JP5985294B2 - Mist generator - Google Patents

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本発明は、水または化粧水などの液体を微細なミストにして送出するミスト発生装置に関する。このミスト発生装置は、例えば、肌に潤いのある状態にする加湿器として、あるいは喉や口腔を湿らせる吸入器として使用できる。さらに、洗濯槽の内部に配置してミスト状の洗剤や柔軟剤を放出する液体散布器として使用することができる。   The present invention relates to a mist generating apparatus that sends a liquid such as water or lotion into a fine mist. This mist generating device can be used, for example, as a humidifier that moisturizes the skin or as an inhaler that moistens the throat and oral cavity. Furthermore, it can be used as a liquid spreader that is disposed inside the washing tub and releases a mist-like detergent or softener.

本発明に係るミスト発生装置は、回転基板上に送給された液体を遠心力で跳ね飛ばして、回転基板上に設けた衝突壁に衝突させることにより液体を微細化するが、この種のミスト発生装置は例えば特許文献1に公知である。そこでは、対向する一対の円盤の間に中心から放射状に伸びる8枚の羽根と、多数の邪魔部材とが、円盤と一体に設けてあり、回転する円盤の間に液体を送給すると、液体が遠心力で跳ね飛ばされてミスト化され、邪魔部材に衝突することによってさらに微細化されて、円盤の間から外方へ放出されるようにしている。   The mist generating apparatus according to the present invention finely divides a liquid by splashing the liquid fed onto the rotating substrate with a centrifugal force and causing it to collide with a collision wall provided on the rotating substrate. A generator is known, for example, from US Pat. There, eight blades extending radially from the center between a pair of opposing disks and a number of baffle members are provided integrally with the disk, and when liquid is fed between the rotating disks, Is blown off by a centrifugal force to be misted, further refined by colliding with a baffle member, and discharged outward from between the disks.

同様のミスト発生装置は特許文献2にも開示されている。そこでは、上下一対の円板の間に、径方向に伸びる多数の案内路を有する環状壁と、案内路の出口に臨む多数のコロとが設けてある。回転する一対の円板の間に液体を送給すると、液体が遠心力で跳ね飛ばされてミスト化され、案内路を通ってコロに衝突することによりさらに液体が微細化される。   A similar mist generator is also disclosed in Patent Document 2. There, an annular wall having a large number of guide paths extending in the radial direction and a large number of rollers facing the exit of the guide paths are provided between a pair of upper and lower disks. When the liquid is fed between a pair of rotating disks, the liquid is splashed by centrifugal force to be misted, and the liquid is further refined by colliding with the rollers through the guide path.

国際公開第98/05432号(第15頁第5〜19行、第8図)International Publication No. 98/05432 (Page 15, Lines 5-19, Figure 8) 実開昭62−179052号のマイクロフィルム(第8頁第6〜8行、第2図)Japanese Utility Model Sho 62-179052 microfilm (page 8, lines 6-8, Fig. 2)

特許文献1の邪魔部材、および特許文献2のコロは、共に円柱形状に形成されている。このため、液体が邪魔部材等に衝突したときに、液体に加わる衝突エネルギーが円柱表面で分散されることが避けられず、効率的に液体をミスト化することができず、ミスト径の微細化を図ることが困難である。   Both the baffle member of Patent Document 1 and the roller of Patent Document 2 are formed in a cylindrical shape. For this reason, when the liquid collides with a baffle member or the like, it is inevitable that the collision energy applied to the liquid is dispersed on the cylindrical surface, the liquid cannot be efficiently misted, and the mist diameter is reduced. It is difficult to plan.

本発明の目的は、効率的に微細なミストを生成できるミスト発生装置を提供することにある。   The objective of this invention is providing the mist generator which can produce | generate fine mist efficiently.

本発明は、回転駆動される回転基板70と、ミスト生成用の液体8を回転基板70に送給する液体送給手段9とを備えている。衝突壁81と液体通路83とを交互に配置してなる環状の衝突壁列82を、回転基板70の回転中心を囲む状態で、径方向へ少なくとも二重に設けている。各衝突壁列82は、外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されている。回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、W>H、W>Tの関係を満たすように設定されている。   The present invention includes a rotating substrate 70 that is rotationally driven, and a liquid feeding means 9 that feeds the mist generating liquid 8 to the rotating substrate 70. An annular collision wall row 82 formed by alternately arranging the collision walls 81 and the liquid passages 83 is provided at least twice in the radial direction so as to surround the rotation center of the rotary substrate 70. Each collision wall row 82 is arranged in a state where a collision wall 81 constituting the outer collision wall row 82 faces the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82. The width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protruding dimension H of the collision wall 81 are W> H, W>. It is set to satisfy the relationship of T.

本発明で言うところの「環状の衝突壁列」とは、図5に示すように、径寸法の異なる衝突壁列82が複数個形成されている形態のほか、図13に示すように、衝突壁列82が螺旋状に形成されている形態をも含む概念である。また、本発明において「外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されている」とは、一つの例外も無く、全ての外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されていることを意味するものではなく、大多数の外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されていることをも含む概念である。   The “annular collision wall row” referred to in the present invention is not only a form in which a plurality of collision wall rows 82 having different diameters are formed as shown in FIG. 5, but also as shown in FIG. This is a concept including a form in which the wall row 82 is formed in a spiral shape. Further, in the present invention, “the collision wall 81 constituting the outer collision wall row 82 is disposed in a state of facing the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82” is without any exception, and is all It does not mean that the collision wall 81 constituting the outer collision wall row 82 is arranged in a state of facing the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82, and the majority of the outer collision wall rows 82 This is a concept that includes that the collision wall 81 constituting 82 is arranged in a state of facing the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82.

また、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、W>H>Tの関係を満たすように設定されている。   Further, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protruding dimension H of the collision wall 81 are W> H>. It is set to satisfy the relationship of T.

また、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、W>T>Hの関係を満たすように設定されている。   Further, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protruding dimension H of the collision wall 81 are W> T>. It is set to satisfy the relationship of H.

また、回転基板70は、基板本体80と衝突壁81とを含み、基板本体80の厚み寸法Eと、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、E>W>H>Tの関係を満たすように設定されている。   The rotating substrate 70 includes a substrate body 80 and a collision wall 81, and the thickness dimension E of the substrate body 80, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, and the radial direction of the rotating substrate 70. The thickness dimension T of the collision wall 81 and the protrusion dimension H of the collision wall 81 are set so as to satisfy the relationship E> W> H> T.

また、回転基板70は、基板本体80と衝突壁81とを含み、基板本体80の厚み寸法Eと、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、E>W>T>Hの関係を満たすように設定されている。   The rotating substrate 70 includes a substrate body 80 and a collision wall 81, and the thickness dimension E of the substrate body 80, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, and the radial direction of the rotating substrate 70. The thickness dimension T of the collision wall 81 and the protrusion dimension H of the collision wall 81 are set so as to satisfy the relationship E> W> T> H.

また、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hと、衝突壁列82の液体通路83の通路幅Aとが、W>H>T>Aの関係を満たすように設定されている。   Further, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, the protruding dimension H of the collision wall 81, and the collision wall row 82 The passage width A of the liquid passage 83 is set so as to satisfy the relationship of W> H> T> A.

また、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hと、衝突壁列82の液体通路83の通路幅Aとが、W>T>H>Aの関係を満たすように設定されている。   Further, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, the protruding dimension H of the collision wall 81, and the collision wall row 82 The passage width A of the liquid passage 83 is set so as to satisfy the relationship of W> T> H> A.

また、内外の衝突壁列82を構成する衝突壁81の間に形成される周方向の液体通路84の通路幅Bと、衝突壁列82の液体通路83の通路幅Aとが、B>Aの関係を満たすように設定されている。   Further, the passage width B of the circumferential liquid passage 84 formed between the collision walls 81 constituting the inner and outer collision wall row 82 and the passage width A of the liquid passage 83 of the collision wall row 82 are such that B> A It is set to satisfy the relationship.

衝突壁81の壁面90に凹凸部95を形成して、壁面90が粗面化されている。   An uneven portion 95 is formed on the wall surface 90 of the collision wall 81 so that the wall surface 90 is roughened.

本発明に係るミスト発生装置においては、衝突壁81を有する回転基板70により、液滴を分離・分散(粉砕)させることができるので、液体を確実に微細化して、細かなミストを得ることが可能となる。回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとする。W>Hの関係を満たすように設定することにより、衝突壁81を設けることに伴う回転基板70全体の厚み寸法の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。さらにW>Tの関係を満たすように設定することにより、回転基板70の小径化を実現してミスト発生装置の全体を小型化できる。これにより、ミストを生成するための回転基板4が小径であり、全体として小型であるにもかかわらず、微細なミストを生成できるミスト発生装置を得ることができる。   In the mist generating apparatus according to the present invention, since the droplets can be separated and dispersed (pulverized) by the rotating substrate 70 having the collision wall 81, the liquid can be reliably miniaturized to obtain a fine mist. It becomes possible. The width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protruding dimension H of the collision wall 81 are set. By setting so as to satisfy the relationship of W> H, it is possible to suppress an increase in the thickness of the entire rotating substrate 70 due to the provision of the collision wall 81 and to realize a reduction in the size of the mist generating device. Furthermore, by setting so as to satisfy the relationship of W> T, it is possible to reduce the diameter of the rotating substrate 70 and to reduce the size of the mist generating apparatus as a whole. Thereby, although the rotary substrate 4 for generating mist has a small diameter and is small as a whole, a mist generator capable of generating fine mist can be obtained.

また、本発明に係るミスト発生装置においては、衝突壁81と液体通路83とを交互に配置した環状の衝突壁列82を少なくとも二重に設け、外側の衝突壁列82の衝突壁81を、内側の衝突壁列82の液体通路83に対向させたので、液体が最外周の衝突壁列82の外方へ飛び出るまでの間に、該液体を衝突壁81に確実に衝突させることができる。したがって、液体を微細化して、細かなミストを得ることができる。   Further, in the mist generating apparatus according to the present invention, at least double annular collision wall rows 82 in which the collision walls 81 and the liquid passages 83 are alternately arranged are provided, and the collision wall 81 of the outer collision wall row 82 is provided, Since the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82 is opposed to the liquid, the liquid can be reliably collided with the collision wall 81 until the liquid jumps out of the outermost outer collision wall row 82. Therefore, it is possible to obtain a fine mist by refining the liquid.

回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、W>H>Tの関係を満たすように設定されていると、回転基板70の小径化を図りながら、衝突壁81の衝突面積を大きくすることができる。すなわち、衝突壁81の厚み寸法Tを小さくしながら、衝突壁81の幅寸法Wと衝突壁の突出寸法Hとで規定される、外側の衝突壁列82の衝突壁81の壁面面積(W×H)を大きく取ることができる。これにて、衝突壁81の厚み寸法Tを小さくして、回転基板70の小径化を図りながら、より確実に内側の衝突壁列82の液体通路83から送出された液滴を、外側の衝突壁列82の衝突壁81に衝突させて、効率的にミスト径の微細化を図ることが可能となる。   The width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protruding dimension H of the collision wall 81 satisfy W> H> T. If the relationship is set so as to satisfy the relationship, the collision area of the collision wall 81 can be increased while reducing the diameter of the rotating substrate 70. That is, while reducing the thickness dimension T of the collision wall 81, the wall surface area (W × X) of the collision wall 81 of the outer collision wall row 82 defined by the width dimension W of the collision wall 81 and the protrusion dimension H of the collision wall. H) can be greatly increased. As a result, the thickness T of the collision wall 81 is reduced to reduce the diameter of the rotating substrate 70, and the droplets sent from the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82 are more reliably transferred to the outer collision. It is possible to efficiently reduce the mist diameter by colliding with the collision wall 81 of the wall row 82.

回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、W>T>Hの関係を満たすように設定されていると、回転基板70の小径化を図ることができる。衝突壁81の突出寸法を抑制して衝突壁81の強度を増すことができるとともに、回転基板70全体の厚み寸法(上下寸法)の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。回転基板70の厚み寸法が大きくなれば回転基板70を固定するモーター4の回転軸56に負荷がかかりモーター4の寿命に影響するが、これを可及的に抑制することができる。   The width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protruding dimension H of the collision wall 81 satisfy W> T> H. If the relationship is set so as to satisfy the relationship, the diameter of the rotating substrate 70 can be reduced. The protrusion size of the collision wall 81 can be suppressed to increase the strength of the collision wall 81, and the increase in the thickness dimension (vertical dimension) of the entire rotating substrate 70 can be suppressed to realize the miniaturization of the mist generating device. Can do. If the thickness dimension of the rotating substrate 70 is increased, a load is applied to the rotating shaft 56 of the motor 4 that fixes the rotating substrate 70 and affects the life of the motor 4, but this can be suppressed as much as possible.

基板本体80の厚み寸法Eと、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、E>W>H>Tの関係を満たすように設定されていると、先と同様に、回転基板70の小径化を図りながら、衝突壁81の衝突面積を大きくすることができる。また、基板本体80の厚み寸法Eを大きく取って、回転基板70を強度に優れたものとすることができる。加えて、回転基板70の重量を大きくして、その慣性重量を大きくすることができるので、回転基板70の回転姿勢を安定化することができる。   The thickness dimension E of the substrate body 80, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protruding dimension H of the collision wall 81 Are set so as to satisfy the relationship of E> W> H> T, the collision area of the collision wall 81 can be increased while reducing the diameter of the rotating substrate 70 as before. Moreover, the thickness dimension E of the board | substrate body 80 can be taken large, and the rotating board 70 can be made excellent in intensity | strength. In addition, since the weight of the rotating substrate 70 can be increased and the inertia weight thereof can be increased, the rotational posture of the rotating substrate 70 can be stabilized.

基板本体80の厚み寸法Eと、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、E>W>T>Hの関係を満たすように設定されていると、先と同様に、衝突壁81の突出寸法を抑制して衝突壁81の強度を増すことができるとともに、回転基板70全体の厚み寸法(上下寸法)の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。また、基板本体80の厚み寸法Eを大きく取って、回転基板70を強度に優れたものとすることができる。加えて、回転基板70の重量を大きくして、その慣性重量を大きくすることができるので、回転基板70の回転姿勢を安定化することができる。   The thickness dimension E of the substrate body 80, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protruding dimension H of the collision wall 81 Is set so as to satisfy the relationship of E> W> T> H, the protrusion dimension of the collision wall 81 can be suppressed and the strength of the collision wall 81 can be increased and rotation can be performed as before. An increase in the thickness dimension (vertical dimension) of the entire substrate 70 can be suppressed, and the mist generator can be downsized. Moreover, the thickness dimension E of the board | substrate body 80 can be taken large, and the rotating board 70 can be made excellent in intensity | strength. In addition, since the weight of the rotating substrate 70 can be increased and the inertia weight thereof can be increased, the rotational posture of the rotating substrate 70 can be stabilized.

回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hと、衝突壁列82の液体通路83の通路幅Aとが、W>H>T>Aの関係を満たすように設定されていると、先と同様に、回転基板70の小径化を図りながら、衝突壁81の衝突面積を大きくすることができる。加えて、衝突壁81の突出寸法Hを、液体通路83の通路幅Aよりも大きくしていると、これら衝突壁81の突出寸法Hと液体通路83の通路幅Aとで規定される液体通路の断面積(H×A)を大きく取ることができるので、液体通路83内の液体の流れをスムーズなものとすることができる。   The width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, the protruding dimension H of the collision wall 81, and the liquid passage of the collision wall row 82 If the passage width A of 83 is set so as to satisfy the relationship of W> H> T> A, the collision area of the collision wall 81 is increased while reducing the diameter of the rotating substrate 70 as before. can do. In addition, if the projecting dimension H of the collision wall 81 is larger than the passage width A of the liquid passage 83, the liquid passage defined by the projecting dimension H of the collision wall 81 and the passage width A of the liquid passage 83 will be described. Since the cross sectional area (H × A) can be made large, the flow of the liquid in the liquid passage 83 can be made smooth.

回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hと、衝突壁列82の液体通路83の通路幅Aとが、W>T>H>Aの関係を満たすように設定されていると、先と同様に、衝突壁81の突出寸法を抑制して衝突壁81の強度を増すことができるとともに、回転基板70全体の厚み寸法(上下寸法)の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。加えて、衝突壁81の突出寸法Hを、液体通路83の通路幅Aよりも大きくしていると、これら衝突壁81の突出寸法Hと液体通路83の通路幅Aとで規定される液体通路の断面積(H×A)を大きく取ることができるので、液体通路83内の液体の流れをスムーズなものとすることができる。   The width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, the protruding dimension H of the collision wall 81, and the liquid passage of the collision wall row 82 If the passage width A of 83 is set so as to satisfy the relationship of W> T> H> A, the projection size of the collision wall 81 is suppressed and the strength of the collision wall 81 is increased as before. In addition, an increase in the thickness dimension (vertical dimension) of the entire rotating substrate 70 can be suppressed, and the mist generator can be downsized. In addition, if the projecting dimension H of the collision wall 81 is larger than the passage width A of the liquid passage 83, the liquid passage defined by the projecting dimension H of the collision wall 81 and the passage width A of the liquid passage 83 will be described. Since the cross sectional area (H × A) can be made large, the flow of the liquid in the liquid passage 83 can be made smooth.

