JP5914123B2 - Adhesive for electronic parts and adhesive film for electronic parts - Google Patents

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本発明は、速硬化性にも貯蔵安定性にも優れ、かつ、高い接着力を有する電子部品用接着剤に関する。また、本発明は、該電子部品用接着剤を用いて製造される電子部品用接着フィルムに関する。 The present invention relates to an adhesive for electronic parts that is excellent in fast curing property and storage stability and has high adhesive strength. Moreover, this invention relates to the adhesive film for electronic components manufactured using this adhesive agent for electronic components.

半導体チップを用いて半導体装置を製造する場合、接着剤を用いて半導体チップを基板等に接着固定する工程(ダイボンディング工程)が行われる。
ダイボンディング工程において使用される接着剤としては、例えば、特許文献1にはエポキシ樹脂、フェノールアラルキル樹脂、及び、イミダゾール化合物を含有するダイアタッチペーストが開示されている。特許文献1に記載されたダイアタッチペーストは、接着性、速硬化性、信頼性に優れているとされ、特に短時間の硬化で高い接着信頼性が得られる旨が記載されている。特許文献1の実施例においては、200℃、30秒及び60秒で硬化させた際の接着強度が評価されている。
When manufacturing a semiconductor device using a semiconductor chip, a process (die bonding process) of bonding and fixing the semiconductor chip to a substrate or the like using an adhesive is performed.
As an adhesive used in the die bonding process, for example, Patent Document 1 discloses a die attach paste containing an epoxy resin, a phenol aralkyl resin, and an imidazole compound. The die attach paste described in Patent Document 1 is said to be excellent in adhesiveness, fast curability, and reliability, and it is described that high adhesion reliability can be obtained particularly by curing in a short time. In the Example of patent document 1, the adhesive strength at the time of making it harden | cure at 200 degreeC, 30 second, and 60 second is evaluated.

近年、半導体装置の高集積化への要望が益々大きくなっており、半導体チップの多層積層化が進んでいる。そのため、特許文献1に記載されたダイアタッチペーストのように硬化に数十秒を要する接着剤を用いたのでは、一つの半導体装置を製造するのに要する時間が長時間化してしまうという問題が生じていた。また、多層積層化により、ごく僅かな半導体チップのズレが積層体としては致命的な欠陥となりうるところ、硬化に時間がかかりすぎるとズレが発生しやすくなるという問題もあった。 In recent years, there has been an increasing demand for higher integration of semiconductor devices, and semiconductor chips are being stacked in multiple layers. For this reason, using an adhesive that requires several tens of seconds for curing, such as the die attach paste described in Patent Document 1, there is a problem that the time required to manufacture one semiconductor device becomes longer. It was happening. In addition, due to the multi-layer stacking, a slight shift of the semiconductor chip can be a fatal defect as a stacked body, but there is also a problem that the shift is likely to occur if it takes too much time for curing.

半導体装置の製造時間の長時間化を解消するためには、例えば、速硬化型の接着剤を使用することが検討されている。しかしながら、一般的に速硬化型の接着剤は高反応性の硬化剤及び硬化促進剤を使用するため、貯蔵安定性に劣るという問題があった。 In order to eliminate the lengthening of the manufacturing time of the semiconductor device, for example, the use of a fast-curing adhesive has been studied. However, in general, a fast-curing type adhesive uses a highly reactive curing agent and curing accelerator, and thus has a problem of poor storage stability.

特開2004−172443号公報JP 2004-172443 A

本発明は、速硬化性にも貯蔵安定性にも優れ、かつ、高い接着力を有する電子部品用接着剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該電子部品用接着剤を用いて製造される電子部品用接着フィルムを提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the adhesive for electronic components which is excellent in quick-curing property and storage stability, and has high adhesive force. Moreover, an object of this invention is to provide the adhesive film for electronic components manufactured using this adhesive agent for electronic components.

本発明は、エポキシ樹脂、硬化剤、アニオン硬化促進剤、及び、前記アニオン硬化促進剤100重量部に対して1〜60重量部のスルホニウム塩化合物を含有する電子部品用接着剤である。
以下、本発明を詳述する。
The present invention is an adhesive for electronic parts containing an epoxy resin, a curing agent, an anionic curing accelerator, and 1 to 60 parts by weight of a sulfonium salt compound with respect to 100 parts by weight of the anionic curing accelerator.
The present invention is described in detail below.

本発明者は、エポキシ樹脂、硬化剤、及び、硬化促進剤を含有する電子部品用接着剤において、硬化促進剤としてアニオン硬化促進剤とスルホニウム塩化合物とを併用することで、速硬化性でありながら貯蔵安定性にも優れた電子部品用接着剤が得られることを見出した。更に、本発明者は、アニオン硬化促進剤とスルホニウム塩化合物との配合比によっては、速硬化性又は貯蔵安定性が低下するだけではなく接着力も不足するのに対し、配合比を所定範囲内とすることで、速硬化性にも貯蔵安定性にも優れ、かつ、高い接着力を有する電子部品用接着剤が得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The inventor of the present invention has an epoxy resin, a curing agent, and an adhesive for electronic components containing a curing accelerator, and is fast curable by using an anionic curing accelerator and a sulfonium salt compound in combination as a curing accelerator. The present inventors have found that an adhesive for electronic parts having excellent storage stability can be obtained. Furthermore, the present inventor not only decreases the fast curability or storage stability but also lacks adhesive strength depending on the blending ratio of the anion curing accelerator and the sulfonium salt compound, while the blending ratio is within a predetermined range. As a result, it was found that an adhesive for electronic components having excellent fast curing properties and storage stability and having high adhesive strength was obtained, and the present invention was completed.

本発明の電子部品用接着剤は、エポキシ樹脂を含有する。
上記エポキシ樹脂は特に限定されず、例えば、芳香族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。上記芳香族エポキシ樹脂は特に限定されず、例えば、軟化点が150℃以下の芳香族エポキシ樹脂、常温で液体又は結晶性固体の芳香族エポキシ樹脂等が挙げられる。
The adhesive for electronic components of the present invention contains an epoxy resin.
The said epoxy resin is not specifically limited, For example, an aromatic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, etc. are mentioned. These epoxy resins may be used independently and 2 or more types may be used together. The said aromatic epoxy resin is not specifically limited, For example, the aromatic epoxy resin whose softening point is 150 degrees C or less, the aromatic epoxy resin of a liquid or crystalline solid at normal temperature, etc. are mentioned.

