JP5983852B1 - Light control film and method of manufacturing light control film - Google Patents

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Abstract

【課題】FFS方式により調光フィルムを構成する場合に、線状電極の断線による動作不良の領域が発生を防止し、さらに輝度ムラを低減する。【解決手段】第1及び第2の積層体13、12により液晶層14を挟持し、液晶層14に係る液晶分子14Aの配向を制御して透過光を制御する調光フィルム10において、第1の積層体13には、透明基材21Aの一方の面に、透明電極22A、絶縁層23、線状電極22Bが順次形成され、第1の積層体13の透明電極22A及び線状電極22B間の電界により液晶分子14Aの配向を制御し、隣接する線状電極22Bを短絡するブリッジが設けられる。【選択図】図3When a light control film is formed by the FFS method, it is possible to prevent the occurrence of a malfunctioning region due to disconnection of a linear electrode, and further reduce luminance unevenness. In a light control film 10 in which a liquid crystal layer 14 is sandwiched between first and second laminates 13 and 12 and the transmitted light is controlled by controlling the orientation of liquid crystal molecules 14A related to the liquid crystal layer 14. In the laminated body 13, a transparent electrode 22A, an insulating layer 23, and a linear electrode 22B are sequentially formed on one surface of the transparent substrate 21A, and between the transparent electrode 22A and the linear electrode 22B of the first laminated body 13 A bridge for controlling the alignment of the liquid crystal molecules 14A by the electric field and short-circuiting the adjacent linear electrodes 22B is provided. [Selection] Figure 3

Description

本発明は、乗用車の窓等に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する。   The present invention relates to a light control film that is attached to a window or the like of a passenger car to control the transmission of extraneous light.

従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている(特許文献1、2)。このような調光フィルムの1つに、液晶を利用したものがある。この液晶を利用した調光フィルムは、透明電極を作製した透明フィルム材により液晶材料を挟持して液晶セルが作製され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して作成される。これによりこの調光フィルムでは、液晶に印加する電界の可変により液晶の配向を可変して外来光を遮光したり透過したりし、さらには透過光量を可変したりし、これらにより外来光の透過を制御する。   Conventionally, for example, various devices relating to a light control film that is attached to a window to control the transmission of external light have been proposed (Patent Documents 1 and 2). One such light control film uses liquid crystal. The light control film using the liquid crystal is produced by sandwiching a liquid crystal material with a transparent film material on which a transparent electrode is produced, and producing the liquid crystal cell with a linear polarizing plate. As a result, in this light control film, the orientation of the liquid crystal is changed by changing the electric field applied to the liquid crystal, thereby blocking or transmitting the extraneous light, and further changing the amount of transmitted light. To control.

この液晶セルの駆動には、液晶表示パネルについて提案されている種々の駆動方法を適用することができ、具体的には、例えばTN(Twisted Nematic)方式、IPS(In−Place−Switching)方式、VA(Virtical Alignment)方式等の駆動方式を適用することができる。しかしながら調光フィルムでは、例えば窓ガラスに貼り付けて種々の方向より見て取られる特長がある。これにより視野角依存性の少ないIPS方式により駆動することが好ましいと考えられる。   Various driving methods proposed for the liquid crystal display panel can be applied to driving the liquid crystal cell. Specifically, for example, a TN (Twisted Nematic) system, an IPS (In-Place-Switching) system, A driving method such as a VA (Virtual Alignment) method can be applied. However, the light control film has a feature that it can be seen from various directions by being attached to, for example, a window glass. Accordingly, it is considered preferable to drive by the IPS system with little viewing angle dependency.

またこのIPS方式のうちの、FFS(フリンジフィールドスイッチング)方式によれば、透過率を高くすることができ、これによりこの種の調光フィルムにおける液晶セルの駆動に適用して好ましいと考えられる。ここでFFS方式では、液晶層を挟持する1対の基材のうちの一方の基材に駆動用の透明電極をまとめて作製する構成である。FFS方式では、この一方の基材の全面に、透明電極を作製した後、絶縁層を間に挟んで一定のピッチにより線状電極を作製し、この全面の透明電極と線状電極との間で発生する基材表面の面内方向の電界であるいわゆる横電界により液晶の配向を制御する。   Of these IPS systems, the FFS (fringe field switching) system can increase the transmittance, which is considered preferable when applied to driving a liquid crystal cell in this type of light control film. Here, the FFS method has a configuration in which a driving transparent electrode is collectively produced on one of a pair of substrates sandwiching a liquid crystal layer. In the FFS method, a transparent electrode is formed on the entire surface of one of the substrates, and then a linear electrode is formed at a constant pitch with an insulating layer interposed between the transparent electrode and the linear electrode on the entire surface. The alignment of the liquid crystal is controlled by a so-called lateral electric field which is an in-plane electric field on the surface of the substrate generated in step (b).

ここでこのように全面の透明電極の上に絶縁層を間に挟んで線状電極を作製する場合、この線状電極の上では、液晶の配向に供する横電界が充分に発生しないことになる。従ってFFS方式において、線状電極の幅が大きくなると、この横電界が充分に発生しない領域が増大して透過率が低下することになる。これによりFFS方式において高い透過率を得るためには、電極幅10μm以下の微細幅により線状電極を作製することが必要である。   Here, when a linear electrode is produced on the entire transparent electrode with an insulating layer interposed therebetween, a lateral electric field for alignment of liquid crystal is not sufficiently generated on the linear electrode. . Therefore, in the FFS method, when the width of the linear electrode is increased, a region where the lateral electric field is not sufficiently generated is increased and the transmittance is decreased. Thus, in order to obtain a high transmittance in the FFS method, it is necessary to produce a linear electrode with a fine width of an electrode width of 10 μm or less.

またFFS方式では、隣接する線状電極間の中央の部位でも、液晶の配向に供する横電界が充分に形成されないことになる。これによりFFS方式では、線状電極の間隔が広くなると、横電界が充分に発生しない領域が線状電極間で増大して透過率が低下することになる。これによりFFS方式で高い透過率を得るためには、線状電極の間隔も10μm以下とすることが必要になる。   Further, in the FFS method, a lateral electric field for alignment of liquid crystal is not sufficiently formed even at a central portion between adjacent linear electrodes. As a result, in the FFS method, when the interval between the linear electrodes is widened, a region where the transverse electric field is not sufficiently generated increases between the linear electrodes and the transmittance decreases. Thus, in order to obtain a high transmittance by the FFS method, the distance between the linear electrodes must be 10 μm or less.

ところでこのようにFFS方式により調光フィルムを作製する場合、電極幅10μm以下の微細幅の線状電極を10μm以下の間隔により大面積の調光を図る部位に配置することが必要になる。この場合、調光フィルムでは、この線状電極が局所的に断線すると、この断線した部位より先端側(電源より遠い側)では、駆動用の電源が供給されないことになる。これによりこのような部位では、液晶駆動用の電界を作製して調光することが困難になり、これにより動作不良の領域が発生する問題がある。特に、調光フィルムでは、大面積の領域で調光を図ることにより、断線により調光することができない動作不良領域も大面積により発生する問題がある。   By the way, when producing a light control film by the FFS method in this way, it is necessary to dispose a linear electrode having a fine width of 10 μm or less in an area where light control of a large area is intended with an interval of 10 μm or less. In this case, in the light control film, when the linear electrode is locally disconnected, the driving power is not supplied on the distal end side (the side farther from the power source) than the disconnected portion. As a result, it becomes difficult to produce an electric field for driving a liquid crystal and perform dimming at such a portion, thereby causing a problem of a malfunctioning region. In particular, in the light control film, there is a problem that an operation failure region where light control cannot be performed due to disconnection occurs due to the large area by controlling light in a large area.

またFFS方式による調光フィルムにおいて、電極幅10μm以下の微細幅の線状電極を10μm以下の間隔により大面積に配置する場合には、一方向に延長するように線状電極を並べて配置することになるものの、このようにすると線状電極の抵抗による電圧降下により各部で均一に電界を形成することが困難になり、その結果、調光フィルムに輝度ムラが発生する恐れもある。   In the light control film using the FFS method, when linear electrodes having a fine width of 10 μm or less are arranged in a large area with an interval of 10 μm or less, the linear electrodes are arranged side by side so as to extend in one direction. However, in this case, it becomes difficult to form an electric field uniformly in each part due to a voltage drop due to the resistance of the linear electrode, and as a result, there is a risk of uneven brightness in the light control film.

