JP6028420B2 - Hollow particles and method for producing the same - Google Patents

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Description

本発明は、中空粒子、及びそれを製造する方法に関する。より詳しくは、シリカを含有する外殻を有し、分散性に優れた中空粒子、及びそれを製造する方法に関する。 The present invention relates to hollow particles and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a hollow particle having an outer shell containing silica and excellent in dispersibility, and a method for producing the same.

中空粒子は、中実粒子と比較し比重が小さいことから、様々な用途に使用されている。特にシリカベースの中空粒子は、低誘電率性、耐熱性、断熱性、耐衝撃性、耐圧性などの特性に優れるという特徴を有する。そのため、軽量化、断熱性能、寸法安定性の付与等を目的として各種素材に添加されている。例えば軽量化目的のため、携帯電子機器や自動車などのモールディングコンパウンド等の樹脂成形部品、移動体用塗料や部材、各種建築材料などに用いられている。この他にも中空粒子は数多くの適用分野が見込まれている。 Since hollow particles have a lower specific gravity than solid particles, they are used in various applications. In particular, silica-based hollow particles are characterized by excellent properties such as low dielectric constant, heat resistance, heat insulation, impact resistance, and pressure resistance. Therefore, it is added to various materials for the purpose of weight reduction, heat insulation performance, imparting dimensional stability, and the like. For example, for the purpose of weight reduction, it is used for resin molded parts such as molding compounds for portable electronic devices and automobiles, paints and members for moving bodies, various building materials, and the like. In addition to this, hollow particles are expected to have many fields of application.

上述のように各種素材に添加する場合、中空粒子の特性を効率良く活かすために、素材中に中空粒子を均一に分散させる必要がある。しかし、中空粒子は、その構造故に中実粒子と比較して物理的強度が低いという問題がある。その結果、素材中に分散させる場合に外殻が破壊されて中空構造を維持できず、特性が低下してしまう場合がある。このような状況から、機械的強度の高い中空粒子の出現が強く要求されてきている。 When added to various materials as described above, it is necessary to uniformly disperse the hollow particles in the material in order to efficiently utilize the characteristics of the hollow particles. However, the hollow particles have a problem that their physical strength is lower than that of solid particles because of their structure. As a result, when dispersed in the material, the outer shell is broken and the hollow structure cannot be maintained, and the characteristics may be deteriorated. Under such circumstances, the appearance of hollow particles having high mechanical strength has been strongly demanded.

中空粒子及びその製造方法として、先行技術には以下のような報告がある。特許文献1には、メトキシシリケート[Si(OCH]やエトキシシリケート[Si(OC]などの有機硅素化合物と発泡材とを、混合霧化した後に加熱分解することにより、中空シリカ粉末が得られることが記載されている。 As the hollow particles and the production method thereof, there are the following reports in the prior art. In Patent Document 1, an organic silicon compound such as methoxysilicate [Si (OCH 3 ) 4 ] or ethoxysilicate [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] and a foaming material are mixed and atomized, and then thermally decomposed. It is described that a hollow silica powder can be obtained.

また、特許文献2においては、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)に、アルコール、水、及び酸触媒を加えて部分加水分解を行わせた後、フタル酸ジブチルを添加し、この溶液を界面活性剤を含んだアンモニア水溶液中で混合撹拌・乳化し、重縮合反応させることにより球状中空多孔質シリカ粒子を製造する方法が提案されている。 Moreover, in patent document 2, after adding alcohol, water, and an acid catalyst to tetraethyl orthosilicate (TEOS) and making it carry out partial hydrolysis, dibutyl phthalate is added and this solution contains surfactant. A method for producing spherical hollow porous silica particles by mixing and stirring and emulsifying in an aqueous ammonia solution and causing a polycondensation reaction has been proposed.

さらに、特許文献3においては、テトラアルコキシシランと水との間の加水分解反応及び縮重合反応により合成される、ミクロンサイズの粒径を有する球状シリカ粒子が提案されている。このシリカ粒子を構成する殻は、外側が緻密で内側ほど粗な濃度傾斜構造をもったミクロンサイズの殻である。 Furthermore, Patent Document 3 proposes spherical silica particles having a micron-size particle size that are synthesized by a hydrolysis reaction and a condensation polymerization reaction between tetraalkoxysilane and water. The shell constituting the silica particles is a micron-sized shell having a dense concentration gradient structure on the outside and coarser toward the inside.

また、特許文献4においては、特定条件下でケイ酸アルカリ金属からシリカ以外の支持体上に活性シリカを沈殿させた後、該支持体を除去することによって、緻密シリカシェルからなる中空シリカ粒子を製造する方法も提案されている。 In Patent Document 4, hollow silica particles composed of a dense silica shell are obtained by precipitating active silica on a support other than silica from an alkali metal silicate under specific conditions, and then removing the support. A manufacturing method has also been proposed.

さらに、特許文献5においては、シリカでコーティングされた炭酸カルシウムを調製し、それを水に分散し、酸を添加して炭酸カルシウムを溶解させることにより緻密なシリカ殻からなる高分散のシリカナノ中空粒子を製造する方法が提案されている。 Further, in Patent Document 5, highly dispersed silica nano hollow particles composed of a dense silica shell by preparing calcium carbonate coated with silica, dispersing it in water, and adding an acid to dissolve calcium carbonate. There has been proposed a method of manufacturing.

特開平6−91194号公報JP-A-6-91194 特許第2590428号公報Japanese Patent No. 2590428 特開平11−29318号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-29318 特許第3419787号公報Japanese Patent No. 3419787 特開2005−263550号公報JP 2005-263550 A

上記先行技術文献において得られるシリカの中空粒子は、殻が脆弱であるか、及び/又は、殻の厚みが不十分であり、その結果、物性、主に強度の面で問題があった。 The silica hollow particles obtained in the above prior art documents have a weak shell and / or an insufficient shell thickness. As a result, there are problems in physical properties, mainly strength.

例えば上記特許文献1、2、又は3に記載の方法は、気−液あるいは液−液(水相−油相)の界面でシリカを析出させる、いわゆる界面反応を利用したものである。この場合、得られるシリカ中空粒子の殻内には細孔が存在するため、脆弱なものとなる。 For example, the methods described in Patent Documents 1, 2, or 3 utilize a so-called interfacial reaction in which silica is precipitated at the gas-liquid or liquid-liquid (aqueous phase-oil phase) interface. In this case, since the pores are present in the shell of the silica hollow particles obtained, it becomes brittle.

上記特許文献4又は5に記載の方法は、シリカ以外の支持体上にシリカを沈着させ、その後支持体を除去することによりシリカの中空粒子を形成する方法である。このような方法では、得られるシリカ中空粒子の殻は緻密なものとなるが、粒子径に比べ、殻を十分に厚くすることが困難であった。特に支持体の粒子径が大きくなるに従い、その傾向が顕著となった。支持体の粒子径が大きくなるに従い殻を厚くすることが困難になる理由は次のように考えられる。支持体の粒子径が大きくなると、それに伴い粒子の比表面積は減少し、分散液中のシリカが沈着できる領域が減少する。その結果、シリカは十分に支持体上に沈着できず、遊離してしまうことが原因であると考えられた。 The method described in Patent Document 4 or 5 is a method of forming silica hollow particles by depositing silica on a support other than silica and then removing the support. In such a method, the resulting hollow silica particle shell becomes dense, but it has been difficult to make the shell sufficiently thicker than the particle diameter. In particular, the tendency became more prominent as the particle size of the support increased. The reason why it becomes difficult to increase the thickness of the shell as the particle size of the support increases is considered as follows. As the particle size of the support increases, the specific surface area of the particles decreases accordingly, and the area in which the silica in the dispersion can be deposited decreases. As a result, it was considered that the silica could not be sufficiently deposited on the support and was liberated.

