JP6014738B2 - 三次元画像の投影方法 - Google Patents

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Description

本発明は、三次元画像の投影方法に関し、より詳しくは、放射線医学影像に用いられる三次元画像の投影方法に関する。
科学技術の進歩に伴って、放射線医学影像も近代発展した有効な診断工具である。その結像原理は物理現象に対して適切な数値モデルを構築し、像再構成アルゴリズムにより撮影時に受信する信号を三次元(three-dimensional, 3D)影像に還元する。CTスキャン(computed tomography、CT)、陽電子放射形コンピューター断層撮影法(positron emission tomography、PET)、単光子放射型CTスキャン法(single-photon emission computed tomography、SPECT)等の高等医療器材にこの技術が使用されている。
像再構成アルゴリズムの歴史は、その初期にはフィルタ補正逆投影法(filtered back projection、FBP)、マトリックス反転トモシンセシス(matrix inversion tomosynthesis、MITS)等の分析式解法が採用され、近年ではコンピューター技術の進歩及びハードウェアの進歩に伴い、高影像品質の逐次技術、例えば、最尤度期待値最大化法(maximum likelihood expectation maximization、MLEM)、サブセット化による期待値最大化法(ordered subset expectation maximization、OSEM)、代数的再構成法(algebraic reconstruction technique、ART)、凸射影法(projection onto convex sets、POCS)等の再構成法が流行した。しかしながら、好ましい影像品質を得るためには、さらに精確なシステムマトリックスモデルにより逐次再構成を行う必要がある。
なお、CTスキャン(computed tomography, CT)を例にすると、撮影器が信号を受信して離散配列に変換すると共にコンピューターに保存し、基本的な影像再構成数学モデルは下述の離散化のマトリックスの表示に用いられる:
Figure 0006014738
仮に、ベクターC(m×1)を受信した信号として離散配列方式でパソコンに保存され、Gがシステムマトリックス(m×n)とすると、要求される三次元(three-dimensional、3D)影像はf(n×1)となる。光子は空間中で直線移動するため、乱射等の他の物理要素を考慮せずともよい。仮に、撮影器が信号を受信させ、1つの体積を有する光源が発射され、何れか1つの検出器により受光されると、Gは簡略化されて幾何学的なマトリックスとして描写され、gijは第iのボクセル(voxel)の第jの検出器に対する幾何学検出効果を表す。異なる位置では各検出器が受信する確率に差異があり、確率データをフィードバックさせて再構成過程で、空間分布の差異の修正を行う必要がある。
上述の方式では、大きなマトリックスの演算には時間が掛かるというボトルネックがあり、仮に、fが1つの512×512×512の三次元影像だとすると、n=134217728個の影像画素(pixel)を有し、3072×3072を有する1つの検出器により360度の撮影を行い、1度隔てる毎に1回スキャンを行い、m=3072×3072×360となり、システムマトリックスの次元数は3397386240×134217728〜4.56e+17となり、コンピューターの演算ソースには制限があるため、如何に精確にシステムを描写し、疎行列(sparse matrix)の概念によりコンピューターの演算時間を短縮するかが、逐次再構成の応用の課題であった。
現在の方法では、従来の技術としてレイトレーシング(ray tracing)が常用され、具体的なプログラム最適化の実施方法としてSiddon R L(1985)が文献にて提出しており、多くの影像処理技術は共にレイトレーシングを青写真として開発された。例えば、光子の空間中の運行軌跡のシミュレーションや水晶体透過効率の検査等である。CTスキャン(computed tomography, CT)を例にすると、仮想光源及び検出器が無体積であり、光源の中心及び検出器の面積の中心を代表とし、点対点のビーム接続により撮影状況を描写し、ビーム接続が空間中で影像中のボクセル(voxel)を通過する交差の長さを確率とし、1本のビーム接続がボクセル(voxel)を通過する長さから影像空間全体の長さを引いて影像再構成に使用するgijとする。この方法は撮影時の光源の体積及び検出器の体積の影響を無視している。また、高解析度を追求すると、ボクセル(voxel)が単一の検出器より小さい場合、ボクセル(voxel)が無視される現象が発生する。上述の問題を解決するため、ビームの数量を増加させる方式により、検出器の数学モデルをより細く切断し、これにより検出器の面積が数値演算に与える影響を低減させる。例えば、Huesman R H(2000)の文献を例にすると、各検出ユニットが3×3個に分割され、2組の検出ユニットが本来の9倍に各々切断されるため、光子を受けると1対のペアになり、ビームの総数量が本来の729倍に変化し、ビームの傾度及び比例により圧縮及び簡略化を行うが、O(n4)の対価に対しては、効果が限定された。総括すると、レイトレーシング(ray tracing)方式により、モデルが簡易になり演算しやすくなるが、ただし、日々高まる撮影結果の精確性の要求に応えるには、前記技術では複数本のサブ検出ビーム(sub-ray)に切り分けて再構成処理を行わねばならず、演算時間が大幅に増加し、実用できなかった。
