JP5915493B2 - Process for producing alkoxytrihalosilane - Google Patents

Process for producing alkoxytrihalosilane Download PDF

Info

Publication number
JP5915493B2
JP5915493B2 JP2012226507A JP2012226507A JP5915493B2 JP 5915493 B2 JP5915493 B2 JP 5915493B2 JP 2012226507 A JP2012226507 A JP 2012226507A JP 2012226507 A JP2012226507 A JP 2012226507A JP 5915493 B2 JP5915493 B2 JP 5915493B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
formula
alkoxytrihalosilane
alcohol
raw material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012226507A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014076976A (en
Inventor
幸二 石川
幸二 石川
洋慈 堀江
洋慈 堀江
鈴木 浩
浩 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toagosei Co Ltd filed Critical Toagosei Co Ltd
Priority to JP2012226507A priority Critical patent/JP5915493B2/en
Publication of JP2014076976A publication Critical patent/JP2014076976A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5915493B2 publication Critical patent/JP5915493B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、ハロシランとアルコールとを原料としてアルコキシトリハロシランを選択的に高収率で得ることのできる製造方法に関し、得られるアルコキシトリハロシランはシランカップリング剤等の化学品の中間原料となるほか、絶縁膜原料などの半導体プロセス材料としても用いられる。   The present invention relates to a production method capable of selectively obtaining alkoxytrihalosilane in high yield using halosilane and alcohol as raw materials, and the obtained alkoxytrihalosilane serves as an intermediate raw material for chemical products such as silane coupling agents. It is also used as a semiconductor process material such as an insulating film raw material.

従来、各種アルコキシシランはシランカップリング剤等のケイ素化学材料やその中間原料として重用され、工業的に効率よく製造するための製造方法も各種検討されてきたが、アルコキシシラン類の中でもアルコキシトリハロシランは、比較的用途が限られていたことから、アルコキシトリハロシランを得ることを目的とする製造方法についてはこれまで十分に検討されてこなかった。しかし、近年、半導体製造に用いるCVD法やゾルゲル法のシリコンソース材料としてアルコキシトリハロシランが注目を浴びてきたことから、アルコキシトリハロシランのニーズがにわかに高まり、高純度のアルコキシトリハロシランを効率よく製造する方法が求められるようになった。   Conventionally, various alkoxysilanes are used as silicon chemical materials such as silane coupling agents and intermediate raw materials, and various production methods for industrially efficient production have been studied. Among alkoxysilanes, alkoxytrihalosilanes have been studied. Since the use thereof is relatively limited, production methods aimed at obtaining alkoxytrihalosilanes have not been sufficiently studied so far. However, in recent years, alkoxytrihalosilane has attracted attention as a silicon source material for CVD and sol-gel methods used in semiconductor manufacturing, and the need for alkoxytrihalosilane has increased, and high-purity alkoxytrihalosilane can be produced efficiently. A method has come to be sought.

アルコキシトリハロシランの製造方法として、ポリハロシランとアルコールとを反応させてアルコキシハロシラン類を製造する方法は、アルコリシス反応として古くから知られており、非特許文献1には、四塩化ケイ素とメタノールとを液相状態で反応させると、メトキシトリクロロシラン、ジメトキシジクロロシラン、トリメトキシクロロシラン、テトラメトキシシランの4種が生成し、原料の四塩化ケイ素とメタノールとの仕込みモル比を変化させることによって4種の生成比を変化させることができることの記載があるが、メトキシトリクロロシランを選択的に得るためにはメタノール過少の条件を選択するしかなく、その場合は未反応の四塩化ケイ素が多量に残存してしまうため、メトキシトリクロロシランの収率としては低い値しか達成することができず、効率的ではなかった。なお、非特許文献1には、四塩化ケイ素とメタノールの反応が、各々液体状態で氷冷〜40℃の温度範囲で行われたことの記載があったが、高温や気相での反応については記載も示唆もなかった。   As a method for producing an alkoxytrihalosilane, a method for producing an alkoxyhalosilane by reacting a polyhalosilane with an alcohol has long been known as an alcoholysis reaction. In Non-Patent Document 1, silicon tetrachloride and methanol are used. When reacted in the liquid phase state, four types of methoxytrichlorosilane, dimethoxydichlorosilane, trimethoxychlorosilane, and tetramethoxysilane are produced. By changing the charged molar ratio of raw material silicon tetrachloride and methanol, Although there is a description that the production ratio can be changed, in order to selectively obtain methoxytrichlorosilane, it is necessary to select a condition in which methanol is insufficient, in which case a large amount of unreacted silicon tetrachloride remains. Therefore, the yield of methoxytrichlorosilane is low. Can not be achieved to, it was not efficient. In Non-Patent Document 1, there was a description that the reaction between silicon tetrachloride and methanol was performed in a liquid state in a temperature range of ice-cooling to 40 ° C. There was no description or suggestion.

非特許文献2には、四塩化ケイ素とエタノールとの液相反応でも同様のことが起き、このような反応を逐次競争エタノリシスと呼ぶことや、得られるのは非特許文献1の場合と同様に各成分の混合物であることが記載されているが、非特許文献1と同様に、エトキシトリクロロシランを選択的に得るためにはエタノール過少の条件を選択するしかなく、その場合は未反応の四塩化ケイ素が多量に残存してしまうため、エトキシトリクロロシランの収率としては低い値しか達成することができないものだった。実験の部で示された反応条件は気密攪拌機や滴下漏斗を用い、氷冷して液相反応を行うことであり、高温や気相での反応については記載も示唆もなかった。すなわち、非特許文献1,2には液体のアルコールとテトラハロシランとを、低温で反応させてアルコキシハロシラン類を得る製造方法が記載されていたが、アルコキシトリハロシランの組成比が十分に高く、原料の四塩化ケイ素の量に基づくアルコキシトリハロシランの収率が高い条件は見出されていなかったということができる。   In Non-Patent Document 2, the same thing occurs in the liquid phase reaction of silicon tetrachloride and ethanol. Such a reaction is called sequential competitive ethanolysis, and is obtained as in Non-Patent Document 1. Although it is described that it is a mixture of each component, as in Non-Patent Document 1, in order to selectively obtain ethoxytrichlorosilane, there is no choice but to select ethanol-deficient conditions. Since a large amount of silicon chloride remains, only a low value of the yield of ethoxytrichlorosilane can be achieved. The reaction conditions shown in the experimental part were to perform a liquid phase reaction by cooling with ice using an airtight stirrer and a dropping funnel, and there was no description or suggestion about the reaction at a high temperature or in the gas phase. That is, Non-Patent Documents 1 and 2 described a production method for obtaining alkoxyhalosilanes by reacting liquid alcohol and tetrahalosilane at a low temperature, but the composition ratio of alkoxytrihalosilane is sufficiently high. It can be said that no conditions for high yield of alkoxytrihalosilane based on the amount of raw material silicon tetrachloride were found.

一方、先行技術文献としての特許文献にはアルコキシトリハロシランを目的物とする製造方法の文献はなかったが、例えば特許文献1の実施例には、乾燥エーテルで希釈した四塩化ケイ素とメタノールを液相で反応させて、中間原料としてのメトキシトリクロロシランを得たことの記載がある。この反応については、温度や収率等の記載がないが、技術常識に基づいて乾燥エーテルがジエチルエーテルを意味すると考えると、常識的にはジエチルエーテルの沸点(35℃)以下で反応が行われたものと理解され、また、四塩化ケイ素の仕込み量255gと、次工程で用いたメトキシトリクロロシランの量165.5gから単純に収率を計算すると66.7%となることから、乾燥エーテルで希釈して四塩化ケイ素とメタノールを35℃以下で液相反応させたとき、原料基準の収率66.7重量%でメトキシトリクロロシランが得られうる、ということは知られていたと考えることができる。しかし、引火性の高いエーテルを用いて反応させ、反応後にエーテルを蒸留除去することが必須の製造方法であり、効率的とは言い難い方法であった。   On the other hand, in the patent document as a prior art document, there is no document on a production method using alkoxytrihalosilane as a target product. For example, in the example of Patent Document 1, a solution of silicon tetrachloride diluted with dry ether and methanol There is a description that methoxytrichlorosilane was obtained as an intermediate raw material by reacting in phase. Although there is no description of temperature, yield, etc. for this reaction, it is common knowledge that the reaction is carried out below the boiling point of diethyl ether (35 ° C.), assuming that dry ether means diethyl ether. Moreover, since the yield is 66.7% when the amount of silicon tetrachloride charged is 255 g and the amount of methoxytrichlorosilane used in the next step is 165.5 g, the yield is 66.7%. It can be considered that it was known that methoxytrichlorosilane can be obtained in a yield of 66.7% by weight based on the raw material when diluted and subjected to a liquid phase reaction between silicon tetrachloride and methanol at 35 ° C. or lower. . However, it is an indispensable production method to make the reaction using highly flammable ether, and to distill off the ether after the reaction, which is difficult to say efficient.

