JP5974587B2 - Transparent conductive member - Google Patents

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本発明は透明導電部材に関し、より詳細には、導電性メッシュと帯電防止層を含む透明導電部材に関する。   The present invention relates to a transparent conductive member, and more particularly to a transparent conductive member including a conductive mesh and an antistatic layer.

プラズマディスプレイパネル(PDP)や陰極線管(CRT)等の画像形成装置を有した画像表示装置が広く普及している。これらの画像表示装置においては、画像形成装置の画像観察者側(画面側或いは前面側とも呼ぶ)に、種々の機能をそれぞれ付与された複数枚のシート状(フィルム状)の部材からなる透明導電部材が配置されている。例えば、プラズマディスプレイ表示装置は、発光にプラズマ放電を利用するため、不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器(例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等)に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側(観察者側)に、漏洩する電磁波を遮蔽するためのフィルム状の透明電極を設けるのが一般的である。
また、EL(Flectro Luminescence 電場発光)画像表示裝置を構成する透明電極や補助電極として導電性メッシュが使用されている。
An image display apparatus having an image forming apparatus such as a plasma display panel (PDP) or a cathode ray tube (CRT) is widely used. In these image display devices, a transparent conductive film composed of a plurality of sheet-like (film-like) members each provided with various functions on the image observer side (also referred to as the screen side or the front side) of the image forming device. The member is arranged. For example, since a plasma display display device uses plasma discharge for light emission, unnecessary electromagnetic waves may leak to the outside and affect other devices (for example, remote control devices, information processing devices, etc.). For this reason, it is common to provide a film-like transparent electrode for shielding leaked electromagnetic waves on the front side (observer side) of a plasma display panel used in a plasma display device.
In addition, a conductive mesh is used as a transparent electrode or auxiliary electrode constituting an EL (Electro Luminescence electroluminescence) image display device.

透明電極として、多数の開口領域を画成する導電性メッシュを含むシート状のものが広く使用されており、例えば特許第3388682号公報には、典型的には、透明基材上に積層された正方格子をなす規則的な繰返し周期を持つパターンで形成された導電体からなる導電性メッシュが開示されている。   As a transparent electrode, a sheet-like material including a conductive mesh that defines a large number of open regions is widely used. For example, in Japanese Patent No. 3388682, a transparent electrode is typically laminated on a transparent substrate. A conductive mesh made of a conductor formed in a pattern having a regular repeating period forming a square lattice is disclosed.

ところで、PDPやCRT等に代表される画像形成装置は、繰返し周期を持った画素配列を有し、画素毎の光を制御することによって所望の画像を形成している。このため、画像形成装置に透明電極シートが積層されると、画素配列の周期性と導電性メッシュの周期性との干渉に起因した縞状の模様、すなわちモアレ(干渉縞)が視認されることがある。さらに、透明電極が、光吸収部が繰り返し配列されたミクロルーバー構造の光学部材とともに、画像形成装置上に配置された場合には、導電性メッシュの周期性と、光吸収部の周期性と、画素配列の周期性と、の干渉に起因したより複雑なモアレが視認され得る。このようなモアレは、画像表示装置によって表示され画像の画質を著しく劣化させることになる。   Incidentally, an image forming apparatus represented by a PDP, a CRT, or the like has a pixel array having a repeating cycle, and forms a desired image by controlling light for each pixel. For this reason, when a transparent electrode sheet is laminated on the image forming apparatus, a striped pattern resulting from interference between the periodicity of the pixel array and the periodicity of the conductive mesh, that is, moire (interference fringes) is visually recognized. There is. Further, when the transparent electrode is disposed on the image forming apparatus together with the optical member having a microlouver structure in which the light absorbing portions are repeatedly arranged, the periodicity of the conductive mesh, the periodicity of the light absorbing portion, More complicated moire caused by interference between the periodicity of the pixel array and the pixel array can be visually recognized. Such moire is displayed by the image display device and significantly deteriorates the image quality.

特許文献1および特許文献2では、モアレの発生を防止するため、導電性メッシュのメッシュパターンを改良することが提案されている。特許文献1では、有機溶剤処理と酸処理とを組み合わせた化学処理によって導電性メッシュを作製することが提案されている。この導電性メッシュは完全にランダム化したパターンを有しており、モアレの解消には有効である。しかしながら、特許文献1に開示された導電性メッシュのパターンは、必然的にパターン自体に粗密を含むようになり、その粗密による濃淡の外観ムラが発生する。そして、特許文献1の導電性メッシュを画像形成装置上に配置すると、明度の濃淡ムラが視認され、画質を著しく劣化させることになる。また、特許文献1に開示された導電性メッシュのパターンは、断線した箇所を含むようになり、当該部分は、導電性の目的に有効に機能しないだけでなく、画像透過率を低下させるといった不具合をも来す。   In Patent Document 1 and Patent Document 2, it is proposed to improve the mesh pattern of the conductive mesh in order to prevent the occurrence of moire. In Patent Document 1, it is proposed to produce a conductive mesh by chemical treatment combining organic solvent treatment and acid treatment. This conductive mesh has a completely randomized pattern and is effective in eliminating moire. However, the pattern of the conductive mesh disclosed in Patent Document 1 inevitably includes roughness in the pattern itself, and uneven appearance of density due to the roughness occurs. When the conductive mesh disclosed in Patent Document 1 is arranged on the image forming apparatus, unevenness in brightness is visually recognized, and the image quality is remarkably deteriorated. Further, the pattern of the conductive mesh disclosed in Patent Document 1 includes a disconnected portion, and the portion does not function effectively for the purpose of conductivity, but also reduces the image transmittance. Also come.

一方、特許文献2に開示された透明電極の導電体メッシュのパターンは、X軸方向及びY軸方向の2方向に繰返周期を有する正方格子を変調し、一方向(Y軸方向)のみ繰返を不規則化し、他方向(X軸方向)の繰返周期を残したものとなっている。このパターンは、断線箇所を含んでいないものの、完全にランダム化されておらず部分的に周期性を残している。特許文献2に開示された透明電極を用いた場合、十分な導電性を確保しつつ濃淡ムラの発生を抑制することも可能となりそうであるが、モアレを十分に目立たなくなせることができない。   On the other hand, the conductive mesh pattern of the transparent electrode disclosed in Patent Document 2 modulates a square lattice having a repetition period in two directions of the X axis direction and the Y axis direction, and repeats only in one direction (Y axis direction). The return is irregular, leaving a repetition cycle in the other direction (X-axis direction). Although this pattern does not include the disconnection portion, it is not completely randomized and partially remains periodic. When the transparent electrode disclosed in Patent Document 2 is used, it is likely to be possible to suppress the occurrence of uneven density while ensuring sufficient conductivity, but the moire cannot be made sufficiently inconspicuous.

また、画像表示裝置に用いられる透明導電部材は、通常、透明電極と近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、反射防止層等の光学フィルタ機能層、及び、表面保護層としてのハードコート層との積層体からなる。しかし、ハードコート層は絶縁特性が高いため帯電しやすく、且つ導電性メッシュを含んでいても導電性メッシュの開口部に帯電した電荷は放電し難いため、埃等の付着による汚れが生じるため、透明電極を含む積層体の一部に帯電防止剤を含有した帯電防止層を設けることが、従来より行われている。
しかしながら、このような帯電防止剤を使用する場合、当該積層体の導電性を高めようとすると、帯電防止剤の添加量を多くせざるを得ず、その結果、光学積層体のヘイズが増大して光透過性が低下し、十分な光学特性が得られないといった問題があった。
そして、具体的な解決の試みとして、透明基材の表面或いは層内に、(i)界面活性剤(例えば特許文献3)、(ii)アルミニウム、金、銀、銅、ニッケル等の金属単体又は合金の微粒子(例えば特許文献4)、(iii) アンチモンをドープした酸化錫(ATO)又はスズをドープした酸化インジウム(ITO)等の金属酸化物系の導電性超微粒子(例えば特許文献5)、(iv)水溶性または水分散性導電ポリマーの含有(例えば特許文献6)、(v)イオン導電性微粒子(例えば特許文献7)等の添加が提案されている。
In addition, the transparent conductive member used for the image display device is usually a transparent electrode, a near infrared absorption layer, a neon light absorption layer, an ultraviolet absorption layer, an optical filter functional layer such as an antireflection layer, and a hard as a surface protective layer. It consists of a laminate with a coat layer. However, since the hard coat layer has high insulating properties, it is easy to be charged, and even if it contains a conductive mesh, the charge charged in the opening of the conductive mesh is difficult to discharge, so dirt due to adhesion of dust etc. occurs, Conventionally, an antistatic layer containing an antistatic agent is provided on a part of a laminate including a transparent electrode.
However, when using such an antistatic agent, if it is intended to increase the conductivity of the laminate, the amount of the antistatic agent added must be increased, resulting in an increase in the haze of the optical laminate. As a result, there is a problem that the light transmittance is lowered and sufficient optical characteristics cannot be obtained.
And as a concrete solution attempt, on the surface or layer of the transparent substrate, (i) a surfactant (for example, Patent Document 3), (ii) a single metal such as aluminum, gold, silver, copper, nickel or the like Alloy fine particles (for example, Patent Document 4), (iii) antimony-doped tin oxide (ATO) or tin-doped indium oxide (ITO) or other metal oxide-based conductive ultrafine particles (for example, Patent Document 5), (Iv) The addition of a water-soluble or water-dispersible conductive polymer (for example, Patent Document 6), (v) addition of ionic conductive fine particles (for example, Patent Document 7), and the like have been proposed.

しかしながら、帯電を防止するため、界面活性剤を添加すると経時により帯電防止剤が滲出(ブリードアウト)すること、帯電防止剤の添加により光透過性が低下する等の問題があった。
また、金属単体、合金、金属酸化物等の微粒子を添加した場合は、光学フィルタの導電性を高めようとすると、帯電防止剤の添加量を多くせざるを得ず、その結果、光学フィルタのヘイズが増大したり、或いは透明度が低下して光透過性が低下し、十分な光学特性が得られないといった問題があった。
However, in order to prevent charging, there are problems such as addition of a surfactant causes the antistatic agent to bleed out over time (bleed out), and addition of the antistatic agent reduces light transmittance.
In addition, when fine particles such as simple metals, alloys, metal oxides, etc. are added, if an attempt is made to increase the conductivity of the optical filter, the amount of antistatic agent added must be increased. There has been a problem that haze is increased or transparency is lowered and light transmittance is lowered, and sufficient optical properties cannot be obtained.

WO2007/114076号公報WO2007 / 114076 特開平11−121974号公報JP-A-11-121974 特開平5−339306号公報JP-A-5-339306 特開平11−42729号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-42729 特開2002−3751号公報JP 2002-3751 A 特開2004−338379号公報JP 2004-338379 A 特開2005−154749号公報JP 2005-154749 A

このような事情に鑑み、本発明の目的は、画像表示装置等の前面にとりつけたときに濃淡ムラおよびモアレを目立たなくさせることができるとともに、優れた帯電防止性能を備えた透明導電部材を提供することにある。   In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide a transparent conductive member that can make shading unevenness and moire inconspicuous when mounted on the front surface of an image display device or the like and has excellent antistatic performance. There is to do.

本発明の透明導電部材は、シート状の透明電極、および帯電防止層が積層された透明導電部材であって、
前記透明電極は、透明基材および前記透明基材上に設けられた二つの分岐点の間を延びて開口領域を画成する多数の境界線分から形成された導電性メッシュを備え、
該導電性メッシュは、5本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域、6本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域および7本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域の少なくとも二種類が含まれている領域を含み、
前記領域に含まれた5本、6本または7本のうちの同一本数の境界線分によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域の形状又は面積は一定ではなく、
前記帯電防止層は五酸化アンチモン粒子及びウレタン樹脂を含み、前記五酸化アンチモンは帯電防止層中に粗密構造を有する形で分散していることを特徴とするものである。
The transparent conductive member of the present invention is a transparent conductive member in which a sheet-like transparent electrode and an antistatic layer are laminated,
The transparent electrode includes a transparent base material and a conductive mesh formed from a number of boundary line segments that extend between two branch points provided on the transparent base material and define an open region,
The conductive mesh includes an opening region surrounded by five boundary segments, an opening region surrounded by six boundary segments, and an opening region surrounded by seven boundary segments. Including an area containing at least two types of
The shape or area of the plurality of open regions surrounded by the same number of boundary line segments out of 5, 6, or 7 included in the region is not constant,
The antistatic layer contains antimony pentoxide particles and a urethane resin, and the antimony pentoxide is dispersed in the antistatic layer in a form having a coarse and dense structure.

本発明の透明導電部材は、導電性メッシュが、5本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域、6本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域および7本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域の少なくとも二種類が含まれた領域を含み、且つ、当該領域に含まれた5本、6本または7本のうちの同一本数の境界線分によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域の形状又は面積は一定ではないようになっている。このような透明電極によれば、画像表示装置等の前面にとりつけたときに、濃淡ムラの発生を抑制しながら、モアレを極めて効果的に目立たなくさせることができる。   The transparent conductive member according to the present invention has a conductive mesh surrounded by an opening region surrounded by five boundary segments, an opening region surrounded by six boundary segments, and seven boundary segments. It includes a region including at least two types of open regions surrounded by the periphery, and the periphery is surrounded by the same number of boundary lines of 5, 6, or 7 included in the region. The shape or area of the plurality of opening regions is not constant. According to such a transparent electrode, moire can be made very inconspicuous while suppressing the occurrence of uneven density when mounted on the front surface of an image display device or the like.

また、本発明の透明導電部材は、五酸化アンチモン及びウレタン樹脂を含む帯電防止層を有し、五酸化アンチモンは帯電防止層中に粗密構造を有する形で分散しているので、ヘイズが高くなる程の多量を使用することなく、十分な帯電防止性能を有している。したがって、塵埃付着や汚染を防止でき、また、当該帯電防止層における帯電防止剤のブリードアウトや、光線透過率の低下及び白濁(曇り)がなく、ブリードアウトによるベタつきがなく、光線透過率の高い帯電防止層を有した透明導電部材を提供することができる。   In addition, the transparent conductive member of the present invention has an antistatic layer containing antimony pentoxide and a urethane resin, and antimony pentoxide is dispersed in a form having a dense structure in the antistatic layer, so that haze is increased. It has sufficient antistatic performance without using a large amount. Therefore, dust adhesion and contamination can be prevented, and there is no bleeding out of the antistatic agent in the antistatic layer, no decrease in light transmittance and white turbidity (cloudiness), no stickiness due to bleed out, and high light transmittance. A transparent conductive member having an antistatic layer can be provided.

図1(A)は、特定の導電性メッシュを透明基材上に設けた透明電極と特定の帯電防止層を必須構成部材とする本発明に係る透明導電部材の拡大断面図である。図1(B)は、図1(A)における透明導電部材の導電性メッシュ部分の拡大平面図である。FIG. 1A is an enlarged cross-sectional view of a transparent conductive member according to the present invention having a transparent electrode provided with a specific conductive mesh on a transparent substrate and a specific antistatic layer as essential constituent members. FIG. 1B is an enlarged plan view of a conductive mesh portion of the transparent conductive member in FIG. 本発明の特定の導電性メッシュを透明基材上に設けた透明電極と特定の帯電防止層を含む他の層構成の透明導電部材の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the transparent conductive member of other layer composition containing the transparent electrode which provided the specific conductive mesh of the present invention on the transparent substrate, and the specific antistatic layer. 本発明の透明導電部材に組み込まれ得る透明電極を示す平面図であって、透明電極の導電性メッシュのパターンを説明するための図である。It is a top view which shows the transparent electrode which can be integrated in the transparent conductive member of this invention, Comprising: It is a figure for demonstrating the pattern of the conductive mesh of a transparent electrode. 図3の部分拡大図であって、透明電極の導電性メッシュのパターンを説明するための図である。It is the elements on larger scale of Drawing 3, and is a figure for explaining the pattern of the conductive mesh of a transparent electrode. 各本数の境界線分によって取り囲まれた開口領域の個数分布を示すグラフである。It is a graph which shows the number distribution of the opening area | region surrounded by each boundary line segment. 図1の画像表示装置に組み込まれ得る画像形成装置の画素配列を説明するための平面図である。FIG. 2 is a plan view for explaining a pixel arrangement of an image forming apparatus that can be incorporated in the image display apparatus of FIG. 1. 図3に示された透明電極と、図6に示された画像形成装置と、を重ねた状態を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a state in which the transparent electrode shown in FIG. 3 and the image forming apparatus shown in FIG. 6 are overlapped. 図3に示された導電性メッシュのパターンを設計する方法を説明するための図であって、母点を決定する方法を示す図である。It is a figure for demonstrating the method of designing the pattern of the electroconductive mesh shown by FIG. 3, Comprising: It is a figure which shows the method of determining a generating point. 図3に示された導電性メッシュのパターンを設計する方法を説明するための図であって、母点を決定する方法を示す図である。It is a figure for demonstrating the method of designing the pattern of the electroconductive mesh shown by FIG. 3, Comprising: It is a figure which shows the method of determining a generating point. 図3に示された導電性メッシュのパターンを設計する方法を説明するための図であって、母点を決定する方法を示す図である。It is a figure for demonstrating the method of designing the pattern of the electroconductive mesh shown by FIG. 3, Comprising: It is a figure which shows the method of determining a generating point. 図4(A)〜(D)は、決定された母点群を絶対座標系および相対座標系において示す図であり、母点群の分散の程度を説明するための図である。4A to 4D are diagrams showing the determined mother point group in the absolute coordinate system and the relative coordinate system, and are diagrams for explaining the degree of dispersion of the mother point group. 図3に示された導電性メッシュのパターンを設計する方法を説明するための図であって、決定された母点からボロノイ図を作成してパターンを決定する方法を示す図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a method for designing the pattern of the conductive mesh shown in FIG. 3, and shows a method for determining a pattern by creating a Voronoi diagram from the determined mother point. 従来技術に係る透明電極の導電性メッシュのパターンを説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the pattern of the electroconductive mesh of the transparent electrode which concerns on a prior art. 図13に示された透明電極と、図6に示された画像形成装置と、を重ねた状態を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing a state in which the transparent electrode shown in FIG. 13 and the image forming apparatus shown in FIG. 6 are overlapped. 本発明(製造例1)のハードコート層の断面の走査型電子顕微鏡写真である。It is a scanning electron micrograph of the cross section of the hard-coat layer of this invention (manufacture example 1).

