JP6071937B2 - Solar cell back surface protection sheet and solar cell module - Google Patents

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Description

本発明は、太陽電池用裏面保護シート及び太陽電池モジュールに関する。   The present invention relates to a solar cell back surface protective sheet and a solar cell module.

近年、石油や石炭等の化石燃料の代替エネルギーとして、原子力発電、水力発電、風力発電、太陽光発電などの種々の方法が検討されており、太陽光エネルギーを電気エネルギーに直接変換する太陽光発電は、クリーンなエネルギー源として期待されている。   In recent years, various methods such as nuclear power generation, hydroelectric power generation, wind power generation, and solar power generation have been studied as alternative energy for fossil fuels such as oil and coal, and solar power generation that directly converts solar energy into electric energy. Is expected as a clean energy source.

この太陽光発電には、太陽電池素子を封止材で封止し、封止された太陽電池素子を、太陽光が入射する側に配置されるガラス等の表面保護材と、裏面側に配置される裏面保護材と、で挟んだ構造を有する太陽電池モジュールが用いられている。そして最近では、モジュールを構成する裏面保護材には、ポリエステルシートなどの樹脂製シートが適用されている。   In this solar power generation, a solar cell element is sealed with a sealing material, and the sealed solar cell element is disposed on the back surface side with a surface protective material such as glass disposed on the side on which sunlight is incident. A solar cell module having a structure sandwiched between back surface protection materials to be used is used. Recently, a resin sheet such as a polyester sheet has been applied to the back surface protective material constituting the module.

太陽電池モジュールは、一般に屋外に設置されて数十年にも及ぶ長期にわたり継続的に使用されるため、発電性能を安定的に維持するには、裏面保護材においても、高度な耐久性が求められる。耐久性としては、太陽光に曝された場合の紫外光耐性や耐熱性などのほか、砂や塵などが風と共に舞って衝突することで引き起こされる傷などに対する耐性も重要である。保護材に傷が付くと、傷のある部分を起点に劣化が促進されやすくなる傾向がある。   Since solar cell modules are generally installed outdoors and used continuously for a long period of several decades, a high level of durability is also required for the back surface protection material in order to stably maintain power generation performance. It is done. In terms of durability, in addition to ultraviolet light resistance and heat resistance when exposed to sunlight, resistance to scratches caused by sand and dust flying and colliding with the wind is also important. When the protective material is scratched, deterioration tends to be facilitated starting from the scratched portion.

裏面保護材としては、基材であるポリエチレンテレフタレートフィルムの、一方面に白色ポリエチレンフィルムを、他方面に樹脂、所定量の導電材料、及び着色顔料を含有する樹脂層を、それぞれ積層した太陽電池裏面封止シートが開示されている(例えば、特許文献1参照)。また、裏面保護材の他の例として、ポリエステル基材に、最外層として酸化チタンと樹脂を含む遮光層を有する太陽電池モジュール用バックシートや、樹脂組成物が架橋硬化された保護層、ポリウレタン樹脂に酸化チタン等の顔料が分散されたプライマー層、ポリエステル系樹脂層、及び基材が積層された太陽電池モジュール用裏面保護シート、基材上に樹脂や白色顔料を含む硬化された白色層を有する太陽電池用バックシートが開示されている(例えば、特許文献2〜4参照)。   As a back surface protective material, a back surface of a solar cell in which a polyethylene terephthalate film as a base material is laminated with a white polyethylene film on one side and a resin layer containing a resin, a predetermined amount of a conductive material, and a color pigment on the other side. A sealing sheet is disclosed (see, for example, Patent Document 1). Further, as other examples of the back surface protective material, a back sheet for a solar cell module having a light shielding layer containing titanium oxide and a resin as an outermost layer on a polyester base material, a protective layer obtained by crosslinking and curing a resin composition, a polyurethane resin A primer layer in which a pigment such as titanium oxide is dispersed, a polyester resin layer, and a back surface protection sheet for a solar cell module in which a base material is laminated, and a hardened white layer containing a resin and a white pigment on the base material. A solar cell backsheet is disclosed (see, for example, Patent Documents 2 to 4).

国際公開第2011/068067号パンフレットInternational Publication No. 2011/066807 Pamphlet 特開2011−210835号公報JP 2011-210835 A 特開2011−77320号公報JP 2011-77320 A 特開2013−65803号公報JP 2013-65803 A

しかしながら、従来より知られている裏面保護材は、砂や塵などの衝突に対する耐性としては、環境を問わず充分な特性を満たしているとは必ずしも言い難い。外的応力の影響を従来以上に抑えてより安定した発電性能を確保するには、砂塵等に対する耐性改善が求められる。   However, it is difficult to say that a conventionally known back surface protection material satisfies sufficient characteristics regardless of the environment as a resistance against a collision of sand, dust, and the like. In order to secure the more stable power generation performance by suppressing the influence of external stress more than before, it is required to improve the resistance against dust and the like.

本発明は、上記に鑑みなされたものであり、砂塵等の衝突に対して優れた耐砂性を有するとともに割れが生じにくい太陽電池用裏面保護シート、及び長期に亘り安定的な発電性能が得られる太陽電池モジュールを提供することを目的とし、この目的を達成することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above, and has a back surface protection sheet for solar cells that has excellent sand resistance against collisions with dust and the like and is less prone to cracking, and stable power generation performance over a long period of time. It aims at providing the solar cell module which can be obtained, and makes it a subject to achieve this objective.

上記の課題を達成するための具体的手段は、以下の通りである。
<1> ポリオレフィン樹脂及び着色顔料を含む第一の層と、基材と、(メタ)アクリレート樹脂を含むバインダー及び紫外線吸収顔料を含む第二の層と、をこの順に有し、基材の第二の層側における最表面のビッカース硬度が、5.0×10Pa以上1.0×1011Pa以下である太陽電池用裏面保護シートである。
<2> 最表面を有する第二の層又は第三の層は、更に、Si、Al、及びZrから選ばれる元素を有する無機酸化物粒子を含む<1>に記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<3> 無機酸化物粒子の、バインダー及び無機酸化物粒子に対する体積比率が、15体積%以上40体積%以下である<2>に記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<4> 無機酸化物粒子のアスペクト比が、300以上800以下である<2>又は<3>に記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<5> 第二の層に含まれる(メタ)アクリレート樹脂が架橋点を有し、(メタ)アクリレート樹脂は架橋剤で架橋されている<1>〜<4>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<6> 第二の層の基材と反対側にバインダーを含む第三の層を有し、最表面は、第三の層の第二の層を有する側と反対側の表面である<1>〜<5>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<7> 第三の層に含まれるバインダーは、アルコキシシランの重合体を含む<6>に記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<8> 第三の層の厚みが、0.5μm以上3μm以下である<6>又は<7>に記載の太陽電池用裏面保護シートである。
Specific means for achieving the above-described problems are as follows.
<1> A first layer containing a polyolefin resin and a color pigment, a base material, a binder containing a (meth) acrylate resin, and a second layer containing an ultraviolet absorbing pigment in this order, It is the back surface protection sheet for solar cells whose Vickers hardness of the outermost surface in the 2nd layer side is 5.0 * 10 < 9 > Pa or more and 1.0 * 10 < 11 > Pa or less.
<2> The back surface protective sheet for solar cell according to <1>, wherein the second layer or the third layer having the outermost surface further includes inorganic oxide particles having an element selected from Si, Al, and Zr. It is.
<3> The back surface protective sheet for solar cells according to <2>, wherein the volume ratio of the inorganic oxide particles to the binder and the inorganic oxide particles is 15% by volume or more and 40% by volume or less.
<4> The solar cell back surface protective sheet according to <2> or <3>, wherein the inorganic oxide particles have an aspect ratio of 300 or more and 800 or less.
<5> The (meth) acrylate resin contained in the second layer has a crosslinking point, and the (meth) acrylate resin is crosslinked with a crosslinking agent according to any one of <1> to <4>. It is a back surface protection sheet for solar cells.
<6> A third layer containing a binder is provided on the side opposite to the base material of the second layer, and the outermost surface is a surface opposite to the side of the third layer having the second layer <1. It is the back surface protection sheet for solar cells as described in any one of>-<5>.
The binder contained in the <7> 3rd layer is a back surface protection sheet for solar cells as described in <6> containing the polymer of an alkoxysilane.
<8> The solar cell back surface protective sheet according to <6> or <7>, wherein the thickness of the third layer is 0.5 μm or more and 3 μm or less.

<9> 第二の層は、上記の(メタ)アクリレート樹脂として、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂を含む<1>〜<8>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<10> 第二の層は、バインダーとして、更に、ポリロタキサンを含む<1>〜<9>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<11> 基材が、紫外線吸収顔料を含む<1>〜<10>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<12> 最表面の表面粗さが、0.01μm以上0.20μm以下である<1>〜<11>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<13> 最表面を含む層は、層中に含まれる紫外線吸収顔料の粒径[μm]の、層厚[μm]に対する比が0.01〜0.15である<1>〜<12>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<14> 最表面の表面比抵抗値が、1.0×1011Ω/□以上1.0×1014Ω/□以下である<1>〜<13>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<15> 最表面の、炭素原子に対するフッ素原子の含有比が、原子比で0.1以上0.7以下である<1>〜<14>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートである。
<16> <1>〜<15>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートを備えた太陽電池モジュールである。
<17> 太陽光が入射する透明性の基材と、基材上に設けられ、太陽電池素子及び太陽電池素子を封止する封止材を有する素子構造部分と、素子構造部分の基材が位置する側と反対側に配置された<1>〜<15>のいずれか1つに記載の太陽電池用裏面保護シートと、を備えた太陽電池モジュールである。
A <9> 2nd layer is a back surface protection sheet for solar cells as described in any one of <1>-<8> containing urethane (meth) acrylate resin as said (meth) acrylate resin.
A <10> 2nd layer is a back surface protection sheet for solar cells as described in any one of <1>-<9> which contains a polyrotaxane further as a binder.
<11> The back surface protective sheet for solar cell according to any one of <1> to <10>, wherein the base material contains an ultraviolet absorbing pigment.
<12> The solar cell back surface protective sheet according to any one of <1> to <11>, wherein the outermost surface has a surface roughness of 0.01 μm or more and 0.20 μm or less.
<13> The layer including the outermost surface has a ratio of the particle size [μm] of the ultraviolet absorbing pigment contained in the layer to the layer thickness [μm] of 0.01 to 0.15 <1> to <12> It is a back surface protection sheet for solar cells as described in any one of these.
<14> The sun according to any one of <1> to <13>, wherein the surface specific resistance value of the outermost surface is 1.0 × 10 11 Ω / □ or more and 1.0 × 10 14 Ω / □ or less. It is a back surface protection sheet for batteries.
<15> The back surface protection for solar cells according to any one of <1> to <14>, wherein the content ratio of fluorine atoms to carbon atoms on the outermost surface is 0.1 or more and 0.7 or less in terms of atomic ratio. It is a sheet.
<16> A solar cell module comprising the solar cell back surface protective sheet according to any one of <1> to <15>.
<17> A transparent base material on which sunlight is incident, an element structure portion provided on the base material and having a solar cell element and a sealing material for sealing the solar cell element, and a base material for the element structure portion. It is a solar cell module provided with the back surface protection sheet for solar cells as described in any one of <1>-<15> arrange | positioned on the opposite side to the located side.

本発明によれば、砂塵等の衝突に対して優れた耐砂性を有するとともに割れが生じにくい太陽電池用裏面保護シートが提供される。また、
本発明によれば、長期に亘り安定的な発電性能が得られる太陽電池モジュールが提供される。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the back surface protection sheet for solar cells which has the outstanding sand resistance with respect to collisions, such as dust, and is hard to produce a crack is provided. Also,
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the solar cell module which can obtain the stable electric power generation performance over a long term is provided.

以下、本発明の太陽電池用裏面保護シート及びこれを備えた太陽電池モジュールについて、詳細に説明する。   Hereinafter, the back surface protection sheet for solar cells of this invention and a solar cell module provided with the same are demonstrated in detail.

本明細書において、(メタ)アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含することを示し、(メタ)アクリルは、アクリル及びメタクリルの両方を包含することを示す。
なお、本明細書において、「〜」の表記を用いた数値範囲は、「〜」の前後に記載された数値をそれぞれ下限値又は上限値として含む範囲を意味する。
In this specification, (meth) acrylate indicates that both acrylate and methacrylate are included, and (meth) acryl indicates that both acrylic and methacryl are included.
In the present specification, a numerical range using the notation “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value or an upper limit value, respectively.

<太陽電池用裏面保護シート>
本発明の太陽電池用裏面保護シートは、少なくとも、ポリオレフィン樹脂及び着色顔料を含む第一の層と、基材と、(メタ)アクリレート樹脂を含むバインダー及び紫外線吸収顔料を含む第二の層と、をこの順に有し、基材の第二の層側における最表面のビッカース硬度を、5.0×10Pa以上1.0×1011Pa以下の範囲として構成されている。
<Back side protection sheet for solar cells>
The back protective sheet for solar cell of the present invention includes at least a first layer containing a polyolefin resin and a color pigment, a base material, a second layer containing a binder containing a (meth) acrylate resin and an ultraviolet absorbing pigment, In this order, and the Vickers hardness of the outermost surface on the second layer side of the substrate is in the range of 5.0 × 10 9 Pa to 1.0 × 10 11 Pa.

本発明においては、太陽電池用裏面保護シートを用いて太陽電池モジュールを作製した場合に、最表面をなす層の表面をただ単に硬くするのではなく、ビッカース硬度を指標とし、ビッカース硬度の値を特定の領域に調節することで、互いに相反する性質である耐砂性の改善と割れの発生防止とをバランスよく成り立たせることができる。
これにより、裏面保護シートに砂が衝突して付く傷等が減り、傷等を起点として促進される耐久性の低下、ひいては太陽電池モジュールの発電性能の低下を防ぐことができる。
In the present invention, when a solar cell module is produced using a back surface protection sheet for solar cells, the surface of the outermost layer is not simply hardened, but Vickers hardness is used as an index, and the value of Vickers hardness is By adjusting to a specific region, it is possible to achieve a good balance between improvement in sand resistance, which is a contradictory property, and prevention of cracking.
Thereby, the damage | wound etc. which sand adheres to a back surface protection sheet reduce, and the fall of durability accelerated | stimulated from a damage | wound etc. can be prevented, and also the fall of the power generation performance of a solar cell module can be prevented.

本発明の太陽電池用裏面保護シートにおいて、基材からみて第二の層を有している側の最表面のビッカース硬度が所定の範囲を満たしていればよい。
したがって、本発明の太陽電池用裏面保護シートが、例えば第一の層、基材、及び第二の層の3つをこの順に積層した態様(以下、第一の態様)である場合、第二の層の表面が最表面となるため、第二の層の表面のビッカース硬度を上記範囲に調節する。
また、本発明の太陽電池用裏面保護シートが、例えば第一の層、基材、第二の層、及び第三の層の4つをこの順に積層した態様(以下、第二の態様)である場合、第三の層の表面が最表面となるため、第三の層の表面のビッカース硬度を上記範囲に調節する。
このように、本発明の太陽電池用裏面保護シートが、第一の層、基材、第二の層、及び第nの層(n≧3)を順次積層した態様である場合、第nの層の表面が最表面となり、第nの層の表面のビッカース硬度を上記範囲に調節すればよい。
In the back surface protection sheet for solar cells of the present invention, it is only necessary that the Vickers hardness on the outermost surface on the side having the second layer as viewed from the substrate satisfies a predetermined range.
Therefore, when the back surface protection sheet for solar cells of the present invention is an aspect in which, for example, the first layer, the base material, and the second layer are laminated in this order (hereinafter referred to as the first aspect), Therefore, the Vickers hardness of the surface of the second layer is adjusted to the above range.
Moreover, the back surface protection sheet for solar cells of this invention is the aspect (henceforth, 2nd aspect) which laminated | stacked four of the 1st layer, the base material, the 2nd layer, and the 3rd layer in this order, for example. In some cases, since the surface of the third layer is the outermost surface, the Vickers hardness of the surface of the third layer is adjusted to the above range.
Thus, when the back surface protection sheet for solar cells of this invention is the aspect which laminated | stacked the 1st layer, the base material, the 2nd layer, and the nth layer (n> = 3) sequentially, nth The surface of the layer may be the outermost surface, and the Vickers hardness of the surface of the nth layer may be adjusted to the above range.

〜最表面のビッカース硬度〜
太陽電池用裏面保護シートは、基材の第二の層を有する側の最表面におけるビッカース硬度を、5.0×10Pa以上1.0×1011Pa以下の範囲とする。すなわち、太陽電池モジュールを作製した場合、太陽電池用裏面保護シートにおいて基材からみた第二の層側が最表面をなすことになり、この最表面のビッカース硬度を所定の範囲に調節することで、砂の衝突に耐える耐性が得られる。
ビッカース硬度が5.0×10Pa以上であると、外力を受けた場合の耐傷性が良好になり、砂が衝突した場合の耐性が向上し、耐久性低下の起点となる傷や凹みが付き難くなる。また、ビッカース硬度が1.0×1011Pa以下であると、硬くなり過ぎず層に割れが発生しにくい。
ビッカース硬度としては、上記と同様の理由から、1.0×1010Pa以上1.0×1011Pa以下が好ましく、5.0×1010Pa以上8.0×1010Pa以下がより好ましい。
~ Vickers hardness of outermost surface ~
The back surface protective sheet for solar cells has a Vickers hardness of 5.0 × 10 9 Pa or more and 1.0 × 10 11 Pa or less on the outermost surface on the side having the second layer of the base material. That is, when producing a solar cell module, the second layer side seen from the substrate in the solar cell back surface protective sheet will be the outermost surface, by adjusting the Vickers hardness of this outermost surface to a predetermined range, It can withstand the impact of sand.
When the Vickers hardness is 5.0 × 10 9 Pa or more, scratch resistance when external force is applied is improved, resistance when sand collides is improved, and scratches and dents that are the starting point of durability decrease It becomes difficult to follow. Further, when the Vickers hardness is 1.0 × 10 11 Pa or less, the layer does not become too hard and cracks are hardly generated in the layer.
The Vickers hardness is preferably 1.0 × 10 10 Pa or more and 1.0 × 10 11 Pa or less, more preferably 5.0 × 10 10 Pa or more and 8.0 × 10 10 Pa or less for the same reason as above. .

ビッカース硬度(単位:Pa)は、超微小硬度計(DUH−201S、島津製作所社製)を用いてTriangular圧子にて計測し、負荷−除去モードにおける負荷除去後の深さから算出される。   The Vickers hardness (unit: Pa) is measured with a Triangular indenter using an ultra-micro hardness meter (DUH-201S, manufactured by Shimadzu Corporation) and is calculated from the depth after load removal in the load-removal mode.

最表面のビッカース硬度の調節は、基材の第二の層を有する側に積層されている各層の硬さ等を制御することで行なうことができる。具体的には、最表面を形成している最表層あるいは最表層及びその隣接層において、個々の層における樹脂の種類や含有比率、架橋剤の種類や架橋度合い、無機粒子の含有量や大きさ、形状、あるいは光硬化する組成、光硬化度、等を適宜選択することにより調節することができる。ビッカース硬度を調節する具体的な方法及び成分については、後述する第二の層において詳述する。   The Vickers hardness of the outermost surface can be adjusted by controlling the hardness of each layer laminated on the side having the second layer of the base material. Specifically, in the outermost layer forming the outermost surface or the outermost layer and its adjacent layers, the type and content ratio of resin in each layer, the type and degree of crosslinking of the crosslinking agent, the content and size of inorganic particles , Shape, or photocuring composition, photocuring degree, and the like can be adjusted by appropriate selection. Specific methods and components for adjusting the Vickers hardness will be described in detail in the second layer described later.

〜第一の態様〜
本発明の第一の態様に係る太陽電池用裏面保護シートは、第一の層と基材と第二の層とをこの順に積層して構成されたものである。以下、各層及び基材について詳述する。
-First embodiment-
The back surface protection sheet for solar cells according to the first aspect of the present invention is configured by laminating a first layer, a base material, and a second layer in this order. Hereinafter, each layer and the substrate will be described in detail.

(第一の層)
本発明の太陽電池用裏面保護シートを構成する第一の層は、ポリオレフィン樹脂と、着色顔料と、を少なくとも含有する。第一の層は、更に、無機粒子、その他添加剤等を用いて構成することができる。
(First layer)
The 1st layer which comprises the back surface protection sheet for solar cells of this invention contains polyolefin resin and a coloring pigment at least. The first layer can be further formed using inorganic particles, other additives, and the like.

−着色顔料−
第一の層は、着色顔料の少なくとも一種を含有する。着色顔料は、(1)樹脂層を着色する、(2)色調の維持(退色しない)、(3)紫外線及び/又は可視光の遮光、(4)表面抵抗の低下防止の目的で用いられる。
着色顔料としては、無機顔料、有機顔料のいずれでもよく、目的等に応じて適宜選択すればよく、発電効率の向上や意匠性の観点から、白色顔料又は黒色顔料が好適である。白色顔料としては、白色微粒子が好ましい。白色微粒子の例としては、炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、タルク、カオリンクレー、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機系の微粒子が好ましく、酸化チタン粒子がより好ましい。
粒子の結晶構造としては、ルチル型、アナターゼ型、ブルッカイト型などの結晶構造が知られているが、優れた白色度と耐候性、及び光反射性などの特性に優れる点で、ルチル型に着色顔料が好ましい。
-Color pigment-
The first layer contains at least one color pigment. The coloring pigment is used for the purposes of (1) coloring the resin layer, (2) maintaining the color tone (not fading), (3) shielding ultraviolet rays and / or visible light, and (4) preventing the decrease in surface resistance.
The coloring pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment, and may be appropriately selected according to the purpose. A white pigment or a black pigment is preferable from the viewpoint of improving power generation efficiency and design. As the white pigment, white fine particles are preferable. Examples of the white fine particles are preferably inorganic fine particles such as calcium carbonate, silica, alumina, magnesium hydroxide, zinc oxide, talc, kaolin clay, titanium oxide, and barium sulfate, and more preferably titanium oxide particles.
The crystal structure of the particles is known to be rutile, anatase, brookite, etc., but it is colored rutile because of its excellent whiteness, weather resistance, and light reflectivity. Pigments are preferred.

酸化チタンは、粒子表面が表面被覆剤によって表面被覆処理されていることが好ましい。表面被覆剤の組成は限定されないが、酸化ケイ素やアルミナ、又は酸化亜鉛などの無機酸化物が好ましい。表面被覆剤による被覆方法には特に制限はなく、公知の方法で表面被覆された酸化チタン粒子を使用することができる。
更に、酸化チタン粒子の安定化の点で、例えばヒンダードアミン系などの光安定剤を樹脂中に添加することもできる。
As for titanium oxide, it is preferable that the particle | grain surface is surface-coated by the surface coating agent. The composition of the surface coating agent is not limited, but inorganic oxides such as silicon oxide, alumina, or zinc oxide are preferable. There is no restriction | limiting in particular in the coating method by a surface coating agent, The titanium oxide particle surface-coated by the well-known method can be used.
Furthermore, in terms of stabilizing the titanium oxide particles, a light stabilizer such as a hindered amine can be added to the resin.

着色顔料(特に白色微粒子)の平均粒子径としては、0.2μm〜0.7μmが好ましく、可視光の反射率をより高める点で、0.25μm〜0.35μmがより好ましい。   The average particle diameter of the color pigment (particularly white fine particles) is preferably 0.2 μm to 0.7 μm, and more preferably 0.25 μm to 0.35 μm from the viewpoint of further increasing the reflectance of visible light.

第一の層中における着色顔料の含有量としては、第一の層の面積に対して、1g/m〜30g/mの範囲が好ましく、5g/m〜2/mの範囲がより好ましい。
また、後述のように、第一の層が積層構造に構成される場合、例えば3層構造からなる第一の層の厚みは、50μm〜300μmの範囲が好ましい。
The content of the coloring pigment in the first layer in, the area of the first layer, the range of 1g / m 2 ~30g / m 2 is preferably in the range of 5g / m 2 ~2 / m 2 More preferred.
Further, as will be described later, when the first layer is formed in a laminated structure, the thickness of the first layer having, for example, a three-layer structure is preferably in the range of 50 μm to 300 μm.

−ポリオレフィン樹脂−
ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、及びこれらの混合樹脂が含まれる。
-Polyolefin resin-
Polyolefin resins include polyethylene resins, polypropylene resins, and mixed resins thereof.

ポリエチレン系樹脂としては、高圧法低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、あるいはこれらの混合樹脂を挙げることができる。   Examples of the polyethylene resin include high-pressure low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, high-density polyethylene, and mixed resins thereof.

直鎖状低密度ポリエチレンは、エチレンとα−オレフィンとの共重合体(以下、LLDPEと略記することがある)であり、炭素数4〜20(好ましくは4〜8)のα−オレフィンの共重合体であることが好ましい。直鎖状低密度ポリエチレンの具体例としては、ブテン−1、ペンテン−1、4−メチル−1−ペンテン、ヘキセン−1、ヘプテン−1、オクテン−1、ノネン−1、デセン−1などとの共重合体が挙げられる。
これらのα−オレフィンは、単独で又は複数種を組み合わせて用いることができる。
特に、重合生産性の点で、ブテン−1、ヘキセン−1、オクテン−1などが好ましい。
The linear low density polyethylene is a copolymer of ethylene and α-olefin (hereinafter sometimes abbreviated as LLDPE), and is a copolymer of α-olefin having 4 to 20 carbon atoms (preferably 4 to 8). A polymer is preferred. Specific examples of linear low density polyethylene include butene-1, pentene-1, 4-methyl-1-pentene, hexene-1, heptene-1, octene-1, nonene-1, decene-1, and the like. A copolymer is mentioned.
These α-olefins can be used alone or in combination.
In particular, butene-1, hexene-1, octene-1 and the like are preferable from the viewpoint of polymerization productivity.

ポリプロピレン系樹脂としては、例えば、ホモポリプロピレン、エチレン・プロピレンランダム共重合体、エチレン・プロピレンブロック共重合体を挙げることができる。   Examples of the polypropylene resin include homopolypropylene, ethylene / propylene random copolymer, and ethylene / propylene block copolymer.

エチレンとプロピレンとの共重合体は、エチレン含有量が1モル%〜15モル%の範囲のものが好ましい。エチレン含有量が1モル%以上であると、LLDPE又はLDPEあるいはこれらの混合樹脂への分散性が向上し、金属ロールやゴムロールとの間で擦過が生じた場合に、樹脂が脱落し難く、白粉発生を抑制することができる。また、EVAとの密着力が高くなる。一方、エチレン含有量が15モル%以下であると、EVAと熱圧着させた際に、シート厚さが低減せず、バスバー等の隠蔽性を高めることができる。   The copolymer of ethylene and propylene preferably has an ethylene content in the range of 1 mol% to 15 mol%. When the ethylene content is 1 mol% or more, the dispersibility in LLDPE or LDPE or a mixed resin thereof is improved, and the resin does not easily fall off when scraping occurs between a metal roll and a rubber roll. Occurrence can be suppressed. Moreover, the adhesive force with EVA becomes high. On the other hand, when the ethylene content is 15 mol% or less, the sheet thickness is not reduced and the concealing property of the bus bar or the like can be improved when thermocompression bonding with EVA is performed.