また、上記特許文献4又は5に記載の方法では、支持体としてシリカ以外の材質を用いる必要があることから、その支持体の成分が残存し、中空粒子の純度が低下するという問題もあった。 Further, in the method described in Patent Document 4 or 5, since it is necessary to use a material other than silica as the support, there is a problem that the components of the support remain and the purity of the hollow particles is lowered. .

このように、従来のシリカ系中空粒子では、強度が低いという問題があり、配合時などに応力を受けると、粒子が破壊されて中空形状を維持できないという問題が存在していた。 As described above, the conventional silica-based hollow particles have a problem that the strength is low, and when subjected to stress at the time of blending, there is a problem that the particles are broken and the hollow shape cannot be maintained.

本発明は、上記課題を解決することを目的として本発明者らによって完成されたものである。すなわち、本発明の第1の態様は、外殻と、該外殻の内部に存在する中空部とを有する球状又は略球状の中空粒子であって、
上記外殻は、シリカを含有する単層構造を有し、
上記中空粒子は、
平均一次粒子径が0.3〜2.0μmであり、
水銀圧入法により測定される414MPa(60000psia)における見掛け密度が1.10〜2.09g/mLであり、
長径/短径の値が1.00〜1.03である
中空粒子に関する。
The present invention has been completed by the present inventors for the purpose of solving the above problems. That is, the first aspect of the present invention is a spherical or substantially spherical hollow particle having an outer shell and a hollow portion present in the outer shell,
The outer shell has a single layer structure containing silica,
The hollow particles are
The average primary particle size is 0.3 to 2.0 μm,
The apparent density at 414 MPa (60000 psia) measured by the mercury intrusion method is 1.10 to 2.09 g / mL,
The present invention relates to hollow particles having a major axis / minor axis value of 1.00 to 1.03.

本発明の好ましい実施形態においては、上記外殻の厚さは50〜300nmである。 In a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the outer shell is 50 to 300 nm.

本発明の別の好ましい実施形態においては、上記外殻の単層構造は、実質的にシリカのみからなる。 In another preferred embodiment of the present invention, the single-layer structure of the outer shell consists essentially of silica.

本発明の第2の態様は、外殻と、該外殻の内部に存在する中空部とを有する球状又は略球状の中空粒子を製造する方法であって、
シリカを含有する中実粒子を準備する工程(1)と
該中実粒子を600℃以上700℃未満の温度で熱処理することにより、該中実粒子の外縁に外殻の前駆体層を形成する工程(2)と
該中実粒子とアルカリ溶液とを混合することにより、該中実粒子の内部を溶解して外殻と中空部を形成する工程(3)と
を含む製造方法に関する。
A second aspect of the present invention is a method for producing a spherical or substantially spherical hollow particle having an outer shell and a hollow portion present inside the outer shell,
Step (1) of preparing solid particles containing silica and heat-treating the solid particles at a temperature of 600 ° C. or higher and lower than 700 ° C. to form a precursor layer of an outer shell on the outer edge of the solid particles The present invention relates to a production method comprising a step (2) and a step (3) of mixing the solid particles and an alkali solution to dissolve the inside of the solid particles to form an outer shell and a hollow portion.

本発明の好ましい実施形態においては、上記工程(2)において、熱処理の前に、リチウム化合物を1種以上添加する。 In preferable embodiment of this invention, 1 or more types of lithium compounds are added in the said process (2) before heat processing.

上記中実粒子は、実質的にシリカのみからなるのが好ましい。 The solid particles are preferably substantially composed only of silica.

本発明の中空状粒子は、十分な厚さの緻密なシリカ殻を有し、従来のシリカ中空粒子と比較して物理的強度が高い。そのため樹脂組成物や塗料組成物に配合した場合、混合や分散時に強い負荷を受けても中空構造が維持されるという長所がある。また本発明の中空状粒子は樹脂などのマトリクス中における分散性にも優れ、均一に分散される。このような高強度、高分散性により、シリカ中空粒子特有の低誘電率性、耐熱性、断熱性、耐衝撃性、耐圧性などの特性を活かすことができる。 The hollow particles of the present invention have a dense silica shell with a sufficient thickness, and have a higher physical strength than conventional silica hollow particles. Therefore, when blended in a resin composition or a coating composition, there is an advantage that a hollow structure is maintained even when subjected to a strong load during mixing or dispersion. Further, the hollow particles of the present invention are excellent in dispersibility in a matrix such as a resin and are uniformly dispersed. Due to such high strength and high dispersibility, characteristics such as low dielectric constant, heat resistance, heat insulation, impact resistance, and pressure resistance, which are characteristic of silica hollow particles, can be utilized.

本発明の中空状粒子の断面SEM(走査型電子顕微鏡)写真である。It is a cross-sectional SEM (scanning electron microscope) photograph of the hollow particle of this invention.

以下に、発明を実施するための最良の形態を含む本発明の実施の態様について詳細に説明するが、本発明は、それによって何ら限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて特定されるものであることはいうまでもない。 Hereinafter, embodiments of the present invention including the best mode for carrying out the invention will be described in detail. However, the present invention is not limited thereto, and is based on the description of the claims. Needless to say, it is specified.

<中空粒子>
本発明の第1の態様は、中空粒子に関する。上記中空粒子は、外殻と、該外殻の内部に存在する中空部とを有する球状又は略球状の中空粒子である。
<Hollow particles>
The first aspect of the present invention relates to hollow particles. The hollow particles are spherical or substantially spherical hollow particles having an outer shell and a hollow portion existing inside the outer shell.

上記外殻は、シリカを含有する単層構造を有する。上記外殻は、シリカを95質量%以上含んでいるのが好ましく、98質量%以上含んでいるのがより好ましく、実質的にシリカのみからなるのが特に好ましい。「実質的にシリカのみからなる」とは、上記外殻の99質量%以上がシリカから形成されており、シリカの物性に影響を与えるような量の別の成分を含まないことをいう。また外殻が100質量%シリカである(外殻がシリカのみからなる)のも好ましい。 The outer shell has a single layer structure containing silica. The outer shell preferably contains 95% by mass or more of silica, more preferably 98% by mass or more, and particularly preferably consists essentially of silica. “Substantially only composed of silica” means that 99% by mass or more of the outer shell is formed of silica and does not include an amount of another component that affects the physical properties of silica. It is also preferable that the outer shell is 100% by mass silica (the outer shell is made only of silica).

上記中空粒子は、平均一次粒子径が0.3〜2.0μmである。本願明細書において、「平均一次粒子径」は、透過型電子顕微鏡(TEM)法により特定される値を意味する。特に限定されるわけではないが、具体的には、TEMで上記中空粒子を観察し、一次粒子の数が10となる視野をランダムに5視野選択し、合計50個の一次粒子について最大径を測定する。その最大径の平均値を、平均一次粒子径とすることができる。 The hollow particles have an average primary particle size of 0.3 to 2.0 μm. In the present specification, the “average primary particle diameter” means a value specified by a transmission electron microscope (TEM) method. Although not specifically limited, specifically, the hollow particles are observed with a TEM, and five visual fields are selected at random so that the number of primary particles is 10, and the maximum diameter is set for a total of 50 primary particles. taking measurement. The average value of the maximum diameters can be the average primary particle diameter.

上記中空粒子の平均一次粒子径は、好ましくは0.4〜2.0μm、より好ましくは0.7〜1.0μmである。上記範囲内であれば、空隙の高い粒子が効率よく合成できる点で好ましい。 The average primary particle diameter of the hollow particles is preferably 0.4 to 2.0 μm, more preferably 0.7 to 1.0 μm. Within the above range is preferable in that high porosity particles can be efficiently synthesized.

