JP6058255B2 - In-situ purification method - Google Patents
In-situ purification method Download PDFInfo
- Publication number
- JP6058255B2 JP6058255B2 JP2011130930A JP2011130930A JP6058255B2 JP 6058255 B2 JP6058255 B2 JP 6058255B2 JP 2011130930 A JP2011130930 A JP 2011130930A JP 2011130930 A JP2011130930 A JP 2011130930A JP 6058255 B2 JP6058255 B2 JP 6058255B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- liquid
- purification
- stage
- well
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims description 84
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 title claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 81
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 72
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 27
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000004045 organic chlorine compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 13
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 19
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 15
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 12
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 12
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 11
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 6
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 5
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- KFUSEUYYWQURPO-UPHRSURJSA-N cis-1,2-dichloroethene Chemical group Cl\C=C/Cl KFUSEUYYWQURPO-UPHRSURJSA-N 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical group ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 238000009412 basement excavation Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000009533 lab test Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- -1 tetrachloroethylene, trichloroethylene Chemical group 0.000 description 1
- KFUSEUYYWQURPO-OWOJBTEDSA-N trans-1,2-dichloroethene Chemical group Cl\C=C\Cl KFUSEUYYWQURPO-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
Description
本発明は、有機塩素化合物を含有する地盤を、非掘削(原位置)で浄化する、原位置浄化方法に関する。 The present invention relates to an in-situ purification method for purifying a ground containing an organic chlorine compound without excavation (in-situ).
近年、工場、廃棄物処理場、不法投棄箇所等からの汚染物質の流出が原因による、土壌汚染とそれに伴う地下水汚染が社会的な問題となっている。
このような汚染物質のうち、汚染頻度の高いテトラクロロエチレンやトリクロロエチレン等の揮発性有機塩素化合物は、嫌気性微生物により脱塩素化され無害化されることが確認されている。
In recent years, soil contamination and associated groundwater contamination has become a social problem due to the outflow of pollutants from factories, waste disposal sites, illegal dumping places, and the like.
Among such pollutants, it has been confirmed that volatile organochlorine compounds such as tetrachloroethylene and trichlorethylene, which are frequently contaminated, are dechlorinated and rendered harmless by anaerobic microorganisms.
従来、揮発性有機塩素化合物等により汚染された地盤に対して、原位置において嫌気環境を形成するとともに脱塩素化に必要な水素を供給できる有機物材料を注入することにより浄化する原位置浄化方法が開発されており、実用化に至っている。 Conventionally, an in-situ purification method that purifies by injecting an organic material that can form an anaerobic environment and supply hydrogen necessary for dechlorination to the ground contaminated with volatile organic chlorine compounds, etc. It has been developed and put to practical use.
例えば、非特許文献1に示すように、有機塩素化合物により汚染された地盤内に設置された浄化井戸から、有機物材料を含有する液体を注入することにより、揮発性有機塩素化合物が脱塩素化により浄化されることが確認されている。 For example, as shown in Non-Patent Document 1, by injecting a liquid containing an organic material from a purification well installed in the ground contaminated with an organic chlorine compound, the volatile organic chlorine compound is removed by dechlorination. It has been confirmed that it will be purified.
ところが、前記従来の浄化方法では、地盤が有機塩素化合物とともに他の汚染物質により汚染されている場合に、脱塩素化により浄化できない汚染物質が地盤内に残存する場合があった。
また、有機物材料を地盤に供給することにより、副次的にガスが生じる場合や、浄化完了後にも有機物材料が残存する場合があった。
However, in the conventional purification method, when the ground is polluted with other pollutants together with organic chlorine compounds, there are cases where pollutants that cannot be purified by dechlorination remain in the ground.
In addition, by supplying an organic material to the ground, gas may be generated as a secondary matter, or the organic material may remain even after purification is completed.
このような観点から、本発明は複数の汚染物質により汚染された地盤を浄化することを可能とした原位置浄化方法を提供することを課題とする。 From such a viewpoint, an object of the present invention is to provide an in-situ purification method that can purify the ground contaminated with a plurality of contaminants.
前記課題を解決するために、本発明の原位置浄化方法は、有機塩素化合物を含有する地盤内に浄化井戸から有機物材料を含有する液体を供給して嫌気環境状態を作り出す第一段階と、前記第一段階において嫌気環境状態となった前記地盤内に前記浄化井戸から空気と同等以上の酸素を含有する高酸素濃度気体を供給して好気環境状態を作り出す第二段階とを備えるものであって、前記第一段階において、空気よりも酸素の含有量が低い低酸素濃度気体を前記浄化井戸から前記液体と同時に供給し、前記第二段階において、無機塩が含有された水を前記浄化井戸から前記高酸素濃度気体と同時に供給することを特徴としている。
ここで、高酸素濃度気体は空気であってもよいし、空気よりも酸素濃度が同じまたは高い気体であってもよい。
In order to solve the above-mentioned problem, the in-situ purification method of the present invention provides a first stage for producing an anaerobic environment state by supplying a liquid containing an organic material from a purification well into a ground containing an organic chlorine compound, A second stage for producing an aerobic environment state by supplying a high oxygen concentration gas containing oxygen equal to or higher than air from the purification well into the ground which has become an anaerobic environment state in the first stage. In the first stage, a low oxygen concentration gas having a lower oxygen content than air is supplied from the purification well simultaneously with the liquid, and in the second stage, water containing an inorganic salt is supplied to the purification well. From the high oxygen concentration gas.
