JP5933137B1 - Transparent conductive film lamination film and transparent conductive film - Google Patents

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Abstract

パターニングされた透明導電膜が積層される透明導電膜積層用フィルム1であって、透明プラスチック基材2と、透明プラスチック基材2の少なくとも片面に積層された機能性層3とを備え、機能性層3の屈折率が1.52〜2.00であり、透明導電膜積層用フィルム1にパターニングされた透明導電膜が積層されたときに、透明導電膜が存在する部分および透明導電膜が存在しない部分におけるL*a*b*表色系のb*がそれぞれ−2〜2となるように、機能性層3が着色剤を含有する透明導電膜積層用フィルム1。かかる透明導電膜積層用フィルム1によれば、層構成を簡略にした場合でも、透明導電膜のパターンを視認し難くすることができる。A transparent conductive film laminating film 1 on which a patterned transparent conductive film is laminated, comprising a transparent plastic substrate 2 and a functional layer 3 laminated on at least one surface of the transparent plastic substrate 2, and having functionality When the layer 3 has a refractive index of 1.52 to 2.00 and a patterned transparent conductive film is laminated on the transparent conductive film laminating film 1, a portion where the transparent conductive film exists and a transparent conductive film exist. The transparent conductive film laminating film 1 in which the functional layer 3 contains a colorant so that b * of the L * a * b * color system in the portion not to be -2 to 2 respectively. According to the transparent conductive film laminating film 1, it is possible to make it difficult to visually recognize the pattern of the transparent conductive film even when the layer configuration is simplified.

Description

本発明は、透明導電膜積層用フィルム、およびこれを用いて製造される透明導電性フィルムに関するものである。   The present invention relates to a transparent conductive film laminating film and a transparent conductive film produced using the film.

画像表示部に直接触れることにより情報を入力できるタッチパネルは、光を透過する入力装置を各種ディスプレイ上に配置しているものであり、代表的な形式としては、抵抗膜式タッチパネルや静電容量式タッチパネルが挙げられる。   A touch panel that can input information by directly touching the image display unit has an input device that transmits light disposed on various displays. Typical types include a resistive touch panel and a capacitance type touch panel. A touch panel is mentioned.

これらのタッチパネルでは、スズドープ酸化インジウム(ITO)等からなる透明導電膜が透明プラスチック基材上に積層された透明導電性フィルムが使用されることがある。   In these touch panels, a transparent conductive film in which a transparent conductive film made of tin-doped indium oxide (ITO) or the like is laminated on a transparent plastic substrate may be used.

静電容量式タッチパネルにおいては、指のタッチ位置を検知するために、透明導電膜が積層された後、例えば、ライン状にパターニングされた透明導電性フィルム2枚が、上記透明導電膜が互いにクロスし格子状になるように配置される。このようにして得られる静電容量式タッチパネルには、透明導電膜が積層された箇所と積層されていない箇所とが存在し、透明導電膜の有無で反射率や色味が異なるため、2枚の透明導電性フィルムにより形成される透明導電膜の格子状パターンが認識されてしまい、結果としてディスプレイとしての視認性を低下させてしまうという問題がある。   In a capacitive touch panel, in order to detect the touch position of a finger, after the transparent conductive film is laminated, for example, two transparent conductive films patterned in a line shape are crossed with each other. And arranged in a grid pattern. In the capacitive touch panel thus obtained, there are a portion where the transparent conductive film is laminated and a portion where the transparent conductive film is not laminated, and the reflectance and color are different depending on the presence or absence of the transparent conductive film. There is a problem that the lattice-like pattern of the transparent conductive film formed by the transparent conductive film is recognized, and as a result, the visibility as a display is lowered.

この格子状パターン、すなわち透明導電膜が積層された部分を視認し難くするために、透明基材フィルム(透明プラスチック基材)上にハードコート層を積層し、さらに高屈折率層、低屈折率層および透明導電膜を順に積層してなる透明導電性フィルムが提案されている(特許文献1参照)。   In order to make it difficult to see the lattice pattern, that is, the portion where the transparent conductive film is laminated, a hard coat layer is laminated on the transparent substrate film (transparent plastic substrate), and further, a high refractive index layer and a low refractive index. A transparent conductive film formed by sequentially laminating a layer and a transparent conductive film has been proposed (see Patent Document 1).

特開2011−134482号公報JP 2011-134482 A

しかしながら、上記のようにハードコート層、高屈折率層および低屈折率層の複数の層を形成するのは、製造工程上煩雑であり、生産コストが高いという問題がある。また、ハードコート層を省略しようとしても、高屈折率層および低屈折率層は、光学的な干渉が生じる膜厚(例えば数十nm)を有し、その光学的な干渉を利用して透明導電膜のパターニングを見難くするものであり、かかる膜厚では実使用に耐え得る硬度の発現は難しい。   However, the formation of a plurality of hard coat layers, high refractive index layers, and low refractive index layers as described above is problematic in terms of the manufacturing process and has a problem of high production costs. Even if the hard coat layer is omitted, the high-refractive index layer and the low-refractive index layer have a film thickness (for example, several tens of nanometers) at which optical interference occurs, and are transparent using the optical interference. It is difficult to see the patterning of the conductive film, and with such a film thickness, it is difficult to develop hardness that can withstand actual use.

本発明は、上記の実状に鑑みてなされたものであり、層構成を簡略にした場合でも、透明導電膜のパターンが視認され難い透明導電性フィルム、およびその製造に用いられる透明導電膜積層用フィルムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above situation, and even when the layer configuration is simplified, the transparent conductive film in which the pattern of the transparent conductive film is difficult to be visually recognized, and the transparent conductive film used for the production thereof are laminated. The object is to provide a film.

上記目的を達成するために、第1に本発明は、パターニングされた透明導電膜が積層される透明導電膜積層用フィルムであって、透明プラスチック基材と、前記透明プラスチック基材の少なくとも片面に積層された機能性層とを備え、前記機能性層の屈折率が1.52〜2.00であり、前記透明導電膜積層用フィルムにパターニングされた透明導電膜が積層されたときに、前記透明導電膜が存在する部分および前記透明導電膜が存在しない部分におけるL*a*b*表色系のb*がそれぞれ−2〜2となるように、前記機能性層が着色剤を含有することを特徴とする透明導電膜積層用フィルムを提供する(発明1)。   In order to achieve the above object, first, the present invention provides a transparent conductive film laminating film in which patterned transparent conductive films are laminated, wherein the transparent plastic substrate and at least one surface of the transparent plastic substrate are provided. When the transparent conductive film patterned on the transparent conductive film laminating film is laminated, the functional layer has a refractive index of 1.52 to 2.00. The functional layer contains a colorant so that b * of the L * a * b * color system in the part where the transparent conductive film is present and the part where the transparent conductive film is not present are -2 to 2, respectively. A transparent conductive film laminating film is provided (Invention 1).

上記発明(発明1)によれば、上記のように機能性層の屈折率を制御するとともに、機能性層が所定量で着色剤を含有することにより、従来の高屈折率層や低屈折率層を形成する必要がなく、透明導電膜のパターンを視認し難くすることができる。   According to the said invention (invention 1), while controlling the refractive index of a functional layer as mentioned above, a functional layer contains a coloring agent by a predetermined amount, The conventional high refractive index layer and low refractive index There is no need to form a layer, and the pattern of the transparent conductive film can be made difficult to visually recognize.

上記発明(発明1)において、前記機能性層は、前記透明プラスチック基材に直接積層されており、前記透明導電膜は、前記機能性層に直接積層されることが好ましい(発明2)。   In the said invention (invention 1), it is preferable that the said functional layer is directly laminated | stacked on the said transparent plastic base material, and the said transparent conductive film is laminated | stacked directly on the said functional layer (invention 2).

上記発明(発明1,2)において、前記機能性層の厚さは、0.05〜10μmであることが好ましい(発明3)。   In the said invention (invention 1 and 2), it is preferable that the thickness of the said functional layer is 0.05-10 micrometers (invention 3).

上記発明(発明1〜3)において、前記機能性層は、ハードコート層であることが好ましい(発明4)。   In the said invention (invention 1-3), it is preferable that the said functional layer is a hard-coat layer (invention 4).

第2に本発明は、前記透明導電膜積層用フィルム(発明1〜4)と、前記透明導電膜積層用フィルムの前記機能性層に積層された、パターニングされた透明導電膜とを備えたことを特徴とする透明導電性フィルムを提供する(発明5)。   2ndly this invention was equipped with the said transparent conductive film lamination | stacking film (invention 1-4) and the patterned transparent conductive film laminated | stacked on the said functional layer of the said transparent conductive film lamination | stacking film. A transparent conductive film is provided (Invention 5).

