JP6102202B2 - Treatment liquid coating apparatus and image forming system having the same - Google Patents

Treatment liquid coating apparatus and image forming system having the same Download PDF

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Description

本発明は、インク滴を吐出して、ウェブなどの被記録媒体上に画像を形成するインクジェットプリンタの画像滲みを抑制する滲み抑制剤などの処理液を、画像形成に先立って被記録媒体上に塗布するインクジェットプリンタ用の処理液塗布装置およびそれを備えた画像形成システムに関するものである。   The present invention provides a treatment liquid such as a bleeding inhibitor that suppresses image bleeding of an ink jet printer that ejects ink droplets to form an image on a recording medium such as a web, on the recording medium prior to image formation. The present invention relates to a treatment liquid coating apparatus for an inkjet printer for coating, and an image forming system including the same.

プリンタ、ファクシミリ、複写装置、プロッタ、これらの複合機等の画像形成装置として、インク滴を吐出する記録ヘッドを用いた液体吐出記録方式のインクジェットプリンタが知られている。   2. Description of the Related Art As an image forming apparatus such as a printer, a facsimile, a copying apparatus, a plotter, and a complex machine of these, a liquid discharge recording type ink jet printer using a recording head that discharges ink droplets is known.

このインクジェットプリンタは、記録ヘッドからインク滴を、搬送される被記録媒体に対して吐出して、画像形成を行うものであり、記録ヘッドが主走査方向に移動しながらインク滴を吐出して画像を形成するシリアル型インクジェットプリンタと、記録ヘッドが移動しない状態でインク滴を吐出して画像を形成するライン型インクジェットプリンタがある。   This ink jet printer performs image formation by ejecting ink droplets from a recording head onto a recording medium to be conveyed, and ejects ink droplets while the recording head moves in the main scanning direction. There are serial type ink jet printers that form image and line type ink jet printers that form images by ejecting ink droplets without moving the recording head.

インクジェットプリンタは、低騒音、低ランニングコストに加えて、カラー化が容易といった利点を有していることから、近年、急速に普及してきている。しかし、専用紙以外の被記録媒体に画像を形成すると、滲み、濃度、色調や裏写りなどといった初期の品質問題に加えて、耐水性、耐候性といった画像の堅牢性に関わる問題を有しているため、これらの問題を解決する必要がある。   Inkjet printers have rapidly gained popularity in recent years because they have the advantage of being easy to color in addition to low noise and low running costs. However, when an image is formed on a recording medium other than special paper, in addition to the initial quality problems such as bleeding, density, color tone and show-through, there are problems related to image robustness such as water resistance and weather resistance. Therefore, it is necessary to solve these problems.

それらの解決手段として、被記録媒体に画像を形成する前にインクを凝集させる機能を有する処理液を塗布して、画質を改善する方法が種々提案されている。   As a means for solving these problems, various methods for improving image quality by applying a treatment liquid having a function of aggregating ink before forming an image on a recording medium have been proposed.

従来、例えば特開２００７−５０３１５号公報（特許文献１）では、処理液を流通するチューブ内などで増粘した処理液により正常な循環が阻害されるのを防止する目的で、前回の処理液の循環終了からの時間を計測して、その時間に応じて処理液の循環方法を変える、または処理液の充填中に循環する処理液塗布装置が提案されている。   Conventionally, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-50315 (Patent Document 1), the previous processing liquid is used for the purpose of preventing normal circulation from being hindered by the processing liquid thickened in a tube through which the processing liquid flows. A processing liquid coating apparatus that measures the time from the end of circulation and changes the processing liquid circulation method according to the time, or circulates during the filling of the processing liquid has been proposed.

しかし、この提案された処理液塗布装置では、処理液の循環ライン上にはフィルタがなく、処理液の循環ラインが１つしかない。また、処理液の循環動作と充填動作で処理液の流れが切り替わることもない。よって、充填動作で使用するラインと退避で使用するラインが異なる場合において、水頭差を利用して供給パン内の処理液を退避させる構成の処理液塗布装置では、退避に非常に多くの時間を要し、その間にも処理液が空気に晒され続けることにより、処理液の劣化が早まるという問題がある。   However, in the proposed processing liquid coating apparatus, there is no filter on the processing liquid circulation line, and there is only one processing liquid circulation line. Further, the flow of the processing liquid is not switched between the processing liquid circulation operation and the filling operation. Therefore, when the line used for filling operation and the line used for evacuation are different, the treatment liquid coating apparatus configured to evacuate the processing liquid in the supply pan using the water head difference takes a very long time for evacuation. In the meantime, there is a problem that the processing liquid is rapidly deteriorated because the processing liquid is continuously exposed to the air.

図９は、本発明者らが先に検討した処理液２２の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。
この循環系統は、表面塗布用供給パン２３と、裏面塗布用供給パン２４と、供給パン２３，２４に処理液２２を補充する処理液カートリッジ２６と、供給パン２３，２４に処理液２２を送給するポンプ２５と、カートリッジ２６からポンプ２５まで延びた供給ラインｈと、ポンプ２５から表面塗布用供給パン２３まで延びた表面塗布用供給ラインａと、ポンプ２５から裏面塗布用供給パン２４まで延びた裏面塗布用供給ラインｂと、供給ラインａを開閉するための電磁弁２７と、供給ラインｂを開閉するための電磁弁２８を備えている。 FIG. 9 is a system diagram for explaining the evacuation / circulation / filling system of the processing liquid 22 previously examined by the present inventors.
This circulation system includes a front coating supply pan 23, a back coating supply pan 24, a processing liquid cartridge 26 for replenishing the processing liquid 22 to the supply pans 23, 24, and a processing liquid 22 to the supply pans 23, 24. A feed pump 25, a supply line h extending from the cartridge 26 to the pump 25, a surface application supply line a extending from the pump 25 to the surface application supply pan 23, and a pump 25 extending from the back surface application supply pan 24. The back surface coating supply line b, the electromagnetic valve 27 for opening and closing the supply line a, and the electromagnetic valve 28 for opening and closing the supply line b are provided.

また、処理液２２を一時的の貯蔵するリザーブタンク２１と、処理液２２中に含まれている異物を除去するためのフィルタ３２を内蔵したフィルタ室４１と、表面塗布用供給パン２３からリザーブタンク２１およびフィルタ室４１へ繋がる表面塗布用退避／循環ラインｃと、その退避／循環ラインｃにおいてリザーブタンク２１側の退避ラインを開閉するための電磁弁３０と、フィルタ室４１側の退避／循環ラインを開閉するための電磁弁３５と、裏面塗布用供給パン２４からリザーブタンク２１およびフィルタ室４１へ繋がる裏面塗布用退避／循環ラインｄと、その退避／循環ラインｄにおいてリザーブタンク２１側の退避ラインを開閉するための電磁弁３４と、フィルタ室４１側の退避／循環ラインを開閉するための電磁弁４０と、フィルタ室４１からの供給ラインｈの途中に繋がる戻しラインｅを備えている。   A reserve tank 21 for temporarily storing the treatment liquid 22, a filter chamber 41 containing a filter 32 for removing foreign substances contained in the treatment liquid 22, and a reserve tank from the surface coating supply pan 23. 21 and the retreat / circulation line c for application to the filter chamber 41, the electromagnetic valve 30 for opening and closing the retreat line on the reserve tank 21 side in the retreat / circulation line c, and the retraction / circulation line on the filter chamber 41 side An open / close solenoid valve 35, a backside application retraction / circulation line d connected from the backside application supply pan 24 to the reserve tank 21 and the filter chamber 41, and a retreat line on the reserve tank 21 side in the retraction / circulation line d A solenoid valve 34 for opening and closing the valve, a solenoid valve 40 for opening and closing the retreat / circulation line on the filter chamber 41 side, And a return line e leading to the middle of the supply line h from motor chamber 41.

供給ラインｈと戻しラインｅの接合部には三方弁からなる電磁弁３９が設置されており、電磁弁３９を開放することによりポンプ２５とカートリッジ２６を繋ぐ供給ラインｈが開通し、電磁弁３９を閉塞することによりポンプ２５とフィルタ室４１を繋ぐ戻しラインｅが開通する。   An electromagnetic valve 39 consisting of a three-way valve is installed at the joint between the supply line h and the return line e. By opening the electromagnetic valve 39, the supply line h connecting the pump 25 and the cartridge 26 is opened, and the electromagnetic valve 39 Is closed, the return line e connecting the pump 25 and the filter chamber 41 is opened.

さらに、処理液２２を廃棄するための廃液タンク３６と、リザーブタンク２１から廃液タンク３６へ延びた廃液ラインｆと、その廃液ラインｆを開閉するための電磁弁３７を備えている。   Furthermore, a waste liquid tank 36 for discarding the processing liquid 22, a waste liquid line f extending from the reserve tank 21 to the waste liquid tank 36, and an electromagnetic valve 37 for opening and closing the waste liquid line f are provided.

供給パン２３，２４内に貯留されている処理液２２を塗布ローラ３１に供給するためのスクイーズローラ２９と塗布ローラ３１は供給パン２３，２４内に収容されており、供給パン２３，２４の上部は塗布ローラ３１を覆うように形成されており、供給パン２３，２４内にある処理液２２の蒸発や処理液２２が空気に触れることによる劣化を少なく抑える形状になっている。しかし、塗布ローラ３１と加圧ローラ３３の圧接部（ニップ部）は開口しておく必要があり、完全な密閉構造にはなっていない。   The squeeze roller 29 and the application roller 31 for supplying the processing liquid 22 stored in the supply pans 23 and 24 to the application roller 31 are accommodated in the supply pans 23 and 24, and the upper part of the supply pans 23 and 24. Is formed so as to cover the application roller 31, and is shaped to suppress the evaporation of the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 and the deterioration due to the processing liquid 22 coming into contact with air. However, the pressure contact portion (nip portion) between the application roller 31 and the pressure roller 33 needs to be opened, and is not a completely sealed structure.