特開平03−47392号公報JP 03-47392 A 特開平08−184273号公報Japanese Patent Laid-Open No. 08-184273

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、FFS方式により調光フィルムを構成する場合に、線状電極の断線による動作不良領域の発生を防止し、さらに輝度ムラを低減することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and in the case where a light control film is configured by the FFS method, it prevents occurrence of a malfunctioning region due to disconnection of a linear electrode and further reduces luminance unevenness. With the goal.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、隣接する線状電極を短絡するブリッジを設ける、との着想に至り、本発明を完成するに至った。   The present inventor has made extensive studies to solve the above problems, and has come to the idea that a bridge for short-circuiting adjacent linear electrodes is provided, thereby completing the present invention.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。   Specifically, the present invention provides the following.

(1)第1及び第2の積層体により液晶層を挟持し、前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
前記第1の積層体には、透明基材の一方の面に、透明電極、絶縁層、線状電極が順次形成され、
前記第1の積層体の前記透明電極及び線状電極間の電界により前記液晶分子の配向を制御し、
隣接する前記線状電極を短絡するブリッジが設けられた調光フィルム。
(1) In a light control film that sandwiches a liquid crystal layer between first and second laminates and controls transmitted light by controlling the orientation of liquid crystal molecules related to the liquid crystal layer,
In the first laminate, a transparent electrode, an insulating layer, and a linear electrode are sequentially formed on one surface of the transparent substrate,
Controlling the orientation of the liquid crystal molecules by an electric field between the transparent electrode and the linear electrode of the first laminate,
A light control film provided with a bridge for short-circuiting adjacent linear electrodes.

(1)によれば、このブリッジにより隣接する線状電極間で駆動電源を相互に送受できることにより、線状電極が断線した場合にあっても、駆動用電源の供給が困難になる箇所の発生を防止することができ、これにより動作不良の領域の発生を有効に回避することができる。またブリッジを設けることにより線状電極の各部における駆動用電源の電圧も均一化することができ、これにより輝度ムラを低減することができる。   According to (1), the drive power supply can be mutually transmitted and received between the adjacent linear electrodes by this bridge, so that it is difficult to supply the drive power even when the linear electrodes are disconnected. This can effectively prevent the occurrence of malfunctioning areas. In addition, by providing the bridge, the voltage of the driving power source in each part of the linear electrode can be made uniform, thereby reducing luminance unevenness.

(2) (1)によれば、
前記ブリッジは、前記線状電極の部材により形成された調光フィルム。
(2) According to (1)
The bridge is a light control film formed by a member of the linear electrode.

(2)によれば、線状電極の作製工程を有効に利用して、何ら工程数を増大させることなくブリッジを作製することができる。   According to (2), it is possible to produce a bridge without increasing the number of processes by effectively using the production process of the linear electrode.

(3) (1)又は(2)において、
前記ブリッジが、10mm以上100mm以下の間隔により前記線状電極の延長方向に繰り返し設けられた調光フィルム。
(3) In (1) or (2),
The light control film in which the bridge was repeatedly provided in the extending direction of the linear electrode at intervals of 10 mm to 100 mm.

(3)によれば、ブリッジを設けたことによる透過率の低下を有効に回避し、さらにはブリッジによる干渉縞の発生等を有効に回避することができる。   According to (3), it is possible to effectively avoid a decrease in transmittance due to the provision of the bridge, and to effectively avoid the generation of interference fringes due to the bridge.

(4) 透明フィルム材による基材に透明電極、絶縁層、線状電極、配向層を順次作製して第1の積層体を作製する第1の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材に配向層を作製して第2の積層体を作製する第2の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第1及び第2の積層体を積層して液晶セルを作製する積層工程とを備え、
前記第1の積層体作製工程は、
前記透明電極を作製する透明電極の作製工程と、
前記絶縁層を作製する絶縁層の作製工程と、
前記線状電極を作製する線状電極の作製工程とを備え、
前記線状電極の作製工程は、
前記絶縁層に導電層を作製する導電層作製工程と、
前記導電層をパターンニングして前記線状電極を作製するパターンニング工程を備え、
前記パターンニング工程におけるパターンニングにより、隣接する前記線状電極を短絡するブリッジを形成する調光フィルムの製造方法。
(4) a first laminate production step of producing a first laminate by sequentially producing a transparent electrode, an insulating layer, a linear electrode, and an alignment layer on a substrate made of a transparent film material;
A second laminate production step of producing an alignment layer on a substrate made of a transparent film material to produce a second laminate;
A laminating step of laminating the first and second laminates with a liquid crystal layer interposed therebetween to produce a liquid crystal cell,
The first laminate manufacturing step includes
A production step of a transparent electrode for producing the transparent electrode;
A step of producing an insulating layer for producing the insulating layer;
A step of producing a linear electrode for producing the linear electrode,
The production process of the linear electrode is as follows:
A conductive layer manufacturing step of forming a conductive layer on the insulating layer;
Comprising a patterning step of patterning the conductive layer to produce the linear electrode;
The manufacturing method of the light control film which forms the bridge | bridging which short-circuits the said adjacent linear electrode by the patterning in the said patterning process.

(4)によれば、このブリッジにより隣接する線状電極間で駆動電源を相互に送受できることにより、線状電極が断線した場合にあっても、駆動用電源の供給が困難になる箇所の発生を防止することができ、これにより動作不良の領域の発生を有効に回避することができる。またブリッジを設けることにより線状電極の各部における駆動用電源の電圧も均一化することができ、これにより輝度ムラを低減することができる。   According to (4), the drive power supply can be mutually transmitted and received between the adjacent linear electrodes by this bridge, so that it is difficult to supply the drive power even when the linear electrodes are disconnected. This can effectively prevent the occurrence of malfunctioning areas. In addition, by providing the bridge, the voltage of the driving power source in each part of the linear electrode can be made uniform, thereby reducing luminance unevenness.

(5) 透明フィルム材による基材に透明電極、絶縁層、線状電極、配向層を順次作製して第1の積層体を作製する第1の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材に配向層を作製して第2の積層体を作製する第2の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第1及び第2の積層体を積層して液晶セルを作製する積層工程とを備え、
前記第1の積層体作製工程は、
前記透明電極を作製する透明電極の作製工程と、
前記絶縁層を作製する絶縁層の作製工程と、
前記線状電極を作製する線状電極の作製工程とを備え、
前記線状電極の作製工程は、
前記絶縁層に導電層を作製する導電層作製工程と、
前記導電層に、前記液晶層の厚みを規制するスペーサーを作製するスペーサー作製工程と、
前記導電層をパターニングして、前記スペーサーによりマスクされる部位が隣接する前記線状電極を短絡するブリッジであるようにして、前記線状電極を作製するパターニング工程とを備える調光フィルムの製造方法。
(5) a first laminate production step of producing a first laminate by sequentially producing a transparent electrode, an insulating layer, a linear electrode, and an alignment layer on a substrate made of a transparent film material;
A second laminate production step of producing an alignment layer on a substrate made of a transparent film material to produce a second laminate;
A laminating step of laminating the first and second laminates with a liquid crystal layer interposed therebetween to produce a liquid crystal cell,
The first laminate manufacturing step includes
A production step of a transparent electrode for producing the transparent electrode;
A step of producing an insulating layer for producing the insulating layer;
A step of producing a linear electrode for producing the linear electrode,
The production process of the linear electrode is as follows:
A conductive layer manufacturing step of forming a conductive layer on the insulating layer;
A spacer production step for producing a spacer for regulating the thickness of the liquid crystal layer in the conductive layer;
A patterning step of patterning the conductive layer and forming the linear electrode so that a portion masked by the spacer is a bridge that short-circuits the adjacent linear electrode, and a method of manufacturing a light control film .

(5)によれば、このブリッジにより隣接する線状電極間で駆動電源を相互に送受できることにより、線状電極が断線した場合にあっても、駆動用電源の供給が困難になる箇所の発生を防止することができ、これにより動作不良の領域の発生を有効に回避することができる。またブリッジを設けることにより線状電極の各部における駆動用電源の電圧も均一化することができ、これにより輝度ムラを低減することができる。またスペーサーをマスクとして使用してブリッジを作製できることにより、透過率の低下を有効に回避して効率良く調光フィルムを作成することができる。   According to (5), the drive power supply can be mutually transmitted and received between the adjacent linear electrodes by this bridge, so that it is difficult to supply the drive power even when the linear electrodes are disconnected. This can effectively prevent the occurrence of malfunctioning areas. In addition, by providing the bridge, the voltage of the driving power source in each part of the linear electrode can be made uniform, thereby reducing luminance unevenness. Moreover, since a bridge can be produced using a spacer as a mask, a light control film can be produced efficiently by effectively avoiding a decrease in transmittance.