さらに、ボクセル(voxel)を1つの球体に結像する方法があり、この技術は球対称体素(spherically symmetric volume elements(blobs))と呼ばれ、適切な数学公式と組み合わされ、点が球体の中心に至る距離により、球体内部の密度の調整を行う。この技術は高解析度が必要な影像処理に応用され、例えば、Marabini R L(1998)はこの方法を電子顕微鏡に応用した。ただし、前述の方法は計算に非常に時間が掛かり、学術研究分野或いはシミュレーションで常用されるが、商業用途には広がらなかった。
商業分野については、前述のレイトレーシング(ray tracing)方法に内挿技術が組み合わされて改良された線駆動(ray driven)及び画素駆動(pixel driven)技術が常用される。前述の方式は内挿及び距離の関係により重量の分配が行われ、空間中のいかなるボクセル(voxel)のz方向データが圧縮されることで少量のデータが損失するのが無視されず、撮影角度が大きい場合、誤差が大きくなった。
再構成の精確性に対する要求に応えるには、演算コストが高くなって逐次再構成に時間が掛かるため、市場では大部分の商品は分析式解法が主流である。このため、新世代のモデルベース(model-based)逐次再構成の発展が将来的に主流になる。例えば、対応する足跡(footprint)グループ化演算法及び平行加速技術が設計され、医療メーカーも逐次再構成法の技術開発を積極的に推し進めており、精確なモデルに逐次再構成技術を組み合わせて、高解析度の3D影像を獲得し、演算のハードルを突破しようとしている。
本発明者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本発明の提案に到った。そこで、本発明は、以上の従来技術の課題を解決する為になされたものである。即ち、本発明の目的は、計算に費やす時間を短縮させる三次元画像の投影方法を提供する。
上述した課題を解決し、上記目的を達成するための本発明は、本発明に係る三次元画像の投影方法は、光源により放射線場が発生して検出モジュールに投射され、検出モジュールはアレイ状に配列される複数の検出器を有する、光源を提供する工程と、光源と前記検出モジュールとの間には複数の空間ユニットが堆積されて形成される三次元空間配列のボクセルを有する工程と、放射線場の検出器と光源との間のサブ放射線場を各々検出して定義する工程と、各検出器がサブ放射線場で対応する各空間ユニットに基づいて演算し、サブ幾何学的因子を獲得する工程と、各検出器が前記サブ放射線場で対応する各空間ユニットが有するサブ幾何学的因子が組み合わされて幾何学的因子マトリックスが形成される工程とを含む。
また、上述の演算は、検出器、各検出器に対応するサブ放射線場及び複数の空間ユニットが第一検出平面及び第二検出平面にそれぞれ投影され、検出器、各検出器に対応するサブ放射線場及び複数の空間ユニットは第一検出平面及び第二検出平面に対応する平面検出器、平面放射線場及び隣接されて配列されて二次元平面となる複数の一次元配列をそれぞれ有し、各一次元配列は隣接して配列される複数のグリッドを有し、第一検出平面は第一軸及び第二軸で構成され、第二検出平面は前記第一軸及び第三軸で構成される工程と、
平面検出器が第一検出平面の第一軸及び第二検出平面の第一軸までそれぞれ回転し、平面検出器及び複数のグリッドが対応する位置関数変数を発生させる工程と、位置関数変数に基づいて第一検出平面及び第二検出平面上での各グリッドに関して各平面検出器が対応する平面放射線場で占める幾何学的比率値をそれぞれ計算する工程と、第一検出平面及び第二検出平面上の相互に対応するグリッドが有する幾何学的比率値を相乗して各検出器が対応する空間ユニットが有するサブ幾何学的因子を獲得する工程と、各検出器がサブ放射線場で対応する各空間ユニットが有するサブ幾何学的因子が組み合わされて幾何学的因子マトリックスが形成される工程とを含む。
本発明の好適な実施の形態において、上述の位置関数変数に基づいて第一検出平面及び第二検出平面上での各グリッドに関して各平面検出器が対応する平面放射線場で占める幾何学的比率値をそれぞれ計算する工程では、以下の工程をさらに含む。第一検出平面及び第二検出平面で各平面検出器が対応する平面放射線場の経路の計算上の複数の放射線場交点をそれぞれ調べ、経路の計算は第一検出平面及び第二検出平面で第一検出平面の前記第二軸及び第二検出平面の第三軸にそれぞれ平行する工程。位置関数変数に基づいて各グリッドが第一検出平面及び第二検出平面で経路の計算上の対応する複数の特定の交点をそれぞれ調べる工程。計算を行い、複数の放射線場交点の位置関数及び複数の特定の交点の位置関数を比較し、経路の計算上で各グリッドが各平面検出器が対応する平面放射線場で占める幾何学的比率値を決定する工程。