特許文献2には、四塩化ケイ素とトリメチルモノクロロシランの混合物とアルコール類とを反応させてアルコキシトリクロロシランが得られる製造方法が開示されており、四塩化ケイ素とトリメチルモノクロロシランの混合物に対して1.3乃至3モルのアルコールを冷却下に滴下することの記載があるが、実施例1に開示されているのはベンゼン希釈した原料を反応させる方法であり、四塩化ケイ素原料を基準としたアルコキシトリクロロシランの収率は46.7重量%に過ぎず、生成物中のアルコキシトリクロロシランの選択率も52.1重量%と推算されるので、やはり効率的にアルコキシトリハロシランが得られるとは言い難い方法であった。   Patent Document 2 discloses a production method in which an alkoxytrichlorosilane is obtained by reacting a mixture of silicon tetrachloride and trimethylmonochlorosilane with an alcohol, and 1 for each mixture of silicon tetrachloride and trimethylmonochlorosilane. Although there is a description of dripping 3 to 3 moles of alcohol under cooling, Example 1 discloses a method of reacting a raw material diluted with benzene, and alkoxy based on a silicon tetrachloride raw material. Since the yield of trichlorosilane is only 46.7% by weight and the selectivity of alkoxytrichlorosilane in the product is estimated to be 52.1% by weight, it can be said that alkoxytrihalosilane can also be obtained efficiently. It was a difficult method.

特許文献3には、オルガノクロロシランを触媒系の存在下にアルコールと反応させる方法が開示されており、実施例16には、四塩化ケイ素とメタノールを室温下、1:1のモル比で反応させた結果の記載がある。この反応は溶媒希釈を行わず、250ml三つ首フラスコ中の液相で行われたと理解され、生成物のガスクロ分析値から、生成物中のメトキシトリクロロシランの選択率を51.5%と算出することができる。このことから液相反応での選択率はあまり高くないことが開示されていると考えることができる。実施例16には、助触媒として四塩化ケイ素1モルあたり0.05モルのトリエチルアミンを添加した場合の結果も記載されており、その場合のメトキシトリクロロシランの選択率は71.8%と算出できることから、液相反応においてメトキシトリクロロシランの選択率を向上させる方法が示唆されていると見ることができるが、添加されたトリエチルアミンが不純物として混入してくる恐れもあり、アルコキシトリハロシランを効率的に得る方法というには、まだ不十分な結果であった。   Patent Document 3 discloses a method of reacting organochlorosilane with alcohol in the presence of a catalyst system, and Example 16 reacts silicon tetrachloride with methanol at a molar ratio of 1: 1 at room temperature. The results are described. It is understood that this reaction was carried out in the liquid phase in a 250 ml three-necked flask without solvent dilution, and the selectivity of methoxytrichlorosilane in the product was calculated to be 51.5% from the gas chromatographic analysis value of the product. can do. Therefore, it can be considered that the selectivity in the liquid phase reaction is not so high. Example 16 also describes the results when 0.05 moles of triethylamine per mole of silicon tetrachloride is added as a co-catalyst, and the selectivity for methoxytrichlorosilane in that case can be calculated as 71.8%. From this, it can be seen that a method for improving the selectivity of methoxytrichlorosilane in the liquid phase reaction is suggested, but the added triethylamine may be mixed as an impurity, and the alkoxytrihalosilane can be efficiently used. It was still inadequate for how to get it.

特公昭52−109207号公報Japanese Patent Publication No. 52-109207 特公昭28−5421号公報Japanese Patent Publication No. 28-5421 特開昭62−283981号公報JP 62-283981 A

昭和31年発行、日本化学雑誌、第77巻、第6号、第893頁Published in 1951, The Japan Chemical Journal, Vol. 77, No. 6, p. 893 昭和26年発行、工業化学雑誌、第54巻、第3冊、第213頁Published in 1951, Journal of Industrial Chemistry, Volume 54, Volume 3, Page 213

四塩化ケイ素とアルコールとを、概ね40℃以下の温度で、液相で反応させてアルコキシハロシラン類を得る製造方法が知られていたが、単一の生成物は得られず、各種アルコキシハロシラン類の混合物となってしまうため、アルコキシトリハロシランのみを目的物としたときには収率が低く、また生成物中での選択率も低いために分離精製のエネルギーがかかるという問題があった。本発明の課題は、簡便な方法でアルコキシトリハロシランを高い収率で得ることができ、生成物中の選択率も高い、アルコキシトリハロシランの製造方法を提供することである。   There has been known a production method for obtaining alkoxyhalosilanes by reacting silicon tetrachloride and alcohol in a liquid phase at a temperature of approximately 40 ° C. or lower. However, a single product cannot be obtained, and various alkoxyhalosilanes are obtained. Since it becomes a mixture of silanes, there is a problem that when only the alkoxytrihalosilane is used as a target product, the yield is low and the selectivity in the product is low, so that energy for separation and purification is required. The subject of this invention is providing the manufacturing method of alkoxy trihalosilane which can obtain an alkoxy trihalosilane with a high yield with a simple method, and has high selectivity in a product.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、テトラハロシランとアルコールとを気相で反応させたとき、原料に対するアルコキシトリハロシランの収率が従来知られた方法に比べて高く、また、反応生成物中でのアルコキシトリハロシランの選択率が高いことを見出し、アルコキシトリハロシランの製造方法として発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that when tetrahalosilane and alcohol are reacted in a gas phase, the yield of alkoxytrihalosilane relative to the raw material is higher than that of conventionally known methods. In addition, the inventors have found that the selectivity of alkoxytrihalosilane in the reaction product is high, and have completed the invention as a method for producing alkoxytrihalosilane.

本発明によれば、原料に対するアルコキシトリハロシランの収率が高く、なおかつ、反応生成物中でのアルコキシトリハロシランの選択率が高いので、アルコキシトリハロシランを歩留まり良く効率的に得られるから、従来法に比べて高純度のアルコキシトリハロシランを安価に製造することができる。   According to the present invention, since the yield of alkoxytrihalosilane with respect to the raw material is high and the selectivity of alkoxytrihalosilane in the reaction product is high, alkoxytrihalosilane can be obtained efficiently with good yield. Compared to the above, high-purity alkoxytrihalosilane can be produced at low cost.

実施例1で用いた合成装置の概念図Conceptual diagram of the synthesis apparatus used in Example 1 実施例11で用いた合成装置の概念図Conceptual diagram of the synthesis apparatus used in Example 11

以下本発明について説明する。なお、%は重量%である。
本発明のアルコキシトリハロシランの製造方法で用いる原料の一つは式〔1〕で表すものである。
SiX4 〔1〕
(但し、Xはハロゲンである。)
Xは同一でも異なっても良く、式〔1〕で表される複数の原料を併用することもできる。式〔1〕で表される化合物の具体例としては、テトラフルオロシラン、テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラヨードシラン、モノフルオロトリクロロシラン、ジフルオロジクロロシラン、モノクロロトリフルオロシラン、モノブロモトリクロロシラン、ジブロモジクロロシランなどが例示される。このうち好ましいものは、沸点が低くて気化しやすいテトラフルオロシランおよびテトラクロロシランであり、より好ましくは工業的に安価に入手できるテトラクロロシランである。
The present invention will be described below. In addition,% is weight%.
One of the raw materials used in the method for producing alkoxytrihalosilane of the present invention is represented by the formula [1].
SiX 4 [1]
(However, X is a halogen.)
X may be the same or different, and a plurality of raw materials represented by the formula [1] may be used in combination. Specific examples of the compound represented by the formula [1] include tetrafluorosilane, tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetraiodosilane, monofluorotrichlorosilane, difluorodichlorosilane, monochlorotrifluorosilane, monobromotrichlorosilane, dibromo. Examples include dichlorosilane. Of these, tetrafluorosilane and tetrachlorosilane which have a low boiling point and are easily vaporized are preferable, and tetrachlorosilane which can be obtained industrially at low cost is more preferable.