Here, the high oxygen concentration gas may be air, or a gas having the same or higher oxygen concentration than air.
かかる原位置浄化方法によれば、第一段階において嫌気性微生物の増殖を促進させることで有機塩素化合物の脱塩素化を促進させて浄化を行った後、第二段階として好気性微生物の増殖を促進させて第一段階において浄化できない汚染物質の浄化や副次的に生じたガスの除去または分解を行うことができる。 According to this in-situ purification method, after promoting the dechlorination of organochlorine compounds by promoting the growth of anaerobic microorganisms in the first stage, the aerobic microorganisms are grown as the second stage. It is possible to promote the purification of pollutants that cannot be purified in the first stage, and the removal or decomposition of secondary gas.
また、本発明の原位置浄化方法によれば、より速やかに嫌気環境状態を作り出すことができ、地盤内が好気環境になり難くなるので、より効果的に浄化することができる。また、浄化井戸から供給される有機物材料が浄化対象となる地盤に到達する前に分解されることを防ぐことができる。その結果、有機物材料が地盤内に行きわたるようになり、浄化を均一に行うことができる。 In addition, according to the in- situ purification method of the present invention, an anaerobic environment state can be created more quickly, and the ground is less likely to become an aerobic environment, so that purification can be performed more effectively. Further, it is possible to prevent the organic material supplied from the purification well from being decomposed before reaching the ground to be purified. As a result, the organic material reaches the ground, and purification can be performed uniformly.
また、本発明の原位置浄化方法によれば、長期間に渡り好気性微生物が活性化して分解能力の促進が図られるため、より効果的に浄化を行うことが可能となる。また、好気性微生物が増殖することで空気及び液体の流路は塞がれて、その後注入された空気及び液体の流れは土壌内において他の空隙へ移動することを繰り返すため、空気及び液体を地盤内へ均一に供給することが可能となり、好気環境が均一に作り出すことができる。 In addition, according to the in- situ purification method of the present invention, aerobic microorganisms are activated over a long period of time and the decomposition ability is promoted, so that purification can be performed more effectively. In addition, air and liquid flow paths are blocked by the growth of aerobic microorganisms, and then the flow of injected air and liquid repeatedly moves to other voids in the soil. It becomes possible to supply uniformly into the ground, and an aerobic environment can be created uniformly.
本発明の原位置浄化方法によれば、複数の汚染物質により汚染された地盤を浄化することが可能となる。 According to the in-situ purification method of the present invention, the ground contaminated with a plurality of contaminants can be purified.
本発明に係る実施の形態の原位置浄化方法は、少なくとも有機塩素化合物により汚染された地盤Gに嫌気環境状態を作り出して有機塩素化合物の脱塩素化を促進する第一段階と、第一段階において嫌気環境状態となった地盤G内に好気環境状態を作り出す第二段階とを備えている。
以下、地盤G内の汚染物質が存在する領域や汚染地下水が存在する流域を「汚染領域」という。
The in-situ purification method according to the embodiment of the present invention includes a first stage in which at least an anaerobic environment is created in the ground G contaminated with an organochlorine compound to promote dechlorination of the organochlorine compound; And a second stage for creating an aerobic environment state in the ground G that has become an anaerobic environment state.
Hereinafter, the area where the pollutant exists in the ground G and the basin where the contaminated groundwater exists are referred to as “polluted area”.
本実施形態では、地表面GL側から不飽和層G1、飽和層G2および不透水層G3が積層された地盤Gに対して、本実施形態の原位置浄化方法を採用した場合について説明する。なお、汚染領域は、飽和層G2に存在している。 This embodiment demonstrates the case where the in-situ purification method of this embodiment is employ | adopted with respect to the ground G in which the unsaturated layer G1, the saturated layer G2, and the impermeable layer G3 were laminated | stacked from the ground surface GL side. The contaminated area exists in the saturated layer G2.
第一段階では、図1に示すように、地盤G内に設置した浄化井戸(スパージング井戸)10を利用して、第一液体W1と第一気体A1とを同時に汚染領域に注入する。 In the first stage, as shown in FIG. 1, the first liquid W <b> 1 and the first gas A <b> 1 are simultaneously injected into the contaminated region using the purification well (sparging well) 10 installed in the ground G.
本実施形態の第一液体W1は、嫌気環境の形成と嫌気性微生物による脱塩素化を促進させる有機物材料を含有する水により構成されている。
なお、第一液体W1には、必要に応じて無機物を含有させてもよい。
The first liquid W1 of the present embodiment is composed of water containing an organic material that promotes formation of an anaerobic environment and dechlorination by anaerobic microorganisms.
In addition, you may make the 1st liquid W1 contain an inorganic substance as needed.
汚染領域に第一液体W1を供給することで、汚染領域内の嫌気性微生物が活性化し、汚染領域での微生物分解活性を高めることが可能となる。 By supplying the first liquid W1 to the contaminated area, anaerobic microorganisms in the contaminated area are activated, and the microbial degradation activity in the contaminated area can be increased.