以下に説明する実施の形態は、本発明の透明導電部材をプラズマディスプレイ装置などの画像表示装置(ディスプレイ)に適用する例を主とした。しかしながら、この例に限られず、本発明を、例えば建築物、乗物などの各種窓ガラスに貼るなど、導電性を付与することが望ましい、その他の用途に対して広く適用することができる。   In the embodiment described below, the transparent conductive member of the present invention is mainly applied to an image display device (display) such as a plasma display device. However, the present invention is not limited to this example, and the present invention can be widely applied to other uses in which it is desirable to impart conductivity, for example, pasting on various window glasses such as buildings and vehicles.

図1(A)は、特定の導電性メッシュ40を透明基材30上に設けた透明電極20の上に特定の帯電防止層50を設けた透明導電部材10を示す。
透明電極20は、画像形成装置80(画素配列部分の平面視形状は図6に図示。また、図1(A)及び図2においては、図示は略すが、図の下方に位置する。)から放射されるkHzからGHz帯域の電磁波(すなわち、ここで言う「電磁波」とは、可視光線、近赤外線、及び紫外線を含まない狭義の概念である)を遮蔽し、且つ、可視光線を透過させるためのフィルタとして機能し、導電性メッシュ40は適度に分割されたボロノイ分割パターンからなっているので、画像形成装置の画面に重畳して取り付けた場合、濃淡ムラの発生を抑制しながら、モアレを極めて効果的に目立たなくさせることができる。
また、帯電防止層は、五酸化アンチモン粒子からなる導電粒子52が該帯電防止層50中に粗密構造を有する形で樹脂バインダー54中に分散して存在するため、その添加量が少なくても、優れた帯電防止性能を発揮することができる。
FIG. 1A shows a transparent conductive member 10 in which a specific antistatic layer 50 is provided on a transparent electrode 20 in which a specific conductive mesh 40 is provided on a transparent substrate 30.
The transparent electrode 20 is from the image forming apparatus 80 (the shape of the pixel array portion in plan view is shown in FIG. 6 and is not shown in FIGS. 1A and 2 but is located in the lower part of the figure). To shield radiated electromagnetic waves in the kHz to GHz band (that is, “electromagnetic waves” here is a narrow concept that does not include visible light, near infrared light, and ultraviolet light) and transmit visible light. Since the conductive mesh 40 has a moderately divided Voronoi division pattern, when mounted on the screen of the image forming apparatus, the conductive mesh 40 is extremely moire while suppressing the occurrence of uneven density. It can be effectively inconspicuous.
In addition, since the antistatic layer is formed by dispersing conductive particles 52 made of antimony pentoxide particles in the resin binder 54 in a form having a coarse and dense structure in the antistatic layer 50, even if the addition amount is small, Excellent antistatic performance can be exhibited.

図2は、種々の機能層70を含む複合フィルタ(積層体)である態様の透明導電部材10を示す。
複合フィルタに含まれる任意の機能層70は、画像形成装置に対応して適宜選択され、通常、プラズマディスプレイパネルからなる画像形成装置から放射される特定波長域の放射線等を遮蔽するフィルタ機能を有した層や、光学機能を付与された層や、保護機能等のその他の機能を付与された層が用いられる。より具体的には、フィルタ機能を有した層としては、ネオン光を吸収する機能を有した層、紫外線(UV)を吸収する機能を有した層、可視光線中の特定波長域の中に吸収スペクトルを持つ着色フィルタ機能を有した層等が挙げられる。また、光学機能を有した層としては、ストライプ状に配列された遮光部とその間の光透過部からなるミクロルーバー層(コントラスト向上層)、弗化マグネシウム、中空シリカ粒子添加した弗素樹脂等の低屈折率材料層からなる反射防止層、シリカ粒子を添加したアクリル系樹脂塗膜等からなる防眩層等が挙げられ、保護機能等を有した層としては、ハードコート層、耐衝撃層、防汚染層、帯電防止層等が挙げられる。
FIG. 2 shows the transparent conductive member 10 in the form of a composite filter (laminated body) including various functional layers 70.
The arbitrary functional layer 70 included in the composite filter is appropriately selected according to the image forming apparatus, and usually has a filter function for shielding radiation in a specific wavelength range emitted from the image forming apparatus including a plasma display panel. In other words, a layer provided with an optical function or a layer provided with other functions such as a protective function is used. More specifically, the layer having a filter function includes a layer having a function of absorbing neon light, a layer having a function of absorbing ultraviolet light (UV), and absorption in a specific wavelength range in visible light. Examples thereof include a layer having a color filter function having a spectrum. In addition, the layer having an optical function includes a low-strength layer such as a microlouver layer (contrast improving layer) composed of light-shielding portions arranged in stripes and a light-transmitting portion therebetween, magnesium fluoride, and a fluorine resin added with hollow silica particles. Examples thereof include an antireflection layer composed of a refractive index material layer, an antiglare layer composed of an acrylic resin coating to which silica particles are added, and the like. A contamination layer, an antistatic layer, etc. are mentioned.

図2の、本発明の透明導電部材(複合フィルタ)10は、帯電防止層50を兼ねたハードコート層を最外層に備える。
なお、複合フィルタに含まれる各層は、接着剤層60を用いて、互いに接合されていてもよく、この接着剤に、ネオン光を吸収する機能、紫外線(UV)を吸収する機能等の種々の機能の一以上を付与するようにしてもよい。
The transparent conductive member (composite filter) 10 of FIG. 2 according to the present invention includes a hard coat layer that also serves as the antistatic layer 50 as an outermost layer.
Each layer included in the composite filter may be bonded to each other by using an adhesive layer 60, and the adhesive has various functions such as a function of absorbing neon light and a function of absorbing ultraviolet light (UV). One or more functions may be added.

次に、本発明で用いる帯電防止層50について詳述する。
本発明で用いる帯電防止層50は、少なくとも五酸化アンチモン粒子から構成される導電粒子52及びウレタン樹脂からなる樹脂バインダー54含み、五酸化アンチモン粒子が該帯電防止層中に図15の如く粗密構造を有する形で分散して存在するものである。
Next, the antistatic layer 50 used in the present invention will be described in detail.
The antistatic layer 50 used in the present invention includes at least conductive particles 52 made of antimony pentoxide particles and a resin binder 54 made of urethane resin, and the antimony pentoxide particles have a dense structure as shown in FIG. It exists in a dispersed form.

使用する五酸化アンチモンは、特に限定されないが、パイロクロア型構造を有するものが、導電性が高く、少量の添加で帯電防止性能を好適に付与し得るので好ましい。
上記五酸化アンチモンの形状は特に限定されず、棒状、針状、柱状、円柱状、真球状又は不定形等のものを挙げることができる。
The antimony pentoxide to be used is not particularly limited, but those having a pyrochlore type structure are preferable since they have high conductivity and can impart antistatic performance suitably with a small amount of addition.
The shape of the antimony pentoxide is not particularly limited, and examples thereof include rods, needles, columns, columns, true spheres, and irregular shapes.

上記五酸化アンチモン粒子の平均一次粒径は、10〜100nmであることが好ましい。10nm未満であると、上記三次元網目構造を形成できないおそれがある。100nmを超えると、適度な凝集を起こさず、上記三次元網目構造を形成できなかったり、凝集塊が大きくなってヘイズが高くなるおそれがある。上記平均一次粒径は、30〜70nmであることがより好ましい。
なお、上記平均一次粒径は、ヘテロダイン法により測定して得られた値である。
The average primary particle size of the antimony pentoxide particles is preferably 10 to 100 nm. If it is less than 10 nm, the three-dimensional network structure may not be formed. When it exceeds 100 nm, there is a possibility that moderate aggregation does not occur and the above three-dimensional network structure cannot be formed, or the aggregates become large and haze increases. The average primary particle size is more preferably 30 to 70 nm.
The average primary particle size is a value obtained by measurement by the heterodyne method.

上記五酸化アンチモン粒子は、凝集していてもよいが、その凝集塊の粒径は、光の波長より小さいことが好ましい。すなわち、五酸化アンチモン粒子の凝集塊の平均粒径は、380nm未満であることが好ましく、より好ましくは、50〜250nmである。
上記凝集塊の平均粒径は、SEM(走査型電子顯微鏡)による断面分析の方法により測定して得られた値である。
The antimony pentoxide particles may be aggregated, but the particle size of the aggregate is preferably smaller than the wavelength of light. That is, the average particle diameter of the aggregate of antimony pentoxide particles is preferably less than 380 nm, and more preferably 50 to 250 nm.
The average particle size of the agglomerates is a value obtained by measurement by a cross-sectional analysis method using SEM (scanning electron microscope).

上記五酸化アンチモン粒子の含有量は、帯電防止層中15〜70質量%であることが好ましい。15質量%未満であると、三次元網目構造を構成せず、帯電防止性能が不十分となるおそれがある。70質量%を超えると、ヘイズが高くなったり、基材への帯電防止層の密着性が低下するおそれがある。上記五酸化アンチモン粒子の含有量は、帯電防止層中20〜50質量%であることがより好ましい。   The content of the antimony pentoxide particles is preferably 15 to 70% by mass in the antistatic layer. If it is less than 15% by mass, a three-dimensional network structure is not formed, and the antistatic performance may be insufficient. When it exceeds 70 mass%, there exists a possibility that a haze may become high or the adhesiveness of the antistatic layer to a base material may fall. The content of the antimony pentoxide particles is more preferably 20 to 50% by mass in the antistatic layer.

上記ウレタン樹脂としては、特に限定されず、多価アルコールと有機ポリイソシアネートとの反応によって得られる公知のものを挙げることができる。
上記多価アルコールとしては、例えば、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−[ヒドロキシメチル]−シクロヘキサン等;上記多価アルコールと多塩基酸(例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等)との反応によって得られるポリエステルポリオール;上記多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるポリカプロラクトンポリオール;ポリカーボネートポリオール(例えば、1,6−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等);及び、ポリエーテルポリオールを挙げることができる。上記ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA等を挙げることができる。
It does not specifically limit as said urethane resin, The well-known thing obtained by reaction of a polyhydric alcohol and organic polyisocyanate can be mentioned.
Examples of the polyhydric alcohol include neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, trimethylolpropane, and pentaerythritol. , Tricyclodecane dimethylol, bis- [hydroxymethyl] -cyclohexane, etc .; the above polyhydric alcohols and polybasic acids (for example, succinic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic anhydride, terephthalic acid, adipic acid, azelaic acid, tetrahydroanhydride) Polyester polyol obtained by reaction with phthalic acid, etc .; polycaprolactone polyol obtained by reaction of the polyhydric alcohol and ε-caprolactone; polycarbonate polyol (for example, 1,6-hexanediol and the like) Polycarbonate diols obtained by the reaction of phenyl carbonate); and, may be mentioned polyether polyols. Examples of the polyether polyol include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and ethylene oxide-modified bisphenol A.

上記有機ポリイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルイソシアネート等のイソシアネート化合物、これらイソシアネート化合物の付加体、或いはこれらイソシアネートの多量体等が挙げられる。   Examples of the organic polyisocyanate include isocyanate compounds such as isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, dicyclopentanyl isocyanate, adducts of these isocyanate compounds, or these Examples include isocyanate multimers.

なかでも、上記ウレタン樹脂は、上記多価アルコール及び有機ポリイソシアネートと、ヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物との反応によって得られるウレタン(メタ)アクリレートの硬化物が好ましい。なお、本明細書では、(メタ)アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートを表す。   Among these, the urethane resin is preferably a cured product of urethane (meth) acrylate obtained by reaction of the polyhydric alcohol and organic polyisocyanate with a hydroxy (meth) acrylate compound. In the present specification, (meth) acrylate represents acrylate and methacrylate.

上記ヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジメチロールシクロヘキシルモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン(メタ)アクリレート等が挙げられる。
なかでも、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートであることが硬度の面から好ましい。
Examples of the hydroxy (meth) acrylate compound include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, dimethylol cyclohexyl mono (meth) acrylate, hydroxycaprolactone (meth) acrylate, and the like.
Of these, pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are preferable from the viewpoint of hardness.

上記ウレタン(メタ)アクリレートは、重量平均分子量が、1000以上10000未満であることが好ましい。1000未満であると、五酸化アンチモンによる三次元網目構造が構成できず、帯電防止性能が不充分となるおそれがある。10000以上であると、五酸化アンチモンの凝集が進むために、ヘイズの悪化、光透過率低下が起こってしまうおそれがある。基材との密着性が悪化する恐れもある。上記重量平均分子量は、1000以上7000以下であることがより好ましい。
なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法(ポリスチレン換算)により得られる値である。
The urethane (meth) acrylate preferably has a weight average molecular weight of 1,000 or more and less than 10,000. If it is less than 1000, a three-dimensional network structure composed of antimony pentoxide cannot be formed, and the antistatic performance may be insufficient. If it is 10,000 or more, the aggregation of antimony pentoxide proceeds, which may cause haze deterioration and light transmittance reduction. There is also a possibility that the adhesiveness with the substrate is deteriorated. The weight average molecular weight is more preferably 1000 or more and 7000 or less.
The weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) method (polystyrene conversion).

上記ウレタン(メタ)アクリレートは、6官能以上であることが好ましい。上記ウレタン(メタ)アクリレートが6官能未満であると、ハードコート層としたときの硬度が弱くなるおそれがある。
上記ウレタン(メタ)アクリレートは、6〜15官能であることがより好ましい。
The urethane (meth) acrylate is preferably 6 or more functional. If the urethane (meth) acrylate is less than 6 functional groups, the hardness of the hard coat layer may be reduced.
The urethane (meth) acrylate is more preferably 6-15 functional.

上記ウレタン樹脂として、市販品を用いてもよい。本発明において上記ウレタン樹脂として使用できる市販品としては、例えば、日本合成化学工業社製:UV1700B(重量平均分子量2000、10官能)、UV7600B(重量平均分子量1500、6官能)、日本化薬社製:DPHA40H(重量平均分子量7000、10官能)、UX5003(重量平均分子量700、6官能)、根上工業社製:UN3320HS(重量平均分子量5000、15官能)、UN904(重量平均分子量4900、15官能)、UN3320HC(重量平均分子量1500、10官能)、UN3320HA(重量平均分子量1500、6官能)、荒川化学工業社製:BS577(重量平均分子量1000、6官能)、及び、新中村化学工業社製:U15HA(重量平均分子量2000、15官能)等を挙げることができる。
なかでも、帯電防止性能、硬度、基材との密着に優れる点から、UV1700B、DPHA40H、UV7600B、BS577、BS577CP、UX5000が好ましい。
さらに、耐久試験後の基材との密着性能の面から、UV1700B、DPHA40Hがより好ましい。
A commercially available product may be used as the urethane resin. Examples of commercially available products that can be used as the urethane resin in the present invention include those manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry: UV1700B (weight average molecular weight 2000, 10 functional), UV7600B (weight average molecular weight 1500, 6 functional), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. : DPHA40H (weight average molecular weight 7000, 10 functional), UX5003 (weight average molecular weight 700, 6 functional), manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd .: UN3320HS (weight average molecular weight 5000, 15 functional), UN904 (weight average molecular weight 4900, 15 functional), UN3320HC (weight average molecular weight 1500, 10 functional), UN3320HA (weight average molecular weight 1500, hexafunctional), manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd .: BS577 (weight average molecular weight 1000, hexafunctional), and Shin Nakamura Chemical Industries, Ltd .: U15HA ( Weight average molecular weight 2000, 15 functional) etc. Can be mentioned.
Among these, UV1700B, DPHA40H, UV7600B, BS577, BS577CP, and UX5000 are preferable from the viewpoint of excellent antistatic performance, hardness, and adhesion to the substrate.
Furthermore, UV1700B and DPHA40H are more preferable in terms of adhesion performance with the base material after the durability test.

上記ウレタン樹脂の含有量は、帯電防止層の樹脂成分中30〜70質量%であることが好ましい。30質量%未満であると、五酸化アンチモンの割合が高くなり、全光線透過率が下がるおそれがある。また、基材との密着性が悪化するおそれがある。特に、耐久試験後の基材との密着性が悪化してしまうことがある。また、低屈折率層を更に積層した場合、低屈折率層との密着性が悪化するおそれがある。70質量%を超えると、五酸化アンチモンが上述の三次元構造をとらず、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となるおそれがある。
上記ウレタン樹脂の含有量は、帯電防止層の樹脂成分中30〜50質量%であることがより好ましい。
It is preferable that content of the said urethane resin is 30-70 mass% in the resin component of an antistatic layer. If it is less than 30% by mass, the proportion of antimony pentoxide increases, and the total light transmittance may decrease. Moreover, there exists a possibility that adhesiveness with a base material may deteriorate. In particular, the adhesion with the substrate after the durability test may be deteriorated. Further, when a low refractive index layer is further laminated, the adhesion with the low refractive index layer may be deteriorated. If it exceeds 70% by mass, antimony pentoxide does not take the above-mentioned three-dimensional structure, and the antistatic performance of the optical laminate of the present invention may be insufficient.
As for content of the said urethane resin, it is more preferable that it is 30-50 mass% in the resin component of an antistatic layer.

上記帯電防止層はまた、上記ウレタン樹脂以外の樹脂を更に含んでいてもよい。
上記ウレタン樹脂以外の樹脂としては、例えば、紫外線もしくは電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
The antistatic layer may further contain a resin other than the urethane resin.
Examples of resins other than the urethane resin include, for example, ionizing radiation curable resins that are resins that are cured by ultraviolet rays or electron beams, ionizing radiation curable resins, and solvent-drying resins (such as thermoplastic resins). For example, it is possible to use a mixture with a resin that becomes a film only by drying the added solvent, or a thermosetting resin. More preferred is an ionizing radiation curable resin. In the present specification, “resin” is a concept including resin components such as monomers and oligomers.

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の1又は2以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等を挙げることができる。2以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の多官能化合物、及び、上記多官能化合物と(メタ)アクリレート等との反応生成物(例えば、多価アルコールのポリ(メタ)アクリレートエステル)、等を挙げることができる。なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。   Examples of the ionizing radiation curable resin include compounds having one or more unsaturated bonds such as compounds having an acrylate functional group. Examples of the compound having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like. Examples of the compound having two or more unsaturated bonds include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( Polyfunctional compounds such as (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentylglycol di (meth) acrylate, and the above polyfunctional compound and (meth) acrylate And the like (for example, poly (meth) acrylate esters of polyhydric alcohols) and the like. In the present specification, “(meth) acrylate” refers to methacrylate and acrylate.

また、上記電離放射線硬化型樹脂として、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。   Examples of the ionizing radiation curable resin include relatively low molecular weight polyester resins having unsaturated double bonds, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, and polythiol polyene resins. Can be used.

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。   The ionizing radiation curable resin can be used in combination with a solvent-drying resin. By using the solvent-drying resin in combination, it is possible to effectively prevent coating defects on the coated surface, thereby obtaining a more excellent glossy blackness. The solvent-drying resin that can be used in combination with the ionizing radiation curable resin is not particularly limited, and a thermoplastic resin can be generally used.

上記熱可塑性樹脂としては、特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶剤(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤)に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性に優れるという観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。   The thermoplastic resin is not particularly limited. For example, styrene resin, (meth) acrylic resin, vinyl acetate resin, vinyl ether resin, halogen-containing resin, alicyclic olefin resin, polycarbonate resin, polyester Resin, polyamide resin, cellulose derivative, silicone resin and rubber or elastomer. The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (particularly a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) are preferable from the viewpoint of excellent film forming properties, transparency and weather resistance. .

上記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。   Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon resin, polysiloxane resin, etc. Can be mentioned.

バインダー樹脂として含有し得る上記ウレタン樹脂以外の樹脂としては、耐擦傷性、耐溶剤性に優れ、かつ、強靭な硬化塗膜を形成し得るようにできる点で、具体的には、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、(エトキシ化)ビスフェノールAジアクリレート、(プロポキシ化)ビスフェノールAジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、(ポリ)エチレングリコールジアクリレート、(エトキシ化)1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、(プロポキシ化)1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、(エトキシ化)ネオペンチルグリコールジアクリレート、(プロポキシ化)ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート等の多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物;ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート、ポリエステルポリ(メタ)アクリレート、ポリエーテルポリ(メタ)アクリレート、ポリアクリルポリ(メタ)アクリレート、ポリアルキッドポリ(メタ)アクリレート、ポリエポキシポリ(メタ)アクリレート、ポリスピロアセタールポリ(メタ)アクリレート、ポリブタジエンポリ(メタ)アクリレート、ポリチオールポリエンポリ(メタ)アクリレート、ポリシリコンポリ(メタ)アクリレート等の多官能のポリ(メタ)アクリレート化合物が好ましい。なかでも、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、及び、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種の硬化物を更に含有することがより好ましい。   Specific examples of the resin other than the urethane resin that can be contained as the binder resin include dimethylol triacrylate because it is excellent in scratch resistance and solvent resistance and can form a tough cured coating film. Cyclodecane diacrylate, (ethoxylated) bisphenol A diacrylate, (propoxylated) bisphenol A diacrylate, cyclohexane dimethanol diacrylate, (poly) ethylene glycol diacrylate, (ethoxylated) 1,6-hexanediol diacrylate, (Propoxylated) 1,6-hexanediol diacrylate, (ethoxylated) neopentyl glycol diacrylate, (propoxylated) neopentyl glycol diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, pentaerythrito Rutri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acrylic) Roxyethyl) isocyanurate, caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meta) ) Acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol Polyhydric alcohols such as tetra (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetra (meth) acrylate, and (meth) acrylic Ester compound with acid; polyurethane poly (meth) acrylate, polyester poly (meth) acrylate, polyether poly (meth) acrylate, polyacryl poly (meth) acrylate, polyalkyd poly (meth) acrylate, polyepoxy poly (meth) Acrylate, polyspiroacetal poly (meth) acrylate, polybutadiene poly (meth) acrylate, polythiol polyene poly (meth) acrylate, polysilicon poly (meth) acrylate Polyfunctional (poly) acrylate compounds such as Among them, the hard coat layer is selected from the group consisting of pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth) acrylate. It is more preferable to further contain at least one kind of cured product.

上記ウレタン樹脂以外の樹脂の含有量は、帯電防止層中20〜50質量%であることが好ましい。20質量%未満であると、膜質が弱く、傷が入りやすくなるおそれがある。また、基材との密着性が悪化するおそれがある。50質量%を超えると、帯電防止性能が発揮されなくなるおそれがある。また、帯電防止層の上に、別の層を積層する際、層間の密着性が悪化してしまうおそれがある。
上記ウレタン樹脂以外の樹脂の含有量は、帯電防止層中30〜40質量%であることがより好ましい。また、上記帯電防止層中の樹脂成分の総含有量は、30〜85質量%であることが好ましい。
The content of the resin other than the urethane resin is preferably 20 to 50% by mass in the antistatic layer. If it is less than 20% by mass, the film quality is weak, and there is a risk that scratches are likely to occur. Moreover, there exists a possibility that adhesiveness with a base material may deteriorate. If it exceeds 50% by mass, the antistatic performance may not be exhibited. Further, when another layer is laminated on the antistatic layer, the adhesion between the layers may be deteriorated.
The content of the resin other than the urethane resin is more preferably 30 to 40% by mass in the antistatic layer. The total content of the resin components in the antistatic layer is preferably 30 to 85% by mass.

上記帯電防止層は、上述した五酸化アンチモン、ウレタン樹脂及びウレタン樹脂以外の樹脂の他に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、紫外線吸収剤、衝撃吸収剤、粘度調整剤、有機系帯電防止剤、無機系帯電防止剤、高屈折率剤等を挙げることができる。   The antistatic layer may contain other components as necessary in addition to the above-described antimony pentoxide, a urethane resin, and a resin other than the urethane resin. Other components include photopolymerization initiators, leveling agents, crosslinking agents, curing agents, polymerization accelerators, ultraviolet absorbers, shock absorbers, viscosity modifiers, organic antistatic agents, inorganic antistatic agents, high A refractive index agent etc. can be mentioned.

上記帯電防止層は、層厚みが0.5〜8μmであることが好ましい。0.5μm未満であると、鉛筆硬度や耐スクラッチ性が悪くなったり、干渉縞が発生するおそれがある。また、単位面積当たりの粒子総量が少なくなるため、帯電防止性が悪化してしまうおそれがある。8μmを超えると、ヘイズが高く、全光線透過率が低くなるおそれがある。
上記層厚みは、1〜6μmであることがより好ましい。
The antistatic layer preferably has a layer thickness of 0.5 to 8 μm. If it is less than 0.5 μm, the pencil hardness and scratch resistance may deteriorate, and interference fringes may occur. In addition, since the total amount of particles per unit area is reduced, the antistatic property may be deteriorated. If it exceeds 8 μm, the haze is high and the total light transmittance may be low.
The layer thickness is more preferably 1 to 6 μm.

上記帯電防止層は、上記五酸化アンチモン粒子、ウレタン樹脂、及び、必要に応じてウレタン樹脂以外の樹脂と他の成分とを溶剤に混合して分散して調製したハードコート層用組成物を用いて形成することができる。   The antistatic layer uses a hard coat layer composition prepared by mixing and dispersing the antimony pentoxide particles, the urethane resin, and, if necessary, a resin other than the urethane resin and other components in a solvent. Can be formed.

上記溶剤としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、ベンジルアルコール、PGME、エチレングリコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン)、エーテルアルコール(例、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、2−〔2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ〕エタノール(TGME))等を挙げることができる。
なかでも、上記溶剤としては、五酸化アンチモン粒子の分散性がよい点で、エーテルアルコールであることが好ましい。
Examples of the solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME, ethylene glycol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl). Isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, heptanone, diisobutyl ketone, diethyl ketone), aliphatic hydrocarbon (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbon (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic carbonization Hydrogen (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran) , And ether alcohol (e.g., propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), 2- [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] ethanol (TGME)) and the like.
Among these, the solvent is preferably ether alcohol in terms of good dispersibility of the antimony pentoxide particles.

上記混合分散する方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いることができ、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。   The method for mixing and dispersing is not particularly limited, and a known method can be used. It is preferable to use a known device such as a paint shaker, a bead mill, or a kneader.

上記帯電防止層は、上記ハードコート層用組成物を、後述する透明基材上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて該塗膜を乾燥させた後に、硬化させることにより形成することができる。
上記塗布の方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の公知の各種方法を挙げることができる。
上記乾燥の方法としては、50〜100℃で15〜120秒行うのが好ましい。
The antistatic layer is formed by applying the hard coat layer composition onto a transparent substrate to be described later to form a coating film, and drying the coating film as necessary, followed by curing. be able to.
Examples of the coating method include various known methods such as spin coating, dipping, spraying, die coating, bar coating, roll coater, meniscus coater, flexographic printing, screen printing, and bead coater. A method can be mentioned.
The drying method is preferably performed at 50 to 100 ° C. for 15 to 120 seconds.

上記塗膜を硬化させる方法は、上記組成物の内容等に応じて適宜選択すればよい。例えば、上記組成物が紫外線硬化型のものであれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させればよい。   What is necessary is just to select suitably the method of hardening the said coating film according to the content etc. of the said composition. For example, if the composition is of an ultraviolet curable type, it may be cured by irradiating the coating film with ultraviolet rays.

本発明に用いる帯電防止層は、上述したように、五酸化アンチモン粒子及びウレタン樹脂を含む特定の成分からなり、五酸化アンチモン粒子は帯電防止層中に粗密構造を有する形で分散しているため、帯電防止性能及び光学特性に優れた帯電防止層とすることができる。また、このようにして得られた帯電防止層層は、屈折率が比較的低いものとなるため、ハードコート層として用いた場合、該ハードコート層上に低屈折率層を設けると、干渉縞が発生しにくいハードコート積層体とすることができる。   As described above, the antistatic layer used in the present invention is composed of specific components including antimony pentoxide particles and urethane resin, and the antimony pentoxide particles are dispersed in the antistatic layer in a form having a dense structure. Thus, an antistatic layer having excellent antistatic performance and optical properties can be obtained. Further, since the antistatic layer obtained in this way has a relatively low refractive index, when used as a hard coat layer, if a low refractive index layer is provided on the hard coat layer, interference fringes are formed. It can be set as the hard-coat laminated body which is hard to generate | occur | produce.

次に、透明電極20についてさらに詳述する。
図1(A)に示すように、本実施の形態において、透明電極20は、シート状の透明基材30と、透明基材30上に設けられた導電性メッシュ40と、を有している。
Next, the transparent electrode 20 will be further described in detail.
As shown in FIG. 1A, in the present embodiment, the transparent electrode 20 has a sheet-like transparent base material 30 and a conductive mesh 40 provided on the transparent base material 30. .

透明基材30は、導電性メッシュ40を支持する層であり、適度な強度および適度な透明性を有するように、適宜構成される。一例として、透明基材30の厚さを20μm〜150μmとすることができ、また、透明基材30の光透過率が80%以上となるようにしてもよい。このような透明基材30として、例えば、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いることができる。二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムは、適度な透明性と、紫外線照射処理や加熱処理等に対する耐久性と、を有している点で、透明基材30としての適用に好適である。他の一例として、透明基材30の厚さは500μm〜10000μm(1cm)とすることができる。このような透明材料として、例えば、ソーダ硝子、カリ硝子等の硝子、PLZT等の透明セラミックス、石英の板を用いることができる。   The transparent substrate 30 is a layer that supports the conductive mesh 40 and is appropriately configured so as to have appropriate strength and appropriate transparency. As an example, the thickness of the transparent base material 30 can be 20 μm to 150 μm, and the light transmittance of the transparent base material 30 may be 80% or more. As such a transparent substrate 30, for example, a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film can be used. The biaxially stretched polyethylene terephthalate film is suitable for application as the transparent substrate 30 in that it has appropriate transparency and durability against ultraviolet irradiation treatment, heat treatment, and the like. As another example, the thickness of the transparent substrate 30 can be 500 μm to 10000 μm (1 cm). As such a transparent material, for example, glass such as soda glass and potash glass, transparent ceramics such as PLZT, and a quartz plate can be used.

図3および図4に示されているように、透明電極用の導電性メッシュは、多数の開口領域42を画成する網状に形成されたライン部44として形成されている。導電性メッシュ40をなすライン部44は、透明導電部材を電磁波遮蔽材として用いる場合は、図示しない位置(通常、周縁部)において、接地され、これにより、画像形成装置の出光面と重なる位置に配置された導電性メッシュ40が、画像形成装置からの電磁波を遮蔽するようになる。また、EL画像表示裝置の透明電極又は補助電極として用いる場合は、図示しない位置において、駆動用信号、画像信号、或いは電源等と電気的に接続される。
また、透明導電部材10は、その用途、使用形態に応じて、設計諸元は異なってくる。
As shown in FIGS. 3 and 4, the conductive mesh for the transparent electrode is formed as a line portion 44 formed in a net shape that defines a large number of opening regions 42. When the transparent conductive member is used as an electromagnetic wave shielding material, the line portion 44 forming the conductive mesh 40 is grounded at a position (usually a peripheral portion) (not shown), thereby overlapping the light output surface of the image forming apparatus. The arranged conductive mesh 40 shields electromagnetic waves from the image forming apparatus. Further, when used as a transparent electrode or auxiliary electrode of an EL image display device, it is electrically connected to a driving signal, an image signal, a power source or the like at a position not shown.
In addition, the design specifications of the transparent conductive member 10 vary depending on the application and usage.

透明導電部材10を電磁波遮蔽部材として用いる場合においては、透明電極20に十分な電磁波遮蔽機能を付与するため、一つあたりの開口領域42の大きさは、導電体からなる開口領域42を奥行きの短い導波管と近似した場合の、その遮断周波数FCUTが当該透明電極20(導電性メッシュ40)の遮蔽すべき電磁波帯域の最大周波数FMAX以上、即ち、
CUT≧FMAX
となるように設定する。まず簡単のために、各開口領域42の形状を1辺の長さがAの正方形(矩形)と近似すると、
CUT=C/(2A)
となる。但しここでは、導波管中を進行し得る各種モードのうちで最小周波数の基本モードを想定して算出している。従って、
CUT=C/(2A)≧FMAX
の関係が成り立ち、さらには、
C/(2FMAX)≧A
となる。ここで式中におけるCは、光速度(約3.0×10+8m/s2)である。
When the transparent conductive member 10 is used as an electromagnetic wave shielding member, in order to give the transparent electrode 20 a sufficient electromagnetic wave shielding function, the size of the opening area 42 per one is set so that the opening area 42 made of a conductor is not deep. The cutoff frequency F CUT when approximated to a short waveguide is greater than or equal to the maximum frequency F MAX of the electromagnetic wave band to be shielded by the transparent electrode 20 (conductive mesh 40), that is,
F CUT ≧ F MAX
Set to be. First, for the sake of simplicity, when the shape of each open region 42 is approximated to a square (rectangle) having a side length of A,
F CUT = C / (2A)
It becomes. However, in this case, the calculation is performed assuming a fundamental mode having a minimum frequency among various modes that can travel in the waveguide. Therefore,
F CUT = C / (2A) ≧ F MAX
The relationship of
C / (2F MAX ) ≧ A
It becomes. Here, C in the formula is the speed of light (about 3.0 × 10 +8 m / s 2 ).

ここで説明する導電性メッシュ40においては、現実の個々の開口領域42の形状は正方形ではなく各種各様ではあるが、近似的には、導電性メッシュ40における開口領域42の面積の平均値を同面積の矩形導波管の1辺の長さAAVG(以下、これを開口領域42の大きさと呼称する)と見なすことができる。但し、全開口領域において確実にFMAX以下の周波数の電磁波を遮蔽するためには、AMIN〜AMAXの範囲に分布する個々のA(各開口領域と同面積の正方形の一辺長さと見做す)の最大値AMAXについて、C/(2FMAX)を満たすように設計すべきであるため、結局、
C/(2FMAX)≧AMAX
とすることによって、遮蔽すべき電磁波帯域の最大周波数FMAXが決まれば、開口領域42の大きさの最大値AMAXが決まる。FMAX=100GHzとすれば、AMAX≦1.5mmとなり、多少の余裕を見込んで、AMAX≦1.0mmと設計すればよい。なお、画像光の透過率(画面の明るさ)の確保(ある程度以上の開口面積率が必要)及び微細加工の難易度を考慮すると、最低でも、AMIN≧0.1mm程度は必要である。以上のことから、透明電極20を画像表示装置の画像形成面上へ配置して用いることを想定すると、開口領域42の外接円直径の平均値Aを、0.1mm≦AMIN≦AMAX≦1mm、或いはμm単位で、100μm≦AMIN≦AMAX≦1000μmとすればよい。また、このAMIN及びAMAXの値を開口領域42の(単位開口)面積の値に置き換えると、開口領域の平均面積は、0.01mm2以上1mm2以下の範囲であることが好ましい。
In the conductive mesh 40 described here, the actual shape of the individual opening regions 42 is not square but various, but approximately, the average value of the area of the opening regions 42 in the conductive mesh 40 is calculated as follows. It can be regarded as the length A AVG of one side of the rectangular waveguide having the same area (hereinafter referred to as the size of the opening region 42). However, in order to reliably shield electromagnetic waves having a frequency equal to or lower than F MAX in the entire open area, each A distributed in the range of A MIN to A MAX (the length of one side of the square having the same area as each open area is considered. since the maximum value a MAX of be) should be designed so as to satisfy the C / (2F MAX), after all,
C / (2F MAX ) ≧ A MAX
Thus, if the maximum frequency F MAX of the electromagnetic wave band to be shielded is determined, the maximum value A MAX of the size of the opening region 42 is determined. If F MAX = 100 GHz, A MAX ≦ 1.5 mm, and A MAX ≦ 1.0 mm may be designed with some allowance. In view of securing the transmittance of image light (brightness of the screen) (an aperture area ratio of a certain level or more) and the difficulty of fine processing, A MIN ≧ 0.1 mm is required at the minimum. From the above, assuming that the transparent electrode 20 is arranged and used on the image forming surface of the image display device, the average value A of the circumscribed circle diameter of the opening region 42 is 0.1 mm ≦ A MIN ≦ A MAX ≦ 100 μm ≦ A MIN ≦ A MAX ≦ 1000 μm may be set in units of 1 mm or μm. When the values of A MIN and A MAX are replaced with the value of the (unit opening) area of the opening region 42, the average area of the opening region is preferably in the range of 0.01 mm 2 to 1 mm 2 .

加えて、透明電極20に十分な電磁波遮蔽機能を付与するためには、導電性メッシュ40の面抵抗を低くする必要もある。同時に、導電性メッシュ40は、画像形成装置の画像形成面(出光面)上に位置するため、高い可視光透過率を有している必要もある。そこで、一つあたりの開口領域42の面積を調整しながら、併せて導電性メッシュ40をなすライン部44の幅を調節することにより、導電性メッシュ40の面抵抗を低く保ちながら高い可視光透過率を確保することも可能となる。具体的には、一つあたりの開口領域42の面積を上述した範囲に調節しながら、画像形成装置(画像表示パネル)の画像形成面上において多数の開口領域42が占めている領域の総割合(以下において「開口率」とも呼ぶ)が50%以上95%以下となるように、ライン部44の線幅を設定することが好ましい。具体的な線幅としては、1μm〜100μm程度、好ましくは5μm〜50μmの範囲で選定することができる。   In addition, in order to provide the transparent electrode 20 with a sufficient electromagnetic wave shielding function, it is necessary to reduce the sheet resistance of the conductive mesh 40. At the same time, since the conductive mesh 40 is located on the image forming surface (light exit surface) of the image forming apparatus, it is also necessary to have a high visible light transmittance. Therefore, by adjusting the width of the line portion 44 that forms the conductive mesh 40 while adjusting the area of each opening region 42, high visible light transmission can be achieved while keeping the surface resistance of the conductive mesh 40 low. It is also possible to secure the rate. Specifically, the total ratio of the areas occupied by the large number of opening areas 42 on the image forming surface of the image forming apparatus (image display panel) while adjusting the area of each opening area 42 to the above-described range. It is preferable to set the line width of the line portion 44 so that (hereinafter referred to as “aperture ratio”) is 50% or more and 95% or less. The specific line width can be selected in the range of about 1 μm to 100 μm, preferably 5 μm to 50 μm.

開口領域42の大きさの平均値AAVGと画像表示装置の画素Pとの関係についても、各様の設計が可能である。導電メッシュの濃淡ムラを特に軽減することを求める場合は、開口領域42の大きさの平均値AAVGを画像表示装置の画素Pの縦横の寸法のうちの小さい方の寸法TMIN(画素が正方形ならば、何れか1辺の寸法)よりも小さく設定し、
AVG<TMIN
とすることが好ましい。通常、AAVG=0.1×TMIN〜0.7×TMINの範囲とすることができる。また、画面の明るさ(可視光線透過率)及びライン部44の不可視性を特に求める場合は、開口領域42の大きさの平均値Aを画像表示装置の画素Pの縦横の寸法のうちの大きい方の寸法TMAX(画素が正方形ならば、何れか1辺の寸法)以上に設定し、
AVG≧TMIN
とすることが好ましい。通常、AAVG=1.3×TMIN〜2.0×TMINの範囲とすることができる。
Various designs are possible for the relationship between the average value A AVG of the size of the opening area 42 and the pixel P of the image display device. When it is desired to particularly reduce unevenness in the density of the conductive mesh, the average value A AVG of the size of the opening region 42 is set to the smaller one of the vertical and horizontal dimensions of the pixel P of the image display device T MIN If so, set it to be smaller than the dimension of any one side)
A AVG <T MIN
It is preferable that Usually, A AVG can be in the range of 0.1 × T MIN to 0.7 × T MIN . Further, when particularly obtaining the brightness (visible light transmittance) of the screen and the invisibility of the line portion 44, the average value A of the size of the opening region 42 is the larger of the vertical and horizontal dimensions of the pixel P of the image display device. Set to the dimension T MAX (or the dimension of one side if the pixel is square),
A AVG ≧ T MIN
It is preferable that Usually, A AVG = 1.3 × T MIN to 2.0 × T MIN can be set.

以上のような導電性メッシュ40は、例えば次の(1)〜(3)等の従来既知の方法によって、透明基材30上に形成することができる。
(1)透明基材30上に銅、アルミニウム等の導電性金属箔を積層し、この箔を所望のパターン状にエッチングする方法。
(2)導電性インキ(例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等の樹脂バインダー中に銀、銅、ニッケル等の導電性金属粒子を分散させた導電性インキ)を透明基材30上に所望のパターンで印刷する方法。必要に応じて、導電性をより向上させる為、更に該導電性インキのパターン表面に、銅、銀、金、ニッケル等の高導電率金屬の薄膜をメッキ法等により形成してもよい。
(3)パラジウムコロイド粒子等の無電解メッキ触媒を樹脂バインダー中に含有するインキで透明基材30上に所望のパターンで印刷し、該印刷パターン表面に無電解メッキ法にて銅、銀、金、ニッケル等の高導電率金屬の薄膜を形成する。
なお、これらの方法で形成した導電メッシュ40の表面は金属光沢を有する。そのため、導電メッシュ40の観察者側表面に光吸収性の物質からなる黒化層を形成しておくことが好ましい。かかる黒化層の色調は黒が理想的であるが、その他、灰色、褐色、紺色、臙脂色、深緑色、暗紫色等の低明度の有彩色又は無彩色としてもよい。黒化層を構成する材料としては、公知の物の中から選択すればよく、例えば、カーボンブラック(墨)、黒色酸化鉄、酸化銅、微粒子状の銅―コバルト合金等が使用することができる。
The conductive mesh 40 as described above can be formed on the transparent substrate 30 by a conventionally known method such as the following (1) to (3).
(1) A method of laminating a conductive metal foil such as copper or aluminum on the transparent substrate 30 and etching the foil into a desired pattern.
(2) Conductive ink (for example, conductive ink in which conductive metal particles such as silver, copper and nickel are dispersed in a resin binder such as acrylic resin and polyester resin) is formed on the transparent substrate 30 in a desired pattern. How to print. If necessary, a thin film of high conductivity metal such as copper, silver, gold, or nickel may be further formed on the pattern surface of the conductive ink by plating or the like in order to further improve the conductivity.
(3) Printing in a desired pattern on the transparent substrate 30 with an ink containing an electroless plating catalyst such as palladium colloid particles in a resin binder, and copper, silver, gold on the surface of the printed pattern by an electroless plating method A thin film of high conductivity metal such as nickel is formed.
Note that the surface of the conductive mesh 40 formed by these methods has a metallic luster. Therefore, it is preferable to form a blackened layer made of a light-absorbing substance on the observer-side surface of the conductive mesh 40. The color tone of such a blackened layer is ideally black, but may be a chromatic or achromatic color with a low brightness such as gray, brown, amber, rosin, dark green, dark purple, etc. The material constituting the blackened layer may be selected from known materials. For example, carbon black (black), black iron oxide, copper oxide, particulate copper-cobalt alloy and the like can be used. .

次に、図3、図4および図5を主として参照しながら、シート状の透明電極20のシート面への法線方向から観察した場合における導電性メッシュ40のパターン(平面視パターン)について、説明する。   Next, a pattern (plan view pattern) of the conductive mesh 40 when observed from the normal direction to the sheet surface of the sheet-like transparent electrode 20 will be described with reference mainly to FIGS. To do.

図3、図4および図5に示すように、導電性メッシュ40のライン部44は、多数の分岐点46を含んでいる。そして、導電性メッシュ40のライン部44は、両端において分岐点46を形成する多数の境界線分48から構成されている。すなわち、導電性メッシュ40のライン部44は、二つの分岐点46の間を延びる多数の境界線分48から構成されている。そして、分岐点46において、境界線分48が接続されていくことにより、開口領域42が画成されている。言葉を換えて言うと、境界線分48で囲繞、区劃されて1つの開口領域42が画成されている。
なお、1つの分岐点46から分岐する境界線分の本数の平均値(平均分岐数)NAVGは、3≦NAVG<4とすることが、画像表示裝置の画素とのモアレ防止及び濃淡ムラの防止との両立性の点から、好ましい。特に、3<NAVG<4とすることがより好ましい。図3に図示した導電性メッシュ40について、合計387個の分岐点46について計測したところ、境界線分48が3本の分岐点Bが373個、境界線分48が4本の分岐点Bが14個であり(分岐する境界線分Lの数が5個以上の分岐点は0個)、分岐点46から出る境界線分48の平均分岐数は3.04本であった。
なお、平均分岐数NAVGは、厳密には、導電性メッシュ40内に含まれる全ての分岐点46について、延び出す境界線分48の数を調べてその平均値を算出する。ただし、実際的には、ライン部44によって画成された一つ当たりの開口領域42の大きさ等を考慮した上で、一つの分岐点46から延び出す境界線分48の数の全体的な傾向を反映し得ると期待される面積を持つ一区画(例えば、前述の寸法例で閉領域42が形成されている導電性メッシュにおいては、30mm×30mmの部分)に含まれる分岐点46について延び出す境界線分48の数の平均値を算出し、算出された値を当該導電性メッシュ40についての平均分岐数NAVGとして取り扱うようにしてもよい。
As shown in FIGS. 3, 4, and 5, the line portion 44 of the conductive mesh 40 includes a large number of branch points 46. The line portion 44 of the conductive mesh 40 is composed of a large number of boundary line segments 48 that form branch points 46 at both ends. That is, the line portion 44 of the conductive mesh 40 is composed of a large number of boundary line segments 48 extending between the two branch points 46. An opening region 42 is defined by connecting the boundary line segment 48 at the branch point 46. In other words, one opening region 42 is defined by being surrounded and divided by the boundary line segment 48.
It should be noted that the average value (average branch number) N AVG of the number of boundary lines branched from one branch point 46 is 3 ≦ N AVG <4. From the viewpoint of compatibility with the prevention of the above. In particular, 3 <N AVG <4 is more preferable. With respect to the conductive mesh 40 illustrated in FIG. 3, a total of 387 branch points 46 are measured. As a result, the boundary line segment 48 has three branch points B and the boundary line segment 48 has four branch points B. 14 (the number of branch points where the number of branch line segments L to be branched is 5 or more is 0), and the average number of branch lines 48 from the branch point 46 is 3.04.
Strictly speaking, the average branch number N AVG is calculated by checking the number of boundary line segments 48 that extend for all branch points 46 included in the conductive mesh 40. However, in actuality, the total number of boundary line segments 48 extending from one branch point 46 is considered in consideration of the size of the opening area 42 defined by the line portion 44 and the like. It extends about a branch point 46 included in a section having an area that can be expected to reflect a tendency (for example, in the conductive mesh in which the closed region 42 is formed in the above-described dimension example, a portion of 30 mm × 30 mm). An average value of the number of boundary line segments 48 to be output may be calculated, and the calculated value may be handled as the average branch number N AVG for the conductive mesh 40.

なお、図3、図4および図5に示すように、ライン部44が境界線分48のみから構成されているため、特許文献1の導電メッシュのように開口領域42の内部に延び入って行き止まりとなるライン部44は存在しない。これは、言葉を換えて言えば、断線し、電気回路として開いた回路は無く、全てのライン部44が閉回路を構成することになる。その結果、ライン部44全体を回路網として考えた場合に、同じ導電体の被覆面積率及び厚みで最大の電気伝導度を得ることができる。このような態様によれば、透明電極20に十分な導電性と高い可視光透過率とを同時に付与することを効果的に実現することできる。   As shown in FIGS. 3, 4, and 5, since the line portion 44 is composed only of the boundary line segment 48, the line portion 44 extends into the opening region 42 as in the conductive mesh of Patent Document 1, and reaches a dead end. There is no line portion 44. In other words, there is no circuit that is disconnected and opened as an electric circuit, and all the line portions 44 constitute a closed circuit. As a result, when the entire line portion 44 is considered as a circuit network, the maximum electrical conductivity can be obtained with the same covering area ratio and thickness of the conductor. According to such an aspect, it is possible to effectively realize simultaneously imparting sufficient conductivity and high visible light transmittance to the transparent electrode 20.

ところで、正方格子パターンの導電性メッシュを有した透明電極を画像形成装置上に配置すると、画素配列の周期性と導電性メッシュの周期性との干渉に起因した縞状の模様、すなわちモアレ(干渉縞)が視認されることがある。さらに、光吸収部が繰り返し配列された光学部材とともに透明電極を画像形成装置上に配置すると、画素配列の周期性と、光吸収部の周期性および導電性メッシュの周期性と、の干渉に起因したより複雑なモアレが視認されやすくなる。モアレが視認されると、画像表示装置に表示される画像の画質を著しく劣化させることになる。   By the way, when a transparent electrode having a conductive mesh having a square lattice pattern is arranged on the image forming apparatus, a striped pattern resulting from interference between the periodicity of the pixel array and the periodicity of the conductive mesh, that is, moire (interference). Stripes) may be visually recognized. Further, when the transparent electrode is arranged on the image forming apparatus together with the optical member in which the light absorbing portion is repeatedly arranged, it is caused by interference between the periodicity of the pixel arrangement, the periodicity of the light absorbing portion, and the periodicity of the conductive mesh. This makes it easier to see more complicated moire. When the moiré is visually recognized, the image quality of the image displayed on the image display device is significantly deteriorated.

ここで図13には、正方格子状パターンで形成された導電性メッシュ140を有した従来の典型的な透明電極シート120が示されている。また、図14には、図13の透明電極シート120を、図6に示された典型的な画素配列の画像形成装置(画像表示パネル)80上に配置した状態が示されている。   Here, FIG. 13 shows a conventional typical transparent electrode sheet 120 having a conductive mesh 140 formed in a square lattice pattern. FIG. 14 shows a state in which the transparent electrode sheet 120 of FIG. 13 is arranged on the image forming apparatus (image display panel) 80 having the typical pixel arrangement shown in FIG.

図14に示されているように、正方格子状パターンで形成された導電性メッシュ140が、画像形成装置80の画素配列と重ねられると、導電性メッシュ140の規則的(周期的)パターンと画素Pの規則的(周期的)パターンとの干渉によって、明暗の筋(図14においては、左上から右下に走る)が視認されるようになる。   As shown in FIG. 14, when the conductive mesh 140 formed in a square lattice pattern is overlapped with the pixel array of the image forming apparatus 80, the regular (periodic) pattern and pixels of the conductive mesh 140. Due to the interference with the regular (periodic) pattern of P, light and dark streaks (running from the upper left to the lower right in FIG. 14) are visually recognized.

ところで、図14に示された例では、導電性メッシュ140によって形成された正方格子の配列方向が、画素Pの配列方向の配列方向に対して、5度傾斜している。このような傾斜は、バイアス角(度)と呼称され、一般的に、モアレを目立たなくさせるものとして広く用いられている手法である。しかしながら、図14においても、なお残留した縞状模様が視認されることから理解され得るように、モアレ発生の程度は単にバイアス角のみで決まる訳ではなく、その他、画素P及び導電性メッシュ140間の繰返周期の比、導電性メッシュ140の線幅等の要因にも依存する。   In the example shown in FIG. 14, the arrangement direction of the square lattice formed by the conductive mesh 140 is inclined by 5 degrees with respect to the arrangement direction of the arrangement direction of the pixels P. Such an inclination is called a bias angle (degree), and is generally a technique widely used to make moire inconspicuous. However, in FIG. 14, as can be understood from the fact that the remaining striped pattern is still visible, the degree of moire generation is not determined solely by the bias angle, but in addition, between the pixel P and the conductive mesh 140. This also depends on factors such as the ratio of the repetition period and the line width of the conductive mesh 140.

一方、モアレの発生を防止するため、本実施の形態による透明電極20の導電性メッシュ40では、5本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42(開口領域42が多角形の場合は、5角形に相当)、6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42(開口領域42が多角形の場合は、6角形に相当)および7本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42(開口領域42が多角形の場合は、7角形に相当)の少なくとも二種類がそれぞれ複数含まれている。加えて、本実施の形態による透明電極20の導電性メッシュ40では、導電性メッシュ40に含まれた5本、6本または7本のうちの同一本数の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42の形状又は面積(境界線分によって取り囲まれた部分の面積)は一定ではないようになっている。すなわち、5本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42が導電性メッシュ40に含まれている場合、当該5本の境界線分48によって画成されている複数の開口領域42の少なくとも二つが異なる形状又は面積を有し、6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42が導電性メッシュ40に含まれている場合、当該6本の境界線分48によって画成されている複数の開口領域42の少なくとも二つが異なる形状又は面積を有し、さらに、7本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42が導電性メッシュ40に含まれている場合、当該7本の境界線分48によって画成されている複数の開口領域42の少なくとも二つが異なる形状又は面積を有している。このような態様によれば、導電性メッシュ40のパターンを効果的に不規則化することができる。好ましくは、各開口領域42の周囲を囲繞する境界線分48の数が同一の開口領域の50%以上が互いにその面積又は形状が異なるようにする。より好ましくは、周囲を囲繞する境界線分48の数が同一の開口領域を導電メシュパターンの全域にわたって、全て互いにその面積及び形状が異なるようにする。これは、言い換えると、導電メッシュパターンに含まれる開口領域42のうち、周囲を囲繞する境界線分数が同一となる開口領域の形状及び面積がすべて同一ではなく、少なくとも一部は他と異なるものになるということを意味する。なお、ここで周囲を囲繞する境界線分48の数とは、開口領域42が多角形である場合は、該多角形の角数と一致する。また、以上において、2つの開口領域42同士が互いに合同な図形であって且つその向きが異なる場合も、該2つの開口領域の形状は互いに異なるとみなす。   On the other hand, in order to prevent the occurrence of moire, in the conductive mesh 40 of the transparent electrode 20 according to the present embodiment, the opening area 42 surrounded by the five boundary segments 48 (when the opening area 42 is a polygon) Is equivalent to a pentagon), and is surrounded by an opening area 42 surrounded by six boundary line segments 48 (corresponding to a hexagon when the opening area 42 is a polygon) and seven boundary line segments 48. A plurality of at least two types of opening areas 42 (corresponding to a heptagon when the opening area 42 is a polygon) are included. In addition, in the conductive mesh 40 of the transparent electrode 20 according to the present embodiment, the periphery is surrounded by the same number of boundary lines 48 out of the five, six, or seven included in the conductive mesh 40. The shape or area (the area of the part surrounded by the boundary line segment) of the plurality of opening regions 42 is not constant. That is, when the conductive mesh 40 includes a plurality of opening regions 42 surrounded by the five boundary line segments 48, the plurality of opening regions defined by the five boundary line segments 48. When at least two of the 42 have different shapes or areas and the conductive mesh 40 includes a plurality of opening regions 42 surrounded by the six boundary segments 48, the six boundary segments At least two of the plurality of opening regions 42 defined by 48 have different shapes or areas, and the plurality of opening regions 42 surrounded by seven boundary segments 48 are formed in the conductive mesh 40. If included, at least two of the plurality of opening regions 42 defined by the seven boundary segments 48 have different shapes or areas. According to such an aspect, the pattern of the conductive mesh 40 can be effectively irregularized. Preferably, 50% or more of the opening regions having the same number of boundary line segments 48 surrounding each opening region 42 have different areas or shapes. More preferably, the opening areas having the same number of boundary line segments 48 surrounding the periphery are made to have different areas and shapes from each other over the entire area of the conductive mesh pattern. In other words, among the opening regions 42 included in the conductive mesh pattern, the shape and area of the opening region having the same boundary line segment surrounding the periphery are not all the same, and at least a part is different from the others. It means to become. Here, the number of boundary line segments 48 that surround the periphery coincides with the number of corners of the polygon when the opening region 42 is a polygon. Further, in the above description, even when the two opening regions 42 are congruent figures and have different directions, the shapes of the two opening regions are considered to be different from each other.

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果として、単に導電性メッシュ40のパターンを不規則化するのではなく、5本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42、6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42および7本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42の少なくとも二種類が、それぞれ複数、導電性メッシュ40に含まれ、且つ、導電性メッシュ40に含まれた5本、6本または7本のうちの同一本数の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42の形状又は面積が一定ではないよう、導電性メッシュ40のパターンを画成することにより、画素配列を有した画像形成装置80に透明電極20を重ねた場合に生じ得るモアレを極めて効果的に目立たなくさせることが可能となることを知見した。   As a result of intensive research, the inventors have not simply made the pattern of the conductive mesh 40 irregular, but rather the open regions 42, 6 surrounded by five boundary segments 48. At least two types of the opening area 42 surrounded by the boundary line segment 48 and the opening area 42 surrounded by the seven boundary line segments 48 are respectively included in the conductive mesh 40 and are electrically conductive. The conductive mesh 40 is formed so that the shape or area of the plurality of open regions 42 surrounded by the same number of boundary lines 48 out of 5, 6, or 7 included in the conductive mesh 40 is not constant. By defining this pattern, it is possible to make the moiré that can occur when the transparent electrode 20 is superimposed on the image forming apparatus 80 having the pixel arrangement extremely inconspicuous. And knowledge to be a.

一般的には、導電性メッシュ40のパターンを不規則化することが、モアレの不可視化に有効であるとされてきた。しかしながら、本発明者らの研究によれば、単に導電性メッシュ40のパターンの形状及び配列ピッチを不規則化したとしても、常に、モアレを十分に目立たなくさせることはできなかった。   Generally, it has been considered that making the pattern of the conductive mesh 40 irregular is effective for making the moire invisible. However, according to research by the present inventors, even if the pattern shape and arrangement pitch of the conductive mesh 40 are simply made irregular, moire cannot always be made sufficiently inconspicuous.

例えば、特開平11−121974号公報(上述の特許文献2)に開示された導電性メッシュでは、2次元XY平面内においてY軸方向について繰り返し周期性を持たないようになっており、この結果、2次元平面全体としては完全な繰返周期を持たず不一定のパターンとして視認され得る。すなわち、開口領域の形状又は配列ピッチを部分的にでも不規則化することによれば、当該開口領域の配列の繰返規則性を、同一形状の単位開口部が縦横に一定の繰り返しピッチで特定の直線方向に並べられている図13の正方格子配列と比較して大きく低下させ、導電性メッシュ自体が全体として不規則なパターンとして視認されるようになり得る。しかしながら、この不規則性パターンとして視認される導電性メッシュでは、モアレを知覚され得ない程度にまで目立たなくさせることができなかった。モアレを有効に目立たなくさせることができない原因は、依然としてX軸方向には繰返周期を有しているためと考えられる。すなわち、部分的にでもXY平面内のいずれかの方向に繰り返し周期性が残存していると、その残存周期性によってモアレが発生するものと考えられる。   For example, in the conductive mesh disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-121974 (the above-mentioned Patent Document 2), there is no periodicity in the Y-axis direction in the two-dimensional XY plane, and as a result, The entire two-dimensional plane does not have a complete repetition cycle and can be viewed as an indefinite pattern. That is, by making the shape or arrangement pitch of the opening area partially irregular, the repeating regularity of the arrangement of the opening area can be specified at a constant repetition pitch in the vertical and horizontal directions. As compared with the square lattice arrangement of FIG. 13 arranged in the linear direction, the conductive mesh itself can be visually recognized as an irregular pattern as a whole. However, in the conductive mesh visually recognized as the irregular pattern, it has not been possible to make the moiré inconspicuous to the extent that it cannot be perceived. The reason why moire cannot be made inconspicuous effectively is considered to be because it still has a repetition cycle in the X-axis direction. That is, if a partial periodicity remains in any direction in the XY plane even partially, it is considered that moire occurs due to the residual periodicity.

また、WO2007/114076号公報(上述した特許文献1)の如く、2次元XY平面内のX軸方向、Y軸方向共に各単位開口領域が繰返周期性を持たない完全に不規則なパターンとすれば、モアレを解消することも可能となる。しかしながら、かかる完全不規則なパターンを採用した場合、新たな問題点が発生した。それは、各開口領域の形状及び面積が不揃いのため、該導電性メッシュ全体を眺めたとき、導電性メッシュそれ自体に外観上、濃淡のムラが目立ってしまうことである。これは、画像表示装置の画面上に設置する用途においては欠点となる。これに加えて、メッシュを構成するライン部がランダムに配置される結果、ライン部先端が他のライン部と接続しないで断線し、回路として開いてしまう箇所が生じる。その結果、導電メッシュ全体としての電気伝導度が低下する。このような断線箇所の存在は、電気伝導度の改善に寄与しないだけでなく、可視光透過率を下げる原因となるため、透明電極としては大きな欠点となる。   Further, as in WO2007 / 114076 (Patent Document 1 described above), each unit opening region has a completely irregular pattern in which the unit opening area has no repeating periodicity in both the X-axis direction and the Y-axis direction in the two-dimensional XY plane. If this is done, moire can be eliminated. However, when such a completely irregular pattern is adopted, a new problem occurs. That is, since the shape and area of each opening region are not uniform, when the entire conductive mesh is viewed, unevenness in shading is conspicuous in the appearance of the conductive mesh itself. This is a drawback in applications that are installed on the screen of an image display device. In addition to this, as a result of the line portions constituting the mesh being randomly arranged, there is a portion where the tip of the line portion is disconnected without being connected to other line portions and opened as a circuit. As a result, the electrical conductivity of the entire conductive mesh is lowered. The presence of such a broken portion not only contributes to the improvement of electric conductivity, but also causes a decrease in visible light transmittance, which is a major drawback for a transparent electrode.

その一方で、ここで説明する本実施の形態に係る導電性メッシュ40の平面パターンのように、導電性メッシュ40に含まれるパターンが、次の条件(A)および(B)の両方を満たす場合、当該パターンにおいて、モアレの発生を効果的に防止することが可能になるとともに、濃淡ムラの発生を効果的に防止することも可能となった。
・条件(A):5本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42、6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42および7本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42の少なくとも二種類が、それぞれ複数、含まれている。
・条件(B):5本、6本または7本のうちの同一本数の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42の形状又は面積が一定ではない。すなわち、5本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42が含まれている場合に、当該5本の境界線分48によって画成されている複数の開口領域42の少なくとも二つが異なる形状又は面積を有し、且つ、6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42が含まれている場合に、当該6本の境界線分48によって画成されている複数の開口領域42の少なくとも二つが異なる形状又は面積を有し、且つ、7本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42が含まれている場合に、当該7本の境界線分48によって画成されている複数の開口領域42の少なくとも二つが異なる形状又は面積を有している。
On the other hand, when the pattern included in the conductive mesh 40 satisfies both of the following conditions (A) and (B) like the planar pattern of the conductive mesh 40 according to the present embodiment described here. In the pattern, it is possible to effectively prevent the occurrence of moire and also to effectively prevent the occurrence of shading unevenness.
Condition (A): An opening region 42 surrounded by five boundary line segments 48, an opening region 42 surrounded by six boundary line segments 48, and seven boundary line segments 48. A plurality of at least two types of the surrounded open areas 42 are included.
Condition (B): The shape or area of the plurality of opening regions 42 surrounded by the same number of boundary lines 48 out of 5, 6, or 7 is not constant. That is, when a plurality of opening regions 42 surrounded by the five boundary line segments 48 are included, at least two of the plurality of opening regions 42 defined by the five boundary line segments 48 are included. Are defined by the six boundary line segments 48 when they have different shapes or areas and include a plurality of open regions 42 surrounded by the six boundary line segments 48. When at least two of the plurality of open regions 42 have different shapes or areas and include a plurality of open regions 42 surrounded by seven boundary segments 48, the seven open regions 42 are included. At least two of the plurality of opening regions 42 defined by the boundary line segment 48 have different shapes or areas.

条件(A)および(B)を満たす導電性メッシュ40によって奏される作用効果は、モアレの不可視化として単にパターンの不規則化を実施してきた従来の技術水準に照らして、予測され得る範囲を超えた顕著な効果であると言える。そして、条件(A)および(B)を満たす導電性メッシュ40によってこのような作用効果が得られるようになる理由の詳細は不明であるが、次のことがその理由になっているものと推定される。ただし、本願発明は、以下の推定に限定されるものではない。   The effects achieved by the conductive mesh 40 satisfying the conditions (A) and (B) are in a range that can be predicted in light of the conventional state of the art that has simply implemented pattern irregularity as invisible moire. It can be said that this is a remarkable effect. The details of the reason why such a function and effect can be obtained by the conductive mesh 40 satisfying the conditions (A) and (B) are unknown, but it is presumed that the reason is as follows. Is done. However, the present invention is not limited to the following estimation.

まず、条件(A)によれば、開口領域42の配列が、同一形状の正六角形を規則的に配置してなるハニカム配列から、各単位領域の形状および配置の規則性を崩した配列、言い換えると、ハニカム配列を基準として各単位領域の形状および配置をランダム化した配列とすることができる。これにより、開口領域42の配列に明らかな粗密が生じてしまうことを抑制することができ、多数の開口領域42を概ね均一な密度で、すなわち概ね一様に分布させることができるものと推測される。加えて、条件(B)により、多数の開口領域42の配列を十分にランダム化することが可能となる。これらのことから、濃淡ムラおよびモアレの両方を効果的に目立たなくさせることができるものと推測される。   First, according to the condition (A), the arrangement of the opening regions 42 is an arrangement in which regularity of the shape and arrangement of each unit area is broken from a honeycomb arrangement in which regular hexagons having the same shape are regularly arranged, in other words, And, the arrangement and the arrangement of each unit region can be randomized with reference to the honeycomb arrangement. As a result, it is possible to suppress the occurrence of clear roughness in the arrangement of the opening regions 42, and it is estimated that a large number of the opening regions 42 can be distributed with a substantially uniform density, that is, with a substantially uniform distribution. The In addition, according to the condition (B), it is possible to sufficiently randomize the arrangement of the many opening regions 42. From these facts, it is presumed that both shading unevenness and moire can be effectively made inconspicuous.

実際に本発明者らが鋭意調査を重ねたところ、条件(A)および(B)が満たされる場合に、開口領域42の配列が十分にランダム化されていた。さらには、条件(A)および(B)が満たされる場合に、開口領域42の配列を完全に不規則化し得ること、すなわち、開口領域42が規則的に配列された方向が存在しないようにし得ることが、安定して可能となり、結果として、濃淡ムラおよびモアレの両方を極めて効果的に目立たなくさせることが可能となることが確認された。   When the present inventors conducted extensive investigations, the arrangement of the open regions 42 was sufficiently randomized when the conditions (A) and (B) were satisfied. Furthermore, when the conditions (A) and (B) are satisfied, the arrangement of the opening regions 42 can be completely irregular, that is, there can be no direction in which the opening regions 42 are regularly arranged. As a result, it has been confirmed that both density unevenness and moire can be made extremely inconspicuous.

ここで、図4は、開口領域42が規則的に配列された方向が存在しない状態、言い換えると、開口領域42が規則性を持って並べられた方向が存在しない状態を説明するための平面図である。図4においては、透明電極20のシート面上において、任意の位置で任意の方向を向く一本の仮想的な直線diが選ばれている。この一本の直線diは、ライン部42の境界線分48と交差し交差点を形成している。この交差点を、図面では図面左下の側から順に、交差点C1,C2,C3,・・・・・,C9,・・・・・として図示してある。隣接する交差点、例えば、交差点C1と交差点C2との距離が、前記或る一つの開口領域42の直線di上での寸法T1である。次に、寸法T1を持つ開口領域42に対して直線diに沿って隣接する別の開口領域42についても、同様に、直線di上での寸法T2が定まる。そして、任意位置で任意方向の直線diについて、直線diと交差する境界線分48とから、任意位置で任意方向の直線diと遭遇する多数の開口領域42について、該直線di上における寸法として、T1,T2,T3,・・・・・・,T8,・・・・・が定まる。そして、T1,T2,T3,・・・・・・,T8,・・・・・の数値の並びには、周期性(規則性)が存在しない。すなわち、開口領域42は、直線方向diに沿って規則性を持たないように並べられ、
k≠Tk+l(k:任意の自然数、l:任意の自然数) ・・・条件式(x)
を満たすようになっている。なお、図4では、このT1,T2,T3,・・・・・・,T8,・・・・・は、判り易いように図面下方に、直線diと共に導電性メッシュ40とは分離して描いてある。
Here, FIG. 4 is a plan view for explaining a state in which there is no direction in which the opening regions 42 are regularly arranged, in other words, a state in which there is no direction in which the opening regions 42 are arranged with regularity. It is. In FIG. 4, on the sheet surface of the transparent electrode 20, a single virtual straight line d i that faces an arbitrary direction at an arbitrary position is selected. This single line d i intersects with the boundary line segment 48 of the line portion 42 to form an intersection. The intersections are illustrated as intersections C 1 , C 2 , C 3 ,..., C 9 ,. The distance between adjacent intersections, for example, the intersection C 1 and the intersection C 2 is the dimension T 1 on the straight line d i of the certain opening region 42. Next, another opening region 42 adjacent along the straight line d i with respect to the opening area 42 with dimensions T 1 likewise, is determined dimension T 2 of the on linear d i. Then, the linear d i any direction at any position, from the boundary line 48. intersecting the straight line d i, for a number of opening regions 42 to encounter any direction of linear d i at an arbitrary position, on the straight line d i T 1 , T 2 , T 3 ,..., T 8 ,. In addition, there is no periodicity (regularity) in the sequence of the numerical values of T 1 , T 2 , T 3 ,..., T 8 ,. That is, the opening regions 42 are arranged so as not to have regularity along the linear direction d i ,
T k ≠ T k + l (k: arbitrary natural number, l: arbitrary natural number) Conditional expression (x)
It comes to satisfy. In FIG. 4, the T 1, T 2, T 3 , ······, T 8, ····· are the drawings below to facilitate understanding, the conductive mesh 40 with a straight line d i Is drawn separately.

また、この直線diを図4で図示のものから任意の角度だけ回転させて別の方向について各開口領域42の寸法T1,T2,・・を求めると、やはり図4で図示された場合と同様に、直線di+1方向に対しても、条件式(x)が満たされ、開口領域の寸法T1,T2,・・に繰返し周期性(規則性)は見られない。このように、開口領域42がいずれの方向においても条件式(x)を満たす場合、開口領域が規則的に配列された方向が存在しない、あるいは、開口領域42が繰返周期を持つ方向が存在しない、あるいは、開口領域の配列が規則性を持たない、と表現する。 Further, when this straight line d i is rotated by an arbitrary angle from that shown in FIG. 4 to determine the dimensions T 1 , T 2 ,... Of each opening region 42 in another direction, it is also shown in FIG. Similarly to the case, the conditional expression (x) is satisfied also in the direction of the straight line d i + 1 , and no repetitive periodicity (regularity) is observed in the dimensions T 1 , T 2 ,. Thus, when the opening region 42 satisfies the conditional expression (x) in any direction, there is no direction in which the opening region is regularly arranged, or there is a direction in which the opening region 42 has a repeating cycle. Or the arrangement of the open regions is not regular.

また、本発明者らが種々の導電性メッシュ40のパターンについて調査を行ったところ、条件(A)および(B)に加えて、次の条件(C)がさらに満たされる場合、とりわけ、条件(C)および(D)がさらに満たされる場合に、濃淡ムラおよびモアレの両方をより目立たなくさせることができた。そしてさらには、条件(A)および(B)に加えて、次の条件(C)、(D)および(E)がさらに満たされる場合に、濃淡ムラおよびモアレの両方をより目立たなくさせることができた。このような傾向は、上記推定とも合致し、上記推定を裏付ける現象と言える。
・条件(C):6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42が、複数含まれている。
・条件(D):6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42が、最も多く含まれている。すなわち、6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42が、他の本数の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42と比較して、より多く含まれている。
・条件(E):k本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42の数をNkとして、
kが3≦k≦5を満たす整数の場合に、Nk≦Nk+1
kが6≦kを満たす整数の場合に、Nk≧Nk+1
となっている。すなわち、6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42が最も多く含まれ、開口領域42を取り囲む境界線分48の本数が6本から多くなっていくにつれて、且つ、開口領域42を取り囲む境界線分48の本数が6本から少なくなっていくにつれて、開口領域42の数量が少なくなっていく。
Moreover, when the present inventors investigated about the pattern of various electroconductive meshes 40, when the following conditions (C) are further satisfied in addition to the conditions (A) and (B), the conditions ( When C) and (D) were further satisfied, both the uneven density and the moire could be made less noticeable. Further, in addition to the conditions (A) and (B), when the following conditions (C), (D) and (E) are further satisfied, both the uneven density and the moire may be made less noticeable. did it. Such a tendency agrees with the above estimation and can be said to be a phenomenon that supports the above estimation.
Condition (C): A plurality of opening regions 42 surrounded by six boundary line segments 48 are included.
Condition (D): The opening region 42 surrounded by the six boundary line segments 48 is most often included. That is, the opening area 42 surrounded by the six boundary line segments 48 is included more than the opening area 42 surrounded by the other boundary line segments 48.
Condition (E): N k is the number of open regions 42 surrounded by k boundary line segments 48,
When k is an integer satisfying 3 ≦ k ≦ 5, N k ≦ N k + 1
When k is an integer satisfying 6 ≦ k, N k ≧ N k + 1
It has become. That is, the largest number of the opening regions 42 surrounded by the six boundary line segments 48 are included, and as the number of the boundary line segments 48 surrounding the opening region 42 increases from six, the opening region 42 As the number of boundary line segments 48 surrounding the region decreases from six, the number of open regions 42 decreases.

なお、各条件(A)〜(E)を満たすか否かは、厳密には、導電性メッシュ40内に含まれる全ての開口領域42について調査することになる。ただし、実際的には、ライン部44によって画成された一つあたりの開口領域42の大きさ等を考慮した上で、一つの開口領域42を取り囲む境界線分48の本数の全体的な傾向を反映し得ると期待される面積を持つ一区画(例えば、上述した寸法例で開口領域42が形成されている導電性メッシュにおいては、30mm×30mmの部分)に含まれる開口領域42について取り囲む境界線分48の数を調査して、各条件(A)〜(E)が満たされるか否かを判断すればよい。同様に、開口領域が規則的の配列された方向が存在するか否かについても、厳密には、対象となる導電性メッシュの全領域内において任意の方向における開口領域の配列を調査することなる。ただし、実際的には、開口領域42の配列の全体的な傾向を反映し得ると期待される面積を持つ一区画(例えば、上述した寸法例で開口領域42が形成されている導電性メッシュにおいては、30mm×30mmの部分)の中心を通過する各方向(例えば、上述した寸法例で開口領域42が形成されている導電性メッシュにおいては、15°おきの方向)について、開口領域42の配列を調査して、開口領域が規則的に配列された方向か存在するか否かを判断すればよい。   Strictly speaking, whether or not the conditions (A) to (E) are satisfied is investigated for all the open regions 42 included in the conductive mesh 40. However, in practice, the overall tendency of the number of boundary line segments 48 surrounding one opening region 42 in consideration of the size of each opening region 42 defined by the line portion 44 and the like. A boundary that surrounds the opening region 42 included in one section having an area that is expected to reflect (for example, in a conductive mesh in which the opening region 42 is formed in the above-described dimension example, a portion of 30 mm × 30 mm) The number of line segments 48 may be investigated to determine whether or not each condition (A) to (E) is satisfied. Similarly, regarding whether or not there is a direction in which the opening regions are regularly arranged, strictly speaking, the arrangement of the opening regions in an arbitrary direction is investigated in the entire region of the target conductive mesh. . However, in practice, a section having an area expected to reflect the overall tendency of the arrangement of the opening regions 42 (for example, in the conductive mesh in which the opening regions 42 are formed in the above-described dimension example). Is the arrangement of the opening regions 42 in each direction passing through the center of the 30 mm × 30 mm portion (for example, in the direction of every 15 ° in the conductive mesh in which the opening regions 42 are formed in the dimension example described above). It is sufficient to determine whether or not the opening regions exist in a regularly arranged direction.

実際に、図3に示された透明電極20の導電性メッシュ40について調査したところ、図5に示すように、この導電性メッシュ40には、4本、5本、6本、7本、8本、9本の境界線分48によって取り囲まれた開口領域42が、それぞれ、79個、1141個、2382個、927個、94個、8個含まれていた。また、この導電性メッシュ40には、3本の境界線分によって取り囲まれた開口領域、および、10本以上の境界線分48によって取り囲まれた開口領域42が含まれていなかった。すなわち、図3に示された導電性メッシュ30は、条件(A)および(B)に加えて、条件(C)、(D)および(E)も満たしている。   Actually, when the conductive mesh 40 of the transparent electrode 20 shown in FIG. 3 was investigated, as shown in FIG. 5, the conductive mesh 40 has four, five, six, seven, eight, 79, 1141, 2382, 927, 94, and 8 open regions 42 surrounded by the nine and nine boundary segments 48 were included, respectively. Further, the conductive mesh 40 did not include the opening region surrounded by three boundary line segments and the opening region 42 surrounded by ten or more boundary line segments 48. That is, the conductive mesh 30 shown in FIG. 3 satisfies the conditions (C), (D), and (E) in addition to the conditions (A) and (B).

また、図7には、図3の透明電極20を、図14に示された典型的な画素配列の画像形成装置80上に配置した状態が示されている。   FIG. 7 shows a state where the transparent electrode 20 of FIG. 3 is arranged on the image forming apparatus 80 having the typical pixel arrangement shown in FIG.

図7からも理解され得るように、図3に示された導電性メッシュ40を実際に作製して画像形成装置80の画素配列上に配置した場合、視認され得る程度の縞状の模様、すなわちモアレ(干渉縞)は発生しなかった。   As can be understood from FIG. 7, when the conductive mesh 40 shown in FIG. 3 is actually produced and arranged on the pixel array of the image forming apparatus 80, a striped pattern that can be visually recognized, that is, Moire (interference fringes) did not occur.

ここで、上述した条件(A)および(B)を満たす導電性メッシュ40のライン部44のパターンを作製する方法の一例を説明する。   Here, an example of a method for producing the pattern of the line portion 44 of the conductive mesh 40 that satisfies the above-described conditions (A) and (B) will be described.

以下に説明する方法は、母点を決定する工程と、決定された母点からボロノイ図を作成する工程と、ボロノイ図における一つのボロノイ境界によって結ばれる二つのボロノイ点の間を延びる境界線分の経路を決定する工程と、決定された経路の太さを決定して各境界線分を画定して導電性メッシュ40(ライン部44)のパターンを決定する工程と、を有している。以下、各工程について順に説明していく。なお、上述した図3に示されたパターンは、実際に以下に説明する方法で決定されたパターンである。   The method described below includes a step of determining a generating point, a step of creating a Voronoi diagram from the determined generating point, and a boundary segment extending between two Voronoi points connected by one Voronoi boundary in the Voronoi diagram. And determining the pattern of the conductive mesh 40 (line part 44) by determining the thickness of the determined path to define each boundary line segment. Hereinafter, each step will be described in order. Note that the pattern shown in FIG. 3 described above is a pattern actually determined by the method described below.

まず、母点を決定する工程について説明する。最初に、図8に示すように、絶対座標系O−X―Yの任意の位置に一つ目の母点(以下、「第1の母点」と呼ぶ)BP1を配置する。なお、ここで言う絶対座標系とは、通常の2次元空間(平面)のことであるが、後述の相対座標系と区別するために、特に絶対座標系と呼称する。次に、図9に示すように、第1の母点BP1から距離r1以上且つ距離r2以下だけ離れた任意の位置に第2の母点BP2を配置する。すなわち、第1の母点BP1を中心として絶対座標系O−X―Y上に位置する半径r1の円周と、第1の母点BP1を中心として絶対座標系O−X―Y上に位置する半径r2の円周と、によって囲まれた円環の領域内に、第2の母点BP2を配置する。ここで、距離r1は距離r2よりも小さく(r1<r2)、図3に示された導電性メッシュを作製する際には、距離r1を160μmとし、距離r2を190μmとした。   First, the process of determining a generating point will be described. First, as shown in FIG. 8, a first generating point (hereinafter referred to as “first generating point”) BP1 is arranged at an arbitrary position in the absolute coordinate system OXY. The absolute coordinate system referred to here is a normal two-dimensional space (plane), but is particularly called an absolute coordinate system in order to distinguish it from the relative coordinate system described later. Next, as shown in FIG. 9, the second generating point BP2 is arranged at an arbitrary position away from the first generating point BP1 by a distance r1 or more and a distance r2 or less. That is, the circumference of the radius r1 positioned on the absolute coordinate system OXY with the first generating point BP1 as the center, and the position on the absolute coordinate system OXY with the first generating point BP1 as the center. The second generating point BP2 is arranged in an annular region surrounded by the circumference of the radius r2. Here, the distance r1 is smaller than the distance r2 (r1 <r2), and when producing the conductive mesh shown in FIG. 3, the distance r1 was 160 μm and the distance r2 was 190 μm.

次に、図10に示すように、第1の母点BP1から距離r1以上且つ距離r2以下だけ離れ、さらに、第2の母点BP2から距離r1以上離れた任意の位置に、第3の母点BP3を配置する。その後、第1の母点BP1から距離r1以上且つ距離r2以下だけ離れ、さらに、その他の母点BP2,BP3から距離r1以上離れた任意の位置に、第4の母点を配置する(図示略)。このようにして、次の母点を配置することができなくなるまで、第1の母点BP1から距離r1以上且つ距離r2以下だけ離れ、加えて、その他の母点BP2,BP3,・・から距離r1以上離れた任意の位置に母点を配置していく。すなわち、第1の母点BP1を中心として絶対座標系O−X―Y上に位置する半径r1の円周と、第1の母点BP1を中心として絶対座標系O−X―Y上に位置する半径r2の円周と、によって囲まれた円環状の領域内に、第1母点BP1以外のすべて母点から距離r1以上離れた位置が存在しなくなるまで、母点を配置していく。   Next, as shown in FIG. 10, the third mother point BP1 is separated from the first mother point BP1 by a distance r1 or more and a distance r2 or less, and is further separated from the second mother point BP2 by a distance r1 or more. Point BP3 is arranged. Thereafter, the fourth generating point is arranged at an arbitrary position separated from the first generating point BP1 by a distance r1 or more and a distance r2 or less and further from the other generating points BP2 and BP3 by a distance r1 or more (not shown). ). In this way, until the next generating point cannot be arranged, it is separated from the first generating point BP1 by the distance r1 or more and the distance r2 or less, and in addition, the distance from the other generating points BP2, BP3,. The mother point is arranged at an arbitrary position separated by r1 or more. That is, the circumference of the radius r1 positioned on the absolute coordinate system OXY with the first generating point BP1 as the center, and the position on the absolute coordinate system OXY with the first generating point BP1 as the center. In the annular region surrounded by the circumference of the radius r2, the mother points are arranged until there are no positions apart from all the mother points except the first mother point BP1 by the distance r1 or more.

その後、第2の母点BP2を基準にしてこの作業を続けていく。すなわち、第2の母点BP2から距離r1以上且つ距離r2以下だけ離れ、さらに、既に配置されたその他の母点BP1,BP3,BP4,・・から距離r1以上離れた任意の位置に、次の母点を配置していく。第2の母点BP2を基準にして、次の母点を配置することができなくなるまで、すなわち、第2の母点BP2を中心として絶対座標系O−X―Y上に位置する半径r1の円周と第2の母点BP2を中心として絶対座標系XY上に位置する半径r2の円周と、によって囲まれた円環の領域内に、第2の母点BP2以外のすべての母点から距離r1以上離れた位置が存在しなくなるまで、母点を配置していく。その後、基準となる母点を順に変更していき、同様の手順で母点を形成していく。   Thereafter, this operation is continued based on the second generating point BP2. That is, it is separated from the second generating point BP2 by a distance r1 or more and a distance r2 or less, and further at an arbitrary position distant from the other generating points BP1, BP3, BP4,. Place the mother point. With reference to the second generating point BP2, the radius r1 positioned on the absolute coordinate system OXY is centered on the second generating point BP2 until the next generating point cannot be arranged. All the generating points other than the second generating point BP2 are included in the annular region surrounded by the circumference and the circumference of the radius r2 located on the absolute coordinate system XY with the second generating point BP2 as the center. The mother point is arranged until there is no position separated from the distance r1 by more than the distance r1. Thereafter, the base point as a reference is sequentially changed, and the base point is formed in the same procedure.

以上の手順で、導電性メッシュ40が形成されるべき領域内に母点を配置することができなくなるまで、母点を配置していく。導電性メッシュ40が形成されるべき領域内に母点を配置することができなくなった際に、母点を作製する工程が終了する。ここまでの処理により、2次元平面(XY平面)において不規則的に配置された母点群が、導電性メッシュ40が形成されるべき領域内に一様に分散した状態となる。   With the above procedure, the mother point is arranged until the mother point cannot be arranged in the region where the conductive mesh 40 is to be formed. When the generating point cannot be arranged in the region where the conductive mesh 40 is to be formed, the step of generating the generating point ends. By the processing so far, the mother point group irregularly arranged in the two-dimensional plane (XY plane) is uniformly dispersed in the region where the conductive mesh 40 is to be formed.

このような工程で2次元平面(XY平面)内に分布された母点群BP1、BP2、・・、BP6(図11(A)参照)について、個々の母点間の距離は一定ではなく分布を有する。但し、任意の隣接する2母点間の距離の分布は完全なランダム分布(一様分布)でもなく、平均値RAVGを挟んで上限値RMAXと下限値RMINとの間の範囲ΔR=RMAX−RMINの中で分布している。なお、ここで、隣接する2母点については、母点群BP1、BP2、・・から後述するようにしてボロノイ図を作成した際に、2つのボロノイ領域XAが隣接している場合に、その2つのボロノイ領域XA内にそれぞれ位置する母点同士が隣接していると定義する。なお、図11(A)において、これら母点群から得られるボロノイ境界XB(図12参照)を参考までに破線で図示してある。 With respect to the generating point groups BP1, BP2,..., BP6 (see FIG. 11A) distributed in the two-dimensional plane (XY plane) in such a process, the distance between the generating points is not constant but distributed. Have However, the distribution of the distance between any two adjacent generating points is not a complete random distribution (uniform distribution), but a range ΔR = between the upper limit value R MAX and the lower limit value R MIN across the average value R AVG. It is distributed in R MAX -R MIN . Here, regarding two adjacent generating points, when a Voronoi diagram is created as described later from the generating point groups BP1, BP2,... It is defined that the generating points located in the two Voronoi regions XA are adjacent to each other. In FIG. 11 (A), a Voronoi boundary XB (see FIG. 12) obtained from these generating point groups is shown by a broken line for reference.

すなわち、ここで説明した母点群について、各母点を原点とする座標系(相対座標系o−x−yと呼称し、一方、前記の通り、現実の2次元平面(座標系)を絶対座標系O−X−Yと呼称する)上に、当該原点に置いた母点と隣接する全母点をプロットした図11(B)、図11(C)、・・等のグラフを、全母点について求める。そして、これら全部の相対座標系上の隣接母点群のグラフを、各相対座標系の原点oを重ね合わせて表示すると、図11(D)の如きグラフが得られる。かかる相対座標系上での隣接母点群の分布パターンは、母点群を構成する任意の隣接する2母点間の距離は、0から無限大迄の一様分布ではなく、0よりも大きい(RAVG―ΔR)から、(RAVG+ΔR)迄の有限の範囲(半径RMINからRMAX迄のドーナツ形領域)内に分布するようになる。 That is, with respect to the generating point group described here, a coordinate system having each generating point as an origin (referred to as a relative coordinate system oxy), on the other hand, an actual two-dimensional plane (coordinate system) is absolute as described above. 11 (B), FIG. 11 (C),... In which all the generating points adjacent to the generating point placed on the origin are plotted on the coordinate system O-XY). Find the mother point. When the graphs of the adjacent generating points on all the relative coordinate systems are displayed with the origins o of the relative coordinate systems superimposed, a graph as shown in FIG. 11D is obtained. In the distribution pattern of adjacent mother point groups on the relative coordinate system, the distance between any two adjacent mother points constituting the mother point group is not a uniform distribution from 0 to infinity, but larger than zero. It is distributed within a finite range from (R AVG -ΔR) to (R AVG + ΔR) (a donut-shaped region from radius R MIN to R MAX ).

斯くの如く各母点間の距離を設定することによって、該母点群から以下に説明する方法で得られるボロノイ領域XA、更には、これから得られる開口領域42と同面積の正方形の1辺の長さである開口領域42の大きさ(乃至は開口領域の面積)の分布についても、一様分布(完全ランダム)ではなく、有限の範囲内に分布したものとなる。   Thus, by setting the distance between each generating point, the Voronoi region XA obtained from the generating point group by the method described below, and further, one side of a square having the same area as the opening region 42 obtained from this region can be obtained. The distribution of the size of the opening region 42 (or the area of the opening region), which is the length, is not a uniform distribution (completely random) but is distributed within a finite range.

なお、以上の母点を決定する工程において、距離r1の大きさを変化させることにより、一つあたりの開口領域42の大きさを調節することができる。具体的には、距離r1の大きさを小さくすることにより、一つあたりの開口領域42の大きさを小さくすることができ、逆に距離r1の大きさを大きくすることにより、一つあたりの開口領域42の大きさを大きくすることができる。また、距離r1と距離r2との差を変化させることにより、隣接する2母点間の距離が分散する範囲の大きさ(図11(D)におけるΔRの大きさ)を変化させることができる。具体的には、距離r1と距離r2との差を小さくすることにより、隣接する2母点間の距離のバラツキは小さくなる傾向を呈する。   Note that, in the step of determining the generating point, the size of the opening region 42 per one can be adjusted by changing the size of the distance r1. Specifically, by reducing the size of the distance r1, it is possible to reduce the size of the opening region 42 per one, and conversely by increasing the size of the distance r1, The size of the opening region 42 can be increased. Further, by changing the difference between the distance r1 and the distance r2, it is possible to change the size of the range in which the distance between two adjacent generating points is dispersed (ΔR in FIG. 11D). Specifically, by reducing the difference between the distance r1 and the distance r2, the variation in the distance between two adjacent generating points tends to be reduced.

次に、図12に示すように、配置された母点を基準にして、ボロノイ図を作成する。図12に示すように、ボロノイ図とは、隣接する2つの母点間に垂直二等分線を引き、その各垂直二等分線同士の交点で結ばれた線分で構成される図である。ここで、垂直二等分線の線分をボロノイ境界XBと呼び、ボロノイ境界XBの端部をなすボロノイ境界XB同士の交点をボロノイ点XPと呼び、ボロノイ境界XBに囲まれた領域をボロノイ領域XAと呼ぶ。   Next, as shown in FIG. 12, a Voronoi diagram is created based on the arranged generating points. As shown in FIG. 12, a Voronoi diagram is a diagram composed of line segments that are drawn at the intersection of two perpendicular bisectors by drawing a perpendicular bisector between two adjacent generating points. is there. Here, the line segment of the perpendicular bisector is called a Voronoi boundary XB, the intersection of the Voronoi boundaries XB forming the ends of the Voronoi boundary XB is called a Voronoi point XP, and a region surrounded by the Voronoi boundary XB is a Voronoi region Called XA.

図12のように作成されたボロノイ図において、各ボロノイ点XPが、導電性メッシュ40の分岐点46をなすようにする。そして、一つのボロノイ境界XBの端部をなす二つのボロノイ点XPの間に、一つの境界線分48を設ける。この際、境界線分48は、図3に示された例のように二つのボロノイ点XPの間を直線状に延びるように決定してもよいし、あるいは、他の境界線分48と接触しない範囲で二つのボロノイ点XPの間を種々の経路(例えば、円(弧)、楕円(弧)、抛物線、双曲線、正弦曲線、双曲線正弦曲線、楕円函数曲線、ベッセル関数曲線等の曲線状、折れ線状等の経路)で延びるようにしてもよい。なお、図3に示された例のように、境界線分48がボロノイ点XPの間を直線状に結ぶように決定された場合、各ボロノイ境界XBが、境界線分48を画成することになる。   In the Voronoi diagram created as shown in FIG. 12, each Voronoi point XP forms a branch point 46 of the conductive mesh 40. Then, one boundary line segment 48 is provided between two Voronoi points XP forming the end of one Voronoi boundary XB. At this time, the boundary line segment 48 may be determined so as to extend linearly between the two Voronoi points XP as in the example shown in FIG. Various paths (for example, circle (arc), ellipse (arc), fence line, hyperbola, sine curve, hyperbolic sine curve, elliptic function curve, Bessel function curve, etc.) between the two Voronoi points XP without It may be extended by a broken line or the like. In addition, as in the example illustrated in FIG. 3, when the boundary line segment 48 is determined to connect the Voronoi points XP in a straight line, each Voronoi boundary XB defines the boundary line segment 48. become.

各境界線分48の経路を決定した後、各境界線分48の線幅(太さ)を決定する。境界線分48の線幅は、例えば、開口率が上述した範囲となるように、すなわち、導電性メッシュ40が所望の電気伝導度および可視光透過率を発現するように、前述の如き範囲の値に決定される。以上のようにして、導電性メッシュ40のパターンを決定することができる。   After determining the path of each boundary line segment 48, the line width (thickness) of each boundary line segment 48 is determined. The line width of the boundary line segment 48 is, for example, in the range as described above so that the aperture ratio is in the above-described range, that is, the conductive mesh 40 exhibits desired electrical conductivity and visible light transmittance. Determined by value. As described above, the pattern of the conductive mesh 40 can be determined.

以上のような本実施の形態によれば、透明電極20の導電性メッシュ40が、二つの分岐点46の間を延びて開口領域42を画成する多数の境界線分48から形成されており、5本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42、6本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42および7本の境界線分48によって周囲を取り囲まれた開口領域42の少なくとも二種類が導電性メッシュ40に含まれており、且つ、導電性メッシュ40に含まれた5本、6本または7本のうちの同一本数の境界線分48によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域42の形状又は面積が一定とならないようになっている。この結果、規則的(周期的)に画素Pが配列された画像形成装置80に透明電極20を重ねた際に、縞状の模様(モアレ、干渉縞)および濃淡のムラが視認され得る程度に発生することを効果的に防止することができる。   According to the present embodiment as described above, the conductive mesh 40 of the transparent electrode 20 is formed from a large number of boundary segments 48 that extend between the two branch points 46 and define the opening region 42. An opening region 42 surrounded by five boundary segments 48, an opening region 42 surrounded by six boundary segments 48, and an opening region surrounded by seven boundary segments 48 At least two types of 42 are included in the conductive mesh 40, and the periphery is surrounded by the same number of boundary line segments 48 of five, six, or seven included in the conductive mesh 40. The shape or area of the plurality of opening regions 42 is not constant. As a result, when the transparent electrode 20 is overlaid on the image forming apparatus 80 in which the pixels P are regularly (periodically) arranged, stripe patterns (moire, interference fringes) and shading unevenness can be visually recognized. Occurrence can be effectively prevented.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。   Note that various modifications can be made to the above-described embodiment.

例えば、上述した実施の形態において、導電性メッシュ40の境界線分48が直線状に形成されている例を示したが、これに限られない。境界線分48が、既に説明したように、二つの分岐点46の間を曲線状等の種々の経路に沿って延びていてもよい。   For example, in the above-described embodiment, the example in which the boundary line segment 48 of the conductive mesh 40 is formed in a straight line is shown, but the present invention is not limited to this. As described above, the boundary line segment 48 may extend between the two branch points 46 along various paths such as a curved line.

さらに、上述した導電性メッシュ40のパターン設計方法は単なる一例に過ぎない。例えば、次の手順で母点を配置していってもよい。まず、図8と同様に、絶対座標系O−X―Yの任意の位置に一つめの母点BP1を配置する。次に、第1の母点BP1から距離rだけ離れた任意の位置に第2の母BP2を配置する。その後、第1の母点BP1から距離rだけ離れ且つ第2の母点BP2から距離r以上離れた任意の位置に第3の母点BP3を配置する。その後、第1の母点BP1から距離rだけ離れ且つ既に配置されている第1母点BP1以外の全ての母点BP2,BP3から距離r以上離れた任意の位置に、次の母点を順に配置していく。以上の手順で第1の母点BP1から距離rだけ離れた位置に母点を配置することができなくなったら、次に、第2の母点から距離rだけ離れ且つ既に配置されている第2母点BP2以外の全ての母点から距離r以上離れた任意の位置に、次の母点を順に配置していく。このように第2の母点BP2を基準にして、次の母点を配置することができなくなるまで母点を配置していく。その後、基準となる母点を順に変更していき、同様の手順で母点を形成していく。以上の手順で、導電性メッシュ40が形成されるべき領域内に母点を配置することができなくなるまで、母点を配置していく。導電性メッシュ40が形成されるべき領域内に母点を配置することができなくなった際に、母点を作製する工程が終了する。このような処理によっても、不規則的に配置された母点群が、導電性メッシュ40が形成されるべき領域内に一様に分散した状態とすることができる。   Furthermore, the pattern design method for the conductive mesh 40 described above is merely an example. For example, the mother point may be arranged in the following procedure. First, as in FIG. 8, the first generating point BP1 is arranged at an arbitrary position in the absolute coordinate system OXY. Next, the second mother BP2 is arranged at an arbitrary position separated from the first mother point BP1 by the distance r. Thereafter, the third mother point BP3 is arranged at an arbitrary position separated from the first mother point BP1 by the distance r and further away from the second mother point BP2 by the distance r or more. Thereafter, the next mother point is sequentially placed at an arbitrary position away from the first mother point BP1 by the distance r and at any position away from all the mother points BP2 and BP3 other than the first mother point BP1 already arranged by the distance r. Place it. If it becomes impossible to arrange the mother point at the position separated from the first mother point BP1 by the distance r by the above procedure, then the second mother point is separated from the second mother point by the distance r and is already arranged. The next generating points are arranged in order at an arbitrary position at a distance r or more from all generating points other than the generating point BP2. In this way, with the second generating point BP2 as a reference, the generating point is arranged until the next generating point cannot be arranged. Thereafter, the base point as a reference is sequentially changed, and the base point is formed in the same procedure. With the above procedure, the mother point is arranged until the mother point cannot be arranged in the region where the conductive mesh 40 is to be formed. When the generating point cannot be arranged in the region where the conductive mesh 40 is to be formed, the step of generating the generating point ends. Even with such processing, irregularly arranged genera points can be uniformly dispersed in the region where the conductive mesh 40 is to be formed.

さらには、次の手順で母点を配置していくこともできる。まず、図8と同様に、絶対座標系O−X―Yの任意の位置に一つめの母点BP1を配置する。次に、第1の母点BP1から距離r以上離れた任意の位置に第2の母BP2を配置する。その後、第1の母点BP1および第2の母点BP2のそれぞれから距離r以上離れた任意の位置に第3の母点BP3を配置する。その後、既に配置されている全ての母点から距離r以上離れた任意の位置に、次の母点を順に配置していく。以上の手順で、導電性メッシュ40が形成されるべき領域内に母点を配置することができなくなるまで、母点を配置していく。導電性メッシュ40が形成されるべき領域内に母点を配置することができなくなった際に、母点を作製する工程が終了する。このような処理によっても、不規則的に配置された母点群が、導電性メッシュ40が形成されるべき領域内に一様に分散した状態とすることができる。   Furthermore, the mother point can be arranged in the following procedure. First, as in FIG. 8, the first generating point BP1 is arranged at an arbitrary position in the absolute coordinate system OXY. Next, the second mother BP2 is arranged at an arbitrary position away from the first mother point BP1 by a distance r or more. Thereafter, the third generating point BP3 is arranged at an arbitrary position away from each of the first generating point BP1 and the second generating point BP2 by a distance r or more. Thereafter, the next mother point is sequentially arranged at an arbitrary position separated from the already arranged mother points by a distance r or more. With the above procedure, the mother point is arranged until the mother point cannot be arranged in the region where the conductive mesh 40 is to be formed. When the generating point cannot be arranged in the region where the conductive mesh 40 is to be formed, the step of generating the generating point ends. Even with such processing, irregularly arranged genera points can be uniformly dispersed in the region where the conductive mesh 40 is to be formed.

さらに、上述した遮光性メッシュ40のパターン設計方法においては、まず、平面内に特定の母点を作図し、ついで、該母点のボロノイ分割パターンとして導電性メッシュ40のパターンを形成する例を示したが、これには限られない。例えば、手作業にて、平面内に互いに大きさ及び形状の異なる5角形及び6角形の開口領域42をランダムに作図し、その際に、いずれの方向にも繰返し周期を持たず、各5角形及び6角形の大きさ(面積乃至外接円直径)が所定の範囲に収まるように留意して作図することによって、遮光性メッシュ40のパターンを作図してもよい。   Furthermore, in the pattern design method of the light-shielding mesh 40 described above, an example is shown in which a specific generating point is first drawn in a plane, and then the pattern of the conductive mesh 40 is formed as a Voronoi division pattern of the generating point. However, it is not limited to this. For example, the pentagonal and hexagonal opening regions 42 having different sizes and shapes are randomly drawn in a plane by hand, and each pentagon has no repetition period in any direction. The pattern of the light-shielding mesh 40 may be drawn by paying attention so that the hexagonal size (area or circumscribed circle diameter) falls within a predetermined range.

さらに、上述した実施の形態では、透明電極20の導電性メッシュ40の全領域において、上述した条件(A)および(B)、さらには、条件(C)〜(E)が満たされ、加えて、透明電極20の導電性メッシュ40の全領域内にわたって、開口領域42が周期性を持って配列されている方向が存在しないようになっている例を示した。しかしながら、透明電極20の導電性メッシュ40に含まれる一部の領域内において、条件(A)および(B)が満たされるようにしてもよい。   Furthermore, in the above-described embodiment, the above-described conditions (A) and (B), and further, the conditions (C) to (E) are satisfied in the entire region of the conductive mesh 40 of the transparent electrode 20. In the example, the direction in which the opening regions 42 are arranged with periodicity does not exist over the entire region of the conductive mesh 40 of the transparent electrode 20. However, the conditions (A) and (B) may be satisfied in a partial region included in the conductive mesh 40 of the transparent electrode 20.

典型的な変形例として、上述した条件(A)および(B)を満たす領域、好ましくは上述した条件(A)〜(E)を満たす領域、さらには、上述した条件(A)〜(E)を満たし且つ開口領域42が規則的に配列された方向が存在しない領域(単位メッシュ領域)Sを用意し、該領域Sが複数集合して導電性メッシュ40の全領域が構成されているようにしてもよい。すなわち、この形態においては、導電性メッシュ40の全領域中に、同一パターンで開口領域群42が配列されてなる単位メッシュ領域Sを2箇所以上含むようになる。この例において、一つの領域S内における導電性メッシュのパターンは、例えば、図8〜図5を参照しながら説明したパターン作成方法と同様にして作成することができ、また、上述した変形例によるパターン作成方法と同様にして作成することができる。特に最近では、プラズマディスプレイ装置に代表されるよう、画像表示装置の表示面の大型化が進んでいる。とりわけこのような大型画像表示装置に対しては、導電性メッシュ40が、複数の単位メッシュ領域の配列から構成されていて、且つ各々の単位メッシュ領域内においては互いに同一のパターンで開口領域42が配列されている構成とした場合、導電性メッシュ40のパターン作成を格段に容易化することが可能となる点において好ましい。   As typical modifications, a region that satisfies the above-described conditions (A) and (B), preferably a region that satisfies the above-described conditions (A) to (E), and further, the above-described conditions (A) to (E) And a region (unit mesh region) S that does not have a direction in which the opening regions 42 are regularly arranged is prepared, and a plurality of the regions S are aggregated so that the entire region of the conductive mesh 40 is configured. May be. That is, in this embodiment, two or more unit mesh regions S in which the opening region groups 42 are arranged in the same pattern are included in the entire region of the conductive mesh 40. In this example, the pattern of the conductive mesh in one region S can be created, for example, in the same manner as the pattern creation method described with reference to FIGS. It can be created in the same manner as the pattern creation method. In particular, recently, the display surface of an image display device has been increased in size as represented by a plasma display device. In particular, for such a large image display device, the conductive mesh 40 is composed of an array of a plurality of unit mesh areas, and the opening areas 42 have the same pattern in each unit mesh area. When it is set as the structure arranged, it is preferable in that the pattern creation of the conductive mesh 40 can be remarkably facilitated.

(着色フィルタとの組み合わせ)
本発明に係る特定の導電性メッシュ40を用いた透明電極20は、実質上、画素Pとのモアレを生じないとともに、濃淡のムラも生じないものである。しかしながら、詳細な原因は現在不明であるが、画像形成装置の出光面上に設置した場合、条件如何によっては、画像に微細なチラツキを生じる場合がある。斯かるチラツキを目立ち難くするため、透明電極20中、或いは該透明電極20を含む積層体構成の透明導電部材10中、或いは透明電極20を含む画像表示装置中の適宜位置に、可視光線中の特定波長域の中に吸収スペクトルを持つ着色フィルタを設けることが有効である。該着色フィルタとしては、無彩色(黒色乃至灰色)、有彩色(青、茶、緑等)いずれでもよいが、画像の色彩に影響が少ない無彩色のものが好ましい。
(Combination with coloring filter)
The transparent electrode 20 using the specific conductive mesh 40 according to the present invention substantially does not cause moiré with the pixel P and does not cause unevenness in density. However, although the detailed cause is currently unknown, when it is installed on the light exit surface of the image forming apparatus, a fine flicker may occur in the image depending on the conditions. In order to make such flickering inconspicuous, in the transparent electrode 20, in the transparent conductive member 10 having a laminated structure including the transparent electrode 20, or in an appropriate position in the image display device including the transparent electrode 20, in visible light. It is effective to provide a colored filter having an absorption spectrum in a specific wavelength range. The coloring filter may be an achromatic color (black to gray) or a chromatic color (blue, brown, green, etc.), but an achromatic color that has little influence on the color of the image is preferable.

(用途)
以上に説明してきた本発明の透明導電部材10は、各種用途に使用可能である。特に、テレビジョン受像装置、各種測定機器や計器類、各種事務用機器、各種医療機器、電算機器、電話機、電飾看板、各種遊戯機器等の表示部に用いられるプラズマディスプレイ(PDP)装置、ブラウン管ディスプレイ(CRT)装置、液晶ディスプレイ装置(LCD)、電場発光ディスプレイ(EL)装置などの画像表示装置、及びタッチパネルの透明電極への適用に好適である。また、本発明の透明導電部材10は、住宅、学校、病院、事務所、店舗等の建築物の窓、車両、航空機、船舶等の乗物の窓、電子レンジの窓等の等の各種家電製品の窓等に重ねて用いる透明電極シート用途にも使用可能である。
(Use)
The transparent conductive member 10 of the present invention described above can be used for various applications. In particular, a plasma display (PDP) device used for a display unit of a television receiver, various measuring instruments and instruments, various office equipment, various medical equipment, computer equipment, telephones, electric signboards, various game machines, etc., a cathode ray tube It is suitable for application to an image display device such as a display (CRT) device, a liquid crystal display device (LCD), an electroluminescent display (EL) device, and a transparent electrode of a touch panel. In addition, the transparent conductive member 10 of the present invention is used for various household electrical appliances such as windows for buildings such as houses, schools, hospitals, offices, stores, etc., windows for vehicles such as vehicles, aircraft, ships, and windows for microwave ovens. It can also be used for a transparent electrode sheet that is used by being overlapped on a window or the like.

次に、本発明に用いる帯電防止層であるハードコート層を実施例(製造例)により、さらに詳細に説明する。   Next, the hard coat layer which is the antistatic layer used in the present invention will be described in more detail by way of examples (production examples).

(製造例1)
UV硬化型導電性ハードコートインキ(ペルノックス社製、製品名;C4106、固形分約32%、五酸化アンチモン分散体)に、UV硬化型ウレタンアクリレート/ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)の質量比が65/35の混合体であるウレタン樹脂(日本合成化学株式会社製、製品名;UV−7600B)、及び光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名;イルガキュア184)を、下記の混合溶剤Aにて固形分が45%になるように再調整してハードコート層用組成物Aを得た。得られたハードコート層用組成物Aの配合比率を表1に示す。
混合溶剤Aは、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、メチルエチルケトン(MEK)、イソプロピルアルコール(IPA)、及びアセチルアセトンの4成分系のものであり、これらをPGME/MEK/IPA/アセチルアセトン=65/24/5/6の質量比とした。
透明基材として、干渉縞対策と易接着対策がされた厚み100μmのPETフィルム(東洋紡績株式会社製、A1598)の干渉縞対策面に、前記ハードコート層用組成物Aを、乾燥重量6g/m2を目標の塗布量として塗布して塗膜を形成し、オーブンにて70℃で1分間加熱して該塗膜を乾燥させ、さらに、塗膜に紫外線50mJ/cm2を照射して該塗膜を硬化させて、製造例1のハードコート積層体を作製した。
五酸化アンチモンを含む製造例1のハードコート層は、図15に断面のSEM写真(倍率5000倍)を示すように、五酸化アンチモンが帯電防止層中に粗密構造を有する形で分散している.
(Production Example 1)
The mass ratio of UV curable urethane acrylate / pentaerythritol triacrylate (PETA) to UV curable conductive hard coat ink (manufactured by Pernox, product name; C4106, solid content of about 32%, antimony pentoxide dispersion) is 65. / 35 urethane resin (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., product name; UV-7600B), and photopolymerization initiator as 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, The product name; Irgacure 184) was readjusted with the following mixed solvent A so that the solid content was 45% to obtain composition A for hard coat layer. Table 1 shows the blending ratio of the obtained composition A for hard coat layer.
The mixed solvent A is a four-component system of propylene glycol monomethyl ether (PGME), methyl ethyl ketone (MEK), isopropyl alcohol (IPA), and acetylacetone, and these are PGME / MEK / IPA / acetylacetone = 65/24/5. The mass ratio was / 6.
As the transparent substrate, the hard coat layer composition A was applied to the surface of the interference fringe countermeasure surface of a 100 μm thick PET film (Toyobo Co., Ltd., A1598) on which interference fringe countermeasures and easy adhesion countermeasures were applied. A coating film is formed by applying m 2 as a target coating amount, heated in an oven at 70 ° C. for 1 minute to dry the coating film, and further, the coating film is irradiated with ultraviolet rays of 50 mJ / cm 2. The coating film was cured to produce the hard coat laminate of Production Example 1.
In the hard coat layer of Production Example 1 containing antimony pentoxide, as shown in the cross-sectional SEM photograph (magnification 5000 times), antimony pentoxide is dispersed in a form having a dense structure in the antistatic layer. .

(製造例2)
UV−7600Bの代わりに、UN904(根上工業株式会社製;UV硬化型ウレタンアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)=80/20の混合体)とPET30(日本化薬株式会社製、PETA)とを質量比7:3で混合したものを使用した点以外は実施例1と同様にして、製造例2のハードコート積層体を作製した。
(Production Example 2)
Instead of UV-7600B, UN904 (Negami Kogyo Co., Ltd .; UV curable urethane acrylate / dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) = 80/20 mixture) and PET30 (Nippon Kayaku Co., Ltd., PETA) A hard coat laminate of Production Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that a mixture of 7 and 3 was used.

(製造例3)
UV−7600Bの代わりに、UV1700B(日本合成化学株式会社製;UV硬化型ウレタンアクリレート/DPHA=60/40の混合体)を使用した点以外は製造例1と同様にして、製造例3のハードコート積層体を作製した。
(Production Example 3)
The hardware of Production Example 3 was the same as Production Example 1 except that UV1700B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .; a mixture of UV curable urethane acrylate / DPHA = 60/40) was used instead of UV-7600B. A coat laminate was prepared.

(製造例4)
UV−7600Bの代わりに、DPHA40H(日本化薬株式会社製;UV硬化型ウレタンアクリレート/DPHA=60/40の混合体)を使用した点以外は実施例1と同様にして、製造例4のハードコート積層体を作製した。
(Production Example 4)
The hardware of Production Example 4 was the same as Example 1 except that DPHA40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; UV curable urethane acrylate / DPHA = 60/40 mixture) was used instead of UV-7600B. A coat laminate was prepared.

(製造例5)
UV−7600Bの代わりに、BS577(荒川化学工業株式会社製;UV硬化型ウレタンアクリレート/PETA=30/70の混合体)を使用した点以外は製造例1と同様にして、製造例5のハードコート積層体を作製した。
(Production Example 5)
Hardware of Production Example 5 is the same as Production Example 1 except that BS577 (Arakawa Chemical Industries, Ltd .; UV curable urethane acrylate / PETA = 30/70 mixture) is used instead of UV-7600B. A coat laminate was prepared.

(製造例6)
C4106の配合量を26.025部から50.5部に増大した点以外は、製造例1と同様にして、製造例6のハードコート積層体を作製した。
(Production Example 6)
A hard coat laminate of Production Example 6 was produced in the same manner as Production Example 1, except that the amount of C4106 was increased from 26.025 parts to 50.5 parts.

(製造例7)
UV−7600Bの代わりに、UV−7600B(日本合成化学株式会社製;UV硬化型ウレタンアクリレート/PETA=65/35の混合体)とPETAとを質量比60/40で混合したものを使用した点以外は製造例1と同様にして、製造例7のハードコート積層体を作製した。
(Production Example 7)
Instead of UV-7600B, a mixture of UV-7600B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .; UV curable urethane acrylate / PETA = 65/35) and PETA at a mass ratio of 60/40 was used. Except for this, the hard coat laminate of Production Example 7 was produced in the same manner as Production Example 1.

(製造例8)
UV−7600Bの代わりに、UV−7600B(日本合成化学株式会社製;UV硬化型ウレタンアクリレート/PETA=65/35の混合体)と、 M315(東亜合成株式会社製、モノマー)とを質量比60/40で混合したものを使用した点以外は製造例1と同様にして、製造例8のハードコート積層体を作製した。
(Production Example 8)
Instead of UV-7600B, a mass ratio of UV-7600B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .; mixture of UV curable urethane acrylate / PETA = 65/35) and M315 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., monomer) is 60. A hard coat laminate of Production Example 8 was produced in the same manner as in Production Example 1 except that a mixture of 40 was used.

(製造例9)
C4106の配合量を26.025部から78.0部に増大した点以外は、製造例1と同様にして、製造例9のハードコート積層体を作製した。
(Production Example 9)
A hard coat laminate of Production Example 9 was produced in the same manner as Production Example 1 except that the amount of C4106 was increased from 26.025 parts to 78.0 parts.

(製造例10)
UV−7600Bの代わりに、UN904(根上工業株式会社製;UV硬化型ウレタンアクリレート/DPHA=80/20)の混合体)を使用した点以外は製造例1と同様にして、製造例10のハードコート積層体を作製した。
(Production Example 10)
Hardware of Production Example 10 is the same as Production Example 1 except that UN904 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd .; UV curable urethane acrylate / DPHA = 80/20) is used instead of UV-7600B. A coat laminate was prepared.

(比較製造例1)
UV−7600Bの代わりに、PET30(日本化薬株式会社製;PETA)を使用した点以外は製造例1と同様にして、比較製造例1のハードコート積層体を作製した。
(Comparative Production Example 1)
A hard coat laminate of Comparative Production Example 1 was produced in the same manner as Production Example 1 except that PET30 (Nippon Kayaku Co., Ltd .; PETA) was used instead of UV-7600B.

(比較製造例2)
UV−7600Bの代わりに、DPHA(日本化薬株式会社製;6官能モノマー)を使用した点以外は製造例1と同様にして、比較製造例2のハードコート積層体を作製した。
(Comparative Production Example 2)
A hard coat laminate of Comparative Production Example 2 was produced in the same manner as Production Example 1 except that DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; hexafunctional monomer) was used instead of UV-7600B.

(比較製造例3)
UV−7600Bの代わりに、BS371(荒川化学株式会社製;エポキシアクリレート)を使用した点以外は製造例1と同様にして、比較製造例3のハードコート積層体を作製した。
(Comparative Production Example 3)
A hard coat laminate of Comparative Production Example 3 was produced in the same manner as Production Example 1 except that BS371 (Arakawa Chemical Co., Ltd .; epoxy acrylate) was used instead of UV-7600B.

(比較製造例4)
UV−7600Bの代わりに、M8030(東亜合成株式会社製;ポリエステルアクリレート)を使用した点以外は製造例1と同様にして、比較製造例4のハードコート積層体を作製した。
(Comparative Production Example 4)
A hard coat laminate of Comparative Production Example 4 was produced in the same manner as Production Example 1 except that M8030 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd .; polyester acrylate) was used instead of UV-7600B.

(比較製造例5)
帯電防止材料を、五酸化アンチモンからATOに変更した点以外は、製造例1と同様にして、比較製造例5のハードコート積層体を作製した。
(Comparative Production Example 5)
A hard coat laminate of Comparative Production Example 5 was produced in the same manner as Production Example 1 except that the antistatic material was changed from antimony pentoxide to ATO.

上記で得られたハードコート積層体について、下記の項目について評価した。
(表面抵抗値測定)
上記で得られた光学積層体の表面抵抗値を、三菱化学社製Hiresta IP MCP−HT260にて測定し、下記の基準にて評価した。
◎:1×1010Ω/□未満
○:1×1010Ω/□以上〜1013Ω/□未満
×:1013Ω/□以上
The following items were evaluated for the hard coat laminate obtained above.
(Surface resistance measurement)
The surface resistance value of the optical layered body obtained above was measured with a Hiresta IP MCP-HT260 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation and evaluated according to the following criteria.
◎: Less than 1 × 10 10 Ω / □ ○: 1 × 10 10 Ω / □ or more and less than 10 13 Ω / □ ×: 10 13 Ω / □ or more

(ヘイズ)
PET基材面側をガラスに粘着させて、ハードコート積層体のヘイズを、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K−7136に準拠した方法により測定した。
(Haze)
The PET substrate surface side is adhered to glass, and the haze of the hard coat laminate is measured by a method based on JIS K-7136 using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150). did.

(密着性)
得られたハードコート積層体のハードコート層のフィルムの密着性については、クロスカット基盤目試験を行い、元のカット部数(100)に対するテープを剥がした後に基材上に残存したカット部数の比について、下記の基準にて評価した。
○:90/100〜100/100
△:50/100〜89/100
×:0/100〜49/100
(Adhesion)
About the adhesiveness of the film of the hard coat layer of the obtained hard coat laminate, the ratio of the number of cut parts remaining on the substrate after the tape was peeled from the original number of cut parts (100) by performing a cross-cut base eye test. Was evaluated according to the following criteria.
○: 90/100 to 100/100
Δ: 50/100 to 89/100
X: 0/100 to 49/100

(鉛筆硬度)
各ハードコート積層体を、温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用鉛筆(硬度HB〜3H)を用いて、JISK5600−5−4(1999)が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、4.9Nの荷重にて、ハードコート層が形成された表面の鉛筆硬度を測定した。
(Pencil hardness)
Each hard coat laminate was conditioned for 2 hours under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then using a test pencil (hardness HB to 3H) specified by JIS-S-6006, JISK5600-5-5 According to the pencil hardness evaluation method specified by No. 4 (1999), the pencil hardness of the surface on which the hard coat layer was formed was measured under a load of 4.9 N.

上記各製造例1〜10及び比較製造例1〜5のハードコート層の組成と上記の評価による性能をまとめて表2に示す。   Table 2 summarizes the compositions of the hard coat layers of the above Production Examples 1 to 10 and Comparative Production Examples 1 to 5 and the performance according to the above evaluation.

表2より、各製造例のハードコート積層体は、帯電防止性に優れ、かつ、ヘイズも良好であった。   From Table 2, the hard coat laminated body of each manufacture example was excellent in antistatic property, and the haze was also favorable.

10 透明導電部材
20 透明電極、透明電極シート
30 透明基材
40 導電性メッシュ
42 開口領域
44 ライン部
46 分岐点
48 境界線分
50 帯電防止層
52 導電粒子
54 樹脂バインダー
60 接着剤層
70 任意の機能層
80 画像表示パネル
120 従来の透明電極シート
140 従来の導電性メッシュ(正方格子パターン)
XA ボロノイ領域
XB ボロノイ境界
XP ボロノイ点
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent conductive member 20 Transparent electrode, transparent electrode sheet 30 Transparent base material 40 Conductive mesh 42 Opening area 44 Line part 46 Branch point 48 Boundary line segment 50 Antistatic layer 52 Conductive particle 54 Resin binder 60 Adhesive layer 70 Arbitrary function Layer 80 Image display panel 120 Conventional transparent electrode sheet 140 Conventional conductive mesh (square lattice pattern)
XA Voronoi region XB Voronoi boundary XP Voronoi point

Claims (3)

シート状の透明電極、および帯電防止層が積層された透明導電部材であって、
前記透明電極は、透明基材および前記透明基材上に設けられた二つの分岐点の間を延びて開口領域を画成する多数の境界線分から形成された導電性メッシュを備え、
該導電性メッシュは、5本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域、6本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域および7本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域を含み、
前記領域に含まれた5本、6本または7本のうちの同一本数の境界線分によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域の形状又は面積は一定ではなく、
1つの分岐点から分岐する境界線分の本数の平均値(平均分岐数)N AVG が、3<N AVG <4であり、
前記帯電防止層は五酸化アンチモン粒子及びウレタン樹脂を含み、前記五酸化アンチモンは帯電防止層中に粗密構造を有する形で分散している、ことを特徴とする透明導電部材。
A transparent conductive member in which a sheet-like transparent electrode and an antistatic layer are laminated,
The transparent electrode includes a transparent base material and a conductive mesh formed from a number of boundary line segments that extend between two branch points provided on the transparent base material and define an open region,
The conductive mesh has an opening area surrounded by five boundary lines, an opening area surrounded by six boundary lines, and an opening area surrounded by seven boundary lines. including the frequency,
The shape or area of the plurality of open regions surrounded by the same number of boundary line segments out of 5, 6, or 7 included in the region is not constant,
The average value (average branch number) N AVG of the number of boundary line branches from one branch point is 3 < NAVG <4,
The antistatic layer comprises antimony pentoxide particles and a urethane resin, and the antimony pentoxide is dispersed in the antistatic layer in a form having a dense structure.
前記領域には、6本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域が最も多く含まれている、請求項1に記載の透明導電部材。 The transparent conductive member according to claim 1, wherein the region includes the largest number of opening regions surrounded by six boundary line segments. 前記領域に含まれた開口領域のうち、k本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域の数をNとすると、
kが3≦k≦5を満たす整数の場合に、N≦Nk+1となり、
kが6≦kを満たす整数の場合に、N≧Nk+1となる、請求項1または2に記載の透明導電部材。
Of the open areas included in the area, the number of open areas surrounded by k boundary lines is N k .
When k is an integer satisfying 3 ≦ k ≦ 5, N k ≦ N k + 1 is satisfied,
If k is an integer satisfying 6 ≦ k, the N kN k + 1, a transparent conductive member according to claim 1 or 2.
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