ポリプロピレン系樹脂の230℃でのメルトフローレート(MFR)としては、1.0g/10分〜15g/10分の範囲が好ましい。MFRが1.0g/10分以上であると、製膜工程において口金の吐出幅よりもフィルム幅が低下(ネックダウン)しにくく、フィルムの安定製造が容易になる。また、MFRが15g/10分以下であると、結晶化速度が低下し、フィルムが脆くならないため好ましい。   The melt flow rate (MFR) at 230 ° C. of the polypropylene resin is preferably in the range of 1.0 g / 10 min to 15 g / 10 min. When the MFR is 1.0 g / 10 min or more, the film width is less likely to decrease (neck down) than the discharge width of the die in the film forming process, and stable production of the film is facilitated. Moreover, it is preferable for MFR to be 15 g / 10 min or less because the crystallization rate is reduced and the film does not become brittle.

ポリプロピレン系樹脂の融点は、耐熱性をはじめ、滑り性やフィルムのハンドリング性、耐カール性、EVAとの熱接着性の点で、140℃〜170℃の範囲が好ましい。融点が140℃以上であると、第1の層(あるいは後述する3層積層構造のA層)が耐熱性に優れ、太陽電池モジュール用裏面保護シートとしてEVAと熱圧着させた際のシート厚みの低下が抑制され、耐電圧特性も確保される。また、融点が170℃以下であることで、EVAとの密着性に優れたものとなる。   The melting point of the polypropylene resin is preferably in the range of 140 ° C. to 170 ° C. in terms of heat resistance, slipperiness, film handling properties, curl resistance, and thermal adhesiveness with EVA. When the melting point is 140 ° C. or higher, the first layer (or the A layer having a three-layer laminated structure described later) has excellent heat resistance, and the sheet thickness when thermally bonded to EVA as a back surface protective sheet for a solar cell module The decrease is suppressed, and the withstand voltage characteristic is secured. Moreover, it becomes what was excellent in adhesiveness with EVA because melting | fusing point is 170 degrees C or less.

ここで、第一の層の形態について説明する。
第一の層の形態としては、特に制限はなく、単層構造又は多層構造のいずれに構成されてもよい。第一の層が多層構造に構成される場合、2層構造、3層構造、4層構造などのいずれでもよく、例えば、「A層/B層/C層」の3層が積層された構造を有するポリオレフィン系樹脂多層フィルムとして構成されてもよい。
Here, the form of the first layer will be described.
There is no restriction | limiting in particular as a form of a 1st layer, You may be comprised in any of a single layer structure or a multilayer structure. When the first layer is formed in a multilayer structure, it may be any of a two-layer structure, a three-layer structure, a four-layer structure, etc., for example, a structure in which three layers of “A layer / B layer / C layer” are laminated It may be configured as a polyolefin resin multilayer film having

A層としては、ポリエチレン系樹脂とポリプロピレン系樹脂とを混合した樹脂組成物が好ましい。ポリエチレン系樹脂にポリプロピレン系樹脂を混合することで、耐熱性が向上し、B層との密着性がより向上する。この場合、A層に用いられるポリエチレン系樹脂は、高圧法低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、あるいはこれらの混合樹脂が好適である。   The A layer is preferably a resin composition in which a polyethylene resin and a polypropylene resin are mixed. By mixing the polypropylene resin with the polyethylene resin, the heat resistance is improved and the adhesion with the B layer is further improved. In this case, the polyethylene resin used for the A layer is preferably a high pressure process low density polyethylene, a linear low density polyethylene, a high density polyethylene, or a mixed resin thereof.

A層に用いられるLLDPEの融点としては、110℃〜130℃の範囲が好ましい。融点が130℃以下であることで、封止材として使用されるエチレン−酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)との熱接着性に優れる。また、融点が110℃以上であることで、EVAと熱圧着した際に、シートの厚みが低減せず、耐電圧特性を確保することができる。   As melting | fusing point of LLDPE used for A layer, the range of 110 to 130 degreeC is preferable. When the melting point is 130 ° C. or lower, the thermal adhesiveness with the ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA) used as the sealing material is excellent. Moreover, when the melting point is 110 ° C. or higher, the thickness of the sheet is not reduced when thermocompression bonding with EVA, and the withstand voltage characteristic can be ensured.

また、LLDPEの密度は、0.90g/cm以上が好ましい。また、密度の上限は、0.94g/cmが好ましい。密度が0.94g/cm以下であると、ポリプロピレン系樹脂を併用した場合の分散性が良好になり、金属ロールやゴムロールとの間で擦過が生じた場合でも、樹脂が脱落し難く、白粉発生も抑制される。 Moreover, the density of LLDPE is preferably 0.90 g / cm 3 or more. The upper limit of the density is preferably 0.94 g / cm 3 . When the density is 0.94 g / cm 3 or less, the dispersibility is improved when a polypropylene resin is used in combination, and even when scratching occurs between the metal roll and the rubber roll, the resin does not easily fall off. Occurrence is also suppressed.

LLDPE中のα−オレフィンの含量は、好ましくは0.5モル%〜10モル%であり、更に好ましくは2.0モル%〜8.0モル%である。α−オレフィン含量が0.5モル%〜10モル%であることで、LLDPEの密度を0.90g/cm以上0.94g/cm以下の範囲に調節することができる。 The content of α-olefin in LLDPE is preferably 0.5 mol% to 10 mol%, more preferably 2.0 mol% to 8.0 mol%. When the α-olefin content is 0.5 mol% to 10 mol%, the density of LLDPE can be adjusted to a range of 0.90 g / cm 3 or more and 0.94 g / cm 3 or less.

A層におけるLLDPEの、190℃での溶融指数(メルトフローレート;以下、「MFR」と略記する)としては、好ましくは0.5g/10分〜10.0g/10分であり、より好ましくは1.0g/10分〜5.0g/10分である。MFRが0.5g/10分以上であることで、フィルム製膜時に他層との積層ムラが生じ難くなる。また、MFRが10.0g/10分以下であると、キャスト時のハンドリング性不良が生じ難く、結晶化度の増大による脆化も生じ難い。   The melt index (melt flow rate; hereinafter abbreviated as “MFR”) of LLDPE in layer A at 190 ° C. is preferably 0.5 g / 10 min to 10.0 g / 10 min, more preferably It is 1.0 g / 10 minutes to 5.0 g / 10 minutes. When the MFR is 0.5 g / 10 min or more, lamination unevenness with other layers hardly occurs during film formation. Further, when the MFR is 10.0 g / 10 min or less, the handling property at the time of casting hardly occurs, and the embrittlement due to the increase in crystallinity hardly occurs.

A層に用いられる高圧法低密度ポリエチレン(以下、「LDPE」と略記する)の密度としては、0.90g/cm〜0.93g/cmの範囲が好ましい。密度が0.90g/cm以上であることで、フィルムの滑り性に優れ、加工時のフィルムの取り扱い性もよくなる。一方、密度が0.93g/cm以下であると、ポリエチレン系樹脂とポリプロピレン系樹脂との分散性の向上効果が発現しやすい。 High-pressure low-density polyethylene used in the A layer (hereinafter abbreviated as "LDPE") The density of the range of 0.90g / cm 3 ~0.93g / cm 3 are preferred. When the density is 0.90 g / cm 3 or more, the slipping property of the film is excellent, and the handling property of the film during processing is also improved. On the other hand, when the density is 0.93 g / cm 3 or less, the effect of improving the dispersibility of the polyethylene resin and the polypropylene resin is easily exhibited.

A層に、密度が0.94g/cm〜0.97g/cmの高密度ポリエチレン(以下、「HDPE」と略記する)を用いる場合、フィルムの腰及び耐カールに優れる反面、加工時のロール摩擦によってHDPEが脱落し白粉を発生させるため、フィルム汚れや傷を付けるなどの問題が起こる場合があり、LLDPEやLDPEと比べ融点が高い分、EVAとの熱接着を行う際の加熱温度を高めに設定するなどの注意が必要であり、熱接着の条件によってはEVAとの密着強度が低めとなる懸念がある。 The A layer, density 0.94g / cm 3 ~0.97g / cm 3 density polyethylene (hereinafter abbreviated as "HDPE") is used, although excellent in the waist and anti-curl of the film, during processing Since HDPE falls off due to roll friction and white powder is generated, problems such as film stains and scratches may occur. Since the melting point is higher than that of LLDPE and LDPE, the heating temperature for thermal bonding with EVA is reduced. Care must be taken such as setting it higher, and depending on the thermal bonding conditions, there is a concern that the adhesion strength with EVA will be lower.

A層の表面平均粗さRaとしては、加工時のフィルムのハンドリング機能を満足させる点で、0.10μm〜0.30μmが好ましい。   The surface average roughness Ra of the A layer is preferably 0.10 μm to 0.30 μm from the viewpoint of satisfying the film handling function during processing.

B層は、白色微粒子と、ポリプロピレン系樹脂組成物と、を含むことが好ましい。
ポリプロピレン系樹脂組成物としては、耐熱性の点で、ホモポリプロピレン、及びエチレンとプロピレンとのランダムもしくはブロック共重合体から選ばれる樹脂、あるいはこれら樹脂とポリエチレンとの混合樹脂を含み、ポリエチレンの含有量が樹脂成分全体の30質量%未満であるものが好ましい。
The B layer preferably contains white fine particles and a polypropylene resin composition.
Polypropylene resin composition includes, in terms of heat resistance, homopolypropylene, a resin selected from a random or block copolymer of ethylene and propylene, or a mixed resin of these resins and polyethylene, and a polyethylene content Is preferably less than 30% by mass of the total resin component.

ポリプロピレン系樹脂がエチレンとプロピレンとの共重合体である場合、エチレン含有量は15モル%以下であることが耐熱性の点で好ましい。   When the polypropylene resin is a copolymer of ethylene and propylene, the ethylene content is preferably 15 mol% or less from the viewpoint of heat resistance.

ポリプロピレン系樹脂の230℃でのMFRとしては、B層をA層及び後述のC層と共押出する際の積層性に優れる点で、1.0g/10分〜15g/10分の範囲が好ましい。MFRが1.0g/10分以上であることで、製膜工程において口金から溶融押出したフィルムがネックダウンし難く、フィルムの幅方向の平面性が悪化しない等、安定製膜が容易になる。また、MFRが15g/10分以下であると、結晶化速度が低下し、フィルムが脆くなり難い。   The MFR at 230 ° C. of the polypropylene-based resin is preferably in the range of 1.0 g / 10 min to 15 g / 10 min in terms of excellent laminating properties when the B layer is coextruded with the A layer and the C layer described later. . When the MFR is 1.0 g / 10 min or more, the film melt-extruded from the die in the film forming process is not easily necked down, and the stable film formation is facilitated, for example, the flatness in the width direction of the film does not deteriorate. On the other hand, if the MFR is 15 g / 10 min or less, the crystallization speed decreases and the film is difficult to become brittle.

B層は、白色微粒子を含有することが好ましい。白色微粒子としては、第一の層に含有することができる既述の白色微粒子から選択することができる。   The B layer preferably contains white fine particles. The white fine particles can be selected from the aforementioned white fine particles that can be contained in the first layer.

B層における白色微粒子の含有量としては、比重に依存するものの、ポリオレフィン樹脂(特にポリプロピレン系樹脂)に対して、5質量%〜50質量%の範囲が好ましい。中でも、ポリオレフィン樹脂(特にポリプロピレン系樹脂)に対して、10質量%〜30質量%の範囲がより好ましい。含有量が5質量%以上であると、白色化と光反射効果が良好であり、バスバーなどの配線材料の透けがなく意匠性に優れたものとなる。また、含有量が50質量%以下であると、製膜時に白色微粒子が凝集し難く、安定的に製膜できる。   The content of the white fine particles in the B layer is preferably in the range of 5% by mass to 50% by mass with respect to the polyolefin resin (particularly polypropylene resin), although it depends on the specific gravity. Especially, the range of 10 mass%-30 mass% is more preferable with respect to polyolefin resin (especially polypropylene resin). When the content is 5% by mass or more, whitening and light reflection effect are good, and wiring material such as a bus bar is not transparent and has excellent design. Further, when the content is 50% by mass or less, white fine particles hardly aggregate at the time of film formation and can be stably formed.

C層は、ポリプロピレン系樹脂組成物を用いて構成することができる、
C層は、B層と同様、耐熱性の点で、ホモポリプロピレン、エチレンとプロピレンとのランダムもしくはブロック共重合体などのポリプロピレン系樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂を主成分とし、ポリプロピレン系樹脂が70質量%以上含まれることが好ましい。
ポリプロピレン系樹脂は、耐熱性をはじめ、滑り性やフィルムのハンドリング性、耐傷性、耐カール性の点で、ブロック共重合体がより好ましい。
The C layer can be configured using a polypropylene resin composition.
The C layer, like the B layer, is mainly composed of at least one resin selected from polypropylene resins such as homopolypropylene, a random or block copolymer of ethylene and propylene in terms of heat resistance. It is preferable that 70 mass% or more is contained.
The polypropylene resin is more preferably a block copolymer in terms of heat resistance, slipperiness, film handling, scratch resistance, and curl resistance.

ポリオレフィン系樹脂多層フィルムの厚みは、太陽電池の構造に依存するものの、10μm〜250μmの範囲が好ましく、フィルム製造面や、他基材とのラミネート加工性の点で、20μm〜200μmの範囲がより好ましい。厚みが250μm以下であることで、経済性に優れ、取り扱い性に優れたものとなる。更には、配線部材の影響で裏面保護シートが薄く変形することで太陽発電素子やインターコネクター、バスバーが透けることがない程度の耐熱性、隠蔽性に優れたものとなる点で、ポリオレフィン系樹脂多層フィルムの厚みは、50μm〜200μmが好ましく、130μm〜200μmがより好ましい。   Although the thickness of the polyolefin resin multilayer film depends on the structure of the solar cell, the range of 10 μm to 250 μm is preferable, and the range of 20 μm to 200 μm is more preferable in terms of film production and lamination with other substrates. preferable. When the thickness is 250 μm or less, the economy is excellent and the handleability is excellent. Furthermore, the polyolefin-based resin multi-layer is excellent in that the back surface protection sheet is deformed thinly due to the influence of the wiring member, so that the solar power generation element, the interconnector, and the bus bar are excellent in heat resistance and concealment. The thickness of the film is preferably 50 μm to 200 μm, more preferably 130 μm to 200 μm.

ポリオレフィン系樹脂多層フィルムを構成するA層/B層/C層の積層比としては、特に制限はないが、ポリオレフィン系樹脂多層フィルムの総厚を100%とした場合、A層及びC層がそれぞれ5%〜20%であって、B層が90%〜60%である場合が好ましい。
また、A層/B層/C層の積層順にすることで、白色微粒子を含有するB層はA層とC層との間に挟まれることになり、製造時の口金における、粒子を大量に含む樹脂分解物の付着が抑制され、分解物が脱落することによる工程汚染やフィルムの傷の発生をより効果的に回避することができる。
The lamination ratio of the A layer / B layer / C layer constituting the polyolefin resin multilayer film is not particularly limited, but when the total thickness of the polyolefin resin multilayer film is 100%, the A layer and the C layer are respectively A case where the content is 5% to 20% and the B layer is 90% to 60% is preferable.
In addition, the B layer containing white fine particles is sandwiched between the A layer and the C layer by arranging the layers in the order of layer A / layer B / layer C, and a large amount of particles are produced in the die at the time of manufacture. It is possible to more effectively avoid the occurrence of process contamination and film scratches due to the decomposition of the resin degradation product being contained and the degradation product falling off.

上記の「A層/B層/C層」の3層が積層された構造を有するポリオレフィン系樹脂多層フィルムは、以下のようにして作製することができる。すなわち、
各層を形成するための樹脂をそれぞれ単軸の溶融押出機に供給し、それぞれ220℃〜280℃の範囲にて溶融する。そして、ポリマー管の途中に設置したフィルタを通して異物や粗大無機粒子などを除去した後、マルチ・マニホールド型のTダイあるいはTダイ上部に設置したフィードブロックにて、A層/B層/C層の3種3層積層を行い、Tダイより回転金属ロール上に、C層側を金属ロール面側にして吐出し、未延伸フィルムを得る。この際、回転金属ロールの表面温度は、C層の金属ロールへの粘着を起こさず、結晶性が高められる点で、20℃〜60℃に制御されることが好ましい。また、溶融ポリマーを金属ロールに密着させるため、非金属ロール側からエアーを吹き付ける方法や、ニップロールを使用することが好ましい。
The polyolefin-based resin multilayer film having a structure in which the above three layers “A layer / B layer / C layer” are laminated can be produced as follows. That is,
The resin for forming each layer is supplied to a single-screw melt extruder and melted in the range of 220 ° C. to 280 ° C., respectively. After removing foreign substances and coarse inorganic particles through a filter installed in the middle of the polymer tube, the multi-manifold type T die or the feed block installed on the top of the T die is used for the A layer / B layer / C layer. Three-type three-layer lamination is performed, and discharged from a T die onto a rotating metal roll with the C layer side set to the metal roll surface side to obtain an unstretched film. At this time, the surface temperature of the rotating metal roll is preferably controlled to 20 ° C. to 60 ° C. in that the crystallinity is enhanced without causing adhesion of the C layer to the metal roll. Moreover, in order to make a molten polymer contact | adhere to a metal roll, it is preferable to use the method of spraying air from a nonmetallic roll side, or a nip roll.

(基材)
本発明の太陽電池用裏面保護シートは、基材を用いて構成されている。
基材は、シート状もしくはフィルム状等のいずれでもよく、単層であっても複数のシートもしくはフィルムを貼り合わせた多層フィルムであってもよい。
(Base material)
The back surface protection sheet for solar cells of this invention is comprised using the base material.
The substrate may be in the form of a sheet or film, and may be a single layer or a multilayer film obtained by bonding a plurality of sheets or films.

基材としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルニトリルフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素系樹脂フィルム等が挙げられる。
中でも、機械的強度や耐熱性、経済性の点から、PETフィルム又はPENフィルムが好ましい。長期間の特性維持の観点から、耐加水分解性ポリエチレンテレフタレートフィルム(耐加水分解性PETフィルム)又は耐加水分解性ポリエチレンナフタレートフィルム(耐加水分解性PENフィルム)がより好ましい。
また、基材は、耐候性の点で、フッ素系樹脂フィルムも好ましく、ポリエステルフィルムとフッ素系樹脂フィルムとを積層したフィルムも好適である。
Base materials include polyester films such as polyethylene terephthalate (PET) film and polyethylene naphthalate (PEN) film, polyolefin films such as polyethylene film and polypropylene film, polystyrene film, polyamide film, polyvinyl chloride film, polycarbonate film, polyacrylic A nitrile film, a polyimide film, a fluorine resin film, etc. are mentioned.
Among these, a PET film or a PEN film is preferable from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, and economy. From the viewpoint of maintaining long-term properties, a hydrolysis-resistant polyethylene terephthalate film (hydrolysis-resistant PET film) or a hydrolysis-resistant polyethylene naphthalate film (hydrolysis-resistant PEN film) is more preferable.
In addition, the substrate is preferably a fluororesin film in terms of weather resistance, and a film in which a polyester film and a fluororesin film are laminated is also suitable.

耐加水分解性PETフィルムとは、140℃の高圧スチーム下で10時間保管した後の引張伸度が、保管前の引張伸度に対して60%以上保っているものをさす。
このような耐加水分解性PETフィルムを用いることによって、太陽電池モジュール用裏面保護シートの耐候性を向上し、長期に亘って太陽電池モジュールの発電性能をより安定的に保持することができる。
The hydrolysis resistant PET film refers to a film whose tensile elongation after storage for 10 hours under high-pressure steam at 140 ° C. is maintained at 60% or more with respect to the tensile elongation before storage.
By using such a hydrolysis-resistant PET film, the weather resistance of the back protective sheet for solar cell module can be improved, and the power generation performance of the solar cell module can be more stably maintained over a long period of time.

耐加水分解性PETフィルムは、ジカルボン酸成分にテレフタル酸を、ジオール成分にエチレングリコールを用いた、固有粘度[η]が0.70〜1.20(より好ましくは0.75〜1.00)のPETを二軸延伸することで得ることができる。
固有粘度[η]は、o−クロロフェノールを溶媒としてPETを溶解し、25℃の温度で測定した値である。固有粘度が0.70以上であると、耐加水分解性、耐熱性が良好であり、また固有粘度が1.20以下であると、製膜性に優れたものとなる。
The hydrolysis-resistant PET film uses terephthalic acid as the dicarboxylic acid component and ethylene glycol as the diol component, and has an intrinsic viscosity [η] of 0.70 to 1.20 (more preferably 0.75 to 1.00). The PET can be obtained by biaxial stretching.
Intrinsic viscosity [η] is a value measured at a temperature of 25 ° C. by dissolving PET using o-chlorophenol as a solvent. When the intrinsic viscosity is 0.70 or more, the hydrolysis resistance and heat resistance are good, and when the intrinsic viscosity is 1.20 or less, the film forming property is excellent.

PETは、単独重合体であるホモPETであってもよいし、共重合成分が共重合した共重合PETであってもよい。共重合成分としては、例えば、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリアルキレングリコール等のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸等のジカルボン酸成分が挙げられる。
また、PETには、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、添加剤(例えば、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、紫外光吸収剤、耐侯安定剤、有機の易滑剤、有機系微粒子、充填剤、帯電防止剤、核剤、染料、分散剤、カップリング剤等)が配合されてもよい。
The PET may be homo-PET that is a homopolymer, or copolymer PET obtained by copolymerizing copolymer components. Examples of the copolymer component include diol components such as diethylene glycol, neopentyl glycol, and polyalkylene glycol, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, and the like. A dicarboxylic acid component is mentioned.
In addition, in PET, additives (for example, heat stabilizers, oxidation stabilizers, ultraviolet light absorbers, anti-wrinkle stabilizers, organic lubricants, organic lubricants, and the like) as long as the effects of the present invention are not impaired. System fine particles, fillers, antistatic agents, nucleating agents, dyes, dispersing agents, coupling agents, etc.) may be blended.

耐加水分解性PETフィルムの具体例としては、東レ(株)製の「ルミラー」(登録商標)X10Sなどを挙げることができる。   Specific examples of the hydrolysis-resistant PET film include “Lumirror” (registered trademark) X10S manufactured by Toray Industries, Inc.

PENフィルムは、ジカルボン酸成分に2,6−ナフタレンジカルボン酸を、ジオール成分にエチレングリコールを用い、公知の方法で重合された樹脂を二軸延伸することで得られる。   A PEN film is obtained by biaxially stretching a resin polymerized by a known method using 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a dicarboxylic acid component and ethylene glycol as a diol component.

耐加水分解性PETフィルムやPENフィルムの厚みは、38μm〜300μmが好ましく、フィルムのコシ、耐電圧性、並びにコスト及び加工適性の点で、50μm〜250μmがより好ましい。
また、難燃規格であるUL746AにおけるHAI(高電流アーク・イグニッション)試験に適合するためには、耐加水分解性PET、PENフィルムの厚みは、200μm〜250μmが好ましい。
The thickness of the hydrolysis-resistant PET film or PEN film is preferably 38 μm to 300 μm, and more preferably 50 μm to 250 μm in terms of film stiffness, voltage resistance, cost, and processability.
Moreover, in order to meet the HAI (high current arc ignition) test in UL746A which is a flame retardant standard, the thickness of the hydrolysis resistant PET and PEN film is preferably 200 μm to 250 μm.

フッ素系樹脂フィルムは、フッ素系樹脂を溶融して口金からシート状に押し出して回転冷却ドラム上で冷却固化させることで、所望の厚みのフィルムとして得られる。   The fluororesin film is obtained as a film having a desired thickness by melting the fluororesin, extruding it from the die into a sheet shape, and cooling and solidifying it on a rotary cooling drum.

フッ素系樹脂としては、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、テトラフロロエチレン・ヘキサフロロプロピレン・フッ化ビニリデン共重合体、テトラフロロエチレン・プロピレン共重合体、テトラフロロエチレン・ヘキサフロロプロピレン・プロピレン共重合体、エチレン・テトラフロロエチレン共重合体(ETFE)、ヘキサフロロプロピレン・テトラフロロエチレン共重合体(FEP)、又はパーフロロ(アルキルビニルエーテル)・テトラフロロエチレン共重合体、ポリクロロトリフロロエチレン樹脂などが挙げられる。これらのうち、溶融押出成形性の点で、特にポリフッ化ビニル、エチレン・テトラフロロエチレン共重合体(ETFE)、ヘキサフロロプロピレン・テトラフロロエチレン共重合体(FEP)、パーフロロ(アルキルビニルエーテル)・テトラフロロエチレン共重合体、ポリクロロトリフロロエチレン重合体が好ましい。   Fluorine-based resins include polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene / vinylidene fluoride copolymer, tetrafluoroethylene / propylene copolymer, tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene / propylene copolymer , Ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), hexafluoropropylene / tetrafluoroethylene copolymer (FEP), or perfluoro (alkyl vinyl ether) / tetrafluoroethylene copolymer, polychlorotrifluoroethylene resin, etc. It is done. Among these, in terms of melt extrusion moldability, in particular, polyvinyl fluoride, ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), hexafluoropropylene / tetrafluoroethylene copolymer (FEP), perfluoro (alkyl vinyl ether) / tetra. A fluoroethylene copolymer and a polychlorotrifluoroethylene polymer are preferred.

基材は、表面にコロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理、化学処理などの表面処理を施してもよい。表面処理を施すことで基材表面を活性化処理することで、隣接層の密着性を高めることができる。   The substrate may be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, flame treatment, chemical treatment, etc. on the surface. By performing the surface treatment to activate the substrate surface, the adhesion of the adjacent layer can be enhanced.

−紫外線吸収顔料−
基材自体が、紫外線吸収顔料を含有していることが好ましい。
基材が紫外線吸収顔料を含むことで、シート中の総量として求められる紫外線吸収顔料の量を満たしながら、後述する第二の層中に含有される紫外線吸収顔料の比率を減らすことが可能になる。これにより、第二の層において、無機酸化物粒子の含有比率を高めやすく、表面のビッカース硬度がより調節しやすくなる。
-UV absorbing pigment-
The substrate itself preferably contains an ultraviolet absorbing pigment.
By including the ultraviolet absorbing pigment in the base material, it becomes possible to reduce the ratio of the ultraviolet absorbing pigment contained in the second layer described later while satisfying the amount of the ultraviolet absorbing pigment required as the total amount in the sheet. . Thereby, in the second layer, the content ratio of the inorganic oxide particles can be easily increased, and the surface Vickers hardness can be more easily adjusted.

基材に含有される紫外線吸収顔料は、後述する第二の層で使用可能な紫外線吸収顔料と同様であり、好ましい態様も同様である。   The ultraviolet absorbing pigment contained in the substrate is the same as the ultraviolet absorbing pigment that can be used in the second layer described later, and the preferred embodiment is also the same.