第一気体A1は、空気よりも酸素の含有量が低い気体(低酸素濃度気体)である。
第一気体A1を注入すると、汚染領域が好気環境になり難くなるので、汚染領域が嫌気環境になり易くなり、浄化井戸10から供給された第一液体W1(有機物材料)が浄化対象となる位置に到達する前に分解されることが防止され、その結果、有機物材料が汚染領域内に行きわたり、浄化を均一に行うことができる。
The first gas A1 is a gas having a lower oxygen content than air (low oxygen concentration gas).
When the first gas A1 is injected, the contaminated area is less likely to become an aerobic environment, and therefore, the contaminated area is likely to become an anaerobic environment, and the first liquid W1 (organic material) supplied from the
本実施形態では、第一気体A1として、窒素ガスの含有量が大気よりも高い気体を使用するものとする。なお、第一気体A1は、空気よりも酸素の含有量が低い気体であって、地中に注入されることで、汚染領域を嫌気環境とすることが可能であれば、限定されるものではないが、好適には酸素を殆ど含有していない不活性ガス、特に窒素、二酸化炭素、アルゴンガスおよびヘリウムからなる群より少なくとも一種以上選択されてなるものであれば、効果的である。また、酸素除去装置により空気から酸素を除去した気体を使用してもよい。 In the present embodiment, a gas having a nitrogen gas content higher than the atmosphere is used as the first gas A1. The first gas A1 is a gas having a lower oxygen content than air, and is limited as long as the contaminated area can be made an anaerobic environment by being injected into the ground. However, it is effective if it is preferably selected from at least one selected from the group consisting of inert gas containing almost no oxygen, particularly nitrogen, carbon dioxide, argon gas and helium. Moreover, you may use the gas which removed oxygen from air with the oxygen removal apparatus.
なお、第一気体A1は、汚染領域に有機塩素化合物が高濃度で存在する場合や汚染領域の透水性が低く、第一液体W1の注入速度が遅い場合に注入すればよい。
そのため、例えば、有機塩素化合物の濃度が低い場合や、汚染領域の透水性が高い場合等には、第一気体A1の注入を省略してもよい。
The first gas A1 may be injected when the organic chlorine compound is present at a high concentration in the contaminated area, or when the water permeability of the contaminated area is low and the injection speed of the first liquid W1 is slow.
Therefore, for example, when the concentration of the organic chlorine compound is low or the water permeability of the contaminated region is high, the injection of the first gas A1 may be omitted.
第二段階では、浄化井戸10から、第二液体W2と第二気体A2とを汚染領域に同時に注入する。 In the second stage, the second liquid W2 and the second gas A2 are simultaneously injected from the purification well 10 into the contaminated area.
本実施形態の第二液体W2は、無機塩を含有する水により構成されている。無機塩は、好気性微生物の増殖を促進させる材料である。
なお、第二液体W2は、第一段階実施後の汚染領域に好気性微生物による有機物の分解に必要な栄養塩が不足している場合に注入すればよく、注入を省略してもよい。
The second liquid W2 of the present embodiment is composed of water containing an inorganic salt. Inorganic salts are materials that promote the growth of aerobic microorganisms.
Note that the second liquid W2 may be injected when nutrients necessary for the decomposition of organic substances by the aerobic microorganisms are insufficient in the contaminated area after the first stage, and the injection may be omitted.
第二気体A2は、空気と同等以上の酸素を含有する高酸素濃度気体であって、本実施形態では、空気を使用する。第二気体A2(空気)の供給量は、好気性微生物による分解速度や汚染濃度等に応じて適宜調整する。なお、第二気体A2として、空気に代えて、空気よりも酸素濃度が高い気体を採用してもよい。
第一段階において嫌気環境状態となった汚染領域に、酸素を含有する第二気体A2を供給することで好気環境状態を形成し、好気性微生物の活性化が促進する。
The second gas A2 is a high oxygen concentration gas containing oxygen equal to or higher than air, and air is used in the present embodiment. The supply amount of the second gas A2 (air) is appropriately adjusted according to the degradation rate by the aerobic microorganism, the contamination concentration, and the like. In addition, it may replace with air and may employ | adopt the gas whose oxygen concentration is higher than air as 2nd gas A2.
An aerobic environment state is formed by supplying the second gas A2 containing oxygen to the contaminated region that has become an anaerobic environment state in the first stage, and activation of the aerobic microorganisms is promoted.
以下、本実施形態の原位置浄化方法で使用する原位置浄化システム1について説明する。
原位置浄化システム1は、図1に示すように、浄化井戸10とコンプレッサ20と第一液体槽30と第二液体層40と吸引装置50とを備えている。
Hereinafter, the in-situ purification system 1 used in the in-situ purification method of this embodiment will be described.
The in-situ purification system 1 includes a
浄化井戸10は、図1に示すように、汚染領域に液体W(第一液体W1や第二液体W2)および気体A(第一気体A1や第二気体A2)を供給すること可能となるように形成された縦孔であって、液体Wと気体Aとを汚染領域(飽和層G2)内に供給することが可能な内径を有して形成されている。 As shown in FIG. 1, the purification well 10 can supply the liquid W (the first liquid W1 and the second liquid W2) and the gas A (the first gas A1 and the second gas A2) to the contaminated area. And has an inner diameter capable of supplying the liquid W and the gas A into the contaminated region (saturated layer G2).