そこで、供給パン２３，２４よりも気密性の高いリザーブタンク２１を設け、供給パン２３，２４とリザーブタンク２１を連通する退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３０，３４を開放することで、供給パン２３，２４とリザーブタンク２１の水頭差により、供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避することができる。   Therefore, a reserve tank 21 having higher airtightness than the supply pans 23 and 24 is provided, and the electromagnetic valves 30 and 34 on the retraction / circulation lines c and d that connect the supply pans 23 and 24 and the reserve tank 21 are opened. The processing liquid 22 in the supply pans 23, 24 can be retreated to the reserve tank 21 due to the water head difference between the supply pans 23, 24 and the reserve tank 21.

なお、この退避動作の実施契機としては、処理液塗布装置の電源ＯＦＦ時や電源ＯＮ中であってもウェブＷの掛け替えや印刷パターンの変更など、通常のジョブ間よりも長い時間、塗布動作が停止しているときに実施することで、ジョブ間での退避動作を防止し、退避動作を実施した後のジョブ再開時に供給パン２３，２４に処理液２２を充填する待ち時間が極力発生しないようにしている。   In addition, as a trigger for performing the retreat operation, even when the processing liquid coating apparatus is turned off or while the power is on, the coating operation is performed for a longer time than between normal jobs, such as changing the web W or changing the printing pattern. By carrying out the operation while it is stopped, the save operation between jobs is prevented, and the waiting time for filling the supply liquids 23 and 24 with the processing liquid 22 is prevented as much as possible when the job is resumed after executing the save operation. I have to.

前記ラインａ〜ｆはチューブで構成されており、処理液塗布装置の電源ＯＮ時、退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内は処理液２２が抜けており、空気が入っている状態となっている。それぞれの供給パン２３，２４に処理液２２の充填を行い、供給パン２３，２４内の処理液２２の液面が既定レベル以上になった後、上位装置（図示せず）より塗布開始信号を受信する。   The lines a to f are formed of tubes, and when the processing liquid coating apparatus is powered on, the processing liquid 22 is removed from the tubes of the retraction / circulation lines c and d, and air is contained. Yes. After the supply liquids 23 and 24 are filled with the treatment liquid 22 and the liquid level of the treatment liquid 22 in the supply pans 23 and 24 becomes equal to or higher than a predetermined level, a coating start signal is sent from a host device (not shown). Receive.

この信号に基づいて処理液２２の塗布動作に入り、塗布中の一定時間間隔で退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３５，４０を開放し、電磁弁３９を閉塞することにより、ポンプ２５とフィルタ室４１を繋ぐ戻しラインｅを開通させる。そしてポンプ２５を一定時間駆動することにより、ポンプ２５の動力により、それぞれの供給パン２３，２４内の処理液２２が退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内に強制的に送給され、以後、処理液２２はフィルタ３２を通過することにより、処理液２２中の異物除去が行われたのち、戻しラインｅ、供給ラインａおよび供給ラインｂによりそれぞれの供給パン２３，２４内に処理液２２を戻す循環動作を実施する。   Based on this signal, the processing liquid 22 is applied, and the electromagnetic valves 35 and 40 on the retreat / circulation lines c and d are opened and the electromagnetic valve 39 is closed at regular time intervals during the application, whereby the pump 25 And the return line e connecting the filter chamber 41 is opened. Then, by driving the pump 25 for a certain time, the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 is forcibly fed into the tubes of the retraction / circulation lines c and d by the power of the pump 25, and thereafter After the processing liquid 22 passes through the filter 32 to remove foreign matter in the processing liquid 22, the processing liquid 22 is put into the supply pans 23 and 24 by the return line e, the supply line a, and the supply line b. Execute the return circulation operation.

この電源ＯＮ後、この循環動作を実施することによって、ポンプ２５の駆動で退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内は処理液２２で満たされた状態となる。   By performing this circulation operation after the power is turned on, the pumps 25 are driven so that the tubes in the retraction / circulation lines c and d are filled with the processing liquid 22.

しかし、この処理液２２の循環系統では、電源がＯＮしてから処理液２２の循環動作が実施されるまでは、退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内には空気が入っている状態であるため、電源がＯＮしてそれぞれの供給パン２３，２４に処理液２２を充填した状態で処理液２２の塗布動作を実施せずに電源をＯＦＦされた場合や、処理液２２を充填した状態で処理液２２の塗布動作を実施せずに、長い期間放置された場合、電磁弁３０，３４を開放し、それぞれの供給パン２３，２４とリザーブタンク２１との水頭差により、それぞれの供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避させる際、退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内の空気により、水頭差による処理液２２が流れ落ちる力が吸収され、処理液２２の退避動作に非常に多くの時間を要し、その間にも処理液２２が空気に晒され続けることになり、処理液２２の劣化が早まるという問題がある。   However, in the circulation system of the treatment liquid 22, air is contained in the tubes of the evacuation / circulation lines c and d from when the power is turned on until the circulation operation of the treatment liquid 22 is performed. Therefore, when the power is turned on and the supply pans 23 and 24 are filled with the treatment liquid 22 without performing the coating operation of the treatment liquid 22 or when the treatment liquid 22 is filled. When the treatment liquid 22 is not applied and left for a long period of time, the electromagnetic valves 30 and 34 are opened, and due to the water head difference between the supply pans 23 and 24 and the reserve tank 21, the supply pans 23. , 24 when the processing liquid 22 is retracted to the reserve tank 21, the force of the processing liquid 22 flowing down due to the water head difference is absorbed by the air in the tubes of the retraction / circulation lines c and d, and the processing liquid 22 is retracted. Always time consuming, the process liquid 22 in the meantime will be continuously exposed to the air, there is a problem of deterioration of the processing liquid 22 is accelerated.

図１０は、この先に検討した処理液塗布装置の動作シーケンスを示す制御フローチャートである。
Ｓ２１：供給パン２３，２４に処理液２２を充填するか否かを判断する。処理液２２の充填は、処理液塗布装置の電源ＯＮ時、または供給パン２３，２４内に充填した処理液２２をリザーブタンク２１に退避後に塗布動作を開始する場合に充填を実施する。
Ｓ２２：リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がある場合には、リザーブタンク２１内の処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がない場合には、カートリッジ２６内の処理液２２を充填する。 FIG. 10 is a control flowchart showing an operation sequence of the processing liquid coating apparatus examined earlier.
S21: It is determined whether or not the supply pans 23 and 24 are filled with the processing liquid 22. The processing liquid 22 is filled when the processing liquid coating apparatus is turned on or when the coating operation is started after the processing liquid 22 filled in the supply pans 23 and 24 is evacuated to the reserve tank 21.
S 22: The processing liquid 22 is filled into the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24 from the reserve tank 21 or the cartridge 26. When the processing liquid 22 is present in the reserve tank 21, the processing liquid 22 in the reserve tank 21 is filled. When there is no processing liquid 22 in the reserve tank 21, the processing liquid 22 in the cartridge 26 is filled.

Ｓ２３：上位装置（図示せず）からの印刷情報により、処理液２２の塗布処理を行うかどうかを判断する。
Ｓ２４：処理液２２の塗布処理を行う。処理液塗布装置は、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４の内部に設置されたＬＯＷレベル液面検知センサの出力値を読み込み、処理液２２の補充が必要と判断した場合には、リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から供給パン２３，２４に処理液２２の補充を行う。 S23: It is determined whether or not to apply the treatment liquid 22 on the basis of print information from a higher-level device (not shown).
S24: The treatment liquid 22 is applied. When the processing liquid coating apparatus reads the output value of the LOW level liquid level detection sensor installed in the front surface coating supply pan 23 and the back surface coating supply pan 24 and determines that the processing liquid 22 needs to be replenished, Then, the supply liquids 23 and 24 are replenished with the processing liquid 22 from the reserve tank 21 or the cartridge 26.

Ｓ２５：供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避させるか否かを判断する。通常は、塗布しない時間が連続で３０分〜２時間程度経過した場合に退避させる。退避しない場合はＳ２３に、退避する場合は次のＳ２６へ移る。
Ｓ２６：電磁弁３０，３４を開放して、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４の処理液２２をリザーブタンク２１に退避する。 S25: It is determined whether or not the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 is withdrawn to the reserve tank 21. Usually, it is evacuated when about 30 minutes to 2 hours have elapsed without application. If not saved, the process proceeds to S23, and if saved, the process proceeds to the next S26.
S26: The electromagnetic valves 30 and 34 are opened, and the processing liquid 22 in the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24 is withdrawn to the reserve tank 21.

本発明の目的は、処理液をリザーブタンクに退避させるときの退避時間を短縮して、退避中の処理液の劣化が極力防止できる処理液塗布装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a treatment liquid coating apparatus capable of shortening the evacuation time when the treatment liquid is evacuated to a reserve tank and preventing deterioration of the treatment liquid during evacuation as much as possible.