基材が紫外線吸収顔料を含む場合、基材中における紫外線吸収顔料の含有量は、基材を構成する樹脂に対して、1質量%〜20質量%が好ましく、3質量%〜10質量%がより好ましい。基材中における紫外線吸収顔料の含有量が1質量%以上であると、第二の層に含有される紫外線吸収顔料の量を減らし、所望量の無機酸化物粒子を添加しやすくなる。また、紫外線吸収顔料の含有量が20質量%以下であると、基材の脆化防止の点で有利である。   When the substrate contains an ultraviolet absorbing pigment, the content of the ultraviolet absorbing pigment in the substrate is preferably 1% by mass to 20% by mass and 3% by mass to 10% by mass with respect to the resin constituting the substrate. More preferred. When the content of the ultraviolet absorbing pigment in the substrate is 1% by mass or more, the amount of the ultraviolet absorbing pigment contained in the second layer is reduced, and it becomes easy to add a desired amount of inorganic oxide particles. Further, when the content of the ultraviolet absorbing pigment is 20% by mass or less, it is advantageous in terms of preventing embrittlement of the substrate.

(第二の層)
本発明の太陽電池用裏面保護シートを構成する第二の層は、(メタ)アクリレート樹脂を含むバインダーと、紫外線吸収顔料と、を少なくとも含有する。第一の態様では、第二の層の表面が、上記範囲のビッカース硬度を有し、耐砂性に優れたものとなる。
(Second layer)
The 2nd layer which comprises the back surface protection sheet for solar cells of this invention contains the binder containing a (meth) acrylate resin and an ultraviolet absorption pigment at least. In the first aspect, the surface of the second layer has Vickers hardness in the above range and is excellent in sand resistance.

−紫外線吸収顔料−
第二の層は、紫外線吸収顔料の少なくとも一種を含有する。紫外線吸収顔料は、紫外領域に吸収を有する顔料であり、具体的には250nm〜450nmの波長領域に吸収を有する顔料が挙げられる。紫外線吸収顔料としては、無機顔料又は有機顔料のいずれでもよいが、耐紫外線性、意匠性の観点から、白色顔料又は黒色顔料が好ましい。
白色顔料としては、酸化チタンが好ましく、発色の観点から、特に数平均粒子径が0.1μm〜1.0μmの酸化チタンが好ましい。更には、後述する(メタ)アクリレート樹脂(特にアクリルポリオール系樹脂)に対する分散性やコストの点で、数平均粒子径が0.2μm〜0.5μmの酸化チタンがより好ましい。
また、黒色顔料としては、カーボンブラックが好ましく、数平均粒子径が0.01μm〜0.5μmのカーボンブラックが好ましい。更には、後述する(メタ)アクリレート樹脂(特にアクリルポリオール系樹脂)に対する分散性やコストの点で、数平均粒子径が0.02μm〜0.1μmのカーボンブラックがより好ましい。
-UV absorbing pigment-
The second layer contains at least one ultraviolet absorbing pigment. The ultraviolet absorbing pigment is a pigment having absorption in the ultraviolet region, and specifically includes a pigment having absorption in a wavelength region of 250 nm to 450 nm. The ultraviolet absorbing pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment, but a white pigment or a black pigment is preferable from the viewpoint of ultraviolet resistance and design properties.
As the white pigment, titanium oxide is preferable, and from the viewpoint of color development, titanium oxide having a number average particle size of 0.1 μm to 1.0 μm is particularly preferable. Furthermore, titanium oxide having a number average particle size of 0.2 μm to 0.5 μm is more preferable from the viewpoint of dispersibility and cost with respect to a (meth) acrylate resin (particularly acrylic polyol-based resin) described later.
Further, as the black pigment, carbon black is preferable, and carbon black having a number average particle diameter of 0.01 μm to 0.5 μm is preferable. Furthermore, carbon black having a number average particle size of 0.02 μm to 0.1 μm is more preferable from the viewpoint of dispersibility and cost with respect to a (meth) acrylate resin (particularly acrylic polyol resin) described later.

紫外線吸収顔料の第二の層中における含有量としては、層の全質量に対して、10質量%〜60質量%の範囲が好ましく、30質量%〜50質量%の範囲がより好ましい。
紫外線吸収顔料の含有量は、10質量%以上であると、紫外線の吸収性能が良好であり屋外に長期間曝された場合でも基材および第二の層の脆化防止の点で有利であり、60質量%以下であると、第二の層の表面粗さを低減できる点で有利である。
The content of the ultraviolet absorbing pigment in the second layer is preferably in the range of 10% by mass to 60% by mass and more preferably in the range of 30% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the layer.
When the content of the ultraviolet absorbing pigment is 10% by mass or more, the ultraviolet absorbing performance is good, and it is advantageous in terms of preventing embrittlement of the base material and the second layer even when exposed to the outdoors for a long time. , 60 mass% or less is advantageous in that the surface roughness of the second layer can be reduced.

−バインダー−
第二の層は、バインダーの少なくとも一種を含有し、バインダーの1つとして、(メタ)アクリレート樹脂を含有する。(メタ)アクリレート樹脂は、樹脂材料の中でも比較的硬い樹脂であり、少なくとも(メタ)アクリレート樹脂を含むことで、第二の層の表面硬度が高められる。
-Binder-
The second layer contains at least one kind of binder, and contains (meth) acrylate resin as one of the binders. The (meth) acrylate resin is a relatively hard resin among the resin materials, and the surface hardness of the second layer is increased by including at least the (meth) acrylate resin.

(メタ)アクリレート樹脂は、(メタ)アクリル酸エステルが単独重合もしくは他のモノマー成分と共重合した樹脂であり、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート等の(メタ)アクリル酸エステルから選ばれるエステルモノマーを重合させることで得られる。
また、他のモノマー成分としては、不飽和カルボン酸(例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、クロトン酸、フマル酸等)、不飽和炭化水素(例えばブタジエン、エチレン等)、及びビニルエステル(例えば酢酸ビニル等)からなる群より選ばれるモノマーが挙げられる。
(Meth) acrylate resin is a resin in which (meth) acrylic acid ester is homopolymerized or copolymerized with other monomer components. Methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate , (Meth) acrylic esters such as isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate It is obtained by polymerizing an ester monomer selected from:
Other monomer components include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, crotonic acid, fumaric acid, etc.), unsaturated hydrocarbons (eg, butadiene, ethylene, etc.), and vinyl esters. And a monomer selected from the group consisting of (for example, vinyl acetate).

(メタ)アクリレート樹脂は、架橋構造の基点(架橋点)となる水酸基を導入し、アクリルポリオール系樹脂として含有されてもよい。(メタ)アクリレート樹脂に水酸基を与えて(メタ)アクリルポリオール樹脂とするための重合モノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシビニルエーテル、ポリエチレングリコールメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート等の不飽和化合物の単量体が挙げられる。   The (meth) acrylate resin may be introduced as an acrylic polyol-based resin by introducing a hydroxyl group serving as a base point (crosslinking point) of the crosslinked structure. As a polymerization monomer for giving a hydroxyl group to a (meth) acrylate resin to form a (meth) acryl polyol resin, for example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate , Monomers of unsaturated compounds such as 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy vinyl ether, polyethylene glycol methacrylate, polypropylene glycol monoacrylate, and polypropylene glycol monomethacrylate.

(メタ)アクリレート樹脂としては、(メタ)アクリルポリオール樹脂と紫外線吸収剤とが共重合した樹脂や、(メタ)アクリルポリオール樹脂と光安定化剤とが共重合した樹脂を使用してもよい。
(メタ)アクリルポリオールと光安定化剤又は紫外線吸収剤とが共重合した樹脂の製造方法等の詳細については、特開2002−90515号公報の段落0019〜0039の記載を参照することができある。
中でも、アクリルモノマーと紫外光吸収剤と光安定化剤とが共重合した共重合物は好ましく、この共重合物を有効成分として含有するハルスハイブリッドポリマー(登録商標)〔日本触媒社製〕などを好適に用いることができる。
なお、紫外光吸収剤及び光安定化剤の詳細については、国際公開第2011/068067号明細書パンフレットの段落0027〜0028の記載を参照することができる。
As the (meth) acrylate resin, a resin in which a (meth) acryl polyol resin and an ultraviolet absorber are copolymerized or a resin in which a (meth) acryl polyol resin and a light stabilizer are copolymerized may be used.
The details of paragraphs 0019 to 0039 of JP-A-2002-90515 can be referred to for details such as a method for producing a resin in which a (meth) acryl polyol and a light stabilizer or ultraviolet absorber are copolymerized. .
Among them, a copolymer obtained by copolymerizing an acrylic monomer, an ultraviolet light absorber, and a light stabilizer is preferable, and Hals hybrid polymer (registered trademark) (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) containing this copolymer as an active ingredient is preferable. It can be used suitably.
In addition, about the detail of an ultraviolet light absorber and a light stabilizer, the description of Paragraphs 0027-0028 of the international publication 2011/0668067 pamphlet can be referred.

(メタ)アクリレート樹脂は、架橋点を有して、この架橋点において(メタ)アクリレート樹脂が架橋剤で架橋されている態様が好ましい。これにより、第二の層の表面硬度がより高められる。架橋剤の詳細については、後述する。   A mode in which the (meth) acrylate resin has a crosslinking point and the (meth) acrylate resin is crosslinked with a crosslinking agent at the crosslinking point is preferable. Thereby, the surface hardness of the second layer is further increased. Details of the crosslinking agent will be described later.

−架橋剤−
第二の層は、(メタ)アクリレート樹脂を架橋する架橋剤の少なくとも一種を含有することができる。架橋剤は、(メタ)アクリレート樹脂中の架橋点となる例えば水酸基と反応して第二の層を架橋硬化し、第二の層の表面硬度をより高めることができる。
-Crosslinking agent-
The second layer can contain at least one crosslinking agent that crosslinks the (meth) acrylate resin. The crosslinking agent can react with, for example, a hydroxyl group serving as a crosslinking point in the (meth) acrylate resin to crosslink and cure the second layer, thereby further increasing the surface hardness of the second layer.

架橋剤としては、ポリイソシアネート系樹脂が好ましく、ウレタン結合(架橋構造)の生成を促す処方に構成されるのが好ましい。
架橋剤として用いられるポリイソシアネート系樹脂としては、芳香族系ポリイソシアネート、芳香脂肪族系ポリイソシアネート、脂環族系ポリイソシアネート、及び脂肪族系ポリイソシアネート等が挙げられる。これらは、以下に示すジイソシアネート化合物を原料とする樹脂である。
The crosslinking agent is preferably a polyisocyanate-based resin, and preferably has a formulation that promotes the formation of urethane bonds (crosslinked structure).
Examples of the polyisocyanate resin used as the crosslinking agent include aromatic polyisocyanates, araliphatic polyisocyanates, alicyclic polyisocyanates, and aliphatic polyisocyanates. These are resins made from the following diisocyanate compounds.

芳香族ポリイソシアネートの原料となるジイソシアネートとしては、例えば、m−又はp−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート(NDI)、4,4’−、2,4’−又は2,2’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、2,4−又は2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、及び4,4’−ジフェニルエーテルジイソシアネート等が挙げられる。   Examples of the diisocyanate used as a raw material for the aromatic polyisocyanate include m- or p-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenyl diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate (NDI), 4,4′-, 2,4 ′. -Or 2,2'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), 4,4'-diphenyl ether diisocyanate and the like.

芳香脂肪族ポリイソシアネートの原料となるジイソシアネートとしては、例えば、1,3−又は1,4−キシリレンジイソシアネート(XDI)や、1,3−又は1,4−テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)等が挙げられる。   Examples of the diisocyanate used as a raw material for the araliphatic polyisocyanate include 1,3- or 1,4-xylylene diisocyanate (XDI), 1,3- or 1,4-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), and the like. Is mentioned.

脂環族ポリイソシアネートの原料となるジイソシアネートとしては、例えば、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート(イソホロンジイソシアネート;IPDI)、4,4’−、2,4’−又は2,2’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)、メチル−2,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,6−シクロヘキサンジイソシアネート、及び1,3−又は1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン(水添XDI)等が例示される。   Examples of the diisocyanate used as a raw material for the alicyclic polyisocyanate include 1,4-cyclohexane diisocyanate, 1,3-cyclohexane diisocyanate, 3-isocyanate methyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate (isophorone diisocyanate; IPDI), 4,4′-, 2,4′- or 2,2′-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI), methyl-2,4-cyclohexanediisocyanate, methyl-2,6-cyclohexanediisocyanate, and 1,3-or Examples include 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane (hydrogenated XDI).

脂肪族ポリイソシアネートの原料となるジイソシアネートとしては、例えば、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ペンタメチレンジイソシアネート、1,2−プロピレンジイソシアネート、1,2−、2,3−又は1,3−ブチレンジイソシアネート、及び2,4,4−又は2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が例示される。   Examples of the diisocyanate used as a raw material for the aliphatic polyisocyanate include trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), pentamethylene diisocyanate, 1,2-propylene diisocyanate, 1,2-, 2,3- or Examples include 1,3-butylene diisocyanate and 2,4,4- or 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate.

ポリイソシアネートの原料としては、これらのジイソシアネートを複数種組み合わせて用いること、ビューレット変性体、ヌレート変性体などの変性体として用いることも可能である。中でも、ポリイソシアネートの原料としては、樹脂骨格中に紫外線域の光の吸収帯を有する芳香環を含有する樹脂は、紫外線照射に伴い黄変し易いことから、脂環族ポリイソシアネート及び/又は脂肪族ポリイソシアネートを主成分とする硬化剤を用いることが好ましい。
更に、耐溶剤性の観点から、第二の層はより硬化性に優れた脂環族ポリイソシアネートを用いることが好ましい。
また、アクリルポリオール系樹脂との架橋反応の易進行性、架橋度、耐熱性、耐紫外線性などの観点から、ヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート変性体が好ましい。
As a raw material of polyisocyanate, these diisocyanates can be used in combination, or can be used as a modified body such as a burette modified body or a nurate modified body. Among them, as a raw material for polyisocyanate, a resin containing an aromatic ring having a light absorption band in the ultraviolet region in the resin skeleton easily yellows upon irradiation with ultraviolet rays. It is preferable to use a curing agent mainly composed of a group polyisocyanate.
Furthermore, from the viewpoint of solvent resistance, it is preferable to use an alicyclic polyisocyanate having excellent curability for the second layer.
Moreover, the nurate modified body of hexamethylene diisocyanate is preferable from the viewpoint of easy progress of the crosslinking reaction with the acrylic polyol-based resin, the degree of crosslinking, heat resistance, ultraviolet resistance and the like.

架橋剤は、上市されている市販品を用いてもよく、市販品の例としては、住化バイエル社製のデスモジュール(登録商標)シリーズ(例えばデスモジュールN3300)などが挙げられる。   Commercially available products may be used as the cross-linking agent, and examples of commercially available products include Desmodule (registered trademark) series (for example, Desmodule N3300) manufactured by Sumika Bayer.

−硬化性樹脂−
第二の層は、(メタ)アクリレート樹脂とともに、紫外(UV)光又は熱の付与により硬化する樹脂を含んでUV光又は熱で硬化された層(ハードコート層)に構成することができる。これにより、第二の層の表面硬度をより高めることができる。
-Curable resin-
A 2nd layer can be comprised in the layer (hard coat layer) hardened | cured by UV light or a heat | fever including the resin hardened | cured by provision of ultraviolet (UV) light or a heat | fever with (meth) acrylate resin. Thereby, the surface hardness of the second layer can be further increased.

第二の層は、紫外光により硬化する樹脂である放射線硬化性樹脂を含有してもよい。
放射線硬化性樹脂としては、1つ又は2つ以上の不飽和結合等の反応性基を有する化合物が挙げられ、具体的な例として、アクリレート系の官能基を有する化合物等が挙げられる。中でも、(メタ)アクリレート構造を含む化合物が好ましい。
不飽和結合を1つ有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等を挙げることができる。また、不飽和結合を2つ以上有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等、及びこれらをエチレンオキサイド(EО)等で変性した多官能化合物、又は上記の多官能化合物と(メタ)アクリレート等の反応生成物(例えば多価アルコールのポリ(メタ)アクリレートエステル)等を挙げることができる。
(メタ)アクリレートとして好ましい化合物は、不飽和結合を3つ以上有する化合物である。不飽和結合を3つ以上有する化合物を用いると、層の架橋密度が向上し、硬度が良好になる。具体的には、不飽和結合を3つ以上有する化合物としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステル多官能アクリレートオリゴマー(3官能〜15官能)、ウレタン多官能アクリレートオリゴマー(3官能〜15官能)等が好適に挙げられ、市販品として、例えばA−DPH、A−TMMT(いずれも新中村化学社製)などが挙げられる。
The second layer may contain a radiation curable resin that is a resin curable by ultraviolet light.
Examples of the radiation curable resin include a compound having a reactive group such as one or two or more unsaturated bonds, and specific examples include a compound having an acrylate functional group. Among these, a compound containing a (meth) acrylate structure is preferable.
Examples of the compound having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like. Examples of the compound having two or more unsaturated bonds include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, penta Erythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like A polyfunctional compound modified with ethylene oxide (EO) or the like, or a reaction product of the above polyfunctional compound and (meth) acrylate (eg poly (meth) acrylate ester of polyhydric alcohol) It can be mentioned.
A preferred compound as the (meth) acrylate is a compound having three or more unsaturated bonds. When a compound having three or more unsaturated bonds is used, the crosslinking density of the layer is improved and the hardness is improved. Specifically, as the compound having three or more unsaturated bonds, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, polyester polyfunctional acrylate oligomer (trifunctional to 15 functional), urethane polyfunctional acrylate oligomer (trifunctional to 15). As a commercially available product, for example, A-DPH, A-TMMT (both manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

放射線硬化性樹脂としては、上記の化合物以外にも、不飽和二重結合等の反応性基を有する比較的低分子量(数平均分子量300〜8万、好ましくは400〜5000)のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も用いることができる。
なお、ここでの樹脂とは、モノマー以外のダイマー、オリゴマー、ポリマーの全てを含む。
As the radiation curable resin, in addition to the above compounds, a polyester resin having a relatively low molecular weight (number average molecular weight 300 to 80,000, preferably 400 to 5000) having a reactive group such as an unsaturated double bond, poly Ether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can also be used.
Here, the resin includes all dimers, oligomers, and polymers other than monomers.

放射線硬化性樹脂は、溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。放射線硬化性樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。   Radiation curable resins can also be used in combination with solvent-drying resins (such as thermoplastic resins, which can be used as a coating only by drying the solvent added to adjust the solid content during coating). it can. By using the solvent-drying resin in combination, film defects on the coated surface can be effectively prevented. The solvent-drying resin that can be used in combination with the radiation curable resin is not particularly limited, and generally a thermoplastic resin can be used.

熱可塑性樹脂としては、特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。熱可塑性樹脂は、非結晶性でかつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。
市販品としては、例えば、アクリベースMH−101−5(藤倉化成社製)などが挙げられる。
The thermoplastic resin is not particularly limited. For example, a styrene resin, a (meth) acrylic resin, a vinyl acetate resin, a vinyl ether resin, a halogen-containing resin, an alicyclic olefin resin, a polycarbonate resin, or a polyester resin. Examples thereof include resins, polyamide-based resins, cellulose derivatives, silicone-based resins, rubbers, and elastomers. The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (in particular, a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, from the viewpoints of film forming properties, transparency, and weather resistance, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) and the like are preferable.
As a commercial item, acrylic base MH-101-5 (made by Fujikura Kasei Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

また、第二の層は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。
熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
The second layer may contain a thermosetting resin.
The thermosetting resin is not particularly limited. For example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin , Silicon resin, polysiloxane resin, and the like.

第二の層を光硬化された層に構成する場合、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものから選択すればよい。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン系化合物、プロピオフェノン系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾイン系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物が挙げられる。
また、光増感剤を混合して含むことが好ましく、光増感剤の具体例としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。
When the second layer is formed into a photocured layer, it preferably contains a photopolymerization initiator.
There is no restriction | limiting in particular as a photoinitiator, What is necessary is just to select from a well-known thing. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone compounds, benzophenone compounds, Michler benzoyl benzoate, α-amyloxime esters, thioxanthone compounds, propiophenone compounds, benzyl compounds, benzoin compounds, and acylphosphine oxide compounds. Compounds.
Moreover, it is preferable to mix and contain a photosensitizer, and specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.

光重合開始剤としては、放射線硬化性樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を、単独で又は複数種を混合して用いることが好ましい。また、放射線硬化性樹脂がカチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を、単独で又は複数種を混合として用いることが好ましい。   As the photopolymerization initiator, when the radiation curable resin is a resin system having a radically polymerizable unsaturated group, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, benzoin, benzoin methyl ether, etc. may be used alone or in combination. It is preferable to use a mixture of seeds. Further, when the radiation curable resin is a resin system having a cationic polymerizable functional group, examples of the photopolymerization initiator include aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metallocene compounds, benzoin sulfonic acid esters, etc. Are preferably used alone or as a mixture of two or more.

光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する放射線硬化性樹脂の場合、放射線硬化性樹脂との相溶性がよく黄変が少ない点で、IRGACURE 184(BASF社製)として市販されている1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが好ましい。   As a photopolymerization initiator, in the case of a radiation curable resin having a radical polymerizable unsaturated group, IRGACURE 184 (manufactured by BASF) is commercially available because it has good compatibility with the radiation curable resin and little yellowing. 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone is preferred.

第二の層における光重合開始剤の含有量は、放射線硬化性樹脂100質量部に対して、1質量部〜10質量部であることが好ましい。光重合開始剤の含有量が1質量部以上であることで、第二の層を所望の硬度とすることができる。また、光重合開始剤の含有量が10質量部以下であることで、塗設した膜の深部まで電離放射線が届くようになり、内部硬化が促進される。
光重合開始剤の含有量として、より好ましい下限は2質量部であり、より好ましい上限は8質量部である。光重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで、膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。
The content of the photopolymerization initiator in the second layer is preferably 1 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radiation curable resin. A 2nd layer can be made into desired hardness because content of a photoinitiator is 1 mass part or more. In addition, when the content of the photopolymerization initiator is 10 parts by mass or less, ionizing radiation reaches the deep part of the coated film, and internal curing is promoted.
As content of a photoinitiator, a more preferable minimum is 2 mass parts, and a more preferable upper limit is 8 mass parts. When the content of the photopolymerization initiator is in this range, a hardness distribution does not occur in the film thickness direction, and uniform hardness is likely to occur.

−無機微粒子−
第二の層は、層を硬化する硬化剤として、無機微粒子の少なくとも一種を含有することが好ましい。無機微粒子を含有することで、無機微粒子の持つ硬さに寄与して膜の硬度や屈折率を調整することができる。また、無機微粒子として親疎水性基で変性した微粒子を選択した場合、第二の層の表面の濡れ性や、第二の層上に形成された層との層間密着力を制御することができる。
-Inorganic fine particles-
The second layer preferably contains at least one kind of inorganic fine particles as a curing agent for curing the layer. By containing inorganic fine particles, the hardness and refractive index of the film can be adjusted by contributing to the hardness of the inorganic fine particles. When fine particles modified with a hydrophilic / hydrophobic group are selected as the inorganic fine particles, the wettability of the surface of the second layer and the interlayer adhesion with the layer formed on the second layer can be controlled.

無機微粒子の平均粒子径としては、特に第二の層の硬度をより高める点で、2nm〜200nmの範囲が好ましく、10nm〜150nmの範囲がより好ましい。
平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求められる。具体的には、粒子の投影面積を求め、投影面積から円相当径を求めて、平均粒子径(平均一次粒子径)とする。平均粒子径は、300個以上の粒子について投影面積を測定して、円相当径を求めることで算出される値である。
The average particle size of the inorganic fine particles is preferably in the range of 2 nm to 200 nm, more preferably in the range of 10 nm to 150 nm, particularly in terms of further increasing the hardness of the second layer.
The average particle diameter is determined from a photograph obtained by observing dispersed particles with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the particles is obtained, the equivalent circle diameter is obtained from the projected area, and the average particle diameter (average primary particle diameter) is obtained. The average particle diameter is a value calculated by measuring the projected area of 300 or more particles and obtaining the equivalent circle diameter.

無機微粒子としては、無機酸化物粒子等の無機粒子が挙げられる。無機酸化物粒子としては、Si、Al、及びZrから選ばれる元素を有する無機酸化物粒子が好ましく、例えば、二酸化ケイ素(シリカ)、二酸化チタン(チタニア)、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム(アルミナ)などの粒子が挙げられる。中でも、分散性の点で、二酸化ケイ素粒子、酸化アルミニウム粒子がより好ましく、アスペクト比を制御できる点で、アルミナ粒子が更に好ましい。   Examples of the inorganic fine particles include inorganic particles such as inorganic oxide particles. As the inorganic oxide particles, inorganic oxide particles having an element selected from Si, Al, and Zr are preferable, and examples thereof include silicon dioxide (silica), titanium dioxide (titania), zirconium oxide, and aluminum oxide (alumina). Particles. Among these, silicon dioxide particles and aluminum oxide particles are more preferable from the viewpoint of dispersibility, and alumina particles are more preferable from the viewpoint that the aspect ratio can be controlled.

無機酸化物粒子のアスペクト比は、300以上800以下の範囲が好ましい。すなわち、無機酸化物粒子は、層の割れを防ぎ、層厚を厚くした場合でも割れの発生防止効果が得られる点で、繊維状、棒状、針状などの細長い形状を持つ粒子が好ましい。アスペクト比が300以上800以下である無機酸化物粒子を含むことで、層の厚膜化が可能になり、厚膜にしても割れ難く、しかも層自体の硬度も上がるので耐砂性も良化する。
具体的には、繊維状もしくは針状の形状を持つアルミナ水和物粒子又はアルミナ粒子が特に好適である。
アスペクト比としては、アスペクト比は、粒子を電子顕微鏡で観察し、各粒子の短軸長さと長軸長さを計測し、計測された短軸長さに対する長軸長さの比として求められる。
The aspect ratio of the inorganic oxide particles is preferably in the range of 300 to 800. That is, the inorganic oxide particles are preferably particles having an elongated shape such as a fiber shape, a rod shape, or a needle shape, from the viewpoint of preventing cracking of the layer and obtaining an effect of preventing the occurrence of cracking even when the layer thickness is increased. By including inorganic oxide particles with an aspect ratio of 300 or more and 800 or less, it is possible to increase the thickness of the layer, and even if it is thick, it is difficult to break, and the hardness of the layer itself also increases, so sand resistance is also improved. To do.
Specifically, alumina hydrate particles or alumina particles having a fibrous or needle-like shape are particularly suitable.
As the aspect ratio, the aspect ratio is obtained as a ratio of the major axis length to the measured minor axis length by observing the particles with an electron microscope, measuring the minor axis length and the major axis length of each particle.