本発明の好適な実施の形態において、上述の第一検出平面及び第二検出平面で各平面検出器が対応する平面放射線場の経路の計算上の複数の放射線場交点をそれぞれ調べる工程の後には、以下の工程をさらに含む。位置関数変数に基づいて、経路の計算が平面放射線場で占有する長さを比例により算出する工程。経路の計算が平面放射線場で占有する長さに基づいて、複数の放射線場交点の位置関数を算出する工程。
本発明の好適な実施の形態において、上述の経路の計算が平面放射線場で占有する長さを比例により算出する工程は、以下の工程をさらに含む。各平面検出器及び対応する平面放射線場により包囲されて形成される第一領域を調べる工程。平面放射線場の経路の計算により包囲されて形成される第二領域を調べる工程。位置関数変数に基づいて、第一領域及び第二領域の比例を比較して経路の計算が平面放射線場で占有する長さを獲得する工程。
本発明の好適な実施の形態において、上述の計算を行い、複数の放射線場交点の位置関数及び複数の特定の交点の位置関数を比較し、経路の計算上の各グリッドが各平面検出器が対応する平面放射線場で占める幾何学的比率値を決定する工程の前には、以下の工程をさらに含む。境界距離が画定される工程。経路の計算で選択された距離を選択し、選択された距離は境界距離に等しいかそれより大きい工程。経路の計算ではグリッドを中心として選択された距離は半径の範囲内になり、平面放射場内に前記特定の交点があるか否かを判断する工程。
本発明の好適な実施の形態において、上述の前記平面放射場内に前記特定の交点を有する工程では、以下の工程をさらに含む。サブ幾何学的因子に加重係数を乗算する工程。
本発明の好適な実施の形態において、上述の第一検出平面及び第二検出平面上で相互に対応するグリッドが有する幾何学的比率値を相乗して各検出器が対応する空間ユニットが有するサブ幾何学的因子を獲得する工程の後には、以下の工程をさらに含む。第一検出平面及び第二検出平面の第一軸方向に平行する複数のグリッドの数をそれぞれ計算する工程。サブ幾何学的因子に均一化パラメータを乗算する工程。ここでは、均一化パラメータは1と前記複数のグリッドの数との比率である。
本発明の好適な実施の形態において、上述の光源は回転運動をさらに行う。
本発明の好適な実施の形態において、上述の検出モジュールはX線断層撮影合成法(Tomosynthesis)或いはCTスキャン(CT)の検出モジュールである。
上述のように、本発明の三次元画像の投影方法は、まず本来三次元空間の数学モデルが2つの二次元の検出平面に投影され、平面検出器が検出平面の軸まで回転し、煩雑な演算を簡略化させ、計算に掛かる時間を短縮させる。
本発明に係る三次元画像の投影方法を示すフローチャート図である。 本発明の光源及び検出器の関係を示す概念図である。 図1に示すサブ幾何学的因子を計算するフローチャート図である。 図2に示すサブ放射線場及び空間ユニットが第一検出平面に投影させる概念図である。 図2に示すサブ放射線場及び空間ユニットが第二検出平面に投影させる概念図である。 図4Aに示す平面検出器が第一軸まで回転させる概念図である。 本発明に係る幾何学的比例値を計算するフローチャート図である。 本発明の計算平面放射線場の経路の計算での長さ及び放射線場交点にある位置関数のフローチャート図である。 本発明の経路の計算が平面放射線場で占有する長さを比例により算出するフローチャート図である。 本発明の位置関数変数に基づいてグリッドが第一検出平面で経路の計算上で対応する特定の交点を調べるフローチャート図である。 図5に示す経路の計算で、交点線段を調べて、計算する概念図である。 ボクセルを示す概念図である。 ボクセルが任意の回転なく放射線場と交差を行う概念図である。 ボクセルが回転後に放射線場と交差を行う概念図である。 本発明に係る三次元画像の投影方法の均一化パラメータ工程を示す概念図である。
本発明における好適な実施の形態について、添付図面を参照して説明する。尚、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を限定するものではない。また、以下に説明される構成の全てが、本発明の必須要件であるとは限らない。
まず、本発明の三次元画像の投影方法は影像再構成(image reconstruction)に用いられ、X線断層撮影合成法(Tomosynthesis)或いはCTスキャン(computed tomography、CT)等の逐次再構成に応用される。
図1は本発明に係る三次元画像の投影方法を示すフローチャート図であり、図2は本発明の光源及び検出器の関係を示す概念図である。三次元画像の投影方法S100は、以下の工程を含む。まず、工程S110では光源20を提供する。光源20により放射線場210が発生して検出モジュール40に投射され、検出モジュール40はアレイ状に配列される複数の検出器jを有する。
本実施形態では、光源20は、例えばX線を発生させる光源であり、検出モジュール40は光源20が発生させるX線を検出するために使用される。実際上、光源の種類に制限はなく、実際の使用時の要求に合わせて決定される。このほか、実施形態において、光源20はさらに回転運動を行い、測定対象物及び検出モジュール40の周りを回転し、ただし本発明はこれに制限されず、実際の使用の要求に基づいて決定される。また、本実施形態に係る検出モジュール40はX線断層撮影合成法(Tomosysnesis)やCTスキャン(CT)の検出モジュールに使用される検出モジュールである。本発明は上述の検出モジュールの種類に制限はなく、実際の使用の要求に基づいて決定される。
