JP6051653B2 - Polyimide resin, cured polyimide resin, and polyimide film - Google Patents

Polyimide resin, cured polyimide resin, and polyimide film Download PDF

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本発明は特定構造のポリイミド樹脂、前記ポリイミド樹脂に紫外線または電子線を照射して硬化させることにより得られる、透明性、耐熱性に優れ、耐有機溶剤性に優れるポリイミド樹脂硬化物およびポリイミドフィルムに関する。本発明のポリイミドフィルムは透明導電性フィルム、薄膜トランジスタ基板、フレキシブルプリント配線基板に利用される。 The present invention relates to a polyimide resin having a specific structure, a cured polyimide resin and a polyimide film, which are obtained by irradiating and curing the polyimide resin by irradiating ultraviolet rays or electron beams, and have excellent transparency, heat resistance, and organic solvent resistance. . The polyimide film of the present invention is used for a transparent conductive film, a thin film transistor substrate, and a flexible printed wiring board.

従来より、ポリイミドはその優れた耐熱性に加え、機械物性、耐薬品性、電気特性等の点において優れた特性を有しているために、成形材料、複合材料、電気・電子部品等の分野において幅広く用いられている。近年の電気・電子機器は小型化、薄型化、軽量化が著しく進歩しており、それを構成する部品の一つであるプラスチックフィルムに対しても、これまで以上に耐熱性、機械的特性、寸法安定性の点で長期にわたる信頼性を要求されている。   Traditionally, polyimide has excellent properties in terms of mechanical properties, chemical resistance, electrical properties, etc. in addition to its excellent heat resistance, so it can be used in fields such as molding materials, composite materials, and electrical / electronic components. Widely used. In recent years, electrical and electronic devices have made significant progress in miniaturization, thinning, and weight reduction, and even for plastic films that are one of the components, heat resistance, mechanical properties, Long-term reliability is required in terms of dimensional stability.

近年、高度情報化社会の到来に伴い、光ファイバー、光導波路等の光通信分野、液晶配向膜、カラーフィルター等表示装置分野では、耐熱性と透明性とを併せ持つ材料が求められている。特に表示装置分野では、軽量でフレキシブル性に優れたプラスチック基板へのガラス基板代替検討や曲げたり丸めたりすることが可能なディスプレイの開発が盛んに行われている。この分野では、透明性と耐熱性に加え、靭性にも優れる樹脂材料の開発が強く求められている。
しかしながら、一般にポリイミド樹脂は分子内共役や電荷移動錯体の形成により本質的に黄褐色に着色する。このような問題を解決すべく、特許文献1には、特定のテトラカルボン酸二無水物と直鎖または分岐した脂肪族ジアミンからなる無色透明ポリイミドが開示されている。特許文献2には、特定のテトラカルボン酸またはその二無水物を特定比率以上で用いた透明ポリイミド樹脂が開示されている。また、特許文献3には、ジアミン成分と酸二無水物成分とを混合し重合したポリアミド酸溶液を減圧下で加熱し、熱イミド化して得たポリイミド樹脂を溶媒で再度溶解し、流延塗布後に乾燥して得られる透明ポリイミドフィルムが開示されている。しかし、これらポリイミド樹脂は耐有機溶媒性が劣るという問題点がある。そのため、基板用および光学用フィルムとして使用されるとき、極性溶媒や溶媒を含むコーティング液に曝される場合、その表面の溶出または膨潤によりその形態が変わるため、フィルムの保護層なしにそれ自体で使用することが困難である。
In recent years, with the advent of an advanced information society, materials having both heat resistance and transparency have been demanded in the fields of optical communication such as optical fibers and optical waveguides, and display devices such as liquid crystal alignment films and color filters. In particular, in the field of display devices, a glass substrate is being considered as an alternative to a lightweight and flexible plastic substrate, and displays that can be bent or rolled are being actively developed. In this field, development of a resin material having excellent toughness in addition to transparency and heat resistance is strongly demanded.
However, in general, a polyimide resin is essentially yellowish brown due to intramolecular conjugation or formation of a charge transfer complex. In order to solve such problems, Patent Document 1 discloses a colorless and transparent polyimide comprising a specific tetracarboxylic dianhydride and a linear or branched aliphatic diamine. Patent Document 2 discloses a transparent polyimide resin using a specific tetracarboxylic acid or a dianhydride thereof in a specific ratio or more. In Patent Document 3, a polyamic acid solution obtained by mixing and polymerizing a diamine component and an acid dianhydride component is heated under reduced pressure, a polyimide resin obtained by thermal imidization is dissolved again with a solvent, and cast coating is performed. A transparent polyimide film obtained by subsequent drying is disclosed. However, these polyimide resins have a problem of poor organic solvent resistance. Therefore, when used as a substrate or optical film, when exposed to a coating solution containing a polar solvent or solvent, its form changes due to elution or swelling of its surface, so that the film itself does not have a protective layer. Difficult to use.

特許第3702579号公報Japanese Patent No. 3702579 特開2001−48983号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-48983 国際公開2002/66546号International Publication No. 2002/66546

本発明の課題は、透明性や耐熱性を有しながら、耐溶剤性が改善された透明ポリイミドフィルムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a transparent polyimide film having improved solvent resistance while having transparency and heat resistance.

本発明者らは上記の課題を解決するため鋭意検討した結果、脂肪族テトラカルボン酸構造を含む繰り返し単位を有するポリイミドを骨格として、末端にアクリル基またはメタクリル基を含む化合物を結合させ、紫外線等により硬化し乾燥させることで、透明性と耐熱性を有しながら耐有機溶剤性が改善されたポリイミド樹脂硬化物およびポリイミドフィルムが得られることを見出し、発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have bonded a compound containing an acrylic group or a methacrylic group at the terminal, using a polyimide having a repeating unit containing an aliphatic tetracarboxylic acid structure as a skeleton, ultraviolet rays, etc. By curing and drying, the inventors found that a cured polyimide resin and a polyimide film having improved organic solvent resistance while having transparency and heat resistance were obtained, and the present invention was completed.

本明細書において、「(メタ)アクリル基」とは、アクリル基またはメタクリル基を意味するものとする。また「(メタ)アクリルモノマー」とは、アクリル基またはメタクリル基を有するモノマーを意味するものとする。 In this specification, “(meth) acryl group” means an acryl group or a methacryl group. Further, “(meth) acrylic monomer” means a monomer having an acrylic group or a methacrylic group.

すなわち本発明は、下記の通りである。
1.下記式(I)で示されるポリイミド樹脂。
That is, the present invention is as follows.
1. A polyimide resin represented by the following formula (I).