前記目的を達成するため、本発明は、 被記録媒体の表面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する表面塗布用供給パンと、被記録媒体の裏面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する裏面塗布用供給パンと、前記処理液を貯留する処理液カートリッジと、前記処理液カートリッジに貯留されている前記処理液を前記各供給パンにそれぞれ供給する供給ラインと、前記各供給パンよりも気密性の高いリザーブタンクと、前記処理液中に含まれている異物を除去するフィルタを内蔵したフィルタ室と、前記表面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する表面塗布用退避／循環ラインと、前記裏面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する裏面塗布用退避／循環ラインと、前記フィルタ室から前記供給ラインの途中に接続されて、前記フィルタで異物が除去された処理液を前記各供給パンに戻す戻しラインと、前記各ラインにおいて処理液の流れを発生させる液流れ発生手段と、前記処理液が流れるラインを切り替えるために前記各ライン上に設置された複数の弁と、当該処理液塗布装置の電源ＯＮ時の前記各供給パン内に処理液を充填する過程で、前記表面塗布用退避／循環ラインと前記裏面塗布用退避／循環ラインの少なくとも一方に処理液を充填するために前記液流れ発生手段ならびに前記弁を操作する制御手段とを備え、前記制御手段に入力される塗布モード情報により、前記表面塗布用退避／循環ラインと前記裏面塗布用退避／循環ラインのうち、前記処理液の塗布に使用する供給パンの退避／循環ライン内のみに処理液を充填する構成になっていることを特徴とするものである。 In order to achieve the above object, the present invention provides a surface application supply pan for storing the processing liquid for applying the processing liquid to the surface of the recording medium, and a method for applying the processing liquid to the back surface of the recording medium. A back coating supply pan for storing the processing liquid, a processing liquid cartridge for storing the processing liquid, a supply line for supplying the processing liquid stored in the processing liquid cartridge to each of the supply pans, a reserve tank airtight than the supply pans, before Symbol treatment liquid filter chamber with a built-in filter for removing foreign matters contained in, the said surface coating supply pan reserve tank and the filter chamber A retreat / circulation line for surface coating that communicates; a retraction / circulation line for back surface application that communicates the supply pan for back surface application, the reserve tank, and the filter chamber; A return line which is connected to the supply line from the filter chamber and returns the processing liquid from which foreign matters have been removed by the filter to each of the supply pans; and a liquid flow generating means for generating a flow of the processing liquid in each of the lines A plurality of valves installed on each line for switching the line through which the processing liquid flows, and in the process of filling the processing liquid into each supply pan when the processing liquid coating apparatus is powered on, the surface The liquid flow generating means and a control means for operating the valve to fill at least one of the application retracting / circulating line and the back surface applying retracting / circulating line with the processing liquid are input to the control means. Based on the coating mode information, a supply pan retracting / circulating line used for applying the treatment liquid among the retracting / circulating line for front surface application and the retracting / circulating line for back surface application It is characterized in that only a has a configuration to fill the processing solution.

本発明は前述のような構成になっており、処理液をリザーブタンクに退避させるときの退避時間を短縮して、退避中の処理液の劣化が極力防止できる処理液塗布装置を提供することができる。   The present invention is configured as described above, and it is possible to provide a treatment liquid coating apparatus capable of shortening the retreat time when the treatment liquid is retreated to the reserve tank and preventing deterioration of the treatment liquid during retraction as much as possible. it can.

本発明の実施例に係る画像形成システムの流れを示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram illustrating a flow of an image forming system according to an embodiment of the present invention. この画像処理システムに用いられる処理液塗布装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the process liquid coating device used for this image processing system. 本発明の第１実施例に係る処理液の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。It is a systematic diagram for demonstrating the retraction | saving / circulation / filling system | strain of the process liquid which concerns on 1st Example of this invention. 本発明の第１実施例に係る処理液塗布装置の制御部とそれに関係する各部材の接続関係を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the connection relation of the control part of the process liquid coating device which concerns on 1st Example of this invention, and each member related to it. 本発明の第１実施例に係る動作シーケンスを示す制御フローチャートである。It is a control flowchart which shows the operation | movement sequence which concerns on 1st Example of this invention. 退避ラインへの充填処理における処理液の流れについて説明するための図である。It is a figure for demonstrating the flow of the process liquid in the filling process to a evacuation line. 本発明の第２実施例に係る処理液の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。It is a systematic diagram for demonstrating the retraction | saving / circulation / filling system | strain of the process liquid which concerns on 2nd Example of this invention. 本発明の第２実施例に係る動作シーケンスを示す制御フローチャートである。It is a control flowchart which shows the operation | movement sequence which concerns on 2nd Example of this invention. 本発明者らが先に検討した処理液の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。FIG. 5 is a system diagram for explaining a processing solution evacuation / circulation / filling system previously examined by the inventors. 先に検討した処理液塗布装置の動作シーケンスを示す制御フローチャートである。It is a control flowchart which shows the operation | movement sequence of the process liquid coating device examined previously.

本発明は、具体的には以下のような特徴点を有している。
（ａ）．処理液塗布装置の電源ＯＮ時には供給パンに処理液の充填動作を行うが、この充填動作中に充填動作では使用しない退避ラインのチューブ内で充填を行う。
（ｂ）．退避ライン内に液検出センサを設け、処理液塗布装置の電源ＯＮ時はまず、液検出センサの出力値を読み込み、処理液なしを検出した場合のみ、供給パンへの充填動作中に退避ラインのチューブ内の充填を行う。
（ｃ）．処理液の塗布動作前にインクジェットプリンタあるいは上位装置などから処理液塗布装置に対して、被記録媒体の表面、裏面、表裏両面のどの面に塗布するのかを表す塗布モード情報が送信される。そして前記（ａ）項において、この塗布モード情報が表面のみ塗布するモードであれば、表面塗布用供給パンの退避ラインのみ充填を行い、塗布モード情報が裏面のみ塗布するモードであれば、裏面塗布用供給パンの退避ラインのみ充填を行い、塗布モード情報が表裏両面に塗布するモードであれば、表面塗布用供給パンと裏面塗布用供給パンの両方の退避ラインに充填を行う。
（ｄ）．退避ラインのチューブ内への充填時間は、退避ラインのチューブ内が処理液で満たされる時間とする。 Specifically, the present invention has the following features.
(A). When the power of the processing liquid coating apparatus is turned on, the processing liquid is filled in the supply pan. During the filling operation, filling is performed in a tube of a retreat line that is not used in the filling operation.
(B). When a liquid detection sensor is provided in the retreat line and the processing liquid application device is turned on, the output value of the liquid detection sensor is read first, and only when no treatment liquid is detected, the retreat line is not filled during the filling operation to the supply pan. Fill the tube.
(C). Before the processing liquid application operation, the ink jet printer or the higher-level device or the like transmits application mode information indicating which surface of the recording medium is applied to the front surface, the back surface, or both the front and back surfaces to the processing liquid application device. In the above item (a), if this coating mode information is a mode for coating only the front surface, only the retract line of the supply pan for front surface coating is filled, and if the coating mode information is a mode for coating only the back surface, backside coating is performed. If only the retreat line for the supply pan is filled, and the application mode information is a mode for applying to both the front and back surfaces, the retreat line for both the front application supply pan and the back application supply pan is filled.
(D). The filling time into the tube of the retreat line is a time for filling the tube of the retreat line with the processing liquid.

次に本発明の実施例について、図面と共に説明する。図１は、本発明の実施例に係る画像形成システムの流れを示す概略構成図である。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a flow of an image forming system according to an embodiment of the present invention.

同図に示しているように、給紙装置１００から繰り出された長尺状の連続紙からなるウェブＷは、最初、処理液塗布装置１０１に送り込まれ、ウェブＷの表裏両面にそれぞれ処理液２２が塗布されて、前処理が行われる。   As shown in the figure, the web W made of long continuous paper fed from the paper feeder 100 is first fed to the treatment liquid coating apparatus 101, and the treatment liquid 22 is applied to both the front and back surfaces of the web W. Is applied and pretreatment is performed.

次に処理されたウェブＷは第１の１０２ａに送り込まれて、ウェブＷの表側にインク滴を吐出して所望の画像が形成され、その後に反転装置１０３によりウェブＷの表裏が反転され、引き続きウェブＷは第２のインクジェットプリンタ１０２ｂに送り込まれて、ウェブＷの裏側にインク滴を吐出して所望の画像が形成される。   Next, the processed web W is sent to the first 102a, and ink droplets are ejected to the front side of the web W to form a desired image. Thereafter, the front and back of the web W are reversed by the reversing device 103, and subsequently The web W is fed into the second inkjet printer 102b, and ink droplets are ejected to the back side of the web W to form a desired image.

このようにして、ウェブＷの両面に印刷が施された後、後処理装置（図示せず）に送られて、所定の後処理がなされるシステムになっている。   In this way, after printing is performed on both sides of the web W, it is sent to a post-processing device (not shown) to perform a predetermined post-processing.

図２はこの画像処理システムに用いられる処理液塗布装置１０１の概略構成図であり、処理液２２の塗布時の状態を示している。   FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the processing liquid coating apparatus 101 used in the image processing system, and shows a state when the processing liquid 22 is applied.

同図に示すように、ローラ端部に軸受け（図示せず）を有し、回転自在のガイドローラ１が処理液塗布装置１０１内に多数本設置されて、ウェブＷの搬送パスを確保している。   As shown in the figure, bearings (not shown) are provided at the end of the roller, and a large number of rotatable guide rollers 1 are installed in the processing liquid coating apparatus 101 to secure a conveyance path for the web W. Yes.

図中の符号２はモータなどの駆動源（図示せず）で回転するＦＩローラ（フィードインローラ）であり、ＦＩローラ２にばね（図示せず）の引張力でＦＩニップローラ（フィードインニップローラ）４が押し付けられるようになっている。   Reference numeral 2 in the figure denotes an FI roller (feed-in roller) that is rotated by a driving source (not shown) such as a motor. The FI nip roller (feed-in nip roller) is pulled by a tension force of a spring (not shown) on the FI roller 2. 4 is pressed.

ウェブＷはＦＩローラ２とＦＩニップローラ４の間に弾性的に挟持されており、前記駆動源によりＦＩローラ２を回転することで、この処理液塗布装置１０１の内部に前記給紙装置１００からウェブＷを引き込むことができる。   The web W is elastically sandwiched between the FI roller 2 and the FI nip roller 4, and the FI roller 2 is rotated by the driving source so that the web is fed from the paper feeding device 100 to the inside of the processing liquid coating device 101. W can be pulled in.

また、ＦＩローラ２とＦＩニップローラ４から送り出されたウェブＷは若干たるませてエアループＡＬを形成している。   Further, the web W fed from the FI roller 2 and the FI nip roller 4 is slightly slackened to form an air loop AL.

