JP5914897B2 - フロフラン誘導体の製造方法 - Google Patents
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Description
しかし、上記製造方法は、酸化的2量化の際の収率が20%程度、真空加熱反応の際の収率が50%であり、全体で見れば10%程度の収率であって、このように低収率であることから実用的とは言えなかった。
本発明はこれらの知見に基づき完成された。
また、本発明のフロフラン誘導体は、天然由来のフェルラ酸やシナピン酸から容易に得ることができるため、環境負荷が小さく、かつ、従来報告例の少ない黄色の発色をするものであり、有機蛍光材料として有用である。
本発明にかかるフロフラン誘導体の製造方法は、下記一般式(1)で表される桂皮酸もしくはその誘導体2分子を縮合して下記一般式(2)で表される縮合体を得る縮合工程と、前記縮合工程で形成された縮合環を脱水素化してフロフラン骨格を形成する脱水素化工程とを含む。さらに、前記縮合工程と脱水素化工程の間に、縮合体のフェノール性水酸基をエーテル化するエーテル化工程を含んでいても良い。
出発原料である桂皮酸もしくはその誘導体は天然に多く存在するものであるので、石油資源由来の合成物質を原料とする場合と比べて、環境負荷が著しく低減される。
例えば、フェルラ酸、シナピン酸、コーヒー酸、4−ヒドロキシ桂皮酸などは、いずれも天然に存在する桂皮酸誘導体として好適に挙げられる。
具体的には、桂皮酸もしくはその誘導体に対し、例えば、塩化鉄(III)などの触媒の存在下、塩酸、硫酸などの強酸を作用させて、酸化的カップリングにより縮合させることができる。
この場合に使用可能な溶媒としては、例えば、エタノール、メタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類と水との混合溶媒などが挙げられる。
反応条件としては、例えば、5〜80℃で、2〜40時間とすることができ、10〜50℃で、3〜24時間とすることが好ましい。
また、桂皮酸もしくはその誘導体を、銅錯体(例えば、ジ-μ-ヒドロキソ-ビス[(N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミン)銅(II)]クロリド)などを触媒としてジクロロメタンなどの溶剤中、室温程度で撹拌することにより、縮合体を得ることもできる。
反応後は、従来公知の方法により、縮合体を分離・精製することができる。
本発明の製造方法において任意の工程であるエーテル化工程では、後述の脱水素化工程の前に、上記縮合工程で得られた縮合体のフェノール性水酸基をエーテル化する。
このエーテル化工程により、後に続く脱水素化工程での酸化反応時の副生成物の発生を抑えることができるという利点がある。
原料が水酸基を有していない場合(例えば、桂皮酸など)や、水酸基を有している場合(例えば、フェルラ酸、シナピン酸、コーヒー酸、4−ヒドロキシ桂皮酸など)であっても上記縮合工程の前にフェノール性水酸基をエーテル化している場合は、縮合工程後のエーテル化工程は必要ではない。
ここで、光延反応は、アルコールの水酸基をアゾジカルボン酸ジエステルとホスフィン(特にトリフェニルホスフィン)で活性化して行なうSN2反応のことである。具体的には、アゾジカルボン酸ジエステル、ホスフィン、アルコールと求核剤を混合するとアルコールの水酸基が求核剤によって置換された生成物が得られる。
従って、この光延反応において、上記縮合工程で得られた縮合体を求核剤として作用させることで、縮合体のフェノール性水酸基をエーテル化することができるのである。
すなわち、上記エーテル化反応においては、縮合工程で得られた縮合体、アゾジカルボン酸ジエステル及びアルコールを少なくとも含む混合溶液を調製した後、該混合溶液にホスフィンを添加することが好ましい。
このエーテル化工程で使用可能な溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサンなどのエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)などのケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メチルなどのエステル類などが挙げられる。
反応条件としては、例えば、−5〜120℃で、1分〜24時間とすることができ、0〜40℃で、1分〜8時間とすることが好ましい。
反応後は、従来公知の方法により、エーテル化物を分離・精製することができる。
脱水素化工程では、上記縮合工程で形成された縮合環を脱水素化する。
この脱水素化工程により、縮合環に炭素−炭素二重結合が導入されてフロフラン骨格が形成され、本発明特有の蛍光性が発現されるものと推測される。
反応条件としては、例えば、100〜150℃で、3〜48時間とすることができ、110〜130℃で、5〜20時間とすることが好ましい。