本発明で用いる原料の他の一つは式〔2〕で表すものである。
1OH 〔2〕
(R1は炭素数1〜6の炭化水素基である。)
1は直鎖状でも分枝状でも良く、構造としては第1級アルコール、第2級アルコール、第3級アルコールのいずれでも用いることができる。式〔2〕で表される化合物の具体例としては、メタノール、エタノール,1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2-メチル−1−プロパノール、2-メチル−2−プロパノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、2,2ジメチル−1−プロパノール、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノールなどが挙げられ、複数の原料を併用することもできる。このうち好ましいものは、反応性の高い第1級アルコールまたは第2級アルコールであり、具体例としては、メタノール、エタノール,1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2-メチル−1−プロパノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、2,2ジメチル−1−プロパノール、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノールなどを挙げることができる。より好ましくは低沸点で気化しやすく、工業的に安価に入手できる炭素数1〜4の、第1級アルコールまたは第2級アルコールであり、具体例としてはメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、2-メチル−1−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノールが例示できる。さらに好ましくは、得られるモノアルコキシトリハロシランの選択率が高くなる第2級アルコールであり、2−プロパノール、2−ブタノールなどを例示することができる。
Another material used in the present invention is represented by the formula [2].
R 1 OH [2]
(R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.)
R 1 may be linear or branched, and any of primary alcohol, secondary alcohol, and tertiary alcohol can be used as the structure. Specific examples of the compound represented by the formula [2] include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, and 2-methyl-2-propanol. 1-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 2-methyl-2-butanol, 2,2 dimethyl-1-propanol, 1 -A hexanol, 2-hexanol, 3-hexanol etc. are mentioned, A several raw material can also be used together. Among these, preferred are highly reactive primary alcohols or secondary alcohols, and specific examples include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, and 2-methyl. -1-propanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 2,2 dimethyl-1-propanol, 1-hexanol, 2 -Hexanol, 3-hexanol, etc. can be mentioned. More preferably, it is a primary alcohol or secondary alcohol having 1 to 4 carbon atoms which is easily vaporized at a low boiling point and can be obtained industrially at low cost. Specific examples include methanol, ethanol, 1-propanol, 2- Examples include propanol, 2-methyl-1-propanol, 1-butanol, and 2-butanol. More preferably, it is a secondary alcohol that increases the selectivity of the resulting monoalkoxytrihalosilane, and examples thereof include 2-propanol and 2-butanol.

本発明において式〔1〕で表すテトラハロシランと式〔2〕で表すアルコールとを反応させるとき、式〔1〕で表すテトラハロシランに対する式〔2〕で表すアルコールの仕込み比率、すなわち、式〔2〕で表すアルコール(モル)/式〔1〕で表すテトラハロシラン(モル)の数値をOH/Si比と呼んでも良く、その数値としては、好ましくは0.1〜10の範囲であり、さらに好ましくは0.3〜4、より好ましくは0.5〜1.5、特に好ましくは0.8〜1.2の範囲である。式〔1〕で表すテトラハロシランと式〔2〕で表すアルコールとをこの比の範囲内で両者を同時に反応容器内に供給する連続方式が好ましい実施形態として挙げられるが、バッチ方式で実施することもできる。   In the present invention, when the tetrahalosilane represented by the formula [1] and the alcohol represented by the formula [2] are reacted, the charging ratio of the alcohol represented by the formula [2] to the tetrahalosilane represented by the formula [1], that is, the formula The numerical value of alcohol (mole) represented by [2] / tetrahalosilane (mole) represented by formula [1] may be called the OH / Si ratio, and the numerical value is preferably in the range of 0.1 to 10. More preferably, it is 0.3-4, More preferably, it is 0.5-1.5, Most preferably, it is the range of 0.8-1.2. A preferred embodiment is a continuous method in which the tetrahalosilane represented by the formula [1] and the alcohol represented by the formula [2] are supplied into the reaction vessel at the same time within the range of this ratio. You can also.

本発明の製造方法によって、式〔3〕の構造を有する化合物を得ることができる。反応生成物には式〔3〕の構造を有する化合物が含まれることは必須であるが、好ましくは反応生成物中で式〔3〕の構造を有する化合物が50重量%以上であり、より好ましくは60重量%以上である。それ以外の成分としては、未反応の式〔1〕で表す化合物、および式〔2〕で表す化合物、並びに、高次反応生成物である、式〔4〕、式〔5〕、式〔6〕で表される化合物が含まれていても良い。
3 Si(OR1) 〔3〕
(但し、Xは同じでも互いに異なっても良い。)
2 Si(OR12 〔4〕
(但し、Xは同じでも互いに異なっても良い。)
Si(OR13 〔5〕
Si(OR14 〔6〕
By the production method of the present invention, a compound having the structure of the formula [3] can be obtained. It is essential that the reaction product contains a compound having the structure of the formula [3]. Preferably, the compound having the structure of the formula [3] in the reaction product is 50% by weight or more, more preferably Is 60% by weight or more. As other components, the unreacted compound represented by the formula [1], the compound represented by the formula [2], and the higher-order reaction products, the formula [4], the formula [5], the formula [6]. ] The compound represented by this may be contained.
X 3 Si (OR 1 ) [3]
(However, X may be the same or different from each other.)
X 2 Si (OR 1 ) 2 [4]
(However, X may be the same or different from each other.)
X Si (OR 1 ) 3 [5]
Si (OR 1 ) 4 [6]

式〔3〕で表される化合物の具体例としては、メトキシトリクロロシラン、エトキシトリクロロシラン、1−プロポキシトリクロロシラン、2−プロポキシトリクロロシラン、
メトキシトリフルオロシラン、エトキシトリフルオロシラン、1−プロポキシトリフルオロシラン、2−プロポキシトリフルオロシラン、メトキシトリブロモシラン、エトキシトリブロモシラン、メトキシモノフルオロジクロロシラン、エトキシモノフルオロジクロロシランなどを挙げることができる、このうち好ましいものはメトキシトリクロロシラン、エトキシトリクロロシラン、1−プロポキシトリクロロシラン、2−プロポキシトリクロロシランであり、さらに好ましくはメトキシトリクロロシランおよびエトキシトリクロロシラン、2−プロポキシトリクロロシランである。
Specific examples of the compound represented by the formula [3] include methoxytrichlorosilane, ethoxytrichlorosilane, 1-propoxytrichlorosilane, 2-propoxytrichlorosilane,
Examples include methoxytrifluorosilane, ethoxytrifluorosilane, 1-propoxytrifluorosilane, 2-propoxytrifluorosilane, methoxytribromosilane, ethoxytribromosilane, methoxymonofluorodichlorosilane, ethoxymonofluorodichlorosilane, and the like. Of these, preferred are methoxytrichlorosilane, ethoxytrichlorosilane, 1-propoxytrichlorosilane, and 2-propoxytrichlorosilane, and more preferred are methoxytrichlorosilane, ethoxytrichlorosilane, and 2-propoxytrichlorosilane.

本発明の製造方法は、式〔1〕で表されるテトラハロシランと式〔2〕で表されるアルコールとを、気相で反応させるところに特徴があり、実施するためには気相で反応を行うための反応容器が必要である。反応容器の形状には限定はないが、反応温度を制御する場合には熱媒ジャケットやマントルヒーターなどの熱交換手段を用いて反応器内温を制御する方法が簡便で好ましく、当該熱交換手段は反応容器の内側に設けても外側に設けてもよいが、外側に設けるいわゆる外温制御の方が装置形状が単純化でき、腐食を防ぐうえでも好適である。   The production method of the present invention is characterized in that the tetrahalosilane represented by the formula [1] and the alcohol represented by the formula [2] are reacted in the gas phase. A reaction vessel is required to carry out the reaction. The shape of the reaction vessel is not limited, but when controlling the reaction temperature, a method of controlling the reactor internal temperature using a heat exchange means such as a heat medium jacket or a mantle heater is simple and preferable, and the heat exchange means May be provided inside or outside the reaction vessel, but so-called external temperature control provided on the outside can be simplified in the shape of the apparatus and is suitable for preventing corrosion.

テトラハロシランとアルコールとを液相で反応させるときは、多くの公知文献に氷冷乃至は40℃以下の反応温度が開示されており、高温で反応させる方法については知られていなかった、気相で反応させるときは、原料や生成物の凝縮を防ぐためと、反応速度を高めるために反応温度としては50℃以上であることが好ましい。また、反応温度が高すぎると原料や生成物の分解が起きやすくなることや、ボイル・シャルルの法則により、圧力一定のままであまり高温にするとガス密度が小さくなって反応装置の体積効率が悪化するので、反応温度は300℃以下であることが好ましい。より好ましい反応温度下限は70℃以上、さらに好ましくは90℃以上、特に好ましくは120℃以上であり、より好ましい反応温度上限は250℃以下であり、さらに好ましくは200℃以下であり、特に好ましくは180℃以下である。   When tetrahalosilane and alcohol are reacted in a liquid phase, many known literatures disclose a reaction temperature of ice cooling or 40 ° C. or less, and a method of reacting at a high temperature has not been known. When reacting in a phase, the reaction temperature is preferably 50 ° C. or higher in order to prevent condensation of raw materials and products and to increase the reaction rate. In addition, if the reaction temperature is too high, decomposition of raw materials and products is likely to occur, and according to Boyle-Charles's law, if the pressure is kept constant at a high temperature, the gas density decreases and volumetric efficiency of the reactor deteriorates. Therefore, the reaction temperature is preferably 300 ° C. or lower. A more preferable lower limit of the reaction temperature is 70 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, particularly preferably 120 ° C. or higher, and a more preferable upper limit of the reaction temperature is 250 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower, particularly preferably. 180 ° C. or lower.