Figure 0006051653
Figure 0006051653

Figure 0006051653
Figure 0006051653

Figure 0006051653
(式(I)中、Rは、環状構造、非環状構造、または環状構造と非環状構造を有する炭素数4〜10の4価の基である。Φは、脂肪族構成単位、脂環族構成単位、芳香族構成単位、オルガノシロキサン構成単位、またはこれらの組み合わせあるいは繰り返しからなる炭素数2〜39の2価の連結基であり、Φの主鎖には−O−、−SO−、−CO−、−CH−、−C(CH−、−CO−、および−S−からなる群から選ばれた少なくとも1種の基が介在していてもよい。nは繰り返し単位であることを示す。X1、X2は、式(II)または式(III)で示される基、若しくは水素原子のいずれかであって、前記X1およびX2の少なくとも一方は式(II)または式(III)で示される基である。式(II)、式(III)中、X3は炭素数2〜10の基であり、エステル結合を有してもよい。X4は水素原子またはメチル基である。)
2.前記式(I)中のRがシクロヘキサンから4個の水素原子を除いて形成される4価の基である上記1に記載のポリイミド樹脂。
3.テトラカルボン酸成分とジアミン成分を、前記ジアミン成分に対する前記テトラカルボン酸成分のモル比が0.80以上0.98以下の範囲において反応させる工程、前記工程を経て得られた化合物の末端に存在するアミノ基と、イソシアネート基またはエポキシ基を有する(メタ)アクリル化合物における前記イソシアネート基またはエポキシ基とを反応させることを特徴とする、式(I)で示されるポリイミド樹脂の製造方法。
4.上記1または2のいずれかに記載のポリイミド樹脂に、紫外線または電子線を照射して得られる、ポリイミド樹脂硬化物。
5.前記ポリイミド樹脂硬化物と、プラスチックフィルム、シリコンウェハー、金属箔およびガラスから選ばれる基材からなる積層体。
6.前記、基材が銅箔である、上記5に記載の積層体。
7.前記、ポリイミド樹脂硬化物からなる、ポリイミドフィルム。
Figure 0006051653
(In Formula (I), R is a C4-C10 tetravalent group which has a cyclic structure, an acyclic structure, or a cyclic structure and an acyclic structure. (PHI) is an aliphatic structural unit, an alicyclic group. A divalent linking group having 2 to 39 carbon atoms composed of a structural unit, an aromatic structural unit, an organosiloxane structural unit, or a combination or repetition thereof, and the main chain of Φ has —O—, —SO 2 —, At least one group selected from the group consisting of —CO—, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —C 2 H 4 O—, and —S— may intervene. n represents a repeating unit, X1 and X2 are either a group represented by formula (II) or formula (III), or a hydrogen atom, and at least one of X1 and X2 is represented by formula (II) Or a group represented by formula (III): In formula (II) and formula (III), X3 Is a group having 2 to 10 carbon atoms and may have an ester bond, and X4 is a hydrogen atom or a methyl group.)
2. 2. The polyimide resin according to 1 above, wherein R in the formula (I) is a tetravalent group formed by removing four hydrogen atoms from cyclohexane.
3. A step of reacting a tetracarboxylic acid component and a diamine component in a range where the molar ratio of the tetracarboxylic acid component to the diamine component is 0.80 or more and 0.98 or less; A method for producing a polyimide resin represented by the formula (I), comprising reacting an amino group and the isocyanate group or epoxy group in a (meth) acrylic compound having an isocyanate group or an epoxy group.
4). A cured polyimide resin obtained by irradiating the polyimide resin according to either 1 or 2 with ultraviolet rays or electron beams.
5. A laminate comprising the polyimide resin cured product and a base material selected from a plastic film, a silicon wafer, a metal foil, and glass.
6). 6. The laminate according to 5 above, wherein the substrate is a copper foil.
7). The polyimide film which consists of said polyimide resin hardened | cured material.

本発明のポリイミドフィルムは、耐熱性や透明性を有しながら、有機溶媒を含むコーティング剤などに曝されても形態変化がないといった耐有機溶剤性にも優れることを特徴とする。 The polyimide film of the present invention is characterized by being excellent in organic solvent resistance such that it does not change in shape even when exposed to a coating agent containing an organic solvent, etc. while having heat resistance and transparency.

本発明のポリイミド樹脂は、下記式(I)で示される。   The polyimide resin of the present invention is represented by the following formula (I).

Figure 0006051653
Figure 0006051653

Figure 0006051653
Figure 0006051653

Figure 0006051653
(式(I)中、Rは、環状構造、非環状構造、または環状構造と非環状構造を有する炭素数4〜10の4価の基である。Φは、脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基、およびオルガノシロキサン基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を有する、炭素数2〜39の2価の基であり、Φの主鎖には−O−、−SO−、−CO−、−CH−、−C(CH−、−CO−、および−S−からなる群から選ばれる少なくとも1種の基が介在していてもよい。nは繰り返し単位であることを示す。X1、X2は、式(II)または式(III)で示される基、若しくは水素原子のいずれかであって、前記X1およびX2の少なくとも一方は式(II)または式(III)で示される基である。式(II)、式(III)中、X3は炭素数2〜10の基であり、エステル結合を有してもよい。X4は水素原子またはメチル基である。)
Figure 0006051653
(In the formula (I), R represents a cyclic structure, an acyclic structure, or a tetravalent group having 4 to 10 carbon atoms having a cyclic structure and an acyclic structure. Φ represents an aliphatic hydrocarbon group or an alicyclic ring. A divalent group having 2 to 39 carbon atoms having at least one group selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and an organosiloxane group. -, - SO 2 -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3) 2 -, - C 2 H 4 O-, and at least one group intervening selected from the group consisting of -S- N represents a repeating unit, X1 and X2 are either a group represented by formula (II) or formula (III), or a hydrogen atom, and each of X1 and X2 At least one is a group represented by the formula (II) or the formula (III): In the formula (II) or the formula (III), X 3 is a group having 2 to 10 carbon atoms and may have an ester bond, and X4 is a hydrogen atom or a methyl group.)

上記式(I)における好ましいRとしてはシクロヘキサン、シクロペンタン、シクロブタン、ビシクロペンタン、およびこれらの立体異性体から4個の水素原子を除いて形成される4価の基が挙げられる。より具体的には、下記構造式で表される4価の基が挙げられる。   Preferable R in the above formula (I) includes cyclohexane, cyclopentane, cyclobutane, bicyclopentane, and tetravalent groups formed by removing four hydrogen atoms from these stereoisomers. More specifically, a tetravalent group represented by the following structural formula can be given.

Figure 0006051653
中でもシクロヘキサンから4個の水素原子を除いて形成される4価の基がより好ましい。
Figure 0006051653
Among these, a tetravalent group formed by removing four hydrogen atoms from cyclohexane is more preferable.

上記式(I)におけるΦは、脂肪族構成単位、脂環族構成単位、芳香族構成単位、オルガノシロキサン構成単位、またはこれらの組み合わせあるいは繰り返しからなる炭素数2〜39の2価の連結基であり、Φの主鎖には−O−、−SO−、−CO−、−CH−、−C(CH−、−CO−、および−S−からなる群から選ばれた少なくとも1種の基が介在していてもよい。ここでΦはシクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタン、ジメチルシクロヘキサン、イソフォロン、ノルボルナン、およびそれらのアルキル置換体、ハロゲン置換体;ベンゼン、ナフタレン、ビフェニル、ジフェニルメタン、ジフェニルエーテル、ジフェニルスルフォン、ベンゾフェノン、およびそれらのアルキル置換体,ハロゲン置換体;オルガノ(ポリ)シロキサンなどの化合物から2個の水素原子を除いて形成される2価の基が挙げられる。より具体的には、下記構造式で表される炭素数6〜27の2価の基が好ましく挙げられる。 Φ in the above formula (I) is an aliphatic structural unit, alicyclic structural unit, aromatic structural unit, organosiloxane structural unit, or a divalent linking group having 2 to 39 carbon atoms composed of a combination or repetition thereof. And the main chain of Φ is a group consisting of —O—, —SO 2 —, —CO—, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —C 2 H 4 O—, and —S—. At least one group selected from may be interposed. Where Φ is cyclohexane, dicyclohexylmethane, dimethylcyclohexane, isophorone, norbornane, and their alkyl substituents, halogen substituents; benzene, naphthalene, biphenyl, diphenylmethane, diphenyl ether, diphenylsulfone, benzophenone, and their alkyl substituents, halogen Substituted body: a divalent group formed by removing two hydrogen atoms from a compound such as organo (poly) siloxane. More specifically, a divalent group having 6 to 27 carbon atoms represented by the following structural formula is preferable.

