JP5928047B2 - Glass tube and manufacturing method thereof - Google Patents

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    • C03B19/14Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1415Reactant delivery systems

Description

本発明は、ガラス管およびその製造方法に係り、特に燃料改質等により生成した水素を含む混合ガスから水素を高純度に分離するための水素分離材料の支持体として好適なガラス管とその製造方法に関する。   The present invention relates to a glass tube and a manufacturing method thereof, and more particularly to a glass tube suitable as a support for a hydrogen separation material for separating hydrogen with high purity from a mixed gas containing hydrogen generated by fuel reforming and the like, and its manufacturing Regarding the method.

水素エネルギー社会実現のために、水素製造技術や水素利用インフラ整備についての研究開発が進められるなか、自動車用燃料電池、家庭用定置型燃料電池、水素ステーション、そして将来的には大型の化学プラントなどで使用される高純度水素は、今後大きな需要が見込まれ、その製造には更なる高効率化が求められている。   In order to realize a hydrogen energy society, research and development on hydrogen production technology and hydrogen utilization infrastructure are underway. Fuel cells for automobiles, stationary fuel cells for home use, hydrogen stations, and large chemical plants in the future High-purity hydrogen used in Japan is expected to be in great demand in the future, and its production is required to have higher efficiency.

現在、水素の製造は、炭化水素燃料を700℃程度の温度で水蒸気改質(CH+HO→CO+3H)した後、さらに数百度程度でCO変成(CO+HO→CO+H)する方法が価格競争力の点から広く利用されている。これらの反応を経て得られたガスの成分には、水素の他に二酸化炭素や一酸化炭素、さらには未反応の炭化水素や水が含まれる。近年、家庭への普及が始まった固体高分子型燃料電池システムでは、低コスト化を実現するために水素の高純度化は行わず、水素濃度60%程度の混合ガスをそのまま燃料電池の燃料極に供給しているが、燃料極の触媒を被毒する一酸化炭素については、供給前に二酸化炭素に酸化し(CO+1/2O→CO)、その濃度を10ppm未満まで除去している。しかしながら、混合ガスを用いる燃料電池は、純水素燃料電池と比較して発電効率が低いため、さらに純度の高い水素を省スペースで安価に製造する技術が求められている。また、自動車用燃料電池には、上記CO濃度の制限に加えて、99.99%以上の水素を供給する必要があり、安価な高純度水素を大量に製造する技術が求められている。 Currently, hydrogen is produced by steam reforming a hydrocarbon fuel at a temperature of about 700 ° C. (CH 4 + H 2 O → CO + 3H 2 ), and then CO conversion at a few hundred degrees (CO + H 2 O → CO 2 + H 2 ). This method is widely used in terms of price competitiveness. Gas components obtained through these reactions include carbon dioxide, carbon monoxide, unreacted hydrocarbons and water in addition to hydrogen. In recent years, in polymer electrolyte fuel cell systems that have become popular in the home, the purity of hydrogen is not increased in order to reduce costs, and a mixed gas with a hydrogen concentration of about 60% is directly used as the fuel electrode of the fuel cell. However, the carbon monoxide poisoning the fuel electrode catalyst is oxidized to carbon dioxide (CO + 1 / 2O 2 → CO 2 ) before supply, and the concentration thereof is removed to less than 10 ppm. However, since a fuel cell using a mixed gas has lower power generation efficiency than a pure hydrogen fuel cell, there is a need for a technique for producing hydrogen with higher purity at a low cost in a space-saving manner. Further, in addition to the limitation of the CO concentration, it is necessary to supply 99.99% or more of hydrogen to the automobile fuel cell, and a technique for producing a large amount of inexpensive high-purity hydrogen is required.

水素を含む混合ガスから高純度水素を取り出す方法としては、吸収法、深冷分離法、吸着法、膜分離法などが挙げられるが、膜分離法は高効率で小型化が容易であるという特徴を有している。また、水蒸気改質を行う反応容器内に水素分離膜を挿入したメンブレンリアクターを構成することにより、改質反応によって生成した水素を連続的に反応雰囲気から引き抜き、500℃程度の温度でも改質反応とCO変成反応を同時に促進させ、効率良く高純度水素を製造することが可能となる。さらに、メンブレンリアクターではCO変成に使用される白金等の高価な貴金属触媒も不要となり、コストの低減や設備の小型化が可能となる。なお、水素分離膜を通過した水素ガスの純度は水素分離膜の性能に依存するが、用途に応じてさらにCO除去や高純度化が必要な場合でも、これらの工程にかかる負荷を軽減することが可能となる。   Examples of methods for extracting high-purity hydrogen from a mixed gas containing hydrogen include an absorption method, a cryogenic separation method, an adsorption method, and a membrane separation method. The feature of the membrane separation method is high efficiency and easy miniaturization. have. In addition, by configuring a membrane reactor in which a hydrogen separation membrane is inserted into a reaction vessel that performs steam reforming, hydrogen generated by the reforming reaction is continuously extracted from the reaction atmosphere, and the reforming reaction is performed even at a temperature of about 500 ° C. And CO shift reaction can be promoted at the same time, and high-purity hydrogen can be produced efficiently. Furthermore, an expensive noble metal catalyst such as platinum used for CO conversion is not required in the membrane reactor, and the cost can be reduced and the equipment can be downsized. The purity of the hydrogen gas that has passed through the hydrogen separation membrane depends on the performance of the hydrogen separation membrane, but even if CO removal or high purity is required depending on the application, the load on these steps should be reduced. Is possible.

