JP5984920B2 - Non-cyanide-based electropolishing - Google Patents

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ヴィジャイ クマール,ティルナヴカラス
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Description

本発明の実施形態は、ジュエリーの製造に関し、より具体的には、限定ではないが、本発明の実施形態は、ジュエリーの製造工程においてジュエリーを研磨する方法に関する。   Embodiments of the present invention relate to jewelry manufacture, and more specifically, but not limited to, embodiments of the present invention relate to a method of polishing jewelry in a jewelry manufacturing process.

ジュエリー産業は、現在、世界中で成長している。ジュエリーの需要拡大により、ジュエリー製造業界は、より多くのジュエリーを最小限の期間で生産して顧客の期待に応えるべく、ジュエリーの製造方法を最適化することを求められている。更に、ジュエリーの品質、特にジュエリー製品の表面の高い反射率に対して、非常に大きな要求が課せられている。   The jewelry industry is currently growing around the world. With the growing demand for jewelry, the jewelry manufacturing industry is required to optimize jewelry manufacturing methods in order to produce more jewelry in a minimal amount of time and meet customer expectations. Furthermore, very high demands are placed on the quality of the jewelry, in particular the high reflectivity of the surface of the jewelry product.

一般に、ジュエリー製品は、表面に上質の仕上げが施され、反射率が高くなるように、研磨されてから市場に送られる。従来、金属研磨工程は、ジュエリー製品を鏡面仕上げにする為に、様々な種類の綿、化学物質付き砥石車などを用いて手動でバフがけすることにより、実施される。   In general, jewelry products are polished and sent to the market so that the surface has a fine finish and high reflectivity. Conventionally, the metal polishing process is carried out by manually buffing with various types of cotton, chemical grinding wheels, etc., in order to give the jewelry product a mirror finish.

別の既存の、ジュエリーを研磨する方法は、シアン化物溶液を使用する電解研磨工程である。シアン化物溶液を使用する電解研磨は、電気的に接続され、シアン化物ベースの溶液(電解液)に浸漬されている2つの電極、即ち、正電極(アノード)及び負電極(カソード)からなる電池を使用して行われる。更に、研磨対象金属は、正電極に接続されており、電流が電池内を通ると、余分の金属が正電極(アノード)から除去されて電解液に溶けるようになっている。   Another existing method for polishing jewelry is an electropolishing process using a cyanide solution. Electropolishing using a cyanide solution is a battery consisting of two electrodes that are electrically connected and immersed in a cyanide-based solution (electrolyte): a positive electrode (anode) and a negative electrode (cathode). Is done using. Further, the metal to be polished is connected to the positive electrode, and when current passes through the battery, excess metal is removed from the positive electrode (anode) and dissolved in the electrolyte.

上述のように、従来の金属研磨方法で使用されるシアン化物電解液は、有毒であることから、全工程が危険を伴うため、研磨工程全体にわたって慎重な取り扱いが求められる。又、金属表面処理業者にとっては、シアン化物の残留スラッジが大きな懸念となりつつある。これは、シアン化物を含むスラッジの廃棄オプションが限られており、時間もコストもかかる為である。更に、大量生産の場合は、費やされる全体時間が、工程の全体効率に大きく影響する。更に、従来の研磨方法では、電解槽内をイオンが通過することによってガスが発生する。電解槽内で発生するガスは、健康に有害な懸濁粒子を含んでおり、環境問題を引き起こす可能性がある。   As described above, since the cyanide electrolyte used in the conventional metal polishing method is toxic, the entire process is dangerous and requires careful handling throughout the polishing process. Moreover, residual sludge of cyanide is becoming a major concern for metal surface treatment companies. This is due to the limited disposal options for sludge containing cyanide, which is time consuming and costly. Furthermore, in the case of mass production, the total time spent greatly affects the overall efficiency of the process. Furthermore, in the conventional polishing method, gas is generated as ions pass through the electrolytic cell. The gas generated in the electrolyzer contains suspended particles that are harmful to health and can cause environmental problems.

更に、従来の金属研磨方法は、複雑な形状のジュエリー(例えば、溝を有するジュエリー)を研磨するには効率的ではなく、これによって、全体工程が部分的に非効率的になる。更に、金のジュエリーを研磨する従来の方法では、研磨工程中に失われた金を完全に回収することができず、金の損失につながる。   Furthermore, conventional metal polishing methods are not efficient for polishing complex shaped jewelry (eg, jewelry with grooves), which makes the entire process partially inefficient. In addition, conventional methods for polishing gold jewelry cannot completely recover the gold lost during the polishing process, leading to gold loss.

そこで、ジュエリー製造業界では、上述の弱点を克服して、効率を確実に向上させることが可能なシステムが必要とされている。更に、使用することによって、金属研磨の効率を向上させることが可能なシステムが必要とされている。   Therefore, there is a need in the jewelry manufacturing industry for a system that can overcome the aforementioned weaknesses and reliably improve efficiency. Furthermore, there is a need for a system that can be used to improve the efficiency of metal polishing.