シリカ粒子としては、四塩化ケイ素の燃焼によって製造される乾燥粉末状のシリカを用いることもできるが、二酸化ケイ素が溶媒中に分散したコロイダルシリカを用いることがより好ましい。具体的には、シリカ粒子の例として、日産化学工業社製のスノーテックスシリーズ(例えば、スノーテックスMEK−ST、同MEK−ST−L、同MEK−ST−XL、同O−L等)、AGC社製のサンスクエアH−121−ETなどが挙げられる。   As the silica particles, dry powdery silica produced by combustion of silicon tetrachloride can be used, but colloidal silica in which silicon dioxide is dispersed in a solvent is more preferable. Specifically, as an example of silica particles, the Snowtex series (for example, Snowtex MEK-ST, same MEK-ST-L, same MEK-ST-XL, same OL) manufactured by Nissan Chemical Industries, Examples thereof include Sun Square H-121-ET manufactured by AGC.

酸化ジルコニウム粒子としては、例えば、日産化学工業社製のナノユースシリーズ(例えば、ナノユースZR等)などが挙げられる。   Examples of the zirconium oxide particles include nano-use series (for example, nano-use ZR) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.

アルミナ水和物粒子は、無定形、ベーマイト、及び擬ベーマイトから選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、ベーマイト又は擬ベーマイトがさらに好ましい。
ここで、ベーマイトとは、Al23・nH2O(n=1〜1.5)で表されるアルミナ水和物の結晶である。また、擬ベーマイトとは、ベーマイトのコロイド状凝集体をさす。
なお、無機酸化物粒子として用いることができるアルミナ粒子の結晶系はγ、θ及びαから選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、γ又はθがさらに好ましい。
市販品としては、例えば、川研ファインケミカル(株)製のベーマイトゾル、川研ファインケミカル社製のアルミナゾルA−2、日産化学社製のAS−520、扶桑化学社製のクォートロン、住友化学社製のAKPシリーズなどが挙げられる。また、アスペクト比が比較的大きい(長軸長さ/短軸長さ=300〜800)粒子の例として、川研ファインケミカル社製の酸化アルミニウム(アルミナゾルF−1000(アスペクト比:350)、アルミナゾルF−3000(アスペクト比750)等)などが挙げられる。
The alumina hydrate particles are preferably at least one selected from amorphous, boehmite, and pseudoboehmite, and more preferably boehmite or pseudoboehmite.
Here, boehmite is a crystal of alumina hydrate represented by Al 2 O 3 .nH 2 O (n = 1 to 1.5). Pseudo boehmite refers to a colloidal aggregate of boehmite.
The crystal system of alumina particles that can be used as inorganic oxide particles is preferably at least one selected from γ, θ, and α, and more preferably γ or θ.
Examples of commercially available products include boehmite sol manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd., alumina sol A-2 manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd., AS-520 manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., Quartron manufactured by Fuso Chemical Co., Ltd., and manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. Examples include the AKP series. Examples of particles having a relatively large aspect ratio (major axis length / minor axis length = 300 to 800) include aluminum oxide (alumina sol F-1000 (aspect ratio: 350), alumina sol F manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd. -3000 (aspect ratio 750) and the like.

アルミナ水和物粒子又はアルミナ粒子は、水性溶液に分散していることが好ましい。アルミナ水和物粒子又はアルミナ粒子が分散している水性溶液を水性アルミナゾルといい、この水性アルミナゾルは、加水分解性アルミニウム化合物を加水分解し、酸性下でコロイドを形成することにより製造することができる。加水分解性アルミニウム化合物には、各種の無機アルミニウム化合物及び有機性の基を有するアルミニウム化合物が包含される。無機アルミニウム化合物としては、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウムなどの無機酸の塩、アルミン酸ナトリウムなどのアルミン酸塩、水酸化アルミニウムなどが例示される。
また、有機性の基を有するアルミニウム化合物としては、酢酸アルミニウムなどのカルボン酸塩、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムn−ブトキシド、アルミニウムsec−ブトキシドなどのアルミニウムアルコキシド、環状アルミニウムオリゴマー、ジイソプロポキシ(エチルアセトアセタト)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセタト)アルミニウムなどのアルミニウムキレート、アルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物などが例示される。
The alumina hydrate particles or alumina particles are preferably dispersed in an aqueous solution. Alumina hydrate particles or an aqueous solution in which alumina particles are dispersed is called an aqueous alumina sol, and this aqueous alumina sol can be produced by hydrolyzing a hydrolyzable aluminum compound to form a colloid under acidic conditions. . The hydrolyzable aluminum compound includes various inorganic aluminum compounds and aluminum compounds having an organic group. Examples of the inorganic aluminum compound include salts of inorganic acids such as aluminum chloride, aluminum sulfate, and aluminum nitrate, aluminates such as sodium aluminate, and aluminum hydroxide.
Examples of the aluminum compound having an organic group include carboxylates such as aluminum acetate, aluminum ethoxide, aluminum isopropoxide, aluminum n-butoxide, aluminum sec-butoxide, and other aluminum alkoxides, cyclic aluminum oligomers, Illustrative are aluminum chelates such as propoxy (ethylacetoacetate) aluminum and tris (ethylacetoacetate) aluminum, and organoaluminum compounds such as alkylaluminum.

これらの化合物のうち、適度な加水分解性を有し、副生成物の除去が容易であることなどから、アルミニウムアルコキシドが好ましく、炭素数2〜5のアルコキシル基を有するものが特に好ましい。
加水分解に使用する酸としては、塩酸、硝酸、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸などの一価の酸が好ましく、操作性、経済性の点で酢酸が特に好ましい。酸の使用量は、アルミニウムアルコキシドに対して、0.2モル倍〜2.0モル倍であり、好ましくは0.3モル倍〜1.8モル倍である。加水分解に使用する酸の使用量を上記範囲内とすることにより、得られる粒子の平均アスペクト比を所望の範囲とすることができ、かつ経時安定性を高めることができる。
なお、加水分解は、100℃以下で0.1時間〜3時間行うことが好ましい。
Among these compounds, aluminum alkoxides are preferable and those having an alkoxyl group having 2 to 5 carbon atoms are particularly preferable because they have moderate hydrolyzability and easy removal of by-products.
As the acid used for the hydrolysis, monovalent acids such as hydrochloric acid, nitric acid, formic acid, acetic acid, propionic acid and butyric acid are preferable, and acetic acid is particularly preferable in terms of operability and economy. The usage-amount of an acid is 0.2 mol times-2.0 mol times with respect to aluminum alkoxide, Preferably it is 0.3 mol times-1.8 mol times. By making the usage-amount of the acid used for a hydrolysis into the said range, the average aspect-ratio of the particle | grains obtained can be made into a desired range, and stability with time can be improved.
In addition, it is preferable to perform a hydrolysis for 0.1 hour-3 hours at 100 degrees C or less.

加水分解するアルミニウムアルコキサイドの酸水溶液の固形分濃度は、2質量%〜15質量%が好ましく、好ましくは3質量%〜10質量%である。固形分濃度を上記範囲内とすることにより、得られる粒子の平均アスペクト比を所望の範囲とすることができ、反応液の撹拌性も高めることができる。
加水分解で生成したアルコールを留去後、解膠処理を行う。解膠処理は、100℃〜200℃で0.1時間〜10時間、更に好ましくは110〜180℃で0.5時間〜5時間加熱して行うことが好ましい。
このようにして、所望の平均アスペクト比を有する無機酸化物粒子が得られる。
The solid content concentration of the acid solution of the aluminum alkoxide to be hydrolyzed is preferably 2% by mass to 15% by mass, and preferably 3% by mass to 10% by mass. By setting the solid content concentration within the above range, the average aspect ratio of the obtained particles can be set to a desired range, and the stirrability of the reaction liquid can be enhanced.
After the alcohol produced by hydrolysis is distilled off, peptization is performed. The peptization treatment is preferably performed by heating at 100 ° C. to 200 ° C. for 0.1 hour to 10 hours, more preferably 110 to 180 ° C. for 0.5 hour to 5 hours.
In this way, inorganic oxide particles having a desired average aspect ratio are obtained.

無機酸化物粒子の、第二の層中におけるバインダー及び無機酸化物粒子に対する体積比率は、15体積%以上40体積%以下であることが好ましい。無機酸化物粒子の体積比率が15体積%以上であると、粒子含量が少なくなり過ぎず、第二の層の表面のビッカース硬度をより高く維持することができる。また、無機酸化物粒子の体積比率が40体積%以下であると、バインダーに対する粒子の相対量が多くなり過ぎないため、層の割れの発生防止効果が高い。   The volume ratio of the inorganic oxide particles to the binder and the inorganic oxide particles in the second layer is preferably 15% by volume or more and 40% by volume or less. When the volume ratio of the inorganic oxide particles is 15% by volume or more, the particle content does not decrease too much, and the Vickers hardness of the surface of the second layer can be maintained higher. Further, when the volume ratio of the inorganic oxide particles is 40% by volume or less, the relative amount of the particles with respect to the binder does not increase excessively, so that the effect of preventing generation of cracks in the layer is high.

−界面活性剤−
第二の層には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を含有することができる。
-Surfactant-
Various surfactants may be added to the second layer from the viewpoint of further improving coatability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be contained.

フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431、同FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−382、同SC−101、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC1068、同SC−381、同SC−383、同S393、同KH−40(以上、旭硝子(株)製)、PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(OMNOVA社製)等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル(BASF社製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1、パイオニンD−6512、D−6414、D−6112、D−6115、D−6120、D−6131、D−6108−W、D−6112−W、D−6115−W、D−6115−X、D−6120−X(竹本油脂(株)製)、ソルスパース20000(日本ルーブリゾール(株)製)、ナロアクティーCL−95、HN−100(三洋化成工業(株)製)等が挙げられる。
カチオン系界面活性剤としては、例えば、フタロシアニン誘導体(商品名:EFKA−745、森下産業(株)製)、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社化学(株)製)、W001(裕商(株)製)等が挙げられる。
アニオン系界面活性剤としては、例えば、W004、W005、W017(裕商(株)社製)、サンデッドBL(三洋化成工業(株)製)等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング(株)製「トーレシリコーンDC3PA」、「トーレシリコーンSH7PA」、「トーレシリコーンDC11PA」,「トーレシリコーンSH21PA」,「トーレシリコーンSH28PA」、「トーレシリコーンSH29PA」、「トーレシリコーンSH30PA」、「トーレシリコーンSH8400」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「TSF−4440」、「TSF−4300」、「TSF−4445」、「TSF−4460」、「TSF−4452」、信越シリコーン株式会社製「KP341」、「KF6001」、「KF6002」、ビックケミー社製「BYK307」、「BYK323」、「BYK330」等が挙げられる。
界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。
界面活性剤の添加量は、水性組成物の全質量に対して、0.001質量%〜2.0質量%が好ましく、より好ましくは0.005質量%〜1.0質量%である。
Examples of the fluorosurfactant include Megafac F171, F172, F173, F176, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, F780, F781 (above DIC Corporation), Florard FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M Limited), Surflon S-382, SC-101, Same SC-103, Same SC-104, Same SC-105, Same SC1068, Same SC-381, Same SC-383, Same S393, Same KH-40 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PF636, PF656, PF6320 PF6520, PF7002 (manufactured by OMNOVA), and the like.
Nonionic surfactants include, for example, glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerin ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl. Ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester (Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5 manufactured by BASF) , 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1, Pi Nin D-6512, D-6414, D-6112, D-6115, D-6120, D-6131, D-6108-W, D-6112-W, D-6115-W, D-6115-X, D -6120-X (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.), Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NAROACTY CL-95, HN-100 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) and the like.
Examples of the cationic surfactant include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.), organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid (co ) Polymer Polyflow No. 75, no. 90, no. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), W001 (manufactured by Yusho Co., Ltd.) and the like.
Examples of the anionic surfactant include W004, W005, W017 (manufactured by Yusho Co., Ltd.), sanded BL (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.), and the like.
Examples of the silicone surfactant include “Toray Silicone DC3PA”, “Toray Silicone SH7PA”, “Toray Silicone DC11PA”, “Tore Silicone SH21PA”, “Tore Silicone SH28PA”, “Toray Silicone” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. “Silicone SH29PA”, “Toresilicone SH30PA”, “Toresilicone SH8400”, “TSF-4440”, “TSF-4300”, “TSF-4445”, “TSF-4460”, “TSF” manufactured by Momentive Performance Materials, Inc. -4552 "," KP341 "," KF6001 "," KF6002 "manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.," BYK307 "," BYK323 "," BYK330 "manufactured by Big Chemie.
Only one type of surfactant may be used, or two or more types may be combined.
The addition amount of the surfactant is preferably 0.001% by mass to 2.0% by mass, and more preferably 0.005% by mass to 1.0% by mass with respect to the total mass of the aqueous composition.

第二の層は、塗布により形成することができる。例えば、硬化性樹脂を含有する硬化性組成物を調製し、この組成物を塗布液として塗布し、紫外線照射して硬化させる方法等が挙げられる。
塗布は、グラビアコーター、リバースコーター、ダイコーター、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等の公知の塗布装置を用いた塗布法により行うことができる。
The second layer can be formed by coating. For example, the method etc. which prepare the curable composition containing curable resin, apply | coat this composition as a coating liquid, and make it harden | cure by ultraviolet irradiation are mentioned.
The coating can be performed by a coating method using a known coating apparatus such as a gravure coater, a reverse coater, a die coater, a blade coater, a roll coater, an air knife coater, a screen coater, a bar coater, or a curtain coater.

第二の層を形成するための組成物は、既述の成分以外に、溶剤や各種添加剤を含有してもよい。
溶剤としては、例えば、炭化水素類、ハロゲン化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類等が挙げられ、具体的には、キシレン、ジブチルエーテル等が好適に挙げられる。
添加剤としては、例えば、光重合開始剤、帯電防止剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料、分散剤、シランカップリング等が挙げられる。
The composition for forming the second layer may contain a solvent and various additives in addition to the components described above.
Examples of the solvent include hydrocarbons, hydrogen halides, ethers, esters, ketones and the like, and specifically, xylene, dibutyl ether and the like are preferable.
Examples of additives include photopolymerization initiators, antistatic agents, leveling agents, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, antifoaming agents, thickeners, antisettling agents, pigments, dispersants, silane cups. A ring etc. are mentioned.

第二の層の厚みとしては、用途等により適宜選択すればよいが、0.2μm〜10μmが好ましく、より好ましくは0.5μm〜7μmである。第二の層の厚みは、第二の層を塗布形成するための塗工液の塗布量を調整することにより制御することができる。   The thickness of the second layer may be appropriately selected depending on the use and the like, but is preferably 0.2 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 7 μm. The thickness of the second layer can be controlled by adjusting the coating amount of the coating liquid for coating and forming the second layer.

〜第二の態様〜
本発明の第二の態様に係る太陽電池用裏面保護シートは、第一の態様において積層された第一の層と基材と第二の層とに加え、さらに第二の層上に第三の層を設けて構成されている。第二の層に加えて第三の層を有することで、各層間での機能分離が可能になる結果、最表面の硬度を高めやすく、平滑化しやすくなる利点がある。
-Second embodiment-
The back surface protection sheet for solar cells according to the second aspect of the present invention includes a third layer on the second layer in addition to the first layer, the base material, and the second layer laminated in the first aspect. This layer is provided. By having the third layer in addition to the second layer, it is possible to separate the functions between the layers, and as a result, there is an advantage that the hardness of the outermost surface can be easily increased and smoothed.

第二の態様における第一の層、及び基材の詳細は、第一の態様における場合と同様であり、好ましい態様も同様である。
また、第二の態様における第二の層は、第一の態様における場合と同様に構成することができ、好ましい態様も同様であるが、さらに後述する弾性回復性樹脂を含めて構成することも好適な態様である。
The details of the first layer and the substrate in the second embodiment are the same as in the first embodiment, and the preferred embodiments are also the same.
In addition, the second layer in the second embodiment can be configured in the same manner as in the first embodiment, and the preferred embodiment is also the same, but it can also be configured to include an elastic recovering resin described later. This is a preferred embodiment.

−弾性回復性樹脂−
第二の層は、その上に第三の層を有する場合には、砂や塵などが衝突した場合に自己修復されるような弾性回復機能を持つ層に形成されてもよい。具体的には、第二の層は、ビッカース硬度が1.0×10Pa以下であり且つ弾性回復率が60%以上である層に構成されてもよい。
第三の層の下に弾性回復性樹脂を含む第二の層を有することで、第三の層に砂や塵などが衝突した場合の衝撃を吸収できることにより、耐砂性をより向上させることができる。
-Elastic recovery resin-
When the second layer has the third layer thereon, the second layer may be formed into a layer having an elastic recovery function that is self-repaired when sand or dust collides. Specifically, the second layer may be configured as a layer having a Vickers hardness of 1.0 × 10 9 Pa or less and an elastic recovery rate of 60% or more.
By having a second layer containing an elastic recovering resin under the third layer, it is possible to absorb the impact when sand or dust collides with the third layer, thereby improving sand resistance. Can do.

第二の層を上記のような硬さ及び弾性回復率を有する層として設ける場合、例えば、光硬化性樹脂(例えば、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂、ポリエステル(メタ)アクリレート樹脂、シリコーン(メタ)アクリレート樹脂、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂など)、熱硬化性樹脂(例えば、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂(尿素樹脂)、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂など)等を用いて構成することができる。   When the second layer is provided as a layer having the above-described hardness and elastic recovery rate, for example, a photocurable resin (for example, urethane (meth) acrylate resin, polyester (meth) acrylate resin, silicone (meth) acrylate) Resin, epoxy (meth) acrylate resin, etc.), thermosetting resin (eg, urethane resin, phenol resin, urea resin (urea resin), phenoxy resin, silicone resin, polyimide resin, diallyl phthalate resin, furan resin, bismaleimide resin , Cyanate resin, etc.).

中でも、光硬化性樹脂が好ましく、硬度を調整しやすいという観点から、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂が好ましい。
ウレタン(メタ)アクリレート樹脂は、例えば、ポリエステルポリオール(A)とポリイソシアネート(B)とを反応させてイソシアネート基末端ウレタンプレポリマーを合成した後に、水酸基含有(メタ)アクリレート化合物(C)を反応させて得られる生成物、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂とイソシアネートとの重合体、等が好適に挙げられる。
Among these, a photocurable resin is preferable, and a urethane (meth) acrylate resin is preferable from the viewpoint of easy adjustment of hardness.
Urethane (meth) acrylate resin, for example, after reacting polyester polyol (A) and polyisocyanate (B) to synthesize an isocyanate group-terminated urethane prepolymer, reacts with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound (C). Preferred examples thereof include a product obtained from the above, a polymer of an acrylic resin having a hydroxyl group and an isocyanate, and the like.

ポリエステルポリオール(A)は、多塩基酸と多価アルコールとを反応させて得られるものであり、その具体例として、ポリテトラメチレングリコール(PTMG)、ポリオキシプロピレンジオール(PPG)、ポリオキシエチレンジオール等が挙げられる。
また、ポリイソシアネート(B)は、分子中にイソシアネート基を2個以上有するものであれば特に制限はなく、その具体例として、2,4−トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)等が挙げられる。
水酸基含有(メタ)アクリレート化合物(C)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリシドールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。
The polyester polyol (A) is obtained by reacting a polybasic acid and a polyhydric alcohol. Specific examples thereof include polytetramethylene glycol (PTMG), polyoxypropylene diol (PPG), and polyoxyethylene diol. Etc.
The polyisocyanate (B) is not particularly limited as long as it has two or more isocyanate groups in the molecule. Specific examples thereof include 2,4-tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), Examples include hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and xylylene diisocyanate (XDI).
Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound (C) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, glycidol di (meth) acrylate, penta Examples include erythritol triacrylate.

上記したポリエステルポリオール(A)、ポリイソシアネート(B)、及び水酸基含有(メタ)アクリレート化合物(C)を用いて合成されるウレタン(メタ)アクリレート樹脂としては、市販品を用いてもよい。市販品の例としては、日本合成社製の紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂(例えば、UV1700B、UV6300B、UV7600B等)などが挙げられる。   A commercially available product may be used as the urethane (meth) acrylate resin synthesized using the above-described polyester polyol (A), polyisocyanate (B), and hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound (C). Examples of commercially available products include UV curable urethane acrylate resins (for example, UV1700B, UV6300B, UV7600B, etc.) manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.

また、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂とイソシアネートとの重合体としては、特開2012−25821号公報の「請求項2」及び「請求項3」並びに段落0142〜0148に記載された方法により調製することができる。   Further, a polymer of an acrylic resin having a hydroxyl group and an isocyanate should be prepared by the method described in “Claim 2” and “Claim 3” and paragraphs 0142 to 0148 of JP 2012-25821 A. Can do.

第二の層は、表面の防汚性等の点で、フッ素原子を含有している態様が好ましい。
フッ素原子を含有させる方法としては、例えば、上述した水酸基含有(メタ)アクリレート化合物(C)とともに、含フッ素アクリレートモノマーを併用する方法や、特開2011−158751号公報の段落0124等に記載のフッ素化処理により含有させることができる。
The aspect in which the second layer contains a fluorine atom is preferable in terms of surface antifouling property and the like.
Examples of the method of containing a fluorine atom include a method of using a fluorine-containing acrylate monomer together with the above-mentioned hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound (C), and fluorine described in paragraph 0124 of JP2011-158751A. It can be contained by the chemical treatment.

−ポリロタキサン−
第二の層を上記のような硬さ及び弾性回復率を有する層として設ける場合、第二の層の好適な他の態様として、例えばポリロタキサンを含有する層として構成することができる。
-Polyrotaxane-
When providing a 2nd layer as a layer which has the above hardness and an elastic recovery factor, as a suitable other aspect of a 2nd layer, it can comprise, for example as a layer containing a polyrotaxane.

ポリロタキサンは、環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に貫かれ、複数の環状分子が直鎖状分子を包接してなる擬ポリロタキサンの両末端(直鎖状分子の両末端)に、環状分子が遊離しないようにブロック基を配置した分子複合体である。
なお、ポリロタキサンとは、分子複合体に加えて、分子複合体同士が環状分子部分で架橋された架橋体、及び分子複合体と他のモノマーやポリマーとが重合した重合体を含む概念である。
The polyrotaxane has an opening portion of a cyclic molecule pierced by a linear molecule, and a plurality of cyclic molecules include the linear molecule at both ends (both ends of the linear molecule). It is a molecular complex in which blocking groups are arranged so that cyclic molecules are not released.
Polyrotaxane is a concept that includes, in addition to a molecular complex, a cross-linked product in which molecular complexes are cross-linked at a cyclic molecular part, and a polymer in which the molecular complex is polymerized with another monomer or polymer.

〜直鎖状分子〜
ポリロタキサンを構成する直鎖状分子は、環状分子に包接され、非共有結合的に一体化することができる分子又は物質であって、直鎖状のものであれば特に制限されない。
なお、「直鎖状分子」とは、高分子を含めた分子及びその他上記の要件を満たす全ての物質をいう。
また、「直鎖状分子」の「直鎖」は、実質的に「直鎖」であることを意味する。すなわち、回転子である環状分子が回転可能もしくは直鎖状分子上で環状分子が摺動移動可能であれば、直鎖状分子は分岐鎖を有していてもよい。また、「直鎖」の長さは、直鎖状分子上で環状分子が摺動又は移動可能であれば、その長さに特に制限はない。
~ Linear molecule ~
The linear molecule constituting the polyrotaxane is not particularly limited as long as it is a molecule or substance that is included in a cyclic molecule and can be integrated non-covalently and is linear.
The “linear molecule” refers to a molecule including a polymer and all other substances satisfying the above requirements.
Further, “linear” of “linear molecule” means substantially “linear”. That is, the linear molecule may have a branched chain as long as the cyclic molecule as a rotor is rotatable or the cyclic molecule is slidable on the linear molecule. Further, the length of the “straight chain” is not particularly limited as long as the cyclic molecule can slide or move on the linear molecule.

直鎖状分子としては、親水性ポリマー(例えば、ポリビニルアルコールやポリビニルピロリドン、ポリ(メタ)アクリル酸、セルロース系樹脂(カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等)、ポリアクリルアミド、ポリアルキレンオキサイド(例えば、ポリエチレングリコール)、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、でんぷん等及び/又はこれらの共重合体など)、疎水性ポリマー(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びその他オレフィン系単量体との共重合樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル−スチレン共重合樹脂等のポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレートや(メタ)アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合樹脂などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルブチラール樹脂など;及びこれらの誘導体又は変性体など)を挙げることができる。   Examples of linear molecules include hydrophilic polymers (for example, polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone, poly (meth) acrylic acid, cellulose resins (carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, etc.), polyacrylamide, polyalkylene oxide (for example, Polyethylene glycol), polyvinyl acetal resin, polyvinyl methyl ether, polyamine, polyethyleneimine, casein, gelatin, starch, and / or copolymers thereof, hydrophobic polymers (eg, polyethylene, polypropylene, and other olefins) Polyolefin resins such as copolymer resins with monomers, polyester resins, polyvinyl chloride resins, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer resins, etc. Acrylic resins such as styrene resin, polymethyl methacrylate, (meth) acrylic acid ester copolymer, acrylonitrile-methyl acrylate copolymer resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, polyvinyl butyral resin, etc. And derivatives or modified products thereof).

これらのうち、直鎖状分子は、ヘイズ値及び反射率の維持率がより高くなる点で、親水性ポリマーであることが好ましく、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、又はポリプロピレンであることがより好ましく、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール及びポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体であることがさらに好ましく、ポリエチレングリコールであることが特に好ましい。   Among these, the linear molecule is preferably a hydrophilic polymer in terms of higher haze value and reflectance maintenance ratio, polyethylene glycol, polypropylene glycol, a copolymer of polyethylene glycol and polypropylene glycol, More preferably, it is polyisoprene, polyisobutylene, polybutadiene, polytetrahydrofuran, polydimethylsiloxane, polyethylene, or polypropylene, more preferably polyethylene glycol, polyethylene glycol, and a copolymer of polyethylene glycol and polypropylene glycol, polyethylene glycol It is particularly preferred that

直鎖状分子は、高い破壊強度を有していることが好ましい。ポリロタキサンを含有する層の破壊強度は、ブロック基と直鎖状分子との結合強度、環状分子と表面被覆層の他の成分との結合強度、環状分子同士の結合強度など、その他の因子にもよるが、直鎖状分子自体が高い破壊強度を有していると、より高い破壊強度が得られる。   The linear molecule preferably has a high breaking strength. The breaking strength of the polyrotaxane-containing layer depends on other factors such as the bond strength between the blocking group and the linear molecule, the bond strength between the cyclic molecule and other components of the surface coating layer, and the bond strength between the cyclic molecules. However, if the linear molecule itself has a high breaking strength, a higher breaking strength can be obtained.

直鎖状分子は、分子量が1,000以上(例えば1,000〜1,000,000)が好ましく、より好ましくは5,000以上(例えば5,000〜1,000,000又は5,000〜500,000)、さらに好ましくは10,000以上(例えば10,000〜1,000,000、10,000〜500,000、又は10,000〜300,000であることが好ましい。
また、直鎖状分子は、環境への影響の観点から、生分解性分子であることが好ましい。
The linear molecule preferably has a molecular weight of 1,000 or more (for example, 1,000 to 1,000,000), more preferably 5,000 or more (for example, 5,000 to 1,000,000 or 5,000 to 5,000). 500,000), more preferably 10,000 or more (for example, 10,000 to 1,000,000, 10,000 to 500,000, or 10,000 to 300,000).
Moreover, it is preferable that a linear molecule is a biodegradable molecule | numerator from a viewpoint of the influence on an environment.