以上説明したように、水素分離膜を用いた水素製造の有利さを背景に、いくつかの水素分離膜が提案されている。例えば、非特許文献1にはパラジウム合金膜をジルコニア多孔質基材で支持した水素分離膜が記載されている。この水素分離膜においては、水素はパラジウム合金に原子として溶解し、その濃度勾配で拡散して純水素のみを透過させる方法によって水素を分離するため、原理的に高純度の水素を得ることができる。非特許文献2にはシリカガラス膜をアルミナ系多孔質基材で支持した水素分離膜が記載されている。この水素分離膜は、シリカガラス膜が水素分子のみを通す大きさ(0.3nm)の孔を有していることを利用し、水素分子を選択的に透過させる分子ふるい機能により水素を分離するものである。   As described above, several hydrogen separation membranes have been proposed against the background of the advantages of hydrogen production using hydrogen separation membranes. For example, Non-Patent Document 1 describes a hydrogen separation membrane in which a palladium alloy membrane is supported by a zirconia porous substrate. In this hydrogen separation membrane, hydrogen is dissolved as atoms in the palladium alloy, and is separated by a method of diffusing with the concentration gradient and allowing only pure hydrogen to permeate, so that high purity hydrogen can be obtained in principle. . Non-Patent Document 2 describes a hydrogen separation membrane in which a silica glass membrane is supported by an alumina porous substrate. This hydrogen separation membrane utilizes the fact that the silica glass membrane has pores with a size (0.3 nm) that allows only hydrogen molecules to pass through, and separates hydrogen by a molecular sieving function that selectively permeates hydrogen molecules. Is.

独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構 燃料電池・水素技術開発シンポジウム平成20年度要旨集「高耐久性メンブレン型LPガス改質装置の開発」Summary of FY2008 Fuel Cell and Hydrogen Technology Development Symposium “Development of Highly Durable Membrane LP Gas Reformer” 独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構「高効率高温水素分離膜の開発」(事後評価)分科会議事録(平成19年7月30日)New Energy and Industrial Technology Development Organization “Development of High-Efficiency High-Temperature Hydrogen Separation Membrane” (Ex-post Evaluation) Minutes of Subcommittee Meeting (July 30, 2007)

ところで、本発明者等は、シリカ系多孔質体を支持体とする水素分離材料をPCT/JP2010/072201(平成22年12月10日出願)にて提案している。かかる水素分離材料はシリカガラス膜を水素分離膜として機能させ、当該シリカガラス膜と熱膨張率が近いシリカ系多孔質体をその支持体としており、これにより、熱衝撃に強く、水素分離特性に優れた水素分離膜を実現している。また、当該先願では、シリカ系多孔質支持体の製法の一例としてCVD法による製造例を記載している。かかる製法は、CVD法によりロッドの周囲にガラス微粒子を堆積し、これをガス透過性能に優れる程度に(即ち高い気孔率を有するように)焼結させ、その後ロッドを引抜くことによってシリカ系多孔質支持体を円筒状のガラス管として構成したものである。   By the way, the present inventors have proposed a hydrogen separation material using a silica-based porous material as a support in PCT / JP2010 / 072201 (filed on Dec. 10, 2010). Such a hydrogen separation material has a silica glass membrane functioning as a hydrogen separation membrane, and a silica-based porous body having a thermal expansion coefficient close to that of the silica glass membrane is used as a support, thereby being resistant to thermal shock and providing hydrogen separation characteristics. An excellent hydrogen separation membrane has been realized. Moreover, in the said prior application, the manufacture example by CVD method is described as an example of the manufacturing method of a silica type porous support body. In such a production method, glass fine particles are deposited around the rod by the CVD method, sintered to such an extent that the gas permeation performance is excellent (that is, to have a high porosity), and then the rod is pulled out to obtain a silica-based porous material. The quality support is configured as a cylindrical glass tube.

しかしながら、本発明者等は上記水素分離材料を更に改良すべく、特にシリカ系多孔質支持体について鋭意検討を行っていた所、水素分離材料として好適なガス透過性を有する、即ち気孔率が高いシリカ系多孔質体は耐衝撃性が低く、流通過程において外部衝撃によって破損する頻度が高いことを知見するに至った。   However, in order to further improve the hydrogen separation material, the present inventors have made extensive studies on the silica-based porous support in particular. As a result, the present inventors have gas permeability suitable as a hydrogen separation material, that is, a high porosity. Silica-based porous materials have low impact resistance and have been found to be frequently damaged by external impact during the distribution process.

そこで本発明は、水素分離材料の支持体として好適に使用できるシリカ系多孔質体を提供することをその目的とし、特に、良好なガス透過性能を有しながら耐衝撃性が向上したガラス管を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention aims to provide a silica-based porous body that can be suitably used as a support for a hydrogen separation material, and in particular, a glass tube with improved impact resistance while having good gas permeation performance. The purpose is to provide.

本発明者等は上記先願に記載されたCVD法によるガラス管の製造工程における堆積・焼結条件を工夫することによって、良好なガス透過性能を有しながら耐衝撃性を向上させたガラス管を製造することが可能であることを知見し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明のガラス管は、多孔質シリカからなるガラス管であって、平均気孔率が40%以上70%以下であり、少なくとも長手方向の一部の軸方向に垂直な断面における気孔率が内周側から外周側に向かって傾斜を有するとともに、最内層気孔率が最外層気孔率よりも高いことを特徴とする。
The present inventors have devised the deposition and sintering conditions in the glass tube manufacturing process by the CVD method described in the above-mentioned prior application, thereby improving the impact resistance while having good gas permeation performance. As a result, the present invention has been completed.
That is, the glass tube of the present invention is a glass tube made of porous silica, having an average porosity of 40% or more and 70% or less, and at least a porosity in a cross section perpendicular to the axial direction of a part of the longitudinal direction. While having an inclination from the inner peripheral side toward the outer peripheral side, the innermost layer porosity is higher than the outermost layer porosity.