本発明によれば、FFS方式により調光フィルムを構成する場合に、線状電極の断線による動作不良領域の発生を防止し、さらに輝度ムラを低減することができる。   According to the present invention, when the light control film is formed by the FFS method, it is possible to prevent the occurrence of a malfunctioning region due to the disconnection of the linear electrode, and to further reduce luminance unevenness.

本発明の第1実施形態に係る調光フィルムを示す団断面図である。It is a group sectional view showing the light control film concerning a 1st embodiment of the present invention. 図1の調光フィルムにおける下側積層体を示す図である。It is a figure which shows the lower side laminated body in the light control film of FIG. 線状電極とブリッジとの関係を示す平面図である。It is a top view which shows the relationship between a linear electrode and a bridge | bridging. 調光フィルムの製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of a light control film. 図4の製造工程における上側積層体作製工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the upper side laminated body preparation process in the manufacturing process of FIG. 図4の製造工程における下側積層体作製工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the lower side laminated body preparation process in the manufacturing process of FIG. 図6の製造工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the manufacturing process of FIG. 本発明の第2実施形態に係る調光フィルムにおける下側積層体作製工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the lower side laminated body preparation process in the light control film which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図8の製造工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the manufacturing process of FIG. 本発明の第3実施形態に係る調光フィルムにおける下側積層体の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the lower laminated body in the light control film which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 図10の他の例の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the other example of FIG. 本発明の第4実施形態に係る調光フィルムにおける下側積層体の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the lower laminated body in the light control film which concerns on 4th Embodiment of this invention.

〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム10は、フィルム形状により形成される。この調光フィルム10は、液晶を利用して透過光を制御する調光フィルムであり、それぞれフィルム形状の第1及び第2の積層体である下側積層体13及び上側積層体12により液晶材料を挟持して液晶セル15が作製され、この液晶セル15を直線偏光板16、17により挟持して作成される。ここで液晶セル15は、FFS方式により液晶層14に係る液晶分子14Aを駆動する横電界方式の液晶セルであり、直線偏光板16、17がクロスニコル配置により配置される。これにより下側積層体13は、基材21Aの全面に、FFS方式に係る透明電極22Aが形成され、絶縁層23を間に挟んで透明の線状電極22Bが形成され、続いて配向層24Aが設けられる。また上側積層体12は、基材21Bに配向層24Bが設けられる。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a light control film according to the first embodiment of the present invention. This light control film 10 is formed by a film shape. The light control film 10 is a light control film that controls transmitted light using liquid crystal, and a liquid crystal material is formed by a lower laminate 13 and an upper laminate 12 that are first and second laminates in the form of a film, respectively. The liquid crystal cell 15 is produced by sandwiching the liquid crystal cell 15, and the liquid crystal cell 15 is produced by sandwiching the liquid crystal cell 15 by the linearly polarizing plates 16 and 17. Here, the liquid crystal cell 15 is a transverse electric field type liquid crystal cell that drives the liquid crystal molecules 14A related to the liquid crystal layer 14 by the FFS method, and the linear polarizing plates 16 and 17 are arranged in a crossed Nicols arrangement. As a result, in the lower laminated body 13, the transparent electrode 22A according to the FFS method is formed on the entire surface of the base 21A, the transparent linear electrode 22B is formed with the insulating layer 23 interposed therebetween, and then the alignment layer 24A. Is provided. In the upper laminate 12, the alignment layer 24B is provided on the base material 21B.

調光フィルム10には、液晶層14の厚みを一定に保持するためのスペーサー27が上側積層体12及び又は下側積層体13に設けられる。直線偏光板16、17は、それぞれ液晶セル15側に光学補償に供する位相差フィルム18、19が設けられる。なお位相差フィルム18、19は、必要に応じて省略してもよい。これによりこの調光フィルム10は、電極22A、22B間の印加電圧の可変により、液晶層14に係る液晶分子14Aの配向方向を可変して入射光の透過を制御し、例えば透過状態と遮光状態とで状態を切り替えるように構成される。なお調光フィルム10は、直線偏光板16及び又は17の液晶セル15とは逆側の面に、ハードコート層等による保護層が設けられる。   The light control film 10 is provided with a spacer 27 in the upper laminate 12 and / or the lower laminate 13 for keeping the thickness of the liquid crystal layer 14 constant. The linear polarizing plates 16 and 17 are respectively provided with retardation films 18 and 19 for optical compensation on the liquid crystal cell 15 side. The retardation films 18 and 19 may be omitted as necessary. Thus, the light control film 10 controls the transmission of incident light by changing the orientation direction of the liquid crystal molecules 14A related to the liquid crystal layer 14 by changing the applied voltage between the electrodes 22A and 22B. And is configured to switch states. The light control film 10 is provided with a protective layer such as a hard coat layer on the surface opposite to the liquid crystal cell 15 of the linear polarizing plates 16 and 17.

基材21A、21Bは、液晶セル15に適用可能な可撓性を有する各種の透明フィルム材を適用することができ、この実施形態では、両面にハードコート層が作製されてなるポリカーボネート等によるフィルム材が適用される。電極22A、22Bは、透明と知覚される種々の構成を広く適用することができ、この実施形態では、透明電極材であるITO(Indium Tin Oxide)による透明導電層を基材21Aの全面に作製して電極22Aが作製される。また同様にして基材21Aの全面にITOによる透明導電層を作製した後、パターニングして線状電極22Bが作製される。   As the base materials 21A and 21B, various transparent film materials having flexibility applicable to the liquid crystal cell 15 can be applied. In this embodiment, a film made of polycarbonate or the like in which hard coat layers are formed on both surfaces. The material is applied. The electrodes 22A and 22B can be widely applied in various configurations that are perceived as transparent. In this embodiment, a transparent conductive layer made of ITO (Indium Tin Oxide), which is a transparent electrode material, is formed on the entire surface of the base 21A. Thus, the electrode 22A is produced. Similarly, after forming a transparent conductive layer made of ITO on the entire surface of the base 21A, patterning is performed to produce the linear electrode 22B.

絶縁層23は、この種の液晶セルに適用可能な各種の透明絶縁材料を適用することができ、各種の無機材料、有機材料を適用することができる。   As the insulating layer 23, various transparent insulating materials applicable to this type of liquid crystal cell can be applied, and various inorganic materials and organic materials can be applied.

配向層24A、24Bは、ポリイミド等の配向層に適用可能な各種材料層が適用され、この材料層の表面にラビングロールを使用したラビング処理により微細なライン状凹凸形状を作製して形成される。なおこのようなラビング処理による配向層に代えて、ラビング処理により作製した微細なライン状凹凸形状を賦型処理により作製して配向層を作製してもよく、また光配向層により作製してもよい。   For the alignment layers 24A and 24B, various material layers applicable to the alignment layer such as polyimide are applied, and the surface of the material layer is formed by forming a fine line-shaped uneven shape by rubbing using a rubbing roll. . Instead of the alignment layer formed by the rubbing process, the alignment layer may be formed by forming a fine line-shaped uneven shape formed by the rubbing process by the shaping process, or by using the photo-alignment layer. Good.

液晶層14には、この種の調光フィルムに適用される各種の液晶材料を広く適用することができる。   Various liquid crystal materials applied to this type of light control film can be widely applied to the liquid crystal layer 14.

スペーサー27は、各種の樹脂材料を広く適用することができるものの、この実施形態ではフォトレジストにより作製される。なお液晶セル15は、液晶層14を囲む枠形状によりシール剤25が配置され、このシール剤25により液晶層14に係る液晶の漏出が防止され、さらには上側積層体12及び下側積層体13が一体に保持される。ここでシール剤25は、液晶の漏出を防止すると共に、上側積層体12及び下側積層体13を一体に保持可能な種々の材料を適用することができるものの、この実施形態では、例えばエポキシ樹脂剤による熱硬化型樹脂やアクリル樹脂剤による紫外線硬化樹脂、熱及び紫外線で硬化する硬化樹脂等が適用される。   Although various resin materials can be widely applied, the spacer 27 is made of a photoresist in this embodiment. In the liquid crystal cell 15, a sealing agent 25 is arranged in a frame shape surrounding the liquid crystal layer 14. The sealing agent 25 prevents leakage of liquid crystal related to the liquid crystal layer 14, and furthermore, the upper laminate 12 and the lower laminate 13. Are held together. Here, as the sealing agent 25, various materials capable of preventing the liquid crystal from leaking and holding the upper laminated body 12 and the lower laminated body 13 together can be applied. In this embodiment, for example, an epoxy resin is used. A thermosetting resin by an agent, an ultraviolet curable resin by an acrylic resin agent, a curable resin cured by heat and ultraviolet rays, or the like is applied.