上記軟化点が150℃以下の芳香族エポキシ樹脂として、例えば、フェノールノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルフェノールノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。上記常温で液体又は結晶性固体の芳香族エポキシ樹脂として、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールAD型、ビスフェノールS型等のビスフェノール型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、アニリン型エポキシ樹脂等が挙げられる。なかでも、硬化速度が速いことから、ナフタレン型エポキシ樹脂、アニリン型エポキシ樹脂が好ましい。これらの芳香族エポキシ樹脂は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。 Examples of the aromatic epoxy resin having a softening point of 150 ° C. or lower include phenol novolac epoxy resin, bisphenol A novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, dicyclopentadienephenol novolac epoxy resin, biphenylphenol novolac epoxy resin, and the like. . Examples of the aromatic epoxy resin that is liquid or crystalline solid at room temperature include, for example, bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol AD type, bisphenol S type, resorcinol type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, anthracene Type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, aniline type epoxy resin and the like. Of these, naphthalene type epoxy resins and aniline type epoxy resins are preferred because of their high curing speed. These aromatic epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

上記芳香族エポキシ樹脂のうち、市販品として、例えば、YL−980、1004AF(以上、三菱化学社製)、HP−4032、HP−4700(以上、DIC社製)、EP−3900(ADEKA社製)等が挙げられる。 Of the aromatic epoxy resins, commercially available products include, for example, YL-980, 1004AF (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), HP-4032, HP-4700 (manufactured by DIC), EP-3900 (manufactured by ADEKA). ) And the like.

上記脂肪族エポキシ樹脂は、脂肪族鎖式化合物であってもよく、脂環式化合物であってもよい。上記脂肪族鎖式化合物として、例えば、(ポリ)エチレングリコール型エポキシ樹脂、(ポリ)プロピレングリコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールA−(ポリ)プロピレンオキサイド型エポキシ樹脂、ビスフェノールF−(ポリ)プロピレンオキサイド型エポキシ樹脂等が挙げられる。上記脂環式化合物として、例えば、水添レゾルシノール型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビフェニル型エポキシ樹脂、水添ナフタレン型エポキシ樹脂、水添アントラセン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。なかでも、電子部品用接着剤の硬化物の弾性率が高くなることから、脂環式化合物が好ましく、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂がより好ましい。これらの脂肪族エポキシ樹脂は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。 The aliphatic epoxy resin may be an aliphatic chain compound or an alicyclic compound. Examples of the aliphatic chain compound include (poly) ethylene glycol type epoxy resin, (poly) propylene glycol type epoxy resin, bisphenol A- (poly) propylene oxide type epoxy resin, and bisphenol F- (poly) propylene oxide type epoxy. Examples thereof include resins. Examples of the alicyclic compound include hydrogenated resorcinol type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated biphenyl type epoxy resin, hydrogenated naphthalene type epoxy resin, and hydrogenated anthracene type. Examples thereof include an epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, an adamantane type epoxy resin, and the like. Especially, since the elasticity modulus of the hardened | cured material of the adhesive for electronic components becomes high, an alicyclic compound is preferable and a dicyclopentadiene type epoxy resin is more preferable. These aliphatic epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

上記脂肪族エポキシ樹脂のうち、市販品として、例えば、EP−4000S、EP−4010S、ED−502S、ED−501、EP−4080S、EP−4088S、EP−4088L(ADEKA社製)、YX−8000、YX−8040、YL−6753、YL−7410(三菱化学社製)、EXA−7015(DIC社製)等が挙げられる。 Among the aliphatic epoxy resins, commercially available products include, for example, EP-4000S, EP-4010S, ED-502S, ED-501, EP-4080S, EP-4088S, EP-4088L (manufactured by ADEKA), YX-8000. YX-8040, YL-6753, YL-7410 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EXA-7015 (manufactured by DIC Corporation), and the like.

上記エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂と反応可能な官能基を有する高分子化合物(以下、単に、反応可能な官能基を有する高分子化合物ともいう)を含有してもよい。
上記反応可能な官能基を有する高分子化合物は、造膜成分としての役割を果たす。また、上記反応可能な官能基を有する高分子化合物を含有することで、得られる電子部品用接着剤の硬化物は靭性をもち、優れた耐衝撃性を発現することができる。
The epoxy resin may contain a polymer compound having a functional group capable of reacting with the epoxy resin (hereinafter also simply referred to as a polymer compound having a functional group capable of reacting).
The polymer compound having a reactive functional group plays a role as a film forming component. Moreover, the cured | curing material of the adhesive agent for electronic components obtained by having the said high molecular compound which has a functional group which can react has toughness, and can express the outstanding impact resistance.

上記反応可能な官能基を有する高分子化合物は特に限定されず、例えば、アミノ基、ウレタン基、イミド基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基等を有する高分子化合物等が挙げられる。なかでも、エポキシ基を有する高分子化合物が好ましい。
上記エポキシ基を有する高分子化合物を含有することで、得られる電子部品用接着剤の硬化物は、上記芳香族エポキシ樹脂等に由来する優れた機械的強度、耐熱性及び耐湿性と、上記エポキシ基を有する高分子化合物に由来する優れた靭性とを兼備することにより、高い接合信頼性及び接続信頼性を発現することができる。
The polymer compound having a reactive functional group is not particularly limited, and examples thereof include a polymer compound having an amino group, a urethane group, an imide group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, and the like. Among these, a polymer compound having an epoxy group is preferable.
By containing the polymer compound having the epoxy group, the cured product of the adhesive for electronic components obtained has excellent mechanical strength, heat resistance and moisture resistance derived from the aromatic epoxy resin and the like, and the epoxy By combining excellent toughness derived from a polymer compound having a group, high joint reliability and connection reliability can be expressed.

上記エポキシ基を有する高分子化合物は、末端及び/又は側鎖(ペンダント位)にエポキシ基を有する高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ基含有アクリルゴム、エポキシ基含有ブタジエンゴム、ビスフェノール型高分子量エポキシ樹脂、エポキシ基含有フェノキシ樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂、エポキシ基含有ウレタン樹脂、エポキシ基含有ポリエステル樹脂等が挙げられる。なかでも、エポキシ基を多く含み、得られる電子部品用接着剤の硬化物が優れた機械的強度、耐熱性、靭性等を発現できることから、エポキシ基含有アクリル樹脂が好ましい。これらのエポキシ基を有する高分子化合物は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。 The polymer compound having an epoxy group is not particularly limited as long as it is a polymer compound having an epoxy group at the terminal and / or side chain (pendant position). For example, an epoxy group-containing acrylic rubber, an epoxy group-containing butadiene rubber, Examples thereof include bisphenol type high molecular weight epoxy resin, epoxy group-containing phenoxy resin, epoxy group-containing acrylic resin, epoxy group-containing urethane resin, and epoxy group-containing polyester resin. Among them, an epoxy group-containing acrylic resin is preferable because it contains a large amount of epoxy groups and the resulting cured product of the adhesive for electronic components can exhibit excellent mechanical strength, heat resistance, toughness, and the like. These polymer compounds having an epoxy group may be used alone or in combination of two or more.

