リン光発光ドーパントに加え、特殊なリン光発光性の金属錯体が含有されている。
当該リン光発光層では、主に、(i),(ii)の特徴を有している。
(i)特殊なリン光発光性の金属錯体の含有量が、発光主となるリン光発光ドーパントの含有量より多い。
(ii)特殊なリン光発光性の金属錯体の最低励起三重項エネルギー(T1)が、発光主となるリン光発光ドーパントのT1より大きく、ホスト化合物のT1より小さい。
(2.3) Characteristics of Phosphorescence Emission Dopant As described above, the phosphorescence emission layer has a layer configuration of at least two layers.
Among these phosphorescent light emitting layers, the phosphorescent light emitting layer having the longest emission wavelength contains a special phosphorescent metal complex in addition to the main phosphorescent light emitting dopant of the layer. Yes.
The phosphorescent light-emitting layer mainly has the characteristics (i) and (ii).
(I) The content of the special phosphorescent metal complex is larger than the content of the phosphorescent dopant that is the main light emission.
(Ii) The lowest excited triplet energy (T1) of the special phosphorescent metal complex is larger than T1 of the phosphorescent dopant that mainly emits light and smaller than T1 of the host compound.

リン光発光ドーパントやホスト化合物の各化合物のT1は、当該分野では一般的な方法で測定できる。
具体的な測定装置としては、機器各社のいずれの測定装置でも構わないが、例えば、分光蛍光光度計(F−4500またはF−7000形分光蛍光光度計、日立ハイテク)により、低温で励起光を当て、リン光を発光させてその吸収及び発光スペクトルを測定し、最低励起三重項状態のエネルギー準位を算出することができる。
T1 of each compound of a phosphorescence emission dopant and a host compound can be measured by a general method in this field.
As a specific measuring apparatus, any measuring apparatus of each device company may be used. For example, excitation light is emitted at a low temperature using a spectrofluorometer (F-4500 or F-7000 type spectrofluorometer, Hitachi High-Tech). It is possible to calculate the energy level of the lowest excited triplet state by emitting phosphorescence and measuring the absorption and emission spectra.

《注入層:電子注入層、正孔注入層》
注入層は必要に応じて設けることができ、陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
<< Injection layer: electron injection layer, hole injection layer >>
The injection layer can be provided as necessary, and may exist between the anode and the light emitting layer or the hole transport layer and between the cathode and the light emitting layer or the electron transport layer.

注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設ける層のことで、例えば、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)にその詳細に記載されており、正孔注入層(陽極バッファー層)と電子注入層(陰極バッファー層)とがある。   An injection layer is a layer provided between an electrode and an organic layer in order to lower drive voltage and improve light emission luminance. For example, “Organic EL element and its forefront of industrialization (November 30, 1998, NTS Corporation) Issue) ”, Chapter 2, Chapter 2,“ Electrode Materials ”(pages 123-166), which is described in detail, and has a hole injection layer (anode buffer layer) and an electron injection layer (cathode buffer layer). .

陽極バッファー層(正孔注入層)としては、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報、同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。また、特表2003−519432号公報に記載される材料を使用することも好ましい。   Details of the anode buffer layer (hole injection layer) are described in JP-A-9-45479, JP-A-9-260062, JP-A-8-288069, and the like. As a specific example, copper phthalocyanine Phthalocyanine buffer layer typified by (1), oxide buffer layer typified by vanadium oxide, amorphous carbon buffer layer, polymer buffer layer using a conductive polymer such as polyaniline (emeraldine) or polythiophene, and the like. Moreover, it is also preferable to use the material described in Japanese translations of PCT publication No. 2003-519432 gazette.

陰極バッファー層(電子注入層)としては、特開平6−325871号公報、同9−17574号公報、同10−74586号公報等にその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。   Details of the cathode buffer layer (electron injection layer) are described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, and the like. Specifically, strontium, aluminum, etc. Metal buffer layer typified by lithium, alkali metal compound buffer layer typified by lithium fluoride, alkaline earth metal compound buffer layer typified by magnesium fluoride, oxide buffer layer typified by aluminum oxide, etc. .

上記バッファー層(注入層)はごく薄い膜であることが望ましく、使用する素材にもよるが、その膜厚は0.1nm〜5μmの範囲が好ましい。   The buffer layer (injection layer) is preferably a very thin film, and although it depends on the material used, the film thickness is preferably in the range of 0.1 nm to 5 μm.

《阻止層:正孔阻止層、電子阻止層》
阻止層は、有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。
<Blocking layer: hole blocking layer, electron blocking layer>
The blocking layer is provided as necessary in addition to the basic constituent layer of the organic compound thin film. For example, it is described in JP-A Nos. 11-204258, 11-204359, and “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (issued by NTT, Inc. on November 30, 1998). There is a hole blocking (hole blocking) layer.

正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることができる。   The hole blocking layer has a function of an electron transport layer in a broad sense, and is made of a hole blocking material that has a function of transporting electrons and has a remarkably small ability to transport holes. The probability of recombination of electrons and holes can be improved by blocking. Moreover, the structure of the electron carrying layer mentioned later can be used as a hole-blocking layer as needed.

本発明の有機EL素子に設ける正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。   The hole blocking layer provided in the organic EL device of the present invention is preferably provided adjacent to the light emitting layer.

一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。   On the other hand, the electron blocking layer has a function of a hole transport layer in a broad sense, and is made of a material that has a function of transporting holes and has an extremely small ability to transport electrons, and transports electrons while transporting holes. By blocking, the recombination probability of electrons and holes can be improved. Moreover, the structure of the positive hole transport layer mentioned later can be used as an electron blocking layer as needed.

本発明に係る正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては、好ましくは3nm〜100nmであり、更に好ましくは5nm〜30nmである。   The film thickness of the hole blocking layer and the electron transport layer according to the present invention is preferably 3 nm to 100 nm, and more preferably 5 nm to 30 nm.

《正孔輸送層》
正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
《Hole transport layer》
The hole transport layer is made of a hole transport material having a function of transporting holes, and in a broad sense, a hole injection layer and an electron blocking layer are also included in the hole transport layer. The hole transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.

正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。   The hole transport material has any one of hole injection or transport and electron barrier properties, and may be either organic or inorganic. For example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, Examples thereof include stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, and conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers.

正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、更には、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。   The above-mentioned materials can be used as the hole transport material, but it is further preferable to use a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound and a styrylamine compound, particularly an aromatic tertiary amine compound.

芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(TPD);2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N′,N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェニル;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル;N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル;4,4′−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン;N−フェニルカルバゾール、更には、米国特許第5,061,569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(NPD)、特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(MTDATA)等が挙げられる。   Representative examples of aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl; N, N'-diphenyl-N, N'- Bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (TPD); 2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane; 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ′, N′-tetra-p-tolyl-4,4′-diaminobiphenyl; 1,1-bis (4-di-p-tolyl) Aminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane; bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane; N, N'-diphenyl-N, N ' − (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl; N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl; N, N, N-tri (p-tolyl) amine; 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbene; 4-N, N-diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-methoxy-4′-N, N-diphenylaminostilbenzene; N-phenylcarbazole, and two more described in US Pat. No. 5,061,569 Having a condensed aromatic ring of, for example, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPD), JP-A-4-308 4,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine in which three triphenylamine units described in Japanese Patent No. 88 are linked in a starburst type ( MTDATA) and the like.

更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、p型−Si、p型−SiC等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。   Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used. In addition, inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC can also be used as the hole injection material and the hole transport material.

また、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、特開2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.著文献(Applied Physics Letters 80(2002),p.139)、特表2003−519432号公報に記載されているような、いわゆるp型半導体的性質を有するとされる正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることから、これらの材料を用いることが好ましい。   JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, JP-A-2001-102175, J. Pat. Appl. Phys. , 95, 5773 (2004), JP-A-11-251067, J. MoI. Huang et. al. It is also possible to use a hole transport material that has a so-called p-type semiconducting property as described in the literature (Applied Physics Letters 80 (2002), p. 139), JP 2003-519432 A. it can. In the present invention, it is preferable to use these materials because a light-emitting element with higher efficiency can be obtained.

正孔輸送層は上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法(ラングミュア−ブロジェット法)、インクジェット法、スプレー法、印刷法、スロット型コータ法等の公知の薄膜形成法により製膜して形成することができる。正孔輸送層の膜厚については、特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5nm〜200nmである。この正孔輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。   For the hole transport layer, the hole transport material may be selected from, for example, vacuum deposition method, spin coating method, casting method, LB method (Langmuir-Blodget method), ink jet method, spray method, printing method, slot type coater method, etc. The film can be formed by a known thin film forming method. Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of a positive hole transport layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5 nm-200 nm. The hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.

《電子輸送層》
電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
《Electron transport layer》
The electron transport layer is made of a material having a function of transporting electrons, and in a broad sense, an electron injection layer and a hole blocking layer are also included in the electron transport layer. The electron transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.

従来、単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は、発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料(正孔阻止材料を兼ねる)としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。   Conventionally, when a single electron transport layer and a plurality of layers are used, an electron transport material (also serving as a hole blocking material) used for an electron transport layer adjacent to the light emitting layer on the cathode side is injected from the cathode. As long as it has a function of transmitting the generated electrons to the light-emitting layer, any material selected from conventionally known compounds can be selected and used. For example, nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone Derivatives, thiopyran dioxide derivatives, carbodiimides, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, and the like. Furthermore, in the above oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative in which the oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, and a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron withdrawing group can also be used as an electron transport material. Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.

また、8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、GaまたはPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様に、n型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。   In addition, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (Alq), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8-quinolinol) aluminum Tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), and the like, and the central metals of these metal complexes are In, Mg, Metal complexes replaced with Cu, Ca, Sn, Ga or Pb can also be used as the electron transport material. In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those having terminal ends substituted with an alkyl group or a sulfonic acid group can be preferably used as the electron transporting material. In addition, the distyrylpyrazine derivative exemplified as the material of the light emitting layer can also be used as an electron transport material, and similarly to the hole injection layer and the hole transport layer, inorganic such as n-type-Si and n-type-SiC can be used. A semiconductor can also be used as an electron transport material.

電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法(ラングミュア−ブロジェット法)、インクジェット法、スプレー法、印刷法、スロット型コータ法等の公知の薄膜形成法により製膜して形成することができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5〜200nmである。電子輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。   For the electron transport layer, the above-mentioned electron transport material may be a known material such as a vacuum deposition method, a spin coat method, a cast method, an LB method (Langmuir-Blodget method), an ink jet method, a spray method, a printing method, or a slot type coater method. The film can be formed by a thin film forming method. Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of an electron carrying layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5-200 nm. The electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.

また、不純物をドープしたn型半導体的性質を有するとされる電子輸送材料を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、特開平10−270172号公報、特開2000−196140号公報、特開2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)などに記載されたものが挙げられる。   In addition, an electron transport material that has n-type semiconductor properties doped with impurities can also be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-10-270172, JP-A-2000-196140, JP-A-2001-102175, J. Pat. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.