内外の衝突壁列82を構成する衝突壁81の間に形成される周方向の液体通路84の通路幅Bと、衝突壁列82の液体通路83の通路幅Aとが、B>Aの関係を満たすように設定されていると、衝突壁列82の液体通路81の通路幅Aを小さくしたことに由来する、衝突壁81に対する液体の衝突エネルギーの向上効果が期待できる。したがって、より効率的に液体を衝突壁81に衝突させて、ミスト径を微細化できる。   The relationship B> A is established between the passage width B of the circumferential liquid passage 84 formed between the collision walls 81 constituting the inner and outer collision wall rows 82 and the passage width A of the liquid passage 83 of the collision wall rows 82. If it is set so as to satisfy the condition, the effect of improving the collision energy of the liquid against the collision wall 81 resulting from the reduction in the passage width A of the liquid passage 81 of the collision wall row 82 can be expected. Therefore, it is possible to make the mist diameter finer by causing the liquid to collide with the collision wall 81 more efficiently.

回転基板70に設けられた衝突壁81の壁面90に凹凸部95を形成して、壁面90を粗面化した。これによれば、壁面90に衝突した液滴をより効率的に分離・分散(粉砕)させることができるので、液体を確実に微細化して、細かなミストを得ることが可能となる。加えて、壁面90に凹凸部95を形成したので、該壁面90の表面で液滴が団粒化することを防ぐことができ、したがって、より細かなミストを得ることができるとともに、ミスト径の均一化を図ることができる。   An uneven portion 95 was formed on the wall surface 90 of the collision wall 81 provided on the rotating substrate 70 to roughen the wall surface 90. According to this, since the liquid droplets colliding with the wall surface 90 can be more efficiently separated and dispersed (pulverized), the liquid can be reliably miniaturized and fine mist can be obtained. In addition, since the concavo-convex portion 95 is formed on the wall surface 90, it is possible to prevent droplets from aggregating on the surface of the wall surface 90. Therefore, a finer mist can be obtained and the mist diameter can be reduced. Uniformity can be achieved.

本発明の第1実施形態に係るミスト発生装置の要部の斜視図である。It is a perspective view of the principal part of the mist generator which concerns on 1st Embodiment of this invention. ミスト発生装置の概略構造を示す縦断側面図である。It is a vertical side view which shows schematic structure of a mist generator. ミスト発生装置のミスト発生部を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the mist generating part of a mist generating apparatus. ミスト発生装置のミスト発生部の分解図である。It is an exploded view of the mist generating part of a mist generating apparatus. 回転基板を示す平面図である。It is a top view which shows a rotation board. ミスト発生装置の要部の縦断側面図である。It is a vertical side view of the principal part of a mist generator. ミスト発生装置の制御構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the control structure of a mist generator. (a)・(b)はミスト発生装置の制御方法を説明するためのタイムチャートである。(A) * (b) is a time chart for demonstrating the control method of a mist generator. ミスト発生装置の使用方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the usage method of a mist generator. ミスト発生装置の洗浄方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of a mist generator. (a)〜(c)は、ミスト発生装置を構成する回転基板の製造方法を説明するための図である。(A)-(c) is a figure for demonstrating the manufacturing method of the rotating substrate which comprises a mist generator. (a)〜(c)は、ミスト発生装置を構成する回転基板の製造方法を説明するための図である。(A)-(c) is a figure for demonstrating the manufacturing method of the rotating substrate which comprises a mist generator. 本発明の第2実施形態に係るミスト発生装置を構成する回転基板を示す平面図である。It is a top view which shows the rotating substrate which comprises the mist generator which concerns on 2nd Embodiment of this invention. (a)・(b)は、本発明の第3実施形態に係るミスト発生装置を構成する回転基板を示す縦断側面図である。(A) * (b) is a vertical side view which shows the rotation board which comprises the mist generator which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係るミスト発生装置を構成する回転基板を示す縦断側面図である。It is a vertical side view which shows the rotating substrate which comprises the mist generator which concerns on 4th Embodiment of this invention.

(第1実施形態) 図1乃至図12は本発明に係るミスト発生装置の第1実施形態を示す。図2に示すように、ミスト発生装置の筐体となる本体ケース1は、下方に設けられた上下方向に長い円筒状のグリップ部2と、該グリップ部2の上方に一体形成されたヘッド部3とで構成される樹脂成形品である。本発明における前後、左右、上下とは、図2乃至図6等に示す交差矢印と、各矢印の近傍に表記した前後、左右、上下の表示に従う。なお、図2における上下方向とは、グリップ部2の伸び方向を上下方向と規定しており、図3乃至図6においては、ヘッド部3の伸び方向を上下方向と規定しており、図2と、図3乃至図6とでは「上下方向」が異なることを補足する。   (First Embodiment) FIGS. 1 to 12 show a first embodiment of a mist generating apparatus according to the present invention. As shown in FIG. 2, a main body case 1 serving as a casing of the mist generating apparatus includes a cylindrical grip portion 2 that is provided in the lower portion and is long in the vertical direction, and a head portion that is integrally formed above the grip portion 2. 3 is a resin molded product. In the present invention, “front / rear”, “left / right”, and “upper / lower” follow the cross arrows shown in FIG. 2 to FIG. Note that the vertical direction in FIG. 2 defines the extending direction of the grip portion 2 as the vertical direction, and in FIGS. 3 to 6, the extending direction of the head portion 3 is defined as the vertical direction. It is supplemented that the “vertical direction” is different between FIGS.

図2に示すように、ヘッド部3は、グリップ部2に連設されたヘッドホルダー3aを含んで構成されており、その内部には、回転体5と、回転体5を回転駆動する回転体駆動手段(モーター)4と、回転体駆動手段4の回転軸に取り付けられるミスト供給用のファン(ファンユニット)46などで構成されるミスト発生部6が配置されている。ヘッドホルダー3aには、その前方側に吐出口185が、後方側に吸気口186が開口している。グリップ部2の下端にはミスト生成用の水(液体)8が収容されるタンク7が着脱自在に装着されており、グリップ部2の内部には、タンク7に収容されている水8をミスト発生部6に送給するための送給ポンプ(液体送給手段)9を含む液体送給部10、回転体駆動用のモーター4等に電力を供給するための電池11、帯電装置117(図7参照)のほか、ミスト発生装置の全体を制御するための制御回路13(図7参照)などが配置されている。図2において、符号14は、制御回路13のほか、帯電装置12を構成する発振回路124等が実装される制御基板を、符号15は、モーター4やポンプ9駆動用のモーター17等をオンオフ操作するためのメインスイッチを、符号16は、洗浄動作時にモーター4をオン操作するための洗浄スイッチを示す。これらメインスイッチ15および洗浄スイッチ16は、グリップ2の筐体前面に設けられている。   As shown in FIG. 2, the head unit 3 includes a head holder 3 a connected to the grip unit 2, and a rotator 5 and a rotator that rotationally drives the rotator 5 therein. A mist generating section 6 including a driving means (motor) 4 and a mist supply fan (fan unit) 46 attached to the rotating shaft of the rotating body driving means 4 is disposed. The head holder 3a has a discharge port 185 on the front side and an intake port 186 on the rear side. A tank 7 in which water (liquid) 8 for generating mist is accommodated is detachably attached to the lower end of the grip portion 2, and the water 8 accommodated in the tank 7 is mist inside the grip portion 2. A liquid feeding unit 10 including a feeding pump (liquid feeding means) 9 for feeding to the generating unit 6, a battery 11 for supplying electric power to the motor 4 for driving the rotating body, etc., and a charging device 117 (FIG. 7), and a control circuit 13 (see FIG. 7) for controlling the entire mist generator. In FIG. 2, reference numeral 14 denotes a control board on which the control circuit 13 and the oscillation circuit 124 constituting the charging device 12 are mounted, and reference numeral 15 denotes an on / off operation of the motor 4 and the motor 17 for driving the pump 9. Reference numeral 16 denotes a main switch for turning on the motor 4 during the cleaning operation. The main switch 15 and the cleaning switch 16 are provided on the front surface of the housing of the grip 2.

タンク7は、円筒形状のグリップ部2の外径寸法と一致する外径寸法を有する円筒容器状に形成された樹脂成形品であり、その上壁面7aには、液体送給部10を構成する吸込パイプ25の下端に装着されたストレーナー24の挿入を許す液体供給口20が上向きに突設されている。グリップ部2の下壁面2aには、吸込パイプ25の突出を許すパイプ用開口21が下向きに突設されており、該パイプ用開口21と液体供給口20との間に、タンク脱着機構が設けられている。タンク脱着機構は、グリップ部2側のパイプ用開口21に設けられた雄ねじ部21aと、タンク7側の液体供給口20に設けられた雄ねじ部21aと螺合結合する雌ねじ部20aとからなり、ストレーナー24および吸込パイプ25を液体供給口20からタンク7内に挿入したうえで、雄ねじ部21aの外面に雌ねじ部20aを所定方向に捩じ込むことにより、グリップ部2の下端にタンク7を装着固定することができる。また、グリップ部2の下端にタンク7が装着された状態から、先とは逆方向にタンク7を回転させることにより、雄ねじ部20aに対する雌ねじ部21aの螺合状態を解除して、タンク7をグリップ部2から取り外すことができる。また、タンク7をグリップ部2から取り外したうえで、液体供給口20からタンク7内に水を供給することで、タンク内7に水を充填することができる。符号22は、パイプ用開口21と吸込パイプ25との間に配されたシールリングを示す。   The tank 7 is a resin molded product formed in a cylindrical container shape having an outer diameter that matches the outer diameter of the cylindrical grip portion 2, and the upper wall surface 7 a constitutes the liquid feeding unit 10. A liquid supply port 20 that allows insertion of the strainer 24 attached to the lower end of the suction pipe 25 is projected upward. A pipe opening 21 that allows the suction pipe 25 to protrude is projected downward on the lower wall surface 2 a of the grip portion 2, and a tank detaching mechanism is provided between the pipe opening 21 and the liquid supply port 20. It has been. The tank detaching mechanism includes a male screw portion 21a provided in the pipe opening 21 on the grip portion 2 side, and a female screw portion 20a that is screwed and coupled to the male screw portion 21a provided in the liquid supply port 20 on the tank 7 side. After the strainer 24 and the suction pipe 25 are inserted into the tank 7 from the liquid supply port 20, the tank 7 is attached to the lower end of the grip portion 2 by screwing the female screw portion 20a into the outer surface of the male screw portion 21a in a predetermined direction. Can be fixed. Further, by rotating the tank 7 in the opposite direction from the state in which the tank 7 is attached to the lower end of the grip portion 2, the threaded state of the female screw portion 21a with respect to the male screw portion 20a is released, and the tank 7 is It can be removed from the grip part 2. In addition, the tank 7 can be filled with water by removing the tank 7 from the grip portion 2 and supplying water into the tank 7 from the liquid supply port 20. Reference numeral 22 denotes a seal ring disposed between the pipe opening 21 and the suction pipe 25.

液体送給部10は、グリップ部2の内部に配された送給ポンプ9と、送給ポンプ9を駆動するモーター17と、送給ポンプ9の吸込口からタンク7の内底に向かって伸びる吸込パイプ25と、送給ポンプ9の吐出口と回転体5との間に配置される吐出流路26とで構成される。吐出流路26は、送給ポンプ9の吐出口からヘッド部3の保護フード45にわたって配置される送給チューブ27と、保護フード45に形成される液体通路28と、液体通路28に連通されて回転体5に向かって伸びる送給管29とで構成される。送給ポンプ9は低圧仕様のギヤポンプからなり、毎秒0.01ml程度の水を吐出流路26へ送出する。送給ポンプ9は、少ない量の液体を送給するのに適するポンプであれば、ギヤポンプに限定されるのもではなく、チューブポンプなどを採用することができる。   The liquid supply unit 10 extends toward the inner bottom of the tank 7 from the supply pump 9 disposed inside the grip unit 2, the motor 17 that drives the supply pump 9, and the suction port of the supply pump 9. It is comprised by the suction pipe 25 and the discharge flow path 26 arrange | positioned between the discharge port of the feed pump 9, and the rotary body 5. FIG. The discharge channel 26 is in communication with the feed tube 27 disposed from the discharge port of the feed pump 9 to the protective hood 45 of the head unit 3, the liquid passage 28 formed in the protective hood 45, and the liquid passage 28. The feed pipe 29 extends toward the rotating body 5. The feed pump 9 is a low-pressure gear pump, and delivers about 0.01 ml of water to the discharge passage 26 per second. The feed pump 9 is not limited to a gear pump as long as it is suitable for feeding a small amount of liquid, and a tube pump or the like can be adopted.

図3および図4に示すように、ミスト発生部6が収容されるケース体180は、上下方向中央部に配されたベースケース30と、ベースケース30の下方に配された下ケース31と、ベースケース30の上方に配された上ケース32とで構成される。このミスト発生部6を収容したケース体180は、ヘッド部3内に装着されている。   As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the case body 180 in which the mist generating unit 6 is accommodated includes a base case 30 disposed in the central portion in the vertical direction, a lower case 31 disposed below the base case 30, The upper case 32 is disposed above the base case 30. The case body 180 that houses the mist generating unit 6 is mounted in the head unit 3.

ミスト発生部6を構成するモーター4を支持するモーターホルダー33は、ベースケース30および下ケース31に設けられた内筒壁35・38で構成される。より詳しくは、ベースケース30は、下方に開口を有する有底直円筒状の内筒壁35と、内筒壁35を囲むように配された外筒壁36と、これら内外筒壁35・36を橋絡する図外の連結腕とを備える二重筒状に構成されており、これら内外筒壁35・36の間に上下方向に連通する連通孔37が形成されている。下ケース31は、上方に開口を有する有底直円筒状の内筒壁38と、該内筒壁38を囲むように配された外筒壁39と、これら内外筒壁38・39を橋絡する図外の連結腕とを備える二重筒状に構成されており、これら内外筒壁38・39の間に上下方向に連通する連通孔40が形成されている。下ケース31の外筒壁39は、径寸法が均一なストレート部39aと、該ストレート部39aに連続して形成されて、下方に行くに従って漸次径寸法が大きくなるテーパー部39bとで構成されている。両ケース30・31の内筒壁35・38の径寸法、およびベースケース30の外筒壁36と下ケース31のストレート部39aの径寸法は、同寸法に設定されており、ベースケース30の下端に下ケース31を装着したとき、ケース体180の内部には、両ケース30・31の内筒壁35・38により内ケース182が形成される。この内ケース182がモーターホルダー33となる。外筒壁36・39の下方には開口41が形成されている。   The motor holder 33 that supports the motor 4 that constitutes the mist generating unit 6 includes inner cylindrical walls 35 and 38 provided in the base case 30 and the lower case 31. More specifically, the base case 30 includes a bottomed straight cylindrical inner cylinder wall 35 having an opening below, an outer cylinder wall 36 disposed so as to surround the inner cylinder wall 35, and the inner and outer cylinder walls 35 and 36. And a connecting arm 37 (not shown) for bridging, and a communication hole 37 is formed between the inner and outer cylinder walls 35 and 36 to communicate in the vertical direction. The lower case 31 includes a bottomed straight cylindrical inner cylinder wall 38 having an opening on the upper side, an outer cylinder wall 39 disposed so as to surround the inner cylinder wall 38, and a bridge between the inner and outer cylinder walls 38 and 39. A connecting hole 40 is formed between the inner and outer cylinder walls 38 and 39. The communicating hole 40 is formed between the inner and outer cylinder walls 38 and 39. The outer cylindrical wall 39 of the lower case 31 includes a straight portion 39a having a uniform diameter and a tapered portion 39b formed continuously from the straight portion 39a and gradually increasing in diameter as it goes downward. Yes. The diameter dimensions of the inner cylinder walls 35 and 38 of both cases 30 and 31 and the diameter dimensions of the outer cylinder wall 36 of the base case 30 and the straight portion 39a of the lower case 31 are set to the same dimension. When the lower case 31 is attached to the lower end, an inner case 182 is formed inside the case body 180 by the inner cylindrical walls 35 and 38 of both cases 30 and 31. This inner case 182 becomes the motor holder 33. An opening 41 is formed below the outer cylindrical walls 36 and 39.