本実施形態では、浄化井戸10として、その下端付近に開口部を有した鋼管11を地盤G内に配設することにより形成する。
鋼管11の開口部には、浄化井戸10内への土砂の浸入を防ぐために、通気・通水が可能なスクリーン12が配設されている。なお、浄化井戸10を構成する管材の材質は限定されるものではない。
In the present embodiment, the
In order to prevent intrusion of earth and sand into the purification well 10, a
浄化井戸10は、汚染領域よりも深い位置に下端部の開口部(スクリーン11)が配置されるように形成されている。本実施形態の浄化井戸10は、不飽和層G1を貫通して、下端が飽和層G2と不透水層G3との境界面RLの近傍に位置するように形成されている。なお、浄化井戸10の深度は、汚染領域へ気体Aおよび液体Wを確実に供給することができる位置であれば限定されるものではない。また、開口部(スクリーン11)は、飽和層G2内に配置されていればよく、必ずしも境界面RLの近傍である必要はない。
The
本実施形態では、浄化井戸10を鉛直に形成しているが、浄化井戸10は必ずしも鉛直である必要はない。
また、本実施形態では、1本の浄化井戸10が配置されている場合について説明するが、浄化井戸10は、複数形成されていてもよい。浄化井戸10の設置数や配置は限定されるものではなく、汚染領域の範囲や汚染濃度、浄化井戸10の影響範囲(気体Aや液体Wの到達範囲)等に応じて、適宜設定すればよい。
In this embodiment, although the purification well 10 is formed vertically, the purification well 10 does not necessarily need to be vertical.
Moreover, although this embodiment demonstrates the case where the one
浄化井戸10の上端部には、コンプレッサ20と第一液体槽30と第二液体槽40とが接続されている。なお、本実施形態では、第一液体槽30と第二液体槽40とを個別に設けたが、同一の液体槽を第一液体槽30および第二液体槽40として使用してもよい。
The
コンプレッサ20は、送気管21を介して浄化井戸10に接続されている。
コンプレッサ20は、圧縮した気体Aを、送気管21を介して浄化井戸10に供給する。
The
The
送気管21の所定の位置には、供給する気体Aの量を調整するためのバルブ、流量計、圧力計等(図示省略)が必要に応じて配設されている。
A valve, a flow meter, a pressure gauge, and the like (not shown) for adjusting the amount of gas A to be supplied are disposed at predetermined positions of the
本実施形態のコンプレッサ20には、第一気体A1が貯留された第一気体槽22が接続されている。
第一気体槽22は、バルブ23を介してコンプレッサ20に接続されている。バルブ23は、第一段階では開放され、一方、第二段階では、コンプレッサ20に第一気体A1が供給されることがないように遮蔽される。
A
The
コンプレッサ20は、第一段階では、第一気体槽22から供給された第一気体A1を圧縮して浄化井戸10に送気し、第二段階では空気を圧縮して浄化井戸10に送気する。
In the first stage, the
なお、第一段階において、第一気体A1の注入を省略する場合には、原位置浄化システム1の第一気体槽22は省略してもよい。
また、第一気体槽22に替えて酸素除去装置(図示省略)をコンプレッサ2に設置することで、空気から酸素を除去した気体を浄化井戸10に供給してもよい。
In the first stage, when the injection of the first gas A1 is omitted, the
Further, a gas from which oxygen has been removed from the air may be supplied to the purification well 10 by installing an oxygen removing device (not shown) in the compressor 2 instead of the
第一液体槽30は、第一液体W1を貯留する。第一液体W1は、第一液体槽30内において、水と有機物材料とを混合することにより生成する。なお、第一液体W1は、予め別の場所において生成されたものを、第一液体槽30に供給してもよい。
第一液体槽30は、送液管31と送水ポンプ32を介して浄化井戸10に接続されている。
The
The
第一液体W1は、第一段階において、送水ポンプ32により送液管31を介して浄化井戸10へ供給される。
The first liquid W <b> 1 is supplied to the purification well 10 via the
第二液体槽40は、第二液体W2を貯留する。第二液体W2は、第二液体層40内において、水と無機塩とを混合することにより生成する。また、第二液体W2として、予め別の場所において生成されたものを第二液体層40に供給してもよい。
第二液体槽40は、送液管41と送水ポンプ42を介して浄化井戸10に接続されている。
The
The
第二液体W2は、図2に示すように、第二段階において、送水ポンプ42により送液管41を介して第二液体槽40から浄化井戸10へ供給される。
As shown in FIG. 2, the second liquid W2 is supplied from the
吸引装置50は、地盤Gに気体Aを注入することにより汚染領域から上昇してきたガスを吸引するとともに無害化処理を施して大気に放出するものである。
本実施形態の吸引装置50は、吸引井戸51,51と吸引ブロア52と吸着塔53とを備えている。
The
The
吸引井戸51は、汚染領域の上部において不飽和層G1に形成された井戸である。吸引井戸51は、飽和層G2内のガス(汚染領域から上昇してきたガス)A3を吸引できるように構成されている。
なお、吸引井戸51は、飽和層G2内において上昇してきたガスA3の吸引が可能となるように形成されていればよく、吸引井51の下端が飽和層G2の上端部に面していてもよいし、吸引井戸51の全体を不飽和層G1内(地下水位WLよりも上方)に配置してもよいし、吸引井戸51の下端が飽和層G2内に入り込んでいてもよい。
The suction well 51 is a well formed in the unsaturated layer G1 above the contaminated region. The suction well 51 is configured to be able to suck the gas (gas rising from the contaminated area) A3 in the saturated layer G2.