直線偏光板16、17は、いわゆるシート・ポラライザーであり、ポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素等を含浸させた後、延伸して偏光子としての光学的機能を果たす光学機能層が形成され、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルム材による基材により光学機能層を挟持して作製される。   The linear polarizing plates 16 and 17 are so-called sheet polarizers, and after impregnating polyvinyl alcohol (PVA) with iodine or the like, an optical functional layer that performs an optical function as a polarizer is formed by stretching. The optical functional layer is sandwiched between base materials made of a transparent film material such as triacetyl cellulose).

〔線状電極の構成〕
図2は、下側積層体13における電極22A、22Bを示す図である。この実施形態において、基材21A側の電極22Aは、基材21Aの全面にITOによる透明導電層が作製されて形成され、図示しないで電源供給ラインにより駆動用の電源が供給される。さらに下側積層体13は、この電極22Aの全面を覆うように絶縁層23が形成される。下側積層体13は、例えば基材21Aの長辺に沿って延長するように、基材21Aの端部に線状電極22Bへの電源供給ライン22BAが形成される。ここで電源供給ライン22BAは、抵抗値の小さな金属材料膜等により形成される。下側積層体13は、この電源供給ライン22BAからこの電源供給ライン22BAと直交する方向に延長するように、ITOによる透明導電層のパターンニングによる線状電極22Bが一定の間隔により設けられ、この線状電極22Bに電源供給ライン22BAから駆動用電源が供給される。なお線状電極22Bは、電極幅10μm以下の微細幅により、10μm以下の間隔で配置して形成される。
[Configuration of linear electrode]
FIG. 2 is a diagram showing the electrodes 22A and 22B in the lower laminate 13. In this embodiment, the electrode 22A on the base 21A side is formed by forming a transparent conductive layer made of ITO on the entire surface of the base 21A, and power for driving is supplied through a power supply line (not shown). Further, in the lower laminate 13, an insulating layer 23 is formed so as to cover the entire surface of the electrode 22A. The lower laminate 13 is provided with a power supply line 22BA to the linear electrode 22B at the end of the base 21A so as to extend along the long side of the base 21A, for example. Here, the power supply line 22BA is formed of a metal material film having a small resistance value. The lower laminated body 13 is provided with linear electrodes 22B formed by patterning a transparent conductive layer with ITO at regular intervals so as to extend from the power supply line 22BA in a direction orthogonal to the power supply line 22BA. Driving power is supplied from the power supply line 22BA to the linear electrode 22B. The linear electrodes 22B are formed with a fine width of 10 μm or less and an interval of 10 μm or less.

これにより調光フィルム10では、線状電極22Bがこの電源供給ライン22BAの付け根で断線すると、この断線した線状電極22Bにより駆動用の電界が作製される部位の全てで、液晶材料を駆動できなくなり、動作不良の領域が発生することになる。また線状電極22Bは、電源供給ライン22BAの付け根部分にから遠ざかるに従って電顕供給端から見た抵抗値が増大することにより、駆動電源の電圧が先端側で低下し、その結果、輝度ムラが発生する恐れがある。なお調光フィルム10では、一定の時間間隔で駆動用電源の極性が切り替わる交番電源を電極22A、22Bに印加することにより、交番電界により液晶材料の配光を制御する。これにより線状電極22Bの抵抗値により線状電極22Bの先端側で駆動電源の電圧が低下し、輝度ムラが発生する。   As a result, in the light control film 10, when the linear electrode 22B is disconnected at the base of the power supply line 22BA, the liquid crystal material can be driven in all the portions where the electric field for driving is produced by the disconnected linear electrode 22B. As a result, a malfunctioning region occurs. Further, the resistance of the linear electrode 22B as viewed from the electron microscope supply end increases as the distance from the base portion of the power supply line 22BA increases, so that the voltage of the drive power supply decreases on the tip side. May occur. In the light control film 10, the light distribution of the liquid crystal material is controlled by the alternating electric field by applying an alternating power source in which the polarity of the driving power source is switched at regular time intervals to the electrodes 22 </ b> A and 22 </ b> B. As a result, the voltage of the driving power source is lowered on the tip side of the linear electrode 22B due to the resistance value of the linear electrode 22B, and luminance unevenness occurs.

なお基材21A側の電極22Aにあっても、線状電極22Bと同様に電源供給ラインを設けて駆動用電源を供給しても良い。また線状電極22Bの電源供給ラインは、電源供給ライン22BAに加えて、他方の側の長辺に沿って配置するようにしてもよく、さらには一定のピッチにより3本以上配置してもよく、また当然に短辺に沿って延長するように作製してもよい。このようにして電源供給ライン22BAの本数を増大させると、線状電極22Bに係る電源供給ライン22BAの付け根部分から先端側までの長さを短くして抵抗値を小さくすることができることにより、輝度ムラを低減することができる。また断線により発生する動作不良の領域の大きさを低減することができる。   Note that, even in the electrode 22A on the base 21A side, a power supply line may be provided to supply driving power in the same manner as the linear electrode 22B. In addition to the power supply line 22BA, the power supply lines of the linear electrodes 22B may be arranged along the long side on the other side, and more than three may be arranged at a constant pitch. Of course, it may be produced so as to extend along the short side. When the number of the power supply lines 22BA is increased in this way, the resistance value can be reduced by shortening the length from the base portion of the power supply line 22BA to the tip side of the linear electrode 22B, thereby reducing the luminance value. Unevenness can be reduced. Further, it is possible to reduce the size of a malfunctioning area caused by disconnection.

さらにこの実施形態では、図3(A)及び(B)により示すように、隣接する線状電極22Bを短絡するブリッジBを、線状電極22Bに設ける。このようにブリッジBを設けた場合には、このブリッジBにより隣接する線状電極22B間で駆動電源を相互に送受できることにより、断線が発生した場合にあっても、駆動用電源の供給が困難になる箇所の発生を防止することができ、これにより動作不良の領域の発生を有効に回避することができる。またこのようにブリッジBを設けることにより線状電極22Bの各部における駆動用電源の電圧も均一化することができ、これにより輝度ムラを低減することができる。   Further, in this embodiment, as shown in FIGS. 3A and 3B, a bridge B that short-circuits adjacent linear electrodes 22B is provided in the linear electrode 22B. When the bridge B is provided in this way, the drive power can be transmitted and received between the adjacent linear electrodes 22B by the bridge B, so that it is difficult to supply the drive power even if a disconnection occurs. Can be prevented from occurring, thereby effectively avoiding the occurrence of malfunctioning areas. Further, by providing the bridge B in this manner, the voltage of the driving power source in each part of the linear electrode 22B can be made uniform, thereby reducing the luminance unevenness.

ここで図3(A)は、隣接する線状電極22Bによる順次対を作製して、奇数番目の対と偶数番目の対とに、それぞれ隣接する線状電極22Bのみを短絡させるブリッジBを設ける場合を模式的に示す図であり、奇数番目の対に係るブリッジBと偶数番目の対に係るブリッジBとを、線状電極22Bの延長する方向に、一定の間隔を隔てて順次交互に設けた場合である。この図3(A)の例では、線状電極22Bの連続する方向には、ピッチTW=1mmによりブリッジBを設ける。また線状電極22Bの延長方向では、隣接する線状電極22Bの対で、繰り返しのピッチTHが1mmになるようにブリッジBを設ける。ここでブリッジBは、線状電極22の延長方向に係る長さである幅が5μm以上15μm以下により作製される。   Here, in FIG. 3A, a pair of adjacent linear electrodes 22B is sequentially formed, and an odd-numbered pair and an even-numbered pair are each provided with a bridge B that short-circuits only the adjacent linear electrodes 22B. FIG. 6 is a diagram schematically showing a case in which an odd-numbered pair of bridges B and an even-numbered pair of bridges B are alternately provided in a direction in which the linear electrodes 22B extend at regular intervals. This is the case. In the example of FIG. 3A, the bridge B is provided in the continuous direction of the linear electrode 22B with a pitch TW = 1 mm. Further, in the extending direction of the linear electrode 22B, the bridge B is provided so that the repeated pitch TH is 1 mm between the pair of adjacent linear electrodes 22B. Here, the bridge B is manufactured with a width which is a length in the extending direction of the linear electrode 22 being 5 μm or more and 15 μm or less.