エアループＡＬを経たウェブＷは、パスシャフト５とエッジガイド６の間を通る。図示していないが、ウェブＷの搬送方向（矢印方向）と直交する方向に２本のパスシャフト５が配置され、ウェブＷがそのパスシャフト５の間をＳの字状に通る。このパスシャフト５に一対の板状エッジガイド６が支持されており、エッジガイド６の間隔はウェブＷの幅寸法と同寸に設定されている。   The web W that has passed through the air loop AL passes between the pass shaft 5 and the edge guide 6. Although not shown in the drawing, two pass shafts 5 are arranged in a direction perpendicular to the conveyance direction (arrow direction) of the web W, and the web W passes between the pass shafts 5 in an S shape. A pair of plate-like edge guides 6 are supported on the pass shaft 5, and the distance between the edge guides 6 is set to be the same as the width of the web W.

そのため、パスシャフト５とエッジガイド６の働きにより、ウェブＷの幅方向の走行位置が規制され、安定した走行が可能となる。なお、エッジガイド６はパスシャフト５に例えばねじなどの固定手段によって固定されており、使用するウェブＷの幅寸法に応じてエッジガイド６に位置が調整可能になっている。   Therefore, the travel position in the width direction of the web W is regulated by the action of the pass shaft 5 and the edge guide 6, and stable travel is possible. The edge guide 6 is fixed to the path shaft 5 by a fixing means such as a screw, and the position of the edge guide 6 can be adjusted according to the width dimension of the web W to be used.

パスシャフト５とエッジガイド６の間を通過したウェブＷは、固定状態にあるテンションシャフト７により走行安定化のための張力が付与される。   The web W that has passed between the pass shaft 5 and the edge guide 6 is given a tension for running stabilization by the tension shaft 7 in a fixed state.

テンションシャフト７を通過したウェブＷは、モータなどの駆動源（図示せず）で回転駆動するインフィードローラ８とフィードニップローラ９の間を通る。フィードニップローラ９は図示していないが、インフィードローラ８の軸方向に沿って複数個配置されており、各フィードニップローラ９はばね（図示せず）によりインフィードローラ８側に押し付けられている。   The web W that has passed through the tension shaft 7 passes between an in-feed roller 8 and a feed nip roller 9 that are rotationally driven by a drive source (not shown) such as a motor. Although not shown, a plurality of feed nip rollers 9 are arranged along the axial direction of the infeed roller 8, and each feed nip roller 9 is pressed against the infeed roller 8 side by a spring (not shown).

インフィードローラ８とフィードニップローラ９の間を通過したウェブＷは、第１のダンサーユニット１７に導かれる。この第１のダンサーユニット１７は、回転自在な１本の第１のダンサーローラ１１と、第１の可動フレーム１２から構成されている。したがって、この第1のダンサーユニット１７はウェブＷで吊り下げられた状態になっている。   The web W that has passed between the in-feed roller 8 and the feed nip roller 9 is guided to the first dancer unit 17. The first dancer unit 17 includes a first dancer roller 11 that is rotatable and a first movable frame 12. Therefore, the first dancer unit 17 is suspended from the web W.

この第1のダンサーユニット１７は重力方向Ａに沿って移動可能になっている。第1のダンサーユニット１７の位置を検出する第1のダンサーユニット位置検出手段（図示せず）が設けられており、この位置検出手段の出力に応じて、前記インフィードローラ８の駆動源を駆動制御することで、第1のダンサーユニット１７の位置が調整できる構成になっている。   The first dancer unit 17 is movable along the gravity direction A. First dancer unit position detection means (not shown) for detecting the position of the first dancer unit 17 is provided, and the drive source of the infeed roller 8 is driven according to the output of the position detection means. By controlling, the position of the first dancer unit 17 can be adjusted.

第1のダンサーユニット１７を通過したウェブＷは、それの表面側に処理液２２を塗布する表面塗布手段１３ｆ、並びにウェブＷの裏面側に処理液２２を塗布する裏面塗布手段１３ｒを順次通過することにより、ウェブＷの両面に処理液２２が塗布される。処理液２２の塗布手段１３については、後に詳細を説明する。   The web W that has passed through the first dancer unit 17 sequentially passes through the front surface application means 13f that applies the treatment liquid 22 to the front surface side thereof, and the back surface application means 13r that applies the treatment liquid 22 to the back surface side of the web W. As a result, the treatment liquid 22 is applied to both surfaces of the web W. Details of the coating means 13 for the treatment liquid 22 will be described later.

裏面塗布手段１３ｒを通過したウェブＷは、モータなどの駆動源（図示せず）で回転駆動するアウトフィードローラ１４とフィードニップローラ９の間を通る。フィードニップローラ９は図示していないが、アウトフィードローラ１４の軸方向に沿って複数個配置されており、各フィードニップローラ９はばねによりアウトフィードローラ１４側に押し付けられている。   The web W that has passed through the back coating means 13r passes between the outfeed roller 14 and the feed nip roller 9 that are rotationally driven by a drive source (not shown) such as a motor. Although not shown, a plurality of feed nip rollers 9 are arranged along the axial direction of the outfeed roller 14, and each feed nip roller 9 is pressed against the outfeed roller 14 side by a spring.

アウトフィードローラ１４とフィードニップローラ９の間を通過したウェブＷは、回転自在な第２のダンサーローラ１５ａ、１５ｂ並びに両ダンサーローラ１５ａ、１５ｂの間に配置されたガイドローラ１にわたってＷ型に巻き掛けられている。   The web W that has passed between the out-feed roller 14 and the feed nip roller 9 is wound around a W shape over the rotatable second dancer rollers 15a and 15b and the guide roller 1 disposed between the dancer rollers 15a and 15b. It has been.

２本のダンサーローラ１５ａ、１５ｂはそれぞれローラ端部に設けた軸受け（図示せず）を介して第２の可動フレーム１６に回転自在に取り付けられて、第２のダンサーユニット１８を構成している。従ってこの第２のダンサーユニット１８もウェブＷによって吊り下げられた状態になっている。   The two dancer rollers 15a and 15b are rotatably attached to the second movable frame 16 via bearings (not shown) provided at the roller ends to constitute a second dancer unit 18. . Accordingly, the second dancer unit 18 is also suspended by the web W.

この第２のダンサーユニット１８も重力方向Ａに沿って移動可能になっており、第２のダンサーユニット１８の位置を検出する第２のダンサーユニット位置検出手段（図示せず）が設けられており、この位置検出手段の出力に応じて、前記アウトフィードローラ１４の駆動源を駆動制御することで、第２のダンサーユニット１８の位置が調整できる構成になっている。   The second dancer unit 18 is also movable along the gravitational direction A, and second dancer unit position detecting means (not shown) for detecting the position of the second dancer unit 18 is provided. The position of the second dancer unit 18 can be adjusted by controlling the driving source of the outfeed roller 14 in accordance with the output of the position detecting means.

処理液２２としては、例えば水溶性の色材を凝集させるか又は不溶化させる機能を有する水溶性の凝集剤を水あるいは有機溶剤に溶解または分散させた液が用いられる。   As the treatment liquid 22, for example, a liquid in which a water-soluble flocculant having a function of aggregating or insolubilizing a water-soluble colorant is dissolved or dispersed in water or an organic solvent is used.

図３は、処理液２２の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。
この循環系統は、表面塗布用供給パン２３と、裏面塗布用供給パン２４と、供給パン２３，２４に処理液２２を補充する処理液カートリッジ２６と、供給パン２３，２４に処理液２２を送給するポンプ２５と、カートリッジ２６からポンプ２５まで延びた供給ラインｈと、ポンプ２５から表面塗布用供給パン２３まで延びた表面塗布用供給ラインａと、ポンプ２５から裏面塗布用供給パン２４まで延びた裏面塗布用供給ラインｂと、供給ラインａを開閉するための電磁弁２７と、供給ラインｂを開閉するための電磁弁２８を備えている。 FIG. 3 is a system diagram for explaining a system for retracting / circulating / filling the processing liquid 22.
This circulation system includes a front coating supply pan 23, a back coating supply pan 24, a processing liquid cartridge 26 for replenishing the processing liquid 22 to the supply pans 23, 24, and a processing liquid 22 to the supply pans 23, 24. A feed pump 25, a supply line h extending from the cartridge 26 to the pump 25, a surface application supply line a extending from the pump 25 to the surface application supply pan 23, and a pump 25 extending from the back surface application supply pan 24. The back surface coating supply line b, the electromagnetic valve 27 for opening and closing the supply line a, and the electromagnetic valve 28 for opening and closing the supply line b are provided.

また、処理液２２を一時的の貯蔵するリザーブタンク２１と、処理液２２中に含まれている異物を除去するためのフィルタ３２を内蔵したフィルタ室４１と、表面塗布用供給パン２３からリザーブタンク２１およびフィルタ室４１へ繋がる表面塗布用退避／循環ラインｃと、その退避／循環ラインｃにおいてリザーブタンク２１側の退避ラインを開閉するための電磁弁３０と、フィルタ室４１側の循環ラインを開閉するための電磁弁３５と、裏面塗布用供給パン２４からリザーブタンク２１およびフィルタ室４１へ繋がる裏面塗布用退避／循環ラインｄと、その退避／循環ラインｄにおいてリザーブタンク２１側の退避ラインを開閉するための電磁弁３４と、フィルタ室４１側の循環ラインを開閉するための電磁弁４０と、フィルタ室４１からの供給ラインｈの途中に繋がる戻しラインｅを備えている。   A reserve tank 21 for temporarily storing the treatment liquid 22, a filter chamber 41 containing a filter 32 for removing foreign substances contained in the treatment liquid 22, and a reserve tank from the surface coating supply pan 23. 21 and the surface application retreat / circulation line c connected to the filter chamber 41, the electromagnetic valve 30 for opening / closing the retreat line on the reserve tank 21 side in the retreat / circulation line c, and the circulation line on the filter chamber 41 side A reversing / circulation line d connected to the reserve tank 21 and the filter chamber 41 from the back surface application supply pan 24, and a retreat line on the reserve tank 21 side in the retreat / circulation line d. A solenoid valve 34 for opening, a solenoid valve 40 for opening and closing a circulation line on the filter chamber 41 side, and a filter chamber 41 Is provided with a return line e leads in the middle of the supply line h of.