本発明においては、このようなn型半導体的性質を有するとされる電子輸送材料を用いることもより低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。   In the present invention, it is preferable to use an electron transport material having such n-type semiconductor properties because an element with lower power consumption can be produced.

本実施形態にかかる電子輸送層では、フェニルピリジン骨格を有する化合物が含有され、かつ、電子供与性の金属(金属原子)、金属イオンまたは金属錯体の少なくとも1つがドープされる。
フェニルピリジン骨格を有する化合物は好ましくは一般式(1)で表わされる。
なお、電子供与性の金属、金属イオンまたは金属錯体は好ましくは電子輸送層に対しドープされ、励起子阻止層(正孔阻止層)にはドープされない。
In the electron transport layer according to this embodiment, a compound having a phenylpyridine skeleton is contained, and at least one of an electron donating metal (metal atom), metal ion, or metal complex is doped.
The compound having a phenylpyridine skeleton is preferably represented by the general formula (1).
Note that the electron-donating metal, metal ion, or metal complex is preferably doped with respect to the electron transport layer and not with the exciton blocking layer (hole blocking layer).

Figure 0006107657
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一般式(1)中、「Ar1」はm価のアリール基を表し、「R」、「R’」は各々水素原子または置換基を表す。「n」は1以上6以下の整数を表す。R、R’が複数存在する場合、隣接する置換基同士は互いに縮合して環を形成してもよい。
一般式(1)において、R、R’が置換基を表す場合、それらの置換基の具体例としては、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロ−n−ブチル基、パーフルオロ−t−ブチル基、t−ブチル基、ベンジル基等)、又脂環式炭化水素の残基、例えばシクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)及びシクロアルケニル基(例えばシクロヘキセニル基、シクロペンテニル基)等が、更に、アラルキル基(例えばベンジル基、2−フェネチル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p−クロロフェニル基、フルオレニル基等)、アルコキシ基(例えばエトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基、ナフチルチオ基、p−トリルチオ基、p−クロロフェニルチオ基)、ヒドロキシル基、アミノ基(ジメチルアミノ基、ジアリールアミノ基)、アルケニル基(例えばアリル基、1−エテニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−オクタデセニル基等)、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)等が挙げられる。
これらの基はさらに置換されていてもよく、前記置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基等が挙げられる。
R、R’の好ましい例としては水素原子、アルキル基、アリール基等が挙げられ、水素原子であることがより好ましい。
In the general formula (1), “Ar1” represents an m-valent aryl group, and “R” and “R ′” each represents a hydrogen atom or a substituent. “N” represents an integer of 1 to 6. When a plurality of R and R ′ are present, adjacent substituents may be condensed with each other to form a ring.
In the general formula (1), when R and R ′ represent a substituent, specific examples of these substituents include an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a hydroxyethyl group, a methoxymethyl group, a trimethyl group). Fluoromethyl group, perfluoropropyl group, perfluoro-n-butyl group, perfluoro-t-butyl group, t-butyl group, benzyl group, etc.) and alicyclic hydrocarbon residues such as cycloalkyl group ( A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.) and a cycloalkenyl group (for example, a cyclohexenyl group, a cyclopentenyl group), and the like, and an aralkyl group (for example, a benzyl group, a 2-phenethyl group, etc.) p-tolyl group, p-chlorophenyl group, fluorenyl group, etc.), alkoxy group (for example, ethoxy group, isopropo group) Xy group, butoxy group etc.), aryloxy group (eg phenoxy group etc.), alkylthio group (methylthio, ethylthio, isopropylthio group etc.), arylthio group (eg phenylthio group, naphthylthio group, p-tolylthio group, p-chlorophenylthio) Group), hydroxyl group, amino group (dimethylamino group, diarylamino group), alkenyl group (for example, allyl group, 1-ethenyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-octadecenyl group, etc.), halogen atom ( Fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc.).
These groups may be further substituted, and examples of the substituent include a halogen atom, hydroxyl group, nitro group, cyano group, carboxyl group, sulfo group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group. Group, arylthio group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, acyloxy group, amino group, carbonamido group, sulfonamido group, carbamoyl group, sulfamoyl group, ureido group, alkoxycarbonyl An amino group, a sulfamoylamino group, etc. are mentioned.
Preferable examples of R and R ′ include a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group, and a hydrogen atom is more preferable.

一般式(1)において、ベンゼン環とピリジン環の結合はいずれの位置で行われていてもよいが、ピリジンの2位でベンゼン環に結合していることが好ましく、ベンゼン環側はAr1に結合しているオルト位でピリジン環に結合していることが好ましい。また、R,R’を介して、ベンゼン環とピリジン環が縮環する構造をとることもできる。
一般式(1)において、Ar1で表わされるアリール基としてはフェニル基、ナフチル基、トリフェニレン基、ビフェニル基、ターフェニル基等の芳香族炭化水素基、ピリジル基、ピリミジル基、トリアジニル基、チエニル基、フリル基、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、アザカルバゾリル基等の芳香族複素環基が挙げられ、Ar1で表わされるアリール基は置換基を有していてもよく、更に複数のアリール基が連結した構造を有していてもよい。Ar1で表わされるアリール基としては、フェニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、アザカルバゾリル等が挙げられる。
一般式(1)において、nは1以上6以下の整数を表わし、アリール基からn個の結合手を介してフェニルピリジン構造と結合する。nは2または3が好ましく、具体的なAr1の構造としては、以下の挙げるものまたはその組み合わせが好ましく用いられる。
以下の構造において、「Ar2」はアリール基を表わし、「*」の位置で一般式(1)のベンゼン環と結合する。
In the general formula (1), the benzene ring and the pyridine ring may be bonded at any position, but preferably bonded to the benzene ring at the 2-position of the pyridine, and the benzene ring side is bonded to Ar1. It is preferably bonded to the pyridine ring at the ortho position. In addition, a structure in which a benzene ring and a pyridine ring are condensed via R and R ′ may be employed.
In the general formula (1), the aryl group represented by Ar1 is an aromatic hydrocarbon group such as phenyl group, naphthyl group, triphenylene group, biphenyl group, terphenyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, triazinyl group, thienyl group, Examples include an aromatic heterocyclic group such as a furyl group, a carbazolyl group, a dibenzofuranyl group, a dibenzothienyl group, a quinolyl group, an isoquinolyl group, an azacarbazolyl group, and the aryl group represented by Ar1 may have a substituent. Further, it may have a structure in which a plurality of aryl groups are linked. Examples of the aryl group represented by Ar1 include a phenyl group, a dibenzofuranyl group, a carbazolyl group, a dibenzothienyl group, and azacarbazolyl.
In the general formula (1), n represents an integer of 1 to 6, and is bonded to the phenylpyridine structure through n bonds from the aryl group. n is preferably 2 or 3, and as specific Ar1 structures, the following structures or combinations thereof are preferably used.
In the following structure, “Ar2” represents an aryl group and is bonded to the benzene ring of the general formula (1) at the position of “*”.

Figure 0006107657
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一般式(1)に係る化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。   Although the specific example of the compound which concerns on General formula (1) is shown, it is not limited to these.

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《支持基板》
本発明の有機EL素子に適用する支持基板(以下、基体、基板、基材、支持体等ともいう)としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また、透明であっても不透明であってもよい。支持基板側から光を取り出す場合には、支持基板は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な支持基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい支持基板は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。
《Support substrate》
The support substrate (hereinafter also referred to as a substrate, substrate, substrate, support, etc.) applied to the organic EL element of the present invention is not particularly limited in the type of glass, plastic, etc., and may be transparent. It may be opaque. When extracting light from the support substrate side, the support substrate is preferably transparent. Examples of the transparent support substrate preferably used include glass, quartz, and a transparent resin film. A particularly preferable support substrate is a resin film capable of giving flexibility to the organic EL element.

樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート(TAC)、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル或いはポリアリレート類、アートン(商品名JSR社製)或いはアペル(商品名三井化学社製)といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された水蒸気透過度が、0.01g/(m・24h・atm)以下のバリア性フィルムであることが好ましく、更には、JIS K 7126−1992に準拠した方法で測定された酸素透過度が、10−3g/(m・24h)以下、水蒸気透過度が、10−3g/(m・24h)以下の高バリア性フィルムであることが好ましく、前記の水蒸気透過度、酸素透過度がいずれも10−5g/(m・24h)以下であることが、更に好ましい。Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), Cellulose esters such as cellulose acetate phthalate (TAC) and cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide , Polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, Cycloolefin resins such as polyether imide, polyether ketone imide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethyl methacrylate, acrylic or polyarylate, Arton (trade name, manufactured by JSR) or Appel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals) Can be mentioned. An inorganic or organic film or a hybrid film of both may be formed on the surface of the resin film, and the water vapor permeability measured by a method according to JIS K 7129-1992 is 0.01 g / (m 2 · 24 h · atm) or less, and the oxygen permeability measured by a method according to JIS K 7126-1992 is preferably 10 −3 g / (m 2 · 24 h) or less. The water vapor permeability is preferably a high barrier film of 10 −3 g / (m 2 · 24 h) or less, and both the water vapor permeability and the oxygen permeability are 10 −5 g / (m 2 · 24h) or less is more preferable.

バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素など素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素などを用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。   As a material for forming the barrier film, any material may be used as long as it has a function of suppressing intrusion of elements that cause deterioration of elements such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like can be used. Further, in order to improve the brittleness of the film, it is more preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of organic materials. Although there is no restriction | limiting in particular about the lamination | stacking order of an inorganic layer and an organic layer, It is preferable to laminate | stack both alternately several times.

バリア膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法などを用いることができるが、特開2004−68143号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものも好ましい。   The method for forming the barrier film is not particularly limited. For example, the vacuum deposition method, the sputtering method, the reactive sputtering method, the molecular beam epitaxy method, the cluster ion beam method, the ion plating method, the plasma polymerization method, the atmospheric pressure plasma. A polymerization method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used, but an atmospheric pressure plasma polymerization method as described in JP-A-2004-68143 is also preferable.

不透明な支持基板としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属板・フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。   Examples of the opaque support substrate include metal plates / films such as aluminum and stainless steel, opaque resin substrates, ceramic substrates, and the like.

《封止》
本発明の有機EL素子の封止に用いられる封止手段としては、例えば、封止部材と、電極、支持基板とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。
<Sealing>
Examples of the sealing means used for sealing the organic EL element of the present invention include a method of bonding a sealing member, an electrode, and a support substrate with an adhesive.

封止部材としては、有機EL素子の表示領域を覆うように配置されておればよく、凹板状でも、平板状でもよい。また、透明性、電気絶縁性は特に限定されない。   The sealing member may be disposed so as to cover the display area of the organic EL element, and may be concave or flat. Moreover, transparency and electrical insulation are not particularly limited.