上記反応可能な官能基を有する高分子化合物として、上記エポキシ基を有する高分子化合物、特にエポキシ基含有アクリル樹脂を用いる場合、該エポキシ基を有する高分子化合物の重量平均分子量の好ましい下限は1万、好ましい上限は20万である。上記重量平均分子量が1万未満であると、得られる電子部品用接着剤をフィルム化する際の造膜性が不充分となり、フィルム形状を保持できないことがあり、また、低分子量化合物が多く存在するため、ボイドが発生しやすくなることがある。上記重量平均分子量が20万を超えると、得られる電子部品用接着剤は流動性が低くなり、ボンディング後に導通がとれなくなることがある。 When the polymer compound having an epoxy group, particularly an epoxy group-containing acrylic resin, is used as the polymer compound having a reactive functional group, the preferred lower limit of the weight average molecular weight of the polymer compound having an epoxy group is 10,000. The preferred upper limit is 200,000. When the weight average molecular weight is less than 10,000, the film-forming property when the resulting adhesive for electronic parts is made into a film becomes insufficient, the film shape may not be maintained, and there are many low molecular weight compounds. Therefore, voids are likely to occur. When the weight average molecular weight exceeds 200,000, the obtained adhesive for electronic parts has low fluidity and may not be conductive after bonding.

上記反応可能な官能基を有する高分子化合物として、上記エポキシ基を有する高分子化合物、特にエポキシ基含有アクリル樹脂を用いる場合、該エポキシ基を有する高分子化合物のエポキシ当量の好ましい下限は200、好ましい上限は1000である。上記エポキシ当量が200未満であると、得られる電子部品用接着剤の硬化物が堅く、脆くなることがある。上記エポキシ当量が1000を超えると、得られる電子部品用接着剤の硬化物の機械的強度、耐熱性等が不充分となることがある。 When the polymer compound having an epoxy group, particularly an epoxy group-containing acrylic resin, is used as the polymer compound having a functional group capable of reacting, the preferred lower limit of the epoxy equivalent of the polymer compound having an epoxy group is 200, preferably The upper limit is 1000. When the epoxy equivalent is less than 200, a cured product of the obtained adhesive for electronic components may be hard and brittle. When the said epoxy equivalent exceeds 1000, the mechanical strength, heat resistance, etc. of the hardened | cured material of the adhesive agent for electronic components obtained may become inadequate.

上記エポキシ樹脂が上記反応可能な官能基を有する高分子化合物を含有する場合、上記反応可能な官能基を有する高分子化合物の含有量は特に限定されないが、上記エポキシ樹脂中の好ましい下限が5重量%、好ましい上限が80重量%である。上記反応可能な官能基を有する高分子化合物の含有量が5重量%未満であると、得られる電子部品用接着剤をフィルム化する際の造膜性が不充分となり、フィルム形状を保持できないことがあり、また、タックが強くなることがある。上記反応可能な官能基を有する高分子化合物の含有量が80重量%を超えると、得られる電子部品用接着剤は、未硬化状態でのハンドリング時に割れることがある。 When the epoxy resin contains a polymer compound having a functional group capable of reacting, the content of the polymer compound having a functional group capable of reacting is not particularly limited, but the preferred lower limit in the epoxy resin is 5% by weight. %, And a preferable upper limit is 80% by weight. When the content of the polymer compound having a functional group capable of reacting is less than 5% by weight, the film forming property when the resulting adhesive for electronic parts is formed into a film becomes insufficient, and the film shape cannot be maintained. In addition, tack may become strong. When the content of the polymer compound having a functional group capable of reacting exceeds 80% by weight, the obtained adhesive for electronic parts may be cracked during handling in an uncured state.

本発明の電子部品用接着剤は、硬化剤を含有する。
上記硬化剤は特に限定されず、例えば、酸無水物硬化剤、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、チオール硬化剤等が挙げられる。上記酸無水物硬化剤は特に限定されないが、2官能の酸無水物硬化剤が好ましい。上記2官能の酸無水物硬化剤は特に限定されず、例えば、フタル酸誘導体の無水物、無水マレイン酸等が挙げられる。上記酸無水物硬化剤のうち、市販品として、例えば、YH−306(三菱化学社製)等が挙げられる。
The adhesive for electronic components of the present invention contains a curing agent.
The said hardening | curing agent is not specifically limited, For example, an acid anhydride hardening | curing agent, a phenol hardening | curing agent, an amine hardening | curing agent, a thiol hardening | curing agent etc. are mentioned. The acid anhydride curing agent is not particularly limited, but a bifunctional acid anhydride curing agent is preferable. The bifunctional acid anhydride curing agent is not particularly limited, and examples thereof include phthalic acid derivative anhydrides and maleic anhydride. Among the acid anhydride curing agents, examples of commercially available products include YH-306 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).

上記フェノール硬化剤は特に限定されず、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ジシクロペンタジエンフェノール、アラルキルフェノール、トリスフェノール、テトラキスフェノール、レゾール型フェノール、ビフェニルジメチレン型フェノール、フェノール樹脂−シリカハイブリッド及びこれらの誘導体、変性体等が挙げられる。なかでも、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ジシクロペンタジエンフェノール、ビフェニルジメチレン型フェノール、フェノール樹脂−シリカハイブリッド及びこれらの誘導体、変性体が好ましい。上記フェノール硬化剤のうち、市販品として、例えば、MEH−8000H(明和化成社製)、TD−2131(DIC社製)、Matrimid(Huntsman社製)、KA−1160(DIC社製)等が挙げられる。 The phenol curing agent is not particularly limited. For example, bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac, cresol novolac, dicyclopentadiene phenol, aralkylphenol, trisphenol, tetrakisphenol, resol type phenol, biphenyldimethylene type phenol, phenol resin -Silica hybrid, derivatives thereof, modified products, and the like. Of these, phenol novolak, cresol novolak, dicyclopentadiene phenol, biphenyldimethylene type phenol, phenol resin-silica hybrid, and derivatives and modified products thereof are preferable. Among the above-mentioned phenol curing agents, examples of commercially available products include MEH-8000H (manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), TD-2131 (manufactured by DIC), Matrimid (manufactured by Huntsman), and KA-1160 (manufactured by DIC). It is done.

上記アミン硬化剤は特に限定されず、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の変性脂肪族アミン、ジアミノジフェニルスルフォン等の変性芳香族アミン及びこれらの誘導体、変性体等が挙げられる。なかでも、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の変性脂肪族アミン及びこれらの誘導体、変性体等が好ましい。上記アミン硬化剤のうち、市販品として、例えば、DICY(ナカライテスク社製)、エポキシ樹脂硬化剤 T、TO184、U(以上、三菱化学社製)、EH540−5(ADEKA社製)等が挙げられる。 The amine curing agent is not particularly limited, and examples thereof include modified aliphatic amines such as diethylenetriamine and triethylenetetramine, modified aromatic amines such as diaminodiphenylsulfone, and derivatives and modified products thereof. Of these, modified aliphatic amines such as diethylenetriamine and triethylenetetramine, and derivatives and modified products thereof are preferable. Among the amine curing agents, as commercial products, for example, DICY (manufactured by Nacalai Tesque), epoxy resin curing agent T, TO184, U (above, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EH540-5 (manufactured by ADEKA) and the like can be mentioned. It is done.