本発明に係る透明導電膜積層用フィルムによれば、層構成を簡略にした場合でも、透明導電膜のパターンを視認し難くすることができる。また、本発明に係る透明導電性フィルムは、層構成が簡略であった場合でも、透明導電膜のパターンが視認され難いものである。   According to the transparent conductive film laminating film of the present invention, it is possible to make it difficult to visually recognize the pattern of the transparent conductive film even when the layer configuration is simplified. Moreover, the transparent conductive film which concerns on this invention is a thing in which the pattern of a transparent conductive film is hard to be visually recognized even when a layer structure is simple.

本発明の一実施形態に係る透明導電膜積層用フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the film for transparent conductive film lamination which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the transparent conductive film which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について説明する。
〔透明導電膜積層用フィルム〕
図1は本発明の一実施形態に係る透明導電膜積層用フィルムの断面図である。本実施形態に係る透明導電膜積層用フィルム1は、透明プラスチック基材2と、透明プラスチック基材2の片面(図1では上側)に積層された機能性層3とから構成される。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
[Transparent conductive film lamination film]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a transparent conductive film laminating film according to an embodiment of the present invention. The transparent conductive film laminating film 1 according to this embodiment includes a transparent plastic substrate 2 and a functional layer 3 laminated on one side (the upper side in FIG. 1) of the transparent plastic substrate 2.

本実施形態に係る透明導電膜積層用フィルム1において、機能性層3は透明プラスチック基材2に直接積層され、透明導電膜は機能性層3に直接積層されることが好ましい。これにより、従来の高屈折率層や低屈折率層を形成する必要がなく、層構成を簡略にすることができ、簡便な製造工程により透明導電膜積層用フィルム1の生産コストの低減を図ることができる。なお、「透明プラスチック基材に直接積層される」とは、透明プラスチック基材のプラスチックフィルム本体または当該プラスチックフィルム本体に一体化して設けられた層(例えば易接着層等の層であり、高屈折率層や低屈折率層を除く)に、従来の高屈折率層や低屈折率層等の層を介在させることなく、積層されることを意味する。   In the transparent conductive film laminating film 1 according to this embodiment, the functional layer 3 is preferably laminated directly on the transparent plastic substrate 2, and the transparent conductive film is preferably laminated directly on the functional layer 3. Thereby, it is not necessary to form a conventional high refractive index layer or low refractive index layer, the layer configuration can be simplified, and the production cost of the transparent conductive film laminating film 1 is reduced by a simple manufacturing process. be able to. “Directly laminated on a transparent plastic substrate” means a plastic film body of a transparent plastic substrate or a layer provided integrally with the plastic film body (for example, a layer such as an easy-adhesion layer, which has a high refractive index. It means to be laminated without interposing a conventional layer such as a high refractive index layer and a low refractive index layer on the refractive index layer and the low refractive index layer).

<機能性層>
本実施形態に係る透明導電膜積層用フィルム1の機能性層3は、屈折率が1.52〜2.00であり、好ましくは1.55〜1.90であり、特に好ましくは1.65〜1.85である。機能性層3の屈折率がかかる範囲にあることで、透明導電膜との屈折率差が小さくなる。これにより、透明導電膜が存在する部分における反射光強度と透明導電膜が存在しない部分における反射光強度とが近くなり、透明導電膜のパターンが視認され難くなる。なお、本明細書における屈折率は、JIS K7142:2008に準拠して、エリプソメーターにより測定した値とする。
<Functional layer>
The functional layer 3 of the transparent conductive film laminating film 1 according to this embodiment has a refractive index of 1.52 to 2.00, preferably 1.55 to 1.90, and particularly preferably 1.65. ~ 1.85. When the refractive index of the functional layer 3 is within such a range, the difference in refractive index from the transparent conductive film is reduced. Thereby, the reflected light intensity in the portion where the transparent conductive film exists and the reflected light intensity in the portion where the transparent conductive film does not exist become close, and the pattern of the transparent conductive film becomes difficult to be visually recognized. In addition, the refractive index in this specification shall be the value measured with the ellipsometer based on JISK7142: 2008.

また、本実施形態に係る透明導電膜積層用フィルム1の機能性層3は、当該透明導電膜積層用フィルム1にパターニングされた透明導電膜が積層されたときに、その透明導電膜が存在する部分および透明導電膜が存在しない部分のL*a*b*表色系のb*がそれぞれ−2〜2となるように、着色剤を含有する。一般的に透明導電膜は黄色っぽい色彩を有するため、透明導電膜が存在する部分と透明導電膜が存在しない部分とでは色彩に基づく外観の差が大きい。しかし、上記のように機能性層3が着色剤を含有し、b*を−2〜2とすることにより、透明導電膜が存在する部分の黄色が緩和され、透明導電膜が存在する部分の色彩と透明導電膜が存在しない部分の色彩とに基づく外観の差が小さくなる。これにより、上記の屈折率による効果と相まって、透明導電膜のパターンがより視認され難くなる。   Moreover, the functional layer 3 of the transparent conductive film laminating film 1 according to the present embodiment is present when the patterned transparent conductive film is laminated on the transparent conductive film laminating film 1. The colorant is contained so that the b * of the L * a * b * color system of the part and the part where the transparent conductive film does not exist is -2 to 2, respectively. In general, since a transparent conductive film has a yellowish color, a difference in appearance based on the color is large between a portion where the transparent conductive film is present and a portion where the transparent conductive film is not present. However, when the functional layer 3 contains a colorant and b * is set to -2 to 2 as described above, the yellow color of the portion where the transparent conductive film is present is alleviated and the portion where the transparent conductive film is present is reduced. The difference in appearance based on the color and the color of the portion where the transparent conductive film does not exist is reduced. Thereby, combined with the effect of the refractive index, the pattern of the transparent conductive film is more difficult to be visually recognized.

上記b*は、上記の通り−2〜2であり、好ましくは−1.9〜1.9であり、特に好ましくは−1.8〜1.8であり、さらに好ましくは−1.7〜1.7である。なお、b*の値は、JIS Z8722に準拠したものとする。   The b * is −2 to 2, as described above, preferably −1.9 to 1.9, particularly preferably −1.8 to 1.8, and more preferably −1.7 to 1.7. Note that the value of b * conforms to JIS Z8722.

着色剤としては、上記のb*の値を満たすことができ、かつ、透明導電膜に悪影響を与えないものであれば、特に制限されずに使用することができる。着色剤は、b*を所定値にする観点から、青色着色剤であることが好ましい。さらに青色着色剤は、顔料であっても、染料であってもよいが、透明導電膜形成時等における熱安定性の観点から、顔料を使用することが好ましい。   Any colorant can be used without particular limitation as long as it satisfies the above b * value and does not adversely affect the transparent conductive film. The colorant is preferably a blue colorant from the viewpoint of setting b * to a predetermined value. Further, the blue colorant may be a pigment or a dye, but it is preferable to use a pigment from the viewpoint of thermal stability when forming a transparent conductive film.

青色顔料としては、例えば、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、フタロシアニンブルー、無機金属フタロシアニンブルー(例えば、銅フタロシアニンブルー)、フタロシアニンブルー部分塩素化物、ファーストスカイブルー、インダスレンブルーBC等が挙げられ、1種を単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。上記の中でも、耐熱性と硬度の観点から、コバルトブルーまたは銅フタロシアニンブルーが特に好ましい。   Examples of blue pigments include bitumen, cobalt blue, alkali blue lake, Victoria blue lake, phthalocyanine blue, inorganic metal phthalocyanine blue (for example, copper phthalocyanine blue), phthalocyanine blue partially chlorinated, first sky blue, induslen blue BC, etc. 1 type can be used individually or in mixture of 2 or more types. Among these, cobalt blue or copper phthalocyanine blue is particularly preferable from the viewpoints of heat resistance and hardness.

機能性層3は、着色剤を0.01〜30質量%含有することが好ましく、特に0.05〜25質量%含有することが好ましく、さらには0.4〜18質量%含有することが好ましく、5〜18質量%含有することが最も好ましい。機能性層3がかかる範囲で着色剤を含有することにより、上記のb*が安定的に前述した範囲に入り易くなり、また、機能性層3の膜強度を確保することもできる。   The functional layer 3 preferably contains 0.01 to 30% by mass of a colorant, particularly preferably 0.05 to 25% by mass, and more preferably 0.4 to 18% by mass. 5 to 18% by mass is most preferable. When the functional layer 3 contains a colorant within such a range, the above b * can easily stably enter the above-described range, and the film strength of the functional layer 3 can be secured.