また、上記ガラス管を製造するための本発明のガラス管の製造方法は、ロッドの周囲にガラス微粒子を複数層堆積させ、ガラス微粒子堆積後にロッドを引き抜くことにより、水素分離材料の支持体として多孔質ガラスからなるガラス管を製造する方法であって、
CVD法による前記ガラス微粒子堆積時の堆積温度をロッド側から外周方向に向かって高くすることで、前記ガラス管の平均気孔率を40%以上70%以下とし、前記ガラス管の少なくとも長手方向の一部の軸方向に垂直な断面における気孔率が内周側から外周側に向かって傾斜を有するとともに、前記ガラス微粒子の堆積層における最内層気孔率が最外層気孔率よりも高くなるように前記ガラス管の気孔率を制御し、
前記ガラス管の中心孔の一方の端部を前記CVD法によって形成された前記堆積層により塞ぐことを特徴とする。
Further, the method for producing a glass tube of the present invention for producing the above glass tube comprises depositing a plurality of layers of glass fine particles around the rod, and pulling out the rod after the glass fine particles are deposited, thereby providing a porous support as a support for the hydrogen separation material. A method for manufacturing a glass tube made of glass,
By increasing the deposition temperature when depositing the glass fine particles by the CVD method from the rod side toward the outer peripheral direction, the average porosity of the glass tube is set to 40% or more and 70% or less, and at least one longitudinal direction of the glass tube is set. The glass so that the porosity in the cross section perpendicular to the axial direction of the portion has an inclination from the inner peripheral side toward the outer peripheral side, and the innermost layer porosity in the deposited layer of the glass fine particles is higher than the outermost layer porosity. Control the porosity of the tube,
One end portion of the central hole of the glass tube is closed with the deposited layer formed by the CVD method .

また、本発明のガラス管の製造方法の別の好適形態は、最内層の堆積温度を1200℃以下とし、その後堆積温度を上げることを特徴とする。   Another preferred embodiment of the method for manufacturing a glass tube of the present invention is characterized in that the deposition temperature of the innermost layer is set to 1200 ° C. or lower, and then the deposition temperature is raised.

また、本発明のガラス管の製造方法の別の好適形態は、前記ロッドの熱膨張係数が4×10−7/K以上5×10−6/K以下であることを特徴とする。 Another preferred embodiment of the method for producing a glass tube of the present invention is characterized in that a thermal expansion coefficient of the rod is 4 × 10 −7 / K or more and 5 × 10 −6 / K or less.

また、本発明のガラス管の製造方法の別の好適形態は、前記ロッドをテーパ状とすることを特徴とする。   Another preferred embodiment of the method for producing a glass tube of the present invention is characterized in that the rod is tapered.

本発明のガラス管は、その少なくとも長手方向の一部の軸方向に垂直な断面において、耐衝撃性が得られるようにガラス管の外表面近傍の気孔率を低くし、その一方で、良好なガス透過性を維持するために最内層の気孔率が相対的に高く構成されている。したがって本発明によれば、良好なガス透過性能を有しながら耐衝撃性が向上した、水素分離材料の支持体として好適に使用できるガラス管を提供することができる。
また本発明の上記ガラス管を製造するための方法は製造上の利点をも有する。水素分離材料用途のガラス管の製造過程では、光ファイバ用途などのガラス管の製造過程と異なり、ガス透過性を制御すべく気孔率を堆積工程時から低めに調整する必要があり、これによりガラス微粒子の堆積温度が他の用途のガラス管製造での堆積温度と比較して高温となる。光ファイバ用途などのガラス管製造では、ロッドの引き抜きを容易にする目的で予めロッドの表面にカーボンや窒化物等を塗布しておくことが行なわれるが、この方法では、堆積温度が高い水素分離材料用途のガラス管の製法においてはロッドの周囲に予め塗布しておいたカーボン等の塗布材が燃焼してしまうため、塗布材の効果が得られず、ロッドの材質によっては、ロッドとガラスとの間に融着が生じる場合がある。また、ロッドの材質によっては、ロッドが割れてしまう可能性もある。これに対し、本発明のガラス管の製造方法は、ガラス微粒子堆積時の堆積温度をロッド側から外周方向に向かって高くするとともに、ガラスの外表面近傍の堆積温度を耐衝撃性が得られる程度の気孔率とすべく高温で行い、これに相対してロッド近傍に堆積されるガラス微粒子の堆積温度を低温とするため、ガラス堆積体とロッドとの融着やロッドの割れが抑制され、その後のロッド引抜き作業が顕著に容易となる。
The glass tube of the present invention has a low porosity in the vicinity of the outer surface of the glass tube so as to obtain impact resistance in at least a part of the cross section perpendicular to the axial direction in the longitudinal direction. In order to maintain gas permeability, the innermost layer has a relatively high porosity. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a glass tube that can be suitably used as a support for a hydrogen separation material that has good gas permeation performance and improved impact resistance.
The method for manufacturing the glass tube of the present invention also has manufacturing advantages. In the manufacturing process of glass tubes for hydrogen separation materials, unlike the manufacturing process of glass tubes for optical fiber applications, it is necessary to adjust the porosity to be lower than the deposition process in order to control gas permeability. The deposition temperature of the fine particles is higher than the deposition temperature in manufacturing a glass tube for other applications. In the manufacture of glass tubes for optical fiber applications, for example, carbon or nitride is applied to the surface of the rod in advance for the purpose of facilitating the pulling of the rod. In the manufacturing method of the glass tube for material use, since the coating material such as carbon previously applied around the rod burns, the effect of the coating material cannot be obtained, and depending on the material of the rod, the rod and the glass There may be a fusion between the two. Further, depending on the material of the rod, the rod may be broken. In contrast, the glass tube manufacturing method of the present invention increases the deposition temperature during deposition of glass particles from the rod side toward the outer peripheral direction, and allows the deposition temperature near the outer surface of the glass to have impact resistance. In order to reduce the deposition temperature of the glass fine particles deposited in the vicinity of the rod, the fusion between the glass deposit and the rod and the cracking of the rod are suppressed. The rod pull-out operation becomes significantly easier.