直鎖状分子は、その両末端に反応性基を有するのが好ましい。反応性基を有することで、ブロック基と容易に反応することができる。反応性基は、用いるブロック基に依存するが、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、アルデヒド基などを挙げることができる。   The linear molecule preferably has reactive groups at both ends. By having a reactive group, it can react easily with a blocking group. Although a reactive group is dependent on the block group to be used, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group, an aldehyde group etc. can be mentioned, for example.

〜環状分子〜
ポリロタキサンを構成する環状分子は、直鎖状分子と包接可能な環状分子であれば、いずれの環状分子であってもよい。
なお、「環状分子」とは、環状分子を含む種々の環状物質をいい、実質的に環状である分子又は物質をいう。ここで、「実質的に環状である」とは、英字の「C」のように、完全に閉環ではないものを含む意であり、英字の「C」の一端と多端とが結合しておらず重なった螺旋構造を有するものも含む意である。
~ Cyclic molecule ~
The cyclic molecule constituting the polyrotaxane may be any cyclic molecule as long as it is a cyclic molecule that can be included in a linear molecule.
The “cyclic molecule” refers to various cyclic substances including cyclic molecules, and refers to molecules or substances that are substantially cyclic. Here, “substantially annular” means that the letter “C” is not completely closed, such as the letter “C”, and one end and multiple ends of the letter “C” are not connected. It is also intended to include those having overlapping spiral structures.

環状分子として、例えば、種々のシクロデキストリン類(例えばα−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、ジメチルシクロデキストリン及びグルコシルシクロデキストリン、これらの誘導体又は変性体など)、クラウンエーテル類、ベンゾクラウン類、ジベンゾクラウン類、及びジシクロヘキサノクラウン類、並びにこれらの誘導体又は変性体などを挙げることができる。   Examples of the cyclic molecule include various cyclodextrins (for example, α-cyclodextrin, β-cyclodextrin, γ-cyclodextrin, dimethylcyclodextrin and glucosylcyclodextrin, derivatives or modified products thereof), crown ethers, benzo Examples include crowns, dibenzocrowns, dicyclohexanocrowns, and derivatives or modified products thereof.

シクロデキストリン類及びクラウンエーテル類などは、種類によって環状分子の開口部の大きさが異なる。したがって、直鎖状分子の種類、具体的には用いる直鎖状分子を円柱状と見立てた場合、その円柱の断面の直径、直鎖状分子の疎水性又は親水性などにより、用いる環状分子を選択することができる。また、開口部が相対的に大きな環状分子と、相対的に直径が小さな円柱状の直鎖状分子を用いた場合、環状分子の開口部に2以上の直鎖状分子を包接することもできる。なかでも、環境への影響等の観点から、シクロデキストリン類(特にα−シクロデキストリン)であることが好ましい。   Cyclodextrins and crown ethers differ in the size of the opening of the cyclic molecule depending on the type. Therefore, when the type of linear molecule, specifically, the linear molecule to be used is regarded as a cylinder, the cyclic molecule to be used is determined by the diameter of the cross section of the cylinder, the hydrophobicity or hydrophilicity of the linear molecule, etc. You can choose. When a cyclic molecule having a relatively large opening and a cylindrical linear molecule having a relatively small diameter are used, two or more linear molecules can be included in the opening of the cyclic molecule. . Of these, cyclodextrins (particularly α-cyclodextrin) are preferable from the viewpoint of environmental influences and the like.

直鎖状分子に包接される環状分子の個数(包接量)は、環状分子がシクロデキストリンの場合、その最大包接量を1とすると、0.05〜0.60が好ましく、0.10〜0.50がさらに好ましく、0.20〜0.40がさらに好ましい。   When the cyclic molecule is cyclodextrin, the number of cyclic molecules included in the linear molecule (inclusion amount) is preferably 0.05 to 0.60, with the maximum inclusion amount being 1. 10 to 0.50 is more preferable, and 0.20 to 0.40 is more preferable.

環状分子がα−シクロデキストリンなどのシクロデキストリン系化合物である場合、シクロデキストリン系化合物は、防汚性に優れる点で、水酸基の少なくとも1つが疎水性基によって置換(修飾)されたものが好ましい。
疎水性基の具体例としては、アルキル基、ベンジル基、ベンゼン誘導体含有基、アシル基、シリル基、トリチル基、硝酸エステル基、トシル基、フッ素原子含有有機基、不飽和二重結合基などが挙げられる。中でも、防汚性により優れる点で、アシル基(特にアセチル基)又はフッ素原子含有有機基が好ましい。不飽和二重結合基の具体例は、後述する不飽和二重結合基と同様である。
When the cyclic molecule is a cyclodextrin compound such as α-cyclodextrin, the cyclodextrin compound is preferably one in which at least one hydroxyl group is substituted (modified) with a hydrophobic group in terms of excellent antifouling properties.
Specific examples of hydrophobic groups include alkyl groups, benzyl groups, benzene derivative-containing groups, acyl groups, silyl groups, trityl groups, nitrate ester groups, tosyl groups, fluorine atom-containing organic groups, unsaturated double bond groups, and the like. Can be mentioned. Among them, an acyl group (particularly an acetyl group) or a fluorine atom-containing organic group is preferable because it is more excellent in antifouling properties. Specific examples of the unsaturated double bond group are the same as the unsaturated double bond group described later.

フッ素原子含有有機基は、フッ素原子を含有する1価の有機基であれば特に制限されない。なお、フッ素原子含有有機基は、フッ素原子以外のヘテロ原子(例えば、酸素原子)を含んでいてもよい。
1価の有機基としては、特に制限はなく、具体例として、脂肪族炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基など)、芳香族炭化水素基(例えば、アリール基)、複素環基(例えば、アゾール基、ピリジル基)などが挙げられる。
The fluorine atom-containing organic group is not particularly limited as long as it is a monovalent organic group containing a fluorine atom. The fluorine atom-containing organic group may contain a hetero atom (for example, an oxygen atom) other than the fluorine atom.
The monovalent organic group is not particularly limited, and specific examples thereof include aliphatic hydrocarbon groups (for example, alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, etc.), aromatic hydrocarbon groups (for example, aryl groups), heterocyclic rings. Group (for example, azole group, pyridyl group) and the like.

フッ素原子含有有機基は、防汚性により優れる点で、下記式(1)で表される基であることが好ましい。   The fluorine atom-containing organic group is preferably a group represented by the following formula (1) from the viewpoint of better antifouling properties.

式(1)において、R11は、フッ素原子を有するアルキル基を表し、その具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。
12は、分岐していてもよい1価の炭化水素基を表し、その具体例としては、炭素数1〜30のアルキル基、炭素数1〜30のアルケニル基、炭素数1〜30のアルキニル基などが挙げられ、中でも、炭素数1〜10のアルキル基が好ましい。
11及びL12は、それぞれ独立に、単結合又は2価の連結基を表す。2価の連結基としては、置換もしくは無置換の2価の脂肪族炭化水素基(好ましくは炭素数1〜8。例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基)、置換もしくは無置換の2価の芳香族炭化水素基(好ましくは炭素数6〜12。例えば、フェニレン基などのアリーレン基)、−O−、−S−、−SO−、−N(R)−(R:アルキル基)、−CO−、−NH−、−COO−、−CONH−、又はこれらを組み合わせた基(例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など)などが挙げられる。L11は、アルキレン基であることが好ましい。L12は、下記式(2)で表される基であることが好ましい。式(1)中の「*」は、結合位置を表す。
In the formula (1), R 11 represents an alkyl group having a fluorine atom, and specific examples thereof include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group.
R 12 represents a monovalent hydrocarbon group which may be branched, and specific examples thereof include an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 30 carbon atoms, and an alkynyl group having 1 to 30 carbon atoms. Group etc. are mentioned, Among these, a C1-C10 alkyl group is preferable.
L 11 and L 12 each independently represents a single bond or a divalent linking group. As the divalent linking group, a substituted or unsubstituted divalent aliphatic hydrocarbon group (preferably having 1 to 8 carbon atoms, for example, an alkylene group such as a methylene group, an ethylene group or a propylene group), substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon groups (. preferably arylene group, such as 6 to 12 such as a phenylene group having a carbon number), - O -, - S -, - SO 2 -, - N (R) - (R: Alkyl group), —CO—, —NH—, —COO—, —CONH—, or a combination thereof (for example, an alkyleneoxy group, an alkyleneoxycarbonyl group, an alkylenecarbonyloxy group, and the like). L 11 is preferably an alkylene group. L 12 is preferably a group represented by the following formula (2). “*” In the formula (1) represents a bonding position.

式(2)において、X及びXは、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。また、式(2)中の「*」は、結合位置を表す。 In Formula (2), Xa and Xb each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom. Further, “*” in the formula (2) represents a bonding position.

疎水性基による修飾度は、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数を1とすると、0.02以上(好ましくは1以下)であることが好ましく、0.04以上であることがより好ましく、0.06以上であることがさらに好ましい。
ここで、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数とは、換言すれば、修飾する前にシクロデキストリンが有していた全水酸基数のことである。修飾度とは、換言すれば、修飾された水酸基数の全水酸基数に対する比のことである。
The degree of modification with a hydrophobic group is preferably 0.02 or more (preferably 1 or less), more preferably 0.04 or more, assuming that the maximum number of cyclodextrin hydroxyl groups that can be modified is 1. More preferably, it is 0.06 or more.
Here, the maximum number that the hydroxyl groups of cyclodextrin can be modified is, in other words, the total number of hydroxyl groups that cyclodextrin had before modification. In other words, the degree of modification is the ratio of the number of modified hydroxyl groups to the total number of hydroxyl groups.

〜ブロック基〜
ポリロタキサンを構成するブロック基は、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持する基であれば、いかなる基を用いてもよい。このような基として、例えば「嵩高さ」を有する基及び/又は「イオン性」を有する基などを挙げることができる。ここで、「基」というのは、分子基及び高分子基を含めた種々の基を意味する。また、「イオン性」を有する基の「イオン性」と、環状分子の有する「イオン性」とが影響しあうことにより、例えば反発しあうことにより、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持することができる。
~ Block group ~
As the blocking group constituting the polyrotaxane, any group may be used as long as the cyclic molecule maintains a form in which the cyclic molecule is skewered with a linear molecule. Examples of such a group include a group having “bulkiness” and / or a group having “ionicity”. Here, the “group” means various groups including a molecular group and a polymer group. In addition, the “ionicity” of the group having “ionicity” and the “ionicity” of the cyclic molecule influence each other, for example, by repulsion, the cyclic molecule is skewered by linear molecules. It is possible to retain the form.

また、ブロック基は、上述のように、串刺し状になった形態を保持するものであれば、高分子の主鎖であっても、側鎖であってもよい。ブロック基が高分子Aである場合、マトリクスとして高分子Aがありその一部にポリロタキサンが含まれる形態であってもよいし、逆にマトリクスとしてポリロタキサンがありその一部に高分子Aが含まれる形態であってもよい。このように、種々の特性を有する高分子Aと組み合わせることにより、ポリロタキサンの特性と高分子Aの特性とを組み合わせて有する複合材料を形成することができる。   Further, as described above, the blocking group may be a polymer main chain or a side chain as long as it retains the skewered form. When the blocking group is the polymer A, the matrix may be a polymer A and a part thereof may include a polyrotaxane, or conversely, the matrix may include a polyrotaxane and a part thereof includes the polymer A. Form may be sufficient. Thus, by combining with the polymer A having various characteristics, a composite material having a combination of the characteristics of the polyrotaxane and the characteristics of the polymer A can be formed.

ブロック基の具体例としては、2,4−ジニトロフェニル基、3,5−ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル、シクロデキストリン、アダマンタン、トリチル、フルオレセイン及びピレン、並びにこれらの誘導体又は変性体に由来の基を挙げることができる。
ブロック基は、上記の疎水性基により置換(修飾)されたものでもよい。
Specific examples of the blocking group include dinitrophenyl such as 2,4-dinitrophenyl group and 3,5-dinitrophenyl group, cyclodextrin, adamantane, trityl, fluorescein and pyrene, and groups derived from derivatives or modified products thereof. Can be mentioned.
The blocking group may be substituted (modified) with the hydrophobic group.

〜ポリロタキサンの合成方法〜
ポリロタキサンの合成方法は、特に制限されないが、例えば、特許第2810264号公報や特許第3475252号公報に記載の方法などにより合成することができる。
具体的には、環状分子としてα−シクロデキストリン、直鎖状分子としてポリエチレングリコール、ブロック基として2,4−ジニトロフェニル基、疎水性基としてアセチル基、不飽和二重結合基としてアクリロイル基を用いた場合、例えば、以下のようにして合成することができる。
-Polyrotaxane synthesis method-
The method for synthesizing the polyrotaxane is not particularly limited. For example, the polyrotaxane can be synthesized by the methods described in Japanese Patent No. 2810264 and Japanese Patent No. 3475252.
Specifically, α-cyclodextrin as a cyclic molecule, polyethylene glycol as a linear molecule, 2,4-dinitrophenyl group as a blocking group, acetyl group as a hydrophobic group, and acryloyl group as an unsaturated double bond group are used. For example, it can be synthesized as follows.

まず、後に行うブロック基の導入のために、ポリエチレングリコールの両末端をアミノ基に変性してポリエチレングリコール誘導体を得る。α−シクロデキストリン及びポリエチレングリコール誘導体を混合して擬ポリロタキサンを調製する。調製に際して、最大包接量を1とした場合、包接量が1に対して、0.001〜0.6となるように、例えば混合時間を1〜48時間とし、混合温度を0℃〜100℃とすることができる。   First, in order to introduce a blocking group later, both ends of polyethylene glycol are modified with amino groups to obtain a polyethylene glycol derivative. A pseudo polyrotaxane is prepared by mixing α-cyclodextrin and a polyethylene glycol derivative. At the time of preparation, when the maximum inclusion amount is 1, for example, the mixing time is 1 to 48 hours so that the inclusion amount is 0.001 to 0.6 with respect to 1, and the mixing temperature is 0 ° C. to It can be 100 degreeC.

一般に、ポリエチレングリコールの平均分子量20,000に対して、α−シクロデキストリンは、最大230個包装することができる。したがって、この値が最大包接量である。上記条件は、ポリエチレングリコールの平均分子量20,000を用いて、α−シクロデキストリンが平均60〜65個(63個)、すなわち最大包接量の0.26〜0.29(0.28)の値で包接するための条件である。α−シクロデキストリンの包接量は、NMR、光吸収、元素分析などにより確認することができる。   Generally, up to 230 α-cyclodextrins can be packaged with respect to an average molecular weight of 20,000 of polyethylene glycol. Therefore, this value is the maximum inclusion amount. The above conditions are such that the average molecular weight of polyethylene glycol is 20,000, and α-cyclodextrin has an average of 60 to 65 (63), that is, a maximum inclusion amount of 0.26 to 0.29 (0.28). This is a condition for inclusion by value. The inclusion amount of α-cyclodextrin can be confirmed by NMR, light absorption, elemental analysis and the like.

得られた擬ポリロタキサンを、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に溶解した2,4−ジニトロフルオロベンゼンと反応させることにより、ブロック基を導入したポリロタキサンを得る。   The obtained pseudo polyrotaxane is reacted with 2,4-dinitrofluorobenzene dissolved in N, N-dimethylformamide (DMF) to obtain a polyrotaxane having a blocking group introduced therein.

上述したシクロデキストリン類の疎水性基による修飾は、合成したポリロタキサンに対して行っても、ポリロタキサンを合成する前に予めシクロデキストリン類に対して行ってもよい。
疎水性基としてアセチル基による修飾を行う方法としては、例えば、無水酢酸を用いてシクロデキストリンの水酸基を修飾する方法などが挙げられる。
The above-mentioned modification of the cyclodextrins with a hydrophobic group may be performed on the synthesized polyrotaxane or may be performed on the cyclodextrins in advance before synthesizing the polyrotaxane.
Examples of the method of modifying with a acetyl group as a hydrophobic group include a method of modifying a hydroxyl group of cyclodextrin with acetic anhydride.

〜ポリロタキサンの好適な態様〜
ポリロタキサンは、防汚性に優れる点で、環状分子に、アシル基(特にアセチル基)及びフッ素原子含有有機基からなる群より選択される少なくとも一種の基を有するものが好ましく、フッ素原子含有有機基を有するものがより好ましく、アシル基(特にアセチル基)及びフッ素原子含有有機基を有するものがさらに好ましい。
-Preferable embodiment of polyrotaxane-
The polyrotaxane is preferably one having at least one group selected from the group consisting of an acyl group (particularly an acetyl group) and a fluorine atom-containing organic group in the cyclic molecule in terms of excellent antifouling properties. More preferred are those having an acyl group (particularly an acetyl group) and a fluorine atom-containing organic group.

第二の層中のポリロタキサンの含有量は、ヘイズ値及び反射率の維持率がより高くなる点で、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、20質量%以上がさらに好ましく、30質量%以上がよりさらに好ましく、50質量%以上が特に好ましい。
また、第二の層中の、フッ素原子含有有機基を有するポリロタキサンの含有量は、ヘイズ値及び反射率の維持率がより高くなる点で、0.1質量%〜50質量%が好ましく、0.5質量%以上30質量%未満がより好ましく、1質量%〜20質量%がさらに好ましく、10質量%〜20質量%が特に好ましい。
ポリロタキサンの含有量は、NMR法(溶液NMR法、固体NMR法)や特開2010−261134号公報に記載のX線回折法などにより求めることができる。
The content of the polyrotaxane in the second layer is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and even more preferably 20% by mass or more in terms of higher haze value and reflectivity maintenance rate. 30 mass% or more is still more preferable, and 50 mass% or more is especially preferable.
In addition, the content of the polyrotaxane having a fluorine atom-containing organic group in the second layer is preferably 0.1% by mass to 50% by mass in terms of higher haze value and reflectivity maintenance rate. More preferably, the content is more than 5% by mass and less than 30% by mass, more preferably 1% by mass to 20% by mass, and particularly preferably 10% by mass to 20% by mass.
The content of the polyrotaxane can be determined by an NMR method (solution NMR method, solid NMR method), an X-ray diffraction method described in JP 2010-261134 A, or the like.

なお、後述する環状分子に反応性基と重合性基の少なくとも一方を有するポリロタキサンを含む層形成用組成物を用いて硬化された第二の層を形成する場合、第二の層中のポリロタキサンの含有量とは、層形成用組成物中の全固形分に対するポリロタキサンの含有量(質量%)をさす。同様に、後述する環状分子に反応性基と重合性基の少なくとも一方を有するポリロタキサンを含む層形成用組成物を用いて硬化された第二の層を形成する場合、第二の層中のフッ素原子含有有機基を有するポリロタキサンの含有量とは、層形成用組成物中の全固形分に対するフッ素原子含有有機基を有するポリロタキサンの含有量(質量%)をさす。   In addition, when forming the 2nd layer hardened | cured using the composition for layer formation containing the polyrotaxane which has at least one of a reactive group and a polymeric group in the cyclic molecule mentioned later, of the polyrotaxane in a 2nd layer The content refers to the content (% by mass) of the polyrotaxane relative to the total solid content in the layer forming composition. Similarly, when forming a cured second layer using a layer-forming composition containing a polyrotaxane having at least one of a reactive group and a polymerizable group in a cyclic molecule described later, fluorine in the second layer The content of the polyrotaxane having an atom-containing organic group refers to the content (% by mass) of the polyrotaxane having a fluorine atom-containing organic group with respect to the total solid content in the layer forming composition.

〜ポリロタキサンを含む第二の層の形成方法〜
ポリロタキサンを含有する第二の層を形成する方法としては、特に制限されるものではないが、例えば、環状分子に反応性基を有するポリロタキサンと溶媒とを含む層形成用組成物を、基材上に塗布し、塗布形成された層形成用組成物に加熱処理又は光照射処理の少なくとも一方を施すことで硬化させて第二の層を形成する方法などが挙げられる。
なお、加熱処理又は光照射処理後に、適宜加熱処理又は光照射処理後の組成物から溶媒を使用して未反応の成分を除去してもよい。
-Method for forming second layer containing polyrotaxane-
The method for forming the second layer containing the polyrotaxane is not particularly limited. For example, a layer-forming composition containing a polyrotaxane having a reactive group in a cyclic molecule and a solvent is formed on the substrate. And a method of forming the second layer by applying at least one of heat treatment and light irradiation treatment to the composition for forming a layer formed by coating.
Note that after the heat treatment or light irradiation treatment, unreacted components may be appropriately removed from the composition after the heat treatment or light irradiation treatment using a solvent.

反応性基の具体例は、既述の直鎖状分子の反応性基と同様である。中でも、反応性基は、水酸基(特にポリカプロラクトン基)又は重合性基であることが好ましく、重合性基であることがより好ましい。ここで、ポリカプロラクトン基は、*−(CO−C10O)−H(*:結合位置、n:整数)で表される基である。重合性基の具体例は、不飽和二重結合基であることが好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基であることがより好ましい。 Specific examples of the reactive group are the same as the reactive group of the linear molecule described above. Among these, the reactive group is preferably a hydroxyl group (particularly a polycaprolactone group) or a polymerizable group, and more preferably a polymerizable group. Here, the polycaprolactone group is a group represented by * — (CO—C 5 H 10 O) n —H (*: bond position, n: integer). A specific example of the polymerizable group is preferably an unsaturated double bond group, and more preferably an acryloyl group or a methacryloyl group.

好ましいポリロタキサンとしては、環状分子に不飽和二重結合基を有するポリロタキサンを挙げることができる。
環状分子に不飽和二重結合基を導入する方法としては、例えば、次に挙げる方法が挙げられる。すなわち、イソシアネート化合物などによるカルバメート結合形成による方法;カルボン酸化合物、酸クロリド化合物又は酸無水物などによるエステル結合形成による方法;シラン化合物などによるシリルエーテル結合形成による方法;クロロ炭酸化合物などによるカーボネート結合形成による方法;などである。
As a preferable polyrotaxane, a polyrotaxane having an unsaturated double bond group in a cyclic molecule can be exemplified.
Examples of the method for introducing an unsaturated double bond group into a cyclic molecule include the following methods. That is, a method by carbamate bond formation with isocyanate compounds, etc .; a method by ester bond formation with carboxylic acid compounds, acid chloride compounds or acid anhydrides; a method by silyl ether bond formation with silane compounds, etc .; a carbonate bond formation with chlorocarbonic acid compounds, etc. By the method;

カルバモイル結合を介して、不飽和二重結合基として(メタ)アクリロイル基を導入する場合、ポリロタキサンをジメチルスルホキシド(DMSO)、DMFなどの脱水溶媒に溶解し、イソシアネート基を有する(メタ)アクリロイル化剤を加えることで行う。その他、エーテル結合やエステル結合を介して導入する場合、グリシジル基や酸クロライドなどの活性基を有する(メタ)アクリル化剤を用いることもできる。   When a (meth) acryloyl group is introduced as an unsaturated double bond group via a carbamoyl bond, a polymethrotaxane is dissolved in a dehydrating solvent such as dimethyl sulfoxide (DMSO) or DMF, and a (meth) acryloylating agent having an isocyanate group It is done by adding. In addition, when it introduce | transduces via an ether bond or an ester bond, the (meth) acrylating agent which has active groups, such as a glycidyl group and an acid chloride, can also be used.

環状分子が有する水酸基を不飽和二重結合基に置換する工程は、擬ポリロタキサンを調製する工程の前でも、工程間でも、工程の後でもよい。また、擬ポリロタキサンにブロック基を導入してポリロタキサンを調製する工程の前でも、工程間でも、工程の後でもよい。さらには、ポリロタキサンが環状分子に反応性基を有するポリロタキサンである場合、ポリロタキサン同士を反応させる工程の前でも、工程間でも、工程の後でもよい。これらの2以上の時期に設けることもできる。置換工程は、擬ポリロタキサンにブロック基を導入してポリロタキサンを調製した後であって、ポリロタキサン同士を反応させる前に設けるのが好ましい。置換工程において用いられる条件は、置換する不飽和二重結合基に依存するが、特に制限されず、種々の反応方法、反応条件を用いることができる。   The step of substituting the hydroxyl group of the cyclic molecule with an unsaturated double bond group may be before the step of preparing the pseudopolyrotaxane, between the steps, or after the step. Further, it may be before the step of preparing the polyrotaxane by introducing a blocking group into the pseudopolyrotaxane, between the steps, or after the step. Furthermore, when the polyrotaxane is a polyrotaxane having a reactive group in the cyclic molecule, it may be before the process of reacting the polyrotaxanes with each other or between the processes. It can also be provided at these two or more times. The substitution step is preferably performed after the polyrotaxane is prepared by introducing a blocking group into the pseudopolyrotaxane and before the polyrotaxane is reacted with each other. The conditions used in the substitution step depend on the unsaturated double bond group to be substituted, but are not particularly limited, and various reaction methods and reaction conditions can be used.

(第三の層)
本発明の第二の態様に係る太陽電池用裏面保護シートを構成する第三の層は、(メタ)アクリレート樹脂を含むバインダーと、紫外線吸収顔料と、を少なくとも含有する。
(Third layer)
The 3rd layer which comprises the back surface protection sheet for solar cells which concerns on the 2nd aspect of this invention contains the binder containing a (meth) acrylate resin and an ultraviolet absorption pigment at least.

−バインダー−
第三の層は、バインダーの少なくとも一種を含有し、バインダーの1つとして(メタ)アクリレート樹脂を含有する。(メタ)アクリレート樹脂は、樹脂材料の中でも比較的硬い樹脂であり、少なくとも(メタ)アクリレート樹脂を含むことで、第三の層の表面硬度が高められる。
第三の層における(メタ)アクリレート樹脂は、(メタ)アクリル酸エステルが単独重合もしくは他のモノマー成分と共重合した樹脂であり、第二の層における(メタ)アクリレート樹脂と同様であり、好ましい態様も同様である。
-Binder-
The third layer contains at least one binder and contains a (meth) acrylate resin as one of the binders. The (meth) acrylate resin is a relatively hard resin among the resin materials, and the surface hardness of the third layer is increased by including at least the (meth) acrylate resin.
The (meth) acrylate resin in the third layer is a resin in which (meth) acrylic acid ester is homopolymerized or copolymerized with other monomer components, and is the same as the (meth) acrylate resin in the second layer, which is preferable. The aspect is also the same.

−硬化性樹脂−
第三の層は、(メタ)アクリレート樹脂とともに、硬化性の樹脂、具体的にはエポキシ基含有アルコキシシランと、エポキシ基非含有アルコキシシランと、金属錯体とを含んで硬化された層(ハードコート層)に構成することができる。これにより、第三の層の表面硬度をより高めることができ、またアルカリ耐性も高い。高いアルカリ耐性を持つため、層のヘイズが低く保たれ、光学特性に優れたものとなる。
-Curable resin-
The third layer is a layer (hard coat) that contains a (meth) acrylate resin and a curable resin, specifically, an epoxy group-containing alkoxysilane, an epoxy group-free alkoxysilane, and a metal complex. Layer). Thereby, the surface hardness of the third layer can be further increased, and the alkali resistance is also high. Since it has high alkali resistance, the haze of the layer is kept low and the optical properties are excellent.