ここで、機能性層3は、ハードコート層であることが好ましい。これにより、本実施形態に係る透明導電膜積層用フィルム1は、別途ハードコート層を設ける必要がない。   Here, the functional layer 3 is preferably a hard coat layer. Thereby, the transparent conductive film laminating film 1 according to the present embodiment does not require a separate hard coat layer.

機能性層3は、活性エネルギー線硬化性成分、熱硬化性成分等の硬化性成分および着色剤を含有する組成物を硬化させた硬化物により構成されることが好ましく、特に、活性エネルギー線硬化性成分および着色剤を含有する組成物(以下、「組成物C」という場合がある。)を活性エネルギー線で硬化させた硬化物により構成されることが好ましい。これにより、機能性層3はハードコート層になり得る。   The functional layer 3 is preferably composed of a cured product obtained by curing a composition containing a curable component such as an active energy ray curable component and a thermosetting component and a colorant, and in particular, active energy ray curable. It is preferable to be composed of a cured product obtained by curing a composition containing an ionic component and a colorant (hereinafter sometimes referred to as “composition C”) with active energy rays. Thereby, the functional layer 3 can be a hard coat layer.

ここで、活性エネルギー線とは、電磁波または荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものをいい、具体的には、紫外線や電子線等が挙げられる。活性エネルギー線の中でも、取扱いが容易な紫外線が特に好ましい。   Here, active energy rays refer to those having energy quanta among electromagnetic waves or charged particle beams, and specific examples include ultraviolet rays and electron beams. Among active energy rays, ultraviolet rays that are easy to handle are particularly preferable.

活性エネルギー線硬化性成分としては、機能性層3に所望の屈折率および硬度を付与できるものを適宜選択すればよい。具体的な活性エネルギー線硬化性成分としては、多官能性(メタ)アクリレート系モノマー、(メタ)アクリレート系プレポリマー、活性エネルギー線硬化性を有するポリマー等が挙げられる。中でも多官能性(メタ)アクリレート系モノマーおよび/または(メタ)アクリレート系プレポリマーであることが好ましい。多官能性(メタ)アクリレート系モノマーおよび(メタ)アクリレート系プレポリマーは、それぞれ単独で使用してもよいし、両者を併用してもよい。なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートの両方を意味する。他の類似用語も同様である。   As the active energy ray-curable component, those capable of imparting a desired refractive index and hardness to the functional layer 3 may be appropriately selected. Specific examples of the active energy ray-curable component include polyfunctional (meth) acrylate monomers, (meth) acrylate prepolymers, and polymers having active energy ray curability. Of these, polyfunctional (meth) acrylate monomers and / or (meth) acrylate prepolymers are preferred. The polyfunctional (meth) acrylate monomer and the (meth) acrylate prepolymer may be used alone or in combination. In the present specification, (meth) acrylate means both acrylate and methacrylate. The same applies to other similar terms.

多官能性(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、アダマンタンジ(メタ)アクリレート、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等の多官能性(メタ)アクリレートが挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the multifunctional (meth) acrylate monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol diene. (Meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified di (meth) acrylate phosphoric acid, allylation Cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentae Thritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol Multifunctional (meth) such as hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, adamantane di (meth) acrylate, 9,9-bis [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene An acrylate is mentioned. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.

一方、(メタ)アクリレート系プレポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等のプレポリマーが挙げられる。   On the other hand, examples of the (meth) acrylate-based prepolymer include polyester acrylate-based, epoxy acrylate-based, urethane acrylate-based, polyol acrylate-based prepolymers, and the like.

ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば、多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。   Examples of the polyester acrylate-based prepolymer include esterification of a hydroxyl group of a polyester oligomer having hydroxyl groups at both ends obtained by condensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol with (meth) acrylic acid, It can be obtained by esterifying the terminal hydroxyl group of an oligomer obtained by adding alkylene oxide to carboxylic acid with (meth) acrylic acid.

エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。例えば、フェノールノボラックアクリレート系プレポリマーが好ましく挙げられる。   The epoxy acrylate prepolymer can be obtained, for example, by reacting (meth) acrylic acid with an oxirane ring of a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy resin or novolak type epoxy resin and esterifying it. For example, a phenol novolac acrylate-based prepolymer is preferable.

ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。   The urethane acrylate-based prepolymer can be obtained, for example, by esterifying, with (meth) acrylic acid, a polyurethane oligomer obtained by a reaction between polyether polyol or polyester polyol and polyisocyanate.

ポリオールアクリレート系プレポリマーは、例えば、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。   The polyol acrylate prepolymer can be obtained, for example, by esterifying the hydroxyl group of the polyether polyol with (meth) acrylic acid.

以上のプレポリマーは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The above prepolymers may be used alone or in combination of two or more.

上記活性エネルギー線硬化性成分の中でも、芳香族環または多環芳香族骨格を有するモノマーまたはプレポリマーを使用することが好ましく、特に芳香族環または多環芳香族骨格を有するプレポリマーを使用することが好ましい。これらの化合物は屈折率が高いため、得られる機能性層3は前述した屈折率を満たし易いものとなり、かつ、好ましい硬度を有することとなる。   Among the active energy ray-curable components, it is preferable to use a monomer or a prepolymer having an aromatic ring or a polycyclic aromatic skeleton, and in particular, to use a prepolymer having an aromatic ring or a polycyclic aromatic skeleton. Is preferred. Since these compounds have a high refractive index, the functional layer 3 obtained easily satisfies the above-described refractive index and has a preferable hardness.

芳香族環を有するプレポリマーとしては、芳香族環を2個以上有するプレポリマーが好ましく、例えば、フェノールノボラックアクリレート系プレポリマー、クレゾールノボラックアクリレート系プレポリマー等が好ましい。   As the prepolymer having an aromatic ring, a prepolymer having two or more aromatic rings is preferable. For example, a phenol novolak acrylate prepolymer, a cresol novolak acrylate prepolymer, or the like is preferable.

多環芳香族骨格を有するプレポリマーとしては、例えば、フルオレン骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、トリフェニレン骨格、テトラフェン骨格、テトラセン骨格、クリセン骨格、ピレン骨格、ペンタセン骨格、ヘキサセン骨格、ヘプタセン骨格、コロネン骨格、ケクレン骨格等を有するプレポリマーが挙げられ、中でもフルオレン骨格を有するプレポリマーが好ましい。具体的には、フルオレン骨格を有するアクリレート系プレポリマーが好ましい。   Examples of the prepolymer having a polycyclic aromatic skeleton include a fluorene skeleton, a naphthalene skeleton, an anthracene skeleton, a triphenylene skeleton, a tetraphen skeleton, a tetracene skeleton, a chrysene skeleton, a pyrene skeleton, a pentacene skeleton, a hexacene skeleton, a heptacene skeleton, and a coronene skeleton. And prepolymers having a ketrene skeleton and the like. Among these, prepolymers having a fluorene skeleton are preferred. Specifically, an acrylate prepolymer having a fluorene skeleton is preferable.

上記組成物Cは、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。このように光重合開始剤を含有することにより、活性エネルギー線硬化性成分を効率良く硬化させることができ、また重合硬化時間および活性エネルギー線の照射量を少なくすることができる。   It is preferable that the composition C further contains a photopolymerization initiator. By containing the photopolymerization initiator as described above, the active energy ray-curable component can be efficiently cured, and the polymerization curing time and the irradiation amount of the active energy ray can be reduced.

このような光重合開始剤としては、例えば、ベンソイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−2−(ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリ−ブチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、p−ジメチルアミノ安息香酸エステル、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン]、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of such a photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2- Phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) Phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2- (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4′-di Tylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone 2,4-diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylaminobenzoate, oligo [2-hydroxy-2-methyl-1 [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone], 2 4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

光重合開始剤は、活性エネルギー線硬化性成分100質量部に対して、0.5〜15質量部、特に1〜10質量部の範囲の量で用いられることが好ましい。   The photopolymerization initiator is preferably used in an amount of 0.5 to 15 parts by mass, particularly 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable component.

機能性層3(組成物C)は、所望により、屈折率を調整するための屈折率調整剤、例えば金属酸化物を含有してもよい。かかる金属酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化ニオブ、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)等が挙げられる。これらの金属酸化物は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、屈折率および透明性の観点から、酸化ジルコニウムを用いることが好ましい。   The functional layer 3 (composition C) may contain a refractive index adjusting agent for adjusting the refractive index, for example, a metal oxide, if desired. Examples of the metal oxide include titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, hafnium oxide, cerium oxide, tin oxide, niobium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), and antimony-doped tin oxide (ATO). Etc. These metal oxides may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Among these, it is preferable to use zirconium oxide from the viewpoint of refractive index and transparency.