具体的には、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウムおよびタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属または合金からなるものが挙げられる。   Specific examples include a glass plate, a polymer plate / film, and a metal plate / film. Examples of the glass plate include soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz. Examples of the polymer plate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone. Examples of the metal plate include those made of one or more metals or alloys selected from the group consisting of stainless steel, iron, copper, aluminum, magnesium, nickel, zinc, chromium, titanium, molybdenum, silicon, germanium, and tantalum.

本発明においては、有機EL素子を薄膜化できるということからポリマーフィルム、金属フィルムを好ましく使用することができる。更には、ポリマーフィルムは、酸素透過度10−3g/(m・24h)以下、水蒸気透過度10−3g/(m・24h)以下のものであることが好ましい。また、前記の水蒸気透過度、酸素透過度がいずれも10−5g/(m・24h)以下であることが、更に好ましい。In the present invention, a polymer film and a metal film can be preferably used because the organic EL element can be thinned. Furthermore, the polymer film preferably has an oxygen permeability of 10 −3 g / (m 2 · 24 h) or less and a water vapor permeability of 10 −3 g / (m 2 · 24 h) or less. Moreover, it is more preferable that both the water vapor permeability and the oxygen permeability are 10 −5 g / (m 2 · 24 h) or less.

封止部材を凹状に加工するのは、サンドブラスト加工、化学エッチング加工等が使われる。接着剤として具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化および熱硬化型接着剤、2−シアノアクリル酸エステルなどの湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系などの熱および化学硬化型(二液混合)を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。   For processing the sealing member into a concave shape, sandblasting, chemical etching, or the like is used. Specific examples of the adhesive include photocuring and thermosetting adhesives having a reactive vinyl group of acrylic acid oligomers and methacrylic acid oligomers, and moisture curing adhesives such as 2-cyanoacrylate. be able to. Moreover, the heat | fever and chemical curing types (two-component mixing), such as an epoxy type, can be mentioned. Moreover, hot-melt type polyamide, polyester, and polyolefin can be mentioned. Moreover, a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive can be mentioned.

なお、有機EL素子が熱処理により劣化する場合があるので、室温から80℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、前記接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。封止部分への接着剤の塗布は、市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。   In addition, since an organic EL element may deteriorate by heat processing, what can be adhesive-hardened from room temperature to 80 degreeC is preferable. A desiccant may be dispersed in the adhesive. Application | coating of the adhesive agent to a sealing part may use commercially available dispenser, and may print it like screen printing.

また、有機層を挟み支持基板と対向する側の電極の外側に、該電極と有機層を被覆し、支持基板と接する形で無機物、有機物の層を形成し封止膜とすることも好適にできる。この場合、該膜を形成する材料としては、水分や酸素など素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素などを用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法などを用いることができる。   In addition, it is also preferable to coat the electrode and the organic layer on the outside of the electrode facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween, and form an inorganic or organic layer in contact with the support substrate to form a sealing film. it can. In this case, the material for forming the film may be any material that has a function of suppressing intrusion of elements that cause deterioration of the element such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like is used. it can. Furthermore, in order to improve the brittleness of the film, it is preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of organic materials. The method for forming these films is not particularly limited. For example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, molecular beam epitaxy, cluster-ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma A polymerization method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used.

封止部材と有機EL素子の表示領域との間隙には、気相および液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体や、フッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また、真空とすることも可能である。また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。   In the gap between the sealing member and the display area of the organic EL element, an inert gas such as nitrogen or argon, or an inert liquid such as fluorinated hydrocarbon or silicon oil is injected in the gas phase and the liquid phase. Is preferred. A vacuum can also be used. Moreover, a hygroscopic compound can also be enclosed inside.

吸湿性化合物としては、例えば、金属酸化物(例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等)、硫酸塩(例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等)、金属ハロゲン化物(例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等)、過塩素酸類(例えば過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等)等があげられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物および過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。   Examples of the hygroscopic compound include metal oxides (for example, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, barium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide) and sulfates (for example, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, cobalt sulfate). Etc.), metal halides (eg, calcium chloride, magnesium chloride, cesium fluoride, tantalum fluoride, cerium bromide, magnesium bromide, barium iodide, magnesium iodide, etc.), perchloric acids (eg, barium perchlorate) , Magnesium perchlorate, etc.), and anhydrous salts are preferably used in sulfates, metal halides and perchloric acids.

《保護膜、保護板》
有機層を挟み支持基板と対向する側の前記封止膜あるいは前記封止用フィルムの外側に、素子の機械的強度を高めるために、保護膜あるいは保護板を設けてもよい。特に、封止が前記封止膜により行われている場合には、その機械的強度は必ずしも高くないため、このような保護膜、保護板を設けることが好ましい。これに使用することができる材料としては、前記封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量かつ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。
《Protective film, protective plate》
In order to increase the mechanical strength of the element, a protective film or a protective plate may be provided outside the sealing film or the sealing film on the side facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween. In particular, when sealing is performed by the sealing film, the mechanical strength is not necessarily high, and thus it is preferable to provide such a protective film and a protective plate. As a material that can be used for this, the same glass plate, polymer plate / film, metal plate / film, etc. used for the sealing can be used, but the polymer film is light and thin. Is preferably used.

《陽極》
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはAu等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXO(In−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式など湿式製膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1000nm、好ましくは10nm〜200nmの範囲で選ばれる。
"anode"
As the anode in the organic EL element, an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a high work function (4 eV or more) is preferably used. Specific examples of such an electrode substance include conductive transparent materials such as metals such as Au, CuI, indium tin oxide (ITO), SnO 2 , and ZnO. Alternatively, an amorphous material such as IDIXO (In 2 O 3 —ZnO) capable of forming a transparent conductive film may be used. For the anode, these electrode materials may be formed into a thin film by a method such as vapor deposition or sputtering, and a pattern having a desired shape may be formed by a photolithography method. ), A pattern may be formed through a mask having a desired shape when the electrode material is deposited or sputtered. Or when using the substance which can be apply | coated like an organic electroconductivity compound, wet film forming methods, such as a printing system and a coating system, can also be used. When light emission is extracted from the anode, it is desirable that the transmittance be greater than 10%, and the sheet resistance as the anode is preferably several hundred Ω / □ or less. Further, although the film thickness depends on the material, it is usually selected in the range of 10 nm to 1000 nm, preferably 10 nm to 200 nm.

《陰極》
一方、陰極としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50nm〜200nmの範囲で選ばれる。なお、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が、透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
"cathode"
On the other hand, as the cathode, a material having a low work function (4 eV or less) metal (referred to as an electron injecting metal), an alloy, an electrically conductive compound, and a mixture thereof as an electrode material is used. Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) Mixtures, indium, lithium / aluminum mixtures, rare earth metals and the like. Among these, from the point of durability against electron injection and oxidation, etc., a mixture of an electron injecting metal and a second metal which is a stable metal having a larger work function than this, for example, a magnesium / silver mixture, Magnesium / aluminum mixtures, magnesium / indium mixtures, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixtures, lithium / aluminum mixtures, aluminum and the like are preferred. The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. The sheet resistance as a cathode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually selected in the range of 10 nm to 5 μm, preferably 50 nm to 200 nm. In order to transmit the emitted light, if either one of the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or translucent, the emission luminance is advantageously improved.

また、陰極に上記金属を1nm〜20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。   Moreover, after producing the said metal by the film thickness of 1 nm-20 nm to a cathode, the transparent or semi-transparent cathode can be produced by producing the electroconductive transparent material quoted by description of the anode on it, By applying this, an element in which both the anode and the cathode are transmissive can be manufactured.

《有機EL素子の作製方法》
本発明の有機EL素子の作製方法の一例として、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極からなる有機EL素子の作製法について説明する。
<< Method for producing organic EL element >>
As an example of the method for producing the organic EL device of the present invention, a method for producing an organic EL device comprising an anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode will be described.

まず適当な支持基板上に所望の電極物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を1μm以下、好ましくは10nm〜200nmの膜厚になるように、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陽極を作製する。次に、この上に有機EL素子材料である正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層の有機化合物薄膜を形成させる。   First, a desired electrode material, for example, a thin film made of a material for an anode is formed on a suitable support substrate by a method such as vapor deposition or sputtering so as to have a film thickness of 1 μm or less, preferably 10 nm to 200 nm, thereby producing an anode. To do. Next, an organic compound thin film of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, and an electron transport layer, which are organic EL element materials, is formed thereon.

この有機化合物薄膜の薄膜化の方法としては、前記の如く蒸着法、ウェットプロセス(スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、印刷法、LB法(ラングミュア−ブロジェット法)、スプレー法、印刷法、スロット型コータ法)等があるが、均質な膜が得られやすく、且つピンホールが生成しにくい等の点から、真空蒸着法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法、スロット型コータ法が特に好ましい。   As a method for thinning the organic compound thin film, as described above, the vapor deposition method, the wet process (spin coating method, casting method, ink jet method, printing method, LB method (Langmuir-Blodgett method), spray method, printing method, However, vacuum deposition, spin coating, ink-jet, printing, and slot-type coater methods are particularly preferred from the standpoint that a homogeneous film is easily obtained and pinholes are not easily formed. preferable.

更に層毎に異なる製膜法を適用してもよい。製膜に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度50℃〜450℃、真空度10−6Pa〜10−2Pa、蒸着速度0.01nm/秒〜50nm/秒、基板温度−50℃〜300℃、膜厚0.1nm〜5μm、好ましくは5nm〜200nmの範囲で適宜選ぶことが望ましい。これらの層を形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を、1μm以下好ましくは50nm〜200nmの範囲の膜厚になるように、例えば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陰極を設けることにより所望の有機EL素子が得られる。Further, different film forming methods may be applied for each layer. When a vapor deposition method is employed for film formation, the vapor deposition conditions vary depending on the type of compound used, but generally a boat heating temperature of 50 ° C. to 450 ° C., a vacuum degree of 10 −6 Pa to 10 −2 Pa, and a vapor deposition rate of 0. It is desirable to select appropriately within the range of 01 nm / second to 50 nm / second, substrate temperature −50 ° C. to 300 ° C., film thickness 0.1 nm to 5 μm, preferably 5 nm to 200 nm. After forming these layers, a thin film made of a cathode material is formed thereon by a method such as vapor deposition or sputtering so as to have a film thickness of 1 μm or less, preferably in the range of 50 nm to 200 nm, and a cathode is provided. Thus, a desired organic EL element can be obtained.

この有機EL素子の作製は、一回の真空引きで一貫して正孔注入層から陰極まで作製するのが好ましいが、途中で取り出して異なる製膜法を施しても構わない。その際、作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行う等の配慮が必要となる。   The organic EL element is preferably produced from the hole injection layer to the cathode consistently by a single evacuation, but may be taken out halfway and subjected to different film forming methods. At that time, it is necessary to consider that the work is performed in a dry inert gas atmosphere.