次は、工程S120を実行し、光源20と検出モジュール40との間に複数の空間ユニットiが堆積されて形成される三次元空間配列のボクセル30(Voxel)を有する。具体的には、図2に示すように、本実施形態に係る光源20及び上述のアレイ状に配列される複数の検出器jにより第一軸Z、第二軸X及び第三軸Yで構成される三次元空間が定義され、且つ三次元空間内には複数の空間ユニットiが堆積されて形成される三次元空間配列のボクセル30 (Voxel)を有する。また、説明が必要な点は、前述の光源20が具設される位置に特段の制限はなく、本実施形態では、前記光源は三次元空間の原点に具設される。また、これを基準の中心点とすることで、計算の煩雑さを低減させる。続いて、工程S130を実行し、放射線場210の検出器jと光源20との間のサブ放射線場212を各々検出して定義し、これは前記放射線場210の一部に属する。
続いて、工程S140を実行し、各検出器jがサブ放射線場212で対応する各空間ユニットiに基づいて演算を行い、サブ幾何学的因子gijを獲得する。
図3は図1に示すサブ幾何学的因子を計算するフローチャート図である。上述の演算は工程S142乃至工程S148を含む。工程S142を実行し、検出器j、各検出器jに対応するサブ放射線場212及び複数の空間ユニットiが第一検出平面P1及び第二検出平面P2にそれぞれ投影され、第一検出平面P1は第一軸Z及び第二軸Xで構成され、第二検出平面P2は第一軸Z及び第三軸Yで構成される(図2及び図3参照)。また、ちなみに、上述の検出平面は前述の第一軸、第二軸及び第三軸の間の何れか二軸が選択されるが、特別な制限はなく、実際の計算時の需要により決定される。
図4Aは図2に示すサブ放射線場及び空間ユニットが第一検出平面に投影される概念図であり、図4Bは図2に示すサブ放射線場及び空間ユニットが第二検出平面に投影される概念図である。上述の工程S142に示すように、第一検出平面P1(即ち、XZ平面)に投影された後、図4Aに示すように、検出器j、各検出器jに対応するサブ放射線場212及び複数の空間ユニットiは第一検出平面P1に対応する平面検出器40j、平面放射線場212a及び隣接して配列される二次元平面の複数の一次元配列32を有し、各一次元配列32は隣接して配列される複数のグリッド320を有する。
同様に、第二検出平面P2(YZ平面)に投影された後、図4Bに示すように、検出器j、各検出器jに対応するサブ放射線場212及び複数の空間ユニットiは第二検出平面P2に対応する平面検出器40j、平面放射線場212b及び隣接して配列される二次元平面の複数の一次元配列34を有し、各一次元配列34は隣接して配列される複数のグリッド340を有する。
上述のように、本実施形態は上述の投影モデル(即ち検出器j、各検出器jに対応するサブ放射線場及び複数の空間ユニットiの投影)が第一検出平面P1(即ちXZ平面)及び第二検出平面P2 (即ちYZ平面)に投影される。対照については、図2の各空間ユニットiは図4Aの第一検出平面P1のグリッド320に対応する。同様に、図2の各空間ユニットiは図4Bの第二検出平面P2のグリッド340に対応する。
次に、工程S144を実行し、平面検出器40jが前記第一検出平面P1の第一軸Z及び第二検出平面P2の第一軸Zまでそれぞれ回転する(図3参照)。換言すれば、第一検出平面P1で、平面検出器40jが第一軸Z(即ちZ軸)まで回転し、同様に、第二検出平面P2で、平面検出器40jが第一軸Z(即ちZ軸)まで回転する。
上述の工程では、本発明の三次元画像の投影方法S100は、まず、本来の三次元空間の数学モデルが2つの二次元の検出平面に投影され、平面検出器40jが対応する第一軸Zまで回転し、煩雑な演算を簡略化させ、計算に掛かる時間を短縮させる。他の実施形態では、第一検出平面P1で、平面検出器40jがX軸(即ち第二軸X)まで回転し、第二検出平面P2で、平面検出器40jがY軸(即ち第三軸Y)まで回転する。同様に、上述の演算の簡略化の目的及び効果を達成し、本発明はこれに対して制限はなく、実際の演算時の要求によって決定される。
以下、第一検出平面P1で、平面検出器40jが第一軸Z(即ちZ軸)まで回転するのを例に説明する。
図5は図4Aに示す平面検出器が第一軸に回転される概念図である(図4A及び図5参照)。ちなみに、説明しやすくするため、図5は図4Aの第一検出平面P1の内の何れか1つのグリッド320を図示し、光源20の位置は原点(0,0)である。
本実施形態では、第一検出平面P1で、平面検出器40jが第一軸Z(即ちZ軸)まで回転し、平面検出器40j及び複数のグリッド320が対応する位置関数変数を発生させる。例えば、平面検出器40jの表面の中心点PC1の位置関数は(u,w)であり、グリッド320の表面の中心点PC2の位置関数は(x',z')であり、Z'軸及び第一軸Zは夾角θを有する(図4A参照)。
図5に示すように、平面検出器40jが第一軸Z(即ちZ軸)まで回転した後、平面検出器40jの表面の中心点PC1の位置関数(u,w)が位置関数変数(0,h)に変換され、グリッド320の表面の中心点PC2の位置関数(x',z')が位置関数変数(x_rot,z_rot)に変換される。距離hは光源20から平面検出器40jの表面の中心点までの距離である。