Figure 0006051653
Figure 0006051653

以下に、本発明のポリイミド樹脂の製造方法を示す。本発明のポリイミド樹脂は、
ステップ1:テトラカルボン酸成分とジアミン系成分を反応させ、末端にアミノ基を有するポリイミドを得る工程、
ステップ2:ステップ1で得られた末端にアミノ基を有するポリイミドと、イソシアネート基またはエポキシ基のいずれかの基および(メタ)アクリル基を有する化合物を反応させる工程、
を経て得られる。
Below, the manufacturing method of the polyimide resin of this invention is shown. The polyimide resin of the present invention is
Step 1: a step of reacting a tetracarboxylic acid component and a diamine-based component to obtain a polyimide having an amino group at the terminal,
Step 2: reacting a polyimide having an amino group at the terminal obtained in Step 1 with a compound having either an isocyanate group or an epoxy group and a (meth) acryl group,
It is obtained through

ステップ1の工程について説明する。テトラカルボン酸成分としては、シクロヘキサンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸エステル類、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸、シクロブタンテトラカルボン酸エステル類、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸エステル類、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロペンタンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられるが、好ましいのはシクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物である。さらに好ましいのはシクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物である。なお、前記テトラカルボン酸成分は位置異性体を含む。 The process of Step 1 will be described. Examples of the tetracarboxylic acid component include cyclohexanetetracarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid esters, cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid, cyclobutanetetracarboxylic acid esters, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetra Examples thereof include carboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid esters, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclopentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. Preferred are cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and cyclobutanetetracarboxylic dianhydride. Anhydrous, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride. More preferred is cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. The tetracarboxylic acid component includes positional isomers.

前記テトラカルボン酸成分の好ましい例としては、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸メチルエステル、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸メチルエステル、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸メチルエステル、1,2,4,5−シクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロペンタンテトラカルボン酸メチルエステル、3−カルボキシメチル−1,2,4−シクロペンタントリカルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタ−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタ−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクタ−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸メチルエステル、ジシクロヘキシルテトラカルボン酸、ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシルテトラカルボン酸メチルエステルが挙げられる。
中でも、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸メチルエステルは、ポリイミド樹脂を製造する際に高分子量化が容易で、フレキシブルなフィルムが得られ易い面で有利であるため、特に好ましい。
Preferred examples of the tetracarboxylic acid component include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetra. Carboxylic acid methyl ester, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid methyl ester, 1 , 2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid methyl ester, 1,2,4,5 -Cyclopentanetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclopentanetetracarboxylic acid Ester, 3-carboxymethyl-1,2,4-cyclopentanetricarboxylic acid, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, bicyclo [2.2. 2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid methyl ester , Dicyclohexyltetracarboxylic acid, dicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, and dicyclohexyltetracarboxylic acid methyl ester.
Among them, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid methyl ester are polyimide resins. It is particularly preferable because it is easy to increase the molecular weight during production and is advantageous in that a flexible film can be easily obtained.

テトラカルボン酸成分は、フィルムのフレキシビリティ、熱圧着性を損なわない範囲で、他のテトラカルボン酸またはその誘導体、例えば、ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル、3,3’,4、4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、4,4−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸、4,4−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸、エチレンテトラカルボン酸、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン、およびそれらの誘導体から選ばれる少なくとも1種の化合物を含んでいてもよい。   The tetracarboxylic acid component may be other tetracarboxylic acid or a derivative thereof such as pyromellitic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, as long as the flexibility and thermocompression bonding property of the film are not impaired. 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane, 2,2 -Bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3 , 3,3-hexafluoropropane, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid, 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic acid, 4,4- (p-phenylenedioxy) diphthalic acid, 4,4- (M-phenylenedioxy) diphthalic acid, ethylenetetracarboxylic acid, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane, bis (3,4-di It may contain at least one compound selected from (carboxyphenyl) methane and derivatives thereof.

ジアミン系成分としては、ジアミン、ジイソシアネート、ジアミノジシラン類などが上げられるが、好ましいのはジアミンである。ジアミン系成分中のジアミン含量は、好ましくは50モル%以上(100モル%を含む)である。   Examples of the diamine component include diamines, diisocyanates, and diaminodisilanes, with diamines being preferred. The diamine content in the diamine-based component is preferably 50 mol% or more (including 100 mol%).

前記ジアミンは、脂肪族ジアミンであっても芳香族ジアミンであってもよく、それらの混合物でもよい。なお、本発明において“芳香族ジアミン”とは、アミノ基が芳香族環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基、脂環基、その他の置換基を含んでいてもよい。“脂肪族ジアミン”とは、アミノ基が脂肪族基または脂環基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香族基、その他の置換基を含んでいてもよい。   The diamine may be an aliphatic diamine, an aromatic diamine, or a mixture thereof. In the present invention, “aromatic diamine” means a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group, an alicyclic group, and other substituents are included in a part of the structure. May be. The “aliphatic diamine” represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group or an alicyclic group, and an aromatic group and other substituents may be included in a part of the structure.

一般に、脂肪族ジアミンを構成成分として使用すると、中間生成物であるポリアミド酸と脂肪族ジアミンが強固な錯体を形成するために、高分子量ポリイミドが得られにくい。そのため、錯体の溶解性が比較的高い溶剤、例えばクレゾール、を用いるなどの工夫が必要になる。しかし、シクロへキサンテトラカルボン酸またはその誘導体と脂肪族ジアミンを構成成分として用いると、ポリアミド酸と脂肪族ジアミンの結合が比較的弱い錯体が形成されるので、ポリイミドを容易に高分子量化できる。   In general, when an aliphatic diamine is used as a constituent component, the polyamic acid as an intermediate product and the aliphatic diamine form a strong complex, and thus it is difficult to obtain a high molecular weight polyimide. Therefore, it is necessary to devise such as using a solvent having a relatively high solubility of the complex, such as cresol. However, when cyclohexanetetracarboxylic acid or a derivative thereof and an aliphatic diamine are used as components, a complex in which the bond between the polyamic acid and the aliphatic diamine is relatively weak is formed, so that the polyimide can be easily increased in molecular weight.

前記脂肪族ジアミンとしては、例えば、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ポリエチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、ポリプロピレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、イソホロンジアミン、ノルボルナンジアミン、シロキサンジアミン類などが挙げられる。   Examples of the aliphatic diamine include 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, ethylenediamine, hexamethylenediamine, polyethylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, polypropylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, and 1,3- Examples thereof include bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, isophorone diamine, norbornane diamine, and siloxane diamines.

前記芳香族ジアミンとしては、例えば、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、2,6−ジアミノナフタレン、1,5−ジアミノナフタレンなどが挙げられる。   Examples of the aromatic diamine include 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, diaminobenzophenone, and 2,6. -Diaminonaphthalene, 1,5-diaminonaphthalene, etc. are mentioned.

ステップ1において、テトラカルボン酸成分とジアミン成分を反応させる際に使用する有機溶媒は、環状エーテル、環状ケトン、環状エステル、アミド、およびウレアからなる群から選ばれる構造を少なくとも1つ含有する溶媒が好ましい。具体例としては、特に限定されないがγ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、テトラメチルウレア、テトラヒドロフランなどの非プロトン性の極性有機溶媒から選ばれる少なくとも1つを含有することが好ましい。中でも、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルフォルムアミドおよびN−メチル−2−ピロリドンより選ばれる一種以上であることがより好ましい。 In Step 1, the organic solvent used when the tetracarboxylic acid component and the diamine component are reacted is a solvent containing at least one structure selected from the group consisting of cyclic ether, cyclic ketone, cyclic ester, amide, and urea. preferable. Specific examples include, but are not limited to, γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, cyclopentanone, cyclohexanone, It is preferable to contain at least one selected from aprotic polar organic solvents such as 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, tetramethylurea and tetrahydrofuran. Among these, one or more selected from γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide and N-methyl-2-pyrrolidone is more preferable.