本発明の主たる目的は、環境に優しい金属研磨システムを提供することである。   The main objective of the present invention is to provide an environmentally friendly metal polishing system.

本発明の別の目的は、大量生産に使用可能な金属研磨システムを提供することである。   Another object of the present invention is to provide a metal polishing system that can be used for mass production.

本発明の更なる目的は、金属研磨中に発生する有害なガスを除去できるシステムを提供することである。   It is a further object of the present invention to provide a system that can remove harmful gases generated during metal polishing.

本発明の更に別の目的は、金属の損失を無視できる量まで最小化する金属研磨システムを提供することである。   Yet another object of the present invention is to provide a metal polishing system that minimizes metal loss to a negligible amount.

本発明は、添付図面において図示されており、添付図面全体を通して、類似の参照符号は、各図面において対応する構成要素を示している。本発明の実施形態は、図面を参照しながら以下の説明を読むことにより、よりよく理解されるであろう。   The present invention is illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals designate corresponding components throughout the drawings. Embodiments of the present invention will be better understood by reading the following description with reference to the drawings.

本発明の一実施形態による金属研磨システムの斜視図である。1 is a perspective view of a metal polishing system according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態による金属研磨工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the metal grinding | polishing process by embodiment of this invention. 本発明の一実施形態による、金属研磨中に発生する有害なガスを除去できるシステムを示す図である。1 illustrates a system that can remove harmful gases generated during metal polishing according to an embodiment of the present invention. FIG.

本発明の実施形態、並びにそれらの様々な特徴及び有利な詳細を、添付図面に図示され、以下の記載において詳述される非限定的な実施形態を参照しながら、より完全に説明する。本発明の実施形態が不必要に曖昧にならないようにする為に、よく知られている構成要素や処理技術の説明は省略する。本明細書において用いられる実施例は、本発明の実施形態の実施方法の理解を容易にすること、並びに、更に、当業者が本発明の実施形態を実施することを可能にすることのみを意図されている。従って、実施例は、本発明の実施形態の範囲を限定するものとして理解されてはならない。   Embodiments of the present invention, as well as their various features and advantageous details, are more fully described with reference to non-limiting embodiments that are illustrated in the accompanying drawings and detailed in the following description. In order to avoid unnecessarily obscuring embodiments of the present invention, descriptions of well-known components and processing techniques are omitted. The examples used herein are intended only to facilitate an understanding of how to implement the embodiments of the present invention and to further enable those skilled in the art to practice the embodiments of the present invention. Has been. Accordingly, the examples should not be understood as limiting the scope of the embodiments of the present invention.

本発明の実施形態は、環境に優しい金属研磨システムを提供する。更に、本発明の実施形態は、多速度変速を可能にできる電気トラクタを提供する。更に、本発明の実施形態は、金属研磨工程中に発生する有害なガスを除去できるシステムを提供する。以下、実施形態が示された各図面(具体的には、図1から図3)を参照する。これらの図面を通して、類似の参照符号は、対応する特徴を示している。   Embodiments of the present invention provide an environmentally friendly metal polishing system. Furthermore, embodiments of the present invention provide an electric tractor that can enable multi-speed shifting. Furthermore, embodiments of the present invention provide a system that can remove harmful gases generated during the metal polishing process. Hereinafter, each drawing (specifically, FIGS. 1 to 3) in which an embodiment is shown will be referred to. Throughout these drawings, like reference numerals indicate corresponding features.