上ケース32は、ベルマウス状の噴射口43を備える筒壁44からなり、その内部に、ファンユニット46、支持ベース47、回転体5、押さえ板48からなるミスト発生部6が配置されている。図4に示すように、筒壁44は、ベースケース30の外筒壁36に連続するストレート部44aと、ストレート部44aの上端に連続して形成された上拡がりテーパー状のテーパー部44bとで構成されている。保護フード45は、回転体を保護する目的で形成された円板状のフード本体50と、該フード本体50を保持するフードホルダー51とで構成される。フードホルダー51は、フード本体50を浮揚姿勢に支持する3本の支持脚52と、支持脚52の上端に形成されてフード本体50を受け止める支持片53とを備える。フードホルダー51の各支持脚52は、フード本体50から等間隔を置いて放射状に形成されており、その下端部が筒壁44に連結されている。なお、図3等においては、二本の支持脚52・52のみを図示している。   The upper case 32 includes a cylindrical wall 44 having a bell mouth-shaped injection port 43, and a mist generating unit 6 including a fan unit 46, a support base 47, a rotating body 5, and a pressing plate 48 is disposed therein. . As shown in FIG. 4, the cylindrical wall 44 includes a straight portion 44 a that is continuous with the outer cylindrical wall 36 of the base case 30, and an upwardly expanding tapered tapered portion 44 b that is continuously formed at the upper end of the straight portion 44 a. It is configured. The protective hood 45 includes a disc-shaped hood main body 50 formed for the purpose of protecting the rotating body, and a hood holder 51 that holds the hood main body 50. The hood holder 51 includes three support legs 52 that support the hood body 50 in a floating position, and a support piece 53 that is formed on the upper end of the support legs 52 and receives the hood body 50. The support legs 52 of the hood holder 51 are radially formed at equal intervals from the hood main body 50, and the lower ends thereof are connected to the cylindrical wall 44. In FIG. 3 and the like, only the two support legs 52 and 52 are shown.

筒壁44と外筒壁36・39により外ケース181が形成される。つまり、内ケース(内方のケース)182と外ケース(外方のケース)181により二重筒状のケース体(ケース)180が構成されている。外ケース181の両端には、流体の出入りを許す噴射口43と開口41とを有しており、内ケース182には、モーター4が設けられており、内ケース182と外ケース181の間には流体の通過を許す連通孔37・40が形成されている。   An outer case 181 is formed by the cylindrical wall 44 and the outer cylindrical walls 36 and 39. That is, the inner case (inner case) 182 and the outer case (outer case) 181 form a double cylindrical case body (case) 180. Both ends of the outer case 181 have an injection port 43 and an opening 41 that allow fluid to enter and exit. The inner case 182 is provided with a motor 4, and the inner case 182 and the outer case 181 are interposed between them. Are formed with communication holes 37 and 40 that allow passage of fluid.

図3および図4に示すように、保護フード45のフードホルダー51の内部には、液体通路28が形成されている。液体通路28は、一本の支持脚52の内部に形成されて、送給チューブ27(図2参照)が接続される第1流路28aと、支持片53の内部に形成されて、該第1流路28aの下流端に連設された第2流路28bとで構成される。第1流路28aを有する支持脚52の下端部は、筒壁44の外部に突出されており、その下端部に送給チューブ27が外嵌状に接続されている。支持片53の下面の中央部には、液体送給口54が下方に向けて突設されており、この液体送給口54内に、第2流路28bの下流端に接続された送給管29が配置されている。図3および図4において、符号53aは、支持片53の中央部に設けられて、液体送給口54に連通する中央開口を示している。送給管29の下端の給液口29aは、僅かな隙間を介して回転体駆動用のモーター4の出力軸56に近接対向されている(図6参照)。   As shown in FIGS. 3 and 4, a liquid passage 28 is formed inside the hood holder 51 of the protective hood 45. The liquid passage 28 is formed in one support leg 52 and is formed in the first flow path 28a to which the feed tube 27 (see FIG. 2) is connected and in the support piece 53, and The second channel 28b is connected to the downstream end of the first channel 28a. The lower end portion of the support leg 52 having the first flow path 28a protrudes outside the cylindrical wall 44, and the feed tube 27 is connected to the lower end portion of the support leg 52 in an outer fitting shape. A liquid feed port 54 protrudes downward from the central portion of the lower surface of the support piece 53, and the feed connected to the downstream end of the second flow path 28 b in the liquid feed port 54. A tube 29 is arranged. 3 and 4, reference numeral 53 a indicates a central opening that is provided in the central portion of the support piece 53 and communicates with the liquid supply port 54. The liquid supply port 29a at the lower end of the feed pipe 29 is close to and opposed to the output shaft 56 of the motor 4 for driving the rotating body through a slight gap (see FIG. 6).

図4に示すように、ベースケース30の上壁57には、モーター4の出力軸56の突出を許す開口58が形成されており、モーター4は、該開口58を介して上ケース32の噴射口43内に出力軸56が指向する姿勢状態でモーターホルダー33内に配置される。ベースケース30の上壁57から突出するモーター4の出力軸56には、ファンユニット46、支持ベース47、および回転体5が記載順に装着されている。ファンユニット46は、出力軸56に外嵌装着される円柱状のファンベース60と、ファンベース60の外周面に沿って渦巻状に突設した一群のファンブレード61と、ファンブレード61を囲むように形成された円環状の保護リング62とを一体に成形したプラスチック成形品であり、ベースケース30および下ケース31の連通孔37・40を介して、下ケース31の下方開口41から吸い込んだ空気を、上ケース32の噴射口43に向けて送出する。先に述べたように、このファンユニット46は、回転体駆動用のモーター4の出力軸56に装着されている。つまり、モーター4は、ファン駆動用のモーターを兼ねている。   As shown in FIG. 4, an opening 58 that allows the output shaft 56 of the motor 4 to protrude is formed in the upper wall 57 of the base case 30, and the motor 4 ejects the upper case 32 through the opening 58. It is disposed in the motor holder 33 with the output shaft 56 oriented in the mouth 43. The fan unit 46, the support base 47, and the rotating body 5 are mounted in the order of description on the output shaft 56 of the motor 4 protruding from the upper wall 57 of the base case 30. The fan unit 46 surrounds the fan blade 61, a columnar fan base 60 that is externally fitted to the output shaft 56, a group of fan blades 61 that project in a spiral shape along the outer peripheral surface of the fan base 60, and the fan blade 61. Is a plastic molded product integrally formed with an annular protective ring 62 formed on the base case 30 and air sucked from the lower opening 41 of the lower case 31 through the communication holes 37 and 40 of the base case 30 and the lower case 31. Is delivered toward the injection port 43 of the upper case 32. As described above, the fan unit 46 is attached to the output shaft 56 of the motor 4 for driving the rotating body. That is, the motor 4 also serves as a fan driving motor.

支持ベース47は、下面の径寸法が小さく、上面の径寸法が大きな略逆円錐台形に形成されたプラスチック成形品であり、その上面の四箇所の周方向の等間隔位置には回転体5および押さえ板48を溶着固定するための連結ボス64が突設されている。ファンユニット46および支持ベース47の中央には、出力軸56の外周面に、これらファンユニット46および支持ベース47を外嵌装着するための装着孔65・66が開設されている。ファンユニット46の上面には、支持ベースの下面を受け止める受面67が段付き状に凹み形成されており、ファンユニット46、次いで支持ベース47を出力軸56に装着したとき、ファンユニット46の受面67に支持ベース47の下面が受け止められるようになっている。   The support base 47 is a plastic molded product formed in a substantially inverted truncated cone shape with a small diameter on the lower surface and a large diameter on the upper surface. A connection boss 64 for welding and fixing the presser plate 48 is projected. At the center of the fan unit 46 and the support base 47, mounting holes 65 and 66 for opening and mounting the fan unit 46 and the support base 47 on the outer peripheral surface of the output shaft 56 are formed. A receiving surface 67 for receiving the lower surface of the support base is formed in a stepped shape on the upper surface of the fan unit 46, and when the fan unit 46 and then the support base 47 are attached to the output shaft 56, the receiving surface of the fan unit 46 is received. The lower surface of the support base 47 is received by the surface 67.

図5および図6に示すように、回転体5は、同一の外径寸法を有する複数枚の金属製の回転基板70を積層してなるものであり、本実施例では、4枚の回転基板70a〜70dを積層して回転体5を構成している。各回転基板70a〜70dは、円板状、或いは円リング状の基板本体80と、該基板本体80の上面に立設された多数個の衝突壁81とで構成される。最下方に位置する回転基板70aを構成する基板本体80の盤面中央には、出力軸56の外周面に回転基板70aを外嵌装着するための装着孔71が開設されており、上方に位置する3枚の回転基板70b〜70dを構成する基板本体80の盤面中央には、液体送給口54の挿入を許す微細化前の液体の導入口72が開設されている。すなわち、最下方の回転基板70aの基板本体80は装着孔71を有する円プレート形に形成されており、その余の上方の回転基板70b〜70dの基板本体80は、装着孔71よりも大径の流路導入口72を有する円リング状に形成されている。以上より、これら回転基板70a〜70dを積層してなる回転体5は、液体の導入口72に連通する上方開口を有する円柱ブロック状に形成される。各回転基板70a〜70dの等間隔位置の四箇所には、連結ボス64の挿通を許す連結孔73が開設されている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the rotator 5 is formed by laminating a plurality of metal rotating substrates 70 having the same outer diameter, and in this embodiment, four rotating substrates. 70a-70d is laminated | stacked and the rotary body 5 is comprised. Each of the rotating substrates 70 a to 70 d is configured by a disc-shaped or ring-shaped substrate main body 80 and a plurality of collision walls 81 erected on the upper surface of the substrate main body 80. At the center of the board surface of the substrate main body 80 constituting the lowermost rotary substrate 70a, a mounting hole 71 for opening and mounting the rotary substrate 70a on the outer peripheral surface of the output shaft 56 is formed, and is positioned above. In the center of the board surface of the substrate main body 80 constituting the three rotary substrates 70b to 70d, a liquid introduction port 72 before miniaturization that allows the liquid supply port 54 to be inserted is opened. That is, the substrate body 80 of the lowermost rotating substrate 70 a is formed in a circular plate shape having the mounting holes 71, and the substrate bodies 80 of the remaining rotating substrates 70 b to 70 d are larger in diameter than the mounting holes 71. It is formed in a circular ring shape having a flow path inlet 72. As described above, the rotating body 5 formed by laminating these rotating substrates 70 a to 70 d is formed in a cylindrical block shape having an upper opening communicating with the liquid inlet 72. Connection holes 73 that allow the connection bosses 64 to be inserted are formed at four positions at equally spaced positions of the rotary substrates 70a to 70d.

回転基板70a〜70dの支持ベース47からの浮き上がりを防ぐ目的で配置される押さえ板48は、最上方の回転基板70dと同等の内径寸法を備える円リング状のベース部75と、ベース部75の内周面から上方に突設して、液体送給口54に近接対向して、回転体5を含むミスト発生部6の揺動を規制する規制筒部76とで構成される。回転基板70a〜70dの連結孔73に対応して、ベース部75の盤面四箇所にも連結孔77が開設されている。   The holding plate 48 disposed for the purpose of preventing the rotary substrates 70a to 70d from being lifted from the support base 47 includes a circular ring-shaped base portion 75 having an inner diameter equivalent to that of the uppermost rotary substrate 70d, and the base portion 75. A restricting cylinder portion 76 that protrudes upward from the inner peripheral surface, faces the liquid supply port 54 in close proximity, and restricts the swinging of the mist generating portion 6 including the rotating body 5. Corresponding to the connection holes 73 of the rotary substrates 70a to 70d, connection holes 77 are also formed at four positions on the surface of the base portion 75.

回転体5および押さえ板48は、連結孔73・77に挿通された連結ボス64により、上方に抜け止め状に固定される。より詳しくは、支持ベース47の連結ボス64に回転体5を構成する回転基板70a〜70dおよび押さえ板48の連結孔73・77を位置合わせして、これら回転基板70a〜70dおよび押さえ板48の連結孔73・77内に連結ボス64を挿通させたうえで、連結孔73・77を介して押さえ板48のベース部75から上方に突出する連結ボス64の上端部を熱かしめする。これにより、支持ベース47に対して回転基板70a〜70dおよび押さえ板48を抜け止め状に固定することができる。   The rotating body 5 and the pressing plate 48 are fixed upward in a retaining manner by a connecting boss 64 inserted through the connecting holes 73 and 77. More specifically, the rotation bases 70 a to 70 d and the connection holes 73 and 77 of the pressing plate 48 constituting the rotating body 5 are aligned with the connection boss 64 of the support base 47, and the rotation substrates 70 a to 70 d and the pressing plate 48 of the rotation base 5 are aligned. After the connection boss 64 is inserted into the connection holes 73 and 77, the upper end portion of the connection boss 64 protruding upward from the base portion 75 of the holding plate 48 through the connection holes 73 and 77 is heat caulked. Thereby, the rotary substrates 70a to 70d and the pressing plate 48 can be fixed to the support base 47 in a retaining manner.

また、以上のような構成からなるミスト発生部6は、予め支持ベース47に回転体5および押さえ板48を先の手順で固定して、三者(支持ベース47、回転体5、押さえ板48)をユニット部品化しておくことができる。また、ミスト発生部6は、モーター4の出力軸56に、ファンユニット46、および先のユニット部品を装着することで組付けることができる。先に述べたようにミスト発生部6を収容したケース体180は、ヘッド部3内に装着されている。このとき、ヘッドホルダー3aの吐出口185とケース体180の噴射口43とが連通し、ヘッドホルダー3aの吸気口186とケース体180の開口41とが連通している。つまり、ヘッド部3を前後方向に貫通状に形成して吐出口185、吸気口186および連通孔37・40を構成し、その連通孔37・40に回転体5を含むミスト発生部6を配置している。   Further, the mist generating unit 6 having the above-described configuration fixes the rotating body 5 and the pressing plate 48 to the support base 47 in advance by the above procedure, and the three parties (the supporting base 47, the rotating body 5, and the pressing plate 48). ) Can be made into unit parts. The mist generating unit 6 can be assembled by mounting the fan unit 46 and the previous unit component on the output shaft 56 of the motor 4. As described above, the case body 180 that houses the mist generating unit 6 is mounted in the head unit 3. At this time, the discharge port 185 of the head holder 3a communicates with the ejection port 43 of the case body 180, and the intake port 186 of the head holder 3a communicates with the opening 41 of the case body 180. That is, the head portion 3 is formed in a penetrating manner in the front-rear direction to form the discharge port 185, the intake port 186, and the communication holes 37 and 40, and the mist generating unit 6 including the rotating body 5 is disposed in the communication holes 37 and 40. doing.

上述のように送給管29の下端の給液口29aは、僅かな隙間を介してモーター4の出力軸56に近接対向されている(図6参照)。従って、両モーター4・17を駆動させると、吸込パイプ25を介してタンク7から吸い上げられて、吐出流路26を介して送給管29の給液口29aから吐出された水は、出力軸56の上端で跳ねて、液体の導入口72に係る空間に飛散されたのち、回転体5内に導入される。そして、回転体5内でミスト化された後、ファンユニット46からの送風に乗って噴射口43および吐出口185から放出される。ファンユニット46による送風の際、送風効率を向上させるために吸気口186および開口41から空気が吸い込まれている。より詳しくは、吐出流路26を介して送給管29の給液口29aから吐出されて回転基板70との接触部分まで移動した水は、遠心力によって液体の導入口72に向けて飛散していき、回転基板70a〜70d間に形成された隙間(通路入口)及び回転基板70dとベース部75間に形成される隙間(通路入口)に入り込む。そして衝突壁81に衝突しながら通路内を外方に向けて移動しミスト化される。このとき、出力軸56は、先端に向けて徐々に径が小さくなる構造であるので、給液口29aからの液体を吸い込む作用が働く。また、出力軸56は、液体送給手段9からの液体が断続的に回転基板70に送給されるのを抑制するために設けられる突起を兼ねている。したがって、別途突起を設ける形態に比べて、コスト低減に貢献できる。   As described above, the liquid supply port 29a at the lower end of the feed pipe 29 is in close proximity to the output shaft 56 of the motor 4 through a slight gap (see FIG. 6). Accordingly, when the motors 4 and 17 are driven, the water sucked up from the tank 7 through the suction pipe 25 and discharged from the liquid supply port 29a of the supply pipe 29 through the discharge flow path 26 is supplied to the output shaft. After splashing at the upper end of 56 and being scattered in the space related to the liquid inlet 72, it is introduced into the rotating body 5. Then, after being misted in the rotating body 5, the air is blown from the fan unit 46 and discharged from the ejection port 43 and the discharge port 185. During the air blowing by the fan unit 46, air is sucked from the air inlet 186 and the opening 41 in order to improve the air blowing efficiency. More specifically, the water that has been discharged from the liquid supply port 29a of the feed pipe 29 through the discharge flow path 26 and moved to the contact portion with the rotating substrate 70 is scattered toward the liquid introduction port 72 by centrifugal force. Then, it enters the gap (passage entrance) formed between the rotating substrates 70a to 70d and the clearance (passage entrance) formed between the rotating substrate 70d and the base portion 75. Then, while colliding with the collision wall 81, the inside of the passage is moved outward to be misted. At this time, since the output shaft 56 has a structure in which the diameter gradually decreases toward the tip, the action of sucking the liquid from the liquid supply port 29a works. Further, the output shaft 56 also serves as a protrusion provided to prevent the liquid from the liquid feeding means 9 from being intermittently fed to the rotating substrate 70. Therefore, it is possible to contribute to cost reduction as compared with a case where a separate protrusion is provided.