ステップ1において、テトラカルボン酸成分とジアミン成分を反応させる際にイミド化触媒を使用してもよい。イミド化触媒としては、3級アミン化合物が好ましく、具体的にはトリメチルアミン、トリエチルアミン(TEA)、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、トリエチレンジアミン、N−メチルピロリジン、N−エチルピロリジン、N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、イミダゾール、ピリジン、キノリン、イソキノリンなどが挙げられ、これらから選ばれる少なくとも1種の触媒の存在下で行うことができる。 In step 1, an imidization catalyst may be used when the tetracarboxylic acid component and the diamine component are reacted. As the imidization catalyst, a tertiary amine compound is preferable, and specifically, trimethylamine, triethylamine (TEA), tripropylamine, tributylamine, triethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine. , Triethylenediamine, N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, N-methylpiperidine, N-ethylpiperidine, imidazole, pyridine, quinoline, isoquinoline and the like, and the reaction is performed in the presence of at least one catalyst selected from these. be able to.

ステップ1における反応温度は、通常160〜200℃の範囲であり、好ましくは170〜190℃の範囲、より好ましくは180〜190℃の範囲である。160℃未満であると、温度不足によりイミド化および高分子量化が十分に進行しない恐れがあり、200℃を超えると、溶液粘度が著しく増加した場合に反応容器の壁面に樹脂が焦げ付くなどの不具合が生じる恐れがある。なお、場合によってはトルエン、キシレンなどの共沸脱水剤を用いても良い。反応圧力は通常、常圧であるが、必要に応じて加圧でも反応を行うことができる。反応温度の保持時間としては、少なくとも1時間以上が必要であり、より好ましくは3時間以上である。1時間未満であると、イミド化および高分子量化が十分に進行しない恐れがある。反応時間について上限は特にないが、通常3〜10時間の範囲で行う。 The reaction temperature in Step 1 is usually in the range of 160 to 200 ° C, preferably in the range of 170 to 190 ° C, more preferably in the range of 180 to 190 ° C. If it is lower than 160 ° C., imidation and high molecular weight may not sufficiently proceed due to insufficient temperature, and if it exceeds 200 ° C., a problem such as the resin scorching on the wall of the reaction vessel when the solution viscosity increases remarkably. May occur. In some cases, an azeotropic dehydrating agent such as toluene or xylene may be used. The reaction pressure is usually atmospheric pressure, but the reaction can also be carried out under pressure as necessary. The holding time for the reaction temperature is at least 1 hour, more preferably 3 hours or more. If it is less than 1 hour, imidization and high molecular weight may not proceed sufficiently. Although there is no upper limit in particular about reaction time, it is normally performed in 3 to 10 hours.

前記テトラカルボン酸成分Aモルとジアミン成分Bモルとを、0.80≦A/B≦0.98の範囲で反応させることが好ましく、より好ましくは0.85≦A/B≦0.95である。0.80≦A/Bであれば、柔軟性が良好であり、また、A/B≦0.98であれば十分な耐有機溶剤性を有するポリイミド樹脂が得られる。   The tetracarboxylic acid component A mole and the diamine component B mole are preferably reacted in a range of 0.80 ≦ A / B ≦ 0.98, more preferably 0.85 ≦ A / B ≦ 0.95. is there. If 0.80 ≦ A / B, the flexibility is good, and if A / B ≦ 0.98, a polyimide resin having sufficient organic solvent resistance can be obtained.

ステップ2は、ステップ1で得られた末端にアミノ基を有するポリイミドと、イソシアネート基またはエポキシ基のいずれかの基および(メタ)アクリル基を有する化合物を反応させ、末端に(メタ)アクリル基を有するポリイミド樹脂を得る工程である。 Step 2 reacts the polyimide having an amino group at the terminal obtained in Step 1 with a compound having either an isocyanate group or an epoxy group and a (meth) acrylic group, and a (meth) acrylic group at the terminal. It is the process of obtaining the polyimide resin which has.

本発明に用いられるアミノ基と反応する基及び(メタ)アクリル基を有する化合物としては、2−イソシアナトエチルメタクリレート、2−イソシアナトエチルアクリラート、1、1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、2−ヒドロキシエチルメタクリレートなどが挙げられ、これらを単独で用いても良いし、2種類以上を混合して使用してもかまわない。   Examples of the compound having an amino group and a (meth) acryl group used in the present invention include 2-isocyanatoethyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate, 1,1- (bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate. , Glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, 2-hydroxyethyl methacrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

ステップ2における反応温度は30〜100℃が好ましく、反応時間は1〜5時間であることが好ましい。 The reaction temperature in Step 2 is preferably 30 to 100 ° C., and the reaction time is preferably 1 to 5 hours.

本発明のポリイミド樹脂硬化物およびポリイミドフィルムは、特に制限されないが下記の方法によって製造される。
ステップ2で得られた、末端に(メタ)アクリル基を有するポリイミドを含む溶液に対して、光重合開始剤を混合してもよい。
光重合開始剤としては、例えば、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチループロパン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられ、これらを単独で用いても良いし、二成分以上を混合して使用してもかまわない。光重合開始剤は末端に(メタ)アクリル基を有するポリイミド樹脂を含む溶液中の固形分に対して0.1〜10重量部の割合で混合するのが好ましい。
Although the polyimide resin hardened | cured material and polyimide film of this invention are not restrict | limited in particular, it is manufactured by the following method.
You may mix a photoinitiator with respect to the solution containing the polyimide which has the (meth) acryl group at the terminal obtained in step 2.
Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- 1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2- Hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl 2-Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-mol Pholinyl) phenyl] -1-butanone, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, etc., and these are used alone. Alternatively, two or more components may be mixed and used. It is preferable to mix a photoinitiator in the ratio of 0.1-10 weight part with respect to solid content in the solution containing the polyimide resin which has a (meth) acryl group at the terminal.

また、ステップ2で得られた、末端に(メタ)アクリル基を有するポリイミドを含む溶液に対して2官能以上の(メタ)アクリルモノマーを混合してもよい。混合する(メタ)アクリルモノマーの構造により、柔軟性や耐熱性を制御することができる。この(メタ)アクリルモノマーとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリス−(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらを単独で用いても良いし、二成分以上を組み合わせて使用してもかまわない。これらの2官能以上の(メタ)アクリルモノマーは、末端に(メタ)アクリル基を有するポリイミドを含む溶液中の固形分に対して、1/2〜4倍モルの割合で混合するのが好ましい。   Moreover, you may mix a bifunctional or more (meth) acryl monomer with respect to the solution containing the polyimide which has the (meth) acryl group at the terminal obtained in step 2. FIG. Flexibility and heat resistance can be controlled by the structure of the (meth) acrylic monomer to be mixed. Examples of the (meth) acrylic monomer include tricyclodecane dimethanol diacrylate, tricyclodecane dimethanol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, tris- (2-acrylic). Roxyethyl) isocyanurate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, and the like may be used, and these may be used alone or in combination of two or more components. These bifunctional or higher functional (meth) acrylic monomers are preferably mixed in a ratio of 1/2 to 4 times the solid content in the solution containing the polyimide having a (meth) acrylic group at the terminal.