図1は、本発明の実施形態による金属研磨システムの斜視図を示す。システム100は、基台アセンブリ102及び電解槽アセンブリ130を含む。基台アセンブリ102は、木材又は他の絶縁材料で作られてよい支持スタンド104を含む。支持スタンド104は、接続部品106に取り付けられている。接続部品106は、更に、支持スタンド104から車輪108に延びており、車輪108は、システム100を移動したり、回転させたり、地面に固定したりする為に使用される。更に、基台アセンブリ102は、柱112を含み、柱112は、第1の端部112a及び第2の端部112bを含む。柱112の第2の端部112bは、延長部分110を介して支持スタンド104と接続されている。更に、柱112の第1の端部112aは、スエリングジョイント114を介してシャフト116の第1の端部116aと接続されている。シャフト116は、柱112の軸に垂直な軸方向に延びており、スエリングジョイントは、シャフト116が、矢印115で示された軸に沿って360度旋回することを可能にしている。更に、シャフト116の第2の端部116bは、ロータ118を介して複数のシリンダ120と接続されている。ロータ118は、複数のシリンダ120に、矢印119で示された軸及び方向に沿う回転運動を与えるように適合されている。基台アセンブリ102は更に、保持シリンダ122を含み、保持シリンダ122は、フック124、又は同様の、アノード固定具134を保持するように適合された手段を備えている。   FIG. 1 shows a perspective view of a metal polishing system according to an embodiment of the present invention. System 100 includes a base assembly 102 and an electrolytic cell assembly 130. The base assembly 102 includes a support stand 104 that may be made of wood or other insulating material. The support stand 104 is attached to the connection component 106. The connecting piece 106 further extends from the support stand 104 to a wheel 108 that is used to move, rotate, and secure the system 100 to the ground. In addition, the base assembly 102 includes a column 112, which includes a first end 112a and a second end 112b. The second end portion 112 b of the column 112 is connected to the support stand 104 through the extended portion 110. Furthermore, the first end portion 112 a of the column 112 is connected to the first end portion 116 a of the shaft 116 via the swelling joint 114. The shaft 116 extends in an axial direction perpendicular to the axis of the column 112 and the swelling joint allows the shaft 116 to pivot 360 degrees along the axis indicated by the arrow 115. Further, the second end portion 116 b of the shaft 116 is connected to the plurality of cylinders 120 via the rotor 118. Rotor 118 is adapted to provide a plurality of cylinders 120 with rotational movement along the axis and direction indicated by arrow 119. The base assembly 102 further includes a holding cylinder 122 that includes a hook 124 or similar means adapted to hold the anode fixture 134.

更に、電解槽アセンブリ130は、ガラスビーカ132を含み、ガラスビーカ132は、アノード固定具134、カソードストリップ136、サーモスタット付きヒータ142、及び非シアン化物ベースのストリッピング溶液(図示せず)を囲むように適合されている。アノード固定具134は、その上端部134aにおいて、アノード固定具134を保持シリンダ122に保持するように適合されたフック126、又は同様の手段を備えている。更に、アノード固定具134の、ガラスビーカ内部に位置する部分は、複数のフック138を備えており、これらのフック138は、列の並びの形で配列され、研磨対象製品(図示せず)を保持するように適合されている。しかしながら、アノード固定具134は、システム100の意図された機能を妨げるものでない限り、異なるデザイン及び構造であってもよいことに注意されたい。このことは、本発明の実施形態の説明から明らかであろう。そのような、デザイン及び構造が異なるアノード固定具134も、本発明の範囲内である。更に、電解槽アセンブリ130は、アノード固定具134とガラスビーカ132との間に複数のカソードストリップ136が設けられている。サーモスタット付きヒータ142は、制御パネル整流装置126に電気的に接続されており、例えば、サーモスタット付きヒータは、ケーブル128によって、制御パネル整流装置に接続されている。制御パネル整流装置は、電圧、温度などのパラメータの制御に用いられ、且つ、交流を直流に変換することに用いられる。   In addition, the electrolyzer assembly 130 includes a glass beaker 132 that surrounds the anode fixture 134, cathode strip 136, thermostatic heater 142, and non-cyanide based stripping solution (not shown). It is adapted to. The anode fixture 134 includes a hook 126, or similar means, adapted to hold the anode fixture 134 to the holding cylinder 122 at its upper end 134a. Further, the portion of the anode fixture 134 located inside the glass beaker includes a plurality of hooks 138, which are arranged in a row of rows, and a product to be polished (not shown) is arranged. Adapted to hold. However, it should be noted that the anode fixture 134 may be a different design and structure as long as it does not interfere with the intended function of the system 100. This will be clear from the description of the embodiments of the present invention. Such anode fixtures 134 having different designs and structures are also within the scope of the present invention. Furthermore, the electrolytic cell assembly 130 is provided with a plurality of cathode strips 136 between the anode fixture 134 and the glass beaker 132. The heater 142 with the thermostat is electrically connected to the control panel rectifier 126. For example, the heater with the thermostat is connected to the control panel rectifier by the cable 128. The control panel rectifier is used to control parameters such as voltage and temperature, and is used to convert alternating current into direct current.

