JP6019198B2 - Magnetic inspection system for vapor deposition - Google Patents
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Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 68
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 54
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 23
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 16
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 12
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 claims description 11
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims description 7
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 7
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 3
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 15
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 15
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
- G01B7/14—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
- G01B7/15—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures being regularly spaced
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
- G01B7/28—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring contours or curvatures
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/72—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables
- G01N27/82—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables for investigating the presence of flaws
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06596—Structural arrangements for testing
Description
本発明は、蒸着用磁性体検査装置(INSPECTING APPARATUS FOR DEPOSITION MAGNET)に関する。より詳細には、ボトムアップ式(上向式)蒸着環境と同じ環境で基板とマスクとの整列時に用いられる磁性体を検査することによって、検査精密度を向上することができる蒸着用磁性体検査装置に関する。 The present invention relates to a magnetic inspection apparatus for vapor deposition (INSPECTING APPARATUS FOR DEPOSITION MAGNET). More specifically, the magnetic inspection for vapor deposition can improve the inspection accuracy by inspecting the magnetic material used when aligning the substrate and mask in the same environment as the bottom-up (upward) vapor deposition environment. Relates to the device.
デジタルコンバージェンスとユビキタスに代表される情報技術の革命に伴って、電子機器の発展が著しく速く進行している。この中で、核心をなしている技術のうちの1つがディスプレイ技術である。最近では、ディスプレイに対してより優れた視認性、低費用、低消費電力の要求が増加している。これに伴い、PDP(Plasma Display Panel)、液晶表示装置(LCD:Liquid Crystal Display)に続いて、有機発光ダイオード(OLED:Organic Light Emitting Diode)が脚光を浴びている。 With the revolution of information technology represented by digital convergence and ubiquitous, the development of electronic devices is progressing remarkably fast. Among them, one of the core technologies is display technology. Recently, there has been an increasing demand for better visibility, lower cost, and lower power consumption for displays. Along with this, organic light emitting diodes (OLEDs) are in the spotlight following PDPs (Plasma Display Panels) and liquid crystal display devices (LCDs).
有機発光ダイオードは、電流を流すと、光を発する自発光デバイスであって、応答速度が液晶表示装置に比べて千倍以上速く、かつ、視野角が広い。また、液晶表示装置が必要とするバックライト、カラーフィルタなどを必要とせず、柔軟なディスプレイの具現が可能であり、性能だけでなく部品価格の側面でも大きな長所を有する。 An organic light emitting diode is a self-luminous device that emits light when an electric current is passed, and has a response speed that is 1000 times faster than a liquid crystal display device and a wide viewing angle. In addition, it is possible to realize a flexible display without requiring a backlight, a color filter, or the like required by the liquid crystal display device, and has a great advantage not only in terms of performance but also in terms of component price.
有機発光ダイオードの製作時に使用される有機薄膜は、高真空状態で真空蒸着方式を用いて、基板の表面に順次的に形成される。有機発光ダイオードのフルカラーディスプレイを具現するためには、高精細(fine pitch)な蒸着パターンが必須である。このような蒸着パターンを形成するために、パターンが形成されたマスクを使用する。蒸着パターンの精密度を向上するためには、マスク自体のパターンが精密でなければならないだけでなく、基板とマスクとが機構的に精密に整列(alignment)されることが重要である。 The organic thin film used for manufacturing the organic light emitting diode is sequentially formed on the surface of the substrate using a vacuum deposition method in a high vacuum state. In order to realize a full color display of an organic light emitting diode, a fine pitch deposition pattern is essential. In order to form such a vapor deposition pattern, a mask on which a pattern is formed is used. In order to improve the accuracy of the deposition pattern, it is important that not only the pattern of the mask itself must be precise, but also that the substrate and the mask are mechanically precisely aligned.
この際、マスクと基板を整列した後、蒸着工程を行う時、磁性体を用いる場合がある。マスクは、金属素材で所定のパターンが形成されて基板と整列され、基板とマスクが整列された状態を維持できるように、基板が磁性体側に密着した後、蒸着工程を行うことになる。すなわち、マスク−基板−磁性体の順に配置されて蒸着工程が行われる。磁性体によって、金属素材でパターンが形成されたマスクが基板側に密着して整列状態が持続的に維持される。 In this case, a magnetic material may be used when performing the vapor deposition process after aligning the mask and the substrate. The mask has a predetermined pattern formed of a metal material and is aligned with the substrate, and the deposition process is performed after the substrate is in close contact with the magnetic body so that the substrate and the mask can be kept aligned. That is, the vapor deposition process is performed by arranging the mask, the substrate, and the magnetic material in this order. By the magnetic material, the mask on which the pattern is formed of the metal material is brought into close contact with the substrate side, and the aligned state is continuously maintained.