反応容器内部を温度調節するためには、内部ジャケット方式や外部ジャケット方式、反応装置を熱媒浴に浸けるなどの熱交換手段を用いることができるが、外部ジャケット方式の場合には、反応容器の形状が、内容積に対する表面積が大きい方が好ましく、さらに好ましくは円筒形である。円筒形の太さは一定でなくても良く、円筒形が連続的に湾曲したいわゆるコイル状の形状も好ましい。円筒形の直径に対する長辺側の長さをアスペクト比と呼ぶことができ、本発明に用いる反応容器として好ましくは3〜1000、さらに好ましくは5〜500、より好ましくは10〜100である。   In order to control the temperature inside the reaction vessel, heat exchange means such as an inner jacket method, an outer jacket method, or a reactor immersed in a heat medium bath can be used. The shape preferably has a large surface area relative to the internal volume, and more preferably is a cylindrical shape. The thickness of the cylindrical shape does not have to be constant, and a so-called coiled shape in which the cylindrical shape is continuously curved is also preferable. The length of the long side with respect to the diameter of the cylindrical shape can be referred to as an aspect ratio, and is preferably 3 to 1000, more preferably 5 to 500, and more preferably 10 to 100 as a reaction vessel used in the present invention.

気相で行われる反応の温度を検知するためには、反応容器の内部に熱電対などの温度検知手段を設けることができ、検知した温度を基に熱交換手段の温度を変えることによって反応温度を制御することができる。温度検知手段は複数設けても良く、また、検知した温度に基づいて熱交換手段の温度を設定するときにはPID制御などのフィードバック方式を用いることもできる。   In order to detect the temperature of the reaction performed in the gas phase, a temperature detection means such as a thermocouple can be provided inside the reaction vessel, and the reaction temperature is changed by changing the temperature of the heat exchange means based on the detected temperature. Can be controlled. A plurality of temperature detection means may be provided, and a feedback method such as PID control may be used when setting the temperature of the heat exchange means based on the detected temperature.

反応容器内部の圧力は、高い方が反応容器体積当たりの反応効率が高くなるため好ましいが、大気圧付近の方が取り扱いが容易で安全性も高いために好ましい。好ましい圧力範囲は絶対圧で0.08〜0.14MPaであり、より好ましくは0.09〜0.12MPaである。   The pressure inside the reaction vessel is preferably higher because the reaction efficiency per reaction vessel volume is higher, but the pressure around the atmospheric pressure is preferred because it is easy to handle and has high safety. A preferable pressure range is 0.08 to 0.14 MPa in absolute pressure, and more preferably 0.09 to 0.12 MPa.

反応容器をバッチ方式で用いる場合は、最低1個の出入り口を設ければ、原料仕込みと生成物の回収を行うことができるが、好ましくは原料供給口と生成物の排出口の少なくとも2つを有することが好ましく、連続反応にも用いることができる。 反応器が原料供給口と生成物の排出口を有するとき、これらは互いに遠い位置に設けることが好ましい。また、原料供給口としては、式〔1〕の化合物の供給口と式〔2〕の化合物の供給口の少なくとも2つを設けることは、反応器に供給される前に反応が起きることを防ぐことができる点で好ましい。同様の理由で式〔1〕の化合物の供給口と式〔2〕の化合物の供給口の反応器内部への突き込み長さに差を付けたり、2重管としたりすることも好ましい。この他に反応器内に不活性ガスを流通することも好ましく、反応を行う前に反応器内の乾燥を行うために不活性ガスを流通させたり、反応終了後に生成物や未反応原料を排出するために不活性ガスを流通させることも好ましく、不活性ガスを供給するための供給口を設けることもできるし、少なくとも一方の反応原料の供給口から不活性ガスを導入することもできる。   When the reaction vessel is used in a batch system, the raw material can be charged and the product can be recovered by providing at least one inlet / outlet port. Preferably, at least two of the raw material supply port and the product outlet port are provided. It is preferable to have it, and it can be used also for a continuous reaction. When the reactor has a raw material supply port and a product discharge port, it is preferable to dispose these at positions far from each other. Also, providing at least two of the raw material supply ports, the compound supply port of the formula [1] and the compound supply port of the formula [2], prevents the reaction from occurring before being supplied to the reactor. It is preferable in that it can be performed. For the same reason, it is also preferable to make a difference in the penetration length of the compound feed port of the formula [1] and the feed port of the compound of the formula [2] into the reactor or to make a double pipe. In addition to this, it is also preferable to circulate an inert gas in the reactor. The inert gas is circulated for drying in the reactor before the reaction is performed, or products and unreacted raw materials are discharged after the reaction is completed. For this purpose, it is also preferable to circulate an inert gas, a supply port for supplying the inert gas can be provided, or an inert gas can be introduced from at least one of the reaction raw material supply ports.

反応容器内で、反応原料である式〔1〕の化合物と式〔2〕の化合物とを確実に気相で反応させるためには、それぞれの化合物を反応器に導入される以前に気化しておく方法があり、例えば一般的にバブラーと呼ばれる装置を用いて、原料を入れた容器に不活性ガスを流通し、容器の温度と不活性ガスの流量によって反応容器に供給される化合物の量を制御する方法を用いることができるし、不活性ガスを用いず、反応原料の容器を直接温度調節して気化した化合物を反応容器に導入することもできる。   In order to reliably react the compound of formula [1] and the compound of formula [2] in the reaction vessel in the gas phase in the reaction vessel, each compound is vaporized before being introduced into the reactor. For example, using an apparatus generally called a bubbler, an inert gas is circulated in a container containing raw materials, and the amount of the compound supplied to the reaction container is determined by the temperature of the container and the flow rate of the inert gas. A control method can be used, and a vaporized compound can be introduced into the reaction vessel by directly adjusting the temperature of the reaction raw material vessel without using an inert gas.

本発明で不活性ガスとして用いることができるものは、式〔1〕、式〔2〕、式〔3〕の化合物と反応しないものであればいずれでも用いることができ、この意味で乾燥空気も不活性ガスの範疇に入るが、爆発防止などの安全上の観点から、好ましいのはヘリウムやアルゴン等の希ガス、窒素、二酸化炭素などの狭義の不活性ガスであり、工業的に安価に入手でき、低水分のものが入手しやすい点で窒素がより好ましい。不活性ガスの水分量は50体積ppm以下が好ましく、より好ましくは10体積ppm以下、さらに好ましくは1体積ppm以下である。不活性ガスの供給ラインに乾燥剤と接触させる工程を含ませることも好ましい。   Any inert gas may be used in the present invention as long as it does not react with the compounds of the formula [1], formula [2], and formula [3]. In this sense, dry air is also used. In the category of inert gas, from the viewpoint of safety such as explosion prevention, preferred are rare gases such as helium and argon, and inert gases in a narrow sense such as nitrogen and carbon dioxide. Nitrogen is more preferable in that it can be obtained and a low-moisture product is easily available. The water content of the inert gas is preferably 50 ppm by volume or less, more preferably 10 ppm by volume or less, and even more preferably 1 ppm by volume or less. It is also preferable to include a step of bringing the inert gas supply line into contact with the desiccant.

反応原料をあらかじめ気化させてから反応器に送り込む方法は、原料の気化工程において、原料に含まれ得る、異なる蒸気圧を有する不純物を減少させることができる点で優れており、特に炭素数1〜4のアルキルアルコールを原料として用いる場合には、アルコールの方が水よりも蒸気圧が高いため、供給する気化原料中の水分を減少させるために有効である。テトラハロシランについても、水分が含まれていると加水分解縮合してジシロキサンなどの高沸点化合物に変わるので、やはり、供給される気化原料中の水分を減少させることができる。また、さらに水分を減少させる目的のために液体の原料あるいは気化した原料を脱水剤と接触させる工程を追加することもできる。   The method in which the reaction raw material is vaporized in advance and then fed into the reactor is excellent in that impurities having different vapor pressures that can be contained in the raw material can be reduced in the raw material vaporization step. When the alkyl alcohol No. 4 is used as a raw material, the alcohol has a higher vapor pressure than water, and is therefore effective in reducing the water content in the vaporized raw material to be supplied. As for tetrahalosilane, if it contains moisture, it is hydrolyzed and condensed into a high boiling point compound such as disiloxane, so that moisture in the vaporized raw material to be supplied can also be reduced. In addition, for the purpose of further reducing moisture, a step of bringing a liquid raw material or a vaporized raw material into contact with a dehydrating agent can be added.

反応原料をあらかじめ気化させてから反応器に送り込む方法では、マスフローコントローラーなどの計量方法で原料の供給量を知ることができるが、簡便なのはあらかじめ温度やガス流量などの条件を一定に設定しておき、原料容器の重量減少から反応器に供給された原料の重量を算出する方法である。経路中に露点計を設置して水分量を測定することもでき、供給される原料を含んだガス中の水分量は50体積ppm以下が好ましく、より好ましくは10体積ppm以下、さらに好ましくは1体積ppm以下である。   In the method in which the reaction raw material is vaporized in advance and then sent to the reactor, the supply amount of the raw material can be known by a measuring method such as a mass flow controller. In this method, the weight of the raw material supplied to the reactor is calculated from the weight reduction of the raw material container. It is also possible to measure the amount of water by installing a dew point meter in the path, and the amount of water in the gas containing the supplied raw material is preferably 50 ppm by volume or less, more preferably 10 ppm by volume or less, more preferably 1 Volume ppm or less.