上記チオール硬化剤は特に限定されないが、チオグリコール酸、β−メルカプトプロパン酸、3−メルカプトブタン酸及びこれらの誘導体、変性体等が好ましい。上記チオール硬化剤のうち、市販品として、例えば、BMPA、MPM、PEMP、TMMP、TEMPIC(以上、SC有機化学社製)、カレンズMT PE1、BD1、NR1(以上、昭和電工社製)等が挙げられる。 Although the said thiol hardening | curing agent is not specifically limited, Thioglycolic acid, (beta) -mercapto propanoic acid, 3-mercapto butanoic acid, these derivatives, a modified body, etc. are preferable. Among the above thiol curing agents, as commercial products, for example, BMPA, MPM, PEMP, TMMP, TEMPIC (above, SC Organic Chemical Co., Ltd.), Karenz MT PE1, BD1, NR1 (above, Showa Denko Co., Ltd.) and the like can be mentioned. It is done.

上記硬化剤の含有量は特に限定されないが、上記エポキシ樹脂100重量部に対する好ましい下限が20重量部、好ましい上限が200重量部である。上記硬化剤の含有量が20重量部未満であると、得られる電子部品用接着剤が充分に硬化しないことがある。上記硬化剤の含有量が200重量部を超えると、得られる電子部品用接着剤の接続信頼性が低下することがある。上記硬化剤の含有量は、上記エポキシ樹脂100重量部に対するより好ましい下限が25重量部、より好ましい上限が150重量部、更に好ましい下限は30重量部、更に好ましい上限は120重量部である。 Although content of the said hardening | curing agent is not specifically limited, The preferable minimum with respect to 100 weight part of said epoxy resins is 20 weight part, and a preferable upper limit is 200 weight part. When the content of the curing agent is less than 20 parts by weight, the obtained adhesive for electronic parts may not be sufficiently cured. When content of the said hardening | curing agent exceeds 200 weight part, the connection reliability of the adhesive agent for electronic components obtained may fall. The content of the curing agent is more preferably 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, more preferably 150 parts by weight, still more preferably 30 parts by weight, and still more preferably 120 parts by weight.

本発明の電子部品用接着剤は、アニオン硬化促進剤、及び、前記アニオン硬化促進剤100重量部に対して1〜60重量部のスルホニウム塩化合物を含有する。
上記アニオン硬化促進剤と上記スルホニウム塩化合物とを含有することで、本発明の電子部品用接着剤は、速硬化性でありながら貯蔵安定性にも優れたものとなる。更に、上記アニオン硬化促進剤と上記スルホニウム塩化合物との配合比によっては、速硬化性又は貯蔵安定性が低下するだけではなく接着力も不足するのに対し、配合比が上記範囲内であることで、本発明の電子部品用接着剤は、速硬化性にも貯蔵安定性にも優れ、かつ、高い接着力を有することができる。
The adhesive for electronic components of the present invention contains an anionic curing accelerator and 1 to 60 parts by weight of a sulfonium salt compound with respect to 100 parts by weight of the anionic curing accelerator.
By containing the anion curing accelerator and the sulfonium salt compound, the adhesive for electronic components of the present invention is excellent in storage stability while being fast curable. Furthermore, depending on the blending ratio of the anion curing accelerator and the sulfonium salt compound, not only the fast curability or storage stability is lowered but also the adhesive strength is insufficient, whereas the blending ratio is within the above range. The adhesive for electronic parts of the present invention is excellent in fast curability and storage stability and can have high adhesive strength.

上記アニオン硬化促進剤として、例えば、イミダゾール化合物、アミン及びアミン誘導体等が挙げられる。なかでも、得られる電子部品用接着剤の接着力がより高まることから、イミダゾール化合物が好ましい。 Examples of the anionic curing accelerator include imidazole compounds, amines and amine derivatives. Especially, since the adhesive force of the adhesive agent for electronic components obtained increases more, an imidazole compound is preferable.

上記イミダゾール化合物は特に限定されず、例えば、イミダゾールの1位をシアノエチル基で保護した1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、イソシアヌル酸で塩基性を保護したイミダゾール化合物(商品名「2MAOK」、四国化成工業社製)、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン イソシアヌル酸付加塩(商品名「2MAOK−PW」、四国化成工業社製)、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン(商品名「2MZA」、四国化成工業社製)、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール(商品名「2P4MHZ」、四国化成工業社製)、2−エチル−4−メチルイミダゾール(商品名「2E4MZ」、四国化成工業社製)、コアシェル型潜在性イミダゾール化合物(商品名「HX−3792」、旭化成社製)、液状イミダゾール化合物(商品名「フジキュア7000」、富士化成社製)、エポキシ−イミダゾールアダクト(商品名「キュアダクトP−0505」、四国化成社製)等が挙げられる。これらのイミダゾール化合物は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。 The imidazole compound is not particularly limited. For example, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole in which the 1-position of imidazole is protected with a cyanoethyl group, an imidazole compound in which basicity is protected with isocyanuric acid (trade name “2MAOK”, Shikoku Chemical Industries, Ltd.) 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid addition salt (trade name “2MAOK-PW”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) 2,4-Diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine (trade name “2MZA”, manufactured by Shikoku Chemicals), 2-phenyl-4-methyl-5 Hydroxymethylimidazole (trade name “2P4MHZ”, manufactured by Shikoku Chemicals), 2-ethyl-4-methylimidazole (trade name “2E4 Z ”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., core-shell type latent imidazole compound (trade name“ HX-3792 ”, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), liquid imidazole compound (trade name“ Fujicure 7000 ”, manufactured by Fuji Kasei Co., Ltd.), epoxy-imidazole Adduct (trade name “Cure Duct P-0505”, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) and the like. These imidazole compounds may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記アミン及びアミン誘導体として、例えば、JERキュア3010(三菱化学社製)、アデカハードナーEH4351S、EH4388S、EH3636AS(以上、ADEKA社製)、アミキュアPN−23J、PN−40J、MY−24、VDH、UDH(以上、味の素ファインテクノ社製)、ノバキュアHX−3742、HX−3792(以上、旭化成社製)等が挙げられる。これらのアミン及びアミン誘導体は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。 Examples of the amine and amine derivative include JER Cure 3010 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Adeka Hardener EH4351S, EH4388S, EH3636AS (manufactured by ADEKA), Amicure PN-23J, PN-40J, MY-24, VDH, UDH (Above, Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), Novacure HX-3742, HX-3792 (above Asahi Kasei Co., Ltd.) and the like. These amines and amine derivatives may be used alone or in combination of two or more.