続いて、末端に(メタ)アクリル基を有するポリイミドを含む溶液を基材上に塗布する。基材上に塗布する方法としては、インクジェット法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビア法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、大コート法等が挙げられるが、特に限定されるものではない。基板上に塗布する際、末端に(メタ)アクリル基を有するポリイミドを含む溶液の固形分濃度を、5〜20重量%の範囲になるように調整することが好ましい。必要であれば有機溶媒で希釈してもよい。希釈用の有機溶媒としては、段落0030に記載された有機溶媒を使用することができる。   Then, the solution containing the polyimide which has a (meth) acryl group at the terminal is apply | coated on a base material. As a method of coating on a substrate, inkjet method, spin coating method, casting method, micro gravure method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, spray coating method, screen A printing method, a flexographic printing method, a large coating method and the like can be mentioned, but the method is not particularly limited. When apply | coating on a board | substrate, it is preferable to adjust the solid content concentration of the solution containing the polyimide which has a (meth) acryl group at the terminal so that it may become the range of 5 to 20 weight%. If necessary, it may be diluted with an organic solvent. As the organic solvent for dilution, the organic solvent described in paragraph 0030 can be used.

前記基材としては、ガラス、シリコンウェハー、金属箔、プラスチックフィルムが挙げられる。上記金属箔の中でも特に銅箔が好適に使用される。   Examples of the substrate include glass, silicon wafer, metal foil, and plastic film. Among the metal foils, copper foil is particularly preferably used.

続いて、基材上に塗布して得られた塗膜に紫外線を照射し、ポリイミド樹脂硬化物(硬化膜)を得る。紫外線照射量は、積算照射量が500mJ/cm2以上であることが好ましい。   Then, an ultraviolet-ray is irradiated to the coating film obtained by apply | coating on a base material, and polyimide resin hardened | cured material (cured film) is obtained. The ultraviolet irradiation amount is preferably such that the cumulative irradiation amount is 500 mJ / cm 2 or more.

次に、前記ポリイミド樹脂硬化物(硬化膜)に含まれる溶媒を蒸発させるために加熱処理を行う。加熱処理条件としては、加熱温度が250℃以上であり、加熱時間は1〜5時間であることが好ましい。その後、基材から加熱処理後のポリイミド樹脂硬化物(硬化膜)を剥離し、ポリイミドフィルムが得られる。ポリイミドフィルムの厚さは、20μm〜500μmの範囲であることが好ましい。   Next, heat treatment is performed to evaporate the solvent contained in the cured polyimide resin (cured film). As heat treatment conditions, the heating temperature is preferably 250 ° C. or higher, and the heating time is preferably 1 to 5 hours. Thereafter, the cured polyimide resin (cured film) after the heat treatment is peeled off from the base material to obtain a polyimide film. The thickness of the polyimide film is preferably in the range of 20 μm to 500 μm.

以下に、実施例により本発明を具体的に説明する。但し、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described specifically by way of examples. However, this invention is not restrict | limited at all by these Examples.

実施例および比較例で得たポリイミドフィルムの評価は以下のように行った。
・ ガラス転移温度
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製の示差走査熱量計装置(DSC6200)を用い、昇温速度10℃/minの条件でDSC測定を行い、ガラス転移温度を求めた。
・ 全光線透過率、ヘイズ
日本電色工業株式会社製色彩・濁度同時測定器(COH400)を用いて測定した。
(3)耐有機溶剤性
50mLの三角フラスコへポリイミドフィルム0.1gと各有機溶剤を20mL入れ、マグネチックスターラーで24時間攪拌し耐有機溶剤性を評価した。○:溶解しない、×:溶解した
Evaluation of the polyimide films obtained in Examples and Comparative Examples was performed as follows.
-Glass transition temperature DSC measurement was performed using a differential scanning calorimeter device (DSC6200) manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd. under the condition of a heating rate of 10 ° C / min to obtain a glass transition temperature.
-Total light transmittance, haze It measured using the Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. color and turbidity simultaneous measuring device (COH400).
(3) Organic solvent resistance 0.1 g of polyimide film and 20 mL of each organic solvent were placed in a 50 mL Erlenmeyer flask and stirred with a magnetic stirrer for 24 hours to evaluate organic solvent resistance. ○: not dissolved ×: dissolved

<参考例1>
1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物の合成
内容積5リットルのハステロイ製(HC22)オートクレーブにピロメリット酸552g、活性炭にロジウムを担持させた触媒(エヌ・イーケムキャット株式会社(N.E. Chemcat Corporation)製)200g、水1656gを仕込み、攪拌をしながら反応器内を窒素ガスで置換した。次に水素ガスで反応器内を置換し、反応器の水素圧を5.0MPaとして60℃まで昇温した。水素圧を5.0MPaに保ちながら2時間反応させた。反応器内の水素ガスを窒素ガスで置換し、反応液をオートクレーブより抜き出し、この反応液を熱時濾過して触媒を分離した。濾過液をロータリーエバポレーターで減圧下に水を蒸発させて濃縮し、結晶を析出させた。析出した結晶を室温で固液分離し、乾燥して1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸481g(収率85.0%)を得た。
続いて、得られた1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸450gと無水酢酸4000gとを、5リットルのガラス製セパラブルフラスコ(ジムロート冷却管付)に仕込み、攪拌しながら反応器内を窒素ガスで置換した。窒素ガス雰囲気下で溶媒の還流温度まで昇温し、10分間溶媒を還流させた。攪拌しながら室温まで冷却し、結晶を析出させた。析出した結晶を固液分離し、乾燥して一次結晶を得た。更に分離母液をロータリーエバポレーターで減圧下に濃縮し、結晶を析出させた。この結晶を固液分離し、乾燥して二次結晶を得た。一次結晶、二次結晶を合わせて1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物375gが得られた(無水化の収率96.6%)。
<Reference Example 1>
Synthesis of 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride Catalyst with 552 g of pyromellitic acid in a 5 liter Hastelloy (HC22) autoclave and rhodium on activated carbon (N.E. NE Chemcat Corporation) 200 g and water 1656 g were charged, and the inside of the reactor was replaced with nitrogen gas while stirring. Next, the inside of the reactor was replaced with hydrogen gas, and the temperature of the reactor was increased to 60 ° C. with a hydrogen pressure of 5.0 MPa. The reaction was carried out for 2 hours while maintaining the hydrogen pressure at 5.0 MPa. The hydrogen gas in the reactor was replaced with nitrogen gas, the reaction solution was extracted from the autoclave, and the reaction solution was filtered while hot to separate the catalyst. The filtrate was concentrated by evaporating water under reduced pressure using a rotary evaporator to precipitate crystals. The precipitated crystals were separated into solid and liquid at room temperature and dried to obtain 481, g (yield: 85.0%) of 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid.
Subsequently, 450 g of the obtained 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid and 4000 g of acetic anhydride were charged into a 5-liter glass separable flask (with Dimroth condenser), and the inside of the reactor was stirred. Replaced with nitrogen gas. The temperature was raised to the reflux temperature of the solvent under a nitrogen gas atmosphere, and the solvent was refluxed for 10 minutes. While stirring, the mixture was cooled to room temperature to precipitate crystals. The precipitated crystals were separated into solid and liquid and dried to obtain primary crystals. Further, the separated mother liquor was concentrated under reduced pressure using a rotary evaporator to precipitate crystals. The crystals were separated into solid and liquid and dried to obtain secondary crystals. The primary crystal and the secondary crystal were combined to obtain 375 g of 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride (anhydrous yield of 96.6%).