また作製順序を逆にして、陰極、電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極の順に作製することも可能である。このようにして得られた多色の表示装置に、直流電圧を印加する場合には、陽極を+、陰極を−の極性として電圧2V〜40V程度を印加すると、発光が観測できる。また交流電圧を印加してもよい。なお、印加する交流の波形は任意でよい。   In addition, it is also possible to reverse the production order and produce the cathode, the electron injection layer, the electron transport layer, the light emitting layer, the hole transport layer, the hole injection layer, and the anode in this order. When a DC voltage is applied to the multicolor display device thus obtained, light emission can be observed by applying a voltage of about 2 V to 40 V with the anode as + and the cathode as-. An alternating voltage may be applied. The alternating current waveform to be applied may be arbitrary.

《光取出し向上技術》
有機エレクトロルミネッセンス素子は、空気よりも屈折率の高い(屈折率1.6〜2.1程度)層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち15%から20%程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面(透明基板と空気との界面)に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として、光が素子側面方向に逃げるためである。
《Light extraction improvement technology》
An organic electroluminescence element emits light inside a layer having a higher refractive index than air (refractive index of about 1.6 to 2.1), and can extract only about 15% to 20% of the light generated in the light emitting layer. It is generally said that there is no. This is because light incident on the interface (interface between the transparent substrate and air) at an angle θ greater than the critical angle causes total reflection and cannot be taken out of the device, or between the transparent electrode or light emitting layer and the transparent substrate. This is because light is totally reflected between the light and the light is guided through the transparent electrode or the light emitting layer, and as a result, the light escapes in the direction of the side surface of the device.

この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法(例えば、米国特許第4774435号明細書)、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法(例えば、特開昭63−314795号公報)、素子の側面等に反射面を形成する方法(例えば、特開平1−220394号公報)、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法(例えば、特開昭62−172691号公報)、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法(例えば、特開2001−202827号公報)、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法(特開平11−283751号公報)などが挙げられる。   As a technique for improving the light extraction efficiency, for example, a method of forming irregularities on the surface of the transparent substrate to prevent total reflection at the transparent substrate and the air interface (for example, US Pat. No. 4,774,435), A method for improving efficiency by providing light condensing property (for example, JP-A-63-314795), a method for forming a reflective surface on a side surface of an element (for example, JP-A-1-220394), a substrate, etc. A method of forming an antireflection film by introducing a flat layer having an intermediate refractive index between the substrate and the light emitter (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-172691), lower refraction than the substrate between the substrate and the light emitter A method of introducing a flat layer having a refractive index (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-202827), and a method of forming a diffraction grating between any one of the substrate, the transparent electrode layer and the light emitting layer (including between the substrate and the outside world) ( JP-A-11 No. 283,751 Publication), and the like.

本発明においては、これらの方法を本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子と組み合わせて用いることができるが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、あるいは基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。   In the present invention, these methods can be used in combination with the organic electroluminescence device of the present invention, but a method of introducing a flat layer having a lower refractive index than the substrate between the substrate and the light emitter, or a substrate, A method of forming a diffraction grating between any layers of the transparent electrode layer and the light emitting layer (including between the substrate and the outside) can be suitably used.

本発明は、これらの手段を組み合わせることにより、更に高輝度あるいは耐久性に優れた素子を得ることができる。   In the present invention, by combining these means, it is possible to obtain an element having higher luminance or durability.

透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど、外部への取り出し効率が高くなる。   When a low refractive index medium is formed between the transparent electrode and the transparent substrate with a thickness longer than the wavelength of light, the light extracted from the transparent electrode has a higher extraction efficiency to the outside as the refractive index of the medium is lower. .

低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマーなどが挙げられる。透明基板の屈折率は一般に1.5〜1.7程度であるので、低屈折率層は、屈折率がおよそ1.5以下であることが好ましい。またさらに1.35以下であることが好ましい。   Examples of the low refractive index layer include aerogel, porous silica, magnesium fluoride, and a fluorine-based polymer. Since the refractive index of the transparent substrate is generally about 1.5 to 1.7, the low refractive index layer preferably has a refractive index of about 1.5 or less. Furthermore, it is preferable that it is 1.35 or less.

また、低屈折率媒質の厚みは、媒質中の波長の2倍以上となるのが望ましい。これは、低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。   The thickness of the low refractive index medium is preferably at least twice the wavelength in the medium. This is because the effect of the low refractive index layer is diminished when the thickness of the low refractive index medium is about the wavelength of light and the electromagnetic wave that has exuded by evanescent enters the substrate.

全反射を起こす界面または、いずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は、回折格子が1次の回折や、2次の回折といった、いわゆるブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち、層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間もしくは、媒質中(透明基板内や透明電極内)に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。   The method of introducing a diffraction grating into an interface that causes total reflection or in any medium has a feature that the effect of improving the light extraction efficiency is high. This method uses the property that the diffraction grating can change the direction of light to a specific direction different from refraction by so-called Bragg diffraction, such as first-order diffraction or second-order diffraction. The light that cannot be emitted due to total internal reflection between layers is diffracted by introducing a diffraction grating into any layer or medium (in the transparent substrate or transparent electrode). , Trying to extract light out.

導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは、発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な1次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。   The introduced diffraction grating desirably has a two-dimensional periodic refractive index. This is because light emitted from the light-emitting layer is randomly generated in all directions, so in a general one-dimensional diffraction grating having a periodic refractive index distribution only in a certain direction, only light traveling in a specific direction is diffracted. The light extraction efficiency does not increase so much.

しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。   However, by making the refractive index distribution a two-dimensional distribution, light traveling in all directions is diffracted, and light extraction efficiency is increased.

回折格子を導入する位置としては、いずれかの層間、もしくは媒質中(透明基板内や透明電極内)でも良いが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。このとき、回折格子の周期は、媒質中の光の波長の約1/2〜3倍程度が好ましい。回折格子の配列は、正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状など、2次元的に配列が繰り返されることが好ましい。   The position where the diffraction grating is introduced may be in any of the layers or in the medium (in the transparent substrate or the transparent electrode), but is preferably in the vicinity of the organic light emitting layer where light is generated. At this time, the period of the diffraction grating is preferably about 1/2 to 3 times the wavelength of light in the medium. The arrangement of the diffraction gratings is preferably two-dimensionally repeated, such as a square lattice, a triangular lattice, or a honeycomb lattice.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、支持基板(基板)の光取出し側に、例えばマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工したり、あるいは、所謂集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。   The organic electroluminescence device of the present invention is processed to provide a structure on the microlens array, for example, on the light extraction side of the support substrate (substrate), or combined with a so-called condensing sheet, for example, in a specific direction, By condensing in the front direction with respect to the element light emitting surface, the luminance in a specific direction can be increased.

マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が30μmでその頂角が90度となるような四角錐を2次元に配列する。一辺は10μm〜100μmが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。   As an example of the microlens array, quadrangular pyramids having a side of 30 μm and an apex angle of 90 degrees are two-dimensionally arranged on the light extraction side of the substrate. One side is preferably 10 μm to 100 μm. If it becomes smaller than this, the effect of diffraction will generate | occur | produce and color, and if too large, thickness will become thick and is not preferable.

集光シートとしては、例えば液晶表示装置のLEDバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム(BEF)などを用いることができる。プリズムシートの形状としては、例えば基材に頂角90度、ピッチ50μmの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であっても良い。   As the condensing sheet, for example, a sheet that is put into practical use in an LED backlight of a liquid crystal display device can be used. As such a sheet, for example, a brightness enhancement film (BEF) manufactured by Sumitomo 3M Limited can be used. As the shape of the prism sheet, for example, a substrate may be formed with a Δ-shaped stripe having an apex angle of 90 degrees and a pitch of 50 μm, or the apex angle is rounded and the pitch is changed randomly. Other shapes may also be used.

また、有機EL素子からの光放射角を制御するために光拡散板・フィルムを、集光シートと併用してもよい。例えば、(株)きもと製拡散フィルム(ライトアップ)などを用いることができる。   Moreover, in order to control the light emission angle from an organic EL element, you may use a light-diffusion plate and a film together with a condensing sheet. For example, a diffusion film (light-up) manufactured by Kimoto Co., Ltd. can be used.

《表示装置》
本発明の有機EL素子を適用した表示装置について説明する。
本発明の有機EL素子は、多色または白色の表示装置に用いられる。多色または白色の表示装置の場合は、発光層形成時のみシャドーマスクを設け、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法、スロット型コータ法等で膜を形成できる。発光層のみパターニングを行う場合、その方法に限定はないが、好ましくは蒸着法、インクジェット法、印刷法である。蒸着法を用いる場合においてはシャドーマスクを用いたパターニングが好ましい。
<Display device>
A display device to which the organic EL element of the present invention is applied will be described.
The organic EL element of the present invention is used for a multicolor or white display device. In the case of a multicolor or white display device, a shadow mask is provided only at the time of forming a light emitting layer, and a film can be formed on one surface by vapor deposition, casting, spin coating, ink jet, printing, slot coater, or the like. When patterning is performed only on the light-emitting layer, the method is not limited, but a vapor deposition method, an inkjet method, and a printing method are preferable. In the case of using a vapor deposition method, patterning using a shadow mask is preferable.

また、作製順序を逆にして陰極、電子輸送層、正孔阻止層、発光層、正孔輸送層、陽極の順に作製することも可能である。このようにして得られた多色または白色の表示装置に直流電圧を印加する場合には、陽極を+、陰極を−の極性として電圧2〜40V程度を印加すると、発光が観測できる。   Further, it is also possible to produce the cathode, the electron transport layer, the hole blocking layer, the light emitting layer, the hole transport layer, and the anode in this order by reversing the production order. When a DC voltage is applied to the multicolor or white display device thus obtained, light emission can be observed by applying a voltage of about 2 to 40 V with the positive polarity of the anode and the negative polarity of the cathode.

また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れずに発光は全く生じない。更に、交流電圧を印加する場合には、陽極が+、陰極が−の状態になったときのみ発光する。なお、印加する交流の波形は任意でよい。   Further, even when a voltage is applied with the opposite polarity, no current flows and no light emission occurs. Further, when an AC voltage is applied, light is emitted only when the anode is in the + state and the cathode is in the-state. The alternating current waveform to be applied may be arbitrary.

《照明装置》
本発明の有機EL素子を適用した照明装置について説明する。
本発明の有機EL素子は、照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置(ディスプレイ)として使用してもよい。動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。
《Lighting device》
A lighting device to which the organic EL element of the present invention is applied will be described.
The organic EL device of the present invention may be used as a kind of lamp such as an illumination or exposure light source, a projection device that projects an image, or a display device that directly recognizes a still image or a moving image. (Display) may be used. The driving method when used as a display device for moving image reproduction may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method.

本発明に用いられる白色有機エレクトロルミネッセンス素子においては、必要に応じ製膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよい。   In the white organic electroluminescent element used for this invention, you may pattern by a metal mask, the inkjet printing method, etc. at the time of film forming as needed. When patterning, only the electrode may be patterned, the electrode and the light emitting layer may be patterned, or the entire element layer may be patterned.