図5に示すように、衝突壁81は、基板本体80の中央近傍を除く上面全体に設けられており、基板本体80の周方向に所定間隔で列設されて、環状の衝突壁列82を構成している。衝突壁列82において隣接する衝突壁81の間には、遠心力で跳ね飛ばされた液体が通過する液体通路83が形成されている。衝突壁列82は、回転基板70の径方向へ多重に設けられており、回転基板70の内外方向(径方向)において隣接する衝突壁列82の間には、周方向通路84が形成されている。このように衝突壁列82を多重(三重以上)に設けると、水の微細化をより促進することができる。すなわち、衝突壁列82が回転基板70の径方向へ多重に設けられていると、液体の進行方向を多様化させて、液体をよく分離させることができ、ミストの微細化を促進できる。また、液体通路83と対向する衝突壁81に液体を繰り返して衝突させて、ミストをさらに確実に微細化できる。   As shown in FIG. 5, the collision walls 81 are provided on the entire upper surface except for the vicinity of the center of the substrate body 80, and are arranged at predetermined intervals in the circumferential direction of the substrate body 80. It is composed. Between the adjacent collision walls 81 in the collision wall row 82, a liquid passage 83 through which the liquid splashed by the centrifugal force passes is formed. The collision wall rows 82 are provided in a multiple manner in the radial direction of the rotating substrate 70, and a circumferential passage 84 is formed between the adjacent collision wall rows 82 in the inner and outer directions (radial direction) of the rotating substrate 70. Yes. Thus, if the collision wall row 82 is provided in multiple (triple or more), water miniaturization can be further promoted. In other words, when the collision wall rows 82 are provided in the radial direction of the rotary substrate 70, the liquid traveling direction can be diversified, the liquid can be separated well, and the mist can be miniaturized. In addition, the liquid can be repeatedly collided with the collision wall 81 facing the liquid passage 83, so that the mist can be further refined.

外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81は、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向している。つまり、外側の衝突壁82を構成する各衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83の出口に臨むように配置してある。これにより、回転基板70の中央に送給されて遠心力で跳ね飛ばされた水は、内側の衝突壁列82を構成する液体通路83を通って、外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81に必ず衝突させることができる。   The collision wall 81 constituting the outer collision wall row 82 faces the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82. That is, each collision wall 81 constituting the outer collision wall 82 is disposed so as to face the outlet of the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82. As a result, the water fed to the center of the rotating substrate 70 and splashed off by the centrifugal force passes through the liquid passage 83 constituting the inner collision wall row 82 and the collision wall constituting the outer collision wall row 82. 81 can always be made to collide.

外側の衝突壁列82は、内側の衝突壁列82よりも多くの衝突壁81および液体通路83を備えている。このように、外周側の衝突壁列82に多くの液体通路83を設けると、水の進行方向を多様化させて、回転基板70の面全体に広がるように水を分散させることができるので、水の微細化を促進することができる。なお、本実施例においては、外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されているが、この「外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されている」とは、一つの例外も無く、全ての外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されていることを意味するものではなく、大多数の外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されていることをも含む概念である。本実施形態のように、衝突壁82を多重(三重以上)に設けていると、例えば2列の衝突壁列の一部で液体通路が重なって内外方向に液体通路が連通している場合でも、3列目或いは4列目の衝突壁列の衝突壁でカバーして、液体が最外周の衝突壁列82の外方へ飛び出るまでの間に少なくとも一度は衝突壁81に衝突させることができる。   The outer collision wall row 82 includes more collision walls 81 and liquid passages 83 than the inner collision wall row 82. In this way, if a large number of liquid passages 83 are provided in the collision wall row 82 on the outer peripheral side, it is possible to diversify the traveling direction of the water and to disperse the water so as to spread over the entire surface of the rotating substrate 70. Water refinement can be promoted. In this embodiment, the collision wall 81 constituting the outer collision wall row 82 is arranged in a state of facing the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82. The collision wall 81 constituting the outer wall 82 is disposed in a state of being opposed to the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82 ”without any exception, and the collision walls constituting all the outer collision wall rows 82. This does not mean that the wall 81 is disposed in a state of facing the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82, but the collision walls 81 constituting the majority of the outer collision wall rows 82 are arranged on the inner side. It is a concept that also includes being arranged in a state of facing the liquid passage 83 of the collision wall row 82. When the collision walls 82 are provided in multiple (three or more) as in the present embodiment, for example, even when the liquid passages overlap in a part of two rows of the collision wall rows and the liquid passages communicate in the inner and outer directions. Covering with the collision wall of the third or fourth collision wall row, the liquid can collide with the collision wall 81 at least once before the liquid jumps out of the outermost collision wall row 82. .

また、複数枚の回転基板70が積層されて回転体5が構成されていると、回転基板70の外径寸法を大きくすることなく、回転体5の表面積を大きくしてミスト発生量の増大化を図ることができる。従って、小型でありながら、ミスト生成能力に優れたミスト発生装置を得ることができる。   Further, when the rotating body 5 is configured by laminating a plurality of rotating substrates 70, the surface area of the rotating body 5 is increased without increasing the outer diameter of the rotating substrate 70, thereby increasing the amount of mist generated. Can be achieved. Therefore, it is possible to obtain a mist generating device that is small and excellent in mist generation capability.

液体通路83の上方開口は、上方に配された回転基板70の下面で覆われており、換言すれば、上方側の回転基板70の基板本体80が、下方側の回転基板70の液体通路83の上方開口を覆う天板86(図6参照)とされている。このように、上方側の回転基板70の基板本体80が、下方側の回転基板70の液体通路83を覆う天板86を兼ねるものとしてあると、別途天板86を設ける形態に比べて、回転体5の厚み寸法を小さくして、ミスト発生装置の小型化に貢献できる。尤も、最上方に位置する回転基板70の液体通路83の上方開口は、押さえ板48の下面で覆われている。   The upper opening of the liquid passage 83 is covered with the lower surface of the rotating substrate 70 disposed above, in other words, the substrate body 80 of the upper rotating substrate 70 is connected to the liquid passage 83 of the lower rotating substrate 70. The top plate 86 (see FIG. 6) covers the upper opening. As described above, when the substrate body 80 of the upper rotating substrate 70 also serves as the top plate 86 that covers the liquid passage 83 of the lower rotating substrate 70, the rotation can be performed as compared with a configuration in which a separate top plate 86 is provided. By reducing the thickness dimension of the body 5, it is possible to contribute to miniaturization of the mist generating device. However, the upper opening of the liquid passage 83 of the rotary substrate 70 positioned at the uppermost position is covered with the lower surface of the pressing plate 48.

図6に示すように、上方側の回転基板70は、下方側の回転基板70の衝突壁81の上面で支持されている。つまり、下方側の衝突壁81を含む衝突壁列82が、上方側の回転基板70の支持構造を兼ねている。これによれば、別途、上方側の回転基板70の支持構造を設ける形態に比べて、回転体5の製造コストの上昇を抑えることができる。   As shown in FIG. 6, the upper rotary substrate 70 is supported on the upper surface of the collision wall 81 of the lower rotary substrate 70. That is, the collision wall row 82 including the lower collision wall 81 also serves as a support structure for the upper rotary substrate 70. According to this, an increase in the manufacturing cost of the rotating body 5 can be suppressed as compared with a mode in which a support structure for the upper rotating substrate 70 is provided separately.

図1および図5に示すように、各衝突壁81は、回転基板70の中心に臨む内面90と、回転基板70の径方向外側に臨む外面91と、内面90と外面91とを繋ぐ一対の側面92・93とを備える矩形柱状に形成されており、内側の衝突壁列82を構成する液体通路83を通って、遠心力により外側に跳ね飛ばされた水は、内面90に衝突して粉砕される。この内面90を含む衝突壁81の壁面の全体には、水の粉砕効果を向上するために、凹凸部95を形成して、粗面化が図られている。凹凸部95は、基板本体80からの衝突壁81の突出方向(上下方向)に長い溝96と、隣り合う溝96の間に形成されたリブ97とで構成されている。このように、上下方向に長い溝96とリブ97とで構成される凹凸部95を衝突壁81の各壁面90〜93に形成して、各壁面90〜93を粗面化していると、壁面90〜93に衝突した液滴をより効率的に粉砕することができるので、水の微細化を図り、より細かなミストを得ることができる。また、壁面90〜93の表面で水が団粒化することを防ぐことができるので、この点でも水の微細化を図り、より細かなミストを得ることができる。また、衝突壁81を構成する全ての壁面90〜93に凹凸部95が形成され粗面化されていると、該衝突壁81の壁面90〜93で区画される通路(液体通路83・周方向通路84)の流路抵抗の増大化を図ることができるので、水の分離効果の向上が期待でき、より細かなミストを得ることができる。   As shown in FIGS. 1 and 5, each collision wall 81 has a pair of inner surfaces 90 facing the center of the rotating substrate 70, an outer surface 91 facing the radially outer side of the rotating substrate 70, and a pair of inner surfaces 90 and the outer surface 91. Water that is formed in a rectangular column shape having side surfaces 92 and 93 and that has been splashed outward by centrifugal force through the liquid passage 83 constituting the inner collision wall row 82 collides with the inner surface 90 and is crushed. Is done. The entire wall surface of the collision wall 81 including the inner surface 90 is roughened by forming an uneven portion 95 in order to improve the water crushing effect. The concavo-convex portion 95 includes a groove 96 that is long in the protruding direction (vertical direction) of the collision wall 81 from the substrate body 80 and a rib 97 that is formed between adjacent grooves 96. In this way, when the concave and convex portions 95 constituted by the grooves 96 and the ribs 97 that are long in the vertical direction are formed on the respective wall surfaces 90 to 93 of the collision wall 81 and the respective wall surfaces 90 to 93 are roughened, Since the liquid droplets colliding with 90 to 93 can be pulverized more efficiently, water can be miniaturized and finer mist can be obtained. Moreover, since it can prevent that water aggregates on the surface of the wall surfaces 90-93, refinement | miniaturization of water can be achieved also in this point and finer mist can be obtained. In addition, when the concavo-convex portions 95 are formed and roughened on all the wall surfaces 90 to 93 constituting the collision wall 81, a passage (the liquid passage 83 in the circumferential direction) defined by the wall surfaces 90 to 93 of the collision wall 81 is formed. Since the flow path resistance of the passage 84) can be increased, an improvement in water separation effect can be expected, and finer mist can be obtained.

なお、仮に左右方向に長い溝とリブとで凹凸部を形成した場合には、水の流れ方向に溝が形成されることとなるため、左右方向に長い溝に沿って水が流れて、水が団粒化する不都合が予測される。これに対して本実施形態のように、上下方向に長い溝96とリブ97とで凹凸部95を形成していると、液体の通路(液体通路83・周方向通路84)の流れ方向における流路抵抗を大きくすることができるため、水をより効率的に分離・分散して、ミスト径の微細化を図ることができる。   In addition, if the concavo-convex portion is formed by a groove and a rib that are long in the left-right direction, the groove is formed in the water flow direction, so that water flows along the long groove in the left-right direction, The inconvenience of flocculation is expected. On the other hand, when the uneven portion 95 is formed by the groove 96 and the rib 97 that are long in the vertical direction as in the present embodiment, the flow in the flow direction of the liquid passage (the liquid passage 83 and the circumferential passage 84). Since the road resistance can be increased, water can be more efficiently separated and dispersed to reduce the mist diameter.

回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法(W)は、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法(T)よりも大きく設定されている。すなわち、W>Tの関係を満たすものとなっている。このように、衝突壁81の厚み寸法(T)を小さく設定すると、回転基板70の小径化を実現してミスト発生装置の全体を小型化できる。   The width dimension (W) of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70 is set to be larger than the thickness dimension (T) of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70. That is, the relationship of W> T is satisfied. Thus, if the thickness dimension (T) of the collision wall 81 is set small, the diameter of the rotating substrate 70 can be reduced, and the entire mist generator can be downsized.

回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法(W)と、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法(T)と、衝突壁の突出寸法(H)とは、W>H>Tの関係を満たすように設定されている。これによれば、衝突壁81の厚み寸法を小さくしたことにより、回転基板70の小径化を図ることができる。加えて、衝突壁81の壁面面積(W×H)を大きく取ることができるので、より確実に内側の衝突壁列82の液体通路83から送出された水を、外側の衝突壁列82の衝突壁81に衝突させて、効率的にミスト径の微細化を図ることができる。   The width dimension (W) of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension (T) of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protrusion dimension (H) of the collision wall are W It is set so as to satisfy the relationship> H> T. According to this, the diameter of the rotating substrate 70 can be reduced by reducing the thickness dimension of the collision wall 81. In addition, since the wall surface area (W × H) of the collision wall 81 can be increased, the water sent out from the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82 is more reliably caused to collide with the outer collision wall row 82. By colliding with the wall 81, the mist diameter can be efficiently reduced.

基板本体80の厚み寸法(E)と、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法(W)と、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法(T)と、衝突壁81の突出寸法(H)とが、E>W>H>Tの関係を満たすように設定されている。これによれば、先と同様に、回転基板70の小径化を図りながら、衝突壁81の衝突面積を大きくすることができる。また、基板本体80の厚み寸法(E)を大きく取ることができるので、該回転基板70を強度に優れたものとすることができる。加えて、回転基板70の重量を大きくして、その慣性重量を大きくすることができるので、回転基板70の回転姿勢を安定化することができる。   The thickness dimension (E) of the substrate body 80, the width dimension (W) of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension (T) of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the collision The protrusion dimension (H) of the wall 81 is set so as to satisfy the relationship of E> W> H> T. According to this, similarly to the above, the collision area of the collision wall 81 can be increased while reducing the diameter of the rotating substrate 70. Moreover, since the thickness dimension (E) of the board | substrate body 80 can be taken large, this rotary board | substrate 70 can be made excellent in intensity | strength. In addition, since the weight of the rotating substrate 70 can be increased and the inertia weight thereof can be increased, the rotational posture of the rotating substrate 70 can be stabilized.

回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法(W)と、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法(T)と、衝突壁81の突出寸法(H)と、衝突壁列82の液体通路83の通路幅(A)とが、W>H>T>Aの関係を満たすように設定されている。これによれば、先と同様に、回転基板70の小径化を図りながら、衝突壁81の衝突面積を大きくすることができる。加えて、衝突壁81の突出寸法(H)を、液体通路83の通路幅(A)よりも大きくしたので、これら衝突壁81の突出寸法(H)と液体通路83の通路幅(A)とで規定される液体通路83の断面積(H×A)を大きく取ることができる。したがって、該液体通路83内の水の流れをスムーズなものとすることができる。   The width dimension (W) of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension (T) of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, the protruding dimension (H) of the collision wall 81, and the collision The passage width (A) of the liquid passage 83 in the wall row 82 is set so as to satisfy the relationship of W> H> T> A. According to this, similarly to the above, the collision area of the collision wall 81 can be increased while reducing the diameter of the rotating substrate 70. In addition, since the protrusion dimension (H) of the collision wall 81 is larger than the passage width (A) of the liquid passage 83, the protrusion dimension (H) of the collision wall 81 and the passage width (A) of the liquid passage 83 are The cross-sectional area (H × A) of the liquid passage 83 defined by Accordingly, the water flow in the liquid passage 83 can be made smooth.