図2は、本発明の実施形態による金属研磨工程200を説明するフローチャートを示す。シアン化物を含まないストリッピング溶液(例えば、チオ尿素ベースの溶液)を、電解槽アセンブリ130のガラスビーカ132に取り、これを摂氏80度まで加熱する(ステップ201)。一実施形態では、ストリッピング溶液の調製は、所望の量の蒸留水、チオ尿素、還元糖、活性化酸、及び湿潤剤を適切な容器に入れて均一混合することにより行う。一実施形態では、1リットルの蒸留鉱水をガラスビーカ又は同様の手段に取る。この蒸留水を、摂氏約75度まで予熱する。次に、この予熱された水に65グラムのチオ尿素を加え、攪拌して完全に溶解させる。次に、このチオ尿素と蒸留水との混合物に、100グラムの還元糖を加える。還元糖を加えると、溶液の攪拌温度が下がる。次に、チオ尿素、蒸留水、及び還元糖の溶液に、40mlの活性化酸と約30mlから50mlの湿潤剤とを加え、適切に攪拌して均一混合させる。なお、前述の、ストリッピング溶液を調製するステップは、本発明の実施形態の理解を容易にする為に与えられたものである。しかしながら、上述の方法において与えられている各種ステップは、上述の順序で実行されても、別の順序で実行されても、同時に実行されてもよい。更に、実施形態によっては、上述の方法において列挙されている1つ以上のステップを省略してよい。従って、そのような実施形態、並びに本明細書及び図面から明らかである任意の修正も、本発明の範囲内である。図3は、本発明の一実施形態による、ストリッピング溶液の調製方法を示すフローチャートである。   FIG. 2 shows a flowchart illustrating a metal polishing process 200 according to an embodiment of the present invention. A cyanide-free stripping solution (eg, a thiourea-based solution) is taken into the glass beaker 132 of the electrolyzer assembly 130 and heated to 80 degrees Celsius (step 201). In one embodiment, the stripping solution is prepared by uniformly mixing a desired amount of distilled water, thiourea, reducing sugar, activated acid, and wetting agent in a suitable container. In one embodiment, 1 liter of distilled mineral water is taken into a glass beaker or similar means. The distilled water is preheated to about 75 degrees Celsius. Next, 65 grams of thiourea is added to the preheated water and stirred until completely dissolved. Next, 100 grams of reducing sugar is added to the mixture of thiourea and distilled water. As reducing sugar is added, the stirring temperature of the solution decreases. Next, 40 ml of activated acid and about 30 to 50 ml of wetting agent are added to a solution of thiourea, distilled water, and reducing sugar, and the mixture is stirred and mixed uniformly. Note that the step of preparing the stripping solution described above is given to facilitate understanding of the embodiment of the present invention. However, the various steps provided in the above method may be performed in the above order, in a different order, or may be performed simultaneously. Further, in some embodiments, one or more steps listed in the above method may be omitted. Accordingly, any modifications apparent from such embodiments, as well as the specification and drawings are within the scope of the invention. FIG. 3 is a flowchart illustrating a method of preparing a stripping solution according to an embodiment of the present invention.

次に、複数のフック138を用いて、研磨対象製品をアノード固定具134に取り付ける(ステップ202)。例えば、アノード固定具は、研磨対象製品を一度に9個保持するように設計されている。一実施形態では、アノード固定具は、チタン製の治具である。しかしながら、アノード固定具134は、システム100の意図された機能を妨げるものでない限り、異なるデザイン及び構造であってもよいことに注意されたい。このことは、本発明の実施形態の説明から明らかであろう。アノード固定具134を、研磨対象製品とともに、フック124、140により、保持シリンダ122に取り付ける。次に、好ましくはステンレス鋼板で作られたカソードストリップ136を、アノード固定具134とガラスビーカ132との間に位置するように、ガラスビーカ132の内側に配置する。しかしながら、カソードストリップ136は、チタン板、金板、プラチナ板などの金属のいずれかから選択されてよい。アノードとカソードの面積比は、好ましくは1:1に維持される。次に、カソードストリップ136及びアノード固定具134を、カソードストリップ136がアノード固定具134を(又はアノード固定具134がカソードストリップ136を)取り囲むように、電解槽アセンブリ130のガラスビーカ132の中に配置する。しかしながら、アノード固定具134及びカソードストリップ136は、システム100の意図された機能を妨げるものでない限り、様々な形で電解槽アセンブリのガラスビーカ132の中に位置してよいことに注意されたい。このことは、本発明の実施形態の説明から明らかであろう。次に、カソードストリップ136を負電極に接続し、アノード固定具134を正電極に接続する(ステップ203)。   Next, the product to be polished is attached to the anode fixture 134 using the plurality of hooks 138 (step 202). For example, the anode fixture is designed to hold nine products to be polished at a time. In one embodiment, the anode fixture is a jig made of titanium. However, it should be noted that the anode fixture 134 may be a different design and structure as long as it does not interfere with the intended function of the system 100. This will be clear from the description of the embodiments of the present invention. The anode fixture 134 is attached to the holding cylinder 122 by hooks 124 and 140 together with the product to be polished. Next, a cathode strip 136, preferably made of stainless steel plate, is placed inside the glass beaker 132 so that it is located between the anode fixture 134 and the glass beaker 132. However, the cathode strip 136 may be selected from any metal such as a titanium plate, a gold plate, or a platinum plate. The area ratio of anode to cathode is preferably maintained at 1: 1. Next, the cathode strip 136 and the anode fixture 134 are placed in the glass beaker 132 of the electrolytic cell assembly 130 such that the cathode strip 136 surrounds the anode fixture 134 (or the anode fixture 134 surrounds the cathode strip 136). To do. However, it should be noted that the anode fixture 134 and cathode strip 136 may be positioned in the glass beaker 132 of the electrolyzer assembly in various ways as long as they do not interfere with the intended function of the system 100. This will be clear from the description of the embodiments of the present invention. Next, the cathode strip 136 is connected to the negative electrode, and the anode fixture 134 is connected to the positive electrode (step 203).