発光層に用いる発光ドーパントとしては特に制限はなく、例えば、液晶表示素子におけるバックライトであれば、CF(カラーフィルタ)特性に対応した波長範囲に適合するように、本発明に係る白金錯体、また公知の発光ドーパントの中から任意のものを選択して組み合わせて、また本発明係る光取り出し及び/または集光シートと組み合わせて、白色化すればよい。   The light emitting dopant used in the light emitting layer is not particularly limited. For example, in the case of a backlight in a liquid crystal display element, the platinum complex according to the present invention is adapted so as to conform to the wavelength range corresponding to the CF (color filter) characteristics. Any one of known light-emitting dopants may be selected and combined, or combined with the light extraction and / or light collecting sheet according to the present invention to be whitened.

このように、本発明の白色の有機EL素子は、CF(カラーフィルタ)と組み合わせて、また、CF(カラーフィルタ)パターンに合わせ素子及び駆動トランジスタ回路を配置することで、有機エレクトロルミネッセンス素子から取り出される白色光をバックライトとして、青色フィルタ、緑色フィルタ、赤色フィルタを介して青色光、緑色光、赤色光を得ることで、低駆動電圧で長寿命のフルカラーの有機エレクトロルミネッセンスディスプレイができ、好ましい。   As described above, the white organic EL element of the present invention is taken out from the organic electroluminescence element by combining the CF (color filter) and arranging the element and the driving transistor circuit in accordance with the CF (color filter) pattern. Using white light as a backlight, blue light, green light, and red light are obtained through a blue filter, a green filter, and a red filter, so that a full-color organic electroluminescence display with a low driving voltage and a long life can be obtained.

《有機EL素子の特性等》
以上の有機EL素子によれば、青色の蛍光発光ドーパントとより長波(緑色および赤色)のリン光発光ドーパントとを併用した白色発光型の有機EL素子が提供される。青色の蛍光発光ドーパントとより長波のリン光発光ドーパントとを併用した白色発光型の有機EL素子は、従来から、長寿命と高演色性が期待できることから開発が行われている。高効率を達成する上で、また生産適性面からB(青)、G(緑)、R(赤)の3色異なる3層構成が好ましい。
本発明者らは、その積層順は、陽極側から青/リン光(少なくとも2層)、特に青/赤/緑が発光ユニット(発光層)外へのエネルギーロス(励起エネルギー拡散)が少なく好ましいことを見出した。
<< Characteristics of organic EL elements, etc. >>
According to the above organic EL element, a white light emitting organic EL element using a blue fluorescent light emitting dopant and a longer wave (green and red) phosphorescent light emitting dopant in combination is provided. White light-emitting organic EL devices using a blue fluorescent dopant and a longer-wave phosphorescent dopant in combination have been developed since long life and high color rendering properties can be expected. In order to achieve high efficiency, and from the viewpoint of production suitability, a three-layer structure having three different colors of B (blue), G (green), and R (red) is preferable.
The inventors of the present invention have a preferable stacking order of blue / phosphorescent light (at least two layers) from the anode side, particularly blue / red / green with less energy loss (excitation energy diffusion) to the outside of the light emitting unit (light emitting layer). I found out.

その一方で、このような構成においては、エネルギーが集中しやすい中心の発光層は発光強度が強くなりやすく、白色バランスをとる上で、多層に比較し薄膜化が必要となる。一般的に有機EL素子の輝度寿命は発光層の膜厚が薄いと短くなる傾向にある。発光材料1分子あたりのキャリアトラップ頻度も高くなり、ラジカルからの材料劣化も生じやすくなるためとも推察される。また、白色の場合は、例えば経時保存でのキャリアバランスの変化による色度の変化も生じやすい。   On the other hand, in such a configuration, the light emitting intensity of the central light emitting layer where the energy tends to concentrate tends to be strong, and it is necessary to reduce the thickness of the light emitting layer as compared with the multilayer in order to achieve white balance. In general, the luminance life of an organic EL element tends to be shortened when the light emitting layer is thin. It is also presumed that the carrier trap frequency per molecule of the light emitting material is increased and the material is easily deteriorated from radicals. In the case of white, for example, chromaticity is likely to change due to a change in carrier balance during storage over time.

本発明者らは、上記発光層構成、特に青/赤/緑発光層の構成において中心に位置する赤発光層に、上記で説明した特性を有するリン光発光性の金属錯体を含有させることにより高効率を維持しつつ、輝度寿命を向上させることができることを見出した(実施例1参照)。
この原因は明らかではないが、例えば、該金属錯体を含有させることにより赤発光材料のラジカル状態存在頻度を減少させることができたためとも推測される。
更に、本発明者らは電子輸送層に電子供与性金属をドープすることにより保存経時での変化を緩和し色度、駆動電圧の変動を抑制できること、特にフェニルピリジン骨格を有する電子輸送材料との組合せにおいて優れた変動抑制効果を発揮することを見出した(実施例2参照)。
The present inventors have incorporated a phosphorescent metal complex having the above-described characteristics into the red light emitting layer located in the center in the above light emitting layer structure, particularly the blue / red / green light emitting layer structure. It has been found that the luminance life can be improved while maintaining high efficiency (see Example 1).
The cause of this is not clear, but it is presumed that, for example, the presence of the metal complex could reduce the radical state existence frequency of the red light emitting material.
Furthermore, the present inventors can relax the change over time by doping an electron-donating metal in the electron transport layer and suppress fluctuations in chromaticity and driving voltage, and particularly with an electron transport material having a phenylpyridine skeleton. It has been found that the combination exhibits an excellent fluctuation suppressing effect (see Example 2).

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記に示す各有機EL素子の青、赤、緑各発光層の膜厚は、輝度1000cd/mにおいて相関色温度4400Kから4000Kの範囲での白色発光を呈するように選択されている。
以下で用いた化合物は下記のとおりの構造を有するものである。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
The film thickness of each blue, red, and green light emitting layer of each organic EL element shown below is selected so as to exhibit white light emission in the range of the correlated color temperature from 4400K to 4000K at a luminance of 1000 cd / m 2 .
The compounds used below have the following structures.

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なお、GD−1(緑色リン光ドーパント)、AD−1、RD−1(赤色リン光ドーパント)、H−1(ホスト化合物)の各化合物の最低励起三重項エネルギーT1の値[eV]を測定したところ、その値は下記のとおりであった。
GD−1 2.4[eV]
AD−1 2.6[eV]
RD−1 2.0[eV]
H−1 2.8[eV]
In addition, the value [eV] of the lowest excited triplet energy T1 of each compound of GD-1 (green phosphorescent dopant), AD-1, RD-1 (red phosphorescent dopant), and H-1 (host compound) is measured. As a result, the values were as follows.
GD-1 2.4 [eV]
AD-1 2.6 [eV]
RD-1 2.0 [eV]
H-1 2.8 [eV]

《有機EL素子の作製》
(1)有機EL素子101の作製
陽極として30mm×30mm、厚さ0.7mmのガラス基板上に、ITO(インジウムチンオキシド)を110nmの厚さで成膜した支持基板にパターニングを行った後、このITO透明電極を付けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った後、この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
<< Production of organic EL element >>
(1) Preparation of organic EL element 101 After patterning on a support substrate in which ITO (indium tin oxide) was formed to a thickness of 110 nm on a glass substrate having a thickness of 30 mm × 30 mm and a thickness of 0.7 mm as an anode, The transparent support substrate with the ITO transparent electrode is ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes. Then, the transparent support substrate is placed on a substrate holder of a commercially available vacuum deposition apparatus. Fixed.

真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、各層の構成材料を、各々素子作製に最適の量充填した。蒸着用るつぼはモリブデン製またはタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。
真空度1×10−4Paまで減圧した後、化合物M−1の入った前記蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で透明支持基板に蒸着し、20nmの正孔注入層を設けた。
次いで、α−NPDを同様にして蒸着し70nmの正孔輸送層を設けた。
Each of the vapor deposition crucibles in the vacuum vapor deposition apparatus was filled with the constituent material of each layer in an optimum amount for device fabrication. The evaporation crucible used was made of a resistance heating material made of molybdenum or tungsten.
After depressurizing to a vacuum of 1 × 10 −4 Pa, the deposition crucible containing Compound M-1 was energized and heated, deposited on a transparent support substrate at a deposition rate of 0.1 nm / second, and 20 nm holes An injection layer was provided.
Next, α-NPD was deposited in the same manner to provide a 70 nm hole transport layer.

次いで、化合物GD−1及び化合物H−1を、化合物GD−1が9体積%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ15nmの緑色リン光発光層を形成した。
次いで、化合物GD−1、RD−1及び化合物H−1を、化合物GD−1が9体積%、RD−1が2体積%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ7nmの赤色リン光発光層を形成した。
当該赤色リン光発光層では、主たる発光は化合物RD−1よりもたらされる。
当該赤色リン光発光層では、化合物RD−1が発光主たるリン光発光ドーパントに相当し、化合物GD−1が特殊なリン光発光性の金属錯体に相当している。
当該赤色リン光発光層では、化合物GD−1の含有量が化合物RD−1の含有量より多くなっている。
当該赤色リン光発光層では、化合物GD−1のT1の値が、化合物RD−1のT1の値より大きく、化合物H−1のT1の値より小さくなっている。
続いて、化合物BD−1及び化合物H−2を、化合物BD−1が7%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ35nmの青色蛍光発光層を形成した。
Next, Compound GD-1 and Compound H-1 are co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second so that Compound GD-1 has a concentration of 9% by volume, thereby forming a green phosphorescent light emitting layer having a thickness of 15 nm. did.
Next, the compounds GD-1, RD-1 and the compound H-1 were co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of the compound GD-1 was 9% by volume and the RD-1 was 2% by volume. A red phosphorescent light emitting layer having a thickness of 7 nm was formed.
In the red phosphorescent light emitting layer, main light emission is brought about by the compound RD-1.
In the red phosphorescent light emitting layer, the compound RD-1 corresponds to a phosphorescent dopant that mainly emits light, and the compound GD-1 corresponds to a special phosphorescent metal complex.
In the red phosphorescent light emitting layer, the content of compound GD-1 is greater than the content of compound RD-1.
In the red phosphorescent light emitting layer, the value of T1 of compound GD-1 is larger than the value of T1 of compound RD-1, and smaller than the value of T1 of compound H-1.
Subsequently, Compound BD-1 and Compound H-2 were co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second so that Compound BD-1 had a concentration of 7%, and a blue fluorescent light-emitting layer having a thickness of 35 nm was formed. .

その後、化合物HB−1を膜厚10nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して励起子阻止層を形成し、次いで、化合物E―1を膜厚25nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
Thereafter, compound HB-1 was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an exciton blocking layer, and then compound E-1 was deposited to a thickness of 25 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second. Thus, an electron transport layer was formed.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.