The suction well 51 only needs to be formed so that the gas A3 that has risen in the saturated layer G2 can be sucked. Even if the lower end of the suction well 51 faces the upper end of the saturated layer G2. Alternatively, the entire suction well 51 may be disposed in the unsaturated layer G1 (above the groundwater level WL), or the lower end of the suction well 51 may enter the saturated layer G2.
吸引井戸51は、上端に接続された吸気管54を介して地上に設けられた吸引ブロア52に接続されている。
The suction well 51 is connected to a
吸引ブロア52は、吸引井戸51を介して飽和層内のガスを吸引するとともに、吸引したガスA3を吸着塔53に供給する。
The
吸着塔53は、内部に活性炭が配設されていて、吸引ブロア52から供給されたガスA3が含有する汚染物質を吸着して無害化処理を施した後、大気中へ排気する。
The
なお、吸引装置50の構成は前記の構成に限定されるものではなく、適宜構成すればよい。例えば、吸引井戸51に変えて、汚染領域の上方に水平に排気管(水平井戸)を配管してもよい。
また、吸着塔53による吸気された気体の処理方法は限定されるものではない。
また、吸引装置50は必要に応じて配置すればよく、省略してもよい。
Note that the configuration of the
Further, the method of processing the sucked gas by the
Further, the
以下、本実施形態に係る原位置浄化方法の作用について説明する。 Hereinafter, the operation of the in-situ purification method according to the present embodiment will be described.
まず、第一段階として、コンプレッサ20と送水ポンプ32を作動させて、図1に示すように、浄化井戸10から地盤G(汚染領域)内に第一気体A1と第一液体W1とを同時に注入する。
First, as a first stage, the
汚染領域(飽和層G2)に第一気体A1と第一液体W1が供給されることにより、汚染領域(飽和層G2)内が速やかに嫌気環境になり、第一気体A1と共に浄化井戸10から供給された第一液体W1が、あまり分解されずに所望の汚染領域全体に行きわたるようになる。 By supplying the first gas A1 and the first liquid W1 to the contaminated region (saturated layer G2), the inside of the contaminated region (saturated layer G2) quickly becomes an anaerobic environment and is supplied from the purification well 10 together with the first gas A1. The first liquid W1 thus made reaches the entire desired contaminated area without being decomposed so much.
また、汚染領域(飽和層G2)に嫌気性微生物の栄養水である第一液体W1を供給すると、土粒子の間隙を通過する第一液体W1により嫌気性微生物が活性化され、有機塩素化合物を嫌気的に分解して水素が発生するため、汚染物質の脱塩素化が進行する。 In addition, when the first liquid W1 that is nutrient water of anaerobic microorganisms is supplied to the contaminated region (saturated layer G2), the anaerobic microorganisms are activated by the first liquid W1 that passes through the gaps between the soil particles, and the organic chlorine compound is Dechlorination of pollutants proceeds because anaerobic decomposition generates hydrogen.
浄化井戸10の下端から排出された第一気体A1は、コンプレッサ20の圧力と飽和層G2における浮力により上下井戸10の外周方向に拡散されつつ上方に上昇するため、汚染領域全体に供給される。
The first gas A1 discharged from the lower end of the purification well 10 rises upward while being diffused in the outer peripheral direction of the upper and
第一気体A1が汚染領域全体に供給されることで、汚染領域は嫌気環境となり、嫌気性微生物の活性化が進行する。 By supplying the first gas A1 to the entire contaminated area, the contaminated area becomes an anaerobic environment, and the anaerobic microorganisms are activated.
ここで、第一段階で浄化できる汚染物質(有機塩素化合物)としては、例えばテトラクロロエチレン、トリクロロエチレン、トランス−1,2−ジクロロエチレン、シス−1,2−ジクロロエチレン、1,1−ジクロロエチレン、塩化ビニルモノマー、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素、ジクロロメタンなどが挙げられる。 Here, as pollutants (organochlorine compounds) that can be purified in the first stage, for example, tetrachloroethylene, trichloroethylene, trans-1,2-dichloroethylene, cis-1,2-dichloroethylene, 1,1-dichloroethylene, vinyl chloride monomer, Examples include 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride, and dichloromethane.
第一段階による有機塩素化合物の浄化が完了したら、第二段階として、コンプレッサ20と送水ポンプ42を作動させて、図2に示すように、浄化井戸10から地盤G(汚染領域)に第二気体A2と第二液体W2とを同時に注入する。
When the purification of the organic chlorine compound in the first stage is completed, as the second stage, the
汚染領域(飽和層G2)に第二気体A2(空気)が供給されることで、汚染領域が好気環境となり、好気性微生物が活性化する。
このとき、第二気体A2とともに第二液体W2が注入されているため、第二液体W2が含有する無機塩により長期間に渡り微生物が活性化して分解能力の促進が図られるため、より効果的に浄化を行うことが可能となる。
By supplying the second gas A2 (air) to the contaminated area (saturated layer G2), the contaminated area becomes an aerobic environment, and aerobic microorganisms are activated.
At this time, since the second liquid W2 is injected together with the second gas A2, since the microorganisms are activated over a long period of time by the inorganic salt contained in the second liquid W2 and the decomposition ability is promoted, it is more effective. It becomes possible to perform purification.