上記イミダゾール化合物、上記アミン及びアミン誘導体以外の他のアニオン硬化促進剤として、例えば、DBU(1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7)、DBN(1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5)、U−CAT SA1(DBU−フェノール塩)、U−CAT SA31、U−CAT 5002(DBU系テトラフェニルボレート塩)(以上、サンアプロ社製)等が挙げられる。これらの他のアニオン硬化促進剤は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。 Examples of other anionic curing accelerators other than the imidazole compound, the amine and the amine derivative include DBU (1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7), DBN (1,5-diazabicyclo (4. 3.0) Nonene-5), U-CAT SA1 (DBU-phenol salt), U-CAT SA31, U-CAT 5002 (DBU-based tetraphenylborate salt) (manufactured by San Apro). These other anionic curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

上記アニオン硬化促進剤の含有量は特に限定されないが、上記エポキシ樹脂100重量部に対する好ましい下限が0.3重量部、好ましい上限が20重量部である。上記アニオン硬化促進剤の含有量が0.3重量部未満であると、得られる電子部品用接着剤が充分に硬化しなかったり、硬化速度が遅くなったり、接着力が低下したりすることがある。上記アニオン硬化促進剤の含有量が20重量部を超えると、得られる電子部品用接着剤において、未反応のアニオン硬化促進剤が接着界面に染み出すことにより、接合信頼性が低下することがある。 Although content of the said anion hardening accelerator is not specifically limited, The preferable minimum with respect to 100 weight part of said epoxy resins is 0.3 weight part, and a preferable upper limit is 20 weight part. When the content of the anionic curing accelerator is less than 0.3 parts by weight, the obtained adhesive for electronic parts may not be sufficiently cured, the curing rate may be slow, or the adhesive force may be decreased. is there. When the content of the anionic curing accelerator exceeds 20 parts by weight, in the obtained adhesive for electronic parts, unreacted anionic curing accelerator oozes out to the adhesive interface, and thus the bonding reliability may be lowered. .

上記スルホニウム塩化合物はカチオン硬化促進剤であり、上記アニオン硬化促進剤とともに硬化促進剤として作用する。
上記スルホニウム塩化合物は、硬化促進剤として作用するスルホニウム塩化合物であれば特に限定されず、例えば、下記一般式(I)又は(II)で表される構造を有する芳香族スルホニウム塩化合物等が挙げられる。なお、上記スルホニウム塩化合物の代わりにその他のカチオン硬化促進剤を使用すると、電子部品用接着剤の速硬化性又は貯蔵安定性が低下してしまう。
The sulfonium salt compound is a cationic curing accelerator and acts as a curing accelerator together with the anionic curing accelerator.
The sulfonium salt compound is not particularly limited as long as it is a sulfonium salt compound that acts as a curing accelerator, and examples thereof include aromatic sulfonium salt compounds having a structure represented by the following general formula (I) or (II). It is done. In addition, when other cationic hardening accelerators are used instead of the sulfonium salt compound, the rapid curability or the storage stability of the adhesive for electronic components is lowered.

Figure 0005914123
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Figure 0005914123
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一般式(I)及び(II)中、Rは水素、ハロゲン、アルキル基、ベンゾイル基又はアルキル化ベンゾイル基を表す。R’及びR’’はそれぞれ、アルキル基、ベンジル基又はアルキル化ベンジル基を表す。R’’’はベンゾイルオキサイド基又はアルキル化ベンゾイルオキサイド基を表す。 In general formulas (I) and (II), R represents hydrogen, halogen, an alkyl group, a benzoyl group or an alkylated benzoyl group. R ′ and R ″ each represents an alkyl group, a benzyl group or an alkylated benzyl group. R ″ ″ represents a benzoyl oxide group or an alkylated benzoyl oxide group.

上記スルホニウム塩化合物として、具体的には例えば、4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−ベンゾイルオキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロホフェート、ベンジル−4−(4−トルオイルオキシ)フェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。これらのスルホニウム塩化合物は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。 Specific examples of the sulfonium salt compounds include 4-hydroxyphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-benzoyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, and benzyl-4- (4-toluoyloxy) phenylmethylsulfonium. Examples include hexafluorophosphate. These sulfonium salt compounds may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記スルホニウム塩化合物のうち、市販品として、例えば、サンエイドSI−45、SI−80、SI−110、SI−180(以上、三新化学社製)等が挙げられる。 Among the sulfonium salt compounds, examples of commercially available products include Sun Aid SI-45, SI-80, SI-110, SI-180 (manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.) and the like.

上記スルホニウム塩化合物の含有量は、上記アニオン硬化促進剤100重量部に対する下限が1重量部、上限が60重量部である。上記スルホニウム塩化合物の含有量が1重量部未満であると、得られる電子部品用接着剤の貯蔵安定性が低下する。上記スルホニウム塩化合物の含有量が60重量部を超えると、得られる電子部品用接着剤が充分に硬化しなかったり、硬化速度が遅くなったり、接着力が低下したりする。上記スルホニウム塩化合物の含有は、上記アニオン硬化促進剤100重量部に対する好ましい下限が2重量部、好ましい上限が55重量部であり、より好ましい下限が3重量部、より好ましい上限が50重量部である。 The lower limit of the content of the sulfonium salt compound is 100 parts by weight and the upper limit is 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the anion curing accelerator. When the content of the sulfonium salt compound is less than 1 part by weight, the storage stability of the obtained adhesive for electronic parts is lowered. When the content of the sulfonium salt compound exceeds 60 parts by weight, the obtained adhesive for electronic parts is not sufficiently cured, the curing rate is slowed, or the adhesive force is decreased. The content of the sulfonium salt compound is preferably 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the anionic curing accelerator, 55 parts by weight with a preferred upper limit, 3 parts by weight with a more preferred lower limit, and 50 parts by weight with a more preferred upper limit. .

本発明の電子部品用接着剤は、無機フィラーを含有してもよい。
上記無機フィラーを含有することで、得られる電子部品用接着剤の硬化物の線膨張率が低下し、半導体チップへの応力の発生及びハンダ等の導通部分のクラックの発生を良好に防止することができる。
上記無機フィラーは特に限定されず、例えば、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ等のシリカ、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、ガラスパウダー、ガラスフリット等が挙げられる。
The adhesive for electronic components of the present invention may contain an inorganic filler.
By containing the inorganic filler, the coefficient of linear expansion of the resulting cured product of the adhesive for electronic components is reduced, and it is possible to satisfactorily prevent the generation of stress on the semiconductor chip and the generation of cracks in the conductive parts such as solder. Can do.
The inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include silica such as fumed silica and colloidal silica, alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride, glass powder, and glass frit.