本発明の上記中空粒子は、水銀圧入法により測定される、414MPa(60000psia)における見掛け密度が1.10〜2.09g/mLである。本願明細書において、「見掛け密度」とは、中空粒子の質量を、外殻の体積と中空部の体積を合わせた値で除して求められる値、[(中空粒子の質量)/(外殻及び中空部の総体積)]をいう。 The hollow particles of the present invention have an apparent density of 1.10 to 2.09 g / mL at 414 MPa (60000 psia) as measured by mercury porosimetry. In the present specification, the “apparent density” is a value obtained by dividing the mass of the hollow particles by the value of the volume of the outer shell and the volume of the hollow portion, [(mass of the hollow particles) / (outer shell] And the total volume of the hollow portion)].

水銀圧入法とは、多孔性物質の細孔を分析するための方法の一種である。この方法は、水銀の表面張力が大きいことを利用し、粉体の細孔に水銀を浸入させるために圧力を加え、かけた圧力と、圧入された水銀量から細孔分布や見掛け密度を求めることができる方法である。水銀は表面張力が高く、通常の圧力下では細孔内部に浸潤しないため、測定は加圧下で行う。本発明においては、見掛け密度は、414MPa(60000psia)の加圧下、水銀圧入法により測定した値をいう。なお、「psi」とは、重量ポンド毎平方インチ(pound per square inch)のことであり、psia(psi absolute)とは、ゲージ圧に大気圧を足した圧力を重量ポンド毎平方インチで表したものある。 The mercury intrusion method is a kind of method for analyzing pores of a porous material. This method uses the high surface tension of mercury, applies pressure to inject mercury into the pores of the powder, and determines the pore distribution and apparent density from the applied pressure and the amount of mercury injected. Is a way that can be. Since mercury has a high surface tension and does not infiltrate the pores under normal pressure, measurement is performed under pressure. In the present invention, the apparent density is a value measured by a mercury intrusion method under a pressure of 414 MPa (60000 psia). “Psi” means pound per square inch, and psia (psi absolute) means the pressure obtained by adding the atmospheric pressure to the gauge pressure in pounds per square inch. There are things.

水銀圧入法による密度は、水銀圧入式ポロシメーターを用いて測定することができる。水銀圧入式ポロシメーターの例としては、特に限定されないが、オートポアシリーズ(株式会社島津製作所製)等を挙げることができる。 The density by the mercury intrusion method can be measured using a mercury intrusion porosimeter. Although it does not specifically limit as an example of a mercury intrusion type porosimeter, Autopore series (made by Shimadzu Corporation) etc. can be mentioned.

本発明の中空粒子は、上述のように測定された見掛け密度が1.10〜2.09g/mLである。見掛け密度は、中空部の体積と相関しており、中空部が大きいほど、シリカを含む外殻層の割合が少なくなるため、見掛け密度は小さくなる。見掛け密度は、好ましくは1.10g/mL超、2.09g/mL以下であるのが好ましく、1.54g/mL超、1,98g/mL以下であるのがより好ましい。 The hollow particles of the present invention have an apparent density measured as described above of 1.10 to 2.09 g / mL. The apparent density correlates with the volume of the hollow portion, and the larger the hollow portion, the smaller the ratio of the outer shell layer containing silica, and the smaller the apparent density. The apparent density is preferably more than 1.10 g / mL and preferably not more than 2.09 g / mL, more preferably more than 1.54 g / mL and not more than 1,98 g / mL.

本発明の中空粒子は、球状又は略球状の粒子である。具体的には、透過型電子顕微鏡で観察することにより算出される中空粒子の長径/短径の値、いわゆるアスペクト比が1.00〜1.03の範囲にある。長径/短径の値が1に近づくほど、粒子は球状に近い形状を有することを意味する。粒子が球状であれば、中空粒子にかかる応力が均一に分散されることから、一般的に応力に対する抵抗性が強くなる。これに対し、長径/短径の値が高く、粒子が扁平な場合には、応力はある点に集中的にかかる可能性があることから、長径/短径の値が高い中空粒子の外殻は、球状粒子のそれに比べて割れやすい傾向がある。このように、球状粒子では樹脂等と配合した場合でも破壊されにくいことから、長径/短径の値が1.00〜1.03の範囲にあるのが有利である。 The hollow particles of the present invention are spherical or substantially spherical particles. Specifically, the value of the major axis / minor axis of the hollow particles calculated by observing with a transmission electron microscope, the so-called aspect ratio, is in the range of 1.00 to 1.03. The closer the value of major axis / minor axis is to 1, it means that the particles have a nearly spherical shape. If the particles are spherical, the stress applied to the hollow particles is uniformly dispersed, so that the resistance to the stress is generally increased. On the other hand, when the long diameter / short diameter value is high and the particles are flat, the stress may be concentrated on a certain point. Tends to break more easily than that of spherical particles. Thus, since spherical particles are difficult to break even when blended with a resin or the like, it is advantageous that the value of major axis / minor axis is in the range of 1.00 to 1.03.

長径/短径の値(アスペクト比)は、特に限定されないが、例えば次のように測定することができる。まず粒子を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察し、粒子の像を取得する。その像から粒子を任意に選択し、粒子を長方形で囲んだ時の最小長方形(通常、外接長方形と呼ばれる)を定義する。その最小長方形の長辺と、短辺の長さを測定し、その比(長辺/短辺)を算出する。 The major axis / minor axis value (aspect ratio) is not particularly limited, but can be measured, for example, as follows. First, the particles are observed with a transmission electron microscope (TEM) to obtain an image of the particles. A particle is arbitrarily selected from the image, and a minimum rectangle (usually called a circumscribed rectangle) when the particle is surrounded by a rectangle is defined. The length of the minimum rectangle and the length of the short side are measured, and the ratio (long side / short side) is calculated.

本発明の中空粒子は、好ましくは、空隙率が5vol%以上、50vol%以下である。空隙率は、より好ましくは、5vol%以上、50vol%未満であり、さらに好ましくは、10vol%以上、30vol%未満である。上記範囲であれば、中空構造による利点を保ちつつ、粒子の強度も十分である点で好ましい。 The hollow particles of the present invention preferably have a porosity of 5 vol% or more and 50 vol% or less. The porosity is more preferably 5 vol% or more and less than 50 vol%, and still more preferably 10 vol% or more and less than 30 vol%. If it is the said range, it is preferable at the point which the intensity | strength of particle | grains is enough, maintaining the advantage by a hollow structure.

空隙率とは、中空粒子の体積に占める中空部の体積の割合を表すものである。空隙率が高いほど、粒子中の中空部分が大きい、即ち、外殻が薄いことを意味する。空隙率は、
空隙率(vol%)=[1−{(見掛け密度)/(真密度)}]×100
で表される。「真密度」は、物質の質量を、空隙等を含まない物質本来の体積で除することにより求められる値であり、「比重」と同義である。通常、シリカ(沈降シリカ)の真密度(比重)は2.2である。
The porosity represents the ratio of the volume of the hollow portion to the volume of the hollow particles. A higher porosity means that the hollow part in the particle is larger, that is, the outer shell is thinner. The porosity is
Porosity (vol%) = [1-{(apparent density) / (true density)}] × 100
It is represented by “True density” is a value obtained by dividing the mass of a substance by the original volume of the substance that does not include voids or the like, and is synonymous with “specific gravity”. Usually, the true density (specific gravity) of silica (precipitated silica) is 2.2.

本来、中空粒子は、中実粒子内部に空隙を設けることで軽量化等を図ることを目的として開発されているものである。その観点からは、空隙率は高い方が好ましいとも言え、実際に空隙率が50vol%を超える中空粒子は多く存在する。しかしながら、上述の通り、空隙率が高い従来の粒子は、外殻の厚みが不十分であり、強度の面で問題があった。本発明は、空隙率を中程度に抑える方法を開発することによって、従来よりも強度を高めたシリカ系中空粒子を提供するものである。 Originally, hollow particles have been developed for the purpose of reducing weight by providing voids inside solid particles. From this point of view, it can be said that a higher porosity is preferable, and there are actually many hollow particles having a porosity exceeding 50 vol%. However, as described above, the conventional particles having a high porosity have a problem in terms of strength because the thickness of the outer shell is insufficient. The present invention provides a silica-based hollow particle having a higher strength than before by developing a method for suppressing the porosity to a medium level.