次いで、上記素子の非発光面をガラスケースで覆い、図1、図2に示す構成からなる「有機EL素子101」を作製した。
図1は有機EL素子の概略図を示している。
図1に示すとおり、有機EL素子101は、ガラスカバー102で覆われている。ガラスカバー102での封止作業は、有機EL素子101を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスの雰囲気下)で行った。
図2は有機EL素子の断面図を示している。
図2に示すとおり、透明電極付きガラス基板107上に有機EL層106と陰極105とが積層・形成されている。ガラスカバー102内には窒素ガス108が充填され、捕水剤109が設けられている。
Next, the non-light-emitting surface of the element was covered with a glass case, and an “organic EL element 101” having the configuration shown in FIGS. 1 and 2 was produced.
FIG. 1 shows a schematic diagram of an organic EL element.
As shown in FIG. 1, the organic EL element 101 is covered with a glass cover 102. The sealing operation with the glass cover 102 was performed in a glove box (in an atmosphere of high-purity nitrogen gas having a purity of 99.999% or more) in a nitrogen atmosphere without bringing the organic EL element 101 into contact with the atmosphere.
FIG. 2 shows a cross-sectional view of the organic EL element.
As shown in FIG. 2, an organic EL layer 106 and a cathode 105 are laminated and formed on a glass substrate 107 with a transparent electrode. The glass cover 102 is filled with nitrogen gas 108 and a water catching agent 109 is provided.

(2)有機EL素子102の作製
有機EL素子1と同様にして、正孔輸送層まで設けた。
次いで、化合物BD−1及び化合物H−2を、化合物BD−1が7%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ10nmの青色蛍光発光層を形成した。
次いで、化合物RD−1及び化合物H−1を、化合物RD−1が8体積%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ7nmの赤色リン光発光層を形成した。
次いで、化合物GD−1及び化合物H−1を、化合物GD−1が9体積%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ25nmの緑色リン光発光層を形成した。
(2) Preparation of organic EL element 102 It carried out similarly to the organic EL element 1, and provided to the positive hole transport layer.
Next, Compound BD-1 and Compound H-2 were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of Compound BD-1 was 7%, thereby forming a blue fluorescent light-emitting layer having a thickness of 10 nm.
Next, Compound RD-1 and Compound H-1 are co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that Compound RD-1 has a concentration of 8% by volume, thereby forming a red phosphorescent light emitting layer having a thickness of 7 nm. did.
Next, Compound GD-1 and Compound H-1 are co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second so that Compound GD-1 has a concentration of 9% by volume to form a green phosphorescent light emitting layer having a thickness of 25 nm. did.

その後、化合物HB−1を膜厚10nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して励起子阻止層を形成し、次いで、化合物E―1を膜厚25nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子101の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子102」を作製した。
Thereafter, compound HB-1 was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an exciton blocking layer, and then compound E-1 was deposited to a thickness of 25 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second. Thus, an electron transport layer was formed.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 101, the non-light-emitting surface was covered with a glass case, and an “organic EL element 102” was produced.

(3)有機EL素子103の作製
有機EL素子102と同様にして、青色蛍光発光層まで設けた。
次いで、化合物GD−1、RD−1及びH−1を、化合物GD−1の濃度が9体積%、化合物RD−1の濃度が2体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ5nmの赤色リン光発光層を形成した。
当該赤色リン光発光層では、主たる発光は化合物RD−1よりもたらされる。
当該赤色リン光発光層では、化合物RD−1が発光主たるリン光発光ドーパントに相当し、化合物GD−1が特殊なリン光発光性の金属錯体に相当している。
当該赤色リン光発光層では、化合物GD−1の含有量が化合物RD−1の含有量より多くなっている。
当該赤色リン光発光層では、化合物GD−1のT1の値が、化合物RD−1のT1の値より大きく、化合物H−1のT1の値より小さくなっている。
次いで、化合物GD−1及び化合物H−1を、化合物GD−1が9体積%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ30nmの緑色リン光発光層を形成した。
(3) Preparation of organic EL element 103 It carried out similarly to the organic EL element 102, and provided even the blue fluorescence light emitting layer.
Next, the compounds GD-1, RD-1, and H-1 were co-polymerized at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of the compound GD-1 was 9% by volume and the concentration of the compound RD-1 was 2% by volume. Evaporation was performed to form a red phosphorescent light emitting layer having a thickness of 5 nm.
In the red phosphorescent light emitting layer, main light emission is brought about by the compound RD-1.
In the red phosphorescent light emitting layer, the compound RD-1 corresponds to a phosphorescent dopant that mainly emits light, and the compound GD-1 corresponds to a special phosphorescent metal complex.
In the red phosphorescent light emitting layer, the content of compound GD-1 is greater than the content of compound RD-1.
In the red phosphorescent light emitting layer, the value of T1 of compound GD-1 is larger than the value of T1 of compound RD-1, and smaller than the value of T1 of compound H-1.
Next, Compound GD-1 and Compound H-1 are co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second so that Compound GD-1 has a concentration of 9% by volume to form a green phosphorescent light emitting layer having a thickness of 30 nm. did.

その後、化合物HB−1を膜厚10nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して励起子阻止層(正孔阻止層)を形成し、次いで、化合物E―1を膜厚25nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子101の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子103」を作製した。
Thereafter, Compound HB-1 was deposited at a film thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an exciton blocking layer (hole blocking layer), and then Compound E-1 was deposited at a film thickness of 25 nm at a deposition rate of 0. The electron transport layer was formed by vapor deposition at a rate of 1 nm / second.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 101, the non-light-emitting surface was covered with a glass case to produce an "organic EL element 103".

(4)有機EL素子104の作製
有機EL素子102と同様にして、青色蛍光発光層まで設けた。
次いで、化合物GD−1及び化合物H−1を、化合物GD−1が9体積%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ18nmの緑色リン光発光層を形成した。
次いで、化合物GD−1、RD−1及びH−1を、化合物GD−1の濃度が9体積%、化合物RD−1の濃度が2体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ8nmの赤色リン光発光層を形成した。
当該赤色リン光発光層では、主たる発光は化合物RD−1よりもたらされる。
当該赤色リン光発光層では、化合物RD−1が発光主たるリン光発光ドーパントに相当し、化合物GD−1が特殊なリン光発光性の金属錯体に相当している。
当該赤色リン光発光層では、化合物GD−1の含有量が化合物RD−1の含有量より多くなっている。
当該赤色リン光発光層では、化合物GD−1のT1の値が、化合物RD−1のT1の値より大きく、化合物H−1のT1の値より小さくなっている。
(4) Preparation of organic EL element 104 It carried out similarly to the organic EL element 102, and provided even the blue fluorescence light emitting layer.
Next, Compound GD-1 and Compound H-1 are co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that Compound GD-1 has a concentration of 9% by volume to form a green phosphorescent light emitting layer having a thickness of 18 nm. did.
Next, the compounds GD-1, RD-1, and H-1 were co-polymerized at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of the compound GD-1 was 9% by volume and the concentration of the compound RD-1 was 2% by volume. Evaporation was performed to form a red phosphorescent light emitting layer having a thickness of 8 nm.
In the red phosphorescent light emitting layer, main light emission is brought about by the compound RD-1.
In the red phosphorescent light emitting layer, the compound RD-1 corresponds to a phosphorescent dopant that mainly emits light, and the compound GD-1 corresponds to a special phosphorescent metal complex.
In the red phosphorescent light emitting layer, the content of compound GD-1 is greater than the content of compound RD-1.
In the red phosphorescent light emitting layer, the value of T1 of compound GD-1 is larger than the value of T1 of compound RD-1, and smaller than the value of T1 of compound H-1.

その後、化合物HB−1を膜厚10nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して励起子阻止層を形成し、次いで、化合物E―1を膜厚25nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子101の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子104」を作製した。
Thereafter, compound HB-1 was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an exciton blocking layer, and then compound E-1 was deposited to a thickness of 25 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second. Thus, an electron transport layer was formed.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 101, the non-light-emitting surface was covered with a glass case, and an “organic EL element 104” was produced.

(5)有機EL素子105の作製
有機EL素子102と同様にして、青色蛍光発光層まで設けた。
次いで、化合物AD−1、RD−1及び化合物H−1を、化合物AD−1の濃度が7体積%、化合物RD−1の濃度が2体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ5nmの赤色リン光発光層を形成した。
当該赤色リン光発光層では、主たる発光は化合物RD−1よりもたらされる。
当該赤色リン光発光層では、化合物RD−1が発光主たるリン光発光ドーパントに相当し、化合物AD−1が特殊なリン光発光性の金属錯体に相当している。
当該赤色リン光発光層では、化合物AD−1の含有量が化合物RD−1の含有量より多くなっている。
当該赤色リン光発光層では、化合物AD−1のT1の値が、化合物RD−1のT1の値より大きく、化合物H−1のT1の値より小さくなっている。
次いで、化合物GD−1及び化合物H−1を、化合物GD−1が9体積%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ30nmの緑色リン光発光層を形成した。
(5) Production of Organic EL Element 105 In the same manner as the organic EL element 102, a blue fluorescent light emitting layer was provided.
Next, Compound AD-1, RD-1, and Compound H-1 were deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of Compound AD-1 was 7% by volume and the concentration of Compound RD-1 was 2% by volume. Co-evaporation was performed to form a red phosphorescent light emitting layer having a thickness of 5 nm.
In the red phosphorescent light emitting layer, main light emission is brought about by the compound RD-1.
In the red phosphorescent light emitting layer, the compound RD-1 corresponds to a phosphorescent dopant that mainly emits light, and the compound AD-1 corresponds to a special phosphorescent metal complex.
In the red phosphorescent light emitting layer, the content of compound AD-1 is greater than the content of compound RD-1.
In the red phosphorescent light emitting layer, the value of T1 of compound AD-1 is larger than the value of T1 of compound RD-1, and smaller than the value of T1 of compound H-1.
Next, Compound GD-1 and Compound H-1 are co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second so that Compound GD-1 has a concentration of 9% by volume to form a green phosphorescent light emitting layer having a thickness of 30 nm. did.

その後、化合物HB−1を膜厚10nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して励起子阻止層を形成し、次いで、化合物E―1を膜厚25nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子101の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子105」を作製した。
Thereafter, compound HB-1 was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an exciton blocking layer, and then compound E-1 was deposited to a thickness of 25 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second. Thus, an electron transport layer was formed.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 101, the non-light emitting surface was covered with a glass case, and an “organic EL element 105” was produced.

《有機EL素子の評価》
(1)電力効率の測定
分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)を用い、室温にて各有機EL素子の正面輝度及び輝度角度依存性を測定することにより、有機EL素子の基板前面から外部に放射される光量を測定し、1000cd/mを与える通電量と駆動電圧から各有機EL素子の電力効率を求めた。
表1に上記各有機EL素子の電力効率を、有機EL素子101の電力効率を100とした場合の相対値で示す。
<< Evaluation of organic EL elements >>
(1) Measurement of power efficiency Using a spectral radiance meter CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd.), by measuring the front luminance and luminance angle dependency of each organic EL element at room temperature, the substrate of the organic EL element The amount of light radiated from the front surface to the outside was measured, and the power efficiency of each organic EL element was determined from the amount of energization that gave 1000 cd / m 2 and the drive voltage.
Table 1 shows the power efficiency of each of the organic EL elements as a relative value when the power efficiency of the organic EL element 101 is 100.