次に、電解槽アセンブリ130に約15〜18ボルトの電圧を約2分間印加する(ステップ204)。電圧の印加、制御、及び監視は、制御パネル整流装置126を通して行う。次に、所望の電圧を印加したら、アノード固定具を回転させてカソードストリップに近づける。電圧が印加された結果として、アノード固定具から余分な金属がエッチング/除去され、エッチング/除去された金属は、ストリッピング溶液内に沈殿する(ステップ205)。別の実施形態では、アノードから除去された金属がカソード内に堆積する。金属をカソードに堆積させる工程は、めっきの工程と同様である。従って、この工程は、(製品に上質の仕上げを施す為に余分な金属を製品から除去する)研磨作業に加えて、(製品に上質の仕上げを施す為に製品に金属を堆積させる)めっき作業にも使用可能である。   Next, a voltage of about 15-18 volts is applied to the electrolyzer assembly 130 for about 2 minutes (step 204). Application, control and monitoring of the voltage is performed through the control panel rectifier 126. Next, when the desired voltage is applied, the anode fixture is rotated closer to the cathode strip. As a result of the voltage being applied, excess metal is etched / removed from the anode fixture, and the etched / removed metal precipitates in the stripping solution (step 205). In another embodiment, the metal removed from the anode is deposited in the cathode. The process of depositing metal on the cathode is similar to the plating process. Thus, in addition to the polishing operation (which removes excess metal from the product to give a quality finish to the product), this step is a plating operation (which deposits metal on the product to give the product a fine finish). Can also be used.

電解研磨を実施し、保持シリンダ122からアノード固定具を取り外す。前述のように、柱114及び支持スタンド116をそれぞれの軸に沿って回転させることにより、アノード固定具136を保持シリンダに取り付けたり、保持シリンダから取り外したりすることが容易に可能である。電解研磨工程を実施した後、製品をアノード固定具から取り外して、アノード固定具に付いていた研磨済み製品を、次のバッチの未研磨製品と取り替える(ステップ206)。この工程(ステップ203、204、205、及び206)は、全ての製品が研磨されるまで繰り返される。なお、前述の各金属研磨ステップは、本発明の実施形態を理解しやすいように、提示されたものである。しかしながら、上述の方法において与えられている各種ステップは、上述の順序で実行されても、別の順序で実行されても、同時に実行されてもよい。更に、実施形態によっては、上述の方法において列挙されている1つ以上のステップを省略してよい。従って、そのような実施形態、並びに本明細書及び図面から明らかである任意の修正も、本発明の範囲内である。   Electropolishing is performed and the anode fixture is removed from the holding cylinder 122. As described above, by rotating the pillar 114 and the support stand 116 along their respective axes, the anode fixture 136 can be easily attached to and detached from the holding cylinder. After performing the electropolishing process, the product is removed from the anode fixture and the polished product attached to the anode fixture is replaced with the next batch of unpolished product (step 206). This process (steps 203, 204, 205, and 206) is repeated until all products are polished. In addition, each metal grinding | polishing step mentioned above is presented so that it may be easy to understand the embodiment of the present invention. However, the various steps provided in the above method may be performed in the above order, in a different order, or may be performed simultaneously. Further, in some embodiments, one or more steps listed in the above method may be omitted. Accordingly, any modifications apparent from such embodiments, as well as the specification and drawings are within the scope of the invention.

更に、研磨工程中に製品から除去されてカソードに堆積した余分の金は、上述の非シアン化物ベースの電解研磨方法を用いて複数バッチの製品が研磨された後、槽の底部に剥がれ落ちる。その後、槽をデカントして金を収集し、収集された金を水で洗い落とし、炉で溶融させることにより、固体の金が回収され、これはほぼ100%になる(ステップ207)。別の実施形態では、システム100は、カソードストリップ136及びアノード固定具134が1:2の比で設けられる。   Further, excess gold removed from the product during the polishing process and deposited on the cathode peels off to the bottom of the bath after multiple batches of product are polished using the non-cyanide based electropolishing method described above. Thereafter, the tank is decanted to collect the gold, and the collected gold is washed out with water and melted in a furnace to recover solid gold, which is almost 100% (step 207). In another embodiment, system 100 is provided with cathode strip 136 and anode fixture 134 in a 1: 2 ratio.