エポキシ基含有アルコキシシラン及びエポキシ基非含有アルコキシシランは、水溶性又は水分散性を有するアルコキシシランが好ましい。水溶性又は水分散性であることは、VOC(volatile organic compounds)による環境汚染を低減する点で好ましい。   The epoxy group-containing alkoxysilane and the epoxy group-free alkoxysilane are preferably water-soluble or water-dispersible alkoxysilanes. Water solubility or water dispersibility is preferable in terms of reducing environmental pollution caused by VOC (volatile organic compounds).

エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランは、各々、加水分解性基を有することが好ましい。加水分解性基が酸性の水溶液中で加水分解されることによりシラノールが生成され、シラノール同士が縮合することによって、オリゴマーが生成される。   Each of the epoxy group-containing alkoxysilane and the epoxy group-free alkoxysilane preferably has a hydrolyzable group. Silanol is produced | generated when a hydrolysable group is hydrolyzed in acidic aqueous solution, and an oligomer is produced | generated when silanols condense.

エポキシ基含有アルコキシシランの、エポキシ基含有アルコキシシラン及びエポキシ基非含有アルコキシシランからなるアルコキシシランの総量に対する含有比率は、20質量%〜85質量%が好ましい。エポキシ基含有アルコキシシランの含有比率の下限については、25質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましい。また、上限については、80質量%以下が好ましく、75質量%以下がより好ましい。アルコキシシランの総量に対するエポキシ基含有アルコキシシランの含有比率が上記範囲内であると、第三の層を形成するための組成物を調製した際の組成物安定性の向上に有利であり、アルカリ耐性の強い第三の層を形成しやすくなる。   The content ratio of the epoxy group-containing alkoxysilane to the total amount of the alkoxysilane composed of the epoxy group-containing alkoxysilane and the epoxy group-free alkoxysilane is preferably 20% by mass to 85% by mass. About the minimum of the content rate of an epoxy-group-containing alkoxysilane, 25 mass% or more is preferable and 30 mass% or more is more preferable. Moreover, about an upper limit, 80 mass% or less is preferable, and 75 mass% or less is more preferable. When the content ratio of the epoxy group-containing alkoxysilane with respect to the total amount of the alkoxysilane is within the above range, it is advantageous for improving the stability of the composition when the composition for forming the third layer is prepared, and is resistant to alkali. It becomes easy to form a strong third layer.

エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基を有するアルコキシシランである。エポキシ基含有アルコキシシランとしては、1分子中に1つ以上エポキシ基を有するものであればよく、エポキシ基の数は特に限定されない。エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基の他に、さらに、アルキル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基など基を有していてもよい。   The epoxy group-containing alkoxysilane is an alkoxysilane having an epoxy group. Any epoxy group-containing alkoxysilane may be used as long as it has one or more epoxy groups in one molecule, and the number of epoxy groups is not particularly limited. In addition to the epoxy group, the epoxy group-containing alkoxysilane may further have a group such as an alkyl group, an amide group, a urethane group, a urea group, an ester group, a hydroxy group, or a carboxyl group.

エポキシ基含有アルコキシシランとしては、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。市販品としては、KBE−403(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。   As the epoxy group-containing alkoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltri Ethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl A triethoxysilane etc. can be mentioned. Examples of commercially available products include KBE-403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

エポキシ基非含有アルコキシシランは、エポキシ基を有さないアルコキシシランである。エポキシ基非含有アルコキシシランは、エポキシ基を有さないアルコキシシランであればよく、アルキル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基などの基を有していてもよい。   The epoxy group-free alkoxysilane is an alkoxysilane having no epoxy group. The epoxy group-free alkoxysilane may be an alkoxysilane having no epoxy group, and may have a group such as an alkyl group, an amide group, a urethane group, a urea group, an ester group, a hydroxy group, or a carboxyl group. Good.

エポキシ基非含有アルコキシシランは、テトラアルコキシシラン又はトリアルコキシシランであるか、これらの混合物であることが好ましい。テトラアルコキシシラン又はトリアルコキシシランの混合物であることが好ましく、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランを混合して含有することにより、第三の層を形成した際に適度な柔軟性を有しつつも、十分な硬度を得ることができる。   The epoxy group-free alkoxysilane is preferably a tetraalkoxysilane or trialkoxysilane, or a mixture thereof. It is preferably a mixture of tetraalkoxysilane or trialkoxysilane, and by containing a mixture of tetraalkoxysilane and trialkoxysilane, while having an appropriate flexibility when the third layer is formed, Sufficient hardness can be obtained.

エポキシ基非含有アルコキシシランが、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランの混合物である場合、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランのモル比は、25:75〜85:15であることが好ましく、30:70〜80:20であることがより好ましく、30:70〜65:35であることがさらに好ましい。モル比を上記範囲内とすることにより、アルコキシシランの重合度を所望の範囲内に制御することや加水分解速度及びアルミキレートの溶解性の制御が容易となる。   When the epoxy group-free alkoxysilane is a mixture of tetraalkoxysilane and trialkoxysilane, the molar ratio of tetraalkoxysilane and trialkoxysilane is preferably 25:75 to 85:15, and 30:70 to 80:20 is more preferable, and 30:70 to 65:35 is even more preferable. By setting the molar ratio within the above range, it becomes easy to control the degree of polymerization of the alkoxysilane within a desired range and to control the hydrolysis rate and the solubility of the aluminum chelate.

テトラアルコキシシランは、4官能のアルコキシシランであり、各アルコキシ基の炭素数が1〜4のものがより好ましい。中でも、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが特に好ましく用いられる。炭素数を4以下とすることにより、酸性水と混ぜたときのテトラアルコキシシランの加水分解速度が遅くなりすぎることがなく、均一な水溶液にするまでの溶解に要する時間がより短くなる。これにより、第三の層を製造する際の製造効率を高めることができる。
市販品としては、KBE−04(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。
Tetraalkoxysilane is a tetrafunctional alkoxysilane, more preferably having 1 to 4 carbon atoms in each alkoxy group. Of these, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are particularly preferably used. By setting the number of carbon atoms to 4 or less, the hydrolysis rate of tetraalkoxysilane when mixed with acidic water does not become too slow, and the time required for dissolution until a uniform aqueous solution is shortened. Thereby, the manufacturing efficiency at the time of manufacturing a 3rd layer can be improved.
Examples of commercially available products include KBE-04 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

トリアルコキシシランは、下記の一般式(A)で表される3官能のアルコキシシランである。
RSi(OR ・・・(A)
一般式(A)において、Rは、アミノ基を含まない炭素数1〜15の有機基を表し、Rは、炭素数4以下のアルキル基(例えばメチル基、エチル基等)を表す。
The trialkoxysilane is a trifunctional alkoxysilane represented by the following general formula (A).
RSi (OR 1 ) 3 (A)
In General Formula (A), R represents an organic group having 1 to 15 carbon atoms that does not include an amino group, and R 1 represents an alkyl group having 4 or less carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, or the like).

一般式(A)で表される3官能のアルコキシシランは、アミノ基を官能基として含まない。つまり、この3官能のアルコキシシランは、アミノ基を持たない有機基Rを有している。Rがアミノ基を有する場合は、4官能のアルコキシシランと混合して加水分解すると、生成するシラノール同士で脱水縮合が促進されてしまう。このため、水性組成物が不安定となり好ましくない。   The trifunctional alkoxysilane represented by the general formula (A) does not contain an amino group as a functional group. That is, this trifunctional alkoxysilane has an organic group R having no amino group. When R has an amino group, if it is mixed with a tetrafunctional alkoxysilane and hydrolyzed, dehydration condensation is promoted between the produced silanols. For this reason, an aqueous composition becomes unstable and is not preferable.

一般式(A)中のRは、炭素数1〜15の範囲であるような分子鎖長をもつ有機基であればよい。炭素数を15以下とすることにより、第三の層を形成した際の柔軟性が過度に大きくならず、十分な硬度を得ることができる。Rの炭素数を上記範囲内とすることにより、脆性がより改善された第三の層を得ることができる。また、支持体等の他のフィルムと第三の層の密着性を高めることができる。   R in the general formula (A) may be an organic group having a molecular chain length in the range of 1 to 15 carbon atoms. By setting the number of carbon atoms to 15 or less, the flexibility when the third layer is formed is not excessively large, and sufficient hardness can be obtained. By setting the carbon number of R within the above range, a third layer with improved brittleness can be obtained. Moreover, the adhesiveness of other films, such as a support body, and a 3rd layer can be improved.

さらに、Rで表される有機基は、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を有してもよい。有機基がヘテロ原子を有することで、他のフィルムとの密着性をより向上させることができる。   Furthermore, the organic group represented by R may have a hetero atom such as oxygen, nitrogen, sulfur and the like. Adhesiveness with other films can be further improved because the organic group has a hetero atom.

トリアルコキシシランとしては、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランを挙げることができる。中でも、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシランは特に好ましく用いられる。市販品としては、KBE−13(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。   As trialkoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane, Phenyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyl Trimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenol It can be exemplified Le trimethoxysilane. Of these, methyltriethoxysilane and methyltrimethoxysilane are particularly preferably used. Examples of commercially available products include KBE-13 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

第三の層は、金属錯体(硬化剤)を含むことができる。金属錯体としては、Al、Mg、Mn、Ti、Cu、Co、Zn、Hf、及びZrより選ばれる金属を含む金属錯体が好ましい。また、複数の金属錯体を併用することもできる。   The third layer can include a metal complex (curing agent). As the metal complex, a metal complex containing a metal selected from Al, Mg, Mn, Ti, Cu, Co, Zn, Hf, and Zr is preferable. A plurality of metal complexes can also be used in combination.

金属錯体は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン、アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。   A metal complex can be easily obtained by reacting a metal alkoxide with a chelating agent. Examples of chelating agents include β-diketones such as acetylacetone, benzoylacetone and dibenzoylmethane, β-keto acid esters such as ethyl acetoacetate and ethyl benzoylacetate.

金属錯体の好ましい例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)等のマグネシウムキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビス(エチルアセトアセテート)、マンガンアセチルアセトナート、コバルトアセチルアセトナート、銅アセチルアセトナート、チタンアセチルアセトナート、チタンオキシアセチルアセトナート、等のキレート化合物が挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトナートであり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムキレート錯体であるアルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)が特に好ましい。
市販品としては、アルミキレートA(W)、アルミキレートD、アルミキレートM(川研ファインケミカル(株)製)などが挙げられる。
Preferred examples of the metal complex include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetyl acetate bis (ethyl acetoacetate), aluminum tris (acetylacetonate) Aluminum chelate compounds such as ethyl acetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (ethyl acetoacetate), magnesium acetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (acetylacetonate), etc., zirconium tetraacetylacetonate, zirconium Tributoxyacetylacetonate, zirconium acetylacetate Natobisu (ethylacetoacetate), manganese acetylacetonate, cobalt acetylacetonate, copper acetylacetonate, titanium acetylacetonate, titanium oxy acetylacetonate, chelate compounds and the like. Of these, aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethylacetoacetate), magnesium bis (acetylacetonate), magnesium bis (ethylacetoacetate), and zirconium tetraacetylacetonate are preferred, and storage stability Considering availability, aluminum tris (acetylacetonate) and aluminum tris (ethylacetoacetate), which are aluminum chelate complexes, are particularly preferable.
Examples of commercially available products include aluminum chelate A (W), aluminum chelate D, aluminum chelate M (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), and the like.

金属錯体の含有比率は、エポキシ基含有アルコキシシランに対して、17モル%〜70モル%が好ましい。金属錯体の含有比率は、20モル%以上がより好ましい。また、金属錯体の含有率は、65モル%以下が好ましく、60モル%以下がより好ましい。
金属錯体の含有比率が下限値以上であると、第三の層を形成した際に優れたアルカリ耐性を示し、金属錯体の含有比率が上限値以下であると、水性水溶液中の分散性が良好になり、かつ製造コストが抑えられる。
The content ratio of the metal complex is preferably 17 mol% to 70 mol% with respect to the epoxy group-containing alkoxysilane. The content ratio of the metal complex is more preferably 20 mol% or more. The metal complex content is preferably 65 mol% or less, and more preferably 60 mol% or less.
When the content ratio of the metal complex is not less than the lower limit value, excellent alkali resistance is exhibited when the third layer is formed, and when the content ratio of the metal complex is not more than the upper limit value, the dispersibility in the aqueous solution is good. And the manufacturing cost can be reduced.

−無機微粒子−
第三の層は、更に、無機微粒子を含むことが好ましい。
無機微粒子としては、無機酸化物粒子などが挙げられる。無機金属酸化物粒子の例としては、シリカ粒子、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、チタン粒子等の金属酸化物粒子が好ましく、特にアルコキシシランとの架橋の観点から、シリカ粒子が好ましい。
-Inorganic fine particles-
The third layer preferably further contains inorganic fine particles.
Examples of the inorganic fine particles include inorganic oxide particles. As examples of the inorganic metal oxide particles, metal oxide particles such as silica particles, alumina particles, zirconia particles, and titanium particles are preferable, and silica particles are particularly preferable from the viewpoint of crosslinking with alkoxysilane.

シリカ粒子としては、四塩化ケイ素の燃焼によって製造される乾燥粉末状のシリカを用いることもできるが、二酸化ケイ素又はその水和物が水に分散したコロイダルシリカを用いることがより好ましい。シリカ粒子の例としては、日産化学工業社製のスノーテックスシリーズ(スノーテックス033、スノーテックスO−L等)などが挙げられる。
なお、コロイダルシリカは、水性組成物中に添加される時点でのpHが2〜7の範囲に調整されていることがより好ましい。pHが2〜7であると、2よりも小さいあるいは7よりも大きい場合に比べて、アルコキシシランの加水分解物であるシラノールの安定性がより良好で、このシラノールの脱水縮合反応が速く進行することによる塗布液の粘度上昇を抑制することができる。
As the silica particles, dry powdery silica produced by combustion of silicon tetrachloride can be used, but colloidal silica in which silicon dioxide or a hydrate thereof is dispersed in water is more preferably used. Examples of the silica particles include Snowtex series (Snowtex 033, Snowtex OL, etc.) manufactured by Nissan Chemical Industries.
In addition, as for colloidal silica, it is more preferable that pH at the time of adding in an aqueous composition is adjusted to the range of 2-7. When the pH is 2 to 7, the stability of silanol, which is a hydrolyzate of alkoxysilane, is better than when the pH is less than 2 or greater than 7, and the dehydration condensation reaction of the silanol proceeds faster. The increase in the viscosity of the coating liquid due to this can be suppressed.

無機微粒子の平均粒子径としては、2nm〜200nmの範囲が好ましく、10nm〜150nmの範囲がより好ましい。の範囲がより好ましい。
なお、平均粒子径は、第二の層に含有することができる無機微粒子の平均粒子径の算出方法と同様にして求められる。
The average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably in the range of 2 nm to 200 nm, and more preferably in the range of 10 nm to 150 nm. The range of is more preferable.
The average particle size is determined in the same manner as the method for calculating the average particle size of the inorganic fine particles that can be contained in the second layer.

第三の層では、第三の層の平滑性を向上させて塗膜表面の摩擦を軽減する目的で、第二の層における場合と同様の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤を含有することで、表面に砂塵が付着しにくくなり、耐砂性の向上効果をより高めることができる。   In the third layer, the same surfactant as in the second layer may be added for the purpose of improving the smoothness of the third layer and reducing the friction on the coating film surface. By containing the surfactant, it becomes difficult for dust to adhere to the surface, and the effect of improving sand resistance can be further enhanced.

また、顔料や染料、その他微粒子等を分散させることで、第三の層を着色してもよい。
更に、紫外光吸収剤や酸化防止剤等を添加して、耐候性を向上させてもよい。また、酸(工業用酢酸1質量%水溶液(ダイセル化学工業社製))等を添加してもよい。
Further, the third layer may be colored by dispersing pigments, dyes, and other fine particles.
Furthermore, an ultraviolet light absorber or an antioxidant may be added to improve the weather resistance. Further, an acid (a 1% by mass aqueous solution of industrial acetic acid (manufactured by Daicel Chemical Industries)) or the like may be added.

第三の層の厚みは、用途等により適宜選択すればよいが、0.2μm〜10μmが好ましく、より好ましくは0.5μm〜3μmであり、さらに好ましくは2μm〜3μmである。第三の層の厚みが0.2μm以上、更には0.5μm以上であると、硬く平滑性の高い最表面を得やすい。また、第三の層の厚みが10μm以下、更には3μm以下であると、割れが生じ難い。
第三の層の厚みは、第三の層を塗布形成するための塗工液の塗布量を調整することにより制御することができる。
The thickness of the third layer may be appropriately selected depending on the use and the like, but is preferably 0.2 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 3 μm, and further preferably 2 μm to 3 μm. When the thickness of the third layer is 0.2 μm or more, and further 0.5 μm or more, it is easy to obtain the outermost surface that is hard and has high smoothness. Further, if the thickness of the third layer is 10 μm or less, and further 3 μm or less, cracks are unlikely to occur.
The thickness of the third layer can be controlled by adjusting the coating amount of the coating liquid for coating and forming the third layer.

更に、本発明の太陽電池用裏面保護シートは、以下の性質を有することが好ましい。
基材の第二の層を有する側の最表面が以下の性質を有していることで、耐砂性をより効果的に向上させることができる。
Furthermore, it is preferable that the back surface protection sheet for solar cells of this invention has the following properties.
Sand resistance can be improved more effectively because the outermost surface of the substrate having the second layer has the following properties.

(1)表面粗さ
本発明の太陽電池用裏面保護シートにおいて、基材の第二の層を有する側の最表面の表面粗さは、0.01μm以上0.20μm以下の範囲にあることが好ましい。最表面の表面粗さは、第三層において既述したように、エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランと金属錯体とを含んで硬化された層(ハードコート層)に構成することで上記範囲に調節することができる。
表面粗さが0.01μm以上であると、太陽電池用裏面保護シートに滑り性が向上し容易にハンドリングできる点で有利である。また、表面粗さが0.20μm以下であると、砂等が衝突する際に削られにくくなり、傷等の発生を防ぐことができる点で有利である。
表面粗さとしては、0.05μm以上0.20μm以下が好ましく、0.1μm以上0.15μm以下がより好ましい。
ここでの表面粗さは、3次元光学プロファイラー(Zigo、キャノン社製)を用い、0.3mm×0.3mmの領域における表面粗さとして算出することで求められる値である。
(1) Surface roughness In the back surface protection sheet for solar cells of the present invention, the surface roughness of the outermost surface on the side having the second layer of the substrate may be in the range of 0.01 µm to 0.20 µm. preferable. As described in the third layer, the surface roughness of the outermost surface should be composed of a hardened layer containing an epoxy group-containing alkoxysilane, an epoxy group-free alkoxysilane and a metal complex. To adjust to the above range.
When the surface roughness is 0.01 μm or more, it is advantageous in that the solar cell back surface protective sheet has improved slipperiness and can be easily handled. Further, when the surface roughness is 0.20 μm or less, it is advantageous in that it is difficult to be scraped when sand or the like collides, and generation of scratches or the like can be prevented.
The surface roughness is preferably 0.05 μm or more and 0.20 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.15 μm or less.
The surface roughness here is a value obtained by calculating as the surface roughness in a region of 0.3 mm × 0.3 mm using a three-dimensional optical profiler (Zigo, manufactured by Canon Inc.).

上記の表面粗さは、最表面を形成している層中に含まれる紫外線吸収顔料のサイズ(粒径)や含有量と層の厚みとを調整することで、上記範囲に調節することができる。例えば、最表面を形成している層において、層中に含まれる紫外線吸収顔料の粒径(μm)の層厚(μm)に対する比(=粒径/層厚)を、0.01〜0.15の範囲に調節することで上記範囲にすることができる。紫外線吸収顔料の粒径の層厚に対する比は、0.07〜0.15の範囲に調節されるのが好ましい。   Said surface roughness can be adjusted to the said range by adjusting the size (particle diameter) and content of the ultraviolet absorbing pigment contained in the layer forming the outermost surface and the thickness of the layer. . For example, in the layer forming the outermost surface, the ratio (= particle diameter / layer thickness) of the particle diameter (μm) of the ultraviolet absorbing pigment contained in the layer to the layer thickness (μm) is 0.01 to 0.00. The above range can be obtained by adjusting the range to 15. The ratio of the particle size of the ultraviolet absorbing pigment to the layer thickness is preferably adjusted to a range of 0.07 to 0.15.

(2)表面比抵抗値
本発明の太陽電池用裏面保護シートにおいて、基材の第二の層を有する側の最表面の表面比抵抗値は、1.0×1011Ω/□以上1.0×1014Ω/□以下の範囲にあることが好ましい。最表面の表面比抵抗値が上記範囲内にあることで、砂や塵等が付着し難くなり、付着した砂等に別の砂が衝突した場合に傷等が生じる破壊モードが抑えられ、耐砂性により優れたものとなる。
最表面の表面比抵抗値は、1.0×1012Ω/□以上1.0×1013Ω/□以下の範囲がより好ましい。
最表面の表面比抵抗値の調整は、表面のスタチック性が低下する方法であればいずれの方法によってもよく、例えば、帯電防止剤などの導電材料を最表面を形成する層に含有する方法が挙げられる。帯電防止剤としては、国際公開第2011/068067号明細書パンフレットの段落0034〜0048の記載を参照することができる。具体的な例としては、導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン系ポリマー、ポリピロール系ポリマー、ポリチオフェン系ポリマー、ポリアニリン系ポリマーなどが挙げられ、市販品の例としてBayer社製の導電性ポリマーBaytronを使用できる。更に、導電性酸化物としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、チタン酸カリウム、酸化チタン、スズ−アンチモン系酸化物、インジウム−スズ系酸化物、アンチモン−スズ系酸化物などが挙げられ、市販品の例として三菱マテリアル電子化成社製の導電性酸化物ATO−T−1を使用できる。
上記のほか、アニオン系帯電防止剤、非イオン系帯電防止剤などを用いてもよい。導電材料は、表面比抵抗値が上記範囲を満たす範囲で使用すればよい。
表面比抵抗値は、高抵抗−抵抗率計(ハイレスタ、三菱化学アナリテック社製)を用いて測定される。
(2) Surface Specific Resistance Value In the back protective sheet for solar cells of the present invention, the surface specific resistance value on the outermost surface on the side having the second layer of the substrate is 1.0 × 10 11 Ω / □ or more. It is preferably in the range of 0 × 10 14 Ω / □ or less. When the surface specific resistance value of the outermost surface is within the above range, it is difficult for sand and dust to adhere, and the destruction mode in which scratches etc. occur when another sand collides with the adhered sand is suppressed, and the resistance It becomes better due to sandiness.
The surface specific resistance value on the outermost surface is more preferably in the range of 1.0 × 10 12 Ω / □ to 1.0 × 10 13 Ω / □.
The surface specific resistance value of the outermost surface may be adjusted by any method as long as the surface staticity is lowered. For example, a method of containing a conductive material such as an antistatic agent in the layer forming the outermost surface. Can be mentioned. As the antistatic agent, the description in paragraphs 0034 to 0048 of the pamphlet of International Publication No. 2011/066807 can be referred to. Specific examples of the conductive polymer include a polyacetylene polymer, a polypyrrole polymer, a polythiophene polymer, a polyaniline polymer, and the like. As an example of a commercially available product, a conductive polymer Baytron manufactured by Bayer can be used. Furthermore, examples of the conductive oxide include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, potassium titanate, titanium oxide, tin-antimony oxide, indium-tin oxide, and antimony-tin oxide. As an example of a commercially available product, a conductive oxide ATO-T-1 manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd. can be used.
In addition to the above, an anionic antistatic agent, a nonionic antistatic agent, or the like may be used. The conductive material may be used in a range where the surface specific resistance value satisfies the above range.
The surface specific resistance value is measured using a high resistance-resistivity meter (Hiresta, manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.).

(3)炭素原子に対するフッ素原子の含有比(F/C)
本発明の太陽電池用裏面保護シートにおいて、基材の第二の層を有する側の最表面の、炭素原子に対するフッ素原子の比(F/C;原子比)が、0.1以上0.7以下の範囲であることが好ましい。最表面にフッ素原子が存在していることで、砂や塵等が付着し難くなり、付着した砂等に別の砂が衝突した場合に傷等が生じる破壊モードが抑えられ、耐砂性により優れたものとなる。
最表面のF/C値は、0.5以上0.7以下の範囲がより好ましい。
最表面のF/C値の調整は、表面の滑り性が良くなって砂塵が付着し難くなる方法であればいずれの方法でもよい。例えば、最表面を形成する層にフッ素系化合物等を含有する方法等が挙げられる。
フッ素系化合物としては、例えば、フッ素含有アクリレート、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン・エチレン共重合体、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体などを挙げることができる。フッ素系化合物は、F/C値が上記範囲を満たす範囲で使用すればよい。
F/C値は、X線光電子分光測定装置(Quantum2000、PHI社製)を用いてフィルム表面における元素量を測定し、算出される値である。
(3) Content ratio of fluorine atom to carbon atom (F / C)
In the back surface protection sheet for solar cells of the present invention, the ratio of fluorine atoms to carbon atoms (F / C; atomic ratio) on the outermost surface on the side having the second layer of the substrate is 0.1 or more and 0.7. The following range is preferable. The presence of fluorine atoms on the outermost surface makes it difficult for sand, dust, etc. to adhere to it. It will be excellent.
The F / C value on the outermost surface is more preferably in the range of 0.5 to 0.7.
The F / C value of the outermost surface can be adjusted by any method as long as the surface slipperiness is improved and the dust is less likely to adhere. For example, the method etc. which contain a fluorine-type compound etc. in the layer which forms the outermost surface are mentioned.
Examples of fluorine compounds include fluorine-containing acrylate, chlorotrifluoroethylene, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene / ethylene copolymer, tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl, and the like. Examples thereof include vinyl ether copolymers. The fluorine compound may be used in a range where the F / C value satisfies the above range.
The F / C value is a value calculated by measuring the element amount on the film surface using an X-ray photoelectron spectrometer (Quantum 2000, manufactured by PHI).

第三の層は、塗布により形成することができる。例えば、硬化性樹脂を含有する硬化性組成物を調製し、この組成物を塗布液として塗布し、紫外線照射して硬化させる方法等が挙げられる。塗布法については、第二の層における場合と同様である。   The third layer can be formed by coating. For example, the method etc. which prepare the curable composition containing curable resin, apply | coat this composition as a coating liquid, and make it harden | cure by ultraviolet irradiation are mentioned. The coating method is the same as in the second layer.

第三の層を形成するための組成物は、既述の成分以外に、溶剤や各種添加剤を含有してもよい。溶剤及び添加剤の詳細については、第二の層に含有することができる溶剤及び添加剤と同様である。   The composition for forming the third layer may contain a solvent and various additives in addition to the components described above. About the detail of a solvent and an additive, it is the same as that of the solvent and additive which can be contained in a 2nd layer.

