JP5912570B2 - 筆跡鑑定方法,筆跡鑑定装置及び筆跡鑑定プログラム - Google Patents
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Description
最初に、汎用のコンピュータにプログラム(筆跡鑑定プログラム)を読み込ませて実行させることによって実現される筆跡鑑定装置のシステム構成を、図1に示す。
RAM11は、CPU10による作業領域が展開される主記憶装置である。CPU10は、RAM11上に読み込まれたプログラムを実行して、当該プログラム及び各入力装置13,14から入力された情報に応じた処理を実行する中央処理装置である。
識別パラメータ生成部208は、被験者筆跡データ23から同一人が筆記した筆跡対と異なる筆者による筆跡対のすべての組合せについて特徴量xを導出し、同一人による筆跡対グループと異なる筆者による筆跡対グループ夫々について特徴量xの標本平均mc及び標本分散vcを算出する。そして、識別パラメータ生成部208は、算出した標本平均mc及び標本分散vcを筆者異同識別部207に通知する。
比較例1は、個人内変動抑制処理として2次等角変換処理を用いる例である。2次等角変換とは、変換前の座標(u,v)に対して下記式(11)に示す演算を実行することで、直線が2次曲線に変換されるが、微小部分では2つの線分がなす角(交角)が保存される幾何学変換である。
比較例2は、個人内変動抑制処理としてアフィン変換処理を用いる例である。アフィン変換とは、変換前の座標(u,v)に対して下記式(12)に示す演算を実行することで、拡大・縮小,回転,せん断等を表す一次変換(線形変換)に平行移動を組み合わせた幾何学変換である。
比較例3は、個人内変動抑制処理として疑似アフィン変換処理を用いる例である。疑似アフィン変換とは、上記アフィン変換の式(12)に交差項uvを追加してなる式(13)に示す演算を変換前の座標(u,v)に対して実行することで、座標軸に平行な直線は直線に変換されるが、そうでない直線は二次曲線に変換される幾何学変換である。
比較例4は、個人内変動抑制処理として2次多項式による変換処理を用いる例である。この変換は、変換前の座標(u,v)に対して下記式(14)に示す演算を実行することで、直線を2次曲線に変換する幾何学変換である。
比較例5は、個人内変動抑制処理とし3次多項式による変換処理を用いる例である。この変換は、変換前の座標(u,v)に対して下記式(15)に示す演算を実行することで、直線を3次曲線に変換する幾何学変換である。
上述した実施例1の場合に得られた標本に基づいて、上述した比較例1〜比較例5の幾何変換を用いて、平均識別精度の平均を夫々算出した。図21は、上記実施例1による射影変換処理を用いた場合、比較例1による2次等角変換処理を用いた場合、比較例2によるアフィン変換処理を用いた場合、比較例3による疑似アフィン変換を用いた場合、比較例4による2次多項式による変換を用いた場合、比較例5による3次多項式による変換を用いた場合及び幾何学変換処理をしなかった場合の夫々につき、図17と同様に、1乃至6個の文字を用いて算出した平均識別精度の平均を列挙した棒グラフである。図17における奥行方向が、識別に使用した文字の数を示し、高さ方向が平均識別精度の値を示す。
以上に説明したように、筆者異同識別は、筆跡個性とその恒常性の存在を前提になされる。ところが、実際には、個人内変動とよばれるいわゆる書きむらがあり、その恒常性は高いとは言えない。そこで、本発明者は、個人内変動を抑制する幾何変換モデルについて検討し、その結果、検討した2次等角変換,アフィン変換,疑似アフィン変換,射影変換, 2次多項式,3次多項式の6種類のうち、射影変換が最適であり、それによって筆者異同識別精度は、4文字を識別に使用したときに99.9%以上と実用レベルにまで向上することが明らかになった。
10 CPU
11 RAM
12 ディスプレイ
14 ポインティングデバイス
16 スキャナ
15 ストレージ
20 筆跡鑑定プログラム
21 鑑定対象筆跡データ
22 参照筆跡データ
24 標準パターンデータ
202 特徴点座標計測部
203 幾何学的正規化部
204 個人内変動抑制処理部
205 特徴点平均座標算出部
206 幾何変換残差算出部
207 筆者異同識別部
Claims (4)
- 鑑定対象筆跡の筆者と対照者との異同を判断する筆跡鑑定装置であって、
或る特定の文字について、筆者は不明であるが同一人が筆記した複数の鑑定対象筆跡の夫々に含まれる各特徴点の座標を抽出して、特徴点の座標のみから構成される複数の鑑定対象筆跡データを取得するとともに、対照者による前記特定文字についての複数の筆跡に対して、夫々、前記特定文字の各特徴点の座標を抽出して、特徴点の座標のみから構成される参照筆跡データを取得する抽出部と、
前記特定文字の各特徴点の標準的な座標を規定したデータである標準パターンデータを参照し、各特徴点についての前記各鑑定対象筆跡データと前記標準パターンとの座標の差が当該文字全体において最小となるように、前記各鑑定対象筆跡データ夫々を正規化するとともに、前記各参照筆跡データに対して、夫々、各特徴点についての各参照筆跡データと前記標準パターンとの座標の差が当該文字全体において最小となるように、前記各参照筆跡データを正規化する処理を行う正規化部と、
前記特定文字についての正規化された複数の前記鑑定対象筆跡データにおける各特徴点についての平均座標を算出するとともに、前記特定文字についての正規化された複数の前記参照筆跡データにおける各特徴点についての平均座標を算出する平均座標算出部と、