(2)連続駆動輝度寿命の測定
上記方法にて測定した輝度5000cd/mを与える駆動条件にて室温にて連続駆動を行い、輝度が30%減少するまでの時間を駆動寿命として求めた。
表1に上記各有機EL素子の電力効率を、有機EL素子101の駆動寿命を100とした場合の相対値で示す。
(2) Measurement of continuous driving luminance life Continuous driving was performed at room temperature under the driving condition giving the luminance of 5000 cd / m 2 measured by the above method, and the time until the luminance decreased by 30% was determined as the driving life.
Table 1 shows the power efficiency of each organic EL element as a relative value when the driving life of the organic EL element 101 is 100.

(3)保存安定性の評価
上記のように作製した各有機EL素子を60℃環境下で300時間保存(放置)し、5mA/cmで駆動した際の、保存前後での発光色度、駆動電圧の変化を測定した。
表1に上記各有機EL素子の発光色度、駆動電圧の変動幅を、有機EL素子101の変動幅を100とした場合の相対値で示す。
尚、発光色度の変動幅は、分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)にて測定した各有機EL素子の正面輝度のCIE1931表色座標系における保存前後における色度座標間の距離として求められる。
(3) Evaluation of storage stability Each organic EL device produced as described above was stored (left) in a 60 ° C. environment for 300 hours, and when driven at 5 mA / cm 2 , emission chromaticity before and after storage, The change in driving voltage was measured.
Table 1 shows the emission chromaticity of each organic EL element and the fluctuation range of the driving voltage as relative values when the fluctuation range of the organic EL element 101 is 100.
In addition, the fluctuation range of the emission chromaticity is the chromaticity coordinate between before and after storage in the CIE1931 color coordinate system of the front luminance of each organic EL element measured by a spectral radiance meter CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing). It is calculated as a distance.

Figure 0006107657
Figure 0006107657

(4)まとめ
表1に示されるように、本発明の有機EL素子103〜105は、比較の有機EL素子101〜102に対し、電力効率や発光寿命が向上しており、保存安定性にも優れていた。
特に、陽極側から陰極側にかけて、青色蛍光発光層、赤色リン光発光層、緑色リン光発光層をこの順で積層した有機EL素子103、105では、より良好な性能を示している。
以上から、青色蛍光発光層を陽極側に形成し、かつ、赤色リン光発光層において発光主たるリン光発光ドーパント(化合物RD−1)より含有量が多く、最低励起三重項エネルギーが発光主たるリン光発光ドーパントより大きくホスト化合物(化合物H−1)より小さい特殊なリン光発光性の金属錯体(化合物GD−1または化合物AD−1)を含有させることは、少なくとも電力効率や発光寿命の向上に有用であることがわかる。
(4) Summary As shown in Table 1, the organic EL elements 103 to 105 of the present invention have improved power efficiency and light emission lifetime relative to the comparative organic EL elements 101 to 102, and also have storage stability. It was excellent.
In particular, the organic EL elements 103 and 105 in which a blue fluorescent light emitting layer, a red phosphorescent light emitting layer, and a green phosphorescent light emitting layer are laminated in this order from the anode side to the cathode side show better performance.
From the above, phosphorescence in which the blue fluorescent light emitting layer is formed on the anode side and the red phosphorescent light emitting layer has a higher content than the phosphorescent light emitting dopant (compound RD-1), and the lowest excited triplet energy is the main light emitting phosphorescence. Inclusion of a special phosphorescent metal complex (Compound GD-1 or Compound AD-1) that is larger than the luminescent dopant and smaller than the host compound (Compound H-1) is useful for at least improving power efficiency and luminescence lifetime. It can be seen that it is.

《有機EL素子の作製》
(1)有機EL素子201の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層まで設けた。
次いで、化合物E−1及びKFを、KFの濃度が17体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
次いで、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
その後、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子201」を作製した。
<< Production of organic EL element >>
(1) Production of Organic EL Element 201 The hole blocking layer was provided in the same manner as the organic EL element 103.
Next, the compounds E-1 and KF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of KF was 17% by volume to form an electron transport layer having a thickness of 20 nm.
Subsequently, aluminum 110nm was vapor-deposited and the cathode was formed.
Thereafter, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case, and an "organic EL element 201" was produced.

(2)有機EL素子202の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層まで設けた。
次いで、化合物E−1及びKFを、KFの濃度が17体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
その後、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子202」を作製した。
(2) Production of Organic EL Element 202 Similarly to the organic EL element 103, the hole blocking layer was provided.
Next, the compounds E-1 and KF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of KF was 17% by volume to form an electron transport layer having a thickness of 20 nm.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Thereafter, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case, and an "organic EL element 202" was produced.

(3)有機EL素子203の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層まで設けた。
次いで、化合物E−1及びCsFを、CsFの濃度が14体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
次いで、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
その後、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子203」を作製した。
(3) Preparation of organic EL element 203 It carried out similarly to the organic EL element 103, and provided to the hole-blocking layer.
Next, Compound E-1 and CsF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of CsF was 14% by volume to form an electron transport layer having a thickness of 20 nm.
Subsequently, aluminum 110nm was vapor-deposited and the cathode was formed.
Thereafter, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case to produce an "organic EL element 203".

(4)有機EL素子204の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層まで設けた。
次いで、化合物E−1及び8‐ヒドロキシキノリンリチウム錯体を、8‐ヒドロキシキノリンリチウム錯体の濃度が30体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
次いで、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
その後、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子204」を作製した。
(4) Preparation of organic EL element 204 It carried out similarly to the organic EL element 103, and provided to the hole-blocking layer.
Next, the compound E-1 and the 8-hydroxyquinoline lithium complex were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of the 8-hydroxyquinoline lithium complex was 30% by volume, and an electron transport layer having a thickness of 20 nm was formed. Formed.
Subsequently, aluminum 110nm was vapor-deposited and the cathode was formed.
Thereafter, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case, and an “organic EL element 204” was produced.

(5)有機EL素子205の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層まで設けた。
次いで、化合物E−2を膜厚20nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子205」を作製した。
(5) Production of Organic EL Element 205 The hole blocking layer was provided in the same manner as the organic EL element 103.
Next, Compound E-2 was deposited to a thickness of 20 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an electron transport layer.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case, and an "organic EL element 205" was produced.

(6)有機EL素子206の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層まで設けた。
次いで、化合物E−2及びKFを、KFの濃度が17体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
その後、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子206」を作製した。
(6) Preparation of organic EL element 206 It carried out similarly to the organic EL element 103, and provided to the hole-blocking layer.
Next, the compounds E-2 and KF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of KF was 17% by volume to form an electron transport layer having a thickness of 20 nm.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Thereafter, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case, and an "organic EL element 206" was produced.

(7)有機EL素子207の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層まで設けた。
次いで、化合物E−3を膜厚20nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子207」を作製した。
(7) Production of Organic EL Element 207 The hole blocking layer was provided in the same manner as the organic EL element 103.
Next, Compound E-3 was deposited to a thickness of 20 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an electron transport layer.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case, and an “organic EL element 207” was produced.

(8)有機EL素子208の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層までを設けた。
次いで、化合物E−3及びKFを、KFの濃度が20体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
次いで、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子208」を作製した。
(8) Production of Organic EL Element 208 The hole blocking layer was provided in the same manner as the organic EL element 103.
Next, Compound E-3 and KF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of KF was 20% by volume to form an electron transport layer having a thickness of 20 nm.
Subsequently, aluminum 110nm was vapor-deposited and the cathode was formed.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light emitting surface was covered with a glass case, and an “organic EL element 208” was produced.

(9)有機EL素子209の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層までを設けた。
次いで、化合物E−4を膜厚20nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子209」を作製した。
(9) Production of Organic EL Element 209 The hole blocking layer was provided in the same manner as the organic EL element 103.
Next, Compound E-4 was deposited to a thickness of 20 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an electron transport layer.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light emitting surface was covered with a glass case, and an "organic EL element 209" was produced.

(10)有機EL素子210の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層までを設けた。
次いで、化合物E−4及びKFを、KFの濃度が20体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
次いで、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子210」を作製した。
(10) Production of Organic EL Element 210 Similarly to the organic EL element 103, up to the hole blocking layer was provided.
Next, Compound E-4 and KF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of KF was 20% by volume to form an electron transport layer having a thickness of 20 nm.
Subsequently, aluminum 110nm was vapor-deposited and the cathode was formed.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case to produce an "organic EL element 210".

(11)有機EL素子211の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層までを設けた。
次いで、化合物E−5を膜厚20nmに蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して電子輸送層を形成した。
更にKFを厚さ2nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子211」を作製した。
(11) Production of Organic EL Element 211 Similarly to the organic EL element 103, up to the hole blocking layer was provided.
Subsequently, Compound E-5 was deposited at a film thickness of 20 nm at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an electron transport layer.
Further, after KF was formed to a thickness of 2 nm, aluminum was deposited with a thickness of 110 nm to form a cathode.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light emitting surface was covered with a glass case, and an “organic EL element 211” was produced.

(12)有機EL素子212の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層までを設けた。
次いで、化合物E−5及びKFを、KFの濃度が20体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
次いで、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、有機EL素子212を作製した。
(12) Production of Organic EL Element 212 In the same manner as the organic EL element 103, a hole blocking layer was provided.
Next, Compound E-5 and KF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of KF was 20% by volume to form an electron transport layer having a thickness of 20 nm.
Subsequently, aluminum 110nm was vapor-deposited and the cathode was formed.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light emitting surface was covered with a glass case, and an organic EL element 212 was produced.

《有機EL素子の評価》
(1)電力効率、連続駆動輝度寿命及び保存安定性の評価
実施例1と同様にして、電力効率、連続駆動輝度寿命及び保存安定性を評価した。表2に有機EL素子103の各評価値を100とした場合の相対値で示す。
<< Evaluation of organic EL elements >>
(1) Evaluation of power efficiency, continuous drive brightness life and storage stability In the same manner as in Example 1, power efficiency, continuous drive brightness life and storage stability were evaluated. Table 2 shows relative values when each evaluation value of the organic EL element 103 is 100.