一方、反応原料をあらかじめ気化せずに液体で送り、反応容器への供給口で昇温または減圧して気化させて導入することもでき、反応原料を液体状態で反応容器に供給し、反応容器内で気化させて気相反応させることもできる。これの方法は、原料が原料供給口付近で気化する際に吸熱される気化熱が、反応器内で発生する反応熱を減少させるので、反応器の冷却がその分容易になるという効果があり、優れている。   On the other hand, the reaction raw material can be sent in liquid without being vaporized in advance, and can be introduced by evaporating by raising the temperature or reducing the pressure at the supply port to the reaction vessel. The reaction raw material is supplied to the reaction vessel in a liquid state, and the reaction vessel It can also be vaporized in the gas phase reaction. This method has the effect that the heat of vaporization absorbed when the raw material is vaporized in the vicinity of the raw material supply port reduces the reaction heat generated in the reactor, so that the reactor can be easily cooled. ,Are better.

反応原料の少なくとも一方を液体状態で反応容器に供給する場合、液体状態で反応が起きるのを避けるために、他方の反応原料の供給口とは接触しない位置から供給することが好ましく、また、気化を助けるために液体で供給する反応原料に不活性ガスを混合して供給することが好ましい。この場合の好ましい不活性ガスの混合量は、反応原料の供給モル量の1モルに対して0.01〜100モルが好ましく、さらに好ましくは0.1〜30モルである。   When at least one of the reaction raw materials is supplied to the reaction vessel in a liquid state, it is preferable to supply from a position not in contact with the other reaction raw material supply port in order to avoid a reaction in the liquid state. In order to assist, it is preferable to mix and supply an inert gas to the reaction raw material supplied with a liquid. In this case, the preferable mixing amount of the inert gas is preferably 0.01 to 100 mol, more preferably 0.1 to 30 mol, relative to 1 mol of the supply molar amount of the reaction raw material.

反応容器内で生成した反応生成物は、反応容器の排出口から外部に取り出すことができ、生成物の受槽に溜めてから利用することができる。工業的な連続装置では、必ずしも排出口や受槽は必須ではなく、生成物の温度を保持したまま蒸留精製したり、他の工程で利用したりすることもできる。生成物の受槽を用いる場合には、生成物が凝縮する低温を保持することにより、効率よく生成物を集めることができ、冷却トラップなどの装置を用いることができる。   The reaction product produced in the reaction vessel can be taken out from the outlet of the reaction vessel and can be used after being stored in the product receiving tank. In an industrial continuous apparatus, a discharge port and a receiving tank are not necessarily required, and they can be purified by distillation while maintaining the temperature of the product, or can be used in other processes. In the case of using a product receiving tank, the product can be efficiently collected by maintaining a low temperature at which the product is condensed, and a device such as a cooling trap can be used.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。実施例の合成実験は図1および図2に示す合成装置で行ったが、反応容器の寸法は同じ直径20mmで長さ300mmの石英管であり、1端に原料供給口を備え、他の1端に生成物の排出口を備えており、石英管全体がマントルヒーターによって加温できる構造になっている。そして石英管の中央部に突き出した温度センサーにより反応室内温を検知してマントルヒーターにフィードバックし、内温を所定の温度に制御した点は共通である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to this. The synthesis experiment of the example was performed by the synthesis apparatus shown in FIG. 1 and FIG. 2, but the dimensions of the reaction vessel were the same diameter 20 mm and a length of 300 mm quartz tube, one end was provided with a raw material supply port, and the other 1 A product discharge port is provided at the end, and the entire quartz tube can be heated by a mantle heater. A common point is that the temperature in the reaction chamber is detected by a temperature sensor protruding from the center of the quartz tube, fed back to the mantle heater, and the internal temperature is controlled to a predetermined temperature.

生成物回収装置D1に回収された生成物の成分比は、ガスクロマトグラフ法により、TCD検出器で検出されるシグナルがチャート上に描くピークの面積を積分することによって各成分の濃度とし、成分全体が100%となるように規格化して成分比を決定した。ガスクロマトグラフ法によって分離された各成分の同定は、マス検出器を組み合わせることによって行った。   The component ratio of the product recovered in the product recovery device D1 is determined by integrating the area of the peak that the signal detected by the TCD detector draws on the chart by gas chromatography, The component ratio was determined by normalization so as to be 100%. Identification of each component separated by the gas chromatograph method was performed by combining mass detectors.

<実施例1>
実施例1では、図1に示す反応装置を用いて、式〔1〕で表される化合物としては四塩化ケイ素(SiCl4)を用い、式〔2〕で表される化合物としては、メタノールを用いた。実施例1で用いた反応容器の寸法は、直径20mm長さ300mmで肉厚2mmの合成石英管であり、1端にはバブリング装置で気化されたSiCl4とメタノールの供給管が並行して備えてある。
そして反応容器の他方の1端は排出管に接続し、その先はドライアイスメタノール混合寒剤で−78℃に冷却された生成物回収容器D1に導入した。D2は逆流防止の空容器であり、D3には水を入れて排出ガスが大気に漏えいするのを防いだ。不活性ガスとして露点−70℃(水分2.6体積ppm以下)の窒素ガスを用いた。
<Example 1>
In Example 1, using the reaction apparatus shown in FIG. 1, silicon tetrachloride (SiCl 4 ) was used as the compound represented by the formula [1], and methanol was used as the compound represented by the formula [2]. Using. The dimensions of the reaction vessel used in Example 1 are a synthetic quartz tube having a diameter of 20 mm, a length of 300 mm, and a thickness of 2 mm. At one end, a supply tube for SiCl 4 and methanol vaporized by a bubbling device is provided in parallel. It is.
The other end of the reaction vessel was connected to a discharge pipe, and the other end was introduced into a product recovery vessel D1 cooled to -78 ° C with a dry ice methanol mixed cryogen. D2 is a backflow-preventing empty container, and D3 was filled with water to prevent the exhaust gas from leaking into the atmosphere. Nitrogen gas having a dew point of −70 ° C. (water content of 2.6 volume ppm or less) was used as the inert gas.

実施例1では、まず、マントルヒーターの温度調節を使って反応器内温を220℃に保ちながら、100ml/分の窒素ガスのみを反応容器に30分間流通した後、四塩化ケイ素蒸気とメタノール蒸気を含んだ窒素を同時に反応容器に供給した。四塩化ケイ素とメタノールの供給量はバブリング装置の温度コントロールによって制御した。すなわち、バブリング装置に入れた四塩化ケイ素またはメタノール中に窒素を流通させ、バブリング装置を水浴で20〜25℃に温度調節し、四塩化ケイ素に流す窒素流量を80ml/分、メタノールに流す窒素流量を200ml/分として、反応器に供給されるメタノールおよび四塩化ケイ素のモル供給量が、表2に示すOH/Si比=1.02プラスマイナス0.05を保つようにした。なお、OH/Si比とは、(反応に供せられたアルコールのモル量)/(反応に供せられた四塩化ケイ素のモル量)の数値を意味する。原料の供給を始めると、すぐにD1で液の凝縮が始まった。念のため、D1に入る前の反応容器出口ガスを採取して露点を測定したところ、−80℃以下を示したので、水分量としては0.53体積ppm以下であることがわかった。   In Example 1, first, 100 ml / min of nitrogen gas was circulated through the reaction vessel for 30 minutes while maintaining the reactor internal temperature at 220 ° C. using the temperature control of the mantle heater, and then silicon tetrachloride vapor and methanol vapor. Nitrogen containing was simultaneously supplied to the reaction vessel. The feed rates of silicon tetrachloride and methanol were controlled by the temperature control of the bubbling device. That is, nitrogen is circulated in silicon tetrachloride or methanol placed in a bubbling device, the temperature of the bubbling device is adjusted to 20 to 25 ° C. in a water bath, the nitrogen flow rate flowing to silicon tetrachloride is 80 ml / min, and the nitrogen flow rate flowing to methanol Was 200 ml / min, and the molar supply amount of methanol and silicon tetrachloride supplied to the reactor was maintained at the OH / Si ratio = 1.02 plus or minus 0.05 shown in Table 2. In addition, OH / Si ratio means the numerical value of (molar amount of alcohol subjected to reaction) / (molar amount of silicon tetrachloride subjected to reaction). As soon as the supply of raw materials was started, condensation of liquid started at D1. As a precaution, when the dew point was measured by collecting the reaction vessel outlet gas before entering D1, it showed -80 ° C. or less, and it was found that the water content was 0.53 volume ppm or less.