これに対して図3(B)は、同様に隣接する線状電極22Bのみを短絡させるブリッジBを設ける場合を模式的に示す図であり、線状電極22Bの連続する方向への繰り返しのピッチTWを1mmとし、線状電極の延長方向で、ブリッジBを設ける箇所を線状電極の繰り返し方向に順次シフトさせたものである。なおこの図3(B)において、隣接する線状電極22Bの対に関して、この線状電極22Bの延長方向に係るブリッジBの配置のピッチTHは1mmである。   On the other hand, FIG. 3 (B) is a diagram schematically showing the case where the bridge B for short-circuiting only the adjacent linear electrodes 22B is provided, and the repeated pitch in the continuous direction of the linear electrodes 22B. The TW is set to 1 mm, and the position where the bridge B is provided is sequentially shifted in the linear electrode extending direction in the extending direction of the linear electrode. In FIG. 3B, regarding the pair of adjacent linear electrodes 22B, the pitch TH of the arrangement of the bridges B in the extending direction of the linear electrodes 22B is 1 mm.

なおブリッジBは、調光フィルム10の全面にほぼ均一に設けるようにして、断線による動作不良の領域の発生を有効に回避することができ、さらには輝度ムラを低減することができる。またブリッジBは規則的に配置してもよく、不規則に配置してもよい。なおブリッジBを設けた箇所では、下層の電極22Aとの間で調光に供する横電界を形成できないことにより、局所的に透過率が低下することになる。しかしながらこの実施形態のように線状電極22Bの延長方向に係る長さが5μm以上15μm以下によりブリッジBを作製する場合には、このような局所的に透過率が低下する部位は、極めて限られた小面積の領域とすることができ、これによりブリッジBを設けたことによる透過率の低下を有効に回避することができる。   Note that the bridge B is provided almost uniformly on the entire surface of the light control film 10, so that it is possible to effectively avoid the occurrence of a malfunctioning region due to disconnection, and to further reduce luminance unevenness. The bridges B may be arranged regularly or irregularly. In addition, in the location which provided the bridge | bridging B, the transmittance | permeability falls locally because the horizontal electric field used for light control cannot be formed between lower electrode 22A. However, in the case where the bridge B is manufactured with a length in the extending direction of the linear electrode 22B of 5 μm or more and 15 μm or less as in this embodiment, such a portion where the transmittance is locally reduced is extremely limited. Thus, a reduction in transmittance due to the provision of the bridge B can be effectively avoided.

また調光フィルムでは、液晶表示パネルのような画素の大きさによる透過光を制御する領域の制限が無く、広い領域の透過光を制御することになる。これによりブリッジBを高密度に多数配置すればする程、線状電極22Bの各部における駆動用電源の電圧も均一化することができ、これにより輝度ムラを低減することができる。しかしながらブリッジBの部位で透過率が低下することにより、余りに多く配置すると、透過率の低下が著しくなる。また干渉縞が発生する恐れもある。そこで調光フィルムは、各線状電極間において、線状電極の延長方向に、少なくとも液晶表示パネルにおける1画素の大きさの数倍以上である10mm以上100mm以下の間隔(図3において、符号Tで示す間隔である)で繰り返しブリッジBが配置され、これによってもブリッジBを設けたことによる透過率の低下を有効に回避し、さらにはブリッジによる干渉縞の発生等を有効に回避して、輝度ムラを低減する。   In the light control film, there is no restriction on the area for controlling the transmitted light depending on the size of the pixels as in the liquid crystal display panel, and the transmitted light in a wide area is controlled. As a result, the higher the number of bridges B arranged at a higher density, the more uniform the voltage of the drive power supply at each part of the linear electrode 22B can be reduced. However, since the transmittance is reduced at the site of the bridge B, if the number is arranged too much, the transmittance is significantly reduced. In addition, interference fringes may occur. Therefore, the light control film has an interval of 10 mm to 100 mm that is at least several times the size of one pixel in the liquid crystal display panel in the extending direction of the linear electrodes between the linear electrodes (in FIG. In this case, the bridge B is repeatedly arranged, and this also effectively avoids a decrease in transmittance due to the provision of the bridge B, and further effectively avoids generation of interference fringes due to the bridge. Reduce unevenness.

またブリッジBは、この実施形態のように隣接する線状電極のみを短絡するように作製しても良く、連続する3本以上の線状電極を短絡させるように作製してもよく、短絡させる線状電極の本数にあっては種々に設定することができる。   Further, the bridge B may be produced so as to short-circuit only adjacent linear electrodes as in this embodiment, or may be produced so as to short-circuit three or more continuous linear electrodes, and short-circuited. The number of linear electrodes can be variously set.

〔製造工程〕
図4は、調光フィルムの製造工程の説明に供するフローチャートである。調光フィルムの製造工程は、上側積層体作製工程SP2及び下側積層体作製工程SP3において、それぞれ上側積層体12及び下側積層体13が作製される。また積層工程SP4において、液晶層14を間に挟んで、上側積層体12及び下側積層体13を積層した後、シール剤25により一体化して液晶セルが作製される。調光フィルムの製造工程は、このようにして作製した液晶セルを直線偏光板と積層一体化して調光フィルムが作製される。
〔Manufacturing process〕
FIG. 4 is a flowchart for explaining the manufacturing process of the light control film. In the manufacturing process of the light control film, the upper laminated body 12 and the lower laminated body 13 are produced in the upper laminated body producing process SP2 and the lower laminated body producing process SP3, respectively. In the stacking step SP4, the upper stacked body 12 and the lower stacked body 13 are stacked with the liquid crystal layer 14 interposed therebetween, and then integrated with a sealant 25 to manufacture a liquid crystal cell. In the manufacturing process of the light control film, the liquid crystal cell thus prepared is laminated and integrated with the linear polarizing plate to prepare a light control film.

図5は、上側積層体作製工程SP2を詳細に示すフローチャートである。この上側積層体作製工程SP2(SP11)においては、配向層作製工程SP12において、基材21Bに配向層24Bに係る塗工液が塗工されて乾燥、硬化されることにより、配向層24Bの材料層が形成される。この製造工程は、ラビングロールを使用したラビング処理により、配向層材料層の表面に微細なライン状凹凸形状が作製されて配向層24Bが作製され、これにより上側積層体12が作製される。   FIG. 5 is a flowchart showing in detail the upper laminate manufacturing process SP2. In the upper laminate manufacturing process SP2 (SP11), the alignment layer manufacturing process SP12 applies the coating liquid related to the alignment layer 24B to the base material 21B, and then dries and cures the material to form the alignment layer 24B. A layer is formed. In this manufacturing process, a fine line-shaped uneven shape is formed on the surface of the alignment layer material layer by a rubbing process using a rubbing roll, whereby the alignment layer 24B is manufactured, and thus the upper laminate 12 is manufactured.

図6は、下側積層体作製工程SP3を詳細に示すフローチャートである。この下側積層体作製工程SP3(SP21)においては、電極作製工程SP22において、図7(A)及び(B)に示すように、基材21Aの全面に、スパッタリングによりITOによる透明電極22Aが作製される。続いてこの製造工程は、絶縁層作製工程SP23において、図7(C)に示すように、絶縁層23が作製される。なおこの絶縁層作製工程は、絶縁層23に適用する材料に応じて例えば塗工液の塗工、乾燥、硬化により絶縁層23が作製される。   FIG. 6 is a flowchart showing in detail the lower laminate manufacturing process SP3. In the lower laminate manufacturing step SP3 (SP21), in the electrode manufacturing step SP22, as shown in FIGS. 7A and 7B, a transparent electrode 22A made of ITO is formed on the entire surface of the base material 21A by sputtering. Is done. Subsequently, in this manufacturing process, as shown in FIG. 7C, the insulating layer 23 is manufactured in the insulating layer manufacturing process SP23. In this insulating layer manufacturing step, the insulating layer 23 is manufactured by, for example, coating, drying, and curing of a coating liquid according to the material applied to the insulating layer 23.