上記無機フィラーとして粒子状の無機フィラーを用いる場合、平均粒子径の好ましい下限は1nm、好ましい上限は30μmである。上記粒子状の無機フィラーの平均粒子径が1nm未満であると、電子部品用接着剤が増粘して、ボンディング後に導通がとれないことがある。上記粒子状の無機フィラーの平均粒子径が30μmを超えると、得られる電子部品用接着剤を用いて半導体チップを圧接合する際に、電極間で上記無機フィラーを噛みこむことがある。 When a particulate inorganic filler is used as the inorganic filler, the preferable lower limit of the average particle diameter is 1 nm, and the preferable upper limit is 30 μm. When the average particle diameter of the particulate inorganic filler is less than 1 nm, the adhesive for electronic components may be thickened and conduction may not be achieved after bonding. When the average particle diameter of the particulate inorganic filler exceeds 30 μm, the inorganic filler may be bitten between the electrodes when the semiconductor chip is pressure bonded using the obtained adhesive for electronic components.

本発明の電子部品用接着剤が上記無機フィラーを含有する場合、上記無機フィラーの含有量は特に限定されないが、上記エポキシ樹脂100重量部に対する好ましい下限は5重量部、好ましい上限は500重量部である。上記無機フィラーの含有量が5重量部未満であると、上記無機フィラーを添加する効果をほとんど得ることができないことがある。上記無機フィラーの含有量が500重量部を超えると、得られる電子部品用接着剤の硬化物の線膨張率は低下するものの、同時に引っ張り弾性率が上昇し、半導体チップへの応力及びハンダ等の導通部分のクラックが発生しやすくなることがある。
上記無機フィラーの含有量は、上記エポキシ樹脂100重量部に対するより好ましい下限は10重量部、より好ましい上限は400重量部、更に好ましい下限は15重量部、更に好ましい上限は300重量部である。
When the adhesive for electronic parts of the present invention contains the inorganic filler, the content of the inorganic filler is not particularly limited, but a preferable lower limit with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin is 5 parts by weight, and a preferable upper limit is 500 parts by weight. is there. If the content of the inorganic filler is less than 5 parts by weight, the effect of adding the inorganic filler may be hardly obtained. When the content of the inorganic filler exceeds 500 parts by weight, the linear expansion coefficient of the cured product of the obtained adhesive for electronic components decreases, but at the same time the tensile elastic modulus increases, stress on the semiconductor chip, solder, etc. There are cases where cracks in the conductive portion are likely to occur.
The content of the inorganic filler is more preferably 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, more preferably 400 parts by weight, still more preferably 15 parts by weight, and even more preferably 300 parts by weight.

本発明の電子部品用接着剤は、その他必要に応じて、ブリード防止剤、シランカップリング剤、イミダゾールシランカップリング剤等の接着性付与剤、増粘剤等の添加剤を含有してもよい。 The adhesive for electronic components of the present invention may contain additives such as an anti-bleeding agent, a silane coupling agent, an adhesion imparting agent such as an imidazole silane coupling agent, and a thickener as necessary. .

本発明の電子部品用接着剤を製造する方法は特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、アニオン硬化促進剤、スルホニウム塩化合物、及び、必要に応じて配合される他の材料を所定量配合し、ホモディスパー、万能ミキサー、バンバリーミキサー、ニーダー等を用いて混合する方法等が挙げられる。 The method for producing the adhesive for electronic components of the present invention is not particularly limited. For example, a predetermined amount of an epoxy resin, a curing agent, an anion curing accelerator, a sulfonium salt compound, and other materials blended as necessary. Examples of the method include blending and mixing using a homodisper, a universal mixer, a Banbury mixer, a kneader, and the like.

本発明の電子部品用接着剤は、半導体装置の製造に好適に用いられ、特に、半導体チップを基板等に接着固定する工程(ダイボンディング工程)において好適に用いられる。また、本発明の電子部品用接着剤からなる接着剤層を有する電子部品用接着フィルムを用いて、半導体装置を製造することもできる。
本発明の電子部品用接着剤からなる接着剤層を有する電子部品用接着フィルムもまた、本発明の1つである。
The adhesive for electronic components of the present invention is suitably used for the production of a semiconductor device, and particularly suitably used in a process (die bonding process) in which a semiconductor chip is bonded and fixed to a substrate or the like. Moreover, a semiconductor device can also be manufactured using the adhesive film for electronic components which has the adhesive bond layer which consists of an adhesive agent for electronic components of this invention.
The adhesive film for electronic parts which has the adhesive bond layer which consists of an adhesive agent for electronic parts of this invention is also one of this invention.

本発明の電子部品用接着フィルムを作製する方法は特に限定されず、例えば、本発明の電子部品用接着剤と溶剤とを含有する接着剤溶液を、PETフィルム等の離型処理した基材上にアプリケーター等を用いて塗工し、溶剤を乾燥除去することでフィルム化する方法等が挙げられる。
このようにして得られた電子部品用接着フィルムは、所望の形状にカットされて上述のような半導体装置の製造方法に用いられてもよい。
The method for producing the adhesive film for electronic parts of the present invention is not particularly limited, for example, on a substrate obtained by releasing the adhesive solution containing the adhesive for electronic parts of the present invention and a solvent, such as a PET film. And a method of forming a film by applying an applicator or the like and drying and removing the solvent.
The adhesive film for electronic parts obtained in this way may be cut into a desired shape and used in the method for manufacturing a semiconductor device as described above.

本発明によれば、速硬化性にも貯蔵安定性にも優れ、かつ、高い接着力を有する電子部品用接着剤を提供することができる。また、本発明によれば、該電子部品用接着剤を用いて製造される電子部品用接着フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in quick-hardening property and storage stability, and can provide the adhesive agent for electronic components which has high adhesive force. Moreover, according to this invention, the adhesive film for electronic components manufactured using this adhesive agent for electronic components can be provided.

以下に実施例を掲げて本発明の実施態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 The embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1〜12及び比較例1〜5、11
表1の組成に従って、ホモディスパーを用いて下記に示す各材料を攪拌混合し、電子部品用接着剤を調製した。
( Examples 1-12 and Comparative Examples 1-5, 11 )
According to the composition of Table 1, the materials shown below were stirred and mixed using a homodisper to prepare an adhesive for electronic parts.