この際、磁性体に欠陥がないからこそ、基板とマスクが精密に整列した状態に維持されてパターンが精密に維持される。したがって、磁性体を検査する装置が要求される。従来の磁性体を検査する装置は、磁性体の上面から所定間隔離隔されて上方から磁性体に沿って移動しながら検査することになる。しかし、このような場合、マスク−基板−磁性体の順に配置される蒸着環境とは異なって、マスクと磁性体との間の磁束密度の正確な測定が難しく、実際の蒸着環境とは異なる値を有することになり、検査時に欠陥がないものと判断された磁性体が実際には欠陥を有し、これによって、実際の蒸着工程時に均一で精密な蒸着が行われないという問題点がある。 At this time, because there is no defect in the magnetic material, the substrate and the mask are maintained in a precisely aligned state, and the pattern is accurately maintained. Therefore, an apparatus for inspecting a magnetic material is required. A conventional apparatus for inspecting a magnetic body is inspected while moving along the magnetic body from above, separated from the upper surface of the magnetic body by a predetermined distance. However, in such a case, it is difficult to accurately measure the magnetic flux density between the mask and the magnetic material, unlike the deposition environment in which the mask, the substrate, and the magnetic material are arranged in this order. Therefore, there is a problem in that a magnetic material that is determined to have no defect at the time of inspection actually has a defect, so that uniform and precise vapor deposition is not performed during the actual vapor deposition process.
したがって、本発明の目的は、このような従来の問題点を解決するためのものであって、ボトムアップ式蒸着環境と同じ環境で基板とマスクとの整列時に用いられる磁性体を検査して、検査時に発生し得る振動が最小化されるようにすることによって、精密で信頼性の高い磁性体検査結果を得ることができる蒸着用磁性体検査装置を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to solve such a conventional problem, and inspects a magnetic material used when aligning a substrate and a mask in the same environment as a bottom-up deposition environment, An object of the present invention is to provide a magnetic substance inspection apparatus for vapor deposition that can obtain a precise and reliable magnetic substance inspection result by minimizing vibrations that may occur during inspection.
前記目的は、本発明により、蒸着工程で基板とマスクとの整列時に用いられる磁性体を検査する装置において、金属素材で所定のパターンが形成されるマスクと、該マスクの上面に整列される基板と、前記マスクと整列された前記基板の上面が接触して一時的に固定されるように設けられ、内部に前記磁性体が上下方向に移動可能に収容される固定部と、前記マスクの下方に配置され、前記磁性体と前記マスクとの間の距離に応じた磁束密度およびパターンのたわみ現象のうちの少なくとも1つを測定する検査部とを備える蒸着用磁性体検査装置によって達成される。 An object of the present invention is to provide an apparatus for inspecting a magnetic material used when aligning a substrate and a mask in a vapor deposition process according to the present invention, a mask on which a predetermined pattern is formed of a metal material, and a substrate aligned on the upper surface of the mask. A fixing portion that is provided so that an upper surface of the substrate aligned with the mask comes into contact and is temporarily fixed, and the magnetic body is accommodated therein so as to be movable in a vertical direction, and below the mask And an inspecting unit that measures at least one of a magnetic flux density corresponding to a distance between the magnetic body and the mask and a deflection phenomenon of the pattern.
ここで、前記検査部が設置され、該検査部を移動させるステージ部と、相互連結された一対の定盤を有し、前記ステージ部および前記固定部がそれぞれ設置されるベース部とをさらに備えることが好ましい。 Here, the inspection unit is installed, a stage unit that moves the inspection unit, and a base unit that has a pair of interconnected surface plates and on which the stage unit and the fixing unit are respectively installed. It is preferable.