別の実施形態では、システム100は、スクラバ装置144を含む。図3は、本発明の一実施形態による金属研磨工程において発生する有害なガス143を除去できるシステムを示す。スクラバ装置144は、バルブ146及びスクラバ水148を含む。一実施形態では、スクラバ水は蒸留鉱水である。更に、スクラバ装置144は、システム100において、めっき工程の途中に電解槽アセンブリ130内で発生するガス143を通過させることが可能なように設けられている。一実施形態では、電解槽アセンブリ130内で発生するガス143は、ベント150によってスクラバ装置144に流入する。スクラバ装置144は更に、バルブ146とスクラバ水148との間の蒸気連通を可能にする配管152を含む。一実施形態では、電解槽アセンブリ130内で発生するガス143は、環境に有害な懸濁粒子を含む。バルブ146は、ミストエリミネータとして動作し、ガス143から酸性物質を除去するように構成されている。スクラバ水148は、配管152を通してバルブ146からガス143を受け取るように構成されている。更に、スクラバ水148は、ガス143から全ての懸濁粒子を除去して清浄な空気153を提供する。更に、清浄な空気153は、大気中にベントされる。   In another embodiment, the system 100 includes a scrubber device 144. FIG. 3 illustrates a system capable of removing harmful gas 143 generated in a metal polishing process according to an embodiment of the present invention. The scrubber device 144 includes a valve 146 and a scrubber water 148. In one embodiment, the scrubber water is distilled mineral water. Further, the scrubber device 144 is provided in the system 100 so that the gas 143 generated in the electrolytic cell assembly 130 can be passed during the plating process. In one embodiment, the gas 143 generated in the electrolyzer assembly 130 flows into the scrubber device 144 through the vent 150. The scrubber device 144 further includes a piping 152 that allows steam communication between the valve 146 and the scrubber water 148. In one embodiment, gas 143 generated within electrolyzer assembly 130 includes suspended particles that are harmful to the environment. The valve 146 operates as a mist eliminator and is configured to remove acidic substances from the gas 143. Scrubber water 148 is configured to receive gas 143 from valve 146 through piping 152. In addition, the scrubber water 148 removes all suspended particles from the gas 143 and provides clean air 153. Further, the clean air 153 is vented to the atmosphere.

本発明の一実施形態による金属研磨工程の途中に発生する有害なガスを除去する工程は、スクラバ装置144に給電するステップを含む。一実施形態では、スクラバ装置144への給電は、制御パネル整流装置126から行う。そして、スクラバ装置144の給電は、電解槽アセンブリ130内での研磨工程の開始前に行う。スクラバ水148のPH値を測定する。そして、スクラバ水148が酸性であると識別された場合は、新しい蒸留水をスクラバ水148として使用する。次に、方法200によって開示された電解研磨を実施し、電解研磨中に発生するガスをベント150経由でバルブ146に流入させる。更に、バルブ146は、ミストエリミネータとして動作し、ガスから酸性物質を除去する。スクラバ水148は、配管152経由でバルブ146からガスを受け取るように構成されている。更に、スクラバ水148は、ガスから全ての懸濁粒子を除去して清浄な空気153を提供する。更に、清浄な空気は、大気153中にベントされる。   The process of removing harmful gas generated during the metal polishing process according to the embodiment of the present invention includes supplying power to the scrubber device 144. In one embodiment, power is supplied to the scrubber device 144 from the control panel rectifier 126. The power supply of the scrubber device 144 is performed before the start of the polishing process in the electrolytic cell assembly 130. The pH value of the scrubber water 148 is measured. If the scrubber water 148 is identified as acidic, fresh distilled water is used as the scrubber water 148. Next, the electropolishing disclosed by method 200 is performed and gas generated during electropolishing is caused to flow into valve 146 via vent 150. Further, the valve 146 operates as a mist eliminator and removes acidic substances from the gas. The scrubber water 148 is configured to receive gas from the valve 146 via the pipe 152. In addition, the scrubber water 148 removes all suspended particles from the gas and provides clean air 153. In addition, clean air is vented into the atmosphere 153.