また、好気性微生物が増殖することで第二気体A2および第二液体W2の流路は塞がれて、その後注入された第二気体A2および第二液体W2の流れは土壌内において他の空隙へ移動することを繰り返すため、第二気体A2を汚染領域全体へ均一に供給することが可能となり、好気環境を均一に作り出すことができる。 In addition, the flow path of the second gas A2 and the second liquid W2 is blocked by the growth of aerobic microorganisms, and the flow of the second gas A2 and the second liquid W2 injected thereafter is another void in the soil. Therefore, the second gas A2 can be uniformly supplied to the entire contaminated area, and an aerobic environment can be created uniformly.
汚染領域において好気性微生物を活性化させることで、第一段階の浄化期間に副次的に生じたガスの除去または分解することができる。
ここで、第二段階で除去または分解するガスとしては、例えば、メタン、エタン、エチレン、硫化水素等である。
By activating the aerobic microorganisms in the contaminated area, it is possible to remove or decompose the gas generated as a secondary during the purification period of the first stage.
Here, examples of the gas to be removed or decomposed in the second stage include methane, ethane, ethylene, and hydrogen sulfide.
また、第一段階で地盤G内に供給した有機物が、第一段階の浄化が完了後も地盤G内に残存している場合であっても、第二段階において分解することができる。
このような有機物としては、例えば糖、たんぱく質、アミノ酸、有機酸、油脂類、高級脂肪酸などがある。
Moreover, even if the organic substance supplied in the ground G in the first stage remains in the ground G even after the purification in the first stage is completed, it can be decomposed in the second stage.
Examples of such organic substances include sugars, proteins, amino acids, organic acids, fats and oils, and higher fatty acids.
また、第一段階の浄化期間中に浄化できなかった汚染物質(脱塩素化により浄化できない汚染物質)を好気性微生物により分解、浄化することができる。
このような汚染物質としては、トリクロロエチレン、シス−1,2−ジクロロエチレン、塩化ビニルモノマー、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、m−キシレン、p−キシレン、o−キシレン、油類、シアン化合物類などが挙げられる。
In addition, contaminants that could not be purified during the first purification period (pollutants that cannot be purified by dechlorination) can be decomposed and purified by aerobic microorganisms.
Such pollutants include trichlorethylene, cis-1,2-dichloroethylene, vinyl chloride monomer, 1,2-dichloroethane, dichloromethane, benzene, toluene, ethylbenzene, m-xylene, p-xylene, o-xylene, oils And cyan compounds.
なお、第一段階及び第二段階では、吸引ブロア52を作動させることにより、地盤G内に注入されて、その浮力により飽和層G2内を上昇した気体Aを不飽和層G1の上部において吸引井戸51,51により吸引する。
In the first stage and the second stage, by operating the
吸引井戸51により吸引された気体Aは、吸着塔53により無害化処理が施された後、大気に放出される。
The gas A sucked by the suction well 51 is detoxified by the
このように、本実施形態の原位置浄化方法によれば、地盤Gが複数の汚染物質により汚染されていたとしても浄化することが可能である。 Thus, according to the in-situ purification method of the present embodiment, even if the ground G is contaminated with a plurality of contaminants, it can be purified.
また、嫌気環境または好気環境を作り出す気体(第一気体A1または第二気体A2)の供給と微生物分解に必要な液体W(第一液体W1または第二液体W2)の供給が同時に実施されることで、高濃度の汚染に対応可能であり、かつ、汚染濃度が低下した後も浄化効率が低下しない。 In addition, supply of a gas (first gas A1 or second gas A2) that creates an anaerobic environment or an aerobic environment and supply of a liquid W (first liquid W1 or second liquid W2) necessary for microbial decomposition are performed simultaneously. Thus, it is possible to cope with high concentration contamination, and the purification efficiency does not decrease even after the contamination concentration is reduced.
また、第一段階および第二段階における気体Aおよび液体Wの供給を、同一の浄化井戸10を利用して行うことで、原位置浄化システムの製造コストを削減することができる。 In addition, by supplying the gas A and the liquid W in the first stage and the second stage using the same purification well 10, the manufacturing cost of the in-situ purification system can be reduced.
以上、本発明に係る実施の形態について説明した。しかし、本発明は、前記実施形態に限られず、前記の各構成要素については、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜変更が可能である。 The embodiment according to the present invention has been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and the above-described components can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention.
例えば、地山状況(土質や層厚等)は前記実施形態で示した内容に限定されるものではない。 For example, ground conditions (soil quality, layer thickness, etc.) are not limited to the contents shown in the embodiment.
また、必要に応じて揚水井戸を配置して、地下水を揚水してもよい。
揚水井戸を備えている場合には、揚水井戸により揚水された地下水に無害化処理を施した後、第一液体W1または第二液体W2を構成する水に使用してもよい。
Moreover, you may arrange | position a pumping well as needed and pump groundwater.
In the case where a pumping well is provided, the ground water pumped by the pumping well may be detoxified, and then used as water constituting the first liquid W1 or the second liquid W2.
また、汚染領域の周囲には、必要に応じて、遮水壁を配設してもよい。これにより、汚染領域から汚染地下水の流出、土壌に注入された気体Aや液体Wの領域外への流出を防止し、周辺地域への影響を防止することができる。 Moreover, you may arrange | position the water-impervious wall around a contamination area | region as needed. Thereby, the outflow of the contaminated groundwater from the contaminated area and the outflow of the gas A and the liquid W injected into the soil can be prevented, and the influence on the surrounding area can be prevented.
