JP5994352B2 - Method for producing 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt - Google Patents

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Description

本発明は、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩の工業的な製造方法を提供する。   The present invention provides an industrial process for producing 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salts.

2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン[本明細書において、「BIS−AF」ということがある。]は、フッ素ゴムの架橋剤や機能性ポリマーおよび医農薬の中間体として重要な物質であるが、該プロパンの4級ホスホニウム塩は、含フッ素エラストマー用加硫促進剤として優れた性能を有することが知られている。例えば、特許文献1では、フルオロエラストマー加硫配合物として、(a)含フッ素エラストマー、(b)2価金属の酸化物、水酸化物またはこれらの2価金属化合物と弱酸金属塩との混合物、及び(c)ポリヒドロキシ芳香族化合物を含有する加硫配合物に対し、「活性水素含有芳香族化合物−第4ホスホニウム塩」として、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンの4級ホスホニウム塩を配合することにより、加硫物の硬度、100%モジュラス、破断時応力、及び破断時伸び等の特性が改善されるとする旨が開示されている。この中で、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンと4級ホスホニウム塩とのモル比として約0.5〜2の割合で、かつ極性有機溶媒(イソプロピルアルコールなど)またはカルボニル基含有有機溶媒中で反応させることが開示されている。   2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane [in this specification, sometimes referred to as “BIS-AF”. ] Is an important substance as an intermediate for fluororubber crosslinking agents, functional polymers and pharmaceuticals and agrochemicals, but the quaternary phosphonium salt of propane has excellent performance as a vulcanization accelerator for fluorine-containing elastomers. It has been known. For example, in Patent Document 1, as a fluoroelastomer vulcanized compound, (a) a fluorine-containing elastomer, (b) a divalent metal oxide, hydroxide, or a mixture of these divalent metal compound and weak acid metal salt, And (c) 4 of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane as “active hydrogen-containing aromatic compound—fourth phosphonium salt” for a vulcanized compound containing a polyhydroxy aromatic compound. It is disclosed that the properties of the vulcanizate, such as hardness, 100% modulus, stress at break, and elongation at break, are improved by adding a grade phosphonium salt. Among these, the molar ratio of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane and quaternary phosphonium salt is about 0.5 to 2, and a polar organic solvent (such as isopropyl alcohol) or a carbonyl group It is disclosed to react in a containing organic solvent.

また、特許文献2には、メタノール溶媒中、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンをアルカリ金属アルコキシドと反応させて該プロパンのアルカリ金属塩とした後、4級ホスホニウム塩と反応させることにより2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩を製造する方法が開示されている。   In Patent Document 2, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane is reacted with an alkali metal alkoxide in a methanol solvent to form an alkali metal salt of the propane, and then reacted with a quaternary phosphonium salt. To produce a 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt.

なお、本明細書において、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンの4級ホスホニウム塩を、「2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩」と表すことがある。   In this specification, the quaternary phosphonium salt of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane is referred to as “2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt”. May represent.

特公昭59−023577号公報Japanese Examined Patent Publication No. 59-023577 特開平11−147891号公報JP-A-11-147891

特許文献1や特許文献2に記載の方法によれば、目的とする2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩を製造できる。しかしながら、この方法では、メタノールを溶媒として使用しているため反応後もメタノール溶液として得られるが、目的物である2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩を、例えば加硫促進剤と使用するためには結晶として取り出す必要がある。実際に、特許文献1では目的物である2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩を結晶として取り出すため、溶媒留去による濃縮操作、続いて多量の水中へ滴下して結晶を析出させ、そして分離、乾燥を経て結晶を得ていることから、目的物を結晶として取り出すための工程数が多く発生していた。   According to the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2, the desired 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt can be produced. However, in this method, since methanol is used as a solvent, it can be obtained as a methanol solution even after the reaction, but the target 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt is obtained. For example, in order to use with a vulcanization accelerator, it is necessary to take it out as a crystal. Actually, in Patent Document 1, in order to take out the target 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt as crystals, concentration operation by distilling off the solvent, followed by dripping into a large amount of water In this way, crystals are precipitated, and separated and dried to obtain crystals, so that a large number of steps are required for taking out the target product as crystals.

更に、特許文献2では、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンを2段階に分けて反応系に加えていることから、工業的な製造を考慮した場合、製造工程の負荷が大きく、必ずしも有利な製造方法とは言えなかった。   Furthermore, in Patent Document 2, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane is added to the reaction system in two stages. It was large and not necessarily an advantageous production method.

本発明の課題は、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩を、工業的規模で、かつ製造コスト、安全性、簡便性において優位性のある製造方法の確立を課題とする。   An object of the present invention is to establish a production method for 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt on an industrial scale and superior in production cost, safety and simplicity. Is an issue.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行ったところ、意外にも、水を溶媒として反応させることにより目的物を合成できることを見出した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have unexpectedly found that a target product can be synthesized by reacting with water as a solvent.