本発明のガラス管の一実施形態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one Embodiment of the glass tube of this invention. 本発明のガラス管の製造方法の一実施形態である堆積工程(a)および(b)、引抜き工程(c)を説明する図である。It is a figure explaining the deposition process (a) and (b) which are one Embodiment of the manufacturing method of the glass tube of this invention, and a drawing process (c). 本発明のガラス管の長手方向中央部の横断面における気孔率分布の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the porosity distribution in the cross section of the longitudinal direction center part of the glass tube of this invention. 実施例1〜3、比較例1の各々の堆積工程時の、堆積層の厚さ(尚、ここで言う「堆積層の厚さ」は、最内層のガラス管中心孔側端部からの距離である)に対する堆積温度を示した温度プロファイルである。The thickness of the deposited layer in each of the deposition steps of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 (herein, “the thickness of the deposited layer” is the distance from the end of the innermost layer on the glass tube center hole side) Is a temperature profile showing the deposition temperature.

以下、本発明のガラス管及びその製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, the glass tube of the present invention and the manufacturing method thereof will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明のガラス管の一例を示す模式図である。ガラス管10は略円柱形状であり、その中心には長手方向に延びる略円形断面の中心孔11を有する。
ガラス管10の外径Tは2mm〜50mm、内径(中心孔11の径)Pは1.6mm〜48mm、長さLは200mm〜400mm程度である。中心孔11の一方の端部11aは塞がれていることが望ましい。また、管の表面積を大きくするため、外径Tおよび内径Pを長手方向に周期的に変化させても良く、機械的強度を補強するため厚さを部分的に変化させることもできる。ガラス管10の肉厚は例えば0.2〜5mmであり、0.5〜3mmであることがより好ましい。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of the glass tube of the present invention. The glass tube 10 has a substantially cylindrical shape, and has a central hole 11 having a substantially circular cross section extending in the longitudinal direction at the center thereof.
The outer diameter T of the glass tube 10 is 2 mm to 50 mm, the inner diameter (diameter of the center hole 11) P is 1.6 mm to 48 mm, and the length L is about 200 mm to 400 mm. It is desirable that one end 11a of the center hole 11 is closed. Further, in order to increase the surface area of the tube, the outer diameter T and the inner diameter P may be periodically changed in the longitudinal direction, and the thickness can be partially changed to reinforce the mechanical strength. The thickness of the glass tube 10 is, for example, 0.2 to 5 mm, and more preferably 0.5 to 3 mm.

ガラス管10は、その平均気孔率は40%以上70%以下であり、少なくとも長手方向の一部(好ましくは長手方向全体)の軸方向に垂直な横断面において、気孔率が内周側から外周側に向かって傾斜を有するとともに最内層Lにおける気孔率(最内層気孔率)が最外層Lにおける気孔率(最外層気孔率)よりも高くなるように形成されている。
ここでいう最内層Lおよび最外層Lとは、後述するガラス管10の製造方法においても説明するが、ガラス微粒子堆積に際して、ガラス微粒子を供給するバーナー21をロッド20の軸方向にトラバースした場合、またはガラス微粒子を供給するバーナー21を固定してロッド20を軸方向にトラバースした場合の何れかにおける「一回のトラバースで堆積された堆積層」であって、ロッド20の最近傍の堆積層が最内層L、ロッド20から最も離れた位置の堆積層が最外層Lである。
また「気孔率」は、単位体積当たりの空気容積が占める割合として算出でき、堆積させる条件によって一堆積層内の長手方向でもその分布は変化する。「平均気孔率」は製造したガラス管全体の体積に空気容積が占める割合、「最内層気孔率」と「最外層気孔率」は、それぞれ最内層Lおよび最外層Lの体積に空気容積が占める割合として算出できる。なお、層の気孔率は、ガラス管の断面X線CT像を撮影することにより、相対的に大小を比較することができる。より詳しくは、樹脂で空孔部を充填したガラス管の断面に対して適切な倍率でSEM像を撮影し、その画像を二値化することにより求めることができる。適切な倍率とは、半径方向のすべての断面を複数個所に分割し、各部位における局所的な気孔率を上記方法で求めた場合に、それらの気孔率の平均値と平均気孔率が2%以内となる倍率である。なお、精度良く局所的な気孔率を評価するためには、クロスセクションポリッシャーなどを用い、断面の平坦度をできるだけ高くすることが好ましい。
以下、ガラス管10の製造方法の実施形態の一例について説明する。
The glass tube 10 has an average porosity of 40% or more and 70% or less, and at least in a cross section perpendicular to the axial direction of a part of the longitudinal direction (preferably the entire longitudinal direction), the porosity is from the inner peripheral side to the outer peripheral side. The outermost layer L I has a slope (innermost layer porosity) higher than that of the outermost layer L 2 O and has a slope toward the side.
The innermost layer L I and the outermost layer L O described here are also described in a method for manufacturing the glass tube 10 described later. During the deposition of the glass particles, the burner 21 that supplies the glass particles is traversed in the axial direction of the rod 20. Or the “deposition layer deposited in one traverse” in the case where the rod 20 is traversed in the axial direction while fixing the burner 21 for supplying glass particles, The layer is the innermost layer L I , and the deposited layer farthest from the rod 20 is the outermost layer L 2 O.
Further, the “porosity” can be calculated as a ratio occupied by the air volume per unit volume, and its distribution changes in the longitudinal direction in one deposition layer depending on the deposition condition. “Average porosity” is the ratio of the air volume to the total volume of the manufactured glass tube, “innermost layer porosity” and “outermost layer porosity” are the volume of air in the innermost layer L I and outermost layer L O respectively. It can be calculated as a ratio occupied by. The porosity of the layers can be relatively compared by taking a cross-sectional X-ray CT image of the glass tube. More specifically, it can be obtained by taking an SEM image at an appropriate magnification with respect to a cross section of a glass tube filled with a hole with resin and binarizing the image. Appropriate magnification means that when all the cross sections in the radial direction are divided into a plurality of locations and the local porosity at each part is obtained by the above method, the average value of the porosity and the average porosity are 2%. The magnification is within. In order to evaluate the local porosity with high accuracy, it is preferable to use a cross section polisher or the like to increase the flatness of the cross section as much as possible.
Hereinafter, an example of an embodiment of a method for manufacturing the glass tube 10 will be described.