本発明の好ましい実施形態においては、上記外殻の厚さは50〜300nmである。但し、外殻の厚さは、上記平均一次粒子径の1/2(即ち、粒子半径)の値よりは小さい。外殻は粒子の直径方向を軸に対称に存在することから、外殻の厚さが1/2の粒子とは、内部に空隙を有しない中実粒子を意味し、また外殻の厚さが1/2を超えるということは、粒子半径よりも厚みの方が大きいということであり、理論上ありえないからである。本願明細書において、中空粒子の外殻の厚さは、特に限定されないが、例えば中空粒子を切断して観測するための断面を形成し、その断面を走査型電子顕微鏡等の観察手段を用いて観察することにより測定することができる。断面を形成する方法としては、集束イオンビーム加工観察装置(FIB)を用いる方法(FIB法)、樹脂等に試料を埋め込んで研磨して試料の断面を形成する埋込み研磨法、クロスセクションポリッシャ(CP装置)を用いる方法(CP法)、等が知られている。中でも、本発明においては、断面形成時の作業者の熟練度等による影響が比較的少ないCP法を用いて断面を形成するのが好ましい。 In a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the outer shell is 50 to 300 nm. However, the thickness of the outer shell is smaller than a value of 1/2 of the average primary particle diameter (that is, particle radius). Since the outer shell exists symmetrically about the diameter direction of the particle, the particle whose outer shell thickness is ½ means a solid particle having no void inside, and the thickness of the outer shell. Is exceeding 1/2. This means that the thickness is larger than the particle radius, which is theoretically impossible. In the present specification, the thickness of the outer shell of the hollow particle is not particularly limited. For example, the hollow particle is cut to form a cross section for observation, and the cross section is observed using an observation means such as a scanning electron microscope. It can be measured by observing. As a method for forming a cross section, a method using a focused ion beam processing observation apparatus (FIB) (FIB method), an embedded polishing method in which a sample is embedded in a resin or the like and polished to form a cross section of the sample, a cross section polisher (CP) A method using a device (CP method) is known. In particular, in the present invention, it is preferable to form the cross section using the CP method, which is relatively less affected by the skill level of the operator when forming the cross section.

クロスセクションポリッシャとしては、断面試料作製装置(日本電子株式会社製、品番:IB09010、IB09020)等が挙げられる。 Examples of the cross section polisher include a cross-section sample preparation device (manufactured by JEOL Ltd., product numbers: IB09010, IB09020).

上記中空粒子は、さらに表面処理が行われているものであってもよい。表面処理としては、例えばシランカップリング剤による表面処理が挙げられる。特に限定されないが、上記シランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン及びビニルトリエトキシシラン等のビニル基含有シランカップリング剤;2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、及び3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ基含有系シランカップリング剤;p−スチリルトリメトキシシラン等のスチリル基含有シランカップリング剤;3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、及び3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のメタクリル基含有シランカップリング剤;3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリル基含有シランカップリング剤;N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、及びN−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩等のアミノ基含有シランカップリング剤;3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイド基含有シランカップリング剤;3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン及び−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト基含有シランカップリング剤;ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド等のスルフィド基含有シランカップリング剤;並びに、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基含有シランカップリング剤等が挙げられる。 The hollow particles may be further subjected to surface treatment. Examples of the surface treatment include surface treatment with a silane coupling agent. Although not particularly limited, examples of the silane coupling agent include vinyl group-containing silane coupling agents such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane; 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3 Epoxy group-containing silane coupling agents such as glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane A styryl group-containing silane coupling agent such as p-styryltrimethoxysilane; 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-methyl Methacrylic group-containing silane coupling agents such as acryloxypropyltriethoxysilane; Acrylic group-containing silane coupling agents such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane; N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, and N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyl Containing amino groups such as hydrochloride of trimethoxysilane Silane coupling agents; ureido group-containing silane coupling agents such as 3-ureidopropyltriethoxysilane; mercapto group-containing silane coupling agents such as 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and -mercaptopropyltrimethoxysilane; bis (triethoxy (Silylpropyl) sulfide group-containing silane coupling agents such as tetrasulfide; and isocyanate group-containing silane coupling agents such as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.

(中空粒子の製造方法)
本発明の第2の態様は、中空粒子の製造方法に関する。本製造方法は、
外殻と、該外殻の内部に存在する中空部とを有する球状又は略球状の中空粒子を製造する方法であって、
シリカを含有する中実シリカ粒子を準備する工程(1)と
該中実シリカ粒子を600℃以上700℃未満の温度で熱処理することにより、粒子の外縁に外殻の前駆体層を形成する工程(2)と
該中実シリカ粒子とアルカリ溶液とを混合することにより、該粒子の内部のみを溶解して外殻と中空部を形成する工程(3)と
を含む製造方法である。
(Method for producing hollow particles)
The second aspect of the present invention relates to a method for producing hollow particles. This manufacturing method
A method of producing a spherical or substantially spherical hollow particle having an outer shell and a hollow portion present inside the outer shell,
A step (1) of preparing solid silica particles containing silica and a step of forming a precursor layer of an outer shell on the outer edge of the particles by heat-treating the solid silica particles at a temperature of 600 ° C. or higher and lower than 700 ° C. (2), the solid silica particles, and the alkali solution are mixed to dissolve only the inside of the particles to form an outer shell and a hollow portion (3).

・工程(1)について
工程(1)は、シリカを含有する中実粒子を準備する工程である。中実粒子は、シリカを95質量%以上含んでいるのが好ましく、98質量%以上含んでいるのがより好ましく、実質的にシリカのみからなるのが特に好ましい。「実質的にシリカのみからなる」とは、上記中実粒子の99質量%以上がシリカから形成されており、シリカの物性に影響を与えるような量の別の成分を含まないことをいう。また中実粒子が100質量%シリカである(中実粒子がシリカのみからなる)のも好ましい。
-Step (1) Step (1) is a step of preparing solid particles containing silica. The solid particles preferably contain 95% by mass or more of silica, more preferably contain 98% by mass or more, and particularly preferably consist essentially of silica. “Substantially only composed of silica” means that 99% by mass or more of the solid particles are formed of silica and do not contain an amount of another component that affects the physical properties of silica. It is also preferable that the solid particles are 100% by mass silica (the solid particles are composed only of silica).

上記中実粒子を準備する方法は特に限定されず、既製品を利用してもよいし、合成してもよい。特に限定されないが、シリカ中実粒子の代表的な合成法としては湿式法が挙げられる。湿式法においては、ケイ酸エステルを加水分解したり、ケイ酸塩を鉱酸で中和したりすることによりシリカが合成される。湿式法としては、沈降(沈殿)法やゾルゲル法が知られているが、所望の性質に応じてどのような方法を採用してもよい。 The method for preparing the solid particles is not particularly limited, and ready-made products may be used or synthesized. Although not particularly limited, a typical method for synthesizing solid silica particles includes a wet method. In the wet method, silica is synthesized by hydrolyzing a silicate ester or neutralizing a silicate with a mineral acid. As the wet method, a precipitation (precipitation) method and a sol-gel method are known, but any method may be adopted depending on the desired properties.