具体的には、上述の平面検出器40jが第一軸Z(即ちZ軸)まで回転し、これはsin或いはcosの三角関数を乗算する方式により第一軸Zまで回転する。このさい、グリッド320の表面の中心点PC2の位置関数(x',z')が位置関数変数(x_rot,z_rot)に変換され、関連する数式は下述する:
Figure 0006014738
当然ながら、平面検出器40jが第二軸X或いは第三軸Yまで回転すると、同様の原理から類似する数式(1)(2)が導き出される。
続いて、工程S146を実行し(図3参照)、位置関数変数に基づいて第一検出平面P1及び第二検出平面P2での各グリッドに関して各平面検出器が対応する平面放射線場が占める幾何学的比率値がそれぞれ計算される。本工程では、工程S146が同時に実行され、即ち、第一検出平面P1及び第二検出平面P2が同時に処理されるが、ただし、第一検出平面P1が先に処理された後、第二検出平面P2が処理されてもよく、或いは、第二検出平面P2が先に処理された後、第一検出平面P1が処理されてもよい。実際の使用の要求に基づいて決定されるため、本発明では制限されない。
図6は本発明に係る幾何学的比例値を計算するフローチャート図である。具体的には、工程S1462を実行し、第一検出平面及び第二検出平面で各平面検出器が対応する平面放射線場の経路の計算の複数の放射線場交点をそれぞれ調べ、経路の計算は第一検出平面及び第二検出平面で第一検出平面の第二軸及び第二検出平面の第三軸にそれぞれ平行する。
ここで、図5を参照しながら、第一検出平面P1を説明する。第一検出平面P1で平面検出器40jが対応する平面放射線場212aの経路の計算PA上での第一放射線場交点PA1及び第二放射交点PA2を調べ、経路の計算PAは第一検出平面P1上で第一検出平面P1の第二軸Xに平行する。同様に、工程S144で、平面検出器40jが第二軸X(即ちX軸)まで回転すると、上述の経路の計算は第一検出平面で第一検出平面の第一軸Zに平行する。
他の実施形態では、第二検出平面P2を例にすると、平面検出器40jが第一軸Z(即ちZ軸)まで回転し、経路の計算は第二検出平面P2上で第二検出平面P2の第三軸Yに平行する。同様に、平面検出器40jが第三軸Y(即ちY軸)まで回転すると、経路の計算は第二検出平面P2上で第二検出平面P2の第一軸Zに平行する。上述の状況では、本発明には制限がなく、実際の使用の要求に基づいて決定される。
このほか、上述の工程S1462を実行した後、三次元画像の投影方法S100は工程S1462a乃至工程S1462bをさらに含む。図7は本発明の計算平面放射線場の経路の計算での長さ及び放射線場交点にある位置関数のフローチャート図である。
工程S1462aを実行し、位置関数変数に基づいて、経路の計算PAが平面放射線場212aで占有する長さLを比例により算出する。例えば、図8は本発明の経路の計算が平面放射線場で占有する長さを比例により算出するフローチャート図である。
図8及び図5を参照して、まず工程St1を実行し、各平面検出器40j及び対応する平面放射線場212aにより包囲されて形成される第一領域Z1を調べる。換言すれば、第一領域Z1は光源20、平面放射線場212a及び第一軸Zまで回転した後の平面検出器40jにより包囲される三角形領域である。
次に、工程St2を実行し、平面放射線場212aが経路の計算PAで包囲して形成される第二領域Z2を調べる。換言すれば、第二領域Z2は光源20、平面放射線場212a及び経路の計算PAにより包囲されて形成される三角形領域である。
その後、工程St3を実行し、位置関数変数に基づいて、第一領域Z1及び第二領域Z2の比例を比較して経路の計算PAが平面放射線場212aで占有する長さLを獲得する。図5を例にすると、平面検出器40jの表面の中心点PC1の位置関数変数は(0,h)であり、グリッド320の表面の中心点PC2の位置関数変数は(x'_rot,z'_rot)である。このほか、検出器jの長さは例えば2dであり、平面検出器40jが第一軸Zまで回転した後、平面検出器40jの長さは2d_rotに修正され、修正差異値に関する数式は下述のとおりである:
Figure 0006014738
上述の数式(3)において、距離が遠くなるほど、修正差異値が小さくなる。実際の運用では、光源20と検出器jとの間の距離は非常に遠く、ゆえに、上述の数式(3)で表される修正差異値は小さくなり、このため計算の差異に影響しない。
上述のように、第一領域Z1及び第二領域Z2の比例を比較し、経路の計算PAが平面放射線場212aで占有する長さLを獲得し、関連する数式は下述のとおりである:
Figure 0006014738
図7を参照しながら、工程S1462aを実行し、上述の経路の計算PAが平面放射線場212aで占有する長さLを獲得した後、工程S1462bを実行し、経路の計算が平面放射線場で占有する長さに基づいて、複数の放射線場交点の位置関数を算出する。
なお、図5を例にすると、前述の放射線場交点は第一放射線場交点PA1及び第二放射線場交点PA2である。第一放射線場交点PA1と第二放射交点PA2との間の距離は上述の経路の計算PAが平面放射線場212aで占有する長さLである。したがって、第一放射線場交点PA1の位置関数は(−L/2,z_rot)であり、第二放射交点PA2の位置関数は(L/2,z_rot)である。