図2はガラス管10の製造方法の実施形態の一例を示す模式図であり、(a)および(b)は、ガラス管10の製造方法に係る堆積工程を説明する図であり、(c)は、ロッドの引抜き工程を説明する図である。尚、図2(a)と(b)はいずれも堆積工程を示したもので堆積経過((a)→(b))を説明する模式図である。
図2(a)および(b)において、ロッド20は、先端部が下になるようにして鉛直に配置される。また、軸方向を水平に配置する形としても良い。ロッド20の素材としては、アルミナ、ガラス、耐火性セラミクス、カーボンなどを用いることができる。ロッド20は固定された後、中心軸を中心として回転される。そして、外付けCVD法(OVD法)により、ロッド20の側方に配置されたバーナー21により、ロッド20の外周にガラス微粒子が堆積される。ガラス微粒子には、所望する機械特性や耐水蒸気性に応じて、希土類元素、4B族元素、Al、Ga、又はこれらの2種以上の元素を組合せて添加することができる。例えばガラス管10を水素分離材料の支持体として炭化水素燃料の水蒸気改質に用いる場合、500℃以上の水蒸気に必然的に接触するため、上記のような他成分を導入することにより耐水蒸気性能を向上させることができる。
FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of an embodiment of a method for manufacturing the glass tube 10, (a) and (b) are diagrams for explaining a deposition process according to the method for manufacturing the glass tube 10, and (c). These are figures explaining the drawing process of a rod. FIGS. 2 (a) and 2 (b) show the deposition process and are schematic diagrams for explaining the deposition process ((a) → (b)).
2 (a) and 2 (b), the rod 20 is arranged vertically with the tip portion facing down. Moreover, it is good also as a form which arranges an axial direction horizontally. As the material of the rod 20, alumina, glass, refractory ceramics, carbon or the like can be used. The rod 20 is fixed and then rotated about the central axis. Then, glass particles are deposited on the outer periphery of the rod 20 by the burner 21 disposed on the side of the rod 20 by an external CVD method (OVD method). Depending on the desired mechanical properties and water vapor resistance, rare earth elements, group 4B elements, Al, Ga, or a combination of two or more of these elements can be added to the glass fine particles. For example, when the glass tube 10 is used for steam reforming of a hydrocarbon fuel as a support for a hydrogen separation material, it necessarily comes into contact with steam at 500 ° C. or higher. Can be improved.

このガラス微粒子堆積に際して、バーナー21をロッド20の軸方向にトラバースする。尚、図2ではバーナー21をロッド20の軸方向にトラバースした形態を示しているが、バーナー21を固定してロッド20を軸方向にトラバースする方法であってもよい。このトラバースの回数毎に供給原料の種類やガスの供給量を異ならせることによって、軸方向に直交する任意の横断面において、内周側から外周側方向に気孔率の傾斜を有するとともに最内層気孔率よりも最外層の気孔率を低く調整することが可能となる。これにより、ロッド20の外周に堆積されるガラス微粒子は、径方向に所定の気孔率や組成の分布を有することになる。また、ロッド20の先端部にもガラス微粒子を堆積させることで、先端が閉じたガラス管とすることができる。   During the deposition of the glass fine particles, the burner 21 is traversed in the axial direction of the rod 20. In addition, although the form which traversed the burner 21 to the axial direction of the rod 20 is shown in FIG. 2, the method of traversing the rod 20 to the axial direction by fixing the burner 21 may be used. By varying the type of feedstock and the gas supply amount for each number of traverses, the innermost layer pores have an inclination of the porosity from the inner peripheral side to the outer peripheral side in an arbitrary cross section orthogonal to the axial direction. It becomes possible to adjust the porosity of the outermost layer lower than the rate. Thereby, the glass fine particles deposited on the outer periphery of the rod 20 have a predetermined porosity and composition distribution in the radial direction. Further, by depositing glass particles on the tip of the rod 20, a glass tube having a closed tip can be obtained.