内外の衝突壁列82を構成する衝突壁81の間に形成される周方向の液体通路(周方向通路84)の通路幅(B)と、衝突壁列82の液体通路83の通路幅(A)とが、B>Aの関係を満たすように設定する。これによれば、衝突壁列82の液体通路83の通路幅(A)を小さくしたことに由来する、衝突壁81に対する水の衝突エネルギーの向上効果が期待できる。したがって、より効率的に水を衝突壁81に衝突させて、ミスト径を微細化できる。   The passage width (B) of the circumferential liquid passage (circumferential passage 84) formed between the collision walls 81 constituting the inner and outer collision wall row 82 and the passage width (A) of the liquid passage 83 of the collision wall row 82 ) And B> A. According to this, the improvement effect of the collision energy of water with respect to the collision wall 81 resulting from reducing the passage width (A) of the liquid passage 83 of the collision wall row 82 can be expected. Therefore, water can be collided with the collision wall 81 more efficiently, and the mist diameter can be refined.

図11および図12に示すように、回転基板70は、一次電鋳工程と二次電鋳工程とを経て作製される。図11(a)は、一次電鋳工程(図11(b))に先立って行われるパターンレジスト作成工程を示しており、そこでは、図11(a)に示すように、母型100の表面にフォトレジスト層101を形成したうえで、フォトレジスト層101上に基板本体80の通孔(装着孔71或いは導入口72)に対応する透孔102aを有するパターンフィルム102を形成し、パターンフィルム102の上方から紫外線照射ランプ103で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、通孔に対応するレジスト体104を有する一次パターンレジスト105を形成する。次いで、一次パターンレジスト105ごと母型100を電鋳槽に入れて、一次パターンレジスト105で覆われていない母型100の表面に電着金属を電鋳して、基板本体80に対応する一次電鋳層106を形成する(図11(b))。次に、一次パターンレジスト105を除去したうえで、一次電鋳層106に対して研磨処理を行って、一次電鋳層106の上面を平滑面として、基板本体80を形成する(図11(c))。研磨処理において使用される研磨ベルト116としては、1000番ベルト、或いは700番ベルトを使用することができる。   As shown in FIGS. 11 and 12, the rotary substrate 70 is manufactured through a primary electroforming process and a secondary electroforming process. FIG. 11 (a) shows a pattern resist forming step that is performed prior to the primary electroforming step (FIG. 11 (b)). As shown in FIG. 11 (a), the surface of the mother die 100 is shown. After the photoresist layer 101 is formed, a pattern film 102 having a through hole 102 a corresponding to the through hole (mounting hole 71 or introduction port 72) of the substrate body 80 is formed on the photoresist layer 101. The primary pattern having the resist body 104 corresponding to the through holes is obtained by irradiating with ultraviolet light from above the UV irradiation lamp 103 to perform exposure, developing and drying, and dissolving and removing unexposed portions. A resist 105 is formed. Next, the mother mold 100 together with the primary pattern resist 105 is put in an electroforming tank, and an electrodeposited metal is electroformed on the surface of the mother mold 100 that is not covered with the primary pattern resist 105. A cast layer 106 is formed (FIG. 11B). Next, after removing the primary pattern resist 105, the primary electroformed layer 106 is polished to form a substrate body 80 with the upper surface of the primary electroformed layer 106 being a smooth surface (FIG. 11C). )). As the polishing belt 116 used in the polishing process, a No. 1000 belt or a No. 700 belt can be used.

次に、図12(a)に示すように、基板本体80上にフォトレジスト層109を形成したうえで、フォトレジスト層109上に液体の通路(液体通路83・周方向通路84)に対応する透孔110aを有するパターンフィルム110をフォトレジスト層109上に形成し、パターンフィルム110の上方から紫外線照射ランプ103で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、液体通路に対応するレジスト体111を有する二次パターンレジスト112を形成する。次いで、二次パターンレジスト112ごと基板本体80を電鋳槽に入れて、二次パターンレジスト112で覆われていない基板本体80の表面に電着金属を電鋳して、衝突壁81に対応する二次電鋳層113を形成する(図12(b))。次に、二次電鋳層113の上面に対して研磨処理を行うことで、二次電鋳層113の上面を平滑面としたうえで(図11(c))、二次パターンレジスト112を除去することで、基板本体80上に衝突壁81が形成された回転基板70を得ることができる。研磨処理において使用される研磨ベルト116としては、1000番ベルト、或いは700番ベルトを使用することができる。図11(c)において、符号114は、研磨処理において衝突壁81の上端に形成される研磨バリを示しており、かかる研磨バリ114を電解研磨で除去することにより、図1および図5に示すような回転基板70を得ることができる。   Next, as shown in FIG. 12A, after a photoresist layer 109 is formed on the substrate body 80, a liquid passage (a liquid passage 83 and a circumferential passage 84) corresponds to the photoresist layer 109. A pattern film 110 having a through-hole 110a is formed on the photoresist layer 109, exposed by irradiating ultraviolet light from above the pattern film 110 with an ultraviolet irradiation lamp 103, developed, and dried. By dissolving and removing the exposed portion, a secondary pattern resist 112 having a resist body 111 corresponding to the liquid passage is formed. Next, the substrate main body 80 together with the secondary pattern resist 112 is put in an electroforming tank, and an electrodeposited metal is electroformed on the surface of the substrate main body 80 not covered with the secondary pattern resist 112 to correspond to the collision wall 81. A secondary electroformed layer 113 is formed (FIG. 12B). Next, the upper surface of the secondary electroformed layer 113 is polished to make the upper surface of the secondary electroformed layer 113 a smooth surface (FIG. 11C), and the secondary pattern resist 112 is removed. By removing, the rotating substrate 70 in which the collision wall 81 is formed on the substrate body 80 can be obtained. As the polishing belt 116 used in the polishing process, a No. 1000 belt or a No. 700 belt can be used. In FIG. 11C, reference numeral 114 denotes a polishing burr formed on the upper end of the collision wall 81 in the polishing process, and the polishing burr 114 is removed by electropolishing and is shown in FIG. 1 and FIG. Such a rotating substrate 70 can be obtained.

以上のような本実施形態に係る回転基板70の製造方法においては、液体の通路(液体通路83・周方向通路84)に対応する透孔110aを有するパターンフィルム110にフィラー115を含ませてある点が着目される。このようにパターンフィルム110にフィラー115を含ませてあると、該フィラー115による紫外線光の屈折により二次パターンレジスト112の露光部分と未露光部分との境界部、すなわちレジスト体111の側面に溝ができるため、かかる溝を利用して二次電鋳層113を形成することで、衝突壁81の表面に縦溝を形成することができる。すなわち、衝突壁81の形成と同時に凹凸部95を形成することができる。したがって、サンドブラストや金属粒体を塗着するなどの別工程で凹凸部95を形成する形態に比べて、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。   In the manufacturing method of the rotating substrate 70 according to this embodiment as described above, the filler 115 is included in the pattern film 110 having the through holes 110a corresponding to the liquid passages (the liquid passage 83 and the circumferential passage 84). The point is noted. When the filler 115 is included in the pattern film 110 as described above, a groove is formed in the boundary portion between the exposed portion and the unexposed portion of the secondary pattern resist 112, that is, on the side surface of the resist body 111 due to refraction of ultraviolet light by the filler 115. Therefore, a vertical groove can be formed on the surface of the collision wall 81 by forming the secondary electroformed layer 113 using such a groove. That is, the uneven portion 95 can be formed simultaneously with the formation of the collision wall 81. Therefore, an increase in the manufacturing cost of the mist generating device can be suppressed as compared with a mode in which the concavo-convex portion 95 is formed in another process such as sand blasting or metal particle coating.

図7に、本実施形態に係るミスト発生装置の回路構成を示す。ミスト発生装置は、グリップの筐体前面に設けられたメインスイッチ15と洗浄スイッチ16と、これらスイッチ15・16のオンオフ操作に従って、回転体駆動用のモーター4および送給ポンプ9を構成するポンプ駆動用のモーター17を回転駆動させる制御回路13と、メインスイッチ15がオン操作されたときに、ミストを帯電させるための帯電装置117とで構成される。帯電装置117は、高電圧発生部118と、高電圧発生部118で生成された高圧パルスを、回転体駆動用のモーター4の出力軸56、および該出力軸56の外周面に接触する金属製の給電電極119とを介して回転基板70(回転体5)に付与する帯電リード120と、一方端が電池11のマイナス極に接続され、他方端がグリップ部2の後面に配置された接触電極121に接続されるグランドリード122とで構成される。グランドリード122により、接触電極121を回路のグランド電位と同じ電位にすることができる。本実施例では、接触電極121はチタンなどの金属製の部材で構成しているが、ベース材をプラスチックにしてその表面にチタンなどの金属メッキを施した接触電極121であってもよい。   FIG. 7 shows a circuit configuration of the mist generator according to this embodiment. The mist generating device includes a main switch 15 and a cleaning switch 16 provided on the front face of the grip housing, and a pump drive that constitutes the motor 4 and the feed pump 9 for driving the rotating body in accordance with an on / off operation of these switches 15 and 16. The control circuit 13 for rotating the motor 17 and the charging device 117 for charging the mist when the main switch 15 is turned on. The charging device 117 is made of a metal that contacts the high voltage generator 118 and the high-voltage pulse generated by the high voltage generator 118 with the output shaft 56 of the motor 4 for driving the rotating body and the outer peripheral surface of the output shaft 56. The charging lead 120 applied to the rotating substrate 70 (rotating body 5) via the power feeding electrode 119, and a contact electrode having one end connected to the negative electrode of the battery 11 and the other end disposed on the rear surface of the grip portion 2. And a ground lead 122 connected to 121. The ground lead 122 allows the contact electrode 121 to have the same potential as the circuit ground potential. In this embodiment, the contact electrode 121 is made of a metal member such as titanium. However, the contact electrode 121 may be a base material made of plastic and plated on the surface with metal such as titanium.

高電圧発生部118は、電池11の電流を交流に変換する発振回路124と、発振回路124で生成されたパルス電流を昇圧する第1の昇圧回路125と、第1の昇圧回路125で昇圧されたパルス電流を整流する整流回路126と、整流回路126が出力する直流電流を再度パルス電流に変換するパルス発生回路127と、パルス電流をさらに昇圧させる第2の昇圧回路128と、ミストの帯電極性を設定するダイオードDとで構成される。発振回路124で生成されたパルス電流は、第1の昇圧回路125で100Vまで昇圧され、さらに第2の昇圧回路128で4kVまで昇圧されたのち、放電電極に送給される。第2の昇圧回路128で昇圧されたパルス電流は、放電電極である回転基板70(回転体5)と不図示の対向電極との間で放電されることにより、回転基板70で生成されるミストをプラス電位またはマイナス電位に帯電させることができる。これら制御回路13、発振回路124、第1の昇圧回路125、整流回路126、パルス発生回路127、第2の昇圧回路128、およびダイオードDなどは、制御基板14上に実装されている。ダイオードDが給電電極119に向かって順方向に接続されている場合には、ミストはプラスに帯電され、ダイオードDが給電電極119に向かって逆方向に接続されている場合には、ミストはマイナスに帯電される。なお、給電電極119は、回転体駆動用のモーター4の出力軸56に接触させずに、給電電極119を直接回転基板70(回転体5)の一部に接触させて回転基板70(回転体5)に高電圧を印加してもよい。本実施例においては、給電電極119を板状に形成して弾性変形可能に構成している。そのうえで、その弾性変形可能な給電電極119を出力軸56の周面に常に一方向のみから押圧接当(圧接)させている。これにより、ガタつきがあってもそのガタ(ブレ)に対して給電電極119が追従できるため安定的に出力軸56に給電電極119を接触できる。また、給電電極119をさらに強く圧接すればモーター4の出力軸56とその軸受け間のクリアランスで発生するガタつきを抑えることができる。また、なお、本実施例においては、給電電極119を板状に形成して弾性変形可能に構成しているが、給電電極119をコイル状に形成して弾性変形可能に構成し、出力軸56の周面に常に一方向のみから押圧接当させてもよい。また、グランドリード122の一方端は、電池11のマイナス極のラインに接続される回路構成に限らず、昇圧回路128の2次側の対向電極のライン(不図示)に接続されるものであってもよい。つまり、グランドリード122の一方端は、対向電極や電池11のマイナス極などの回路のグランドラインに接続すればよい。   The high voltage generator 118 is boosted by the oscillation circuit 124 that converts the current of the battery 11 into alternating current, the first boost circuit 125 that boosts the pulse current generated by the oscillation circuit 124, and the first boost circuit 125. Rectifying circuit 126 that rectifies the pulse current, a pulse generation circuit 127 that converts the direct current output from the rectifying circuit 126 into a pulse current again, a second boosting circuit 128 that further boosts the pulse current, and the charging polarity of the mist And a diode D for setting The pulse current generated by the oscillation circuit 124 is boosted to 100 V by the first booster circuit 125, further boosted to 4 kV by the second booster circuit 128, and then supplied to the discharge electrode. The pulse current boosted by the second booster circuit 128 is discharged between the rotating substrate 70 (rotating body 5), which is a discharge electrode, and a counter electrode (not shown), thereby generating mist generated on the rotating substrate 70. Can be charged to a positive potential or a negative potential. The control circuit 13, the oscillation circuit 124, the first booster circuit 125, the rectifier circuit 126, the pulse generator circuit 127, the second booster circuit 128, the diode D, and the like are mounted on the control board 14. When the diode D is connected in the forward direction toward the power supply electrode 119, the mist is charged positively. When the diode D is connected in the reverse direction toward the power supply electrode 119, the mist is negative. Is charged. The feeding electrode 119 is not brought into contact with the output shaft 56 of the motor 4 for driving the rotating body, but the feeding electrode 119 is directly brought into contact with a part of the rotating substrate 70 (the rotating body 5) to thereby rotate the rotating substrate 70 (the rotating body). A high voltage may be applied to 5). In this embodiment, the power supply electrode 119 is formed in a plate shape so as to be elastically deformable. In addition, the elastically deformable power supply electrode 119 is always pressed against (pressed against) the peripheral surface of the output shaft 56 from only one direction. Thereby, even if there is a backlash, the power supply electrode 119 can follow the backlash (blur), so that the power supply electrode 119 can be stably contacted with the output shaft 56. Further, if the power supply electrode 119 is pressed more strongly, rattling caused by the clearance between the output shaft 56 of the motor 4 and its bearing can be suppressed. In this embodiment, the power supply electrode 119 is formed in a plate shape so as to be elastically deformable. However, the power supply electrode 119 is formed in a coil shape so as to be elastically deformable, and the output shaft 56 is configured. You may always press-contact to the surrounding surface of only from one direction. One end of the ground lead 122 is not limited to the circuit configuration connected to the negative electrode line of the battery 11, but is connected to the secondary electrode line (not shown) of the booster circuit 128. May be. That is, one end of the ground lead 122 may be connected to a ground line of a circuit such as the counter electrode or the negative electrode of the battery 11.

図9に、以上のような構成からなるミスト発生装置の使用方法を示す。図9に示すように、本実施形態に係るミスト発生装置は、グリップ部2を手の平で握り締めて、ヘッド部3の噴射口43、吐出口185が、人体顔面に指向する状態として使用に供される。かかる使用姿勢から、メインスイッチ15がオン操作されると、ミスト発生モードとなり、回転体駆動用のモーター4およびポンプ駆動用のモーター17が駆動されるとともに、帯電装置117が駆動される。このとき、グリップ部2を握り締めることにより、接触電極121に使用者の手の平や指が接触するため、人体のグランド電位を回路のグランド電位と同じ電位にすることができる。また、帯電リード120、給電電極119、および回転体駆動用のモーター4の出力軸56を介して、回転基板70に高圧パルスを印加することができるので、ダイオードDの接続方向により、該回転基板70で生成されるミストをプラス電位またはマイナス電位に帯電させることができる。これにより、ミスト発生装置の回転基板70から人体に向かって電気力線が形成されるため、回転基板70で生成されたプラスまたはマイナスに帯電したミストを、電気力線に沿って移動させて、人体に誘引させることができる。これにより、より効率的にミストを人体に誘引させることができるので、より効率的にミストを人体に吸着させることができる。   FIG. 9 shows a method of using the mist generating apparatus having the above configuration. As shown in FIG. 9, the mist generating apparatus according to the present embodiment is used in a state in which the grip portion 2 is gripped with the palm of the hand and the ejection port 43 and the ejection port 185 of the head unit 3 are oriented toward the human body face. The When the main switch 15 is turned on from such a use posture, the mist generation mode is set, and the rotating body driving motor 4 and the pump driving motor 17 are driven and the charging device 117 is driven. At this time, since the user's palm or finger contacts the contact electrode 121 by gripping the grip portion 2, the ground potential of the human body can be made equal to the ground potential of the circuit. In addition, since a high voltage pulse can be applied to the rotating substrate 70 via the charging lead 120, the power supply electrode 119, and the output shaft 56 of the motor 4 for driving the rotating body, the rotating substrate can be changed depending on the connection direction of the diode D. The mist generated at 70 can be charged to a positive or negative potential. As a result, electric lines of force are formed from the rotating board 70 of the mist generating device toward the human body, so that the positive or negatively charged mist generated by the rotating board 70 is moved along the electric lines of force, It can be attracted to the human body. Thereby, since mist can be attracted to a human body more efficiently, mist can be adsorbed to a human body more efficiently.