前述の、特定の実施形態の説明は、本発明の実施形態の一般的性質を非常に詳細に明らかにしたものである為、他者らは、現行の知識を適用することにより、一般概念から逸脱することなく、そのような特定実施形態を様々な用途に合わせて修正及び/又は適応を行うことが容易に可能であろう。従って、そのような適応及び修正は、本開示の実施形態の等価物の趣旨及び範囲において理解されねばならず、そう理解されることを意図される。本明細書で用いられた言い回しや術語は、限定ではなく説明を目的としたものであることを理解されたい。従って、本発明の実施形態を、好ましい実施形態の観点から説明してきたが、当業者であれば理解されるように、本発明の実施形態は、本明細書に記載の実施形態の趣旨及び範囲において修正されて実施されてよい。
〔付記1〕
電解槽アセンブリを含む金属研磨システムであって、前記電解槽アセンブリは、
正電極に接続され、複数の研磨対象金属を受け取るように構成されたアノード固定具と、
負電極に接続されたカソードと、
前記アノード固定具と前記カソードとの間でイオンが移動することを可能にするように構成されたストリッピング溶液と、を備え、
前記ストリッピング溶液はシアン化物を含まない、
システム。
〔付記2〕
前記アノード固定具は、チタン製の治具から選択される、付記1に記載のシステム。
〔付記3〕
前記カソードは、ステンレス鋼から選択される、付記1に記載のシステム。
〔付記4〕
前記アノード固定具及び前記カソードの面積比は1:1に維持される、付記1に記載のシステム。
〔付記5〕
前記ストリッピング溶液はチオ尿素ベースの溶液である、付記1に記載のシステム。
〔付記6〕
前記ストリッピング溶液は、チオ尿素と、蒸留水、還元糖、活性化酸、及び湿潤剤のうちの少なくとも1つとを均一混合させたものである、付記1に記載のシステム。
〔付記7〕
前記電解槽アセンブリと蒸気連通するように設けられたスクラバ装置を更に含み、前記スクラバ装置は、
前記電解アセンブリ内で発生するガスから酸性物質を除去するように構成されたバルブと、
前記電解アセンブリ内で発生するガスから懸濁粒子を除去するように構成されたスクラバ水と、を備える、
付記1に記載のシステム。
〔付記8〕
ストリッピング溶液を調製するステップと、
前記ストリッピング溶液を予熱するステップと、
正電極に接続されたアノードと、負電極に接続されたカソードとを、前記ストリッピング溶液中に設けるステップと、
前記アノード及び前記カソードに所望の電圧を与えるステップと、
を含む金属研磨方法であって、
前記アノードは複数の研磨対象金属を含み、
前記ストリッピング溶液はシアン化物を含まない、
方法。
〔付記9〕
前記金属研磨中に発生するガスを清浄化する工程を更に含む、付記8に記載の金属研磨方法。
〔付記10〕
前記ストリッピング溶液は、チオ尿素と、蒸留水、還元糖、活性化酸、及び湿潤剤のうちの少なくとも1つとを均一混合させたものである、付記9に記載の金属研磨方法。
Since the foregoing description of specific embodiments has revealed in greater detail the general nature of embodiments of the present invention, others have applied the current knowledge to the general concept. It will be readily possible to modify and / or adapt such particular embodiments for various applications without departing. Accordingly, such adaptations and modifications must be understood and intended to be understood within the spirit and scope of the equivalents of the embodiments of the present disclosure. It should be understood that the wording and terminology used herein is for the purpose of illustration and not limitation. Thus, while embodiments of the present invention have been described in terms of preferred embodiments, as will be appreciated by those skilled in the art, embodiments of the present invention are intended to be within the spirit and scope of the embodiments described herein. May be implemented with modifications.
[Appendix 1]
A metal polishing system including an electrolyzer assembly, the electrolyzer assembly comprising:
An anode fixture connected to the positive electrode and configured to receive a plurality of metals to be polished;
A cathode connected to the negative electrode;
A stripping solution configured to allow ions to move between the anode fixture and the cathode;
The stripping solution does not contain cyanide,
system.
[Appendix 2]
The system according to claim 1, wherein the anode fixture is selected from a jig made of titanium.
[Appendix 3]
The system of claim 1, wherein the cathode is selected from stainless steel.
[Appendix 4]
The system of claim 1, wherein the area ratio of the anode fixture and the cathode is maintained at 1: 1.
[Appendix 5]
The system of claim 1, wherein the stripping solution is a thiourea based solution.
[Appendix 6]
The system according to claim 1, wherein the stripping solution is a uniform mixture of thiourea and at least one of distilled water, reducing sugar, activated acid, and wetting agent.
[Appendix 7]
And further comprising a scrubber device provided in vapor communication with the electrolyzer assembly, the scrubber device comprising:
A valve configured to remove acidic material from gas generated within the electrolytic assembly;
Scrubber water configured to remove suspended particles from gas generated within the electrolysis assembly;
The system according to appendix 1.
[Appendix 8]
Preparing a stripping solution;
Preheating the stripping solution;
Providing in the stripping solution an anode connected to the positive electrode and a cathode connected to the negative electrode;
Applying a desired voltage to the anode and the cathode;
A metal polishing method comprising:
The anode includes a plurality of metals to be polished,
The stripping solution does not contain cyanide,
Method.
[Appendix 9]
The metal polishing method according to appendix 8, further comprising a step of cleaning a gas generated during the metal polishing.
[Appendix 10]
The metal polishing method according to appendix 9, wherein the stripping solution is a solution obtained by uniformly mixing thiourea with at least one of distilled water, reducing sugar, activated acid, and wetting agent.