Figure 0006107657
Figure 0006107657

(2)まとめ
表2に示すとおり、フェニルピリジン骨格を有する電子輸送材料E−1、E−2、E−3を含有し、かつ、アルカリ金属化合物またはアルカリ金属有機錯体をドープした電子輸送層を有する有機EL素子201〜204、206、208は、該金属化合物をドープしていない有機EL素子103、205、207や、フェニルピリジン骨格をその分子内に有さない電子輸送材料E−4、E−5を含有する有機EL素子209〜212に対し、保存時の色度変動及び電圧上昇が小さく好ましい性能を有していることが判る。
特に、Kをドープした有機EL素子において、その性能が良好なことが有機EL素子201、202と有機EL素子203、204との比較より判る。
また、フェニルピリジン骨格をその分子内に有さない電子輸送材料E−4、E−5を含有する有機EL素子209〜212においては、該金属化合物のドープは殆ど保存時の色度、電圧の変動を抑制する効果を有さないことが判る。
(2) Summary As shown in Table 2, an electron transport layer containing electron transport materials E-1, E-2, and E-3 having a phenylpyridine skeleton and doped with an alkali metal compound or an alkali metal organic complex is used. The organic EL elements 201 to 204, 206, 208 having the organic EL elements 103, 205, 207 not doped with the metal compound, and the electron transport materials E-4, E having no phenylpyridine skeleton in the molecule. It can be seen that the organic EL elements 209 to 212 containing -5 have favorable performance with small chromaticity fluctuation and voltage increase during storage.
In particular, it can be seen from the comparison between the organic EL elements 201 and 202 and the organic EL elements 203 and 204 that the organic EL element doped with K has good performance.
In addition, in the organic EL elements 209 to 212 containing the electron transport materials E-4 and E-5 that do not have a phenylpyridine skeleton in the molecule, the metal compound is almost doped with chromaticity and voltage during storage. It can be seen that there is no effect of suppressing fluctuation.

《有機EL素子の作製》
(1)有機EL素子301の作製
有機EL素子103と同様にして電子輸送層まで設けた。
次いで、LiFを厚さ1.5nm形成した後に、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子301」を作製した。
<< Production of organic EL element >>
(1) Preparation of organic EL element 301 It carried out similarly to the organic EL element 103, and provided to the electron carrying layer.
Next, after forming LiF to a thickness of 1.5 nm, aluminum was deposited to have a thickness of 110 nm to form a cathode.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case to produce an "organic EL element 301".

(2)有機EL素子302の作製
有機EL素子103と同様にして正孔阻止層まで設けた。
次いで、化合物E−1及びLiFを、LiFの濃度が20体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
次いで、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
その後、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子302」を作製した。
(2) Production of Organic EL Element 302 Similarly to the organic EL element 103, the hole blocking layer was provided.
Next, the compound E-1 and LiF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the LiF concentration was 20% by volume to form an electron transport layer having a thickness of 20 nm.
Subsequently, aluminum 110nm was vapor-deposited and the cathode was formed.
Thereafter, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light emitting surface was covered with a glass case, and an "organic EL element 302" was produced.

《有機EL素子の評価》
(1)電力効率、連続駆動輝度寿命及び保存安定性の評価
実施例1と同様にして、電力効率、連続駆動輝度寿命及び保存安定性を評価した。表3に有機EL素子301の各評価値を100とした場合の相対値で示す。
<< Evaluation of organic EL elements >>
(1) Evaluation of power efficiency, continuous drive brightness life and storage stability In the same manner as in Example 1, power efficiency, continuous drive brightness life and storage stability were evaluated. Table 3 shows relative values when each evaluation value of the organic EL element 301 is 100.

Figure 0006107657
Figure 0006107657

(2)まとめ
表3に示すとおり、電子輸送層のドープ材料としてLiFを用いた場合でも保存時の色度変動及び電圧上昇が減少することが判る。
ただし、実施例2の結果と比較すると、ドープ材料としてKFを使用した場合よりもその効果は小さい。
(2) Summary As shown in Table 3, it can be seen that even when LiF is used as the doping material of the electron transport layer, the chromaticity variation and voltage increase during storage are reduced.
However, compared with the result of Example 2, the effect is smaller than when KF is used as the doping material.

《有機EL素子の作製》
(1)有機EL素子401の作製
有機EL素子201と同様にして緑色リン光発光層まで設けた。
その後、化合物HB−1及びKFを、KFの濃度が17体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着して膜厚10nmの励起子阻止層を形成し、次いで、化合物E−1及びKFを、KFの濃度が17体積%になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ35nmの電子輸送層を形成した。
次いで、アルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成した。
次いで、有機EL素子103の場合と同様にして、非発光面をガラスケースで覆い、「有機EL素子401」を作製した。
<< Production of organic EL element >>
(1) Production of Organic EL Element 401 Similar to the organic EL element 201, the green phosphorescent light emitting layer was provided.
Thereafter, compounds HB-1 and KF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of KF was 17% by volume to form an exciton blocking layer having a thickness of 10 nm. 1 and KF were co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of KF was 17% by volume to form an electron transport layer having a thickness of 35 nm.
Subsequently, aluminum 110nm was vapor-deposited and the cathode was formed.
Next, in the same manner as in the case of the organic EL element 103, the non-light-emitting surface was covered with a glass case to produce an "organic EL element 401".

《有機EL素子の評価》
(1)電力効率、連続駆動輝度寿命及び保存安定性の評価
実施例1と同様にして、電力効率、連続駆動輝度寿命及び保存安定性を評価した。表4に有機EL素子201の各評価値を100とした場合の相対値で示す。
<< Evaluation of organic EL elements >>
(1) Evaluation of power efficiency, continuous drive brightness life and storage stability In the same manner as in Example 1, power efficiency, continuous drive brightness life and storage stability were evaluated. Table 4 shows relative values when each evaluation value of the organic EL element 201 is 100.

Figure 0006107657
Figure 0006107657

(2)まとめ
表4に示すとおり、正孔阻止層にKFをドープした有機EL素子401は、KFをドープしていない有機EL素子201に対し、電力効率において相違はないものの、輝度寿命がやや低下し、また保存時の色度変動及び電圧上昇が大きいことが判る。この結果から、励起子阻止層には金属化合物を含有させない方が良好な性能が得られることがわかる。
(2) Summary As shown in Table 4, although the organic EL element 401 doped with KF in the hole blocking layer has no difference in power efficiency compared to the organic EL element 201 not doped with KF, the luminance life is slightly higher. It can be seen that the chromaticity variation and the voltage increase during storage are large. From this result, it can be seen that better performance can be obtained when the exciton blocking layer does not contain a metal compound.

本発明は電力効率や発光寿命に優れた白色発光を得るのに特に好適に利用することができる。   The present invention can be particularly suitably used for obtaining white light emission excellent in power efficiency and light emission lifetime.

101 有機EL素子
102 ガラスカバー
105 陰極
106 有機EL層
107 透明電極付きガラス基板
108 窒素ガス
109 捕水剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Organic EL element 102 Glass cover 105 Cathode 106 Organic EL layer 107 Glass substrate with a transparent electrode 108 Nitrogen gas 109 Water catching agent

Claims (4)

陽極、陰極および複数層の発光層を備え、前記複数層の発光層が前記陽極と前記陰極との間に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記複数の発光層が蛍光発光層と少なくとも2層以上のリン光発光層とを有し、
前記蛍光発光層と前記リン光発光層とのうち、前記蛍光発光層が前記陽極側に配置され、
前記リン光発光層の各層には、リン光発光ドーパントとホスト化合物とがそれぞれ含有され、
前記リン光発光層のうち、発光波長が最も長いリン光発光層が、前記蛍光発光層側に配置され、さらに、
当該発光波長が最も長いリン光発光層には、含有量がその層の主たるリン光発光ドーパントより多く、かつ、最低励起三重項エネルギーT1がその層の主たるリン光発光ドーパントのT1より大きくてホスト化合物のT1より小さいリン光発光性の金属錯体が含有されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
In an organic electroluminescence device comprising an anode, a cathode, and a plurality of light emitting layers, wherein the plurality of light emitting layers are disposed between the anode and the cathode,
The plurality of light emitting layers have a fluorescent light emitting layer and at least two or more phosphorescent light emitting layers,
Of the fluorescent light emitting layer and the phosphorescent light emitting layer, the fluorescent light emitting layer is disposed on the anode side,
Each layer of the phosphorescent layer contains a phosphorescent dopant and a host compound,
Among the phosphorescent light emitting layers, the phosphorescent light emitting layer having the longest emission wavelength is disposed on the fluorescent light emitting layer side, and
The phosphorescent light emitting layer having the longest emission wavelength has a content higher than that of the main phosphorescent light emitting dopant of the layer, and the lowest excited triplet energy T1 is larger than T1 of the main phosphorescent light emitting dopant of the layer. An organic electroluminescence device comprising a phosphorescent metal complex smaller than T1 of the compound.
請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記発光層と前記陰極との間には電子輸送層が形成され、
前記電子輸送層には、フェニルピリジン骨格を有する化合物が含有され、かつ、電子供与性の金属、金属イオンまたは金属化合物の少なくとも1つがドープされていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
The organic electroluminescent device according to claim 1,
An electron transport layer is formed between the light emitting layer and the cathode,
The organic electroluminescence device, wherein the electron transport layer contains a compound having a phenylpyridine skeleton and is doped with at least one of an electron donating metal, a metal ion, or a metal compound.
請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記発光層と前記陰極との間には電子輸送層が形成され、
前記発光層と前記電子輸送層との間には励起子または正孔阻止層が形成され、
前記電子輸送層には、フェニルピリジン骨格を有する化合物が含有され、かつ、電子供与性の金属、金属イオンまたは金属化合物の少なくとも1つがドープされ、
前記励起子または正孔阻止層には、前記電子供与性の金属、金属イオンまたは金属化合物のいずれもがドープされていないことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
The organic electroluminescent device according to claim 1,
An electron transport layer is formed between the light emitting layer and the cathode,
An exciton or hole blocking layer is formed between the light emitting layer and the electron transport layer,
The electron transport layer contains a compound having a phenylpyridine skeleton, and is doped with at least one of an electron donating metal, a metal ion, or a metal compound,
The organic electroluminescence device, wherein the exciton or hole blocking layer is not doped with any of the electron donating metal, metal ion or metal compound.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記蛍光発光層が青色の蛍光発光ドーパントを含む青色蛍光発光層で構成され、
前記リン光発光層が、赤色のリン光発光ドーパントを含む赤色リン光発光層と、緑色のリン光発光ドーパントを含む緑色リン光発光層とで構成され、
前記陽極側から前記陰極側にかけて前記青色蛍光発光層、赤色リン光発光層および緑色リン光発光層がこの順に積層されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
In the organic electroluminescent element as described in any one of Claims 1-3,
The fluorescent light emitting layer is composed of a blue fluorescent light emitting layer containing a blue fluorescent light emitting dopant,
The phosphorescence layer is composed of a red phosphorescence layer containing a red phosphorescence dopant and a green phosphorescence layer containing a green phosphorescence dopant,
An organic electroluminescence element, wherein the blue fluorescent light emitting layer, the red phosphorescent light emitting layer, and the green phosphorescent light emitting layer are laminated in this order from the anode side to the cathode side.
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