反応後は、従来公知の方法により、最終生成物を分離・精製することができる。
本発明にかかるフロフラン誘導体は、下記一般式(3)又は下記一般式(4)で表されるものである。
なお、上記において、R10O基,R11O基の各アルコキシ基は、上記本発明にかかるフロフラン誘導体の製造方法の任意工程であるエーテル化反応で容易に導入し得るものであり、炭素数1〜20のものが好ましく、炭素数1〜8のものが特に好ましい。
本発明にかかるフロフラン誘導体は、特に限定されないが、上述のように黄色の発色を示すため、例えば、蛍光材料としての用途に適している。
例えば、有機蛍光材料に適用する場合、前記他の成分として、以下の水性成分、粉末成分、油成分などの成分を配合してもよい。
<実施例1>
(縮合工程)
フェルラ酸を出発原料として、下記一般式(5)で表される縮合体を得た。
フェルラ酸10.0gをエタノール80mLに溶解し、この溶液をFeCl3・6H2O(35g)水溶液(500mL)中に滴下したのち、室温で1晩撹拌した。析出した固体を濾別し、この固体を200mLの水に分散した。分散液に12N HCl水溶液25mLを加えて80℃、15分間撹拌したのち、室温まで冷却した。析出した固体を濾別して水洗したのち、アセトンにより再結晶させた。その結果、上記一般式(5)に示す縮合体2.50gを得た(収率25%)。なお、この縮合体は1H NMR及び13C NMRの測定結果から同定した。その結果を以下に示す。
1H NMR(400MHz,DMSO−d6):δ9.26(2H,s),7.00(2H,d,J=2.0Hz),6.87(2H,dd,J=2.0,8.4Hz),6.80(2H,d,J=8.4Hz),5.74(2H,br),4.21(2H,br),3.80(6H,s)
13C NMR(100MHz,DMSO−d6):δ174.90,147.33,146.83,128.48,118.69,114.91,110.10,81.55,55.26,47.55
上記で得られた縮合体を原料として、下記一般式(6)で表されるエーテル化物を得た。
上記縮合体200mg、アゾジカルボン酸ジイソプロピルエステル(40%トルエン溶液として使用)780mg及びn−ブタノール120mgをジクロロメタン100mLに分散させた。分散液にトリフェニルホスフィン400mgを加え、室温で一晩撹拌した。反応液を濃縮したのち、カラムで精製することにより、上記一般式(6)に示すエーテル化物247mgを得た(収率96%)。
上記で得られた縮合体のエーテル化物を原料として、下記一般式(7)で表されるフロフラン誘導体を得た。
上記エーテル化物500mg及びDDQ1.0gをジオキサン30mLに溶解させ、20時間、110℃で還流させた。室温まで戻した後、析出固体を濾別して、得られた溶液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をカラム精製することにより、上記一般式(7)に示す実施例1のフロフラン誘導体を440mg得た(収率89%)。
(縮合工程)
シナピン酸を出発原料として、下記一般式(8)で表される縮合体を得た。
シナピン酸25.0gをメタノール20mL及びエタノール250mLに分散して、分散液をFeCl3・6H2O(43g)水溶液(1L)中に滴下したのち、室温で1晩撹拌した。反応液から析出した固体を濾別し、濾別した固体を200mLの水に分散させた。分散液に12N HCl水溶液50mLを加えて80℃、1時間撹拌し、室温まで冷却した。反応液から固体を濾別して、水洗し、アセトンにより再結晶した。その結果、上記一般式(8)に示す縮合体20.5gを得た(収率82%)。なお、この縮合体は1H NMR及び13C NMRの測定結果から同定した。その結果を以下に示す。
1H NMR(400MHz,DMSO−d6):δ8.61(2H,s),6.70(4H,s),5.74(2H,br),4.27(2H,br),3.79(12H,s)
13C NMR(100MHz,DMSO−d6):δ175.52,148.14,136.23,128.14,104.00,82.23,56.18,47.99
上記で得られた縮合体を原料として、下記一般式(9)で表されるエーテル化物を得た。
上記縮合体190mg、アゾジカルボン酸ジイソプロピルエステル(40%トルエン溶液として使用)750mg及びn−ブタノール98mgをジクロロメタン110mLに分散させた。分散液にトリフェニルホスフィン390mgを加え、室温で一晩撹拌した。反応液を濃縮したのち、カラムで精製することにより、上記一般式(9)に示すエーテル化物218mgを得た(収率92%)。
上記で得られた縮合体のエーテル化物を原料として、下記一般式(10)で表されるフロフラン誘導体を得た。
上記エーテル化物200mg及びDDQ500mgをジオキサン30mLに溶解させ、20時間、110℃で還流させた。室温まで戻した後、析出固体を濾別して、得られた溶液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をカラム精製することにより、上記一般式(10)に示す実施例2のフロフラン誘導体112mgを得た(収率88%)。