反応は3時間継続し、原料蒸気を含んだ窒素の供給を停止した後は、100ml/分の窒素のみを反応容器に30分間流通し、D1に溜まった生成物をガスクロTCD検出器で分析した結果を、各成分のピーク面積比により全体が100%になるように割り振ったものを表1に載せた。表1に限らず、気相で反応させたすべての実施例においてテトラアルコキシシランは検出されなかった。生成物中のアルコキシトリハロシランの選択率を式〔7〕の定義で算出した。

選択率(wt%)=アルコキシトリハロシランピーク面積/(テトラハロシラン+アルコキシトリハロシラン+ジアルコキシジハロシラン+トリアルコキシハロシランのピーク面積)×100 〔7〕
The reaction was continued for 3 hours. After the supply of nitrogen containing raw material vapor was stopped, only 100 ml / min of nitrogen was passed through the reaction vessel for 30 minutes, and the product accumulated in D1 was analyzed with a gas chromatography TCD detector. The results are shown in Table 1 with the results assigned so that the total is 100% according to the peak area ratio of each component. Not limited to Table 1, tetraalkoxysilane was not detected in all examples reacted in the gas phase. The selectivity of alkoxytrihalosilane in the product was calculated according to the definition of formula [7].

Selectivity (wt%) = alkoxytrihalosilane peak area / (peak area of tetrahalosilane + alkoxytrihalosilane + dialkoxydihalosilane + trialkoxyhalosilane) × 100 [7]

この他、原料供給装置の原料容器に残った四塩化ケイ素およびメタノールの重量とD1に溜まった生成物の重量を秤量し、収率の解析を行って表2に載せた。また、収率とは、原料のテトラハロシランの全量がアルコキシトリハロシランに変わった場合が100%となるように式〔8〕の定義に従って決定した。

収率(wt%)=生成物収量×アルコキシトリハロシラン選択率/(テトラハロシランの消費量×M1/M2)×100 〔8〕

(テトラハロシランの消費量とは、供給装置におけるテトラハロシランの重量減少から、生成物中の未反応テトラハロシランの重量を差し引いた重量を意味する。また、M1はアルコキシトリハロシランの分子量、M2はテトラハロシランの分子量である。)
In addition, the weight of silicon tetrachloride and methanol remaining in the raw material container of the raw material supply apparatus and the weight of the product accumulated in D1 were weighed, and the yield was analyzed and listed in Table 2. The yield was determined according to the definition of the formula [8] so that the total amount of the raw material tetrahalosilane was changed to alkoxytrihalosilane was 100%.

Yield (wt%) = Product yield × Alkoxytrihalosilane selectivity / (Consumption of tetrahalosilane × M1 / M2) × 100 [8]

(The consumption of tetrahalosilane means the weight obtained by subtracting the weight of unreacted tetrahalosilane in the product from the decrease in the weight of tetrahalosilane in the feeder. M1 is the molecular weight of alkoxytrihalosilane, M2 is the molecular weight of tetrahalosilane.)

<実施例2>
反応温度を150℃とした他は実施例1と同じにして合成実験を行い、結果を表1及び表2に記載した。
<Example 2>
A synthesis experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the reaction temperature was 150 ° C. The results are shown in Tables 1 and 2.

<実施例3>
反応温度を100℃とした他は実施例1と同じにして合成実験を行い、結果を表1及び表2に記載した。
<Example 3>
A synthesis experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the reaction temperature was 100 ° C., and the results are shown in Tables 1 and 2.

<実施例4>
反応温度を70℃とした他は実施例1と同じにして合成実験を行い、結果を表1及び表2に記載した。
<Example 4>
A synthesis experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the reaction temperature was set to 70 ° C. The results are shown in Tables 1 and 2.

<実施例5>
反応温度を20℃とした他は実施例1と同じにして合成実験を行い、結果を表1及び表2に記載した。
<Example 5>
A synthesis experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the reaction temperature was 20 ° C. The results are shown in Tables 1 and 2.

<実施例6>
メタノール供給装置のバブリング窒素の流量を60ml/分に変えた他は実施例2と同じにして反応器内温150℃で合成実験を行った。反応終了後、原料供給装置の原料容器の残液量を測定した結果、反応に供給されたメタノール/四塩化ケイ素のモル比は0.88であった。反応の結果を解析し表1及び表2に記載した。
<Example 6>
A synthesis experiment was conducted at a reactor internal temperature of 150 ° C. in the same manner as in Example 2 except that the flow rate of bubbling nitrogen in the methanol supply apparatus was changed to 60 ml / min. After the reaction was completed, the amount of residual liquid in the raw material container of the raw material supply apparatus was measured. As a result, the molar ratio of methanol / silicon tetrachloride supplied to the reaction was 0.88. The results of the reaction were analyzed and listed in Tables 1 and 2.

<実施例7>
メタノール供給装置のバブリング窒素の流量を100ml/分に変えた他は実施例2と同じにして反応器内温150℃で合成実験を行った。反応終了後、原料供給装置の原料容器の残液量を測定した結果、反応に供給されたメタノール/四塩化ケイ素のモル比は1.13であった。反応の結果を解析し表1及び表2に記載した。
<Example 7>
A synthesis experiment was performed at a reactor internal temperature of 150 ° C. in the same manner as in Example 2 except that the flow rate of bubbling nitrogen in the methanol supply apparatus was changed to 100 ml / min. After the reaction was completed, the amount of residual liquid in the raw material container of the raw material supply apparatus was measured. As a result, the molar ratio of methanol / silicon tetrachloride supplied to the reaction was 1.13. The results of the reaction were analyzed and listed in Tables 1 and 2.

<実施例8>
メタノール供給装置のバブリング装置の水浴の温度を50℃に上げ、窒素の流量を100ml/分に変えた他は実施例2と同じにして反応器内温150℃で合成実験を行った。反応終了後、原料供給装置の原料容器の残液量を測定した結果、反応に供給されたメタノール/四塩化ケイ素のモル比は3.12であった。反応の結果を解析し表1及び表2に記載した。
<Example 8>
A synthesis experiment was conducted at a reactor internal temperature of 150 ° C. in the same manner as in Example 2 except that the temperature of the water bath of the bubbling device of the methanol supply device was raised to 50 ° C. and the flow rate of nitrogen was changed to 100 ml / min. After the reaction was completed, the amount of residual liquid in the raw material container of the raw material supply apparatus was measured. As a result, the molar ratio of methanol / silicon tetrachloride supplied to the reaction was 3.12. The results of the reaction were analyzed and listed in Tables 1 and 2.

<実施例9>
式〔2〕で表される化合物として、メタノールの代わりにエタノールを用い、原料供給装置の原料容器の水浴を40℃にした他は実施例2と同じにして反応器内温150℃で合成実験を行った。反応終了後、原料供給装置の原料容器の残液量を測定した結果、反応に供給されたエタノール/四塩化ケイ素のモル比は1.02であった。反応の結果を解析し表1及び表2に記載した。
<Example 9>
Synthesis experiment at a reactor internal temperature of 150 ° C. in the same manner as in Example 2 except that ethanol was used instead of methanol as the compound represented by the formula [2] and the water bath of the raw material container of the raw material supply apparatus was set to 40 ° C. Went. After the reaction was completed, the amount of residual liquid in the raw material container of the raw material supply apparatus was measured, and as a result, the ethanol / silicon tetrachloride molar ratio supplied to the reaction was 1.02. The results of the reaction were analyzed and listed in Tables 1 and 2.

<実施例10>
反応温度を350℃とした他は実施例1と同じにして合成実験を行い、結果を表1及び表2に記載した。
<Example 10>
A synthesis experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the reaction temperature was 350 ° C. The results are shown in Tables 1 and 2.

<実施例11>
実施例11では、図2に示す反応装置を用いて、式〔1〕で表される化合物としてはSiCl4を用い、式〔2〕で表される化合物としては、エタノールを用いた。反応容器の寸法は、直径20mm長さ300mmで肉厚2mmの合成石英管であり、1端には原料供給装置で気化されたSiCl4の供給管と、メタノールを液体状態で供給管とそれを囲む窒素吹き込み管との2重管とが並行して備えてあるが、エタノール供給管はエタノール供給管を囲む窒素吹き込み管はよりも長く反応容器内に突き出す構造になっている。そして反応容器の他方の1端は、実施例1と同様に排出管に接続し、その先はドライアイスメタノール混合寒剤で−78℃に冷却された生成物回収容器D1に導入した。D2は逆流防止の空容器であり、D3には水を入れて排出ガスが大気に漏えいするのを防いだ。
<Example 11>
In Example 11, using the reactor shown in FIG. 2, SiCl 4 was used as the compound represented by the formula [1], and ethanol was used as the compound represented by the formula [2]. The dimensions of the reaction vessel are a synthetic quartz tube having a diameter of 20 mm, a length of 300 mm, and a thickness of 2 mm. At one end, a supply tube of SiCl 4 vaporized by a raw material supply device, a supply tube of methanol in a liquid state, and A double pipe with an enclosed nitrogen blowing pipe is provided in parallel, but the ethanol supply pipe has a structure in which the nitrogen blowing pipe surrounding the ethanol supply pipe protrudes into the reaction vessel longer. The other end of the reaction vessel was connected to a discharge pipe in the same manner as in Example 1, and the other end was introduced into a product recovery vessel D1 cooled to -78 ° C with a dry ice methanol mixed cryogen. D2 is a backflow-preventing empty container, and D3 was filled with water to prevent the exhaust gas from leaking into the atmosphere.