・工程(2)について
工程(2)は、上記(1)で準備した中実粒子を所定の温度で熱処理する工程(仮焼成工程)である。この仮焼成により、中実粒子の外縁には結晶質シリカ層が形成され、これが後に上述の中空粒子の外殻となる。一方、粒子内部は非晶質シリカである。粒子内部の非晶質シリカは、その後、工程(3)において溶解され、中空部を形成する。一方、外縁の結晶質シリカ層は、工程(3)においても除去されずに残存し、中空粒子の外殻を形成する。
-Step (2) Step (2) is a step (temporary firing step) in which the solid particles prepared in (1) above are heat-treated at a predetermined temperature. By this preliminary firing, a crystalline silica layer is formed on the outer edge of the solid particles, which later becomes the outer shell of the above-mentioned hollow particles. On the other hand, the inside of the particles is amorphous silica. The amorphous silica inside the particles is then dissolved in step (3) to form a hollow part. On the other hand, the crystalline silica layer at the outer edge remains without being removed even in the step (3) and forms the outer shell of the hollow particles.

熱処理は、600℃以上700℃未満の温度で行う。温度が600℃未満であれば、中実粒子の外縁に結晶質シリカ相が形成されず、あるいは結晶質シリカ相の領域が狭く、工程(3)において、外殻が全く形成されない、あるいは、十分な厚さの外殻が形成されない。一方、700℃以上であれば、結晶質シリカ相のみ、あるいは結晶質シリカ相の領域が広く、工程(3)において、所定の空隙率を有する中空シリカ粒子が得られない。 The heat treatment is performed at a temperature of 600 ° C. or higher and lower than 700 ° C. If the temperature is less than 600 ° C., the crystalline silica phase is not formed at the outer edge of the solid particles, or the region of the crystalline silica phase is narrow, and the outer shell is not formed at all in the step (3). A thick shell is not formed. On the other hand, if it is 700 ° C. or higher, only the crystalline silica phase or the region of the crystalline silica phase is wide, and in the step (3), hollow silica particles having a predetermined porosity cannot be obtained.

上記工程(2)の好ましい実施形態においては、熱処理の前に、リチウム化合物を1種以上上記中実粒子に添加する。リチウム化合物は結晶化助剤として機能する。上記リチウム化合物の例としては、特に限定されないが、金属リチウム、炭酸リチウム、酢酸リチウム、安息香酸リチウム、臭化リチウム、塩化リチウム、フッ化リチウム、リン酸二水素リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、水酸化リチウム、ヨウ化リチウム、メタケイ酸リチウム、硝酸リチウム、窒化リチウム、オルトケイ酸リチウム、シュウ酸リチウム、酸化リチウム、サリチル酸リチウム、ステアリン酸リチウム、硫酸リチウム、硫化リチウム、酒石酸リチウム、四ほう酸リチウム等が挙げられる。なかでも炭酸リチウムは、加熱により炭酸イオンが蒸発することから、系中に陰イオン由来の残留物が生じない点で好ましい。 In a preferred embodiment of the step (2), one or more lithium compounds are added to the solid particles before the heat treatment. The lithium compound functions as a crystallization aid. Examples of the lithium compound include, but are not limited to, metal lithium, lithium carbonate, lithium acetate, lithium benzoate, lithium bromide, lithium chloride, lithium fluoride, lithium dihydrogen phosphate, lithium hexafluorophosphate, water Lithium oxide, lithium iodide, lithium metasilicate, lithium nitrate, lithium nitride, lithium orthosilicate, lithium oxalate, lithium oxide, lithium salicylate, lithium stearate, lithium sulfate, lithium sulfide, lithium tartrate, lithium tetraborate, etc. It is done. Among these, lithium carbonate is preferable in that the carbonate ions are evaporated by heating, so that no anion-derived residue is generated in the system.

リチウムは、工程(2)において結晶化助剤として作用した後、下記の工程(3)を経ることによって除去され、中空粒子中にはほとんど残存しない。そのため、リチウム化合物は、結晶化助剤としての作用に優れている点に加え、最終的に得られる中空粒子中のシリカの純度にほとんど影響を与えない点で好ましい結晶化剤である。 Lithium is removed by passing through the following step (3) after acting as a crystallization aid in step (2), and hardly remains in the hollow particles. Therefore, a lithium compound is a preferred crystallizing agent in that it has an excellent effect as a crystallization aid and has little influence on the purity of silica in the finally obtained hollow particles.

・工程(3)について
次に、工程(3)について説明する。工程(3)は、工程(2)において仮焼成した中実粒子を、アルカリ溶液と接触させることにより、外殻を残しつつ、粒子内部の非晶質シリカ包含部位のみを選択的に溶解させることで、外殻と中空部を形成し、中空粒子を得る工程である。
-Step (3) Next, step (3) will be described. In the step (3), the solid particles temporarily calcined in the step (2) are brought into contact with an alkaline solution to selectively dissolve only the amorphous silica-containing sites inside the particles while leaving the outer shell. In this step, the outer shell and the hollow part are formed to obtain hollow particles.

上記アルカリとしては特に限定されないが、例としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、及び水酸化バリウム等の水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、及び炭酸ナトリウムカリウム等の炭酸塩、炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウム等の炭酸水素塩等が挙げられる。 Examples of the alkali include, but are not limited to, hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, and barium hydroxide, lithium carbonate, Examples thereof include carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, basic magnesium carbonate, calcium carbonate, strontium carbonate, barium carbonate, and potassium potassium carbonate, and bicarbonates such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate.

アルカリ溶液に含まれる溶媒としては、水が好ましい。水以外にも、上記アルカリを溶解させる溶媒であれば特に限定されず、有機溶媒、又は水と有機溶媒の混合物等も溶媒として用いることができる。上記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、1−プロパノール、ペンタノール、及びエチレングリコール等のアルコール類、アセトン等のケトン類などが挙げられる。 As the solvent contained in the alkaline solution, water is preferable. In addition to water, there is no particular limitation as long as it is a solvent that dissolves the alkali, and an organic solvent or a mixture of water and an organic solvent can also be used as the solvent. Examples of the organic solvent include methanol, ethanol, isopropanol, butanol, 1-propanol, pentanol, alcohols such as ethylene glycol, and ketones such as acetone.

上記アルカリの量は所望の中空粒子の空隙率及び中実粒子をアルカリ溶液と接触させる際の温度に依存するが、概ね、SiO1molに対し0.1〜10mol用いるのが好ましい。また中実粒子をアルカリ溶液と接触させる際の温度は50℃〜90℃にするのが好ましい。 The amount of the alkali depends on the porosity of the desired hollow particles and the temperature at which the solid particles are brought into contact with the alkali solution, but it is generally preferable to use 0.1 to 10 mol with respect to 1 mol of SiO 2 . The temperature at which the solid particles are brought into contact with the alkaline solution is preferably 50 ° C to 90 ° C.

工程(3)で得られた中空粒子は、所望により、公知の方法に基づいて分離し、洗浄し、乾燥させることによって、粉末状物質として得ることができる。 If desired, the hollow particles obtained in the step (3) can be obtained as a powdery substance by separating, washing and drying according to a known method.

<中空粒子の用途>
このようにして得られた中空粒子は、種々の用途に使用できる。特に限定されないが、例えば各種フィルムのアンチブロッキング剤や滑り性付与剤、液晶表示装置用等の各種スペーサー、半導体封止材料や液晶用シール剤等の各種電子部品用封止剤、光拡散剤、化粧品用添加剤、歯科材料、トナー外添剤、カラム充填剤等に適用可能である。
<Uses of hollow particles>
The hollow particles thus obtained can be used for various applications. Although not particularly limited, for example, various film anti-blocking agents and slipperiness-imparting agents, various spacers for liquid crystal display devices, sealing agents for various electronic components such as semiconductor sealing materials and liquid crystal sealing agents, light diffusing agents, It can be applied to cosmetic additives, dental materials, toner external additives, column fillers, and the like.