供給ラインｈと戻しラインｅの接合部には三方弁からなる電磁弁３９が設置されており、電磁弁３９を開放することによりポンプ２５とカートリッジ２６を繋ぐ供給ラインｈが開通し、電磁弁３９を閉塞することによりポンプ２５とフィルタ室４１繋ぐ戻しラインｅが開通する。   An electromagnetic valve 39 consisting of a three-way valve is installed at the joint between the supply line h and the return line e. By opening the electromagnetic valve 39, the supply line h connecting the pump 25 and the cartridge 26 is opened, and the electromagnetic valve 39 Is closed, the return line e connecting the pump 25 and the filter chamber 41 is opened.

さらに、処理液２２を廃棄するための廃液タンク３６と、リザーブタンク２１から廃液タンク３６へ延びた廃液ラインｆと、その廃液ラインｆを開閉するための電磁弁３７を備えている。   Furthermore, a waste liquid tank 36 for discarding the processing liquid 22, a waste liquid line f extending from the reserve tank 21 to the waste liquid tank 36, and an electromagnetic valve 37 for opening and closing the waste liquid line f are provided.

供給パン２３，２４内に貯留されている処理液２２を塗布ローラ３１に供給するためのスクイーズローラ２９と塗布ローラ３１は供給パン２３，２４内に収容されており、供給パン２３，２４の上部は塗布ローラ３１を覆うように形成されており、供給パン２３，２４内にある処理液２２の蒸発や処理液２２が空気に触れることによる劣化を少なく抑える形状になっている。しかし、塗布ローラ３１と加圧ローラ３３の圧接部（ニップ部）は開口しておく必要があり、完全な密閉構造にはなっていない。   The squeeze roller 29 and the application roller 31 for supplying the processing liquid 22 stored in the supply pans 23 and 24 to the application roller 31 are accommodated in the supply pans 23 and 24, and the upper part of the supply pans 23 and 24. Is formed so as to cover the application roller 31, and is shaped to suppress the evaporation of the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 and the deterioration due to the processing liquid 22 coming into contact with air. However, the pressure contact portion (nip portion) between the application roller 31 and the pressure roller 33 needs to be opened, and is not a completely sealed structure.

そこで、供給パン２３，２４よりも気密性の高いリザーブタンク２１を設け、供給パン２３，２４とリザーブタンク２１を連通する退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３０，３４を開放することで、供給パン２３，２４とリザーブタンク２１の水頭差により供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避することが可能になっている。   Therefore, a reserve tank 21 having higher airtightness than the supply pans 23 and 24 is provided, and the electromagnetic valves 30 and 34 on the retraction / circulation lines c and d that connect the supply pans 23 and 24 and the reserve tank 21 are opened. The processing liquid 22 in the supply pans 23, 24 can be retreated to the reserve tank 21 due to a water head difference between the supply pans 23, 24 and the reserve tank 21.

なお、この退避動作の実施契機としては、処理液塗布装置の電源ＯＦＦ時や電源ＯＮ中であってもウェブＷの掛け替えや印刷パターンの変更など、通常のジョブ間よりも長い時間、塗布動作が停止しているときに実施することで、ジョブ間での退避動作を防止し、退避動作を実施した後のジョブ再開時に供給パン２３，２４に処理液２２を充填する待ち時間が極力発生しないようにしている。   In addition, as a trigger for performing the retreat operation, even when the processing liquid coating apparatus is turned off or while the power is on, the coating operation is performed for a longer time than between normal jobs, such as changing the web W or changing the printing pattern. By carrying out the operation while it is stopped, the save operation between jobs is prevented, and the waiting time for filling the supply liquids 23 and 24 with the processing liquid 22 is prevented as much as possible when the job is resumed after executing the save operation. I have to.

前記ラインａ〜ｆはチューブで構成されており、処理液塗布装置の電源ＯＮ時は、退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内は処理液２２が抜けており、空気が入っている状態となっている。それぞれの供給パン２３，２４に処理液２２の充填を行い、供給パン２３，２４内の処理液２２の液面が既定レベル以上になった後、上位装置（図示せず）より塗布開始信号を受信する。   The lines a to f are constituted by tubes, and when the processing liquid coating apparatus is powered on, the processing liquid 22 is removed from the tubes of the evacuation / circulation lines c and d so that air is contained. ing. After the supply liquids 23 and 24 are filled with the treatment liquid 22 and the liquid level of the treatment liquid 22 in the supply pans 23 and 24 becomes equal to or higher than a predetermined level, a coating start signal is sent from a host device (not shown). Receive.

図３に示すように、供給パン２３，２４の側面には、処理液２２の液面を検出するためのＬＯＷレベル液面センサ４２とＨＩＧＨレベル液面センサ４３がそれぞれ設置されている。ＬＯＷレベル液面センサ４２は、塗布中に供給パン２３，２４内の処理液２２が減少してきた場合に、処理液２２の補充を実施するか否かを判断するためのセンサである。またＨＩＧＨレベル液面センサ４３は、供給パン２３，２４内の処理液２２の充填、補充を完了するか否かを判断するためのセンサである。   As shown in FIG. 3, a LOW level liquid level sensor 42 and a HIGH level liquid level sensor 43 for detecting the liquid level of the processing liquid 22 are installed on the side surfaces of the supply pans 23 and 24, respectively. The LOW level liquid level sensor 42 is a sensor for determining whether or not the replenishment of the processing liquid 22 is performed when the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 decreases during application. The HIGH level liquid level sensor 43 is a sensor for determining whether or not the filling and replenishment of the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 is completed.

前記塗布開始信号に基づいて処理液２２の塗布動作に入り、塗布中の一定時間間隔で退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３５，４０を開放し、電磁弁３９を閉塞することにより、ポンプ２５とフィルタ３２を繋ぐ戻しラインｅを開通させる。そしてポンプ２５を一定時間駆動することにより、ポンプ２５の動力で、それぞれの供給パン２３，２４内の処理液２２が退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内に強制的に送給され、以後、処理液２２はフィルタ３２を通過することにより、処理液２２中の異物除去が行われたのち、戻しラインｅ、供給ラインａおよび供給ラインｂによりそれぞれの供給パン２３，２４内に処理液２２を戻す循環動作を実施する。   By entering the coating operation of the treatment liquid 22 based on the coating start signal, by opening the solenoid valves 35 and 40 on the retreat / circulation lines c and d at regular intervals during coating and closing the solenoid valve 39, A return line e connecting the pump 25 and the filter 32 is opened. Then, by driving the pump 25 for a certain time, the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 is forcibly fed into the tubes of the retraction / circulation lines c and d by the power of the pump 25, and thereafter After the processing liquid 22 passes through the filter 32 to remove foreign matter in the processing liquid 22, the processing liquid 22 is put into the supply pans 23 and 24 by the return line e, the supply line a, and the supply line b. Execute the return circulation operation.

図３中の符号３８は、フィルタ室４１に接続されている液補充ラインｇ上に設置されているポンプで、このポンプ３８はフィルタ室４１内の処理液２２の液面レベルが規定値より下がった場合に、フィルタ室４１内の処理液２２の液面を規定値レベルまでに上げるために、処理液２２を強制的に補充するポンプである。フィルタ室４１内の処理液２２の液面レベルが規定値にないと、供給パン２３，２４内の処理液２２がスムーズにフィルタ室４１内に引き込めず、処理液２２の循環動作が円滑に行われなくなる。   Reference numeral 38 in FIG. 3 is a pump installed on a liquid replenishment line g connected to the filter chamber 41. This pump 38 lowers the liquid level of the processing liquid 22 in the filter chamber 41 from a specified value. In this case, the pump 22 is forcibly replenished with the processing liquid 22 in order to raise the liquid level of the processing liquid 22 in the filter chamber 41 to a specified value level. If the liquid level of the processing liquid 22 in the filter chamber 41 is not a specified value, the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 cannot be drawn into the filter chamber 41 smoothly, and the circulation operation of the processing liquid 22 is smooth. No longer done.

図４は、本発明の第１実施例に係る処理液塗布装置の制御部４４とそれに関係する各部材の接続関係を示すブロック図である。
同図に示すように制御部４４内には、後述する充填実施済み情報などの情報を格納するメモリ４５、後述する時間Ｔ１や時間Ｔ２を計測するタイマ４６などが設けられている。
制御部４４の入力段には、ＬＯＷレベル液面センサ４２、ＨＩＧＨレベル液面センサ４３、第２実施例の液体センサ４７などの検出信号、ならびに塗布モード情報４８や印刷情報４９が入力される。
また、制御部４４の出力段からは、ポンプ２５ならびに各電磁弁２７，２８，３０，３４，３５，３９，４０に対して制御信号が出力される。 FIG. 4 is a block diagram showing the connection relationship between the control unit 44 of the processing liquid coating apparatus and the related members according to the first embodiment of the present invention.
As shown in the figure, the control unit 44 is provided with a memory 45 for storing information such as filling information to be described later, a timer 46 for measuring time T1 and time T2 to be described later, and the like.
Detection signals from the LOW level liquid level sensor 42, the HIGH level liquid level sensor 43, the liquid sensor 47 of the second embodiment, the application mode information 48, and the printing information 49 are input to the input stage of the control unit 44.
A control signal is output from the output stage of the control unit 44 to the pump 25 and the electromagnetic valves 27, 28, 30, 34, 35, 39, and 40.