各特徴点についての正規化された何れかの前記鑑定対象筆跡データ中の座標とそれらの前記平均座標との差が当該文字全体において最小となるように、正規化された前記鑑定対象筆跡データに対して射影変換処理を施すとともに、各特徴点についての正規化された何れかの前記参照筆跡データ中の座標とそれらの前記平均座標との差が当該文字全体において最小となるように、正規化された前記参照筆跡データに対して射影変換処理を施す幾何学変換部と、
前記射影変換処理が施された鑑定対象筆跡データ中の各特徴点の座標と前記射影変換処理が施された前記参照筆跡データ中の対応する特徴点の座標との差の当該文字全体についての総計を特徴量として算出する特徴量算出部と、
前記特徴量の大小に基づいて、鑑定対象筆跡の筆者と対照者との異同を判断する識別部と
を備えることを特徴とする筆跡鑑定装置。 - 前記特徴量算出部は、前記射影変換処理が施された2つの筆跡(鑑定対象筆跡と被疑者筆跡)中の各特徴点の座標の差の当該文字全体についての二乗平均平方根を前記特徴量として算出する
ことを特徴とする請求項1記載の筆跡鑑定装置。 - 鑑定対象筆跡の筆者と対照者との異同を判断する筆跡鑑定方法であって、
或る特定文字について、筆者は不明であるが同一人が筆記した複数の鑑定対象筆跡の夫々に含まれる各特徴点の座標を抽出して、特徴点の座標のみから構成される複数の鑑定対象筆跡データを取得するとともに、対照者による前記特定文字についての複数の筆跡に対して、夫々、前記特定文字の各特徴点の座標を抽出して、特徴点の座標のみから構成される参照筆跡データを取得し、
前記特定文字の各特徴点の標準的な座標を規定したデータである標準パターンデータを参照し、各特徴点についての前記鑑定対象筆跡データと前記標準パターンとの座標の差が当該文字全体において最小となるように、前記各鑑定対象筆跡データの夫々を正規化するとともに、前記各参照筆跡データに対して、夫々、各特徴点についての各参照筆跡データと前記標準パターンとの座標の差が当該文字全体において最小となるように、前記各参照筆跡データを正規化する処理を行い、
前記特定文字についての正規化された複数の鑑定対象筆跡データにおける各特徴点についての平均座標を算出するとともに、前記特定文字についての正規化された複数の前記参照筆跡データにおける各特徴点についての平均座標を夫々算出し、
各特徴点についての正規化された何れかの前記鑑定対象筆跡データ中の座標とその前記平均座標との差が当該文字全体において最小となるように、正規化された前記鑑定対象筆跡データに対して射影変換処理を施すとともに、各特徴点についての正規化された何れかの前記参照筆跡データ中の座標とその前記平均座標との差が当該文字全体において最小となるように、正規化された前記参照筆跡データに対して射影変換処理を施し、
前記射影変換処理が施された鑑定対象筆跡データ中の各特徴点の座標と前記射影変換処理が施された前記参照筆跡データ中の対応する特徴点の座標との差の当該文字全体についての総計を特徴量として算出し、
前記特徴量の大小に基づいて、鑑定対象筆跡の筆者と対照者との異同を判断する
ことを特徴とする筆跡鑑定方法。 - コンピュータに読み込まれ、当該コンピュータを
或る特定文字について、筆者は不明であるが同一人が筆記した複数の鑑定対象筆跡の夫々に含まれる各特徴点の座標を抽出して、特徴点の座標のみから構成される複数の鑑定対象筆跡データを取得するとともに、対照者による前記特定文字についての複数の筆跡に対して、夫々、前記特定文字の各特徴点の座標を抽出して、特徴点の座標のみから構成される参照筆跡データを取得する抽出部,
前記特定文字の各特徴点の標準的な座標を規定したデータである標準パターンデータを参照し、各特徴点についての前記各鑑定対象筆跡データと前記標準パターンとの座標の差が当該文字全体において最小となるように、前記各鑑定対象筆跡データの夫々を正規化するとともに、前記各参照筆跡データに対して、夫々、各特徴点についての参照筆跡データと前記標準パターンとの座標の差が当該文字全体において最小となるように、前記各参照筆跡データを正規化する処理を行う正規化部,
前記特定文字についての正規化された複数の前記鑑定対象筆跡データにおける各特徴点についての平均座標を算出するとともに、前記特定文字についての正規化された複数の前記参照筆跡データにおける各特徴点についての平均座標を夫々算出する平均座標算出部,
各特徴点についての正規化された何れかの前記鑑定対象筆跡データ中の座標とその前記平均座標との差が当該文字全体において最小となるように、正規化された前記鑑定対象筆跡データに対して射影変換処理を施すとともに、各特徴点についての正規化された何れかの前記参照筆跡データ中の座標とその前記平均座標との差が当該文字全体において最小となるように、正規化された前記参照筆跡データに対して射影変換処理を施す幾何学変換部,
前記射影変換処理が施された鑑定対象筆跡データ中の各特徴点の座標と前記射影変換処理が施された前記参照筆跡データ中の対応する特徴点の座標との差の当該文字全体についての総計を特徴量として算出する特徴量算出部,及び、
前記特徴量の大小に基づいて、鑑定対象筆跡の筆者と対照者との異同を判断する識別部として機能させる筆跡鑑定プログラム。
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JP2012012380A JP5912570B2 (ja) | 2012-01-24 | 2012-01-24 | 筆跡鑑定方法,筆跡鑑定装置及び筆跡鑑定プログラム |
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