以下に実施例と共に比較例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例によって何ら限定されるものではない。また、以下において、得られた中空粒子の一次粒子径、外殻の厚さ、見掛け密度、空隙率、及び長径/短径は次のようにして測定した。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to comparative examples together with examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, in the following, the primary particle diameter, outer shell thickness, apparent density, porosity, and major axis / minor axis of the obtained hollow particles were measured as follows.

(中空粒子の平均一次粒子径)
透過型電子顕微鏡(TEM)で観察し、一次粒子の数が10となる視野をランダムに5視野選択し、合計50個の一次粒子について最大径を測定し、その平均値を求めて、平均一次粒子径とした。
(Average primary particle diameter of hollow particles)
Observed with a transmission electron microscope (TEM), randomly select 5 fields of view where the number of primary particles is 10, measure the maximum diameter for a total of 50 primary particles, find the average value, and calculate the average primary The particle diameter was taken.

(外殻の厚さ)
概ね同体積の中空粒子とエポキシ樹脂(エポキシG2)とをガラス板上で混合し、シリコーンプレートに塗布し、80℃で10分間真空脱泡処理を行なった後、120℃で30分間加熱してエポキシ樹脂を硬化させて、中空粒子と硬化エポキシ樹脂の複合体を得た。日本電子(株)製クロスセクションポリッシャSM−09010を用い、イオン加速電圧4.0kVで20時間、上記複合体を処理して、断面観察用サンプルを作成した。
(Outer shell thickness)
Approximately the same volume of hollow particles and epoxy resin (epoxy G2) are mixed on a glass plate, applied to a silicone plate, vacuum defoamed at 80 ° C. for 10 minutes, and then heated at 120 ° C. for 30 minutes. The epoxy resin was cured to obtain a composite of hollow particles and a cured epoxy resin. Using the cross section polisher SM-09010 manufactured by JEOL Ltd., the composite was processed for 20 hours at an ion acceleration voltage of 4.0 kV to prepare a cross-sectional observation sample.

上記断面観察用サンプルを走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、切断された一次粒子の数が3となる視野をランダムに5視野選択し、合計15個の一次粒子について、切断された各一次粒子の殻のうち、最も厚さの薄い個所の厚さを測定し、その平均値を求めて、外殻の厚さとした。 The sample for cross-sectional observation is observed with a scanning electron microscope (SEM), and five visual fields are selected at random so that the number of cut primary particles is 3. Each of the cut primary particles has a total of 15 primary particles. The thickness of the thinnest part of the particle shell was measured, and the average value was obtained as the thickness of the outer shell.

(見掛け密度)
120℃で1時間乾燥したサンプルをセルに秤量し、株式会社島津製作所製、オートポアIV9510を用いて測定した。
(Apparent density)
A sample dried at 120 ° C. for 1 hour was weighed into a cell and measured using an Autopore IV9510 manufactured by Shimadzu Corporation.

(空隙率)
上述の方法により見掛け密度を求めた。その後、下記式により、中空粒子の空隙率を求めた。なお2.20は一般的に知られている沈降シリカの真密度(比重)である。
空隙率(vol%)=[1−{(中空粒子の見掛け密度)/(2.20)}]×100
(Porosity)
The apparent density was determined by the method described above. Thereafter, the porosity of the hollow particles was determined by the following formula. Note that 2.20 is a generally known true density (specific gravity) of precipitated silica.
Porosity (vol%) = [1-{(apparent density of hollow particles) / (2.20)}] × 100

(中空粒子の長径/短径)
透過型電子顕微鏡(TEM)で観察し、一次粒子の数が10となる視野をランダムに5視野選択し、合計50個の一次粒子について最大径(長径)と最小径(短径)を測定し、長径を短径で除した値をシリカ中空粒子の長径/短径とした。
(Long diameter / short diameter of hollow particles)
Observe with a transmission electron microscope (TEM), randomly select 5 fields of view where the number of primary particles is 10, and measure the maximum diameter (major axis) and minimum diameter (minor axis) of a total of 50 primary particles. The value obtained by dividing the major axis by the minor axis was defined as the major axis / minor axis of the silica hollow particles.

(実施例1)
25%アンモニア水溶液204gと、エタノール85.5gと、水184gとを容器に投入し、温度を25℃とした後、撹拌しながら、多摩化学工業株式会社製、正珪酸エチル(テトラエトキシシラン)を9.36g/分の速度で45分間滴下し、中実シリカ粒子を含有するスラリーを得た。このスラリーを濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中実シリカ粒子を得た。
Example 1
204 g of 25% aqueous ammonia solution, 85.5 g of ethanol, and 184 g of water were put into a container and the temperature was adjusted to 25 ° C. Then, while stirring, normal ethyl silicate (tetraethoxysilane) manufactured by Tama Chemical Industries The slurry was dropped for 45 minutes at a rate of 9.36 g / min to obtain a slurry containing solid silica particles. The slurry was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain solid silica particles.

上記中実シリカ粒子30gに、水150gと、炭酸リチウム0.7gとを投入し、室温で1時間撹拌した後、得られた混合スラリーを130℃で乾燥することにより、中実シリカ粒子とリチウムの混合粉を得た。 After adding 150 g of water and 0.7 g of lithium carbonate to 30 g of the solid silica particles and stirring at room temperature for 1 hour, the obtained mixed slurry was dried at 130 ° C. Of mixed powder was obtained.

上記混合粉を630℃で30分焼成し、焼成粉を得た。 The mixed powder was fired at 630 ° C. for 30 minutes to obtain a fired powder.

この焼成粉を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径は0.39μmであり、長径/短径の値が1.00であった。また上記方法により測定される見掛け密度は2.18g/mLであった。 When the fired powder was observed with a transmission electron microscope, the average primary particle size was 0.39 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.00. The apparent density measured by the above method was 2.18 g / mL.

中実粒子を含有する上記焼成粉15gに、水150gと、水酸化ナトリウム5gとを投入し、混合物を60℃で1時間撹拌した。混合物を濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中空シリカ粒子を得た。 150 g of water and 5 g of sodium hydroxide were added to 15 g of the calcined powder containing solid particles, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 1 hour. The mixture was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain hollow silica particles.

この中空シリカ粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が0.32μm、長径/短径の値が1.01であった。更に上述の方法によって測定した外殻の厚さは56nmであった。また上記方法により測定される見掛け密度が1.59g/mLであり、空隙率は27.1vol%であった。 When the hollow silica particles were observed with a transmission electron microscope, the average primary particle size was 0.32 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.01. Furthermore, the thickness of the outer shell measured by the above method was 56 nm. Moreover, the apparent density measured by the said method was 1.59 g / mL, and the porosity was 27.1 vol%.

(実施例2)
25%アンモニア水溶液102gと、エタノール65.5gと、水92gとを容器に投入し、温度を25℃とした後、多摩化学工業株式会社製、正珪酸エチル(テトラエトキシシラン)を4.67g/分の速度で45分間滴下し、中実シリカ粒子を含有するスラリーを得た。このスラリーを濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中実シリカ粒子を得た。
(Example 2)
102 g of 25% aqueous ammonia solution, 65.5 g of ethanol, and 92 g of water were put into a container and the temperature was adjusted to 25 ° C., and then 4.67 g / ethyl silicate (tetraethoxysilane) manufactured by Tama Chemical Industries, Ltd. was used. Drops were added for 45 minutes at a rate of minutes to obtain a slurry containing solid silica particles. The slurry was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain solid silica particles.

上記中実シリカ粒子30gに、水150gと、炭酸リチウム0.7gとを投入し、室温で1時間撹拌した後、得られた混合スラリーを130℃で乾燥することにより、中実シリカ粒子とリチウムの混合粉を得た。 After adding 150 g of water and 0.7 g of lithium carbonate to 30 g of the solid silica particles and stirring at room temperature for 1 hour, the obtained mixed slurry was dried at 130 ° C. Of mixed powder was obtained.