図５は、本発明の第１実施例に係る動作シーケンスを示す制御フローチャートである。
Ｓ１：供給パン２３，２４に処理液２２を充填するか否かを判断する。処理液２２の充填は、処理液塗布装置の電源ＯＮ時、または供給パン２３，２４内に充填した処理液２２をリザーブタンク２１に退避後に塗布動作を開始する場合に充填を実施する。
Ｓ２：リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がある場合には、リザーブタンク２１内の処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がない場合には、カートリッジ２６内の処理液２２を充填する。 FIG. 5 is a control flowchart showing an operation sequence according to the first embodiment of the present invention.
S1: It is determined whether or not the supply pans 23 and 24 are filled with the processing liquid 22. The processing liquid 22 is filled when the processing liquid coating apparatus is turned on or when the coating operation is started after the processing liquid 22 filled in the supply pans 23 and 24 is evacuated to the reserve tank 21.
S2: The processing liquid 22 is filled into the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24 from the reserve tank 21 or the cartridge 26. When the processing liquid 22 is present in the reserve tank 21, the processing liquid 22 in the reserve tank 21 is filled. When there is no processing liquid 22 in the reserve tank 21, the processing liquid 22 in the cartridge 26 is filled.

Ｓ３：退避ラインへの充填が実施済みかどうかを判断する。メモリ４５（図４参照）に格納された情報により、退避ラインへの充填が実施されたか否かを判断し、実施済みの情報が格納されていれていなければ次のＳ４に移る。
Ｓ４：退避ラインへの充填契機かどうか判断する。充填契機としては、Ｓ２において供給パン２３，２４への充填を開始してから時間Ｔ１経過後とする。時間Ｔ１は、退避／循環ラインｃ，ｄへ充填する分の処理液２２が表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に充填された時間であることが望ましい。 S3: It is determined whether or not filling of the evacuation line has been performed. Based on the information stored in the memory 45 (see FIG. 4), it is determined whether or not filling of the evacuation line has been performed. If the completed information is not stored, the process proceeds to S4.
S4: It is determined whether or not the retreat line is filled. The filling opportunity is after the time T1 has elapsed since the filling of the supply pans 23 and 24 was started in S2. The time T1 is preferably the time when the treatment liquid 22 for filling the retreat / circulation lines c and d is filled in the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24.

また、処理液塗布装置の電源がＯＮした際に、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内の処理液２２の液面位置がＬＯＷレベル液面センサ４２（図３参照）の位置以上にある場合には、時間Ｔ１を待たずに直ちに退避ラインへの充填を開始してもよい。   Further, when the power of the processing liquid coating apparatus is turned on, the liquid level position of the processing liquid 22 in the front surface coating supply pan 23 and the back surface coating supply pan 24 is the position of the LOW level liquid level sensor 42 (see FIG. 3). In the above case, filling of the evacuation line may be started immediately without waiting for the time T1.

Ｓ５：退避ラインへの充填処理を行う。退避ラインへの充填処理における処理液２２の流れについては、後から図６を用いて説明する。
Ｓ６：表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４への処理液２２の充填処理が終了したかどうかを判断する。この判断は、ＨＩＧＨレベル液面センサ４３（図３参照）からの信号に基づいてなされる。 S5: The retreat line is filled. The flow of the processing liquid 22 in the filling process to the retreat line will be described later with reference to FIG.
S6: It is determined whether or not the filling process of the treatment liquid 22 into the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24 is completed. This determination is made based on a signal from the HIGH level liquid level sensor 43 (see FIG. 3).

Ｓ７：上位装置（図示せず）からの印刷情報４９（図４参照）により、処理液２２の塗布処理を行うかどうかを判断する。   S7: It is determined whether or not to apply the treatment liquid 22 based on the print information 49 (see FIG. 4) from the host device (not shown).

Ｓ８：処理液２２の塗布処理を行う。処理液塗布装置は、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４に設置されたＬＯＷレベル液面センサ４２の出力値を読み込み、処理液２２の補充が必要と判断した場合には、リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から供給パン２３，２４に処理液２２の補充を行う。   S8: The treatment liquid 22 is applied. The processing liquid coating apparatus reads the output value of the LOW level liquid level sensor 42 installed in the front surface coating supply pan 23 and the back surface coating supply pan 24 and reserves the processing liquid 22 when it is determined that the processing liquid 22 needs to be replenished. The processing liquid 22 is replenished from the tank 21 or the cartridge 26 to the supply pans 23 and 24.

Ｓ９：供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避させるか否かを判断する。通常は、塗布しない時間が連続で３０分〜２時間程度経過した場合に退避させる。退避しない場合はＳ７に、退避する場合は次のＳ１０へ移る。
Ｓ１０：電磁弁３０，３４を開放して、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４の処理液２２をリザーブタンク２１に退避する。 S9: It is determined whether or not the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 is withdrawn to the reserve tank 21. Usually, it is evacuated when about 30 minutes to 2 hours have elapsed without application. If not saved, the process proceeds to S7, and if saved, the process proceeds to the next S10.
S10: The electromagnetic valves 30 and 34 are opened, and the processing liquid 22 in the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24 is withdrawn to the reserve tank 21.

図６は、退避ラインへの充填処理における処理液２２の流れについて説明するための図であり、同図（ａ）はカートリッジ２６から供給パン２３，２４へ処理液２２を送給する状態、同図（ｂ）は処理液２２の退避／循環の状態を示している。   FIG. 6 is a diagram for explaining the flow of the processing liquid 22 in the filling process to the retreat line. FIG. 6A shows a state in which the processing liquid 22 is supplied from the cartridge 26 to the supply pans 23 and 24. FIG. 2B shows the state of the processing liquid 22 being withdrawn / circulated.

退避ラインへの充填処理は、退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３５，４０を開放し、三方弁からなる電磁弁３９を閉塞することにより、ポンプ２５とフィルタ室４１を繋ぐ戻しラインｅを開通させ、ポンプ２５を一定時間（Ｔ２）駆動する。   The filling process to the evacuation line is performed by opening the electromagnetic valves 35 and 40 on the evacuation / circulation lines c and d and closing the electromagnetic valve 39 composed of a three-way valve, thereby returning the pump 25 and the filter chamber 41 to the return line e. Is opened, and the pump 25 is driven for a certain time (T2).

このポンプ２５の駆動（吸引）により、戻しラインｅならびにフィルタ室４１の空気が吸われて、フィルタ室４１が負圧になり、同図（ｂ）に示すように、フィルタ室４１内に処理液２２を引き込む力が作用し、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内の処理液２２が退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内に強制的に送給、充填され、一部はフィルタ３２を設置しているフィルタ室４１内に入る。
ポンプ２５の駆動時間Ｔ２は、ポンプ２５の駆動により退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内に処理液２２が充填できる時間でよい。 By driving (suctioning) the pump 25, the air in the return line e and the filter chamber 41 is sucked, and the filter chamber 41 becomes negative pressure. As shown in FIG. The force of pulling in 22 acts, and the treatment liquid 22 in the supply pan 23 for front surface application and the supply pan 24 for back surface application is forcibly fed and filled into the tubes of the retreat / circulation lines c and d. It enters the filter chamber 41 in which the filter 32 is installed.
The driving time T2 of the pump 25 may be a time during which the processing liquid 22 can be filled into the tubes of the retreat / circulation lines c and d by driving the pump 25.

画像形成システムではジョブに応じてウェブＷに対する処理液２２の塗布面をオペレータが選択することができ、選択された情報が上位装置やインクジェットプリンタから本実施例に係る処理液塗布装置に、塗布モード情報４８として送信される。この情報により、ウェブＷの表面のみに処理液２２を塗布するモードの場合は、電磁弁３５のみを開放し、表面塗布用供給パン２３に接続されている退避／循環ラインｃのチューブのみに処理液２２を充填する。また、ウェブＷの裏面のみに処理液２２を塗布するモードの場合は、電磁弁４０のみを開放し、裏面塗布用供給パン２４に接続されている退避／循環ラインｄのチューブのみに処理液２２を充填する。   In the image forming system, the operator can select the application surface of the treatment liquid 22 on the web W according to the job, and the selected information is transferred from the host device or the inkjet printer to the treatment liquid application apparatus according to the present embodiment. Information 48 is transmitted. With this information, in the mode in which the treatment liquid 22 is applied only to the surface of the web W, only the solenoid valve 35 is opened, and the treatment is performed only on the tube of the retraction / circulation line c connected to the surface application supply pan 23. Fill with liquid 22. Further, in the mode in which the treatment liquid 22 is applied only to the back surface of the web W, only the electromagnetic valve 40 is opened, and the treatment liquid 22 is applied only to the tube of the retraction / circulation line d connected to the back surface application supply pan 24. Fill.

このようにすれば、片方の退避／循環ラインｃあるいはｄのみ充填を行えばよく、ポンプ２５の駆動により退避／循環ラインｃあるいはｄに流れる処理液２２の流速が２倍になるため、ポンプ２５の駆動時間Ｔ２を１／２に抑えることができ、充填時間の短縮が図れる。
この処理液２２の充填処理が完了すると、退避／循環ラインへの充填済み情報を前記メモリ４５に格納する。
If so this may be performed fill only save / circulating line c or d of one, the flow velocity of the treatment liquid 22 flowing in the save / circulation line c or d by driving the pump 25 is doubled, the pump The driving time T2 of 25 can be reduced to ½, and the filling time can be shortened.
When the filling process of the treatment liquid 22 is completed, information on filling of the save / circulation line is stored in the memory 45.

この図６において、（ａ）から（ｂ）の切り替えは、供給パン２３，２４のＬＯＷレベル液面センサ４２が検出信号を出力してから、あるいは充填時間からＴ１時間経過後に行われる。また、（ｂ）から（ａ）の切り替えは、退避ラインへの充填開始からＴ１時間経過後に行われる。   In FIG. 6, switching from (a) to (b) is performed after the LOW level liquid level sensor 42 of the supply pans 23 and 24 outputs a detection signal or after a lapse of T1 time from the filling time. Further, switching from (b) to (a) is performed after T1 time has elapsed from the start of filling the evacuation line.