また、四塩化ケイ素は実施例1と同様に窒素バブリングによる供給装置で供給したが、エタノールはギア駆動の定量供給シリンジを用いて液体で供給し、2重管によって100ml/分の窒素気流で囲むように反応器内に拡散させた。なお、事前に150℃の反応器内部にエタノールと窒素を送る試験をしてみたところ、供給されたエタノールは滴ることなく、吹き込み管先端で速やかに気化する様子が見られたので、四塩化ケイ素との反応は気相で起きたものと考えられる。ただし、エタノールだけを反応容器に供給して、反応容器出口ガスの露点を測定したところ、−55℃であったので、エタノール側の供給ガスの水分量は11体積ppm程度であったと考えられる。   Silicon tetrachloride was supplied by a supply device using nitrogen bubbling in the same manner as in Example 1, but ethanol was supplied as a liquid using a gear-driven quantitative supply syringe, and surrounded by a nitrogen stream with a double tube at 100 ml / min. Was diffused into the reactor. In addition, when a test was conducted in advance to send ethanol and nitrogen into the reactor at 150 ° C., the supplied ethanol was not dripped, and it was seen that it was rapidly vaporized at the tip of the blowing tube. The reaction is considered to have occurred in the gas phase. However, when only ethanol was supplied to the reaction vessel and the dew point of the reaction vessel outlet gas was measured, it was −55 ° C., so the water content of the supply gas on the ethanol side was considered to be about 11 ppm by volume.

反応終了後、定量供給シリンジ容器の残エタノール液量を測定した結果、反応に供給されたエタノール/四塩化ケイ素のモル比は1.02であった。反応の結果を解析し表1及び表2に記載した。 After the reaction was completed, the amount of residual ethanol solution in the quantitative supply syringe container was measured. As a result, the molar ratio of ethanol / silicon tetrachloride supplied to the reaction was 1.02. The results of the reaction were analyzed and listed in Tables 1 and 2.

<実施例12>
式〔2〕で表される化合物として、2−プロパノールを用いた他は実施例11と同じにして実施例12を行い、結果を表1及び表2に記載した。
<比較例1>
窒素シールした、容量2Lのガラス製三ツ口フラスコを氷冷して、メタノール320gを仕込み、フラスコ内を撹拌しながら四塩化ケイ素580gを3時間間かけて滴下した。その後、液温を40℃まで上昇して4時間撹拌を続けて反応を終了し、フラスコ内の液を分析したところ、表1のようになった。実施例1と同じように結果を解析し、結果を表1及び表2に載せた。
<Example 12>
Example 12 was carried out in the same manner as Example 11 except that 2-propanol was used as the compound represented by the formula [2], and the results are shown in Tables 1 and 2.
<Comparative Example 1>
The glass-sealed two-necked flask with a volume of 2 L sealed with nitrogen was ice-cooled, charged with 320 g of methanol, and 580 g of silicon tetrachloride was added dropwise over 3 hours while stirring the flask. Thereafter, the liquid temperature was raised to 40 ° C. and stirring was continued for 4 hours to complete the reaction. When the liquid in the flask was analyzed, it was as shown in Table 1. The results were analyzed in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0005915493
Figure 0005915493

Figure 0005915493
Figure 0005915493

表1の生成液の解析結果において、反応温度を20℃〜350℃に振った以外は条件の同じ実施例1〜5および10の測定結果を比較すると、20℃〜150℃の間では、反応温度が高くなるほど、四塩化ケイ素の未反応残分が減り、アルコキシトリハロシランの生成する割合が増える傾向があるが、220℃以上では、アルコキシトリハロシランの割合が減り、350℃では四塩化ケイ素が増える傾向が見られた。実施例2の反応温度150℃のときアルコキシトリハロシランの生成する割合が最も高くなった。以上の結果は反応温度が高くなるほど反応率が高くなって四塩化ケイ素の残存率が減少し、アルコキシトリハロシランの生成反応が進行して収率が向上するが、高くなり過ぎると生成したアルコキシトリハロシランの高次反応や分解反応が起きやすくなり、アルコキシトリハロシランの収率としては下がって行く傾向になったものと考えられる。   When the measurement results of Examples 1 to 5 and 10 having the same conditions except that the reaction temperature was changed to 20 ° C. to 350 ° C. in the analysis results of the product liquid in Table 1, the reaction was between 20 ° C. and 150 ° C. The higher the temperature, the less unreacted silicon tetrachloride residue tends to increase, and the proportion of alkoxytrihalosilane produced tends to increase. However, at 220 ° C or higher, the proportion of alkoxytrihalosilane decreases, and at 350 ° C silicon tetrachloride is reduced. There was a tendency to increase. When the reaction temperature of Example 2 was 150 ° C., the proportion of alkoxytrihalosilane produced was the highest. The above results show that the higher the reaction temperature, the higher the reaction rate and the lower the residual rate of silicon tetrachloride, and the production reaction of alkoxytrihalosilane proceeds to improve the yield. It is considered that higher-order reactions and decomposition reactions of silane are likely to occur, and the yield of alkoxytrihalosilane tends to decrease.

表1の生成液の解析結果において、原料のアルコール/テトラハロシラン比を振った以外は条件が同じで反応温度150℃の、実施例2および実施例6〜8を比較すると、OH/Si比が1(等モル)付近である実施例2に比べて、アルコール不足の実施例6では残存する四塩化ケイ素が多くなり、アルコール過剰の実施例7および8ではジアルコキジハロシシランやトリアルコキシハロシランの生成する割合が大きくなる傾向が見られた。この結果、表2に示したアルコキシトリハロシラン選択率や収率についても、OH/Si比が1に近い実施例2が最も高く優れており、OH/Si比が0.8〜1.2の間では実施例2と遜色のない値が得られたが、四塩化ケイ素が大過剰の実施8では若干劣る結果となった。   In the analysis results of the product liquid in Table 1, when the conditions were the same except that the raw material alcohol / tetrahalosilane ratio was changed and the reaction temperature was 150 ° C., Example 2 and Examples 6-8 were compared, the OH / Si ratio As compared with Example 2 in which 1 is about 1 (equimolar), Example 6 with insufficient alcohol has more residual silicon tetrachloride, and Examples 7 and 8 with excess alcohol have dialkoxyhalohalosilanes and trialkoxyhalogens. There was a tendency for the proportion of silane to be increased. As a result, the alkoxytrihalosilane selectivity and yield shown in Table 2 are the highest and excellent in Example 2 where the OH / Si ratio is close to 1, and the OH / Si ratio is 0.8 to 1.2. A value comparable to that of Example 2 was obtained, but in Example 8 in which the silicon tetrachloride was excessively large, the result was slightly inferior.

表1の生成液の解析結果において、アルコールとしてエタノールを用いた実施例9をメタノールを用いた実施例2と比べると、エタノールを用いた実施例9は若干反応率が低く、残存する四塩化ケイ素が多くなり、表2に示す収率が低くなったが、エタノール原料で反応装置を変えた実施例11ではジアルコキジハロシシランやトリアルコキシハロシランの生成する割合が抑えられたことから、結果としての選択率や収率は良好になった。また、アルコールとして第2級アルコールである2−プロパノールを用いた実施例12は、エタノールを用いた実施例11に比べて、炭素数が多いにもかかわらず反応率が高く、残存四塩化ケイ素が少ないという意外な結果が出た。結果的にアルコキシトリハロシランの収率としては最高の結果になり、予想外の効果が得られたが、これは2−プロパノールの沸点がエタノールとほとんど変わらず気化しやすいものであり、なおかつ第2級アルコールはテトラハロシランに結合した際に立体障害が大きいので、ジアルコキジハロシシランやトリアルコキシハロシランの生成が抑えられたためであり、さらに、ジアルコキジハロシシランやトリアルコキシハロシランの生成が抑えられたことにより、等モル付近で仕込んだアルコールとテトラハロシランが効率的に反応したので、第2級アルコールの方が残存テトラハロシランが少ないという結果をもたらしたものと考えられる。   In the analysis results of the product solution in Table 1, when Example 9 using ethanol as an alcohol was compared with Example 2 using methanol, Example 9 using ethanol had a slightly lower reaction rate and the remaining silicon tetrachloride. Although the yield shown in Table 2 was low, the production rate of dialkoxy halo silane and trialkoxy halo silane was suppressed in Example 11 where the reactor was changed with an ethanol raw material. As a result, the selectivity and yield were improved. In addition, Example 12 using 2-propanol which is a secondary alcohol as an alcohol has a higher reaction rate despite the large number of carbons than Example 11 using ethanol, and the residual silicon tetrachloride is higher. The result was surprising. As a result, the yield of the alkoxytrihalosilane was the best, and an unexpected effect was obtained. This is because the boiling point of 2-propanol is almost the same as that of ethanol and is easily vaporized. This is because the production of dialkoxydihalosisilanes and trialkoxyhalosilanes was suppressed because secondary alcohols have a large steric hindrance when bonded to tetrahalosilanes. It was considered that the secondary alcohol had less residual tetrahalosilane because the alcohol charged in the vicinity of an equimolar amount and the tetrahalosilane reacted efficiently due to the suppression of.

本発明の製造方法によれば、アルコキシトリハロシランを選択性良く得ることができるので、高純度のアルコキシトリハロシランを工業的に安価に製造することができる。得られたアルコキシトリハロシランはシランカップリング剤等のケイ素化合物の原料として利用できる他、CVD法やゾルゲル法などの半導体プロセスに用いることができる。   According to the production method of the present invention, alkoxytrihalosilane can be obtained with high selectivity, so that high-purity alkoxytrihalosilane can be produced industrially at low cost. The obtained alkoxytrihalosilane can be used as a raw material for silicon compounds such as silane coupling agents, and can also be used in semiconductor processes such as CVD and sol-gel methods.

図1、2の(C)は反応容器を示す
図1、2の(A1)はハロシランの供給装置を示す。
図1の(B1)はアルコールの供給装置を示す。
図2の(B2)はアルコールの供給装置を示す。
図2の(A0)は不活性ガスの供給管を示す。
図1、2の(D1)は生成物の回収装置を示す。
図1、2の(D2、D3)は排出ガスの除害装置を示す。
1 and 2 (C) show a reaction vessel, and FIGS. 1 and 2 (A1) show a halosilane supply apparatus.
FIG. 1 (B1) shows an alcohol supply apparatus.
FIG. 2 (B2) shows an alcohol supply apparatus.
(A0) in FIG. 2 shows an inert gas supply pipe.
1 and 2 (D1) shows a product recovery apparatus.
1 and 2 (D2, D3) show an exhaust gas abatement apparatus.

Claims (8)

式〔1〕で表されるテトラハロシランと式〔2〕で表されるアルコールとを、反応温度が20℃以上350℃以下の範囲で、気相で反応させて、式〔3〕で表されるアルコキシトリハロシランを含む生成物を得る、アルコキシトリハロシランの製造方法。
SiX4 〔1〕
(但し、Xはハロゲンである。)
1OH 〔2〕
(R1は炭素数1〜6の炭化水素基である。)
(R1O)SiX3 〔3〕
(但し、Xは同じでも互いに異なっていても良い。)
A tetrahalosilane represented by the formula [1] and an alcohol represented by the formula [2] are reacted in a gas phase at a reaction temperature in the range of 20 ° C. or higher and 350 ° C. or lower , and expressed by the formula [3]. A process for producing an alkoxytrihalosilane to obtain a product comprising an alkoxytrihalosilane.
SiX 4 [1]
(However, X is a halogen.)
R 1 OH [2]
(R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.)
(R 1 O) SiX 3 [3]
(However, X may be the same or different from each other.)
反応温度が50℃以上300℃以下の範囲である、請求項1に記載のアルコキシトリハロシランの製造方法。 The method for producing an alkoxytrihalosilane according to claim 1, wherein the reaction temperature is in the range of 50 ° C to 300 ° C. 式〔1〕で表されるテトラハロシランと式〔2〕で表されるアルコールとを、アルコール/テトラハロシラン のモル比で、0.1〜10の範囲で反応させる、請求項1または2に記載のアルコキシトリハロシランの製造方法。 The tetrahalosilane represented by the formula [1] and the alcohol represented by the formula [2] are reacted in a molar ratio of alcohol / tetrahalosilane in the range of 0.1 to 10. A method for producing an alkoxytrihalosilane as described in 1. above. 式〔1〕で表されるテトラハロシランと式〔2〕で表されるアルコールとを、アルコール/テトラハロシランのモル比で、0.1〜1.5の範囲で反応させる、請求項1〜3のいずれかに記載のアルコキシトリハロシランの製造方法。The tetrahalosilane represented by the formula [1] and the alcohol represented by the formula [2] are reacted in a molar ratio of alcohol / tetrahalosilane within a range of 0.1 to 1.5. The manufacturing method of the alkoxy trihalosilane in any one of -3. 式〔2〕で表されるアルコールが第1級アルコール、または第2級アルコールである、請求項1〜のいずれかに記載のアルコキシトリハロシランの製造方法。 The method for producing an alkoxytrihalosilane according to any one of claims 1 to 4 , wherein the alcohol represented by the formula [2] is a primary alcohol or a secondary alcohol. 水分量が10体積ppm以下である不活性ガスを用いて、反応雰囲気を水分10体積ppm以下に保って反応を行う、請求項1〜のいずれかに記載のアルコキシトリハロシランの製造方法。 The method for producing an alkoxytrihalosilane according to any one of claims 1 to 5 , wherein the reaction is carried out by using an inert gas having a water content of 10 volume ppm or less and keeping the reaction atmosphere at a water content of 10 volume ppm or less. 水分量が10体積ppm以下である不活性ガスを、式〔1〕で表されるテトラハロシランと式〔2〕で表されるアルコールの少なくとも一方を充填した供給装置内をバブリングすることによって原料を気化させる、請求項1〜のいずれかに記載のアルコキシトリハロシランの製造方法。 Raw material by bubbling the inside of a supply apparatus filled with at least one of tetrahalosilane represented by the formula [1] and alcohol represented by the formula [2] with an inert gas having a water content of 10 volume ppm or less The method for producing alkoxytrihalosilane according to any one of claims 1 to 6 , wherein: アスペクト比が3以上1000以下の管状反応容器を用いて、反応容器の1端から原料を供給し、他の1端から生成物を排出する、請求項1〜のいずれかに記載のアルコキシトリハロシランの製造方法。 The alkoxytrihalo according to any one of claims 1 to 7, wherein a raw material is supplied from one end of the reaction vessel and a product is discharged from the other end using a tubular reaction vessel having an aspect ratio of 3 or more and 1000 or less. A method for producing silane.
JP2012226507A 2012-10-12 2012-10-12 Process for producing alkoxytrihalosilane Active JP5915493B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012226507A JP5915493B2 (en) 2012-10-12 2012-10-12 Process for producing alkoxytrihalosilane

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012226507A JP5915493B2 (en) 2012-10-12 2012-10-12 Process for producing alkoxytrihalosilane

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014076976A JP2014076976A (en) 2014-05-01
JP5915493B2 true JP5915493B2 (en) 2016-05-11

Family

ID=50782607

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012226507A Active JP5915493B2 (en) 2012-10-12 2012-10-12 Process for producing alkoxytrihalosilane

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5915493B2 (en)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003040156A1 (en) * 2001-11-08 2003-05-15 Hokko Chemical Industry Co., Ltd. Production processes for triorganomonoalkoxysilanes and triorganomonochlorosilanes

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014076976A (en) 2014-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6727375B2 (en) Apparatus and process for preparing substantially halogen-free trialkoxysilanes
JP7014753B2 (en) Preparation of Si—H-containing iodosilane by halide exchange reaction
FI62538C (en) CONTAINING CONTAINER FRAMSTERING WITH ALCOHOLIC
JP4878377B2 (en) Method for depositing polycrystalline silicon
US20110150739A1 (en) Method for removing boron-containing impurities from halogen silanes and apparatus for performing said method
US20100296994A1 (en) Catalyst and method for dismutation of halosilanes containing hydrogen
JPS62918B2 (en)
CN112041324B (en) Method for producing halosilane compounds
EP3847178B1 (en) Method for preparing alkylalkoxysilanes
US4730074A (en) Vapor phase alcoholysis of aminosilanes and carbamatosilanes
JP5915493B2 (en) Process for producing alkoxytrihalosilane
CN103930430B (en) Prepare the method for two organic dihalide halosilanes
KR20030077594A (en) Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes
JP5426033B2 (en) Method for producing organosilane
CN111606938A (en) Method and device for comprehensively utilizing organic silicon monomer azeotrope by utilizing alcoholysis process
US9278864B2 (en) Method for preparing monosilane using trialkoxysilane
RU2436788C1 (en) Method of producing alkyl silanes
JP2015113250A (en) Method for purifying tetrachlorosilane
JPH10168084A (en) Production of alkoxysilane
US20200385411A1 (en) Organosilane compounds having bulky substituent and preparation thereof
CN1277834C (en) Technique for preparing preparing propyl chloride trialkoxyl silicane from trialkoxyl silicane
JP5540776B2 (en) Method for producing difluoroacetic acid ester
Storozhenko et al. Continuous organomagnesium synthesis of organometallic compounds
US20220017546A1 (en) Process for reducing the content of boron compounds in halosilane-containing compositions
JPH10330385A (en) Disproportionation of organosilanes

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150121

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150728

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150918

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160308

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160321

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5915493

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250