上記混合粉を630℃で30分焼成し、焼成粉を得た。 The mixed powder was fired at 630 ° C. for 30 minutes to obtain a fired powder.

この焼成粉を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が0.72μmであり、長径/短径の値が1.00であった。また上記方法により測定される見掛け密度は2.19g/mLであった。 When the fired powder was observed with a transmission electron microscope, the average primary particle size was 0.72 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.00. The apparent density measured by the above method was 2.19 g / mL.

中実粒子を含有する上記焼成粉15gに、水150gと、水酸化ナトリウム5gとを投入し、70℃で1時間撹拌した。混合物を濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中空シリカ粒子を得た。 150 g of water and 5 g of sodium hydroxide were added to 15 g of the calcined powder containing solid particles and stirred at 70 ° C. for 1 hour. The mixture was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain hollow silica particles.

この中空シリカ粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が0.69μmであり、長径/短径の値が1.01であった。更に上述の方法によって測定した外殻の厚さは139nmであった。また上記方法により測定される見掛け密度が1.76g/mLであり、空隙率は20.0vol%であった。 When the hollow silica particles were observed with a transmission electron microscope, the average primary particle size was 0.69 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.01. Furthermore, the thickness of the outer shell measured by the above method was 139 nm. Moreover, the apparent density measured by the said method was 1.76 g / mL, and the porosity was 20.0 vol%.

(実施例3)
25%アンモニア水溶液102gと、エタノール171gと、水92gとを容器に投入し、温度を25℃とした後、撹拌しながら、多摩化学工業株式会社製、正珪酸エチル(テトラエトキシシラン)を9.36g/分の速度で22.5分間滴下し、中実シリカ粒子を含有するスラリーを得た。このスラリーを濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中実シリカ粒子を得た。
(Example 3)
102 g of 25% aqueous ammonia solution, 171 g of ethanol, and 92 g of water were put into a container and the temperature was adjusted to 25 ° C. Then, while stirring, normal ethyl silicate (tetraethoxysilane) manufactured by Tama Chemical Industries Ltd. The slurry was added dropwise at a rate of 36 g / min for 22.5 minutes to obtain a slurry containing solid silica particles. The slurry was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain solid silica particles.

上記中実シリカ粒子30gに、水150gと、炭酸リチウム0.7gとを投入し、室温で1時間撹拌した後、得られた混合スラリーを130℃で乾燥することにより、中実シリカ粒子とリチウムの混合粉を得た。 After adding 150 g of water and 0.7 g of lithium carbonate to 30 g of the solid silica particles and stirring at room temperature for 1 hour, the obtained mixed slurry was dried at 130 ° C. Of mixed powder was obtained.

上記混合粉を640℃で30分焼成し、焼成粉を得た。 The mixed powder was fired at 640 ° C. for 30 minutes to obtain a fired powder.

この焼成粉を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が1.04μmであり、長径/短径の値が1.00であった。また上記方法により測定される見掛け密度は2.17g/mLであった。 When the fired powder was observed with a transmission electron microscope, the average primary particle size was 1.04 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.00. The apparent density measured by the above method was 2.17 g / mL.

中実シリカ粒子を含有する上記焼成粉15gに、水150gと、水酸化ナトリウム5gとを投入し、60℃で1時間撹拌した。混合物を濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中空シリカ粒子を得た。 To 15 g of the calcined powder containing solid silica particles, 150 g of water and 5 g of sodium hydroxide were added and stirred at 60 ° C. for 1 hour. The mixture was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain hollow silica particles.

この中空シリカ粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が0.94μmであり、長径/短径の値が1.00であった。更に上述の方法によって測定した外殻の厚さは288nmであった。また上記方法により測定される見掛け密度が2.08g/mLであり、空隙率は5.5vol%であった。 When the hollow silica particles were observed with a transmission electron microscope, the average primary particle diameter was 0.94 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.00. Further, the thickness of the outer shell measured by the above method was 288 nm. Moreover, the apparent density measured by the said method was 2.08 g / mL, and the porosity was 5.5 vol%.

(実施例4)
実施例1で得られた中実シリカ粒子含有スラリー287.75gと、25%アンモニア水溶液51gと、エタノール85.5gと、水46gとを容器に投入し、温度を25℃とした後、撹拌しながら、多摩化学工業株式会社製、正珪酸エチル(テトラエトキシシラン)を9.36g/分の速度で22.5分間滴下し、中実シリカ粒子を含有するスラリーを得た。このスラリーを濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中実シリカ粒子を得た。
Example 4
287.75 g of the solid silica particle-containing slurry obtained in Example 1, 51 g of a 25% aqueous ammonia solution, 85.5 g of ethanol, and 46 g of water were put into a container, and the temperature was adjusted to 25 ° C., followed by stirring. While, Tama Chemical Industry Co., Ltd. make, normal ethyl silicate (tetraethoxysilane) was dripped at a rate of 9.36 g / min for 22.5 minutes to obtain a slurry containing solid silica particles. The slurry was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain solid silica particles.

得られた中実シリカ粒子30gに水150gと、炭酸リチウム0.7gとを投入し、室温で1時間撹拌した後、得られた混合スラリーを130℃で乾燥することにより、中実シリカ粒子とリチウムの混合粉を得た。 After adding 150 g of water and 0.7 g of lithium carbonate to 30 g of the obtained solid silica particles and stirring at room temperature for 1 hour, the obtained mixed slurry was dried at 130 ° C. to obtain solid silica particles and A mixed powder of lithium was obtained.

上記混合粉を630℃で30分焼成し、焼成粉を得た。 The mixed powder was fired at 630 ° C. for 30 minutes to obtain a fired powder.

この焼成粉を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が1.97μmであり、長径/短径の値が1.00であった。また上記方法により測定される見掛け密度は2.15g/mLであった。 When the fired powder was observed with a transmission electron microscope, the average primary particle size was 1.97 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.00. The apparent density measured by the above method was 2.15 g / mL.

中実粒子を含有する上記焼成粉15gに、水150gと、水酸化ナトリウム5gとを投入し、60℃で1時間撹拌した。混合物を濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中空シリカ粒子を得た。 150 g of water and 5 g of sodium hydroxide were added to 15 g of the calcined powder containing solid particles and stirred at 60 ° C. for 1 hour. The mixture was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain hollow silica particles.

この中空シリカ粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が1.96μm、長径/短径の値が1.00であった。更に上述の方法によって測定した外殻の厚さは293nmであった。また上記方法により測定される見掛け密度が1.45g/mLであり、空隙率は34.1vol%であった。 When the hollow silica particles were observed with a transmission electron microscope, the average primary particle size was 1.96 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.00. Further, the thickness of the outer shell measured by the above method was 293 nm. Moreover, the apparent density measured by the said method was 1.45 g / mL, and the porosity was 34.1 vol%.

(実施例5)
25%アンモニア水溶液102gと、エタノール65.5gと、水92gとを容器に投入し、温度25℃とした後、多摩化学工業株式会社製、正珪酸エチル(テトラエトキシシラン)を4.67g/分の速度で45分間滴下し、中実シリカ粒子を含有するスラリーを得た。このスラリーに炭酸リチウム1.4gを投入し、室温で1時間撹拌した。得られた混合スラリーを130℃で乾燥することにより、中実シリカ粒子とリチウムの混合粉を得た。
(Example 5)
102 g of 25% aqueous ammonia solution, 65.5 g of ethanol, and 92 g of water were put in a container to a temperature of 25 ° C. Was added dropwise at a speed of 45 minutes to obtain a slurry containing solid silica particles. Lithium carbonate 1.4g was thrown into this slurry, and it stirred at room temperature for 1 hour. The obtained mixed slurry was dried at 130 ° C. to obtain a mixed powder of solid silica particles and lithium.