このように、回転基板70(回転体5)に1kVを上回る高電圧を印加しながら回転させることにより、回転基板70でプラスまたはマイナスに帯電したミストを生成できる。例えば、人体は通常プラスに帯電しているので、回転基板70でマイナスに帯電したミストを生成することにより、ミストを人体に吸着させることができる。さらに上記構造では、対向電極や電池11のマイナス極などの回路のグランドラインに接続した接触電極121を有しているので、人体のグランド電位を積極的に回路のグランド電位と同じ電位にすることができるので、安定的にミストを人体に吸着させることができる。   Thus, by rotating the rotating substrate 70 (rotating body 5) while applying a high voltage exceeding 1 kV, it is possible to generate mist charged positively or negatively on the rotating substrate 70. For example, since the human body is normally positively charged, the mist can be adsorbed to the human body by generating the negatively charged mist on the rotating substrate 70. Further, in the above structure, since the contact electrode 121 connected to the circuit ground line such as the counter electrode or the negative electrode of the battery 11 is provided, the ground potential of the human body is positively set to the same potential as the circuit ground potential. Therefore, mist can be stably adsorbed to the human body.

図8(a)に、ミスト発生モードにおける両モーター4・17の制御タイミングを示すタイムチャートを示す。まず、メインスイッチ15が押し込まれてオン操作されると、制御回路13は、当該メインスイッチ15のオン動作と同時に回転体駆動用のモーター4を回転駆動させる。次に、モーター4の駆動から所定時間(t1)経過後にポンプ駆動用のモーター17を駆動させる。これにて、タンク7から吸い上げられた水がミスト発生部6によりミスト化され、ファンユニット46により生成される風力に乗って噴射口43から噴射される。使用状態におけるモーター4の回転速度は10000rpm程度である。   FIG. 8A shows a time chart showing the control timing of the motors 4 and 17 in the mist generation mode. First, when the main switch 15 is pushed and turned on, the control circuit 13 rotates the motor 4 for driving the rotating body simultaneously with the turning-on operation of the main switch 15. Next, the pump driving motor 17 is driven after a predetermined time (t1) has elapsed since the motor 4 was driven. As a result, the water sucked up from the tank 7 is made into mist by the mist generator 6 and is injected from the injection port 43 on the wind force generated by the fan unit 46. The rotation speed of the motor 4 in the use state is about 10,000 rpm.

次に、メインスイッチ15が再度押し込まれてオフ操作されると、制御回路はポンプ駆動用のモーター17の駆動を直ちに停止するとともに、メインスイッチ15のオフ操作から所定時間(t2)だけ、回転速度を上げながら(15000rpm程度)、回転体駆動用のモーター4を回転駆動させる。メインスイッチ15のオフ操作から所定時間(t2)が経過すると、モーター4を停止させる。   Next, when the main switch 15 is pushed in again and turned off, the control circuit immediately stops the driving of the pump driving motor 17 and the rotation speed is set for a predetermined time (t2) from the turning off of the main switch 15. The motor 4 for driving the rotating body is rotationally driven while raising the speed (about 15000 rpm). When a predetermined time (t2) elapses after the main switch 15 is turned off, the motor 4 is stopped.

図10に、本実施形態に係るミスト発生装置の洗浄方法を、図8(b)に、当該洗浄動作時におけるタイミングチャートを示す。図8(b)に示すように、洗浄スイッチ16が押し込まれオン操作されると、洗浄モードとなり、制御回路13は、回転体駆動用のモーター4を逆回転させる。このときのモーター4の逆回転速度は、使用状態におけるモーター4の回転速度よりも速く設定されている(15000rpm程度)。この状態から、ミスト発生装置のヘッド部2の一端にある吐出口185、噴射口43を水道の蛇口の下方に位置させて蛇口のコックをひねると、蛇口から吐出された水道水(洗浄水)が、吐出口185、噴射口43から回転基板70、ファンユニット46等を通り、連通孔37・40を介して、ヘッド部2の他端にある吸気口186、開口41から流出され、かかる水道水の流れにより、回転基板70等に付着の塵埃が洗い流される。さらには、保護フード45の中央部分に開口53aを形成し、開口53aと回転体5の中央部分に形成された微細化前の液体の導入口72とを連通している。これにより、保護フード45の開口53aから導入された洗浄水を、回転基板70a〜70d間に形成された通路(液体通路83・周方向通路84)及び回転基板70dとベース部75間に形成される通路(液体通路83・周方向通路84)に流れ込ませて、これら通路を洗浄することができる。したがって、水に替えて粘性の高い化粧水などをミスト化していた場合でも、該化粧水が流路内で硬化して詰まるのを防ぐことができる。もちろんこれと同時に噴射口43、連通孔37、40の洗浄も行うことができる。なお、洗浄水が水道水に限られないことは言うまでもない。再度に、洗浄スイッチ16が再度押し込まれオフ操作されると、モーター4の回転が停止される。   FIG. 10 shows a cleaning method of the mist generating apparatus according to this embodiment, and FIG. 8B shows a timing chart during the cleaning operation. As shown in FIG. 8B, when the cleaning switch 16 is pushed in and turned on, the cleaning mode is set, and the control circuit 13 reversely rotates the motor 4 for driving the rotating body. The reverse rotation speed of the motor 4 at this time is set faster than the rotation speed of the motor 4 in the use state (about 15000 rpm). From this state, when the discharge port 185 and the injection port 43 at one end of the head portion 2 of the mist generating device are positioned below the tap and the tap of the tap is twisted, tap water (washing water) discharged from the tap Is discharged from the discharge port 185 and the injection port 43 through the rotary substrate 70, the fan unit 46, etc., through the communication holes 37 and 40, and out of the intake port 186 and the opening 41 at the other end of the head portion 2. Dust adhering to the rotating substrate 70 and the like is washed away by the flow of water. Furthermore, an opening 53 a is formed in the central portion of the protective hood 45, and the opening 53 a is in communication with the liquid inlet 72 before being formed in the central portion of the rotating body 5. Accordingly, the cleaning water introduced from the opening 53a of the protective hood 45 is formed between the rotary substrate 70a to 70d (the liquid passage 83 and the circumferential passage 84) and the rotary substrate 70d and the base portion 75. These passages can be washed by flowing into the passages (liquid passage 83 and circumferential passage 84). Therefore, even when highly viscous lotion or the like is made into mist instead of water, the lotion can be prevented from being hardened and clogged in the flow path. Of course, the injection port 43 and the communication holes 37 and 40 can be simultaneously cleaned. Needless to say, the cleaning water is not limited to tap water. Again, when the cleaning switch 16 is pushed again and turned off, the rotation of the motor 4 is stopped.

すなわち、本装置は、ポンプ装置9(送給ポンプ)により回転基板70に液体を供給して該回転基板70の回転によってその液体をミスト化するミスト発生装置であって、
スイッチ15のオンにより、回転基板70が回転されるとともにポンプ装置9が駆動され、
スイッチ15のオフにより、ポンプ装置9の駆動が停止され、その後所定期間(t2)後に回転基板70の回転が停止されるものとなっていることを特徴とする。
このように、ポンプ装置9の駆動が停止されたのち、所定期間(t2)後に回転基板70の回転が停止されるようにしていると、回転基板70に残留する残留液体をミスト化して確実に吐出することができるので、特に粘性のある液体が残留することによって、液体が固化することを確実に防ぐことができる。したがって、動作不良の発生を抑えて、信頼性に優れたミスト発生装置を得ることができる。
That is, this device is a mist generating device that supplies liquid to the rotating substrate 70 by the pump device 9 (feed pump) and mists the liquid by the rotation of the rotating substrate 70.
When the switch 15 is turned on, the rotary substrate 70 is rotated and the pump device 9 is driven.
When the switch 15 is turned off, the driving of the pump device 9 is stopped, and then the rotation of the rotary substrate 70 is stopped after a predetermined period (t2).
As described above, after the driving of the pump device 9 is stopped, if the rotation of the rotating substrate 70 is stopped after a predetermined period (t2), the residual liquid remaining on the rotating substrate 70 is misted to ensure the rotation. Since the liquid can be discharged, it is possible to reliably prevent the liquid from solidifying, particularly when the viscous liquid remains. Therefore, it is possible to obtain a mist generating device having excellent reliability while suppressing the occurrence of malfunction.

また、このミスト発生装置では、スイッチ15のオンにより、回転基板70が回転されるとともにポンプ装置9が駆動され、スイッチ15のオフにより、ポンプ装置9の駆動が停止され、その後所定期間(t2)後に回転基板70の回転が停止されるようになっており、
所定期間(t2)における回転基板70の回転速度が、ミスト発生時の回転速度よりも速く設定されている。
このように、ポンプ装置9の駆動停止後の所定期間(t2)における回転基板70の回転速度が、ミスト生成時の回転速度よりも速く設定されていると、より確実に残留液体を吐出することができるので、残留液体の固化問題を確実に解消できる。
Further, in this mist generating device, when the switch 15 is turned on, the rotary substrate 70 is rotated and the pump device 9 is driven, and when the switch 15 is turned off, the driving of the pump device 9 is stopped, and then for a predetermined period (t2). The rotation of the rotating substrate 70 is stopped later,
The rotational speed of the rotating substrate 70 in the predetermined period (t2) is set to be faster than the rotational speed when mist is generated.
As described above, when the rotational speed of the rotary substrate 70 in the predetermined period (t2) after the driving of the pump device 9 is stopped is set to be higher than the rotational speed at the time of mist generation, the residual liquid is more reliably discharged. Therefore, the solidification problem of the residual liquid can be surely solved.

また、このミスト発生装置では、スイッチ15のオンにより、回転基板70が回転され、その後所定期間t1後にポンプ装置9が駆動されるようにしている。
これによれば、回転基板70の回転速度が上がってから該回転基板70に液体が供給されるため、回転基板70の回転速度の低いときに液体が供給される場合に生じる大粒のミストが生成されるという不都合を解消できる。したがって、より確実により細かなミストを生成することが可能となる。
Further, in this mist generating device, the rotary substrate 70 is rotated by turning on the switch 15, and then the pump device 9 is driven after a predetermined period t1.
According to this, since the liquid is supplied to the rotating substrate 70 after the rotating speed of the rotating substrate 70 is increased, large mist generated when the liquid is supplied when the rotating speed of the rotating substrate 70 is low is generated. The inconvenience of being done can be solved. Therefore, it is possible to generate a finer mist more reliably.

また、このミスト発生装置は、ミスト発生モードと洗浄モードとを備えており、
回転基板70には、ファン46(ファンユニット)が取り付けられており、
ファン46により生起された風は、ミスト発生モード時は、ミストを運ぶ作用に利用され、洗浄モード時は、洗浄水を排出する作用に利用されるようになっている。
これによれば、ミストを運ぶ作用に利用される風と、洗浄水を排出する作用に利用される風とを、一つのファン46により生起することができるので、両作用に利用される風を別々のファン46により生起する形態に比べて、部品点数を減らしてミスト生成装置の製造コストの削減に貢献できる。加えて、簡単な構成で両作用に利用される風を生起できるので、信頼性に優れたミスト生成装置を得ることができる。
The mist generator has a mist generation mode and a cleaning mode.
A fan 46 (fan unit) is attached to the rotating substrate 70.
The wind generated by the fan 46 is used to carry mist in the mist generation mode, and is used to discharge washing water in the cleaning mode.
According to this, since the wind used for the action for carrying the mist and the wind used for the action for discharging the washing water can be generated by one fan 46, the wind used for both actions can be generated. Compared to the form generated by the separate fans 46, the number of parts can be reduced and the manufacturing cost of the mist generating device can be reduced. In addition, since the wind used for both actions can be generated with a simple configuration, a highly reliable mist generating device can be obtained.

洗浄モード時の回転基板70の回転速度を、ミスト発生モード時の回転基板70の回転速度よりも速くすることができる。これによれば、洗浄水の排出効果の向上が期待できる。   The rotation speed of the rotating substrate 70 in the cleaning mode can be made faster than the rotating speed of the rotating substrate 70 in the mist generation mode. According to this, the improvement of the discharge effect of washing water can be expected.

(第2実施形態) 図13に、本発明の係るミスト発生装置の第2実施形態を示す。そこでは、回転基板70の円中心から外周方向に向かって、衝突壁列82を螺旋状に配置した点が先の第1実施形態と相違する。それ以外の点は、先の第1実施形態と同様であるので、同様の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。なお、図13には、最下方に位置する回転基板70aのみを示したが、その余の回転基板70b〜70dにおいても、回転基板70aと同様の衝突壁列82の配列構成を採ることができることを補足する。 Second Embodiment FIG. 13 shows a mist generator according to a second embodiment of the present invention. Here, the point that the collision wall row 82 is spirally arranged from the center of the circle of the rotating substrate 70 toward the outer periphery is different from the first embodiment. Since the other points are the same as those in the first embodiment, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. FIG. 13 shows only the rotating substrate 70a positioned at the lowermost position, but the remaining rotating substrates 70b to 70d can have the same arrangement configuration of the collision wall rows 82 as the rotating substrate 70a. To supplement.

(第3実施形態) 図14に、本発明の第3実施形態を示す。そこでは、エッチング法により、衝突壁81を形成した点が、先の第1実施形態と相違する。すなわち、図14(a)に示すように、回転基板70を構成する基板本体80の上面に、衝突壁81の形成箇所に対応するレジスト体130を有するパターンレジスト131を形成したうえで、基板本体80の上面側からエッチング液を塗布することにより、レジスト体130の無い基板本体80の上面をエッチング液で食刻することにより、液体通路83および周方向通路84に対応する凹部を基板本体80に形成して、衝突壁81を形成している。以上のようなエッチング法による回転基板70の形成方法によっても、凹部の周縁、すなわち、衝突壁81の側面にエッチング液による食刻によって凹凸部95を形成することができる。それ以外の点は、先と第1実施形態と同様であるので同様の部材には同一の符号を付してその説明を省略する。 Third Embodiment FIG. 14 shows a third embodiment of the present invention. Here, the point that the collision wall 81 is formed by an etching method is different from the first embodiment. That is, as shown in FIG. 14A, after a pattern resist 131 having a resist body 130 corresponding to the formation location of the collision wall 81 is formed on the upper surface of the substrate body 80 constituting the rotating substrate 70, the substrate body By applying an etching solution from the upper surface side of 80, and etching the upper surface of the substrate body 80 without the resist body 130 with the etching solution, recesses corresponding to the liquid passage 83 and the circumferential passage 84 are formed in the substrate body 80. The collision wall 81 is formed. Also by the method of forming the rotating substrate 70 by the etching method as described above, the concavo-convex portion 95 can be formed by etching with an etching solution on the periphery of the recess, that is, the side surface of the collision wall 81. Since the other points are the same as those of the first embodiment, the same members are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

(第4実施形態) 図15に本発明の第4実施形態を示す。そこでは、衝突壁81の上端に、衝突壁81の周壁面よりも大形のオーバーハング部135を形成している。また、この第4実施形態では、複数枚の回転基板70を積層して回転体5を構成するのでは無く、一枚の回転基板70のみで回転体5を構成している。すなわち、液体通路83や周方向通路84の上方を塞ぐ天板となる、上方側の回転基板70を廃している。それ以外の点は、先の第1実施形態と同様であるので、同様の部材には同一の符号を付してその説明を省略する。このように、衝突壁81の上端にオーバーハング部135を形成してあると、該オーバーハング部135で、液体通路83および周方向通路84を通る液体が、上方に向かうことを防ぐことができるので、衝突壁81に液体を繰り返して衝突させながら、回転基板70の中心から外周方向に向かって液体を移動させることができる。したがって、微細化されたミストを得ることができる。   (Fourth Embodiment) FIG. 15 shows a fourth embodiment of the present invention. There, an overhang portion 135 larger than the peripheral wall surface of the collision wall 81 is formed at the upper end of the collision wall 81. In the fourth embodiment, the rotating body 5 is not formed by stacking a plurality of rotating substrates 70, but the rotating body 5 is configured by only one rotating substrate 70. In other words, the upper rotating substrate 70 that serves as a top plate that covers the liquid passage 83 and the circumferential passage 84 is eliminated. Since the other points are the same as those in the first embodiment, the same members are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted. As described above, when the overhang portion 135 is formed at the upper end of the collision wall 81, the liquid passing through the liquid passage 83 and the circumferential passage 84 can be prevented from moving upward in the overhang portion 135. Therefore, the liquid can be moved from the center of the rotating substrate 70 toward the outer peripheral direction while repeatedly colliding the liquid with the collision wall 81. Therefore, a miniaturized mist can be obtained.