図７は、本発明の第２実施例に係る処理液２２の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。   FIG. 7 is a system diagram for explaining a system for retracting / circulating / filling the processing liquid 22 according to the second embodiment of the present invention.

この循環系統において、図３に示す第１実施例に係る処理液２２の退避／循環・充填系統と相違する点は、退避／循環ラインｃ，ｄ内に液検出センサ４７，４７をそれぞれ設けて、処理液塗布装置の電源ＯＮ時はまず、液検出センサ４７，４７の出力値を読み込み、処理液なしを検出した場合のみ、供給パンへの充填動作中に退避／循環ラインｃあるいは（および）ｄへの処理液２２の充填を行うようにした点である。
この液検出センサ４７は、チューブ内に２本の電極ピンを差し込んで、チューブ内が処理液２２で満たされておれば電極ピン間が導電し、チューブ内に処理液２２有りを検出するようになっている。 This circulating system is different from the system for retracting / circulating / filling the processing liquid 22 according to the first embodiment shown in FIG. 3 in that liquid detecting sensors 47, 47 are provided in the retracting / circulating lines c, d, respectively. When the processing liquid coating apparatus is turned on, first, the output values of the liquid detection sensors 47 and 47 are read, and only when no processing liquid is detected, the retraction / circulation line c or (and) during the filling operation to the supply pan. This is the point that the treatment liquid 22 is filled into d.
This liquid detection sensor 47 inserts two electrode pins into the tube. If the tube is filled with the processing liquid 22, the electrode pins conduct electricity and detect the presence of the processing liquid 22 in the tube. It has become.

この第２実施例に係る処理液塗布装置の制御部４４（図４参照）には、液検出センサ４７からの検出信号も入力されるようになっている（点線で表示）。   A detection signal from the liquid detection sensor 47 is also input to the control unit 44 (see FIG. 4) of the treatment liquid coating apparatus according to the second embodiment (indicated by a dotted line).

図８は、本発明の第２実施例に係る動作シーケンスを示す制御フローチャートである。
Ｓ１１：供給パン２３，２４に処理液２２を充填するか否かを判断する。処理液２２の充填は、処理液塗布装置の電源ＯＮ時、または供給パン２３，２４内に充填した処理液２２をリザーブタンク２１に退避後に塗布動作を開始する場合に充填を実施する。
Ｓ１２：リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がある場合には、リザーブタンク２１内の処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がない場合には、カートリッジ２６内の処理液２２を充填する。 FIG. 8 is a control flowchart showing an operation sequence according to the second embodiment of the present invention.
S11: It is determined whether or not the supply pans 23 and 24 are filled with the processing liquid 22. The processing liquid 22 is filled when the processing liquid coating apparatus is turned on or when the coating operation is started after the processing liquid 22 filled in the supply pans 23 and 24 is evacuated to the reserve tank 21.
S12: The processing liquid 22 is filled into the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24 from the reserve tank 21 or the cartridge 26. When the processing liquid 22 is present in the reserve tank 21, the processing liquid 22 in the reserve tank 21 is filled. When there is no processing liquid 22 in the reserve tank 21, the processing liquid 22 in the cartridge 26 is filled.

Ｓ１３：退避ラインｃ，ｄ内に設置された液検出センサ４７の出力値を読み込み、退避ラインｃ，ｄへの充填が必要かどうかを判断する。退避ラインｃ，ｄ内に設置された両方の液検出センサ４７の出力値が処理液２２なしを検知している場合にのみ、退避ラインｃ，ｄへの充填を実施する。これにより、処理液塗布装置の電源ＯＮ時に毎回退避ラインｃ，ｄへの充填を繰り返す必要がなく、必要なときのみ実施することにより、供給パン２３，２４への充填時間が不必要に増加することが防止できる。
Ｓ１４：退避ラインｃ，ｄへの充填契機かどうか判断する。充填契機としては、Ｓ１２において供給パン２３，２４への充填を開始してから時間Ｔ１経過後とする。時間Ｔ１は、退避／循環ラインｃ，ｄへ充填する分の処理液２２が表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に充填された時間であることが望ましい。 S13: The output value of the liquid detection sensor 47 installed in the evacuation lines c and d is read, and it is determined whether or not the evacuation lines c and d need to be filled. Filling the retreat lines c and d is performed only when the output values of both liquid detection sensors 47 installed in the retreat lines c and d detect that the processing liquid 22 is absent. Thereby, it is not necessary to repeatedly fill the evacuation lines c and d every time the processing liquid coating apparatus is turned on, and the filling time for the supply pans 23 and 24 is unnecessarily increased by performing only when necessary. Can be prevented.
S14: It is determined whether or not the retreat lines c and d are filled. The filling opportunity is after the time T1 has elapsed since the filling of the supply pans 23 and 24 was started in S12. The time T1 is preferably the time when the treatment liquid 22 for filling the retreat / circulation lines c and d is filled in the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24.

また、処理液塗布装置の電源がＯＮした際に、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内の処理液２２の液面位置がＬＯＷレベル液面センサ４２の位置以上である場合には、時間Ｔ１を待たずに直ちに退避ラインｃ，ｄへの充填を開始してもよい。   In addition, when the processing liquid coating apparatus is powered on, the liquid level position of the processing liquid 22 in the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24 is equal to or higher than the position of the LOW level liquid level sensor 42. May start filling the evacuation lines c and d immediately without waiting for the time T1.

Ｓ１５：退避ラインｃ，ｄへの充填処理を行う。退避ラインｃ，ｄへの充填処理における処理液２２の流れは図６に示した通りである。
Ｓ１６：表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４への処理液２２の充填処理が終了したかどうかを判断する。
Ｓ１７：上位装置（図示せず）からの印刷情報４９により、処理液２２の塗布処理を行うかどうかを判断する。 S15: The retreat lines c and d are filled. The flow of the processing liquid 22 in the filling process to the evacuation lines c and d is as shown in FIG.
S16: It is determined whether or not the filling process of the treatment liquid 22 into the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24 is completed.
S17: It is determined whether or not to apply the treatment liquid 22 based on the print information 49 from the host device (not shown).

Ｓ１８：処理液２２の塗布処理を行う。処理液塗布装置は、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４に設置されたＬＯＷレベル液面検出センサ４２の出力値を読み込み、処理液２２の補充が必要と判断した場合には、リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から供給パン２３，２４に処理液２２の補充を行う。   S18: The treatment liquid 22 is applied. When the processing liquid coating apparatus reads the output values of the LOW level liquid level detection sensors 42 installed in the front surface coating supply pan 23 and the back surface coating supply pan 24 and determines that the processing liquid 22 needs to be replenished, The processing liquid 22 is replenished to the supply pans 23 and 24 from the reserve tank 21 or the cartridge 26.

Ｓ１９：供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避させるか否かを判断する。通常は、塗布しない時間が連続で３０分〜２時間程度経過した場合に退避させる。退避しない場合はＳ１７に、退避する場合は次のＳ２０へ移る。
Ｓ２０：電磁弁３０，３４を開放して、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４の処理液２２をリザーブタンク２１に退避する。 S19: It is determined whether or not the processing liquid 22 in the supply pans 23 and 24 is withdrawn to the reserve tank 21. Usually, it is evacuated when about 30 minutes to 2 hours have elapsed without application. If not saved, the process proceeds to S17, and if saved, the process proceeds to the next S20.
S20: The electromagnetic valves 30 and 34 are opened, and the processing liquid 22 in the front coating supply pan 23 and the back coating supply pan 24 is retracted to the reserve tank 21.

１３ｆ：表面塗布手段、
１３ｒ：裏面塗布手段、
２１：サブタンク、
２３：表面塗布用供給パット、
２４：裏面塗布用供給パット、
２５：ポンプ、
２６：処理液カートリッジ、
２７，２８，３０，３４，３５，３９，４０：電磁弁、
３２：フィルタ、
４１：フィルタ室、
４２：ＬＯＷレベル液面センサ、
４３：ＨＩＧＨレベル液面センサ、
４４：制御部、
４５：メモリ、
４６：タイマ、
４７：液検出センサ、
４８：塗布モード情報、
４９：印刷情報、
１０１：処理液塗布装置、
１０２：インクジェットプリンタ、
ａ：表面塗布用供給ライン、
ｂ：裏面塗布用供給ライン、
ｃ：表面塗布用退避／循環ライン、
ｄ：裏面塗布用退避／循環ライン、
ｅ：戻しライン、
Ｗ：ウェブ。 13f: surface coating means,
13r: backside coating means,
21: Sub tank,
23: Supply pad for surface coating,
24: Supply pad for backside application,
25: Pump,
26: treatment liquid cartridge,
27, 28, 30, 34, 35, 39, 40: solenoid valve,
32: Filter,
41: filter chamber,
42: LOW level liquid level sensor,
43: HIGH level liquid level sensor,
44: control unit,
45: Memory,
46: Timer,
47: Liquid detection sensor
48: Application mode information
49: Print information,
101: Treatment liquid coating apparatus,
102: Inkjet printer,
a: Supply line for surface coating,
b: Supply line for backside application,
c: Retraction / circulation line for surface coating,
d: Retraction / circulation line for backside application,
e: return line,
W: Web.