上記混合粉を650℃で30分焼成し、焼成粉を得た。 The mixed powder was fired at 650 ° C. for 30 minutes to obtain a fired powder.

この焼成粉を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が0.71μmであり、長径/短径の値が1.00であった。また上記方法により測定される見掛け密度は2.18g/mLであった。 When the fired powder was observed with a transmission electron microscope, the average primary particle size was 0.71 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.00. The apparent density measured by the above method was 2.18 g / mL.

得られた中実シリカ粒子焼成粉15gに、水150gと、水酸化ナトリウム5gとを投入し、60℃で1時間撹拌した。混合物を濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中空シリカ粒子を得た。 150 g of water and 5 g of sodium hydroxide were added to 15 g of the obtained solid silica particle fired powder and stirred at 60 ° C. for 1 hour. The mixture was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain hollow silica particles.

この中空シリカ粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が0.67μmであり、長径/短径の値が1.00であった。更に上述の方法によって測定した外殻の厚さは151nmであった。また上記方法により測定される見掛け密度が1.81g/mLであり、空隙率は17.7vol%であった。 When the hollow silica particles were observed with a transmission electron microscope, the average primary particle size was 0.67 μm, and the value of major axis / minor axis was 1.00. Furthermore, the thickness of the outer shell measured by the above method was 151 nm. Moreover, the apparent density measured by the said method was 1.81 g / mL, and the porosity was 17.7 vol%.

(比較例1)
堺化学工業製CWS−50(炭酸カルシウム)30gと、水500gと、25%アンモニア水溶液87gとを反応容器に投入し、温度を25℃とした後、撹拌しながら、多摩化学工業株式会社製、正珪酸エチル(テトラエトキシシラン)を2.5g/分の速度で12.8分間滴下することにより、CWS−50(炭酸カルシウム)を支持体とし、その表面に正珪酸エチル由来のシリカが積層された複層粒子を含有するスラリーを得た。その後、2.4Mの塩酸を7ml/分の速度で71.4分間滴下することにより、炭酸カルシウムが除去された中空シリカ粒子を含有するスラリーを得た。このスラリーを濾過し、濾別した固形分を水洗した後、130℃で乾燥することにより、中空シリカ粒子を得た。
(Comparative Example 1)
30 g of CWS-50 (calcium carbonate) manufactured by Sakai Chemical Industry, 500 g of water, and 87 g of 25% aqueous ammonia solution were put into a reaction vessel, and the temperature was adjusted to 25 ° C. By dropping normal ethyl silicate (tetraethoxysilane) at a rate of 2.5 g / min for 12.8 minutes, CWS-50 (calcium carbonate) is used as a support, and silica derived from normal ethyl silicate is laminated on the surface. A slurry containing the multilayer particles was obtained. Thereafter, 2.4M hydrochloric acid was added dropwise at a rate of 7 ml / min for 71.4 minutes to obtain a slurry containing hollow silica particles from which calcium carbonate had been removed. The slurry was filtered, and the solid content separated by filtration was washed with water and dried at 130 ° C. to obtain hollow silica particles.

この中空シリカ粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、平均一次粒子径が53nmであり、長径/短径の値が1.12であった。更に上述の方法によって測定した外殻の厚さは4nmであった。また上記方法により測定される見掛け密度が1.00g/mLであり、空隙率は54.5vol%であった。 When the hollow silica particles were observed with a transmission electron microscope, the average primary particle diameter was 53 nm, and the value of major axis / minor axis was 1.12. Furthermore, the thickness of the outer shell measured by the above method was 4 nm. Moreover, the apparent density measured by the said method was 1.00 g / mL, and the porosity was 54.5 vol%.

実施例1〜5及び比較例1の結果を表1に示す。 The results of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 are shown in Table 1.

表1から分かるように、実施例1〜5の、本発明の範囲に属する中空粒子は、空隙率が比較的低く、また外殻が比較例の粒子と比べて10倍以上厚いことが明らかとなった。また、長径/短径の値がほぼ1であることから、本発明の範囲に属する中空粒子は、真球状か、ほぼ真球状の粒子であることが分かる。これに対し、比較例1で得られた中空粒子は空隙率が50vol%を超え、外殻も薄いことが分かる。また長径/短径の値が高く、粒子はだ円状であることが分かる。 As can be seen from Table 1, it is clear that the hollow particles belonging to the scope of the present invention of Examples 1 to 5 have a relatively low porosity and that the outer shell is 10 times or more thicker than the particles of the comparative example. became. Further, since the value of the major axis / minor axis is approximately 1, it can be seen that the hollow particles belonging to the scope of the present invention are spherical or almost spherical particles. In contrast, it can be seen that the hollow particles obtained in Comparative Example 1 have a porosity of more than 50 vol% and a thin outer shell. Further, the value of the major axis / minor axis is high, and it can be seen that the particles are elliptical.

Claims (7)

外殻と、該外殻の内部に存在する中空部とを有する球状又は略球状の中空粒子であって、
前記外殻は、シリカを含有する単層構造を有し、
前記中空粒子は、
平均一次粒子径が0.7〜2.0μmであり、
水銀圧入法により測定される414MPaにおける見掛け密度が1.10〜2.09g/mLであり、
長径/短径の値が1.00〜1.03である
中空粒子。
A spherical or substantially spherical hollow particle having an outer shell and a hollow portion existing inside the outer shell,
The outer shell has a single layer structure containing silica,
The hollow particles are
The average primary particle size is 0.7 to 2.0 μm,
The apparent density at 414 MPa measured by the mercury intrusion method is 1.10 to 2.09 g / mL,
Hollow particles having a major axis / minor axis value of 1.00 to 1.03.
前記外殻の厚さは50〜300nmである、
請求項1記載の中空粒子。
The outer shell has a thickness of 50 to 300 nm.
The hollow particle according to claim 1.
前記外殻の単層構造は、その99質量%以上がシリカから形成されている
請求項1又は2記載の中空粒子。
The hollow particle according to claim 1 or 2, wherein 99% by mass or more of the single-layer structure of the outer shell is formed from silica.
下記式:
空隙率(vol%)=[1−{(見掛け密度)/(真密度)}]×100
で表される空隙率が5vol%以上、50vol%以下である
請求項1〜3のいずれか記載の中空粒子。
Following formula:
Porosity (vol%) = [1-{(apparent density) / (true density)}] × 100
The hollow particle according to any one of claims 1 to 3, wherein the porosity represented by the formula is 5 vol% or more and 50 vol% or less.
外殻と、該外殻の内部に存在する中空部とを有する球状又は略球状の中空粒子を製造する方法であって、
シリカを含有する中実粒子を準備する工程(1)と
該中実粒子を600℃以上700℃未満の温度で熱処理することにより、該中実粒子の外縁に外殻の前駆体層を形成する工程(2)と
該中実粒子とアルカリ溶液とを混合することにより、該中実粒子の内部を溶解して外殻と中空部を形成する工程(3)と
を含む製造方法。
A method of producing a spherical or substantially spherical hollow particle having an outer shell and a hollow portion present inside the outer shell,
Step (1) of preparing solid particles containing silica and heat-treating the solid particles at a temperature of 600 ° C. or higher and lower than 700 ° C. to form a precursor layer of an outer shell on the outer edge of the solid particles A production method comprising a step (2) and a step (3) of mixing the solid particles and an alkaline solution to dissolve the inside of the solid particles to form an outer shell and a hollow portion.
前記工程(2)において、熱処理の前に、リチウム化合物を1種以上添加する
請求項記載の製造方法。
The manufacturing method according to claim 5 , wherein in the step (2), at least one lithium compound is added before the heat treatment.
前記中実粒子は、シリカを99質量%以上含む
請求項又は記載の製造方法。
The manufacturing method according to claim 5 or 6 , wherein the solid particles contain 99 mass% or more of silica.
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