<参考例2>
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク、冷却管を備えた500mL5つ口フラスコに、窒素気流下、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン48.9g(0.119モル)と、溶剤としてγ―ブチロラクトン 91.6gおよびN,N−ジメチルアセトアミド 22.9gを仕込んで溶解させた後、参考例1で合成した1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物24.1g(0.107モル)およびイミド化触媒としてトリエチルアミン0.5g(0.005モル)を一括で添加した。滴下終了後、180℃に昇温し、随時留出液を留去させながら5時間還流を行い末端にアミノ基を有するポリイミドを含む溶液を得た。
<Reference Example 2>
In a 500 mL five-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, dropping funnel with side tube, Dean Stark, and condenser tube, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] under a nitrogen stream After charging 48.9 g (0.119 mol) of propane and 91.6 g of γ-butyrolactone and 22.9 g of N, N-dimethylacetamide as solvents, 1, 2, 4, synthesized in Reference Example 1 were dissolved. 24.1 g (0.107 mol) of 5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and 0.5 g (0.005 mol) of triethylamine as an imidization catalyst were added all at once. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 180 ° C. and refluxed for 5 hours while distilling off the distillate as needed to obtain a solution containing a polyimide having an amino group at the terminal.

<参考例3>
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク、冷却管を備えた500mL5つ口フラスコに、窒素気流下、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン48.7g(0.119モル)と、溶剤としてγ―ブチロラクトン 91.6gおよびN,N−ジメチルアセトアミド 22.9gを仕込んで溶解させた後、参考例1で合成した1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物25.3g(0.113モル)およびイミド化触媒としてトリエチルアミン0.5g(0.005モル)を一括で添加した。滴下終了後、180℃に昇温し、随時留出液を留去させながら5時間還流を行い末端にアミノ基を有するポリイミドを含む溶液を得た。
<Reference Example 3>
In a 500 mL five-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, dropping funnel with side tube, Dean Stark, and condenser tube, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] under a nitrogen stream After charging 48.7 g (0.119 mol) of propane, 91.6 g of γ-butyrolactone and 22.9 g of N, N-dimethylacetamide as solvents, 1,2,4 synthesized in Reference Example 1 were dissolved. 25.3 g (0.113 mol) of 5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and 0.5 g (0.005 mol) of triethylamine as an imidization catalyst were added all at once. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 180 ° C. and refluxed for 5 hours while distilling off the distillate as needed to obtain a solution containing a polyimide having an amino group at the terminal.

<参考例4>
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク、冷却管を備えた500mL5つ口フラスコに、窒素気流下、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル35.5g(0.177モル)と、溶剤としてγ―ブチロラクトン 94.1gおよびN,N−ジメチルアセトアミド 23.5gを仕込んで溶解させた後、参考例1で合成した1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物35.8g(0.160モル)およびイミド化触媒としてトリエチルアミン0.8g(0.005モル)を一括で添加した。滴下終了後、180℃に昇温し、随時留出液を留去させながら5時間還流を行い末端にアミノ基を有するポリイミドを含む溶液を得た。
<Reference Example 4>
In a 500 mL five-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, dropping funnel with side tube, Dean Stark, and condenser tube, 35.5 g (0.177 mol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether under nitrogen flow Then, 94.1 g of γ-butyrolactone and 23.5 g of N, N-dimethylacetamide as a solvent were added and dissolved, and then 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride 35 synthesized in Reference Example 1 was used. 0.8 g (0.160 mol) and 0.8 g (0.005 mol) triethylamine as an imidization catalyst were added all at once. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 180 ° C. and refluxed for 5 hours while distilling off the distillate as needed to obtain a solution containing a polyimide having an amino group at the terminal.

<参考例5>
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク、冷却管を備えた500mL5つ口フラスコに、窒素気流下、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル(BAPB)35.6g(0.097モル)と、溶剤としてγ―ブチロラクトン 69.0gおよびN,N−ジメチルアセトアミド17.2gを仕込んで溶解させた後、参考例1で合成した1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物20.6g(0.092モル)およびイミド化触媒としてトリエチルアミン0.5g(0.005モル)を一括で添加した。滴下終了後、180℃に昇温し、随時留出液を留去させながら5時間還流を行い末端にアミノ基を有するポリイミドを含む溶液を得た。
<Reference Example 5>
In a 500 mL five-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, dropping funnel with side tube, Dean Stark, and condenser tube, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl (BAPB) under a nitrogen stream 35.6 g (0.097 mol) and 69.0 g of γ-butyrolactone and 17.2 g of N, N-dimethylacetamide as a solvent were added and dissolved, then 1,2,4,5 synthesized in Reference Example 1 -20.6 g (0.092 mol) of cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and 0.5 g (0.005 mol) of triethylamine as an imidization catalyst were added all at once. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 180 ° C. and refluxed for 5 hours while distilling off the distillate as needed to obtain a solution containing a polyimide having an amino group at the terminal.

<実施例1>
参考例2で合成した末端にアミノ基を有するポリイミドを含む溶液中に、2−イソシアナトエチルアクリラートを3.4g(0.024モル)添加し、60℃で3時間反応後、末端にアクリル基を有するポリイミドを含む溶液を得た。得られたポリイミド溶液に、樹脂固形分換算で0.1重量部の光重合開始剤を添加した。続いてガラス板上へ、ポリイミド溶液を塗布し、積算照射量4,800mJ/cm2で紫外線照射後、熱風乾燥機中250℃で2時間加熱し溶媒を蒸発させ、厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 1>
3.4 g (0.024 mol) of 2-isocyanatoethyl acrylate was added to the solution containing the amino group-terminated polyimide synthesized in Reference Example 2 and reacted at 60 ° C. for 3 hours. A solution containing a polyimide having a group was obtained. To the obtained polyimide solution, 0.1 part by weight of a photopolymerization initiator in terms of resin solid content was added. Subsequently, a polyimide solution was applied onto a glass plate, irradiated with ultraviolet rays at an integrated irradiation amount of 4,800 mJ / cm2, and then heated at 250 ° C. for 2 hours in a hot air dryer to evaporate the solvent to obtain a polyimide film having a thickness of 100 μm. . The results are shown in Table 1.

<実施例2>
前記実施例1で得られた、末端にアクリル基を有するポリイミドを含む溶液に対して、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートを8.0g(0.024モル)添加した以外は、実施例1と同様の方法で厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 2>
The same as Example 1 except that 8.0 g (0.024 mol) of tricyclodecane dimethanol diacrylate was added to the solution containing the polyimide having an acrylic group at the terminal obtained in Example 1. Thus, a polyimide film having a thickness of 100 μm was obtained. The results are shown in Table 1.

<実施例3>
前記実施例1で得られた、末端にアクリル基を有するポリイミドを含む溶液に対して、トリメチロールプロパントリアクリレートを4.7g(0.016モル)添加した以外は、実施例1と同様の方法で厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 3>
The same method as in Example 1 except that 4.7 g (0.016 mol) of trimethylolpropane triacrylate was added to the solution containing the polyimide having an acrylic group at the terminal obtained in Example 1. A polyimide film having a thickness of 100 μm was obtained. The results are shown in Table 1.

<実施例4>
参考例3で合成した末端にアミノ基を有するポリイミドを含む溶液中に、2−イソシアナトエチルアクリラートを1.6g(0.012モル)添加し、60℃で3時間反応後、末端にアクリル基を有するポリイミドを含む溶液を得た。得られたポリイミド溶液に、樹脂固形分換算で0.1重量部の光重合開始剤を添加した。続いてガラス板上へ、ポリイミド溶液を塗布し、積算照射量4,800mJ/cm2で紫外線照射後、熱風乾燥機中250℃で2時間加熱し溶媒を蒸発させ、厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 4>
1.6 g (0.012 mol) of 2-isocyanatoethyl acrylate was added to the solution containing the amino group-terminated polyimide synthesized in Reference Example 3 and reacted at 60 ° C. for 3 hours. A solution containing a polyimide having a group was obtained. To the obtained polyimide solution, 0.1 part by weight of a photopolymerization initiator in terms of resin solid content was added. Subsequently, a polyimide solution was applied onto a glass plate, irradiated with ultraviolet rays at an integrated irradiation amount of 4,800 mJ / cm2, and then heated at 250 ° C. for 2 hours in a hot air dryer to evaporate the solvent to obtain a polyimide film having a thickness of 100 μm. . The results are shown in Table 1.