上記金属酸化物は、微粒子の形態で機能性層3に含まれることが好ましい。この場合、金属酸化物微粒子の平均粒径は、1〜150nmであることが好ましく、特に5〜40nmであることが好ましい。なお、本明細書における金属酸化物微粒子の平均粒径は、ゼータ電位測定法を用いた測定法により測定した値とする。   The metal oxide is preferably contained in the functional layer 3 in the form of fine particles. In this case, the average particle diameter of the metal oxide fine particles is preferably 1 to 150 nm, and particularly preferably 5 to 40 nm. In addition, let the average particle diameter of the metal oxide fine particle in this specification be the value measured by the measuring method using the zeta potential measuring method.

機能性層3における屈折率調整剤(金属酸化物)の配合割合は、機能性層3の屈折率が上述した範囲になるように適宜設定される。具体的には、活性エネルギー線硬化性成分100質量部に対して、50〜1000質量部であることが好ましく、80〜800質量部であることが特に好ましく、100〜500質量部であることがさらに好ましい。   The blending ratio of the refractive index adjusting agent (metal oxide) in the functional layer 3 is appropriately set so that the refractive index of the functional layer 3 is in the above-described range. Specifically, it is preferably 50 to 1000 parts by mass, particularly preferably 80 to 800 parts by mass, and 100 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable component. Further preferred.

機能性層3(組成物C)は、本発明の効果を妨げない範囲で、所望の各種添加剤を含有することができる。各種添加剤としては、例えば、分散剤、架橋剤、硬化剤、酸化防止剤などが挙げられる。   The functional layer 3 (composition C) can contain various desired additives as long as the effects of the present invention are not hindered. Examples of various additives include a dispersant, a crosslinking agent, a curing agent, and an antioxidant.

機能性層3の厚さは、0.05〜10μmであることが好ましく、特に0.1〜7μmであることが好ましく、さらには0.2〜5μmであることが好ましい。機能性層3の厚さが上記の範囲にあることで、着色剤の濃度を低く抑えつつ、透明導電膜のパターンを視認し難くすることができる。さらに、ハードコート性を付与しながら、真空条件下での機能性層3からの揮発成分をより少ないレベルに抑える観点から、機能性層3の厚さは、0.4〜3μmであることが最も好ましい。   The thickness of the functional layer 3 is preferably 0.05 to 10 μm, particularly preferably 0.1 to 7 μm, and more preferably 0.2 to 5 μm. When the thickness of the functional layer 3 is in the above range, it is possible to make it difficult to visually recognize the pattern of the transparent conductive film while keeping the concentration of the colorant low. Furthermore, the thickness of the functional layer 3 is 0.4 to 3 μm from the viewpoint of suppressing the volatile components from the functional layer 3 under vacuum conditions to a lower level while imparting hard coat properties. Most preferred.

機能性層3のJIS K5600−5−4に準拠して測定される鉛筆硬度は、HB以上であることが好ましく、F以上であることが特に好ましく、H以上であることがさらに好ましい。機能性層3がかかる条件を満たす透明導電膜積層用フィルム1は、高い表面硬度を有し、耐擦傷性に優れたものとなる。   The pencil hardness measured according to JIS K5600-5-4 of the functional layer 3 is preferably HB or more, particularly preferably F or more, and further preferably H or more. The transparent conductive film laminating film 1 that satisfies the requirements of the functional layer 3 has a high surface hardness and excellent scratch resistance.

<透明プラスチック基材>
本実施形態において用いられる透明プラスチック基材2としては、特に制限はなく、従来の光学用基材として公知のプラスチックフィルムの中から透明性を有するものを適宜選択して用いることができる。このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等のプラスチックフィルム、またはそれらの積層フィルムが挙げられる。
<Transparent plastic substrate>
There is no restriction | limiting in particular as the transparent plastic base material 2 used in this embodiment, The thing which has transparency from the well-known plastic film as a conventional optical base material can be selected suitably, and can be used. Examples of such plastic films include polyester films such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene films, polypropylene films, cellophane, diacetyl cellulose films, triacetyl cellulose films, and acetyl cellulose. Butyrate film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyether ether ketone film, polyether sulfone Film, polyetherimide film, polyimide film, Fluororesin film, a polyamide film, an acrylic resin film, norbornene resin film, a plastic film such as a cycloolefin resin film or a laminated film of them, and the like.

上記の中でも、タッチパネル等に好適な強度を有することから、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等であることが好ましい。これらの中でも、透明性や厚み精度等の観点から、ポリエステルフィルムであることが特に好ましく、その中でも機能性層3中の熱可塑性樹脂との密着性に優れたポリエチレンテレフタレート(PET)がさらに好ましい。   Among these, a polyester film, a polycarbonate film, a polyimide film, a norbornene resin film, a cycloolefin resin film, and the like are preferable because they have strength suitable for a touch panel and the like. Among these, from the viewpoint of transparency and thickness accuracy, a polyester film is particularly preferable, and among them, polyethylene terephthalate (PET) excellent in adhesion to the thermoplastic resin in the functional layer 3 is more preferable.

また、透明プラスチック基材2は、機能性層3との密着性を改善する観点から、少なくとも一方の面に易接着層を有するもの(プラスチックフィルム本体の少なくとも一方の面に易接着層が積層されてなる透明プラスチック基材)であることも好ましい。この易接着層は、特に制限されるものではないが、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エステル樹脂等の熱可塑性樹脂に所定量の有機又は無機の微粒子を配合してなるものなどが好ましく挙げられる。さらに、易接着層の厚さは、機能性層3の光学特性に影響を与えずに密着性を十分とする観点から、数nmから1μm程度であることが好ましく、10nmから300nm程度であることが特に好ましい。なお、易接着層は、透明プラスチック基材2の機能性層3側に存在してもよいし、その反対側に存在してもよいし、両側に存在してもよい。   The transparent plastic substrate 2 has an easy-adhesion layer on at least one surface from the viewpoint of improving the adhesion with the functional layer 3 (the easy-adhesion layer is laminated on at least one surface of the plastic film body). It is also preferable that it is a transparent plastic substrate). The easy-adhesion layer is not particularly limited, but preferred is a layer formed by blending a predetermined amount of organic or inorganic fine particles with a thermoplastic resin such as an acrylic resin, a urethane resin, or an ester resin. Furthermore, the thickness of the easy-adhesion layer is preferably about several nm to 1 μm, and preferably about 10 nm to 300 nm, from the viewpoint of sufficient adhesion without affecting the optical properties of the functional layer 3. Is particularly preferred. In addition, an easily bonding layer may exist in the functional layer 3 side of the transparent plastic base material 2, may exist in the opposite side, and may exist in both sides.

透明プラスチック基材2の厚さは特に制限はなく、用途に応じて適宜選定されるが、通常15〜300μm、好ましくは30〜250μmの範囲である。また、この透明プラスチック基材2は、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが用いられ、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが用いられる。これらの表面処理法は透明プラスチック基材2の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果および操作性などの面から、好ましく用いられる。   There is no restriction | limiting in particular in the thickness of the transparent plastic base material 2, Although it selects suitably according to a use, Usually, 15-300 micrometers, Preferably it is the range of 30-250 micrometers. Moreover, this transparent plastic base material 2 can be surface-treated by the oxidation method, the uneven | corrugated method, etc. on one side or both surfaces as needed for the purpose of improving the adhesiveness with the layer provided in the surface. As the oxidation method, for example, corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, etc. are used, and as the unevenness method, for example, sand blast method, solvent treatment method, etc. are used. It is done. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of the transparent plastic substrate 2, but in general, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability.

<透明導電膜積層用フィルムの物性>
本実施形態に係る透明導電膜積層用フィルム1の全光線透過率(JIS K7361に準じて測定した値)は、80%以上であることが好ましく、特に83%以上であることが好ましく、さらには85%以上であることが好ましい。また、本実施形態に係る透明導電膜積層用フィルム1のヘイズ値(JIS K7136に準じて測定した値)は、3.0%以下であることが好ましく、特に2.0%以下であることが好ましく、さらには1.0%以下であることが好ましい。上記の物性を満たすことで、透明導電膜積層用フィルム1は、透明性が高く、光学用途として好適なものとなる。
<Physical Properties of Transparent Conductive Film Laminating Film>
The total light transmittance (value measured according to JIS K7361) of the transparent conductive film laminating film 1 according to the present embodiment is preferably 80% or more, particularly preferably 83% or more, and further It is preferably 85% or more. Moreover, it is preferable that the haze value (value measured according to JISK7136) of the film 1 for transparent conductive film lamination which concerns on this embodiment is 3.0% or less, and it is especially 2.0% or less. More preferably, it is 1.0% or less. By satisfy | filling said physical property, the film 1 for transparent conductive film lamination has high transparency, and will become a suitable thing as an optical use.

<透明導電膜積層用フィルムの製造>
本実施形態に係る透明導電膜積層用フィルム1は、次の方法によって好ましく製造することができる。本方法では、一例として、前述した組成物C(活性エネルギー線硬化性成分および着色剤を含有する組成物)を使用するものとする。
<Manufacture of transparent conductive film lamination film>
The transparent conductive film laminating film 1 according to this embodiment can be preferably produced by the following method. In this method, as an example, the above-described composition C (a composition containing an active energy ray-curable component and a colorant) is used.

具体的には、まず、透明プラスチック基材2の一方の主面に、組成物Cの塗布層を形成する。このとき、組成物Cを含む塗布剤を透明プラスチック基材2の一方の主面に直接塗布し、塗布層を形成してもよいし、組成物Cを含む塗布剤をカバーシートに塗布して塗布層を形成した後、そのカバーシート付きの塗布層を透明プラスチック基材2の一方の主面に貼合してもよい。   Specifically, first, a coating layer of the composition C is formed on one main surface of the transparent plastic substrate 2. At this time, the coating agent containing the composition C may be directly applied to one main surface of the transparent plastic substrate 2 to form a coating layer, or the coating agent containing the composition C may be applied to the cover sheet. After forming the coating layer, the coating layer with the cover sheet may be bonded to one main surface of the transparent plastic substrate 2.

カバーシートとしては、上記でプラスチックフィルムとして例示したものを使用することができる。また、それらプラスチックフィルムの片面または両面が剥離剤によって剥離処理された剥離シートを使用することもできる。   As the cover sheet, those exemplified above as the plastic film can be used. In addition, a release sheet in which one side or both sides of the plastic film is release-treated with a release agent can also be used.

上記塗布層は、組成物Cと、所望によりさらに溶媒とを含有する塗布剤を調製し、これを透明プラスチック基材2またはカバーシートに塗布し、乾燥させることにより形成される。塗布剤の塗布は、常法によって行えばよく、例えば、バーコート法、ナイフコート法、マイヤーバー法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法によって行えばよい。乾燥は、例えば40〜150℃で30秒〜5分程度加熱することによって行うことができる。   The coating layer is formed by preparing a coating agent containing the composition C and optionally a solvent, and applying the coating agent to the transparent plastic substrate 2 or the cover sheet, followed by drying. The coating agent may be applied by a conventional method, for example, a bar coating method, a knife coating method, a Mayer bar method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, or a gravure coating method. Drying can be performed, for example, by heating at 40 to 150 ° C. for about 30 seconds to 5 minutes.

次に、上記塗布層に対し、紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射して、組成物Cを硬化させることにより、機能性層3を形成する。このとき、硬化の効率を向上させるために、上記塗布層が酸素から遮断された状態にて、活性エネルギー線を照射することが好ましい。上記塗布層を酸素から遮断するには、上記塗布層にカバーシートが付いている場合には、当該カバーシートをそのまま付けた状態とし、上記塗布層にカバーシートが付いていない場合には、新たにカバーシートを上記塗布層に積層するか、透明プラスチック基材2および塗布層の積層体を、酸素濃度の低い雰囲気下、好ましくは窒素雰囲気下におくことが好ましい。   Next, the functional layer 3 is formed by irradiating the coating layer with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams to cure the composition C. At this time, in order to improve the efficiency of curing, it is preferable to irradiate active energy rays in a state where the coating layer is shielded from oxygen. In order to shield the coating layer from oxygen, if a cover sheet is attached to the coating layer, the cover sheet is left as it is. If the cover layer is not attached to the coating layer, a new sheet is used. It is preferable that the cover sheet is laminated on the coating layer, or the transparent plastic substrate 2 and the laminate of the coating layer are placed in an atmosphere having a low oxygen concentration, preferably in a nitrogen atmosphere.

紫外線照射は、高圧水銀ランプ、フュージョンHランプ、キセノンランプ等によって行うことができ、紫外線の照射量は、照度50〜1000mW/cm、光量50〜1000mJ/cm程度が好ましい。一方、電子線照射は、電子線加速器等によって行うことができ、電子線の照射量は、10〜1000krad程度が好ましい。UV irradiation, high-pressure mercury lamp, a fusion H lamp, can be carried out by a xenon lamp or the like, the dose of ultraviolet ray is illuminance 50~1000mW / cm 2, about the amount of light 50~1000mJ / cm 2 is preferred. On the other hand, the electron beam irradiation can be performed by an electron beam accelerator or the like, and the irradiation amount of the electron beam is preferably about 10 to 1000 krad.

以上説明した透明導電膜積層用フィルム1は、後述する透明導電性フィルムの製造材料として好適に用いられる。   The transparent conductive film laminating film 1 described above is suitably used as a production material for a transparent conductive film described later.

〔透明導電性フィルム〕
図2は本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの断面図である。本実施形態に係る透明導電性フィルム10は、上述した透明導電膜積層用フィルム1の機能性層3に、パターニングされた透明導電膜4が積層されたものである。この透明導電性フィルム10は、機能性層3の存在により、透明導電膜4のパターンが視認され難いものとなっている。
[Transparent conductive film]
FIG. 2 is a cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention. The transparent conductive film 10 according to this embodiment is obtained by laminating a patterned transparent conductive film 4 on the functional layer 3 of the transparent conductive film laminating film 1 described above. In the transparent conductive film 10, the presence of the functional layer 3 makes it difficult for the pattern of the transparent conductive film 4 to be visually recognized.

<透明導電膜>
本実施形態に係る透明導電性フィルム10における透明導電膜4の材料としては、透明性と導電性とを併せ持つ材料であれば特に制限なく使用でき、例えば、スズドープ酸化インジウム(ITO)、酸化イリジウム(IrO)、酸化インジウム(In)、酸化スズ(SnO)、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)、酸化インジウム−酸化亜鉛(IZO)、酸化亜鉛(ZnO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、酸化モリブデン(MoO)、酸化チタン(TiO)等の透明導電性金属酸化物が挙げられる。これらの金属酸化物の薄膜は、適当な造膜条件を採用することで透明性と導電性とを兼ね備えた透明導電膜になる。
<Transparent conductive film>
As a material of the transparent conductive film 4 in the transparent conductive film 10 according to the present embodiment, any material having both transparency and conductivity can be used without particular limitation. For example, tin-doped indium oxide (ITO), iridium oxide ( IrO 2 ), indium oxide (In 2 O 3 ), tin oxide (SnO 2 ), fluorine-doped tin oxide (FTO), indium oxide-zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), gallium-doped zinc oxide (GZO) And transparent conductive metal oxides such as aluminum-doped zinc oxide (AZO), molybdenum oxide (MoO 3 ), and titanium oxide (TiO 2 ). These metal oxide thin films become transparent conductive films having both transparency and conductivity by employing appropriate film forming conditions.

透明導電膜4の膜厚は、4〜800nmであることが好ましく、5〜500nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが特に好ましい。透明導電膜4の膜厚がかかる範囲にあることで、連続した薄膜となり安定した導電性が得られるとともに、透明性が低下するおそれがない。   The film thickness of the transparent conductive film 4 is preferably 4 to 800 nm, more preferably 5 to 500 nm, and particularly preferably 10 to 100 nm. When the film thickness of the transparent conductive film 4 is within such a range, the film becomes a continuous thin film and stable conductivity is obtained, and there is no possibility that the transparency is lowered.

<透明導電性フィルムの物性>
透明導電性フィルム10では、透明導電膜4が存在する部分における反射率(%)と、透明導電膜4が存在しない部分における反射率(%)との差(反射率差)の絶対値が、波長380〜780nmにおいて10.0ポイント(反射率%の差)以下であることが好ましく、9.5ポイント以下であることが特に好ましく、9.0ポイント以下であることがさらに好ましい。これにより、透明導電膜4のパターンが視認され難いものとなる。上記の反射率差は、前述した機能性層3が存在することによって達成することができる。
<Physical properties of transparent conductive film>
In the transparent conductive film 10, the absolute value of the difference (reflectance difference) between the reflectance (%) in the portion where the transparent conductive film 4 is present and the reflectance (%) in the portion where the transparent conductive film 4 is not present, It is preferably 10.0 points (difference in reflectance%) or less at a wavelength of 380 to 780 nm, particularly preferably 9.5 points or less, and further preferably 9.0 points or less. Thereby, the pattern of the transparent conductive film 4 becomes difficult to be visually recognized. The reflectance difference can be achieved by the presence of the functional layer 3 described above.

<透明導電性フィルムの製造>
本実施形態に係る透明導電性フィルム10は、例えば、以下に示す方法により製造することができる。まず、上述したように透明導電膜積層用フィルム1を製造した後、機能性層3上に、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、スプレー法、ゾル−ゲル法などの公知の方法を、上記材料の種類や必要膜厚に応じて適宜選択し、透明導電膜4を形成する。
<Manufacture of transparent conductive film>
The transparent conductive film 10 which concerns on this embodiment can be manufactured by the method shown below, for example. First, after manufacturing the transparent conductive film laminating film 1 as described above, a known method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, a spray method, or a sol-gel method is formed on the functional layer 3. The method is appropriately selected according to the type of material and the required film thickness, and the transparent conductive film 4 is formed.

上記のように形成した透明導電膜4は、フォトリソグラフィー法により、所定パターンのレジストマスクを形成し、公知の方法により、エッチング処理を施し、例えばストライプ状パターンなどにパターニングする。これにより、パターニングされた透明導電膜4を有する透明導電性フィルム10が得られる。なお、パターン化された透明導電膜の線幅および間隔は特に制限されないが、それぞれ0.01〜100mmであることが好ましく、0.1〜50mmであることが特に好ましい。   The transparent conductive film 4 formed as described above forms a resist mask having a predetermined pattern by a photolithography method, and performs an etching process by a known method, for example, patterning into a stripe pattern or the like. Thereby, the transparent conductive film 10 which has the patterned transparent conductive film 4 is obtained. The line width and spacing of the patterned transparent conductive film are not particularly limited, but are preferably 0.01 to 100 mm, and particularly preferably 0.1 to 50 mm.

本実施形態に係る透明導電性フィルム10は、以上のように、高屈折率層や低屈折率層がなく、層構成を簡略化した場合でも、透明導電膜4のパターンが視認され難い。   As described above, the transparent conductive film 10 according to the present embodiment does not have a high refractive index layer or a low refractive index layer, and the pattern of the transparent conductive film 4 is hardly visible even when the layer configuration is simplified.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

例えば、透明導電膜積層用フィルム1における機能性層3側とは反対側の面には、他の層が積層されてもよい。   For example, another layer may be laminated on the surface opposite to the functional layer 3 side in the transparent conductive film laminating film 1.

以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further more concretely, the scope of the present invention is not limited to these Examples etc.

〔調製例1〕(機能性層用塗布剤F1の調製)
活性エネルギー線硬化性成分としてのフェノールノボラックアクリル系プレポリマー(日立化成社製,商品名「ヒタロイド7663」)20質量部(固形分換算値;以下同じ)と、屈折率調整剤としての酸化ジルコニウム微粒子(CIKナノテック社製,商品名「ZRMIBK15WT%−F85」,平均粒径20nm)80質量部と、青色着色剤としてのコバルトブルー(CIKナノテック社製,商品名「CBDMIBK15WT%−R13」)7.5質量部と、光重合開始剤としての1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製,商品名「イルガキュア184」)1質量部とを、希釈溶剤であるメチルエチルケトンを使用して均一に混合し、固形分濃度7.5%の機能性層用塗布剤F1を調製した。
[Preparation Example 1] (Preparation of functional layer coating agent F1)
20 parts by mass of phenol novolac acrylic prepolymer (trade name “Hitaroid 7663” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) as an active energy ray-curable component (solid content converted value; the same applies hereinafter) and fine zirconium oxide particles as a refractive index adjuster 80 parts by mass (trade name “ZRMIBK15WT% -F85” manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd., average particle size 20 nm) and cobalt blue as a blue colorant (trade name “CBDMIBK15WT% -R13” manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd.) 7.5 Mass parts and 1 part by mass of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name “Irgacure 184” manufactured by BASF Corporation) as a photopolymerization initiator are mixed uniformly using methyl ethyl ketone as a diluting solvent to obtain a solid content. A functional layer coating agent F1 having a concentration of 7.5% was prepared.

〔調製例2〕(機能性層用塗布剤F2の調製)
活性エネルギー線硬化性成分としてのフルオレン骨格導入アクリル系プレポリマー(大成ファインケミカル社製,商品名「アクリット8DK−3000」)100質量部と、青色着色剤としてのコバルトブルー(CIKナノテック社製,商品名「CBDMIBK15WT%−R13」)15質量部と、光重合開始剤としての1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製,商品名「イルガキュア184」)5質量部とを、希釈溶剤であるメチルエチルケトンを使用して均一に混合し、固形分濃度7.5%の機能性層用塗布剤F2を調製した。
[Preparation Example 2] (Preparation of functional layer coating agent F2)
Fluorene skeleton-introduced acrylic prepolymer (made by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., trade name “Acryt 8DK-3000”) as an active energy ray-curable component, and cobalt blue (produced by CIK Nanotech Co., Ltd., trade name) as a blue colorant 15 parts by mass of “CBDMIBK15WT% -R13”) and 5 parts by mass of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name “Irgacure 184” manufactured by BASF Corporation) as a photopolymerization initiator are used as a dilution solvent. Were mixed uniformly to prepare a functional layer coating agent F2 having a solid content of 7.5%.

〔調製例3〕(機能性層用塗布剤F3の調製)
活性エネルギー線硬化性成分としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100質量部と、屈折率調整剤としての酸化ジルコニウム微粒子(CIKナノテック社製,商品名「ZRMIBK15WT%−F85」,平均粒径20nm)300質量部と、青色着色剤としての銅フタロシアニンブルー(日弘ビックス社製,商品名「NSP−CZ9664Blue」)2質量部と、光重合開始剤としての1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製,商品名「イルガキュア184」)6質量部とを、希釈溶剤であるメチルエチルケトンを使用して均一に混合し、固形分濃度7.5%の機能性層用塗布剤F3を調製した。
[Preparation Example 3] (Preparation of functional layer coating agent F3)
100 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray-curable component and 300 parts by mass of zirconium oxide fine particles (trade name “ZRMIBK15WT% -F85”, average particle diameter 20 nm, manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd.) as a refractive index adjusting agent And 2 parts by mass of copper phthalocyanine blue (manufactured by Nihongo Bix, trade name “NSP-CZ9664Blue”) as a blue colorant, and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by BASF, trade name “ 6 parts by mass of Irgacure 184 ") were uniformly mixed using methyl ethyl ketone as a diluent solvent to prepare a functional layer coating agent F3 having a solid content concentration of 7.5%.

〔調製例4〕(機能性層用塗布剤F4の調製)
活性エネルギー線硬化性成分としてのフッ素含有アクリル系プレポリマー(JSR社製,商品名「オプスターTU1001」;光重合開始剤含有品)100質量部を、希釈溶剤であるメチルエチルケトンと均一に混合し、固形分濃度7.5%の機能性層用塗布剤F4を調製した。
[Preparation Example 4] (Preparation of functional layer coating agent F4)
100 parts by mass of fluorine-containing acrylic prepolymer (trade name “OPSTA TU1001”; photopolymerization initiator-containing product manufactured by JSR Corporation) as an active energy ray-curable component is uniformly mixed with methyl ethyl ketone as a diluting solvent, and solid A functional layer coating agent F4 having a partial concentration of 7.5% was prepared.

〔調製例5〕(機能性層用塗布剤F5の調製)
活性エネルギー線硬化性成分としてのフッ素含有アクリル系プレポリマー(JSR社製,商品名「オプスターTU1001」;光重合開始剤含有品)100質量部と、青色着色剤としてのコバルトブルー(CIKナノテック社製,商品名「CBDMIBK15WT%−R13」)15質量部とを、希釈溶剤であるメチルエチルケトンを使用して均一に混合し、固形分濃度7.5%の機能性層用塗布剤F5を調製した。
[Preparation Example 5] (Preparation of functional layer coating agent F5)
Fluorine-containing acrylic prepolymer as an active energy ray-curable component (manufactured by JSR, trade name “OPSTAR TU1001”; photopolymerization initiator-containing product) 100 parts by mass and cobalt blue as a blue colorant (manufactured by CIK Nanotech) , Trade name “CBDMIBK15WT% -R13”) and 15 parts by mass were uniformly mixed using methyl ethyl ketone as a diluent solvent to prepare a functional layer coating agent F5 having a solid content concentration of 7.5%.

〔調製例6〕(機能性層用塗布剤F6の調製)
活性エネルギー線硬化性成分としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100質量部と、青色着色剤としてのコバルトブルー(CIKナノテック社製,商品名「CBDMIBK15WT%−R13」)15質量部と、光重合開始剤としての1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製,商品名「イルガキュア184」)5質量部とを、希釈溶剤であるメチルエチルケトンを使用して均一に混合し、固形分濃度7.5%の機能性層用塗布剤F6を調製した。
[Preparation Example 6] (Preparation of functional layer coating agent F6)
100 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as an active energy ray-curable component, 15 parts by mass of cobalt blue (manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd., trade name “CBDMIBK15WT% -R13”) as a blue colorant, and a photopolymerization initiator 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (BASF, trade name “Irgacure 184”) 5 parts by mass uniformly using methyl ethyl ketone as a diluent solvent, a functional layer having a solid content concentration of 7.5% Coating agent F6 was prepared.

〔調製例7〕(機能性層用塗布剤F7の調製)
活性エネルギー線硬化性成分としてのフルオレン骨格導入アクリル系プレポリマー(大成ファインケミカル社製,商品名「アクリット8DK−3000」)20質量部と、屈折率調整剤としての酸化ジルコニウム微粒子(CIKナノテック社製,商品名「ZRMIBK15WT%-F85」,平均粒径20nm)80質量部と、光重合開始剤としての1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製,商品名「イルガキュア184」)1質量部とを、希釈溶剤であるメチルエチルケトンを使用して均一に混合し、固形分濃度7.5%の機能性層用塗布剤F7を調製した。
[Preparation Example 7] (Preparation of functional layer coating agent F7)
20 parts by mass of fluorene skeleton-introduced acrylic prepolymer (made by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., trade name “Acryt 8DK-3000”) as an active energy ray-curable component, and fine zirconium oxide particles (produced by CIK Nanotech Co., Ltd.) Diluting 80 parts by mass of a trade name “ZRMIBK15WT% -F85”, average particle diameter 20 nm) and 1 part by mass of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name “Irgacure 184” manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator Using methyl ethyl ketone as a solvent, the mixture was uniformly mixed to prepare a functional layer coating agent F7 having a solid concentration of 7.5%.

〔実施例1〜3,比較例1〜5〕
(1)透明導電膜積層用フィルムの製造
透明プラスチック基材としての、片面に易接着層を有するポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡社製,商品名「コスモシャインA4100」,厚さ50μm)の易接着層とは反対側の面に、表1に示す機能性層用塗布剤(F1〜F7)をマイヤーバーで塗工した。これを70℃のオーブンで1分間乾燥させ、塗布層を形成した。この塗布層に対し、以下の条件で紫外線を照射することにより、表1に示す厚さの機能性層を形成し、透明導電膜積層用フィルムを得た。
<紫外線照射条件>
紫外線照射装置:ジーエスユアサコーポレーション社製,窒素パージ式小型コンベアUV照射装置CSN2−40
光源:高圧水銀ランプ
ランプ電力:1.4kW
コンベアスピード:1.2m/分
照度:100mW/cm
光量:240mJ/cm
[Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 to 5]
(1) Manufacture of transparent conductive film lamination film Ease of polyethylene terephthalate (PET) film (trade name “Cosmo Shine A4100”, thickness 50 μm, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having an easy-adhesion layer on one side as a transparent plastic substrate On the surface opposite to the adhesive layer, functional layer coating agents (F1 to F7) shown in Table 1 were applied with a Mayer bar. This was dried in an oven at 70 ° C. for 1 minute to form a coating layer. By irradiating this coating layer with ultraviolet rays under the following conditions, a functional layer having a thickness shown in Table 1 was formed to obtain a transparent conductive film laminating film.
<Ultraviolet irradiation conditions>
UV irradiation device: GS Yuasa Corporation, Nitrogen purge type small conveyor UV irradiation device CSN2-40
Light source: High-pressure mercury lamp Lamp power: 1.4 kW
Conveyor speed: 1.2 m / min Illuminance: 100 mW / cm 2
Light intensity: 240 mJ / cm 2

(2)透明導電性フィルムの製造
上記で得られた透明導電膜積層用フィルムの機能性層上にITOターゲット(酸化錫10質量%)を用いてスパッタリングを行い、厚さ30nmの透明導電膜を形成し、透明導電性フィルムを得た。
(2) Production of transparent conductive film Sputtering was performed on the functional layer of the transparent conductive film laminating film obtained above using an ITO target (10% by mass of tin oxide) to form a transparent conductive film having a thickness of 30 nm. The transparent conductive film was obtained.

〔試験例1〕(屈折率の測定)
(1)機能性層の屈折率
実施例および比較例で製造した透明導電膜積層用フィルムにおける透明プラスチック基材の易接着層(機能性層とは反対側の面)を紙やすりで擦り落とし、その面を油性ペン(ゼブラ社製,商品名「マッキー 黒」)で黒色に塗った。そして、機能性層側の面について、分光エリプソメーター(J.A.WOOLLAM社製,商品名「M−2000」)を使用し、機能性層の589nmにおける屈折率をJIS K7142:2008に準拠して測定した。このとき、機能性層の膜厚も併せて測定した。結果を表1に示す。
[Test Example 1] (Measurement of refractive index)
(1) Refractive index of functional layer The easy-adhesion layer (surface opposite to the functional layer) of the transparent plastic substrate in the transparent conductive film laminated film produced in the examples and comparative examples is scraped off with a sandpaper, The surface was painted black with an oil-based pen (Zebra, trade name “Mackey Black”). For the surface on the functional layer side, a spectroscopic ellipsometer (manufactured by JA WOOLLAM, trade name “M-2000”) is used, and the refractive index at 589 nm of the functional layer is based on JIS K7142: 2008. Measured. At this time, the film thickness of the functional layer was also measured. The results are shown in Table 1.

(2)透明導電膜の屈折率
実施例および比較例で使用した透明プラスチック基材の易接着層とは反対側の面に、実施例および比較例と同様にしてスパッタリングを行い、厚さ30nmの透明導電膜を形成した。その後、機能性層の屈折率測定の場合と同様に、易接着層を除去し、その面を黒色に塗った。そして、透明導電膜側の面について、分光エリプソメーター(J.A.WOOLLAM社製,製品名「M−2000」)を使用し、透明導電膜の589nmにおける屈折率をJIS K7142:2008に準拠して測定した。その結果、透明導電膜の屈折率は、1.95であった。
(2) Refractive index of transparent conductive film Sputtering was carried out on the surface opposite to the easy-adhesion layer of the transparent plastic substrate used in the examples and comparative examples in the same manner as in the examples and comparative examples. A transparent conductive film was formed. Thereafter, as in the case of measuring the refractive index of the functional layer, the easy-adhesion layer was removed and its surface was painted black. Then, a spectroscopic ellipsometer (manufactured by JA WOOLLAM, product name “M-2000”) is used for the surface on the transparent conductive film side, and the refractive index at 589 nm of the transparent conductive film conforms to JIS K7142: 2008. Measured. As a result, the refractive index of the transparent conductive film was 1.95.

〔試験例2〕(光学性能の測定)
実施例および比較例で得られた透明導電膜積層用フィルムについて、ヘイズメーター(日本電色工業社製,製品名「NDH2000」)を用いて、JIS K7361に準じて全光線透過率(%)を測定するとともに、JIS K7136に準じてヘイズ値(%)を測定した。結果を表1に示す。
[Test Example 2] (Measurement of optical performance)
About the transparent conductive film lamination films obtained in Examples and Comparative Examples, using a haze meter (product name “NDH2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), the total light transmittance (%) was determined according to JIS K7361. While measuring, haze value (%) was measured according to JIS K7136. The results are shown in Table 1.

〔試験例3〕(反射率の測定)
実施例および比較例で得られた透明導電性フィルムの透明導電膜上に、複数のポリイミド粘着テープ(幅5cm)を、5cm間隔でそれぞれ平行に配列されるように貼付した。
[Test Example 3] (Measurement of reflectance)
On the transparent conductive film of the transparent conductive film obtained in the Examples and Comparative Examples, a plurality of polyimide adhesive tapes (5 cm wide) were attached so as to be arranged in parallel at intervals of 5 cm.

得られた積層体を、1mol/lに調整された塩酸に2分間浸漬して、上記ポリイミド粘着テープが貼付されていない透明導電膜部分をエッチングした。続いて、積層体をイオン交換水で十分に洗浄し、120℃で10分間乾燥させた後、透明導電性フィルムからポリイミド粘着テープを剥がした。これにより、幅5cmの透明導電膜部分と幅5cmの透明導電膜非存在部分とが交互に繰り返されるように透明導電膜がパターニングされた透明導電性フィルムを得た。   The obtained laminate was immersed in hydrochloric acid adjusted to 1 mol / l for 2 minutes, and the transparent conductive film portion to which the polyimide adhesive tape was not applied was etched. Subsequently, the laminate was sufficiently washed with ion-exchanged water, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and then the polyimide adhesive tape was peeled off from the transparent conductive film. Thereby, the transparent conductive film by which the transparent conductive film was patterned was obtained so that the transparent conductive film part of width 5cm and the transparent conductive film non-existence part of width 5cm were repeated alternately.

上記パターニングされた透明導電性フィルムにおける透明導電膜が存在する部分(パターン部)および透明導電膜が存在しない部分(非パターン部)について、波長380nm、550nmおよび780nmでの反射率(%)を、分光光度計(島津製作所社製,製品名「UV−3600」)によって測定した。また、その結果に基づいて、透明導電膜が存在する部分の反射率(%)から透明導電膜が存在しない部分の反射率(%)を差し引き、反射率差(ポイント)を算出した。結果を表1に示す。   About the part (pattern part) in which the transparent conductive film exists in the patterned transparent conductive film and the part (non-pattern part) in which the transparent conductive film does not exist, the reflectance (%) at wavelengths of 380 nm, 550 nm, and 780 nm, It was measured with a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, product name “UV-3600”). Based on the result, the reflectance difference (point) was calculated by subtracting the reflectance (%) of the portion where the transparent conductive film was not present from the reflectance (%) of the portion where the transparent conductive film was present. The results are shown in Table 1.

〔試験例4〕(b*の測定)
試験例3と同様にして得られたパターニングされた透明導電性フィルムについて、その透明導電膜が存在する部分(パターン部)および透明導電膜が存在しない部分(非パターン部)について、JIS Z8722に従い、測定装置として同時測定方式分光式色差計(日本電色工業社製,SQ−2000)、光源としてC光源2°視野(C/2)を用い、透過測定法によりL*a*b*表色系のb*を測定した。結果を表1に示す。
[Test Example 4] (Measurement of b *)
About the patterned transparent conductive film obtained in the same manner as in Test Example 3, the portion where the transparent conductive film exists (pattern portion) and the portion where the transparent conductive film does not exist (non-pattern portion) according to JIS Z8722, L * a * b * colorimetry by transmission measurement method using simultaneous measurement type spectroscopic color difference meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., SQ-2000) as a measuring device and C light source 2 ° field of view (C / 2) as a light source. The b * of the system was measured. The results are shown in Table 1.

〔試験例5〕(パターン非視認性評価)
実施例および比較例で得られた透明導電性フィルムの透明導電膜上に、複数のポリイミド粘着テープ(幅1cm)を、1cm間隔でそれぞれ平行に配列されるように貼付した。
[Test Example 5] (Pattern non-visibility evaluation)
On the transparent conductive film of the transparent conductive film obtained in the examples and comparative examples, a plurality of polyimide adhesive tapes (width 1 cm) were attached so as to be arranged in parallel at intervals of 1 cm.

得られた積層体を、1mol/lに調整された塩酸に2分間浸漬して、上記ポリイミド粘着テープが貼付されていない透明導電膜部分をエッチングした。続いて、積層体をイオン交換水で十分に洗浄し、120℃で10分間乾燥させた後、透明導電性フィルムからポリイミド粘着テープを剥がした。これにより、幅1cmの透明導電膜部分と幅1cmの透明導電膜非存在部分とが交互に繰り返されるように透明導電膜がパターニングされた透明導電性フィルムを得た。   The obtained laminate was immersed in hydrochloric acid adjusted to 1 mol / l for 2 minutes, and the transparent conductive film portion to which the polyimide adhesive tape was not applied was etched. Subsequently, the laminate was sufficiently washed with ion-exchanged water, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and then the polyimide adhesive tape was peeled off from the transparent conductive film. Thereby, the transparent conductive film by which the transparent conductive film was patterned was obtained so that the transparent conductive film part with a width of 1 cm and the transparent conductive film absence part with a width of 1 cm were alternately repeated.

その後、上記パターニングされた透明導電性フィルムを白紙上に載せ、透明導電膜が白色蛍光灯側になるように、白色蛍光灯(27W;3波長)から1mの位置に設置した。その状態で、透明導電膜のパターンが見えるか否かを目視にて観察し、以下の基準によりパターン非視認性を評価した。結果を表1に示す。
=パターン非視認性評価=
3:透明導電膜のパターンが見え難かった。
2:透明導電膜の有無で色目または反射強度に差異があり、透明導電膜のパターンが視認できた。
1:透明導電膜の有無で色目および反射強度に差異があり、透明導電膜のパターンが視認できた。
Thereafter, the patterned transparent conductive film was placed on a white paper and placed at a position 1 m from the white fluorescent lamp (27 W; 3 wavelengths) so that the transparent conductive film was on the white fluorescent lamp side. In that state, whether or not the pattern of the transparent conductive film was visible was visually observed, and pattern invisibility was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
= Pattern non-visibility evaluation =
3: The pattern of the transparent conductive film was difficult to see.
2: There was a difference in color or reflection intensity depending on the presence or absence of the transparent conductive film, and the pattern of the transparent conductive film was visible.
1: There was a difference in color and reflection intensity depending on the presence or absence of the transparent conductive film, and the pattern of the transparent conductive film was visible.

〔試験例6〕(鉛筆硬度の評価)
実施例および比較例で得られた透明導電膜積層用フィルムの機能性層について、JIS K5600に準拠して鉛筆硬度を評価した。結果を表1に示す。
[Test Example 6] (Evaluation of pencil hardness)
About the functional layer of the film for transparent conductive film lamination obtained by the Example and the comparative example, pencil hardness was evaluated based on JISK5600. The results are shown in Table 1.

Figure 0005933137
Figure 0005933137

表1から明らかなように、実施例で製造した透明導電性フィルムは、透明導電膜積層用フィルムが透明プラスチック基材に機能性層を積層しただけの簡易な構成であっても、透明導電膜のパターンが視認し難く、また、高い表面硬度を有するものであった。   As is clear from Table 1, the transparent conductive film produced in the example is a transparent conductive film even if the transparent conductive film laminating film has a simple structure in which a functional layer is laminated on a transparent plastic substrate. This pattern was difficult to visually recognize and had a high surface hardness.

本発明は、透明導電膜のパターンが視認され難い透明導電性フィルムを低コストで生産するのに極めて有用である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is extremely useful for producing a transparent conductive film in which a transparent conductive film pattern is hardly visible at low cost.

1…透明導電膜積層用フィルム
2…透明プラスチック基材
3…機能性層
10…透明導電性フィルム
4…透明導電膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film for transparent conductive film lamination 2 ... Transparent plastic base material 3 ... Functional layer 10 ... Transparent conductive film 4 ... Transparent conductive film

Claims (4)

パターニングされた透明導電膜が積層される透明導電膜積層用フィルムであって、
透明プラスチック基材と、
前記透明プラスチック基材の少なくとも片面に積層された機能性層と
を備え、
前記機能性層の屈折率が1.52〜2.00であり、
前記透明導電膜積層用フィルムにパターニングされた透明導電膜が積層されたときに、前記透明導電膜が存在する部分および前記透明導電膜が存在しない部分におけるL*a*b*表色系のb*がそれぞれ−2〜2となるように、前記機能性層が着色剤を含有し、
前記機能性層は、前記透明プラスチック基材に直接積層されており、
前記透明導電膜は、前記機能性層に直接積層される
ことを特徴とする透明導電膜積層用フィルム。
A transparent conductive film laminating film in which patterned transparent conductive films are laminated,
A transparent plastic substrate,
A functional layer laminated on at least one side of the transparent plastic substrate,
The functional layer has a refractive index of 1.52 to 2.00,
When a transparent conductive film patterned on the transparent conductive film laminating film is laminated, the L * a * b * color system b in the portion where the transparent conductive film exists and the portion where the transparent conductive film does not exist The functional layer contains a colorant so that * is -2 to 2, respectively .
The functional layer is directly laminated on the transparent plastic substrate,
The transparent conductive film laminating film, wherein the transparent conductive film is directly laminated on the functional layer .
前記機能性層の厚さは、0.05〜10μmであることを特徴とする請求項に記載の透明導電膜積層用フィルム。 The film for laminating a transparent conductive film according to claim 1 , wherein the functional layer has a thickness of 0.05 to 10 μm. 前記機能性層は、ハードコート層であることを特徴とする請求項1または2に記載の透明導電膜積層用フィルム。 The functional layer is a transparent conductive film laminated film according to claim 1 or 2, characterized in that a hard coat layer. 請求項1〜のいずれか一項に記載の透明導電膜積層用フィルムと、
前記透明導電膜積層用フィルムの前記機能性層に積層された、パターニングされた透明導電膜と
を備えたことを特徴とする透明導電性フィルム。
The transparent conductive film laminating film according to any one of claims 1 to 3 ,
A transparent conductive film comprising: a patterned transparent conductive film laminated on the functional layer of the transparent conductive film laminating film.
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