特開２００７−５０３１５号公報JP 2007-50315 A

Claims (5)

被記録媒体の表面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する表面塗布用供給パンと、
被記録媒体の裏面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する裏面塗布用供給パンと、
前記処理液を貯留する処理液カートリッジと、
前記処理液カートリッジに貯留されている前記処理液を前記各供給パンにそれぞれ供給する供給ラインと、
前記各供給パンよりも気密性の高いリザーブタンクと、
前記処理液中に含まれている異物を除去するフィルタを内蔵したフィルタ室と、
前記表面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する表面塗布用退避／循環ラインと、
前記裏面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する裏面塗布用退避／循環ラインと、
前記フィルタ室から前記供給ラインの途中に接続されて、前記フィルタで異物が除去された処理液を前記各供給パンに戻す戻しラインと、
前記各ラインにおいて処理液の流れを発生させる液流れ発生手段と、
前記処理液が流れるラインを切り替えるために前記各ライン上に設置された複数の弁と、
電源ＯＮ時の前記各供給パン内に処理液を充填する過程で、前記表面塗布用退避／循環ラインと前記裏面塗布用退避／循環ラインの少なくとも一方に処理液を充填するために前記液流れ発生手段ならびに前記弁を操作する制御手段と
を備え、
前記制御手段に入力される塗布モード情報により、前記表面塗布用退避／循環ラインと前記裏面塗布用退避／循環ラインのうち、前記処理液の塗布に使用する供給パンの退避／循環ライン内のみに処理液を充填する構成になっていることを特徴とする処理液塗布装置。 A surface application supply pan for storing the treatment liquid in order to apply the treatment liquid to the surface of the recording medium;
A supply pan for backside application that stores the processing liquid in order to apply the processing liquid to the backside of the recording medium;
A treatment liquid cartridge for storing the treatment liquid;
A supply line for supplying the processing liquid stored in the processing liquid cartridge to each of the supply pans;
A reserve tank that is more airtight than the supply pans;
A filter chamber having a built-in filter for removing foreign substances contained in the pre-Symbol treatment liquid,
A retreat / circulation line for surface application communicating with the supply pan for surface application, the reserve tank and the filter chamber;
A back coating retreat / circulation line communicating the back coating supply pan, the reserve tank and the filter chamber;
A return line connected to the supply line from the filter chamber and returning the processing liquid from which foreign matters have been removed by the filter to the supply pans;
A liquid flow generating means for generating a flow of processing liquid in each of the lines;
A plurality of valves installed on each line to switch the line through which the processing liquid flows;
The liquid flow to the process, to fill the treatment liquid to at least one of said surface coating for saving / circulation line the back coating for saving / circulation line for filling the processing liquid within the each feed pan at power ON Generating means and control means for operating the valve ,
According to the coating mode information input to the control means, only in the retraction / circulation line of the supply pan used for coating the processing liquid, out of the retreat / circulation line for front surface application and the retreat / circulation line for back surface application. A treatment liquid coating apparatus characterized by being configured to be filled with a treatment liquid. 被記録媒体の表面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する表面塗布用供給パンと、
被記録媒体の裏面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する裏面塗布用供給パンと、
前記処理液を貯留する処理液カートリッジと、
前記処理液カートリッジに貯留されている前記処理液を前記各供給パンにそれぞれ供給する供給ラインと、
前記各供給パンよりも気密性の高いリザーブタンクと、
前記処理液中に含まれている異物を除去するフィルタを内蔵したフィルタ室と、
前記表面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する表面塗布用退避／循環ラインと、
前記裏面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する裏面塗布用退避／循環ラインと、
前記フィルタ室から前記供給ラインの途中に接続されて、前記フィルタで異物が除去された処理液を前記各供給パンに戻す戻しラインと、
前記各ラインにおいて処理液の流れを発生させる液流れ発生手段と、
前記処理液が流れるラインを切り替えるために前記各ライン上に設置された複数の弁と、
電源ＯＮ時の前記各供給パン内に処理液を充填する過程で、前記表面塗布用退避／循環ラインと前記裏面塗布用退避／循環ラインの少なくとも一方に処理液を充填するために前記液流れ発生手段ならびに前記弁を操作する制御手段と
を備え、
前記制御手段によって前記表面塗布用退避／循環ラインと前記裏面塗布用退避／循環ラインの少なくとも一方に処理液を充填する契機は、前記表面塗布用退避／循環ラインと前記裏面塗布用退避／循環ラインのそれぞれに接続されている前記供給パン内の処理液量が当該表面塗布用退避／循環ライン内または当該裏面塗布用退避／循環ライン内の処理液の容量以上格納された場合であることを特徴とする処理液塗布装置。 A surface application supply pan for storing the treatment liquid in order to apply the treatment liquid to the surface of the recording medium;
A supply pan for backside application that stores the processing liquid in order to apply the processing liquid to the backside of the recording medium;
A treatment liquid cartridge for storing the treatment liquid;
A supply line for supplying the processing liquid stored in the processing liquid cartridge to each of the supply pans;
A reserve tank that is more airtight than the supply pans;
A filter chamber containing a filter for removing foreign substances contained in the processing liquid;
A retreat / circulation line for surface application communicating with the supply pan for surface application, the reserve tank and the filter chamber;
A back coating retreat / circulation line communicating the back coating supply pan, the reserve tank and the filter chamber;
A return line connected to the supply line from the filter chamber and returning the processing liquid from which foreign matters have been removed by the filter to the supply pans;
A liquid flow generating means for generating a flow of processing liquid in each of the lines;
A plurality of valves installed on each line to switch the line through which the processing liquid flows;
In the process of filling each supply pan with the processing liquid when the power is turned on, the liquid flow is generated in order to fill the processing liquid into at least one of the front surface application retract / circulation line and the back surface application retract / circulation line. Means and control means for operating the valve;
With
The control means fills at least one of the front surface application retreat / circulation line and the back surface application retreat / circulation line with the treatment liquid by using the front surface application retreat / circulation line and the back surface application retraction / circulation line. characterized in that the a case where the processing solution volume in the feed pan being connected is stored above the volume of the processing liquid of the surface coating evacuation / circulation line or in the back surface coating for saving / circulation lines respectively A processing liquid coating apparatus. 被記録媒体の表面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する表面塗布用供給パンと、
被記録媒体の裏面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する裏面塗布用供給パンと、
前記処理液を貯留する処理液カートリッジと、
前記処理液カートリッジに貯留されている前記処理液を前記各供給パンにそれぞれ供給する供給ラインと、
前記各供給パンよりも気密性の高いリザーブタンクと、
前記処理液中に含まれている異物を除去するフィルタを内蔵したフィルタ室と、
前記表面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する表面塗布用退避／循環ラインと、
前記裏面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する裏面塗布用退避／循環ラインと、
前記フィルタ室から前記供給ラインの途中に接続されて、前記フィルタで異物が除去された処理液を前記各供給パンに戻す戻しラインと、
前記各ラインにおいて処理液の流れを発生させる液流れ発生手段と、
前記処理液が流れるラインを切り替えるために前記各ライン上に設置された複数の弁と、
電源ＯＮ時の前記各供給パン内に処理液を充填する過程で、前記表面塗布用退避／循環ラインと前記裏面塗布用退避／循環ラインの少なくとも一方に処理液を充填するために前記液流れ発生手段ならびに前記弁を操作する制御手段と
を備え、
前記制御手段によって前記表面塗布用退避／循環ラインと前記裏面塗布用退避／循環ラインの少なくとも一方への処理液の充填を終了する契機は、前記液流れ発生手段により当該表面塗布用退避／循環ライン内または当該裏面塗布用退避／循環ライン内に処理液量が充填できる時間経過後であることを特徴とする処理液塗布装置。 A surface application supply pan for storing the treatment liquid in order to apply the treatment liquid to the surface of the recording medium;
A supply pan for backside application that stores the processing liquid in order to apply the processing liquid to the backside of the recording medium;
A treatment liquid cartridge for storing the treatment liquid;
A supply line for supplying the processing liquid stored in the processing liquid cartridge to each of the supply pans;
A reserve tank that is more airtight than the supply pans;
A filter chamber containing a filter for removing foreign substances contained in the processing liquid;
A retreat / circulation line for surface application communicating with the supply pan for surface application, the reserve tank and the filter chamber;
A back coating retreat / circulation line communicating the back coating supply pan, the reserve tank and the filter chamber;
A return line connected to the supply line from the filter chamber and returning the processing liquid from which foreign matters have been removed by the filter to the supply pans;
A liquid flow generating means for generating a flow of processing liquid in each of the lines;
A plurality of valves installed on each line to switch the line through which the processing liquid flows;
In the process of filling each supply pan with the processing liquid when the power is turned on, the liquid flow is generated in order to fill the processing liquid into at least one of the front surface application retract / circulation line and the back surface application retract / circulation line. Means and control means for operating the valve;
With
When the control means finishes filling the processing liquid into at least one of the front surface application retract / circulation line and the back surface application retract / circulation line , the liquid flow generating means causes the surface application retract / circulation line to end. treatment liquid application device of the processing liquid volume in the inner or the backcoating for saving / circulation line is characterized in that after the elapsed time that can be filled. 請求項３に記載の処理液塗布装置において、
前記表面塗布用退避／循環ラインと裏面塗布用退避／循環ラインに、ライン内の処理液の有無を検出する液検出センサをそれぞれ設け、
前記液検出センサによりライン内に処理液がないことを検出すると、当該表面塗布用退避／循環ライン内または当該裏面塗布用退避／循環ライン内に処理液を充填する構成になっていることを特徴とする処理液塗布装置。 In the processing liquid coating apparatus according to claim 3 ,
A liquid detection sensor for detecting the presence or absence of a processing liquid in the line is provided in each of the surface application retreat / circulation line and the back surface application retraction / circulation line,
When it is detected by the liquid detection sensor that no processing liquid is present in the line, the processing liquid is filled in the surface application retreat / circulation line or the back surface application retraction / circulation line. A processing liquid coating apparatus. インクジェットプリンタの被記録媒体搬送方向上流側に処理液塗布装置を備えた画像形成システムにおいて、
前記処理液塗布装置が請求項１ないし４のいずれか１項に記載の処理液塗布装置であることを特徴とする画像形成システム。 In an image forming system provided with a treatment liquid coating device on the upstream side in the recording medium conveyance direction of an inkjet printer,
Image forming system, wherein the processing liquid coating device is a treatment liquid application device according to any one of claims 1 to 4.
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