ガラス管10は、シリカガラス微粒子を堆積させた後にその平均気孔率が40%以上70%以下の範囲になるようにシリカガラス微粒子を加熱焼結し緻密化させてもよいが、かかる方法では気孔率分布の制御が困難である。従って、本発明の製造方法では、シリカガラス微粒子を堆積させる温度を調整しながらその気孔率を制御する方法を採用する。かかる方法により、シリカガラス微粒子の堆積温度を最内層Lから最外層Lに向かって高くすることで気孔率分布を高精度で制御することが可能となる。
この場合、最内層Lの堆積温度は1200℃以下、最内層Lより外周側の層は1200℃以上1700℃以下の温度範囲内で調整することが望ましい。堆積温度が1700℃を超えると気孔率が小さくなりすぎ、水素分離材料として適用できる程度のガス透過性が得られない場合がある。
The glass tube 10 may be sintered and densified by heat-sintering the silica glass fine particles so that the average porosity of the glass tube 10 is in the range of 40% or more and 70% or less after the silica glass fine particles are deposited. It is difficult to control the rate distribution. Therefore, the production method of the present invention employs a method of controlling the porosity while adjusting the temperature at which the silica glass fine particles are deposited. With this method, the porosity distribution can be controlled with high accuracy by increasing the deposition temperature of the silica glass fine particles from the innermost layer L I toward the outermost layer L O.
In this case, the deposition temperature of the innermost layer L I is 1200 ° C. or less, the layer of the outer peripheral side of the innermost layer L I is preferably adjusted within a temperature range of 1700 ° C. 1200 ° C. or higher. When the deposition temperature exceeds 1700 ° C., the porosity becomes too small, and gas permeability that can be applied as a hydrogen separation material may not be obtained.

上記の方法により得られるガラス管10は、最内層気孔率が最外層気孔率よりも大きい構成である。かかる構成により、平均気孔率は40%以上70%以下とガス透過性に適した範囲でありながら、外部衝撃による影響を最も受ける最外層Lの耐衝撃性を向上させることが可能となる。また、ガラス管10は、最内層気孔率を小さくすることで、平均気孔率を調整することができる。このように、最内層Lと最外層Lの間において、肉厚方向に気孔率が傾斜を有することで、ガス透過性と耐衝撃性とを両立することが可能となる。 The glass tube 10 obtained by the above method has a configuration in which the innermost layer porosity is larger than the outermost layer porosity. With this configuration, it is possible to improve the impact resistance of the outermost layer L 2 O most affected by external impact, while the average porosity is in the range of 40% to 70% and suitable for gas permeability. Moreover, the glass tube 10 can adjust an average porosity by making innermost layer porosity small. Thus, between the innermost layer L I and the outermost layer L O , the porosity is inclined in the thickness direction, so that both gas permeability and impact resistance can be achieved.

本発明においては、ガラス管10の軸方向に直交する任意の横断面における最内層Lから最外層Lまでの気孔率分布(1層内の気孔率を平均化して層ごとに分布化したもの)は、最外層気孔率が最内層気孔率よりも低く且つ最外層Lと最内層Lの間に傾斜があればよい。例えば、図3に示すように直線状((a)参照)、曲線状((b)参照)のいずれであってもよく、一部の内部層気孔率が最外層気孔率よりも小さく、一部の内部層気孔率が最内層気孔率よりも大きくなっていてもよい((c)参照)。 In the present invention, the porosity distribution from the innermost layer L I to the outermost layer L O in an arbitrary cross section perpendicular to the axial direction of the glass tube 10 (the porosity in one layer is averaged and distributed for each layer) ones) is the outermost layer porosity sufficient if the slope between and outermost L O innermost layer L I lower than the innermost layer porosity. For example, as shown in FIG. 3, it may be linear (see (a)) or curved (see (b)), and some of the inner layer porosity is smaller than the outermost layer porosity. The inner layer porosity of the portion may be larger than the innermost layer porosity (see (c)).

次に堆積工程の後の引抜き工程を図2(c)で説明する。図2(c)では、堆積・焼結されたガラス管10からロッド20が引き抜かれる。引抜きにより形成される中心孔11は、貫通しておらず、下端側(先端側)11aが塞がれていて、上端側のみが開口している(図1参照)。   Next, the drawing process after the deposition process will be described with reference to FIG. In FIG. 2 (c), the rod 20 is pulled out from the deposited and sintered glass tube 10. The central hole 11 formed by drawing does not penetrate, the lower end side (tip end side) 11a is closed, and only the upper end side is open (see FIG. 1).

上記堆積工程において、特に、熱膨張係数の高いロッドを使用する場合には、ロッド20の近傍のシリカガラス微粒子の堆積温度を1200℃以下とすることが好ましい。熱膨張係数の高いロッドでは、堆積温度が1200℃以上であると、ロッドが割れてしまう可能性がある。また、この温度とすることで、ロッド20とガラス管10との融着が殆ど生じることはなくなるため、堆積工程後のロッド20の引抜きを顕著に容易なものとすることができる。さらに、予めロッド20の表面にカーボンや窒化物等を塗布しておくことにより、引抜きは容易となる。   In the deposition step, particularly when a rod having a high thermal expansion coefficient is used, the deposition temperature of the silica glass fine particles in the vicinity of the rod 20 is preferably 1200 ° C. or lower. In a rod having a high thermal expansion coefficient, if the deposition temperature is 1200 ° C. or higher, the rod may be broken. Further, by setting the temperature at this temperature, almost no fusion between the rod 20 and the glass tube 10 occurs, so that the rod 20 can be drawn easily after the deposition step. Further, by drawing carbon, nitride or the like on the surface of the rod 20 in advance, drawing becomes easy.