続いてこの製造工程は、電極作製工程SP24において、線状電極22Bが作製される。より具体的に、この電極作製工程SP24においては、導電層作製工程SP24−1において、図7(D)に示すように、スパッタリング装置を使用したスパッタリングにより、基材21Aの全面に、線状電極22Bに係る導電層26がITOにより作製される。また続くパターンニング工程SP24−2におけるパターンニングにより、図7(E)に示すように、線状電極22B及びブリッジBが作製される。これによりこの実施形態では、線状電極の作製工程を有効に利用して、何ら工程数を増大させることなくブリッジBを作製することができる。   Subsequently, in this manufacturing process, the linear electrode 22B is manufactured in the electrode manufacturing process SP24. More specifically, in this electrode manufacturing step SP24, a linear electrode is formed on the entire surface of the base material 21A by sputtering using a sputtering apparatus in the conductive layer manufacturing step SP24-1, as shown in FIG. The conductive layer 26 according to 22B is made of ITO. Further, by the patterning in the subsequent patterning step SP24-2, as shown in FIG. 7E, the linear electrode 22B and the bridge B are manufactured. Thus, in this embodiment, the bridge B can be manufactured without increasing the number of processes by effectively using the process of manufacturing the linear electrode.

すなわちパターンニング工程SP24−2においては、導電層の全面にフォトレジストを塗布して乾燥させた後、露光処理、現像処理する。パターンニング工程SP24−2は、この露光処理におけるマスクの設定により、図7(F)に示すように、導電層をパターンニングし、線状電極22B及びブリッジBを作製する。   That is, in the patterning step SP24-2, a photoresist is applied to the entire surface of the conductive layer and dried, followed by exposure processing and development processing. In the patterning step SP24-2, as shown in FIG. 7F, the conductive layer is patterned by setting the mask in this exposure process, and the linear electrode 22B and the bridge B are produced.

このようにして線状電極22Bを作製すると、この製造工程は、スペーサー作製工程SP25において、全面にフォトレジストを塗工して乾燥させた後、マスクを使用した露光処理、現像処理によりスペーサー27を作製する。ここでこの実施形態では、ブリッジBの作製箇所にスペーサー27を作製するようにし、これによりブリッジBを作製したことによる透過率の劣化を低減する。   When the linear electrode 22B is manufactured in this manner, this manufacturing process is performed in the spacer manufacturing process SP25 by applying a photoresist to the entire surface and drying it, and then exposing the spacer 27 by exposure processing and development processing using a mask. Make it. Here, in this embodiment, the spacer 27 is manufactured at the position where the bridge B is manufactured, thereby reducing the deterioration in transmittance due to the manufacturing of the bridge B.

続いて配向層作製工程SP26において、配向層24Aに係る塗工液を塗工して乾燥、硬化することにより、配向層24Aの材料層が形成される。この製造工程は、ラビングロールを使用したラビング処理により、この配向層材料層の表面に微細なライン状凹凸形状が作製されて配向層24Aが作製され、これにより下側積層体13が作製される。   Then, in alignment layer preparation process SP26, the material liquid of alignment layer 24A is formed by applying the coating liquid which concerns on alignment layer 24A, and drying and hardening. In this manufacturing process, a fine line-shaped uneven shape is formed on the surface of the alignment layer material layer by a rubbing process using a rubbing roll, and the alignment layer 24A is manufactured, whereby the lower laminate 13 is manufactured. .

以上の構成によれば、隣接する線状電極を短絡するブリッジを設けることにより、このブリッジにより隣接する線状電極間で駆動電源を相互に送受でき、その結果、線状電極が断線した場合にあっても、駆動用電源の供給が困難になる箇所の発生を防止することができ、動作不良の領域の発生を有効に回避することができる。またブリッジを設けることにより線状電極の各部における駆動用電源の電圧も均一化することができ、これにより輝度ムラを低減することができる。   According to the above configuration, by providing a bridge for short-circuiting adjacent linear electrodes, it is possible to transmit and receive drive power between the adjacent linear electrodes by this bridge, and as a result, when the linear electrode is disconnected. Even in such a case, it is possible to prevent the occurrence of a location where it is difficult to supply the driving power, and to effectively avoid the occurrence of a malfunctioning region. In addition, by providing the bridge, the voltage of the driving power source in each part of the linear electrode can be made uniform, thereby reducing luminance unevenness.

またこのブリッジを、線状電極の部材により形成することにより、さらには線状電極を作製する際のパターニングにより作製することにより、線状電極の作製工程を有効に利用して、何ら工程数を増大させることなくブリッジを作製することができる。   In addition, by forming this bridge with a member of a linear electrode, and further by patterning at the time of manufacturing the linear electrode, the number of steps can be increased by effectively using the manufacturing process of the linear electrode. Bridges can be made without increasing.

またさらにブリッジを、線状電極の延長方向に10mm以上100mm以下の間隔により繰り返し設けることにより、ブリッジを設けたことによる透過率の低下を有効に回避して充分に動作不良の領域の発生を回避し、輝度ムラを低減することができる。   Furthermore, by repeatedly providing bridges in the extension direction of the linear electrodes at intervals of 10 mm or more and 100 mm or less, it is possible to effectively avoid a decrease in transmittance due to the provision of the bridges and avoid the occurrence of sufficiently malfunctioning areas. In addition, luminance unevenness can be reduced.

〔第2実施形態〕
図8は、本発明の第2実施形態に係る調光フィルムの製造工程を示すフローチャートである。この実施形態では、この図8に示す下側積層体作製工程が異なる点を除いて、第1実施形態と同一に構成される。
[Second Embodiment]
FIG. 8 is a flowchart showing the manufacturing process of the light control film according to the second embodiment of the present invention. This embodiment has the same configuration as that of the first embodiment except that the lower laminate manufacturing process shown in FIG. 8 is different.

この下側積層体作製工程は、スペーサーをマスクとして使用してブリッジを作製する。すなわちこの下側積層体作製工程SP31においては、電極作製工程SP32において、図9(A)及び(B)に示すように、基材21Aの全面に、スパッタリングによりITOによる透明電極22Aを作製する。続いてこの製造工程は、絶縁層作製工程SP33において、図9(C)に示すように、絶縁層23を作製する。   In the lower laminate manufacturing process, a bridge is manufactured using a spacer as a mask. That is, in the lower laminate manufacturing process SP31, in the electrode manufacturing process SP32, as shown in FIGS. 9A and 9B, the transparent electrode 22A made of ITO is manufactured on the entire surface of the base 21A by sputtering. Subsequently, in this manufacturing process, as shown in FIG. 9C, the insulating layer 23 is manufactured in the insulating layer manufacturing process SP33.

続いてこの製造工程は、導電層作製工程SP34において、スパッタリング装置を使用したスパッタリングにより、図9(D)に示すように、基材21Aの全面に、線状電極22Bに係る金属材料を堆積して導電層26を作製する。   Subsequently, in this manufacturing process, in the conductive layer manufacturing process SP34, the metal material related to the linear electrode 22B is deposited on the entire surface of the base 21A by sputtering using a sputtering apparatus as shown in FIG. 9D. Thus, the conductive layer 26 is produced.

この製造工程は、続いてスペーサー作製工程SP35において、全面にフォトレジストを塗工して乾燥させた後、マスクを使用した露光処理、現像処理により、図9(E)に示すように、スペーサー27を作製する。   In this manufacturing process, in the spacer manufacturing process SP35, after the photoresist is coated on the entire surface and dried, exposure and development processes using a mask are performed, as shown in FIG. Is made.

続いてこの製造工程は、パターンニング工程SP36におけるパターンニングにより、図9(F)に示すように、線状電極22Bを作製する。より具体的に、フォトレジストを塗工した後、乾燥させ、マスクを使用して線状電極に対応する部位、又は線状電極間に対応する部位を選択的に露光処理する。その後、フォトレジストの未露光の部位又は露光済みの部位を選択的に除去した後、エッチング処理し、これにより線状電極22Bを作製する。   Subsequently, in this manufacturing process, as shown in FIG. 9F, the linear electrode 22B is produced by patterning in the patterning process SP36. More specifically, after applying a photoresist, it is dried, and a portion corresponding to the linear electrodes or a portion corresponding to the space between the linear electrodes is selectively exposed using a mask. Then, after selectively removing the unexposed part or the exposed part of the photoresist, an etching process is performed, thereby producing the linear electrode 22B.