以下、本発明に係る原位置浄化方法において嫌気環境状態による浄化後に好気環境状態での浄化を実施することによる効果の確認を行った室内試験の結果を説明する。 Hereinafter, the result of the indoor test which confirmed the effect by implementing purification in an aerobic environment state after purification by an anaerobic environment state in the in- situ purification method according to the present invention will be described.
本室内試験では、複数の揮発性有機化合物(VOCs)により汚染された帯水層から汚染地下水を採取し、この地下水に対して嫌気培養試験および好気培養試験を実施した。 In this laboratory test, contaminated groundwater was collected from an aquifer contaminated with a plurality of volatile organic compounds (VOCs), and an anaerobic culture test and an aerobic culture test were performed on the groundwater.
(1)地下水性状
表1に、汚染地下水の有機物濃度、細菌数およびVOCs濃度を示す。
表1に示すように、汚染地下水からは、環境基準値を超える5種類のVOCsが検出された。
(1) Groundwater condition Table 1 shows the organic matter concentration, the number of bacteria, and the VOCs concentration in contaminated groundwater.
As shown in Table 1, five types of VOCs exceeding the environmental standard value were detected from the contaminated groundwater.
(2)嫌気培養試験
汚染地下水に対して、嫌気状態で培養試験を97日間実施し、経時的に培養液(汚染地下水)を採取して酸化還元電位(ORP)、全有機炭素濃度(TOC)、全菌数、VOCs濃度の分析を行った。
培養液の採取は、0,12,18,25,32,39,70および97日目の計8回実施した。
(2) Anaerobic culture test A 97-day culture test was conducted on contaminated groundwater in an anaerobic state, and the culture solution (contaminated groundwater) was collected over time to obtain a redox potential (ORP) and total organic carbon concentration (TOC). The total number of bacteria and the VOCs concentration were analyzed.
The culture was collected eight times on
培養開始から10日目までは全有機炭素濃度(TOC)が減少し(図4参照)、全菌数が増加する傾向が見られた(図5参照)が、それ以降は全有機炭素濃度(TOC)や全菌数の増減は見られなかった。 From the start of culture to the 10th day, the total organic carbon concentration (TOC) decreased (see FIG. 4) and the total bacterial count tended to increase (see FIG. 5). TOC) and the increase or decrease in the total number of bacteria was not observed.
有機塩素化合物の脱塩素化は、図6および図7に示すように、1,2ジクロロエタン、シス−1,2−ジクロロエチレン、塩化ビニルモノマーについては、酸化還元電位(ORP)が−150mV程度まで低下した40日目以降(図3参照)に脱塩素化されたことが確認された。 As shown in FIGS. 6 and 7, the dechlorination of the organic chlorine compound is performed by reducing the redox potential (ORP) to about −150 mV for 1,2-dichloroethane, cis-1,2-dichloroethylene, and vinyl chloride monomer. It was confirmed that it was dechlorinated after the 40th day (see FIG. 3).
一方、図7に示すように、ジクロロメタンについては、脱塩素化の完了は確認できなかった。
また、ベンゼンについても変化は見られなかった。
On the other hand, as shown in FIG. 7, completion of dechlorination could not be confirmed for dichloromethane.
There was no change in benzene.
以上の結果、1,2ジクロロエタン、シス−1,2−ジクロロエチレン、塩化ビニルモノマーの脱塩素化は、嫌気状態が形成されれば進行するが、この間は有機物の減少がほとんど見られない結果となった。
一方、ジクロロメタンおよびベンゼンについては、嫌気状態では濃度の減少がほとんど進行しない結果となった。
As a result of the above, dechlorination of 1,2-dichloroethane, cis-1,2-dichloroethylene, and vinyl chloride monomer proceeds if an anaerobic state is formed, but during this period, almost no decrease in organic matter is observed. It was.
On the other hand, for dichloromethane and benzene, the decrease in concentration hardly progressed under anaerobic conditions.
(3)好気培養試験
嫌気培養試験完了後の培養液に対して、濃縮栄養塩を添加して、7日間の振とう培養(好気培養)を行った。
試験結果を表2に示す。
(3) Aerobic culture test Concentrated nutrient salt was added to the culture solution after the completion of the anaerobic culture test, and shake culture (aerobic culture) was performed for 7 days.
The test results are shown in Table 2.
表2に示すように、培養液に空気(酸素)と栄養塩を供給することにより、全菌数は約10倍に増加し、ベンゼンおよびジクロロメタンは検出限界以下まで分解されたことが確認された。
また、全有機炭素濃度(TOC)も20mg/Lまで低下し、有機物の85%以上が除去されたことが確認できた。
As shown in Table 2, it was confirmed that by supplying air (oxygen) and nutrients to the culture solution, the total number of bacteria increased about 10 times, and benzene and dichloromethane were decomposed to below the detection limit. .
Moreover, the total organic carbon concentration (TOC) was also reduced to 20 mg / L, and it was confirmed that 85% or more of the organic substances were removed.
以上の結果、嫌気環境状態による浄化後に、好気環境状態での浄化を実施することで、複数の汚染物質により汚染された地盤の浄化を行うことが可能であることが実証された。 As a result of the above, it was proved that it is possible to purify the ground contaminated with a plurality of pollutants by performing the purification in the aerobic environment state after the purification in the anaerobic environment state.