また、上記した堆積温度に調整することができれば必要ではないが、より引抜き工程を容易にするという観点から考えると、ロッド20はテーパ状であればさらに好ましい。例えば、その外径傾斜率を0.2〜2.0mm/1000mmとすることが好ましく、0.5〜1.5mm/1000mmとすることがより好ましい。   Further, although it is not necessary if it can be adjusted to the above-described deposition temperature, it is more preferable if the rod 20 is tapered from the viewpoint of facilitating the drawing process. For example, the outer diameter gradient is preferably 0.2 to 2.0 mm / 1000 mm, and more preferably 0.5 to 1.5 mm / 1000 mm.

また、上記した堆積温度に調整することができれば必要ではないが、ロッド20が熱膨張率4×10−7/K以上5×10−6/K以下の材質であればさらに好ましい。ロッド20の熱膨張率がこの範囲外では堆積工程中においてバーナー21が接近する度にロッド20とガラス管10の間に熱歪が生じ、ガラス管10が損傷する虞がある。また、熱膨張率を上記範囲とすることで熱衝撃によるロッド20の損傷を防止することができる。
さらにロッド20は、例えばガラスとの親和性が低い窒化珪素等の非酸化物を材質とするロッドであることが好ましい。
Further, although it is not necessary if it can be adjusted to the above-described deposition temperature, it is more preferable if the rod 20 is made of a material having a coefficient of thermal expansion of 4 × 10 −7 / K or more and 5 × 10 −6 / K or less. When the coefficient of thermal expansion of the rod 20 is outside this range, thermal strain occurs between the rod 20 and the glass tube 10 every time the burner 21 approaches during the deposition process, and the glass tube 10 may be damaged. Moreover, the damage of the rod 20 by a thermal shock can be prevented by making a thermal expansion coefficient into the said range.
Furthermore, the rod 20 is preferably a rod made of a non-oxide such as silicon nitride having a low affinity with glass, for example.

以下、本発明に係る実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples according to the present invention. The present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
外付けCVD法により、最大外径16mm(外径傾斜率1.5mm/1000mm)、線熱膨張係数5.7×10−7/℃のシリカガラスロッドの表面に、堆積温度を図4のように変化させながらシリカガラス多孔質体を堆積させた後、前記ロッドを引抜くことにより外径18.0〜18.4mm、肉厚1.5mm、長さ250mm、平均気孔率63%の一端封じ多孔質シリカガラス管を作製した。この多孔質シリカガラス管の長手方向中央部における最内層気孔率は、最外層気孔率よりも大きくなっていることを確認した。
Example 1
The deposition temperature is as shown in FIG. 4 on the surface of a silica glass rod having a maximum outer diameter of 16 mm (outer diameter gradient: 1.5 mm / 1000 mm) and a linear thermal expansion coefficient of 5.7 × 10 −7 / ° C. by the external CVD method. After the silica glass porous body was deposited while changing the diameter, the rod was pulled out to seal one end with an outer diameter of 18.0 to 18.4 mm, a wall thickness of 1.5 mm, a length of 250 mm, and an average porosity of 63%. A porous silica glass tube was prepared. It was confirmed that the innermost layer porosity at the central portion in the longitudinal direction of the porous silica glass tube was larger than the outermost layer porosity.

(実施例2)
外付けCVD法により、最大外径16mm(外径傾斜率1.5mm/1000mm)、線熱膨張係数7.2×10−6/℃のアルミナロッドの表面に、堆積温度を図4のように変化させながらシリカガラス多孔質体を堆積させた後、前記ロッドを引抜くことにより外径18.0〜18.4mm、肉厚1.4mm、長さ250mm、平均気孔率65%の一端封じ多孔質シリカガラス管を作製した。この多孔質シリカガラス管の長手方向中央部における最内層気孔率は、最外層気孔率よりも大きくなっていることを確認した。
(Example 2)
By the external CVD method, the deposition temperature is as shown in FIG. 4 on the surface of an alumina rod having a maximum outer diameter of 16 mm (outer diameter gradient of 1.5 mm / 1000 mm) and a linear thermal expansion coefficient of 7.2 × 10 −6 / ° C. After depositing the porous silica glass while being changed, the rod is pulled out to close the end-sealed porous material having an outer diameter of 18.0 to 18.4 mm, a wall thickness of 1.4 mm, a length of 250 mm, and an average porosity of 65%. A silica glass tube was produced. It was confirmed that the innermost layer porosity at the central portion in the longitudinal direction of the porous silica glass tube was larger than the outermost layer porosity.

(実施例3)
外付けCVD法により、最大外径17mm(外径傾斜率1.0mm/1000mm)の線熱膨張係数2.6×10−6/℃の窒化珪素ロッドの表面に、堆積温度を図4のように変化させながらシリカガラス多孔質体を堆積させた後、前記ロッドを引抜くことにより外径19.5〜19.8mm、肉厚1.5mm、長さ250mm、平均気孔率46%の一端封じ多孔質シリカガラス管を作製した。この多孔質シリカガラス管の長手方向中央部における最内層気孔率は、最外層気孔率よりも大きくなっていることを確認した。
(Example 3)
By the external CVD method, the deposition temperature is as shown in FIG. 4 on the surface of a silicon nitride rod having a linear thermal expansion coefficient of 2.6 × 10 −6 / ° C. with a maximum outer diameter of 17 mm (outer diameter gradient of 1.0 mm / 1000 mm). After the silica glass porous body was deposited while being changed, the rod was pulled out to seal one end with an outer diameter of 19.5 to 19.8 mm, a wall thickness of 1.5 mm, a length of 250 mm, and an average porosity of 46%. A porous silica glass tube was prepared. It was confirmed that the innermost layer porosity at the central portion in the longitudinal direction of the porous silica glass tube was larger than the outermost layer porosity.