また、反応後は、単に分離、乾燥を行うだけで目的物の結晶を簡便かつ高収率で得ることも併せて見出し、本発明を完成した。   In addition, after the reaction, it was also found that the target crystals can be obtained simply and in high yield by simply separating and drying, and the present invention has been completed.

すなわち本発明は、以下の[発明1]〜[発明7]に記載する、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩の製造方法を提供する。   That is, the present invention provides a method for producing 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt described in [Invention 1] to [Invention 7] below.

[発明1]
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンを、水の存在下、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、又はアルカリ金属炭酸塩と反応させて2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンのアルカリ金属塩とし、得られた該アルカリ金属塩に4級ホスホニウム塩を反応させることを特徴とする、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩の製造方法。
[Invention 1]
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane is reacted with an alkali metal hydroxide, alkali metal alkoxide, or alkali metal carbonate in the presence of water to give 2,2-bis (4-hydroxyphenyl). 2) A 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt, characterized by reacting a quaternary phosphonium salt with the alkali metal salt of hexafluoropropane. Manufacturing method.

[発明2]
前記反応を、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン1モルに対して0.5モルのアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、又はアルカリ金属炭酸塩、
及び、0.5モルの4級ホスホニウム塩と反応させることを特徴とする、発明1に記載の方法。
[Invention 2]
The reaction is carried out with 0.5 mol of alkali metal hydroxide, alkali metal alkoxide, or alkali metal carbonate with respect to 1 mol of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane,
And reacting with 0.5 moles of a quaternary phosphonium salt.

[発明3]
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩における2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンと4級ホスホニウム塩のモル比が、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン:4級ホスホニウム塩=2:1である、発明1または2に記載の方法。
[Invention 3]
The molar ratio of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane to quaternary phosphonium salt in 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt is 2,2-bis ( 4-Hydroxyphenyl) hexafluoropropane: quaternary phosphonium salt = 2: 1 The process according to Invention 1 or 2.

[発明4]
前記反応を、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン1モルに対して0.25モルのアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、又はアルカリ金属炭酸塩、
及び、0.25モルの4級ホスホニウム塩と反応させることを特徴とする、発明1に記載の方法。
[Invention 4]
The reaction is carried out by adding 0.25 mol of alkali metal hydroxide, alkali metal alkoxide, or alkali metal carbonate to 1 mol of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane,
And reacting with 0.25 mole of quaternary phosphonium salt.

[発明5]
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩における2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンと4級ホスホニウム塩のモル比が、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン:4級ホスホニウム塩=4:1である、発明1または4に記載の方法。
[Invention 5]
The molar ratio of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane to quaternary phosphonium salt in 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt is 2,2-bis ( 4-Hydroxyphenyl) hexafluoropropane: quaternary phosphonium salt = 4: 1.

[発明6]
反応系内に、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属リン酸塩、又はアルカリ金属カルボン酸塩を更に加えることを特徴とする、発明1乃至5の何れかに記載の方法。
[Invention 6]
6. The method according to any one of inventions 1 to 5, wherein an alkali metal hydrogen carbonate, an alkali metal phosphate, or an alkali metal carboxylate is further added to the reaction system.

[発明7]
反応後に得られた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩と、不純物とを含む混合物を濾別し、不純物を分離する工程を更に含む、発明1乃至6の何れかに記載の方法。
[Invention 7]
The method according to any one of inventions 1 to 6, further comprising a step of filtering out a mixture containing 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt obtained after the reaction and impurities and separating the impurities. The method in any one.

本発明によれば、水を溶媒としている為、廃液の処理に負荷がかからずに2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩を製造できる。また、特許文献2と比べ、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンを2回に分けて反応系に加える必要がなく、反応工程の簡略ができる点、そして得られた該ホスホニウム塩を、単に濾過操作だけで不純物を簡便に分離できる点など、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩を工業的規模で効率良く製造する上で非常に優れた方法である。   According to the present invention, since water is used as a solvent, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt can be produced without burdening the treatment of the waste liquid. Further, compared to Patent Document 2, it is not necessary to add 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane to the reaction system in two portions, the reaction process can be simplified, and the obtained phosphonium Excellent in efficiently producing 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt on an industrial scale, such as the point that impurities can be easily separated simply by filtration. It is a method.

本発明の2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩の製造方法について、詳細に説明する。   The production method of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt of the present invention will be described in detail.