(第5実施形態) 第5実施形態は、第1実施形態と同じ構成であり、違いは、衝突壁81の寸法設定のみである。以下に具体的に説明する。   (5th Embodiment) 5th Embodiment is the same structure as 1st Embodiment, and the difference is only the dimension setting of the collision wall 81. FIG. This will be specifically described below.

回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wは、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tよりも大きく設定されている。すなわち、W>Tの関係を満たすものとなっている。このように、衝突壁81の厚み寸法Tを小さく設定すると、回転基板70の小径化を実現してミスト発生装置の全体を小型化できる。   The width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70 is set to be larger than the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70. That is, the relationship of W> T is satisfied. Thus, when the thickness dimension T of the collision wall 81 is set small, the diameter of the rotating substrate 70 can be reduced, and the entire mist generating device can be downsized.

次に、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁の突出寸法Hとは、W>T>Hの関係を満たすように設定されている。これにより、回転基板70の小径化を図ることができる。衝突壁81の突出寸法を抑制して衝突壁81の強度を増すことができるとともに、回転基板70全体の厚み寸法(上下寸法)の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。回転基板70の厚み寸法が大きくなれば回転基板70を固定するモーター4の回転軸56に負荷がかかりモーター4の寿命に影響するが、これを可及的に抑制することができる。   Next, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protrusion dimension H of the collision wall are W> T> It is set to satisfy the relationship of H. Thereby, the diameter of the rotating substrate 70 can be reduced. The protrusion size of the collision wall 81 can be suppressed to increase the strength of the collision wall 81, and the increase in the thickness dimension (vertical dimension) of the entire rotating substrate 70 can be suppressed to realize the miniaturization of the mist generating device. Can do. If the thickness dimension of the rotating substrate 70 is increased, a load is applied to the rotating shaft 56 of the motor 4 that fixes the rotating substrate 70 and affects the life of the motor 4, but this can be suppressed as much as possible.

基板本体80の厚み寸法Eと、回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hとが、E>W>T>Hの関係を満たすように設定されている。これによれば、先と同様に、衝突壁81の突出寸法を抑制して衝突壁81の強度を増すことができるとともに、回転基板70全体の厚み寸法(上下寸法)の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。また、基板本体80の厚み寸法Eを大きく取って、回転基板70を強度に優れたものとすることができる。加えて、回転基板70の重量を大きくして、その慣性重量を大きくすることができるので、回転基板70の回転姿勢を安定化することができる。   The thickness dimension E of the substrate body 80, the width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, and the protruding dimension H of the collision wall 81 Are set so as to satisfy the relationship E> W> T> H. According to this, similarly to the above, while suppressing the protrusion dimension of the collision wall 81 and increasing the strength of the collision wall 81, the increase in the thickness dimension (vertical dimension) of the entire rotating substrate 70 is suppressed, Miniaturization of the mist generator can be realized. Moreover, the thickness dimension E of the board | substrate body 80 can be taken large, and the rotating board 70 can be made excellent in intensity | strength. In addition, since the weight of the rotating substrate 70 can be increased and the inertia weight thereof can be increased, the rotational posture of the rotating substrate 70 can be stabilized.

回転基板70の周方向に係る衝突壁81の幅寸法Wと、回転基板70の径方向に係る衝突壁81の厚み寸法Tと、衝突壁81の突出寸法Hと、衝突壁列82の液体通路83の通路幅Aとが、W>T>H>Aの関係を満たすように設定されている。これによれば、先と同様に、衝突壁81の突出寸法を抑制して衝突壁81の強度を増すことができるとともに、回転基板70全体の厚み寸法(上下寸法)の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。加えて、衝突壁81の突出寸法Hを、液体通路83の通路幅Aよりも大きくしていると、これら衝突壁81の突出寸法Hと液体通路83の通路幅Aとで規定される液体通路の断面積(H×A)を大きく取ることができるので、液体通路83内の液体の流れをスムーズなものとすることができる。   The width dimension W of the collision wall 81 in the circumferential direction of the rotating substrate 70, the thickness dimension T of the collision wall 81 in the radial direction of the rotating substrate 70, the protruding dimension H of the collision wall 81, and the liquid passage of the collision wall row 82 83 passage width A is set so as to satisfy the relationship of W> T> H> A. According to this, similarly to the above, while suppressing the protrusion dimension of the collision wall 81 and increasing the strength of the collision wall 81, the increase in the thickness dimension (vertical dimension) of the entire rotating substrate 70 is suppressed, Miniaturization of the mist generator can be realized. In addition, if the projecting dimension H of the collision wall 81 is larger than the passage width A of the liquid passage 83, the liquid passage defined by the projecting dimension H of the collision wall 81 and the passage width A of the liquid passage 83 will be described. Since the cross sectional area (H × A) can be made large, the flow of the liquid in the liquid passage 83 can be made smooth.

内外の衝突壁列82を構成する衝突壁81の間に形成される周方向の液体通路(周方向通路84)の通路幅Bと、衝突壁列82の液体通路83の通路幅Aとが、B>Aの関係を満たすように設定する。これによれば、衝突壁列82の液体通路83の通路幅Aを小さくしたことに由来する、衝突壁81に対する水の衝突エネルギーの向上効果が期待できる。したがって、より効率的に水を衝突壁81に衝突させて、ミスト径を微細化できる。   The passage width B of the circumferential liquid passage (circumferential passage 84) formed between the collision walls 81 constituting the inner and outer collision wall row 82 and the passage width A of the liquid passage 83 of the collision wall row 82 are: B> A is set so as to satisfy the relationship. According to this, the improvement effect of the collision energy of the water with respect to the collision wall 81 resulting from reducing the passage width A of the liquid passage 83 of the collision wall row 82 can be expected. Therefore, water can be collided with the collision wall 81 more efficiently, and the mist diameter can be refined.

本ミスト発生装置は以下の態様で実施することができる。   This mist generator can be implemented in the following manner.

回転駆動される回転基板70と、ミスト生成用の液体8を収容するタンク7と、タンク7に収容した液体8を回転基板70に送給する液体送給手段9とを備えるミスト発生装置を対象とする。そして、回転基板70が、複数の衝突壁81を有しており、衝突壁81の壁面90に凹凸部95を形成して、該壁面90が粗面化されていることを特徴とする。
これにより、壁面90に衝突した液滴をより効率的に分離・分散(粉砕)させることができるので、液体を確実に微細化して、細かなミストを得ることが可能となる。加えて、壁面90に凹凸部95を形成したので、該壁面90の表面で液滴が団粒化することを防ぐことができ、したがって、より細かなミストを得ることができるとともに、ミスト径の均一化を図ることができる。
A mist generating apparatus including a rotating substrate 70 that is rotationally driven, a tank 7 that stores a liquid 8 for generating mist, and a liquid feeding unit 9 that supplies the liquid 8 stored in the tank 7 to the rotating substrate 70. And The rotating substrate 70 has a plurality of collision walls 81, and an uneven portion 95 is formed on the wall surface 90 of the collision wall 81 so that the wall surface 90 is roughened.
As a result, the liquid droplets that have collided with the wall surface 90 can be more efficiently separated and dispersed (pulverized), so that the liquid can be reliably miniaturized and fine mist can be obtained. In addition, since the concavo-convex portion 95 is formed on the wall surface 90, it is possible to prevent droplets from aggregating on the surface of the wall surface 90. Therefore, a finer mist can be obtained and the mist diameter can be reduced. Uniformity can be achieved.

回転駆動される回転基板70と、ミスト生成用の液体8を収容するタンク7と、タンク7に収容した液体8を回転基板70に送給する液体送給手段9とを備えているミスト発生装置を対象とする。衝突壁81と液体通路83とを交互に配置してなる環状の衝突壁列82が、回転基板70の回転中心を囲む状態で、径方向へ少なくとも二重に設けられており、各衝突壁列82は、外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されている。そして、少なくとも内側の衝突壁列82の液体通路83の出口に臨む外側の衝突壁列82の衝突壁81の壁面90に凹凸部95を形成して、該壁面90が粗面化されていることを特徴とする。
これにより、液体が最外周の衝突壁列82の外方へ飛び出るまでの間に、該液体を衝突壁81に確実に衝突させることができる。したがって、液体を微細化して、細かなミストを得ることができる。
加えて本構成では、少なくとも内側の衝突壁列82の液体通路83の出口に臨む外側の衝突壁列82の衝突壁81の壁面90に凹凸部95を形成して、該壁面90を粗面化したので、壁面90に衝突した液滴をより効率的に分離・分散(粉砕)させることができる。加えて、壁面90に凹凸部95が形成されていると、該壁面90の表面で液滴が団粒化することを防ぐことができる。したがって、より細かなミストを得ることができるとともに、ミスト径の均一化を図ることができる。
本構成で言うところの「環状の衝突壁列」とは、図5に示すように、径寸法の異なる衝突壁列82が複数個形成されている形態のほか、図13に示すように、衝突壁列82が螺旋状に形成されている形態をも含む概念である。また、本構成において「外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されている」とは、一つの例外も無く、全ての外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されていることを意味するものではなく、大多数の外側の衝突壁列82を構成する衝突壁81が、内側の衝突壁列82の液体通路83と対向する状態で配置されていることをも含む概念である。
A mist generating apparatus comprising: a rotary substrate 70 that is rotationally driven; a tank 7 that contains a liquid 8 for generating mist; and a liquid feeding means 9 that feeds the liquid 8 contained in the tank 7 to the rotary substrate 70. Is targeted. An annular collision wall row 82 formed by alternately arranging the collision walls 81 and the liquid passages 83 is provided at least twice in the radial direction so as to surround the rotation center of the rotary substrate 70. 82, the collision wall 81 constituting the outer collision wall row 82 is arranged in a state of facing the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82. And the uneven | corrugated | grooved part 95 is formed in the wall surface 90 of the collision wall 81 of the outer side collision wall row | line | column 82 which faces the exit of the liquid channel | path 83 of the inner side collision wall row | line | column 82 at least, and this wall surface 90 is roughened. It is characterized by.
Thereby, the liquid can be reliably collided with the collision wall 81 before the liquid jumps out of the outermost collision wall row 82. Therefore, it is possible to obtain a fine mist by refining the liquid.
In addition, in this configuration, an uneven portion 95 is formed on the wall surface 90 of the collision wall 81 of the outer collision wall row 82 facing at least the outlet of the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82 to roughen the wall surface 90. As a result, the liquid droplets colliding with the wall surface 90 can be more efficiently separated and dispersed (pulverized). In addition, when the concavo-convex portion 95 is formed on the wall surface 90, droplets can be prevented from aggregating on the surface of the wall surface 90. Therefore, a finer mist can be obtained and the mist diameter can be made uniform.
In this configuration, the “annular collision wall row” refers to a configuration in which a plurality of collision wall rows 82 having different diameters are formed as shown in FIG. This is a concept including a form in which the wall row 82 is formed in a spiral shape. Further, in this configuration, “the collision wall 81 constituting the outer collision wall row 82 is arranged in a state of facing the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82” without any exception, and all It does not mean that the collision wall 81 constituting the outer collision wall row 82 is arranged in a state of facing the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82, and the majority of the outer collision wall rows 82 This is a concept that includes that the collision wall 81 constituting 82 is arranged in a state of facing the liquid passage 83 of the inner collision wall row 82.

回転基板70の表面粗度は、凹凸部95が形成された衝突壁81の壁面の粗度よりも小さく設定する。
これにより、回転基板70の表面に沿って液体通路83を流れる液滴やミストの流速が損なわれることを効果的に防ぐことができる。換言すれば、液体通路83を流れる液滴やミストの衝突壁81への衝突エネルギーが、回転基板70の表面に接触することで奪われることを防ぐことができる。これにて、効率的に液滴やミストを衝突壁81に衝突させることができるので、より細かなミストを得ることができる。
The surface roughness of the rotating substrate 70 is set to be smaller than the roughness of the wall surface of the collision wall 81 on which the uneven portion 95 is formed.
Thereby, it is possible to effectively prevent the flow velocity of the droplets and mist flowing through the liquid passage 83 along the surface of the rotating substrate 70 from being impaired. In other words, it is possible to prevent the collision energy of the droplets and mist flowing through the liquid passage 83 from colliding with the collision wall 81 from being taken away by contacting the surface of the rotating substrate 70. Thereby, since a droplet or mist can be made to collide with the collision wall 81 efficiently, finer mist can be obtained.

衝突壁81を構成する全ての壁面90・91・92・93に凹凸部95を形成して、粗面化することができる。
これにより、該衝突壁81の壁面で区画される液体通路83の流路抵抗の増大化を図ることができる。したがって、液体の分離効果の向上が期待でき、より細かなミストを得ることができる。
The uneven portions 95 can be formed on all the wall surfaces 90, 91, 92, and 93 constituting the collision wall 81 to be roughened.
Thereby, the flow resistance of the liquid passage 83 defined by the wall surface of the collision wall 81 can be increased. Therefore, improvement of the liquid separation effect can be expected, and finer mist can be obtained.

衝突壁81が回転基板70の表面から突出状に形成されており、凹凸部95が、回転基板70からの突出方向に長い溝96とリブ97とで構成されている。
例えば、凹凸部95が、回転基板70からの突出方向と直交する方向、すなわち水平方向に長い溝とリブとで構成されている場合には、液体通路83における液体の流れ方向に溝が形成されることとなるため、該溝に沿って液体が流れることで、液体が団粒化し、却ってミスト径が大きくなるおそれがある。これに対して本構成のように、凹凸部95を回転基板70からの突出方向に長い溝96とリブ97とで構成して、液体流路における液体の流れ方向と直交する方向に溝96を形成していると、液体通路83の流れ方向における流路抵抗を大きくすることができるため、液体をより効率的に分離・分散して、ミスト径の微細化を図ることができる。
The collision wall 81 is formed so as to protrude from the surface of the rotating substrate 70, and the concavo-convex portion 95 is constituted by a groove 96 and a rib 97 that are long in the protruding direction from the rotating substrate 70.
For example, when the concavo-convex portion 95 is configured by a groove and a rib that are long in the direction perpendicular to the protruding direction from the rotating substrate 70, that is, in the horizontal direction, the groove is formed in the liquid flow direction in the liquid passage 83. Therefore, when the liquid flows along the groove, the liquid aggregates and there is a possibility that the mist diameter increases. On the other hand, as in the present configuration, the concavo-convex portion 95 is configured by a groove 96 and a rib 97 that are long in the protruding direction from the rotating substrate 70, and the groove 96 is formed in a direction orthogonal to the liquid flow direction in the liquid channel. If formed, the flow path resistance in the flow direction of the liquid passage 83 can be increased, so that the liquid can be more efficiently separated and dispersed to reduce the mist diameter.

衝突壁81の上面94には天板86が固定されており、衝突壁81の上面94の粗度が、液体通路83に臨む衝突壁81の側面90の粗度よりも小さく設定する。
これにより、天板86と衝突壁81との密着性の向上を図ることができる。したがって、不用意に天板86と衝突壁81とが分離することを防ぐことができるので、天板86と回転基板70とが強固に一体化された状態を長期にわたって維持できる。
A top plate 86 is fixed to the upper surface 94 of the collision wall 81, and the roughness of the upper surface 94 of the collision wall 81 is set smaller than the roughness of the side surface 90 of the collision wall 81 facing the liquid passage 83.
Thereby, the adhesiveness of the top plate 86 and the collision wall 81 can be improved. Therefore, it is possible to prevent the top plate 86 and the collision wall 81 from being inadvertently separated from each other, so that the state in which the top plate 86 and the rotating substrate 70 are firmly integrated can be maintained for a long time.