このようにして線状電極を作製する場合、スペーサー27が作製されている部位にあっては、スペーサー27がマスクとして機能してエッチング処理によっては導電層26が除去されないようにすることができ、これによりこの実施形態では、ブリッジBを併せて作製する。なおこれによりスペーサー27は、直径が15μmにより形成され、これにより線状電極に係るマスクが何れの方向に変位して設けられた場合でも、確実に隣接する線状電極を短絡できるように構成される。なおこれによりスペーサー27は、線状電極の幅と線状電極の間隔とが等しい場合には、線状電極の幅の3倍以上の直径により作製して、線状電極に係るマスクが何れの方向に変位した場合でも、確実に隣接する線状電極を短絡することができる。   When the linear electrode is manufactured in this way, in the portion where the spacer 27 is manufactured, the spacer 27 functions as a mask and the conductive layer 26 can be prevented from being removed by the etching process. Thereby, in this embodiment, the bridge B is also produced. In this way, the spacer 27 is formed with a diameter of 15 μm, so that the adjacent linear electrodes can be reliably short-circuited even when the masks related to the linear electrodes are displaced in any direction. The In this case, when the width of the linear electrode is equal to the interval between the linear electrodes, the spacer 27 is manufactured with a diameter that is three times or more the width of the linear electrode, and the mask for the linear electrode is Even when displaced in the direction, the adjacent linear electrodes can be reliably short-circuited.

この製造工程は、続いて配向層作製工程SP37において、配向層24Aに係る塗工液を塗工して乾燥、硬化することにより、配向層24Aの材料層が形成される。この製造工程は、ラビングロールを使用したラビング処理により、この配向層材料層の表面に微細なライン状凹凸形状が作製されて配向層24Aが作製され、これにより下側積層体13が作製される。   In this manufacturing process, subsequently, in the alignment layer manufacturing process SP37, the coating layer related to the alignment layer 24A is applied, dried, and cured, whereby the material layer of the alignment layer 24A is formed. In this manufacturing process, a fine line-shaped uneven shape is formed on the surface of the alignment layer material layer by a rubbing process using a rubbing roll, and the alignment layer 24A is manufactured, whereby the lower laminate 13 is manufactured. .

この実施形態によれば、線状電極に係る導電層を作製した後、スペーサーを作製し、その後、エッチングして線状電極を作製することにより、スペーサーをマスクとして使用してブリッジを作製して製造工程を簡略化することができる。   According to this embodiment, after producing a conductive layer related to a linear electrode, a spacer is produced, and then a linear electrode is produced by etching to produce a bridge using the spacer as a mask. The manufacturing process can be simplified.

すなわち第1実施形態により下側積層体を作製する場合、ブリッジBの部位とスペーサーの部位とで、透過率が劣化することになる。これによりブリッジBの部位にスペーサーを作製することにより、透過率の劣化を防止することができるものの、この場合、スペーサー作製時におけるマスクの位置合わせが煩雑になり、マスクの位置合わせがずれると、透過率が低下することになる。   That is, when the lower laminate is manufactured according to the first embodiment, the transmittance is deteriorated between the bridge B portion and the spacer portion. This makes it possible to prevent the deterioration of the transmittance by producing a spacer at the site of the bridge B, but in this case, the alignment of the mask at the time of producing the spacer becomes complicated, and the alignment of the mask is shifted. The transmittance will decrease.

しかしながらこの実施形態のように、スペーサーを事前に作製し、このスペーサーをエッチングのマスクとして使用してブリッジを作製すれば、スペーサー作製時におけるマスクの位置合わせを格段的に簡略化することができ、製造工程を簡略化することができる。   However, as in this embodiment, if a spacer is produced in advance and a bridge is produced using this spacer as an etching mask, the alignment of the mask during the production of the spacer can be greatly simplified. The manufacturing process can be simplified.

〔第3実施形態〕
図10は、本発明の第3実施形態に係る調光フィルムに係る下側積層体の説明に供する図である。この実施形態においては、この図10に係る下側積層体33が適用される点を除いて、上述の第1実施形態又は第2実施形態と同一に構成される。
[Third Embodiment]
FIG. 10: is a figure where it uses for description of the lower laminated body which concerns on the light control film which concerns on 3rd Embodiment of this invention. This embodiment is configured in the same way as the first embodiment or the second embodiment described above except that the lower laminate 33 according to FIG. 10 is applied.

ここでこの下側積層体33は、線状電極22Bの繰り返し方向に延長して、この繰り返し方向に係る全ての線状電極22Bを横切るように、線状電極22Bの延長方向の一定箇所に纏めてブリッジBが作製され、これによりブリッジBによる線状の電極が作製される。またこのブリッジBによる線状の電極は、線状電極22Bの延長方向に、10mm以上100mm以下の一定の間隔により、又は不規則な間隔により作製され、また電極幅5μm以上15μm以下により繰り返し設けられる。   Here, the lower laminated body 33 extends in the repeating direction of the linear electrode 22B, and is collected at a fixed portion in the extending direction of the linear electrode 22B so as to cross all the linear electrodes 22B in the repeating direction. Thus, a bridge B is produced, and thereby a linear electrode by the bridge B is produced. Further, the linear electrode formed by the bridge B is formed in the extending direction of the linear electrode 22B with a constant interval of 10 mm to 100 mm or with an irregular interval, and is repeatedly provided with an electrode width of 5 μm to 15 μm. .

またこの下側積層体33は、最外周より囲むように枠形状により外周電極34が作製され、この外周電極34を介して線状電極22Bに駆動用電源が供給される。さらにブリッジBによる線状の電極が両端で延長するよう形成されて外周電極34にブリッジBによる線状の電極が直接接続され、これによりブリッジBによる電極に直接、外周電極34を介して駆動用電源が供給される。ここで外周電極は、ITOによる場合に比して抵抗値を小さくすることが可能な、例えば銅、アルミニウム等の金属材料を適用して作製される。ブリッジBによる電極にあっては、この場合、この外周電極の金属材料を適用して、外周電極を作製する際に、同時に作製してもよい。また外周電極34にITOを適用して、外周電極34を線状電極22B、ブリッジBと同時に作製してもよい。   The lower laminated body 33 is formed with an outer peripheral electrode 34 in a frame shape so as to surround the outermost periphery, and driving power is supplied to the linear electrode 22B via the outer peripheral electrode 34. Further, a linear electrode formed by the bridge B is formed so as to extend at both ends, and the linear electrode formed by the bridge B is directly connected to the outer peripheral electrode 34, whereby the driving electrode is directly connected to the electrode formed by the bridge B via the outer peripheral electrode 34. Power is supplied. Here, the outer peripheral electrode is manufactured by applying a metal material such as copper or aluminum, which can have a resistance value smaller than that of ITO. In this case, the electrode by the bridge B may be manufactured at the same time as the peripheral electrode is manufactured by applying the metal material of the peripheral electrode. Alternatively, ITO may be applied to the outer peripheral electrode 34, and the outer peripheral electrode 34 may be formed simultaneously with the linear electrode 22B and the bridge B.

これによりこれによりこの実施形態では、一段と確実に輝度ムラを低減できるように構成される。   Thereby, in this embodiment, it is configured such that luminance unevenness can be reduced more reliably.

なお図10に示すように、抵抗値の小さい金属材料により外周電極34を作製する場合にあっても、基材に外周電極34を作製して厚みを充分に確保することが困難であることにより、調光フィルムが大面積になると、外周電極34における電圧降下の影響を無視し得ず、輝度ムラが発生する恐れがある。   As shown in FIG. 10, even when the outer peripheral electrode 34 is made of a metal material having a small resistance value, it is difficult to make the outer peripheral electrode 34 on the base material and ensure a sufficient thickness. When the light control film has a large area, the influence of the voltage drop at the outer peripheral electrode 34 cannot be ignored, and there is a risk of uneven brightness.

そこで図10との対比により図11に示すように、複数個所より外周電極34に電源を供給するようにして、輝度ムラを低減することができる。なおこの図11では、各電源供給系統を矢印により示す。   Therefore, as shown in FIG. 11 in comparison with FIG. 10, the luminance unevenness can be reduced by supplying power to the outer peripheral electrode 34 from a plurality of locations. In FIG. 11, each power supply system is indicated by an arrow.

〔第4実施形態〕
図12は、本発明の第4実施形態に係る調光フィルムに係る下側積層体の説明に供する図である。この実施形態においては、この図12に係る構成が異なる点を除いて、上述の第1実施形態〜第3実施形態と同一に構成される。
[Fourth Embodiment]
FIG. 12: is a figure where it uses for description of the lower laminated body which concerns on the light control film which concerns on 4th Embodiment of this invention. This embodiment is configured in the same manner as the first to third embodiments described above except that the configuration according to FIG. 12 is different.