Claims (7)

金属研磨を行うと共に研磨中に発生する有害なガスを除去する金属研磨システムであって、
予熱されたストリッピング溶液と、
アノード固定具を保持するように構成された基台アセンブリと、
電解槽アセンブリとを備え、
前記電解槽アセンブリは、
前記電解槽アセンブリの正電極に接続され、少なくとも一つの研磨対象金属を受け取るように構成された前記アノード固定具と、
前記電解槽アセンブリの負電極に接続されたカソード固定具と、
前記アノード固定具と前記カソード固定具との間でイオンが移動することを可能にするように構成された前記ストリッピング溶液であって、シアン化物を含まない前記ストリッピング溶液と、
前記電解槽アセンブリとガス連通するように設けられたスクラバ装置とを備え、
前記スクラバ装置は、
前記電解アセンブリ内で発生するガスから酸性物質を除去するように構成されたバルブと、
前記電解アセンブリ内で発生するガスから懸濁粒子を除去するように構成されたスクラバ水と、
前記バルブと前記スクラバ水との間の蒸気連通を可能にする配管とを備える、
システム。
A metal polishing system that performs metal polishing and removes harmful gases generated during polishing,
A preheated stripping solution;
A base assembly configured to hold an anode fixture;
An electrolytic cell assembly,
The electrolytic cell assembly includes:
Which is connected to the positive electrode of the cell assembly, said configured to receive at least one polished metal anode fixture,
A cathode fixture connected to the negative electrode of the electrolyzer assembly ;
A said stripping solution ions are adapted to be moved between said cathode fixture and the anode fixture, and said stripping solution without cyanide,
A scrubber device provided in gas communication with the electrolyzer assembly;
The scrubber device
A valve configured to remove acidic material from gas generated within the electrolytic assembly;
Scrubber water configured to remove suspended particles from gas generated in the electrolysis assembly;
A pipe that enables steam communication between the valve and the scrubber water;
system.
前記アノード固定具は、チタン製の治具から選択される、請求項1に記載のシステム。   The system of claim 1, wherein the anode fixture is selected from a titanium jig. 前記カソード固定具は、ステンレス鋼から選択される、請求項1に記載のシステム。 The system of claim 1, wherein the cathode fixture is selected from stainless steel. 前記アノード固定具及び前記カソード固定具の面積比は1:1に維持される、請求項1に記載のシステム。 The system of claim 1, wherein an area ratio of the anode fixture and the cathode fixture is maintained at 1: 1. 前記ストリッピング溶液は、チオ尿素と、蒸留水、還元糖、活性化酸、及び湿潤剤のうちの少なくとも1つとを均一混合させたものである、請求項1に記載のシステム。   The system of claim 1, wherein the stripping solution is a homogeneous mixture of thiourea and at least one of distilled water, reducing sugar, activated acid, and wetting agent. 金属研磨を行うと共に研磨中に発生する有害なガスを除去する金属研磨方法であって、 ストリッピング溶液を調製するステップと、
前記ストリッピング溶液を予熱するステップと、
アノード固定具を保持するように構成された基台アセンブリを提供するステップと、
電解槽アセンブリを提供するステップとを含み、
前記電解槽アセンブリは、
前記電解槽アセンブリの正電極に接続され、少なくとも一つの研磨対象金属を受け取るように構成された前記アノード固定具と、
前記電解槽アセンブリの負電極に接続されたカソード固定具と、
前記アノード固定具と前記カソード固定具との間でイオンが移動することを可能にするように構成された前記ストリッピング溶液であって、シアン化物を含まない前記予熱されたストリッピング溶液と、
前記電解槽アセンブリとガス連通するように設けられたスクラバ装置とを備え、
前記スクラバ装置は、
前記電解アセンブリ内で発生するガスから酸性物質を除去するように構成されたバルブと、
前記電解アセンブリ内で発生するガスから懸濁粒子を除去するように構成されたスクラバ水と、
前記バルブと前記スクラバ水との間の蒸気連通を可能にする配管とを備える、
方法。
A metal polishing method for performing metal polishing and removing harmful gas generated during polishing, comprising the step of preparing a stripping solution;
Preheating the stripping solution;
Providing a base assembly configured to hold an anode fixture;
Providing an electrolyzer assembly;
The electrolytic cell assembly includes:
Which is connected to the positive electrode of the cell assembly, said configured to receive at least one polished metal anode fixture,
A cathode fixture connected to the negative electrode of the electrolyzer assembly ;
A the stripping solution ions are adapted to be moved between said cathode fixture and the anode fixture, the stripping solution is the preheating cyanide-free,
A scrubber device provided in gas communication with the electrolyzer assembly;
The scrubber device
A valve configured to remove acidic material from gas generated within the electrolytic assembly;
Scrubber water configured to remove suspended particles from gas generated in the electrolysis assembly;
A pipe that enables steam communication between the valve and the scrubber water;
Method.
前記ストリッピング溶液は、チオ尿素と、蒸留水、還元糖、活性化酸、及び湿潤剤のうちの少なくとも1つとを均一混合させたものである、請求項6に記載の金属研磨方法。The metal polishing method according to claim 6, wherein the stripping solution is a uniform mixture of thiourea and at least one of distilled water, reducing sugar, activated acid, and wetting agent.
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