<太陽電池モジュール>
本発明の太陽電池モジュールは、既述の本発明の太陽電池用裏面保護シートを設けて構成されている。具体的には、本発明の太陽電池モジュールは、太陽光が入射する透明性の基材(ガラス基板等のフロント基材)と、基材上に設けられ、太陽電池素子及び太陽電池素子を封止する封止材を有する素子構造部分と、素子構造部分の基板が位置する側と反対側に配置された太陽電池用バックシート(本発明の太陽電池用裏面保護シートを含む)と、を備えており、「透明性のフロント基材/素子構造部分/バックシート」の積層構造を有している。
太陽光の光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽電池素子が配された素子構造部分を、太陽光が直接入射する側に配置された透明性のフロント基材と、本発明の太陽電池用バックシートと、の間に配置し、フロント基材とバックシートとの間において、太陽電池素子を含む素子構造部分(例えば太陽電池セル)をエチレン−ビニルアセテート(EVA)系等の封止材を用いて封止、接着した構成になっている。
<Solar cell module>
The solar cell module of the present invention is configured by providing the above-described solar cell back surface protective sheet of the present invention. Specifically, the solar cell module of the present invention is provided on a transparent base material (a front base material such as a glass substrate) on which sunlight enters and the base material, and seals the solar cell element and the solar cell element. An element structure portion having a sealing material to be stopped, and a solar cell backsheet (including a back surface protection sheet for solar cells of the present invention) disposed on the side opposite to the side where the substrate of the element structure portion is located. And has a laminated structure of “transparent front substrate / element structure portion / back sheet”.
A transparent front substrate disposed on the side on which sunlight directly enters an element structure portion on which a solar cell element that converts light energy of sunlight into electric energy is disposed, and the solar cell backsheet of the present invention Between the front base material and the back sheet, using an encapsulant such as an ethylene-vinyl acetate (EVA) system for the element structure part (for example, solar battery cell) including the solar battery element. The structure is sealed and bonded.

太陽電池モジュール、太陽電池セル、バックシート以外の部材については、例えば、「太陽光発電システム構成材料」(杉本栄一監修、(株)工業調査会、2008年発行)に詳細に記載されている。   The members other than the solar cell module, the solar cell, and the back sheet are described in detail in, for example, “Photovoltaic power generation system constituent material” (supervised by Eiichi Sugimoto, Kogyo Kenkyukai, published in 2008).

前記透明性の基材は、太陽光が透過し得る光透過性を有していればよく、光を透過する基材から適宜選択することができる。発電効率の観点からは、光の透過率が高いものほど好ましく、このような基板として、例えば、ガラス基板、アクリル樹脂などの透明樹脂などを好適に用いることができる。   The transparent base material only needs to have a light-transmitting property through which sunlight can pass, and can be appropriately selected from base materials that transmit light. From the viewpoint of power generation efficiency, the higher the light transmittance, the better. For such a substrate, for example, a glass substrate, a transparent resin such as an acrylic resin, or the like can be suitably used.

太陽電池素子の例としては、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコンなどのシリコン系、銅−インジウム−ガリウム−セレン、銅−インジウム−セレン、カドミウム−テルル、ガリウム−砒素などのIII−V族やII−VI族化合物半導体系など、各種公知の太陽電池素子を適用することができる。基板とポリエステルフィルムとの間は、例えばエチレン−酢酸ビニル共重合体等の樹脂(いわゆる封止材)で封止して構成することができる。   Examples of solar cell elements include silicon-based materials such as single crystal silicon, polycrystalline silicon, and amorphous silicon, and group III-V such as copper-indium-gallium-selenium, copper-indium-selenium, cadmium-tellurium, and gallium-arsenic. Various known solar cell elements such as II-VI group compound semiconductor systems can be applied. A space between the substrate and the polyester film can be configured by sealing with a resin (so-called sealing material) such as an ethylene-vinyl acetate copolymer.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「%」は、質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

[第一の態様]
まず、本発明の第一の態様に係る太陽電池用裏面保護シートの実施例を示す。
[First aspect]
First, the Example of the back surface protection sheet for solar cells which concerns on the 1st aspect of this invention is shown.

(実施例1)
[基材フィルム]
基材フィルムとして、東レ(株)製の耐加水分解性白色ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名;ルミラー(登録商標)X10S(125μm))を準備した。
Example 1
[Base film]
A hydrolysis-resistant white polyethylene terephthalate film (trade name; Lumirror (registered trademark) X10S (125 μm)) manufactured by Toray Industries, Inc. was prepared as a base film.

[第一の層]
第一の層を構成するフィルムとして、下記の手順により、A層/B層/C層の構造を有するポリオレフィン系樹脂多層フィルムを準備した。
[First layer]
As a film constituting the first layer, a polyolefin resin multilayer film having a structure of A layer / B layer / C layer was prepared by the following procedure.

まず、融点162℃、密度0.900g/cmのホモポリプロピレン40%と、無機酸化物(主成分=珪素、アルミニウム、亜鉛から選ばれある1種又は複数種)で表面処理された平均粒子径200nmのルチル型酸化チタン(堺化学工業(株)製、FTR−700)60%と、を二軸押出機にて240℃で溶融混練した。その後、ストランドカットし、酸化チタンマスタバッチAを製造した。 First, an average particle diameter surface-treated with 40% homopolypropylene having a melting point of 162 ° C. and a density of 0.900 g / cm 3 and an inorganic oxide (main component = one or more selected from silicon, aluminum, and zinc). 200% rutile type titanium oxide (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., FTR-700) 60% was melt kneaded at 240 ° C. with a twin screw extruder. Thereafter, the strand was cut to produce a titanium oxide master batch A.

A層に使用する樹脂として、融点127℃、密度0.940g/cm、メルトフローレート(MFR;以下同様)5.0g/10分の直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE;以下、直鎖状低密度ポリエチレンを「LLDPE」という)80部、及び融点112℃、密度0.912g/cm、MFR4.0g/10分の低密度ポリエチレン(LDPE;以下、低密度ポリエチレンを「LDPE」という)20部(以上、ポリエチレン系樹脂の合計100部)と、融点150℃、密度0.900g/cm、MFR7g/10分のエチレン・プロピレンランダム共重合体(エチレン含有量:4モル%;ポリプロピレン系樹脂)100部と、を混合した混合樹脂を用意した。 As a resin used for the A layer, a linear low density polyethylene (LLDPE; hereinafter referred to as linear) having a melting point of 127 ° C., a density of 0.940 g / cm 3 and a melt flow rate (MFR; the same shall apply hereinafter) of 5.0 g / 10 min. 80 parts of low-density polyethylene (referred to as “LLDPE”), and a low-density polyethylene (LDPE; hereinafter referred to as “LDPE”) 20 at a melting point of 112 ° C., a density of 0.912 g / cm 3 , and an MFR of 4.0 g / 10 minutes. Parts (total 100 parts of polyethylene resin), melting point 150 ° C., density 0.900 g / cm 3 , MFR 7 g / 10 min ethylene / propylene random copolymer (ethylene content: 4 mol%; polypropylene resin) ) 100 parts of mixed resin was prepared.

B層に使用する樹脂として、融点160℃、密度0.900g/cm、MFR7g/10分のホモポリプロピレン100部と、酸化チタンマスタバッチA30部と、を混合した混合樹脂を用意した。着色化剤である酸化チタンの含有量は、13.8%である。 As a resin used for the B layer, a mixed resin was prepared by mixing 100 parts of homopolypropylene having a melting point of 160 ° C., a density of 0.900 g / cm 3 , and an MFR of 7 g / 10 minutes, and 30 parts of titanium oxide master batch A. The content of titanium oxide as a coloring agent is 13.8%.

C層に使用する樹脂として、融点160℃、密度0.900g/cm、MFR4.0g/10分のエチレン・プロピレンブロック共重合体(エチレン含有量:7モル%)を用意した。 As a resin used for the C layer, an ethylene / propylene block copolymer (ethylene content: 7 mol%) having a melting point of 160 ° C., a density of 0.900 g / cm 3 , and an MFR of 4.0 g / 10 min was prepared.

このようにして用意したA層、B層、又はC層の各層を形成するための各樹脂を、単軸の溶融押出機に供給し、それぞれ260℃にて溶融した。そして、A層/B層/C層の積層順になるようにマルチ・マニホールド型のTダイに導き、30℃に保たれたキャスティングドラム上に押し出した。非ドラム面側から25℃の冷風を吹き付けて冷却固化し、各層の厚さの比率(A層/B層/C層)が10%/80%/10%である、厚み150μmのポリオレフィン系樹脂多層フィルムを得た。   Each resin for forming each layer of the A layer, the B layer, or the C layer prepared as described above was supplied to a single-screw melt extruder and melted at 260 ° C., respectively. And it led to the multi-manifold type T-die so that it might become the lamination | stacking order of A layer / B layer / C layer, and it extruded on the casting drum kept at 30 degreeC. A polyolefin resin having a thickness of 150 μm in which the ratio of the thickness of each layer (A layer / B layer / C layer) is 10% / 80% / 10% by blowing cold air of 25 ° C. from the non-drum surface side. A multilayer film was obtained.

[基材フィルムとポリオレフィン系樹脂多層フィルムの貼合]
接着剤(LX−703VL、大日本インキ化学工業(株)製)10部に対し、硬化剤(KR−90、大日本インキ化学工業(株)製)1部を添加し、固形分濃度30%になるよう酢酸エチルにて希釈した接着剤インクを準備した。この接着剤インクを、フィルムコーター(岡崎機械工業(株)製)を用い、乾燥温度120℃にて乾燥した後の厚みが5.0μmとなるように、ルミラー(登録商標)X10S上に塗工し、接着剤層を形成した。
この接着層に接触させてポリオレフィン系樹脂多層フィルムを重ね、ルミラー(登録商標)X10Sとポリオレフィン系樹脂多層フィルムとを貼合して、基材フィルム上に第一の層(ポリオレフィン系樹脂多層フィルム)を形成した。
[Bonding of base film and polyolefin resin multilayer film]
One part of curing agent (KR-90, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) is added to 10 parts of adhesive (LX-703VL, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and the solid content concentration is 30%. An adhesive ink diluted with ethyl acetate was prepared. This adhesive ink was coated on Lumirror (registered trademark) X10S using a film coater (Okazaki Machinery Co., Ltd.) so that the thickness after drying at a drying temperature of 120 ° C. was 5.0 μm. Then, an adhesive layer was formed.
A polyolefin resin multilayer film is stacked in contact with the adhesive layer, Lumirror (registered trademark) X10S and a polyolefin resin multilayer film are bonded together, and a first layer (polyolefin resin multilayer film) is formed on the base film. Formed.

[第二の層の形成]
下記組成中の成分を混合し、第二の層を形成するための塗布組成物を得た。
<組成>
・(メタ)アクリレート樹脂 ・・・35部
(紫外光吸収剤及び光安定化剤(HALS)がアクリルポリオール樹脂に架橋されたハルスハイブリットポリマー(登録商標)BK1、日本触媒社製)
・架橋剤 ・・・15部
(ヌレート型ヘキサメチレンジイソシアネート樹脂、デスモジュール(登録商標)N3300(固形分濃度:100%)、住化バイエル社製)
・酸化チタン(紫外線吸収顔料) ・・・40部
(D−918(粒子径0.26μm)、堺化学社製)
・シリカ粒子(無機酸化物粒子) ・・・10部
(サンスフェアH−121−ET、AGC社製)
・メチルエチルケトン(溶媒) ・・・180部
[Formation of second layer]
The component in the following composition was mixed and the coating composition for forming a 2nd layer was obtained.
<Composition>
・ (Meth) acrylate resin: 35 parts (Huls hybrid polymer (registered trademark) BK1, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) in which an ultraviolet light absorber and a light stabilizer (HALS) are crosslinked to an acrylic polyol resin
-Cross-linking agent 15 parts (Nurate type hexamethylene diisocyanate resin, Desmodur (registered trademark) N3300 (solid content concentration: 100%), manufactured by Sumika Bayer)
Titanium oxide (ultraviolet absorbing pigment) 40 parts (D-918 (particle size 0.26 μm), manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.)
Silica particles (inorganic oxide particles) ... 10 parts (Sunsphere H-121-ET, manufactured by AGC)
・ Methyl ethyl ketone (solvent) ・ ・ ・ 180 parts

基材フィルム(ルミラー(登録商標)X10S)のポリオレフィン系樹脂多層フィルムが積層されていない面に、コロナ処理を行った後、乾燥後の厚みが2.0μmとなるように、上記の塗布組成物を塗工し、第二の層を形成した。
以上のようにして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
After applying corona treatment to the surface of the base film (Lumirror (registered trademark) X10S) on which the polyolefin-based resin multilayer film is not laminated, the coating composition is applied so that the thickness after drying is 2.0 μm. Was applied to form a second layer.
As described above, the protective sheet for the back surface of the solar cell of the present invention was produced.

(比較例1)
実施例1において、表1に示すように、第二の層を形成する塗布組成物中の紫外線吸収顔料の量を変更し、無機酸化物粒子を用いなかったこと以外は、実施例1と同様にして、比較用の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, as shown in Table 1, it was the same as Example 1 except that the amount of the ultraviolet absorbing pigment in the coating composition forming the second layer was changed and no inorganic oxide particles were used. Thus, a protective sheet for the back surface of a solar cell for comparison was produced.

(実施例2)
実施例1において、下記のようにして第二の層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
〜第二の層の形成〜
下記組成中の成分を混合し、第二の層を形成するための塗布組成物を得た。
・(メタ)アクリレート樹脂 ・・・30部
(アクリベースMH−101−5、藤倉化成社製)
・光硬化性モノマー(A−DPH、新中村化学社製) ・・・15部
・光重合開始剤(IRGACURE 184、BASF社製) ・・・5部
(以上、樹脂として50部)
・酸化チタン(紫外線吸収顔料) ・・・50部
(D−918(粒子径0.26μm)、堺化学社製)
・メチルエチルケトン(溶媒) ・・・180部
(Example 2)
In Example 1, the solar cell back surface protective sheet of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed as follows.
~ Formation of the second layer ~
The component in the following composition was mixed and the coating composition for forming a 2nd layer was obtained.
・ (Meth) acrylate resin 30 parts (Acrybase MH-101-5, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.)
・ Photo curable monomer (A-DPH, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 15 parts ・ Photopolymerization initiator (IRGACURE 184, BASF Co.) 5 parts
(50 parts as resin)
・ Titanium oxide (ultraviolet absorbing pigment) 50 parts (D-918 (particle size 0.26 μm), manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.)
・ Methyl ethyl ketone (solvent) ・ ・ ・ 180 parts

基材フィルム(ルミラー(登録商標)X10S)のポリオレフィン系樹脂多層フィルムが積層されていない面に、コロナ処理を行った後、上記の塗布組成物を塗工し、90℃にて2分間乾燥した。その後、酸素濃度が1.0%以下の窒素雰囲気下、乾燥後の塗工層に対して、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、照射量100mJ/cmの光量で紫外光(UV;以下同様)照射した。このようにして、乾燥後の厚みが2.0μmである第二の層を形成し、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。 After the corona treatment was performed on the surface of the base film (Lumirror (registered trademark) X10S) on which the polyolefin resin multilayer film was not laminated, the above coating composition was applied and dried at 90 ° C. for 2 minutes. . Thereafter, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) with respect to the coating layer after drying in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 1.0% or less, the irradiation dose is 100 mJ / cm 2 . Irradiated with ultraviolet light (UV; hereinafter the same) with a light amount. Thus, the 2nd layer whose thickness after drying is 2.0 micrometers was formed, and the solar cell back surface protection sheet of this invention was produced.

(実施例3〜5)
実施例1において、表1に示すように、第二の層の形成に用いた無機酸化物粒子の種類及び第二の層の厚みを変更したこと以外は、実施例1と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
無機酸化物粒子としては、実施例3、4では、川研ファインケミカル(株)製の酸化アルミニウム(アルミナゾルA−2、平均粒子径10〜20nm)を用い、実施例5では、日産化学工業(株)製の酸化ジルコニウム(ナノユースZR、平均粒子径10nm〜30nm)を用いた。
(Examples 3 to 5)
In Example 1, as shown in Table 1, in the same manner as in Example 1 except that the kind of inorganic oxide particles used for forming the second layer and the thickness of the second layer were changed, A protective sheet for the back surface of the solar cell of the invention was produced.
As the inorganic oxide particles, in Examples 3 and 4, aluminum oxide (alumina sol A-2, average particle diameter of 10 to 20 nm) manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd. was used. In Example 5, Nissan Chemical Industries (Inc. Zirconium oxide (nanouse ZR, average particle diameter 10 nm to 30 nm) was used.

(実施例6〜9、比較例2)
実施例1において、表1に記載のように、第二の層の形成に用いた無機酸化物粒子の量を変更したこと以外は、実施例1と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シート及び比較用の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
(Examples 6 to 9, Comparative Example 2)
In Example 1, as described in Table 1, except that the amount of the inorganic oxide particles used for forming the second layer was changed, in the same manner as in Example 1, for the back surface of the solar cell of the present invention A protective sheet and a protective sheet for the back side of a solar cell for comparison were prepared.

(実施例10〜13)
実施例1において、表1に示すように、第二の層の形成に用いた無機酸化物粒子の種類及び第二の層の厚みを変更したこと以外は、実施例1と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
無機酸化物粒子としては、実施例10、11では、川研ファインケミカル(株)製の酸化アルミニウム(アルミナゾルF−1000、平均長径1400nm、平均短径4nm、アスペクト比350)を用い、実施例12、13では、川研ファインケミカル(株)製の酸化アルミニウム(アルミナゾルF−3000、平均長径3000nm、平均短径4nm、アスペクト比750)を用いた。
(Examples 10 to 13)
In Example 1, as shown in Table 1, in the same manner as in Example 1 except that the kind of inorganic oxide particles used for forming the second layer and the thickness of the second layer were changed, A protective sheet for the back surface of the solar cell of the invention was produced.
As the inorganic oxide particles, in Examples 10 and 11, aluminum oxide (Alumina Sol F-1000, average major axis 1400 nm, average minor axis 4 nm, aspect ratio 350) manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd. was used. In No. 13, aluminum oxide (alumina sol F-3000, average major axis 3000 nm, average minor axis 4 nm, aspect ratio 750) manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd. was used.

(実施例14)
実施例1において、表1に示すように、第二の層の形成に用いた(メタ)アクリレート樹脂の量を変更すると共に、架橋剤を用いなかったこと以外は、実施例1と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
(Example 14)
In Example 1, as shown in Table 1, the amount of the (meth) acrylate resin used for forming the second layer was changed, and the same procedure as in Example 1 was performed except that the crosslinking agent was not used. The protective sheet for solar cell back surface of this invention was produced.

(実施例15)
実施例1において、表1に示すように、基材フィルムに紫外線吸収顔料を含めず、第二の層の形成に用いた紫外線吸収顔料の量を変更したこと以外は、実施例1と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
ここでは、基材として、ルミラー(登録商標)X10Sに代えて、透明ポリエチレンテレフタレートフィルム(コスモシャイン4100、東洋紡(株)製)を用いた。
(Example 15)
In Example 1, as shown in Table 1, the same procedure as in Example 1 was conducted except that the ultraviolet absorbing pigment was not included in the base film and the amount of the ultraviolet absorbing pigment used for forming the second layer was changed. Thus, a protective sheet for the back surface of the solar cell of the present invention was produced.
Here, instead of Lumirror (registered trademark) X10S, a transparent polyethylene terephthalate film (Cosmo Shine 4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used as the substrate.

(実施例16〜17)
実施例1において、表1に示すように、第二の層を形成するための塗布組成物中に添加物を添加したこと以外は、実施例1と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
添加剤として、実施例16では、導電性ポリマーBaytron(ポリチオフェン系導電性高分子水分散体、Bayer社製)0.1部を添加した。また、実施例17では、導電性酸化物ATO−T−1(三菱マテリアル電子化成(株)製)0.1部を添加した。
(Examples 16 to 17)
In Example 1, as shown in Table 1, the solar cell back surface of the present invention was used in the same manner as in Example 1 except that an additive was added to the coating composition for forming the second layer. A protective sheet was prepared.
In Example 16, 0.1 part of a conductive polymer Baytron (polythiophene-based conductive polymer aqueous dispersion, manufactured by Bayer) was added as an additive. In Example 17, 0.1 part of conductive oxide ATO-T-1 (manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.) was added.

(実施例18〜20)
実施例1において、表1に示すように、第二の層を形成するための塗布組成物に用いた(メタ)アクリレート樹脂の種類と量を変更したこと以外は、実施例1と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
含フッ素アクリルモノマーとして、三菱マテリアル電子化成(株)製のエフトップEF−PA2を用いた。
(Examples 18 to 20)
In Example 1, as shown in Table 1, the procedure was the same as in Example 1 except that the type and amount of the (meth) acrylate resin used in the coating composition for forming the second layer were changed. The protective sheet for solar cell back surface of this invention was produced.
As the fluorine-containing acrylic monomer, Ftop EF-PA2 manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd. was used.

[第二の態様]
次に、本発明の第二の態様に係る太陽電池用裏面保護シートの実施例を示す。
[Second embodiment]
Next, the Example of the back surface protection sheet for solar cells which concerns on the 2nd aspect of this invention is shown.

(実施例101)
[基材フィルム/第一の層]
実施例1と同様にして、基材フィルムと、第一の層を構成するポリオレフィン系樹脂多層フィルムを準備し、貼合した。
(Example 101)
[Base film / first layer]
In the same manner as in Example 1, a base film and a polyolefin-based resin multilayer film constituting the first layer were prepared and bonded.

[第二の層]
下記組成中の成分を混合し、第二の層を形成するための塗布組成物を得た。
・(メタ)アクリレート樹脂 ・・・35部
(紫外光吸収剤及び光安定化剤(HALS)がアクリルポリオール樹脂に架橋されたハルスハイブリットポリマー(登録商標)BK1、日本触媒社製)
・架橋剤 ・・・15部
(ヌレート型ヘキサメチレンジイソシアネート樹脂、デスモジュール(登録商標)N3300(固形分濃度:100%)、住化バイエル社製)
・酸化チタン(紫外線吸収顔料) ・・・40部
(D−918(粒子径0.26μm)、堺化学社製)
・メチルエチルケトン(溶媒) ・・・180部
[Second layer]
The component in the following composition was mixed and the coating composition for forming a 2nd layer was obtained.
・ (Meth) acrylate resin: 35 parts (Huls hybrid polymer (registered trademark) BK1, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) in which an ultraviolet light absorber and a light stabilizer (HALS) are crosslinked to an acrylic polyol resin
-Cross-linking agent 15 parts (Nurate type hexamethylene diisocyanate resin, Desmodur (registered trademark) N3300 (solid content concentration: 100%), manufactured by Sumika Bayer)
Titanium oxide (ultraviolet absorbing pigment) 40 parts (D-918 (particle size 0.26 μm), manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.)
・ Methyl ethyl ketone (solvent) ・ ・ ・ 180 parts

基材フィルム(ルミラー(登録商標)X10S)のポリオレフィン系樹脂多層フィルムが積層されていない面に、コロナ処理を行った後、乾燥後の厚みが2.0μmとなるように、上記の塗布組成物を塗工し、第二の層を形成した。   After applying corona treatment to the surface of the base film (Lumirror (registered trademark) X10S) on which the polyolefin-based resin multilayer film is not laminated, the coating composition is applied so that the thickness after drying is 2.0 μm. Was applied to form a second layer.

[第三の層]
下記組成中の成分を混合し、第三の層を形成するための塗布組成物を得た。
・(メタ)アクリレート樹脂 ・・・30部
(アクリベースMH−101−5、藤倉化成社製)
・光硬化性モノマー(A−DPH、新中村化学社製) ・・・15部
・光重合開始剤(IRGACURE 184、BASF社製) ・・・、5部
(以上、樹脂として50部)
・メチルエチルケトン(溶媒) ・・・180部
[Third layer]
The component in the following composition was mixed and the coating composition for forming a 3rd layer was obtained.
・ (Meth) acrylate resin 30 parts (Acrybase MH-101-5, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.)
Photocurable monomer (A-DPH, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 15 parts Photopolymerization initiator (IRGACURE 184, BASF Co.) 5 parts (more than 50 parts as resin)
・ Methyl ethyl ketone (solvent) ・ ・ ・ 180 parts

第二の層の表面にコロナ処理を行った後、上記の塗布組成物を塗工し、酸素濃度1.0%以下の窒素雰囲気下、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、照射量100mJ/cmの光量でUV照射した。このようにして、乾燥後の厚みが1.0μmである第三の層を形成した。
以上のようにして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
After the corona treatment is applied to the surface of the second layer, the above coating composition is applied, and an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 1.0% or less. Was used for UV irradiation with a light amount of 100 mJ / cm 2 . Thus, the 3rd layer whose thickness after drying is 1.0 micrometer was formed.
As described above, the protective sheet for the back surface of the solar cell of the present invention was produced.

(実施例102)
実施例101において、下記のようにしてアルコキシシラン系の第三の層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
〜第三の層の形成〜
・アルコキシシラン1(KBE−403、信越化学工業社製) ・・・30部
・アルコキシシラン2(KBE−04、信越化学工業社製) ・・・10部
・酸(工業用酢酸1%水溶液、ダイセル化学工業社製) ・・・100部
・キレート錯体(アルミキレートD、川研ファインケミカル社製)・・・10部
・シリカ微粒子(スノーテックスO−L、日産化学工業社製) ・・・5部
・界面活性剤(サンデッドBL、三洋化成工業社製、1%水溶液)・・・10部
・界面活性剤 ・・・10部
(ナロアクティーCL−95、三洋化成工業社製、1%水溶液)
(Example 102)
In Example 101, the solar cell back surface protective sheet of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that an alkoxysilane-based third layer was formed as described below.
~ Formation of the third layer ~
・ Alkoxysilane 1 (KBE-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 30 parts ・ Alkoxysilane 2 (KBE-04, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 10 parts ・ Acid (1% industrial acetic acid aqueous solution, Daicel Chemical Industries, Ltd.) ... 100 parts / Chelate Complex (Aluminum Chelate D, Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.) ... 10 parts / Silica Fine Particles (Snowtex OL, Nissan Chemical Industries, Ltd.) ... 5 Part / Surfactant (Sanded BL, Sanyo Chemical Industries, 1% aqueous solution) ... 10 parts / Surfactant ... 10 parts (Naroacty CL-95, Sanyo Chemical Industries, 1% aqueous solution)

第二の層の表面にコロナ処理を行った後、上記の塗布組成物を塗工し、90℃にて2分間加熱した。その後、さらに150℃にて2分間乾燥し、乾燥後の厚みが1.0μmである第三の層を形成した。   After performing the corona treatment on the surface of the second layer, the above coating composition was applied and heated at 90 ° C. for 2 minutes. Thereafter, it was further dried at 150 ° C. for 2 minutes to form a third layer having a thickness after drying of 1.0 μm.