本発明の範囲は、これらの説明に拘束されることはなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更し実施することができる。また、本明細書において引用された全ての刊行物、例えば先行技術文献、および公開公報、特許公報その他の特許文献は、参照として本明細書に組み込まれる。   The scope of the present invention is not limited to these explanations, and other than the following examples, the scope of the present invention can be changed and implemented as appropriate without departing from the spirit of the present invention. In addition, all publications cited in this specification, for example, prior art documents, and publications, patent publications and other patent documents are incorporated herein by reference.

本発明は、反応系内にて水および2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンを仕込み、撹拌して均一なスラリー液(懸濁液)とする。そこにアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、又はアルカリ金属炭酸塩、及び、必要に応じてアルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属リン酸塩、又はアルカリ金属カルボン酸塩を添加し、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンのアルカリ金属塩を生成させる。ついで4級ホスホニウム塩水溶液を滴下、熟成反応を経て2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩の水スラリー液を製造する。   In the present invention, water and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane are charged in a reaction system and stirred to obtain a uniform slurry liquid (suspension). An alkali metal hydroxide, an alkali metal alkoxide, or an alkali metal carbonate, and an alkali metal hydrogen carbonate, an alkali metal phosphate, or an alkali metal carboxylate as necessary are added, An alkali metal salt of bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane is produced. Next, an aqueous quaternary phosphonium salt solution is dropped, and an aqueous slurry liquid of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt is produced through an aging reaction.

本発明で用いられる2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンは公知の製造方法で製造できる。例えば、ヘキサフルオロアセトンとフェノールをトルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などの有機酸の存在下で反応させる(米国特許第4400546号明細書)ことで製造する、または、ヘキサフルオロアセトンとフェノールをフッ化水素で反応させる(Izv Akad Nauk SSSR Otd Khim Nauk vol.4 pp.686−692(1960);英語版 pp.647−653、特開平7−126200号公報、又は特開2010−275295号公報)ことで製造することができ、何れの方法でも採用できる。   2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane used in the present invention can be produced by a known production method. For example, it is produced by reacting hexafluoroacetone and phenol in the presence of an organic acid such as toluenesulfonic acid or trifluoromethanesulfonic acid (US Pat. No. 4,400,466), or hexafluoroacetone and phenol are fluorinated. Reaction with hydrogen (Izv Akad Nauk SSSR Otd Khim Nauk vol. 4 pp. 686-692 (1960); English version pp. 647-653, JP 7-126200 A, or JP 2010-275295 A) Any method can be adopted.

本発明で用いられる反応器は、ステンレス鋼、ガラス、またはガラス、フッ素樹脂などでライニングされた撹拌機を備えた反応容器が利用できる。   As the reactor used in the present invention, a reaction vessel equipped with a stirrer lined with stainless steel, glass, glass, fluororesin or the like can be used.

本発明は水を溶媒として用いる。反応系内に加える水の量は、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンに対して10〜20質量%が好ましい。10質量%より少ないと撹拌不良や抜出不良を起こすなどの操作的に不具合を生じさせることがある。一方、20質量%より多い場合、特に大きな問題ないが、1反応当りの製造量が少なくなり生産性を低下させることがある為、上記の範囲で反応系に加えることが好ましい。   The present invention uses water as a solvent. The amount of water added to the reaction system is preferably 10 to 20% by mass relative to 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane. If it is less than 10% by mass, it may cause malfunctions such as poor stirring and poor extraction. On the other hand, when the amount is more than 20% by mass, there is no particular problem. However, since the production amount per reaction decreases and the productivity may be lowered, it is preferably added to the reaction system in the above range.

2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンのアルカリ塩を生成させるために使用するアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、及びアルカリ金属炭酸塩の種類としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムブトキシド、カリウムブトキシド、リチウムブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等が用いられる。また、これらは固体の状態で用いても問題ないが、均一に反応させるため、及び発熱による温度を調節するため、少しずつ添加することが好ましく、このことから、溶液として用いることが好ましい。溶液としてはメタノール、エタノールなどのアルコール溶液または水溶液などが用いられるが、水溶液として用いるのが好ましく、水溶液の濃度は5〜15質量%が好ましい。15質量%を超える(濃い)と不溶解分の発生など操作的に不具合を生じさせることがあり、一方、5質量%未満でも(薄くても)特には問題ないが、スラリー濃度が薄くなり生産性を低下させることがある。   The types of alkali metal hydroxide, alkali metal alkoxide, and alkali metal carbonate used to produce the alkali salt of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane include sodium hydroxide, hydroxide Use potassium, lithium hydroxide, sodium methoxide, potassium methoxide, lithium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, lithium ethoxide, sodium butoxide, potassium butoxide, lithium butoxide, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, etc. It is done. Moreover, although there is no problem even if these are used in a solid state, it is preferable to add them little by little in order to uniformly react and to adjust the temperature due to heat generation. From this, it is preferable to use them as a solution. As the solution, an alcohol solution such as methanol or ethanol, or an aqueous solution is used. However, the aqueous solution is preferably used, and the concentration of the aqueous solution is preferably 5 to 15% by mass. If it exceeds 15% by mass (dense), it may cause operational problems such as generation of insoluble matter. On the other hand, if it is less than 5% by mass (even if it is thin), there is no particular problem, but the slurry concentration becomes low and production occurs. It may reduce the sex.

本発明は、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩の製造方法であるが、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンと4級ホスホニウム塩とのモル比が異なる2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩を、前述した特許文献1−2と比べて短工程かつ効率的に製造できる。   The present invention is a method for producing 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt, and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, quaternary phosphonium salt, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salts having different molar ratios can be produced in a shorter process and more efficiently than the aforementioned Patent Document 1-2.

本発明における好ましい態様として、例えばアルカリ金属水酸化物を用いた場合、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウムの該プロパン:4級ホスホニウム塩=2:1の塩を製造する際、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン1モルに対してアルカリ金属水酸化物を0.5モル用い(前述の[発明2]−[発明3]に対応)、そして2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウムの該プロパン:4級ホスホニウム塩=4:1の塩を製造する際、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン1モルに対してアルカリ金属水酸化物を0.25モル用いる(前述の[発明4]−[発明5]に対応)ことで、モル比の異なる目的物を良好に製造できる。4級ホスホニウム塩についての詳細は次に述べる。   As a preferred embodiment of the present invention, for example, when an alkali metal hydroxide is used, the propane: quaternary phosphonium salt = 2: 1 salt of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium. Is used, 0.5 mol of alkali metal hydroxide is used per 1 mol of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (corresponding to [Invention 2]-[Invention 3] described above) In the production of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium propane: quaternary phosphonium salt = 4: 1, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) By using 0.25 mol of alkali metal hydroxide per 1 mol of hexafluoropropane (corresponding to [Invention 4]-[Invention 5] described above) The different target product can be favorably manufactured. Details of the quaternary phosphonium salt are described below.

本発明で用いる4級ホスホニウム塩としては、テトラフェニルホスホニウムクロリド、トリフェニルベンジルホスホニウムクロリド、トリフェニルベンジルホスホニウムブロミド、3,4−ジクロロベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、1−(プロパ−2−オン−イル)−トリフェニルホスホニウムクロリド、(エトキシカルボニルメチル)トリフェニルホスホニウムクロリド、アリルトリフェニルホスホニウムクロリド、アリルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラメチルホスホニウムクロリド、テトラメチルホスホニウムブロミド、テトラエチルホスホニウムクロリド、テトラエチルホスホニウムブロミド等が挙げられるが、これらのうち、好ましくはトリフェニルベンジルホスホニウム塩(当然、フェニル基上の水素原子の一部がハロゲン原子(塩素原子、臭素原子)に置換されたものも含まれる)が用いられる。これらの4級ホスホニウム塩は固体の状態で用いても問題ないが、均一に反応させるため少しずつ添加することが好ましい。更に、操作上、溶液状態として用いることが好ましく、メタノール、エタノールなどのアルコール溶液または水溶液として用いるが、好ましくは水溶液である。用いる4級ホスホニウム塩の水溶液の濃度は、5〜10質量%が好ましく、10質量%よりも濃いと不溶解分の発生など操作的に不具合を生じさせ、一方、5質量%より薄くても特には問題ないが、スラリー濃度が薄くなり生産性を低下させる。   The quaternary phosphonium salt used in the present invention includes tetraphenylphosphonium chloride, triphenylbenzylphosphonium chloride, triphenylbenzylphosphonium bromide, 3,4-dichlorobenzyltriphenylphosphonium chloride, 1- (prop-2-one-yl). -Triphenylphosphonium chloride, (ethoxycarbonylmethyl) triphenylphosphonium chloride, allyltriphenylphosphonium chloride, allyltriphenylphosphonium bromide, tetramethylphosphonium chloride, tetramethylphosphonium bromide, tetraethylphosphonium chloride, tetraethylphosphonium bromide Of these, a triphenylbenzylphosphonium salt (of course, a hydrogen atom on the phenyl group) Some halogen atom (chlorine atom, bromine atom) also include those substituted in) are used. These quaternary phosphonium salts may be used in a solid state, but it is preferable to add them little by little in order to cause a uniform reaction. Further, it is preferably used as a solution state in terms of operation, and used as an alcohol solution or an aqueous solution such as methanol or ethanol, preferably an aqueous solution. The concentration of the aqueous solution of the quaternary phosphonium salt to be used is preferably 5 to 10% by mass, and if it is higher than 10% by mass, it causes operational problems such as generation of insoluble matter. Although there is no problem, the slurry concentration becomes thin and the productivity is lowered.

用いる4級ホスホニウム塩の量は、製造する2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウムの、該プロパンと4級ホスホニウム塩のモル比に応じ、好ましい比率にするよう適宜調整できる。例えば、前述した2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウムの該プロパン:4級ホスホニウム塩=2:1の塩を製造する場合、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン1モルに対して4級ホスホニウム塩を0.5モル用い(前述の[発明2]−[発明3]に対応)、一方、該プロパン:4級ホスホニウム塩=4:1の塩を製造する場合は、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン1モルに対して4級ホスホニウム塩を0.25モル用いる(前述の[発明4]−[発明5]に対応)ことで、モル比の異なる目的物を良好に製造できる。   The amount of the quaternary phosphonium salt to be used is appropriately adjusted to a preferred ratio according to the molar ratio of the propane to the quaternary phosphonium salt of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium to be produced. Can be adjusted. For example, when producing the above-mentioned salt of propane: quaternary phosphonium salt of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium = 2: 1, 2,2-bis (4-hydroxy (Phenyl) 0.5 mol of quaternary phosphonium salt is used per 1 mol of hexafluoropropane (corresponding to [Invention 2]-[Invention 3] described above), while propane: quaternary phosphonium salt = 4: 1. In the case of producing a salt, 0.25 mol of quaternary phosphonium salt is used per 1 mol of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (corresponding to [Invention 4] to [Invention 5] described above). Therefore, it is possible to satisfactorily produce objects having different molar ratios.

本発明において、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属リン酸塩、又はアルカリ金属カルボン酸塩を反応系内に共存させることができる。これらを添加することにより、反応系で4級ホスホニウム塩由来の副生成物であるトリフェニルホスフィンオキシド[(CP(=O)]の生成を抑制する効果があるため、添加することが望ましい。アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属リン酸塩、及びアルカリ金属カルボン酸塩の具体的な種類としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、酢酸ナトリウム、及び酢酸カリウム等が挙げられるが、これらのうち、炭酸水素ナトリウムが特に入手も容易であり好ましく用いられる。また、添加量は2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンに対して5〜20モル%が好ましい。5モル%よりも少ないと効果は認められず、一方、20モル%より多く加えても効果は同じである。 In the present invention, an alkali metal hydrogen carbonate, an alkali metal phosphate, or an alkali metal carboxylate can coexist in the reaction system. The addition of these has the effect of suppressing the generation of triphenylphosphine oxide [(C 6 H 5 ) 3 P (═O)], which is a by-product derived from a quaternary phosphonium salt, in the reaction system. It is desirable to do. Specific types of alkali metal bicarbonate, alkali metal phosphate, and alkali metal carboxylate include sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, lithium bicarbonate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, phosphoric acid Examples thereof include sodium, potassium phosphate, sodium acetate, and potassium acetate. Among these, sodium hydrogen carbonate is particularly easily available and is preferably used. Further, the addition amount is preferably 5 to 20 mol% with respect to 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane. If the amount is less than 5 mol%, no effect is observed. On the other hand, if the amount is added more than 20 mol%, the effect is the same.

本発明における反応が十分に進行するのに必要な反応時間は、4級ホスホニウム塩を添加した後、3〜15時間である。この時間より短いと安定した塩とならない部分が生成する恐れがあり、一方で、この時間より長くても効果は同じであり長時間をかけることにより生産性を低下させることがある。   The reaction time required for the reaction in the present invention to proceed sufficiently is 3 to 15 hours after the addition of the quaternary phosphonium salt. If the time is shorter than this time, a portion that does not become a stable salt may be formed. On the other hand, if the time is longer than this time, the effect is the same, and the productivity may be lowered by taking a long time.

上記の方法で得られた、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩のスラリー液から濾過し、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩の結晶を取出す。その後、乾燥することによって、含フッ素エラストマー用加硫促進剤として使用できる2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン4級ホスホニウム塩を製造する。   The 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-4 quaternary phosphonium salt slurry obtained by the above method was filtered to obtain 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-4. A crystal of a quaternary phosphonium salt is taken out. Thereafter, by drying, a 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane quaternary phosphonium salt that can be used as a vulcanization accelerator for a fluorine-containing elastomer is produced.

このときの濾過操作(「濾別操作」とも言う)について説明する。   The filtering operation at this time (also referred to as “filtering operation”) will be described.

本発明では、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩には、目的物以外に、アルカリ金属の無機物やハロゲン化物等の無機物等、多くの不純物が含んでいる状態として得られるが、得られた目的物を通常の濾過操作により不純物と容易に分離できる。   In the present invention, the 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt contains many impurities such as inorganic substances such as alkali metals and halides in addition to the target substance. Although obtained as a state, the obtained target product can be easily separated from impurities by a normal filtration operation.

濾過の方法としては、減圧濾過、加圧濾過、遠心分離などの方法があるが、その方法に制約はない。濾過分離時には結晶に付着した不純物を除くため、水洗浄をすることが好ましく、洗浄する際の水の量としては、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩の理論回収重量に対して1〜3倍の量が好ましい。この量より少ないと付着した不純物が除去できない可能性があり、一方、この量より多くても問題ないが、それ以上の効果は認められず、さらに排水量が増え排水処理費が増えるなど経済的に不利益を生じさせることがある。   Examples of the filtration method include vacuum filtration, pressure filtration, and centrifugal separation, but the method is not limited. In order to remove impurities adhering to the crystals at the time of filtration and separation, it is preferable to wash with water. The amount of water used for washing is 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt. An amount of 1 to 3 times the theoretical recovered weight is preferred. If the amount is less than this amount, the attached impurities may not be removed. On the other hand, if the amount is greater than this amount, there is no problem, but no further effect is observed, and the amount of wastewater increases and wastewater treatment costs increase. May cause disadvantages.

濾過後に得られた目的物を乾燥する際、乾燥に用いる乾燥装置は減圧静置乾燥機、減圧振動乾燥機、減圧コニカルドライヤー、減圧ナウター乾燥機などがあるが、減圧のできる乾燥機であれば特に制約はない。乾燥は減圧乾燥で行うが、含水結晶は初めから高い温度で乾燥すると溶融する恐れがあるので、乾燥初期時は40℃の低い温度から開始し、徐々に60℃に昇温することが好ましい。昇温方法に特に規定はないが、減圧にて結晶が溶融しないように昇温することが好ましい(詳細は実施例を参照)。   When drying the target product obtained after filtration, the drying equipment used for drying includes a vacuum stationary dryer, a vacuum vibration dryer, a vacuum conical dryer, a vacuum nauter dryer, etc. There are no particular restrictions. Drying is carried out under reduced pressure. Since the water-containing crystals may melt when dried at a high temperature from the beginning, it is preferable to start at a low temperature of 40 ° C. and gradually increase the temperature to 60 ° C. at the initial stage of drying. Although there are no particular rules for the temperature raising method, it is preferable to raise the temperature so that the crystals are not melted under reduced pressure (for details, see Examples).

[実施例]
実施例により本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[Example]
Embodiments of the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

なお、明細書において、ベンジルトリフェニルホスホニウムを「BTP」と、及びベンジルトリフェニルホスホニウムクロリドを「BTPCl」と表すことがある。 In the specification, benzyltriphenylphosphonium may be represented as “BTP” and benzyltriphenylphosphonium chloride may be represented as “BTPCl”.

ジムロート管、温度計を備えた1L四つ口フラスコにBIS−AF:50.0g(0.149mol)及び水:345.5g 仕込み、攪拌しながら内温を40℃に昇温し、5wt%水酸化ナトリウム水溶液30.3g(0.038mol)を加え、30分攪拌し、BIS−AFの0.25Na塩のスラリーを形成させる。次に、7wt%BTPCl水溶液:210.7g(0.038mol)を3〜4g/minの速度で滴下し、3時間攪拌し、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−ベンジルトリフェニルホスホニウムの4:1塩のスラリーを得た。   A 1 L four-necked flask equipped with a Dimroth tube and a thermometer was charged with BIS-AF: 50.0 g (0.149 mol) and water: 345.5 g, and the internal temperature was raised to 40 ° C. while stirring, and 5 wt% water. Add 30.3 g (0.038 mol) of an aqueous sodium oxide solution and stir for 30 minutes to form a slurry of BIS-AF 0.25Na salt. Next, 7 wt% BTPCl aqueous solution: 210.7 g (0.038 mol) was added dropwise at a rate of 3 to 4 g / min, stirred for 3 hours, and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-benzyltri A slurry of phenylphosphonium 4: 1 salt was obtained.

つづいて、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−ベンジルトリフェニルホスホニウムの4:1塩のスラリーを濾別回収し、回収した固形物を570.0gの水で洗浄し、1333pa、温度40℃で1時間30分、1333pa、温度45℃で1時間、1333pa、温度50℃で2時間、1333pa、温度60℃で1時間乾燥した。乾燥後重量は60.3gであった。その結果、組成は液体クロマトグラフィーの分析で、BIS−AFが65.11%(79.68mol%)、BTPが34.72%(20.32mol%)、BTPClに由来する不純物のトリフェニルホスフィンオキシドが0.10%であり、融点は100〜118℃(TG−DTA吸熱ピーク読み値)であった。BIS−AFからの総合収率は95%であった。   Subsequently, a slurry of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-benzyltriphenylphosphonium 4: 1 salt was collected by filtration, and the collected solid was washed with 570.0 g of water to obtain 1333 pa. 1 hour 30 minutes at a temperature of 40 ° C, 1333pa, 1 hour at a temperature of 45 ° C, 1333pa, 2 hours at a temperature of 50 ° C, 1333pa, 1 hour at a temperature of 60 ° C. The weight after drying was 60.3 g. As a result, the composition was analyzed by liquid chromatography. BIS-AF was 65.11% (79.68 mol%), BTP was 34.72% (20.32 mol%), and impurities derived from BTPCl, triphenylphosphine oxide The melting point was 100 to 118 ° C. (TG-DTA endothermic peak reading). The overall yield from BIS-AF was 95%.

ジムロート管、温度計を備えた1L四つ口フラスコにBIS−AF:50.0g(0.149mol)及び水:345.5g 仕込み、攪拌しながら内温を20℃に昇温し、5wt%水酸化ナトリウム水溶液30.3g(0.038mol)を加え、30分攪拌し、BIS−AFの0.25Na塩のスラリーを形成させる。次に炭酸水素ナトリウム:1.3gを添加し、内温を40℃に昇温し、30分攪拌した後に、7wt%BTPCl水溶液:210.7g(0.038mol)を3〜4g/minの速度で滴下し、3時間攪拌し、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−ベンジルトリフェニルホスホニウムの4:1塩のスラリーを得た。   A 1 L four-necked flask equipped with a Dimroth tube and a thermometer was charged with BIS-AF: 50.0 g (0.149 mol) and water: 345.5 g, and the internal temperature was raised to 20 ° C. while stirring, and 5 wt% water. Add 30.3 g (0.038 mol) of an aqueous sodium oxide solution and stir for 30 minutes to form a slurry of BIS-AF 0.25Na salt. Next, 1.3 g of sodium bicarbonate was added, the internal temperature was raised to 40 ° C., and the mixture was stirred for 30 minutes, and then 7 wt% BTPCl aqueous solution: 210.7 g (0.038 mol) was added at a rate of 3 to 4 g / min. And stirred for 3 hours to obtain a slurry of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-benzyltriphenylphosphonium 4: 1 salt.

つづいて、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−ベンジルトリフェニルホスホニウムの4:1塩のスラリーを濾別回収し、回収した固形物を450.0gの水で洗浄し、1333pa、温度40℃で1時間30分、1333pa、温度45℃で1時間、1333pa、温度50℃で2時間、1333pa、温度60℃で1時間乾燥した。乾燥後重量は60.0gであった。その結果、組成は液体クロマトグラフィーの分析で、BIS−AFが64.91%(79.47mol%)、BTPが35.08%(20.53mol%)、BTPClに由来する不純物のトリフェニルホスフィンオキシドは検出されず、融点は116〜118℃(TG−DTA吸熱ピーク読み値)であった。BIS−AFからの総合収率は95%であった。   Subsequently, a slurry of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-benzyltriphenylphosphonium 4: 1 salt was collected by filtration, and the collected solid was washed with 450.0 g of water to obtain 1333 pa. 1 hour 30 minutes at a temperature of 40 ° C, 1333pa, 1 hour at a temperature of 45 ° C, 1333pa, 2 hours at a temperature of 50 ° C, 1333pa, 1 hour at a temperature of 60 ° C. The weight after drying was 60.0 g. As a result, the composition was analyzed by liquid chromatography, BIS-AF was 64.91% (79.47 mol%), BTP was 35.08% (20.53 mol%), and impurities derived from BTPCl, triphenylphosphine oxide Was not detected, and the melting point was 116 to 118 ° C. (TG-DTA endothermic peak reading). The overall yield from BIS-AF was 95%.

ジムロート管、温度計を備えた1L四つ口フラスコにBIS−AF:50.0g(0.149mol)及び水:520.9g 仕込み、攪拌しながら内温を20℃に昇温し、5.7wt%水酸化ナトリウム水溶液52.2g(0.074mol)を加え、30分攪拌し、BIS−AFの0.5Na塩のスラリーを形成させる。次に炭酸水素ナトリウム:2.5gを添加し、内温を40℃に昇温し、30分攪拌した後に、7wt%BTPCl水溶液:413.1g(0.038mol)を3〜4g/minの速度で滴下し、1時間攪拌し、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−ベンジルトリフェニルホスホニウムの2:1塩のスラリーを得た
つづいて、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−ベンジルトリフェニルホスホニウムの2:1塩のスラリーを濾別回収し、回収した固形物を450.0gの水で洗浄し、1333pa、温度40℃で1時間30分、1333pa、温度45℃で1時間、1333pa、温度50℃で2時間、1333pa、温度60℃で1時間乾燥した。乾燥後重量は73.43gであった。その結果、組成は液体クロマトグラフィーの分析で、BIS−AFが49.03%(66.71mol%)、BTPが50.91%(33.29mol%)、BTPClに由来する不純物のトリフェニルホスフィンオキシドが0.01%であり、融点は187〜194℃(TG−DTA吸熱ピーク読み値)であった。BIS−AFからの総合収率は96%であった。
A 1 L four-necked flask equipped with a Dimroth tube and a thermometer was charged with BIS-AF: 50.0 g (0.149 mol) and water: 520.9 g, and the internal temperature was raised to 20 ° C. while stirring to 5.7 wt. 52.2 g (0.074 mol) of an aqueous sodium hydroxide solution is added and stirred for 30 minutes to form a 0.5Na salt slurry of BIS-AF. Next, 2.5 g of sodium hydrogen carbonate was added, the internal temperature was raised to 40 ° C., and the mixture was stirred for 30 minutes. And stirred for 1 hour to obtain a slurry of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-benzyltriphenylphosphonium 2: 1 salt, followed by 2,2-bis (4-hydroxy A slurry of a 2: 1 salt of (phenyl) hexafluoropropane-benzyltriphenylphosphonium was collected by filtration, and the collected solid was washed with 450.0 g of water, 1333 pa, temperature 40 ° C. for 1 hour 30 minutes, 1333 pa, It was dried at a temperature of 45 ° C. for 1 hour, 1333 pa, at a temperature of 50 ° C. for 2 hours, 1333 pa and a temperature of 60 ° C. for 1 hour. The weight after drying was 73.43g. As a result, the composition was analyzed by liquid chromatography. BIS-AF was 49.03% (66.71 mol%), BTP was 50.91% (33.29 mol%), and impurities derived from BTPCl were triphenylphosphine oxide. The melting point was 187 to 194 ° C. (TG-DTA endothermic peak reading). The overall yield from BIS-AF was 96%.

本発明で対象とする2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩は、含フッ素エラストマー用加硫促進剤として利用できる。 The 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt targeted in the present invention can be used as a vulcanization accelerator for a fluorine-containing elastomer.

Claims (6)

2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンを、水の存在下、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、又はアルカリ金属炭酸塩と反応させて2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンのアルカリ金属塩とし、得られた該アルカリ金属塩に4級ホスホニウム塩を反応させ、反応系内にアルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属リン酸塩、又はアルカリ金属カルボン酸塩を更に加えることを特徴とする、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩の製造方法。 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane is reacted with an alkali metal hydroxide, alkali metal alkoxide, or alkali metal carbonate in the presence of water to give 2,2-bis (4-hydroxyphenyl). ) Hexafluoropropane alkali metal salt, the obtained alkali metal salt is reacted with a quaternary phosphonium salt , and an alkali metal bicarbonate, alkali metal phosphate, or alkali metal carboxylate is further added to the reaction system. Additionally characterized Rukoto, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) mETHOD hexafluoropropane -4 quaternary phosphonium salts. 前記反応を、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン1モルに対して0.5モルのアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、又はアルカリ金属炭酸塩、
及び、0.5モルの4級ホスホニウム塩と反応させることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
The reaction is carried out with 0.5 mol of alkali metal hydroxide, alkali metal alkoxide, or alkali metal carbonate with respect to 1 mol of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane,
And reacting with 0.5 mol of a quaternary phosphonium salt.
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩における2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンと4級ホスホニウム塩のモル比が、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン:4級ホスホニウム塩=2:1である、請求項1または2に記載の方法。 The molar ratio of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane to quaternary phosphonium salt in 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt is 2,2-bis ( The method according to claim 1 or 2, wherein 4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane: quaternary phosphonium salt = 2: 1. 前記反応を、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン1モルに対して0.25モルのアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、又はアルカリ金属炭酸塩、
及び、0.25モルの4級ホスホニウム塩と反応させることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
The reaction is carried out by adding 0.25 mol of alkali metal hydroxide, alkali metal alkoxide, or alkali metal carbonate to 1 mol of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane,
And reacting with 0.25 mol of quaternary phosphonium salt.
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩における2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンと4級ホスホニウム塩のモル比が、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン:4級ホスホニウム塩=4:1である、請求項1または4に記載の方法。 The molar ratio of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane to quaternary phosphonium salt in 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane-quaternary phosphonium salt is 2,2-bis ( The method according to claim 1 or 4, wherein 4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane: quaternary phosphonium salt = 4: 1. 反応後に得られた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン−4級ホスホニウム塩と、不純物とを含む混合物を濾別し、不純物を分離する工程を更に含む、請求項1乃至の何れかに記載の方法。
Obtained after the reaction of 2,2-bis and (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane -4 quaternary phosphonium salt was filtered off a mixture containing impurities, further comprising the step of separating the impurities, according to claim 1 to 5 The method in any one of.
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