<実施例5>
前記実施例4で得られた、末端にアクリル基を有するポリイミドを含む溶液に対して、トリメチロールプロパントリアクリレートを2.4g(0.008モル)添加した以外は、実施例4と同様の方法で厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 5>
The same method as in Example 4 except that 2.4 g (0.008 mol) of trimethylolpropane triacrylate was added to the solution containing the polyimide having an acrylic group at the terminal obtained in Example 4. A polyimide film having a thickness of 100 μm was obtained. The results are shown in Table 1.

<実施例6>
参考例4で合成した末端にアミノ基を有するポリイミドを含む溶液中に、2−イソシアナトエチルアクリラートを3.4g(0.024モル)添加し、60℃で3時間反応後、末端にアクリル基を有するポリイミドを含む溶液を得た。得られたポリイミド溶液に、樹脂固形分換算で0.1重量部の光重合開始剤を添加した。続いてガラス板上へ、ポリイミド溶液を塗布し、積算照射量4,800mJ/cm2で紫外線照射後、熱風乾燥機中280℃で2時間加熱し溶媒を蒸発させ、厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 6>
3.4 g (0.024 mol) of 2-isocyanatoethyl acrylate was added to the solution containing the amino group-terminated polyimide synthesized in Reference Example 4 and reacted at 60 ° C. for 3 hours. A solution containing a polyimide having a group was obtained. To the obtained polyimide solution, 0.1 part by weight of a photopolymerization initiator in terms of resin solid content was added. Subsequently, a polyimide solution was applied onto a glass plate, irradiated with ultraviolet rays at an integrated dose of 4,800 mJ / cm2, and then heated in a hot air dryer at 280 ° C. for 2 hours to evaporate the solvent to obtain a polyimide film having a thickness of 100 μm. . The results are shown in Table 1.

<実施例7>
2−イソシアナトエチルアクリラートの変わりに、1、1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネートを7.3g(0.035モル)を用いた以外は実施例6と同様の方法で厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 7>
Polyimide having a thickness of 100 μm in the same manner as in Example 6 except that 7.3 g (0.035 mol) of 1,1- (bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate was used instead of 2-isocyanatoethyl acrylate. A film was obtained. The results are shown in Table 1.

<実施例8>
前記実施例6で得られた、末端にアクリル基を有するポリイミドを含む溶液に対して、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートを11.6g(0.035モル)添加した以外は、実施例6と同様の方法で厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 8>
The same as Example 6 except that 11.6 g (0.035 mol) of tricyclodecane dimethanol diacrylate was added to the solution obtained in Example 6 containing a polyimide having an acrylic group at the terminal. Thus, a polyimide film having a thickness of 100 μm was obtained. The results are shown in Table 1.

<実施例9>
前記実施例6で得られた、末端にアクリル基を有するポリイミドを含む溶液に対して、トリメチロールプロパントリアクリレートを6.8g(0.023モル)添加した以外は、実施例6と同様の方法で厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 9>
The same method as in Example 6 except that 6.8 g (0.023 mol) of trimethylolpropane triacrylate was added to the solution containing the polyimide having an acrylic group at the terminal obtained in Example 6. A polyimide film having a thickness of 100 μm was obtained. The results are shown in Table 1.

<実施例10>
参考例5で合成した末端にアミノ基を有するポリイミドを含む溶液中に、2−イソシアナトエチルアクリラートを1.4g(0.010モル)添加し、60℃で3時間反応後、樹脂固形分0.1重量部の光重合開始剤を添加し、末端にアクリル基を有するポリイミドを含む溶液を得た。得られたポリイミド溶液に、樹脂固形分換算で0.1重量部の光重合開始剤を添加した。続いてガラス板上へ、得られたポリイミド溶液を塗布し、積算照射量4,800mJ/cm2で紫外線照射後、熱風乾燥機中280℃で2時間加熱し溶媒を蒸発させ、厚み100μmのポリイミドフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Example 10>
1.4 g (0.010 mol) of 2-isocyanatoethyl acrylate was added to the solution containing the amino group-terminated polyimide synthesized in Reference Example 5 and reacted at 60 ° C. for 3 hours. 0.1 part by weight of a photopolymerization initiator was added to obtain a solution containing a polyimide having an acrylic group at the terminal. To the obtained polyimide solution, 0.1 part by weight of a photopolymerization initiator in terms of resin solid content was added. Subsequently, the obtained polyimide solution was applied onto a glass plate, irradiated with ultraviolet rays at an integrated irradiation amount of 4,800 mJ / cm 2, heated at 280 ° C. for 2 hours in a hot air dryer to evaporate the solvent, and a polyimide film having a thickness of 100 μm. Got. The results are shown in Table 1.

<比較例1>
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク、冷却管を備えた500mL5つ口フラスコに、窒素気流下、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン13.5g(0.060モル)と、溶剤としてγ―ブチロラクトン 45.8gおよびN,N−ジメチルアセトアミド 11.5gを仕込んで溶解させた後、参考例1で合成した1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物13.5g(0.06モル)およびイミド化触媒としてトリエチルアミン0.5g(0.005モル)を一括で添加した。滴下終了後、180℃に昇温し、随時留出液を留去させながら5時間還流を行い、反応終了とし、内温が100℃になるまで空冷した後、希釈溶剤としてN,N−ジメチルアセトアミド86.8gを加え、攪拌しながら冷却し、固形分濃度20重量%のポリイミド溶液を得た。続いてガラス板上へ、得られたポリイミド溶液を塗布し、ホットプレートで100℃、60分間保持し、溶媒を揮発させることで自己支持性を有する無色透明な一次乾燥フィルムを得た。このフィルムをステンレス枠に固定し、熱風乾燥機中250℃で2時間加熱し溶媒を蒸発させ、厚み100μmのフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Comparative Example 1>
In a 500 mL five-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, dropping funnel with side tube, Dean Stark, and condenser tube, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] under a nitrogen stream 13.5 g (0.060 mol) of propane, 45.8 g of γ-butyrolactone and 11.5 g of N, N-dimethylacetamide as a solvent were added and dissolved, and then 1,2,4 synthesized in Reference Example 1 13.5 g (0.06 mol) of 5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and 0.5 g (0.005 mol) of triethylamine as an imidization catalyst were added all at once. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 180 ° C., refluxed for 5 hours while distilling off the distillate as needed, the reaction was terminated, air-cooled until the internal temperature reached 100 ° C., and N, N-dimethyl as a diluent solvent. 86.8 g of acetamide was added and cooled with stirring to obtain a polyimide solution having a solid content concentration of 20% by weight. Subsequently, the obtained polyimide solution was applied onto a glass plate, held at 100 ° C. for 60 minutes on a hot plate, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-supporting property. This film was fixed to a stainless steel frame, heated in a hot air dryer at 250 ° C. for 2 hours to evaporate the solvent, and a film having a thickness of 100 μm was obtained. The results are shown in Table 1.

<比較例2>
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク、冷却管を備えた500mL5つ口フラスコに、窒素気流下、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル18.6g(0.093モル)と、溶剤としてγ―ブチロラクトン 47.2gおよびN,N−ジメチルアセトアミド 11.8gを仕込んで溶解させた後、参考例1で合成した1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物20.8g(0.093モル)およびイミド化触媒としてトリエチルアミン0.5g(0.005モル)を一括で添加した。滴下終了後、180℃に昇温し、随時留出液を留去させながら5時間還流を行い、反応終了とし、内温が100℃になるまで空冷した後、希釈溶剤としてN,N−ジメチルアセトアミド85.0gを加え、攪拌しながら冷却し、固形分濃度20重量%のポリイミド溶液を得た。続いてガラス板上へ、得られたポリイミド溶液を塗布し、ホットプレートで100℃、60分間保持し、溶媒を揮発させることで自己支持性を有する無色透明な一次乾燥フィルムを得た。このフィルムをステンレス枠に固定し、熱風乾燥機中250℃で2時間加熱し溶媒を蒸発させ、厚み100μmのフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Comparative example 2>
In a 500 mL five-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, dropping funnel with side tube, Dean Stark, and condenser tube, 18.6 g (0.093 mol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether in a nitrogen stream Then, 47.2 g of γ-butyrolactone and 11.8 g of N, N-dimethylacetamide as a solvent were added and dissolved, and then 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride 20 synthesized in Reference Example 1 was used. 0.8 g (0.093 mol) and 0.5 g (0.005 mol) of triethylamine as an imidization catalyst were added all at once. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 180 ° C., refluxed for 5 hours while distilling off the distillate as needed, the reaction was terminated, air-cooled until the internal temperature reached 100 ° C., and N, N-dimethyl as a diluent solvent. 85.0 g of acetamide was added and cooled with stirring to obtain a polyimide solution having a solid content concentration of 20% by weight. Subsequently, the obtained polyimide solution was applied onto a glass plate, held at 100 ° C. for 60 minutes on a hot plate, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-supporting property. This film was fixed to a stainless steel frame, heated in a hot air dryer at 250 ° C. for 2 hours to evaporate the solvent, and a film having a thickness of 100 μm was obtained. The results are shown in Table 1.

<比較例3>
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク、冷却管を備えた500mL5つ口フラスコに、窒素気流下、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル(BAPB)23.9g(0.065モル)と、溶剤としてγ―ブチロラクトン 46.0gおよびN,N−ジメチルアセトアミド 11.5gを仕込んで溶解させた後、参考例1で合成した1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物14.5g(0.065モル)およびイミド化触媒としてトリエチルアミン0.5g(0.005モル)を一括で添加した。滴下終了後、180℃に昇温し、随時留出液を留去させながら5時間還流を行い、反応終了とし、内温が100℃になるまで空冷した後、希釈溶剤としてN,N−ジメチルアセトアミド86.5gを加え、攪拌しながら冷却し、固形分濃度20重量%のポリイミド溶液を得た。続いてガラス板上へ、得られたポリイミド溶液を塗布し、ホットプレートで100℃、60分間保持し、溶媒を揮発させることで自己支持性を有する無色透明な一次乾燥フィルムを得た。このフィルムをステンレス枠に固定し、熱風乾燥機中250℃で2時間加熱し溶媒を蒸発させ、厚み100μmのフィルムを得た。結果を表1に示す。
<Comparative Example 3>
In a 500 mL five-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, dropping funnel with side tube, Dean Stark, and condenser tube, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl (BAPB) under a nitrogen stream 23.9 g (0.065 mol) and 46.0 g of γ-butyrolactone and 11.5 g of N, N-dimethylacetamide as a solvent were added and dissolved, and then 1,2,4,5 synthesized in Reference Example 1 -14.5 g (0.065 mol) of cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and 0.5 g (0.005 mol) of triethylamine as an imidization catalyst were added all at once. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 180 ° C., refluxed for 5 hours while distilling off the distillate as needed, the reaction was terminated, air-cooled until the internal temperature reached 100 ° C., and N, N-dimethyl as a diluent solvent. 86.5 g of acetamide was added and cooled with stirring to obtain a polyimide solution having a solid content concentration of 20% by weight. Subsequently, the obtained polyimide solution was applied onto a glass plate, held at 100 ° C. for 60 minutes on a hot plate, and the solvent was volatilized to obtain a colorless and transparent primary dry film having self-supporting property. This film was fixed to a stainless steel frame, heated in a hot air dryer at 250 ° C. for 2 hours to evaporate the solvent, and a film having a thickness of 100 μm was obtained. The results are shown in Table 1.

Figure 0006051653
NMP:N−メチル−2−ピロリドン
DMAc:N,N−ジメチルアセトアミド
GBL:γ―ブチロラクトン
Figure 0006051653
NMP: N-methyl-2-pyrrolidone DMAc: N, N-dimethylacetamide GBL: γ-butyrolactone

Claims (6)

下記式(I)で示されるポリイミド樹脂。
Figure 0006051653
Figure 0006051653
(式(I)中、Rは、シクロヘキサンから4個の水素原子を除いて形成される4価の基である。Φは、脂肪族構成単位、脂環族構成単位、芳香族構成単位、オルガノシロキサン構成単位、またはこれらの組み合わせあるいは繰り返しからなる炭素数2〜39の2価の連結基であり、Φの主鎖には−O−、−SO−、−CO−、−CH−、−C(CH−、−CO−、および−S−からなる群から選ばれた少なくとも1種の基が介在していてもよい。nは繰り返し単位であることを示す。X1、X2は、式(II)示される基、若しくは水素原子のいずれかであって、前記X1およびX2の少なくとも一方は式(II)示される基である。式(II)、X3は炭素数2〜10の基であり、エステル結合を有してもよい。X4は水素原子またはメチル基である。)
A polyimide resin represented by the following formula (I).
Figure 0006051653
Figure 0006051653
(In the formula (I), R is a tetravalent group formed by removing four hydrogen atoms from cyclohexane. Φ is an aliphatic structural unit, alicyclic structural unit, aromatic structural unit, organo A siloxane structural unit, or a divalent linking group having 2 to 39 carbon atoms composed of a combination or repetition thereof, and the main chain of Φ has —O—, —SO 2 —, —CO—, —CH 2 —, At least one group selected from the group consisting of —C (CH 3 ) 2 —, —C 2 H 4 O—, and —S— may intervene, and n represents a repeating unit. .X1, X2 is any one of groups represented by the formula (II), or a hydrogen atom, at least one of the X1 and X2 is a group represented by the formula (II) in. formula (II), X3 is a group having 2 to 10 carbon atoms and may have an ester bond. Is a hydrogen atom or a methyl group.)
テトラカルボン酸成分とジアミン成分を、前記ジアミン成分に対する前記テトラカルボン酸成分のモル比が0.80以上0.98以下の範囲において反応させる工程、前記工程を経て得られた化合物の末端に存在するアミノ基と、イソシアネート基を有する(メタ)アクリル化合物における前記イソシアネート基とを反応させることを特徴とする、請求項1に記載のポリイミド樹脂の製造方法。 A step of reacting a tetracarboxylic acid component and a diamine component in a range where the molar ratio of the tetracarboxylic acid component to the diamine component is 0.80 or more and 0.98 or less; The method for producing a polyimide resin according to claim 1, wherein the amino group and the isocyanate group in the (meth) acrylic compound having an isocyanate group are reacted. 請求項1に記載のポリイミド樹脂に、紫外線または電子線を照射して得られる、ポリイミド樹脂硬化物。   A cured polyimide resin obtained by irradiating the polyimide resin according to claim 1 with ultraviolet rays or electron beams. 請求項3に記載のポリイミド樹脂硬化物と、プラスチックフィルム、シリコンウェハー、金属箔およびガラスから選ばれる基材からなる積層体。 The laminated body which consists of a base material chosen from the polyimide resin hardened | cured material of Claim 3, and a plastic film, a silicon wafer, metal foil, and glass. 前記、基材が銅箔である、請求項4に記載の積層体。   The laminate according to claim 4, wherein the substrate is a copper foil. 請求項3に記載のポリイミド樹脂硬化物からなる、ポリイミドフィルム。 A polyimide film comprising the cured polyimide resin according to claim 3 .
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