(実施例103〜106)
実施例101において、表2に示すように、第三の層に無機酸化物粒子を加えると共に膜厚を変更したこと以外は、実施例101と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
無機酸化物粒子として、実施例103では、AGC社製のシリカ粒子(サンスフェアH−121−ET)を用い、実施例104,105では、川研ファインケミカル(株)製の酸化アルミニウム(アルミナゾルA−2、平均粒子径10〜20nm)を用い、実施例106では、日産化学工業(株)製の酸化ジルコニウム(ナノユースZR)を用いた。
(Examples 103 to 106)
In Example 101, as shown in Table 2, the solar cell back surface protective sheet of the present invention was the same as Example 101 except that inorganic oxide particles were added to the third layer and the film thickness was changed. Was made.
In Example 103, silica particles (Sunsphere H-121-ET) manufactured by AGC were used as the inorganic oxide particles. In Examples 104 and 105, aluminum oxide (alumina sol A- manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) was used. In Example 106, zirconium oxide (nanouse ZR) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. was used.

(実施例107〜110、比較例3)
実施例101において、表2に示すように、第三の層の形成に用いた無機酸化物粒子の量を変更したこと以外は、実施例101と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シート及び比較用の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
(Examples 107 to 110, Comparative Example 3)
In Example 101, as shown in Table 2, the solar cell back surface protection of the present invention was performed in the same manner as in Example 101 except that the amount of the inorganic oxide particles used for forming the third layer was changed. A protective sheet for the back surface of a sheet and a solar cell for comparison was prepared.

(実施例111〜114)
実施例101において、表2に示すように、第三の層の形成に用いた無機酸化物粒子の種類及び第三の層の厚みを変更したこと以外は、実施例101と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
無機酸化物粒子として、実施例101、111では、川研ファインケミカル(株)製の酸化アルミニウム(アルミナゾルF−1000、平均長径1400nm、平均短径4nm、アスペクト比350)を用い、実施例112、113では、川研ファインケミカル(株)製の酸化アルミニウム(アルミナゾルF−3000、平均長径3000nm、平均短径4nm、アスペクト比750)を用いた。
(Examples 111 to 114)
In Example 101, as shown in Table 2, except that the kind of inorganic oxide particles used for forming the third layer and the thickness of the third layer were changed, A protective sheet for the back surface of the solar cell of the invention was produced.
In Examples 101 and 111, aluminum oxide (Alumina Sol F-1000, average major axis 1400 nm, average minor axis 4 nm, aspect ratio 350) manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd. was used as the inorganic oxide particles. Examples 112 and 113 Then, aluminum oxide (alumina sol F-3000, average major axis 3000 nm, average minor axis 4 nm, aspect ratio 750) manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd. was used.

(実施例115〜119)
実施例101において、表2に示すように、第三の層の厚みを変更したこと以外は、実施例101と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
(Examples 115-119)
In Example 101, as shown in Table 2, the solar cell back surface protective sheet of the present invention was produced in the same manner as in Example 101 except that the thickness of the third layer was changed.

(実施例120、121)
実施例101において、表2に示すように、第二の層の樹脂組成を変更し、下記のようにして第二の層を形成したこと以外は、実施例101と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
樹脂組成として、実施例120では、ウレタン(メタ)アクリレート(自己治癒クリアー(登録商標)、ナトコ(株)製)を用い、実施例121では、下記のようにして合成したポリロタキサンAを用いた。
(Examples 120 and 121)
In Example 101, as shown in Table 2, the resin composition of the second layer was changed, and the second layer was formed as follows. A protective sheet for the back surface of the solar cell was produced.
As a resin composition, in Example 120, urethane (meth) acrylate (self-healing clear (registered trademark), manufactured by NATCO Corporation) was used, and in Example 121, polyrotaxane A synthesized as described below was used.

〜第二の層の形成〜
ルミラー(登録商標)X10Sのポリオレフィン系樹脂多層フィルムが積層されていない面にコロナ処理を行った後、表2に示す組成の塗布組成物を塗工し、90℃にて2分間乾燥した。その後、酸素濃度1.0%以下の窒素雰囲気下、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、照射量00mJ/cmの光量でUV照射した。このようにして、第二の層を形成した。
~ Formation of the second layer ~
After corona treatment was performed on the surface on which the polyolefin resin multilayer film of Lumirror (registered trademark) X10S was not laminated, a coating composition having the composition shown in Table 2 was applied and dried at 90 ° C. for 2 minutes. Thereafter, UV irradiation was performed at a light amount of 00 mJ / cm 2 using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 1.0% or less. In this way, a second layer was formed.

〜架橋性ポリロタキサンAの合成〜
100mlの三角フラスコに、ポリエチレングリコール(平均分子量20,000)4g及び乾燥塩化メチレン20mlを入れ、ポリエチレングリコールを溶解した。この溶液をアルゴン雰囲気下におき、1,1’−カルボニルジイミダゾール0.8gを加え、引き続きアルゴン雰囲気下、室温(20℃)で6時間、攪拌、反応させた。
上記で得られた反応物を、高速攪拌したジエチルエーテル300mlに注いだ。10分間静置後、沈殿物を有する液を10,000rpmで5分間、遠心分離した。沈殿物を取り出し、40℃で3時間真空乾燥した。
得られた生成物を塩化メチレン20mlに溶解した。この液をエチレンジアミン10mlに3時間かけて滴下し、滴下後40分間攪拌した。得られた反応物をロータリーエバポレーターにかけ、塩化メチレンを除去した。その後、水50mlに溶解し、透析チューブ(分画分子量8,000)に入れ、水中で3日間透析した。得られた透析物をロータリーエバポレーターで乾燥した。さらに、この乾燥物を塩化メチレン20mlに溶解し、ジエチルエーテル180mlで再沈させた。沈殿物を有する液を100,000rpmで5分間遠心分離し、40℃で2時間真空乾燥して、ポリエチレングリコールビスアミン(数平均分子量2万)2.83gを得た。
得られたポリエチレングリコールビスアミン4.5gとα−シクロデキストリン18.0gとを水150mLに加え、80℃に加熱して溶解させた。その溶液を冷却し、5℃で16時間静置した。生成した白いペースト状の沈殿を分取、乾燥した。
乾燥物を、2,4−ジニトロフルオロベンゼン12.0gとジメチルホルムアミド50gとの混合溶液に加えて室温で5時間攪拌した。その反応混合物にジメチルスルホキシド(DMSO)200mLを加えて溶解した後、水3750mLに注いで析出物を分取した。析出物を250mLのDMSOに再溶解した後、再び3500mLの0.1%食塩水へ注いで析出物を分取した。析出物を水とメタノールとで各3回ずつ洗浄した後、50℃で12時間真空乾燥することで、ポリエチレングリコールビスアミンがα−シクロデキストリンに串刺し状に包接され、かつ両末端アミノ基に2,4−ジニトロフェニル基が結合したポリロタキサン2.0gを得た。得られたポリロタキサンを「ポリロタキサンa1」とする。
~ Synthesis of crosslinkable polyrotaxane A ~
In a 100 ml Erlenmeyer flask, 4 g of polyethylene glycol (average molecular weight 20,000) and 20 ml of dry methylene chloride were added to dissolve polyethylene glycol. This solution was placed under an argon atmosphere, 0.8 g of 1,1′-carbonyldiimidazole was added, and the mixture was stirred and reacted at room temperature (20 ° C.) for 6 hours under an argon atmosphere.
The reaction product obtained above was poured into 300 ml of diethyl ether stirred at high speed. After leaving still for 10 minutes, the liquid which has a deposit was centrifuged at 10,000 rpm for 5 minutes. The precipitate was taken out and dried in vacuum at 40 ° C. for 3 hours.
The resulting product was dissolved in 20 ml of methylene chloride. This solution was added dropwise to 10 ml of ethylenediamine over 3 hours, followed by stirring for 40 minutes. The obtained reaction product was subjected to a rotary evaporator to remove methylene chloride. Then, it melt | dissolved in 50 ml of water, put into the dialysis tube (fraction molecular weight 8,000), and dialyzed in water for 3 days. The obtained dialyzate was dried with a rotary evaporator. Further, this dried product was dissolved in 20 ml of methylene chloride and reprecipitated with 180 ml of diethyl ether. The liquid having a precipitate was centrifuged at 100,000 rpm for 5 minutes and vacuum dried at 40 ° C. for 2 hours to obtain 2.83 g of polyethylene glycol bisamine (number average molecular weight 20,000).
4.5 g of the obtained polyethylene glycol bisamine and 18.0 g of α-cyclodextrin were added to 150 mL of water and heated to 80 ° C. to dissolve. The solution was cooled and allowed to stand at 5 ° C. for 16 hours. The produced white paste-like precipitate was collected and dried.
The dried product was added to a mixed solution of 12.0 g of 2,4-dinitrofluorobenzene and 50 g of dimethylformamide and stirred at room temperature for 5 hours. The reaction mixture was dissolved by adding 200 mL of dimethyl sulfoxide (DMSO), and then poured into 3750 mL of water to separate a precipitate. The precipitate was redissolved in 250 mL of DMSO and then poured again into 3500 mL of 0.1% saline to separate the precipitate. The precipitate was washed with water and methanol three times each, and then vacuum-dried at 50 ° C. for 12 hours, whereby polyethylene glycol bisamine was included in α-cyclodextrin in a skewered manner, and both terminal amino groups were formed. 2.0 g of a polyrotaxane having a 2,4-dinitrophenyl group bonded thereto was obtained. The obtained polyrotaxane is referred to as “polyrotaxane a1”.

得られたポリロタキサンa1について紫外光吸収測定及びH−NMR測定を行い、α−シクロデキストリンの包接量を算出したところ、包接量は72個であった。
具体的には、紫外光吸収測定では、合成した包接化合物及び2,4−ジニトロアニリンそれぞれの360nmにおけるモル吸光係数を測定することで、シクロデキストリンの包接量を算出した。また、H−NMR測定では、ポリエチレングリコール部分の水素原子とシクロデキストリン部分の水素原子の積分比から算出した。
When the obtained polyrotaxane a1 was subjected to ultraviolet light absorption measurement and 1 H-NMR measurement to calculate the inclusion amount of α-cyclodextrin, the inclusion amount was 72.
Specifically, in the ultraviolet light absorption measurement, the inclusion amount of cyclodextrin was calculated by measuring the molar extinction coefficient at 360 nm of each of the synthesized inclusion compound and 2,4-dinitroaniline. Moreover, in < 1 > H-NMR measurement, it computed from the integral ratio of the hydrogen atom of a polyethyleneglycol part, and the hydrogen atom of a cyclodextrin part.

ポリロタキサンa1(1g)を塩化リチウム/N,N−ジメチルアセトアミド8%溶液50gに溶解させた。この溶液に無水酢酸6.7g、ピリジン5.2g、及びN,N−ジメチルアミノピリジン100mgを加え、室温にて一晩攪拌した。反応溶液をメタノールに流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離した。分離した固体を乾燥した後、アセトンに溶解させた。溶液を水に流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離し乾燥させることで、シクロデキストリンの水酸基の一部がアセチル基で修飾されたポリロタキサン(1.2g)を得た。得られたポリロタキサンを「ポリロタキサンa2」とする。
ポリロタキサンa2のH−NMR測定を行い、アセチル基の導入量(修飾度)を算出したところ、75%であった。
Polyrotaxane a1 (1 g) was dissolved in 50 g of a lithium chloride / N, N-dimethylacetamide 8% solution. To this solution were added 6.7 g of acetic anhydride, 5.2 g of pyridine, and 100 mg of N, N-dimethylaminopyridine, and the mixture was stirred overnight at room temperature. The reaction solution was poured into methanol, and the precipitated solid was separated by centrifugation. The separated solid was dried and then dissolved in acetone. The solution was poured into water, and the precipitated solid was separated by centrifugation and dried to obtain polyrotaxane (1.2 g) in which a part of the hydroxyl groups of cyclodextrin was modified with acetyl groups. The obtained polyrotaxane is referred to as “polyrotaxane a2”.
The 1 H-NMR measurement of polyrotaxane a2 was performed, and the amount of acetyl group introduced (modification degree) was calculated and found to be 75%.

ポリロタキサンa2(1g)を塩化リチウム/N,N−ジメチルアセトアミド8%溶液50gに溶解させた。この溶液にアクリル酸クロライド5.9g、ピリジン5.2g、及びN,N−ジメチルアミノピリジン100mgを加え、室温にて二晩攪拌した。反応溶液をメタノールに流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離した。分離した固体を乾燥した後、アセトンに溶解させた。溶液を水に流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離し乾燥させることで、シクロデキストリンの水酸基がアクリロイル基及びアセチル基で修飾されたポリロタキサン(0.8g)を得た。得られたポリロタキサンを「架橋性ポリロタキサンA」とする。
架橋性ポリロタキサンAのH−NMR測定を行い、アクリロイル基及びアセチル基の導入量(修飾度)を算出したところ、87%であった。すなわち、アクリロイル基の導入量(修飾度)は、12%である。
Polyrotaxane a2 (1 g) was dissolved in 50 g of a lithium chloride / N, N-dimethylacetamide 8% solution. To this solution, 5.9 g of acrylic acid chloride, 5.2 g of pyridine, and 100 mg of N, N-dimethylaminopyridine were added, and the mixture was stirred overnight at room temperature. The reaction solution was poured into methanol, and the precipitated solid was separated by centrifugation. The separated solid was dried and then dissolved in acetone. The solution was poured into water, and the precipitated solid was separated by centrifugation and dried to obtain a polyrotaxane (0.8 g) in which the hydroxyl group of cyclodextrin was modified with an acryloyl group and an acetyl group. The obtained polyrotaxane is referred to as “crosslinkable polyrotaxane A”.
When 1 H-NMR measurement of the crosslinkable polyrotaxane A was performed and the introduction amount (modification degree) of acryloyl group and acetyl group was calculated, it was 87%. That is, the introduction amount (modification degree) of the acryloyl group is 12%.

(実施例122)
実施例101において、表2に示すように、基材に紫外線吸収顔料を含めず、第二の層中の紫外線吸収顔料の量を変更したこと以外は、実施例101と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
ここでは、基材として、ルミラー(登録商標)X10Sに代えて、透明ポリエチレンテレフタレートフィルム(コスモシャイン4100、東洋紡(株)製)を用いた。
(Example 122)
In Example 101, as shown in Table 2, the present invention was carried out in the same manner as in Example 101 except that the ultraviolet absorbing pigment was not included in the substrate and the amount of the ultraviolet absorbing pigment in the second layer was changed. A protective sheet for the back surface of a solar cell was prepared.
Here, instead of Lumirror (registered trademark) X10S, a transparent polyethylene terephthalate film (Cosmo Shine 4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used as the substrate.

(実施例123、124)
実施例101において、表2に示すように、第三の層を形成するための塗布組成物に添加物を添加したこと以外は、実施例101と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
添加剤として、実施例123では、導電性ポリマーBaytron(ポリチオフェン系導電性高分子水分散体、Bayer社製)0.1部を添加した。また、実施例124では、導電性酸化物ATO−T−1(三菱マテリアル電子化成社製)0.1部を添加した。
(Examples 123 and 124)
In Example 101, as shown in Table 2, the solar cell back surface protection of the present invention was performed in the same manner as in Example 101 except that an additive was added to the coating composition for forming the third layer. A sheet was produced.
In Example 123, 0.1 part of a conductive polymer Baytron (polythiophene-based conductive polymer aqueous dispersion, manufactured by Bayer) was added as an additive. In Example 124, 0.1 part of conductive oxide ATO-T-1 (manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals) was added.

(実施例125〜127)
実施例101において、表2に記載のように、第三の層の形成に用いた樹脂の種類と量を変更したこと以外は、実施例101と同様にして、本発明の太陽電池裏面用保護シートを作製した。
含フッ素アクリルモノマーとして、三菱マテリアル電子化成(株)製のエフトップEF−PA2を用いた。
(Examples 125-127)
In Example 101, as shown in Table 2, the solar cell back surface protection of the present invention was the same as Example 101 except that the type and amount of the resin used for forming the third layer were changed. A sheet was produced.
As the fluorine-containing acrylic monomer, Ftop EF-PA2 manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd. was used.

(評価)
上記の実施例及び比較例で作製した太陽電池裏面用保護シートについて、以下の方法により測定、評価を行った。測定、評価の結果は、下記表1〜表2に示す。
(Evaluation)
About the protection sheet for solar cell back surfaces produced by said Example and comparative example, it measured and evaluated with the following method. The results of measurement and evaluation are shown in Tables 1 and 2 below.

−1.ビッカース硬度−
最表面のビッカース硬度は、超微小硬度計(DUH−201S、島津製作所社製)においてTriangular圧子を用いて測定し、負荷−除去モードにおける負荷除去後の深さによって算出した。
-1. Vickers hardness
The Vickers hardness on the outermost surface was measured using a Triangular indenter with an ultra micro hardness tester (DUH-201S, manufactured by Shimadzu Corporation), and calculated by the depth after load removal in the load-removal mode.

−2.表面粗さ−
表面粗さは、3次元光学プロファイラー(Zigo、キャノン社製)を用いて、0.3mm×0.3mmの領域における表面粗さとして算出した。
-2. Surface roughness
The surface roughness was calculated as the surface roughness in a region of 0.3 mm × 0.3 mm using a three-dimensional optical profiler (Zigo, manufactured by Canon Inc.).

−3.表面比抵抗−
表面比抵抗は、高抵抗−抵抗率計(ハイレスタ、三菱化学アナリテック社製)を用いて測定した。
-3. Surface specific resistance
The surface specific resistance was measured using a high resistance-resistivity meter (Hiresta, manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.).

−4.炭素原子に対するフッ素原子の含有比(F/C)−
F/Cは、X線光電子分光測定装置(Quantum2000、PHI社製)を用いてフィルム表面における元素量を測定し、算出した。具体的には、下記の測定条件でX線光電子分光測定を行い、測定により得られたF、C、O、及びNのそれぞれのナロースペクトルの強度から、元素組成(at%)を算出した。そして、算出されたF、C、N、及びOの元素組成から、炭素原子に対するフッ素原子の含有比(F/C;原子比)を求めた。測定条件は、以下の通りである。
<測定条件>
・X線源:単色化Al−Ka,出力16kV−34W1(X線発生面積170μmφ)
・帯電中和:電子銃(2μA),イオン銃(1V)併用
・分光系:パスエネルギー
187.85eV(ワイドスペクトル)
58.70eV(ナロースペクトル,N1s)
29.35eV(ナロースペクトル,C1s,O1s,F1s)
11.75eV(ナロースペクトル,C1s)
・取り出し角:45°(表面より)
-4. Content ratio of fluorine atom to carbon atom (F / C) −
F / C was calculated by measuring the amount of elements on the film surface using an X-ray photoelectron spectrometer (Quantum 2000, manufactured by PHI). Specifically, X-ray photoelectron spectroscopy measurement was performed under the following measurement conditions, and the elemental composition (at%) was calculated from the intensity of each narrow spectrum of F, C, O, and N obtained by the measurement. And the content ratio (F / C; atomic ratio) of the fluorine atom with respect to a carbon atom was calculated | required from the calculated elemental composition of F, C, N, and O. The measurement conditions are as follows.
<Measurement conditions>
X-ray source: monochromatic Al-Ka, output 16 kV-34W1 (X-ray generation area 170 μmφ)
・ Charge neutralization: Combined use of electron gun (2μA) and ion gun (1V) ・ Spectroscopic system: Path energy
187.85 eV (wide spectrum)
58.70 eV (Narrow spectrum, N1s)
29.35 eV (narrow spectrum, C1s, O1s, F1s)
11.75 eV (narrow spectrum, C1s)
・ Extraction angle: 45 ° (from the surface)

−5.落砂試験−
ASTM D968−05、Method Bに準じた条件にて、シリコンカーバイド粉末を用いて落砂試験を行った。落砂を行い、基材が剥き出しになった時点での落砂量(kg)を、砂によって削られた膜厚(μm)で除した値を、耐砂性を評価する評価値とした。
-5. Sandfall test-
A sand fall test was performed using silicon carbide powder under conditions according to ASTM D968-05, Method B. A value obtained by dividing the amount of sand fall (kg) at the time when sand removal was performed and the base material was exposed by the film thickness (μm) shaved by sand was used as an evaluation value for evaluating sand resistance.

−6.割れ−
太陽電池裏面シートの表面を目視で検査し、割れの程度を下記の評価基準にしたがって評価した。
<評価基準>
A:割れの発生は、全く検出されなかった。
B:僅かに割れが検出されたが、実用上の問題はない。
C:実用上問題が生じる程度の割れが検出された。
-6. Cracking
The surface of the solar cell back sheet was visually inspected, and the degree of cracking was evaluated according to the following evaluation criteria.
<Evaluation criteria>
A: The occurrence of cracks was not detected at all.
B: Although a slight crack was detected, there is no practical problem.
C: Cracks to the extent that causes a practical problem were detected.

表1〜表2に示すように、最表面のビッカース硬度を所定の範囲に調節した実施例では、割れの発生を防ぎつつ、耐砂性に優れた太陽電池裏面用保護シートが得られた。ビッカース硬度を所定の範囲に調節することで、最表面を形成する最表層を、硬化されたハードコートタイプ、あるいは弾性回復性のある弾性コートタイプのいずれに構成した場合も、割れと耐砂性との両立に効果的であった。   As shown in Tables 1 and 2, in the examples in which the Vickers hardness on the outermost surface was adjusted within a predetermined range, a protective sheet for the back surface of a solar cell excellent in sand resistance was obtained while preventing the occurrence of cracks. By adjusting the Vickers hardness to a specified range, the outermost layer that forms the outermost surface can be cracked and sand-resistant, regardless of whether it is a hard-coated type or an elastic-coated type with elastic recovery. It was effective in coexistence with.

Claims (17)

ポリオレフィン樹脂及び着色顔料を含む第一の層と、
基材と、
(メタ)アクリレート樹脂を含むバインダー及び紫外線吸収顔料を含む第二の層と、
をこの順に有し、前記基材の第二の層側における最表面のビッカース硬度が、5.0×10Pa以上1.0×1011Pa以下である太陽電池用裏面保護シート。
A first layer comprising a polyolefin resin and a colored pigment;
A substrate;
A second layer comprising a binder comprising a (meth) acrylate resin and an ultraviolet absorbing pigment;
In this order, and the Vickers hardness of the outermost surface on the second layer side of the substrate is 5.0 × 10 9 Pa or more and 1.0 × 10 11 Pa or less.
前記最表面を含む層は、更に、Si、Al、及びZrから選ばれる元素を有する無機酸化物粒子を含む請求項1に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The back surface protective sheet for a solar cell according to claim 1, wherein the layer including the outermost surface further includes inorganic oxide particles having an element selected from Si, Al, and Zr. 前記最表面を含む層は、バインダー及び無機酸化物粒子に対する無機酸化物粒子の体積比率が、15体積%以上40体積%以下である請求項2に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The back surface protective sheet for a solar cell according to claim 2, wherein the layer including the outermost surface has a volume ratio of the inorganic oxide particles to the binder and the inorganic oxide particles of 15 vol% to 40 vol%. 無機酸化物粒子のアスペクト比が、300以上800以下である請求項2又は請求項3に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The back surface protection sheet for solar cells according to claim 2 or 3, wherein the aspect ratio of the inorganic oxide particles is 300 or more and 800 or less. 前記第二の層に含まれる(メタ)アクリレート樹脂が架橋点を有し、(メタ)アクリレート樹脂は架橋剤で架橋されている請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The solar cell according to any one of claims 1 to 4, wherein the (meth) acrylate resin contained in the second layer has a crosslinking point, and the (meth) acrylate resin is crosslinked with a crosslinking agent. Back surface protection sheet. 前記第二の層の前記基材と反対側にバインダーを含む第三の層を有し、前記最表面は、第三の層の第二の層を有する側と反対側の表面である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シート。   A third layer containing a binder is provided on the side of the second layer opposite to the substrate, and the outermost surface is a surface opposite to the side of the third layer having the second layer. The back surface protection sheet for solar cells of any one of Claims 1-5. 前記第三の層に含まれるバインダーは、アルコキシシランの重合体を含む請求項6に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The back surface protection sheet for solar cells according to claim 6, wherein the binder contained in the third layer contains an alkoxysilane polymer. 前記第三の層の厚みが、0.5μm以上3μm以下である請求項6又は請求項7に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The back surface protection sheet for solar cells according to claim 6 or 7, wherein the thickness of the third layer is 0.5 µm or more and 3 µm or less. 前記第二の層は、前記(メタ)アクリレート樹脂として、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂を含む請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The solar cell back surface protection sheet according to any one of claims 1 to 8, wherein the second layer includes a urethane (meth) acrylate resin as the (meth) acrylate resin. 前記第二の層は、前記バインダーとして、更に、ポリロタキサンを含む請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The back protective sheet for a solar cell according to any one of claims 1 to 9, wherein the second layer further contains a polyrotaxane as the binder. 前記基材が、紫外線吸収顔料を含む請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The back surface protection sheet for solar cells of any one of Claims 1-10 in which the said base material contains a ultraviolet absorption pigment. 前記最表面の表面粗さが、0.01μm以上0.20μm以下である請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The solar cell back surface protection sheet according to any one of claims 1 to 11, wherein the outermost surface has a surface roughness of 0.01 µm or more and 0.20 µm or less. 前記最表面を含む層は、層中に含まれる紫外線吸収顔料の粒径の、層厚に対する比が、0.01〜0.15である請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The layer including the outermost surface has a ratio of the particle diameter of the ultraviolet absorbing pigment contained in the layer to the layer thickness of 0.01 to 0.15. 13. Back surface protection sheet for solar cells. 前記最表面の表面比抵抗値が、1.0×1011Ω/□以上1.0×1014Ω/□以下である請求項1〜請求項13のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シート。 14. The solar cell according to claim 1, wherein a surface specific resistance value of the outermost surface is 1.0 × 10 11 Ω / □ or more and 1.0 × 10 14 Ω / □ or less. Back protection sheet. 前記最表面の、炭素原子に対するフッ素原子の含有比が、原子比で0.1以上0.7以下である請求項1〜請求項14のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シート。   The back surface protection sheet for solar cells according to any one of claims 1 to 14, wherein a content ratio of fluorine atoms to carbon atoms on the outermost surface is 0.1 or more and 0.7 or less in terms of atomic ratio. 請求項1〜請求項15のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シートを備えた太陽電池モジュール。   The solar cell module provided with the back surface protection sheet for solar cells of any one of Claims 1-15. 太陽光が入射する透明性の基材と、前記基材上に設けられ、太陽電池素子及び前記太陽電池素子を封止する封止材を有する素子構造部分と、前記素子構造部分の前記基材が位置する側と反対側に配置された請求項1〜請求項15のいずれか1項に記載の太陽電池用裏面保護シートと、を備えた太陽電池モジュール。   A transparent base material on which sunlight is incident, an element structure portion provided on the base material and having a solar cell element and a sealing material for sealing the solar cell element, and the base material of the element structure portion The solar cell module provided with the back surface protection sheet for solar cells of any one of Claims 1-15 arrange | positioned on the opposite side to the side in which this is located.
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