実施例1の縮合工程で得られた一般式(5)の縮合体を原料として、n−ブタノールの代わりにメタノールを用いることで、総収率18%で、下記一般式(11)で表されるフロフラン誘導体を得た。
実施例1の縮合工程で得られた一般式(5)の縮合体を原料として、n−ブタノールの代わりにn−ヘキサノールを用いることで、総収率22%で、下記一般式(12)で表されるフロフラン誘導体を得た。
実施例1の縮合工程で得られた一般式(5)の縮合体を原料として、n−ブタノールの代わりに2−エチル−1−ヘキサノールを用いることで、総収率17%で、下記一般式(13)で表されるフロフラン誘導体を得た。
実施例2の縮合工程で得られた一般式(8)の縮合体を原料として、n−ブタノールの代わりにメタノールを用いることで、総収率60%で、下記一般式(14)で表されるフロフラン誘導体を得た。
実施例2の縮合工程で得られた一般式(8)の縮合体を原料として、n−ブタノールの代わりにn−ヘキサノールを用いることで、総収率62%で、下記一般式(15)で表されるフロフラン誘導体を得た。
実施例2の縮合工程で得られた一般式(8)の縮合体を原料として、n−ブタノールの代わりに2−エチル−1−ヘキサノールを用いることで、総収率58%で、下記一般式(16)で表されるフロフラン誘導体を得た。
上述の通り、本発明にかかるフロフラン誘導体の製造方法では、総収率が最も低い実施例5であっても17%であり、従来の製法の収率がせいぜい10%程度であったことと比較して、高い収率でフロフラン誘導体を合成できるものであることが分かった。
<実施例9>
ITO基板(三容真空社製、10Ω/sq、1500A)をアセトン、エタノールで洗浄した後、窒素ブローおよび130℃のホットプレートで乾燥し、これをUV洗浄した。スピンコーター(アクティブ社製、ACT−300D)にてPEDOT:PSS(CLEVIOS P VP AI 4083、H.C.Starck社製)を3000rpmでスピンコートし、130℃で10分間乾燥させ40nmの薄膜を成膜した。真空蒸着装置(エイコー社製、EO−5)で、正孔輸送層としてα−NPD(N,N'-Di(1-naphthyl)-N,N'-diphenylbenzidine、同仁化学研究所製)を40nm、発光層として実施例1にかかる一般式(7)のフロフラン誘導体を4%含む発光ホスト材料CBP(4,4'-Bis(9H-carbazol-9-yl)biphenyl、東京化成製)を共蒸着法で40nm、正孔ブロック層としてBCP(2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline、同仁化学研究所製)を20nm、電子輸送層としてAlq3(Tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum(III)、アルドリッチ製)を20nmの順に成膜した。真空蒸着装置(エイコー社製、EO−5)で、LiF(99%、高純度化学研究所製)を0.5nm、Ag(99.999%、高純度化学研究所製)を10%含むMg(99.9%up、高純度化学研究所製)を共蒸着法で30nm、Ag(99.999%、高純度化学研究所製)を100nmの順に成膜した。窒素雰囲気のグローブボックス内で成膜部分を封止し、エレクトロルミネッセンス素子を調製した。
このエレクトロルミネッセンス素子を電極につないで徐々に電圧を上げ、輝度(トプコン社製、Bm−9)及び色度(大塚電子社製、MCPD−7000)を測定したところ、16Vで1700cd/m2、色度x=0.44、y=0.52の高輝度黄色発光を確認した。
実施例1にかかる一般式(7)のフロフラン誘導体に代えて、実施例2にかかる一般式(10)のフロフラン誘導体を用いたこと以外は実施例9と同様にしてエレクトロルミネッセンス素子を作製し、輝度及び色度を測定した結果、17Vで3000cd/m2、色度x=0.41、y=0.54の高輝度黄色発光を確認した。
実施例9、10から、本発明の製造方法で製造し得る新規構造のフロフラン誘導体は、従来報告例の少ない黄色の発色を示すものであり、有機蛍光材料として極めて有効であることが確認された。
Claims (3)
- 前記一般式(1)で表される桂皮酸誘導体としてフェルラ酸及び/又はシナピン酸を用いるとともに、前記縮合工程と脱水素化工程との間で、縮合体のフェノール性水酸基をエーテル化するエーテル化工程を含む、請求項1に記載のフロフラン誘導体の製造方法。
- 前記エーテル化工程では、前記縮合工程で得られた縮合体、アゾジカルボン酸ジエステル及びアルコールを少なくとも含む混合溶液を調製した後、該混合溶液にホスフィンを添加する、請求項2に記載のフロフラン誘導体の製造方法。
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