実施例14〜24及び比較例6〜10、12
表2の組成に従って、ホモディスパーを用いて下記に示す各材料を溶剤としてのメチルエチルケトン50重量部に添加して攪拌混合し、接着剤溶液を調製した。この接着剤溶液を離型処理したPETフィルム上にアプリケーターを用いて塗工し、溶剤を乾燥除去することでフィルム化し、厚みが50μmの接着剤層を有する電子部品用接着フィルムを得た。
( Examples 14 to 24 and Comparative Examples 6 to 10 and 12 )
According to the composition of Table 2, each material shown below was added to 50 parts by weight of methyl ethyl ketone as a solvent using a homodisper and mixed by stirring to prepare an adhesive solution. This adhesive solution was applied onto a release-treated PET film using an applicator, and the solvent was removed by drying to form a film, whereby an adhesive film for electronic parts having an adhesive layer with a thickness of 50 μm was obtained.

(1)エポキシ樹脂
グリシジル基含有アクリル樹脂(重量平均分子量20万、商品名「G−2050M」、日油社製)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名「1004AF」、三菱化学社製)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名「YL−980」、三菱化学社製)
(1) Epoxy resin glycidyl group-containing acrylic resin (weight average molecular weight 200,000, trade name “G-2050M”, manufactured by NOF Corporation)
Bisphenol A type epoxy resin (trade name “1004AF”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
Bisphenol A type epoxy resin (trade name “YL-980”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

(2)硬化剤
トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸(商品名「YH−306」、三菱化学社製)
液状フェノールノボラック(商品名「MEH−8000H」、明和化成社製)
ジシアンジアミド(商品名「DICY」、ナカライテスク社製)
トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)(商品名「TMMP」、SC有機化学社製)
(2) Curing agent trialkyltetrahydrophthalic anhydride (trade name “YH-306”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
Liquid phenol novolak (trade name “MEH-8000H”, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.)
Dicyandiamide (trade name “DICY”, manufactured by Nacalai Tesque)
Trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate) (trade name “TMMP”, manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.)

(3)無機フィラー
シリカフィラー(商品名「SE−4050」、アドマテックス社製)
(3) Inorganic filler silica filler (trade name “SE-4050”, manufactured by Admatechs)

(4)アニオン硬化促進剤
2−エチル−4−メチルイミダゾール(商品名「2E4MZ」、四国化成工業社製)
液状イミダゾール化合物(商品名「フジキュア7000」、富士化成社製)
コアシェル型潜在性イミダゾール化合物(商品名「HX−3792」、旭化成社製)
2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン(商品名「2MZA」、四国化成工業社製)
2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン イソシアヌル酸付加塩(商品名「2MAOK−PW」、四国化成工業社製)
(4) Anionic curing accelerator 2-ethyl-4-methylimidazole (trade name “2E4MZ”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)
Liquid imidazole compound (trade name “Fujicure 7000”, manufactured by Fuji Kasei Co., Ltd.)
Core-shell type latent imidazole compound (trade name “HX-3792”, manufactured by Asahi Kasei Corporation)
2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine (trade name “2MZA”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)
2,4-Diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid addition salt (trade name “2MAOK-PW”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)

(5)カチオン硬化促進剤
(5−1)スルホニウム塩化合物
芳香族スルホニウム化合物とアンチモン化合物との塩(商品名「サンエイドSI−45」、三新化学社製)
芳香族スルホニウム化合物とアンチモン化合物との塩(商品名「サンエイドSI−80」、三新化学社製)
芳香族スルホニウム化合物と6フッ化リン化合物との塩(商品名「サンエイドSI−110」、三新化学社製)
芳香族スルホニウム化合物と6フッ化リン化合物との塩(商品名「サンエイドSI−180」、三新化学社製)
(5−2)その他
トリフェニルホスフィン(商品名「TPP」、北興化学工業社製)
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート(商品名「TPP−S」、北興化学工業社製)
テトラフェニルホスホニウムテトラ−p−トリボレート(商品名「TPP−MK」、北興化学工業社製)
(5) Cationic curing accelerator (5-1) Sulfonium salt compound A salt of an aromatic sulfonium compound and an antimony compound (trade name “Sun-Aid SI-45”, manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.)
Salt of aromatic sulfonium compound and antimony compound (trade name “Sun-Aid SI-80”, manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.)
Salt of aromatic sulfonium compound and phosphorus hexafluoride compound (trade name “Sun-Aid SI-110”, manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.)
Salt of aromatic sulfonium compound and phosphorus hexafluoride compound (trade name “Sun-Aid SI-180”, manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.)
(5-2) Other triphenylphosphine (trade name “TPP”, manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.)
Tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (trade name “TPP-S”, manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.)
Tetraphenylphosphonium tetra-p-triborate (trade name “TPP-MK”, manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.)

<評価>
実施例及び比較例で得られた電子部品用接着剤及び電子部品用接着フィルムについて、以下の評価を行った。結果を表1及び2に示した。
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the adhesive agent for electronic components and the adhesive film for electronic components obtained by the Example and the comparative example. The results are shown in Tables 1 and 2.

(1)貯蔵安定性
実施例1〜12及び比較例1〜5、11
得られた電子部品用接着剤、及び、電子部品用接着剤からカチオン硬化促進剤を除いたものを25℃で放置し、E型粘度計を用いて25℃、10rpmで測定される粘度が初期値の2倍となる時間(25℃放置時間)を測定し、これを貯蔵安定性とした。電子部品用接着剤の貯蔵安定性を、電子部品用接着剤からカチオン硬化促進剤を除いたものの貯蔵安定性で除することで、貯蔵安定性倍数を求めた。
実施例14〜24及び比較例6〜10、12
得られた電子部品用接着フィルム、及び、電子部品用接着フィルムからカチオン硬化促進剤を除いたものを25℃で放置し、レオメーター(STRESSTECH、REOLOGICA社製)を用いて、サンプル厚み600μm、歪制御(1rad)、周波数10Hz、昇温速度10℃/min、測定温度範囲60〜300℃で測定を行い、最も低い複素粘度が初期値の2倍となる時間(25℃放置時間)を測定し、これを貯蔵安定性とした。電子部品用接着フィルムの貯蔵安定性を、電子部品用接着フィルムからカチオン硬化促進剤を除いたものの貯蔵安定性で除することで、貯蔵安定性倍数を求めた。
(1) Storage stability ( Examples 1-12 and Comparative Examples 1-5, 11 )
The obtained adhesive for electronic parts and the one obtained by removing the cationic curing accelerator from the adhesive for electronic parts are allowed to stand at 25 ° C., and the viscosity measured at 25 ° C. and 10 rpm using an E-type viscometer is initial. The time for which the value was doubled (25 ° C. standing time) was measured, and this was defined as storage stability. The storage stability multiple of the adhesive for electronic components was determined by dividing the storage stability of the adhesive for electronic components by the storage stability of the adhesive for electronic components excluding the cationic curing accelerator.
( Examples 14 to 24 and Comparative Examples 6 to 10 and 12 )
The obtained adhesive film for electronic parts and the one obtained by removing the cationic curing accelerator from the adhesive film for electronic parts were allowed to stand at 25 ° C., and a rheometer (STRESSTECH, manufactured by REOLOGICA) was used. Control (1 rad), frequency 10 Hz, temperature increase rate 10 ° C / min, measurement temperature range 60-300 ° C, measure the time (25 ° C standing time) when the lowest complex viscosity is twice the initial value This was designated as storage stability. The storage stability multiple was determined by dividing the storage stability of the adhesive film for electronic parts by the storage stability of the adhesive film for electronic parts except the cationic curing accelerator.