ここで、前記固定部は、上面の一部が内側に陥没して収容空間を形成するフレーム部と、前記収容空間に収容され、垂直方向に移動可能に設けられる固定プレートと、該固定プレートの下面に装着され、N極とS極とが所定間隔離隔されて交互に配置される磁性体とを備えることが好ましい。 Here, the fixing portion includes a frame portion in which a part of the upper surface is recessed inward to form a receiving space, a fixing plate that is received in the receiving space and is provided so as to be movable in a vertical direction, It is preferable to include a magnetic body that is mounted on the lower surface and in which the N pole and the S pole are alternately arranged with a predetermined interval.
ここで、前記基板と接触する前記固定部の面は、前記基板との接触時に静電気が発生しないようにエンボシングパターンにエッチングされることが好ましい。 Here, it is preferable that the surface of the fixing portion that contacts the substrate is etched into an embossing pattern so that static electricity is not generated when the substrate is in contact with the substrate.
ここで、前記検査部は、前記磁性体と前記マスクとの間の距離に応じたガウス分布を測定するガウス測定部、および、前記磁性体と前記マスクとの間の距離に応じたパターンのたわみ現象を測定する形状測定部のうちの少なくとも1つを備えることが好ましい。 Here, the inspection unit measures a Gaussian distribution according to the distance between the magnetic body and the mask, and a pattern deflection according to the distance between the magnetic body and the mask. It is preferable to include at least one of shape measuring units that measure the phenomenon.
本発明によれば、磁性体が実際に用いられるボトムアップ式蒸着装置と同じ環境で磁性体を検査するため、精密で信頼性の高い蒸着用磁性体検査装置が提供される。
また、検査部をステージを用いて移動させて磁性体全般にわたって検査することができ、この際、一対の定盤が設けられるベース部により、振動発生を最小化することによって精密な検査結果が導出される。
According to the present invention, since a magnetic material is inspected in the same environment as a bottom-up type vapor deposition device in which the magnetic material is actually used, a precise and highly reliable magnetic material inspection device for vapor deposition is provided.
In addition, the inspection unit can be moved using the stage to inspect the entire magnetic body, and at this time, the base unit provided with a pair of surface plates minimizes the generation of vibrations and leads to precise inspection results. Is done.
また、磁性体は、ベース部の上側に設置される外部構成に連結されて上下方向に移動するため、磁性体に加わる振動がより最小化される。
また、基板と接触する固定部の面は、エンボシングパターンにエッチングされることによって、基板と固定部との間の接触時に静電気発生が防止される。
Further, since the magnetic body is connected to an external structure installed on the upper side of the base portion and moves in the vertical direction, vibration applied to the magnetic body is further minimized.
In addition, the surface of the fixing portion that comes into contact with the substrate is etched into an embossing pattern, so that generation of static electricity is prevented at the time of contact between the substrate and the fixing portion.
以下、添付した図面を参照して、本発明の一実施例に係る蒸着用磁性体検査装置について詳細に説明する。
本発明の一実施例に係る蒸着用磁性体検査装置は、ボトムアップ式蒸着環境と同じ環境で基板とマスクが整列時に用いられる磁性体を検査して、検査時に発生し得る振動が最小化されるようにすることによって、精密で信頼性の高い磁性体検査結果を得ることができる蒸着用磁性体検査装置に関するものである。
Hereinafter, a magnetic inspection apparatus for vapor deposition according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
The magnetic substance inspection apparatus for vapor deposition according to an embodiment of the present invention inspects a magnetic substance used when the substrate and the mask are aligned in the same environment as the bottom-up type vapor deposition environment, and vibrations that can occur during the inspection are minimized. By doing so, the present invention relates to a magnetic substance inspection apparatus for vapor deposition that can obtain a precise and highly reliable magnetic substance inspection result.
図1は、本発明の一実施例に係る蒸着用磁性体検査装置の概略的な斜視図である。図1を参照すると、本発明の一実施例に係る蒸着用磁性体検査装置100は、基板110と、基板110と整列されるマスク120と、基板110の上面が接触して一時的に固定される固定部130と、マスク120に配置される検査部140と、検査部140が設置されるステージ部150およびベース部160とを備える。
基板110は、蒸着工程で蒸着ソースから放出される蒸着物質が蒸着される構成であって、マスク120の上面に整列されて安着(装着)される。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a magnetic substance inspection apparatus for vapor deposition according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a deposition
The
図2は、図1の蒸着用磁性体検査装置のマスクを概略的に示す面である。図2を参照すると、マスク120は、基板110の下面に蒸着物質が所定のパターンを形成して蒸着できるようにする構成であって、マスクフレーム121とパターン部122とを備える。
マスクフレーム121は、所定の厚さを有し、パターン部122が形成できるように貫通孔が形成される。すなわち、マスクフレーム121は、パターン部122を支持するための枠である。
FIG. 2 is a surface schematically showing a mask of the vapor deposition magnetic substance inspection apparatus of FIG. Referring to FIG. 2, the
The
パターン部122は、基板110上に形成されるパターンと同じパターンが形成される領域である。パターン部122は、蒸着工程によって製造される製品に応じて、磁性体133によって精密にパターンを維持することができるように、金属材質が設けられ、本実施例ではワイヤから形成される。
基板110とマスク120は、実際の蒸着環境と同じ環境で磁性体133を検査することができるように設けられるものであって、実際の蒸着環境で使用される基板110およびマスク120と同じものが使用される。
The
The
図3は、図1の蒸着用磁性体検査装置の固定部の概略的な正面図であり、図4は、図1の蒸着用磁性体検査装置の固定部のうち、要部の概略的な底面斜視図である。
蒸着工程時、整列されたマスク120と基板110が上方に移動して、基板110の上面が固定部130に接触することによって、基板とマスクが一時的に固定され、基板110とマスク120が固定された状態で蒸着工程が行われることによって、精密で均一に蒸着物質が蒸着されることができる。固定部130は、フレーム部131と、固定プレート132および磁性体133とを備える。
FIG. 3 is a schematic front view of a fixing portion of the vapor deposition magnetic substance inspection apparatus of FIG. 1, and FIG. 4 is a schematic view of a main part of the fixing part of the vapor deposition magnetic substance inspection apparatus of FIG. It is a bottom perspective view.
During the deposition process, the aligned
フレーム部131は、フレーム部の下面に基板110の上面が接触し、磁性体133が設置された固定プレート132が収容される構成である。フレーム部131は、上面の一部が内側に陥没することによって収容空間を形成し、収容空間内に固定プレート132が収容される。この際、収容空間の大きさは、固定プレート132の大きさよりも少し大きく設けられることによって、ステージ部150の駆動による振動が固定プレート132に伝達されることを最小化することができる。振動の最小化により、磁性体133に振動の影響が殆どなく、これにより、精密で信頼性の高い検査結果が導出されることができる。
The
固定プレート132は、固定プレートの下面に磁性体133が固定設置される構成であり、上側ベース部160の上側に設置される基板またはマスク整列装置などの別途の構成に連結されて、上下方向に移動可能に設けられる。別途の構成に連結されることによって、検査時に発生し得る振動が磁性体133に伝達されることを最小化することができる。
The fixed
金属材質が設けられるパターン部122と磁性体133との間には、磁場が形成され、磁束密度は、パターン部122と磁性体133との間の間隔に応じて、異なる値を示すことになる。蒸着工程によって、製造しようとする製品などに応じて要求される磁束密度の値が相違することがあり得、これにより、固定プレート132が上下方向に移動可能に設けられることによって、磁性体133とパターン部122との間の間隔が調節されて、所望の磁束密度値を有するようになる。本実施例において、磁性体133の表面では3900〜4000ガウス値、10mmの隔離距離の場合1100〜1200ガウス値、20mmの隔離距離の場合350〜400ガウス値を有することとした。
A magnetic field is formed between the
本実施例において、フレーム部131はAL6061素材から構成され、固定プレート132はSUS420素材の固定板とAL6061素材のバックプレートとから構成され、固定プレート132の大きさは900mm×620mmであるものとしたが、必ずしもこれに制限されるものではない。
In this embodiment, the
図5は、図1の蒸着用磁性体検査装置の固定部のうち、要部の概略的な平面図である。 図5を参照すると、磁性体133は、金属材質が設けられるマスク120のパターン部122間に磁場が形成されるようにするための構成であって、固定プレート132の下面に設置される。すなわち、下方からマスク120−基板110−フレーム部131−磁性体133−固定プレート132の順に配置されて、実際の蒸着環境と同じ環境が形成される。
FIG. 5 is a schematic plan view of the main part of the fixing part of the magnetic substance inspection apparatus for vapor deposition shown in FIG. Referring to FIG. 5, the
ボトムアップ式蒸着の場合、マスク120の上面に基板110が整列されて安着され、この際、基板110の荷重によって、マスク120のパターン部122が所定の距離だけ下方にたわむ問題が発生することがあり得る。そのため、磁性体133が設置され、引力によってパターン部122を上方にひっぱることで、基板110の荷重によるパターン部122のたわみ現象を防止することができる。
In the case of bottom-up deposition, the
磁性体133は、固定プレート132の長さと類似した長さを有するように設けられ、N極とS極が固定プレート132の幅方向に沿って所定間隔離隔されて交互に配置される。磁性体133の幅および磁性体133間の距離、すなわち、N極とS極との間の距離は、蒸着環境に応じて適切に設定されることが好ましい。
The
磁性体133を含む固定プレート132は、磁性体検査装置100から着脱可能に設けられ、検査条件を満たした場合には、脱着して蒸着装置に設置することによって精密な蒸着工程を行うことができる。
The fixed
図6は、図1の蒸着用磁性体検査装置の固定部の概略的な底面斜視図である。図6を参照すると、固定部130の下面、すなわち基板110の上面と接触するフレーム部131の面には、エンボシングパターン134が形成される。固定部の下面は、エンボシングパターン134を有するようにエッチングされることによって、固定部130と基板110とが接触する場合、静電気などが発生しなくなる。
FIG. 6 is a schematic bottom perspective view of a fixing portion of the vapor deposition magnetic substance inspection apparatus of FIG. 1. Referring to FIG. 6, an
図7は、図1の蒸着用磁性体検査装置のステージ部および検査部の概略的な斜視図である。図7を参照すると、検査部140は、磁性体133の性能、品質などの項目を検査するための構成であって、マスク120の下方に設置される。マスク120−基板110−フレーム部131−磁性体133−固定プレート132の順に配置された状態で、マスク120の下方に配置されることによって、実際の蒸着環境と同じ環境で磁性体133を検査することになる。すなわち、蒸着工程時には、マスク120の下方に蒸着ソースが配置され、本実施例においては、蒸着ソースが配置される領域に検査部140が配置されることによって同じ環境が形成される。
FIG. 7 is a schematic perspective view of the stage unit and the inspection unit of the vapor deposition magnetic substance inspection apparatus of FIG. 1. Referring to FIG. 7, the
検査部140は、磁性体133とマスク120との間の距離に応じたパターン部122のたわみ現象などを測定する形状測定部141と、磁性体133とマスク120との間の距離に応じた磁束密度を測定するガウス測定部142とを備える。
The
具体的には、形状測定部141は、パターン部122の長さ方向および幅方向に沿って移動しながら、ワイヤ間の間隔、ワイヤのたわみ現象などを測定する構成であり、ガウス測定部142は、マスク120と磁性体133との間の距離に応じたパターン部122全体の磁束密度、すなわちガウスを測定する構成である。ガウス測定部142による磁束密度測定時に形状測定部141によってパターン部122自体の欠陥を確認することにより、パターン部122の欠陥による誤った磁束密度値が測定されることを防止することができる。
Specifically, the
ステージ部150は、検査部140をマスク120の長さ方向、幅方向および高さ方向に沿って移動させる構成である。ステージ部150は、3つのガイドレールで構成され、設置面積が最小化されるように配置される。すなわち、長さ方向のガイドレール上に設置される幅方向のガイドレールは、ガイドレール機能と同時に検査部140を長さ方向に移動させるように設けられて設置空間が最小化される。
The
ベース部160は、ステージ部150の移動による振動を最小化するための構成であって、一対の定盤が設けられ、それぞれの定盤は連結柱によって相互連結される。下側ベース部160の上面には、ステージ部150が装着され、上側ベース部160は、固定部130の上方に設置される。ステージ部150が駆動されて検査部140が移動する場合、装置全体に振動が発生するおそれがあり、振動が発生する場合、ガウス値に大きい影響を及ぼすことになる。そのため、ベース部160に一対の定盤が設けられて相互連結されることによって、ステージ部150の駆動による振動を最小化する。
The
すなわち、本願発明は、一対の定盤で設けられるベース部160、フレーム部131および固定プレート132の上下移動手段などによって、検査時に発生し得る振動を最小化することにより、測定結果の信頼性をより向上することができる。
That is, according to the present invention, the reliability of the measurement results is improved by minimizing vibrations that can occur during inspection by means of vertical movement means of the
以下、本発明の一実施例に係る蒸着用磁性体検査装置の動作について説明する。
まず、検査対象である磁性体133と固定プレート132をフレーム部131の収容空間に収容させ、要求されるガウス値が示されるように固定プレート132を上下方向に移動させる。例えば、1100〜1200ガウス値が要求される場合、隔離距離が10mmになるように固定プレート132を移動させて固定する。
The operation of the vapor deposition magnetic inspection apparatus according to one embodiment of the present invention will be described below.
First, the
この後、基板110とマスク120が投入され、マスク120上に整列されて安着された基板110は、マスク120とともに上昇して固定部130の下面に接触する。この際、固定部130の下面は、エンボシングパターン134が形成されることによって、基板110との接触時に静電気の発生が防止される。
Thereafter, the
基板110とマスク120が固定部130に接触して一時的に固定されると、検査部140が設置されたステージ部150が駆動される。ステージ部150の駆動に応じて検査部140は、マスク120の長さ方向、幅方向および高さ方向に沿って移動しながら検査する。この際、ステージ部150の駆動および検査部140が移動する場合にも、一対の定盤が設けられるベース部160と、ベース部160の上方の別途の構成に連結され、フレーム部131に所定間隔離隔されるように収容される固定プレート132とによって、振動が最小化されて移動による影響を受けなくなる。
When the
具体的に、形状測定部141は、マスク120のパターン部122のたわみ現象などの欠陥を測定し、ガウス測定部142は、マスク120と磁性体133との間の磁束密度を測定する。パターン部122の全領域に沿って移動してスキャンした結果、全領域にわたって磁束密度が一定の値を示す場合、磁性体133には欠陥がないと判断される。
欠陥がないと判断された磁性体133は、固定プレート132を装置から分離した後、蒸着装置に収容されて実際の蒸着工程で使用される。
Specifically, the
The
したがって、本発明によれば、基板とマスクとの整列時に用いられる磁性体をボトムアップ式蒸着環境と同じ環境で検査し、検査時に発生し得る振動が最小化されるようにすることによって、精密で信頼性の高い磁性体検査結果を得ることができる蒸着用磁性体検査装置が提供される。 Therefore, according to the present invention, the magnetic material used when aligning the substrate and the mask is inspected in the same environment as the bottom-up type deposition environment, so that the vibration that can occur during the inspection is minimized. Thus, a magnetic substance inspection apparatus for vapor deposition that can obtain a highly reliable magnetic substance inspection result is provided.
本発明の権利範囲は、前述した実施形態に限定されるものではなく、添付した特許請求の範囲内で様々な形態の実施形態で具現することができる。特許請求の範囲で請求する本発明の要旨を逸脱することなく、当該発明の属する技術分野における通常の知識を有する者であれば誰でも変形可能な多様な範囲まで本発明の請求範囲の記載の範囲内にあるものとみなす。 The scope of the right of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be embodied in various forms within the scope of the appended claims. Without departing from the gist of the present invention claimed in the scope of claims, any person having ordinary knowledge in the technical field to which the invention pertains can describe various claims that can be modified. Considered to be within range.
100 蒸着用磁性体検査装置
110 基板
120 マスク
130 固定部
131 フレーム部
132 固定プレート
133 磁性体
134 エンボシングパターン
140 検査部
141 ガウス測定部
142 形状測定部
150 ステージ部
160 ベース部
DESCRIPTION OF
Claims (5)
金属素材で所定のパターンが形成されるマスクと、
該マスクの上面に整列される基板と、
前記マスクと整列された前記基板の上面が接触して一時的に固定されるように設けられ、内部に前記磁性体が上下方向に移動可能に収容される固定部と、
前記マスクの下方に配置され、前記磁性体と前記マスクとの間の距離に応じた磁束密度およびパターンのたわみ現象のうちの少なくとも1つを測定する検査部とを備える蒸着用磁性体検査装置。 In an apparatus for inspecting a magnetic material used when aligning a substrate and a mask in a vapor deposition process,
A mask on which a predetermined pattern is formed of a metal material;
A substrate aligned with the top surface of the mask;
A fixing portion provided so that an upper surface of the substrate aligned with the mask comes into contact with and temporarily fixed, and the magnetic body is accommodated therein so as to be movable in the vertical direction;
A vapor deposition magnetic inspection apparatus comprising: an inspection unit that is disposed below the mask and measures at least one of a magnetic flux density and a pattern deflection phenomenon according to a distance between the magnetic substance and the mask.
相互連結された一対の定盤を有し、前記ステージ部および前記固定部がそれぞれ設置されるベース部とを備える請求項1に記載の蒸着用磁性体検査装置。 The inspection unit is installed, and a stage unit for moving the inspection unit;
2. The magnetic inspection apparatus for vapor deposition according to claim 1, comprising a pair of interconnected surface plates and a base part on which the stage part and the fixing part are respectively installed.
上面の一部が内側に陥没して収容空間を形成するフレーム部と、
前記収容空間に収容され、垂直方向に移動可能に設けられる固定プレートと、
該固定プレートの下面に装着され、N極とS極とが所定間隔離隔されて交互に配置される磁性体とを備える請求項2に記載の蒸着用磁性体検査装置。 The fixing part is
A frame part in which a part of the upper surface is depressed inside to form an accommodation space;
A stationary plate housed in the housing space and provided so as to be movable in the vertical direction;
The magnetic substance inspection apparatus for vapor deposition according to claim 2, further comprising: a magnetic body that is attached to a lower surface of the fixed plate and alternately arranges the N pole and the S pole with a predetermined interval.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2014-0147608 | 2014-10-28 | ||
KR1020140147608A KR101669335B1 (en) | 2014-10-28 | 2014-10-28 | Magnetic inspecting apparatus for deposition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016084536A JP2016084536A (en) | 2016-05-19 |
JP6019198B2 true JP6019198B2 (en) | 2016-11-02 |
Family
ID=55826496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015209655A Expired - Fee Related JP6019198B2 (en) | 2014-10-28 | 2015-10-26 | Magnetic inspection system for vapor deposition |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6019198B2 (en) |
KR (1) | KR101669335B1 (en) |
CN (1) | CN105547131A (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6871034B2 (en) * | 2017-03-24 | 2021-05-12 | 株式会社アルバック | Evaluation method and measuring device |
JP2019113341A (en) * | 2017-12-21 | 2019-07-11 | 株式会社アルバック | Gap measurement method |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004031181A (en) | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Sony Corp | Pattern film forming device, and pattern film forming method |
JP2005206939A (en) * | 2003-12-26 | 2005-08-04 | Seiko Epson Corp | Thin film formation method, thin film formation equipment, method of manufacturing organic electroluminescence device, organic electroluminescence device, and electronic apparatus |
KR101102032B1 (en) * | 2004-12-16 | 2012-01-04 | 엘지디스플레이 주식회사 | Apparatus for fabricating organic electro luminescence display device |
WO2009118888A1 (en) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | キヤノンアネルバ株式会社 | Vacuum treatment device, method for manufacturing image display device using the vacuum treatment device, and electronic device manufactured by use of vacuum treatment device |
JP5540605B2 (en) * | 2009-08-28 | 2014-07-02 | 株式会社ニコン | Positioning apparatus and substrate bonding apparatus |
KR101810683B1 (en) * | 2011-02-14 | 2017-12-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | Mask holding device capable of changing magnetic means and deposition equipment using the same |
KR101283609B1 (en) * | 2011-03-14 | 2013-07-08 | 엘아이지에이디피 주식회사 | Apparatus and Method for Inspecting Magnet of Substrate Chucking Plate |
CN102880013B (en) * | 2012-09-28 | 2015-02-18 | 清华大学 | Reticle stage worktable |
JP2014154315A (en) * | 2013-02-07 | 2014-08-25 | Hitachi High-Technologies Corp | Organic el device manufacturing apparatus and organic el device manufacturing method |
-
2014
- 2014-10-28 KR KR1020140147608A patent/KR101669335B1/en active IP Right Grant
-
2015
- 2015-10-22 CN CN201510694947.1A patent/CN105547131A/en active Pending
- 2015-10-26 JP JP2015209655A patent/JP6019198B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101669335B1 (en) | 2016-10-26 |
CN105547131A (en) | 2016-05-04 |
KR20160050175A (en) | 2016-05-11 |
JP2016084536A (en) | 2016-05-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160829 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161003 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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