図6を参照しながら、工程S1462が完了し、即ち、平面検出器40jが対応する平面放射線場212aの経路の計算PA上での第一放射線場交点PA1及び第二放射交点PA2を調べた後、続いて工程S1464を実行し、位置関数変数に基づいて各グリッドが第一検出平面及び第二検出平面で経路の計算上で対応する複数の特定の交点をそれぞれ調べる。
第一検出平面P1を例にすると、図9は本発明の位置関数変数に基づいてグリッドが第一検出平面で経路の計算上で対応する特定の交点を調べるフローチャート図である。また、図10は図5の経路の計算上で交点線段を調べて計算する概念図である。ちなみに、図10は光源20、一部の平面放射線場212a及び経路の計算PAのみを図示し、即ち、第二領域Z2は以下で説明する。
まず、工程S1464aを実行し、境界距離r1を画定させる。続いて、工程S1464bを実行し、経路の計算で選択された距離を選択し、選択された距離は境界距離に等しいかそれより大きい。次に、工程S1464cを実行し、経路の計算でグリッドを中心として選択された距離を半径の範囲内とし、平面放射場内に特定の交点があるか否かを判断する。図10に示すように、経路の計算PAで、グリッド320の表面の中心点PC2を中心とし、選択された距離r2は半径であり、第一特定の交点PD1及び第二特定の交点PD2をさらに描写する。また、図10によると、前述のグリッド320の表面の中心点PC2の位置関数変数は(x_rot,z_rot)であり、第一特定の交点PD1の位置関数は(x_rot−r2,z_rot)であり、第二特定の交点PD2の位置関数は(x_rot+r2,z_rot)である。
ちなみに、本実施形態は前述のボクセル(voxel)のグリッドの中心点を例にする。このほか、他の実施形態では、ボクセル(voxel)のグリッドの境界を基準点として画定させてもよく、実際の計算時の要求によって決定される。
上述の工程S1464c及び図10によれば、平面放射場212a内に第二特定の交点PD2を有する。続いて、図6に示すように、工程S1466を実行し、計算を行い、複数の放射線場交点の位置関数及び複数の特定の交点の位置関数を比較し、経路の計算で各グリッドが各平面検出器が対応する平面放射線場で占める幾何学的比率値を決定する。
図10を例にすると、第一検出平面PAで、第一特定の交点PD1の位置関数は(x_rot−r2,z_rot)であり、第二特定の交点PD2の位置関数は(x_rot+r2,z_rot)であり、第一放射線場交点PA1の位置関数は(−L/2,z_rot)であり、第二放射交点PA2の位置関数は(L/2,z_rot)であり、経路の計算PAが平面放射線場212aで長さLを占有する。ここでは、上述の特定の交点及び放射線場交点は共に経路の計算PAに位置され、ゆえに、計算上第二軸X上の位置関数を考慮し、関連する数式は下述する:
Figure 0006014738
上述の数式(6)からわかるように、第一放射線場交点PA1及び第一特定の交点PD1の両者の位置関数を比較して両者の位置関数の最大値を獲得し、第二放射交点PA2及び第二特定の交点PD2の両者の位置関数を比較して両者の位置関数の最小値を獲得する。前述の最大値及び最小値の位置関数は互いに減少すると共にその値を正数に確保し、最後に経路の計算PAが平面放射線場212aで占有する長さLを除算し、第一検出平面P1でのグリッド320に関して平面検出器40jが対応する平面放射線場212aで占める幾何学的比率値gxzを獲得する。
同様の原理及び工程により、第二検出平面P2に処理を施し、幾何学的比率値gyzを獲得する。
図3を参照しながら、工程S148を実行する。第一検出平面P1及び第二検出平面P2が相互に対応するグリッドが有する幾何学的比率値を相乗して各検出器が対応する空間ユニットが有するサブ幾何学的因子gijを獲得する。
図6に示すように、上述のサブ幾何学的因子gijを獲得した後、サブ幾何学的因子gijに加重係数Wを乗算する工程S1468を実行し、加重係数Wの計算の説明は図11A及び図11Bのとおりである。図11Aはボクセルを示す概念図であり、図11Bは1つのボクセルが任意の回転がなく放射線場と交差する概念図である。
図11Aに示すように、前述の工程S1464aに示すように、境界距離r1を画定する工程では、本実施形態では、ボクセル(voxel)30の表面の中心点G1からボクセル(voxel)30の境界までの垂直距離を境界距離r1とする。図11Bは1つのボクセル(voxel)30が任意の回転がなく放射線場210と交差する状況を示し、第一交点PE1の位置関数は(x_rot-r1,z_rot)であり、第二交点PE2の位置関数は(x_rot+r1,z_rot)であり、第一放射線場交点PA1の位置関数は(−L/2,z_rot)であり、第二放射交点PA2の位置関数は(L/2,z_rot)である。このため、放射線場210のボクセル30が交差するX座標(即ち第二軸)部分は第一交点a及び第二交点bであり、且つ第一交点aの位置関数は(−L/2,z_rot)であり、第二交点bの位置関数は(x_rot+r1,z_rot)である。計算では、使用者により定められた重量方程式f1(x)に基づいて計算し、この重量方程式f1(x)の重量(weighting)は1である。図11Bの下方について説明すると、計算の面積Wはボクセル30の確率であり、計算の数式は以下のとおりである:
Figure 0006014738
このように、計算は第一交点aから第二交点bに積分する。操作の実施では、ボクセル30は回転する。図11Cはボクセルが回転した後に放射線場と交差する概念図である。このさい、前述の境界距離r1を計算とすると、放射線場210と交差せず、計算の誤差が発生する。
このため、本実施形態では1つの選択された距離r2が定義され、前述の選択された距離r2は境界距離r1より大きい。例えば、第一特定の交点PD1の位置関数が(x_rot−r2,z_rot)であり、第二特定の交点PD2の位置関数が(x_rot+r2,z_rot)である場合、計算では、使用者により定められた重量方程式f2(x)に基づいて計算し、重量方程式f2(x)は回転角度に関係し、計算結果は図11Cの下方に示す。第一交点aを第二交点bに積分し、積分面積を求める。
前述の重量方程式f1(x)及び重量方程式f2(x)の総積分結果は同じにならなければならず、図11B及び図11Cを例にすると、総積分結果は共にである。
実施では、異なる第一交点a及び第二交点bに基づいてセルが構成され、セルを直接調べて加重係数Wを獲得する。この方式により、ボクセル30が任意で回転せず、境界距離r1が選択されると、重量方程式f1(x)は常に1になり、ゆえに、数式(7)の(b−a)を採用して加重係数Wを獲得する。このほか、前述の選択された距離r2が境界距離r1より大きい方式を採用すると、上述のセルを調べる方式により加重係数Wを直接獲得し、これにより選択された距離r2の部分の計算量を減少させる。
このほか、工程S148を実行した後、本実施形態に係る三次元画像の投影方法は以下の工程をさらに含む。図12は本発明に係る三次元画像の投影方法の均一化パラメータ工程を示す概念図である。図12に示すように、工程S1482を実行し、第一検出平面及び第二検出平面の第一軸方向に平行する前記複数のグリッドの数をそれぞれ計算する。本実施形態では、第一軸Z方向に沿うグリッドの数は5つである(図2参照)。
続いて、サブ幾何学的因子に均一化パラメータを乗算する工程S1484を実行し、前記均一化パラメータは1と前記複数のグリッドの数との比率である。本実施形態では、均一化パラメータNは1/5である。
なお、図1を参照しながら、工程S140及び関連する工程を実行した後、サブ幾何学的因子gijを獲得する。最後に工程S150を実行し、各検出器jがサブ放射線場212で対応する各空間ユニットiが有するサブ幾何学的因子gijが組み合わされて幾何学的因子マトリックスGijが形成される。
結論として、本発明に係る三次元画像の投影方法は、撮影領域の医学影像再構成に必要な幾何因子が構築される。本発明は、まず、本来の三次元空間の数学モデルが2つの二次元の検出平面に投影され、平面検出器が検出平面の軸まで回転し、これにより煩雑な演算を簡略化させ、計算に掛かる時間を短縮させる。
上述の実施形態は本発明の技術思想及び特徴を説明するためのものにすぎず、当該技術分野を熟知する者に本発明の内容を理解させると共にこれをもって実施させることを目的とし、本発明の特許請求の範囲を限定するものではない。従って、本発明の精神を逸脱せずに行う各種の同様の効果をもつ改良又は変更は、後述の請求項に含まれるものとする。
20 光源
210 放射線場
212 サブ放射線場
212a 平面放射線場
212b 平面放射線場
30 ボクセル
32 一次元配列
34 一次元配列
320 グリッド
340 グリッド
40 検出モジュール
40j 平面検出器
a 第一交点
b 第二交点
2d 検出器の長さ
2d_rot 平面検出器の長さ
h 距離
G1 ボクセル表面の中心点
Gij 幾何学的因子マトリックス
gij サブ幾何学的因子
gxz、gyz 幾何学的比率値
i 空間ユニット
j 検出器
L 長さ
P1 第一検出平面
P2 第二検出平面
PA 経路の計算
PA1 第一放射線場交点
PA2 第二放射線場交点
PC1 平面検出器表面の中心点
PC2 グリッド表面の中心点
PD1 第一特定の交点
PD2 第二特定の交点
PE1 第一交点
PE2 第二交点
r1 境界距離
r2 選択された距離
S100 三次元画像の投影方法
S110〜S150 工程
S142〜148 工程
S1462〜1468 工程
S1462a〜S1462b 工程
S1482〜S1484 工程
St1〜St3 工程
t 時間
W 加重係数
Y 第三軸
X 第二軸
Z 第一軸
Z1 第一領域
Z2 第二領域
θ 夾角

Claims (9)

  1. 三次元画像の投影方法であって、
    光源により放射線場が発生して検出モジュールに投射され、前記検出モジュールはアレイ状に配列される複数の検出器を有する、光源を提供する工程と、
    前記光源と前記検出モジュールとの間には複数の空間ユニットが堆積されて形成される三次元空間配列のボクセルを有する工程と、
    前記放射線場の前記検出器と前記光源との間のサブ放射線場を各々検出して定義する工程と、
    各検出器が前記サブ放射線場で対応する各空間ユニットに基づいて演算し、サブ幾何学的因子を獲得する工程とを含み、
    ここでは、前記演算は、