(2)ゲルタイム
得られた電子部品用接着剤又は電子部品用接着フィルムを260℃のホットプレートに乗せ、スパチュラ等で接着剤を流動させ、接着剤が流動しなくなった時間をゲルタイムとした。
(2) Gel time The obtained adhesive for electronic parts or the adhesive film for electronic parts was placed on a hot plate at 260 ° C., the adhesive was flowed with a spatula or the like, and the time when the adhesive stopped flowing was defined as gel time.

(3)接着力
得られた電子部品用接着剤又は電子部品用接着フィルムを用いて、3mm×3mmのシリコンチップを20mm×20mmのシリコンチップに接着し、190℃30分で硬化させた後、即座にボンドテスター(Dage社製、Dage シリーズ4000)を用いて260℃における接着力を測定した。
(3) Adhesive force Using an obtained adhesive for electronic parts or an adhesive film for electronic parts, a 3 mm x 3 mm silicon chip was bonded to a 20 mm x 20 mm silicon chip and cured at 190 ° C for 30 minutes, Immediately, the adhesive force at 260 ° C. was measured using a bond tester (Dage series, Dage series 4000).

(4)MRT、TCT
実施例1〜13及び比較例1〜5で得られた電子部品用接着剤を、ハンダボール(高さ85μm)が150μm間隔でチップ全面に3136個形成されたフルアレイのTEGチップ(10mm×10mm×厚み725μm)に塗布し、接着剤付TEGチップを得た。また、実施例14〜25及び比較例6〜10で得られた電子部品用接着フィルムを、ハンダボール(高さ85μm)が150μm間隔でチップ全面に3136個形成されたフルアレイのTEGチップ(10mm×10mm×厚み725μm)にラミネートした後、チップサイズに合わせて電子部品用接着フィルムを裁断し、接着剤付TEGチップを得た。
得られた接着剤付TEGチップのハンダと1本のデイジーチェーンとなるように配線されたハンダプリコート付ガラスエポキシTEG基板に、ステージ温度120℃、ヘッド温度140℃20秒、280℃5秒、ヘッド圧100Nで接着剤付TEGチップをフリップチップボンディングした。その後、190℃30分でポストキュア(後硬化)を行い、試験用サンプルを得た。
試験用サンプルを8個作製し、あらかじめ導通抵抗値(以下、初期抵抗値とする)を測定しておき、60℃、60%RHで40時間吸湿させ、ピーク温度260℃のリフローオーブンに3回通してリフロー試験を行った後(MRT)、−55〜125℃(30分/1サイクル)、1000サイクルのTCTを行った。MRT、TCT(1000サイクル)後の導通抵抗値を測定し、導通抵抗値が初期抵抗値から10%以上変化した場合を不良(NG)とし、NG数を評価した。
(4) MRT, TCT
The adhesive for electronic components obtained in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 5 was a full array TEG chip (10 mm × 10 mm × 10 mm) in which 3136 solder balls (height 85 μm) were formed on the entire surface of the chip at intervals of 150 μm. A TEG chip with an adhesive was obtained. The adhesive films for electronic components obtained in Examples 14 to 25 and Comparative Examples 6 to 10 were full array TEG chips (10 mm × 10 mm) in which 3136 solder balls (height 85 μm) were formed on the entire surface of the chip at intervals of 150 μm. 10 mm × thickness 725 μm), and then the electronic component adhesive film was cut according to the chip size to obtain a TEG chip with adhesive.
Solder of the obtained adhesive TEG chip and soldered pre-coated glass epoxy TEG substrate wired to form one daisy chain, stage temperature 120 ° C, head temperature 140 ° C 20 seconds, 280 ° C 5 seconds, head TEG chip with adhesive was flip-chip bonded at a pressure of 100N. Thereafter, post-cure (post-curing) was performed at 190 ° C. for 30 minutes to obtain a test sample.
Eight test samples were prepared, the conduction resistance value (hereinafter referred to as the initial resistance value) was measured in advance, moisture was absorbed at 60 ° C. and 60% RH for 40 hours, and three times in a reflow oven with a peak temperature of 260 ° C. After performing a reflow test through (MRT), -55 to 125 ° C. (30 minutes / 1 cycle), and 1000 cycles of TCT were performed. The conduction resistance value after MRT and TCT (1000 cycles) was measured, and the case where the conduction resistance value changed by 10% or more from the initial resistance value was regarded as defective (NG), and the NG number was evaluated.

Figure 0005914123
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Figure 0005914123
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本発明によれば、速硬化性にも貯蔵安定性にも優れ、かつ、高い接着力を有する電子部品用接着剤を提供することができる。また、本発明によれば、該電子部品用接着剤を用いて製造される電子部品用接着フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in quick-hardening property and storage stability, and can provide the adhesive agent for electronic components which has high adhesive force. Moreover, according to this invention, the adhesive film for electronic components manufactured using this adhesive agent for electronic components can be provided.

Claims (3)

エポキシ樹脂、硬化剤、アニオン硬化促進剤、及び、カチオン硬化促進剤であるスルホニウム塩化合物を含有する電子部品用接着剤であって、
前記エポキシ樹脂100重量部に対して0.3〜20重量部の前記アニオン硬化促進剤を含有し、かつ、
前記アニオン硬化促進剤100重量部に対して1〜10重量部のスルホニウム塩化合物を含有する
ことを特徴とする電子部品用接着剤。
An adhesive for electronic parts containing an epoxy resin, a curing agent, an anionic curing accelerator, and a sulfonium salt compound that is a cationic curing accelerator ,
Containing 0.3 to 20 parts by weight of the anionic curing accelerator with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, and
An adhesive for electronic parts, comprising 1 to 10 parts by weight of a sulfonium salt compound with respect to 100 parts by weight of the anionic curing accelerator.
アニオン硬化促進剤は、イミダゾール化合物であることを特徴とする請求項1記載の電子部品用接着剤。 The adhesive for electronic parts according to claim 1, wherein the anionic curing accelerator is an imidazole compound. 請求項1又は2記載の電子部品用接着剤からなる接着剤層を有することを特徴とする電子部品用接着フィルム。 An adhesive film for electronic parts, comprising an adhesive layer comprising the adhesive for electronic parts according to claim 1.
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