衝突壁列82が回転基板70の径方向へ多重に設けられており、衝突壁81を含む衝突壁列82が、天板86の支持構造を兼ねている。
衝突壁列82が回転基板70の径方向へ多重に設けられていると、液体の進行方向を多様化させて、液体をよく分離させることができ、ミストの微細化を促進できる。また、液体通路83と対向する衝突壁81に液体を繰り返して衝突させて、ミストをさらに確実に微細化できる。また、衝突壁81を含む衝突壁列82が天板の支持構造をかねていると、別途に天板の支持構造を設ける形態に比べて、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
Collision wall rows 82 are provided in the radial direction of the rotating substrate 70, and the collision wall rows 82 including the collision walls 81 also serve as a support structure for the top plate 86.
If the collision wall rows 82 are provided in the radial direction of the rotary substrate 70, the liquid traveling direction can be diversified, the liquid can be separated well, and the miniaturization of the mist can be promoted. In addition, the liquid can be repeatedly collided with the collision wall 81 facing the liquid passage 83, so that the mist can be further refined. Further, if the collision wall row 82 including the collision wall 81 also serves as a top plate support structure, an increase in the manufacturing cost of the mist generating device can be suppressed as compared with a mode in which a separate top plate support structure is provided.

衝突壁列82を備える回転基板70が複数枚積層されており、上方の回転基板70が、下方の回転基板70の天板86を兼ねている形態を採ることができる。
衝突壁列82を備える回転基板70が複数枚積層されていると、回転基板70の外径寸法を大きくすることなく、ミスト発生量の増大化を図ることができる。従って、小型でありながら、ミスト生成能力に優れたミスト発生装置を得ることができる。加えて、上方の回転基板70が、下方の回転基板70の天板を兼ねていると、複数個積層された回転基板70の全体寸法(上下方向の厚み寸法)の増大化を抑えることができるので、ミスト発生装置の小型化に貢献できる。
A plurality of rotating substrates 70 including the collision wall row 82 are stacked, and the upper rotating substrate 70 can also take the form of a top plate 86 of the lower rotating substrate 70.
When a plurality of rotating substrates 70 each including the collision wall row 82 are stacked, the amount of mist generated can be increased without increasing the outer diameter of the rotating substrate 70. Therefore, it is possible to obtain a mist generating device that is small and excellent in mist generation capability. In addition, when the upper rotating substrate 70 also serves as the top plate of the lower rotating substrate 70, an increase in the overall dimension (vertical thickness dimension) of the plurality of stacked rotating substrates 70 can be suppressed. Therefore, it can contribute to miniaturization of the mist generator.

衝突壁81は電鋳法により形成する。
衝突壁81が電鋳法により形成されていると、多数個の衝突壁81を備える回転基板70を精度良く形成することができる。
加えて、電鋳法の電着工程に先立って形成されるレジスト体111のパターンフィルム110にフィラー115を含有させてあると、該フィラー115による光の屈折によりレジスト体111の側面に縦溝を形成することができるので、該縦溝を利用して衝突壁81の凹凸部95を形成することができる。より具体的には、電鋳法が、回転基板70上にフォトレジスト層109を形成する工程と、液体通路83に対応する透孔を有するパターンフィルムを該フォトレジスト層109上に形成する工程と、紫外線光照射手段103で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、液体通路83に対応するレジスト体111を有するパターンレジスト112を回転基板70上に形成する工程と、該レジスト体111の無い回転基板70の部分に金属を電着させることにより、衝突壁81に対応する電鋳層113を形成する工程とを含むものとしたうえで、前記パターンフィルム110にフィラー115を含ませてあると、該フィラー115による紫外線光の屈折によりパターンレジスト112の露光部分と未露光部分との境界部、すなわちレジスト体111の側面に溝ができるため、かかる溝を利用して電鋳層113を形成することで、衝突壁81の表面に縦溝を形成することができる。以上より、パターンフィルム110にフィラー115を含ませてあると、衝突壁81の形成と同時に凹凸部95を形成することができるので、サンドブラストや金属粒体を塗着するなどの別工程で凹凸部95を形成する形態に比べて、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
The collision wall 81 is formed by electroforming.
When the collision wall 81 is formed by electroforming, the rotary substrate 70 including a large number of collision walls 81 can be formed with high accuracy.
In addition, if the filler 115 is included in the pattern film 110 of the resist body 111 formed prior to the electrodeposition process of the electroforming method, vertical grooves are formed on the side surfaces of the resist body 111 due to light refraction by the filler 115. Since it can be formed, the concavo-convex portion 95 of the collision wall 81 can be formed using the vertical groove. More specifically, the electroforming method forms a photoresist layer 109 on the rotating substrate 70, and forms a pattern film having a through hole corresponding to the liquid passage 83 on the photoresist layer 109. The pattern resist having the resist body 111 corresponding to the liquid passage 83 is obtained by irradiating the ultraviolet light with the ultraviolet light irradiation means 103 to perform exposure, developing and drying, and dissolving and removing unexposed portions. Including a step of forming 112 on the rotating substrate 70 and a step of forming an electroformed layer 113 corresponding to the collision wall 81 by electrodepositing a metal on a portion of the rotating substrate 70 without the resist body 111. In addition, if the filler 115 is included in the pattern film 110, the pattern resist 112 is caused by refraction of ultraviolet light by the filler 115. Since a groove is formed at the boundary portion between the exposed portion and the unexposed portion, that is, the side surface of the resist body 111, a vertical groove is formed on the surface of the collision wall 81 by forming the electroformed layer 113 using the groove. be able to. As described above, when the filler 115 is included in the pattern film 110, the uneven portion 95 can be formed simultaneously with the formation of the collision wall 81. Compared with the embodiment in which 95 is formed, an increase in the manufacturing cost of the mist generating device can be suppressed.

衝突壁81の上端にオーバーハング部135が設けられている。
これにより、天板を廃することができるので、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
An overhang portion 135 is provided at the upper end of the collision wall 81.
Thereby, since a top plate can be abolished, the raise of the manufacturing cost of a mist generator can be suppressed.

エッチング法により衝突壁81を形成する。
これにより、衝突壁81の形成と同時に凹凸部95を形成することができるので、サンドブラストや金属粒体を塗着するなどの別工程で凹凸部95を形成する形態に比べて、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
The collision wall 81 is formed by an etching method.
Thereby, since the uneven part 95 can be formed simultaneously with the formation of the collision wall 81, the mist generating device can be compared with a form in which the uneven part 95 is formed in a separate process such as sandblasting or applying metal particles. An increase in manufacturing cost can be suppressed.

上記実施形態においては、4枚の回転基板70(70a〜70d)で回転体5を構成したが、本発明はこれに限られず、回転基板70の枚数は4枚を超えるものであっても、4枚未満であってもよい。また、上記実施形態においては、ミスト生成装置は、メインスイッチ15と洗浄用スイッチ16の二つのスイッチを備えるものとし、メインスイッチ15を押圧操作するとミスト生成モードとなり、洗浄用スイッチ16を押圧操作すると洗浄モードとなるようにしたが、スイッチは一つとし、当該スイッチを押圧操作するたびに、サイクルでモードが変更されるようにしてもよい。保護フード45等の本体ケース1の形状は、先の第1実施形態に示したものに限られない。先の第1実施形態においては、連結ボス64により複数枚の回転基板70を固定したが、本発明はこれに限られず、ビスにより複数枚の回転基板70を固定することができる。   In the above embodiment, the rotating body 5 is configured by four rotating substrates 70 (70a to 70d). However, the present invention is not limited to this, and the number of rotating substrates 70 may be more than four. It may be less than 4 sheets. In the above embodiment, the mist generating device includes two switches, the main switch 15 and the cleaning switch 16. When the main switch 15 is pressed, the mist generating mode is set. When the cleaning switch 16 is pressed, Although the cleaning mode is set, one switch may be used, and the mode may be changed in a cycle every time the switch is pressed. The shape of the main body case 1 such as the protective hood 45 is not limited to that shown in the first embodiment. In the first embodiment, the plurality of rotating substrates 70 are fixed by the connecting bosses 64. However, the present invention is not limited to this, and the plurality of rotating substrates 70 can be fixed by screws.

上記実施形態においては、ミスト発生部6がファン(ファンユニット46)を備えるものであったが、本発明はこれに限られず、ファンは無くても良い。また、ファンを設ける場合において、回転体駆動用のモーター4とは別個に、ファン用のモーターを設けた形態であってもよい。   In the said embodiment, although the mist generating part 6 was provided with the fan (fan unit 46), this invention is not limited to this, A fan may not be provided. In the case where a fan is provided, a fan motor may be provided separately from the rotating body driving motor 4.

回転体5の駆動手段としては、モーター4に限られず、手動式の回転体駆動手段であってもよい。具体的には、押圧式レバーに設けられるラックギヤと、同ラックギヤと噛み合うピニオンギヤと、同ピニオンギヤと回転体との間に設けられるワンウェイクラッチを含んで構成される手動式の回転体駆動手段であってもよく、或いは、ゼンマイ方式の回転体駆動手段であってもよい。さらに、回転体の背面に複数のフィンを設けて別途設けられた送風手段による風力によって回転体5が回転されるものであってもよい。   The driving means for the rotating body 5 is not limited to the motor 4 and may be a manual rotating body driving means. Specifically, manual rotating body drive means comprising a rack gear provided in the pressing lever, a pinion gear meshing with the rack gear, and a one-way clutch provided between the pinion gear and the rotating body, Alternatively, a mainspring type rotating body driving means may be used. Furthermore, the rotating body 5 may be rotated by wind force provided by a separately provided air supply unit by providing a plurality of fins on the back surface of the rotating body.

また、上記実施形態においては、一つの本体ケース1の内部にミスト発生部6、液体供給手段9などが設けられている形態であったが、本発明はこれに限られず、ミスト発生部6は、液体供給手段9やタンク7とは別体に設けることができる。つまり、ミスト発生部6と液体供給手段9やタンク7とが別体に設けられ、両者間が電力供給用のリードや送給チューブ等を介して連結されている形態であってもよい。化粧水のボトルを直接接続して液体を供給する形態であってもよく、その場合には、化粧水のボトルそのものが、本発明のタンクとなる。また、回転体5にスポイトなどにより直接、液体を送給する形態であってもよく、その場合には、スポイト自身が、タンクおよび液体送給手段となる。なお、本発明のミスト発生装置は、液状の食品(栄養食品、調味料含む)をミスト化する機器、液状の消臭剤、除菌剤をミスト化する機器、液状の香水をミスト化する機器、或いは液状の殺虫剤をミスト化する機器などにも適用できる。   Moreover, in the said embodiment, although it was the form by which the mist generating part 6, the liquid supply means 9, etc. were provided in the inside of one main body case 1, this invention is not limited to this, The mist generating part 6 is The liquid supply means 9 and the tank 7 can be provided separately. That is, the form which the mist generation | occurrence | production part 6, the liquid supply means 9, and the tank 7 are provided in a different body, and both are connected via the lead for electric power supply, a feed tube, etc. may be sufficient. The form may be such that the lotion bottle is directly connected to supply the liquid. In this case, the lotion bottle itself is the tank of the present invention. Further, the liquid may be directly supplied to the rotating body 5 by using a dropper or the like. In this case, the dropper itself serves as a tank and a liquid supply unit. In addition, the mist generating apparatus of this invention is the apparatus which mist-forms liquid foods (including nutritional food and seasoning), the apparatus which mist-forms liquid deodorant, disinfectant, and the apparatus which mist-forms liquid perfume. Alternatively, it can be applied to a device for misting a liquid insecticide.

1 本体ケース
7 タンク
8 液体
9 液体送給手段
70 回転基板
81 衝突壁
82 衝突壁列
83 液体通路
86 天板
90 壁面
91 壁面
92 壁面
93 壁面
94 上面
95 凹凸部
96 溝
97 リブ
135 オーバーハング部
A 液体通路の通路幅
B 液体通路の通路幅
E 回転基板の厚み寸法
H 衝突壁の突出寸法
T 衝突壁の厚み寸法
W 衝突壁の幅寸法
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Main body case 7 Tank 8 Liquid 9 Liquid supply means 70 Rotation board 81 Collision wall 82 Collision wall row 83 Liquid passage 86 Top plate 90 Wall surface 91 Wall surface 92 Wall surface 93 Wall surface 94 Top surface 95 Concavity and convexity part 96 Groove 97 Rib 135 Overhang part A Liquid passage passage width B Liquid passage passage width E Rotating substrate thickness dimension H Collision wall projection dimension T Collision wall thickness dimension W Collision wall width dimension

Claims (4)

回転駆動される回転基板(70)と、ミスト生成用の液体(8)を回転基板(70)に送給する液体送給手段(9)とを備えており、
衝突壁(81)と液体通路(83)とを交互に配置してなる環状の衝突壁列(82)が、回転基板(70)の回転中心を囲む状態で、径方向へ少なくとも二重に設けてあり、
各衝突壁列(82)は、外側の衝突壁列(82)を構成する衝突壁(81)が、内側の衝突壁列(82)の液体通路(83)と対向する状態で配置されており、
衝突壁列(82)を備える回転基板(70)が複数枚積層されており、
上方側の回転基板(70)は、下方側の回転基板(70)の衝突壁(81)の上面で支持されており、
回転基板(70)の周方向に係る衝突壁(81)の幅寸法(W)と、回転基板(70)の径方向に係る衝突壁(81)の厚み寸法(T)と、衝突壁(81)の突出寸法(H)とが、(W)>(H)、(W)>(T)の関係を満たすように設定されており、
回転基板(70)の周方向に係る衝突壁(81)の幅寸法(W)と、回転基板(70)の径方向に係る衝突壁(81)の厚み寸法(T)と、衝突壁(81)の突出寸法(H)とが、(W)>(T)>(H)の関係を満たすように設定されていることを特徴とするミスト発生装置。
A rotating substrate (70) that is driven to rotate, and a liquid feeding means (9) that feeds the liquid (8) for generating mist to the rotating substrate (70),
An annular collision wall row (82) formed by alternately arranging the collision walls (81) and the liquid passages (83) is provided at least twice in the radial direction so as to surround the rotation center of the rotary substrate (70). And
Each collision wall row (82) is arranged in a state where the collision wall (81) constituting the outer collision wall row (82) faces the liquid passage (83) of the inner collision wall row (82). ,
A plurality of rotating substrates (70) having a collision wall row (82) are laminated,
The upper rotating substrate (70) is supported on the upper surface of the collision wall (81) of the lower rotating substrate (70),
The width dimension (W) of the collision wall (81) in the circumferential direction of the rotating substrate (70), the thickness dimension (T) of the collision wall (81) in the radial direction of the rotating substrate (70), and the collision wall (81 ) And the protruding dimension (H) are set so as to satisfy the relationship of (W)> (H), (W)> (T) ,
The width dimension (W) of the collision wall (81) in the circumferential direction of the rotating substrate (70), the thickness dimension (T) of the collision wall (81) in the radial direction of the rotating substrate (70), and the collision wall (81 ) Is set so as to satisfy the relationship of (W)>(T)> (H) .
回転基板(70)は、基板本体(80)と衝突壁(81)とを含み、
基板本体(80)の厚み寸法(E)と、回転基板(70)の周方向に係る衝突壁(81)の幅寸法(W)と、回転基板(70)の径方向に係る衝突壁(81)の厚み寸法(T)と、衝突壁(81)の突出寸法(H)とが、(E)>(W)>(T)>(H)の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項1に記載のミスト発生装置。
The rotating substrate (70) includes a substrate body (80) and a collision wall (81),
The thickness dimension (E) of the substrate body (80), the width dimension (W) of the collision wall (81) in the circumferential direction of the rotating substrate (70), and the collision wall (81 in the radial direction of the rotating substrate (70). ) And the projecting dimension (H) of the collision wall (81) are set so as to satisfy the relationship (E)>(W)>(T)> (H). The mist generator according to claim 1, wherein
回転基板(70)の周方向に係る衝突壁(81)の幅寸法(W)と、回転基板(70)の径方向に係る衝突壁(81)の厚み寸法(T)と、衝突壁(81)の突出寸法(H)と、衝突壁列(82)の液体通路(83)の通路幅(A)とが、(W)>(T)>(H)>(A)の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項1または2に記載のミスト発生装置。 The width dimension (W) of the collision wall (81) in the circumferential direction of the rotating substrate (70), the thickness dimension (T) of the collision wall (81) in the radial direction of the rotating substrate (70), and the collision wall (81 ) And the passage width (A) of the liquid passage (83) of the collision wall row (82) satisfy the relationship of (W)>(T)>(H)> (A). The mist generating device according to claim 1 or 2, wherein 内外の衝突壁列(82)を構成する衝突壁(81)の間に形成される周方向の液体通路(84)の通路幅(B)と、衝突壁列(82)の液体通路(83)の通路幅(A)とが、(B)>(A)の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかひとつに記載のミスト発生装置。 The passage width (B) of the circumferential liquid passage (84) formed between the collision walls (81) constituting the inner and outer collision wall row (82), and the liquid passage (83) of the collision wall row (82). The mist generator according to any one of claims 1 to 3, wherein the passage width (A) is set so as to satisfy a relationship of (B)> (A) .
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