この実施形態においては、線状電極22Bの延長方向に、隣接する線状電極22が揃って、三角波形状により蛇行するように形成される。これにより電界の印加により、矢印Aにより示す反時計回りに液晶分子14Aが配向する部位と、これとは逆に、矢印Bにより示すように時計回りに液晶分子14Aが配向する部位とが形成され、マルチドメインにより調光フィルムが作製される。この実施形態では、このマルチドメインに係るドメインの境界にブリッジBが配置される。   In this embodiment, adjacent linear electrodes 22 are aligned in the extending direction of the linear electrode 22B, and are formed to meander in a triangular wave shape. As a result, by applying an electric field, a portion where the liquid crystal molecules 14A are aligned in the counterclockwise direction indicated by the arrow A and a portion where the liquid crystal molecules 14A are aligned in the clockwise direction as indicated by the arrow B are formed. A light control film is produced by multi-domain. In this embodiment, the bridge B is arranged at the boundary between the domains related to the multi-domain.

このドメイン境界にあっては、透過率が低下する部位であり、ブリッジBの部位も透過率が低下する部位である、これによりドメイン境界にブリッジBを配置すれば、透過率の低下する部位の面積の増大を防止することができ、その結果、調光フィルム全体の透過率の低下を防止して輝度ムラを低減することができる。   At this domain boundary, the transmittance is reduced, and the bridge B portion is also a portion where the transmittance is reduced. With this arrangement, if the bridge B is arranged at the domain boundary, the transmittance is reduced. An increase in the area can be prevented, and as a result, a decrease in the transmittance of the entire light control film can be prevented and luminance unevenness can be reduced.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を組み合わせ、さらには上述の実施形態を種々に変更することができる。
[Other Embodiments]
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above, but the present invention is combined with the above-described embodiments and further modified in various ways without departing from the spirit of the present invention. can do.

すなわち上述の実施形態では、線状電極を直線状に作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、線状電極を屈曲させて作製することによりマルチドメイン化する場合にも広く適用することができる。   That is, in the above-described embodiment, the case where the linear electrode is formed in a straight line has been described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention is widely applied to a case where a multi-domain is formed by bending the linear electrode. can do.

10 調光フィルム
12 上側積層体
13 下側積層体
14 液晶層
14A 液晶分子
15 液晶セル
16、17 直線偏光板
18、19 位相差フィルム
21A、21B 基材
22A 電極
22B 線状電極
22BA電源供給ライン
23 絶縁層
24A、24B 配向層
25 シール剤
26 導電層
27 スペーサー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light control film 12 Upper side laminated body 13 Lower side laminated body 14 Liquid crystal layer 14A Liquid crystal molecule 15 Liquid crystal cell 16, 17 Linearly polarizing plate 18, 19 Phase difference film 21A, 21B Base material 22A Electrode 22B Linear electrode 22BA Power supply line 23 Insulating layer 24A, 24B Alignment layer 25 Sealant 26 Conductive layer 27 Spacer

Claims (5)

第1及び第2の積層体により液晶層を挟持し、前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
前記第1の積層体には、透明基材の一方の面に、透明電極、絶縁層、線状電極が順次形成され、
前記第1の積層体の前記透明電極及び線状電極間の電界により前記液晶分子の配向を制御し、
少なくとも前記線状電極の延長方向の両端部を除く部位において隣接する前記線状電極を短絡するブリッジが前記線状電極の延長方向に繰り返し設けられた
調光フィルム。
In the light control film that sandwiches the liquid crystal layer between the first and second laminates and controls the transmitted light by controlling the orientation of the liquid crystal molecules related to the liquid crystal layer,
In the first laminate, a transparent electrode, an insulating layer, and a linear electrode are sequentially formed on one surface of the transparent substrate,
Controlling the orientation of the liquid crystal molecules by an electric field between the transparent electrode and the linear electrode of the first laminate,
A light control film, wherein a bridge for short-circuiting the adjacent linear electrodes at least in a portion excluding both ends in the extending direction of the linear electrodes is repeatedly provided in the extending direction of the linear electrodes .
前記ブリッジは、前記線状電極の部材により形成された
請求項1に記載の調光フィルム。
The light control film according to claim 1, wherein the bridge is formed by a member of the linear electrode.
前記ブリッジが、10mm以上100mm以下の間隔により前記線状電極の延長方向に繰り返し設けられた
請求項1又は請求項2に記載の調光フィルム。
The light control film of Claim 1. The said bridge | bridging was repeatedly provided in the extension direction of the said linear electrode by the space | interval of 10 mm or more and 100 mm or less.
透明フィルム材による基材に透明電極、絶縁層、線状電極、配向層を順次作製して第1の積層体を作製する第1の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材に配向層を作製して第2の積層体を作製する第2の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第1及び第2の積層体を積層して液晶セルを作製する積層工程とを備え、
前記第1の積層体作製工程は、
前記透明電極を作製する透明電極の作製工程と、
前記絶縁層を作製する絶縁層の作製工程と、
前記線状電極を作製する線状電極の作製工程とを備え、
前記線状電極の作製工程は、
前記絶縁層に導電層を作製する導電層作製工程と、
前記導電層をパターンニングして前記線状電極を作製するパターンニング工程を備え、
前記パターンニング工程におけるパターンニングにより、少なくとも前記線状電極の延長方向の両端部を除く部位において隣接する前記線状電極を短絡するブリッジを前記線状電極の延長方向に繰り返し形成する
調光フィルムの製造方法。
A first laminate production step of producing a first laminate by sequentially producing a transparent electrode, an insulating layer, a linear electrode, and an orientation layer on a substrate made of a transparent film material;
A second laminate production step of producing an alignment layer on a substrate made of a transparent film material to produce a second laminate;
A laminating step of laminating the first and second laminates with a liquid crystal layer interposed therebetween to produce a liquid crystal cell,
The first laminate manufacturing step includes
A production step of a transparent electrode for producing the transparent electrode;
A step of producing an insulating layer for producing the insulating layer;
A step of producing a linear electrode for producing the linear electrode,
The production process of the linear electrode is as follows:
A conductive layer manufacturing step of forming a conductive layer on the insulating layer;
Comprising a patterning step of patterning the conductive layer to produce the linear electrode;
Wherein the patterning in the patterning step, at least the linear the linear repeating electrodes bridges for short-circuiting the extending direction of the linear electrodes formed to the light control film adjacent at the site except the both end portions of the extending direction of the electrode Production method.
透明フィルム材による基材に透明電極、絶縁層、線状電極、配向層を順次作製して第1の積層体を作製する第1の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材に配向層を作製して第2の積層体を作製する第2の積層体作製工程と、
液晶層を間に挟んで前記第1及び第2の積層体を積層して液晶セルを作製する積層工程とを備え、
前記第1の積層体作製工程は、
前記透明電極を作製する透明電極の作製工程と、
前記絶縁層を作製する絶縁層の作製工程と、
前記線状電極を作製する線状電極の作製工程とを備え、
前記線状電極の作製工程は、
前記絶縁層に導電層を作製する導電層作製工程と、
前記導電層に、前記液晶層の厚みを規制するスペーサーを作製するスペーサー作製工程と、
前記導電層をパターンニングして、前記スペーサーによりマスクされる部位が、少なくとも前記線状電極の延長方向の両端部を除く部位において隣接する前記線状電極を短絡するブリッジであるようにし、かつ前記スペーサーによりマスクされる部位が前記線状電極の延長方向に繰り返すようにして前記線状電極を作製するパターンニング工程とを備える
調光フィルムの製造方法。
A first laminate production step of producing a first laminate by sequentially producing a transparent electrode, an insulating layer, a linear electrode, and an orientation layer on a substrate made of a transparent film material;
A second laminate production step of producing an alignment layer on a substrate made of a transparent film material to produce a second laminate;
A laminating step of laminating the first and second laminates with a liquid crystal layer interposed therebetween to produce a liquid crystal cell,
The first laminate manufacturing step includes
A production step of a transparent electrode for producing the transparent electrode;
A step of producing an insulating layer for producing the insulating layer;
A step of producing a linear electrode for producing the linear electrode,
The production process of the linear electrode is as follows:
A conductive layer manufacturing step of forming a conductive layer on the insulating layer;
A spacer production step for producing a spacer for regulating the thickness of the liquid crystal layer in the conductive layer;
Patterning the conductive layer so that the portion masked by the spacer is a bridge that short-circuits the adjacent linear electrodes at least at portions excluding both ends in the extending direction of the linear electrodes ; and A patterning step of producing the linear electrode such that a portion masked by the spacer repeats in the extending direction of the linear electrode.
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