1 原位置浄化システム
10 浄化井戸
G 地盤
A1 第一気体(低酸素濃度気体)
A2 第二気体(高酸素濃度気体)
W1 第一液体(有機物材料を含有する液体)
W2 第二液体(水)
1 In-
A2 Second gas (high oxygen concentration gas)
W1 first liquid (liquid containing organic material)
W2 Second liquid (water)
Claims (1)
前記第一段階において嫌気環境状態となった前記地盤内に前記浄化井戸から空気と同等以上の酸素を含有する高酸素濃度気体を供給して好気環境状態を作り出す第二段階と、を備える原位置浄化方法であって、
前記第一段階において、空気よりも酸素の含有量が低い低酸素濃度気体を、前記浄化井戸から前記液体と同時に供給し、
前記第二段階において、無機塩が含有された水を、前記浄化井戸から前記高酸素濃度気体と同時に供給することを特徴とする原位置浄化方法。 A first stage in which an anaerobic environment is created by supplying a liquid containing an organic material from a purification well into a ground containing an organic chlorine compound;
A second stage for producing an aerobic environment state by supplying a high oxygen concentration gas containing oxygen equal to or higher than air from the purification well into the ground that has become an anaerobic environment state in the first stage. A position purification method,
In the first stage, a low oxygen concentration gas having a lower oxygen content than air is supplied simultaneously with the liquid from the purification well ,
In the second step, the in-situ purification method is characterized in that water containing an inorganic salt is supplied simultaneously from the purification well with the high oxygen concentration gas.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011130930A JP6058255B2 (en) | 2011-06-13 | 2011-06-13 | In-situ purification method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011130930A JP6058255B2 (en) | 2011-06-13 | 2011-06-13 | In-situ purification method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013000612A JP2013000612A (en) | 2013-01-07 |
JP6058255B2 true JP6058255B2 (en) | 2017-01-11 |
Family
ID=47669768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011130930A Active JP6058255B2 (en) | 2011-06-13 | 2011-06-13 | In-situ purification method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6058255B2 (en) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3176849B2 (en) * | 1996-07-24 | 2001-06-18 | 同和鉱業株式会社 | Microorganism treatment method for soil contaminated with organochlorine compounds |
JP2004130166A (en) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Kubota Corp | Method for restoring polluted soil or the like |
JP2005066576A (en) * | 2003-08-28 | 2005-03-17 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | Purification device of substance polluted with organochlorine compound |
JP4398699B2 (en) * | 2003-10-30 | 2010-01-13 | 東邦瓦斯株式会社 | In-situ purification system for contaminated groundwater |
JP2005205299A (en) * | 2004-01-22 | 2005-08-04 | Kubota Corp | Method for purifying contaminated soil and contaminated water |
JP2006346567A (en) * | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Kubota Corp | In-situ purification method of contaminated soil |
JP5205010B2 (en) * | 2007-08-20 | 2013-06-05 | 大成建設株式会社 | In-situ purification method for contaminated groundwater |
JP5377069B2 (en) * | 2009-05-14 | 2013-12-25 | エコサイクル株式会社 | Additive and purification method for purifying media contaminated with organochlorine compounds |
-
2011
- 2011-06-13 JP JP2011130930A patent/JP6058255B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013000612A (en) | 2013-01-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2021073082A (en) | Treatment of matrix back diffusion in aquifers | |
JP3728510B2 (en) | Soil pollution countermeasure method and soil pollution countermeasure system | |
KR20030087915A (en) | Method for purifying a layer of contaminated soil and apparatus | |
JP5205010B2 (en) | In-situ purification method for contaminated groundwater | |
JP2012125665A (en) | Method for purifying soil pollution | |
JP4281551B2 (en) | Soil and groundwater contamination purification equipment and purification method | |
KR20100071939A (en) | Apparatus and method for in-situ bioremediation of contaminated ground water | |
JP2008188478A (en) | Method and system for purifying polluted soil | |
JP6058255B2 (en) | In-situ purification method | |
KR101378763B1 (en) | Method for purifying contaminated groundwater with bacteria and permeable reactive barrier used for purifying | |
JP2006198476A (en) | Method for making contaminated deposit harmless | |
JP3930785B2 (en) | Contaminated strata purification method and polluted strata purification system used therefor | |
JP2009279489A (en) | Method of purifying contaminated soil and/or ground water | |
JP4702671B2 (en) | In-situ purification method for contaminated soil and contaminated groundwater | |
JP2012035181A (en) | In situ purification method of contaminated soil and groundwater | |
JP4055076B2 (en) | Contaminated soil purification equipment | |
JP2008221167A (en) | Soil purification method and apparatus | |
JP2006007182A (en) | In situ bioremediation construction method accompanied by preculture, and system therefor | |
JP4292921B2 (en) | Purification method and system for hardly air permeable and contaminated soil | |
JP4988989B2 (en) | Soil purification method | |
JP2009279471A (en) | Method of purifying contaminated soil and ground water | |
JP2011156455A (en) | In-situ purification method for contaminated underground water | |
JP2009202133A (en) | Confirmation method of applicability of microorganism purification to polluted soil | |
JPH10230243A (en) | Method for purifying polluted soil and ground water by microorganisms and device therefor | |
JP2011156454A (en) | In-situ purification method for contaminated underground water |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140930 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141201 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150602 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20150904 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20160506 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161024 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161207 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6058255 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |