JP6048212B2 - Silicone resin composition for bonding semiconductor elements and silicon-containing cured product using the same - Google Patents

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Description

本発明は、半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物及びそれを用いたケイ素含有硬化物に関するもので、詳しくは、発光ダイオード(LED)チップを押し付け硬化させた場合の接着性が高く、光透過性が高く、耐熱性や耐光性に優れ、塗布性に優れた半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物及びそれを用いたケイ素含有硬化物に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a silicone resin composition for adhering semiconductor elements and a silicon-containing cured product using the same. The present invention relates to a silicone resin composition for adhering semiconductor elements that is high, excellent in heat resistance and light resistance, and excellent in coating properties, and a silicon-containing cured product using the same.

従来、赤色や緑色LEDなどの光半導体素子の接着剤としてエポキシ樹脂にAg粉末を添加した導電性接着剤が用いられている。   Conventionally, a conductive adhesive obtained by adding Ag powder to an epoxy resin has been used as an adhesive for optical semiconductor elements such as red and green LEDs.

近年、青色や白色LEDの製造が可能となり、それを接着するために透明の非導電性接着剤が必要とされ、エポキシ樹脂を用いた非導電性接着剤が使用されている(例えば、特許文献1)。これは、脂環式エポキシ樹脂、シランカップリング剤、無機フィラー、有機スズ化合物から構成されている。   In recent years, it has become possible to manufacture blue and white LEDs, and a transparent non-conductive adhesive is required to bond them, and a non-conductive adhesive using an epoxy resin is used (for example, Patent Documents). 1). This is composed of an alicyclic epoxy resin, a silane coupling agent, an inorganic filler, and an organic tin compound.

ところが、エポキシ樹脂を用いた非導電性接着剤は、接着性や保存安定性は良好であるが、青色や白色LED自身の発光によって徐々にエポキシ樹脂が劣化し着色が生じ、それが発光した光を吸収してしまいLEDの輝度の劣化を招いてしまう。   However, a non-conductive adhesive using an epoxy resin has good adhesion and storage stability, but the epoxy resin gradually deteriorates due to light emission of the blue or white LED itself, resulting in coloration, and the light emitted from it. Will be absorbed and the brightness of the LED will deteriorate.

一方、シリコーン樹脂を用いた非導電性接着剤も開発されており、シリコーン樹脂は耐光性に優れているので、青色や白色LED自身の発光ではほとんど劣化しない。しかし、シリコーン樹脂の接着力はエポキシ樹脂に比べかなり弱いため、実装時にワイヤーが付かなかったり、LEDが外れてしまったりする問題が発生している。そこで、耐光性が優れ、且つ接着力の高い透明樹脂が必要とされ、特許文献2〜5が提案されている。   On the other hand, a non-conductive adhesive using a silicone resin has also been developed. Since the silicone resin is excellent in light resistance, the blue or white LED itself hardly deteriorates. However, since the adhesive force of silicone resin is considerably weaker than that of epoxy resin, there are problems that a wire is not attached at the time of mounting or an LED is detached. Therefore, a transparent resin having excellent light resistance and high adhesive force is required, and Patent Documents 2 to 5 have been proposed.

特許文献2に開示された発明は、シリコーン変性エポキシ化合物からなり、シリコーン由来の耐光性の向上とエポキシ由来の高接着性とを具備する接着剤といえる。かかる発明では、耐光性と高接着性の面で満足しうるが、エポキシ化合物自体は、前記エポキシ樹脂と同様に耐光性試験による着色が認められ、実際、その比較例5にも示されている。   The invention disclosed in Patent Document 2 is made of a silicone-modified epoxy compound, and can be said to be an adhesive having improved light resistance derived from silicone and high epoxy-derived adhesion. In such an invention, although satisfactory in terms of light resistance and high adhesiveness, the epoxy compound itself was found to be colored by a light resistance test in the same manner as the epoxy resin, and is actually shown in Comparative Example 5 as well. .

また、特許文献3に開示された発明は、25℃で粘度が100Pa.s以下であり、150℃で3時間の加熱により得られる硬化物のタイプD硬度(JISK6253に規定)が30度以上である付加反応硬化型シリコーン樹脂組成物を含んでおり、シリコーン樹脂がオルガノポリシロキサン構造を有するので、チップとの接着力も比較的高い。しかしながら、耐熱性試験や耐光性試験による透過率について言及がなく、LED用非導電性接着剤としての優位性が見出せない。   The invention disclosed in Patent Document 3 has a viscosity of 100 Pa.s at 25 ° C. The addition reaction curable silicone resin composition has a cured product obtained by heating at 150 ° C. for 3 hours and has a type D hardness (specified in JIS K6253) of 30 degrees or more. Since it has a siloxane structure, the adhesive strength with the chip is also relatively high. However, there is no mention of the transmittance by the heat resistance test or the light resistance test, and the superiority as a non-conductive adhesive for LED cannot be found.

また、特許文献4に開示された発明は、蝋状又は固体の三次元網状オルガノポリシロキサン樹脂と、SiH基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含有する透明なシリコーン樹脂化合物であるが、着色原因の一つと考えられているエポキシ構造や芳香環を有することがあり、耐光性試験による透過率の減少が推測される。また、接着剤として重要な接着力の評価も不十分である。   The invention disclosed in Patent Document 4 is a transparent silicone resin compound containing a waxy or solid three-dimensional network organopolysiloxane resin and an organohydrogenpolysiloxane having a SiH group. It may have an epoxy structure or an aromatic ring, which is considered to be one, and a decrease in transmittance is presumed by a light resistance test. Moreover, evaluation of adhesive force important as an adhesive is also insufficient.

さらに、特許文献5に開示された発明は、1分子中に2個以上のSi−H基を有するプレポリマーを含んだ透明なシリコーン樹脂化合物であるが、シランカップリング剤を含有せず、無機フィラーの含有量の規定もなく、耐光性試験や接着力の評価が不十分である。
このように従来のLED用非導電性接着剤においては、接着力や耐熱性試験や耐光性試験による透過率を十分満足させるに至っていないのが現状である。
Furthermore, the invention disclosed in Patent Document 5 is a transparent silicone resin compound containing a prepolymer having two or more Si-H groups in one molecule, but does not contain a silane coupling agent and is inorganic. There is no regulation of the filler content, and the light resistance test and adhesive strength evaluation are insufficient.
As described above, the conventional non-conductive adhesives for LEDs have not yet sufficiently satisfied the adhesive strength, the heat resistance test, and the light transmittance test.

特許第4802667号公報Japanese Patent No. 4802667 特開2010−285563号公報JP 2010-285563 A 特開2009−256400号公報JP 2009-256400 A 特開2006−342200号公報JP 2006-342200 A 特開2009−280747号公報JP 2009-280747 A

本発明は、上記事情に鑑み、発光ダイオード(LED)チップを押し付け硬化させた場合の接着性が高く、光透過性が高く、耐熱性や耐紫外線性に優れ、塗布性に優れた半導体素子接着剤用シリコーン樹脂組成物及びそれを用いたケイ素含有硬化物を提供することを目的とする。   In view of the above circumstances, the present invention has high adhesion when a light emitting diode (LED) chip is pressed and cured, high optical transparency, excellent heat resistance and ultraviolet resistance, and excellent adhesion to semiconductor elements. An object of the present invention is to provide a silicone resin composition for an agent and a silicon-containing cured product using the same.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、(A)成分として、環状シロキサン化合物(a1)とビニルオキシ基又はアリルオキシ基を有する脂環式不飽和化合物(a2)とをヒドロシリル化して得られるシリコーン化合物と、(B)成分として、ビニル基を有する環状シロキサン化合物と、(C)成分として、ヒドロシリル化触媒とを含む樹脂成分と、(D)成分として無機フィラーの無機粒子とをそれぞれ特定量用いて、この(D)成分の一部を疎水性処理した無機粒子に置換したところ、このシリコーン樹脂組成物が、従来にない高い接着強度を発揮し、優れた耐熱性や耐紫外線性を有し、塗布性にも優れていることを見出し、これを用い加熱硬化させることでLED用のケイ素含有硬化物が得られることを確認して本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has obtained, as component (A), a cyclic siloxane compound (a1) and an alicyclic unsaturated compound (a2) having a vinyloxy group or an allyloxy group. A silicone compound obtained by hydrosilylation, a cyclic siloxane compound having a vinyl group as the component (B), a resin component containing the hydrosilylation catalyst as the component (C), and inorganic particles of an inorganic filler as the component (D) And a part of this component (D) was substituted with hydrophobically treated inorganic particles, and this silicone resin composition exhibited an unprecedented high adhesive strength, excellent heat resistance and We found that it has ultraviolet resistance and excellent coating properties, and confirmed that silicon-containing cured products for LEDs can be obtained by heat curing using this. This has led to the completion of the present invention.

すなわち、本発明の第1の発明によれば、環状シロキサン化合物(a1)とビニルオキシ基又はアリルオキシ基を有する脂環式不飽和化合物(a2)とをヒドロシリル化して得られるシリコーン化合物(A)、ビニル基を有する環状シロキサン化合物(B)、ヒドロシリル化触媒(C)からなる樹脂成分と、無機粒子(d1)および無機粒子(d2)の混合物である無機フィラー(D)を含有する半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物であって、 無機粒子(d1)および無機粒子(d2)は、フッ化珪素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、または酸化チタンから選ばれる1種以上の同一もしくは異なる種であって、無機粒子(d1)が疎水性処理されていないのに対して、無機粒子(d2)が疎水性処理されており、前記無機フィラー(D)の含有量が、(A)成分と(B)成分および(C)成分の総和を100重量部として、0.1〜40重量部であり、無機粒子(d2)の割合が無機フィラー(D)の20〜80wt%であることを特徴とする半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物が提供される。 That is, according to the first invention of the present invention, a silicone compound (A) obtained by hydrosilylating a cyclic siloxane compound (a1) and an alicyclic unsaturated compound (a2) having a vinyloxy group or an allyloxy group, vinyl Silicone for semiconductor element adhesion containing a resin component comprising a cyclic siloxane compound having a group (B), a hydrosilylation catalyst (C) , and an inorganic filler (D) which is a mixture of inorganic particles (d1) and inorganic particles (d2) a resin composition, inorganic particles (d1) and inorganic particles (d2) is, silicon fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, silicon dioxide, zirconium oxide or one or more identical or different species selected from titanium oxide, a is, with respect to the inorganic particles (d1) is not hydrophobized inorganic particles (d2) is hydrophobic Being processed, the content of the inorganic filler (D) is 100 parts by weight of the total of components (A) and (B) component and the (C) component is 0.1 to 40 parts by weight, the inorganic particles The ratio of (d2) is 20-80 wt% of an inorganic filler (D), The silicone resin composition for semiconductor element adhesion | attachment characterized by the above-mentioned is provided.

また、本発明の第2の発明によれば、第1の発明において、前記シリコーン化合物(A)は、ヒドロシリル基の濃度が1〜10mmol/gであることを特徴とする半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物が提供される。
また、本発明の第3の発明によれば、第1の発明において、前記ヒドロシリル化触媒(C)は、白金系触媒であることを特徴とする半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物が提供される。
また、本発明の第4の発明によれば、第1の発明において、前記無機フィラー(D)は、バンドギャップエネルギーが2.8eV以上であり、屈折率が1.2〜1.8の無機粒子であることを特徴とする半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物が提供される。
また、本発明の第5の発明によれば、第1の発明において、無機粒子(d2)は、炭素数1〜20のアルコール、有機シリル化合物、有機酸、または有機アミンから選ばれる1種以上の有機物によって疎水性変性処理されていることを特徴とする半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物が提供される。
According to a second invention of the present invention, in the first invention, the silicone compound (A) has a hydrosilyl group concentration of 1 to 10 mmol / g, and is a silicone resin for bonding semiconductor elements. A composition is provided.
According to a third invention of the present invention, there is provided a silicone resin composition for adhering a semiconductor element, characterized in that, in the first invention, the hydrosilylation catalyst (C) is a platinum-based catalyst. .
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect, the inorganic filler (D) is an inorganic material having a band gap energy of 2.8 eV or more and a refractive index of 1.2 to 1.8. A silicone resin composition for adhering semiconductor elements, characterized by being particles, is provided.
According to the fifth aspect of the present invention, in the first aspect, the inorganic particles (d2) are one or more selected from alcohols having 1 to 20 carbon atoms, organic silyl compounds, organic acids, or organic amines. A silicone resin composition for bonding a semiconductor element is provided, which is hydrophobically modified with an organic material.

一方、本発明の第6の発明によれば、第1〜5の何れかの発明のシリコーン樹脂組成物を加熱硬化させてなるケイ素含有硬化物が提供される。   On the other hand, according to the sixth invention of the present invention, there is provided a silicon-containing cured product obtained by heat-curing the silicone resin composition of any one of the first to fifth inventions.

本発明の半導体素子接着剤用シリコーン樹脂組成物は、半導体素子への塗布性に優れ、高接着強度を有し、それを加熱硬化後には、耐熱性、耐光性に優れた硬化物を与えることができる。したがって、LED素子等の接着剤として特に有用である。
この組成物は、透明性が高いので、LED素子を接着すると、下面に発光した光が透明接着剤を透過しリードフレーム面で反射させ、その光も外部に出力でき外部量子効率の上昇を図ることができる。また、同時にLEDの封止樹脂として使用すれば、熱膨張係数なども同じなので接着剤と封止樹脂の界面で剥離を防止することができる。
The silicone resin composition for a semiconductor element adhesive according to the present invention is excellent in applicability to a semiconductor element, has high adhesive strength, and gives a cured product excellent in heat resistance and light resistance after heat curing. Can do. Therefore, it is particularly useful as an adhesive for LED elements and the like.
Since this composition is highly transparent, when the LED element is bonded, the light emitted on the lower surface is transmitted through the transparent adhesive and reflected by the lead frame surface, and the light can also be output to the outside, thereby increasing the external quantum efficiency. be able to. Moreover, if it is used simultaneously as LED sealing resin, since the thermal expansion coefficient and the like are the same, peeling can be prevented at the interface between the adhesive and the sealing resin.

以下、本発明の半導体素子接着剤用シリコーン樹脂組成物およびケイ素含有硬化性組成物について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。   Hereinafter, the silicone resin composition for a semiconductor element adhesive and the silicon-containing curable composition of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments.

1.半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物
本発明の半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物(以下、シリコーン樹脂組成物、あるいは単に樹脂組成物ともいう)は、環状シロキサン化合物(a1)とビニルオキシ基又はアリルオキシ基を有する脂環式不飽和化合物(a2)とをヒドロシリル化して得られるシリコーン化合物(A)、ビニル基を有する環状シロキサン化合物(B)、ヒドロシリル化触媒(C)からなる樹脂成分と、無機粒子(d1)および無機粒子(d2)の混合物である無機フィラー(D)を含有する半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物であって、
無機粒子(d1)および無機粒子(d2)は、フッ化珪素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、または酸化チタンから選ばれる1種以上の同一もしくは異なる種であって、無機粒子(d1)が疎水性処理されていないのに対して、無機粒子(d2)が疎水性処理されており、前記無機フィラー(D)の含有量が、(A)成分と(B)成分および(C)成分の総和を100重量部として、0.1〜40重量部であり、無機粒子(d2)の割合が無機フィラー(D)の20〜80wt%であることを特徴とする。
1. Silicone resin composition for adhering semiconductor elements The silicone resin composition for adhering semiconductor elements of the present invention (hereinafter also referred to as a silicone resin composition or simply a resin composition) comprises a cyclic siloxane compound (a1) and a vinyloxy group or an allyloxy group. A resin component comprising a silicone compound (A) obtained by hydrosilylating the alicyclic unsaturated compound (a2) having a cyclic siloxane compound (B) having a vinyl group, a hydrosilylation catalyst (C), and inorganic particles (d1 ) And an inorganic filler (D) that is a mixture of inorganic particles (d2), and a silicone resin composition for bonding semiconductor elements,
Inorganic particles (d1) and inorganic particles (d2) is, silicon fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, silicon dioxide, zirconium oxide or one or more which are identical or different species selected from titanium oxide, inorganic particles ( d1) is not subjected to hydrophobic treatment, whereas inorganic particles (d2) are subjected to hydrophobic treatment, and the content of the inorganic filler (D) is (A), (B) and (C). ) The total amount of the components is 100 to 40 parts by weight, and is 0.1 to 40 parts by weight, and the proportion of the inorganic particles (d2) is 20 to 80 wt% of the inorganic filler (D).

(1)シリコーン化合物(A)
本発明におけるシリコーン化合物(A)は、環状シロキサン化合物(a1)とビニルオキシ基又はアリルオキシ基を有する脂環式不飽和化合物(a2)とをヒドロシリル化して得られるものである。
(1) Silicone compound (A)
The silicone compound (A) in the present invention is obtained by hydrosilylating a cyclic siloxane compound (a1) and an alicyclic unsaturated compound (a2) having a vinyloxy group or an allyloxy group.

環状シロキサン化合物(a1)は、1又は2個の炭素原子数1〜6のアルキル基又はフェニル基を側鎖に有するシラン化合物モノマーの両端が環状に結合し、1分子中に2個以上のSi−H基を有する化合物である。主鎖のSi−O結合の数は、特に制限されないが、硬化反応の架橋密度と生産性を考慮すれば、例えば3〜15とし、好ましくは4〜10とするのが好ましい。この(a1)成分は、主鎖構造が環状であるため、(a2)成分との相溶性に優れている。   In the cyclic siloxane compound (a1), both ends of a silane compound monomer having 1 or 2 alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms or phenyl groups in the side chain are bonded cyclically, and two or more Si atoms are contained in one molecule. A compound having a -H group. The number of Si—O bonds in the main chain is not particularly limited, but considering the crosslinking density and productivity of the curing reaction, for example, it is 3 to 15, and preferably 4 to 10. Since the (a1) component has a cyclic main chain structure, it has excellent compatibility with the (a2) component.

炭素原子数1〜6のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、アミル、イソアミル、t−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル基が挙げられる。中でもメチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。
フェニル基は、二重結合により光劣化が起こることから、分子あたり3個以下、好ましくは1個以下とすることが好ましい。
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl and cyclohexyl groups. Of these, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group are preferable.
The number of phenyl groups is 3 or less, preferably 1 or less per molecule, because photodegradation occurs due to double bonds.

(a1)成分の具体例としては、2,4,6,8−テトラメチルシクロテトラシロキサン、2,2,4,6,8−ペンタメチルシクロテトラシロキサン、2,2,4,4,6,8−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8,10−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、2,4,6,8,10,12−ヘキサメチルシクロヘキサシロキサン等が挙げられる。工業的に入手が容易であり、Si−H官能基数が適当であることから、2,4,6,8−テトラメチルシクロテトラシロキサン及び2,4,6,8,10−ペンタメチルシクロペンタシロキサンが好ましく、2,4,6,8−テトラメチルシクロテトラシロキサンがさらに好ましい。(a1)成分は、単独で使用しても2種以上組み合わせて使用してもよい。   Specific examples of the component (a1) include 2,4,6,8-tetramethylcyclotetrasiloxane, 2,2,4,6,8-pentamethylcyclotetrasiloxane, 2,2,4,4,6, Examples include 8-hexamethylcyclotetrasiloxane, 2,4,6,8,10-pentamethylcyclopentasiloxane, 2,4,6,8,10,12-hexamethylcyclohexasiloxane. 2,4,6,8-tetramethylcyclotetrasiloxane and 2,4,6,8,10-pentamethylcyclopentasiloxane are easily available industrially and have an appropriate number of Si-H functional groups. Is preferred, and 2,4,6,8-tetramethylcyclotetrasiloxane is more preferred. The component (a1) may be used alone or in combination of two or more.

ビニルオキシ基又はアリルオキシ基を有する脂環式不飽和化合物(a2)は、1又は2個のシクロヘキシル環に、反応性側鎖としてビニルオキシ基又はアリルオキシ基を1又は2個有する化合物である。この他に、反応性側鎖として−CH−O−CH=CH基、又は−CH−O−CHCH=CH基を有してもよい。脂環構造部分は剛性があり、エーテル基部分は分子全体に柔軟性を与えることができ、組成物に対して、耐熱性、耐クラック性をもたらすことができる。 The cycloaliphatic unsaturated compound (a2) having a vinyloxy group or an allyloxy group is a compound having 1 or 2 vinyloxy groups or allyloxy groups as reactive side chains on one or two cyclohexyl rings. In addition, -CH 2 -O-CH = CH 2 group as a reactive side chain, or may have a -CH 2 -O-CH 2 CH = CH 2 group. The alicyclic structure portion is rigid, and the ether group portion can give flexibility to the whole molecule, and can provide heat resistance and crack resistance to the composition.

(a2)成分の化合物としては、例えば、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2,4−シクロヘキサントリメタノールトリビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジアリルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジアリルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジアリルエーテル、1,2,4−シクロヘキサントリメタノールトリアリルエーテルが挙げられる。この他に、例えば、1,2−ビス(4−ビニルオキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(4−アリルオキシシクロヘキシル)プロパン等が挙げられる。
中でも、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2,4−シクロヘキサントリメタノールトリビニルエーテルが好ましく、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテルがより好ましい。
Examples of the component (a2) compound include 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2,4-cyclohexane trimethanol. Examples include trivinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol diallyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol diallyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol diallyl ether, and 1,2,4-cyclohexanetrimethanol triallyl ether. In addition, for example, 1,2-bis (4-vinyloxycyclohexyl) propane, 1,2-bis (4-allyloxycyclohexyl) propane and the like can be mentioned.
Of these, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, and 1,2,4-cyclohexanetrimethanol trivinyl ether are preferable. Cyclohexane dimethanol divinyl ether is more preferred.

不飽和化合物(a2)としては、側鎖がビニル基、又は−CH−O−CH=CH基のものが好ましい。これらの基があると熱劣化や光劣化による着色が少ないからである。(a2)成分は単独で使用しても2種以上組み合わせて使用してもよい。 As the unsaturated compound (a2), those having a vinyl side chain or a —CH 2 —O—CH═CH 2 group are preferable. This is because when these groups are present, there is little coloring due to heat deterioration or light deterioration. The component (a2) may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いる(A)成分のシリコーン化合物は、上記の(a1)成分と(a2)成分とをヒドロシリル化反応することによって得られるものである。
ヒドロシリル化反応される(a1)成分と(a2)成分は、(A)成分のシリコーン化合物1分子中に、2個以上のSi−H基を含有するような比率で配合される。例えば、(a1)成分中のSi−H基の数をX、(a2)成分中のSi−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合の数をYとしたとき、X:Yが10:1〜8:1となるのが好ましい。シリコーン化合物の粘度の点から、7:1〜5:1が更に好ましく、4:1〜2:1が最も好ましい。
The silicone compound of component (A) used in the present invention is obtained by hydrosilylation reaction of the above components (a1) and (a2).
The (a1) component and the (a2) component to be hydrosilylated are blended in such a ratio as to contain two or more Si—H groups in one molecule of the silicone compound of the (A) component. For example, when the number of Si—H groups in the component (a1) is X and the number of carbon-carbon double bonds having reactivity with the Si—H group in the component (a2) is Y, X: Y Is preferably 10: 1 to 8: 1. From the viewpoint of the viscosity of the silicone compound, 7: 1 to 5: 1 is more preferable, and 4: 1 to 2: 1 is most preferable.

その後、(a1)成分と(a2)成分の混合物をヒドロシリル化触媒で反応させる。ヒドロシリル化触媒は、特に制限されないが、例えば、白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒等が使用される。
本発明において、引き続き(A)成分のシリコーン化合物に、他の成分(B)、さらには成分(D)(E)を配合する場合、ここでのヒドロシリル化触媒の使用量を(a1)成分と(a2)成分との反応必要量以上とすることができ、これにより後述する(C)成分:ヒドロシリル化触媒の追加量を節減するようにしてもよい。
Thereafter, the mixture of the component (a1) and the component (a2) is reacted with a hydrosilylation catalyst. The hydrosilylation catalyst is not particularly limited, and for example, a platinum catalyst, a palladium catalyst, a rhodium catalyst, or the like is used.
In the present invention, when the other component (B), and further the components (D) and (E) are blended with the silicone compound as the component (A), the amount of the hydrosilylation catalyst used here is changed to the component (a1). The amount of reaction with the component (a2) can be more than the required amount, and thereby the additional amount of the component (C): hydrosilylation catalyst described later may be reduced.

(a1)成分と(a2)成分とのヒドロシリル化は、上記ヒドロシリル化触媒を使用するかぎり、反応条件によって特に限定されず、従来公知の条件を採用することができる。反応速度の点から、室温(25℃)〜130℃とし、30℃〜100℃とするのが好ましい。(a1)成分と(a2)成分は、予め溶媒に溶解して用いることができる。溶媒としては、トルエン、ヘキサン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。   The hydrosilylation of the component (a1) and the component (a2) is not particularly limited depending on the reaction conditions as long as the hydrosilylation catalyst is used, and conventionally known conditions can be adopted. From the point of reaction rate, it is room temperature (25 degreeC) -130 degreeC, and it is preferable to set it as 30 to 100 degreeC. The component (a1) and the component (a2) can be used after being dissolved in a solvent. Examples of the solvent include toluene, hexane, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like.

本発明において、(A)成分のシリコーン化合物は、H−NMR分析によるピークの積分値の比から求めた分子中のSi−H基の濃度が1〜100mmol/gであることが好ましい。この範囲であれば、高い硬化性を有しながら保存安定性にも優れるものとなる。分子中のSi−H基の濃度は、1〜40mmol/gがさらに好ましく、1〜20mmol/gが最も好ましい。
なお、本発明における(A)成分としては、前記特許文献5の記載に基づく市販品を利用することができるが、Si−H基の濃度が1〜100mmol/gを外れたものでは、硬化性が不十分となるか保存安定性が低下することがあり好ましくない。
In the present invention, the silicone compound as the component (A) preferably has a Si—H group concentration in the molecule of 1 to 100 mmol / g determined from the ratio of the integrated values of the peaks by 1 H-NMR analysis. Within this range, the storage stability is excellent while having high curability. The concentration of Si—H groups in the molecule is more preferably 1 to 40 mmol / g, and most preferably 1 to 20 mmol / g.
In addition, as (A) component in this invention, although the commercial item based on the description of the said patent document 5 can be utilized, if the density | concentration of Si-H group remove | deviated from 1-100 mmol / g, it is sclerosis | hardenability. Is unfavorable because it may become insufficient or the storage stability may decrease.

本発明に係る(A)成分のシリコーン化合物は、GPC測定により求められるポリスチレン換算の重量平均分子量が50,000〜300,000であることが好ましい。この範囲であれば、十分な耐熱性を有しながらハンドリング性にも優れている。重量平均分子量は、10,0000〜250,000が更に好ましく、150,000〜200,000が最も好ましい。
なお、(A)成分として前記特許文献5の記載に基づく市販品を利用することができるが、重量平均分子量が50,000〜300,000を外れたものでは、耐熱性が不十分となるかハンドリング性が低下することがある。
The silicone compound of the component (A) according to the present invention preferably has a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 50,000 to 300,000 determined by GPC measurement. Within this range, it has excellent heat resistance while having sufficient heat resistance. The weight average molecular weight is more preferably 10,000 to 250,000, and most preferably 150,000 to 200,000.
In addition, although the commercial item based on description of the said patent document 5 can be utilized as (A) component, when the weight average molecular weight removes 50,000-300,000, will heat resistance become inadequate? Handling may be reduced.

これにより1分子中に2個以上のSi−H基を有する化合物(a1)と不飽和化合物(a2)とが、Si−H基を1分子中に2個以上残存するような割合でヒドロシリル化反応したシリコーン化合物が得られる。なお、(A)成分のシリコーン化合物が有するSi−H基の数は、Si−H基の濃度と重量平均分子量との積から求めることができる。   As a result, hydrosilylation of the compound (a1) having two or more Si-H groups in one molecule and the unsaturated compound (a2) in such a ratio that two or more Si-H groups remain in one molecule. A reacted silicone compound is obtained. In addition, the number of Si-H groups which the silicone compound of (A) component has can be calculated | required from the product of the density | concentration of a Si-H group, and a weight average molecular weight.

(2)ビニル基を有する環状シロキサン化合物(B)
本発明における(B)成分は、前記(A)成分がもつSi−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する環状シロキサン化合物である。
この環状シロキサン化合物の二重結合の数は、3〜15個が好ましく、硬化物の架橋密度を高める点から3〜8個がより好ましい。このSi−H基と反応性を有する炭素−炭素二重結合は、ビニル基を必須とし、アルケニル基等も含んでよい。ケイ素原子に結合したビニル基(Si−CH=CH基)であると反応性が高いのでより好ましい。
この(B)成分は、前記環状シロキサン化合物(a1)と基本骨格が同様であるが、側鎖に反応性の二重結合を有する点に特徴がある。
(2) Cyclic siloxane compound having vinyl group (B)
The component (B) in the present invention is a cyclic siloxane compound containing two or more carbon-carbon double bonds having reactivity with the Si—H group of the component (A).
The number of double bonds of the cyclic siloxane compound is preferably 3 to 15, and more preferably 3 to 8 from the viewpoint of increasing the crosslinking density of the cured product. The carbon-carbon double bond having reactivity with the Si-H group essentially requires a vinyl group and may contain an alkenyl group or the like. A vinyl group (Si—CH═CH 2 group) bonded to a silicon atom is more preferable because of high reactivity.
The component (B) has the same basic skeleton as the cyclic siloxane compound (a1), but is characterized by having a reactive double bond in the side chain.

(B)成分の具体例としては、2,4,6−トリメチル−2,4,6−トリビニルシクロトリシロキサン、2,4,6,6,8,8−ヘキサメチル−2,4−ジビニルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8,8−ペンタメチル−2,4,6−トリビニルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8−テトラメチル−2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8−テトラメチル−8−フェニル−2,4,6−トリビニルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8−テトラメチル−6,8−ジフェニル−2,4−ジビニルシクロテトラシロサン、2,4,6,8,10−ペンタメチル−2,4,6,8,10−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、2,4,6,8,10,12−ヘキサメチル−2,4,6,8,10,12−ヘキサビニルシクロヘキサシロキサン等が挙げられる。   Specific examples of the component (B) include 2,4,6-trimethyl-2,4,6-trivinylcyclotrisiloxane, 2,4,6,6,8,8-hexamethyl-2,4-divinylcyclo Tetrasiloxane, 2,4,6,8,8-pentamethyl-2,4,6-trivinylcyclotetrasiloxane, 2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetra Siloxane, 2,4,6,8-tetramethyl-8-phenyl-2,4,6-trivinylcyclotetrasiloxane, 2,4,6,8-tetramethyl-6,8-diphenyl-2,4- Divinylcyclotetrasilosane, 2,4,6,8,10-pentamethyl-2,4,6,8,10-pentavinylcyclopentasiloxane, 2,4,6,8,10,12-hexamethyl-2, 4, 6, 8, 0,12- hexa vinyl cyclohexasiloxane and the like.

中でも2,4,6,8−テトラメチル−2−4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8−テトラメチル−8−フェニル−2,4,6−トリビニルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8−テトラメチル−6,8−ジフェニル−2,4−ジビニルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8,10−ペンタメチル−2,4,6,8,10−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、2,4,6,8,10,12−ヘキサメチル−2,4,6,8,10,12−ヘキサビニルシクロヘキサシロキサンが好ましい。
反応性などから、2,4,6,8,10−ペンタメチル−2,4,6,8,10−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、2,4,6,8,10,12−ヘキサメチル−2,4,6,8,10,12−ヘキサビニルシクロヘキサシロキサンが更に好ましく、2,4,6,8−テトラメチル−2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサンが最も好ましい。
Among them, 2,4,6,8-tetramethyl-2-4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane, 2,4,6,8-tetramethyl-8-phenyl-2,4,6-trivinylcyclo Tetrasiloxane, 2,4,6,8-tetramethyl-6,8-diphenyl-2,4-divinylcyclotetrasiloxane, 2,4,6,8,10-pentamethyl-2,4,6,8,10 -Pentavinylcyclopentasiloxane, 2,4,6,8,10,12-hexamethyl-2,4,6,8,10,12-hexavinylcyclohexasiloxane is preferred.
In view of reactivity, 2,4,6,8,10-pentamethyl-2,4,6,8,10-pentavinylcyclopentasiloxane, 2,4,6,8,10,12-hexamethyl-2,4 6,8,10,12-hexavinylcyclohexasiloxane is more preferred, and 2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane is most preferred.

本発明における(B)成分は、Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する環状シロキサン化合物であることから、非シロキサン化合物よりも耐熱性、透明性等に優れ、また直鎖状シロキサン化合物よりも硬化物の物理的強度(剛直性)が高く、耐塩基性、耐クラック性等にも優れている。   The component (B) in the present invention is a cyclic siloxane compound containing two or more carbon-carbon double bonds having reactivity with the Si—H group in one molecule, and therefore has higher heat resistance than a non-siloxane compound. The cured product has higher physical strength (rigidity) than the linear siloxane compound, and has excellent base resistance, crack resistance, and the like.

本発明の組成物において、(A)成分と(B)成分の量は、Si−H基の数と、Si−H基と反応を有する炭素−炭素二重結合数の比を考慮して配合する。Si−H基と、Si−H基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の当量比が0.9〜10となるのが好ましく、1.0〜5.0が更に好ましく、1.1〜3.0が最も好ましい。これを質量%で示せば、(A)成分の50〜98質量%に(B)成分の2〜50質量%を配合することになる。(A)成分の70〜90質量%に(B)成分の30〜10質量%を配合することが更に好ましく、(A)成分の85〜95質量%に(B)成分の15〜5質量%を配合することが特に好ましい。   In the composition of the present invention, the amounts of the component (A) and the component (B) are blended in consideration of the number of Si-H groups and the ratio of the number of carbon-carbon double bonds that react with the Si-H groups. To do. It is preferable that the equivalent ratio of the Si—H group and the carbon-carbon double bond having reactivity with the Si—H group is 0.9 to 10, more preferably 1.0 to 5.0, 1.1 -3.0 is most preferred. If this is shown by the mass%, 2-50 mass% of (B) component will be mix | blended with 50-98 mass% of (A) component. More preferably, 30 to 10% by mass of (B) component is blended with 70 to 90% by mass of (A) component, and 15 to 5% by mass of (B) component to 85 to 95% by mass of (A) component. It is particularly preferable to blend.

(3)ヒドロシリル化触媒(C)
本発明における(C)成分としては、ヒドロシリル化反応の触媒活性を有するものであれば特に限定されない。このような触媒としては、例えば、白金、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム及びインジウム等の第VIII族の金属からなる錯体、又は化合物等が挙げられる。前記環状シロキサン化合物(a1)とビニルオキシ基又はアリルオキシ基を有する脂環式不飽和化合物(a2)とのヒドロシリル化に用いた白金、パラジウム、ロジウム系触媒の使用が好ましい。
(3) Hydrosilylation catalyst (C)
The component (C) in the present invention is not particularly limited as long as it has catalytic activity for hydrosilylation reaction. Examples of such a catalyst include complexes or compounds made of Group VIII metals such as platinum, ruthenium, rhodium, palladium, osmium and indium. Preference is given to the use of platinum, palladium and rhodium catalysts used for the hydrosilylation of the cyclic siloxane compound (a1) and the alicyclic unsaturated compound (a2) having a vinyloxy group or an allyloxy group.

白金系触媒としては、例えば塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体、白金−カルボニルビニルメチル錯体(Ossko触媒)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体(Karstcdt触媒)、白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金−オクチルアルデヒド錯体,白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt[P(C、PtCl[P(C、Pt[P(OC)、ジカルボニルジクロロ白金等が挙げられる。
パラジウム系触媒又はロジウム系触媒としては、例えば上記白金系触媒の白金原子の代わりにパラジウム原子又はロジウム原子を含有する化合物が挙げられる。これらは1種で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。ヒドロシリル化触媒としては、反応性が高いという点で白金系触媒が好ましく、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、または白金−カルボニルビニルメチル錯体が更に好ましく、白金−カルボニルビニルメチル錯体が最も好ましい。
Examples of the platinum-based catalyst include chloroplatinic acid, complexes of chloroplatinic acid and alcohols, aldehydes, ketones, platinum-olefin complexes, platinum-carbonylvinylmethyl complexes (Ossko catalysts), platinum-divinyltetramethyldisiloxane complexes ( Karstcdt catalyst), platinum-cyclovinylmethylsiloxane complex, platinum-octylaldehyde complex, platinum-phosphine complex (for example, Pt [P (C 6 H 5 ) 3 ] 4 , PtCl [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 , Pt [P (OC 4 H 9 ) 3 ] 4 ), dicarbonyldichloroplatinum and the like.
Examples of the palladium-based catalyst or rhodium-based catalyst include compounds containing a palladium atom or a rhodium atom in place of the platinum atom of the platinum-based catalyst. These may be used alone or in combination of two or more. The hydrosilylation catalyst is preferably a platinum-based catalyst in terms of high reactivity, more preferably a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex or a platinum-carbonylvinylmethyl complex, and most preferably a platinum-carbonylvinylmethyl complex.

本発明のシリコーン樹脂組成物中、(C)成分の含有量は、反応性、硬化性及び保存安定性の点から5質量%以下が好ましい。経済性を考慮すると、0.0001〜1.0質量%が更に好ましく、0.001〜0.1質量%が最も好ましい。
本発明においては、(A)成分のシリコーン化合物を合成する際にヒドロシリル化触媒を使用しているので、ここでの添加量は、不足分を(C)成分として追加すれば良い。いいかえれば、(A)成分のシリコーン化合物の合成時に過剰量のヒドロシリル化触媒を使用しており、その過剰量が(B)成分のヒドロシリル化に十分な量であれば、新たに追加する必要はない。
In the silicone resin composition of the present invention, the content of the component (C) is preferably 5% by mass or less from the viewpoint of reactivity, curability, and storage stability. In consideration of economy, 0.0001 to 1.0 mass% is more preferable, and 0.001 to 0.1 mass% is most preferable.
In the present invention, since the hydrosilylation catalyst is used when synthesizing the silicone compound of the component (A), the amount added here may be added as the component (C). In other words, if an excessive amount of hydrosilylation catalyst is used in the synthesis of the silicone compound of component (A) and the excess amount is sufficient for hydrosilylation of component (B), it is necessary to add a new one. Absent.

(4)無機フィラー(D)
本発明では、(D)成分の無機フィラーとして、光透過性の無機粒子を使用する。この無機フィラーは、シリコーン樹脂組成物の粘性を調整するチクソ調整剤として機能し、シリコーン樹脂組成物が硬化した際に硬化物の強度を向上し、さらに半導体素子であるLED等を接着した場合は、発光した光を吸収しないという特徴がある。
(4) Inorganic filler (D)
In the present invention, light transmissive inorganic particles are used as the inorganic filler of the component (D). This inorganic filler functions as a thixo modifier that adjusts the viscosity of the silicone resin composition, improves the strength of the cured product when the silicone resin composition is cured, and further adheres to LEDs or the like that are semiconductor elements. The feature is that the emitted light is not absorbed.

本発明において、無機フィラー(D)は、シリコーン化合物(A)、ビニル基を有する環状シロキサン化合物(B)、ヒドロシリル化触媒(C)からなる樹脂成分を、半導体素子基板に対して、密着させるという機能を有する。   In the present invention, the inorganic filler (D) is said to adhere the resin component comprising the silicone compound (A), the cyclic siloxane compound (B) having a vinyl group, and the hydrosilylation catalyst (C) to the semiconductor element substrate. It has a function.

<無機粒子(d1)>
このような無機フィラーとしては、フッ化珪素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウムまたは二酸化ケイ素などがあげられる。以下、これらから選ばれる1種以上を無機粒子(d1)という。このうち特に好ましいものは、二酸化ケイ素である。 これらの粒子(粉末)は、単独で用いることができるが、2種以上を混合して使用しても差し支えない。
<Inorganic particles (d1)>
Examples of such an inorganic filler include silicon fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and silicon dioxide. Hereinafter, one or more selected from these are referred to as inorganic particles (d1). Of these, silicon dioxide is particularly preferred. These particles (powder) can be used alone, but two or more kinds may be mixed and used.

本発明における無機フィラーとしては、バンドギャップエネルギーが2.8eV以上、かつ屈折率が1.2〜1.8の無機粒子を用いるのが望ましい。無機粒子のバンドギャップエネルギーが2.8eV以上であると、半導体素子であるLED等を接着した場合は、発光した波長の光が無機粒子によって吸収されないためである。一般に無機化合物における波長の吸収は、主に半導体化合物の励起吸収に起因し、このエネルギーに相当するものが無機化合物のバンドギャップエネルギーである。
一方、このバンドギャップエネルギーが2.8eV未満であると、その粒子のもつ波長吸収域が440nm以上となり、発光したLEDなどで光の吸収を招く。本発明で用いるシリコーン化合物(A)は、屈折率が1.4〜1.6付近を示すものである。従って、その屈折率に近い、屈折率が1.2〜1.8の無機粒子を使用すると光透過性を得ることができる。特に、シリコーン化合物(A)の屈折率と同等な1.4〜1.6程度の無機粒子を使用することが好ましい。屈折率が1.2〜1.8の範囲から外れていると、光透過性が得られない場合がある。
また、無機粒子の色は特に限定されないが、光の波長吸収を防ぐためには白色系の粉末か、その接着するLED等が発光する波長と同色をした粉末が望ましい。
As the inorganic filler in the present invention, it is desirable to use inorganic particles having a band gap energy of 2.8 eV or more and a refractive index of 1.2 to 1.8. This is because when the band gap energy of the inorganic particles is 2.8 eV or more, when an LED or the like, which is a semiconductor element, is bonded, light of the emitted wavelength is not absorbed by the inorganic particles. In general, wavelength absorption in an inorganic compound is mainly caused by excitation absorption of a semiconductor compound, and the band gap energy of the inorganic compound corresponds to this energy.
On the other hand, when the band gap energy is less than 2.8 eV, the wavelength absorption region of the particles becomes 440 nm or more, which causes light absorption in a light emitting LED or the like. The silicone compound (A) used in the present invention has a refractive index of about 1.4 to 1.6. Accordingly, when inorganic particles having a refractive index of 1.2 to 1.8, which is close to the refractive index, are used, light transmittance can be obtained. In particular, it is preferable to use inorganic particles having a refractive index of about 1.4 to 1.6 equivalent to the refractive index of the silicone compound (A). If the refractive index is out of the range of 1.2 to 1.8, light transmittance may not be obtained.
The color of the inorganic particles is not particularly limited, but in order to prevent light wavelength absorption, white powder or powder having the same color as the wavelength emitted by the LED or the like to which it adheres is desirable.

このようなことから、無機粒子は、その屈折率が上記範囲内にあれば、粒径の大きさによって特に制限されるわけではない。屈折率が1.4〜1.6の範囲から外れている無機粒子を用いる場合は、1次粒子の平均粒径を3.0μm以下とすることが望ましい。平均粒径が3.0μmを超えると、無機フィラーの種類によっては光透過性が低下する場合があるので、無機フィラーは、1次粒子の平均粒径が特に0.8μm以下であることが好ましい。この条件を満たせば、0.4〜0.8μmの波長を持つ光を遮ることがないので、光透過性への影響がほとんどない。1次粒子の平均粒径が0.4μm以下、さらには0.25μm以下になると、より光の透過性は向上する。   For this reason, the inorganic particles are not particularly limited by the size of the particle size as long as the refractive index is within the above range. When using inorganic particles having a refractive index outside the range of 1.4 to 1.6, it is desirable that the average particle size of the primary particles be 3.0 μm or less. When the average particle size exceeds 3.0 μm, the light transmittance may be lowered depending on the type of the inorganic filler. Therefore, the average particle size of the primary particles is particularly preferably 0.8 μm or less. . If this condition is satisfied, light having a wavelength of 0.4 to 0.8 μm is not blocked, so that there is almost no influence on light transmittance. When the average particle size of the primary particles is 0.4 μm or less, and further 0.25 μm or less, the light transmittance is further improved.

無機粒子の添加量は、(A)成分と(B)成分と(C)成分からなる樹脂成分100重量部に対して0.1〜40重量部とする。これは、添加量が少なくて0.1重量部未満であると無機フィラーが本組成物に与えるチクソ調整剤としての機能が得られず、一方、40重量部より多いと、チクソ性が高くなり過ぎ、なおかつ粘度も高くなり過ぎるために、塗布し辛くなり作業性を低下させるためである。好ましい含有量は0.5〜30重量部であり、さらには1〜20重量部の範囲である。
組成物中で無機フィラーの1次粒子は、それぞれ分散して存在していることが望ましい。それらが凝集しあって2次粒子を形成しうる場合は、分散剤などを配合するなどの手段をとることが好ましい。
The added amount of the inorganic particles is 0.1 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin component comprising the component (A), the component (B) and the component (C). This is because if the addition amount is less than 0.1 parts by weight, the function as a thixotropic agent that the inorganic filler gives to the composition cannot be obtained, while if it exceeds 40 parts by weight, the thixotropy becomes high. This is because the viscosity is too high and the viscosity becomes too high, which makes it difficult to apply and reduces workability. The preferred content is 0.5 to 30 parts by weight, and further in the range of 1 to 20 parts by weight.
It is desirable that the primary particles of the inorganic filler are present dispersed in the composition. When they can aggregate to form secondary particles, it is preferable to take measures such as blending a dispersant.

無機粒子(d1)の表面は、大気中の水分に関係して、通常、水酸基(OH基)によって覆われ、親水性である。そのために、大気中の水分による影響を受け使用中に粘度が増加し塗布性に悪影響を与える。   The surface of the inorganic particle (d1) is usually covered with a hydroxyl group (OH group) and is hydrophilic in relation to moisture in the atmosphere. Therefore, the viscosity is increased during use due to the influence of moisture in the atmosphere, and the coating property is adversely affected.

<無機粒子(d2)>
そのため、本発明において、無機粒子(D)は、上記の疎水性処理されていない無機粒子(d1)と、疎水性処理されている無機粒子(d2)の混合物で構成する。
該疎水性処理とは、水酸基(OH基)によって覆われ、親水性である無機粒子(d1)を、そのOH基と反応する有機物、すなわち炭素数1〜20のアルコール、有機シリル化合物、有機酸、有機アミンから選ばれる1種以上によって疎水性変性処理することである。
<Inorganic particles (d2)>
Therefore, in the present invention, the inorganic particles (D) are composed of a mixture of the inorganic particles (d1) not subjected to the hydrophobic treatment and the inorganic particles (d2) subjected to the hydrophobic treatment .
The hydrophobic treatment means that inorganic particles (d1) covered with hydroxyl groups (OH groups) and hydrophilic are reacted with organic substances that react with the OH groups, that is, alcohols having 1 to 20 carbon atoms, organic silyl compounds, organic acids. The hydrophobic modification treatment is performed with one or more selected from organic amines.

炭素数1〜20のアルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、線形または枝状ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノールなどを例示できる。好ましいのは、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールの一種以上である。   Examples of the alcohol having 1 to 20 carbon atoms include methanol, ethanol, propanol, butanol, linear or branched pentanol, hexanol, heptanol, octanol, nonanol, decanol and the like. Preference is given to one or more of methanol, ethanol, propanol and butanol.

有機シリル化合物としては、例えば、シリカ[テトラアルコキシシラン類(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどのテトラC1−4アルコキシシラン又はそのオリゴマー)など反応基を有し、不飽和二重結合を主鎖または末端に有する反応性シラン誘導体、カップリング剤(シランカップリング剤、チタンカップリング剤など)、ポリオルガノシロキサンなどが挙げられる。
シランカップリング剤としては、加水分解によってシラノール基を生じるものが使用でき、例えば、アルコキシシラン化合物として、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシランが挙げられる。またクロロシランとして、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシランなどが挙げられる。さらには、ビニル基を含有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、エポキシ基を含有する3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシ基を含有する3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランを挙げることができる。
これらの中でも、発光ダイオード(LED)チップ用の場合、塩素基や芳香族基をもたない、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシランなどのアルコキシシラン化合物が好ましい。
The organic silyl compound, for example, silica [tetraalkoxysilanes have (tetramethoxysilane, tetra C 1-4 alkoxysilane or its oligomer, such as tetraethoxysilane) and the like reactive group, unsaturated double bond backbone Alternatively, a reactive silane derivative having a terminal, a coupling agent (such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent), or a polyorganosiloxane may be used.
As the silane coupling agent, those that generate a silanol group by hydrolysis can be used. For example, as an alkoxysilane compound, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldisilane. Examples include ethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, and decyltriethoxysilane. Examples of chlorosilane include methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, phenyltrichlorosilane, and diphenyldichlorosilane. Furthermore, vinyltrimethoxysilane containing vinyl group, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane containing epoxy group, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-containing methacryloxy group Mention may be made of methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltriethoxysilane.
Among these, for light-emitting diode (LED) chips, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxy have no chlorine group or aromatic group. Alkoxysilane compounds such as silane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, and decyltriethoxysilane are preferred.

ポリオルガノシロキサンとしては、例えば、ポリジアルキルシロキサン(例えば、ポリジメチルシロキサン(ジメチコン)などのポリジC1−10アルキルシロキサン、好ましくはポリジC1−4アルキルシロキサン)、ポリアルキルアルケニルシロキサン(例えば、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリC1−10アルキルC2−10アルケニルシロキサン)、ポリアルキルアリールシロキサン(例えば、ポリメチルフェニルシロキサンなどのポリC1−10アルキルC6−20アリールシロキサン、好ましくはポリC1−4アルキルC6−10アリールシロキサン)、ポリジアリールシロキサン(例えば、ポリジフェニルシロキサンなどのポリジC6−20アリールシロキサン)、ポリアルキルハイドロジェンシロキサン(例えば、ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどのポリC1−10アルキルハイドロジェンシロキサン)、オルガノシロキサン共重合体(例えば、ジメチルシロキサン−メチルビニルシロキサン共重合体、ジメチルシロキサン−メチルフェニルシロキサン共重合体、ジメチルシロキサン−メチルビニルシロキサン−メチルフェニルシロキサン共重合体、ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体(ジメチコン/メチコンコポリマー)など)、変性ポリオルガノシロキサン[前記ポリオルガノシロキサンに対応する変性ポリオルガノシロキサン、例えば、ヒドロキシル変性ポリオルガノシロキサン(例えば、末端シラノールポリジメチルシロキサン、末端シラノールポリメチルフェニルシロキサン、末端ヒドロキシプロピルポリジメチルシロキサン、ポリジメチルヒドロキシアルキレンオキシドメチルシロキサンなど)、アミノ変性ポリオルガノシロキサン(例えば、末端ジメチルアミノポリジメチルシロキサン、末端アミノプロピルポリジメチルシロキサンなど)、カルボキシ変性ポリオルガノシロキサン(例えば、末端カルボキシプロピルポリジメチルシロキサンなど)]が挙げられる。 The polyorganosiloxane, for example, polydialkylsiloxane (e.g., polydiene C 1-10 alkyl siloxanes such as polydimethylsiloxane (dimethicone), preferably polydiene C 1-4 alkyl), poly alkyl alkenyl siloxane (e.g., polymethyl Poly C 1-10 alkyl C 2-10 alkenyl siloxanes such as vinyl siloxane), polyalkyl aryl siloxanes (eg poly C 1-10 alkyl C 6-20 aryl siloxanes such as polymethylphenyl siloxane, preferably poly C 1 1- 4 alkyl C 6-10 aryl siloxanes), polydiene aryl siloxanes (e.g., polydiene C 6-20 aryl siloxanes such as poly diphenyl siloxane), poly alkyl hydrogen siloxane (eg , Poly C 1-10 alkyl siloxane, such as polymethyl hydrogen siloxane), polyorganosiloxane copolymer (e.g., dimethylsiloxane - methylvinylsiloxane copolymer, dimethylsiloxane - methylphenylsiloxane copolymer, dimethylsiloxane - Methylvinylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymer, dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer (dimethicone / methicone copolymer, etc.), modified polyorganosiloxane [modified polyorganosiloxane corresponding to the polyorganosiloxane, eg hydroxyl Modified polyorganosiloxane (eg, terminal silanol polydimethylsiloxane, terminal silanol polymethylphenylsiloxane, terminal hydroxypropyl) Lidimethylsiloxane, polydimethylhydroxyalkylene oxide methylsiloxane, etc.), amino-modified polyorganosiloxane (eg, terminal dimethylaminopolydimethylsiloxane, terminal aminopropylpolydimethylsiloxane), carboxy-modified polyorganosiloxane (eg, terminal carboxypropylpolysiloxane) Dimethylsiloxane, etc.)].

有機酸としては、ラウリン酸、オレイン酸、セチル酸、ステアリン酸、アスコルビン酸、パルチミン酸を有する炭素数5〜30の飽和または不飽和脂肪酸などが挙げられる。
また、有機アミンとしては、C〜C30アルキル基を有するオレイルアミン、オクタデシルアミン、ステアリルアミン、ベヘニルアミンなどのアルキルアミン、アリールアミンなどが挙げられる。ポリエチレングリコール官能アミン(例えば、ジェファミン材料)でもよい。
以上のほかに、アルキルチオール、アリールチオール、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルホスフィン酸、アリールホスフィン酸なども使用できる。
疎水性変性の処理方法は、無機粒子と上記の有機物を接触させ、物理/化学的方法により無機粒子の表面に有機物を吸着させるか、あるいは共有結合させる方法などを用いる。
Examples of the organic acid include C5-C30 saturated or unsaturated fatty acids having lauric acid, oleic acid, cetylic acid, stearic acid, ascorbic acid, and palmitic acid.
As the organic amine, oleylamine having C 1 -C 30 alkyl group, octadecylamine, stearylamine, alkyl amines such as behenyl amine and the aryl amine. It may be a polyethylene glycol functional amine (eg, a Jeffamine material).
In addition to the above, alkyl thiol, aryl thiol, alkyl carboxylic acid, aryl carboxylic acid, alkyl phosphinic acid, aryl phosphinic acid and the like can also be used.
As a treatment method for hydrophobic modification, a method of bringing inorganic particles into contact with the above organic substance and adsorbing the organic substance on the surface of the inorganic particle by a physical / chemical method, or covalent bonding is used.

本発明においては、上記無機粒子(d2)を使用すると紫外線による変色性および熱による変色性が抑制されることが解明されている。その理由は、必ずしも明確ではないが、紫外線や熱によるエネルギーが窒素元素周辺の分子結合を破壊し、着色性を生じるためと考えられる。
本発明において、無機粒子(d2)は、シリコーン化合物(A)、ビニル基を有する環状シロキサン化合物(B)、ヒドロシリル化触媒(C)からなる樹脂成分が、半導体素子基板に対して、塗布性を向上させるという機能を有する。すなわち、無機粒子(d2)は、表面に有機物に由来する炭化水素残基を有するので、それが樹脂成分や被着面、無機粒子(d1)との水素結合を進展させないため、塗布性の経時変化を抑制させる。少な過ぎると塗布性を悪化させ、多すぎると接着強度や浸み出しへ悪影響を与える場合がある。
In the present invention, it has been elucidated that the use of the inorganic particles (d2) suppresses discoloration caused by ultraviolet rays and discoloration caused by heat. The reason for this is not necessarily clear, but it is considered that energy by ultraviolet rays or heat breaks molecular bonds around the nitrogen element and causes coloration.
In the present invention, the inorganic particles (d2) are coated with a resin component comprising a silicone compound (A), a cyclic siloxane compound (B) having a vinyl group, and a hydrosilylation catalyst (C) on a semiconductor element substrate. It has a function of improving. That is, since the inorganic particle (d2) has a hydrocarbon residue derived from an organic substance on the surface thereof, it does not progress hydrogen bonding with the resin component, the adherend surface, and the inorganic particle (d1), so that the coating property is deteriorated over time. Suppress changes. If the amount is too small, the applicability may be deteriorated. If the amount is too large, the adhesive strength and oozing may be adversely affected.

無機粒子(d2)の添加量は、無機フィラー(D)の20〜80wt%とする。これは添加量が少なくて20wt%未満であると、相対的に無機粒子(d1)の添加量が増え塗布性に悪影響を与え、一方、80wt%より多いと、疎水性変性の処理によるコストが無視できないだけでなく、接着強度の上昇が小さく、粘度が高く塗布性が悪化するという問題があるためである。好ましい含有量は20〜70wt%であり、さらには20〜60wt%の範囲である。
上記各成分を所定量含有した本発明のシリコーン樹脂組成物は、室温(25℃)で良好な流動性、すなわち塗布性を有しており、ハンドリング性に優れている。しかも、以下の実施例に示すように、大気中150℃で120分経過後の熱重量減少が小さく、高温での保存安定性に優れている。
The addition amount of the inorganic particles (d2) is 20 to 80 wt% of the inorganic filler (D). If the addition amount is small and less than 20 wt%, the addition amount of inorganic particles (d1) is relatively increased and the coating property is adversely affected. On the other hand, if the addition amount is more than 80 wt%, the cost of the hydrophobic modification treatment is increased. This is because not only cannot be ignored, but the increase in adhesive strength is small, the viscosity is high, and the applicability deteriorates. A preferable content is 20 to 70 wt%, and further ranges from 20 to 60 wt%.
The silicone resin composition of the present invention containing a predetermined amount of each of the above components has good fluidity, that is, applicability at room temperature (25 ° C.), and is excellent in handling properties. Moreover, as shown in the following examples, the thermal weight loss after 120 minutes at 150 ° C. in the atmosphere is small, and the storage stability at high temperature is excellent.

2.ケイ素含有硬化物
本発明のケイ素含有硬化物は、上記のシリコーン樹脂組成物を加熱することにより硬化させた硬化物である。
シリコーン樹脂組成物の硬化反応は、本発明のシリコーン樹脂組成物の配合成分を別々に用意して使用直前に混合する方法、あらかじめ配合成分の全部を混合しておき硬化反応を行うときに加熱などにより硬化する方法があり、いずれの方法で行ってもよい。
加熱硬化温度は、配合成分の種類や量によっても異なるが、35〜350℃が好ましく、50〜250℃がより好ましい。また、硬化時間も配合成分の種類や量によっても異なるが、0.01〜10時間が好ましく、0.05〜6時間がより好ましい。
2. Silicon-containing cured product The silicon-containing cured product of the present invention is a cured product obtained by curing the above-described silicone resin composition.
The curing reaction of the silicone resin composition is a method in which the compounding components of the silicone resin composition of the present invention are separately prepared and mixed immediately before use, and all the compounding components are mixed in advance and heated when performing the curing reaction. There is a method of curing by, and any method may be used.
The heat curing temperature varies depending on the type and amount of the blending component, but is preferably 35 to 350 ° C, more preferably 50 to 250 ° C. Moreover, although hardening time changes also with the kind and quantity of a compounding component, 0.01 to 10 hours are preferable and 0.05 to 6 hours are more preferable.

本発明のシリコーン樹脂組成物を硬化反応することにより、高接着性、耐熱性、耐光性に優れ、熱重量減少が小さいという優れた性能を有する硬化物を得ることができる。   By curing reaction of the silicone resin composition of the present invention, it is possible to obtain a cured product having excellent performance such as high adhesiveness, heat resistance, light resistance, and small thermal weight loss.

本発明における(A)成分のシリコーン化合物は、1分子中に2個以上のSi−H基を有する化合物である(a1)成分と、脂環構造とエーテル基を有する不飽和化合物である(a2)成分とをヒドロシリル化反応して得られるプレポリマーであるため、これを樹脂組成物の配合成分とすることで低沸点物が排除されるので、硬化反応時にアウトガス成分が極めて少ないケイ素含有硬化物となる。
また、本発明では(a2)成分が脂環構造であるので硬化収縮が小さく、エーテル基を有するので可撓性があることから、高温での耐熱性に優れる硬化物となる。さらに、本発明に係る(a1)成分が環状シロキサン化合物であるため、鎖状化合物の場合に比べて硬化物の物理的強度(剛直性)、耐クラック性等が向上する。
それは、以下の実施例に示されており、室温での接着強度だけでなく、250℃に加熱した状態で測定される熱間接着強度も高く、硬化物を150℃のオーブンに1500時間放置したときの透過率の低下が小さく耐熱性にも優れている。また、硬化物に340nmを超える波長の光を照射したとき、400nmの透過率の低下率が小さく耐光性にも優れている。
また、本発明においては、バンドギャップエネルギーが2.8eV以上、かつ屈折率が1.2〜1.8の無機粒子(d1)に対して、疎水性処理を施した無機粒子(d2)を特定量含有しており、この無機粒子(d2)が、シリコーン化合物(A)、ビニル基を有する環状シロキサン化合物(B)、ヒドロシリル化触媒(C)からなる樹脂成分を、半導体素子基板に対して、塗布しやすくし、接着強度を向上させている。
The silicone compound of component (A) in the present invention is a component (a1) that is a compound having two or more Si-H groups in one molecule, and an unsaturated compound having an alicyclic structure and an ether group (a2 ) Is a prepolymer obtained by hydrosilylation reaction with a component, and by using this as a blending component of the resin composition, low-boiling substances are eliminated, so that a silicon-containing cured product with very little outgas component during the curing reaction It becomes.
Further, in the present invention, since the component (a2) has an alicyclic structure, curing shrinkage is small, and since it has an ether group, it is flexible, so that it becomes a cured product having excellent heat resistance at high temperatures. Furthermore, since the component (a1) according to the present invention is a cyclic siloxane compound, the physical strength (rigidity), crack resistance and the like of the cured product are improved as compared with the case of a chain compound.
It is shown in the following examples, and not only the adhesive strength at room temperature but also the high hot adhesive strength measured when heated to 250 ° C., the cured product was left in an oven at 150 ° C. for 1500 hours. When the transmittance is small, heat resistance is excellent. Further, when the cured product is irradiated with light having a wavelength exceeding 340 nm, the decrease rate of the transmittance at 400 nm is small and the light resistance is excellent.
Further, in the present invention, the inorganic particles (d2) obtained by subjecting the inorganic particles (d1) having a band gap energy of 2.8 eV or more and a refractive index of 1.2 to 1.8 to hydrophobic treatment are specified. The inorganic particles (d2) contain a resin component composed of a silicone compound (A), a cyclic siloxane compound having a vinyl group (B), and a hydrosilylation catalyst (C), with respect to the semiconductor element substrate. It is easy to apply and improves the adhesive strength.

3.半導体素子
本発明の半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物は、青色や白色発光ダイオード(LED)チップなどの接着剤として使用でき、半導体素子の封止樹脂としても使用することができる。
現在、一般的な青色や白色LEDでは基板がサファイアであり、その基板の上にGaN層などを堆積させている。一般的にサファイアは絶縁体なので上下導通できず、上面のGaN層から2つの電極を取っている。
LEDチップは、リードフレームに接着させる必要があるが、上記理由により接着剤に導電性は必要ない。透明であれば、下面に発光した光が透明接着剤を透過しリードフレーム面で反射させ、その光も外部に出力でき外部量子効率の上昇を図ることができる。同時にLEDの封止樹脂としてシリコーン樹脂組成物を使用すれば、熱膨張係数なども同じなので接着剤と封止樹脂の界面で剥離することを抑制することが期待できる。
3. Semiconductor Element The silicone resin composition for adhering a semiconductor element of the present invention can be used as an adhesive for blue or white light emitting diode (LED) chips, and can also be used as a sealing resin for semiconductor elements.
At present, in general blue and white LEDs, the substrate is sapphire, and a GaN layer or the like is deposited on the substrate. Generally, since sapphire is an insulator, it cannot conduct vertically, and two electrodes are taken from the GaN layer on the upper surface.
The LED chip needs to be bonded to the lead frame, but the conductive material is not required for the adhesive for the above reason. If it is transparent, the light emitted from the lower surface passes through the transparent adhesive and is reflected by the lead frame surface, and the light can also be output to the outside, thereby increasing the external quantum efficiency. At the same time, if a silicone resin composition is used as an LED sealing resin, the thermal expansion coefficient and the like are the same, so that it can be expected to suppress peeling at the interface between the adhesive and the sealing resin.

以下に実施例、比較例を用いて本発明を具体的に示すが、本発明は、これらによって何ら限定されるものではない。なお、用いた原材料は次の通りである。   Hereinafter, the present invention will be specifically described using Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. The raw materials used are as follows.

シリコーン化合物は、特許文献5(特開2009−280747)に記載の要領で環状シロキサン化合物(a1)とビニルオキシ基又はアリルオキシ基を有する脂環式不飽和化合物(a2)とをヒドロシリル化して、下記のものを製造した。
シリコーン化合物(A):ヒドロシリル基の濃度が5.0mmol/g、重量平均分子量が150,000、重量平均分子量とSi−H基の含有量から得られた1分子あたりのSi−H基の数は750であった。
ビニル基を有する環状シロキサン化合物(B):2,4,6,8−テトラメチル−2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサンを用いた。
ヒドロシリル化触媒(C):白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体を使用した。なお、シリコーン化合物(A)にヒドロシリル化触媒(C)が0.003%含有している。
The silicone compound is obtained by hydrosilylating a cyclic siloxane compound (a1) and an alicyclic unsaturated compound (a2) having a vinyloxy group or an allyloxy group in the manner described in Patent Document 5 (Japanese Patent Laid-Open No. 2009-280747). Things were manufactured.
Silicone compound (A): Hydrosilyl group concentration of 5.0 mmol / g, weight average molecular weight of 150,000, number of Si—H groups per molecule obtained from weight average molecular weight and Si—H group content Was 750.
Cyclic siloxane compound (B) having a vinyl group: 2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane was used.
Hydrosilylation catalyst (C): A platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex was used. The silicone compound (A) contains 0.003% of the hydrosilylation catalyst (C).

無機フィラー(d1)A:市販の二酸化珪素粉末(株式会社トクヤマ製、商品名:レオロシール)。バンドギャップエネルギーが2.8eV以上、平均粒径0.05μmの白色粉末を使用した。
無機フィラー(d1)B:市販の酸化アルミニウム粉末(日本アエロジル株式会社製、商品名:AEROXIDE)。バンドギャップエネルギーが2.8eV以上、平均粒径0.03μmの白色粉末を使用した。
無機フィラー(d1)C:市販の酸化チタン粉末(日本アエロジル株式会社製、商品名:AEROXIDE)。バンドギャップエネルギーが2.8eV以上、平均粒径0.08μmの白色粉末を使用した。
Inorganic filler (d1) A: Commercially available silicon dioxide powder (manufactured by Tokuyama Corporation, trade name: Leolo Seal). A white powder having a band gap energy of 2.8 eV or more and an average particle diameter of 0.05 μm was used.
Inorganic filler (d1) B: Commercially available aluminum oxide powder (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name: AEROXIDE). A white powder having a band gap energy of 2.8 eV or more and an average particle size of 0.03 μm was used.
Inorganic filler (d1) C: Commercially available titanium oxide powder (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name: AEROXIDE). A white powder having a band gap energy of 2.8 eV or more and an average particle size of 0.08 μm was used.

無機フィラー(d2)D:市販の二酸化珪素粉末の疎水化処理物(処理剤として、ジメチルジエトキシシランを使用)。バンドギャップエネルギーが2.8eV以上、平均粒径0.05μmの白色粉末を使用した。
無機フィラー(d2)E:市販の酸化アルミニウム粉末の疎水化処理物(処理剤として、ジメチルジエトキシシランを使用)。バンドギャップエネルギーが2.8eV以上、平均粒径0.03μmの白色粉末を使用した。
無機フィラー(d2)F:市販の酸化チタン粉末の疎水化処理物(処理剤として、ジメチルジエトキシシランを使用)。バンドギャップエネルギーが2.8eV以上、平均粒径0.08μmの白色粉末を使用した。
Inorganic filler (d2) D: Hydrophobized treated product of commercially available silicon dioxide powder (using dimethyldiethoxysilane as a treating agent). A white powder having a band gap energy of 2.8 eV or more and an average particle diameter of 0.05 μm was used.
Inorganic filler (d2) E: Hydrophobized product of commercially available aluminum oxide powder (dimethyldiethoxysilane is used as a treating agent). A white powder having a band gap energy of 2.8 eV or more and an average particle size of 0.03 μm was used.
Inorganic filler (d2) F: Hydrophobized treated product of commercially available titanium oxide powder (dimethyldimethylsilane is used as a treating agent). A white powder having a band gap energy of 2.8 eV or more and an average particle size of 0.08 μm was used.

また、シリコーン樹脂組成物および、その硬化物の評価項目、評価方法は次の通りである。
<接着強度>
ステンレス基板上にシリコーン樹脂組成物を滴下し、1.5mm角のシリコンチップを載せ、150℃のオーブン中に120分間放置して硬化させた。室温まで冷却した後、上記アルミナ基板に対し水平方向から上記シリコンチップに力を加え、該シリコンチップが剥がれた時の力を接着強度として測定した。接着強度は35N以上であれば合格とした。
<熱間強度>
ステンレス基板の上にシリコーン樹脂組成物を滴下し、1.5mm角のシリコンチップを載せ、150℃のオーブン中に120分間放置して硬化させた。室温まで冷却した後、250℃に加熱してあるホットプレート上に上記Cu基板を20秒間放置し、加熱したまま、該ステンレス基板に対して水平方向から上記シリコンチップに力を加え、該シリコンチップが剥がれた時の力を熱間強度として測定した。熱間強度は5N以上であれば合格とした。
Moreover, the evaluation item and evaluation method of a silicone resin composition and its hardened | cured material are as follows.
<Adhesive strength>
The silicone resin composition was dropped onto a stainless steel substrate, a 1.5 mm square silicon chip was placed, and allowed to cure in an oven at 150 ° C. for 120 minutes. After cooling to room temperature, force was applied to the silicon chip from the horizontal direction with respect to the alumina substrate, and the force when the silicon chip was peeled was measured as adhesive strength. If the adhesive strength was 35N or more, it was determined to be acceptable.
<Hot strength>
The silicone resin composition was dropped onto a stainless steel substrate, a 1.5 mm square silicon chip was placed on the stainless steel substrate, and left in an oven at 150 ° C. for 120 minutes to be cured. After cooling to room temperature, the Cu substrate is allowed to stand for 20 seconds on a hot plate heated to 250 ° C., and the silicon chip is pressed from the horizontal direction with respect to the stainless steel substrate while being heated. The force at the time of peeling was measured as the hot strength. If the hot strength was 5N or more, it was considered acceptable.

<初期透過率>
厚さ1mmの硬化物の400nmの透過率を分光光度計を用いて測定した。その際、初期透過率が90%以上の場合:◎、80%以上の場合:○、60%以上の場合:△、60%以下の場合:×とした。
<耐熱性>
厚さ1mmの硬化物を150℃のオーブンに1500時間放置し、400nmの透過率を分光光度計を用いて測定した。その際、初期からの透過率の低下率が5%未満の場合:◎、10%未満の場合:○、10〜20%未満の場合:△、20%以上の場合:×とした。
<耐光性>
厚さ1mmの硬化物に高圧水銀ランプに340nm以下をカットするフィルターを装着し、100mW/cmで24時間照射し、400nmの透過率を分光光度計を用いて測定した。その際、初期からの低下率が5%未満の場合:◎、10%未満の場合:○、10〜40%未満の場合:△、40%以上の場合:×とした。
<Initial transmittance>
The transmittance of 400 nm of the cured product having a thickness of 1 mm was measured using a spectrophotometer. At that time, the initial transmittance was 90% or more: ◎, 80% or more: ◯, 60% or more: Δ, 60% or less: x.
<Heat resistance>
The cured product having a thickness of 1 mm was left in an oven at 150 ° C. for 1500 hours, and the transmittance at 400 nm was measured using a spectrophotometer. At that time, when the rate of decrease in transmittance from the initial stage was less than 5%: ◎, less than 10%: ◯, less than 10-20%: Δ, 20% or more: x.
<Light resistance>
The cured product having a thickness of 1 mm was equipped with a high-pressure mercury lamp fitted with a filter that cuts 340 nm or less, irradiated with 100 mW / cm 2 for 24 hours, and the transmittance at 400 nm was measured using a spectrophotometer. At that time, when the rate of decrease from the initial stage was less than 5%: ◎, less than 10%: ◯, less than 10-40%: Δ, 40% or more: x.

<塗布性>
シリンジ中に充填した樹脂組成物を、シリンジ吐出口に取り付けた内径0.2mmのニードルから25点連続で吐出した。その際、円錐状もしくは半球形状になっているものは「○」、糸を引いて隣の点と触れたり、隣の点に線状で伸びてしまったり、また円錐状の角が高くなって2mm以上になるものが3点以上あった場合は「×」とした。
<浸み出し>
アルミナ基板上にシリコーン樹脂組成物を滴下し、1.5mm角のシリコンチップを載せ、150℃のオーブン中に120分間放置して硬化させた。室温まで冷却した後、上記アルミナ基板のシリコーン樹脂組成物を実体顕微鏡で観察し、浸み出しが観られているか確認した。浸み出しが認められなかった場合:○、浸み出しが認められた場合:×とした。
<総合評価>
得られたサンプルについて、接着強度、熱間強度、初期透過率、耐光性試験後、耐熱性試験後、塗布性、浸み出しについて調べた結果、接着強度は35N以上、熱間強度は5N以上、初期透過率、耐光性試験後、耐熱性試験後が「◎」、塗布性は「○」、浸み出しは「○」となったもののみ、総合評価を「○」とし、どれか一つでも満たさない特性があった場合は、「×」とした。
<Applicability>
The resin composition filled in the syringe was discharged continuously at 25 points from a needle having an inner diameter of 0.2 mm attached to the syringe discharge port. At that time, the one that is conical or hemispherical is “○”, pulls the thread and touches the adjacent point, extends linearly to the adjacent point, and the conical corner becomes higher When there were 3 or more points that were 2 mm or more, it was determined as “x”.
<Leaching>
The silicone resin composition was dropped onto an alumina substrate, a 1.5 mm square silicon chip was placed on the alumina substrate, and allowed to cure in an oven at 150 ° C. for 120 minutes. After cooling to room temperature, the silicone resin composition of the alumina substrate was observed with a stereomicroscope to confirm whether leaching was observed. When exudation was not recognized: ○, when exudation was observed: x.
<Comprehensive evaluation>
About the obtained sample, adhesive strength, hot strength, initial transmittance, after light resistance test, after heat resistance test, as a result of examining applicability and seepage, adhesive strength is 35 N or more, hot strength is 5 N or more , After initial light transmittance, light resistance test, after heat resistance test, "◎", applicability is "○", exudation is "○", overall evaluation is "○", one of which When there was a characteristic that did not satisfy any one, “x” was assigned.

(実施例1〜8)
表1の重量割合に従って各原料を配合し、3本ロール型混練機で混練することにより、本発明のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製した。このシリコーン樹脂組成物のサンプルを用い、前記の要領で硬化物を作製し、性能を評価した。得られた結果を表1に併記した。
なお、実施例1は、特許文献4(特開2009−280747)に記載の要領で製造したシリコーン化合物(A)、環状シロキサン化合物(B)、およびヒドロシリル化触媒(C)を使用し、シリコーン化合物(A)100重量部に対して、環状シロキサン化合物を10重量部、無機フィラー(d1)Aを4.7重量部、疎水化処理した無機フィラー(d2)Dを7重量部配合した。
また、実施例2は、疎水化処理した無機フィラー(d2)Dを本発明の範囲内で増やし、9.4重量部とし、無機フィラー(d1)Aを2.3重量部に減らした以外は実施例1と同様にして本発明のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製した。実施例3は、疎水化処理した無機フィラー(d2)Dを本発明の範囲内で減らし、2.3重量部とし、無機フィラー(d1)Aを9.4重量部に増やした以外は実施例1と同様にして本発明のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製した。
また、実施例4は、疎水化処理した無機フィラー(d2)D、無機フィラー(d1)Aをともに本発明の範囲内で減らしたとした以外は実施例1と同様にして本発明のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製した。実施例5は、疎水化処理した無機フィラー(d2)D、無機フィラー(d1)Aをともに本発明の範囲内で増やした以外は実施例1と同様にして本発明のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製した。
また、実施例6〜7は、疎水化処理した無機フィラー(d2)Dの代わりに、疎水化処理した無機フィラー(d2)E、あるいは疎水化処理した無機フィラー(d2)Fを用い、かつ無機フィラー(d1)Aの代わりに、無機フィラー(d1)B,あるいは無機フィラー(d1)Cを用いて実施例1と同様にして本発明のシリコーン樹脂組成物を作製した。さらに、実施例8は、無機フィラー(d1)Aの代わりに、無機フィラー(d1)Cを用いて実施例1と同様にして本発明のシリコーン樹脂組成物を作製した。
(Examples 1-8)
Samples of the silicone resin composition of the present invention were prepared by blending the respective raw materials according to the weight ratios in Table 1 and kneading with a three-roll kneader. Using a sample of this silicone resin composition, a cured product was prepared as described above, and the performance was evaluated. The obtained results are also shown in Table 1.
In addition, Example 1 uses the silicone compound (A), the cyclic siloxane compound (B), and the hydrosilylation catalyst (C) produced in the manner described in Patent Document 4 (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2009-280747). (A) 10 parts by weight of the cyclic siloxane compound, 4.7 parts by weight of the inorganic filler (d1) A, and 7 parts by weight of the hydrophobized inorganic filler (d2) D were blended with 100 parts by weight.
Further, in Example 2, the hydrophobized inorganic filler (d2) D was increased within the scope of the present invention to 9.4 parts by weight, and the inorganic filler (d1) A was reduced to 2.3 parts by weight. A sample of the silicone resin composition of the present invention was produced in the same manner as in Example 1. In Example 3, the inorganic filler (d2) D subjected to the hydrophobization treatment was reduced within the scope of the present invention to 2.3 parts by weight, and the inorganic filler (d1) A was increased to 9.4 parts by weight. In the same manner as in Example 1, a sample of the silicone resin composition of the present invention was produced.
Further, in Example 4, the silicone resin composition of the present invention was the same as in Example 1 except that both the inorganic filler (d2) D and the inorganic filler (d1) A that were hydrophobized were reduced within the scope of the present invention. A sample of the object was made. Example 5 is a sample of the silicone resin composition of the present invention in the same manner as in Example 1 except that both the inorganic filler (d2) D and the inorganic filler (d1) A subjected to hydrophobic treatment were increased within the scope of the present invention. Was made.
In Examples 6-7, instead of the hydrophobic treated inorganic filler (d2) D, the hydrophobic treated inorganic filler (d2) E or the hydrophobic treated inorganic filler (d2) F was used. A silicone resin composition of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 using the inorganic filler (d1) B or the inorganic filler (d1) C instead of the filler (d1) A. Furthermore, Example 8 produced the silicone resin composition of this invention like Example 1 using the inorganic filler (d1) C instead of the inorganic filler (d1) A.

(比較例1〜5)
実施例1で用いたと同じシリコーン化合物(A)、環状シロキサン化合物、およびヒドロシリル化触媒からなる樹脂成分に対して、比較例1は、疎水化処理した無機フィラー(d2)Dを本発明の範囲外となるよう増やし、9.9重量部とし、無機フィラー(d1)Aを1.8重量部に減らした以外は実施例1と同様にして、比較用のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製した。比較例2は、疎水化処理した無機フィラー(d2)Dを本発明の範囲外となるよう減らし、1.8重量部とし、無機フィラー(d1)Aを9.9重量部に増やした以外は実施例1と同様にして、比較用のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製した。
また、比較例3は、疎水化処理した無機フィラー(d2)D、無機フィラー(d1)Aをともに本発明の範囲外になるよう減らした以外は実施例1と同様にして、比較用のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製し、比較例4は、疎水化処理した無機フィラー(d2)D、無機フィラー(d1)Aをともに本発明の範囲外となるよう増やし、比較例5は、疎水化処理した無機フィラー(d2)D、無機フィラー(d1)Aをともに配合せず、比較用のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製した。
そして、これらシリコーン樹脂組成物のサンプルを用い、前記の要領で硬化物を作製し、性能を評価した。得られた結果を表1に併記した。表3に、参考までに無機フィラーとシランカップリング剤の含有比率の関係を示した。
(Comparative Examples 1-5)
In contrast to the resin component consisting of the same silicone compound (A), cyclic siloxane compound, and hydrosilylation catalyst as used in Example 1, Comparative Example 1 excluded the hydrophobic filler inorganic filler (d2) D from the scope of the present invention. A sample of a comparative silicone resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the content was increased to 9.9 parts by weight and the inorganic filler (d1) A was reduced to 1.8 parts by weight. In Comparative Example 2, the inorganic filler (d2) D subjected to the hydrophobization treatment was reduced to be out of the scope of the present invention, 1.8 parts by weight, and the inorganic filler (d1) A was increased to 9.9 parts by weight. A sample of a comparative silicone resin composition was prepared in the same manner as in Example 1.
Comparative Example 3 is a comparative silicone as in Example 1, except that both the hydrophobic treated inorganic filler (d2) D and inorganic filler (d1) A are reduced outside the scope of the present invention. A sample of the resin composition was prepared. In Comparative Example 4, the inorganic filler (d2) D and the inorganic filler (d1) A that were hydrophobized were both increased outside the scope of the present invention, and Comparative Example 5 was hydrophobized. A sample of a comparative silicone resin composition was prepared without blending the treated inorganic filler (d2) D and inorganic filler (d1) A.
And the cured | curing material was produced in the said way using the sample of these silicone resin compositions, and performance was evaluated. The obtained results are also shown in Table 1. Table 3 shows the relationship between the content ratios of the inorganic filler and the silane coupling agent for reference.

(比較例6〜10)
実施例1のシリコーン樹脂組成物に代えて、比較例6は、汎用エポキシ樹脂接着剤として住友金属鉱山社製T−3925を用いた。この汎用エポキシ樹脂接着剤には、疎水化処理した無機フィラー(d2)D、無機フィラー(d1)Aが本発明相当分含まれているが、シリコーン樹脂は含まれていない。
また、比較例7は、汎用シリコーン樹脂接着剤として信越化学社製の汎用品(KER−3000M2)を用いた。この汎用シリコーン樹脂接着剤には、樹脂成分100重量部に対して、無機フィラーおよびシランカップリング剤を添加していない。さらに、比較例8は汎用シリコーン樹脂接着剤に実施例1と同じく、疎水化処理した無機フィラー(d2)D、無機フィラー(d1)Aを添加したサンプルを作製した。これらの汎用シリコーン樹脂接着剤は、本発明のシリコーン化合物(A)とは異なる構造である。実施例と同一の上記評価条件で評価し、得られた評価結果は、表2に併記した。
さらに、比較例9は、実施例1に対して、疎水化処理した無機フィラー(d2)Dを使用せず、無機フィラー(d1)Bを7重量部配合し、比較例10は、疎水化処理した無機フィラー(d2)Dを使用せず、無機フィラー(d1)Cを11.7重量部配合し、比較用のシリコーン樹脂組成物のサンプルを作製した。
(Comparative Examples 6 to 10)
Instead of the silicone resin composition of Example 1, Comparative Example 6 used T-3925 manufactured by Sumitomo Metal Mining as a general-purpose epoxy resin adhesive. This general-purpose epoxy resin adhesive contains hydrophobic filler-treated inorganic filler (d2) D and inorganic filler (d1) A corresponding to the present invention, but does not contain silicone resin.
In Comparative Example 7, a general-purpose product (KER-3000M2) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used as a general-purpose silicone resin adhesive. In this general-purpose silicone resin adhesive, an inorganic filler and a silane coupling agent are not added to 100 parts by weight of the resin component. Further, in Comparative Example 8, a sample in which the inorganic filler (d2) D and the inorganic filler (d1) A subjected to the hydrophobic treatment were added to the general-purpose silicone resin adhesive in the same manner as in Example 1. These general-purpose silicone resin adhesives have a structure different from that of the silicone compound (A) of the present invention. Evaluation was performed under the same evaluation conditions as in the Examples, and the obtained evaluation results are shown in Table 2.
Further, Comparative Example 9 was not used for the inorganic filler (d2) D subjected to the hydrophobic treatment with respect to Example 1, and 7 parts by weight of the inorganic filler (d1) B was blended. Comparative Example 10 was a hydrophobic treatment. The inorganic filler (d2) D was not used and 11.7 parts by weight of the inorganic filler (d1) C was blended to prepare a comparative silicone resin composition sample.

Figure 0006048212
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Figure 0006048212
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「評価」
上記結果を示す表1から、実施例は本発明のシリコーン樹脂組成物を用いており、シリコーン樹脂成分に対して、無機フィラーを特定量配合しており、その一部が疎水化処理した無機粒子から構成されているので、全ての性能評価が優れており、総合評価が合格となっている。
これに対して、表2から分かるように、比較例では本発明のシリコーン樹脂組成物とは、無機フィラーと疎水化処理した無機粒子の配合量が異なるか、本発明に係るシリコーン樹脂成分を用いていないので、いずれかの性能評価が悪くなり、総合評価が不合格となっている。
"Evaluation"
From Table 1 showing the above results, the examples use the silicone resin composition of the present invention, a specific amount of an inorganic filler is blended with the silicone resin component, and some of the particles are hydrophobized. Therefore, all the performance evaluations are excellent and the comprehensive evaluation is acceptable.
On the other hand, as can be seen from Table 2, in the comparative example, the silicone resin composition of the present invention is different from the amount of inorganic filler and hydrophobized inorganic particles, or the silicone resin component according to the present invention is used. As a result, one of the performance evaluations deteriorates and the overall evaluation fails.

すなわち、比較例1は、表2に示したように、疎水化処理した無機粒子を本発明の範囲外で増やしたので、浸み出しが生じた。比較例2は、疎水化処理した無機粒子を本発明の範囲外で減らしたので、塗布性が要求を満たしていない。比較例3は、無機フィラーと疎水化処理した無機粒子を本発明の範囲外でともに減らしたので、塗布性が要求を満たさず、しみだしも生じた。比較例4は、無機フィラーと疎水化処理した無機粒子をともに増やし本発明の範囲外としたので、塗布性が要求を満たしていない。比較例5は、無機フィラー及びシランカップリング剤を含まないので、塗布性が要求を満たさず、浸み出しも生じた。   That is, in Comparative Example 1, as shown in Table 2, since the inorganic particles subjected to the hydrophobization treatment were increased outside the scope of the present invention, leaching occurred. Since the comparative example 2 reduced the inorganic particle hydrophobized outside the range of this invention, the applicability | paintability does not satisfy | fill a request | requirement. In Comparative Example 3, the inorganic filler and the inorganic particles subjected to the hydrophobization treatment were both reduced outside the scope of the present invention, so that the applicability did not satisfy the requirements, and oozing occurred. In Comparative Example 4, both the inorganic filler and the hydrophobized inorganic particles were increased to make them outside the scope of the present invention, so that the applicability did not satisfy the requirements. Since Comparative Example 5 did not contain an inorganic filler and a silane coupling agent, the coatability did not satisfy the requirements, and leaching occurred.

比較例6は、本発明に係るシリコーン樹脂成分を用いずに、耐光性の悪い汎用エポキシ樹脂接着剤を使用したので、耐光性試験後・耐熱性試験後の性能が低下している。比較例7は、本発明に係るシリコーン樹脂成分を用いずに、汎用シリコーン樹脂接着剤を使用したので、接着強度特性が要求を満たしていない。比較例8は、汎用シリコーン樹脂接着剤に無機フィラーと疎水化処理した無機粒子を配合したが、接着強度特性が要求を満たしていない。
比較例9、10は、本発明に係るシリコーン樹脂成分に無機フィラーを配合したが、疎水化処理した無機粒子を配合しなかったので、塗布性が要求を満たしていない。
Since the comparative example 6 used the general purpose epoxy resin adhesive with bad light resistance, without using the silicone resin component which concerns on this invention, the performance after a light resistance test and a heat resistance test is falling. In Comparative Example 7, since the general-purpose silicone resin adhesive was used without using the silicone resin component according to the present invention, the adhesive strength characteristics did not satisfy the requirements. Although the comparative example 8 mix | blended the inorganic particle | grain and the inorganic particle hydrophobized in the general purpose silicone resin adhesive, the adhesive strength characteristic does not satisfy | fill a request | requirement.
In Comparative Examples 9 and 10, the inorganic filler was blended with the silicone resin component according to the present invention, but the hydrophobic particles were not blended, so the coating properties did not meet the requirements.

本発明の半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物は、青色や白色発光ダイオード(LED)チップの接着剤として、あるいは封止樹脂などとしても使用することができる。接着剤が透明であるため、基板の下面に発光した光が透明接着剤を透過しリードフレーム面で反射させ、その光も外部に出力でき外部量子効率の上昇を図ることができる。LEDの封止樹脂として使用すれば、熱膨張係数なども同じなので接着剤と封止樹脂の界面で剥離することも小さい。   The silicone resin composition for adhering semiconductor elements of the present invention can be used as an adhesive for blue or white light emitting diode (LED) chips, or as a sealing resin. Since the adhesive is transparent, light emitted on the lower surface of the substrate is transmitted through the transparent adhesive and reflected by the lead frame surface, and the light can also be output to the outside, thereby increasing the external quantum efficiency. When used as a sealing resin for LEDs, the thermal expansion coefficient and the like are the same, so peeling at the interface between the adhesive and the sealing resin is small.

Claims (6)

環状シロキサン化合物(a1)とビニルオキシ基又はアリルオキシ基を有する脂環式不飽和化合物(a2)とをヒドロシリル化して得られるシリコーン化合物(A)、ビニル基を有する環状シロキサン化合物(B)、ヒドロシリル化触媒(C)からなる樹脂成分と、無機粒子(d1)および無機粒子(d2)の混合物である無機フィラー(D)を含有する半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物であって、
無機粒子(d1)および無機粒子(d2)は、フッ化珪素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、または酸化チタンから選ばれる1種以上の同一もしくは異なる種であって、無機粒子(d1)が疎水性処理されていないのに対して、無機粒子(d2)が疎水性処理されており、前記無機フィラー(D)の含有量が、(A)成分と(B)成分および(C)成分の総和を100重量部として、0.1〜40重量部であり、無機粒子(d2)の割合が無機フィラー(D)の20〜80wt%であることを特徴とする半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物。
Silicone compound (A) obtained by hydrosilylating cyclic siloxane compound (a1) and alicyclic unsaturated compound (a2) having vinyloxy group or allyloxy group, cyclic siloxane compound (B) having vinyl group, hydrosilylation catalyst A silicone resin composition for adhering semiconductor elements, comprising a resin component comprising (C) and an inorganic filler (D) which is a mixture of inorganic particles (d1) and inorganic particles (d2) ,
Inorganic particles (d1) and inorganic particles (d2) is, silicon fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, silicon dioxide, zirconium oxide or one or more which are identical or different species selected from titanium oxide, inorganic particles ( d1) is not subjected to hydrophobic treatment, whereas inorganic particles (d2) are subjected to hydrophobic treatment, and the content of the inorganic filler (D) is (A), (B) and (C). ) Silicone for bonding semiconductor elements, characterized in that the total amount of the components is 0.1 to 40 parts by weight, and the proportion of the inorganic particles (d2) is 20 to 80 wt% of the inorganic filler (D). Resin composition.
シリコーン化合物(A)は、ヒドロシリル基の濃度が1〜10mmol/gであることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物。   2. The silicone resin composition for adhering a semiconductor element according to claim 1, wherein the silicone compound (A) has a hydrosilyl group concentration of 1 to 10 mmol / g. ヒドロシリル化触媒(C)は、白金系触媒であることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物。   The silicone resin composition for bonding a semiconductor element according to claim 1, wherein the hydrosilylation catalyst (C) is a platinum-based catalyst. 無機フィラー(D)は、バンドギャップエネルギーが2.8eV以上であり,屈折率が1.2〜1.8の無機粒子であることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物。   2. The silicone resin for bonding a semiconductor element according to claim 1, wherein the inorganic filler (D) is an inorganic particle having a band gap energy of 2.8 eV or more and a refractive index of 1.2 to 1.8. Composition. 無機粒子(d2)は、炭素数1〜20のアルコール、有機シリル化合物、有機酸、または有機アミンから選ばれる1種以上の有機物によって疎水性変性処理されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子接着用シリコーン樹脂組成物。   The inorganic particles (d2) are subjected to hydrophobic modification treatment with one or more organic substances selected from alcohols having 1 to 20 carbon atoms, organic silyl compounds, organic acids, or organic amines. The silicone resin composition for semiconductor element adhesion as described. 請求項1〜5の何れかに記載のシリコーン樹脂組成物を加熱硬化させてなるケイ素含有硬化物。   A silicon-containing cured product obtained by heat-curing the silicone resin composition according to claim 1.
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