    前記検出器、各検出器に対応する前記サブ放射線場及び前記複数の空間ユニットが第一検出平面及び第二検出平面にそれぞれ投影され、前記検出器、各検出器に対応する前記サブ放射線場及び前記複数の空間ユニットは前記第一検出平面及び前記第二検出平面に対応する平面検出器、平面放射線場及び隣接されて配列されて二次元平面となる複数の一次元配列をそれぞれ有し、各一次元配列は隣接して配列される複数のグリッドを有し、前記第一検出平面は第一軸及び第二軸で構成され、前記第二検出平面は前記第一軸及び第三軸で構成される工程と、
    前記平面検出器が前記第一検出平面の前記第一軸及び前記第二検出平面の前記第一軸までそれぞれ回転し、前記平面検出器及び前記複数のグリッドが対応する位置関数変数を発生させる工程と、
    前記位置関数変数に基づいて前記第一検出平面及び前記第二検出平面上での各グリッドに関して各平面検出器が対応する前記平面放射線場で占める幾何学的比率値をそれぞれ計算する工程と、
    前記第一検出平面及び前記第二検出平面上の相互に対応するグリッドが有する幾何学的比率値を相乗して各検出器が対応する空間ユニットが有する前記サブ幾何学的因子を獲得する工程と、
    各検出器が前記サブ放射線場で対応する各空間ユニットが有する前記サブ幾何学的因子が組み合わされて幾何学的因子マトリックスが形成される工程とをさらに含むことを特徴とする三次元画像の投影方法。
  2. 前記位置関数変数に基づいて前記第一検出平面及び前記第二検出平面上での各グリッドに関して各平面検出器が対応する前記平面放射線場で占める幾何学的比率値をそれぞれ計算する工程は、
    前記第一検出平面及び前記第二検出平面で各平面検出器が対応する前記平面放射線場の経路の計算上の複数の放射線場交点をそれぞれ調べ、前記経路の計算は前記第一検出平面及び前記第二検出平面で前記第一検出平面の前記第二軸及び前記第二検出平面の前記第三軸にそれぞれ平行する工程と、
    前記位置関数変数に基づいて各グリッドが前記第一検出平面及び前記第二検出平面で前記経路の計算上の対応する複数の特定の交点をそれぞれ調べる工程と、
    計算を行い、前記複数の放射線場交点の位置関数及び前記複数の特定の交点の位置関数を比較し、前記経路の計算上で前記各グリッドが各平面検出器が対応する前記平面放射線場で占める幾何学的比率値を決定する工程とを含むことを特徴とする、請求項1に記載の三次元画像の投影方法。
  3. 前記第一検出平面及び前記第二検出平面で各平面検出器が対応する前記平面放射線場の前記経路の計算上の前記複数の放射線場交点をそれぞれ調べる工程の後には、
    前記位置関数変数に基づいて、前記経路の計算が前記平面放射線場で占有する長さを比例により算出する工程と、
    前記経路の計算が前記平面放射線場で占有する長さに基づいて、前記複数の放射線場交点の位置関数を算出する工程とをさらに含むことを特徴とする、請求項2に記載の三次元画像の投影方法。
  4. 前記経路の計算が前記平面放射線場で占有する長さを比例により算出する工程は、
    各平面検出器及び対応する前記平面放射線場により包囲されて形成される第一領域を調べる工程と、
    前記平面放射線場の前記経路の計算により包囲されて形成される第二領域を調べる工程と、
    前記位置関数変数に基づいて、前記第一領域及び前記第二領域の比例を比較して前記経路の計算が前記平面放射線場で占有する長さを獲得する工程とをさらに含むことを特徴とする、請求項3に記載の三次元画像の投影方法。
  5. 前記計算を行い、前記複数の放射線場交点の位置関数及び前記複数の特定の交点の位置関数を比較し、前記経路の計算上の前記各グリッドが各平面検出器が対応する前記平面放射線場で占める幾何学的比率値を決定する工程の前には、
    境界距離が画定される工程と、
    前記経路の計算で選択された距離を選択し、前記選択された距離は前記境界距離に等しいかそれより大きい工程と、
    前記経路の計算では前記グリッドを中心として前記選択された距離は半径の範囲内になり、前記平面放射場内に前記特定の交点があるか否かを判断する工程とをさらに含むことを特徴とする、請求項2に記載の三次元画像の投影方法。
  6. 前記サブ幾何学的因子に加重係数を乗算する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項2に記載の三次元画像の投影方法。
  7. 前記第一検出平面及び前記第二検出平面上で相互に対応するグリッドが有する幾何学的比率値を相乗して各検出器が対応する空間ユニットが有する前記サブ幾何学的因子を獲得する工程の後には、
    前記第一検出平面及び前記第二検出平面の前記第一軸方向に平行する前記複数のグリッドの数をそれぞれ計算する工程と、
    前記サブ幾何学的因子に均一化パラメータを乗算する工程とをさらに含み、前記均一化パラメータは1と前記複数のグリッドの数との比率であることを特徴とする、請求項1に記載の三次元画像の投影方法。
  8. 前記光源は回転運動をさらに行うことを特徴とする、請求項1に記載の三次元画像の投影方法。
  9. 前記検出モジュールはX線断層撮影合成法或いはCTスキャンの検出モジュールであることを特徴とする、請求項1に記載の三次元画像の投影方法。
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