(比較例1)
外付けCVD法により、最大外径16mm(外径傾斜率1.5mm/1000mm)の線熱膨張係数5.7×10−7/℃のシリカガラスロッドの表面に、堆積温度を図4のように変化させながらシリカガラス多孔質体を堆積させた後、前記ロッドを引抜くことにより外径18.0〜18.4mm、肉厚1.4mm、長さ250mm、平均気孔率65%の一端封じ多孔質シリカガラス管を作製することを試みたが、前記ロッドと多孔質シリカガラス管は融着し、引抜くことができなかった。この多孔質シリカガラス管の長手方向中央部における最内層気孔率は、最外層気孔率よりも小さくなっていることを確認した。
(Comparative Example 1)
FIG. 4 shows the deposition temperature on the surface of a silica glass rod having a maximum outer diameter of 16 mm (outer diameter gradient of 1.5 mm / 1000 mm) and a linear thermal expansion coefficient of 5.7 × 10 −7 / ° C. by the external CVD method. After the silica glass porous body was deposited while being changed to 1, the rod was pulled out to seal one end of an outer diameter of 18.0 to 18.4 mm, a wall thickness of 1.4 mm, a length of 250 mm, and an average porosity of 65%. Although an attempt was made to produce a porous silica glass tube, the rod and the porous silica glass tube were fused and could not be pulled out. It was confirmed that the innermost layer porosity at the center portion in the longitudinal direction of the porous silica glass tube was smaller than the outermost layer porosity.

上記実施例1〜3で得られた多孔質シリカガラス管の長手方向中央部における最内層気孔率は、いずれも最外層気孔率よりも大きく、多孔質シリカガラス管の外表面近傍の気孔率が低い為、耐衝撃性が向上していることが明らかである。また、ガス透過性能に優れる良好な平均気孔率を保持していることから水素分離材料に適用することが可能である。
一方、比較例1で作製を試みた多孔質シリカガラス管は、ガス透過性には問題ないものと推測されるものの、ロッドとガラス管とが融着してしまい、作製することができなかった。
The innermost layer porosity in the longitudinal central portion of the porous silica glass tubes obtained in Examples 1 to 3 is larger than the outermost layer porosity, and the porosity in the vicinity of the outer surface of the porous silica glass tube is Since it is low, it is clear that the impact resistance is improved. In addition, since it has a good average porosity with excellent gas permeation performance, it can be applied to a hydrogen separation material.
On the other hand, the porous silica glass tube that was attempted to be manufactured in Comparative Example 1 was presumed to have no problem with gas permeability, but could not be manufactured because the rod and the glass tube were fused. .

10:ガラス管、20:ロッド、21:バーナー、11:中心孔、11a:中心孔11の下端側(先端側)、P:内径、T:外径、L:最外層、L:最内層 10: glass tube, 20: rod, 21: burner, 11: center hole, 11a: lower end side (tip side) of center hole 11, P: inner diameter, T: outer diameter, L O : outermost layer, L I : outermost layer Inner layer

Claims (4)

ロッドの周囲にガラス微粒子を複数層堆積させ、ガラス微粒子堆積後にロッドを引き抜くことにより、水素分離材料の支持体として多孔質ガラスからなるガラス管を製造する方法であって、  A method of manufacturing a glass tube made of porous glass as a support for a hydrogen separation material by depositing a plurality of glass particles around a rod and pulling out the rod after the glass particles are deposited,
CVD法による前記ガラス微粒子堆積時の堆積温度をロッド側から外周方向に向かって高くすることで、前記ガラス管の平均気孔率を40%以上70%以下とし、前記ガラス管の少なくとも長手方向の一部の軸方向に垂直な断面における気孔率が内周側から外周側に向かって傾斜を有するとともに、前記ガラス微粒子の堆積層における最内層気孔率が最外層気孔率よりも高くなるように前記ガラス管の気孔率を制御し、  By increasing the deposition temperature when depositing the glass fine particles by the CVD method from the rod side toward the outer peripheral direction, the average porosity of the glass tube is set to 40% or more and 70% or less, and at least one longitudinal direction of the glass tube is set. The glass so that the porosity in the cross section perpendicular to the axial direction of the portion has an inclination from the inner peripheral side toward the outer peripheral side, and the innermost layer porosity in the deposited layer of the glass fine particles is higher than the outermost layer porosity. Control the porosity of the tube,
前記ガラス管の中心孔の一方の端部を前記CVD法によって形成された前記堆積層により塞ぐことを特徴とするガラス管の製造方法。  A method for producing a glass tube, wherein one end of a central hole of the glass tube is closed with the deposited layer formed by the CVD method.
最内層の堆積温度を1200℃以下とし、その後堆積温度を上げることを特徴とする請求項1に記載のガラス管の製造方法。The method for producing a glass tube according to claim 1, wherein the deposition temperature of the innermost layer is set to 1200 ° C or lower, and then the deposition temperature is increased. 前記ロッドの熱膨張係数が4×10The thermal expansion coefficient of the rod is 4 × 10 −7-7 /K以上5×10/ K or more 5 × 10 −6-6 /K以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のガラス管の製造方法。The method for producing a glass tube according to claim 1 or 2, wherein the glass tube is / K or less. 前記ロッドをテーパ状とすることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のガラス管の製造方法。The method of manufacturing a glass tube according to any one of claims 1 to 3, wherein the rod is tapered.
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